FR 2458906 A1 19810102 FR 8012206 A 19800602 L'invention concerne la conception et la fabrica- tion de substrats isolés P-I-N permettant la réalisation de transistors de puissance à haute fréquence à collecteur isolé. L'invention concerne en particulier un procédé de fabrication qui permet d'éviter la réalisation de rainures profondes en V pour assurer l'isolation horizontale et d'obtenir une conductibilité thermique et une isolation capacitive verticale améliorées. Des transistors de puissance à haute fréquence ont été classiquement réalisés sur des substrats isolés P-I-N. Ces substrats sont formés à partir d'un support de silicium à orientation cristalline ensuite déposée sur le substrat, sur une épaisseur d'envi- ron 15 p, cette couche ayant une résistivité supérieure à 400 ohm-cm. Une couche épitaxiale de caractéristique N+ est ensuite déposée sur le dessus de la couche précédente, et une couche épitaxiale N- est enfin ajoutée. La nécessité de superposer les trois couches épitaxiales soulève des pro- blèmes de contrôle de qualité. Pour que le dispositif fonc- tionne convenablement," le profil et l'épaisseur de ces cou- ches doivent être contrôlés avec soin. Un contrôle précis est difficile à réaliser. Pour isoler horizontalement les dispositifs actifs formés dans la couche épitaxiale la plus haute, on utilise des rainures profondes en V. Ces rainures doivent traverser les trois couches épitaxiales et atteindre la couche intrinsèque. Une fois que les rainures profondes en V sont formées, elles doivent être remplies d'une matière polycristalline et ramenées par polissage à la surface de la couche épitaxiale supérieure. Ce polissage élimine l'ex- cédent de polycristal et doit être contrôlé avec soin afin que l'on obtienne une surface très plane, parallèle à la surface opposée du substrat. L'utilisation de ces rainures profondes en V avec des tranches de silicium tend à rendre ces tranches très sensibles aux ruptures. Ce substrat est fixé directement sur la base du boîtier et il est difficile de contrôler l'épaisseur de la jonction P-I-N verticale qui, aux fréquences élevées, engendre un couplage capacitif indésirable entre le collec- teur et la région du substrat comportant les dispositifs actifs. De plus, l'utilisation d'un substrat fortement dopé et présentant une caractéristique P+ a pour résultat une faible conductibilité thermique vers la base du bottier, ce qui limite notablement la puissance maximale du dispositif. L'invention a donc pour objet un procédé de fabrica- tion d'un substrat isolé P-I-N destiné à la réalisation de transistors de puissance à haute fréquence, sans exiger un contrôle difficile du dépôt de plusieurs couches épitaxia- les et la nécessité qui en résulte de réaliser des rainures profondes en V pour assurer l'isolation horizontale. Le procédé selon l'invention permet de fabriquer un substrat isolé P-I-N très épais destiné à entrer dans la fabrica- tion de transistors de puissance à haute fréquence et pré- sentant des caractéristiques de transmission de chaleur améliorées. L'invention concerne également un procédé de fixation d'un bloc à transistor de puissance à haute fré- quence, par exemple sur la base d'un bottier, ne produi- sant pas un grand nombre d'interfaces métalliques afin d'accroître la résistance thermique vers la base du bottier. Selon l'invention, une zone de matière semi-conduc- trice N+ est formée, par exemple par diffusion, dans la sur- face d'un substrat semi-conducteur intrinsèque du type P (X) à résistivité élevée (supérieure à 5000 ohm-cm), ayant une structure cristalline 4100>. Sur cette surface du substrat, on dépose une couche épitaxiale relativement mince (4 à 7 p) d'une matière semi-conductrice N-. Les dis- positifs actifs sont formés dans la surface exposée de la matière semiconductrice N- et isolés horizontalement les uns des autres par des rainures en V peu profondes. Pour réaliser une isolation horizontale efficace, il suffit que la profondeur des rainures en V ne dépasse que légèrement les 4 à 7 V de la couche épitaxiale N-. La partie P de ce substrat isolé P-I-N est formée pendant le processus de fixation du bloc par la mise en oeuvre d'un procédé minimisant le nombre d'interfaces métalliques entre le bloc et e socle de base,.ze procédé réa- lisant la partie P par diffusion d'une matière dopante à partir de la soudure eutectique dans la partie de base du substrat. En déterminant la quantité de matière dopante contenue dans la soudure, il est possible de conserver à la couche P+ une grande minceur et d'obtenir ainsi un tra- jet hautement conducteur de la chaleur vers le socle de base. Le nombre minimal d'interfaces métalliques réduit sensiblement la résistance thermique vers le socle de base (masse). La partie intrinsèque du substrat s'appauvrit sous une faible tension de collecteur, ce qui détermine l'isolation du collecteur et le couplage capacitif avec le socle de base (masse). La capacité entre le collecteur et la masse doit être d'autant plus faible que la fréquence est élevée. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemple nullement limitatif et sur lesquels: - la figure 1 est une coupe transversale partielle montrant la configuration typique de transistors de puissance à haute fréquence de l'art antérieur, montés sur un socle de boltier en cuivre; - la figure 2 est une coupe transversale partielle montrant la configuration de transistors de puissance à haute fréquence selon l'invention, avant leur montage sur leur boîtier en cuivre; et - la figure 3 est une coupe transversale partielle montrant untransistor de puissance à haute fréquence selon l'invention monté sur un socle en cuivre. Pour faciliter la compréhension de l'invention et à titre de comparaison, la configuration et un procédé de fa- brication de transistors de puissance à haute fréquence de l'art antérieur seront tout d'abord décrits. Des transistors de puissance à haute fréquence à collecteur isolé, réalisés sur des-substrats isolés P-I-N, présentent typiquement la configuration montrée sur la figure 1. Une tranche 10 de substrat, présentant une carac- téristique semi-conductrice P+ et ayant une orientation cristalline Z100> est utilisée. Cette tranche a une épais- seur d'environ 0,075 mm lorsque le dispositif est achevé. Une première face de cette tranche reçoit un dépôt épitaxial constitué d'une couche intrinsèque n 12 ayant une épaisseur d'environ 10 p. De même, une couche épitaxiale N+14 est dé- posée sur une épaisseur d'environ 10 p et elle est suivie d'un dépôt épitaxial d'une couche N-16 d'environ 7 p d'é- paisseur. Un dispositif actif typique 18 (par exemple un transistor de puissance à haute fréquence) est ensuite réalisé par diffusion dans la couche épitaxiale N-.16. Ce dispositif actif 18 comprend une région 20 d'émetteur, une région 22 de base et un collecteur constitué par la couche épitaxiale N+ à laquelle il est possible d'accéder au moyen d'une rainure 24 de collecteur qui traverse la couche épi- taxiale N- 16afin de permettre l'établissement d'un contact en 25 avec la couche épitaxiale N+ 14. Dans le procédé de fabrication décrit ci-dessus, il faut contrôler avec soin chaque dépôt épitaxial afin de s'assurer que les couches ont une épaisseur et une planéité uniformes et qu'elles sont alignées parallèlement au plan de la tranche 10 du substrat. L'isolation horizontale entre un dispositif actif 18 et les dispositifs actifs adjacents est réalisée au moyen de rainures profondes 26 en V qui traversent les cou- - 25 ches épitaxiales 16, 14 et 12 et qui pénètrent légèrement dans la tranche 10 du substrat, comme montré aux points 28. La présence de ces rainures profondes 26 tend à favoriser la rupture de la tranche 10 du substrat au cours des mani- pulations. L'ensemble décrit ci-dessus est considéré comme ayant une isolation P-I-N, car le dispositif actif 18 est isolé de son élément de montage par la tranche 10 du subs- trat (matière du type P), la couche intrinsèque n12 et la couche épitaxiale N+.14 (matière du type N). Le montage de l'ensemble décrit ci-dessus, comme montré sur la figure 1, sur son socle 32 de cuivre s'effec- tue généralement par la mise en oeuvre d'un procédé appelé "liaison eutectique". D'une manière générale, un socle de base 32 en cuivre, faisant partie du bottier, est revêtu d'une pellicule d'or 34 et chauffé suffisamment pour réa- liser une liaison eutectique de l'ensemble sur ce socle de base. Ce procédé de fabrication et de fixation présente une caractéristique particulièrement indésirable en ce qui concerne les transistors de puissance à haute fréquence. Le dispositif actif 18 est formé à des températures élevées, ce qui tend à provoquer une diffusion de la matière do- pante de la tranche 10 du substrat (impuretés P+) et un agrandissement de la région P+ dans la couche intrinsèque 12. Cet amincissement de la couche intrinsèque X t2 fit apparaître une capacité parasite accrue entre le dispositif actif 18 et le socle de base 32 en cuivre, ce qui dégrade les performances aux fréquences élevées. De plus, l'exten- sion de la région P+ (tranche 10 du substrat) entraîne une diminution de la conductibilité thermique du dispositif actif 18 vers le socle 32 de base en cuivre. Etant donné qu'aux fréquences élevées la proportion de l'énergie d'un signal produisant de la chaleur augmente, le fonctionnement aux fréquences élevées subit une dégradation supplémentaire. Le transistor de puissance à haute fréquence selon l'invention et son procédé de fabrication sont montrés sur la figure 2. Le procédé selon l'invention permet d'obtenir un transistor de puissance à haute fréquence et à isolation P-I-N, de même que le procédé antérieur, mais, pour des raisons indiquées ci-dessous, le dispositif selon l'inven- tion présente des caractéristiques supérieures aux fréquen- ces élevées et de plus grandes possibilités de dissipation de la chaleur. Une tranche intrinsèque 50 du type P (X) à haute résistivité est utilisée. Cette tranche 50, une fois ache- vée, a généralement une épaisseur d'environ 0,09 mm et une résistivité dépassant 5000 ohm-cm. La tranche présente une orientation cristalline . Un collecteur 52 à diffu- sion N+, ayant une résistivité inférieure à 0,01 ohm-cm, est diffusé dans la surface supérieure de la tranche 50 jusqu'à une épaisseur d'environ 10 p. On dépose sur cette même surface une couche épitaxiale N- 54 ayant une résis- tivité d'environ 0,8 à 1,0 ohm-cm et une épaisseur de 4 à 7 p. Un dispositif actif 56, comprenant une base 58 et un émetteur 60, peut ensuite être réalisé par diffusion dans la couche épitaxiale N- 54, directement au-dessus du col- lecteur diffusé N+ 52. Une rainure 62 de collecteur est réalisée de manière à permettre un accès au collecteur 52, comme indiqué en 64. En raison de la géométrie de ce dispositif, une isolation horizontale peut être réalisée au moyen de rainu- res 66 peu profondes en V auxquelles il suffit de donner une profondeur ne dépassant que légèrement l'épaisseur de la cou- che épitaxiale N- 54 (4 à 7 p) pour atteindre en 68 la tran- che intrinsèque 50. Etant donné que la couche épitaxiale N-54 est peu épaisse, une isolation horizontale peut être obtenue, en variante, par une diffusion 72 du type P à travers la couche 54, jusqu'à la tranche 50, comme montré sur la figure 3. De plus, un contact électrique peut être établi avec le collecteur 52 par une diffusion 70 du type N+ à travers la couche 54 et jusqu'au collecteur 52, comme montré sur la figure 3. Comme représenté sur la figure 2, on a donc réalisé un dispositif actif 56, une région 52 de type N et une ré- gion intrinsèque (u) 50. Pour achever la formation du subs- trat P-I-N souhaité, une région de contact P+ doit être réalisée à la partie inférieure du substrat 50. Une des caractéristiques particulières de l'invention est la forma- tion de cette région de contact P+ pendant le processus de fixation de la tranche 50 du substrat sur son boîtier 80 en cuivre. Pour faciliter le montage d'un ensemble semi- conducteur sur un boîtier 80 en cuivre, ce dernier est équipé d'une mince plaque de base 82 généralement réalisée en or. Une mince couche 84 d'or dopé au bore, assumant la fonction d'une soudure eutectique, peut être appliquée sur cette plaque de base 82. Le substrat 50, sur lequel le dis- positif actif 56 a déjà été formé, est placé en contact physique avec la couche 84 d'or dopé au bore et il est chauffé à la température eutectique. Les impuretés P+ pré- sentes dans l'or dopé au bore diffusent ainsi légèrement dans le substrat intrinsèque u50 en formant une mince cou- che 86 de caractéristique P+. Ainsi, la partie P du subs- trat P-I-N est formée. La température est abaissée, l'eu- tectique se solidifie, et l'ensemble se trouve ainsi fixé au socle de base 82 en cuivre. L'épaisseur de cette région 86 de contact P+ peut être déterminée par réglage du degré de dopage de l'or par les impuretés debore. Il. est préfé- rable, dans le cas de la présente invention, que la région 86 de contact P+ soit maintenue à une épaisseur d'environ nanomètres et que sa résistivité soit inférieure à 0,01 ohm-cm. Ainsi qu'il ressort de manière évidente d'un examen de la figure 3, ce procédé de fixation de la tranche 50 du substrat sur le socle 82 de base produit un minimum d'in- terfaces métalliques. En conséquence, le couplage capacitif à haute fréquence entre le socle 82 de base et la région 52 de collecteur est sensiblement réduit. De plus, l'utilisa- tion de régions de silicium fortement dopées (région P+.1O montrée sur la figure 1 et à comparer avec la région 86 montrée sur la figure 3) est sensiblement réduite. Ceci a pour effet une résistance thermique très faible, ce qui permet une meilleure transmission de la chaleur du disposi- tif actif 56 vers le socle 82 de base. Le dispositif actif 56 peut donc fonctionner à des niveaux de puissance plus élevés, sans accroissement sensible de température. Autrement dit, le dispositif actif 56 peut fonctionner à des niveaux de puissance supérieurs d'environ 30 % à ceux des dispositifs équivalents de l'art antérieur, sans dégra- dation des performances. De plus, étant donné que la couche épitaxiale N- 54 est très mince (4 à 7 p), l'isolation horizontale peut être réalisée par une rainure en V peu profonde, alors que les dispositifs antérieurs nécessitaient la réalisation de rai- nures en V profondes, traversant les couches épitaxiales sur une profondeur totale d'environ 27 p. La présence de rainures en V peu profondes réduit le risque de bris du substrat au cours des manipulations. En variante, l'isola- tion horizontale peut être obtenue par diffusion d'une ré- gion P- telle que celle indiquée en 72 sur la figure 3. Le contact du collecteur peut également être réalisé par dif- fusion, par exemple la région N+70. Un autre avantage du procédé de l'invention est que la région 86 de contact P+ n'est pas soumise aux températu- res élevées demandées pour la réalisation du dispositif actif 56, car la région 86 de contact P+ n'est pas formée uni- formément avant l 'étape de fixation du substrat. Par conséquent, cette région 86 P+ reste mince et permet d'améliorer-la transmission de la chaleur vers le socle 82 de base. Le procédé selon l'invention permet donc de réali- ser un transistor de puissance à haute fréquence à collec- teur isolé et à structure P-I-N, comportant un substrat intrinsèque. Des transistors de puissance à haute fréquence réalisés selon l'invention présentent une isolation capaci- tive améliorée aux fréquences élevées et de meilleures ca- ractéristiques de transmission de la chaleur, ce qui permet d'augmenter leur puissance nominale. Cette structure permet la réalisation de rainures en V peu profondes ou même la mise en oeuvre de techniques de diffusion pour assurer1'iso- lation horizontale, -contrairement aux rainures profondes en V de l'art antérieur, qui accroissent la tendance du substrat à se briser au cours des manipulations. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent_; être apportées au procédé décrit et représenté sur les figu- res 2 et 3 sans sortir du cadre de l'invention. Par exemple, il est possible, pour réaliser le transistor de puissance à haute fréquence, de partir d'une structure dos à dos N+, N-. Une telle structure peut être amincie jusqu'à présenter une épaisseur d'environ 0,025 mm, et une couche poly intrinsèque épaisse peut être déposée sur la couche N+ afin de former la région intrinsèque d'isolation 50. Ceci a pour inconvénient la réalisation d'un dépôt épais sur une matière de départ très mince. Cependant, au moins en théorie, ce procédé peut également être mis en oeuvre. Le procédé de l'invention peut être utilisé indif- féremment avec des substrats intrinsèques du type P et du type N. Dans le cas de substrats intrinsèques du type P, la région de contact du type P forme un contact ohmique, alors que dans le cas de substrats intrinsèques du type N, la région du type P forme en fait une jonction. Ainsi, en ce qui concerne un substrat du type N, la concentration de matière de dopage doit être plus élevée que dans le cas d'un substrat du type P. Pour.un substrat du type N, la région du type P doit être aussi mince que possible, mais son épaisseur doit atteindre au moins la valeur nécessaire pour empêcher cette région de permettre à la région de con- tact du type P d'être polarisée dans le sens direct, ce qui provoquerait une injection de porteurs dans la région du type N et détruirait ainsi les caractéristiques électriques de cette région du type N. L'invention n'est donc pas limi- tée à des substrats intrinsèques du type N. R E V E N D I C A T I O N S 1. Dispositif semi-conducteur destiné à être monté sur le socle de base d'un boîtier, caractérisé en ce qu'il comporte un substrat intrinsèque (50), une région de base (58) et une région d'émetteur (60) qui sont isolées d'une région (52) de collecteur par une couche épitaxiale (54), cette région de collecteur étant en contact avec le subs- trat intrinsèque et ce dernier étant relié au socle de base par la mise en oeuvre d'un procédé de liaison eutectique utilisant une matière formant un eutectique dopé, de manière que des atomes de dopage diffusent légèrement dans le subs- trat intrinsèque pour former la région de contact du dispo- sitif semi-conducteur en même temps que la liaison eutectique. 2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'une isolation horizontale du dispositif actif (56) est réalisée par des rainures (66) en V ayant une profondeur inférieure à 10 p. 3. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que le substrat semi- conducteur intrinsèque est en silicium du type P et en ce que la matière formant un eutec- tique est une matière contenant une substance de dopage du type P. 4. Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que le substrat semi-conducteur intrinsèque présente une résistivité comprise entre 300 et 50 000 ohms-cm. 5. Dispositif selon la revendication 4, caractérisé en ce que la matière formant un eutectique est une soudure à base d'or contenant une substance de dopage du type P. 6. Dispositif selon la revendication 5, caractérisé en ce que la matière formant un eutectique est une soudure à base d'or dopé au bore. 7. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'une isolation horizontale du dispositif actif est réalisée par une diffusion 72 du type P jusqu'à une profon- deur inférieure à 10 i. 8. Procédé de fabrication d'un dispositif semi- conducteur et de montage de ce dispositif sur le socle de base d'un boîtier afin d'améliorer les caractéristiques de fonctionnement à fréquence élevée de ce dispositif et d'accroître la transmission thermique dudit dispositif vers le socle de base, le procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste à choisir un substrat semi-conducteur intrinsèque, à réaliser une région de collecteur en contact avec le subs- trat semi-conducteur intrinsèque, à appliquer une couche épitaxiale sur la région de collecteur et sur le substrat, à former une région d'émetteur et une région de base dans la couche épitaxiale, à proximité de la région de collecteur, à appliquer une matière formant un eutectique dopé sur la surface du socle de base du boîtier, et à chauffer le socle de base et le substrat intrinsèque, en contact l'un avec l'autre, à une température suffisamment élevée pour former un eutectique et provoquer la diffusion de certains des atomes de dopage de cet eutectique dans le substrat intrin- sèque, de manière que ce dernier soit dopé et qu'une région de contact du substrat soit formée en même temps qu'une liaison eutectique entre ledit substrat et le socle de base. 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