FR 2429764 A1 19800125 FR 7916449 A 19790626 La présente invention concerne le traitement superficiel à haute température des produits en matériaux diélectriques, en particulier en pierres artificielles telles que céramiques, silicates, béton, et a notamment pour objet une installation de traitement à haute température de produits à surface à génératrice rectiligne, par exemple de produits dont la surface à traiter est plane, cylindrique ou conique. La présente invention peut etre appliquée le plus avantageusement au traitement par fusion de la couehe superficielle de matériaux de construction en pierres artificielles, en vue d'assurer de conférer à la couche superficielle une structure vitrocristalline lui donnant des propriétés décoratives et protectrices. On connaît une installation de traitement superficiel à haute température de produits en matériaux diélectriques, comprenant un chalumeau oxyacétylénique en tant que source de haute température et un dispositif de déplacement relatif du produit et du chalumeau avec maintien de la distance requise entre la surface à traiter et la buse du chalumeau (certificat d'auteur de 1'URSS nO 172663). Dans lesdites installations, le jet de flamme du chalumeau est dirigé, au cours du traitement superficiel, perpendiculairement à la surface à traiter, une transmission thermique efficace ayant lieu dans les limites de la tache de contact de la flamme et de la surface du produit. Dans ces conditions, le traitement de toute la surface est assuré par le mouvement de balayage alternatif du chalumeau par rapport à la surface à traiter.En conséquence, il se produit un traitement non uniforme de la couche superficielle dans la direction transversale par rapport à la ligne de balayage, et on constate la présence de démarcations visibles entre les lignes de balayage, c'est-à-dire que l'on obtient une structure "à rayures" de la couche superficielle, ce oui constitue l'inconvénient principal de l'installation. Un autre inconvénient réside dans la capacité de production relativement faible de l'installation, due à la petite superficie de contact thermique du jet de flamme avec la surface du produit et à la température relativement faible de la flamme du chalumeau oxyacétylénique. On connais aussi une installation de traitement à haute température des surfaces à génératrice rectiligne de produits en matériaux diélectriques, dans laquelle on utilise pour le traitement des produits une source de plasma. Ladite installation comprend une anode et une cathode de générateur plasmatique disposées l'une en face de l'autre, une décharge d'arc étant formée dans l'éclateur entre ladit anode et ladite cathode, et un dispositif d'avance servant à déplacer les produits à la distance nécessaire par rapport à l'axe de la décharge d'arc (brevet américain n03584184).Dans cette installation, l'anode est réalisée sous forme d'une boîte longitudinale immobile qui est positionnée le long de la génératrice de la surface à traiter, suivant toute la longueur de la génératrice, et la cathode est reliée à un mécanisme de balayage assurant son déplacement alternatif le long de l'anode, la décharge d'arc se produisant transversalement à la génératrice de la surface à traiter et se déplaisant le long de celle-ci. Cette installation a une capacité de production plus importante que celle à chalumeau oxyacétylénique décrite précédemment, et ce, grâce à l'utilisation de plasma età à ozone accrue d'interaction thermique de la surface à traiter avec la décharge plasmatique d'arc. Cependant, ici encore, étant donné le balayage alternatif de la cathode effectué lors du traitement superficiel du produit, il est impossible de supprimer les "rayures" de la structure de la couche superficielle et d'obtenir une surface lisse avec une structure uniforme de la couche superficielle. La présente invention vise donc une installation de traitement à haute température de surfaces à génératrice rectiligne de produits en matériaux diélectriques, dans laquelle la disposition mutuelle et l'interaction de la source de haute température et des produits à traiter assureraient le traitement de toute la surface du produit lors d'un déplacement relatif continu du produit et de la source de haute température dans une même direction. Ce but est atteint grâce à une installation de traitement à haute température de surfaces à génératrice rectiligne de produits en matériaux diélectriques, du type comprenant une anode et une cathode de générateur plasmatique disposées l'une en face de l'autre, une décharge d'arc étant formée dans l'éclateur entre ladite anode et ladite cathode, et un dispositif d'avance pour le déplacement du produit à la distance nécessaire par rapport à l'axe de la décharge d'arc, ladite installation étant caractérisé, suivant l'invention, en ce que la cathode est montée de façon immobile et l'anode est adaptée pour maintenir, conjointement avec la cathode immobile, une position fixe de l'axe de la décharge d'arc dans un éclateur dont la longueur dépasse celle de la génératrice de la surface à traiter, ledit dispositif d'avance étant réalisé de manière à permettre le déplacement des produits à traiter dans un plan perpendiculaire à l'axe de la décharge d'arc, les génératrices des surfaces à traiter étant disposées parallèlement à l'axe de la décharge d'arc. Une telle disposition assure la possibilité de traiter toute la surface du produit lors de son déplacement continu dans une seule direction et permet de supprimer le mouvement de balayage alternatif de la source de haute température par rapport à la surface à traiter. Cela permet d'obtenir une surface lisse, à structure homogène de la couche superficielle du produit. Par ailleurs, le traitement de toute la surface du produit lors de son déplacement continu dans une seule direction sans mouvement de balayage alternatif de la source de haute température par rapport à la surface à traiter permet d'augmenter la capacité de production de l'installation. Selon l'un des modes possibles d'exécution de l'installation conforme à l'invention, l'anode se présente sous forme d'une tige et est monie coaxialement à la cathode. L'anode peut être réalisée creuse et sa cavité intérieure peut communiquer avec un dispositif d'aspiration, par exemple avec un ventilateur. Dans ce cas est assurée la possibilité de fabriquer l'anode en matériaux relativement plus fusibles, (par exemple en cuivre) grâce au fait que la tache de contact du plasma avec l'anode se trouve à l'intérieur de l'anode et qu'ainsi il est facile de réaliser le refroidissement par eau de la surface extérieure de l'anode. Afin de prévenir la pénétration du plasma sur la surface extérieure de l'anode en forme de tige creuse, il est utile de prévoir un écran plat refroidi à l'eau, adjacent à l'extrémité de l'anode, électriquement isolé de celle-ci et présentant un orifice central égal et coaxial à celui de la cavité de l'anode. L'anode en forme de tige montée coxialement à la cathode peut être exécutée sous forme d'un goujon soufflé avec un gaz de travail de remplissage dans la direction de la cathode. Dans ce cas, le refroidissement efficace de l'anode peut être entravé, de sorte qu'il peut être nécessaire d'utiliser des anodes en matériaux difficilement fusibles, par exemple en tungstène. En revanche, on obtient une concentration élevée de l'énergie du plasma grâce au souffla des électrodes du générateur plasmatique dans des sens orientés l'un vers l'autre, ce qui augmente le rendement de l'installation. Un autre mode possible d'exécution de l'installation conforme à la présente invention consiste à réaliser l'anode sous forme de deux cylindres parallèles tournant l'un vers l'autre et dont les axes sont perpendiculaires à l'axe de la décharge d'arc, l'écartement entre ces cylindres étant moindre que le diamètre de la tache de contact de la décharge d'arc sur l'anode. Une telle exécution assure une réduction des variations des paramètres du plasma et augmente la stabilité de sa position spatiale. Il est intéressant, afin d'augmenter la durée de vie de l'anode réalisée sous forme de deux cylindres, de fixer ces derniers sur un support mobile susceptible de se déplacer le long des axes des cylindres, et de relier ledit support à un mécanisme assurant son déplacement alternatif dans ladite direction. L'un des modes préférés d'exécution de l'installation conforme à la présente invention consiste à utiliser un dispositif d'avance comprenant deux brins transporteurs identiques disposés symétriquement de chaque côté de l'axe de la décharge d'arc. Cela permet de doubler la capacité de production de l'installation ainsi que d'augmenter son rendement grâce à une meilleure utilisation de l'énergie du plasma, et notamment à son resserrement et à une réflexion multiple de la radiation du plasma sur les surfaces à traiter des produits. Afin d'augmenter le rendement d'une installation à disposition unilatérale du dispositif d'avance par rapport à l'axe de la décharge d'arc, il est avantageux d'installer dé l'autre côté de l'axe de la décharge d'arc, le long de cet axe, un écran refroidi à l'eau et électriquement isolé de l'anode et de la cathode. L'invention sera mieux comprise et d'autres buts, détails et avantages de celle-ci apparaîtront mieux à la lumière de la description explicative qui va suivre de différents modes de réalisation donnés uniquement à titre d'exemples non limitatifs avec références aux dessins non limitatifs annexés dans lesquels - la figure i représente une installation conforme à l'invention, utilisée pour le traitement à haute température de surfaces de briques (en coupe verticale suivant l'axe de la décharge d'arc du générateur plasmatique) - la figure 2 représente une installation de traitement à haute température de surfaces de produits, conforme à l'invention, dans laquelle l'anode est réalisée sous forme d'un goujon - la figure 3 représente une installation de traitement à haute température de la surface de produits, conforme à l'invention, dans laquelle l'anode est réalisée sous forme de deux cylindres parallèles - la figure 4 représente l'ensemble à anode vu suivant la flèche "r, de la figure 3 - la figure 5 représente une installation conforme à l'invention, utilisée pour le traitement à haute température de produits cylindriques (en coupe suivant l'axe de la décharge d'arc) - la figure 6 représente une installation de traitement à haute température de la surface de produits, conforme à l'invention, à disposition unilatérale du dispositif d'amenée. L'installation conforme à l'invention, représentée sur la figure i, utilisée par exemple pour le traitement à haute température de surfaces de briques, est destinée à la fusion de la couche superficielle des briques afin de lui conférer des propriétés décoratives et protectrices. Cette installation comprend l'anode i et la cathode 2 d'un générateur plasmatique (non représenté), une décharge d'arc à axe rectiligne 3 étant formée dans l'éclateur entre l'anode et la cathode, et un dispositif d'avance 4 pour le déplacement, à une distance donnée de l'axe 3 de la décharge d'arc 3, de produits 5 dont la surface 6 à traiter possède une génératrice rectiligne 7. L'anode i et la cathode 2 sont placées l'une en face de l'autre, en formant un éclateur dont la longueur dépasse la longueur de la génératrice 7 de la surface à traiter 6 des briques 5. Dans cette installation, la cathode 2 est montée de façon immobile, et l'anode i est réalisée de façon à maintenir une position fixe de l'axe 3 de la décharge d'arc. L'anode i se présente comme un élément creux 8 notamment en cuivre, sous forme d'une tige, alors que la cathode 2 est réalisée notamment en tungstène sous forme d'un goujon 9. L'anode 1 et la cathode 2 sont disposées coaxialement dans le sens vertical. La cavité 10 de l'élément anodique 8 est reliée, dans sa partie supérieure, à un dispositif d'aspiration il constitue en ltoecurenee par un ventilateur. Dans le canal formé entre la cavité 10 de l'anode et le ventilateur il est installé un papillon commandé 12. La partie inférieure de l'élément anodique 8 comporte une chambre circulaire 13 reliée à un système de circulation d'un liquide de refroidissement (non représenté), concentriquement à la chambre circulaire 13 est monté un solénoïde 14 assurant la création d'un champ magnétique mobile circulaire dont le centre est situé sur l'axe de l'anode i. Un écran plat 15 est monté adjacent à l'extrémité inférieure de l'élément anodique 8, cet écran étant électriquement isolé de l'élément anodique 8 au moyen d'une garniture diélectrique 16. L'écran 15 présente un orifice central 17 égal et coaxial à l'orifice intérieur 10 de l'élément anodique 8. En outre, dans l'écran 15 sont pratiqués des canaux 18 reliés au système de circulation du liquide de refroidissement (non représenté). Le goujon cathodique 9 est fixé, au moyen d'un support à mandrin 19, dans une douille 20 en matériau diélectrique, pressée dans un corps 21. Dans la partie supérieure du corps 21 est fixée, autour de l'extrémité supérieure du goujon cathodique 9, une buse 22 ayant un orifice 23 servant à stabiliser et à resserrer la décharge d'arc. La buse 22 forme avec la surface intérieure du corps 21 une chambre circulaire 24 reliée au système de circulation du liquide de refroidissement (non représenté). Entre la buse 22 et la goujon 9 de la cathode est formée une chambre 25 reliée à une source de gaz de travail ou de remplissage, par exemple d'azote (non représentée). Le dispositif d'avance 4 est réalisée sous forme de deux transporteurs rectilignes similaires 26 qui assurent le déplacement des briques 5 dans un plan sensiblement perpendiculaire à l'axe 3 de la décharge d'arc et de manière que les génératrices 7 des surfaces 6 à traiter soient disposées parallèlement à l'axe 3 de la décharge d'arc. Les transporteurs 26 sont disposés symétriquement des deux côtés de l'axe 3 de la décharge d'arc et présentent des saillies rectilignes 27 déterminant la position correcte des briques 5 posées sur les transporteurs 26. Les saillies 27 sont disposées le long des axes des transporteurs 26 et symétriquement par rapport à l'axe 3 de la décharge d'arc. Le fonctionnement de l'installation, objet de la présente invention, est le suivant. On applique une tension continue à l'anode 1 et à la cathode 2. Afin de refroidir l'anode 1, la cathode 2 et l'écran 15, on fait circuler un liquide de refroidissement dans les chambres 13 et 24 et dans les canaux 18. On amène le gaz de remplissage dans la chambre 25, et on met en marche le ventilateur il qui assure l'aspiration du gaz de l'intérieur de l'élément anodique 8. Ensuite on procède à l'amorçage de la décharge d'arc et, en modifiant le débit du gaz de remplissage, on cherche à obtenir la disposition rectiligne et la stabilité voulues de la décharge d'arc. En même temps on on règle au moyen du papillon 12 la quantité de gaz aspiré à travers la cavité de 11 élément anodique 8, et l'on obtient la position requise de la tache anodique de la décharge plasmatique d'arc dans la direction axiale. Quand on a obtenu le régime imposé de fonctionnement de l'installation, on met en marche la commande des transporteurs 26 et lton y pose les briques 5 de façon que leurs surfaces 6 à traiter soient disposées en regard l'une de l'autre. En prenant appui contre les saillies 27, les briques prennent une position dans laquelle les génératrices 7 des surfaces 6 à traiter sont sensiblement symétriques et parallèles à l'axe 3 de la décharge d'arc. Au cours du fonctionnement, le champ magnétique du solénolde 14 assure le déplacement de la tache de contact de la décharge d'arc dans la cavité 10 de l'anode 8 suivant la circonférence de ladite cavité, le courant de gaz aspiré déplace la tache de contact de la décharge d'arc dans la direction axiale, alors que l'écran 15 évite la fermeture de la décharge sur le solénoide 14 et sur les autres pièces de l'ensemble à anode 1, et stabilise davantage la décharge d'arc entre l'anode 1 et la cathode 2. Lors du déplacement continu des briques 5 dans la zone de contact entre leurs surfaces à traiter 6 et la décharge d'arc, il se produit un chauffage instantané et une fusion de la couche superficielle sur toute la longueur de la génératrice 7, de sorte que le traitement des surfaces 6 se réalise en une seule passe des briques 5 et dans une seule direction. Grâce à cela, la couche superficielle présente après refroidissement une structure uniforme et une surface lisse, ce qui est surtout important lorsqu'il s'agit du traitement décoratif de matériaux de construction. Le fait que le dispositif d'avance 4 se compose de deux parties assure le traitement simultané de deux produits, en doublant ainsi la productivité.Par ailleurs, une telle exécution assure le resserrement de la décharge d'arc, ce qui la rend plus stable et augmente l'aire de contact d'échange thermique entre le plasma et la surface 6 à traiter. D'autre part, grâce aux réflexions multiples de la radiation de la décharge d'arc entre les surfaces 6 à traiter et cette décharge d'arc, l'efficacité de l'échange thermique convectif et rayonnant se trouve accrue. Tout cela permet d'augmenter encore le rendement du traitement et le coefficient d'utilisation du plasma. Dans le mode d'exécution de l'installation de traitement à haute température de produits représenté sur la figure 2, l'anode est réalisée sous forme d'un goujon 28 notamment en tungstène, dont l'ensemble de fixation analogue à celui de la cathode en forme de goujon 9 (voir la figure 1). Sur la figure 2, les éléments analogues aux éléments correspondants de la figure 1 sont désignés par les mêmes chiffres de référence. Au cours du fonctionnement, on amène le gaz de travail ou de remplissage dans les chambrés 25 des ensembles à anode i et à cathode 2, et l'on procède à l'amorçage de la décharge entre l'anode i et la cathode 2.La décharge d'arc est resserrée dans les buses 22 de l'anode l et de la cathode 2, sa température augmentant alors d'une fois et demie en comparaison de celle de la décharge d'arc dans le mode d'exécution représenté sur la figure 1. De plus, grâce au soufflage en opposition des électrodes, ce mode d'exécution permet d'accroître le coefficient d'utilisation de la chaleur et le rendement de l'installation en comparaison du mode de réalisation représenté sur la figure 1. Par suite du soufflage en opposition de la décharge d'arc, il se forme au point de croisement des courants de gaz un noeud 29 d'expansion de la décharge d'arc, dont le diamètre dépasse de 2 à 2,5 fois le diamètre de la décharge d'arc. En modifiant le rapport des débits de gaz de remplissage à travers les buses 22 de l'anode i et de la cathode 2, on peut changer la position du noeud 29 sur l'axe 3 de la décharge d'arc. On peut faire en sorte que le noeud 29 se situe près de l'une des arrêtes de la surface 6 à traiter. Dans ce cas, la partie de la surface 30 qui entrera en fusion sera la partie adjacente à la surface à traiter 6, située à une distance d'environ 6 à 10 mm de l'arête de la brique 5. Cela peut être favorable pour le traitement de certains produits. L'installation comportant la variante de réalisation de l'ensemble, anodique représentée sur la figure 3 se compose d'une anode 1 (les éléments analogues aux éléments correspondants de la figure 1 sont désignés par les mêmes chiffres de référence) réalisée sous forme de deux cylindres parallèles 31 notamment en cuivre, avec, entre ceux-ci, un espacement 32 plus petit que la tache de contact de la décharge d'arc sur les cylindres 31. Les cylindres 31 sont disposés de façon que le plan d'emplacement de leurs axes soit sensiblement perpendiculaire à l'axe 3 de la décharge d'arc. Les cylindres 31 sont dotés d'une commande de rotation 33 assurant leur rotation l'un vers l'autre, pendant laquelle la composante tangentielle de la vitesse circulaire des cylindres 31 dans l'espacement 32 est dirigée dans le sens s'éloignant de la cathode 2.Les cylindres 31 avec leur commande 33 sont montés sur un chariot 34 (figure 4) susceptible de se déplacer le long des axes des cylindres 31 et relié à un mécanisme 35 pour le déplacement alternatif du chariot 34 dans le sens indiqué. Une telle exécution de l'anode 1 assure elle aussi le maintien de l'axe 3 de la décharge d'arc dans une position fixe. Par ailleurs, la décharge d'arc est fortement seime contre la surface des cylindres rotatifs 31, ce qui permet d'élever la stabilité de la position spatiale de l'axe 3 de la décharge d'arc et de réduire la variation des paramètres de la décharge d'arc en comparaison des modes d'exécution représentés sur les figures l et 2. De plus, grâce au mouvement alternatif des cylindres 31, on obtient une répartition efficace de la chaleur suivant la surface des cylindres 31 et l'on arrive à minimiser et à régulariser l'érosion sur toute la surface des cylindres 31. L'installation représentée sur la figure 5 est destinée à traiter des produits creux cylindriques. Les éléments analogues aux éléments correspondants représentés sur la figure 1 sont désignés par les mêmes chiffres. Dans cette installation, le dispositif d'avance 4 est réalisé sous forme de deux transporteurs circulaires 37 disposés symétriquement par rapport à l'axe 3 de la décharge d'arc entre l'anode l et la cathode 2 et tournant dans un plan perpendiculaire à l'axe 3. Les transporteurs 37 sont commandés à partir d'un moteur électrique (non représenté) par l'intermédiaire d'un réducteur 38.Sur les transporteurs 37 sont montés circonférentiellement, avec un espacement régulier, des mécanismes 39 qui assurent la fixation et la rotation des produits 5 autour de leur axe de manière que la génératrice 7 de la surface 6 à traiter soit parallèle à l'axe 3 de la décharge d'arc et que la surface 6 à traiter soit à-la distance requise de l'axe 3. Le mécanisme 39 comprend un cône entraîneur inférieur 40 relié à une commande de rotation (non représentée) par l'intermédiaire d'un embrayage 41 et d'un réducteur 42. De plus, le mécanisme 39 comprend un cône de centrage supérieur 43 installé sur une extrémité d'un levier 44 qui est en interaction avec un excentrique 45 relié à une commande (non représenté). L'excentrique 45 est destiné à reléver le levier 44 lors de la dépose ou de la mise en place du produit 5 à traiter. Après l'amorçage de la décharge d'arc et son réglage réalisés de la façon décrite ci-dessus (voir le fonctionnement de l'installation d'après la figure 1), on pose les produits cylindriques 5 à traiter sur les transportears circulaires 37 dans les positions les plus éloignées de l'axe 3 de la décharge d'arc, en les plaçant sur le cône inférieur 40 et en les serrant à l'aide du cône de centrage supérieur 43. Ensuite on met en marche la commande de rotation des transporteurs circulaires 37 et l'on pose les produits 5 à une distance minimale de l'axe 3 de la décharge d'arc. Puis on démarre la commande du mécanisme 39 après avoir choisi, au moyen de l'embrayage 41, la vitesse voulue de rotation des produits, et l'on effectue le traitement de la surface 6 durant un tour du produit 5.En même temps, on met sur les transporteurs circulaires 37 une nouvelle paire de produits 5 devant subir le traitement superficiel. Après avoir terminé le traitement d'une paire de produits 5, on arrête la commande du mécanisme 39 et l'on démarre la commande de rotation des transporteurs 37 en avançant la paire suivante de produits 5 vers l'axe 3 de la décharge d'arc. L'installation représentée sur la figure 6 comprend un dispositif d'avance 4 (les éléments analogues aux éléments correspondants de la figure i sont désignés par les mêmes chiffres de référence) ayant un seul brin transporteur 44 fournissant les produits 5 d'un côté de l'axe 3 de la décharge d'arc. Du côté opposé de l'axe 3 de la décharge d'arc est installé un écran 45 qui présente des canaux 46 communiquant avec le système de circulation du liquide de refroidissement (non représenté). L'écran 45 électriquement isolé des électrodes du générateur plasmatique et installé le long de l'axe 3 de la décharge d'arc, à une distance comprise sensiblement entre 1/5 et 3/10 du diamètre de la décharge d'arc.Au cours du fonctionnement, l'écran 45 assure le serrage de la décharge d'arc contre la surface 6 à traiter et les réflexions multiples de la radiation de la décharge d'arc, ce qui permet de mieux utiliser la chaleur de la décharge d'arc en traitant la surface 6 d'un seul produit 5 livré d'un côté de l'axe 3 de la décharge d'arc. Les exemples d'exécution de l'invention décrit cidessus ne sont donnes que dans le but de mieux comprendre l'invention et de présenter les informations nécessaires à sa réalisation et il ne faut pas considérer l'installation de traitement à haute température de surfaces à génératrice rectiligne de produits en matériaux diélectriques, objet de l'invention, comme limité aux formes de mise en oeuvre spécifiquement décrites. Ainsi, d'autres variantes d'exécution du dispositif d'amenée sont possibles : pour le traitement de produits plats, il peut être réalisé, par exemple, sous forme d'un chariot avec un mécanisme de mouvement alternatif à retour accéléré, tandis que pour traiter des produits cylindriques il peut être réalisé sous forme d'un transporteur rectiligne avec un mécanisme de fixation et de rotation des pièees à traiter. Il est également possible de monter l'anode et la cathode du générateur plasmatique de telle façon que l'axe de la décharge d'arc plasmatique s'étende dans la direction horizontale. D'autres formes de mise en oeuvre des ensembles à anode et à cathode ou des mécanismes du dispositif d'avance sont aussi possibles. Par conséquent, l'invention n'est nullement limitée aux modes de réalisation décrits et représentés qui n'ont été donnés qu'à titre d'exemple. En particulier, elle comprend tous les moyens constituants des équivalents techniques des moyens décrits ainsi que leurs combinaisons, si celles-ci sont exécutées suivant son esprit et mises en oeuvre dans le cadre des revendications qui suivent. REVENDICATIONS 1. Installation de traitement à haute température de surfaces à génératrice rectiligne de produits en matériaux diélectriques, du type comprenant une anode et une cathode de générateur plasmatique disposées l'une en face de l'autre et formant entre eux un éclateur de décharge d'arc, et un dispositif d'avance pour le déplacement des produits à une distance déterminée de l'axe de la décharge d'arc, caractérisée en ce que la cathode est montée de façon immobile et que l'anode est adaptée pour, conjointement avec la cathode immobile, maintenir dans une position fixe l'axe de la décharge d'arc dans l'éclateur, la longueur de celui-ci étant supérieure à celle de la génératrice de la surface à traiter, ledit dispositif d'avance étant éxécuté de façon que le déplacement des produits s'effectue dans un plan perpendiculaire à l'axe de la décharge d'arc et que la génératrice de la surface à traiter soit disposée parallèlement à l'axe de la décharge d'arc. 2. Installation selon la revendication l, caractérisée en ce que l'anode a la forme d'une tige et est montée coaxialement à la cathode. 3. Installation selon l'une des revendications 1 et 2, craterisee en ce que l'anode est réalisée creuse et que sa cavité intérieure communique avec un dispositif d'aspiration. 4. Installation selon l'une des revendications 1, 2 et 3, caractérisée en ce qu'il est prévu un écran plat refroidi à l'eau, adjacent à l'extrémité de l'anode creuse, cet écran étant électriquement isolé de l'anode et présentant un orifice central égal et coaxial à l'orifice intérieur de l'anode. 5. Installation selon la revendication 1, caractérisée par ce que l'anode est réalisée sous forme d'un goujon soumis à un soufflage par un gaz de travail ou de remplissage dans la direction de la cathode. 6. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'anode est réalisée sous forme de deux cylindres parallèles et tournant l'un vers l'autre, dont les axes sont perpendiculaires à l'axe de la décharge d'arc, l'écartement entre les cylindres étant plus petit que le diamètre de la tache de contact de la décharge d'arc sur l'anode. 7. Installation selon l'une des revendications 1 et 6, caractérisée en ce que lesdits cylindres sont montés sur un support mobile susceptible de se déplacer le long des axes des cylindres, ledit support étant relié à un mécanisme assurant son déplacement alternatif suivant cette direction. 8. Installation selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que le dispositif d'avance comprend deux brins transporteurs identiques, situés symétriquement des deux côtés des'axe de la décharge d'arc. 9. Installation selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que le dispositif d'avance est disposé d'un côté dey'axe de la décharge d'arc, tandis que de l'autre côté, de celui-ci, le long de l'axe de la décharge d'arc, est installé un écran refroidi à l'eau et électriquement isolé de l'anode et de la cathode.