FR 2398821 A1 19790223 FR 7722878 A 19770726 La présente invention concerne un nouveau masque destiné à 8trie utilisé pour le marquage électrochimique d'une surface métallique. Il est connu de marquer des motifs, par exemple des numéros, sur une surface métallique par électrolyse, la surface métallique formant l1une des électrodes. On pourra ainsi réaliser un marquage en creux, c'est-à-dire une gravure, par dissolution anodique au moyen d'un électrolyte adapté à la substance métallique. Pour que l'électrolyte ne vienne en contact avec le métal qu'aux endroits correspondant au motif désiré, il faut appliquer sur la surface métallique un masque de dessin approprié. Il est connu, pour réaliser un tel masque, d'utiliser un support présensibilisé, c'est-à-dire un support de type papier imprégné dans la masse d'une substance photopolymérisable. On expose ce support à travers un cliché reproduisant le motif à graver, et on élimine les parties non exposées par un solvant approprié, en formant des 'tfenêtrest' qui permettront le passage de l'électrolyte. Oes supports présentent toutefois l'inconvénient de ne pas permettre un très grand nombre de marquages, à cause de l'usure qui affecte les bords des fendtres. De plus, ces supports, du fait qu'ils sont présensibilisés, n'ont pas une très bonne stabilité au stockage. La présente invention vise à procurer un masque de marquage électrochimique permettant d'effectuer un nombre beaucoup plus important de marquages et ne posant aucun problème de stockage. L'invention a pour objet un masque de marquage électrochimique, caractérisé par le fait qulil comprend un support à structure maillée en matière inerte visu vis de l'électrolyte utilisé, le pas de la structure étant tel que l'électrolyte puisse traverser le support, mais ne puisse le faire que sous l'action du courant électrique, et une résine photosensible à action négative polymérisée qui imprègne ledit support, sauf dans les sones reproduisant le motif à marquer. Le masque selon l'invention, à la différence des papiers présensibilisés connus, conserve une continuité de structure meme dans les zones de passage de l'électrolyte correspondant au motif. De ce fait, sa résistance mécanique et donc saturée de vie sont nettement supérieures. D'autre part, le produit à stocker sera simplement le support avant imprégnation par la résine, et aucun problème de tenue au stockage ne se pose. Pour obtenir le masque de marquage, on commence par imprégner le support poreux avec la résine photosensible à l'étant liquide, par exemple par immersion, pistolage ou centrifugation. On soumet ensuite le support imprégné à un rayonnement à travers un cliché reproduisant le motif à marquer, et on élimine les parties non exposées par des solvants convenables. Pour l'exposition, on utilise de préférence un rayonnement ultra-violet produit par une lampe à vapeur de mercure, la résine étant choisie en conséquence, Le support, outre sa porosité et sa résistance chimique vis i-vis de l'électrolyte, doit avoir une souplesse suffisante pour épouser les reliefs éventuels de la surface à marquer. On peut utiliser comme support un papier cellulosique mince, mais on utilisera de préférence un tissu à mailles fines en une matière synthétique appropriée, notamment en polyester et plus particulièrement en un polyester du type polytéréphtalate d'éthylèneglycol tels que ceux vendus sous la marque ESvALEOIBO (produit de la société suisse Seidengazefabric AS) ou sous la marque NONOLEN (produit de la société suisse 2üricher Benteltuchfabrik hG. A titre d'exemple, on pourra utiliser un tissu ayant les caractéristiques suivantes diamètre du fil : de 0,033 à 0,038 mm nombre de mailles : de 120 à 160/cm pas : de 0,05 à 0,09 mm transparence : de 25 à 35 5o Le choix sera fonction de la définition désirée. La résine constituant l'agent de masquage est une résine photopolymérisable qui doit assurer une bonne imprégnation du support à l'état non polymérisé et présenter à l'état polymérisé une bonne résistance aux électrolytes. On citera comme exemple d'une telle résine le polymère poly vinylcirnamique obtenu par réaction du chlorure de l'acide cinnamique sur l'alcool vinylique. La photosensibilisation de cette résine est obtenue par addition d'un composé thio. Un autre exemple d'une telle résine est le cispolyisoprène, polymère obtenu par réaction de l'acide m-chloroperbenzoSque sur une substance époxy portant une liaison suivie d'une déshalogénation. Dans ce cas, la photosensibilisation sera obtenue au moyen d'un composé diazoïque tel que la 2,6 bis (4-diazobenzylidène) cyclohexanone. Des essais de gravure effectués avec un support en tissu de polyester ont permis de constater que le nombre de marquages réalisables avec un masque conforme à l'invention dépassait 10 000, alors qu'il n1 est au plus que de 1000 à 2000 avec les papiers présensibilisés connus. Cette amélioration résulte directement de la résistance mécanique supérieure du masque selon l'invention. Il faut noter que le masque selon l'invention peut 8trie utilisé aussi bien pour la gravure par dissolution anodique que pour le marquage en relief par dépit cathodique, REVENDICATIONS 1.- Masque de marquage électrochimique, caractérisé par le fait qu'il comprend un support à structure maillée en matière inerte vis-à-vis de l'électrolyte utilisé, le pas de la structure étant tel que l'électrolyte puisse traverser le support, mais ne puisse le faire que sous Inaction du courant électrique, et une résine photosensible à action négative polymérisée qui imprègne ledit support, sauf dans les zones reprod-lisant le motif à marquer. 2.- Masque selon la revendication 1, dans lequel le support est un tissu en polyester. 3.- Masque selon la revendication 2, dans lequel le nombre de mailles est de 120 à 160 par centimètre.