FR 2357072 A1 19780127 FR 7716801 A 19770526 La présente invention concerne les éléments d'interconnexion à couches multiples et plus particulièrement de tels éléments comportant de faibles temps de réponse des signaux. La vitesse des circuits intégrés à grande échelle (L S I) est limitée en grande partie par le retard de transmission de l'ensemble. Il en est ainsi parce que le retard de commutation des dispositifs actifs devient relativement insignifiant par rapport au retard de la propagation ou de l'interconnexion de l'ensemble L.S.I. Le retard de propagation est dû en grande partie à la constante diélectique élevée du matériau isolant situe entre les différentes couches du circuit. La constante diélectrique du matériau isolant est supérieure à 1; et, celle-ci est de l'ordre de 9 lorsqu'on opère dans un environnement de céramique. Plus la constante diélectrique est élevée, plus la vitesse de propagation du signal est faible. L'objet de la présente invention consiste en un élément d'interconnexion à couches multiples dans lequel le diélectrique situé entre les différentes couches est de l'air dont la constante diélectrique est I. En conséquence, la vitesse de propagation du signal est augmentée d'une manière signative. Conformément à la présente invention, on décrit un élément d'interconnexion à couches multiples pour un circuit intégré à grande échelle. L'élément d'interconnexion comprend au moins une couche de signal et une couche de référence fixées l'une à l'autre par des entretoises qui maintiennent entre ces deux couches un espace de hauteur prédéterminé, rempli d'air. La configuration des lignes de signal, située sur chaque face de la couche de signal-, comprend des conducteurs disposes à des emplacements prédéterminés dans le dit substrat qui permettent de relier les lignes de signal situées sur une face aux lignes de signal situées sur l'autre face ou à la couche de référence. La couche de référence est constituée par un autre substrat dont les faces sont recouvertes d'un matériau conducteur et qui est également traversé par plusieurs conducteurs. Les conducteurs sont reliés sélectivement au matériau conducteur ou isolés de celui-ci.Les conducteurs de la couche de référence sont également reliés sélectivement aux conducteurs de la couche de signal. D'autres objets, caractéristiques et avantages de la présente invention ressortiront mieux de l'exposé qui suit fait en référence aux dessins annexés à ce texte, qui représentent un mode de réalisation préféré de celleci. La figure 1 est un schéma représentant un élément ou système d'interconnexion à couches multiples conforme à la présente invention; La figure 2 est un schéma représentant l'espacement entre une couche de signal et une couche de référence; celui-ci donne également les dimensions des lignes décapées, situées sur une couche donnée; La figure 3 est un schéma montrant comment les couches de masquage sont appliquées sur chaque face d'un substrat isolant qui est traite ultérieurement pour former soit une couche plane de signal ou une couche plane de référence; Les figures 4A et 4F représentent des coupes d'un substrat isolant, traité conformément à la présente invention, pour former une couche de référence; La figure 5 est une vue de dessus d'une couche de référence;; Les figures 6A et 6D représentent des coupes d'un substrat isolant, traité conformément à la présente invention, pour former une couche de signal; La figure 7 est une vue de dessus d'une couche de signal; et La figure 8 est un schéma montrant comment relier et fusionnerplusieurs couches de réference avec des couches de signal pour former un système d'interconnexion à couches multiples. La figure 1 illustre un système d'interconnexion-à couches multiples, 2, conforme à la présente invention. Plusieurs couches pl-anes de signal 3, 5, 7 et 9 sont alternées avec les couches de référence 4, 6, 8 et 10 et séparées de celles-ci par des entretoises telles que 11 et 12. Les couches de signal sont connues dans l'art comme des couches planes X-Y et les couches de référence comme des couches de tension ou des couches de masse. Les couches de signal comportent des lignes X sur une face et des lignes Y sur l'autre, perpendiculaires aux lignes X, ces lignes étant sélectivement reliées entre elles ou avec une couche de référence adjacente par des conducteurs qui traversent la couche et dépassent les faces respectives de la couche de signal.Les différentes couches de références sont traversées par plusieurs conducteurs qui dépassent les faces respectives de celles-ci; une couche conductrice plane de tension ou de masse est formée sur chaque face du substrat, ces couches conductrices étant reliées sélectivement aux conducteurs ou isolées de ceux-ci. Les conducteurs situes dans les couches de signal et les couches de référence adjacentes sont pratiquement alignés et peuvent être reliés par des soudures respectives. Un diélectrique, qui est l'air, sépare les couches respectives espacées grâce aux entretoises 11 et 12 ainsi que les conducteurs situés dans les différentes couches et soudés les uns aux autres. Les plaquettes de circuits intégrés 13, 14 et 15 sont reliées à la couche de signal 3 d'une manière connue; il en est de même des plaquettes de circuits intégrés 16, 17 et 18 reliées à la couche de signal 7.L'interconnexion des différentes plaquettes entre elles et avec les couches de signal et de référence choisies est réalisée conformément aux procédés donnés dans la présente invention. La figure 2 montre l'espacement entre une couche de référence et une couche de signal données. Les entretoises 21 et 22 séparent une couche de signal 19 d'une couche de référence 20. On forme généralement des entretoises sur la couche de signal et sur la couche de masse et ensuite on soude celles-ci. La couche de signal porte plusieurs lignes X 23 sur sa face supérieure et plusieurs lignes Y 24 et 25 sur sa face inférieure. La largeur de ligne d'une ligne décapée sur la couche de signal est W et la hauteur de l'espace maintenu entre les lignes des différentes couches est d. On a omit d'illustrer l'interconnexion des lignes de la couche de signal entre elles et avec la couche de référence pour mieux montrer l'espace rempli du diélectrique air maintenu entre les différentes couches et les différents conducteurs. La géométrie de l'ensemble d'interconnexion est déterminée par l'impédance caractéristique. Si l'on néglige le champ marginal, l'impédance caractéristique de la décapée est approximativelent égale à (1) Zo X (dlw) ou u = la perméabilité magnétique; la laconstante diélectrique; d = l'espace entre les lignes; et w = la largeur des lignes. Si l'on tient compte du Si l'on tient compte du champ marginal, l'impédance caractéristique de la ligne décapée devient la constante diélectrique; d = l'espace entre les lignes; w = la largeur des lignes; et t = l'épaisseur des lignes. Comme le diélectrique remp#iSSant l'espace entre les couches est l'air, la constantediélectrique/ (#T réelles dépend de la constante diélectrique du substrat de la couche (ET sub) et de l'espace compris entre une ligne de signal et le plan de référence. (3) sr sub r > T réelle > 1 par exemple si le substrat est en céramique on a (4) sT sub ~ 9,0 (5) CT réelle u 3,8 Le retard de proPagation du signal est alors ou C est la vitesse de la lumière. Ainsi, T1) = ;121 pico secondes/cm lorsque les lignes de signal sont enterrées dans une céramique d'alumine, alors que To = 65 pico secondes/cm lorsque les lignes de signal sont couplées avec un plan de référence à travers un espace rempli d'air, même si les différents substrats sont en céramique d'alumine. Pour un circuit semiconducteur, Zo est généralement de 50 ohms environ ; ainsi pour une ligne de (76,2 x 25,4) microns 2de section, on peut obtenir facilement une hauteur d de 76,2 microns environ en utilisant le procédé de fabrication que l'on va décrire. Il faut généralement maintenir un espace de l'ordre de 2d à 5d entre les lignes si l'on veut éviter les interférences des champs marginaux des lignes de transmission, ceci dépendant de la géométrie et de l'utilisation spécifique des circuits intégrés. Ainsi, une seule ligne de rangée par canal d'une grille de connexion de 508 microns maintient le couplage capacitif et d'induction entre les lignes de la même couche à 10% environ. En conséquence, le bruit est négligeable. Une couche de signal et une couche de référence sont respectivement formées sur un substrat isolant dont les faces portent une couche de masquage appliquée à un-endroit choisi. On applique sous pression la couche de masquage sur la partie choisie de manière que la surface du masque soit alignée avec la surface du substrat. Par conséquent, lorsqu'on enlève la couche de masquage un creux se forme dans le substrat. Ce creux formera une partie de l'espace rempli d'air lorsqu'on interconnecte une couche de signal et une couche de référence conformément à la présente invention. La figure 3 montre un procédé d'application de couches de masquage sur les régions choisies des surfaces respectives d'un matériau isolant. On applique des couches minces de matériau de masquage 29 et 30 sur les parties choisies de la face supérieure et de la face inférieure d'un substrat isolant 28, en céramique crue par exemple; le substrat et les couches minces de masquage sont insérés dans une presse à plateaux parallèles, comportant un plateau supérieur 31 et un plateau inférieur 32. On applique une pression aux plateaux, supérieur et inférieur, de la presse dans le sens des flèches 33 et 34 afin d'encastrer les couches minces de masquage 29 et 30 dans la couche isolante 28 de manière que la surface des couches de masquage soit alignée avec les surfaces respectives du substrat isolant. En conséquence, lorsqu'on enlève les couches de masquage, des creux se forment dans le substrat isolant, et la profondeur de ceux-ci correspond a l'épaisseur des couches de masquage respectives. Les couches de masquage peuvent être constituées par des feuilles de Mylar de 25,4 microns environ d'épaisseur Les figures 4A - 4F illustrent un exemple de procédé de formation d'une couche de référence, conforme à la présente invention. La figure 4A montre des couches de masquage 36 et 37 encastrées dans les faces supérieure et inférieure d'un substrat isolant 35 suivant la technique décrite avec la figure 3. Comme on l'a déjà mentionne, le substrat 35 peut être en céramique crue et les couches 36 et 37 peuvent être en Mylar. Il est évident que l'on peut utiliser d'autres substrats isolants et couches de masquage pour réaliser la présente invention ainsi que d'autres techniques pour l'application des couches de masquage sur le substrat. On forme plusieurs trous de connexion dans le substrat 35 en utilisant des techniques connues.En se référant la figure 4B par exemple, on a formé des trous de connexions 38 à 43 dans le substrat en utilisant un faisceau d'électrons (percement par faisceau électronique). On peut utiliser d'autres techniques appropriées telles que le percement ou la perforation mécanique pour former les trous de connexion. Comme le montre la figure 4C, on a rempli les trous de connexion 39 à 42 avec un matériau conducteur pour y former les conducteurs 44 à 47. On peut utiliser plusieurs métaux comme matériau conducteur, la pâte de cuivre par exemple.On ne remplit pas les trous de connexion 38 et 43 car ceux-ci sont utilisés comme trous de référence pour l'alignement de la couche de référence avec une couche de signal lorsque ces deux couches sont assemblées pour former un système d'interconnexion à couches multiples. Comme le montre la figure 4D, on laisse sécher la pàte métallique et on arrache les couches de masquage du substrat en utilisant des techniques connues pour former des creux 48 et 49 sur les faces respectives du substrat. Les creux ont une profondeur de l'ordre de 25,4 microns qui correspond à l'épaisseur de la couche de masquage. La formation de ces creux permet aux conducteurs respectifs de faire saillie par rapport aux surfaces du substrat. Comme on l'a mentionne précédemment, ces creux forment l'espace rempli d'air qui sépare les différentes couches d'un système d'interconnexion à couches multiples. La formation de ces creux crée des entretoises 50 et 51 hors de la partie choisie pour le masquage, c'est-à-dire aux extrémités du substrat.Ces entretoises sont utilisées pour joindre les couches respectives et pour maintenir un espace rempli d'air entre celles-ci. Ensuite on chauffe la feuille métallisée à une température appropriée qui dépend de la composition, pour transformer cette feuille crue en céramique très dense. Ensuite, comme le montre la figure 4E, on applique de minces couches conductrices 52 et 53 sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat. Les couches conductrices peuvent être en cuivre par exemple. Ensuite on applique une couche photorésistante sur les surfaces respectives du substrat, on expose sélectivement celle-ci, ce qui permet d'enlever certaines parties 54 de la couche conductrice, notamment celles qui entourent les conducteurs, tout en laissant d'autres parties 55 en contact avec certains conducteurs. On réalise ceci d'une manière sélective afin de relier ou dtisoler les couches conductrices des conducteurs respectifs. Ensuite, comme le montre la figure 4F, on applique un matériau fusible tel qu'un alliage de soudure 56 sur la surface de chaque conducteur et de chaque entretoise. On applique ensuite une mince pellicule 57 d'or ou d'argent sur l'alliage de soudure afin d'empêcher la formation d'oxyde sur les conducteurs et les entretoises. Les alliages de soudure pouvant être utilisés seront décrits plus loin. La couche plane de référence qui en résulte est illustrée dans la vue de dessus de la figure 5 ou l'on voit un substrat isolant 58 dans lequel on a formé plusieurs conducteurs 59 faisant saillie par rapport a la surface du substrat et disposés de manière à créer une configuration prédéterminée pour qu'ils soient alignés et reliés aux conducteurs de la couche de signal. Les figures 6A à 6D illustrent un exemple de procédé de formation de couches de signal conforme à la présente invention. Des couches de masquage 61 et 62, de 25,4 microns environ d'épaisseur, sont encastrées dans des regions choisies des faces supérieure et inférieure d'un substrat Isolant 60 suivant la technique décrite avec la figure 3. Le substrat isolant et les couches de masquage peuvent encore être en céramique crue et en Mylar. Comme le montre la figure 6B, on forme plusieurs trous de connexion 63 à 66 dans le substrat en utilisant un percement mécanique ou par faisceau d'électrons. On décape des configurations de lignes de signal 67, 68 et 69 dans les couches de masquage situées sur les faces supérieure et inférieure du substrat. On forme également des configurations de doigts de contact 70, 71 et 72 sur les faces supérieure et inférieure, du substrat en utilisant la même technique. Comme le montre la figure 6C, on remplit avec un matériau conducteur, de la pâte de cuivre par exemple, les trous de connexion 64 et 65 pour former les conducteurs 73 et 74, la configuration de lignes X 67 et les configurations de lignes Y 68 et 69 pour former la ligne X 75 et les lignes Y 76 et 77, et les configurations de doigts de contact 70, 71 et 72 pour former les doigts de contact 78, 79 et 80. On ne remplit pas les trous de connexion 63 et 66 car ceux-ci serviront de trous de référence pour l'alignement de la couche de signal avec une couche de référence lorsque celles-ci sont assemblées pour former un système d'interconnexion à couches multiples. Comme le montre la figure 6D, on arrache les couches de masquage des surfaces du substrat en utilisant des techniques connues pour former des creux 81 et 82, ayant une profondeur de 25,4 microns environ, correspondant à l'épaisseur des couches de masquage, et pour former les entretoises 83 et 84 hors des régions choisies pour le masquage. On chauffe la feuille métallisée à une température appropriée qui dépend de la composition, pour transformer la feuille crue en feuille céramique très dense. Ensuite, on dépose un matériau fusible tel qu'un alliage de soudure 85 sur la surface des entretoises, des conducteurs et des doigts de contact, et enfin une mince pellicule 86 d'or ou d'argent sur l'alliage de soudure pour empêcher la formation dioxyde. En se référant maintenant à la figure 7 qui est une vue de dessus d'une couche de signal 87 traversée par plusieurs conducteurs 88, ceuxci forment une configuration prédéterminée afin de pouvoir être alignés et reliés sélectivement avec les conducteurs de la couche de référence. Plusieurs lignes X 89, 90 et 91, situées sur la surface supérieure, sont reliées sélectivement aux conducteurs 88. On montre en pointillé les conducteurs le ligne Y 92 et 93, situés sur la surface inférieure; la ligne 92 relie les lignes 89 et 91 et la ligne 93 est reliée à la ligne 90. Les lignes X et les lignes Y sont orthogonales entre elles. La figure 8 illustre un exemple de procédé d'assemblage par fusion des couches de signal avec des couches de référence. Une plaque de base 94 porte des broches d'alignement 95 et 96 encastrées dans sa partie supérieure. On alterne plusieurs couches de signal 97, 98 et 99 avec des couches de référence 100 et 101, les broches d'alignement s'insérant dans les trous de références des couches respectives. On pose ensuite un élément de couverture 103 sur les couches ainsi empilées. Le poids de cet élément de couverture maintient les couches les une contre les autres. L'assemblage qui en résulte est chauffe dans une atmosphère rarefiée pour faire fondre l'alliage et souder ainsi les couches par les entretoises 104, 105, 106 et 107 et souder également les conducteurs alignés et les doigts de contact des couches respectives.Les alliages de soudure fondent pendant le chauffage et la pression des éléments de couverture provoque la fusion des entretoises et des conducteurs. L'espace rempli d'air séparant les couches de signal des couches de référence dépend de la hauteur des entretoises respectives qui, comme on l'a mentionné précédemment, est déterminée par l'épaisseur des couches de masquage respectives. Les tableaux 1 et 2, ci-apres, montrent des alliages auto-fondants et des alliages d'or pouvant être utilisés en tant qu'alliage de soudure dans le procédé d'assemblage décrit ci-dessus. TABLEAU I ALLIAGES AUTO-FONDANTS Température de Composition de l'alliage (poids %) soudure (OC) 880 Ag 72 Cu 27,5 Li 0,5 850 Ag 50 Cu 1#-14,4 Zn 17 Cd 15-Li 0,5-1 800 Ag 71 Cu 28 P 1 730-750 Cu 86,5-90,5 Zn 1-3 Sn 2,5-3,5 650 Cu 82 Ni 13 P 5 TABLEAU Il ALLIAGES D'OR Tempéraure de soudure ("C) Composition de I'al#iage (ppids %) 850 Au 75 Ag 9 Cu 6 Cd 10 830 Au 75 Cu 15 Cd 8,2 Zn 1,8 810 Au 75 Ag 7,5 Cu 7,5 Cd 7 Zn 3 790 Au 75 Ag 9 Cu 6 Zn 10 770 Au 75 Ag 2,8 Cu 11,2 Cd 9 Zn 2 750 Au 33,3 Ag 35 Cu 21,7 Cd 10 Le procédé décrit ci-dessus donne un exemple de procédé de fabrication d'un système d'interconnexion a couches multiples de circuit intégré à grande échelle dans lequel le retard de propagation du signal est réduit en utilisant l'air comme diélectrique séparant les couches de référence et les couches de signal. Bien que l'on ait décrit dans ce qui précède et représenté sur les dessins; les caractéristiques essentielles de la présente invention appliquées à un mode de réalisation préféré de celle-ci, il est évident que lihomme de l'art peut y apporter toutes modifications de forme ou de détail qutil juge utiles, sans pour autant sortir du cadre de ladite invention. REVENDICATIONS 1.- Procédé de fabrication d'un élément d'interconnexion à couches multiples comprenant au moins une couche de signal et une couche de référence fixées l'une à l'autre par des entretoises qui maintiennent entre ces couches un espace d'air de hauteur predéterminée, le procédé étant caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: la formation de la couche de signal comprenant les étapes suivantes:: la formation d'une couche de masque sur les surfaces supérieure et inférieure d'un substrat isolant, la formation d'une configuration prédéterminée de lignes de signal sur la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure- du substrat, la formation de trous de connexion dans le substrat isolant, le remplissage, avec un matériau conducteur, de ladite configuration de lignes et d'au moins certains trous de connexion déterminés afin de réaliser des conducteurs et, l'enlèvement de la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat, fournissant ainsi un espace d'air dans les zones oû la couche de masque a été enlevée, la formation de la couche de référence comprenant les étapes suivantes:: la formation d'une couche de masque sur les surfaces supérieure et inférieure d'un substrat isolant, la formation de trous de connexion dans le substrat isolant,, le remplissage, avec un matériau conducteur, d'au moins certains trous de connexion déterminés afin de réaliser des conducteurs, l'enlèvement de la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat, fournissant ainsi espace d'air dans les zones ou la couche de masque a été enlevée, le dépôt d'une couche conductrice sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat, dans les zones ou la couche de masque a été enlevée, et, l'enlèvement des zones de la couche conductrice adjacentes auxdits trous de connexion remplie, l'assemblage de la couche de signal et de la couche de référence, comprenant les étapes suivantes:: le dépôt d'un matériau fusible sur au moins certains conducteurs de la couche de signal et sur la couche de référence l'empilement de la couche de signal et de la couche de référence, le chauffage et l'application d'une pression aux deux couches pour lier par fusion le dépôt de la couche conductrice sur la couche de référence aux conducteurs de la couche de signal revêtus de matériau fusible, un espace d'air étant maintenu, lors de la fusion, dans les zones ou la couche de masque a été enlevée de la couche de signal ou de la couche de référence. 2.- Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que la formation des couches de masque, dans les étapes de formation de la couche de signal et de la couche de référence, n'est réalisée que sur certaines zones déterminées des surfaces supérieure et inférieure du substrat isolant. 3.- Procédé de fabrication d'un élément d'interconnexion à couches multiples comprenant au moins une couche de signal et une couche de référence fixées l'une à l'autre par des entretoises qui maintiennent entre ces couches un espace d'air de hauteur prédéterminée, le procédé étant caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes:: la formation de la couche de signal en réalisant une configuration de lignes conductrice de signal prédéterminée sur chacune des faces d'un substrat, et en réalisant, en des endroits déterminés, des trous de connexion métallisés a l'intérieur du substrat, ces trous métallisés connectant les lignes de signal situées sur une face du substrat aux lignes de signal situées sur l'autre face ou à la couche de référence, la formation de la couche de référence en- revêtant, d'un matériau conducteur, chacune des faces d'un second substrat et, en réalisant des trous de connexion métallisés à l'intérieur de ce substrat, ces trous étant disposés dans le second substrat de telle sorte qu'ils puissent être sélectivement connectés audit matériau conducteur et aux lignes de signal de la couche de signal, la formation d'entretoises sur au moins une des deux couches de signal et de référence, et, l'empilement de la couche de signal et de la couche de référence selon une configuration prédéterminée et la liaison des couches de signal et de référence entre elles et de façon permanente, les deux couches étant espacées l'une de l'autre par les entretoises. 4.- Procédé de fabrication d'un élément d'interconnexion à couches multiples comprenant des ensembles de double-couches, chaque double-couches étant constituée par une couche de signal et une couche de référence fixées l'une a l'autre par des entretoises qui maintiennent entre ces couches un espace d'air de hauteur prédéterminée, le procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: la formation de chaque couche de signal comportant les étapes suivantes:: la formation d'une couche de masque sur des zones choisies des surfaces supérieure et inférieure d'un substrat isolant, la#formation d'une configuration prédéterminée de lignes conductrices de signal sur la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat, la formation de trous de connexion dans le substrat isolant, la formation d'une configuration de contacts d'espacement sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat isolant, le remplissage, avec un matériau conducteur, de la configuration de lignes de signal, de la configuration de contacts d'espacement et d'au moins certains trous de connexions déterminés pour réaliser respectivement des lignes conductrices de signal, des contacts d'espacement et des conducteurs, l'enlèvement de la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat, fournissant ainsi une dépression dans les zones ou la couche de masque a été enlevée, et le dépôt d'un matériau fusible sur lesdits conducteurs, les contacts d'espacement et les zones non choisies de la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du substrat isolant, la formation de chaque plan de référence comportant les étapes suivantes: : la formation d'une couche de masques sur des zones sélectées des surfaces supérieuré et inférieure d'un second substrat isolant, la formation de trous de connexion dans ce second substrat, le remplissage, avec un matériau conducteur, d'au moins certains trous de connexion pour former des conducteurs, l'enlèvement de la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du second substrat, fournissant ainsi une dépression dans les zones où la couche de dépression a été enlevée, le dépôt d'une couche conductrice dans les zones du second substrat ou la couche de masque a été enlevée, l'enlèvement des zones de la couche conductrice adjacente aux trous de connexion remplis de matériau conducteur et, le dépôt d'un matériau fusible sur lesdits conducteurs du second substrat et sur les zones non sélectées de la couche de masque située sur les surfaces supérieure et inférieure du second substrat, et l'assemblage des couches de signal et des couches de référence, comprenant les étapes suivantes:: l'empilement des couches de signal et des couches de référence selon une configuration prédéterminée et, l'application de chaleur et de pression aux couches de signal et de référence empilées pour lier par fusion au moins certains des conducteurs et des contacts d'espacements situes sur la couche de signal à certains des conducteurs située sur la couche de référence et pour lier par fusion lesdites zones non sélectées ou non choisies des surfaces de couches adjacentes se faisant face, un espace d'air étant maintenu, lors de la fusion, dans les dépressions. 5.- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que les substrats isolants sont en matériau céramique. 6.- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que les couches de masque sont en Mylar. 7.- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que les configurations de lignes conductrices de signal situées sur chaque surface de ladite couche de signal sont mutuellement orthogonale. 8.- Elément d'interconnexion à couches multiples du genre comprenant au moins une couche de signal et une couche de référence fixées l'une à l'autre par des entretoises qui maintiennent entre ces couches un espace d'air de hauteur prédéterminée, cet élément étant caractérisé en ce qu'il comporte:: une couche de signal comprenant, d'une part, un substrat isolant dont les surfaces supérieure et inférieure sont revêtues d'une configuration de lignes conductrices de signal et, d'autre part des conducteurs situes dans des trous de connexion réalisés dans le substrat isolant, ces conducteurs connectant les lignes de signal situées sur une surface aux lignes de signal situées sur l'autre surface ou a la couche de référence, une couche de référence comprenant, d'une part, un second substrat isolant dont les surfaces sont revêtues d'une couche de matériau conducteur et d'autre part, plusieurs conducteurs situés dans des trous de connexion réalisés dans ce second substrat, certains de ces conducteurs étant sélectivement reliés à la couche de matériau conducteur, les autres en étant isolés et certains de ces conducteurs étant sélectivement connectés aux conducteurs situés sur la couche de signal, et des entretoises qui sont formées sur au moins une desdites couches de signal et de référence. 9.- Elément d'interconnexion à couches multiples caractérisé en ce qu'il est obtenu par le procédé de l'une quelconque des revendications 1 à 7.