FR 2349410 A1 19771125 FR 7613008 A 19760430 La présente invention concerne les abrasifs, plus précisément, les abrasifs dont les grains portent un revêtement. L'invention peut trouver une large application dans le travail des diamants et d'autres matériaux difficiles à travailler avec des grains d'abrasif à l'étant libre, ainsi que dans la fabrication des outils d'abrasion à base de matières liantes d'origine organique, céramique et métallique. A l'heure actuelle, la rectification, le meulage, la coupe et le forage s'effectuent avec des outils fabriqués en diverses matières abrasives dont les grains portent un revêtement sur leurs surfaces. I1 est connu que la matière liante n'assure pas toujours une fixation solide des particules abrasives dans la matrice, c'est pourquoi différents revetements doivent Btre portés sur leurs surfaces pour assurer une bonne fixation des particules abrasives. Les revevtements en question doivent satisfaire à une série d'exigences. En premier lieu, le revêtement doit être lié solidement à la surface de l'abrasif. Cette liaison ne peut être assurée que par une interaction chimioue entre les composants du revewtement et l'abrasif. L'énergie de cette interaction peut constituer des dizaines et mêmes des centaines de kilocalories, tandis que l'énergie de l'interaction physique (les forces de Van der Waals) constituent des fractions ou des unités de kilocalories. Deuxièment, le revêtement doit augmenter la résistance de l'abrasif surtout dans les cas ou ses grains sont utilisés à l'état libre. I1 est connu que la résistance d'une matière abrasive peut être élevée au moyen de l'augmentation de la plasticité du revêtement comme cela résulte de la théorie de Griffiths Irvine-Orovane : où Frupt est la valeur limite de la charge de rupture c-f l'énergie superficielle du corps solide à la frontière avec le milieu, erg/cm2 #l'énergie de la déformation plastique, erg/cm2 ; R mi-longeur de la fissure naissante E module d'Young. Troisièmement, le matériau du revêtement est appelé à favoriser l'augmentation de la vitesse d'usinage de la surface de la matière travaillée. Comme il s'ensuit de la théorie de Griffiths, la charge de rupture pour une matière travaillée est fonction de la valeur de son énergie superficielle libre ( G c-f)- Cette valeur tend à diminuer sous l'action des réactions chimiques qui ont lieu à la frontière où la matière travaillée contacte l'abrasif, ce qui se traduit par une augmentation de l'efficacité de l'usinage de la surface travaillée. Quatrièmement, le matériau du revêtement doit réagir chimiquement avec les composants de la matière liante (pâte destinée à lier les particules abrasives au cours de la fabrication d'un outil et à former ensemble avec elles le corps de l'outil, autrement dit la matrice). L'interaction doit avoir lieu aux tempdratures, sous les pressions et dans les milieux qui sont prévus pour les procédés technologiques de la fabrication de l'outil. Dans ce cas, il faut surveiller que les propriétés physiques et mécaniques de la matrice ne soient pas altérées. le revêtement doit bien résister à la corrosion et à la chaleur et conserver ses propriétés initiales en cas de stockage de longue durée Le processus d'obtention de ces revEtements doit pouvoir se dérouler facilement, sans exiger l'utilisation d'un équipement complexe et des matérias cotteux. A titre de revEtement des grains il est possible d'utiliser des métaux et des- non-métaux, leurs carbures, borures ou oxydebou leurs mélanges. Il est connu que les grains de diamant peuvent porter des revêtements constitués par un ou plusieurs métaux choisis parmi le groupe Ni, Co, Ag, Cu, Ko, Ti, Al, Mn, Cd, Sn, Pb, Zn, Cr, Au, W, In, Fe, Zr, Pt, Ro, Pd, ou par leurs alliages ou encore par leurs mélanges contenant au moins un de ces métaux. Cependant, ces revêtements ne satisfont pas à l'exigence principale cui leur est imposée : les revétements n'adhèrent pas bien à la surface des grains de diamant du fait que les métaux sont appliqués sur le diamant à de basses températures (de 160 à 200au). Dans ce cas, la formation d'une liaison chimique n'a pas lieu. Le film métallique est retenu mécaniquement sur la surface du grains de diamant, grace aux rugosités du diamant ou par de faibles forces d'interaction physique. Les grains de diamant avec les revétements en question sont utilisés pour la fabrication des meules dans lesquelles ce ne sont sue des résines (matières liantes organiques) qui jouent le rôle de matière liante. Malgré une amélioration de l'interaction du matériau du revêtement avec la matière liante (en comparaison du diamant propre non revêtu), l'effet d'augmentation de la rétention des grains de diamant dans la matrice est insuffisant du fait que le diamant adhère mal au revêtement. On connaît un procédé de métallisation des grains abrasifs, qui consiste en une application du revêtement réalisé en silicium ou en métaux tels que Fe, Ni, Be, , Co, Nb, Cr, Mo, ou en alliages tels que Fe - Nb, Fe - Cr, Fe - V, Fe - Si par vaporisation dans le vide ou par pulvérisation cathodique des métaux ou au moyen d'une décomposition des carbonyles des métaux correspondants. Cependant, la vaporisation des métaux dans le vide ne peut être appliquée à l'échelle industrielle que pour un nombre limité de métaux, en général pour les métaux non réfractaires. Le procédé de métallisation par pulvérisation cathodique est difficile à contrôler, il exige l'emploi d'un équipement complexe, c'est pourquoi la production sur une grande échelle n'est pas rentable. Les carbonyles métalliques employés dans ce but imposent une observation sévère des règles de sécurité du travail, ce qui a pour effet un accroissement sensible des errais de production. On connaît des matières abrasives dont les grains portent un revertement constitué par au moins deux composants, dont le silicium. Un autre composant du revêtement est le carbone. Lors de l'application de ce revêtement sur les grains de diamant, ces derniers sont placés dans un milieu gazeux contenant des compositions volatiles de silicium, par exemple le chlorosilane, et de carbone, par exemple le méthane. le carbure de silicium se forme à la suite d'une réaction entre ces compositions et se dépose sur la surface du diamant. La formation de bonnes liaisons chimiques du revêtement avec le diamant est rendue difficile, dans ce cas, du fait que dans la composition qui se dépose le silicium est déjà lié chimiquement au carbone, c'est pourquoi toutes les liaisons sont saturées et la possibilité d'une réaction avec le carbone de diamant est limitée. On contact également une matière abrasive dont les grains possèdent un revêtement à au moins deux composants, dont le silicium, et encore au moins un métal choisi parmi le groupe constitué par le cuivre, argent, l'or, l'aluminium, et les métaux de transition des groupes IV à VIII du tableau de la classification périodique des éléments chimiques. Il est connu que l'interaction du silicium avec le disant est active, l'angle de mouillage est proche de zéro, et l'addition de petites quantités de silicium (jusqu'à 5% en poids) dans les métaux (Cu, Ag, Ni, Al, Sn et ainsi de suite), qui mouillent mal le diamant, permet d'obtenir un meilleur mouillage de la surface de diamant (l'angle de mouillage diminue de 1200 jusqu'à 50). Il en résulte que le silicium est un élément qui convient bien pour assurer une bonne adhérence du revêtement au diamant. Le choix du deuxibme composant parmi le groupe précité des métaux est déterminé en général par les composants constituant la matière liante de l'outil. Tous les métaux indiqués réagissent chimiquement avec le silicium. Le diagramme de l'état "silicium-métaln est bien connu. par consécuent, il est toujours possible de choisir en tant que composants du revêtement des composants susceptibles dtinteraction active avec la matière liante de l'outil et possédant les propriétés physiques et mécaniques désirées. Dans ce cas, l'interaction chimique du revêtement avec l'abrasif est assurée par la présence du silicium dans le rev8te- ment, et l'interaction chimique avec la matière liante, par la présence du deuxième composant caractérisé par son affinité chimique avec la substance de la matière liante. La matière abrasive en question peut Qtre préparée par des procédés différents. Cependant, la pratique a prouvé que le procédé le plus économique aui permet d'obtenir un tel abrasif consiste en un frittage commun de poudres d'abrasif et des composants du revête- ment dans le vide avec formation d'une phase liquide d'alliage qui mouille bien la surface de l'abrasif, ou d'une couche de revêtement obtenue par frittage en phase solide à une température supérieure à 12000C, ou d'une couche de revêtement obtenue par frittage à une température inférieure à 12000C, mais avec une teneur en silicium supérieure à 50% en poids. Toutefois, les études ont montré que le chauffage des poudre de diamant au-dessus de 120000 dans un vide non inférieur à 5.10 5 torrs réduit la résistance des poudres de diamant tant synthétiques cue naturelles, et qu'une teneur du matériau du revêtement en silicium supérieure à 50% en poids a pour effet un accroissement de la fragilité de l'abrasif. Ces circonstances limitent la possibilité d'obtenir une matière abrasive par le procédé de frittage commun de poudres d'abrasif et des composants du revêtement. La présente invention a pour but d'éliminer ces inconvénients. Pour cela, l'invention vise à créer une matière abrasive dont les grains portent un revêtement en alliage à base de silicium ctui lui procurerait une plasticité élevée, augmenterait la résistance de la matière abrasive, se caractériserait par une température de fusion inférieure à celle des matières abrasives analogues connues, et favoriserait un accroissement du rendement lors de l'usinage de la surface du matériau à travailler en comparaison des matières abrasives analogues connues. Ce problème a été résolu du fait que l'on a créé une matière abrasive dont les grains portent un revêtement constitué d'un alliage à base de silicium comprenant au moins l'un des éléments suivants : cuivre, argent, or, aluminium, métaux de transition des groupes IV à VIII de la classification périodique des éléments chimiques, ladite matière abrasive étant caractérisée, selon l'invention, en ce que l'alliage comprend en outre au moins l'un des éléments suivants : gallium, indium, thallium, germanium, étain, plomb, phosphore, antimoine, tellure, soufre, à raison de 2 à 80% par rapport au poids total du revêtement. Zes auteurs de l'invention ont constaté que l'introduction dans le revêtement d'au moins un élément choisi parmi le groupe constitué par le gallium, l'indium, le thallium, le germanium, l'étain, le plomb, le phosphore, l'antimoine, le tellure et le soufre (éléments facilement fusibles), à raison de 2 à 80% par rapport au poids total du revêtement, permet de rendre la matière abrasive plus résistante, car elle permet d'accroitre la plasticité du revêtement et, par conséquent, la résistance de l'abrasif, et conduit en outre à l'abaissement de la température de fusion du matériau de revêtement, ce qui, à son tour, rend meilleure la liaison du revêtement et de l'abrasif. En outre, l'interaction des éléments facilement fusibles cités cidessus avec la surface de la matière à travailler a pour effet la diminution de la valeur de l'énergie superficielle libre de cette matière, ce qui accroît le rendement de son usinage. L'abrasif selon l'invention peut être appliqué de la manière la plus efficace à l'usinage des matériaux difficiles à travailler, par exemple du diamant, en raison du fait que les éléments faisant partie de la composition de son revêtement possèdent le pouvoir d'accélérer le déroulement des réactions chimiques sur a surface de la matière à travailler et de réduire son énergie superficielle libre, et que la matière abrasive elle même se caractérise par une résistance plus élevée en comparaison des abrasifs analogues connus. Les teneurs choisies des composants dans l'alliage permettent de résoudre de la manière la plus efficace le problème exposé. Il est préférable que le revêtement possède une épaisseur dé 0,01 à 1000M. Il est connu que plus le revêtement est mince, plus la valeur des tensions apparaissant dans la zone de contact du revêtement avec l'abrasif est petite. De plus, la capacité réactionnelle des composants des revêtements minces (pellicules), par exemple le coefficient de diffusion, est sensiblement plus élevée que dans un matériau compact. C'est pourquoi, lorsque les températures prévues pour la réalisation du procédé technologique de la fabrication de 1' outil sont faibles ( En cas d'utilisation des grains abrasifs avec revêtement dans un outil dont la technologie de fabrication prévoit l'utilisation de métaux liquides (lors de l'imprégnation, le frittage en présence d'une phase liquide ou la soudure), l'épaisseur des revêtements doit être sensiblement supérieure à 1t. Pour le cas de fabrication d'un outil d'abrasion monocristal, l'épaisseur du revêtement doit être 1000 t environ. Pour pouvoir fabriquer une gamme étendue d'outils à matières liantes diverses à partir de l'abrasif proposé, il est recommandé d'employer pour ses grains les compositions de revêtement suivantes, choisies par voie d'expérience. Pour la fabrication de pètes de diamant, il est recommandé une matière abrasive dont le revêtement contient (% en poids) silicium - 20 à 40 fer 40 à 60 étain 10 à 30, 1' épaisseur optimale dudit revêtement étant de 1 à 20r. Cet abrasif est le plus efficace pour l'usinage des alliages durs. Par voie d'expérience on a constaté que dans le cas de fabrication des pâtes destinées à travailler les aciers, il est préférable d'utiliser une matière abrasive dont le revêtement contient (% en poids) silicium 10 à 50 titane 45 à 85 indium 2 à 4 l'épaisseur optimale dudit revêtement étant de 0,01 à 1,00 car ces putes sont destinées aux opérations de finition. Pour la fabrication de toile abrasive à diamant destinées au traitement des aciers, il est recommandé d'utiliser une matière abrasive dont le revêtement contient (% en poids) ; silicium 50 à 92 vanadium 5 à 30 étain 2 à 6 l'épaisseur optimale dudit revêtement étant de 1 à 40)'. Matière abrasive constitué de grains dont le revêtement contient (% en poids) : silicium 10 à 50 molybdène 45 à 85 soufre 2 à 10 l'épaisseur optimale dudit revêtement étant de 5 à 150P. L'abrasif en question peut être utilisé avec succès dans les meules à matière liante organique. Pour la fabrication des meules matière liante organique servant à travailler les alliages durs, il est recommandé d'employer une matière abrasive avec un revêtement contenant (% en poids) silicium 10 à 45 manganèse 50 à 85 gallium 2 à 8 l'épaisseur dudit revêtement étant de 100 à 400f Pour les outils de rodage en diamant il est recommandé d'utiliser une matière abrasive dont le revêtement contient en en poids) : silicium 10 à 50 cobalt 30 à 80 phosphore 5 à 10 l'épaisseur dudit revêtement étant de 50 à 80 t. Pour l'usinage des matériaux difficiles à travailler, par exemple du diamant, il est avantageux d'employer un abrasif dont le revêtement contient ( en poids) silicium 15 à 70 nickel 10 à 80 étain 2 à 40 les épaisseurs optimales du revêtement étant de 0,1 à loir. Pour la fabrication des oiit22s' à matière liante métallique, il est avantageux d'employer un abrasif dont le revêtement contient (% en poids) : silicium 0,3 à 3,0 cuivre 10 à 60 étain 30 à 80 les épaisseurs dudit revêtement étant de 50 à 1000r. Une matière abrasive dont le revêtement contient en en poids) : silicium 20 à 60 aluminium 10 à 70 phosphore 0,5 à 3,0; et a une épaisseur de 150 à 400t # est utilisable pour la fabrication des outils à ga-tière liante céramique. Il est rationnel que l'alliage contienne en outre de l'yttrium ou du lanthane ou du cérium à raison de 0,01 à 25,00 en en poids La présence de ces dléments dans la composition du revêtement augmente la résistance à la chaleur de l'abrasif proposé, et protege en outre les grains de l'abrasif contre l'oxyeation pendant son utilisation à l'état libre ou dans un outil dans les cas où de hautes températures locales apparaissent à l'endroit du contact de l'abrasif avec le matériau à travailler. Ainsi, l'abrasif proposé peut être efficacement appliqué à l'usinage des diamants et d'autres matériaux difficiles à travailler par des grains de matière abrasive à l'étant libre, ainsi qu'à la fabrication des outils d'abrasion à matières liantes organiques, céramiques et métalliques, le revêtement des grains abrasifs constitué par un alliage à base de silicium contenant au moins un élément qui se caractérise par son affinité chimique avec les composants de la matière liante. L'abrasif préparé suivant l'invention porte un revêtement réalisé à partir d'un alliage à base de silicium qui lui procure une plasticité élevée et se caractérise par une température de fusion plus basse, et qui en outre possède une résistance élevée à la chaleur, protège les grains contre l'oxydation et contribue à l'augmentation du rendement de l'usinage de la surface à travailler en comparaison des matières abrasives analogues connues. Les avantages de l'invention ressortiront plus clairement de la description suivante de plusieurs exemples de réalisation concrets mais non limitatifs. L'application du revêtement sur les grains peut être réalisée par tout procédé approprié, mais il est préférable d'employer pour sa fabrication le procédé de frittage commun dans Te vide des grains d'abrasif et des composants du revêtement. EXEMPLE t. On applique sur les grains des diamants synthétiques, par le procédé de frittage commun des grains de diamant et des poudres de composants dans le vide, un revêtement constitué d'un alliage qui contient 30% en poids de silicium, 50 en poids de fer et 20 en poids d'étain, ledit revêtement ayant une épaisseur de 10 La matière abrasive obtenue par ce procédé est utilisée pour la préparation d'une pate de diamant. L'aptitude au travail de cette pète en cas d'usinage de la céramique est de 1,5 fois plus élevée que celle de la pète préparée à partir de matières abrasives analogues connues. EXEIE)LE 2. Par le procédé de frittage commun dans le vide des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement on applique sur les grains de diamants naturels un revêtement contenant 120 en poids de silicium, 85% en poids de titane, 3% en poids d'indium, dont l'épaisseur est de 0,01 r . La matière abrasive obtenue par ce procédé est utilisée pour la préparation d'une pète de diamant. Cette pète se caractérise, en cas de travail d'alliages durs, par une aptitude au travail plus élevée de 20% que celle de la pite préparée à partir de matières abrasives analogues connues. EXEMPIE 3. Par le procédé de frittage commun dans le vide des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement on applique sur des grains de nitrure de bore un revêtement qui contient 92% en poids de silicium, 6% en poids de vanadium, 2% en poids d'étain, son épaisseur étant de La matière abrasive préparée par ce procédé est utilisée pour la fabrication de toile abrasive à diamant destinée au travail des aciers. L'aptitude au travail de cette toile est de 30 supérieure à celle de la toile fabriquée à partir de matières abrasives analogues connues. EXEXPTi 4. Par le procédé de frittage des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement dans untmosphère protectrice sous pression de 1,5 atm, on applique sur les grains des diamants synthétiques un revêtement qui contient 25% en poids de silicium, 73% en poids de molybdène, 2% en poids de soufre, son épaisseur étant de 5t la matière abrasive obtenue par le procédé en question est utilisée pour la fabrication des meules à matières liantes organinues. L'aptitude au travail de ces meules est de 50 supérieure à celle des meules fabriquées à partir des matières abrasives analogues connues. EXEMPLE 5. Par le procédé de frittage commun dans le vide des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement on applique sur les grains de diamants synthétiques un revêtement qui contient 12% en poids de silicium, 82 en poids de manganèse, 6% en poids de gallium, son épaisseur étant de La matière abrasive obtenue par le procédé indiqué est utilisée pour la fabrication des-mslesà matière liante organique. L'aptitude de ces meules au travail des alliages durs est de 30%0 supérieure à celle des meules fabriquées à partir des matières abrasives analogues connues. EXEMPLE 6. Par le procédé de frittage commun des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement dans une atmosphère protectrice sous pression de 1,9 atm, on applique sur les grains de diamants synthétiques un revêtement qui contient 30% en poids de silicium, 63% en poids de cobalt, 7 en poids de phosphore, l'épaisseur dudit revêtement étant de 500 . La matière abrasive obtenue par ce procédé est utilisée pour la fabrication des outils de rodage. L'aptitude au travail de ces outils de rodage est de 50% supérieure à celle des outils fabriqués à partir des matières abrasives analogues connues. EXEMPLE 7. Par le procédé de frittage commun dans le vide des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement on applique sur les grains de diamants synthétiques un revêtement oui contient 50C: en poids de silicium, 30 en poids de nickel, 20% en poids d'étain, son épaisseur étant de 7fur. La matière abrasive obtenue est utilisée pour le travail des matériaux difficiles à travailler, par exemple du diamant, dont les grains sont à l'état libre. L'aptitude au travail de cette matière abrasive est de 1,5 fois supérieure à celle des matières abrasives analogues connues. EXEW5PIE 8. Par le procédé de frittage commun dans le vide des grains du diamrnt et des poudres de composants du revêtement on applique sur les grains des diamants synthétiques un revêtement qui contient 1% en poids de silicium 19* en poids de cuivre, 80% en poids d'étain, son épaisseur étant de 1000cor La matière abrasive obtenue est utilisée pour la fabrication des outils d'abrasion à matière liante métallique0 L'aptitude au travail de ces outils est de 40% supérieure à celle des outils fabriqués à partir des matières abrasives analogues coxiues. EXEMPLE 9. Par le procédé de frittage commun des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement dans une atmosphère protectrice sous pression de 1,5 atm, on applique sur les grains de diamants synthetiques un revêtement qui contient 48% en poids de silicum, 5056 en poids d'aluminium, 2% en poids de phosphore, l'épaisseur dudit revêtement étant de 200jazz La matière abrasive obtenue est utilisée pour la fabrication des outils d'abrasion à matière liante céramique. L'aptitude au travail de ces outils est de 50% supérieure à celle des outils fabriqués à partir des matières abrasives analogues connues. EXE!EPIE 10. Par le procédé de frittage commun dans le vide des grains de diamant et des poudres de composants du revêtement on applique sur les grains de diamants synthétiques un revêtement qui contient 3% en poids de silicium, 90%0 en poids de chrome, 5% en poids d'étain, 2% en poids d'yttrium, son épaisseur étant de 10 t . La matière abrasive obtenue est utilisée pour la fabrication des meules à matière liante métallique. L'aptitude de ces meules au travail du verre est de deux fois supérieure à celle des meules fabriquées à partir des matières abrasives analogues connues. Bien entendu, l'invention n'est nullement limitée aux modes de réalisation décrits et représentés qui ntont été donnés qu'à titre d'exemple. En particulier, elle comprend tous les moyens constituant des équivalents teehniquesdes moyens décrits ainsi que leurs combinaisons si celles-ci sont exécutées suivant son esprit et mises en oeuvre dans le cadre des revendications oui suivent. REVENDICATIONS 1. Matière abrasive se présentant sous forme de grains distincts aui portent un revêtement constitué d'un alliage à base de silicium renfermant au moins l'un des éléments suivants : cuivre, argent, or-, aluminium, métaux de transition des groupes IV à VIII de la classification périodique des éléments chimiques, caractérisée en ce que ledit alliage comprend en outre au moins l'un des éléments suivants à raison de 2 à 80% par rapport au poids total du revêtement : gallium, indium, thalliums germanium, étain, plomb, phosphore, antimoine, tellure, soufre. 2, Matière abrasive suivant la tevendication 1, caractérisée en ce que le revêtement a une épaisseur de 0,01 à 1 000 1 e 3. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (ç0 en poids) silicium 20 à 40 fer 40 à 60 étain 10 à 30 son épaisseur étant de 1 à 20 . 4. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (% en poids) silicium 10 à 50 titane 45 à 85 indium 2 à 4 son épaisseur étant de 0,01 à 1,0t 5. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (% en poids) : silicium 50 à 92 vanadium S à 30 étain 2 à 6 son épaisseur étant de 1 à 40 6. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (% en poids) : silicium 10 à 50 molybdène 45 à 85 soufre 2 à 10 son épaisseur étant de 5 à 7.Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient ( en poids) silicium 10 à 45 manganèse 50 à 85 gallium 2 à 8 son épaisseur étant de 100 à 400f. 8. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (% en poids) silicium 10 à 50 cobalt 30 à 80 phosphore 5 à 10 son épaisseur étant de 50 à 809 9. Matière abrasive suivant ltune des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (% en poids) : silicium 15 à 70 nickel 10 à 80 étain 2 à 40 son épaisseur étant de 0,1 à 10 r. 10. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revêtement contient (% en poids) silicium 0,3 à 3,0 cuivre 10 à 60 étain 30 à 80 son épaisseur étant de 50 à 11. Matière abrasive suivant l'une des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que le revetement contient (% en poids) silicium 20 à 60 aluminium 10 à 70 phosphore 0,5 à 3,0 son épaisseur étant de 150 à 400 12. Matière abrasive suivant la revendication 1, caractérisée en ce que l'alliage comprend en outre de l'yttrium ou du lanthane ou du cérium à raison de 0,01 à 25 en poids.