FR 2315111 A1 19770114 FR 7520553 A 19750619 La présente invention se rapporte à un dispositif automatique de traitement de plaques offset par au moins deux liquides de traitement tel que révélateur, fixateur et d'eau de rinçage, etc... comportant une cuve de traitement supportée par un bâti. L'invention concerne également une forme de mise en oeuvre d'un procédé d'application de ce dispositif. De tels dispositifs sont déjà connus sous la forme très simple d'une table portant une cuve de traitement. Le travail s'y fait à la main. Ce dispositif nécessite néanmoins la présence permanente d'un manipulateur. D'autres dispositifs automatiques, ne présentant pas cet inconvénient, sont par contre tres sophistiqués, chers et d'un emploi et entretien tres compliqués. L'invention a pour but de pallier à ces inconvénients en proposant un dispositif simple, bon marché et se prêtant à tous les traitements des plaques offset. Ce dispositif est caractérisé en ce qu'il comprend au moins un circuit fermé, indépendant de chaque liquide de traitement, et un circuit d'eau de rin çage, ces circuits permettant un arrosage et une recirculation du liquide de traitement sur la plaque offset, ainsi qu'une évacuation de ce liquide à partir de la cuve de traitement ; un circuit de ventilation et un système de commande programmée faisant fonctionner lesdits circuits automatiquement selon un programme préétabli. Selon une autre caractéristique de l'invention, le dispositif comporte un déflecteur de répartition commun à des rampes de distribution faisant partie des circuits fermés de liquides de traitement et du circuit d'eau de rinçage. Ce déflecteur a la forme générale d'un secteur cylindrique de génératrice parallele à la direction de ces rampes et dont la concavité est tournée vers les rampes qui sont ainsi placées à égale distance de lui. Le bord inférieur libre du déflecteur s'étend le long d'un bord de la plaque offset, de maniere que le liquide de traitement, éjecté sous pression par la rampe de distribution correspondante et intercepté par le déflecteur, s'écoule en tombant sur la plaque offset sous la forme d'un rideau de liquide continu en mouvement. Selon un procédé de traitement, constituant une autre caractéristique de la présente invention, on fait fonctionner le circuit de ventilation en même temps que les circuits fermés de liquides de traitement et le circuit d'eau de rinçage, de maniere à renforcer, par le souffle d'air, l'arrivée de liquide de traitement sur la plaque offset. Un tel dispositif présente un nombre important d'avantages en dehors du fait qu'il est bon marché et qu'il est simple et facile à utiliser et à entretenir. Il est totalement automatique et ne nécessite que la mise en marche et l'arrêt pour placer et enlever les plaques offset. Il offre une supervision optique du déroulement des opérations. Le liquide de traitement se répand sur la plaque à traiter sous forme de nappe de liquide continu. Le procédé, selon la présente invention, consistant à souffler de l'air contre la nappe de liquide se répandant sur la surface de la plaque offset, est très avantageux du fait qu'il diminue sensiblement la durée du traitement d'une plaque. Le dispositif peut être utilisé pour tout type et toute marque de plaque offset et tout type de traitement, quel que soit le nombre de liquides de traitement utilisés. L'invention sera bien comprise en se référant à la description suivante faite à titre d'exemple non limitatif et au dessin annexé dans lequel - la figure 1 est une vue en coupe, de profil, du dispositif selon l'invention - la figure 2 est une vue en élévation, partiellement arrachée et en coupe selon la ligne Il-Il de la figure 1, du même dispositif. Le dispositif automatique de traitement de plaques offset, selon la présente inyention, comprend un bâti 1 pourvu de pieds 2 et recouvert de plaques extérieures 3 ayant un rôle esthétique et cachant les éléments composant le dispositif. Le bâti 1 supporte par des moyens de soutènement, généralement connus, un certain nombre de réservoirs de produit de traitement 4 tel que révélateur ou fixateur. Dans l'exemple illustré, il est prévu deux réservoirs, soit un réservoir pour le fixateur et un réservoir pour le révélateur. Ce bâti 1 supporte également, à sa partie supérieure, une cuve de traitement 5 comportant dans son fond une surface de traitement inclinée 8 où peut être posée la plaque offset 10. La surface de traitement est pourvue d'un rebord d'appui 6 empêchant la plaque 10 de se déplacer pendant le traitement. Dans ce but, on prévoit également des crochets de fixation 7, venant légèrement en appui élastique sur la plaque placée sur la surface de traitement 8. Au-dessus du fond de la cuve de traitement 5, parallèlement au bord supérieur de celle-ci et entre le rebord d'appui 6 et la paroi de la cuve, se trouve placé un certain nombre de rampes de distribution 9, composées chacune de préférence d'un tube pourvu sur toute sa longueur de buses ou de trous d'aspersion dirigés préférentiellement vers le haut. Ces tubes parallèles correspondent chacun à un produit de traitement, ainsi que l'un d'entre-eux à l'eau de rinçage. On a ainsi, selon l'exemple non limitatif décrit, une rampe de distribution du révélateur 9a, une rampe de distribution du fixateur 9b et une rampe de distribution d'eau de rinçage 9c. Chacune de ces rampes de distribution 9 est reliée par une conduite d'amenée lia à une pompe 12 dont le corps 13 est immergé dans l'un des réservoirs de produit 4.Au-dessus des rampes de distribution parallèles 9 est placé, selon l'une des caractéristiques princi pales de la présente invention, un déflecteur de répartition de produit 14 accusant la forme générale d'un secteur cylindrique à génératrice parallèle aux tubes et à concavité tournée vers ces tubes. Ceux-ci sont placés sensiblement à égale distance du déflecteur de répartition 14, dont le bord inférieur libre 15 s'étend le long du bord horizontal supérieur de la plaque offset 10 et très légèrement vers l'intérieur de cette plaque La distance entre chacune des rampes de distribution 9 et le déflecteur de répartition 14 est telle, que le liquide de traitement est envoyé par la pompe 12 dans la conduite d'amenée lia et dans la rampe de distribution 9 puis est éjecté sous pression par les buses ou les trous d'aspersion dirigés sensiblement verticalement vers le haut, pour être intercepté par le déflecteur detrépartition 14 et s'écouler le long de celui-ci, en tombant sur la plaque offset 10 à partir du bord supérieur 15 sous la forme d'un rideau de liquide continu. Le liquide continue ensuite a stecou- ler sur toute la largeur de la surface de la plaque offset 10, du fait que celle-ci est inclinée vers le bas à partir du déflecteur de répartition 14. De ce fait, la plaque offset 10 est recouverte sur toute sa surface d'une nappe uniforme, continue et mobile de liquides de traitement. Pour l'eau de rinçage, le réservoir de produit 4 et la pompe 12 correspondante peuvent être considérés comme superflus et donc supprimés, afin de réduire l'équipement du dispositif, Dans ce cas, la conduite d'amenée respective 11b sera reliée à la conduite d'alimentation en eau courante et elle sera pourvue d'une vanne de règlage du débit. Le bord inférieur 16 de la surface de traitement 8 comprend une gout tière 17 dans laquelle vient se rassembler tout le liquide de la nappe de liquide de traitement. Cette gouttière 17 est pourvue dans son fond d'autant de vidanges 18 qu'il y a de rampes de distribution 9. Il y a donc par exemple une vidange de révélateur 18a correspondant à la rampe de distribution de révélateur 9a, une vidange de fixateur 18b correspondant à la rampe de distribution de fixateur 9b et une vidange de rinçage 18c correspondant à la rampe de distribution d'eau de rinçage 9c. Chaque vidange 18 est pourvue d'un clapet 19 pouvant ferme l'accès du liquide de traitement par la vidange respective. Un trop-plein de sécurité 21 est prévu, afin de ne pas permettre au liquide de traitement de dépasser un certain niveau d'alerte et de déborder de la cuve. Chaque vidange 18 est reliée séparément par une conduite de retour 22a au réservoir de produit respectif 4 en un circuit fermé, afin de faire recirculer le liquide de traitement. Ce circuit est indépendant pour chaque liquide. Il part du réservoir de produit respectif 4, il passe (fiv.1) par le corps i mergé 13 de la pompe 12, par la conduite d'amenée lia et par la rampe de distribution 9a (ou 9b selon le circuit). Le liquide de traitement (par exemple selon le circuit, le révélateur ou bien le fixateur) est aspergé par les buses ou les trous de la rampe de distribution 9 ta ou b) contre le déflecteur de répartition 14, qui le déverse par le bord inférieur 15 sur la plaque offset 10 en une nappe uniforme, continue et mobile, qui la recouvre en totalité. Le liquide de traitement se rassemble ensuite dans la gouttière 17.Les vidanges 18 des circuits autres que celui considéré, par exemple les vidanges de fixateur 18b et de rinçage 18c, lorsque le circuit et la pompe 13 de révélateur sont en service, sont évidemment fermées. Si la vidange 18 correspondant au révélateur est ouverte, le circuit du révélateur est fermé par la conduite de retour 22a et ce liquide de traitement revient au réservoir de produit 4 du révélateur, selon les flèches de la figure 1. Lorsque la pompe 13 s'arrête, la cuve de traitement 5 se vide du liquide de traitement, notamment, selon cet exemple, du liquide-révélateur qui passe dans le réservoir de produit respectif 4. On peut alors passer à la phase suivante, par exemple le rinçage à l'eau. Tel que déjà mentionné, l'eau de rinçage ne circule pas obligatoirement en circuit fermé, s'il n'y a pas de réservoir de produit afférent 4.Elle passe à partir de la canalisation d'eau par la vanne de règlage du débit, la conduite d'amenée afférente 11 et la rampe de rinçage 9c. L'eau de rinçage gagne par gravité la gout tière 17, dont toutes les vidanges 18 sont fermées à l'exception de la vidange de rinçage 18c, de manière que l'eau de rinçage s'écoule par une conduite d'évacuation 22b reliée à une canalisation d'eaux usées, notamment une évacuation générale. Les réservoirs de liquide de traitement 4 sont pourvus chacun d'un robinet de vidange 23 et d'un trop-plein 24, débitant, de même que le trop-plein de sécurité 21, dans une cuvette 25 reliée à l'évacuation générale 26, recevant également les eaux de rinçage de la conduite d'évacuation 22b reliée à la vidange de rinçage 18c. Les réservoirs de produit 4 sont pourvus chacun de moyens de chauffage 27 par exemple une résistance thermostatique immergée, afin d'amener le liquide de traitement contenu à la température optimale d'utilisation, soit par exemple 250Celsius. Le dispositif, selon la présente invention, comporte également un circuit de séchage comprenant un ventilateur 28 et un déflecteur d'air 29 dirigeat un courant d'air sur la plaque offset 10. Ce circuit de séchage fonctionne dans la dernière phase opératoire après traitement de la plaque par les liquides puis rinçage. Selon une variante possible, ce circuit fonctionne en même temps que l'amenée de liquide de traitement. On a constaté, dans ce dernier cas, que si le liquide arrive en force sur la plaque offset 10, la durée du traitement est sensiblement diminuée. Le dispositif, selon la présente invention, comprend également un sys teme de commande programmée sollicitant les clapets 19, les vidanges 18, la vanne de réglage, le débit d'eau de rinçage et le ventilateur 28. Ce système, schématiquement figuré sur le dessin (fig.1) par l'électro-aimant de commande 32, comporte également une platine de commande 36 portant des boutons de commande et des voyants de signalisation. Cette platine 36 est montée sur un carter 33 enfermant un programmateur 34.Le système de commande programmée actionne automatiquement les pompes 12 , les clapets 19 des vidanges 18 et le ventilateur 28, de manière à rendre indépendants les uns des autres les circuits fermés de chaque liquide de traitement et le circuit d'eau de rinçage et à les faire travailler selon une séquence et pendant des durées appropriées à tout traitement des plaques offset 10 voulu. il allume sur la platine de commande 36 les voyants signalant le démarrage et la fin de chaque phase du traitement. Le dispositif est complété par un couvercle 35 (figure en traits mixtes afin de rendre le dessin plus facile à comprendre) servant de table de correction des plaques offset. Le fonctionnement du dispositif est le suivant : à la mise sous tension du dispositif, par branchement au réseau électrique, les liquides de traitement des réservoirs 4 sont automatiquement chauffés par les moyens de chauffage 27 et maintenus à température optimale sous le contrôle d'un thermostat. On pose une plaque offset 10 sur la surface de traitement 8, contre le rebord d'appui 6 et on la fixe par les crochets de fixation 7. On appuie sur le bouton de marche du système de commande programmée qui commande ainsi toutes les phases des opérations selon un programme préétabli. La durée de chaque phase est règlée selon le type de plaque traitée. Le nombre de phases, notamment de cycles du traitement n'étant pas limitatif, il peut etre augmenté ou diminué. Si lton prend, à titre d'exemple non limitatif, un cycle type, on a 10 Développement : un voyant témoin s'allume. La pompe 13 du liquide révélateur se met en marche. Le liquide révélateur, de composition appropriée au type de plaque, est projeté par la rampe de distribution de révélateur 9a contre le déflecteur de répartition 14. il s'écoule le long de celui-ci en tombant sur la plaque offset 10 sous forme de rideau continu. La plaque offset se recouvre sur toute sa surface dtune nappe uniforme et continue de liquide de traitement qui se rassemble dans la gouttière 17. Si la vidange de révélateur 18a n'est pas ouverte, la cuve de traitement 5 tend à se remplir. Le système de commande programmée ouvre automatiquement la vidange de révélateur 18a et le révélateur retourne dans le réservoir de produit 4 du révélateur, en cycle fermé.La durée de ce cycle est également règlée suivant le type de plaque. A la fin du cycle, la pompe 13 est arrêtée, le voyant témoin de la platine de commande 36 s'éteint et la cuve de traitement 5 se vide complètement de révélateur. La vidange de révélateur 18a se ferme. Chaque phase d'opération tel que le développement comporte un temps d'arrosage, un temps de recirculation du liquide de traitement et un temps d'évacuation de la cuve de traitement 5. Selon une variante de mise en oeuvre du traitement, on insuffle de l'air pendant l'arrivée du liquide de traitement comme déjà précisé. 20 Rinçage : Un autre voyant témoin s'allume sur la platine de commande 36 annonçant cette nouvelle phase. La vanne de règlage du débit d'eau de rinçage est actionnée par le système de commande programmée. L'eau s'écoule uniformément sur la surface de la plaque tel que déjà décrit pour le révélateur, du fait qu'elle est projetée contre le même déflecteur de répartition 14. Elle s'évacue automatiquement par la vidange de rinçage 18c seule ouverte par le système de commande programmée 31. A la fin du cycle, le voyant témoin afférent s'éteint sur la platine de commande 36 et on passe automatiquement à la phase suivante. 30 Fixation : qui se déroule de la même manière que la phase de développement, mais avec le liquide de traitement respectif. il est évident que le dispositif, selon la présente invention, comporte de nombreuses formes de réalisations différant, par exemple, par le nombre de circuits pour divers liquides de traitement, par les systèmes de commande programmée utilisés, etc.... La surface de traitement 8 peut etre soit légère- ment inclinée sur l'horizontale, soit accusant toute autre inclinaison par rapport au plan horizontal jusqu'à une légère inclinaison par rapport à la verticale, etc.... On peut insuffler de l'air sur la nappe de liquide se répandant sur la plaque, ou bien n'amener cet apport d'air qu'entre les phases d'opération ou après la fin de celles-ci. Ces formes d'exécution du dispositif ou modes opératoires différents ne sauraient pas affecter l'esprit de l'invention. Revendications 10 Dispositif automatique de traitement de plaques offset par au moins deux liquides de traitement tel que révélateur, eau de rinçage, etc.. comportant une cuve de traitement supportée par un bâti caractérisé en ce qu'il comprend au moins un circuit fermé, indépendant de chaque liquide de traitement, et un circuit d'eau de rinçage, ces circuits permettant un arrosage et une recirculation du liquide de traitement sur la plaque offset 10, ainsi qu'une évacuation de ce liquide à partir de la cuve de traitement 5 ; un circuit de ventilation et un système de commande programmée faisant fonctionner lesdits circuits automatiquement selon un programme préétabli. 20 Dispositif automatique de traitement selon la revendication 1 caractérisé en ce que chaque circuit fermé comporte un réservoir de produit 4, une conduite d'amenée lia placée entre une pompe 12 à corps immergé 13 dans le réservoir de produit 4 afférent à ce liquide de traitement et une rampe de distribution 9, un déflecteur de répartition 14 de liquide sur le côté amont de la plaque offset 10, une gouttière 17 sur le côté aval de la plaque offset 10 et une vidange 18, située au fond de cette gouttière et pourvue d'un clapet 19 fermant l'accès à une conduite de retour 22a au réservoir de produit 4 respectif. 30 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que le circuit de rinçage comporte une conduite d'amenée 11b pourvue d'une vanne de réglage du débit d'eau de rinçage et reliée à une rampe de rinçage 9c, le déflecteur de répartition 14, la gouttière 17 et une vidange de rinçage 18c située au fond de cette gouttière et pourvue d'un clapet 19 fermant l'accès à une conduite de retour 22b reliée à la canalisation d'eaux usées. 40 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le déflecteur de répartition 14, commun à toutes les rampes de distribution 9a, 9b et à la rampe de rinçage 9c, accuse la forme générale d'un secteur cylindrique de génératrice parallèle à la direction des rampes et à concavité tournée vers les rampes de distribution 9, parallèles entre-elles et placées sensiblement à égale distance dudit déflecteur, dont le bord inférieur libre 15 s'étend le long de la plaque offset 10 et légèrement vers l'intérieur de celle-ci, pour que le liquide de traitement éjecté sous pression par la rampe de distribution 9 contre ce déflecteur s'écoule en tombant sur la plaque offset 10 sous forme d'un rideau de liquide continu. 50 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que les rampes de distribution 9 sont constituées de tubes pourvus sur toute leur longueur de buses ou de trous d'éjection du liqui de de traitement, ces tubes étant placés au bord amont d'une surface de traitement 8 pour y poser la plaque offset 10 contre un bord d'appui 6, retenue par des crochets de fixation 7, les buses ou les trous d'éjection des tubes étant orientés de manière que le jet de liquide soit dirigé contre le déflecteur de répartition 14. 60 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la gouttière 17, commune à toutes les vidanges 18 des divers circuits fermés et du circuit de rinçage, est également pourvue d'un trop-plein de sécurité 21 de la cuve de traitement 5. 70 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le circuit de ventilation comporte un ventilateur 28 et un déflecteur d'air 29 dirigeant l'air du ventilateur sur la plaque offset 10 de manière à renforcer l'arrivée du liquide de traitement sur la plaque offset 10 lorsque ce ventilateur est actionné simultanément avec l'amenée de l'un quelconque des liquides de traitement. 80 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications I à 7, caractérisé en ce que le systeme de commande programmée commande automatiquement les pompes 12, les clapets 19 des vidanges 18, la vanne de débit d'eau de rinçage et le ventilateur 28, de manière que les circuits fermés de chaque liquide de traitement et le circuit d'eau de- rinçage soient indépendants les uns des autres et qu'ils travaillent selon une séquence et des durées de chacun appropriées à tout traitement de plaques offset 10 voulu, ainsi que des voyants sur une platine de commande 36 signalant le démarrage et la fin de chaque phase du traitement. 90 Dispositif automatique, selon l'une quelconque des revendications 1 à- 8, caractérisé en ce que les cuves de liquide de traitement sont pourvues chacune d'un moyen de chauffage 27 notamment sous le contrôle d'un thermostat réglable à température voulue, d'un robinet de vidange 23 et d'un trop-plein 24, le dispositif étant également pourvu d'un couvercle 35 servant de table de correction des plaques offset. 100 Procédé de traitement à l'aide du dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'on fait fonctionner le circuit de ventilation simultanément avec les circuits fermés de liquides de traitement et le circuit d'eau de rinçage, de manière à renforcer par le souffle d'air l'arrivée de liquide de traitement sur la plaque offset 10.