FR 2226694 A1 19741115 FR 7410402 A 19740326 La présente invention se rapporte à la préparation de plaques dtimpression polymères. En particulier, elle se rapporte à une technique spéciale pour cuire une couche de composition polymère liquide (pouvant être soumise à la photocuisson) d'une plaque d'impression polymère avant le développement de la plaque par en lèvement des zones ou des surfaces incomplètement cuites. Dans la technique de l'impression, le facteur temps est essentiel. Dans le passé, les plaques d'impression en relief taient ordinairement fabriquées par photogravure et attaque d'une couche de zinc ou de magnésium métallique. Ces procédés anciens exigeaient un temps relativement long pour la préparation d'une plaque satis- faisante dtimpression en relief.Plus récemment, l'utilisation de matières polymères a été proposée comme produits de remplacement des métaux dans la formation de plaques d'impression, Des éléments d'impression photopolymrisés ou soumis d la photocuisson sont décrits par exemple, dans les brevets américains n 3.129.098, n 3.537.853 et n . 3.615.450. L'exprience pratique avec les procédas décrits dans ces brerets a montrE que le temps pour polymériser ou pour cuire la couche d'impression polymère, avant le développement des plaques dtimpression finales, est encore pluss long que celui qui est souhaité dans de nombreuses applications. Un autre problème, quelquefois rencontre dans la préparation de plaques dtimpres- sion polymères, est le phénomène connu sous le nom de "formation de coupelle ou de cuvette". Ce phénomène lorsqu'il se produit, en tratne la formation dune forme caractéristique concave dans certaines des zones ou surfaces en relief à dimension relativement grande.Un autre problème encore, qu'on rencontre quelquefois dans la prdparation de plaques polymères dtimpression en relief ou de plaques polymères de modèle (ou de configuration) ou de plaques poly mères d'originaux, tel que décrit par exemple dans le brevet amS- ricain n 3.666.461, est l'instabilité des points fortement lumineux où les points fortement lumineux ne sont pas totalement reliés d la base et seront retirés par érosion durant l'impression, ou ne sont pas convenablement transportds Jusqutaux matrices ou aux st- réoplaques constituées à partir de la plaque de modèle (ou de eon- figuration) polymère. C'est un objet de la présente invention de prévoir un pro cdd de production de plaques polymères d'impression ou de configu- ration, dans lequel le temps total de cuisson ou de polymrisation est diminu par comparaison avec les procédas antErieurement connus. Un autre objet de la présente invention est de prévoir un proed pour diminuer ou réduire les problèmes de formation de coupelle ou de cuvette associés aux procds pralablement connus pour préparer des plaques dtimpression polymères. Un autre objet encore de la pr- sente invention est de diminuer ou de réduire l'instabilit des points fortement lumineux dans les plaques polymères d'impression en relief ou dans des plaques polymères de configuration ou de modè- le.Un autre objet encore de la présente invention est de prévoir des plaques polymbres perfectionnées de configuration ou dtimpres- tion. On a trous que les obJets précédents et d'autres obJets encore sont atteints si le stade de rorzation d'images par cuisson dans la production des plaques est conduit en deux tapes distinctes. Dans la première étape, la couche de polymère pouvant être soumis d la photocuisson est directement exposée d un rayonnement aetini- que, pendant une brève période de temps. Ensuite, une diapositive por- cant l'image est interposée et le polymère pouvant être soumis à la photocuisson est encore expos d un rayonnement actinique d travers la diapositive portant l'image, jusqu'à ce que le polymère pouvant être soumis à la photocuisson soit sensiblement complètement cuit dans les zones d'images exposées. Le temps d'exposition directe minime (quelquefois désigné ci-après sous le nom de temps d'exposition de "chos") est celui exigé pour obtenir la réduction souhaitée de "formation de coupelle ou de cuvette" dans de grandes zones en relief de la plaque. Le temps d'exposition de "choc" maximum est Juste indrieur (par exemple non s+;p*- rieur à 90 %) au temps d'exposition pour lequel le photopolymère commence d se gélifier. Le commencement de la~glirication apparaît facilement par observation visuelle d'ondulations ou de rides en surface de la couche de polymère lorsque la "pellicule" cuit. Dans ces paramètres généraux, il y aura des variations selon la composition particulière employée pouvant être soumise à la photocuisson, selon le type et selon l'intensitO du rayonnement actinique et-d'autres facteurs. Lorsqu'on opère avec les systèmes du commerce dits LETTERFLEX" et en utilisant des compositions dites "LETTERFLEX" pouvant être soumises d la photocuisson, disponibles dans le coer- ce, largement utilisées dans l'ensemble des Etats-Unis, on a trouvé que d'excellents résultats sont obtenus quand le temps d'exposition direct est de 0,5 à X,0 secondes. Même une exposition de ehoc très brève fournit une certaine amlioration pour réduire la "formation de coupelle ou de cuvette".L'amélioration optima sous tous les aspects (ctest-i-dire la plus grande réduction de la "formation de coupelle" et la plus grande augmentation disponible de la stabilité de points fortement lumineux) est obtenue pour un temps d'exposition de "choc" maximum. En pratique, ce temps est typiquement dter- minS en observant le temps pour lequel un ehantillon du photopolymère commence à se gUlifier dans les conditions prddomlnantes d'exposition, et puis en réglant le temps d'exposition de choe comme tant le temps qui est environ 10 % (ou à peu près) inférieur au temps l'exposition observé jusqu'au commencement de la gélification. L'étape d'exposition ultérieure pour la formation d'images (qu'on appelle quelquefois ici l'exposition "principale") est poursuivie jusqu'à ce que les parties d'images exposées de la compo- sition pouvant 8tre soumise å la photocuissson sotent ssensiblement comlètement cuites. De nouveau, ce temps variera selon la composition partlculière, selon le type et selon 1'intensit de la source de rayonnement actinique et d'autres facteurs semblables.Des expé- riences en laboratoire et dans la pratique industrielle avec les sys- cèmes du commerce mentionnés précédemment dits "LETTERFLEX" et les polyméres du commerce dits "LETTERFLEX" ont montré que ces temps doivent être d'au moins l5 secondes, de prfErence 20 à 50 secondes, d'exposition "principale" pour chaque seconde d'exposition de "choc".Cela signifie que, pour des expositions de "choc" de 0,5 d 4,0 secondes, ltexposition "prineipale" sera au moins 7,5 i 60 secondes et de préférence 10 à 200 secondes, en donnant ainsi des temps d'exposition totaux dans la large gamme de 8 i 204 secondes. Lorsquton opère selon la prEsente invention, on trouve que la combinaison d'une exposition de "choc" directe brève, suivie de ltexposition "principale" ou de formation dimages spEcifie cidessus, réduit le temps global d'exposition ou de cuisson i moins de la moitit, et rrSquemment d une valeur aussi faible qu'un tiers du-temps d'exposition exigé lorsque toute ltexpossition est réalisée b travers une diapositive portant l'image. Simultanment, la brève exposition de "choc" redut la "formation de coupelle ou de cuvettes jusqu'au point od elle est virtuellement sans importance dans tous les buts pratiques.En mame temps, la stabilité de points fortement lumineux de la plaque dtimpression en relief ou de la plaque d'ori ginal, cuite et dEveloppde, est aussi bonne ou meilleure que celle qu'on peut obtenir dans les procdés préalablement mis en pratique, danss lesquels il n'y a qutune seule étape de formatlon d'images, tou te l'exposition se faisant k travers une diapositive portant une image. Pratiquement tout photopolymère liquide peut fonctionner dans la présente invention. Par exemple, ceux décrits dans less~bre- vets aDrieains n zi.661.744, 3.hi76.195, n 3.676.283, 3.6g7.395-7, 3.697.402 et 3.700.574 sont utiles. La nature du photopolymère n'est pas critique, tant qu'il constitue une plaque d'impression pour im pression typogrsphique en fournissant des surfaces ou zones cuites et des surfaces ou zones non euitess. Le photopolymère peut, en fait, être un solide dès le d- out s'il peut être liquéfié par chauffage (c'est-à-dire jusqu'à une température dans l'intervalle de 21 C à 94 C) jusqu'à une viscosité dans la gamme de 100 d 10.000 éntipoises. Le photopolymère prrré de la demanderesse i utiliser dans la présente invention est du type polyène-polythiol décrit dans le brevet amricain n 3.661.744. Ces photopolymèrea, complétés par un photosensibilivateur (accélérateur du taux de photocuisson), sont cormerc$alement disponibles d la société dite W.R. Grace * Co. Lorsqu'on se r*rbre ici b des photopolymères en polyène-polythiol, on comprendra que l'on veut dire ceux décrits dans le brevet mention- lé ci-dessus. Les exemples suivants aideront à expliquer la présente in vention, sans aucune limitation. Dans tous les cas, sauf indication contraire, toutes les parties et tous les pourcentages sont en poids. EXEPfPUE: 1 Des plaques polymères d'impression en relief, du type qui utilise un photopolymère liquide, ont été décrités avec beaucoup de ditail dans le brevet américain ne 30615.450. Des plaques polymères d'originaut sont diorites dans le brevet américain n 3.666.461. Des exemples de photopolymères convenables spécifiques et leur utilisation pour la fabrieation de plaques sont donn4ss ci-dessous sous forme d'exemple 2 et 3. Dans le traitement de la plaque, il est nécessaire de passer par les étapes suivantes : (1) Le photopolymère liquide est étalé sur un substrat ou sur une feuille de support pour former un film mince. (2) Ce film de photopolymère sur le substrat est alors exposé d de la lumière ultraviolette, d'abord directement pendant une brève période de temps (exposition de "ehoo") et puis à travers une image, par exemple une diapositive photographique. A ce point, en suivant les modes operatoires de la technique antérieure, le polymère incomplètement cuit dans les zones ou surfaces dtimage sans exposition est retir&num;. Un procEd convenable pour réaliser la présente inven- tion consiste d'abord à exposer brièvement et directement i un rayon nement actinique, et puis à placer une diapositive positive ou n- gative ou de stencil, de ligne ou de similigravure, portant une image, parallèlement à la surface d'une couche d'une compossition pouvant être soumise à la photocuisson (etest-à-dire une composition photodurcissable, photorticulable ou photopolymérisable) ("photopolymè- re") qui a té coulée directement sur une feuille de support.La diapositive portant une image et la surface de la composition peuvent être en contact ou peuvent avoir un intervalle d'air entre elles, comme on le désire. La couche pouvant être soumise à la photocuisson est alors encore exposée à travers la diapositive à une source de lumière actinique, de prEfOrence à une source de lumière ponctuelle ou collimathe jusqu'à ce que la couche soit sensiblement complètement cuite ou polymdriste jusqu'd un stade insoluble dans les zones ou surfaces d'image exposées. L'epaisseur du relief final dans un tel procédé peut être contr81e en faisant varier l'Spaisseur de la couche de la composition. De préfrence, on utilise une post-ex- position aux ultraviolets pendant environ 1 minute pour durcir l'image totale en relief.La plaque ainsi cuite est alors développe, par exemple soumise à un courant d'air provenant d'un couteau à air, jusqu'à un degré nécessaire pour retirer le polymère incomplètement cuit dans les zones d'image non exposées. Ensuite, la plaque dtim- pression soumise i la photocuisson est prote à l'utilisation dans l'impression, ctest-d-dire tomme plaque d'impression en relief, ou, conne décrit dans le brevet américain n 3.666.461, comme modèle (configuration) pour fabriquer d'autres plaques. Les exemples suivants aideront i expliquer la prdpara- tion d'un photopolymère spEcirique. Toutes les parties et tous les pourcentages sont en poids. EXEMPLE 2 Un tdtraène est préparé en faisant réagir du 2,4-diiso- cyanate de tolylène avec l'ther diallylique de trimSthylolpropane, ctest-à-dire : Un ballon à fond rond est pourvu d un agitateur, d un thermomOtre, d'une ampoule i brome, d'une entrée et dtune sortie d'azote. Le ballon peut être placé dans une cherise de chauffage ou immergé dans un bain d'eau, tel qu'exig*. Deux moles (428 grammes) d'éther diallylique de triméthyolpropane ont été mélangées avec 0,2 centrimétre cube de dilaurate de dibutylétain sous de l'azote. On a aJout au mplange une mole de 2,4-diissocyanate de tolylène en utilisant la vitesse d'addition et l'eau de refroidissement ncessaireS pour maintenir la texpratu- re en-dessouS de 70 C pendant une autre heure. L'analyse des groupe @ents isocyanates a montré que la réaction était essentiellement terminée à ce moment.On a ajouts un anti-oxydant- (o,6 gramme de 2,6-di ;-butyl-p-méthylphénol) pour emêcher la polymérisation vinylique. EXEMPLE 3 Une mole (602 grammes) du ttraène, préparé par le mode opératoire de 1'exemple 2, a été sSlangOe avec une mole (488 grammes) de tétrakis-3-mercaptopropionate de pentaérythritol et 15 grammes de benzophénone. Ce mélange, Lorsqu'il est transformé en couche Jus- qu'à l'paisseur prescrite, par exemple 0 > 5 mm,*cuit très rapidement dans la lumière ultraviolette pour donner un produit dur et résistant. I1 constitue d'excellentess plaques d'impression en relie!. EXEMPLE 4 Une plaque convenant b l'attaque dans l'air est préparée dans cet exemple. Le dispositif utilisé dans cet essai était une machine dite "LETTERFLEX" I Machinez vendue dsns le commerce par la société dite W. R. Grâce & Co. et largement utilisée aux Stats-Unis. Cette machine comprend plusieurs parties unitaires fondamentales de dispositif. L'unité-principale est la tour d'exposition. La tour d'exposition comprend un plateau, un support de négatif à châssis en verre, une source de rayonnement ultraviolet et un dispositif pour distribuer le polymère et pour l'étaler par un mécanisme i lame racleuse.Le plateau est une coulée d'aluminium contenant une dentelure attaquée à sa surface et reliée à une source de vide pour maintenir une plaque sur le plateau, tel que décrit ci-dessous. SOU8 le plateau, il y a un moyen de chauffage, par exemple, une strie de lampes infrarouges ou plusieurs dispositifs de chauRrage lectrique, pour assurer que le plateau est maintenu à une température constante. L'ensemble de support de négatif comprend une feuille en verre dit "Pyrex" avec une grille périphdrique å vide. L'ensemble peut gale- ment comprendre une feuille transparente de recouvrement en matière plastique elaire, qui peut Entre un polyester. Le négatif est pris en sandwich entre la plaque de verre et le recouvrement en matière plastique. La plaque de verre est porsée dans un châssis métallique. L'ensemble de support de négatif est mont sur charnière dans des tourillons d sa partie arrière, afin de pouvoir être levé pour l'insertion du négatif, puis abaissé sur le plateau. La première étape consiste à insérer le négatif entre la plaque de verre et le recouvrement de matière plastique du support de négatif. Ensuite, L'opérateur place le support de plaque (qui est vendu dans le commerce sous forme de feuille d'aluminium å couleur dorée, de 0,25 mm d'épaisseur) sur le plateau.Cette feuille a été traitée par un revêtement de conversion, d'un type connu, suivi dtun revêtement de résine, pour avoir une adhérence améliorde du revête- ment final de photopolymère décrit ci-après. Pour assurer un aspect plat complet du négatif dans le recouvrement de matière plastique, et pour faire contact avee la plaque de verre, ltopérateur peut rouler un balai ou racloir sur la surface de ltensemble de négatif. Il peut réaliser une opération semblable avec le balai sur le support de plaque lorsqutil est place sur le plateau.Des dispositifs ind- pendants de vide fonctionnent pour amener le négatif à staecrocher intimement sur la plaque de verre, et pour amener le support de plaque d'aluminium å 5 tacerocher intimement sur le plateau. En fait, le moyen de retenue de négatif contre la plaque de verre est le recouvrement de matière plastique, qui est lui-maue maintenu par le vide impos*. L'ensemble de ngatif, touJours en position verticale, se déplace alors vers ltoprateur. Une surie d'ajutages de distribution dans un tube linaire, d l'avant de l'ensemble, distribue alors le photopolymbre, par exemple le mélange décrit dans 1'exem- ple 3 ci-desEus. Une masse boueuse de photopolymère, amenée lintai- rement, est mesurée avec assez de précision.L'ensemble de négatif revient alors å sa position de spart, tout en retirant simultand- ment par une lame racleuse la masse déposée de photopolymère pour avoir un rilm ayant une épaisseur uniforme de 0,5 i o 58 um, aiss- seur dépendant du choix de 1'oprateur. La bande arrière est alors retirée.Les portes de protection à l'avant de l'ensemble sont ensuite reres pour protéger l'opérateur de la lumière ùltraviolette qui sera alors mise en fonotionnement. Initialement, on donne i la plaque une exposition de "choc" aux ultraviolets pour éliminer le phnomène connu sous le nom de "formation de coupelle ou de euvet- tett. Le phinobae, si on le laissait se produire, entraînerait une partie oaractrlstique concave dans certaines des plus grandes let- tres en relie. L'utilisation de ltexposition de "choc" emp8ehe le développement ultrieur de cette caractdristique peu sowhaita- ble. Les portes sont alors levées, et ltopdrateur monte l'ensemble de négatif dans un assseXblage i charnière sur le plateau contenant la plaque.A ce point, on doit observer que l'ensemble de nAgatir nlest pas en contact avec le photopolymbre, ce qui revient k dire qu'il y a un intervalle d'air de 0,3 - 0,45 um entre la surface du photopolymbre et la surraee inférieur du recouvrement en matibre plastique. Cet intervalle d'air est maintenu par des cales autour du bord extérieur du plateau. Les portes sont å nouveau fermées, et la source de rayonne- ment ultraviolet est mise en fonctionnement automatiquement pendant une période de temps prSdetersinde (exposition principale), qui dé- pend de l'utilisation finale prdvue pour les plaques dtimpression. Dans un cas typique, pour des plaques pour Journaux, cette exposition principale est environ 30-60 secondes. La lumière ultraviolette est alors interrompue, les portes sont levées et 1'oprateur soulève l'ensemble de maintien du négatif. La plaque résultante est alors prote au ddveloppement. La description indiquée ci-dessus est un rdsumd,-avec les modifications fournies par la présente invention, du disposi tir et du procddS décrits dans le brevet américain n 3.5g7.o80. Lorsquton utilise ce dispositif, ou le dispositif apparenté automa- tisé du brevet américain n 3.635.711, il est également possible de fixer une source appropriée de rayonnement actinique à l'ensemble de lame racleuse et de distribution (qu'on voit bien sur les figu res 2, 6-8 et 10-13 du brevet américain n 3.5g7.o80 et sur les fi- gures 3, 4 et 7-9 du brevet américain n 3.635.711), afin que ltex- position de choc puisse être conduite en même temps que la composi tion pouvant être soumise h la photocuis on d son niveau uniformisé par la lame racleuse. EXEMPLE 5 on a préparé une surie de quatre plaques d'impression en relief, à partir de la meme fournée de composition pouvant être soumise à la photocuisson et de manière sensiblement identique. Dans un essai, le stade de cuisson a été entièrement conduit par exposi tion à travers une diapositive portant l'image, en utilisant une source de lumière de xénon à énergie élevée.Dans les trois autres essais, il y avait une exposition de "choc" initiale sans la diaposi tive, suivie d'une exposition "principale" ou de formation d'images avec la diapositive, chacune utilisant la même source de lumière. La "formation de coupelle"-a été mesurée par coupe transversale à travers de grands caractères et puis détermination par vote microscopique de la tolérance en surface ou en utilisant des photographies prises au microscope. Les résultats sont rdsumes dans le tableau 1 suivant : TABLEAU 1 Exemple No. Temps d'exposi- Temps d'exposi- Tolérance en sur tion de choc sition principa- face (mm) (pré-exposi- le (formation tion) (seeon- d'images) des) (secondes) 5A Aucun 150 ± 0,038 5B 2 40 ±0,00635 sc # o,8 58 + o,oo8g ,6 56 ±0,00635 51, I EXEMPLE 6 On a préparé une série de plaques d'impression en relief comme dans l'exemple 5 pour étudier le phnomène de "formation de coupelle". On n'a pas essayé de déterminer un rapport optimum temps d'exposition de choc/temps d'exposition principale. Les résultats sont donnés dans le tableau 2. TABLEAU 2 Exemple No. Temps de pré- Temps d'exposi- Tolérance en sur exposition tion pour la face (mm) (secondes) formation d'ima ges (secondes) 6A Aucun 60 ±0,038 à 0,05 6B 0,8 56 ±0,02 6C 1,6 56 ±0,015 EXEMPLES 7-9 L'expérience a montré que le meilleur rapport exposition de choc/exposition principale semble être environ 20 i 50 secondes dexposition principale pour chaque seconde d'exposition de choc, afin d'atteindre une bonne stabilité des points fortement lumineux (0,1 d 0,13 mm).Ainsi, dans l'évaluation d'une rourne de polymère pouvant être soumis A la photocuisson dit "LETTERFLEX", disponible dans le commerce, dans un quipement de laboratoire, on a établi que les conditions d'exposition optima taient 3,1 secondes d'exposi tion de choc (ou directe) et 68 secondes d'exposition principale (ou de formation d'images). Dans ces mêmes évaluations, on a trouvé qu'un temps d'exposition de 228 secondes était exigé pour obtenir la plaque de même qualité si toute l'exposition était réalisée à travers la dia positive à image. Dans un travail expdrimental avec deux autres fournies des compositions pouvant être soumises à la photocuis on, dites "LETTERFLEX", disponibles dans le commerce et mentionndes ci-dessus, on a trouvé que les rapports optima étaient de 2 secondes dlexposi- tion-de choc et 40 secondes dlexposition principale pour une fournie et 2 secondes 1/4 d'exposition de choc pour 48 secondes d'exposition principale pour l'autre fournée. Environ 115 à 125 secondes d'exposition avaient été exigées pour obtenir la même qualité de plaques d'im pression quand toute ltexposition était réalisée i travers la diapo sitive d image. Un travail ultérieur dans la préparation de plaques poly- mères dloriginaut, selon le mode opératoire détaillée dans le brevet américain n 3.666.461, a révélé des réductions frappantes semblables des temps totaux d'exposition exigés lorsqu'on emploie le pro- cédé d'exposition en deux étapes selon la présente invention. La présente invention ntest pas limite aux exemples de realisation qui viennent d'être décrits, elle est au contraire susceptible de variantes et de modifications qui apparattront à l'homme de l'art. REVENDICATIONS 1 - Procédé de cuisson de la couche photopolymère, pouvant être soumise b la photocuisson, d'une plaque polymère dtimpres8ion ou de configuration (modèle) en exposant la couche polymère à un rayon- lement actinique, caractérisé en ce qu'on expose d'abord directement la couche de polymère, pouvant être soumise k la photocuisson, au rayonnement actinique pendant une brève période de temps, et puis on expose encore la couche de polymère, pouvant être soumise k la pho tocuissson, d un rayonnement actinique projeté d travers une diaposi tive portant une imagez jusqu'à ce que la couche soit sensiblement complètement cuite dans les zones d'image exposées. 2 - Procédé selon la revendieation 1, caractérisé en ce que la période de temps d'exposition directe ntest pas suprieure d 90 % de la période de temps pendant laquelle le polymère, pouvant être soumis i la photoeuisson, commence k se gélifier lorsqu'il est directement expos dans les conditions prédominantes d'exposition. 3 - Proed selon la revendication 1 ou la revendication 2, caractEris en ce que la pOriode de temps d'exposition directe est 0,5 d 4,0 secondes. 4 - Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 b 3, caractéris en ce que le temps d'exposition d'image est au moins 15 secondes pour chaque seconde de temps d'exposition directe. 5 - Procd selon la revendication 4, caractOrissS en ce que le temps d'exposition d'image est 20 d 50 secondes pour chaque seconde de temps dSexposition directe. 6 - Procd selon l'une quelconque des revendications 1 d 5, caractérisé en ce qu'une couche sensiblement uniforme d'une com position polymère liquide, pouvant être soumise à la photocuisson, est disposée sur une feuille de support avant l'exposition directe et ltexpossition dtibage, et une plaque d'impression en relieS est d- veloppée en retirant de la feuille de support les parties de la óm- position, pouvant être soumise A la photocuisson, incomplèteaest cuite qui n'ont pas été exposdes durant l'étape d'exposition d'ima- ge. 7-A titre de produits industriels nouveaux, polymères de oonfiguration (modèle) ou d'Sspression en relief produits par le procédé selon la revendication 6, présentant une stabilité augmentée de points fortesent lumineux et une réduction de la "formation de óupel- le ou de cuvette", telle que mise en évidence par une tolérance en surface inrérieure d + 0,025 mm dans les grandes zones ou surfaces en relief. 8 - Plaque selon la revendication 7, caractdrisée en ce que la tolérance en surface est inférieure i + 0,01 mm dans les grandes zones ou surfaces en relief.