FR 2166305 A1 19730817 FR 7200475 A 19720107 La présente invention se rapporte à un élément de mémoire magnétique à lecture non destructive, ainsi qu'à son procédé de fabrication. Pour réaliser des mémoires à films magnétiques minces permettant la lecture non destructive des informations enregistrées, on a utilisé, dans l'art antérieur, divers artifices technologiques tels que, par exemple, liasso- ciation de deux films magnétiques minces servant l'un au stockage et l'autre à la lecture de l'information enregistrée, ou encore linterposition d'un écran métallique non magnétique entre le film de stockage et le film de lecture. Lrem- ploi de ces artifices a cependant pour inconvénients, non seulement de rendre la fabrication de ces mémoires particulièrement complexe et conteuse, mais également diaugmenter le cycle de fonctionnement de ces mémoires, ce qui fait perdre en partie l'avantage de la commutation rapide des films magnétiques minces. On connue un procédé qui évite de recourir à ces artifices et qui permet de réaliser un film possédant des propriétés de lecture non destructive et peu sensible aux perturbations provoquées par les champs magnétiques de dispersion. Ce procédé consiste à déposer un film magnétique sur un support conducteur, en utilisant une solution électrolytique aqueuse contenant, en plus des ions nickel et des ions fer, des agents chimiques capables de former, avec le nickel et le fer, un complexe stable et soluble dans l'eau, ces agents comprenant au moins un radical amine, imine, carboxy ou hydroxy.Mais ce procédé, qui peut donner des résultats satisfaisants, est complexe et diapplication délicate pour obtenir des films magnétiques dont les propriétés magnétiques sont pratiquement identiques diun échantillon à l'autre. La présente invention remédie à ces inconvénients et propose un élément de mémoire magnétique à lecture non destructive qui est pratiquement insensible à l'action des champs magnétiques de dispersion et qui peut être aisément réalisé, en un nombre réduit diopérations, tout en faisant appel, pour sa fabrication, à un matériel relativement simple et peu coliteux. Un objet de l'invention concerne un élément de mémoire pour llenregis- trement d'informations binaires et la lecture non destructive des informations enregistrées, cet élément comprenant un support conducteur non magnétique recouvert diau moins deux films magnétiques, le premier film étant constitué diun alliage à composition constante contenant, en poids, 81-83 o de nickel et 19-17io de fer, le second film étant constitué diun alliage magnétique de composition variable, ledit élément de mémoire étant caractérisé en ce que les deux films adhèrent fortement l'un à l'autre et en ce que le second film est formé, sur 855b de son épaisseur, dtun alliage fer-cobalt-nickel dont la teneur en poids des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épaisseur de ce film, de 81-83$ à 57-58No pour le nickel et drun taux pratiquement nul à 42-43g1e pour le cobalt, le reste étant du fer, et sur les 15% restants de son épaisseur, diun alliage nickel-cobalt dont la teneur en poids des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épaisseur, de 57-58% à 50% pour le nickel et de 42-43% à 50% pour le cobalt. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront dans la description suivante , donnée à titre exemple non limitatif, et en se référant aux dessins annexés sur lesquels La figure 1 représente, en coupe transversale, un élément de mémoire magné tique dans lequel le support est recouvert de deux films magnéti ques réalisés selon l'invention. La figure 2 représente, en coupe transversale, un élément de mémoire magné tique dans lequel le support est recouvert de plusieurs films magné tiques réalisés selon l'invention. La figure 3 montre des courbes représentant les variations du taux des diffé rents constituants de la couche magnétique de l'élément de mémoire représenté sur la figure 1, dans le sens de llépaisseur de cette couche. La figure 4 est une vue schématique d'un dispositif utilisé pour réaliser un élément de mémoire selon l'invention. La figure 5 montre une courbe représentant les variations du champ dianiso- tropie de la couche magnétique de l'élément de mémoire représenté sur la figure 1, dans le sens de l'épaisseur de cette couche. L'élément de mémoire magnétique qui a été représenté en coupe sur la figure 1 comprend essentiellement un support métallique 10, non magnétique, recouvert diune couche magnétique -formée de deux films magnétiques superposés 11 et 12, en contact direct llun de Vautre Le support 10 peut être constitué, par exemple, par du cuivre. Le film magnétique il qui, dans l'exemple décrit, est déposé sur le support 10, est constitué d'un alliage magnétique de composition constante, comportant 81 à 83%, en poids, de nickel et 19 à 17%, en poids, de fer, cet alliage possédant ainsi une magnétostriction pratiquement nulle.Le film magnétique 12 est constitué, au contraire, diun alliage magnétique dont la composition varie régulièrement dans le sens de l'épaisseur de ce film, ce film étant formé, sur 85% de son épaisseur, d'un alliage ternaire fer-cobalt-nickel, et sur les 15% restants, diun alliage de nickel et de cobalt. Sur la figure 1, les zones du film magnétique 12 qui correspondent à ces deux types d'alliage ont été représentées différemment, la zone référencée 13 correspondant à l'alliage fer-cobalt-nickel, la zone référencée 14 correspondant alors à l'alliage binaire nickel-cobalt. II y a lieu d'indiquer cependant que, dans le film 12, la composition de l'alliage est telle que l'on observe aucune variation brusque de cette composition dans le sens de l'épaisseur de ce film 12.En particulière, au voisinage de la surface de séparation MMI des deux films 11 et 12, Alliage du film 12 a pratiquement la même composition que ce lui du film 11, de sorte que l'on ne constate aucune variation brusque dans la composition de l'alliage en passant de l'un de ces deux films dans litre ou inversement. Ces caractéristiques apparaissent d'ailleurs sur les courbes de la figure 3 qui montrent comment varie la composition de alliage magnétique en un point quelconque de la couche magnétique représentée sur la figure 1, en fonction de la distance e, exprimée en angstroëms, qui sépare ce point de la surface 15 du support 10 sur laquelle la couche magnétique est déposée. II faut diailleurs noter que tous les points diune même section SSX de cette couche qui se trouvent à la même distance de cette surface 15 du support ont la même composition. Sur la figure 3, les variations du taux de nickel, de fer et de cobalt en un point quelconque de la couche magnétique déposée sur le support 10, en fonction de la distance e séparant ce point de la surface 15 de ce support, ont été représentées, respectivement, par les courbes A, B et C. Ces trois courbes peuvent être déterminées expérimentalement, point par point, en utilisant des méthodes connues, les points expérimentaux relevés étant représentés par des croix dans un système de coordonnées rectangulaires, les taux de nickel, de fer et de cobalt étant portés en ordonnées (en solo) et les distances étant portées en abscisses (en angstroëms).Dans l'exemple décrit, les courbes A, B et C ont été déterminées, point par point, en effectuant, sur la couche magnétique représentée sur la figure 1, une série d'attaques chimiques, par exemple au moyen diune solution acide appropriée, de manière à réduire progressivement l'épaisseur de cette couche, chacune de ces opérations diatta- que étant réalisée de façon à retirer au cours de chaque opération une pellicule alliage diune centaine diangstroëms diépaisseur, et en déterminant, entre chaque attaque, la composition de l'alliage magnétique au voisinage de la surface de la couche magnétique restante, cette détermination pouvant se faire par des méthodes d'analyste connues.La variation de la composition de liallia- ge dans le sens de l'épaisseur de la couche magnétique pourrait aussi être déterminée par la méthode utilisant la sonde ionique. La couche magnétique qui est déposée sur le support 10 doit satisfaire à plusieurs exigences pour pouvoir être utilisée avantageusement pour la réalisation de mémoires rapides, capables diassurer un enregistrement correct des informations et une restitution convenable des informations enregistrées. C'est ainsi mulon a trouvé que, pour que les signaux de lecture induits par la rotation de liaimantation possèdent une amplitude suffisante pour provoquer le déclenchement des circuits de commutation auxquels ces signaux sont appliqués, il fallait que le film magnétique 11 ait une épaisseur au moins égale à 1000 angstroéms. On a établi cependant que cette épaisseur ne devait pas excéder 5000 angstroëms afin diéviter que, lors des interrogations répétées, l'infor- mation enregistrée se trouve détruite par suite de la "reptation" des parois des domaines magnétiques.On a trouvé également que, pour que cette couche magnétique qui comporte un film 11 de 1000 à 5000 angstroëms diépaisseur, présente des propriétés de lecture non destructive suffisantes pour permettre de l'utiliser avantageusement dans la réalisation des mémoires, il fallait que l'épaisseur du film magnétique 12 reste comprise entre 600 et 800 angstroëms. C'est ainsi que, dans l'exemple décrit, le film magnétique 11 a une épaisseur de 3000 angstroëms et le film magnétique 12 a une épaisseur de 700 angstroëms, l'épaisseur de la couche magnétique étant, par conséquent, égale à 3700 angs troëms . Si l'on revient maintenant aux courbes de la figure 3, on voit que, dans l'exemple décrit, la couche magnétique est formée, sur une épaisseur de 3000 , d'un alliage fer-nicksi à composition constante contenant 17 à 19% de fer et 83 à 81 % de nickel, cette composition étant celle du film 11, et sur les 700 restants, d'un alliage à composition variable, le taux de nickel dans cet alliage décroissant régulièrement de 83-81% à 50%, le taux de cobalt dans cet alliage croissant régulièrement de pratiquement 0 à 50%, et le taux de fer décroissant régulièrement à partir de 17-19 % pour devenir pratiquement nul pour une épaisseur de 3600 , comptée à partir de la surface 15 du support 10.On volt ainsi que la zone de la couche magnétlque comprise entre 3000 et 3600 , c'est-à-dire la zone 13 de la figure 1, est formée d'un alliage ternaire fer-cobalt-nickel dont le taux des constituants varie régulièrement, en fonction de l'épaisseur, de 83-81flo à 57-58% pour le nickel et de pratiquement 0% à 42-43No pour le cobalt, le reste étant du fer.De même, sur la figure 3, on voit que la zone de la couche magnétique comprise entre 3600 A et 3700 A, clest-à-dire la zone 14 de la figure 1, est formée d'un alliage binaire nickelcobalt dont le taux des constituants varie régulièrement, en fonction de l'épals- seur, de 57-58io à 50ai pour le nickel et de 42-43 i à 50% pour le cobalt. II convient de signaler ici que, en tout point situé à l'intérieur de la couche magnétique, la composition de l'alliage est telle que cet alliage possède une magnétostriction pratiquement nulle. Clest ainsi, par exemple, que pour une épaisseur de 3300 à l'intérieur de la couche magnétique, l'alliage magnétique comporte, comme l'indique la figure 3, 13-14io de fer et 8-9% de cobalt, le reste étant du nickel, et cet alliage possède une magnétostriction pratiquement nulle. Du fait que, dans toute l'épaisseur de la couche magnétique déposée sur le support 10, la magnétostriction est pratiquement nulle, il en résulte que cette couche présente l'avantage diêtre insensible aux contraintes mécaniques de tension et de torsion. Plus précisément, de telles contraintes ne risquent pas de provoquer un découplage magnétique de cette couche en plusieurs feuillets de caractéristiques magnétiques différentes. Ainsi quion peut le remarquer encore en examinant les courbes de la figure 3, aucune variation brusque du taux des différents constituants de la couche magnétique déposée sur le support napparaft dans toute l'épaisseur de cette couche, les variations observées des taux de ces constituants sief- fectuant, comme le montrent les courbes, diune manière continue. II faut noter que, bien que la couche magnétique qui est déposée sur le support possède une magnétostriction pratiquement nulle, les caractéristiques magnétiques de cette couche, telles que champ d'anisotropie Hk et le champ coercitif de déplacement des parois Hc, ne sont pas constantes dans toute l'épaisseur de la couche. Toutefois, du fait que les variations observées des taux des différents constituants de cette couche s'effectuent de manière continue, les caractéristiques magnétiques, telles que Hk et Hc, de cette couche, varient elles aussi de fa çon continue. Cette particularité apparaît, par exemple, sur la courbe de la figure 5 qui représente les variations du champ dianisotropie H k en un point quelconque dans l'épaisseur de la couche magnétique montrée sur la figure 1, en fonction de la distance e qui sépare ce point de la surface 15 du support. On voit alors, en se référant à la figure 5, que cette courbe présente une portion EF parallèle à l'axe des abscisses, cette portion exprimant que, dans toute l'épaisseur du film magnétique en alliage fer-nickel à composition constante, cfest-à-dire entre zéro et 3000 A dans l'exemple décrit, le champ d'a- nisotropie H k conserve une valeur constante Hkl. Au contraire, dans llépais- seur du second film à composition variable, ctest-à-dire entre 3000 A à 3700 A dans l'exemple décrit, le champ d'anisotropie Hk augmente de façon continue, au fur et à mesure que le taux de cobalt augmente dans l'alliage constituant ce second film, les variations du champ d'anisotropie étant représentées par la portion FH de la courbe.On voit ainsi que, au point H, le champ dianisotropie a atteint une valeur maximum Hk2 qui correspond à celle de lial- liage nickel-cobalt contenant 50% de nickel et 50% de cobalt. On peut remarquer que la portion de courbe FH présente un point d'inflexion G qui correspond aux endroits où la couche magnétique est formée d'un alliage nickelcobalt contenant 57-58% de nickel et 42-43No de cobalt. Les films magnétiques superposés 1 1 et 12 que l'on vient de décrire peuvent être revêtus à leur tour de films magnétiques à composition variable et fer-nickel-cobalt/ nickel-cobalt e et de films magnétiques fer-nickel à composition constante, de façon à réaliser, par un choix judicieux des films magnétiques ainsi empilés, une couche magnétique, telle que celle qui a été représentée sur la figure 2, dans laquelle on n'observe, dans le sens de l'épaisseur de cette couche, au cune variation brusque des taux de ses différents constituants. C'est ainsi que, dans l'exemple de réalisation qui a été représenté sur la figure 2, le film magnétique 12 est surmonté diun film magnétique 12 A, de même épaisseur que le film 12 et constitué du même alliage magnétique à composition variable dans le sens de l'épaisseur, le taux des différents constituants de cet alliage étant le même en deux points quelconques situés respectivement à l'intérieur des films 12 et 12 A et symétriques l'un de l'autre par rapport à la surface PP' de contact de ces deux films. Le film 12 A est lui-même recouvert diun film 11 A en alliage fer-nickel à composition constante contenant 17 à 19% de fer et 83 à 81 No de nickel. Ce film 1 1 A peut être revêtu, comme le montre la figure 2, diun film magnétique 12 B analogue au film magnétique 12.Le film 12 B pourrait naturellement être recouvert à son tour d'un film analogue au film 12 A, lui-même surmonté diun film magnétique analogue aux films 1 1 et 1 A, et ainsi de suite . ., de façon à obtenir une couche magnétique plus épaisse, dans laquelle on n'observe aucune variation brusque du taux des différents constituants dans le sens de l'épaisseur, et dans laquelle, par conséquent, les variations des caractéristiques magnétiques, telles que le champ dlanisotropie et le champ coercitif de déplacement des parois, s'effectuent de manière continue. C'est ce que lton peut constater en se référant, par exemple, à la figure 5 sur laquelle la portion de courbe EFGHIJK représente les variations, dans le sens de l'épaisseur, du champ dianisotropie H k de la couche magnétique de l'élément de mémoire qui a été représenté sur la figure 2.Il y a lieu de rappeler par ailleurs, que cette couche magnétique possède, en plus de ses propriétés de lecture non destructive, une magnétostriction pratiquement nulle, de sorte qulelle est insensible à l'action des contraintes mécaniques de tension et de torsion. II faut signaler en outre que l'avantage de cette couche magnétique, par rapport à la couche magnétique de l'élément de mémoire représenté sur la figure 1, réside en ce que les signaux de lecture induits par la rotation de l'aimantation possèdent une amplitude plus grande. On peut remarquer encore que, dans les exemples de realisation qui ont été représentés sur les figures 1 -et 2, le support sur lequel est déposée la couche magnétique est constitué par un support plan. Cette couche magnétique pourrait cependant être déposée sur un support de forme quelconque, par exemple sur un support constitué par un fil conducteur cylindrique. La couche magnétique constituant l'objet de l'invention peut être obtenue par la mise en oeuvre de procédés connus, par exemple en déposant, par voie élèctrolytique, les films magnétiques 11 et 12 sur le support métallique 10 utilisé comme cathode, en utilisant, successivement, une solution électrolytique aqueuse de sels de fer et de nickel permettant de déposer un alliage de fer et de nickel à composition constante contenant 17 à 19% de fer, puis une solution électrolytique aqueuse de sels de fer, de nickel et de cobalt permettant de déposer une couche formée d'un alliage ternaire fer-cobalt-nickel dans lequel le taux des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épaisseur, de 81-83% à 57-585o pour le nickel et de pratiquement 0% à 42-43% pour le cobaht, et enfin une solution électrolytique aqueuse de sels de nickel et de cobalt permettant de déposer une couche six fois moins épaisse que la couche diallia- ge fer-nickel-cobalt et formée d'un alliage de nickel et de cobalt dans lequel le taux des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épaisseur, de 57-58% à 50% pour le nickel et de 42-43XYo à 50% pour le cobalt, ces trois solutions comportant des additifs appropriés pour provoquer ou empêcher, selon le cas, la formation diun gradient de composition dans le sens de l'épaisse seur du dépôt. Dans ce qui suit, on va, en se référant à la figure 4, décrire un procédé et un dispositif permettant, à partir diun support constitué par un fil métallique, de fabriquer avantageusement, des éléments de mémoire comportant une couche magnétique conforme à l'invention. Ce fil métallique, qui est référencé 20 sur la figure 4, est formé, dans l'exemple décrit, diune âme métallique de 130 microns de diamètre, réalisée en un alliage de cuivre au béryllium et revêtu diune couche de cuivre de quelques microns d'épaisseur. Ce fil, qui est livré enroulé sur un tambour 21, est déroulé de ce tambour sous l'action d'un galet 22 monté sur l'arbre 23 diun moteur électrique 24.Le fil 20 est alors introduit dans un dispositif de fabrication 25 qui sera décrit un peu plus loin et qui permet diobtenir à sa sortie un fil 26 recouvert diune couche magnétique conforme à l'invention. Le fil 26 est tiré dans le sens de la flèche D, à travers le dispositif de fabrication 25, par un dispositif dientraînement 27 comprenant des galets dEentraíhement sans glissement 28 et 29 entre lesquels passe le fil 26, puis poussé à travers un dispositif 30 de mesure de ses propriétés physiques et un dispositif de coupe 31. Afin que le fil soit soumis à une tension mécanique très faible, lorsqutil est tiré par le dispositif d'entraîhement 27, un dispositif d'asservissement permettant de contr8ler le déroulement du fil a été prévu. Dans l'exemple décrit, ce dispositif diasservissement comprend un dispositif détecteur de flèche constitué par deux pièces de contact 33 et 34, situés de part et diautre du fil conducteur 20 et reliées aux deux entrées 36 et 37 drun dispositif électrique 35 dont les bornes de sortie 38 sont reliées aux bornes d'alimentation du moteur 24 par des fils de connexion 39. Le dispositif électrique 35 est agencé de manière à délivrer sur ses bornes de sortie 38 une tension d'alimentation V ou une tension d'alimentation U, selon que l'entrée 36 ou l'entrée 37 est mise au potentiel du fil 20. Ces tensions d'alimentation U et V sont telles que le fil conducteur 20 est déroulé du tambour 21 à une vitesse qui est inférieure ou supérieure à sa vitesse d'entraînement par le dispositif 27, selon que le moteur 24 est alimenté sous la tension U ou sous la tension V. Lorsque la flèche formée, entre le tambour 21 et le dispositif 25, par le fil 20 diminue, le fil 20 finit alors par venir au contact de la pièce de contact 33. Lorsque ce contact est établi, l'entrée 36 du dispositif électrique 35 est mise au potentiel du fil 20 et le dispositif 35 fournit au moteur 24 la tension dialimentation V. Le fil 20 est alors déroulé du tambour 21 à une vitesse su- périeure à sa vitesse d'entraînement par le dispositif 27 et sa flèche augmente. Inversement, lorsque la flèche se met à augmenter, le fil 20 finit par venir au contact de la pièce de contact 34. Lorsque ce contact est établi, l'entrée 37 du dispositif électrique 35 est mise au potentiel du fil 20 et le dispositif 35 fournit au moteur 24 la tension d'alimentation U. Le fil 20 est alors déroulé du tambour 21 à une vitesse inférieure à sa vitesse d'entraîhement par le dispositif 27 et sa flèche diminue. Ainsi, le dispositif drasservissement permet de donner au fil 20 un " mou " suffisant pour réduire à une valeur pratiquement négligeable la tension mécanique de ce fil. Le dispositif de fabrication 25 comprend une pluralité de cuves 40 à 53 et un four 54 traversés par le fil. Ces cuves et le four, ainsi diailleurs que les dispositifs dientrailrement 27, de mesure 30 et de coupe 31, sont montés coulissants sur un rail 60 parallèle au fil, mais de façon à pouvoir être amovibles ou fixés sur ce rail. Le fil qui est introduit dans le dispositif de fabrication 25 est d'abord soumis à un traitement de préparation dans un dispositif de traitement 55 comprenant les cuves à électrolyse 40 et 42. Dans ces cuves à électrolyse le fil sert de cathode et est entouré diune anode hélicordale ou en anneaux. Des cuves de rinçage à circulation dieau 41 et 43 sont également prévues dans le dispositif de traitement 55. En fonction de la vitesse de déplacement du fil, la longueur des cuves à électrolyse 40 et 42 est choisie pour que chaque point du fil reste dans chacune de ces cuves pendant environ il secondes.Dans llexem- ple décrit, où le fil est entraidé à la vitesse de cinquante mètre à l'heure, chacune de ces cuves a une longueur voisine de quinze centimètres. La cuve électrolytique 40 contient un bain de dégraissage formé par un mélange de soude et de carbonate de soude à une température de l'ordre de 650 C. La densité de courant est d'environ 30 A/dm2. Après avoir traversé la cuve de rinçage 41, le fil pénètre dans la cuve électrolytique 42 contenant une solution d'acide orthophosphorique à 85% maintenue à la température ambiante, afin d'être soumise à un polissage. La densité de courant dans cette cuve est d'environ 500 mA/cm2. Le fil qui sort du dispositif de traitement 55 est alors prêt pour recevoir un dépôt conducteur de cuivre qui lui est fourni par un dispositif de dépat 56 comprenant, en particulier, deux cuves à électrolyse 44 et 46 et des cuves de rinçage 45 et 47. La cuve à électrolyse 44 contient un bain de cuivrage contenant 250 g/l de sulfate de cuivre (SO4Cu, 5H20) mélangé à de l'acide sulfurique. Ce bain est utilisé à une température de 250C, le dépôt de cuivre étant réalisé, sur le fil employé comme cathode, avec une densité de courant de l'ordre de 330 mA/cm2.La longueur de la cuve 44 est choisie pour permettre de recouvrir le fil diune couche de cuivre de 2 à 3 microns diépaisseur Dans le cas où l'alliage magnétique utilisé, comme on le verra plus loin, pour recouvrir le fil ne peut être déposé directement sur un support de cuivre, le dispositif de dépôt 56 comporte encore un dispositif de dorure (non représenté) qui permet de déposer sur le fil une couche dior de quelques milliers d'angstroëms d'épaisseur. Après avoir traversé la cuve de rinçage 45, le fil pénètre dans la cuve électrolytique 46 contenant un bain de cuivrage qui a été décrit notamment dans la demande de brevet n 71 14133 qui a été déposée en France par la demanderesse, le 21 Avril 1971, sous le titre "Perfectionnements aux procédés de traitement de supports de films ferromagnétiques minces". Dans exemple décrit, ce bain, qui est destiné à améliorer encore les propriétés de lecture non destructive de la couche magnétique qui va être déposée sur le fil, a la composition suivante - sulfate de cuivre ( S04 Cu, 5H20) 0).................... 250 g/l - acide citrique.......................................................... 40 g/l Ce bain est utilisé à une température de 300 C, le dépôt de cuivre étant effectué avec une densité de courant de l'ordre de 14 mA/cm2.La longueur de la cuve 46 est choisie de façon à déposer une couche de cuivre dont l'épaisseur est voisine de 1700 angstroëms. II faut signaler cependant que cette couche de cuivre pourrait également être obtenue en utilisant trois cuves électrolytiques au lieu d'une seule, chacune de ces cuves ayant une longueur de quinze centimètres et contenant la même solution électrolytique que celle dont on vient de donner la composition, et en utilisant une densité de courant de 16, 6 mA/cm2 pour la première cuve, de 13, 3 mA/cm2 pour la seconde et de 11,7 mA/cm2 pour la troisième. Le fil qui, après avoir traversé la cuve de rinçage 47, sort du dispositif de dépôt 56, pénètre alors dans une cuve 48 où il est soumis à l'action dtune solution aqueuse contenant du chlorure de palladium PdCI2. Ce traitement a notamment été décrit dans le brevet français n 2 045 164 qui a été déposé par la Société Industrielle Bull-General Electric le 11 Juin 1969. On rappelle que ce traitement a pour but de réduire la dispersion angulaire de la couche magnétique qui va être déposée sur le fil.Le fil qui sort de la cuve 48 traverse alors une cuve 49 où il subit à nouveau un rinçage, puis il pénètre dans une cuve à électrolyse 50 contenant une solution électrolytique permettant de déposer sur le fil un alliage magnétique à composition constante contenant 81-83o de nickel et 19-17io de fer. Afin d'induire dans cet alliage une direction de facile aimantation, ce dépôt électrolytique s'effectue en présence d'un champ magnétique qui est orienté, dans l'exemple décrit, de façon que la direction diaimantation facile présentée par l'alliage déposé soit circulaire et coaxiale à l'axe du fil. La solution électrolytique contenue dans la cuve 50 peut être, par exemple, celle qui a été décrite dans le brevet français n 1 438 564 qui a été déposé par la Société Industrielle Bull-General Electric le 2 Avril 1965.On a trouvé cependant que, pour obtenir cet alliage fer-nickel, il était plus avantageux d'utiliser une solution électrolytique ayant un Ph de tordre de 2, 5 et contenant des sels de fer et de nickel, le rapport de la concentration en ions fer Fe++ à la concentration en ions nickel Ni++ dans cette solution 5 étant pratiquement égal à , cette solution contenant en outre une quantité de 95 thiourée comprise entre 170 et 230 milligrammes par litre de solution. Le dé- pôt alliage fer-nickel est effectué avec cette solution, maintenue à une température constante de l'ordre de 400C, en opérant, sans agitation, avec une densité de courant constante dont la valeur est déterminée expérimentalement de manière à obtenir l'alliage magnétique à 81-83% de nickel et 19-17 % de fer. II faut diailleurs signaler que, avec cette solution électrolytique, on peut obtenir un alliage magnétique à 81-83% de nickel et 19-17% de fer et dans lequel la composition est peu sensible aux variations de la densité de courant. Dans l'exemple décrit, cette solution électrolytique a la composition suivante - sulfate de nickel (SO4Ni, 6H2O)........................ 498,2 g/litre - sulfate de fer (S04Fe, 7H20) O)........................... 29,2 g/litre 4 2 - acide borique BO3H3.................................. 25 g/litre - sulfate lauryl de sodium (agent mouillant)................ 0,42 g/litre - thiourée SC (NH2)2................................... 0,18 g/litre - eau déminéralisée Q S P .............................. 1 litre - Ph.................................................. 2,5 Le dépôt alliage fer-nickel est réalisé avec cette solution maintenue à la température constante de 420, 5C, en utilisant une densité de courant constante de l'ordre de 50 mA/cm2. La longueur de la cuve 50 est choisie de façon à permettre le dépôt d'un film sur le fil / d'alliage fer-nickel dont l'épaisseur est comprise entre 1600 et 5400 angstroëms. Dans l'exemple décrit, cette cuve a une longueur diune trentaine de centimètres, ce qui permet de déposer sur le fil un film d'alliage fer-nickel de 3500 d'épalsseur. Le fil qui, à la sortie de la cuve électrolytique 50, est ainsi revêtu du film alliage fer-nickel, traverse une cuve de rinçage 51, puis pénètre dans une cuve à électrolyse 52 contenant une solution électrolytique permettant de déposer sur le fil ainsi revêtu un alliage magnétique à composition constante contenant sensiblement, en poids, 50% de nickel et 50% de cobalt. Dans exemple décrit, cette solution électrolytique a la composition suivante - sulfate de nickel (SO4Ni, 7H2O)......................... 140 g/litre - sulfate de cobalt (SO4Co, 7H2O)......................... 140 g/litre - acide borique B 03 H3 .................................. 30 g/litre - eau déminérallsée Q S P ................................ 1 litre PH................................................... 3,1 à 3,2 Le dépôt d'alliage nickel-cobalt est réalisé avec cette solution, en opérant à la température ambiante, sans agitation et en présence d'un champ magnétique orienté comme pour le dépôt du film fer-nickel, et en utilisant une densité de courant constante de l'ordre de 5mA/cm2. La longueur de la cuve 52 est choisie de façon à permettre le dépôt d'un film alliage nickel-cobalt dont l'épaisseur est comprise entre 170 et 230 angstroëms. Dans l'exemple décrit, cette cuve a une longueur de dix centimètres, ce qui permet de déposer un film alliage nickel-cobalt de 200 A d'épaisseur. Le fil sort alors de la cuve 52, revêtu ainsi du film alliage fer-nickel lui-même recouvert du film alliage nickel-cobalt, et, après avoir traversé une cuve de rinçage 53, pénètre dans le four 54 où il subit une opération de recuit, en présence d'un champ magnétique d'orientation. Cette opération bien connue qui est destinée à éliminer en partie les défauts ponctuels ou "lacunes" existant dans la structure cristalline des alliages magnétiques qui ont été déposés sur le fil, provoque, en outre, une diffusion partielle du cobalt constituant l'alliage nickel-cobalt dans une partie du film alliage fer-nickel, tandis que le nickel et le fer se trouvant dans cette partie du film d'alliage fer-nickel diffusent partiellement dans le film alliage nickel-cobalt.Par suite de ces diffusions, les taux des constituants des deux films varient, ces variations sieffectuant de manière à supprimer la discontinuité qui apparaissait, avant le recuit, dans la composition de l'alliage lors du franchissement de la limite de séparation des deux films. A la fin de ce recuit qui est réalisé à une température comprise entre 3700C et 4250C et pendant un temps de l'ordre dtune dizaine de secondes, la couche d'alliage magnétique recouvrant le fil présente une composition dont les variations, dans le sens de l'épaisseur de cette couche, sont analogues à celles qui sont représentées par les courbes A, B et C sur la figure 2.Dans l'exemple décrit, ce recuit est réalisé à 4050C. II faut remarquer que, du fait de l'épaisseur relativement grande du film alliage fer-nickel, le cobalt ne diffuse pas dans toute l'épaisseur de ce film, de sorte que la couche magnétique que l'on obtient à la sortie du four à recuit 54 appa raît constituée, sur une partie de son épaisseur, diun alliage fer-nickel à composition constante contenant 81-83No de nickel et 19-17% de fer, et, sur le restant de son épaisseur, d'un alliage à composition variable, du type de celui constituant le film 12 de la figure 1. A la sortie du four à recuit 54, le fil recouvert de sa couche magnétique passe entre les galets dientraihement 28 et 29 du dispositif 27 et, poussé par ces derniers, il traverse le dispositif 30 chargé de mesurer ses propriétés magnétiques, puis le dispositif de coupe 31. Il faut noter que ce dispositif de mesure 30 a été décrit et représenté dans le brevet français n 2 041 674 qui a été déposé par la Société Industrielle Bull-General Electric le 27 Mai 1969.On rappelle que ce dispositif comporte un oscillographe à rayons cathodiques sur l'écran duquel apparaît, au cours du fonctionnement, une courbe dont l'aspect dépend des propriétés magnétiques du matériau magnétique qui a été déposé sur le fil. Après cette courbe, qui est connue sous le nom de cycle de Bel son, on peut déduire les valeurs du seuil de lecture non destructive HBR, du seuil de rotation cohérente HB et du champ coercitif de déplace ment des parois H .Afin diéviter toute ambigu7té, on considèrera que les va c leurs de H B et de HBR dont on parle dans la suite de la description sont celles que l'on détermine, à l'aide de ce dispositif de mesure, en utilisant un champ de commande dont la composante, suivant l'axe de difficile aimantation, clest- à-dire suivant l'axe du fil dans l'exemple décrit, a une amplitude sensiblement égale à celle des champs de "mots" qui sont habituellement utilisés lors du fonctionnement de la mémoire, clest-à-dire une amplitude sensiblement égale à 8 oerteds.D'autre part, le champ dianisotropie Hk du matériau magnétique qui a été déposé sur le fil peut être déterminé en utilisant des méthodes connues telles que, par exemple, celle basée sur le principe de l'effet magnétooptique de Kerr. En procédant de la façon qui vient d'être indiquée, on a finalement obtenu, pour les caractéristiques magnétiques de la couche magnétique déposée sur le fil, les valeurs suivantes H B = 1 160 millioersteds HBR = 320 mil I ioersteds H c = 2, 7 oersteds HB - HBR = 840 millioersteds Hk = 3, 7 oersteds. II convient de signaler que ces valeurs sont des valeurs moyennes, étant donné que, comme on l'a indiqué plus haut, les caractéristiques magnétiques de la couche magnétique varient de façon continue dans le sens de llépaisseur de cette couche. C'est ainsi que, par exemple, le champ d'aniso- tropie Hk varie de façon continue entre 2 et 5 oersteds, la valeur moyenne de ce champ étant égale à 3, 7 oersteds.Si, cependant, on compare les valeurs moyennes indiquées ci-dessus à celles obtenues lors de la mise en oeuvre du procédé dans la demande de brevet susmentionnée n 71 14133, soit: HB = 445 millioersteds HBR = 285 millioersteds H c = 2,1 oersteds HB-HBR = 160 millioersteds on voit que la présente invention, appliquée en combinaison avec le procédé décrit dans cette demande susmentionnée, conduit à une amélioration sensible de la valeur du champ coercitif H et à une augmentation notable de HBR, c'est c à-dire du seuil de lecture non destructive de la couche magnétique qui a été déposée sur le fil. Bien que l'on ait décrit, dans ce qui précède, et représenté sur les dessins annexés, les caractéristiques essentielles de l'invention il va de soi que l'homme de métier peut y apporter toutes les modifications de forme et de détail jugées utiles, sans pour cela sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1 - Un élément de mémoire pour I tenregistrement d'informations binaires et la lecture non destructive des informations enregistrées, cet élément comprenant un support conducteur non magnétique recouvert diau moins deux films magnétiques, le premier film étant constitué d'un alliage à composition constante contenant, en poids, 81-83No de nickel et 19-17t70 de fer, le second film étant constitué d'un alliage magnétique de composition variable, ledit élément de mémoire étant caractérisé en ce que les deux films adhèrent fortement l'un à l'autre et en ce que le second film est formé, sur 85% de son épaisseur, diun alliage fercobalt-nickel dont la teneur en poids des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épaisseur de ce film, de 81-835e à 57-583 pour le nickel et diun taux pratiquement nul à 42-43Qo pour le cobalt, le reste étant du fer, et sur les 15% restants de son épaisseur, diun alliage nickel-cobalt dont la teneur en poids des constituants varie régulièrement, dans le sens de llépaisseur, de 57-58io à 50% pour le nickel et de 42-43% à 50% pour le cobalt. 2 - Un élément de mémoire selon revendication 1, caractérisé en ce que l'épals- seur du premier film est comprise entre 1000 et 5000 angstroëms. 3 - Un élément de mémoire selon revendication 2, caractérisé en ce que l'épals- seur du second film est comprise entre 600 et 800 angstroëms. 4 - Un élément de mémoire selon revendication 1, caractérisé en ce que le premier et le second films ont, respectivement, 3000 angstroëms et 700 angstroëms d'épaisseur. 5 - Un élément de mémoire selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le support conducteur est en cuivre. 6 - Un élément de mémoire selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le support est constitué par un fil cylindrique en alliage de cuivre au béryllium. 7 - Un élément de mémoire selon revendication 6, caractérisé en ce que le fil a 130 microns de diamètre. 8 - Un procédé pour fabriquer un élément de mémoire comprenant un support conducteur non magnétique recouvert diau moins deux films magnétiques en contact direct l'un de l'autre, ledit procédé étant caractérisé en ce quiil consiste à déposer par voie électrolytique, successivement, sur le support utilisé comme cathode, au moins deux pellicules magnétiques, l'une ayant une épaisseur comprise entre 1600 et 5400 angstroëms et étant constitué d'un alliage à composition constante, contenant, en poids, 17-19% de fer et 83-813 de nickel, Ilautre ayant une épaisseur comprise entre 170 et 230 angstroëms et étant constituée d'un alliage à composition constante contenant sensiblement, en poids, 50% de nickel et 50% de cobalt, et à effectuer un recuit, à une température comprise entre 3700C et 4250C et pendant un temps de l'ordre drune dizaine de secondes, de façon à provoquer une diffusion partiel le des constituants dune pellicule magnétique dans l'autre, et inversement, cette diffusion étant telle que, à la fin du recuit, la couche magnétique recouvrant le support apparait formée diau moins deux films magnétiques en contact direct l'un de liau- tre, le premier film étant constitué d'un alliage à composition constante contenant, en poids, 81-83% de nickel et 19-17% de fer, le second film étant formé, sur 85% de son épaisseur, dtun alliage fer-cobalt-nickel dont la teneur en poids des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épais- seur de ce film, de 81-83% à 57-58% pour le nickel et drun taux pratiquement nul à 42-43% pour le cobalt, le reste étant du fer, et sur les 15% restants de son épaisseur, dXun alliage nickel-cobalt dont la teneur en poids des constituants varie régulièrement, dans le sens de l'épaisseur, de 57-58% à 50% pour le nickel et de 42-43% à 50% pour le cobalt. 9 - Un procédé selon revendication 8, caractérisé en ce que la pellicule d'alliage fer-nickel est déposée en utilisant une solution électrolytique aqueuse ayant un Ph de l'ordure de 2,5 et contenant des sels de fer et de nickel, le rapport de la concentration en ions fer à la concentration en ions nickel dans 5 cette solution étant pratiquement égal à , ladite solution contenant en outre 95 une quantité de thiourée comprise entre 170 et 230 milligrammes par litre de solution, et en opérant à une température constante de l'ordre de 40 C, sans agitation, avec une densité de courant constante dont la valeur est choisie de manière à obtenir un dépôt alliage contenant 81-83% de nickel et 19-17% de fer. 10 - Un procédé selon revendication 9, caractérisé en ce que la solution électrolytique utilisée pour déposer la pellicule alliage fer-nickel a la composition suivante - sulfate de nickel (SO4Ni, 6 H2O)......................... 498,2 g/litre - sulfate de fer (SO4Fe, 7 H2O)........................... 29,2 g/litre - acide borique BO3 H3.................................. 25 g/litre - sulfate lauryl de sodium................................ 0,42 g/litre - thiourée SC (N H2)2................................... 0,18 g/litre - eau déminéralisée Q S P............................... 1 litre et a un Ph de 2, 5, et en ce que cette pellicule est déposée en opérant à la température constante de 42 5, avec une densité de courant constante de l'ordre de 50 mA/cm2. 11 - Un procédé selon Itune quelconque des revendications 8, 9 et 10, caractérisé en ce que la pellicule alliage fer-nickel a une épaisseur de 3500 angstroëms. 12 - Un procédé selon l'une quelconque des revendications 8 à 11, caractérisé en ce que la pellicule d'alliage nickel-cobalt est déposée en utilisant une solution électrolytique aqueuse ayant la composition suivante - sulfate de nickel (SO4Ni, 7 H2O)..................... 140 g/litre - sulfate de cobalt (SO4CO, 7 H2O)..................... 140 g/litre - acide borique B O3 H3.............................. 30 g/litre - eau déminéralisée Q S P............................ 1 litre Ph......................................... 3, 1 à 3,2 et en opérant à la température ambiante, sans agitation, avec une densité de courant constante de L tordre de 5 mA/cm2. 13 - Un procédé selon revendication 12, caractérisé en ce que la pellicule d'alliage nickel-cobalt a une épaisseur de 200 angstroëms. 14 - Un procédé selon llune quelconque des revendications 8 à 13, caractérisé en ce que le recuit des deux pellicules magnétiques est réalisé à la température de 405 C.