FR 2064129 A1 19710716 FR 7035753 A 19701002 70 35753 i 2064129 L'invention concerne des transistors à effet de champ améliorés, ainsi que des procédés pour leur fabrication. Plus précisément, l'invention concerne des transistors à effet de champ à alignement automatique, ayant des longueurs de canal extrême-5 ment courtes. Les transistors à effet de champ à porte isolée comprennent en général une paire de régions de types de conductivité opposés, contigues à une face principale d'un matériau semiconducteur d'un premier type de conductivité, les régions indépendantes 10 appelées respectivement source et drain, étant séparées par une région de canal de petites dimensions, sur laquelle est placée une électrode dite porte ou gâchette qui la recouvre. La conduction entre les deux régions s'effectue par les zones contigues à la surface de la région de canal, entre la source et 15 le drain. Ce canal superficiel est formé et modulé par un potentiel appliqué à l'électrode de porte. La longueur (dimension longitudinale de la séparation) du canal entre les deux régions représente un paramètre extrêmement important pour le fonctionnement d'un transistor à effet de champ. Pour une lar-20 geur donnée du canal, la transconductance est inverseront proportionnelle à la longueur du canal. Par conséquent, pour une transconductance déterminée, on peut donner à un composant des dimensions plus petites si l'on peut réduire la longueur du canal. Cela aura non seulement pour effet de réduire directe-25 ment la capacité de la porte, mais aussi de diminuer la capacité des conducteurs entre des composants associés dans un circuit intégré. En outre, des composants plus petits pourront être disposés de manière plus compacte, ce qui donnera généralement lieu à des rendements améliorés. De plus, étant donné que la 30 fréquence limite de fonctionnement du transistor â effet de champ est limitée par le temps de transit du canal, lequel est proportionnel à la longueur de celui-ci, on pourra élever la fréquence limite de fonctionnement en réduisant la longueur du canal. 35 Cependant, dans les modèles classiques de transistor à effet de champ, on est limité à des longueurs de canal de l'ordre de 10 microns. Cela provient en premier lieu des tolérances d'alignement des masques. Un procédé permettant de réduire fortement la longueur de la porte est décrit dans une 40 Demande de brevet aux Etats-Unis n° 679 957 au nom de D. Brown 70 35753 2064.129 et W. Engeler, cédée à la Demanderesse du présent brevet. Les transistors à effet de champ construits d'après les principes exposés dans cette demande de brevet ont des longueurs de « canal qui atteignent 3 microns. En soi-même, les techniques 5 photolithographiques permettent d'atteindre des longueurs de canal plus courtes, mais au prix de grandes difficultés et d'incertitude; les limites étant imposées par la résolution du masque photolithographique. Etant donné la tendance croissante à remplacer les tubes 10 à vide et les transistors bipolaires par des transistors à effet de champ, il devenait nécessaire de concevoir des transistors à effet de champ ayant des prôduits gain-largeur de bande élevés et une forte transconductance. En conséquence, l'un des buts de l'invention est de four-15 nir des transistors à effet de champ améliorés, ayant des produits gain-largeur de bande élevés, une forte transconductance et des dimensions physiques réduites. Un autre but de l'invention est de fournir un procédé pour la fabrication d© transistors à effet de champ, sans que 20 la longueur du canal soit limitée par des techniques photolithographiques . L'invention a encore pour but de fournir des transistors à effet de champ ayant des longueurs de canal extrêmement courtes. 25 Un autre but est de fournir des circuits intégrés utili sant des composants à effet de champ à canal court. t ' ' ' Un autre.but encore est de fournir un procédé pour la fabrication d'éléments résistants isolés, soit en tant que parties constituantes d'un circuit intégré, soit sous forme 30 de composants discrets® En bref, ces buts de l'invention sont atteints, ainsi q!3© d'autres, en fabriquant des transistors à effet de champ caractérisés par le fait qu'un seul bord de l'électrode de porte définit les limites des régions de ca"nal de source et de 35 drains pour des conditions particulières de diffusion. Selon un mode de réalisation de l'invention, une éïecti,ode"dè i>ôrte est formée en déposant un métal"sUr une couche minée'd'oxyde qui recouvre une plaquette de semiconducteur en un matériau d'un premier type de conductivité et en profilant le mitai par 40 des techniques photolitftographiqûes. Une première impUre^t? 70 35753 3 2064129 est ensuite diffusée à travers la couche mince d'oxyde dans le substrat semiconducteur, au contact d'un bord de l'électrode de porte définissant le canal, pour former une région de "substrat". Une autre impureté, d'un second type, est ensuite 5 diffusée dans la première région de diffusion, également au contact du bord de l'électrode de porte définissant le canal, pour former une région de drain. Le bord de l'électrode de porte qui définit le canal constitue donc le lieu d'origine des deux diffusants dans la plaquette de semiconducteur. La 10 longueur du canal entre les régions de source et de drain ainsi formées est égale à la différence d'étendue des diffusions latérales au-dessous de l'électrode de porte. Etant donné que les profondeurs de diffusion peuvent être réglées à une fraction de micron près par des techniques classiques, on 15 peut former des régions de canal inférieures à 1 micron. Des résistances isolées, utilisables dans la confection de circuits intégrés, peuvent être également fabriquées par le même procédé. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, des transistors à effet de champ sont fabriqués sur une plaquette 20 de semiconducteur revêtue d'une couche épaisse d'oxyde, une électrode de porte recouvrant une région formée par une couche d'oxyde plus mince. Un évidement est creusé par corrosion dans la couche mince d'oxyde au niveau du bord de l'électrode de porte qui définit le canal et des impuretés sont diffusées par 25 cet évidement, de manière à former des régions de conductivités différentes. Dans ce mode de réalisation, le bord de la couche d'oxyde au-dessous de l'électrode de porte définit l'extension latérale des diffusants et situe la région courte du canal. L'invention pourra de toute façon être bien comprise à 30 l'aide du complément de description qui suit, ainsi que des dessins ci-annexés, lesquels complément et dessins sont relatifs à des modes de réalisation préférés qui ne sont:, bien entendu, pas limitatifs. La fig. 1 est un organigramme d'un procédé pour la fabri-35 cation d'un transistor à effet de champ selon l'un des modes de réalisation de l'invention. Les fig.2a à 2k sont une série de représentations schématiques d'une coupe verticale d'une plaquette de semiconducteur, au cours de- la fabrication d'un transistor à effet de champ ^0 selon le procédé de l'organigramme de la fig. 1, chaque fig.2a...2c 70 35753 4 2064129 correspondant à l'une des phases a, b==ok indiquées dans le diagramme de la fig. 1. La fig. 3 est un organigramme d'un procédé pour la fabrication d'un transistor à effet de champ selon on autre mode da 5 réalisation de l'invention. Les fie. 4, 4a-1 sont une ssrie de représentations schématique d'une coupe verticale d'une plaquette de semiconducteur au cours de la fabrication d'un transistor à effet de champ selon le procédé de l'organigramme de la fig. 3* chaque figure 10 correspondant à l'une des phases indiquées dans le diagramme de la fig. 3. La fig. 5 est une vue à échelle agrandie, en coupe verticale, d'un bord de l'électrode de porte définissant le canal et de la courte région de canal. 15 Les fig. 6 et 7 sont des vues schématiques en plan de transistors à effet de champ fabriqués selon le procédé des organigrammes des fig. 1 ou 3. La fig. 8 est une vue schématique en plan d'un transistor à effet de champ fabriqué selon les procédés des organigrammes 20 des fig. 1 ou 3, avec une résistance de charge » La fig. 9 est un schéma du circuit de la fig» 8. La fig. 10 enfin est un schéma du circuit de deux transistors à effet de champ à couplage direct, de manière à former un circuit amplificateur intégré, 25 Les fig. 1 et 2a il est toutefois bien entendu que plusieurs transistors à effet de champ pourraient être et sont généralement fabriqués de la même manière et en même temps. Par ailleurs, on compren-30 dra aisément que les dessins sont schématiques et qu'ils ne représentent pas nécessairement des dimensions ou proportions réelles, eu égard à la diversité des ordres de grandeur que l'on peut observer. Sn outre, bien que l'invention puisse être mise en pratique avec de nombreux matériaux semiconducteurs, 35 tels que le germanium, l'arséniure de gallium, etc., elle sera décrite, pour plus de commodité, à propos de la formation de composants au silicium. Pour commencer ce traitement, une plaquette 10 convenablement préparée de silicium (fig.1 phase a et fig.2a) est introduite dans 40 une chambre de réaction et chauffée à une température de l'ordre cte 1000°C 1 bad original 3" * . . 70 35753 5 2064129 à 1200*C pendant 24 h environ dans une atmosphère d'oxygène anhydre pur, pour former par croissance thermique une pellicule 11 de bioxyde de silicium, ayant approximativement une épaisseur de 1 micron (fig. 1 phase b et fig. 2b). A la suite de sa croissance 5 thermique, l'oxyde, couramment appelé oxyde de champ, peut être recuit dans une atmosphère inerte, par exemple d'hélium, pour améliorer l'interface oxyde-silicium. Après la formation de la pellicule 11 de bioxyde de silicium sur la plaquette 10, un profil 12 est formé dans l'oxyde 10 (fig. 1 phase c et fig. 2c) par corrosion sélective de certaines zonés de celui-ci, au moyen d'un mordant qui réagit avec le bioxyde de silicium, par exemple HP tamponné. Le profil peut par exemple mettre a nu une surface de 0,050 x 0,050 mm de la plaquette 10. 15 Lorsque le profil a été formé dans la couche épaisse d'oxyde, la plaquette est soumise à une nouvelle oxydation pour former une couche plus mince d'oxyde 13, ayant par exemple une O épaisseur de 1000 A ou moins, à l'intérieur de la zone profilée 12 (fig. 1 phase d et fig. 2d). Cette pellicule mince d'oxyde 13, 20 couramment appelée oxyde de porte, peut être formée de la même manière que l'oxyde de champ, mais la plaquette est ici maintenue à une température élevée pendant une' période de temps plus brève, par exemple de 1 à 2h. A la suite de la formation de la pellicule 13 d'oxyde de 25 porte, la plaquette est revêtue d'un film conducteur 14 (fig. 1 phase e et fig. 2e) en un métal réfractaire, par exemple le molybdène ou le tungstène qui présentent de bonnes caractéristiques d'adhérence à l'égard du bioxyde de silicium et sont inertes chimiquement en présence de la pellicule isolante de bioxyde de sili-30 cium aux températures de diffusion, c'est-à-dire à 1000-1100°C. Un tel film conducteur 14 peut être formé sur la surface du bioxyde de silicium par désagrégation d'une cible de molybdène dans une décharge luminescente à triode de 0,015 mg Hg d'argon par exemple, pendant 15 mn, tandis que le substrat est'maintenu à une tempéra-35 ture de 400°C environ. Après 15 mn environ de désagrégation, il est formé une pellicule mince 14 de molybdène qui peut avoir par exemple une épaisseur de 5000 A. L'épaissèur de la pellicule de molybdène est susceptible de varier fortement et elle peut être réglée facilement' par la durée d'exposition au métal réfractaire désagrégé.En pratique,des pellicules de iOO à.lOOOOApeuvent être formées 70 35753 6 2064129 et utilisées selon l'invention. Outre l'emploi des métaux réfractaires, on peut avoir recours à d'autres matériaux conducteurs stables et non réactifs. Par exemple, on pourra utiliser un dépôt de silicium pour le 5 film conducteur 14. Il est donc bien entendu que l'invention * ne se limite pas aux seuls métaux et qu'elle se prête à l'emploi de tout matériau conducteur qui ne réagit pas avec la pellicule isolante aux températures de diffusion et est capable de remplir la fonction de masque de diffusion. 10 A la suite de la formation du film 14, un profil est formé dans cette pellicule de molybdène par corrosion sélective de certaines parties de celle-ci au moyen d'un mordant qui réagit avec la pellicule conductrice en provoquant la dissolution de celle-ci, mais qui ne réagit pas avec les pellicules de pas-15 sivation ou d'isolement 11 et 13. Pour ce faire, on applique des techniques classiques de photolithographie, faisant appel à une substance photorésistante qui est irradiée. Des substances photorésistantes appropriées sont connues dans la technique et on peut par exemple se les procurer auprès de la Société 20 Eastman Kodak, Rochester (New York), l'une des plus courantes parmi ces substances étant commercialisée sous le nom de KPR. La substance photorésistante est déposée uniformément, par exemple par revêtement, sur la surface de la pellicule conductrice et un masque approprié, comportant le profil ou le dessin que 25 l'on veut graver sur la pellicule de molybdène, est placé par dessus. La plaquette recouverte de substance photorésistante est irradiée par la lumière ultra-violette à travers le masque de substance photorésistante et les zones que l'on veut conserver sont exposées, alors que les zones qui doivent être éliminées 30 sont recouvertes. A la suite de l'irradiation de la substance photorésistante, la plaquette est immergée dans un révélateur approprié, par exemple le révélateur pour substance photorésistante de 1'Eastman Kodak, ce qui a pour effet de détacher et de dissoudre la substance photorésistante non exposée, les zones 35 irradiées restant en place. . A la suite du développement, la substance photorésis-. tante et la plaquette peuvent être chauffées, pai; exemple à une température de 150°C, pendant une période de 40 mn.environ, pour amener la substance photorésistante à un degré de durcis-40 sement. qui se prête au traitement de corrosion-masquage. Après 70 35753 7 2064129 ce durcissement, la pellicule est immergée dans un solvant approprié pour la pellicule conductrice } s*agissant de molybdène, on peut utiliser un mordant à l'acide orthophosphorique, composé d'un mélange de 76% en volume d'acide orthophosphorique, de 6% 5 en volume d'acide acétique glacial, de 3% en volume d'acide nitrique et de 15% en volume d'eau. Etant donné que le mordant à l'acide orthophosphorique élimine le molybdène à raison de O 5000 A/mn environ, l'épaisseur de la pellicule de molybdene détermine la durée de l'immersion dans le mordant ; la partie non mas-10 quée d'une pellicule de molybdène de 5000 Â d'épaisseur est éliminée en 1 mn environ. La structure d'une pellicule de molybdène 14 corrodée, de forme 15 sensiblement rectangulaire avec un bord 15a définissant le canal et recouvrant la pellicule mince d'oxyde 13, est vi-15 sible sur la figure 2f,cette phase du procédé correspondant à la phase f de la figure 1. A la suite du profilage de la pellicule de molybdène, une pellicule 16 dopée avec un activateur approprié est déposée au-dessus (phase g de la fig. 1 et de la f ig. 2g).Etant donné que, dans 20 la forme d'exécution considérée, la plaquette 10 possède des caractéristiques de type P de conductivité et qu'elle est utilisée en tant que région de source, il est nécessaire d'y produire des régions de "substrat" et de drain ayant des caractéristiques de type opposé de conductivité. On peut par exemple y parvenir en dê-25 posant, sur la pellicule, de molybdène profilée, une matière isolante dopée avec un donneur, par exemple un verre de bioxyde de silicium dopé de phosphore. On peut procéder par la pyrolyse de vapeurs d*orthosilicate d'éthyle et de phosphate de triëthyle dans un rapport volumétrique de 10:1.Pour ce faire, on fait barboter du 30 gaz argon dans 1'orthosilicate d'éthyle à raison de 0,2 m^/h et 3 dans lé phosphate de triëthyle à raison de 0,02 m /h; les vapeurs résultantes sont mélangées et passent sur la plaquette de silicium avec un débit composé de 0,22 m^/h par exemple. La plaquette étant chauffée à une température de 800°C, il suffit de 3mn environ O 35 pour former une pellicule 16 de 1000 A d'épaisseur de bioxyde de silicium dopé de phosphore. La concentration de phosphore dans le verre au bioxyde de silicium et, en conséquence, la concentration de phosphore qui sera diffusée dans la plaquette de silicium peut être modifiée par un réglage approprié du débit d'argon sur la source d'ira-40 puretés. Par ailleurs,il va de soi qu'on peut utiliser,si en le cësire, 70 35753 8 2064129 d'autres sources de phosphore, par exemple 1'oxychlorure de phosphore, POCl. D'autres dopants donneurs, notamment l'arsenic, 16antimoine et le bismuth, peuvent être utilisés au besoin. Après le dépôt du matériau isolant dopé d'un donneur sur la 5 surface de la plaquette, un matériau isolant dope d'un accepteur, par exemple une couche de bioxyde de silicium dopé de bore, est ensuite déposé (fig.1 phase h et fig.2h), par exemple par dépôt py-rolytique à partir d'un mélange d'argon saturé d'orthosilicate d'éthyle et contenant une moindre proportion de borate de triëthy- 10 le.A cette fin, on peut faire barboter de l'argon anhydre à tra~ 3 vers de 1'orthosilicate d'éthyle à raison de 0,2 m environ par heure et faire barboter de l'argon anhydre dans du borate de triëthyle à raison de 0,02 m^/h environ, et faire passer les deux 3 courants combinés avec un débit de 0,22 m /h environ sur la pla-15 quette, celle-ci étant chauffée à une température de 800°C environ, par exemple pendant 3 mn environ. Une pellicule mince 17 O de bioxyde de silicium dopé de bore, ayant environ 1000 A d'épaisseur, est formée sur la pellicule 16 de bioxyde de silicium dopé de phosphore. La pellicule 17 de bioxyde de silicium dopé de bore 20 est ensuite profilée par masquage sélectif, irradiée et gravée par corrosion par une technique usuelle, comparable â celle qui a été décrite précédemment, pour produire une région, profilée 18 (voir fig. 2i et fig. 1 phase i)„ Il va de soi que d'autres dopants accepteurs, notamment 1'aluminium, le gallium et l'indium, 25 peuvent être utilisés au besoin. La plaquette est ensuite chauffée, par exemple à une température de 1100°C environ, pendant une période de l'ordre de 15 h, pour provoquer la pénétration des atomes de phosphore, afin qu'ils traversent la pellicule mince 13 d'oxyde de porte et dif-30 fusent dans la plaquette de silicium 10 (fig. 1 phase j), pour former une région de "substrat" 19 de type N de conductivité. Comme on peut le voir sur la figure 2j du dessin, il se produit aussi une diffusion latérale, donnant lieu à une région de type N au-dessous du bord 15a de l'électrode de porte qui définit le 35 canal. Pendant le même temps de diffusion, les atomes de bore contenus dans la région profilée 18 traversent eux aussi la pellicule d'oxyde 13 et forment une région 20 de type P à l'intérieur de la région de substrat 19. Comme on peut le voir aussi sur la figure 2j, une courte région 21 de type N est formée 40 au-dessous du bord 15a de 1'électrode de porte qui définit le 70 35753 9 2064129 canal. Cette courte région 21 de type N, formée entre les deux régions 10 et 20 de type P et définissant le canal entre la source 10 et la région de drain 20, est sensiblement en regard cfe eu en "alignement?'avec l'électrode de porte. L'alignement du 5 court canal 21 sur l'électrode de porte 15 résulte de la formation des régions de substrat et de drain, 19 et 20 respectivement, du fait de la différence d'étendue de la diffusion latérale au-dessus du bord d'électrode de porte qui définit le canal. 10 La fig. 5 illustre plus en détail l'alignement du bord 15 définissant le canal avec la courte région sous-jacente de canal 21 contiguè* à la surface. Comme on l'a indiqué sur cette figure, la mesure de la diffusion latérale de la région de substrat 19 et de la région de drain 20 au-dessbus de 15 l'électrode de porte 15 est définie par les rayons de courbure et Rg respectivement, rayons dont l'origine est située sur le bord 15a définissant le canal. La longueur de la région de canal entre les régions de drain et de source dépend de l'épaisseur de dépôt des verres 20 de bioxyde de silicium dopés de phosphore et de bore, ainsi que des temps de diffusion. Plus le verre dopé est épais, plus le canal est large. Par exemple, une couche de 0,2 microns de bioxyde de silicium dopé de phosphore, diffusée à travers une couche de 0,2 microns de bioxyde de silicium dopé de bore 25 recouverte par une couche de 0,2 microns de bioxyde de silicium non dopé, donne lieu à une région de canal de 0,7 microns de longueur après 2 h de diffusion à 1100°C. Des canaux plus longs peuvent être obtenus, soit en utilisant des couches plus épaisses, soit en diffusant le premier dopant dans la plaquette 30 avant le dépôt du second dopant. Par ailleurs, des phases séparées de diffusion sont généralement nécessaires lorsqu'on utilise des couches légèrement dopées de verre au phosphore, car ces couches pénètrent très lentement dans la couche mince d'oxyde de porte 13. Par ailleurs, la concentration d'impure-35 tés dans les différentes régions de diffusion est déterminée par la concentration de dopant dans le bioxyde de silicium. On a pu obtenir, en procédant comme indiqué ci-dessus, des concentrations comprises entre 10^ et la limite de solubilité. Toutefois, dans chaque situation, la courte région de canal 21 40 est sensiblement en "regard du bord 15a définissant 70 35753 10 2064129 le canal. Pour achever la formation du transistor à effet de champ, selon le mode de réalisation ci-dessus décrit de l'invention, la * plaquette revêtue d'oxyde diffusé est masquée au moyen d'une subs-^ tance photorésistante et par des techniques de gravure par corrosion, selon ce qui a été décrit ci-dessus à propos du profilage des pellicules de molybdène et dé phosphore ; de petits évidements de contact sont formés par corrosion à travers la pellicule d'oxyde pour les régions de porte, de drain et de substrat. La pla-10 quette est ensuite immergée dans un mordant approprié pour le bioxyde de silicium, par exemple une solution de HF tamponnée, composée d'une partie en volume de HF concentré et de 10 parties en volume d'une solution à 40 % de NH^F. Ce mordant corrodé le bioxyde de silicium à raison de 1000 A/mn environ et le traitemeht 15 de gravure par corrosion peut donc être poursuivi pendant un temps suffisant pour éliminer l'épaisseur voulue de bioxyde sans contaminer exagérément le reste de la plaquette. Sur la fig. 2k, on peut observer les évidements 22, 23 et 24 formés par corrosion dans les régions de porte, de drain et de substrat respectivement. 20 a la suite de la formation des évidements 22, 23 et 24 par corrosion, la plaquette peut être métallisée dans son ensemble, le métal pénétrant dans chacun des évidements pour entrer en contact avec les régions de porte, de drain et de substrat. Cette métaUisation peut par exemple être effectuée par évaporation sous 25 vide d'aluminium. A la suite de la métaUisation, la pellicule d'aluminium ainsi formée est profilée par des techniques de photorésistance et de corrosion, afin de ne conserver que des zones restreintes de pellicule d'aluminium, correspondant au contact de porte 25, au contact de drain 26 et au contact de substrat 27. En 30 tant que mordant approprié pour l'aluminium, on peut citer un mordant à l'acide phosphorique, composé d'un mélange de 76 % en volume d'acide orthophosphorique, de 6 % en volume d'acide acétique glacial, de 3 % en volume d'acide nitrique et de 15 % en volume d'eau. La corrosion peut être maintenue pendant 90 s environ. 35 Les diverses opérations décrites dans les deux-paragra phes précédents correspondent à la phase k de la fig. 1. Le contact électrique avec chacune de ces surfaces de contact peut être réalisé par exemple par liaison par thermocompression, ou en prolongeant ces régions jusqu'à d'autres organes sur le 40 même substrat.. La région de source du transistor 70 35753 ii 2064129 à effet de champ est constituée par la partie primitive du premier type de conductivité de la plaquette 10 et, en conséquence, le contact avec cette région peut être établi par exemple par alliage de la plaquette 10 avec un collecteur plaqué d'or. 5 La description précédente se rapportait à un procédé pour la fabrication de transistors à effet de champ à canal court par la diffusion simultanée d'impuretés dopées avec un accepteur et un donneur à travers la couche 13 d'oxyde de porte, le bord définissant le canal étant celui de l'électrode de porte- Un 10 autre procédé pour la fabrication de transistors à effet de champ à canal court va maintenant être décrit en référence aux fig. 3, et le bord définissant le canal étant celui d'une pel licule d'isolation. Sur la fie. 3, on a désigné par° A la suite "de la diffusion du donneur, un matériau iso-40 lant dopé avec un accepteur, par exemple une couche 18 de BAD ORIGINAL 70 35753 12 2064129 bioxyde de silicium dopé de bore, est déposé (fig.3 phase i) par dépôt pyrolytique à partir d'un mélange d'argon saturé d!orthosilicate et d'une moindre proportion de borate de triéthyle= Ce dépôt pyrolytique peut être effectué selon le mode décrit précédem-5 ment. La pellicule de bioxyde de silicium dopé de bore 'ainsi déposée est ensuite profilée par masquage sélectif, irradiée ot corrodée selon le mode classique, pour donner une région profilé e lo (voir f ig « 4i)o Avant de diffuser les impuretés dopées d'un accepteur 10 dans la région tb de diffusion dopée d'un donnaar, une couc'-.e isolante est déposée sur la surface de la plaquette (fig.3 pr.ase j et fig.4j). Cette couche isolante n'est pas dopée et elle sert, de revêtement protecteur pour le dispositif pendant l'opération de diffusion. La plaquette est ensuite chauffée, par exemple à une 15 température de 1050°C environ pendant 1 n environ, pour faire pénétrer le core dans la région de substrat 19, afin d'y fcrrr-er une région ce diffusion de type ? (fig.. 2 phase k;<> Comme en peut le voir sur la fig. 4k, la région de diffusion de type P s'étend latéralement au-dessous du bord 13a de 14 oxyde ce perte ZG qui définit le canal, pour former- une courte région 21 de type II entre les deux régions de type P. Far des techniques photo!ithegra-phiques, des éviaements sont formés par gravure jusqu'aux régions de drain, de porte, de substrat et de source, et un profil métallisé est formé sur la surface de l'oxyde pour constituer des cr-2 5 ganes de contact 25, 26, 27 et 28 pour chacune des différentes régions. Le contact électrique avec chacun des organes de contact est réalisé par exemple par liaison par thern©compression, eu il peut être obtenu par le prolongement de ces régions dans d'autres organes sur le même substrat (fig.3 phase 1_) . Le composant résul-30 tant, tel qu'il est représenté sur la fig. -il, est sensiblement le même que celui de la fig» 2k. Des composants fabriqués par les procédés correspondant aux organigrammes des fig. 1 et 3 sont représentés schémati-quement en plan sur les fig. 6 et 7 : le bord céfinissant le 35 canal, qu'il s'agisse de celui de l'électrode de porte ou de celui de'la pellicule isolante, définit la frontière entre les régions de source et de canal et entre les régions de drain et de canal. La fig. 6 représente la plaquette 10 avec la pellicule isolante épaisse de bioxyde de silicium 11 et une 70 35753 13 2064129 pellicule 13 plus mince dans la région 12. Le bord 15a définissant le canal surmonte le court canal 21 qui sépare la région de drain 20 de la région de substrat 19 le long d'un bord rectiligne. La fig. 7 représente une électrode de porte 15 5 en forme d'U, le bord 15a qui définit le canal s'étendant le long de la périphérie de l'électrode de porte en U. Un tel composant a un courant limite plus élevé que le composant de la fig. 6, à cause de la plus grande largeur de la région de canal. 10 Bien que les descriptions précédentes aient été faites en considérant la fabrication d'uniques transistors à effet de champ, il est bien entendu que ce n'était qu'à des fins d'illustration. Dans la pratique, de nombreux composants discrets sont fabriqués simultanément sur une même plaquette, 15 puis séparés par clivage de la plaquette en multiples petits dés. Ces dés sont alors montés sur un support commun et les connexions de conducteurs sont faites par liaison par thermo-compression, selon le mode habituel. Dans d'autres cas, les composants ainsi formés sont réunis à d'autres éléments de 20 circuit et interconnectés pour former des circuits intégrés. Dans ce dernier cas, une autre caractéristique de l'invention peut être appliquée. La fig. 8 représente un transistor à effet de champ fabriqué conformément aux organigrammes de l'une ou l'autre 25 des fig. 1 et 3, et comprenant en outre une résistance de charge 31 formée en prolongeant latéralement la pellicule de bioxyde de silicium dopée d'accepteur pour constituer un élément résistant. Cette manière de former un élément résistant s'accompagne de plusieurs avantages : l'élément résistant 30 est formé sans la-nécessité d'aucune phase additionnelle de fabrication; l'élément résistant est isolé électriquement du substrat par la première couche diffusée et il peut avoir toute longueur et toute largeur qui conviennent pour le circuit considéré. En outre, par une simple modification du degré 35 de dopage, on peut facilement faire varier la résistance propre de l'élément. Un autre avantage encore, lié à ce mode de formation d'un élément résistant, réside dans le fait qu'il élimine la nécessité d'utiliser un second composant, à effet de champ à titre de charge pour un premier composant à effet 40 de champ, ce qui permet d'utiliser à d'autres fins le second 70 35753 14 2064129 composant à effet de champ. Un autre procédé pour former l'élément résistant consiste à graver par corrosion une fente allongée dans l'oxyde de champ 11 pour mettre à nu la plaquette 10 sous-jacente le long de 5 cette fente. De préférence, on y procède au moment où le profil 12 est formé. Les extrémités de la fente peuvent être élargies au besoin pour que l'on dispose d'une plus grande surface pour le contact. A la suite d'un tel traitement de la plaquette, une première et une seconde régions de diffusion, semblables 10 aux régions de substrat et de drain respectivement, seront formées en coïncidence avec la fente allongée, pour constituer un élément résistant isolé qui peut être connecté à d'autres éléments du circuit en vue de l'exécution des fonctions voulues. Une connexion peut être également établie avec 15 la première région diffusée, afin d'éviter l'injection de porteurs dans l'élément résistant, à travers cette région. Il va de soi que l'on peut appliquer ce procéder pour fabriquer au besoin des séries d'éléments résistants. La fig. 9 est un schéma électrique du dispositif repré-20 senté sur la fig. 8. I"i va de soi que des circuits plus complexes, par exemple le circuit amplificateur représenté schématiquement sur la fig. 10, peuvent être interconnectés pour remplir l'une quelconque des nombreuses fonctions électriques voulues. D'autres variantes et modifications de l'invention sont 25 envisageables; par exemple, la plaquette de semiconducteur ne doit pas nécessairement être du type à simple conductivité: elle peut être constituée par une plaquette qui présente, sur l'une de ses faces,une couche épitaxique (ou épitaxiale) dans laquelle sent formés les transistors à effet de champ. La couche épitaxique 30 ne doit pas être nécessairement du même type de conductivité que le substrat : par exemple, une couche superficielle de type N peut être formée par croissance sur une plaquette de type P et des éléments de canal N peuvent être formés sur elle. Des parties de cette couche peuvent être isolées électrique-35 ment par rapport à d'autres parties, par exemple en diffusant une région de type P à travers la couche de type N. Des , composants à canal étroit', comportant des régions de source isolées électriquement par rapport à d'autres composants sur la plaquette, peuvent être également - formés de cette manière, 40 selon la complexité du circuit à former. En outre, des 70 35753 15 2064129 composants en mode complémentaire peuvent être fabriqués en formant des îlots isolés sur des régions de type N et de type P de plaquettes de semiconducteur et en formant des composants à canal P et à canal N respectivement dans ces régions. On 5 constatera donc facilement que l'invention fournit la possibilité de réaliser une grande variété de composants et de modèles différents. Pour illustrer plus particulièrement l'un des modes de réalisation de l'invention, la fabrication d'un composant 10 transistor à effet de champ à mode renforcé à canal N, selon les indications des fig. 3,-* 4u à 41 des dessins, est essentiellement réalisée de la manière suivante. Une plaquette de surface (1, 0, 0) de 25,4 mm de diamètre, en silicium de type N ayant une teneur en phosphore de 5 x lO1^ atomes/cm-^ et une épais-15 seur de C,355 mm, est soigneusement corrodée dans du "mordant blanc" (3 parties de HP : 1 partie de HNO^), rincée dans l'eau distillée et chauffée dans une chambre de réaction contenant une atmosphère d'oxygène anhydre à une température de 1C00°C pendant 6 h, pour former sur elle une pellicule O 20 de bioxyde de silicium de 2400 A d'épaisseur. La plaquette est recuite dans l'hélium à 1000°C pendant 3 h. Un évidement carré de 0,076 mm est formé par corrosion à travers la couche de bioxyde de silicium par un procédé usuel. La plaquette est ensuite séchée à une température de 1000°C pendant 3 h pour 25 former sur elle une pellicule de bioxyde de siliciuifi de 1200 O A d'épaisseur. Puis la plaquette est. chauffée à une température de O ■îOO°C,tandis qu "une pellicule de molybdène de 5000 A d'épaisseur est déposé sur elle par décharge luminescente par triode avec une cible de molybdène dans 0,015 mm Hg d'argon, pendant 20 mn. 30 Une pellicule de substance photorésistante KPR est appliquée sur la surface du film de molybdène et un masque, dont le profil correspond à la région de porte, est posé sur la plaquette, puis la substance photorésistante est irradiée à travers ce masque. Dans le cas considéré, une bande centrale 35 de 0,012 mm de molybdène est laissée en place dans la zone carrée d'oxyde de porte de 0,076 mm, s'étendant sur un bord de l'oxyde de champ à des fins de contact. Après irradiation, la plaquette est immergée dans un révélateur qui élimine les parties non irradiées de la substance photorésistante et res-40 pecte le profil de région de porte constitué par les parties 70 35753 16 2064129 irradiées de cette substance. La plaquette est rincée dans l'eau distillée, puis immergée dans un mordant à l'acide orthophosphorique pendant 1 mn epviron, pour éliminer le molybdène exposé à travers le profil de substance photorésistante. 5 Après avoir éliminé le mordant et rincé dans l'eau distil lée, on rince la plaquette dans l'acide sulfurique concentré chaud (à l80°C environ) pendant une brève période, par exemple de 30 s, pour éliminer la substance photorésistante. La couche 13 d'oxyde de porte est ensuite éliminée par des techniques 10 appropriées de corrosion dans les régions non recouvertes par lrélectrode de porte en molybdène. Après avoir débarrassé la plaquette du mordant et l'avoir rincée dans l'eau distillée, on la place dans une chambre de diffusion, en regard d'une T Q plaquette source ayant une teneur en bore égale à 2 x 10 15 atomes/cm-^. La diffusion est effectuée à une température de 1050°C pendant une période de 8 h, ce qui donne lieu à une profondeur de diffusion de 1 micron environ. Une couche de O bioxyde de silicium dopé au phosphore, de 1000 A d'épaisseur, est ensuite formée sur la plaquette par pyrolyse d'ortho-20 silicate d'éthyle et d'oxychlorure de phosphore P0C1, dans un rapport volumétrique égal à 10 ; 1. On peut procéder en faisant barboter de l'argon anhydre dans de 1*orthosilicate d'éthyle à. raison de 0,2 nrVh et dans du P0C1 à raison de 0,02 rn^/h. Les vapeurs résultantes sont mélangées et passent 25 sur la plaquette de silicium avec un débit composé de 0,22 nrVh. La plaquette de substrat étant à une température de ■°00°C, O 3 mn environ suffisent pour former une pellicule de 1000 A d'épaisseur de bioxyde de silicium dopé de phosphore, ayant une concentration en phosphore de 1 x 1020 atomes/cra^ dans la 30 couche diffusée. La pellicule de bioxyde de silicium dopé de phosphore est ensuite profilée par masquage sélectif et gravée par corrosion selon le mode usuel, tel que décrit ci-dessus, pour produire une couche profilée de verre dopé au phosphore recouvrant le silicium dénudé d'un côté de l'électrode de por-35 te et s'étendant sur lui jusqu'à 0,012 mm au-delà de l'autre bord de l'électrode de porte. Puis la plaquette est recouverte d'un verre non dopé de bioxyde de silicium, formé par la décomposition pyrolytique de silicate d'éthyle pur à 800°C dans l'argon. La plaquette est ensuite placée dans une chambre 40 de diffusion à une température de 1050°C pendant 1 h environ, 70 35753 17 2064129 afin de diffuser le phosphore dans la région de la plaquette contiguë à la surface. Une région de diffusion de type N, O ayant approximativement une épaisseur de 2500 A, est formée à l'intérieur de la région de diffusion de type P. Ainsi est 5 produite une courte région de canal entre la source et le drain, ayant une longueur inférieure à 1 micron. Des contacts pour la source, le drain, la porte et le substrat sont ensuite formés en gravant des fentes de 0,012 mm à travers la couche d'oxyde pour établir un contact avec les 10 régions de drain et de "substrat", ainsi qu'un évidement de 0,006 mm de diamètre pour établir un contact avec l'électrode de porte sur l'oxyde de champ, et en déposant une couche d'aluminium sur la plaquette. Puis la couche d'aluminium est masquée et corrodée selon le mode habituel pour former des contacts 15 d'électrode. L'aluminium est chauffé à 500°C environ dans une atmosphère d'hydrogène pour réduire les densités d'état de surface. Une connexion électrique aux contacts est effectuée par liaison par thermocompression. Un transistor à effet de champ à mode renforcé à canal N, 20 tel que représenté schématiquement sur la fig. 8 avec une résistance de charge raccordée d'un seul tenant au drain., est fabriqué de la manière suivante. Les phases précédentes de fabrication d'un transistor à effet de champ à canal îî sont répétées ju&qu'au moment où le verre dopé de phosphore est 25 profilé, à cette exception que 1'évidement formé dans l'oxyde de champ est prolongé d'un côté de l'électrode de porte. Un profil est alors formé dans le verre dopé de phosphore par des techniques classiques de photolithographie, eonims décrit ci-dessus, de sorte que le silicium dénudé, d'un e.8té de 30 l'électrode de porte, soit recouvert par le verre» L'électrode de porte et une région de 0,012 mm au-delà du bord de cette électrode sont également recouvertes par le verre. A partir de cette seconde région, une bande en serpentin de 0,.006 mm de largeur, en verre dopé de phosphore, est maintenue en place, 35 ayant une longueur totale cë Op35 n® et une extrémité élargie à des fins de contact. Cette bande constitue, après diffusion, un élément résistant de 5000 ohms. Puis la plaquette est chauffée à une température de 1100°C pendant 3 h dans une atmosphère d'argon et d'anhydride carbo-40 nique, afin que les dopants diffusent: à travers l'oxyde de 70 35753 2064129 porte mince dans la plaquette de silicium. La diffusion du phosphore donne lieu à la formation d'une région de type N ayant une résistance de surface (ou de couche) de 50 ohms par carré et la diffusion du bore donne lieu à la formation d'une région de type 5 P en saillie sur la région de type N. Au-dessous du bord de l'électrode de porte qui définit le canal, il est formé une courte région de canal de type P. L'élément résistant est formé par diffusion dans la région de source de la plaquette et, par suite, il reste en tant qu'élément résistant isolé, séparé des autres ré-10 gions de la plaquette par la région P diffusée plus profondément. Des contacts pour le drain, la porte, la source, le substrat et l'élément résistant sont ensuite formés, de même que dans l'exemple précédent. Bien que la description ci-dessus ait illustré la fabri-15 cation de composants semiconducteurs particuliers selon l'un des modes de réalisation de l'invention, il est bien entendu que ces exemples ne sont destinés qu'à faire bien comprendre l'invention et n'ont aucune valeur limitative. Par ailleurs, bien que le bord définissant le canal ait été décrit, dans les différentes formes 20 d'exécution de l'invention, comme étant un bord essentiellement rectiligne ou en U, il est bien entendu que d'autres formes peuvent être envisagées, notamment annulaire, arquée, rectangulaire, en forme de doigt, etc. La forme particulière est une question de choix du bureau d'études, en fonction des spécifications relatives 25 au composant» Par exemple, pour fabriquer des composants à puissance accrue, il suffit d'augmenter la largeur de la région de canal. On peut par exemple y parvenir en utilisant une électrode de porte en forme de doigt, ce qui produit une augmentation de sa périphérie et,en conséquence, une augmentation de la largeur de 30 la région de canal. De ce qui précède, il ressort qu'il a été découvert une nouvelle famille précieuse de transistors à effet de champ de type renforcé, caractérisée par une longueur de canal extrêmement courte, définie par un seul bord de l'électrode 35 de porte. Les transistors à effet de champ construits selon 1'invention présentent des caractéristiques de transudctance améliorées et des produits gain-largeur de bande plus élevés que ceux, des modèles antérieurs. XI a été en outre proposé un procédé pour la fabrication de circuits intégrés utilisant des 70 35753 19 2064129 composants à effet de champ à canal court, avec des éléments résistants dont la formation fait du processus de fabrication des transistors. Comme il va de soi et comme il résulte d'ailleurs déjà de ce qui précède, l'invention ne se limite nullement à ceux de ses modes d'application, non plus qu'à ceux des modes de réalisation de ses diverses parties ayant été plus spécialement indiqués; elle en embrasse, au contraire, toutes les variantes. 70 35753 20 2064129 1.- Procédé pour la fabrication d'un transistor à effet de champ à porte isolée-comportant une courte région de canal, ce procédé étant caractérisé par le fait qu'il consiste : à 5 former- une électrode de porte isolée sur une plaquette de semiconducteur dont une majeure partie est d'un premier type de conductivité; à former une courte région de canal, de type opposé de conductivité, contiguè' à la surface de la plaquette et au-dessous d'un bord de l'électrode de porte isolée,sensiblement 10 en coïncidence avec celui-ci; et à former des contacts électriques pour lesdites régions de types différents de conductivité et pour l'électrode de porte. 2.- Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que la courte région de canal est formée par diffusion 15 dans la plaquette au voisinage immédiat de l'électrode de porte. 3«- Procédé selon la revendication 2, caractérisé par le fait que le bord de l'électrode de porte définit l'étendue de diffusion latérale au-dessous de cette électrode. 20 4.- Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que la courte région de canal est formée en diffusant une impureté de type opposé de conductivité dans la plaquette pour former dans celle-ci une région de substrat contiguè" à la surface, et en diffusant une impureté du premier type de 25 conductivité à l'intérieur de la région de substrat pour y former une région de drain, le reste de la région de type opposé de conductivité formant la courte région de eanal recouverte par une partie du bord de l'électrode de porte. 5.- Procédé selon la revendication 4, caractérisé par le 30 fait que le bord de l'électrode de porte définit l'origine d'un rayon de courbure pour la diffusion latérale des régions de substrat et de drain, la .différence de ces rayons définissant la longueur de la région de canal. 6.- Procédé selon la revendication 4, caractérisé par le 35 fait que la région de substrat est formée par diffusion à partir d'une première couche isolante dopée d'un activateur qui recouvre la plaquette au voisinage du bord de l'électrode de porte et que la région de drain est formée par diffusion à partir d'une couche isolante dopée d'activateur et profilée, 40 qui recouvre la première couche isolante dopée d'activateur. 70 35753 21 2064129 7.- Procédé selon la revendication 4, caractérisé par le fait que la région de substrat est formée par diffusion à partir d'une source dopée d'un activateur dans une région dénudée de la plaquette, et par le fait que la région de 5 drain est formée par diffusion à partir d'une couche isolante dopée d'un activateur et profilée, qui recouvre une partie de la région de diffusion de substrat au voisinage du bord de l'électrode de porte. 8.- Procédé selon la revendication 4, comprenant en outre 10 la formation d'un élément résistant dans la région de substrat. 9.- Procédé selon la revendication 4, caractérisé par le fait que la longueur de la courte région de canal sous-jacente au bord de l'électrode de porte est égale à la différence d'étendue de diffusion latérale de la région de substrat et 15 de la région de drain par rapport au bord de l'électrode de porte. 10.- Procédé selon la revendication 9, caractérisé par le fait que la longueur de la région de canal est inférieure à 1 micron. 20 11.- Procédé pour la formation d'un transistor à effet de champ à canal court, caractérisé par le fait qu'il comprend les opérations consistant : à former une pellicule isolante sur une face principale d'une plaquette de semiconducteur d'un premier type de conductivité; à recouvrir cette pellicule 25 isolante d'une pellicule conductrice qui ne réagit pas avec la pellicule isolante aux températures de diffusion d'un activateur. modifiant la conductivité; à former, dans la pellicule conductrice un profil de zones où le conducteur est éliminé et où le conducteur est respecté, l'une des zones où le conducteur 30 est respecté servant d'électrode de porte pour le transistor à effet de champ; à former un évidement dans la pellicu1e isolante, au niveau d'un bord de l'électrode de porte; à diffuser une première impureté-activateur à travers cet évidement pour transformer la région contiguë à la face principale 35 de la plaquette au voisinage de l'électrode de porte, en une région de type opposé de conductivité; à diffuser une seconde impureté- activateur dans la plaquette à l'intérieur de la région de diffusion de type opposé de conductivité contiguë à la surface., pour donner le premier type de conductivité à 40 une partie "de la région de type opposé de conductivité, le 70 35753 22 2064129 reste de la région de type opposé de conductivité formant une courte région de canal recouverte par une partie d'e l'électrode de porte; et à former des contacts électriques pour chacune des régions de types différents de conductivité et pour 5 l'électrode de porte. 12.- Procédé selon la revendication 11, caractérisé par le fait que la seconde impureté-activateur est une pellicule isolante dopée d'un activateur, profilée de manière à former la région du premier type de conductivité avec la région de 10 type opposé de conductivité et en. contiguïté avec l'électrode de porte. 13.- Procédé selon la'revendication 11, caractérisé par le fait que la plaquette de semiconducteur est une plaquette de silicium ayant une surface de type P de conductivité; la 15 première impureté-activateur est choisie dans le groupe constitué par le phosphore, l'arsenic, l'antimoine et le "bismuth et la seconde impureté-activateur est choisie dans le groupe constitué par le bore, l'aluminium, le gallium et l'indium; et le transistor à effet de champ est un transistor du type à 20 mode renforcé à canal N. 14.- Procédé selon la revendication 11, caractérisé par le fait que la plaquette de semiconducteur est une plaquette de silicium ayant une surface de type N de conductivité; la première impureté-activateur est choisie dans le groupe cons- 25 titué par le bore, l'aluminium, le gallium et l'indium et la seconde impureté-activateur est choisie dans le groupe constitué par le phosphore, l'arsenic, l'antimoine et le bismuth; le transistor à effet de champ est un transistor du type à mode renforcé à canal P. 30 15.- Procédé selon la revendication 11, caractérisé par le fait que le bord de l'électrode de porte définit les limites de la courte région de canal. 16.- Procédé selon la revendication 11, caractérisé par le fait qu'un bord de la pellicule isolante au niveau de l'évi- 35 dement et au-dessous de l'électrode de porte définit les limites de la courte région de canal. 17.- Procédé selon la revendication 11, caractérisé par le fait que la pellicule conductricè soit choisie dans le groupé constitué par le molybdène, le tungstène et le silicium. 40 18.- Proeédé selon la revendication 12, caractérisé par lé 70 35753 23 2064129 fait que la pellicule isolante dopée d'activateur est prolongée linéairement pour former un élément résistant. 19.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court, caractérisé par le fait qu'il comprend : une plaquette de 5 semiconducteur dont une majeure partie, d'un premier type de conductivité, forme une région de source; une région de diffusion contiguë à la surface de la plaquette, de-type opposé de conductivité, formant,dans cette plaquette, une région de substrat; une région du premier type de conductivité à l'intérieur de la 10 région de substrat, formant une région de drain; une éleetrode de porte isolée dont un bord surmonte la plaquette et définit les limites d'une région de canal entre les régions de source et de drain. 20.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court 15 selon la revendication 19, caractérisé par le fait que la région de canal a une longueur inférieure à 1 micron. 21.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court selon la revendication 19, caractérisé par le fait que l'électrode de porte est isolée par rapport à la plaquette 20 par une pellicule isolante continue qui recouvre cette plaquette. 22.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court selon la revendication 19, caractérisé par le fait que l'électrode de porte est en un matériau choisi dans le groupe constitué par le molybdène, le tungstène et le silicium. 25 23.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court selon la revendication 19, caractérisé par le fait que le bord de l'électrode de porte définit l'origine d'un rayon de courbure pour la diffusion latérale des régions de substrat et de drain, la différence de ces rayons définissant la lon-30 gueur de la région de canal. 24.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court selon la revendication 23, caractérisé par le fait que la longueur de la région de canal est inférieure à 1 micron. 25.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court 35 selon la revendication 24, caractérisé par le fait que la plaquette de semiconducteur est en silicium et que l'électrode de porte est en un matériau choisi dans le groupe constitué par le tungstène, le molybdène et le silicium. 26.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court 40 selon la revendication 21, caractérisé par le fait que la 70 35753 24 2064129 pellicule isolante est en un oxyde dudit semiconducteur, produit par croissance thermique, et que les régions de substrat et de drain sont forjnées par la diffusion de matérlâux dopés d'activateurs à travers la pellicule isolante. 5 27.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court selon la revendication 21, caractérisé par le fait que la région de substrat est formée par diffusion d'impuretés dopées d'activateur dans la plaquette à travers un évidement formé par corrosion dans la pellicule isolante au niveau du bord 10 de l'électrode de porte, et que la région de drain est formée par diffusion à partir d'une couche isolante dopée d'activateur. 28.- Transistor à effet de champ à porte isolée à canal court selon la revendication 27, comprenant en outre un élément résistant profilé dans la couche isolante dopée d'activateur 15 et se prolongeant linéairement sur la pellicule isolante continue, cet élément résistant servant de résistance de charge pour le transistor à effet de champ. 29.- Procédé pour la fabrication d'un composant semiconducteur, caractérisé par le fait qu'il comprend les opérations consis- 20 tant ; à former une fente allongée dans une pellicule isolante qui recouvre une plaquette de semiconducteur dont une majeure partie est d'un premier type de conductivité; à former une région allongée d'un premier type de conductivité, contiguè' à la surface, en coïncidence avec la fente efc isolée de la 25 partie principale de la plaquette par une région de type opposé de conductivité, coïncidant également avec la fente; et à former au moins deux contacts électriques entre les extrémités de la région allongée contiguè* à la surface. 30.- Procédé selon la revendication 29, caractérisé par le 30 fait que la région isolée du premier type de eonductivité est formée par diffusion d'une impureté de type opposé de conductivité dans la plaquette, pour former une région de type opposé de conductivité contiguè' à la surface, en coïncidence avec la fente allongée, et par diffusion d'une impureté du 35 premier type de conductivité à l'intérieur de cette région de type opposé de conductivité pour former ladite région isolée du premier type de conductivité. 31.- Procédé selon la revendication 30, caractérisé par le fait que la région de type opposé de conductivité est formée 40 par diffusion à partir d'une pellicule isolante dopée de la 70 35753 2064129 première impureté, recouvrant la fente allongée, et que la région isolée du premier type de conductivité est formée par diffusion à partir d'une pellicule isolante dopée d'impureté et profilée, recouvrant la pellicule isolante dopée de la 5 première impuretés 32.- Procédé selon la revendication 30, caractérisé par le fait que la région de type opposé de conductivité est formée par diffusion à partir d'une source dopée d'impureté dans la région allongée et contiguè" à la surface de la plaquette, 10 et que la région isolée du premier type de conductivité est formée par diffusion à partir d'une pellicule isolante dopée d'impureté qui recouvre une partie de la région de type opposé de conductivité.