Brevet FR3067034A1 (20181207)

REVENDICATIONS1. Formulation de polissage utile pour le polissage de tranche non oxyde, comprenant un mélange contenant au moins un agent de gravure de formule MX02, où M est un métal ou 5 l'ammonium, X est un halogène, 0 est l'oxygène, et une dispersion de particules abrasives de haute pureté ayant une dureté Mohs d'au moins 7, dans une formulation aqueuse à un pH compris entre pH 3 et pH 8, avec un rapport de l'agent de gravure de formule MX02 aux particules abrasives de haute 10 pureté dans le mélange compris entre 1/1 et 1/10 sur une base en poids, et à une concentration de l'agent de gravure de formule MX02 comprise entre 11 g et 200 g/1, et celle des particules abrasives de haute pureté comprise entre 11 g et 600 g/l. 15\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle l'agent de gravure de formule MX02 est un chlorite métallique (MC102), où M est un métal alcalin ou l'ammonium (NH4), et X est le chlore.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, 20 dans laquelle l'agent de gravure de formule MX02 est un bromite métallique (MBr02), où M est un métal alcalin ou l'ammonium (NH4), et X est le brome.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle l'agent de gravure de formule MX02 est un 25 mélange comprenant : du chlorite de sodium (NaC102), du chlorite de potassium (KC102), du bromite de sodium (NaBr02), du bromite de potassium (KBr02), ou une combinaison de ceux-ci.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, 30 dans laquelle le rapport de l'agent de gravure de formule MX02 3067034 29 aux particules abrasives de haute pureté dans le mélange est compris entre 1/1 et 1/3 sur une base en poids.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle la concentration de l'agent de gravure de formule MX02 est comprise entre 20 et 100 g/1, et celle des particules abrasives de haute pureté est comprise entre 20 et 300 g/l.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle la concentration de l'agent de gravure de 10 formule MX02 est de 48 g/1 et celle des particules abrasives de haute pureté est de 86 g/l.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle l'acidité (pH) du mélange est comprise entre pH 4 et pH\n<CLM>\1\t15\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté sont constituées d'alumine alpha ayant une dureté Mohs de\n<CLM>\1\t10. Formulation de polissage selon la revendication 1, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté sont 20 constituées de silice ayant une dureté Mohs de\n<CLM>\1\t11. Formulation de polissage selon la revendication 9, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté sont constituées d'alumine alpha et ont une pureté supérieure à 99,9 %. 25\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 9, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté ont une granulométrie comprise entre 10 et 1000 nm. 3067034 30\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 12, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté ont une granulométrie de 200 nm et une surface spécifique de 6 m2/g.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 12, 5 dans laquelle les particules abrasives de haute pureté ont une granulométrie de 50 nm et une surface spécifique de 15 m2/g.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 10, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté sont constituées de silice colloïdale.\n<CLM>\1\tFormulation de polissage selon la revendication 12, dans laquelle les particules abrasives de haute pureté ont une granulométrie de 300 nm et une surface spécifique de 5,5 m2/g.