Brevet FR3073086A1 (20190503)

REVENDICATIONS1. Dispositif (100) pour le dépôt sur un substrat (S) d'au moins une particule chargée (P1), comprenant : - un moyen de guidage (110) comprenant au moins un guide linéaire (310) pour guider par lévitation ladite au moins une particule chargée, l'au moins un guide linéaire comprenant des électrodes et un premier générateur de tension alternative pour générer un champ électrique oscillant entre lesdites électrodes et - un moyen de positionnement contrôlé (103) de ladite au moins une particule guidée sur le substrat.\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 1, dans lequel le moyen de guidage comprend en outre un piège concentrique (306) couplé au dit au moins un guide linéaire, pour piéger par lévitation ladite au moins une particule guidée par l'au moins un guide linéaire, le piège concentrique comprenant des électrodes et un deuxième générateur de tension pour générer un champ électrique oscillant entre les électrodes du piège concentrique.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le moyen de guidage comprend au moins deux guides linéaires (510\n<CLM>\1\tconfigurés pour guider des particules chargées différentes.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le guide linéaire est planaire.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une des revendications 2 à 4, dans lequel le piège concentrique est planaire.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le moyen de positionnement contrôlé comprend une électrode pour le positionnement de ladite au moins une particule guidée sur le substrat, et un troisième générateur de courant alternatif ou continu pour alimenter ladite électrode.\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 6, dans lequel l'électrode du moyen de positionnement contrôlé est en forme d'anneau (303) et est destinée à être disposée entre le moyen de guidage et le substrat. 19\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 6, dans lequel l'électrode du moyen de positionnement contrôlé (333) est destinée à être disposée de telle sorte que le substrat soit disposé entre ladite électrode et le moyen de guidage.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le moyen 5 de positionnement contrôlé comprend un premier positionneur multi axes (343) pour contrôler la position relative du moyen de guidage par rapport au substrat.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre au moins un système d'ionisation (101) pour créer et disposer l'au moins une particule chargée dans ledit moyen de guidage. 10\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre une unité de commande.\n<CLM>\1\tProcédé de dépôt sur un substrat d'au moins une particule chargée comprenant les étapes suivantes : - disposer au moins une particule chargée dans un moyen de guidage, le 15 moyen de guidage comprenant au moins un guide linéaire avec des électrodes alimentées par un générateur de tension alternative; - générer au moyen dudit générateur de tension alternative, un champ électrique oscillant entre les électrodes de l'au moins un guide linéaire pour guider par lévitation ladite au moins une particule chargée ; et 20 - positionner sur le substrat ladite au moins une particule guidée.\n<CLM>\1\tProcédé de dépôt sur un substrat d'au moins une particule chargée selon la revendication 12, dans lequel l'étape de positionner sur le substrat ladite au moins une particule guidée comprend l'étape de générer un courant alternatif ou continu pour alimenter une électrode, configurée pour le positionnement de ladite 25 électrode sur le substrat.