Brevet FR3077926A1 (20190816)

REVENDICATIONS1. Dispositif électronique de détection, comprenant un étage de détection (ED) comportant une région isolante (5) destinée à recueillir un élément à détecter et une région électriquement conductrice (10), la région isolante étant disposée au-dessus de la région électriquement conductrice, un étage de polarisation (2) configuré pour polariser ladite région électriquement conductrice (10) par couplage capacitif, et un module de détection possédant une interface d'entrée (TE) électriquement couplée à ladite région électriquement conductrice et configuré pour détecter une variation de potentiel sur ladite interface (TE) en présence dudit élément sur la région isolante (5), dans lequel la première région électriquement conductrice (10) comporte une partie inférieure (1) couplée à ladite interface d'entrée (TE), une partie supérieure (11) située sous ladite région isolante et une partie de liaison (12) entre les parties inférieure (1) et supérieure (11), et dans lequel l'étage de polarisation comporte une couche isolante (4) supplémentaire s'étendant de part et d'autre de la partie de liaison (12) entre ladite partie inférieure (1) et ladite partie supérieure (11), et au moins une première région supplémentaire (2) électriquement conductrice située au même niveau que ladite partie inférieure (1) et en couplage capacitif avec ladite partie supérieure (5) par l'intermédiaire de la couche isolante supplémentaire (4).\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 1, incorporé dans un circuit intégré comportant un substrat (Sb) surmonté par une partie d'interconnexion (INT) comportant plusieurs niveaux de métallisation, plusieurs niveaux de vias et des couches isolantes inter-métal entre les différents niveaux de métallisation, dans lequel ladite partie inférieure (1) comporte une première portion métallique d'un niveau de métallisation et ladite au moins une première région supplémentaire (2) comporte au moins une portion métallique supplémentaire située audit 14 niveau de métallisation, ladite première portion métallique et ladite au moins une portion métallique supplémentaire étant séparées par un zone de matériau isolant (6).\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 2, dans lequel ledit niveau 5 de métallisation est le dernier niveau de métallisation de la partie d'interconnexion (INT).\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 3, dans lequel la partie supérieure (5) comprend une deuxième portion métallique, la partie de liaison (12) est une partie analogue à un via, et la couche isolante 10 supplémentaire (4) est analogue à une partie de couche isolante inter- métal.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel le dispositif (DIS) comporte un module de détection (MD) qui comprend au moins un transistor dont la grille est couplée à 15 l'interface d'entrée (JE), et dans lequel ladite au moins une première région supplémentaire (2) est couplée à une autre borne du module de détection (MD).\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, comportant des moyens de polarisation (MP) apte à polariser ladite au 20 moins une région supplémentaire (2).\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel l'étage de polarisation comporte en outre une deuxième région supplémentaire (3) située au même niveau que ladite partie inférieure (1) et en couplage capacitif avec ladite partie supérieure (5) 25 par l'intermédiaire de la couche isolante supplémentaire (4).\n<CLM>\1\tSystème comprenant un dispositif (DIS) selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 et un moyen de délivrance (MAF) du résultat.\n<CLM>\1\tSystème selon la revendication 8, le système étant un PH- 30 mètre (PM).\n<CLM>\1\tProcédé de réalisation d'un dispositif de détection, comportant 15 une réalisation d'un étage de détection comprenant une région isolante (5) destinée à recueillir un élément à détecter, et une région électriquement conductrice (10), une réalisation d'un étage de polarisation configuré pour polariser 5 ladite région électriquement conductrice (10) par couplage capacitif, et une réalisation d'un module de détection (MD) possédant une interface d'entrée (TE) électriquement couplée à ladite région électriquement conductrice et configuré pour détecter une variation 10 de potentiel sur ladite interface (TE) en présence dudit élément sur la région isolante (5), dans lequel la réalisation de la région électriquement conductrice (10) comporte une réalisation d'une partie conductrice inférieure (1) couplée à 15 ladite interface d'entrée (TE), d'une partie conductrice supérieure (11) située sous ladite région isolante et d'une partie de liaison (12) entre les parties inférieure (1) et supérieure (11), et la réalisation de l'étage de polarisation comporte une réalisation d'une couche isolante (4) s'étendant de part et d'autre de la partie 20 de liaison (12) entre ladite partie inférieure (1) et ladite partie supérieure (11) et d'au moins une première région électriquement conductrice supplémentaire (2) au même niveau que ladite partie inférieure (1) et en couplage capacitif avec ladite partie supérieure (5) par l'intermédiaire de la couche isolante (4). 25\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10, dans lequel on couple des moyens de polarisation (MP) à la première région supplémentaire (2).\n<CLM>\1\tProcédé de réalisation selon la revendication 10 ou 11, dans lequel le dispositif comporte un circuit intégré comportant un substrat (Sb) surmonté par une partie d'interconnexion (INT) comportant 30 plusieurs niveaux de métallisation, plusieurs niveaux de vias et des couches isolantes inter-métal entre les différents niveaux de métallisation, dans lequel 16 la réalisation de ladite partie inférieure (1) comporte une réalisation d'une première portion métallique dans un niveau de métallisation et la réalisation de ladite au moins une première région supplémentaire 5 comporte au moins une réalisation d'une première portion métallique supplémentaire située dans le niveau de métallisation, le procédé comprenant en outre le dépôt d'un matériau isolant entre ladite portion métallique au moins une portion métallique supplémentaire. 10\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 12, dans lequel la réalisation de l'étage de détection comporte une réalisation de la couche isolante supplémentaire (4) recouvrant la partie inférieure (1), et recouvrant au moins une partie de la région supplémentaire (2), 15 une gravure locale (8) de la couche isolante supplémentaire (4) de façon à réaliser une zone gravée (Z) qui découvre une partie de la partie inférieure (1), un dépôt d'une couche conductrice (110) de façon à recouvrir la couche isolante supplémentaire (4), et de façon à combler la zone 20 gravée afin de former la partie de liaison (12), un dépôt d'une deuxième couche isolante (50) de façon à recouvrir ladite couche conductrice (110). une gravure de la deuxième couche isolante (50) et de la couche conductrice (110) à l'exception d'une zone (Z) centrée sur la partie 25 inférieure (1), qui comprend la partie inférieure (1) et au moins une partie de la première région supplémentaire (2).\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 13, dans lequel on réalise en outre une deuxième région supplémentaire (3) électriquement conductrice au même niveau que ladite partie inférieure 30 (1) et en couplage capacitif avec ladite partie supérieure (5) par l'intermédiaire de la couche isolante supplémentaire (4).