Brevet FR3067854A1 (20181221)

REVENDICATIONS1. Système tridimensionnel (1) résistant à une température d'au moins 400°C, comprenant : - un substrat (2) tridimensionnel en un matériau résistant à une température d'au moins 400°C, ledit substrat (2) comportant au moins une surface micro-ou macro-texturée (21), et - un revêtement (3) en un matériau choisi parmi les métaux et les oxydes, ledit système tridimensionnel (1) étant caractérisé en ce que ladite surface texturée (21) présente un facteur de forme compris entre 2 et 20, et en ce que ledit revêtement (3) est un revêtement conforme 15 se présentant sous forme d'un film dont l'épaisseur est comprise entre 10 nm et 1 p.m.\n<CLM>\1\tSystème tridimensionnel (1) selon la revendication 1, dans lequel ledit substrat (2) est en un matériau semi20 conducteur, ou en une céramique, ou en verre, ou en vitrocéramique, ou en métal, ou en un matériau composite.\n<CLM>\1\tSystème tridimensionnel (1) selon les revendications 1 ou 2, dans lequel ledit substrat (2) est en mousse de nickel, 25 ou en alumine, ou en silicium microstructuré.\n<CLM>\1\tSystème tridimensionnel (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel ledit revêtement (3) en un oxyde choisi parmi les oxydes de type pérovskite ABO3 ou 30 double pérovskite A2B04 où A est une terre rare et B un métal, ou parmi les oxydes de type Mn02, Ru02, 5i02, Fe304, h02, Zr02, A1203, Ce02. 19\n<CLM>\1\tUtilisation dudit système tridimensionnel (1) tel que défini selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme électrode pour piles à combustible. 5\n<CLM>\1\tUtilisation dudit système tridimensionnel (1) tel que défini selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme électrode pour batteries et micro-batteries.\n<CLM>\1\tUtilisation dudit système tridimensionnel (1) tel 10 que défini selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, comme capacité ou supercapacité pour condensateurs ou supercondensateurs.\n<CLM>\1\tProcédé de réalisation par voie liquide, comprenant 15 les étapes suivantes : A. préparation et/ou fourniture d'un substrat (2) tridimensionnel en un matériau résistant à une température d'au moins 400°C, ledit substrat (2) comportant au moins une surface micro- ou macro- 20 texturée (21) présentant un facteur de forme compris entre 2 et 20 ; B. Préparation d'une solution de précurseurs inorganiques dans un solvant, constituant après mélange et agitation une matrice organo-métallique 25 ; C. Ajout d'un adjuvant soluble dans ledit solvant en une quantité telle que la viscosité de ladite solution est au moins de 80 mPa.s ; D. Dépôt sur le substrat d'une ou plusieurs couches de 30 ladite solution ; E. Traitement thermique du substrat (2) ainsi enduit de la solution comprenant o une première étape de traitement thermique à une température d'au moins 90°C pour éliminer 20 de ladite solution de précurseurs inorganiques le solvant ; puis o une deuxième étape de traitement thermique à une température comprise entre 200°C et 400°C 5 pour éliminer l'adjuvant et la matrice organométallique ; o une troisième étape de traitement thermique à une température comprise entre 400°C et 800°C pour cristalliser le revêtement et former le 10 film oxyde; F. les étapes D et E étant répétées jusqu'à obtention d'un revêtement ayant l'épaisseur totale souhaitée.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 8, dans lequel 15 l'adjuvant est un polyéthylène glycol ou un glycérol dans un solvant polaire protique.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 9, dans lequel les précurseurs inorganiques sont choisis parmi le nitrate de 20 lanthanum tétra-hydraté, l'acétate de nickel, les hydroxydes de strontium, de baryum, l'isopropoxyde de titane.