Brevet FR3077287A1 (20190802)

REVENDICATIONS1. Poudre de particules fondues, plus de 95% en nombre desdites particules présentant une circularité supérieure ou égale à 0,85, ladite poudre contenant plus de 99,8% d'un oxyde de terre rare et/ou d'oxyde d'hafnium et/ou d'un oxyde d'aluminium, en pourcentage en masse sur la base des oxydes, et ayant : une taille médiane de particule D50 inférieure à 15 µm, un percentile 90 des tailles de particule, D90, inférieur à 30 1..tm, et un indice de dispersion de taille (D90 - D io )/D io inférieur à 2 ; une densité relative supérieure à 90%, les percentiles D. de la poudre étant les tailles de particule correspondant aux pourcentages, en nombre, de n%, sur la courbe de distribution cumulée de la taille des particules de la poudre, les tailles de particule étant classées par ordre croissant.\n<CLM>\1\tPoudre selon la revendication immédiatement précédente, présentant : un pourcentage en nombre de particules ayant une taille inférieure ou égale à 5 !dm qui est supérieur à 5%, et/ou une taille médiane des particules D50 inférieure à 10 µm, et/ou un percentile 90 des tailles de particule D90 inférieur à 25 µm, et/ou un percentile 99,5 des tailles de particule D99,5 inférieur à 40 µm, et/ou un indice de dispersion de taille (D90-D io)/Dio inférieur à 1,5.\n<CLM>\1\tPoudre selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle la taille médiane des particules D50 est inférieure à 8 !dm.\n<CLM>\1\tPoudre selon l'une quelconque des revendications précédentes, contenant plus de 99,8% de Yb203 et/ou Y203 et/ou Y3A15012, en pourcentage en masse sur la base des oxydes.\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'une poudre selon l'une quelconque des revendications précédentes, ledit procédé comprenant les étapes suivantes: a) granulation d'une charge particulaire de façon à obtenir une poudre de granules ayant une taille médiane D' 50 comprise entre 20 et 60 microns, la charge particulaire comprenant plus de 99,8% d'un oxyde de terre rare et/ou 21 d'oxyde d'hafnium et/ou d'un oxyde d'aluminium, en pourcentage en masse sur la base des oxydes ; b) injection de ladite poudre de granules, via un gaz vecteur, à travers au moins un orifice d'injection jusqu'à un jet de plasma généré par un pistolet à 5 plasma, dans des conditions provoquant un éclatement de plus de 10% en nombre des granules injectés, en pourcentage en nombre, de façon à obtenir des gouttelettes en fusion ; c) refroidissement desdites gouttelettes en fusion, de façon à obtenir une poudre d'alimentation selon l'une quelconque des revendications 10 précédentes ; d) optionnellement, sélection granulométrique de ladite poudre d'alimentation.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication immédiatement précédente, dans lequel les conditions d'injection sont déterminées de manière à provoquer un éclatement de plus de 50% des granules injectés, en pourcentage en nombre. 15\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication immédiatement précédente, dans lequel les conditions d'injection sont déterminées de manière à provoquer un éclatement de plus de 90% des granules injectés, en pourcentage en nombre.\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'une poudre selon l'une quelconque des revendications 5 à 7, dans lequel, à l'étape b), les conditions d'injection sont adaptées pour 20 provoquer un taux d'éclatement des granules identique à un pistolet à plasma ayant une puissance de 40 à 65 kW et générant un jet de plasma dans lequel la quantité massique de granules injectés par chaque orifice d'injection, en g/min et par mm2 de la surface dudit orifice d'injection est supérieure à 10 g/min par mm2. 25\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication immédiatement précédente, dans lequel la quantité massique de granules injectés par chaque orifice d'injection, en g/min et par mm2 de la surface dudit orifice d'injection est supérieure à 15 g/min par mm2.\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'une poudre selon l'une quelconque des revendications 30 5 à 9, dans lequel ledit orifice d'injection définit un canal d'injection présentant 22 une longueur au moins une fois supérieure au diamètre équivalent dudit orifice d'injection.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication immédiatement précédente, dans lequel ladite longueur est au moins deux fois supérieure au dit diamètre équivalent. 5\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'une poudre selon l'une quelconque des revendications 5 à 11, dans lequel, à l'étape b), le débit de poudre de granules est inférieur à 3 g/min par kW de puissance du pistolet à plasma.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 5 à 12, dans lequel la granulation comprend une atomisation. 10\n<CLM>\1\tProcédé de projection thermique comprenant une étape de projection thermique d'une poudre selon l'une quelconque des revendications 1 à 4 ou fabriquée selon l'une quelconque des revendications 5 à\n<CLM>\1\t15. Chambre de traitement pour semi-conducteurs, ladite chambre comprenant une paroi protégée par un revêtement, ledit revêtement comprenant plus de 99,8% 15 d'un oxyde de terre rare et/ou d'un oxyde d'hafnium et/ou d'un oxyde d'aluminium, en pourcentage en masse sur la base des oxydes, et présentant une porosité inférieure ou égale à 1,5%, ledit revêtement étant obtenu par projection thermique d'une poudre selon l'une quelconque des revendications 1 à 4 ou fabriqué suivant un procédé selon l'une quelconque des revendications 20 de 5 à 14.