Brevet FR3069677A1 (20190201)

REVENDICATIONS1. Dispositif de génération d'un nombre aléatoire comprenant : des lignes conductrices (4) comportant des interruptions (6) ; des vias conducteurs (8, aP,., 8B), un via étant situé à chaque interruption, chaque via comblant ou non de manière aléatoire lesdites interruptions ; et un circuit adapté à déterminer la continuité ou la non continuité électrique des lignes conductrices.\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 1, dans lequel les lignes conductrices (4) sont des métallisations d'un niveau d'un réseau d'interconnexion.\n<CLM>\1\tDispositif selon la revendication 2, dans lequel chaque via conducteur (8) connecte ou non, de manière aléatoire, 15 une ligne conductrice (4) avec un niveau inférieur (10) du réseau d'interconnexion.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel la probabilité qu'une ligne (4) soit interrompue est comprise entre 40 % et 60 %. 20\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendica- tions 1 à 4, dans lequel le nombre aléatoire comprend au moins 128 valeurs.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel chaque interruption est située entre 25 deux extrémités de portions de ligne.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel chaque interruption est située entre trois extrémités de portions de ligne.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendica30 tions 1 à 7, dans lequel au moins une ligne conductrice (4) est partiellement sur un niveau d'un réseau d'interconnexion et partiellement sur un autre niveau. B16169 - 17-GR3-0130 14\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le circuit est adapté à mesurer la résistance entre les extrémités des lignes conductrices (4).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'un dispositif de généra-5 tion d'un nombre aléatoire, comprenant : former sur une couche d'isolant (2) un premier masque (20) comportant des premières ouvertures (21,\n<CLM>\1\tde définition de lignes conductrices (4), les lignes conductrices comportant des interruptions (24) ; et 10 former sur le premier masque (20) un deuxième masque (22) comportant des deuxièmes ouvertures (28,\n<CLM>\1\tde définition de vias (8), le deuxième masque étant placé de telle manière qu'un emplacement de via soit situé en regard de chaque interruption de ligne, les dimensions latérales desdites deuxièmes ouvertures étant choisies en fonction de la technologie de fabrication pour que, de façon aléatoire, chaque via comble ou non lesdites interruptions.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10, dans lequel la couche d'isolant (2) constitue un niveau d'un réseau d'inter-20 connexion.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10 ou 11, comprenant les étapes : graver des premières cavités (32) à travers les deuxièmes ouvertures (28,\n<CLM>\1\tde définition de vias du deuxième 25 masque (22) sans atteindre le niveau inférieur (10) du réseau d'interconnexion ; retirer le deuxième masque (22) ; graver des secondes cavités (34) à travers les premières ouvertures (21,\n<CLM>\1\tet graver le fond des premières 30 cavités (32) jusqu'à atteindre le niveau inférieur (10) ; retirer le premier masque (20) ; et remplir les premières et secondes cavités (32,\n<CLM>\1\tde matériau conducteur.