Brevet FR3075075A1 (20190621)

REVENDICATIONS1. Procede de preparation d'un revetement hybride comprenant au moins deux reseaux interpenetres, ledit revetement etant etanche et/ou omniphobe, ledit procede etant caracterise en ce qu'il comprend les &apes suivantes (i) la preparation d'une solution precurseur comprenant : a) au moins un monomere vinylique fluore; b) au moins un formateur de reseau inorganique ou hybride ; c) au moins un agent de couplage; d) au moins un acide photo-genre et/ou un acide thermo-genere; et e) au moins un photo-amorceur et/ou un thermo-amorceur ; (ii) le depot de la solution precurseur obtenue en (i) sur une surface, de preference une surface d'un materiau composite, pour obtenir un revetement sur ladite surface, et (iii) une etape de post-traitement.\n<CLM>\1\tProcede selon la revendication 1, dans lequel le monomere vinylique fluore est un (meth)acrylate fluore, de preference est choisi parmi le methacrylate de 2,2,2- trifluoroethyle (TFEMA), l'acrylate de 2,2,2-trifluoroethyle, l'acrylate de 2,2,3,3,3- pentafluoropropyle, le methacrylate de 2,2,3,3,3 -pentafluoropropyle, le methacrylate de 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyle, le methacrylate de 1,1,1,3,3,3- hexafluoroisopropyle, et l'acrylate de 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyle.\n<CLM>\1\tProcede selon la revendication 1 ou la revendication 2, dans lequel le formateur de reseau est choisi parmi les alcoxysilanes, les polysiloxanes, et/ou les organosilanes fluores ; de preference est choisi parmi le tetraethoxysilane (TEOS), le tetramethoxysilane, le poly(diethoxysilane), le poly(dimethoxysilane), le perfluorooctyltriethoxysilane, le poly(diethoxysiloxane)-co- poly(ethyltitanate) et le poly(diethoxysiloxane)-co-poly(butylaluminate).\n<CLM>\1\tProcede selon dune quelconque des revendications 1 a 3, dans lequel l'agent de couplage est choisi parmi les monomeres vinyliques ayant au moins une fonction 37 alcoxysilane; de preference est choisi parmi les monomeres (meth)acrylates et (metahcrylamides) ayant au moins une fonction alcoxysilane; plus preferentiellement est choisi parmi le methacryloxypropyltriethoxysilane (MaPTES), le vinyltriethoxysilane, le vinyltriacetoxysilane, le 5 methacryloxypropyltrimethoxysilane, le (3 -acryloxypropyl)trimethoxysilane, le (3- methacrylamidopropyl)triethoxysilane, le methacryloxymethyl trimethoxysilane, le 3 -(triethoxysily1)-1-propene, et le 3-butenyltriethoxysilane.\n<CLM>\1\tProcede selon l'une quelconque des revendications 1 a 4, dans lequel l'etape de depot (ii) est mise en oeuvre par enduction par trempage, par enduction par 10 centrifugation ou par une technique de depot d'une solution sur une surface consistant a vaporiser sur ladite surface, la solution afin de la recouvrir totalement ou partiellement d'une couche de matiere.\n<CLM>\1\tProcede selon l'une quelconque des revendications 1 a 5, dans lequel dans lequel l' ≊ de post-traitement (iii) est une ≊ de post-traitement du depot par 15 irradiation lumineuse et/ou un traitement thermique, de preference une etape de post-traitement du depot par irradiation UV.\n<CLM>\1\tProcede selon l'une quelconque des revendications 1 a 6, dans lequel la preparation de la solution precurseur comprend : - la preparation d'une solution A comprenant le mélange d'au moins : un monomere 20 vinylique fluore, un formateur de reseau inorganique ou hybride, et un agent de couplage et ; - la preparation d'une solution B comprenant le mélange d'au moins : (a) un acide photo-genre et/ou un acide thermo-genre, et (b) au moins un photo-amorceur et/ou tin thermo-amorceur ; 25 - le mélange desdites solutions A et B pour obtenir la solution precurseur.\n<CLM>\1\tProcede selon l'une quelconque des revendications 1 a 7, dans lequel la solution precurseur obtenue en (i) est conservee a l'abri de la lumiere et/ou de la chaleur avant son utilisation au cours de l' ≊ de depot (ii). 38\n<CLM>\1\tRevetement etanche et/ou omniphobe comprenant au moins deux reseaux interpenetres : - l'un au moins des reseaux etant un reseau inorganique ou hybride, de preference un reseau silicique ou alumino-silicique; ledit reseau pouvant optionnellement 5 comprend au moins un organosilane fluore ; - l'autre reseau etant un reseau polymere issu de la polymerisation radicalaire de monomeres vinyliques fluores ; les deux reseaux etant lies de maniere covalente ou iono-covalente via des agents de couplage ; 10 ledit revetement etant susceptible d'etre obtenu par le procede selon l'une quelconque des revendications 1 a\n<CLM>\1\t10. Kit de preparation d'une solution precurseur pour l'obtention d'un revetement etanche et/ou omniphobe selon le procede de l'une quelconque des revendications 1 a 8, comprenant : 15 - dans un premier compartiment, une solution A comprenant le mélange d'au moins : un monomere vinylique fluore, un formateur de reseau inorganique ou hybride, et un agent de couplage ; et - dans un second compartiment, une solution B comprenant le mélange d'au moins : un acide photo-genre et/ou un acide thermo-genre ; et au moins un photo- 20 amorceur et/ou un thermo-amorceur.