Brevet FR3074906A1 (20190614)

REVENDICATIONS1. Procédé de détermination automatique d'une valeur d'ajustement d'au moins un paramètre de fonctionnement d'une ligne de dépôt (3) permettant un dépôt d'un empilement de couches minces sur un substrat transparent (2), ce procédé comprenant : une étape d'obtention (E10) d'un modèle mathématique (MOD) reliant au moins un paramètre de fonctionnement de la ligne de dépôt avec au moins une fonction de qualité prédéterminée définie à partir d'au moins une mesure de qualité d'un empilement de couches minces déposé par la ligne de dépôt ; une étape d'obtention (E50) d'une valeur de ladite au moins une fonction de qualité à partir d'une valeur de ladite au moins une mesure de qualité mesurée en sortie de la ligne de dépôt sur un empilement de couches minces déposé par la ligne de dépôt sur un substrat transparent alors que la ligne de dépôt était paramétrée avec une valeur dite courante dudit au moins un paramètre de fonctionnement ; et une étape de détermination (E80) automatique au moyen du modèle mathématique obtenu d'une valeur d'ajustement de la valeur courante dudit au moins un paramètre de fonctionnement permettant de réduire un écart existant entre la valeur obtenue de ladite au moins une fonction de qualité et une valeur cible choisie pour ladite au moins une fonction de qualité pour l'empilement de couches minces.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon la revendication 1 dans lequel le modèle mathématique (MOD) relie au moins une variation dudit au moins un paramètre de fonctionnement avec au moins une variation de ladite fonction de qualité.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon la revendication 1 ou 2 dans lequel ladite ligne de dépôt (3) met en oeuvre une technique de pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique pour déposer l'empilement de couches minces sur le substrat transparent.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 dans lequel ladite au moins une mesure de qualité comprend au moins une mesure de spectre optique de l'empilement de couches minces.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon la revendication 4 dans lequel ladite au moins une mesure de qualité comprend en outre au moins une mesure parmi : - une mesure d'une propriété électrique de l'empilement de couches minces ; une mesure d'une propriété mécanique de l'empilement de couches minces ; une mesure d'une propriété chimique de l'empilement de couches minces ; et une mesure d'une propriété de masse de l'empilement de couches minces. 33\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconque des revendications 1 à 5 dans lequel ladite ligne de dépôt comprend une pluralité de compartiments dans lesquels sont déposées lesdites couches minces sur le substrat transparent et ledit au moins un paramètre de 5 fonctionnement comprend : au moins une puissance ou une tension appliquée à une cathode d'un dit compartiment de la ligne de dépôt ; et/ou au moins une vitesse de défilement du substrat en regard d'une cathode d'un dit compartiment de la ligne de dépôt ; et/ou 10 au moins une pression et/ou une quantité d'un gaz utilisé dans un dit compartiment de la ligne de dépôt ; et/ou au moins un champ magnétique ou une distribution de champ magnétique appliqué(e) dans un dit compartiment de la ligne de dépôt ; et/ou au moins un réglage d'un élément mécanique d'un dit compartiment de la ligne de dépôt. 15\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconque des revendications 1 à 6 dans lequel l'étape d'obtention du modèle mathématique comprend : l'obtention d'une valeur dite de référence dudit au moins un paramètre de fonctionnement correspondant au paramétrage de la ligne de dépôt lors d'un dépôt dit de référence d'un 20 empilement de couches minces sur un substrat ; l'obtention, pour une pluralité d'empilements de couches minces dits d'apprentissage déposés par la ligne de dépôt sur un substrat lorsque ladite ligne de dépôt est paramétrée avec des valeurs dudit au moins un paramètre de fonctionnement présentant des variations déterminées par rapport à ladite valeur de référence, d'une pluralité de valeurs de ladite au moins une 25 fonction de qualité ; une étape de détermination du modèle mathématique à partir de la pluralité de valeurs de ladite au moins une fonction de qualité obtenues pour la pluralité d'empilements de couches minces d'apprentissage. 30\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconques des revendications 1 à 7 dans lequel : - le modèle mathématique est un modèle polynomial fournissant des variations de la valeur de ladite au moins une fonction de qualité en fonction de variations de la valeur dudit au moins un paramètre de fonctionnement ; et 35 - l'étape de détermination comprend une étape d'inversion du modèle polynomial pour déterminer ladite valeur d'ajustement. 34\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon la revendication 8 dans lequel l'étape d'inversion du modèle polynomial comprend une régularisation de l'inversion.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon la revendication 7 dans lequel la ligne de dépôt 5 comprend N compartiments, N désignant un entier supérieur à 1, chaque compartiment étant associé respectivement à un paramètre de fonctionnement P(n), n=1,...,N, et le modèle mathématique est un modèle linéaire utilisant une matrice notée M comprenant N colonnes u(n), chaque colonne étant définie par : 1 u(n) = 2 x 5(n) var(n) où var(n) désigne la différence entre les valeurs de ladite au moins une fonction de qualité 10 obtenues pour deux empilements de couches minces d'apprentissage déposés par la ligne de dépôt alors que celle-ci était parannétrée avec une valeur du paramètre de fonctionnement P(n) présentant une variation + 8 (n) par rapport à la valeur de référence du paramètre de fonctionnement P(n) et avec une valeur du paramètre de fonctionnement P(n) présentant une variation - 8(n) par rapport à la valeur de référence du paramètre de fonctionnement P(n). 15\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon la revendication 10 dans lequel la valeur d'ajustement a dudit au moins un paramètre de fonctionnement est donnée par : a = (MTM)-1MTv où v désigne l'écart entre la valeur obtenue de la fonction de qualité et la valeur cible choisie pour ladite fonction de qualité pour l'empilement de couches minces et où MT désigne la matrice 20 transposée de la matrice M.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconque des revendications 1 à 6 dans lequel le modèle mathématique est un modèle polynomial fournissant des variations de la valeur dudit au moins un paramètre de fonctionnement en fonction de variations de la valeur de la 25 fonction de qualité.\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconque des revendications\n<CLM>\1\tà 8 ou 12 dans lequel ledit modèle mathématique est obtenu en utilisant un algorithme d'apprentissage statistique automatique. 30\n<CLM>\1\tProcédé de détermination selon l'une quelconque des revendications 1 à 13 comprenant en outre une étape de validation du modèle mathématique obtenu. 35\n<CLM>\1\tProgramme d'ordinateur (PROG) comportant des instructions pour l'exécution des étapes du procédé de détermination selon l'une quelconque des revendications 1 à 14 lorsque ledit programme est exécuté par un ordinateur. 5\n<CLM>\1\tSupport d'enregistrement lisible par un ordinateur sur lequel est enregistré un programme d'ordinateur selon la revendication\n<CLM>\1\t17. Procédé de paramétrage d'une ligne de dépôt (3) apte à déposer un empilement de couches minces sur un substrat transparent (2), ce procédé comprenant : 10 une première étape de paramétrage (E20) de la ligne de dépôt avec une valeur dite courante d'au moins un paramètre de fonctionnement de la ligne de dépôt ; une étape de dépôt (E30) par la ligne de dépôt paramétrée avec ladite valeur courante d'un empilement de couches minces sur un substrat ; une étape de détermination automatique d'une valeur d'ajustement de la valeur courante dudit 15 au moins un paramètre de fonctionnement mettant en oeuvre un procédé de détermination automatique selon l'une quelconque des revendications 1 à 14 et utilisant une valeur de ladite au moins une mesure de qualité mesurée en sortie de la ligne de dépôt sur l'empilement de couches minces déposé lors de l'étape de dépôt ; une étape d'estimation (E80) d'une valeur ajustée dudit au moins un paramètre de 20 fonctionnement à partir de la valeur courante et de la valeur d'ajustement déterminée ; et une deuxième étape de paramétrage (E90) de la ligne de dépôt avec la valeur ajustée dudit au moins un paramètre de fonctionnement estimée lors de l'étape d'estimation.\n<CLM>\1\tProcédé de paramétrage selon la revendication 17 dans lequel les étapes de dépôt, 25 de détermination, d'ajustement et la deuxième étape de paramétrage sont mises en oeuvre tant que : - la différence entre la valeur de la fonction de qualité estimée à partir de ladite valeur mesurée en sortie de la ligne de dépôt et la valeur cible choisie pour ladite fonction de qualité est supérieure à un seuil prédéterminé, ou 30 que la valeur d'ajustement déterminée pour ledit au moins un paramètre de fonctionnement est inférieure à un seuil prédéterminé.\n<CLM>\1\tDispositif de détermination automatique (16) d'une valeur d'ajustement d'au moins un paramètre de fonctionnement d'une ligne de dépôt permettant un dépôt d'un empilement de 35 couches minces sur un substrat transparent, ce dispositif comprenant : - un premier module d'obtention (16A), configuré pour obtenir un modèle mathématique reliant au moins un paramètre de fonctionnement de la ligne de dépôt avec au moins une fonction de 36 qualité prédéterminée définie à partir d'au moins une mesure de qualité d'un empilement de couches minces déposé par la ligne de dépôt ; un deuxième module d'obtention (16B), configuré pour obtenir une valeur de ladite au moins une fonction de qualité à partir d'une valeur de ladite au moins une mesure de qualité mesurée 5 en sortie de la ligne de dépôt sur un empilement de couches minces déposé sur un substrat transparent, ladite ligne de dépôt ayant été configurée au moyen d'une valeur dite courante dudit au moins un paramètre de fonctionnement ; et - un module de détermination (16C), configuré pour déterminer automatiquement au moyen du modèle mathématique obtenu une valeur d'ajustement de la valeur courante dudit au moins 10 un paramètre de fonctionnement permettant de réduire un écart existant entre la valeur obtenue de ladite au moins une fonction de qualité et une valeur cible choisie pour ladite au moins une fonction de qualité pour l'empilement de couches minces.\n<CLM>\1\tSystème de dépôt (1) d'un empilement de couches minces sur un substrat 15 transparent (2) comprenant : - une ligne de dépôt (3), apte à déposer un empilement de couches minces sur un substrat transparent ; - un module de paramétrage (14) de la ligne de dépôt, configuré pour paramétrer la ligne de dépôt avec une valeur dite courante d'au moins un paramètre de fonctionnement de la ligne 20 de dépôt ; un dispositif de détermination automatique (16) selon la revendication 19 d'une valeur d'ajustement de la valeur courante dudit au moins un paramètre de fonctionnement configuré pour utiliser une valeur d'au moins une mesure de qualité mesurée en sortie de la ligne de dépôt sur un empilement de couches minces déposé sur un substrat transparent par la ligne 25 de dépôt ; un module d'estimation (22), configuré pour estimer une valeur ajustée dudit au moins un paramètre de fonctionnement à partir de la valeur courante et de la valeur d'ajustement déterminée par le dispositif de détermination ; le module de paramétrage (14) étant configuré pour paramétrer la ligne de dépôt avec la valeur 30 ajustée dudit au moins un paramètre de fonctionnement estimée par le module d'estimation.