Brevet FR3077646A1 (20190809)

REVENDICATIONS1. Système de caractérisation (1) d'un faisceau (F) de particules chargées, le système comprenant un empilement, ledit empilement comprenant : - un motif (20) ultramince formé d'un matériau électriquement conducteur ; - un substrat (10) mince portant le ledit motif ; l'empilement formant une électrode émettrice (2), ladite électrode émettrice étant apte à émettre des électrons secondaires (es7) à proximité d'une surface (22) dudit motif lorsque ladite électrode émettrice est traversée par le faisceau de particules chargées.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon la revendication 1, dans lequel l'empilement comprend en outre au moins une couche d'accroche (28) interposée entre le motif (20) et le substrat (10) de manière à faciliter l'adhésion dudit motif sur le substrat.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le substrat (10) est formé d'un matériau thermostable tel qu'un polymère et/ou une céramique.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon la revendication 1, dans lequel le substrat (10) est formé d'un polyimide tel que le Kapton ®, le CP1C)) et/ou d'une polyetherethercétone ou de PET (Polytéréphtalate d'éthylène).\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'épaisseur du motif (20) est comprise entre 10 nm et 100 nm.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel ledit substrat (10) est isolant électriquement et ledit motif (20) est formé d'une pluralité de segments conducteurs (24) isolés électriquement les uns des autres.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon la revendication 6, dans lequel lesdits segments (24) sont faits d'un matériau inoxydable, préférentiellement d'or.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon les revendications 6 à 7, dans lequel lesdits segments (24) sont situés côte à côte dans un plan destiné à s'étendre sensiblement perpendiculairement à la direction de propagation du faisceau. 31\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon la revendication 8, dans lequel lesdits segments (24) sont orientés dans une même direction, de même largeur et équidistants, de manière à échantillonner le faisceau (F) selon un axe donné.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon les revendications 8, dans lequel lesdits 5 segments (24) sont découpés en secteurs angulaires, de manière à mesurer le non-centrage et/ou la distribution angulaire du faisceau (F).\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon les revendications 8, dans lequel lesdits segments (24) sont découpés en secteurs concentriques, de manière à mesurer le non-centrage et/ou et la distribution radiale du faisceau (F). 10\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon les revendications 8, dans lequel lesdits segments (24) sont découpés en secteurs angulaires et concentriques de manière à réaliser une imagerie du faisceau (F).\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, comprenant en outre une électrode collectrice (3), ladite électrode 15 collectrice étant soumise à un potentiel positif, ledit potentiel étant supérieur au potentiel de l'électrode émettrice (2), de manière à collecter les électrons secondaires (e;) émis par ladite électrode émettrice.\n<CLM>\1\tSystème de caractérisation (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant un moyen de mesure (4), ledit moyen permettant de 20 mesurer la quantité d'électrons secondaires (es7) émis depuis la surface de l'électrode émettrice (2).\n<CLM>\1\tMachine de production d'un faisceau de particules chargées comprenant un système (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 14, ledit système étant fixe et à demeure. 25\n<CLM>\1\tUtilisation d'un système de caractérisation (1) tel que décrit dans les revendications 1 à 14 pour caractériser un faisceau de particules chargées d'un équipement de traitement des tumeurs cancéreuses.