Brevet FR3072038A1 (20190412)

REVENDICATIONS1. Procédé d'assemblage de particules sur une surface microstructurée d'un échantillon, ledit procédé comprenant : -une étape de recouvrement de la surface de l'échantillon par une suspension colloïdale, l'étape de recouvrement étant réalisée à un intervalle 5 de température dit de recouvrement, puis -une étape de sédimentation de particules contenues dans la suspension colloïdale de sorte que des particules sédimentent en direction de la surface de l'échantillon, l'étape de sédimentation étant réalisée à un intervalle de température dit de sédimentation; 10 le procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend une étape de condensation mise en oeuvre : - subséquemment à l'étape de recouvrement, et - précédemment et/ou concomitamment à l'étape de sédimentation, l'étape de condensation étant réalisée à un intervalle de température dit de 15 condensation, une borne supérieure de l'intervalle de température de condensation étant inférieure à une borne inférieure de l'intervalle de température de recouvrement.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, dans lequel l'étape de condensation est 20 mise en oeuvre précédemment à l'étape de sédimentation et dans lequel une borne inférieure de l'intervalle de température de sédimentation est supérieure à une borne supérieure de l'intervalle de température de condensation. 25\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1 ou 2, comprenant une étape de piégeage de particules dans les microstructures de l'échantillon, l'étape de piégeage étant réalisée : -concomitamment ou subséquemment à l'étape de sédimentation, et -à un intervalle de température dit de piégeage. 30\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 3, dans lequel une borne inférieure de l'intervalle de température de piégeage étant supérieure à une borne supérieure de l'intervalle de température de recouvrement. - 26 -\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 3 ou 4, dans lequel l'étape de piégeage est réalisée subséquemment à l'étape de sédimentation et dans lequel une 5 borne inférieure de l'intervalle de température de piégeage est supérieure à une borne supérieure de l'intervalle de température de sédimentation.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant une étape de retrait de la suspension colloïdale de la surface 10 microstructurée de l'échantillon, selon un mouvement principalement tangentiel relativement à ladite surface microstructurée, de sorte à retirer un excédent de particules présentes à la surface de l'échantillon, l'étape de retrait étant mise en oeuvre subséquemment à l'étape de sédimentation et/ou à l'étape de piégeage. 15\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'étape de recouvrement est réalisée à partir d'une suspension dont une phase dispersante comprend : -au moins en partie de l'eau. 20\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 7, dans lequel l'étape de recouvrement est réalisée à partir d'une suspension dont la phase dispersante comprend un mélange de solvants. 25\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'étape de sédimentation est réalisée à partir d'une suspension colloïdale en régime de sédimentation, les effets de la gravitation sur au moins une partie des particules contenues dans la suspension colloïdale étant supérieurs aux effets de l'agitation thermiques sur ladite au moins une 30 partie des particules contenues dans la suspension colloïdale.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel une distribution en taille des particules contenues dans la suspension colloïdale est telle qu'un diamètre de Féret maximal Dfm de chaque particule 35 contenue dans la suspension colloïdale est tel que : - 27 - 10-3 ( kell2 ) avec 1/7 Dfm fin > 2 ' irpA2,0g2 , kB : la constante de Boltzmann, T : une température des particules contenues dans la suspension correspondant à la borne inférieure de l'intervalle de température de 5 sédimentation, p : viscosité dynamique de la phase dispersante à la température T, Op : différence entre une masse volumique des particules contenues dans la suspension colloïdale et une masse volumique de la phase dispersante, p : masse volumique de la phase dispersée à la température T, g : la constante de pesanteur.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel, une distribution en taille des particules contenues dans la suspension colloïdale peut être telle que : -un diamètre de Féret maximal Dfm de chaque particule contenue dans la suspension colloïdale est supérieur à 100 nm, de préférence à 150 nm, et/ou -un diamètre de Féret maximal Dfm de chaque particule contenue dans la suspension colloïdale est inférieur à 100 pm, de préférence supérieur à 50 20 pm..\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel au moins une partie des étapes sont mises en oeuvre dans un dispositif micro-fluidique comprenant, entre autre, une chambre agencée 25 pour recevoir la suspension colloïdale et dont une des parois comprend au moins en partie la surface microstructurée de l'échantillon.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'étape de recouvrement de la surface de l'échantillon microstructuré 30 par la suspension colloïdale est réalisée par introduction de la suspension colloïdale dans la chambre et par écoulement, par effet de capillarité, de la suspension colloïdale dans la chambre.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans 35 lequel, lors de l'étape de retrait de la suspension colloïdale, un angle de - 28 - contact de recul formé entre la suspension colloïdale et la surface microstructurée de l'échantillon est compris entre et 10° et 80°, de préférence entre 20 et 70°, de préférence encore entre 30 et 50°. 5\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'intervalle de température de recouvrement est compris entre 0 et 50°C.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans 10 lequel la borne inférieure de l'intervalle de température de condensation est inférieure à 20°C, de préférence inférieure à 15°C, de préférence encore inférieure à 10°C.\n<CLM>\1\tProcédé selon la précédente, dans lequel l'intervalle de température de 15 sédimentation est compris entre 0 et 50°C.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 3 à 17, dans lequel la borne inférieure de l'intervalle de température de piégeage est supérieure à 25°C, de préférence supérieure à 30°C, de préférence encore supérieure à 20 40°C.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 18, dans lequel une vitesse linéaire de retrait de la suspension colloïdale est comprise entre 0,05 et 50 cm/min. 25