Brevet FR3073429A1 (20190517)

REVENDICATIONS1. Procédé de réduction photocatalytique du dioxyde de carbone effectué en phase liquide et/ou en phase gazeuse sous irradiation mettant en oeuvre un photocatalyseur comprenant un support à base d'alumine ou de silice ou de silice- alumine et des nanoparticules de sulfure de molybdène ou de sulfure de tungstène présentant une bande interdite supérieure à 2,3 eV, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : a) on met en contact une charge contenant le dioxyde de carbone et au moins un composé sacrificiel avec ledit photocatalyseur, b) on irradie le photocatalyseur par au moins une source d'irradiation produisant au moins une longueur d'onde inférieure à la largeur de bande interdite dudit photocatalyseur de manière à réduire le dioxyde de carbone et oxyder le composé sacrificiel en présence dudit photocatalyseur activé par ladite source d'irradiation, de manière à produire un effluent contenant au moins en partie des molécules carbonées en Cl ou plus, différentes du CO2.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, dans lequel, lorsqu'il est effectué en phase gazeuse, le composé sacrificiel est un composé gazeux choisi parmi l'eau, l'ammoniac, l'hydrogène, le méthane et un alcool.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, dans lequel, lorsqu'il est effectué en phase liquide, le composé sacrificiel est un composé liquide choisi parmi l'eau, l'ammoniaque, un alcool, un aldéhyde et une amine.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 3, dans lequel un fluide diluant est présent dans les étapes a) et/ou b).\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 4, dans lequel la source d'irradiation est une source d'irradiation artificielle ou naturelle.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 5, dans lequel la source d'irradiation émet à au moins dans une gamme de longueurs d'ondes supérieure à 280 nm.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 6, dans lequel le support poreux n'absorbe pas de photons d'énergie supérieure à 4 eV. 20\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 7, dans lequel la teneur en sulfure de molybdène ou en sulfure de tungstène du photocatalyseur est comprise entre 4 et 50% poids par rapport au poids total du photocatalyseur.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 8, dans lequel la densité surfacique 5 qui correspond à la quantité d'atomes de molybdène Mo ou d'atomes de tungstène W, déposés par unité surfacique de support, est comprise entre 0,5 et 12 atomes de Mo ou de W par nanomètres carré de support.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 9, dans lequel le photocatalyseur est préparé selon un procédé comprenant les étapes successives suivantes : 10 i) une étape d'imprégnation par mise en contact d'une solution comprenant un solvant organique A et au moins un précurseur mononucléaire à base de Mo ou de W, noté M, sous leur forme monomérique ou dimérique, présentant au moins une liaison M=0 ou M-OR ou au moins une liaison M=S ou M-SR où R = CHy où x 1 et (x-1) y (2x+1), avec un support à base d'alumine ou de 15 silice ou de silice-alumine, avantageusement préalablement calciné sous vide ou sous flux de gaz inerte pour évacuer l'eau éventuellement physisorbée sur ledit support, ii) une étape de maturation, iii) une étape de séchage du support imprégné, à une température inférieure à 20 200°C, sous atmosphère anhydre ou sous vide ou sousf lux de gaz inerte, iv) une étape de sulfuration.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10, dans lequel le précurseur de molybdène est choisi parmi les composés suivants : Mo(OEt)5, Mo(OEt)6, Mo(=0)(0Et)4, Mo(=S)(0Et)4, Mo(=S)(SEt)4, Mo(=0)2(0Et)2, Mo(0061-15)6, Mo(SEt)5, Mo(SEt)6, 25 Mo(OEt)(SEt)4, Mo(OEt)2(SEt)3, Mo(OEt)3(SEt)2, Mo(OEt)4(SEt), Mo(=0)(0Et)3(acac) avec Et = CH2CH3 (groupement éthyle) et acac = (CH3COCHCOCH3)- (acétylacétonate) sous leur forme monomérique ou dimérique.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10, dans lequel le précurseur de tungstène est choisi parmi les composés suivants : W(OEt)5, W(OEt)6, W(=0)(0Et)4, W(=S)(0Et)4, W(=S)(SEt)4, W(=0)2(0Et)2, W(006H5)6, W(SEt)5, W(SEt)6, W(OEt)4(SEt), W(OEt)3(SEt)2, W(OEt)2(SEt)3, W(OEt)(SEt)4, W(=0)(0Et)3(acac) 21 avec Et = CH2CH3 (groupement éthyle) et acac = (CH3COCHCOCH3)- (acétylacétonate), sous leur forme monomérique ou dimérique.