Brevet FR3051699A1 (20171201)
REVENDICATIONS1. Dispositif pour préparer une poudre fonctionnalisée par atomisation d'un matériau M1 (5) et par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) d'un matériau M2, le dispositif comprenant un creuset (11) et une cuve d'atomisation (10), le creuset (11) étant destiné à fondre le matériau M1 et comprenant : - un dispositif de chauffage (4), - une buse d'injection (6) alimentant la cuve d'atomisation (10) en matériau Ml, - optionnellement, une entrée (3) de gaz inerte G2, la cuve d'atomisation (10) de hauteur HcL, ayant une zone de solidification de hauteur HSOL et une zone de CVD de hauteur ElcvD, et comprenant : - une entrée (1) de gaz inerte G1 au niveau de la buse d'injection (6), - une entrée de gaz G3 précurseur du matériau M2, - une évacuation (8) de gaz, - une évacuation (17) de poudre fonctionnalisée.\n<CLM>\1\tDispositif pour préparer une poudre fonctionnalisée par atomisation selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'entrée du gaz G3 est située au niveau de la buse d'injection (6).\n<CLM>\1\tDispositif pour préparer une poudre fonctionnalisée par atomisation selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que l'entrée du gaz G3 est située dans la zone de solidification.\n<CLM>\1\tDispositif selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'entrée du gaz G3 est dans la zone de CVD.\n<CLM>\1\tDispositif pour préparer une poudre fonctionnalisée par atomisation selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une pompe en amont de l'entrée du gaz G3.\n<CLM>\1\tDispositif pour préparer une poudre fonctionnalisée par atomisation selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une pompe et un moyen de chauffage en amont de l'entrée du gaz G3. 3051699 14\n<CLM>\1\tDispositif pour préparer une poudre fonctionnalisée par atomisation selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une canalisation d'alimentation, en gaz G3, en contact avec le creuset (11). 5\n<CLM>\1\tProcédé de préparation d'une poudre fonctionnalisée par atomisation d'un matériau M1 et par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) d'un matériau M2, dans le dispositif selon l'une des revendications 1 à 7, selon les étapes suivantes : - introduction d'un matériau M1 dans le creuset (11), - fusion du matériau Ml, 10 - optionnellement, alimentation du creuset (11) en gaz inerte G2, - alimentation de la cuve d'atomisation en gaz inerte G1 et en gaz G3, le gaz G3 étant un précurseur d'un matériau M2, - alimentation de la cuve d'atomisation en matériau M1 liquide, au moyen de la buse d'injection (6), 15 - atomisation du matériau M1 au contact du gaz G1 - dépôt par CVD d'une couche de matériau M2 sur le matériau M1 atomisé, - formation des gouttelettes de matériau M1 recouvertes du matériau M2, - récupération d'une poudre du matériau M1 fonctionnalisée avec le matériau M2. 20\n<CLM>\1\tProcédé de préparation d'une poudre fonctionnalisée selon la revendication 8, caractérisé en ce que le matériau M1 est un métal ou un alliage métallique.\n<CLM>\1\tProcédé de préparation d'une poudre fonctionnalisée selon l'une des 25 revendications 8 et 9, caractérisé en ce le matériau M2 est le silicium ou un métal de transition.