Brevet FR3037837A1 (20161230)
REVENDICATIONS1. Procédé de formation d'une couche de polissage d'un tampon de polissage mécano-chimique, comprenant : la fourniture d'un moule ayant une base, où la base a un motif de rainure en négatif formé dans celle-ci ; la fourniture d'un composant liquide de côté poly (P), comprenant au moins l'un parmi un polyol de côté (P), une polyamine de côté (P) et une alcool amine de côté (P) ; la fourniture d'un composant liquide de côté iso (I), comprenant au moins un isocyanate polyfonctionnel ; la fourniture d'un gaz pressurisé ; la fourniture d'un dispositif de mélange axial ayant une chambre cylindrique interne ; où la chambre cylindrique interne a une extrémité fermée, une extrémité ouverte, un axe de symétrie, au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, et au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne ; où l'extrémité fermée et l'extrémité ouverte sont perpendiculaires à l'axe de symétrie ; où le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) et le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) sont disposés suivant une circonférence de la chambre cylindrique interne à proximité de l'extrémité fermée ; où le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel est disposé suivant une circonférence de la chambre cylindrique interne en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) de l'extrémité fermée ; où le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice 3037837 d'alimentation en liquide de côté (P) à une pression de charge de côté (P) de 6895 à 27 600 kPa ; où le composant liquide de côté iso (I) est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice 5 d'alimentation en liquide de côté (I) à une pression de charge de côté (I) de 6895 à 27 600 kPa ; où un débit massique combiné du composant liquide de côté poly (P) et du composant liquide de côté iso (I) dans la chambre cylindrique interne est de 1 à 500 g/s ; 10 où le composant liquide de côté poly (P), le composant liquide de côté iso (I) et le gaz pressurisé sont mélangés dans la chambre cylindrique interne pour former une combinaison ; où le gaz pressurisé est introduit dans la chambre 15 cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel avec une pression d'alimentation de 150 à 1500 kPa ; où une vitesse d'entrée dans la chambre cylindrique interne de gaz pressurisé est de 50 à 600 m/s calculée sur la 20 base de conditions de gaz parfait à 20 °C et à une pression de 1 atm ; l'évacuation de la combinaison depuis l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne en direction de la base à une vitesse de 5 à 1000 m/s ; 25 la solidification de la combinaison en un gâteau ; la séparation du gâteau du moule ; et l'obtention de la couche de polissage de tampon de polissage mécano-chimique, où la couche de polissage d'un tampon de polissage mécano-chimique a une surface de polissage 30 avec le motif de rainure formé dans la surface de polissage et où la surface de polissage est adaptée pour le polissage d'un substrat.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où le composant 35 liquide de côté poly (P) comprend 25 à 95 % en poids d'un polyol de côté (P) ; où le polyol de côté (P) est un polyéther polyol de haut poids moléculaire ; où le polyéther polyol de 3037837 41 haut poids moléculaire a un poids moléculaire moyen en nombre, MN, de 2500 à 100 000 et une moyenne de 4 à 8 groupes hydroxyle par molécule. 5\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où le composant liquide de côté iso (I) comprend un isocyanate polyfonctionnel ayant une moyenne de deux groupes isocyanate réactifs par molécule. 10\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où le gaz pressurisé est choisi dans le groupe constitué de CO2, N2, air et argon.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 4, où le gaz 15 pressurisé a une teneur en eau de 10 ppm.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où la chambre cylindrique interne a une section transversale circulaire dans un plan perpendiculaire à l'axe de symétrie de la chambre 20 cylindrique interne.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 6, où l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne a une ouverture circulaire perpendiculaire à l'axe de symétrie de la chambre 25 cylindrique interne où l'ouverture circulaire est concentrique avec la section transversale circulaire.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 7, où l'ouverture circulaire a un diamètre interne de 2,5 à 6 mm. 30\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 7, où l'ouverture circulaire a un diamètre interne de 3 mm.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où la surface de 35 polissage est adaptée pour polir une galette semi-conductrice.