Brevet FR3041118A1 (20170317)
REVENDICATIONS1. Moule (100) de lithographie pour impression nanométrique, comprenant une face avant (111) présentant au moins un motif (120) destiné à être transféré par pressage dans une couche (150) imprimable, caractérisé en ce qu'il comprend : au moins une membrane flexible (110) en matériau inorganique formant ladite face avant (111) et portant l'au moins un motif (120), la membrane (110) présentant également une face arrière (112) opposée à ladite face avant (111); un cadre (130) solidaire d'une périphérie de la membrane (110) et configuré pour former avec ladite face arrière (112) au moins une cavité (115); le moule (100) étant configuré de manière à ce qu'une mise sous pression (140) de l'au moins une cavité (115) provoque une déformation de la membrane (110) générant un déplacement de l'au moins un motif (120) dans un sens d'impression éloignant l'au moins un motif (120) du cadre (130).\n<CLM>\1\tMoule (100) selon la revendication précédente configuré de manière à ce qu'un relâchement de la pression (140) dans l'au moins une cavité (115) ou une mise en dépression (170) de l'au moins une cavité (115) provoque une déformation de la membrane (110) générant un déplacement du motif (120) dans un sens de démoulage les rapprochant du cadre (130).\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la solidarisation entre le cadre (130) et la périphérie de la membrane flexible (110) forme un pourtour fermé et continu.\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la membrane (110) et le cadre (130) sont formés dans deux couches superposées en contact direct ou indirect. 3041118 34\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes comprenant au moins une butée de positionnement (104) du moule (100) par rapport à la couche (150) imprimable, l'au moins une butée de positionnement 5 (104) s'étendant au-delà de la face avant (111) de la membrane (110) flexible, hors d'une zone comprenant l'au moins un motif (120) et sur une hauteur supérieure à la hauteur de l'au moins un motifs (120), les hauteurs étant mesurées dans une direction perpendiculaire à un plan dans lequel s'étend principalement le cadre (130). 10\n<CLM>\1\tMoule (100) selon la revendication précédente, dans lequel l'au moins une butée de positionnement (104) s'étend au-delà de la face avant (111) de la membrane (110) flexible et est située au droit du cadre (130) par rapport à un plan dans lequel s'étend principalement le cadre (130). 15\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des deux revendications précédentes comprenant une pluralité de butées de positionnement (104).\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes 20 dans lequel le cadre (130) est conformée pour délimiter une pluralité de cavités (115).\n<CLM>\1\tMoule (100) selon la revendication précédente comprenant pour chacune des cavités (115) au moins une butée de positionnement (104) du moule (100) 25 par rapport à la couche (150) imprimable, l'au moins une butée de positionnement (104) s'étendant au-delà de la face avant (111) de la membrane (110) flexible et hors de zones comprenant l'au moins un motif.\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des deux revendications 30 précédentes dans lequel la membrane (110) flexible de chaque cavité (115) porte l'ensemble des motifs (120) destinés à l'impression d'une unique puce. 3041118\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel la membrane (110) est, en l'absence de pression dans la cavité, contrainte en tension par le cadre (130) depuis sa périphérie de manière à ce que le fléchissement de la membrane (110) sous son propre poids reste 5 inférieur ou égal à 5 nanomètres en appliquant une contrainte périphérique des membranes (110) allant jusqu'à 100 megaPa et pour des dimensions de membranes (110) en silicium allant jusqu'à 30 mm de côté pour3pm d'épaisseur. 10\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le cadre (130) comprend une face avant au regard de la face arrière (112) de l'au moins une membrane (110) et une face arrière opposée à sa face avant et dans lequel le moule (100) comprend un support (810) solidaire de sa face arrière et configuré pour fermer la au moins une 15 cavité(115).\n<CLM>\1\tMoule (100) selon la revendication précédente, dans lequel le support (810) est rigide et dans lequel le support (810) est au moins en partie et de préférence entièrement transparent (810). 20\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le cadre (130) forme une grille conformée pour délimiter une pluralité de cavités (115) et dans lequel le support (810) présente pour chaque cavité (115) au moins une ouverture (820) conformée pour sélectivement 25 autoriser une injection dans ou un retrait hors de la cavité (115) un gaz afin de réguler la pression dans la cavité (115).\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le cadre (130) forme une grille conformée pour délimiter une 30 pluralité de cavités (115), dans lequel le cadre (130) comporte des canaux de communication (910) inter cavités (115) conformés pour mettre à la même pression au moins un ensemble de cavités (115) prises parmi ladite pluralité de cavités (115) et dans lequel le support (810) comporte moins une ouverture 3041118 36 (820) conformée pour sélectivement injecter dans ou retirer d'au moins une cavité (115) dudit ensemble de cavités (115) un gaz afin de réguler la pression dans la cavité. 5\n<CLM>\1\tMoule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel la membrane (110) est formée à base de ou par l'un des matériaux suivants : silicium monocristallin, en silicium poly cristallin, en silicium amorphe, nitrure de silicium (Si3N4), silice (SiO2). 10\n<CLM>\1\tSystème comprenant un moule (100) selon l'une quelconque des revendications précédentes et un dispositif d'injection d'un gaz dans ladite cavité (115).\n<CLM>\1\tProcédé de lithographie pour impression nanométrique utilisant un moule 15 (100) selon l'une quelconque des revendications 1 à 16 ou un système selon la revendication précédente, le procédé comprenant les étapes suivantes: positionner le moule (100) au droit de la couche (150) imprimable ; mettre sous pression ladite au moins une cavité (115) pour provoquer une déformation de la membrane (110) (110) flexible de manière à générer un 20 déplacement de l'au moins un motif (120) en direction de la couche (150) imprimable et la pénétration de l'au moins un motif (120) dans la couche (150) imprimable jusqu'à une profondeur prédéterminée ; mettre en dépression ladite cavité (115) ou baisser la pression dans ladite cavité (115) permettre un retour élastiquede la membrane (110) flexible de 25 manière à générer un retrait complet de au moins un motif (120) hors de la couche (150) imprimable.\n<CLM>\1\tProcédé de lithographie selon la revendication précédente comprenant, avant le déplacement de l'au moins un motif (120) en direction de la couche 30 (150) imprimable, une étape de mise en position du moule (100) par rapport à la couche (150) imprimable ou à un substrat solidaire de la couche (150) 3041118 37 imprimable, l'étape de mise en position comprenant une étape d'alignement du moule (100) sur des marques ou des motifs d'alignement préalablement réalisées à la surface de la couche (150) imprimable ou du substrat solidaire de la couche (150) imprimable. 5\n<CLM>\1\tProcédé de lithographie selon l'une quelconque des deux revendications précédentes, dans lequel dans lequel la membrane (110) est transparente et dans lequel les marques ou les motifs d'alignement sont situées au regard de la membrane (110) transparente au moins lorsque l'étape de positionnement est 10 achevée.\n<CLM>\1\tProcédé de lithographie selon l'une quelconque des trois revendications précédentes, dans lequel dans lequel le moule (100) comprend au moins une butée de positionnement (104) dont la hauteur est supérieure à celle de l'au 15 moins un motif (120) et dans lequel le procédé comprend, avant le déplacement de l'au moins un motif (120) en direction de la couche (150) imprimable, une étape de mise en position du moule (100) par rapport à la couche (150) imprimable ou à un substrat solidaire de la couche (150) imprimable, l'étape de mise en position comprenant une étape de rapprochement relatif du moule 20 (100) et de la couche (150) imprimable jusqu'à ce que l'au moins une butée de positionnement (104) entre au contact de la couche (150) imprimable ou du substrat solidaire de la couche (150) imprimable.\n<CLM>\1\tProcédé de lithographie selon l'une quelconque des quatre 25 revendications précédentes, dans lequel au moins une cavité (115) présente une ouverture (820) ou un canal de communication (910) permettant une communication fluidique directe ou indirecte entre la cavité (115) et une source de pression/dépression, dans lequel la mise sous pression de la cavité (115) comprend l'injection d'un gaz dans la cavité (115) et dans lequel la mise en 30 dépression ladite cavité (115) comprend le retrait du gaz hors de la cavité.\n<CLM>\1\tProcédé de lithographie selon l'une quelconque des cinq revendications précédentes, dans lequel comprenant, après pénétration de l'au moins un motif 3041118 38 (120) dans la couche (150) imprimable et avant retrait de l'au moins un motif (120) hors de la couche (150) imprimable, une étape de durcissement de la couche (150) imprimable. 5