Brevet FR3051975A1 (20171201)
REVENDICATIONS1. Elément de blindage électromagnétique transparent optiquement (1) et à plusieurs zones (Z1, Z2), comprenant : - un substrat (2) rigide ayant deux faces (S1, S2) opposées, au moins partiellement transparent entre lesdites deux faces pour au moins un rayonnement électromagnétique qui possède une fréquence f comprise entre 0,1 GHz et 40 GHz ; et - au moins une structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11), qui est disposée sur une des faces (S1, S2) du substrat (2) au moins à l'intérieur de plusieurs zones (Z1, Z2) séparées de l'élément de blindage (1), et qui est au moins partiellement transparente dans chacune desdites zones pour un rayonnement optique qui possède une longueur d'onde comprise entre 0,2 pm et 15 pm ; le substrat (2) étant aussi au moins partiellement transparent entre les deux faces (S1, S2) pour chaque rayonnement optique, et le substrat étant continu de matière entre toutes les zones (Z1, Z2) de l'élément (1) de blindage, la structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11) ayant au moins un chemin continu de conduction électrique (13) qui relie des parties de ladite structure bidimensionnelle contenues chacune dans une des zones (Z1, Z2) de l'élément de blindage (1), pour toutes lesdites zones, caractérisé en ce que l'élément de blindage (1) possède dans une première des zones (Z1), un premier ensemble de valeurs formé par au moins une valeur de transmission optique et une valeur d'efficacité de blindage, qui est différent d'un second ensemble de valeurs, pour ladite transmission optique et ladite efficacité de blindage, effectif dans une seconde (Z2) des zones, les valeurs de transmission optique étant relatives à une même longueur d'onde de rayonnement optique, et les valeurs d'efficacité de blindage étant relatives à une même fréquence de rayonnement électromagnétique, pour lesdites première et seconde zones. 3051975 - 20 - la transmission optique étant relative au rayonnement optique qui est destiné à traverser ledit élément de blindage (1) dans chaque zone (Z1, Z2) entre les deux faces (S1, S2) ; et l'efficacité de blindage, notée EB(f) et exprimée en décibels, étant définie par 5 EB(f) = -10.1ogio(T(f)), où T(f) est un coefficient de transmission énergétique de l'élément de blindage pour le rayonnement électromagnétique qui possède la fréquence f comprise entre 0,1 GHz et 40 GHz, et qui traverse ledit élément de blindage (1) entre les deux faces (S1, S2) dans chaque zone (Z1, Z2).\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon la revendication 1, dans lequel le 10 substrat (2) porte une première structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11) sur une première des faces (S1) dans au moins deux zones (Z1, Z2) séparées de l'élément de blindage, et l'autre face (S2) du substrat porte une seconde structure bidimensionnelle conductrice électriquement (12) dans au moins une des deux zones, dite zone à double 15 structure bidimensionnelle.\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon la revendication 2, dans lequel le substrat (2) est au moins partiellement transparent pour au moins deux rayonnements électromagnétiques qui possèdent des fréquences respectives différentes comprises entre 0,1 GHz et 40 GHz, 20 et dans lequel l'épaisseur du substrat (2) dans la zone à double structure bidimensionnelle, est telle que la valeur de l'efficacité de blindage électromagnétique qui est relative à celui des deux rayonnements électromagnétiques ayant la fréquence la plus élevée, est supérieure d'au moins 5 dB, de préférence d'au moins 10 dB, à la valeur de l'efficacité de 25 blindage électromagnétique qui est relative à l'autre des deux rayonnements électromagnétiques, ayant la fréquence la plus faible, lorsque les deux rayonnements électromagnétiques traversent l'élément de blindage (1) entre les deux faces (S1, S2) dans la zone à double structure bidimensionnelle.\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon la revendication 2 ou 3, dans lequel ladite autre face du substrat (S2) porte la seconde structure bidimensionnelle conductrice électriquement (12) aussi dans les deux zones (Z1, Z2) séparées 3051975 -21 - de l'élément de blindage, et l'élément de blindage possède des valeurs différentes d'une épaisseur du substrat (2) mesurée entre les deux faces (S1, S2), dans l'une et l'autre des deux zones séparées de l'élément de blindage.\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon l'une quelconque des revendications 5 1 à 4, dans lequel ladite au moins une structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11) comprend une couche d'un métal, de préférence d'argent, ou d'un oxyde transparent conducteur, de préférence d'oxyde d'indium dopé à l'étain, ladite couche pouvant avoir une épaisseur qui varie entre deux zones (Z1, Z2) distinctes de l'élément de blindage. 10\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel ladite au moins une structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11) comprend une grille de matériau conducteur formée sur la face (S1) du substrat (2).\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon la revendication 6, dans lequel ladite 15 grille possède au moins une valeur d'un paramètre sélectionné parmi un pas (p) de grille, une largeur (I) de fil dans la grille et une épaisseur (e) de matériau conducteur formant la grille, qui est différente entre deux des zones (Z1, Z2) de l'élément de blindage, le pas de grille et la largeur de fil étant mesurés parallèlement à la face (S1) du substrat (2), et l'épaisseur de métal étant 20 mesurée perpendiculairement à la face du substrat.\n<CLM>\1\tElément de blindage (1) selon la revendication 6 ou 7, avec l'une quelconque des revendications 2 à 4, dans lequel la première (11) et la seconde (12) structure bidimensionnelle conductrice électriquement comprennent chacune une grille de matériau conducteur, dans au moins une 25 même des deux zones (Z1, Z2) de l'élément de blindage, dite zone à double grille, les deux faces (S1, S2) du substrat (2) étant parallèles dans la zone à double grille, et l'une des deux grilles est en alignement avec une partie au moins de l'autre grille dans la zone à double grille, selon une direction (D) qui est perpendiculaire aux deux faces. 305 19 75 - 22 -\n<CLM>\1\tSystème de détection (100) comprenant au moins deux capteurs optiques (10,\n<CLM>\1\tet un élément de blindage (1) conforme à l'une quelconque des revendications 1 à 8, les capteurs étant fixés par rapport à l'élément de blindage de sorte qu'une première (Z1) des zones dudit élément de blindage 5 reste située entre une entrée (El ) de rayonnement optique dans un premier (10) des capteurs et un champ optique d'entrée dudit premier capteur, et une seconde (Z2) des zones dudit élément de blindage reste située entre une entrée (E2) de rayonnement optique dans un second des capteurs et un champ optique d'entrée dudit second capteur. 10\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'un élément de blindage (1) conforme à l'une quelconque des revendications 1 à 8, le procédé comprenant : - fournir le substrat (2), sous forme d'une pièce rigide qui est continue de matière entre toutes les zones (Z1, Z2) ; et - sur l'une au moins des faces (51) du substrat (2), déposer au moins un 15 matériau électriquement conducteur de façon à former une partie au moins de ladite au moins une structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11), dans certaines au moins des zones (Z1, Z2) de l'élément de blindage (1) en même temps qu'une partie au moins du chemin continu de conduction électrique (13). 20\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10, dans lequel l'élément de blindage (1) est conforme à la revendication 4, le procédé comprenant en outre les étapes suivantes : - usiner ou polir le substrat (2) dans l'une au moins des deux zones (Z1, Z2) de l'élément de blindage (1) ; et 25 - déposer au moins un matériau électriquement conducteur sur ladite autre face (S2) du substrat (2) de façon à former une partie au moins de ladite seconde structure bidimensionnelle conductrice électriquement (12) dans l'une au moins des deux zones (Z1, Z2) de l'élément de blindage (1). 305 19 75 - 23 -\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 11, suivant lequel lors du dépôt de matériau électriquement conducteur sur l'autre face (S2) du substrat (2), une partie au moins de ladite seconde structure bidimensionnelle conductrice électriquement (12) est formée dans l'une au moins des deux zones (Z1, Z2) 5 de l'élément de blindage (1) en même temps qu'une partie au moins d'un autre chemin continu de conduction électrique (14) qui relie, l'une à l'autre sur ladite autre face du substrat, des parties de ladite seconde structure bidimensionnelle conductrice électriquement contenues chacune dans une des deux zones de l'élément de blindage. 10\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 12, dans lequel l'élément de blindage (1) est conforme à la revendication 6, et suivant lequel un matériau conducteur formant une partie au moins de la grille est déposé sur le substrat (2), puis gravé sélectivement en utilisant un procédé de photolithogravure à résine positive. 15\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 12, dans lequel l'élément de blindage (1) est conforme à la revendication 6, et suivant lequel un motif complémentaire de la grille est produit sur le substrat (2) au moyen d'une résine négative, puis un matériau conducteur de la grille est déposé sur le substrat dans des parties dudit substrat qui sont dépourvues de 20 résine, et la résine du motif complémentaire est ensuite retirée.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 14, dans lequel l'élément de blindage (1) est conforme à la revendication 7, avec l'épaisseur de matériau conducteur de la grille qui est différente entre deux des zones (Z1, Z2) du substrat (2), et suivant lequel le dépôt de la structure 25 bidimensionnelle conductrice électriquement (11) comprend au moins les sous- étapes suivantes : - réaliser une partie initiale de la structure bidimensionnelle conductrice électriquement (11) simultanément dans les deux zones (Z1, Z2), ladite partie initiale ayant un motif de grille et étant elle-même conductrice 30 électriquement ; puis 3051975 -24- - au moins dans celle des zones où l'épaisseur du matériau conducteur de la grille est destinée à être la plus importante, effectuer un dépôt de matériau conducteur supplémentaire par électrolyse, sur la partie initiale de la structure bidimensionnelle conductrice électriquement. 5