Brevet FR3046682A1 (20170714)
REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'un moule primaire (320) pour la réalisation d'un écran rétroréfléchissant (400), ce procédé comprenant les étapes suivantes : a) former sur la face avant d'un premier substrat (501) 5 comportant une face avant et une face arrière, une couche (503) d'un matériau tel que le premier substrat (501) soit gravable sélectivement par rapport à ladite couche (503) ; et b) former des microrenfoncements (311) depuis la face arrière du premier substrat (501) par gravure sélective du premier 10 substrat (501) par rapport à ladite couche (503), chaque microrenfoncement (311) débouchant sur la face arrière de ladite couche (503) et ayant un fond (312c) sensiblement parallèle à la face avant du premier substrat (501) et des première (312a) et deuxième (312b) parois latérales sensiblement orthogonales entre 15 elles et sensiblement orthogonales au fond (312c), les première (312a) et deuxième (312b) parois latérales et le fond (312c) du microrenfoncement se rejoignant en un même point (S) et formant un trièdre.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, comprenant en 20 outre, avant l'étape a), une étape de formation de rugosités sur la face avant du premier substrat (501).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 2, dans lequel l'étape de formation des rugosités sur la face avant du premier substrat (501) comprend une étape de lithographie en niveaux de 25 gris.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, comprenant en outre, après l'étape a), une étape de report du premier substrat (501) sur un deuxième substrat (505) de support, de façon que la face avant de ladite couche (503) soit 30 tournée vers le deuxième substrat (505).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 4, dans lequel les premier (501) et deuxième (505) substrats sont assemblés par collage moléculaire. 3046682 B14793 - DD16805JB 27\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, comprenant en outre, entre l'étape a) et l'étape b), une étape d'amincissement du premier substrat (501) par sa face arrière.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel, à l'étape b), les microrenfoncements (311) sont réalisés par gravure ionique réactive profonde.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel le premier substrat (501) est en silicium et dans 10 lequel ladite couche (503) est en oxyde de silicium.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, comprenant en outre une étape de formation, du côté de la face arrière du premier substrat (501), de tranchées (314) à flancs obliques ou courbes, chaque microrenfoncement (311) 15 débouchant dans une tranchée (314).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'un écran rétroréfléchissant (400), comprenant la fabrication d'un moule primaire (320) par un procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, et la réplication des motifs de la face arrière du moule primaire (320) 20 sur une face d'un film (351), par moulage à partir du moule primaire (320).\n<CLM>\1\tMoule primaire pour la réalisation d'un écran rétroréfléchissant (400), comprenant : un premier substrat (501) comportant une face avant et 25 une face arrière ; une couche (503) d'un matériau tel que le premier substrat (501) soit gravable sélectivement par rapport à ladite couche (503), revêtant la face avant du premier substrat (501) ; et 30 des microrenfoncements (311) s'étendant depuis la face arrière du premier substrat (501), chaque microrenfoncement (311) débouchant sur la face arrière de ladite couche (503) et ayant un fond (312c) sensiblement parallèle à la face arrière du premier substrat (501) et des première (312a) et deuxième (312b) parois 35 latérales sensiblement orthogonales entre elles et sensiblement 3046682 B14793 - DD16805JB 28 orthogonales au fond (312c), les première (312a) et deuxième (312b) parois latérales et le fond (312c) du microrenfoncement (311) se rejoignant en un même point (S) et formant un trièdre.