Brevet FR3040787A1 (20170310)
REVENDICATIONS1. Composant (1) destiné à la détection et/ou la mesure d'un rayonnement électromagnétique dans une première gamme de longueurs d'onde comprise dans la gamme des infrarouges et du visible, le composant (1) comportant : un support (10) comportant une face de réception (121) pour recevoir le rayonnement électromagnétique et au moins une première structure (111,\n<CLM>\1\tapte à absorber un rayonnement électromagnétique, un filtre optique (20) dont au moins une première portion (21) associée à la première structure (111,\n<CLM>\1\test du type filtre passe bande dans la première gamme de longueurs d'onde, le filtre optique (20) étant disposé sur la face de réception (121) du support (10) de manière à filtrer le rayonnement électromagnétique transmis au support (10), le filtre optique (20) comportant: - une couche d'adaptation (220) recouvrant au moins en partie la face de réception (121) du support (10), la couche d'adaptation (220) présentant un indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde qui est inférieur à 2, - une couche métallique (230) recouvrant la couche d'adaptation (220) et comprenant des trous traversants (231) régulièrement répartis et dimensionnés pour que la couche métallique (230) forme une surface sélective en fréquence, le composant (1) étant caractérisé en ce que chacun des trous traversants (231) contient un matériau de remplissage (232) dont l'indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde est supérieur à2.\n<CLM>\1\tComposant (1) selon la revendication 1, dans lequel dans chacun des trous traversants (231) il est prévu un espace (233) entre la couche métallique (230) et le matériau de remplissage (232). 3040787 26\n<CLM>\1\tComposant (1) selon la revendication 2, dans lequel dans chaque trou traversant (231) l'espace (233) entre la couche métallique (320) et le matériau de remplissage (232) contient un matériau d'interface (234), ledit matériau d'interface (234) présentant un indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde 5 inférieur à 2, préférentiellement à 1,7, voire 1,5.\n<CLM>\1\tComposant (1) selon la revendication 3, dans laquelle du matériau d'interface (234) est également positionné entre le matériau de remplissage (232) et la couche d'adaptation (220). 10\n<CLM>\1\tComposant (1) selon la revendication 3 ou 4, dans lequel le matériau d'interface (234) est sélectionné dans le groupe comportant les dioxydes de silicium, les sulfures de zinc, les nitrures de silicium. 15\n<CLM>\1\tComposant (1) selon la revendication 2, dans lequel dans chaque trou traversant (231) l'espace (233) entre la couche métallique (230) et le matériau de remplissage (232) est vide de matériau.\n<CLM>\1\tComposant (1) selon l'une quelconques des revendications 1 20 à 6, dans lequel le matériau de remplissage (232) est un matériau sélectionné dans le groupe comportant les siliciums, les germaniums et les tellurures de plomb.\n<CLM>\1\tComposant (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel le matériau de la couche métallique (230) est un sélectionné dans le groupe 25 comportant le cuivre, l'argent, l'or, l'aluminium, le tungstène, le titane et leurs alliages.\n<CLM>\1\tComposant (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le support (10) comporte : un substrat (100) dans lequel est aménagée au moins partiellement l'au moins une première structure (111, 112), l'au moins une première 3040787 27 structure (111,\n<CLM>\1\tprésentant une surface active par laquelle la première structure (111,\n<CLM>\1\tabsorbe le rayonnement électromagnétique, un capot (120) disposé de manière à encapsuler la surface active de la première structure (111, 112), la face du capot (120) opposée à la surface active 5 (111,\n<CLM>\1\tde la structure formant la face de détection (121) du support (10).\n<CLM>\1\tComposant (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes qui est adapté pour en outre détecter un rayonnement électromagnétique dans une deuxième gamme de longueurs d'onde comprise dans la gamme des infrarouges 10 et du visible, le composant (1) comportant en outre au moins une deuxième structure (112) destinée à la détection de rayonnement électromagnétique, le filtre optique (20) comportant au moins une deuxième portion (22) associée à la deuxième structure (112) et qui est du type filtre passe bande dans la deuxième gamme de longueurs d'onde. 15\n<CLM>\1\tComposant (1) selon la revendication 10, dans lequel la répartition des trous traversants (231) dans la première et la deuxième portion (22) du filtre optique est identique, et dans lequel les trous traversants (231) de respectivement la 20 première et la deuxième portion (21,\n<CLM>\1\tsont dimensionnés pour que respectivement la première portion soit un filtre optique passe bande dans la première gamme de longueurs d'onde et que la deuxième portion soit un filtre optique passe bande dans la deuxième gamme de longueurs d'onde. 25\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'un composant (1) destiné à la détection d'un rayonnement électromagnétique dans une première gamme de longueurs d'onde comprise dans la gamme des infrarouges et du visible, le procédé comportant les étapes suivantes : 3040787 28 fourniture d'un support (10) comportant au moins une première structure (111,\n<CLM>\1\tdestinée à la détection de rayonnement électromagnétiques et une face de réception (121) pour recevoir le rayonnement électromagnétique, formation d'une couche d'adaptation (220) recouvrant au 5 moins en partie la face de réception (121) du support (10) et présentant un indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde qui est inférieur à 2, formation d'une couche métallique (230) recouvrant la couche d'adaptation (220) et comprenant des trous traversants (231) régulièrement répartis et dimensionnés pour former une surface sélective en fréquence, chacun des trous 10 traversants (231) contenant un matériau de remplissage (232) dont l'indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde est supérieur à\n<CLM>\1\t13. Procédé de fabrication d'un composant (1) destiné à la détection d'un rayonnement électromagnétique dans une première gamme de longueurs 15 d'onde comprise dans la gamme des infrarouges et du visible, le procédé comportant les étapes suivantes : fourniture d'un substrat sacrificiel (240), formation d'une couche métallique (230) sur le substrat sacrificiel (240), la couche métallique comprenant des trous traversants (231) 20 régulièrement répartis et dimensionnés pour former une surface sélective en fréquence, chacun des trous traversants (231) contenant un matériau de remplissage (232) dont l'indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde est supérieur à 2, formation d'une couche d'adaptation (220) sur la couche métallique (230) de manière à ce que la couche d'adaptation (220) soit couverte par la 25 couche métallique (230), la couche d'adaptation (220) présentant un indice de réfraction dans la première gamme de longueurs d'onde qui est inférieur à 2, fourniture d'un support (10) comportant au moins une première structure (111,\n<CLM>\1\tapte à absorber un rayonnement électromagnétique et une face de réception (121) pour recevoir le rayonnement électromagnétique ou d'une partie 3040787 29 (120) de support (10) destinée à la formation d'un tel support (10) et comportant la face de réception (121) dudit futur support (10), report de l'ensemble couche d'adaptation (220), couche métallique (230), substrat sacrificiel (240) sur la face de réception (121) de manière à ce 5 que la couche d'adaptation (220) recouvre au moins en partie la face de réception (121), suppression au moins en partie le substrat sacrificiel (240).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon la revendication 12 ou 13, dans lequel l'étape de formation de la couche métallique (230) comporte les sous-étapes suivantes : 10 - dépôt du matériau de remplissage (232) de manière à délimiter avec le matériau de remplissage au moins partiellement les trous traversants (231) de la couche métallique (232), - dépôt d'une couche de matériau métallique de manière à remplir les espaces laissés libres par le matériau de remplissage (232) de manière à former la couche 15 métallique (230).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon la revendication 14, dans lequel lors de l'étape de dépôt du matériau de remplissage, le dépôt est réalisé de manière à ce que le matériau de remplissage (232) soit entouré de matériau d'interface (234) ceci pour définir 20 lors du dépôt de matériau métallique un espace (233) entre la couche de métallique (230) et le matériau de remplissage (232).