Brevet FR3037833A1 (20161230)
REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'un tampon de polissage approprié pour planariser au moins un substrat parmi les substrats semi-conducteurs, optiques et magnétiques, caractérisé en ce qu'il comprend: a. l'application de gouttelettes d'un polymère liquide contre un substrat pour former une pluralité de pores dans le polymère liquide, le polymère liquide contenant un tensioactif non ionique, le tensioactif non ionique ayant une concentration suffisante pour faciliter la croissance de pores dans le polymère liquide et un tensioactif ionique ayant une concentration suffisante pour limiter la croissance des pores dans le polymère liquide; b. la solidification des gouttelettes de polymère liquide contre le substrat en un polymère solide contenant une pluralité de pores; c. la répétition de l'application de gouttelettes et de la solidification des gouttelettes de polymère liquide de multiples fois pour augmenter l'épaisseur du substrat solide; et d. le durcissement du polymère solide en un tampon de polissage ayant la taille finale de la pluralité de pores réglée par la concentration de tensioactif non ionique et de tensioactif ionique.\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'un tampon de polissage approprié pour planariser au moins un substrat parmi les substrats semi-conducteurs, optiques et magnétiques, caractérisé en ce qu'il comprend: a. l'application de gouttelettes d'un polymère liquide contre un substrat pour former une pluralité de pores dans le polymère liquide, le polymère liquide contenant un tensioactif non ionique, le tensioactif non ionique ayant une concentration suffisante pour faciliter la croissance de pores dans le polymère liquide et 303 7 8 3 3 46 un tensioactif ionique ayant une concentration suffisante pour limiter la croissance des pores dans le polymère liquide; b. la liaison des pores adjacents pour former un réseau de pores reliés entre eux dans le polymère liquide; 5 c. la solidification des gouttelettes de polymère liquide contre le substrat en un polymère solide contenant une pluralité de pores; d. la répétition de l'application de gouttelettes, de liaison des pores adjacents et de solidification des gouttelettes de polymère 10 liquide de multiples fois pour augmenter l'épaisseur du substrat solide; et e. le durcissement du polymère solide en un tampon de polissage ayant la taille finale de la pluralité de pores réglée par la concentration de tensioactif non ionique et de tensioactif 15 ionique.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 1 et 2 caractérisé en ce que les gouttelettes frappent un moule (10) pour former un motif de rainures (100) dans le tampon de polissage.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes 20 caractérisé en ce que le tensioactif non ionique est un tensioactif à base de silicone et le tensioactif ionique est un tensioactif cationique.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 4 caractérisé en ce qu'il inclut l'étape supplémentaire de réduction de la quantité de tensioactif cationique pour augmenter la taille des pores et former un sous-tampon. 25\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le durcissement forme le tampon de polissage avec une masse volumique de 0,3 à 0,9 g/cm3.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 6 caractérisé en ce que le durcissement forme le tampon de polissage avec une masse volumique de 0,3 à 0,7 30 g/cm3.