Brevet FR3045640A1 (20170623)
REVENDICATIONS1. Structure comprenant au moins une couche (1) comprenant un copolyamide MPMDT/XT dans lequel : MPMDT est une unité à motif amide présent à un taux molaire allant de 5 à 50%, notamment de 5 à 45%, de préférence de 15 à 45%, plus préférentiellement de 20 à 45%, où MPMD représente la 2-méthyl pentaméthylène diamine (MPMD) et T l'acide téréphtalique, XT est une unité à motif amide majoritaire présent à un taux molaire allant de 50 à 95%, notamment de 55 à 95%, de préférence de 55 à 85%, plus préférentiellement de 55 à 80%, où X est une diamine aliphatique linéaire en C9 à C18, de préférence en C9, C10, C11 et C12 et où T est l'acide téréphtalique, ledit copolyamide présentant une température de fusion : 250°C 125°C, déterminée selon la norme ISO 11357-2 :2013. 10\n<CLM>\1\tStructure selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle X est la 1, 10 décanediamine.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 3, dans laquelle aucun des 15 monomères dudit copolyamide n'est substitué par une autre diamine, un autre diacide carboxylique ou un lactame.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 4, dans laquelle ladite couche (1) comprend un modifiant choc et/ou modifiant de type core- 20 shell.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 5, dans laquelle ladite structure est constituée d'une seule couche (1). 25\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 6, dans laquelle ladite couche (1) comprend un stabilisant choisi parmi un stabilisant organique, un stabilisant minéral, en particulier un stabilisant à base de cuivre, et un mélange de ceux-ci. 30\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 7, dans laquelle ladite couche (1) comprend une charge antistatique choisie parmi le noir de carbone, le graphite, des fibres de carbone, des nanotubes de carbone, en particulier noir de carbone et nanotubes de carbone. 3045640 36\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 8, dans laquelle ladite couche (1) peut comprendre au moins un additif choisi parmi un antioxydant, un stabilisant à la chaleur, un absorbeur d'UV, un stabilisant à la lumière, un lubrifiant, une charge inorganique, un agent ignifugeant, 5 un agent nucléant, un plastifiant et un colorant.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 5 et 7 à 9, dans laquelle une seconde couche (2) est présente, les couches (1) et (2) étant susceptibles d'adhérer l'une à l'autre. 10\n<CLM>\1\tStructure selon la revendication 10, dans laquelle ladite couche (2) comprend au moins un polyamide choisi parmi un polyamide aliphatique et un polyamide aromatique, en particulier un polyamide aliphatique. 15\n<CLM>\1\tStructure selon la revendication 10 ou 11, dans laquelle ledit polyamide aliphatique est issu de la polycondensation d'au moins un lactame, un acide aminocarboxylique, ou d'une diamine et d'un diacide carboxylique, la diamine étant choisi parmi une diamine aliphatique, une diamine aromatique et une diamine cycloaliphatique et le diacide carboxylique 20 étant choisi parmi un diacide aliphatique, un diacide aromatique et un diacide cycloaliphatique, ou un mélange de ceux-ci.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 12, dans laquelle ledit polyamide aliphatique de la couche (2) est choisi parmi le PA11, le 25 PA12, le PA1010, le PA1012, le PA610 et le PA612.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 13, dans laquelle un autre polyamide, différent de celui de la couche (2) peut être présent dans la couche (2). 30\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 14, dans laquelle un plastifiant est présent dans la couche (2).\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 15, dans laquelle un 35 modifiant choc est présent dans la couche (2). 3045640 37\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 16, dans laquelle ladite couche (2) comprend un stabilisant choisi parmi un stabilisant organique, un stabilisant minéral, en particulier un stabilisant à base de cuivre, et un mélange de ceux-ci. 10 18 Structure selon l'une des revendications 10 à 17, dans laquelle la couche (1) comprend un stabilisant organique et la couche (2) comprend un stabilisant minéral, en particulier un stabilisant à base de cuivre.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 17, dans laquelle la couche (1) comprend un stabilisant minéral, en particulier un stabilisant à base de cuivre et la couche (2) comprend un stabilisant organique. 15\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 10 à 19, dans laquelle ladite couche (2) comprend une charge antistatique choisie parmi le noir de carbone, le graphite, des fibres de carbone, des nanotubes de carbone, en particulier noir de carbone et nanotubes de carbone. 20 21.Structure selon l'une des revendications 10 à 20, dans laquelle ladite couche (2) peut comprendre au moins un additif choisi parmi un antioxydant, un stabilisant à la chaleur, un absorbeur d'UV, un stabilisant à la lumière, un lubrifiant, une charge inorganique, un agent ignifugeant, un agent nucléant et un colorant. 25\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 1 à 21, dans laquelle la couche (1) est une couche barrière, notamment à un fluide, ledit fluide étant choisi parmi un carburant, ledit carburant étant une essence, en particulier une bio essence (mélange d'essence et d'alcool, notamment de méthanol ou d'éthanol), ou du 30 diesel en particulier le bio-diesel, une huile, un liquide de frein, des solutions d'urée, un liquide de refroidissement à base de glycol, un gaz, en particulier de l'air comprimé ladite couche barrière (1) étant en contact avec le fluide. 3045640 38 23.Structure selon l'une des revendications 10 à 22, comprenant de plus une couche (3), la couche (3) étant identique à ou différente de la couche (1).\n<CLM>\1\tStructure selon la revendication 23, dans laquelle la couche (3) est différente 5 de la couche (1) et est une couche de liaison et la structure comprend de l'extérieur vers l'intérieur les couches suivantes: (2)11(3)1/(1), la couche (1) étant en contact avec le fluide.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 23 à 24, dans laquelle au moins une lo autre couche (4) est présente, la couche (1) étant en contact avec le fluide.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 23 à 25, dans laquelle la couche (4) est une couche d'EVOH. 15 27.Structure selon l'une des revendications 23 à 26, dans laquelle la structure comprend de l'extérieur vers l'intérieur les couches suivantes: (2)11(4)11(3)11(1), la couche (1) étant en contact avec le fluide.\n<CLM>\1\tStructure selon la revendication 25 ou 26, dans laquelle une couche de liaison 20 (3'), identique à ou différente de la couche de liaison (3) est présente.\n<CLM>\1\tStructure selon l'une des revendications 25 à 28, dans laquelle la structure comprend de l'extérieur vers l'intérieur les couches suivantes: (2)//(3')//(4)//(3)//(1), la couche (1) étant en contact avec le fluide.\n<CLM>\1\tBouteilles, réservoirs, conteneurs, tuyaux et récipients fabriqués avec la structure selon l'une quelconque des revendications précédentes. 31.Emballages constitués des films fabriqués avec la structure selon l'une 30 quelconque des revendications précédentes 1 à\n<CLM>\1\t32. Utilisation d'un copolyamide MPMDT/XT dans lequel : 25 3045640 39 MPMDT est une unité à motif amide présent à un taux molaire allant de 5 à 50%, notamment de 5 à 45%, de préférence de 15 à 45%, plus préférentiellement de 20 à 45%, où MPMD représente la 2-méthyl pentaméthylène diamine (MPMD) et T l'acide téréphtalique, 5 XT est une unité à motif amide majoritaire présent à un taux molaire allant de 50 à 95%, notamment de 55 à 95%, de préférence de 55 à 85%, plus préférentiellement de 55 à 80%, où X est une diamine aliphatique linéaire en C9 à C18, de préférence en C9, C10, C11 et C12 et où T est l'acide téréphtalique, 10 ledit copolyamide présentant une température de fusion : 250°C