Brevet FR3037836A1 (20161230)
REVENDICATIONS1. Procédé de formation d'une couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique, 5 comprenant : la fourniture d'un premier composant de couche de polissage de la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ; où le premier composant de couche de polissage a un côté 10 de polissage, une surface de base, une pluralité de cavités périodiques et une épaisseur moyenne du premier composant, T1_ avg f mesurée perpendiculairement par rapport au côté de polissage depuis la surface de base jusqu'au côté de polissage ; 15 où le premier composant de couche de polissage comprend une première phase polymérique non fugitive continue ; où la pluralité des cavités périodiques a une profondeur de cavité moyenne, D aVg , mesurée perpendiculairement par rapport au côté de polissage depuis le côté de polissage en 20 direction de la surface de base, où la profondeur moyenne de cavité, Dag, est inférieure à l'épaisseur moyenne du premier composant, Ti-avg; où la première phase polymérique non fugitive continue est un produit réactionnel d'un prépolymère 25 d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue ayant 8 à 12 % en poids de groupes NCO n'ayant pas réagi et d'un agent de durcissement de première phase continue ; la fourniture d'un composant liquide de côté poly (P), comprenant au moins l'un parmi un polyol de côté (P), une 30 polyamine de côté (P) et une alcool amine de côté (P) ; la fourniture d'un composant liquide de côté iso (I), comprenant au moins un isocyanate polyfonctionnel ; la fourniture d'un gaz pressurisé ; la fourniture d'un dispositif de mélange axial ayant une 35 chambre cylindrique interne ; où la chambre cylindrique interne a une extrémité fermée, une extrémité ouverte, un axe de symétrie, au moins un orifice 3037836 58 d'alimentation en liquide de côté (P) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, et au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne où l'extrémité fermée et l'extrémité ouverte sont perpendiculaires à l'axe de symétrie où le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) de côté chambre fermée ; où et le au moins un orifice d'alimentation en liquide (I) sont disposés suivant une circonférence de la cylindrique interne à proximité de l'extrémité le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel est disposé suivant une circonférence de la chambre cylindrique interne en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) depuis l'extrémité fermée ; où le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) à une pression de charge de côté (P) de 6 895 à 27 600 kPa ; où le composant liquide de côté iso (I) est introduit 25 dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) à une pression de charge de côté (I) de 6 895 à 27 600 kPa ; où un débit de masse combiné du composant liquide de côté poly (P) et du composant liquide de côté iso (I) dans la 30 chambre cylindrique interne est de 1 à 500 g/s ; où le composant liquide de côté poly (P), le composant liquide de côté iso (I) et le gaz pressurisé sont mélangés dans la chambre cylindrique interne pour former une combinaison 35 où le gaz pressurisé est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation 3037836 59 en gaz pressurisé tangentiel avec une pression d'alimentation de 150 à 1 500 kPa ; où une vitesse d'entrée dans la chambre cylindrique interne de gaz pressurisé est de 50 à 600 m/s calculée sur la 5 base de conditions de gaz parfait à 20 °C et à une pression de 1 atm ; l'évacuation de la combinaison de l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne en direction du côté de polissage du premier composant de couche de polissage à une vitesse de 5 à 1 000 m/s, le remplissage de la pluralité de cavités périodiques avec la combinaison, la solidification de la combinaison en tant que deuxième composant de couche de polissage dans la pluralité de cavités périodiques pour former une structure composite ; où le 15 deuxième composant de couche de polissage est une deuxième phase polymérique non fugitive ; et, l'obtention d'une couche de polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique à partir de la structure composite, où la couche de polissage composite de tampon de 20 polissage mécano-chimique a une surface de polissage sur le côté de polissage du premier composant de couche de polissage et où la surface de polissage est adaptée pour le polissage d'un substrat.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, comprenant en outre : l'usinage de la structure composite pour obtenir la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ; où la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ainsi obtenue a une épaisseur moyenne de couche de polissage composite, Tp_avg, mesurée perpendiculairement par rapport à la surface de polissage depuis la surface de base jusqu'à la surface de polissage ; où l'épaisseur moyenne du premier composant, T - 1-avg égale l'épaisseur moyenne de la couche de polissage composite, Tp_ avg ; 3037836 60 où la deuxième phase polymérique non fugitive occupant la pluralité des cavités périodiques a une hauteur moyenne, Havg, mesurée perpendiculairement par rapport à la surface de polissage depuis la surface de base en direction de la surface 5 de polissage ; et, où une valeur absolue d'une différence, AS, entre l'épaisseur moyenne de couche de polissage composite, Tp_avg, et la hauteur moyenne, Havg, est 0,5 pm. 10\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 2, comprenant en outre : la formation d'au moins une rainure dans la surface de polissage. 15\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où la fourniture du premier composant de couche de polissage comprend en outre : la fourniture d'un moule ayant un fond et une paroi périphérique, où le fond et la paroi périphérique définissant une cavité de moule ; 20 la fourniture d'un prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue ayant 8 à 12 % en poids de groupes NCO n'ayant pas réagi, de l'agent de durcissement de première phase continue et éventuellement, d'une pluralité de matériaux polymériques à noyau creux ; 25 le mélange du prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue et de l'agent de durcissement de première phase continue pour former un mélange ; le versement du mélange dans la cavité de moule ; 30 la solidification du mélange en un gâteau de la première phase polymérique non fugitive continue ; l'obtention d'une feuille à partir du gâteau ; la formation de la pluralité of cavités périodiques dans la feuille pour donner le premier composant de couche de 35 polissage. 3037836 61\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 4, où la pluralité de matériaux polymériques à noyau creux est incorporée dans la première phase polymérique non fugitive continue à 1 à 58 % en vol. 5\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où le composant liquide de côté poly (P) comprend 25 à 95 % en poids d'un polyol de côté (P) ; où le polyol de côté (P) est un polyéther polyol de haut poids moléculaire ; où le polyéther polyol de 10 haut poids moléculaire a un poids moléculaire moyen en nombre, MN, de 2 500 à 100 000 et une moyenne de 4 à 8 groupes hydroxyle par molécule.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où le composant 15 liquide de côté iso (I) comprend un isocyanate polyfonctionnel ayant une moyenne de deux groupes isocyanate réactifs par molécule.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où le gaz 20 pressurisé est choisi dans le groupe constitué de CO2, N2, air et argon.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où la chambre cylindrique interne a une section transversale circulaire dans 25 un plan perpendiculaire à l'axe de symétrie de la chambre cylindrique interne ; où l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne a une ouverture circulaire perpendiculaire à l'axe de symétrie de la chambre cylindrique interne ; où l'ouverture circulaire est concentrique avec la section 30 transversale circulaire ; et où l'ouverture circulaire a un diamètre interne de 2,5 à 6 mm.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, où la surface de polissage est adaptée pour polir une galette de semi35 conducteur.