Brevet FR3040319A1 (20170303)
REVENDICATIONS1. Appareil laser comprenant : plusieurs modules laser générant chacun une ligne laser élémentaire de longueur (L) et de largeur (W) focalisée au niveau d'un plan de travail ; et des moyens de convoyage destinés à accueillir un substrat; dans lequel lesdits modules laser sont positionnés de manière à ce que les lignes laser élémentaires générées sont sensiblement parallèles entre elles et se combinent en une ligne laser unique, chaque ligne élémentaire présentant un recouvrement (R) dans la direction de la longueur avec une ligne laser élémentaires adjacentes ; et les moyens de convoyage permettent le défilement du substrat perpendiculairement à la ligne de laser unique ; caractérisé en ce que, pour au moins deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2), les lignes laser élémentaires présentent un décalage (D) l'une par rapport à l'autre dans la direction de la largeur, ledit décalage étant inférieur à la demi-somme des largeurs desdites deux lignes laser élémentaires adjacentes ; le recouvrement (R) desdites au moins deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) étant tel que, en l'absence de décalage, le profil de puissance linéique de la ligne laser unique présente un maximum local au niveau de la zone de recouvrement.\n<CLM>\1\tAppareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit maximum local du profil de puissance linéique de la ligne laser unique a une valeur supérieure de 20%, de préférence supérieur de 10%, par rapport à la puissance linéique moyenne de chacune desdites au moins deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) hors zone de recouvrement. 3040319 18\n<CLM>\1\tAppareil selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit décalage (D) est choisi de façon à ce que le facteur de mérite F de la ligne laser unique au niveau du recouvrement présente une variation inférieure à 20%, de préférence inférieure à 15%, plus préférentiellement inférieure à 10%, encore plus préférentiellement inférieur à 5%, par rapport au facteur de mérite 5 moyen de chacune desdites au moins deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) hors zone de recouvrement ; le facteur de mérite F en un point donné d'une ligne laser étant défini par : P F = - -'174/ dans laquelle w et P sont respectivement la largeur et la puissance linéique locale de la ligne laser à ce point donné. 10\n<CLM>\1\tAppareil selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit décalage (D) est supérieur à 10% de la largeur de chacune desdites au moins deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2).\n<CLM>\1\tAppareil selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que les profils de puissance linéique des lignes laser élémentaires présentent un plateau central (p) et deux 15 flancs latéraux (1), le plateau central (p) ayant une puissance linéique sensiblement constante, et chaque flanc latéral (1) ayant un gradient de puissance linéique.\n<CLM>\1\tAppareil selon la revendication 5, caractérisé en ce que le recouvrement (R) entre deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) est au moins égal à la longueur du plus court des flancs latéraux (f) desdites deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) au niveau 20 de la zone de recouvrement.\n<CLM>\1\tProcédé de réglage d'un appareil laser comprenant 3040319 19 plusieurs modules laser générant chacun une ligne laser élémentaire de longueur (L) et de largeur (W) focalisée au niveau d'un plan de travail ; et des moyens de convoyage destinés à accueillir un substrat; dans lequel lesdits modules laser sont positionnés de manière à ce que les lignes laser 5 élémentaires générées sont sensiblement parallèles entre elles et se combinent dans la direction de la longueur en une ligne laser unique; et les moyens de convoyage permettent le défilement du substrat perpendiculairement à la ligne de laser unique ; ledit procédé comprenant : 10 la mesure des profils de puissance linéique et des largeurs de deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) prises individuellement ; la détermination du couple recouvrement-décalage (R, D) nécessaire pour que le facteur de mérite F de la ligne de laser unique au niveau de la zone de recouvrement présente une variation inférieure à 20%, de préférence inférieure à 15%, plus préférentiellement inférieure 15 à 10%, encore plus préférentiellement inférieure à 5%, par rapport au facteur de mérite moyen de chacune desdites deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) hors zone de recouvrement ; le facteur de mérite F en un point donné d'une ligne laser étant défini par : P F = - -'174/ dans laquelle w et P sont respectivement la largeur et la puissance linéique locale de la ligne 20 laser à ce point donné; et le positionnement des modules lasers correspondants auxdites deux lignes laser élémentaires adjacentes (LA1, LA2) de manière à ce que lesdites deux lignes laser élémentaires adjacentes présentent le couple recouvrement-décalage déterminé. 3040319 20\n<CLM>\1\tUtilisation de l'appareil laser tel défini à l'une quelconque des revendications 1 à 6 pour le traitement thermique d'un revêtement déposé sur un substrat.\n<CLM>\1\tProcédé de traitement thermique d'un revêtement déposé sur un substrat comprenant : - la fourniture d'un appareil laser tel que défini à la revendication 7 ; 5 - le réglage de l'appareil laser selon le procédé de réglage de la revendication 7 ; - la fourniture du substrat revêtu du revêtement à traiter sur les moyens de convoyage de façon à ce que le revêtement soit au niveau du plan de travail ; - le défilement du substrat perpendiculairement à la ligne laser unique ; - la récupération du substrat revêtu du revêtement traité thermiquement. 10