Brevet FR3051966A1 (20171201)
REVENDICATIONS1. Procédé de formation d'un motif de guidage (4) fonctionnalisé destiné à un procédé de grapho-épitaxie, le procédé comportant les étapes suivantes : - (101) formation d'un motif de guidage (4) sur un substrat (1), le motif de guidage (4) comportant une cavité (7) comportant un fond (6) et des parois latérales (5) ; - (102) formation d'une première couche de fonctionnalisation (2) sur le motif de guidage (4), la première couche de fonctionnalisation (2) Io comportant une partie horizontale (11) déposée sur le fond (6) de la cavité (7) et une partie verticale (12) déposée sur les parois latérales (5) de la cavité (7) ; - (103) formation d'une couche protectrice (3) sur la première couche de fonctionnalisation (2) dans la cavité (7) ; 15 - (104) gravure de la couche protectrice (3) de façon à ne conserver qu'une partie horizontale (8) de la couche protectrice, la partie horizontale (8) étant présente sur le fond (6) de la cavité (7) et présentant une épaisseur inférieure à 15 nm ; - (105) gravure sélective de la partie verticale (12) de la première couche de 20 fonctionnalisation (2).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, comportant en outre les étapes suivantes : - gravure sélective de la partie horizontale (8) de la couche protectrice (3) ; - formation d'une deuxième couche de fonctionnalisation (13), la deuxième couche de fonctionnalisation (13) comportant une partie horizontale (14) 25 déposée sur la partie horizontale (11) de la première couche de fonctionnalisation (2) et une partie verticale (15) déposée sur les parois latérales (5) de la cavité (7) ; 3051966 20 - (107) gravure sélective de la partie horizontale (14) de la deuxième couche de fonctionnalisation (13).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, comportant en outre les étapes suivantes : (106) formation d'une deuxième couche de fonctionnalisation (13), la 5 deuxième couche de fonctionnalisation (13) comportant une partie horizontale (14) déposée sur la partie horizontale (8) de la couche protectrice (3) et une partie verticale (15) déposée sur les parois latérales (5) de la cavité (7) ; (107) gravure sélective de la partie horizontale (14) de la deuxième couche de fonctionnalisation (13) ; - (108) gravure sélective de la partie horizontale (8) de la couche protectrice (3).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 3, dans lequel la couche protectrice (3) est déposée par évaporation.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 3 ou 4, dans lequel la couche protectrice (3) est gravée par une technique de gravure humide utilisant une solution d'acide fluorhydrique ou d'acide phosphorique.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 3 ou 4, dans lequel la couche protectrice (3) est gravée par une technique de gravure plasma isotrope.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la partie verticale (12) de la première couche de fonctionnalisation (2) est gravée par une technique de gravure plasma isotrope.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes lorsqu'elle dépend de la revendication 3, dans lequel la partie horizontale (14) de la deuxième couche de fonctionnalisation (13) est gravée par une technique de gravure plasma anisotrope. 3051966 21\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la partie horizontale (8) de la couche protectrice (3) est gravée par gravure humide en utilisant une solution d'acide fluorhydrique ou d'acide phosphorique.\n<CLM>\1\tProcédé de grapho-épitaxie comportant un procédé de réalisation d'un motif de 5 guidage selon l'une des revendications précédente et une étape de dépôt d'un copolymère à bloc dans la cavité.\n<CLM>\1\tProcédé de grapho-épitaxie selon la revendication précédente, dans lequel le copolymère à bloc comporte au moins deux blocs de monomères, la première couche de fonctionnalisation présentant une affinité équivalente avec tous les 10 blocs de monomères, la deuxième couche de fonctionnalisation présentant une affinité préférentielle avec un des blocs de monomères.