Brevet FR3045028A1 (20170616)
REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'un dispositif électromécanique comprenant au moins une structure micromécanique (60) et au moins une structure 5 nanométrique (7) disposées en suspension au-dessus d'une cavité (4), caractérisé en ce que le procédé comprend : - la délimitation des contours de la structure micromécanique (60) et de la structure nanométrique (7) par gravure d'une première face (11) d'un premier substrat (1), formé d'une couche massive (10), de sorte à obtenir des tranchées (16) délimitant 10 les deux structures (7,\n<CLM>\1\t; - la formation d'une cavité temporaire (18) disposée sous la structure (7) par gravure isotropique des tranchées (16) délimitant la structure nanométrique (7) de sorte à former la structure nanométrique (7) ; - le scellement de la première face (11) du premier substrat (1) avec un second 15 substrat (2) ; - la formation de la cavité (4) dans le premier substrat (1), par gravure d'une seconde face (12) du premier substrat (1) ; - la fermeture de la cavité (4) par scellement de la seconde face (12) du premier substrat (1) avec un troisième substrat (3), le troisième substrat (3) étant formé 20 d'une couche massive (30) et d'une couche isolante (31) en contact direct avec la seconde face (12) du premier substrat (1) ; - l'élimination du deuxième substrat (2) ; et - la gravure de la première face (11) du premier substrat (1) de sorte à ouvrir la cavité (4) et former la structure micromécanique (60). 25\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre, préalablement au scellement du premier substrat (1) avec le second substrat (2), la réalisation de marques d'alignement (13) sur la première face (11) du premier substrat (1). 30 3045028 16\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'il comprend en outre, préalablement au scellement du premier substrat (1) avec le second substrat (2) et consécutivement à la réalisation de marques d'alignement (13), la protection de la première face (11) du premier substrat (1) par une étape d'oxydation destinée à former une couche d'oxyde (14) sur la première face (11) puis par une étape de dépôt d'une couche de nitrure (15) sur la couche d'oxyde (14), l'étape de la délimitation des contours de la structure micromécanique (60) et de la structure nanométrique (7) comportant une gravure de la couche d'oxyde (14) et de la couche de nitrure (15).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'il comprend en outre, préalablement à la formation de la cavité temporaire (18) et consécutivement à la délimitation des contours de la structure micromécanique (60) et de la structure nanométrique (7), la protection des tranchées (16) par le dépôt d'une seconde couche de nitrure (17), l'étape de formation de la cavité temporaire (18) étant précédée par une étape de gravure du nitrure (17) présent dans le fond des tranchées (16) délimitant la structure nanométrique (7).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il comprend en outre, préalablement au scellement de la première face (11) du premier substrat (1) avec un second substrat (2), une oxydation du silicium de sorte à boucher la cavité temporaire (18) disposée sous la structure nanométrique (7).\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la formation de la cavité (4) dans le premier substrat (1), par gravure d'une seconde face (12) du premier substrat (1), comporte une première gravure ayant la profondeur de la cavité (4) au niveau de la structure micrométrique (60) et une seconde gravure ayant la profondeur de la cavité (4) au niveau de la structure nanométrique (7). 3045028 17\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon les revendications 5 et 6, caractérisé en ce que la seconde gravure s'étend jusqu'à la cavité temporaire (18) comportant l'oxyde de silicium. 5\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce qu'il comprend en outre, préalablement à la réalisation de la cavité (4), l'amincissement du premier substrat (1). 10\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce qu'il comprend en outre, simultanément à la réalisation de la cavité (4), la formation d'au moins une butée (5) s'étendant du premier substrat (1) en direction du troisième substrat (3). 15\n<CLM>\1\tDispositif électromécanique réalisé par un procédé de fabrication selon l'une des revendications 1 à 9, le dispositif électromécanique comportant : - un empilement formé d'une couche isolante (31) interposée entre deux couches massives (10, 30), - une structure micromécanique (60) en suspension au-dessus d'une cavité (4), et 20 - une structure nanométrique (7) en suspension au-dessus de la cavité (4).