Brevet FR3043792A1 (20170519)
REVENDICATIONS1. Filtre optique plasmonique comprenant : une répétition périodique de dalles métalliques (17 ;\n<CLM>\1\tau-dessus d'une surface métallique (13) ; des espaceurs diélectriques (14 ; 32 ; 36 ;\n<CLM>\1\tdisposés entre les dalles et la surface métallique de sorte qu'il existe un espace vide (20 ; 34 ; 38 ;\n<CLM>\1\tentre chaque dalle et la surface métallique ; et une ouverture (18 ;\n<CLM>\1\tentre chacun desdits espaces vides et l'extérieur.\n<CLM>\1\tFiltre selon la revendication 1, dans lequel les dalles métalliques (17 ;\n<CLM>\1\tsont disposées en matrice et ont la forme de carrés dont les côtés ont une dimension comprise entre 0,3 pin et 3 um.\n<CLM>\1\tFiltre selon la revendication 1 ou 2, dans lequel 15 les dalles métalliques (17 ;\n<CLM>\1\tont une épaisseur comprise entre 30 nm et 100 nm et les espaceurs diélectriques (14 ; 32 ; 36 ;\n<CLM>\1\tont une épaisseur comprise entre 30 nm et 300 nm.\n<CLM>\1\tFiltre (46 ;\n<CLM>\1\tselon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel les espaceurs diélectriques 20 forment une grille (36 ;\n<CLM>\1\tdélimitant lesdits espaces vides (38 ; 54), l'intégralité de la périphérie de chaque dalle (42) étant disposée sur la grille, et ladite ouverture (44) étant formée dans chaque dalle.\n<CLM>\1\tFiltre (46 ;\n<CLM>\1\tselon l'un quelconque des 25 revendications 1 à 4, dans lequel les ouvertures (44) ont des diamètres compris entre 10 et 40 nm.\n<CLM>\1\tFiltre (46) selon la revendication 4 ou 5, dans lequel la grille (36) délimite des espaces vides (38) de forme carrée. 30\n<CLM>\1\tFiltre (50) selon la revendication 4 ou 5, dans lequel la grille (52) délimite des espaces vides (54) circulaires.\n<CLM>\1\tFiltre (19) selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel les espaceurs diélectriques 3043792 B14689 - DD16675 JB 13 sont des plots (14) disposés en matrice, chaque dalle (17) ayant quatre coins disposés sur quatre plots voisins, les ouvertures (18) étant des espaces entre les dalles.\n<CLM>\1\tFiltre (30) selon l'une quelconque des 5 revendications 1 à 3, dans lequel les espaceurs diélectriques ont la forme de barres (32), chaque dalle (17) ayant deux bords disposés sur deux barres voisines, les ouvertures étant des espaces entre les dalles.\n<CLM>\1\tProcédé de réalisation d'un filtre optique 10 plasmonique (50) sur une surface métallique (13), étapes suivantes : a) déposer une couche diélectrique (52) métallique ; b) former, sur la couche diélectrique, une répétition comprenant les sur la surface périodique de dalles métalliques (42) disjointes, dont chacune est munie d'une ouverture (44) ; et c) éliminer une partie de la couche diélectrique par gravure sélective et isotrope à partir des ouvertures, en sorte de former des espaces vides (54) sous la majeure partie de 20 chaque dalle métallique.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10, comprenant, entre l'étape b) et l'étape c), une étape de masquage des portions de la couche diélectrique (52) accessibles entre les dalles métalliques (42). 25\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 10 ou 11, dans lequel la couche diélectrique (52) est en oxyde de silicium.\n<CLM>\1\tProcédé de réalisation d'un filtre optique plasmonique (19 ; 30 ;\n<CLM>\1\tsur une surface métallique (13), comprenant les étapes suivantes : 30 a) former une répétition périodique d'espaceurs diélectriques (14 ; 32 ;\n<CLM>\1\tsur la surface métallique ; b) remplir d'un matériau sacrificiel (16) tout le volume situé entre les espaceurs ; 3043792 B14689 - DD16675 JB 14 c) former une répétition périodique de dalles métalliques (17) disjointes, chaque dalle reposant en majorité sur le matériau sacrificiel ; d) graver sélectivement le matériau sacrificiel à 5 partir des ouvertures entre les dalles métalliques disjointes.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 13, dans lequel les espaceurs diélectriques (14 ; 32 ;\n<CLM>\1\tsont en oxyde de silicium, le matériau sacrificiel (16) est du nitrure de silicium, et la gravure sélective est une gravure RIE en milieu 10 SF6 et oxygène.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 13, dans lequel les espaceurs diélectriques (14 ; 32 ;\n<CLM>\1\tsont en silicium, le matériau sacrificiel (16) est de l'oxyde de silicium, et la gravure sélective est une gravure RIE sous plasma de CF4 et 15 d'oxygène.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 13, dans lequel les espaceurs diélectriques (14 ; 32 ;\n<CLM>\1\tsont en oxyde de silicium, le matériau sacrificiel (16) est du silicium, et la gravure sélective est une gravure RIE sous plasma de BC13, de C12 et d'azote ou une gravure en phase sèche sous difluorure de xénon (XeF2).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 13, dans lequel les espaceurs diélectriques (14 ; 32 ;\n<CLM>\1\tsont en oxyde d'aluminium, le matériau sacrificiel (16) est de l'oxyde de 25 silicium, et la gravure sélective est une gravure chimique en phase vapeur par de l'acide fluorhydrique.\n<CLM>\1\tBolomètre comprenant un filtre selon l'une quelconque des revendications 1 à 9.