Brevet FR3039827A1 (20170210)
REVENDICATIONS1. Article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale revêtue d'un revêtement interférentiel comprenant, dans le sens de l'éloignement du substrat : - une couche A obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un composé A organosilicié, ladite couche A présentant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, et, en contact direct avec cette couche A, - soit une couche B obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un oxyde métallique et d'au moins un composé B organosilicié, ladite couche B présentant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et contenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8, - soit une couche C comprenant un oxyde de silicium et ayant une épaisseur inférieure ou égale à 15 nm, en contact direct avec une couche E comprenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8.\n<CLM>\1\tArticle selon la revendication 1, caractérisé en ce que le dépôt assisté par une source d'ions est un bombardement ionique.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le composé A comporte au moins un groupe divalent de formule : R'3 R'1 , où à R'4 désignent indépendamment des groupes alkyle, vinyle, aryle, hydroxyle ou des groupes hydrolysables, ou en ce que le composé A répond à la formule : dans laquelle R'5, R'6, R'7, R'8 désignent indépendamment des groupes hydroxyle ou des groupes hydrolysables tels que des groupes OR, dans lesquels R est un groupe alkyle.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le composé A est choisi parmi l'octaméthylcyclotétrasiloxane, le décaméthyltétrasiloxane, le 2,4,6,8-tétraméthylcyclotétrasiloxane, l'hexaméthyldisiloxane, le décaméthylcyclopentasiloxane, le dodécaméthylpentasiloxane.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche A n'est pas formée à partir de composés précurseurs inorganiques.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche A a une épaisseur allant de 20 à 500 nm.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il possède une couche B déposée sur la couche A et en contact direct avec elle, dont le composé B comporte au moins un groupe divalent de formule : 3039827 27 R'3 R'1 I R'4i-O-Si-R- 2 I I où R'l à R'4 désignent indépendamment des groupes alkyle, vinyle, aryle, hydroxyle ou des groupes hydrolysables, ou en ce que le composé B répond à la formule : R'5 R'7-b-R'8 5 R'6 dans laquelle R'5, R'6, R'7, R'8 désignent indépendamment des groupes hydroxyle ou des groupes hydrolysables tels que des groupes OR, dans lesquels R est un groupe alkyle.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il possède une couche B déposée sur la couche A et en contact direct avec elle, dont l'oxyde 10 métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8 est un oxyde de zirconium ou un oxyde d'hafnium.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il possède une couche B en contact direct avec la couche A, et une couche D comprenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8 déposée sur la 15 couche B et en contact direct avec elle, la couche D étant de préférence déposée sous assistance ionique.\n<CLM>\1\tArticle selon la revendication 9, caractérisé en ce que ladite couche D n'est pas formée à partir de composés précurseurs organiques.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu'il possède une 20 couche C déposée sur la couche A et en contact direct avec elle, la couche C comprenant au moins 50 % en masse de silice, par rapport à la masse totale de la couche C.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications 1 à 6 et 11, caractérisé en ce qu'il possède une couche C ayant une épaisseur allant de 2 à 10 nm déposée sur la couche A et en contact direct avec elle. 25\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le revêtement interférentiel est un revêtement antireflet.\n<CLM>\1\tArticle selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est une lentille optique, de préférence une lentille ophtalmique.\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'un article selon l'une quelconque des revendications précédentes, 30 comprenant au moins les étapes suivantes : - fournir un article comprenant un substrat ayant au moins une surface principale, - déposer sur ladite surface principale du substrat une couche A présentant un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,65, - déposer sur ladite couche A : 35 - soit une couche B ayant un indice de réfraction supérieur à 1,65 et contenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur à 1,8, 3039827 28 - soit une couche C comprenant un oxyde de silicium et ayant une épaisseur inférieure ou égale à 15 nm, et déposer directement sur ladite couche C une couche E comprenant au moins un oxyde métallique ayant un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,8, - récupérer un article comprenant un substrat ayant une surface principale revêtue d'un 5 revêtement interférentiel comprenant, dans le sens de l'éloignement du substrat, une couche A en contact direct avec une couche B ou une couche A en contact direct avec une couche C en contact direct avec une couche E, ladite couche A ayant été obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un composé A organosilicié, et ladite couche B, lorsqu'elle est présente, ayant été 10 obtenue par dépôt sous vide, assisté par une source d'ions, d'au moins un oxyde métallique et d'au moins un composé B organosilicié.