Brevet FR3050275A1 (20171020)
REVENDICATIONS1. Procédé de positionnement d'un micro- ou nano-objet (SLM, F2D2) au-dessus d'un support plan (SAC) par déplacement effectué sous contrôle visuel, caractérisé en ce que : ledit micro- ou nano-objet est immergé dans un milieu transparent, dit milieu ambiant (MA), présentant un indice de réfraction n3; - ledit support plan comprend un substrat transparent 10 (SS) d'indice de réfraction no>n3 sur lequel est déposée au moins une couche optiquement absorbante (CA), adaptée pour se comporter en tant que revêtement antireflet lorsqu'elle est éclairée en incidence normale à une longueur d'onde d'éclairage X à travers ledit substrat ; et - le contrôle visuel comprend l'éclairage dudit micro- 15 ou nano-objet au moins à ladite longueur d'onde X à travers ledit substrat, et son observation en réflexion spéculaire également à travers ledit substrat.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1 dans lequel ledit contrôle 20 visuel comprend une caractérisation de la distance entre le micro- ou nanoobjet et la couche optiquement absorbante par analyse d'un motif d'interférence optique ou d'une intensité lumineuse réfléchie par ladite couche observé à travers ledit substrat. 25\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel ledit contrôle visuel comprend une caractérisation de l'inclinaison dudit micro- ou nano-objet par rapport à la couche optiquement absorbante par analyse d'un motif d'interférence optique ou d'une intensité lumineuse réfléchie, observé à travers ledit substrat. 30 3050275 77\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel dans lequel ladite couche optiquement absorbante est une couche conductrice.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel dans lequel ledit éclairage est un éclairage conique autour de la normale à ladite couche optiquement absorbante.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, 10 dans lequel le contrôle visuel comprend également l'éclairage dudit micro- ou nano-objet par une source de lumière auxiliaire (SLA) située du même côté dudit support plan que ledit micro- ou nana-objet.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes dans 15 lequel ledit micro- ou nana-objet est une sonde pour microscopie par sonde locale (SLM) et son déplacement comprend une approche de ladite sonde à ladite couche optiquement absorbante.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 7 comprenant également 20 le déplacement de ladite sonde dans une direction sensiblement parallèle à ladite couche optiquement absorbante, la distance entre la sonde et la couche étant maintenue constante par un mécanisme d'asservissement exploitant ledit contrôle visuel.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 7 ou 8 comprenant également le déplacement de ladite sonde dans une direction sensiblement parallèle à ladite couche optiquement absorbante, l'orientation de la sonde par rapport à la couche étant maintenue constante par un mécanisme d'asservissement exploitant ledit contrôle visuel. 30\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 7 à 9 dans lequel ladite sonde est une sonde de microscopie électrochimique. 3050275 28\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 6 dans lequel ledit micro- ou nano-objet est une nanostructure bidimensionnelle (F2D2) solidaire d'un support (T) permettant sa manipulation.\n<CLM>\1\tProcédé de fabrication d'une nanostructure par empilement de nanostructures bidimensionnelles (F2D1, F2D2), comportant le positionnement desdites nanostructures bidimensionnelles par un procédé selon la revendication\n<CLM>\1\t10\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications 1 à 6 dans lequel ledit micro- ou nano-objet comprend au moins une micro- ou nano-électrode solidaire d'un support (T) permettant sa manipulation. 15\n<CLM>\1\tProcédé de réalisation d'au moins un micro- ou nano- contact par dépôt d'au moins une micro- ou nano-électrode sur la surface d'un substrat, ledit dépôt étant réalisé par un procédé selon la revendication\n<CLM>\1\t15. Microscope à sonde locale comprenant : 20 un support plan (SAC) ; une sonde locale (SLM), agencée à proximité d'une surface dudit support plan ; - un système d'actionnement (MM) configuré pour déplacer ladite sonde locale au-dessus dudit support plan, au moins dans une direction 2 5 perpendiculaire et dans une direction parallèle audit support ; caractérisé en ce que : - ledit support plan comprend un substrat transparent (SS) d'indice de réfraction no sur lequel est déposée au moins une couche optiquement absorbante (CA), adaptée pour se comporter en tant que 30 revêtement antireflet lorsqu'elle est éclairée en incidence normale à une longueur d'onde d'éclairage X à travers ledit substrat, et lorsqu'elle est en 3050275 29 contact, du côté opposé audit substrat, avec un milieu transparent, dit milieu ambiant, présentant un indice de réfraction n3\n<CLM>\1\tMicroscope à sonde locale selon la revendication 15, 10 comprenant également un système d'asservissement (PR, MM) configuré pour : - caractériser la distance entre la sonde et la couche optiquement absorbante par analyse d'un motif d'interférence optique ou d'une intensité lumineuse réfléchie observé à travers ledit substrat ; - piloter ledit système d'actionnement pour maintenir la distance mesurée égale à une consigne.\n<CLM>\1\tMicroscope à sonde locale selon la revendication 16, dans lequel ledit système d'asservissement est également configuré pour : 20 - caractériser l'inclinaison de la sonde par rapport à la couche optiquement absorbante par analyse dudit motif d'interférence optique ou de ladite intensité lumineuse réfléchie observé à travers ledit substrat ; - piloter ledit système d'actionnement pour maintenir l'inclinaison mesurée égale à une consigne. 25\n<CLM>\1\tMicroscope à sonde locale selon l'une des revendications 15 à 17, du type SECM.\n<CLM>\1\tAppareil d'assemblage de nanostructures comprenant 30 - un support plan (SAC) ; 3050275 30 un système d'actionnement (MM) configuré pour déplacer, autant de fois que nécessaire, au-dessus dudit support plan, un support (T), auquel peut être fixée une nanostructure bidimensionnelle (F2D2) ; caractérisé en ce que : 5 - ledit support plan comprend un substrat transparent (SS) d'indice de réfraction no sur lequel est déposée au moins une couche optiquement absorbante (CA), adaptée pour se comporter en tant que revêtement antireflet lorsqu'elle est éclairée en incidence normale à une longueur d'onde d'éclairage X à travers ledit substrat, et lorsqu'elle est en contact, du côté opposé audit substrat, avec un milieu transparent, dit milieu ambiant, présentant un indice de réfraction n3\n<CLM>\1\tAppareil d'assemblage de nanostructures selon la revendication 19, dans lequel ledit support est adapté pour permettre le 20 largage de ladite nanostructure sur ledit support une fois positionnée.