Brevet FR3052464A1 (20171215)
REVENDICATIONS1. Procédé de protection contre la corrosion et l'oxydation d'une pièce (1) réalisée en superalliage monocristallin à base de nickel, exempt d'hafnium, caractérisé en ce qu'il comprend au moins les étapes suivantes consistant à : - fabriquer une pièce (1) en superalliage nrionocristallin à base de nickel exempt d'hafnium, - déposer, sur ladite pièce (1), une première couche (2) comprenant de l"hafnium, - faire diffuser cette première couche comprenant de l"hafnium 10 (2), de façon à former à la surface de ladite pièce (1) en superalliage nrionocristallin à base de nickel exempt d'hafnium, une première zone d'interdiffusion (21), - déposer simultanément ou alternativement, sur ladite première zone d'interdiffusion (21), une sous-couche d'un alliage comprenant au moins 10% 15 atomique d'aluminium et une deuxième couche comprenant de l'hafnium, de façon à former une couche mixte (3), - déposer, sur ladite couche mixte (3), une troisième couche comprenant de l'hafnium (4) - faire diffuser cette troisième couche (4) comprenant de 20 l'hafnium, de façon à former à la surface de ladite couche mixte (3), une deuxième zone d'interdiffusion (41), - réaliser un traitement d'oxydation de ladite deuxième zone d'interdiffusion (41), de façon à obtenir une couche d'alumine dopée par de l'hafnium (42), à la surface de ladite deuxième zone d'interdiffusion (41). 25\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend une étape consistant à déposer, sur ladite couche (42) d'alumine dopée par de l'hafnium, une couche de barrière thermique (5).\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'au moins l'une des étapes de dépôt est réalisée par dépôt physique en phase vapeur PVD, 30 de préférence par pulvérisation cathodique.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le dépôt est réalisé par pulvérisation cathodique à une température comprise entre 100°C et 900°C, sous une pression comprise entre 0,1Pa et 1Pa, avec une densité de 3052464 puissance comprise entre 2 et 15 W/cm2 et une polarisation négative comprise entre -500 V et -150 V et sous un bombardement ionique entre -200V et 500V pendant 10 à 30 minutes.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une quelconque des revendications 5 précédentes, caractérisé en ce que le traitement de diffusion de la première couche (2) comprenant de l'hafnium et/ou de la troisième couche (4) d'hafnium est réalisé par un traitement thermique sous vide ou en présence d'un mélange d'argon et de 5% en volume d'hélium, ce traitement thermique comprenant une étape de montée en température jusqu'à atteindre une température comprise 10 entre 800°C et 1200°C, une étape de maintien de cette température pendant 1 heure à 4 heures et une étape de refroidissement par diminution de la température jusqu'à atteindre la température ambiante.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le traitement d'oxydation de la deuxième zone d'interdiffusion (41) est réalisé par un traitement thermique sous pression partielle d'oxygène ou d'argon, ce traitement thermique comprenant une étape de montée en température jusqu'à atteindre une température comprise entre 900°C et 1200°C, une étape de maintien de cette température pendant moins d'une heure et une étape de refroidissement jusqu'à atteindre la température ambiante.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la première couche (2) comprenant du hafnium présente une épaisseur comprise entre 50 nm et 800 nm, de préférence comprise entre 50 nm et 300 nm.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la sous-couche d'un alliage comprenant au moins 10% atomique d'aluminium est choisie parmi NiAI, NiPtAI ou MCrAIY avec M égal au cobalt, au nickel ou au cobalt-nickel.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, 30 caractérisé en ce que la sous-couche d'un alliage comprenant au moinsl0% atomique d'aluminium présente une épaisseur comprise entre 5 unn et 30 unn.\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la deuxième couche comprenant de l'hafnium présente une épaisseur comprise entre 20 nm et 700 nm. 3052464 11\n<CLM>\1\tProcédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la troisième couche (4) comprenant de l'hafnium présente une épaisseur comprise entre 10 nm et 100 nm. 5