Brevet FR3045641A1 (20170623)
REVENDICATIONS1. Composition silicone C réticulable par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm, comprenant : - au moins un photoamorceur radicalaire A ; et - au moins un co-amorceur B choisi parmi les composés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.\n<CLM>\1\tComposition C selon la revendication 1, dans laquelle le co-amorceur B comprend au moins une liaison siloxane et au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.\n<CLM>\1\tComposition selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle le co-amorceur B est choisi parmi les organohydrogénopolysiloxanes.\n<CLM>\1\tComposition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans laquelle le co-amorceur B comprend au moins 0,05 mole de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B et de préférence au moins 0,08 moles de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B.\n<CLM>\1\tComposition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans laquelle le photoamorceur radicalaire A est choisi dans le groupe constitué par la benzophénone et ses dérivés, la thioxanthone et ses dérivés, l'anthraquinone et ses dérivés, les esters de benzoyle formate, la camphorquinone, le benzile, le phénanthrènequinone, les coumarines et cétocoumarines, et leurs mélanges.\n<CLM>\1\tComposition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans laquelle le photoamorceur radicalaire A est la benzophénone. 30\n<CLM>\1\tComposition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, comprenant un organopolysiloxane D comportant au moins un groupe (méth)acrylate. 35 3045641 40\n<CLM>\1\tComposition C selon la revendication 7, dans laquelle l'organopolysiloxane D comprend : a1) au moins un motif de formule (I) suivante : RaZbSi0(4-a-b)/2 (I) 5 formule dans laquelle : - les symboles R, identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en C1 à C15 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à C12, éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, ou un radical alkoxy -OR4 avec R4 étant un atome d'hydrogène ou un radical hydrocarboné 10 comprenant de 1 à 10 atomes de carbone, - les symboles Z sont des radicaux monovalents de formule -y-(Y'), dans laquelle : - y représente un radical polyvalent alkylène linéaire ou ramifié en Cl-C15 éventuellement prolongé par des radicaux bivalents oxyalkylène ou 15 polyoxyalkylène en C1 à C4 éventuellement substitué par un radical hydroxy, - Y' représente un radical monovalent alcénylcarbonyloxy, et - n est égal à 1, 2 ou 3, et - a est un nombre entier égal à 0, 1 ou 2, b est un nombre entier égal à 1 ou 2 et la somme a+b= 1, 2 ou 3 ; et 20 a2) éventuellement des motifs de formule (II) suivante : RaSi0(4-a)/2 (II) formule dans laquelle : - les symboles R, identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en C1 à C15 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à C12, 25 éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, et - a est un nombre entier égal à 0, 1, 2 ou\n<CLM>\1\t9. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans laquelle le ratio entre le nombre de moles de photoamorceur radicalaire A et le nombre de moles de fonctions Si-H du co-amorceur B est supérieur ou égal à 0,5, de préférence compris entre 0,5 et 20, et encore plus préférentiellement compris entre 1 et\n<CLM>\1\t10. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans laquelle la concentration en fonctions Si-H est inférieure ou égale à 0,01 mole pour 3045641 41 100 g de composition C, et de préférence comprise entre 0,0002 et 0,01 mole pour 100 g de composition C.\n<CLM>\1\tComposition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans 5 laquelle la concentration en photoamorceur radicalaire A est comprise entre 0,0003 et 0,015 mole pour 100 g de composition C.\n<CLM>\1\tUtilisation de la composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, pour la préparation de films silicones à propriétés anti- 10 adhérentes.\n<CLM>\1\tElastomère de silicone obtenu par réticulation d'une composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à\n<CLM>\1\t15\n<CLM>\1\tProcédé de préparation de films silicones à propriétés anti-adhérentes, comprenant une étape de réticulation d'une composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à\n<CLM>\1\t15. Procédé selon la revendication 14, dans laquelle l'étape de réticulation 20 est effectuée sous air ou sous atmosphère inerte.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 14, dans laquelle l'étape de réticulation est effectuée par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm. 25\n<CLM>\1\tProcédé de préparation d'un revêtement sur un substrat, comprenant les étapes suivantes : - l'application d'une composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 11 sur un substrat, et 30 - la réticulation de ladite composition par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm.\n<CLM>\1\tSubstrat revêtu susceptible d'être obtenu selon le procédé selon la revendication\n<CLM>\1\t35 3045641 42\n<CLM>\1\tComposition C selon la revendication 1, dans laquelle le photoamorceur radicalaire A est choisi parmi les composés (2), (4), (5), (6), (7), (7bis) et (9) de formules suivantes : 20 (7bis) CH3 CH3 25 (9) O CH3 15 (4) 10 Si(Me) Si(Me)3 oCH3 (5) (7) (6)