Brevet FR3041813A1 (20170331)
REVENDICATIONS1. Procédé de polissage d'un substrat caractérisé en ce qu'il comprend: la fourniture du substrat, où le substrat a un élément en dioxyde de silicium exposé; la fourniture d'une composition de polissage mécano-chimique, comprenant, comme composants initiaux: de l'eau, 0,01 à 40 % en poids d'un abrasif de type silice colloïdale; un composé de zirconyle; et 0 % en poids d'un oxydant; où le pH de la composition de polissage mécano-chimique est ... 6; la fourniture d'un tampon de polissage mécano-chimique comportant une surface de polissage; la distribution de la composition de polissage mécano-chimique sur la surface de polissage du tampon de polissage mécano-chimique à proximité d'une interface entre le tampon de polissage mécano-chimique et le substrat; et la création d'un contact dynamique à l'interface entre le tampon de polissage mécano-chimique et le substrat avec une force d'appui de 0,69 à 34,5 kPa; où le substrat est poli; où une certaine partie de l'élément en dioxyde de silicium exposé est retirée du substrat.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que l'élément en dioxyde de silicium exposé est dérivé d'un orthosilicate de tétraéthyle. 3041813 19\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 2 caractérisé en ce que la composition de polissage mécano-chimique est sans inhibiteur de corrosion.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 2 caractérisé en ce que la 5 composition de polissage mécano-chimique a une vitesse de retrait du dioxyde de silicium _?. 1000 Â (1010 m)/min avec une vitesse du plateau de 93 tours par minute, une vitesse du support de 87 tours par minute, un débit de composition de polissage mécano-chimique de 200 mL/min, une force d'appui nominale de 20,68 kPa sur une machine de polissage de 300 10 mm; et le tampon de polissage mécano-chimique fourni comprend une couche de polissage en polyuréthane contenant des microparticules à noyau creux polymériques et un sous-tampon non tissé imprégné de polyuréthane.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 3 caractérisé en ce que la 15 composition de polissage mécano-chimique a une vitesse de retrait du dioxyde de silicium . -k 1000 Â (1040 m)/min avec une vitesse du plateau de 93 tours par minute, une vitesse du support de 87 tours par minute, un débit de composition de polissage mécano-chimique de 200 mL/min, une force d'appui nominale de 20,68 kPa sur une machine de polissage de 300 20 mm; et le tampon de polissage mécano-chimique fourni comprend une couche de polissage en polyuréthane contenant des microparticules à noyau creux polymériques et un sous-tampon non tissé imprégné de polyuréthane.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que la 25 composition de polissage mécano-chimique fournie consiste en, comme composants initiaux: de l'eau, 0,1 à 40 % en poids de l'abrasif de type silice colloïdale; le composé de zirconyle; et un acide inorganique. 3041813 20\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 6 caractérisé en ce que l'élément en dioxyde de silicium exposé est dérivé d'un orthosilicate de tétraéthyle.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 7 caractérisé en ce que la 5 composition de polissage mécano-chimique a une vitesse de retrait du dioxyde de silicium ?., 1000 Â (10-1° m)/min avec une vitesse du plateau de 93 tours par minute, une vitesse du support de 87 tours par minute, un débit de composition de polissage mécano-chimique de 200 mL/min, une force d'appui nominale de 20,68 kPa sur une machine de polissage de 300 10 mm; et le tampon de polissage mécano-chimique fourni comprend une couche de polissage en polyuréthane contenant des microparticules à noyau creux polymériques et un sous-tampon non tissé imprégné de polyuréthane.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 6 caractérisé en ce que le 15 composé de zirconyle est le chlorure de zirconyle et l'acide inorganique est l'acide chlorhydrique.\n<CLM>\1\tProcédé selon la revendication 9 caractérisé en ce que l'élément en dioxyde de silicium exposé est dérivé d'un orthosilicate de tétraéthyle; et la composition de polissage mécano-chimique a une vitesse 20 de retrait du dioxyde de silicium ? 1000 Â (1040 m)/min avec une vitesse du plateau de 93 tours par minute, une vitesse du support de 87 tours par minute, un débit de composition de polissage mécano-chimique de 200 mL/min, une force d'appui nominale de 20,68 kPa sur une machine de polissage de 300 mm; et le tampon de polissage mécano-chimique fourni 25 comprend une couche de polissage en polyuréthane contenant des microparticules à noyau creux polymériques et un sous-tampon non tissé imprégné de polyuréthane.