FR 3073279 A1 20190510 FR 1760536 A 20171109 SYSTEME DE MESURE D'UN DIAMETRE ET/OU D'UNE EPAISSEUR D'UNE CIBLE DISPOSEE DANS UNE CHAMBRE DE DEPOT D'UN EQUIPEMENT DE DEPOT DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE ET ART ANTÉRIEUR L'invention concerne le domaine des équipements, ou systèmes, de dépôt utilisant des cibles, par exemple rotative (cylindrique) ou plane, depuis lesquelles un matériau déposé est issu. L'invention s'applique avantageusement pour réaliser une mesure de l'usure de cibles utilisées dans des équipements de dépôt PVD (« Physical Vapor Deposition », ou dépôt physique en phase vapeur). Une étape fréquemment mise en oeuvre au cours des procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs, par exemple de cellules photovoltaïques, consiste à disposer les substrats semi-conducteurs servant à la réalisation de ces dispositifs dans un équipement de dépôt PVD afin de réaliser un dépôt PVD de matériau sur ces substrats. Les substrats sont posés sur un plateau, ou support, et ce plateau est disposé dans la chambre de dépôt de l'équipement pour effectuer le dépôt de matériau souhaité. Au cours de ce dépôt, le plateau se déplace linéairement dans la chambre de dépôt et passe, au cours de son déplacement, en regard d'une ou plusieurs cibles comprenant le matériau à déposer. Une cible se présente par exemple sous la forme d'un cylindre ou d'un élément plan (par exemple en forme de disque ou rectangulaire) dont la surface extérieure comporte un matériau spécifique qui, sous l'action d'un plasma généré dans la chambre de dépôt, de dépose sur les substrats. Les cibles sont positionnées en haut et/ou en bas de la chambre, ce qui permet de faire un dépôt sur la face avant et/ou sur la face arrière du substrat présent dans la chambre. Des cibles sont présentes sur les parois supérieure et inférieure de la chambre de dépôt notamment lors de la réalisation de cellules photovoltaïques car les substrats reçoivent dans ce cas des traitements sur leurs faces avant et arrière. La figure 1 représente schématiquement l'intérieur d'une chambre de dépôt PVD 10 dans laquelle un plateau 12 supportant plusieurs substrats 14 se déplace 2 linéairement selon la direction représentée par la flèche 16. Au cours de son déplacement, le plateau 12 passe en regard d'une première cible 18 disposée contre une paroi inférieure de la chambre de dépôt 10 et d'une deuxième cible 20 disposée contre une paroi supérieure de la chambre de dépôt 10. 5 A mesure que le matériau présent initialement sur une cible est déposé sur des substrats, la cible s'use jusqu'à ce que celle-ci ne comporte plus de matériau à déposer. Le suivi de l'usure d'une cible se fait généralement par un suivi de la consommation électrique liée à la génération du plasma dans la chambre de dépôt. En effet, plus cette consommation électrique est importante, plus la quantité de plasma qui 10 a été générée l'est également. Or, la quantité de plasma générée est liée à la quantité de matériau déposé et donc au diamètre (cas d'une cible rotative ou cylindrique) ou à l'épaisseur (cas d'une cible plane) restante de la cible et donc à la quantité de matériau restant sur la cible. Toutefois, le rapport entre la consommation électrique et la quantité restante de matériau sur la cible varie en fonction du matériau de la cible. Il est donc 15 difficile d'estimer précisément l'usure des cibles à partir de la seule connaissance de la consommation électrique liée à la génération de plasma au sein de la chambre de dépôt. Une deuxième solution pour déterminer l'usure des cibles consiste à ouvrir la chambre de dépôt et à réaliser une mesure manuelle du diamètre ou de l'épaisseur restante de matériau de la cible. Cela nécessite toutefois un arrêt complet du 20 fonctionnement de l'équipement de dépôt, ce qui en production ne peut se faire que pendant une intervention de maintenance. Une telle ouverture de la chambre de dépôt est également contraignante pour les opérateurs devant ouvrir la chambre de dépôt. EXPOSÉ DE L'INVENTION Un but de la présente invention est de proposer une solution 25 permettant de déterminer l'usure d'une cible présente dans un équipement de dépôt sans les inconvénients précédemment décrits, c'est-à-dire permettant de déterminer cette usure de manière précise sans nécessiter une intervention d'un opérateur pour ouvrir la chambre de dépôt. 3 Pour cela, la présente invention propose un système de mesure d'un diamètre et/ou d'une épaisseur d'au moins une cible disposée dans une chambre de dépôt d'un équipement de dépôt, comprenant au moins : - un support adapté pour être disposé et déplacé dans la chambre de 5 dépôt ; - un dispositif de mesure télémétrique disposé sur le support et apte à mesurer une distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible ; - un dispositif de calcul apte à déterminer la valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible à partir de mesures de la distance entre le dispositif de mesure 10 télémétrique et la cible réalisées par le dispositif de mesure télémétrique. Ce système de mesure permet de réaliser une mesure du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible qui représente directement la quantité de matériau à déposer restant sur la cible, et donc l'usure de celle-ci. Cela assure une mesure précise de ce diamètre et/ou de cette épaisseur de la cible, et donc également une mesure précise 15 de l'usure de la cible. Ce système de mesure fait appel à un dispositif de mesure télémétrique disposé sur un support adapté pour être disposé et déplacé, notamment linéairement, dans la chambre de dépôt, comme ceux utilisés pour déplacer des substrats dans la chambre de dépôt. Ainsi, il n'est pas nécessaire qu'un opérateur ouvre la chambre de 20 dépôt pour aller mesurer le diamètre et/ou l'épaisseur de la cible pour déterminer son usure. A partir des mesures de distance réalisées par le dispositif de mesure télémétrique, le dispositif de calcul en déduit la valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible. 25 Le système de mesure réalise une mesure du diamètre d'une cible lorsque cette cible est cylindrique ou rotative, et réalise une mesure de l'épaisseur d'une cible lorsque cette cible est plane (par exemple en forme de disque ou rectangulaire). Le dispositif de mesure télémétrique peut comporter plusieurs télémètres aptes à émettre des signaux de mesure depuis deux faces principales opposées du support. Cette configuration est bien adaptée pour mesurer le diamètre 4 et/ou l'épaisseur d'au moins deux cibles présentes sur les parois supérieure et inférieure de la chambre de dépôt, c'est-à-dire une chambre de dépôt permettant un dépôt de matériau sur les faces avant et arrière de substrats comme par exemple lors de la réalisation de cellules photovoltaïques, et notamment des cellules photovoltaïques à base 5 de silicium. Le dispositif de mesure télémétrique peut comporter au moins : - un premier télémètre apte à émettre un premier signal de mesure depuis une face du support et sensiblement perpendiculairement à ladite face du support, et 10 - un deuxième télémètre apte à émettre un deuxième signal de mesure depuis ladite face du support et en formant, avec ladite face du support, un angle compris entre environ 45° et 700 . Selon une configuration avantageuse, le dispositif de mesure télémétrique peut comporter au moins : 15 - une rangée de plusieurs premiers télémètres alignés les uns par rapport aux autres selon une direction d'alignement sensiblement perpendiculaire à une direction de déplacement selon laquelle le support et le dispositif de mesure télémétrique sont destinés à être déplacés au sein de la chambre de dépôt, et - une première rangée de plusieurs deuxièmes télémètres alignés les 20 uns par rapport aux autres selon la direction d'alignement et aptes à émettre des deuxièmes signaux de mesure orientés vers ladite direction de déplacement, et - une deuxième rangée de plusieurs deuxièmes télémètres alignés les uns par rapport aux autres selon la direction d'alignement et aptes à émettre des deuxièmes signaux de mesure orientés vers une direction opposée à ladite direction de 25 déplacement. Le dispositif de mesure télémétrique peut comporter plusieurs télémètres optiques, et notamment de type laser. De tels télémètres sont bien adaptés pour réaliser des mesures de distance dans un environnement sous vide comme c'est le cas dans la chambre de dépôt d'un équipement de dépôt PVD. 5 Une partie des premiers et deuxièmes télémètres peuvent être disposés au niveau de bords latéraux du support et peuvent être aptes à émettre des premiers et deuxièmes signaux de mesure optique de type ligne, c'est-à-dire éclairant une zone longiligne ayant une longueur par exemple comprise entre environ 1 cm et 10 cm, et les 5 autres premiers et deuxièmes télémètres sont aptes à émettre des premiers et deuxièmes signaux de mesure optique ponctuels, c'est-à-dire éclairant une zone sensiblement ponctuelle de dimensions (côté ou diamètre) comprises entre environ 1 mm et 10 mm. Le système de mesure peut comporter en outre un module de 10 communication sans fil disposé sur le support et apte à transmettre les mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible au dispositif de calcul. Le dispositif de calcul peut comporter des moyens aptes à : - mémoriser les mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible ; 15 - calculer la valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible à partir des mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible, de la position du support dans la chambre de dépôt au moment des mesures, et de valeurs de calibration correspondant à des valeurs données du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible en fonction de valeurs données de la distance entre le dispositif de mesure 20 télémétrique et la cible. L'invention concerne également un procédé de mesure d'un diamètre et/ou d'une épaisseur d'au moins une cible disposée dans une chambre de dépôt d'un équipement de dépôt, comprenant au moins la mise en oeuvre des étapes suivantes : a) mettre en place un support et un dispositif de mesure télémétrique 25 d'un système de mesure tel que décrit ci-dessus dans la chambre de dépôt ; b) mesurer plusieurs fois la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible par le dispositif de mesure télémétrique au cours d'un déplacement du support et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt ; 6 c) calculer, par le dispositif de calcul du système de mesure, une valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible à partir des mesures réalisées à l'étape b), des positions du support et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt au moment des mesures réalisées à l'étape b), et de valeurs de calibration 5 correspondant à des valeurs données du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible en fonction de valeurs données de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible. Le procédé peut comporter en outre une phase de calibration mise en oeuvre avant l'étape a), correspondant à la mise en oeuvre des étapes suivantes : 10 - réaliser une mesure manuelle de la valeur du diamètre et/ou l'épaisseur de la cible ; - mettre en place le support et le dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt ; - réaliser plusieurs mesures de calibration correspondant à la distance 15 entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible par le dispositif de mesure télémétrique au cours d'un déplacement du support et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt ; - calculer les valeurs de calibration par interpolation de la mesure manuelle, des mesures de calibration et des positions du support et du dispositif de 20 mesure télémétrique dans la chambre de dépôt au moment des mesures de calibration. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés à titre purement indicatif et nullement limitatif en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels : 25 - la figure 1 représente schématiquement des substrats disposés sur un support se trouvant à l'intérieur d'une chambre de dépôt d'un équipement de dépôt PVD ; - la figure 2 représente schématiquement une partie d'un système de mesure, objet de la présente invention, selon un mode de réalisation particulier ; 7 - la figure 3 représente un schéma fonctionnel d'un système de mesure, objet de la présente invention, selon un mode de réalisation particulier ; - la figure 4 représente un exemple de signal de mesure obtenu avec un télémètre d'un système de mesure, objet de la présente invention ; 5 - les figures 5A et 5B représentent, sous la forme de logigrammes, l'étape de calibration mise en oeuvre par un système de mesure, objet de la présente invention. Des parties identiques, similaires ou équivalentes des différentes figures décrites ci-après portent les mêmes références numériques de façon à faciliter le passage 10 d'une figure à l'autre. Les différentes parties représentées sur les figures ne le sont pas nécessairement selon une échelle uniforme, pour rendre les figures plus lisibles. Les différentes possibilités (variantes et modes de réalisation) doivent être comprises comme n'étant pas exclusives les unes des autres et peuvent se combiner 15 entre elles. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS On se réfère tout d'abord à la figure 2 qui représente une partie d'un système de mesure 100 utilisé pour mesurer un diamètre et/ou une épaisseur d'au moins une cible disposée dans une chambre de dépôt d'un équipement de dépôt. 20 Le système de mesure 100 comporte un support 102 adapté pour être disposé dans la chambre de dépôt dans laquelle le diamètre et/ou l'épaisseur d'une ou plusieurs cibles sont mesurées. Ce support 102 peut avoir par exemple une forme et des dimensions similaires à celles d'un plateau sur lequel des substrats sont destinés à être disposés pour subir une étape de dépôt PVD au sein de cette chambre de dépôt. Un tel 25 plateau correspond par exemple au plateau 12 représenté sur la figure 1. Le système de mesure 100 comporte également un dispositif de mesure télémétrique disposé sur le support 102 et apte à mesurer une distance entre ce dispositif de mesure télémétrique et la ou les cibles dont le diamètre et/ou l'épaisseur sont mesurés. Ce dispositif de mesure télémétrique comporte par exemple plusieurs 8 télémètres 104 disposés sur le support 102. Le nombre de télémètres 104 de ce dispositif de mesure télémétrique est par exemple supérieur ou égal à 6. Sur l'exemple de réalisation représenté sur la figure 2, les télémètres 104 sont disposés sur une première face principale 106 du support 102 et sont aptes à 5 émettre des signaux de mesure 108 depuis cette première face principale 106. Ainsi, les télémètres 104 sont aptes à mesurer une distance entre eux et la cible qui se trouve en regard de la première face principale 106. Lorsque la chambre de dépôt est pourvue de cibles se trouvant sur des parois opposées, par exemple sur la paroi supérieure et sur la paroi inférieure comme c'est le cas sur l'exemple représenté sur la figure 1, il est 10 avantageux que le système de mesure 100 comporte des télémètres 104 disposés sur les deux faces principales opposées du support 102 afin que les diamètres et/ou les épaisseurs des cibles se trouvant sur les deux parois opposées de la chambre de dépôt soient mesurés simultanément par le système de mesure 100. Sur la figure 2, les télémètres 104 présents sur la face opposée à la première face principale 106 ne sont pas 15 visibles. Lorsque la chambre de dépôt est destinée à fonctionner avec un environnement sous vide, comme c'est le cas pour un équipement de dépôt PVD, les télémètres 104 sont des télémètres optiques, et avantageusement des télémètres laser. Dans ce cas, les signaux de mesure 108 émis par ces télémètres 104 correspondent à des 20 signaux lumineux laser. De tels télémètres 104 peuvent calculer la distance qui est mesurée à partir de la mesure du déphasage entre le signal de mesure 108 émis et le signal lumineux reçu par le télémètre laser 104 après d'être réfléchi sur une surface atteinte par le signal de mesure 108. Les télémètres 104 présents sur le support 102 envoient différemment 25 leur signaux de mesure 108 suivant leur position sur le support 102. En effet, afin de pouvoir bien identifier la cible lors du déplacement du support 102 dans la chambre de dépôt, certains télémètres 104.1, appelés premiers télémètres, sont aptes à émettre des premiers signaux de mesure 108.1 qui sont orientés sensiblement perpendiculairement à la face du support 102 depuis laquelle les premiers signaux de mesure 108.1 sont émis 30 (sensiblement perpendiculairement à la première face principale 106 sur l'exemple 9 représenté sur la figure 2). D'autres télémètres 104.2, appelés deuxièmes télémètres, sont aptes à émettre des deuxièmes signaux de mesure 108.2 qui sont orientés en formant, avec la face du support 102 depuis laquelle ces deuxièmes signaux de mesure 108.2 sont émis, un angle compris entre environ 45° et 70°. Grâce à cette inclinaison des 5 deuxièmes signaux de mesure, il est possible de bien identifier, lors du déplacement du support 102 et des télémètres 104 dans la chambre de dépôt, le moment où les signaux de mesure atteignent la ou les cibles. Les télémètres 104 sont par exemple agencés selon une configuration avantageuse dans laquelle les télémètres 104 sont disposés les uns à côté des autres en 10 formant plusieurs rangées telles que les télémètres 104 soient alignés selon une direction d'alignement qui est sensiblement perpendiculaire à une direction de déplacement selon laquelle le support 102 et les télémètres 104 sont destinés à être déplacés dans la chambre de dépôt. Chaque rangée de télémètres 104 est par exemple formée d'au moins trois télémètres 104, et le système de mesure 100 peut comporter au moins deux rangées 15 de télémètres 104. Cette direction de déplacement du support 102 et des télémètres 104 dans la chambre de dépôt, représentée symboliquement sur la figure 2 par la flèche référencées 110, est similaire à la direction du déplacement d'un plateau servant de support à des substrats et disposé dans la chambre de dépôt lors de la mise en oeuvre d'un dépôt de matériau sur ces substrats. 20 De plus, une ou plusieurs rangées 105 de premiers télémètres 104.1 (une seule rangée de premiers télémètres 104.1 est représentée sur la figure 2) sont disposés entre des rangées 107 de deuxièmes télémètres 104.2. Sur la figure 2, une première rangée 107.1 de deuxièmes télémètres 104.2 sont aptes à émettre des deuxièmes signaux de mesure 108.2 qui sont orientés vers la direction de déplacement 25 110. Cette première rangée 107.1 de deuxièmes télémètres 104.2 est disposée au niveau du bord avant du support 102. En outre, une deuxième rangée 107.2 de deuxièmes télémètres 104.2 sont aptes à émettre des deuxièmes signaux de mesure 108.2 qui sont orientés vers une direction opposée à la direction de déplacement 110. Les télémètres lasers 104 utilisés peuvent émettre soit des signaux de 30 mesure laser ponctuel, éclairant par exemple une zone de dimensions égales à quelques 10 millimètres, soit des signaux de mesure laser de type ligne, éclairant par exemple une zone de forme longiligne et de longueur égale à quelques centimètres. Dans une configuration avantageuse permettant d'obtenir une bonne précision de mesure, les télémètres 104 se trouvant au niveau de bords latéraux (bords parallèles à la direction de 5 déplacement 110) du support 102 peuvent être aptes à émettre des signaux de mesure laser de type ligne et les autres télémètres 104 peuvent être aptes à émettre des signaux de mesure laser ponctuels. Le système de mesure 100 est représenté sous la forme d'un schéma fonctionnel sur la figure 3. 10 Le système de mesure 100 comporte également un dispositif de calcul 112 apte à déterminer la valeur du diamètre et/ou l'épaisseur de la ou des cibles présentes dans la chambre de dépôt, à partir des mesures effectuées par les télémètres 104. Ce dispositif de calcul 112 comporte notamment une ou plusieurs unités de calcul correspondant par exemple à des microprocesseurs, ainsi que d'autres circuits 15 électroniques tels que des circuits de mémoire. Ce dispositif de calcul 112 peut notamment correspondre à un ordinateur. Le système de mesure 100 comporte également un module de communication sans fil 114, non visible sur la figure 2 mais représenté symboliquement sur la figure 3, embarqué sur le support 102 et apte à transmettre les mesures réalisées 20 par les télémètres 104 au dispositif de calcul 112. Le module de communication sans fil 114 peut réaliser une transmission par ondes radio, par exemple de type wifi, Bluetooth, ZigBee, etc. Il est également possible que le système de mesure 100 comporte une caméra disposée sur le support 102 permettant d'obtenir un état visuel de l'intérieur de 25 la chambre de dépôt lorsque le support 102 est disposé dans la chambre de dépôt, lors des mesures. Enfin, le système de mesure 100 comporte une alimentation électrique 116 par exemple formée d'une ou plusieurs batteries embarquées sur le support 102 et assurant l'alimentation électrique des télémètres 104 et du module de communication 30 sans fil 114 (et de la caméra éventuellement présente sur le support 102). 11 Lors de l'utilisation du système de mesure 100 dans un équipement de dépôt comprenant une cible dont l'usure est destinée à être mesurée par le système de mesure 100, une phase de calibration, ou d'apprentissage, est tout d'abord mise en oeuvre. Les figures 5A et 5B représentent sous la forme de logigrammes cette phase de 5 calibration. Au cours de cette phase de calibration, une mesure manuelle, c'est-à-dire réalisée par un opérateur, du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible est réalisée (étape 202). Ces valeurs sont entrées et mémorisées dans le dispositif de calcul 112. Le support 102 sur lequel sont disposés les télémètres 104 et le module 10 de communication sans fil 114 est ensuite introduit dans la chambre de dépôt (étape 204). Le support 102 est alors déplacé le long du trajet suivi normalement par les substrats lors d'une étape de dépôt sur ces substrats. Au cours de ce déplacement, les télémètres 104 réalisent plusieurs mesures de distances (étape 206). Un exemple de signal 200 de mesure obtenu et fourni par les télémètres 15 104 est représenté sur la figure 4. Ce signal 200 représente la distance d mesurée par ces télémètres 104 en fonction du temps, et donc en fonction du déplacement des télémètres 104 dans la chambre de dépôt. On voit sur la figure 4 que la valeur de la distance d est constante entre la valeur t = 0 et t = t1, et que cette valeur de la distance d entre les instants t = 0 et t1 représente la distance entre les télémètres 104 et la paroi de 20 la chambre de dépôt se trouvant en face des télémètres 104. Entre les instants t1 et t2, la valeur de la distance d mesurée diminue car au moins une partie des signaux de mesure émis par les télémètres 104 rencontrent alors la cible mesurée. A partir de l'instant t2, les signaux de mesure émis par les télémètres 104 rencontrent de nouveau la paroi de la chambre de dépôt se trouvant en face des télémètres 104 et la valeur de la distance 25 mesurée par les télémètres 104 reprend donc la valeur initiale de la distance d obtenue entre les instants t = 0 et t1 et correspondant à la distance entre les télémètres 104 et la paroi de la chambre de dépôt. Les différentes mesures réalisées, appelées mesures de calibration, sont transmises au dispositif de calcul 112 par l'intermédiaire du module de communication 12 sans fil 114 (étape 208). L'acquisition et la transmission des mesures sont réalisées jusqu'à la fin du parcours du support 102 dans la chambre de dépôt (étape 210). Les données mesurées, correspondant aux mesures de calibration, envoyées par le module de communication sans fil 114 sont reçues par le dispositif de 5 calcul 112 (étape 212). Chacune de ces données est associée à l'instant auquel les télémètres 104 ont réalisés la mesure de cette donnée. A partir des données mesurées reçues, le dispositif de calcul 112 détermine l'instant t1 en détectant un front descendant de la courbe du signal 200 (étape 214) signifiant que la valeur de la distance d mesurée diminue et donc que les signaux de 10 mesure émis par les télémètres 104 rencontrent la cible. Le dispositif de calcul 112 détermine également l'instant t2 à partir duquel une stabilisation de la valeur de la distance d a lieu après un front montant de la courbe du signal 200 (étape 216), signifiant que les signaux de mesure émis par les télémètres 104 rencontrent de nouveau la paroi de la chambre de dépôt. La détection des fronts de la courbe du signal 200 peut être 15 réalisée via un calcul de dérivée de ce signal. A partir des mesures de calibration, de la position du support 102 dans la chambre de dépôt au moment de chacune des mesures (position qui est connue par exemple en connaissant la vitesse de déplacement du support 102 dans la chambre de dépôt), ainsi que de la ou des mesures du diamètre et/ou de l'épaisseur prises 20 manuellement et enregistrées, le dispositif de calcul 112 réalise alors le calcul, par interpolation de ces données, de valeurs de calibration donnant, en fonction de valeurs données de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible, des valeurs du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible. Par exemple, à partir du signal 200, le dispositif de calcul 112 détermine 25 la valeur At = t2 - t1 (étape 218) et un coefficient de conversion C = Dref/At (étape 220), avec Dref correspondant au diamètre et/ou à l'épaisseur de la cible mesurée manuellement précédemment, peut donc être déterminé. Après une certaine durée d'utilisation de l'équipement de dépôt, et lorsqu'une vérification de l'usure de la ou des cibles présentes dans la chambre de dépôt 30 doit être réalisée, les étapes 204 à 216 précédemment décrites sont mises en oeuvre. 13 Comme lors de la phase de calibration, le support 102 est déplacé le long du trajet suivi normalement par les substrats lors d'une étape de dépôt de matériau sur ces substrats. Au cours de ce déplacement, les télémètres 104 réalisent plusieurs mesures de distances. Les différentes mesures réalisées sont transmises au dispositif de calcul 112 par 5 l'intermédiaire du module de communication sans fil 114. Le dispositif de calcul 112 interprète ensuite ces mesures en fonction de la position du support 102 au sein de la chambre de dépôt. Des instants t1' et t2', analogues aux instants t1 et t2 déterminés lors de la phase de calibration, sont déterminés à partir des mesures réalisées. La position à partir de laquelle la ou les cibles 10 commencent à être détectées, correspondant à l'instant t1', est notamment déterminée. En croisant les mesures réalisées avec les valeurs de calibration précédemment calculées, l'usure de la cible peut être déterminée à partir de la valeur de t1' - t1. Ensuite, du fait que le dispositif de calcul 112 a en mémoire la géométrie exacte de la ou des cibles dans leur état initial en fonction de la distance mesurée par les télémètres 104, les mesures 15 transmises sont interprétées et la valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la ou des cibles est calculée à partir de la valeur de C.(t2' - t1'). REVENDICATIONS1. Système (100) de mesure d'un diamètre et/ou d'une épaisseur d'au moins une cible disposée dans une chambre de dépôt d'un équipement de dépôt, comprenant au moins : - un support (102) adapté pour être disposé et déplacé dans la chambre de dépôt ; - un dispositif de mesure télémétrique disposé sur le support (102) et apte à mesurer une distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible ; - un dispositif de calcul (112) apte à déterminer la valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible à partir de mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible réalisées par le dispositif de mesure télémétrique. 2. Système (100) de mesure selon la revendication 1, dans lequel le dispositif de mesure télémétrique comporte plusieurs télémètres (104) aptes à émettre des signaux de mesure (108) depuis deux faces principales opposées du support (102). 3. Système (100) de mesure selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le dispositif de mesure télémétrique comporte au moins : - un premier télémètre (104.1) apte à émettre un premier signal de mesure (108.1) depuis une face (106) du support (102) et sensiblement perpendiculairement à ladite face (106) du support (102), et - un deuxième télémètre (104.2) apte à émettre un deuxième signal de mesure (108.2) depuis ladite face (106) du support (102) et en formant, avec ladite face (106) du support (102), un angle compris entre environ 45° et 70°. 4. Système (100) de mesure selon la revendication 3, dans lequel le dispositif de mesure télémétrique comporte au moins : - une rangée (105) de plusieurs premiers télémètres (104.1) alignés les 30 uns par rapport aux autres selon une direction d'alignement sensiblement 15 perpendiculaire à une direction de déplacement (110) selon laquelle le support (102) et le dispositif de mesure télémétrique sont destinés à être déplacés au sein de la chambre de dépôt, et - une première rangée (107.1) de plusieurs deuxièmes télémètres 5 (104.2) alignés les uns par rapport aux autres selon la direction d'alignement et aptes à émettre des deuxièmes signaux de mesure (108.2) orientés vers ladite direction de déplacement (110), et - une deuxième rangée (107.2) de plusieurs deuxièmes télémètres (104.2) alignés les uns par rapport aux autres selon la direction d'alignement et aptes à 10 émettre des deuxièmes signaux de mesure (108.2) orientés vers une direction opposée à ladite direction de déplacement (110). 5. Système (100) de mesure selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le dispositif de mesure télémétrique comporte plusieurs 15 télémètres (104) laser. 6. Système (100) de mesure selon l'une des revendications 4 et 5, dans lequel une partie des premiers et deuxièmes télémètres (104.1, 104.2) sont disposés au niveau de bords latéraux du support (102) et sont aptes à émettre des premiers et 20 deuxièmes signaux de mesure (108.1, 108.2) optique de type ligne, et les autres premiers et deuxièmes télémètres (104.1, 104.2) sont aptes à émettre des premiers et deuxièmes signaux de mesure (108.1, 108.2) optique ponctuels. 7. Système (100) de mesure selon l'une des revendications 25 précédentes, comportant en outre un module de communication sans fil (114) disposé sur le support (102) et apte à transmettre les mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible au dispositif de calcul (112). 8. Système (100) de mesure selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le dispositif de calcul (112) comporte des moyens aptes à : 16 - mémoriser les mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible ; - calculer la valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible à partir des mesures de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible, de la 5 position du support (102) dans la chambre de dépôt au moment de chacune des mesures, et de valeurs de calibration correspondant à des valeurs données du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible en fonction de valeurs données de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible. 10 9. Procédé de mesure d'un diamètre et/ou d'une épaisseur d'au moins une cible disposée dans une chambre de dépôt d'un équipement de dépôt, comprenant au moins la mise en oeuvre des étapes suivantes : a) mettre en place un support (102) et un dispositif de mesure télémétrique d'un système (100) de mesure selon l'une des revendications précédentes 15 dans la chambre de dépôt ; b) mesurer plusieurs fois la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible par le dispositif de mesure télémétrique au cours d'un déplacement du support (102) et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt ; 20 c) calculer, par le dispositif de calcul (112) du système (100) de mesure, une valeur du diamètre et/ou de l'épaisseur de la cible à partir des mesures réalisées à l'étape b), des positions du support (102) et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt au moment des mesures réalisées à l'étape b), et de valeurs de calibration correspondant à des valeurs données du diamètre et/ou de l'épaisseur de la 25 cible en fonction de valeurs données de la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible. 10. Procédé de mesure selon la revendication 9, comportant en outre une phase de calibration mise en oeuvre avant l'étape a), correspondant à la mise en 30 oeuvre des étapes suivantes : 17 - réaliser une mesure manuelle de la valeur du diamètre et/ou l'épaisseur de la cible ; - mettre en place le support (102) et le dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt ; 5 - réaliser plusieurs mesures de calibration correspondant à la distance entre le dispositif de mesure télémétrique et la cible par le dispositif de mesure télémétrique au cours d'un déplacement du support et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt ; - calculer les valeurs de calibration par interpolation de la mesure 10 manuelle, des mesures de calibration et des positions du support (102) et du dispositif de mesure télémétrique dans la chambre de dépôt au moment des mesures de calibration.