FR 3063991 A1 20180921 FR 1752157 A 20170316 1 MICRO-DISPOSITIF A PLUSIEURS ELEMENTS MOBILES DISPOSES AU SEIN DE PLUSIEURS CAVITES IMBRIQUEES DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE ET ART ANTÉRIEUR L'invention concerne le domaine des micro-dispositifs, notamment celui des micro-dispositifs de type microsystèmes électromécaniques (MEMS) et/ou nanosystèmes électromécaniques (NEMS) et/ou microsystèmes opto-électromécaniques (MOEMS) et/ou nanosystèmes opto-électromécaniques (NOEMS), comportant des parties mobiles aptes à se déplacer sous l'effet d'une action extérieure (mécanique, électrique, magnétique) par rapport à une partie fixe du dispositif. Par la suite, le terme « micro-dispositif » est utilisé pour désigner en particulier un dispositif de type MEMS et/ou NEMS et/ou MOEMS et/ou NOEMS. Les micro-dispositifs sont généralement réalisés par la mise en oeuvre de techniques classiques de gravure collective d'une plaque de matériau semi-conducteur (par exemple de silicium). Ils sont petits et peu coûteux à fabriquer. Les domaines d'applications peuvent être très variés, allant des produits grands publics jusqu'à des domaines d'applications très spécifiques. Pour leur bon fonctionnement, ces micro-dispositifs sont mis en boîtier. Actuellement, la technique de packaging, ou de mise en boîtier, la plus utilisée dans le domaine des micro-dispositifs est le WLP (« Wafer Level Packaging », ou mise en boîtier à l'échelle du substrat), selon laquelle les micro-dispositifs réalisés sur un même substrat sont mis en boîtier collectivement avant une découpe du substrat désolidarisant les micro-dispositifs les uns des autres. Un premier substrat sur lequel les micro-dispositifs sont réalisés est mis en contact puis scellé avec un second substrat formant des capots des cavités dans lesquelles se trouvent les micro-dispositifs. Ce scellement permet d'encapsuler collectivement les micro-dispositifs sous une atmosphère contrôlée et d'assurer une étanchéité des cavités ainsi obtenues. Cette solidarisation des deux substrats l'un à l'autre peut se faire par un scellement moléculaire, un scellement 3063991 2 anodique, ou bien encore par un scellement eutectique ou par thermocompression utilisant un cordon de scellement entre les substrats. Un tel cordon de scellement comporte par exemple l'un des eutectiques suivants : Al-Ge, Au-Si, Au-Sn, etc. Sur un même substrat, plusieurs types de micro-dispositifs, 5 correspondant notamment à des capteurs, peuvent être présents : accéléromètres, gyroscopes, magnétomètres, etc. Cependant, ces capteurs ont souvent besoin, pour leur bon fonctionnement, d'être encapsulés sous des pressions différentes. Par exemple, dans le domaine automobile, les accéléromètres nécessitent une pression de fonctionnement de l'ordre de 100 mbar, tandis que les gyromètres, eux, nécessitent des pressions de 10 fonctionnement beaucoup plus faibles (environ 1 ubar). Des matériaux getter peuvent être utilisés pour obtenir ces différentes pressions de fonctionnement, comme cela est décrit dans le document US 2010/0025845 Al. Dans d'autres domaines, il est possible que différents éléments d'un même micro-dispositif nécessitent des pressions de fonctionnement différentes. Ainsi, 15 certains capteurs inertiels sont composés de plusieurs étages de suspension, mobiles les uns vis-à-vis des autres, et fonctionnant à des pressions différentes. Par exemple, pour isoler un système résonant (formé par exemple d'une masse mobile et d'un cadre fixe) vis-à-vis de vibrations extérieures, une simple liaison mobile entre la masse mobile et le cadre fixe n'est pas suffisante. Un double étage de suspension doit dans ce cas être 20 utilisé. Pour cela, le cadre fixe est lié à un élément mobile intermédiaire auquel la masse mobile est reliée. Dans un tel système résonnant, la masse mobile nécessite une pression optimale de fonctionnement P1, tandis que l'étage intermédiaire de suspension formé par l'élément mobile intermédiaire nécessite une pression de fonctionnement P2 différente de P1. 25 Dans le document US 2008/0136000 A1, il est décrit un dispositif MEMS dans lequel différents éléments du micro-dispositif sont encapsulés dans des cavités sous pressions différentes. Toutefois, la solution proposée dans ce document n'est adaptée pour encapsuler un micro-dispositif ayant plusieurs étages de suspension en raison de la mobilité des différents éléments les uns par rapport aux autres. 3063991 3 EXPOSÉ DE L'INVENTION Un but de la présente invention est de proposer un micro-dispositif, par exemple de type MEMS et/ou NEMS, ayant plusieurs étages de suspension, permettant un bon isolement de la partie sensible du micro-dispositif vis-à-vis des vibrations 5 extérieures, et qui permet l'obtention d'atmosphères différentes au sein des différentes cavités du micro-dispositif. Pour cela, l'invention propose un micro-dispositif comportant au moins : - un substrat ; - un élément fixe solidaire du substrat ; 10 - un premier élément mobile suspendu à l'élément fixe par des premiers éléments de maintien, et apte à se déplacer par rapport à l'élément fixe ; - un deuxième élément mobile suspendu au premier élément mobile par des deuxièmes éléments de maintien, et apte à se déplacer par rapport au premier élément mobile et à l'élément fixe ; 15 - une première cavité dont au moins une partie des parois est formée par l'élément fixe et dans laquelle est encapsulé le premier élément mobile ; - une deuxième cavité disposée au sein de la première cavité, dont au moins une partie des parois est formée par le premier élément mobile, dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile et qui est isolée de la première cavité. 20 Ainsi, il est proposé un micro-dispositif comportant plusieurs cavités imbriquées les unes dans les autres et dont les parois sont en partie formées par les différents éléments fixes et mobiles formant les différents étage de suspension du micro-dispositif. On obtient ainsi une structure bien adaptée pour réaliser la filtration des vibrations extérieures, et qui permet d'avoir différentes atmosphères au sein des 25 différentes cavités. Le micro-dispositif peut correspondre notamment à un capteur par exemple inertiel, tel qu'un accéléromètre, un gyroscope, un magnétomètre, un capteur de pression, un microphone, etc. 3063991 4 Le micro-dispositif est compatible avec tout type de mode de détection ou d'excitation du deuxième élément mobile : capacitif, piézoélectrique, piézorésistif, etc. La deuxième cavité peut être fermée, par exemple hermétiquement, vis-à-vis de la première cavité. Plus généralement, la première et/ou la deuxième cavité peut 5 être fermée hermétiquement ou non en fonction des applications visées. Par exemple, lorsque les cavités nécessitent uniquement une isolation vis-à-vis des vibrations, il n'est pas nécessaire de les fermer hermétiquement. Les première et deuxième cavités sont distinctes l'une de l'autre. L'élément fixe peut former un cadre fixe solidaire du substrat et le 10 premier élément mobile peut former un cadre mobile suspendu au cadre fixe. Le cadre fixe et le cadre mobile peuvent avoir chacun une forme sensiblement polygonale ou être en forme d'anneau sensiblement circulaire. Le premier élément mobile peut être apte à se déplacer en translation et/ou en rotation par rapport à l'élément fixe, et/ou le deuxième élément mobile peut 15 être apte à se déplacer en translation et/ou en rotation par rapport au premier élément mobile et à l'élément fixe. Les premiers éléments de maintien peuvent comporter des premiers bras de maintien en suspension dont les extrémités sont reliées à l'élément fixe et au premier élément mobile, et/ou les deuxièmes éléments de maintien peuvent comporter 20 des deuxièmes bras de maintien en suspension dont les extrémités sont reliées au premier élément mobile et au deuxième élément mobile. Dans un mode de réalisation particulier, les première et deuxième cavités peuvent avoir leur centre alignés l'un au-dessus de l'autre selon un axe sensiblement perpendiculaire au substrat, et notamment sensiblement perpendiculaire 25 aux faces principales (faces de plus grandes dimensions) du substrat. Dans ce cas, les première et deuxième cavités sont concentriques l'une par rapport à l'autre. D'autres configurations sont toutefois possibles. Le micro-dispositif peut comporter en outre au moins une première ouverture formée à travers au moins une des parois de la première cavité telle que la pression au sein de la première cavité soit sensiblement égale à une pression extérieure 3063991 5 au micro-dispositif, et/ou au moins une deuxième ouverture formée à travers au moins une des parois de la deuxième cavité telle que la pression au sein de la deuxième cavité soit sensiblement égale à la pression extérieure au micro-dispositif (que la première cavité soit fermée hermétiquement ou non). 5 Le micro-dispositif peut comporter en outre un premier capot solidarisé à l'élément fixe et fermant la première cavité et/ou un deuxième capot solidarisé, par exemple hermétiquement, au premier élément mobile et fermant, par exemple hermétiquement, la deuxième cavité vis-à-vis de la première cavité, le deuxième capot étant mobile par rapport au premier capot et à l'élément fixe. 10 Dans ce cas, le micro-dispositif peut comporter en outre un premier cordon de scellement solidarisant, par exemple hermétiquement, le premier capot à l'élément fixe, et/ou un deuxième cordon de scellement solidarisant, par exemple hermétiquement, le deuxième capot au premier élément mobile, le deuxième cordon de scellement étant mobile par rapport au premier cordon de scellement, au premier capot 15 et à l'élément fixe. Le micro-dispositif peut comporter en outre des éléments de détection et/ou de mesure d'un déplacement du premier élément mobile par rapport à l'élément fixe, et/ou des éléments de détection et/ou de mesure d'un déplacement du deuxième élément mobile par rapport au premier élément mobile, et/ou des éléments aptes à 20 déplacer le premier élément mobile par rapport à l'élément fixe, et/ou des éléments aptes à déplacer le deuxième élément mobile par rapport au premier élément mobile. Le micro-dispositif peut comporter en outre : - un troisième élément mobile disposé entre les premier et deuxième éléments mobiles, suspendu au premier élément mobile par des troisièmes éléments de 25 maintien, apte à se déplacer par rapport au premier élément mobile et à l'élément fixe, et qui est encapsulé dans la deuxième cavité ; - une troisième cavité disposée au sein de la deuxième cavité, dont au moins une partie des parois est formée par le troisième élément mobile, dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile et qui est fermée, par exemple hermétiquement, 30 ou isolée, vis-à-vis de l'atmosphère des première et deuxième cavités ; 3063991 6 et dans lequel le deuxième élément mobile est suspendu au troisième élément mobile par les deuxièmes éléments de maintien, et apte à se déplacer par rapport au troisième élément mobile, au premier élément mobile et à l'élément fixe. On forme ainsi un triple étage de suspension améliorant l'isolation du 5 deuxième élément mobile vis-à-vis de vibrations extérieures. L'invention porte également sur un procédé de réalisation d'un micro-dispositif, comportant au moins : - réalisation d'un élément fixe solidaire d'un substrat ; - réalisation d'un premier élément mobile suspendu à l'élément fixe par 10 des premier éléments de maintien, et apte à se déplacer par rapport à l'élément fixe ; - réalisation d'un deuxième élément mobile suspendu au premier élément mobile par des deuxièmes éléments de maintien, et apte à se déplacer par rapport au premier élément mobile et à l'élément fixe ; - réalisation d'une première cavité dont au moins une partie des parois 15 est formée par l'élément fixe et dans laquelle est encapsulé le premier élément mobile ; - réalisation d'une deuxième cavité disposée au sein de la première cavité, dont au moins une partie des parois est formée par le premier élément mobile, dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile et qui est isolée de la première cavité. 20 La deuxième cavité peut être fermée, par exemple hermétiquement, vis- à-vis de l'atmosphère de la première cavité. Dans ce cas, la réalisation de l'élément fixe, du premier élément mobile et du deuxième élément mobile peut comporter la mise en oeuvre d'étapes de : - gravure d'une première couche de matériau, par exemple de semi- 25 conducteur, disposée sur une première couche sacrificielle, par exemple diélectrique, elle-même disposée sur le substrat, telle que des parties restantes de la première couche de matériau forment l'élément fixe, le premier élément mobile, le deuxième élément mobile, les premiers éléments de maintien et les deuxièmes éléments de maintien, puis 3063991 7 - gravure d'une partie de la première couche sacrificielle à travers la première couche de matériau gravée, rendant mobile le premier élément mobile et le deuxième élément mobile par rapport à l'élément fixe. En outre, la réalisation de la première cavité et de la deuxième cavité 5 peut comporter la mise en oeuvre d'un report d'une deuxième couche de matériau, par exemple de semi-conducteur, sur l'élément fixe et le premier élément mobile tel que : - une première partie de la deuxième couche de matériau soit solidarisée à l'élément fixe, - une deuxième partie de la deuxième couche de matériau, mobile par 10 rapport à la première partie de la deuxième couche de matériau et formant un deuxième capot de la deuxième cavité, soit solidarisé au premier élément mobile, - la première partie de la deuxième couche de matériau est solidarisée à un deuxième substrat tel la deuxième couche de matériau soit disposée entre les élément fixe et mobiles et le deuxième substrat qui forme un premier capot de la première cavité, 15 - la deuxième partie de la deuxième couche de matériau est mobile par rapport au deuxième substrat. La première couche de matériau et/ou la deuxième couche de matériau peut être monolithique (c'est-à-dire formée d'une seule couche de matériau), et peut comporter un semi-conducteur, ou peut être multicouches (c'est-à-dire formée d'un 20 empilement de couches). La couche sacrificielle peut être avantageusement une couche diélectrique. En variante, la réalisation de la première cavité et de la deuxième cavité peut comporter la mise en oeuvre des étapes de : 25 - gravure d'une deuxième couche de matériau, par exemple de semi- conducteur, disposée sur une deuxième couche sacrificielle, par exemple diélectrique, elle-même disposée sur un deuxième substrat, formant une première partie de la deuxième couche de matériau, une deuxième partie de la deuxième couche de matériau et des quatrièmes éléments de maintien tels que la deuxième partie de la deuxième 3063991 8 couche de matériau soit apte à être suspendue à la première partie de la deuxième couche de matériau par les quatrièmes éléments de maintien ; - report de la deuxième couche de matériau sur l'élément fixe et le premier élément mobile tel que la première partie de la deuxième couche de matériau 5 soit solidarisée à l'élément fixe et que la deuxième partie de la deuxième couche de matériau soit solidarisée au premier élément mobile, - gravure d'une partie de la deuxième couche sacrificielle à travers des ouvertures traversant le deuxième substrat, rendant mobile la deuxième partie de la deuxième couche de matériau par rapport à la première partie de la deuxième couche de 10 matériau et au deuxième substrat. Le report de la deuxième couche de matériau sur l'élément fixe et le premier élément mobile peut comporter la mise en oeuvre d'un collage direct entre la deuxième couche de matériau et l'élément fixe et entre la deuxième couche de matériau et le premier élément mobile, ou bien un scellement entre la deuxième couche de 15 matériau et l'élément fixe par un premier cordon de scellement et un scellement entre la deuxième couche de matériau et le premier élément mobile par un deuxième cordon de scellement. Les cordons de scellement peuvent correspondre à des cordons de scellement comprenant un ou plusieurs matériaux polymères, ou des cordons de scellement comprenant un ou plusieurs matériaux métalliques, par exemple des 20 eutectiques. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés à titre purement indicatif et nullement limitatif en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels : 25 - les figures 1A et 1B représentent un micro-dispositif, objet de la présente invention, selon un premier mode de réalisation, - les figures 2A et 2B représentent un micro-dispositif, objet de la présente invention, selon un deuxième mode de réalisation, 3063991 9 - les figures 3 à 7 représentent des micro-dispositifs, objets de la présente invention, selon différentes variantes de réalisation, - les figures 8A à 8F représentent des étapes d'un procédé de réalisation d'un micro-dispositif, objet de la présente invention, selon un mode de réalisation 5 particulier, - la figure 9 représente un micro-dispositif obtenu en mettant en oeuvre un procédé de réalisation, objet de la présente invention, selon une variante du mode de réalisation décrit en lien avec les figures 8A à 8F. Des parties identiques, similaires ou équivalentes des différentes figures 10 décrites ci-après portent les mêmes références numériques de façon à faciliter le passage d'une figure à l'autre. Les différentes parties représentées sur les figures ne le sont pas nécessairement selon une échelle uniforme, pour rendre les figures plus lisibles. Les différentes possibilités (variantes et modes de réalisation) doivent 15 être comprises comme n'étant pas exclusives les unes des autres et peuvent se combiner entre elles. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Un micro-dispositif 100 selon un premier mode de réalisation est décrit ci-dessous en lien avec les figures 1A et 1B représentant schématiquement le micro- 20 dispositif 100. Le micro-dispositif 100 comporte un élément fixe 102 correspondant, dans ce premier mode de réalisation, à un cadre fixe entourant différentes parties mobiles du micro-dispositif 100. Le micro-dispositif 100 comporte également un premier élément mobile 25 104 correspondant, dans ce premier mode de réalisation, à un cadre mobile. Le premier élément mobile 104 est disposé à l'intérieur de l'espace entouré par le cadre formé par l'élément fixe 102. De plus, le premier élément mobile 104 est suspendu à l'élément fixe 102 par des premiers moyens de maintien 106 correspondant par exemple à des premiers bras de maintien en suspension pouvant correspondre à des micro-poutres. 3063991 10 Ces premiers moyens de maintien 106 sont tels que le premier élément mobile 104 peut se déplacer selon un ou plusieurs degrés de liberté par rapport à l'élément fixe 102. Ainsi, sur l'exemple de la figure 1A, le cadre mobile formé par le premier élément mobile 104 peut se déplacer en translation par rapport au cadre fixe 5 formé par l'élément fixe 102, parallèlement à l'axe X et parallèlement à l'axe Y. En variante, d'autres types de déplacement du premier élément mobile 104 par rapport à l'élément fixe 102 sont possibles : translation parallèlement à l'axe Z, et/ou une rotation selon au moins l'un des axes X, Y ou Z. Le micro-dispositif 100 comporte également un deuxième élément 10 mobile 108 correspondant, dans ce premier mode de réalisation, à une masse mobile. Le deuxième élément mobile 108 est disposé à l'intérieur de l'espace entouré par le cadre mobile formé par le premier élément mobile 104. Le deuxième élément mobile 108 est suspendu au premier élément mobile 104 par des deuxièmes moyens de maintien 110 correspondant par exemple à des deuxièmes bras de maintien en suspension pouvant 15 correspondre à des micro-poutres. Ces deuxièmes moyens de maintien 110 sont tels que le deuxième élément mobile 108 peut se déplacer selon un ou plusieurs degrés de liberté par rapport au premier élément mobile 104, et donc également par rapport à l'élément fixe 102. Ainsi, sur l'exemple de la figure 1A, la masse mobile formée par le deuxième élément 20 mobile 108 peut se déplacer en translation, par rapport au premier élément mobile 104, parallèlement à l'axe X et parallèlement à l'axe Y. En variante, d'autres types de déplacement du deuxième élément mobile 108 par rapport au premier élément mobile 104 sont possibles : translation parallèlement à l'axe Z, et/ou rotation selon au moins l'un des axes X, Y ou Z. 25 Lorsque les premiers et deuxièmes moyens de maintien 106, 110 sont formés par des micro-poutres, ces micro-poutres peuvent être réalisées sous la forme de ressorts. Ces micro-poutres ont ici des dimensions micrométriques et/ou nanométriques (par exemple comprises entre quelques nanomètres et plusieurs dizaines de micromètres. Dans ce premier mode de réalisation, le micro-dispositif 100 correspond 30 à un capteur inertiel apte à détecter les déplacements de la masse mobile, formée par le 3063991 11 deuxième élément mobile 108, dans le plan (X, Y) par rapport à l'élément fixe 102. Pour détecter ce déplacement, des premiers peignes interdigités 112 sont présents au niveau des faces intérieures du cadre formé par l'élément fixe 102 et au niveau des faces extérieures du cadre formé par le premier élément mobile 104. Ces premiers peignes 5 interdigités 112 assurent la détection du mouvement en translation dans le plan (X,Y) du premier élément mobile 104 par rapport à l'élément fixe 102. Des deuxièmes peignes interdigités 114 sont également présents au niveau des faces intérieures du cadre formé par le premier élément mobile 104 et au niveau des faces extérieures du deuxième élément mobile 108. Ces deuxièmes peignes interdigités 114 assurent la détection du 10 mouvement en translation dans le plan (X,Y) du deuxième élément mobile 108 par rapport au premier élément mobile 104. Dans le premier mode de réalisation décrit ici, les peignes interdigités 112, 114 assurent une détection capacitive du mouvement des éléments mobiles 104 et 108. En variante, il est possible que le micro-dispositif 100 comporte d'autres moyens de 15 détection des déplacements du premier élément mobile 104 et/ou du deuxième élément mobile 108, en remplacement ou en complément des peignes interdigités 112, 114. Ces moyens de détection sont par exemple capacitifs et/ou piézoélectriques et/ou piézorésistifs, etc. En outre, il est également possible que le micro-dispositif 100 comporte 20 des moyens d'excitation du premier élément mobile 104 et/ou du deuxième élément mobile 108, aptes à mettre en mouvement le premier élément mobile 104 et/ou le deuxième élément mobile 108. Comme pour les moyens de détection, les moyens d'excitation correspondent par exemple à des éléments de type capacitif, piézoélectrique, piézorésistif, etc. 25 Dans le premier mode de réalisation décrit en lien avec les figures 1A et 1B, le deuxième élément mobile 108 dont le mouvement est destiné à être détecté est relié à l'élément fixe 102 par l'intermédiaire de deux moyens de suspension 106, 110 successifs et indépendants l'un vis-à-vis de l'autre. Ainsi, si le micro-dispositif 100 est soumis à des vibrations extérieures, ces vibrations mettent en mouvement l'élément fixe 30 102 mais pas les éléments mobiles 104 et 108. Aucun mouvement n'est donc détecté par 3063991 12 les deuxièmes peignes interdigités 114. Le micro-dispositif 100 peut donc émettre un signal de sortie représentatif du mouvement du deuxième élément mobile 108 indépendamment du mouvement de l'élément fixe 102. Bien que non visibles sur les figures 1A et 1B, les éléments du micro- 5 dispositif 100 sont réalisés sur un substrat auquel l'élément fixe 102 est solidaire. Le premier élément mobile 104 est encapsulé au sein d'une première cavité 116 qui peut être fermée hermétiquement vis-à-vis de l'environnement extérieur au micro-dispositif 100 et délimitée par le substrat, les faces intérieures de l'élément fixe 102 (qui forment au moins une partie des parois latérales de cette première cavité 116) et 10 un premier capot (non visible sur les figures 1A et 1B) solidarisé sur l'élément fixe 102 par l'intermédiaire d'un premier cordon de scellement 118. De plus, le deuxième élément mobile 108 est encapsulé au sein d'une deuxième cavité 120 qui est ici fermée hermétiquement vis-à-vis de l'atmosphère régnant au sein de la première cavité 116, ou plus généralement isolée vis-à-vis de la première cavité 116, et délimitée par le substrat, 15 les faces intérieures du premier élément mobile 104 (qui forment au moins une partie des parois latérales de cette deuxième cavité 120) et un deuxième capot (non visible sur les figures 1A et 1B) solidarisé sur le premier élément mobile 104 par l'intermédiaire d'un deuxième cordon de scellement 122. Le deuxième cordon de scellement 122 et le deuxième capot sont, comme le premier élément mobile 104, mobiles par rapport à 20 l'élément fixe 102. En outre, le premier cordon de scellement 118 et le premier capot sont fixes vis-à-vis du substrat sur lequel le micro-dispositif 100 est réalisé. Du fait que les volumes intérieurs de chacune des cavités 116, 120 ne communiquent pas l'un vis-à-vis de l'autre, le premier élément mobile 104 peut être encapsulé dans une atmosphère différente de celle dans laquelle est encapsulé le 25 deuxième élément mobile 108, c'est-à-dire en présence de gaz et/ou d'une pression différents. Par exemple, il est possible que la pression à l'intérieur de la première cavité 116 corresponde à la pression atmosphérique (avec dans ce cas une première cavité 116 qui n'est pas fermée hermétiquement vis-à-vis de l'environnement extérieur) et que l'intérieur de la deuxième cavité 120 soit à une pression P1 différente de la pression 30 atmosphérique. 3063991 13 De plus, la fermeture des différentes cavités du micro-dispositif 100 peut être réalisée en mettant en oeuvre une seule étape des premier et deuxième capots à l'échelle du substrat. Un autre micro-dispositif 100 selon un deuxième mode de réalisation 5 est représenté schématiquement sur les figures 2A et 2B. Comme dans le premier mode de réalisation précédemment décrit, le micro-dispositif 100 représenté sur les figures 2A et 2B comportent l'élément fixe 102 auquel est suspendu le premier élément mobile 104 par les premiers moyens de maintien 106. Ce micro-dispositif 100 comporte également le deuxième élément mobile 108 10 formant la masse mobile du micro-dispositif 100 dont les déplacements sont destinés à être détectés. Toutefois, contrairement au premier mode de réalisation dans lequel le deuxième élément mobile 108 est suspendu au premier élément mobile 104 par l'intermédiaire des deuxièmes moyens de maintien 110, le micro-dispositif 100 comporte 15 un troisième élément mobile 124 interposé entre les premier et deuxième éléments mobiles 104, 108. Dans ce deuxième mode de réalisation, le deuxième élément mobile 108 est disposé à l'intérieur de l'espace entouré par le cadre formé par le troisième élément mobile 124, et est suspendu au troisième élément mobile 124 par les deuxièmes moyens de maintien 110. Le deuxième élément mobile 108 peut donc se déplacer selon 20 un ou plusieurs degrés de liberté par rapport au troisième élément mobile 124. Le troisième élément mobile 124 est disposé à l'intérieur de l'espace entouré par le cadre formé par le premier élément mobile 104. De plus, le troisième élément mobile 124 est suspendu au premier élément mobile 104 par des troisièmes moyens de maintien 126 correspondant par exemple à des micro-poutres. Ces troisièmes 25 moyens de maintien 126 sont tels que le troisième élément mobile 124 peut se déplacer selon un ou plusieurs degrés de liberté par rapport au premier élément mobile 104, et donc également par rapport à l'élément fixe 102. Sur l'exemple de la figure 2A, le troisième élément mobile 124 peut se déplacer en translation parallèlement à l'axe X et parallèlement à l'axe Y. En variante, d'autres types de déplacement du troisième élément 3063991 14 mobile 124 par rapport au premier élément mobile 104 sont possibles : translation parallèlement à l'axe X, rotation selon au moins l'un des axes X, Y ou Z, etc. Afin d'assurer la continuité de la détection du mouvement du deuxième élément mobile 108 depuis le centre du micro-dispositif 100 jusqu'à l'élément fixe 102, le 5 micro-dispositif 100 comporte, en plus des premiers peignes interdigités 112 présents au niveau des faces intérieures du cadre formé par l'élément fixe 102 et au niveau des faces extérieures du cadre formé par le premier élément mobile 104, et des deuxièmes peignes interdigités 114 présents au niveau des faces intérieures du cadre formé par le troisième élément mobile 124 et au niveau des faces extérieures du deuxième élément mobile 108, 10 des troisièmes peignes interdigités 128 présents au niveau des faces intérieures du cadre formé par le premier élément mobile 104 et au niveau des faces extérieures du cadre formé par le troisième élément mobile 124. Ces troisièmes peignes interdigités 114 assurent la détection du mouvement en translation dans le plan (X,Y) du troisième élément mobile 124 par rapport au premier élément mobile 104. 15 En variante, il est possible que le micro-dispositif 100 comporte d'autres moyens de détection des déplacements du premier élément mobile 104 et/ou du deuxième élément mobile 108 et/ou du troisième élément mobile 124, en remplacement ou en complément des peignes interdigités 112, 114 et 128. Ces moyens de détection sont par exemple capacitifs et/ou piézoélectriques et/ou piézorésistifs, etc. 20 Dans ce deuxième mode de réalisation décrit en lien avec les figures 2A et 2B, le deuxième élément mobile 108 dont le mouvement est destiné à être détecté est relié à l'élément fixe 102 par trois moyens de suspension 106, 126, 110 successifs et indépendants les uns vis-à-vis des autres. Par rapport au premier mode de réalisation, cette configuration améliore encore plus l'isolation du deuxième élément mobile 108 par 25 rapport aux vibrations, ou plus généralement aux perturbations mécaniques, extérieures que subit le micro-dispositif 100. Comme dans le premier mode de réalisation, le premier élément mobile 104 est encapsulé au sein de la première cavité 116 qui peut être fermée hermétiquement vis-à-vis de l'environnement extérieur au micro-dispositif 100 et 30 délimitée par le substrat, les faces intérieures de l'élément fixe 102 (qui forment au moins 3063991 15 une partie des parois latérales de cette première cavité 116) et le premier capot (non visible sur les figures 2A et 2B) solidarisé sur l'élément fixe 102 par l'intermédiaire du premier cordon de scellement 118. Le troisième élément mobile 124 est encapsulé au sein de la deuxième cavité 120 qui est ici fermée hermétiquement vis-à-vis de 5 l'atmosphère régnant au sein de la première cavité 116, ou bien isolée vis-à-vis de la première cavité 116, et délimitée par le substrat, les faces intérieures du premier élément mobile 104 (qui forment au moins une partie des parois latérales de cette deuxième cavité 120) et le deuxième capot (non visible sur les figures 2A et 2B) solidarisé sur le premier élément mobile 104 par l'intermédiaire du deuxième cordon de scellement 122. 10 Le deuxième cordon de scellement 122 et le deuxième capot sont, comme le premier élément mobile 104, mobiles par rapport à l'élément fixe 102. Enfin, le deuxième élément mobile 108 est encapsulé au sein d'une troisième cavité 130 qui est par exemple fermée hermétiquement, ou plus généralement isolée, vis-à-vis des atmosphères régnant au sein des première et deuxième cavité 116 et 120, et délimitée par le substrat, les faces 15 intérieures du troisième élément mobile 124 (qui forment au moins une partie des parois latérales de cette troisième cavité 130) et un troisième capot (non visible sur les figures 2A et 2B) solidarisé sur le troisième élément mobile 124 par l'intermédiaire d'un troisième cordon de scellement 132. Le troisième cordon de scellement 132 et le troisième capot sont, comme le troisième élément mobile 124, mobiles par rapport au 20 premier élément mobile 104 ainsi que par rapport à l'élément fixe 102. Du fait que chacune des cavités 116, 120 et 130 soit isolées les unes vis-à-vis des autres, le premier élément mobile 104 peut être encapsulé dans une atmosphère différente de celle dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile 108 et de celle dans laquelle est encapsulé le troisième élément mobile 124, c'est-à-dire 25 en présence de gaz et/ou de pression différents. Selon d'autres modes de réalisation, il est possible que le micro-dispositif 100 comporte plus de deux éléments mobiles intermédiaires interposés, via des moyens de suspension distincts, entre l'élément fixe et l'élément mobile formant la masse mobile du micro-dispositif 100. 3063991 16 Dans les deux modes de réalisation décrits ci-dessus, les éléments 102, 104 et 124 ont des sections, dans le plan du substrat sur lequel le micro-dispositif 100 est réalisé, formant des cadres sensiblement carrés. En variante, d'autres formes sont envisageables. Par exemple, le micro-dispositif 100 représenté sur la figure 3 comporte 5 des éléments 102 et 104 de forme, dans le plan (X,Y) sensiblement parallèle au substrat, annulaire. Le deuxième élément mobile 108 a une forme, dans le plan (X,Y), de disque. Les cavités 116 et 120 ont donc ici des formes cylindriques. Selon un autre exemple, le micro-dispositif 100 représenté sur la figure 4 comporte des éléments 102 et 104 formant, dans le plan (X,Y), des cadres rectangulaires. Le deuxième élément mobile 108 a 10 également, dans le plan (X,Y), une forme rectangulaire. La figure 5 représente un autre micro-dispositif 100 dans lequel, contrairement aux précédents exemples dans lesquels le deuxième élément mobile 108 a une forme correspondant sensiblement à celle de la cavité dans laquelle il est encapsulé, le deuxième élément 108 a ici une forme différente de celle de la cavité 120 dans laquelle il est encapsulé. Sur cet exemple de réalisation 15 particulier représenté sur la figure 5, le deuxième élément mobile 108 a une forme, dans le plan (X,Y), présentant un creux 134. Dans cet exemple de réalisation particulier, la structure est symétrique par rapport à un axe parallèle à l'axe Y (contrairement aux structures des précédents modes de réalisation qui sont symétriques par rapport à leur centre). 20 Dans les exemples de réalisation précédemment décrits en lien avec les figures 1A à 5, les différentes cavités imbriquées les unes dans les autres au sein du micro-dispositif 100 sont concentriques, c'est-à-dire comportent leur centre disposés les uns au-dessus des autres. En variante, il est possible que les centres de ces cavités soient décalés les uns par rapport aux autres. Par exemple, dans le micro-dispositif 100 25 représenté sur la figure 6, la deuxième cavité 120 n'est pas centrée par rapport à la première cavité 116 du fait qu'un des côtés du premier élément mobile 104 est beaucoup plus important que les autres côtés. Selon un autre exemple de réalisation représenté sur la figure 7, les cavités 116 et 120 ne sont pas concentriques du fait que la cavité 116 n'a pas la même forme, dans le plan (X,Y), que la cavité 120. 3063991 17 Dans les différents modes et exemples de réalisation précédemment décrits, les différentes cavités d'un même micro-dispositif 100 peuvent être fermées simultanément au cours d'une seule étape de fermeture mise en oeuvre collectivement à l'échelle du substrat. 5 De plus, bien que les différentes cavités d'un même micro-dispositif 100 puissent être fermées simultanément par la mise en oeuvre d'une même étape de fermeture collective à l'échelle du substrat, les matériaux utilisés pour former les différents cordons de scellement des différentes cavités d'un même micro-dispositif 100 peuvent être différents d'un cordon de scellement à l'autre. 10 Pour réaliser les cordons de scellement, il est possible de réaliser une première partie du cordon sur la face de l'élément sur lequel un capot est destiné à être solidarisé, et une deuxième partie du cordon sur la face du capot destiné à être solidarisé à l'un des éléments du micro-dispositif. Par exemple, il est possible de déposer un premier matériau de collage sur le capot, et de déposer un deuxième matériau de collage 15 sur l'élément fixe ou mobile du micro-dispositif 100, ces premier et deuxième matériaux de collage pouvant être similaires ou non. Les matériaux du cordon de scellement sont avantageusement des matériaux métalliques tels que des alliages eutectiques. Par exemple, un cordon de scellement peut être réalisé à partir de portions d'Au-Si solidarisées l'une contre l'autre pour former le cordon de scellement. Il est également 20 possible que l'une des portions du cordon comporte de l'Au-Si et que l'autre des portions du cordon comporte de l'Au-Sn. Dans les modes de réalisation et exemples précédemment décrits, les capots sont solidarisés aux différents éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100 par l'intermédiaire de cordons de scellement 118, 122 et 132. Ces cordons de scellements 25 peuvent comporter des matériaux métalliques lorsque les capots sont solidarisés aux éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100. Il est également possible que ces cordons de scellement comportent un ou plusieurs matériaux non métalliques, par exemple un ou plusieurs matériaux polymères. En variante, il est possible que les capots soient solidarisés aux différents éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100 via la 3063991 18 mise en oeuvre d'un collage direct. Dans ce cas, aucun cordon de scellement n'est présent entre les capots et les éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100. Un procédé de réalisation d'un micro-dispositif 100 selon un mode de réalisation particulier est maintenant décrit en lien avec les figures 8A à 8F. Le micro- 5 dispositif 100 obtenu par la mise en oeuvre de ce procédé correspond au micro-dispositif 100 précédemment décrit en lien avec les figures 1A et 1B. Le micro-dispositif 100 est par exemple réalisé à partir d'un premier substrat de type semi-conducteur sur isolant, par exemple SOI (silicium sur isolant). Ce substrat, visible sur la figure 8A, comporte une couche support 136, une couche 10 diélectrique enterrée 138, ou BOX (« Buried Oxide »), comprenant par exemple de l'oxyde de semi-conducteur tel que du Si02, et une couche superficielle de semi-conducteur 140 comprenant par exemple du silicium. L'épaisseur totale des couches 138 et 140 est par exemple comprise entre environ 100 nm et 100 um. Des tranchées 165 sont réalisées à travers la couche support 136. 15 De manière générale, la couche 140 correspond à une couche de matériau adapté à la réalisation des différents éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100. La couche 138 correspond à une couche de matériau sacrificiel. En variante, le micro-dispositif 100 peut être réalisé à partir d'un substrat massif 136, ou bulk, comprenant par exemple un semi-conducteur tel que du 20 silicium, sur lequel sont déposées successivement une couche sacrificielle 138, par exemple diélectrique telle qu'une couche d'oxyde de semi-conducteur, et une couche de matériau 140 dans laquelle les structures mobiles du micro-dispositif 100 seront réalisés, correspondant par exemple à une couche de semi-conducteur tel que du silicium dopé ou non, du germanium dopé ou non, etc. La couche sacrificielle 138 et la couche de matériau 25 140 peuvent être formées en mettant en oeuvre différentes techniques telles que des dépôts de type LPCVD (dépôt chimique par phase vapeur basse pression), PECVD (dépôt chimique par phase vapeur assisté par plasma), ALD (dépôt de couche atomique), PVD (dépôt physique par phase vapeur), ou encore par épitaxie, etc. Une couche diélectrique 142 est ensuite réalisée sur la couche 30 superficielle 140. Une couche d'un premier matériau du cordon de scellement est ensuite 3063991 19 déposée sur la couche diélectrique 142. Ce premier matériau est par exemple un matériau métallique, tel que de l'Au, de l'Al ou du SnAg, ou bien un matériau semiconducteur tel que du Ge. Cette couche du premier matériau du cordon de scellement est gravée afin de former des premières parties des différents cordons de scellement que le 5 micro-dispositif 100 est destiné à comporter. Sur l'exemple de la figure 8B, la couche est gravée et les portions restantes de cette couche conservées sur la couche diélectrique 142 correspondent à une première partie 118.1 du premier cordon de scellement 118 et à une première partie 122.1 du deuxième cordon de scellement 122. Comme représenté sur la figure 8C, une gravure est ensuite mise en 10 oeuvre à travers les couches 142 et 140 afin de former, au sein de la couche de semi- conducteur 140, les différents éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100 (l'élément 102 et les éléments mobiles 104 et 108 sur l'exemple de la figure 8C) ainsi que les moyens de maintien par lesquels les éléments mobiles sont destinés à être suspendus (micro-poutres 106 et 110 sur l'exemple de la figure 8C), et aussi les éléments de 15 détection et/ou d'actionnement du micro-dispositif 100 (premiers et deuxièmes peignes interdigités 112 et 114 sur l'exemple de la figure 8C). Les tranchées gravées à travers les couches 142 et 140 qui délimitent les différents éléments du micro-dispositif 100 forment également les espaces qui serviront ensuite à libérer les différents éléments du micro-dispositif 100. Si nécessaire, la gravure mise en oeuvre à cette étape du procédé peut 20 également servir à réaliser des trous de libération supplémentaires 144 à travers les couches 142 et 140 si les tranchées définissant les différents éléments du micro-dispositif 100 ne sont pas suffisantes pour la libération ultérieure de ces éléments. Sur l'exemple de la figure 8C, des trous de libération 144 sont formés à travers le deuxième élément mobile 108 afin que le matériau de la couche 138 se trouvant sous le deuxième élément 25 mobile 108 puisse être correctement gravé. Une gravure d'une partie de la couche 138 est ensuite mise en oeuvre à travers les tranchées et les éventuels trous de libération 144 réalisés lors de la précédente étape de gravure, afin de libérer les éléments mobiles 108 et 104 du micro-dispositif 100 (voir figure 8D). Des portions de la couche 138 sont conservées sous 3063991 20 l'élément mobile 104. La mobilité de l'élément mobile 104 par rapport à la partie fixe 102 est assurée par les tranchées 165. Un second substrat 146 est ensuite reporté sur la structure précédemment réalisée afin de former les capots des cavités dans lesquelles sont 5 encapsulés les éléments mobiles 104 et 108 du micro-dispositif 100. Dans l'exemple représenté sur la figure 8E, ce second substrat 146 correspond à un substrat de type semi-conducteur sur isolant tel qu'un substrat SOI comportant une couche support 148, une couche diélectrique enterrée 150 et une couche superficielle de semi-conducteur 152 comprenant par exemple du silicium. Le second substrat 146 est ici solidarisé aux 10 différents éléments fixes et mobiles du micro-dispositif 100 via la mise en oeuvre d'un scellement métallique. Sur l'exemple de la figure 8E, des deuxièmes parties 118.2 et 122.2 des cordons de scellement 118, 122 sont formés au préalable sur la couche superficielle 152, puis ces deuxièmes parties 118.2 et 122.2 des cordons de scellement 118, 122 sont mises en contact contre les premières parties 118.1 et 122.1 des cordons 15 de scellement 118, 122, et un recuit achève la formation des cordons de scellement 118 et 122. Les cordons de scellement 118, 122 sont par exemple formés par des premières parties 118.1 et 122.1 comprenant de l'Au et des deuxièmes parties 118.2 et 122.2 comprenant du Si ou de l'Au ou du Sn, ou bien par des premières parties 118.1 et 122.1 comprenant de l'Al et des deuxièmes parties 118.2 et 122.2 comprenant du Ge. 20 En variante, le second substrat 146 pourrait être solidarisé à l'ensemble précédemment réalisé via la mise en oeuvre d'un scellement direct, ou collage direct, par exemple silicium contre silicium, ou diélectrique contre diélectrique, ou diélectrique contre silicium, etc. Selon une autre variante, des cordons d'un ou plusieurs matériaux non-métalliques, par exemple polymères, pourraient être formés entre le second substrat 25 146 et la structure précédemment réalisée comportant les différents éléments du micro- dispositif 100. Dans l'exemple de réalisation représenté sur la figure 8E, des trous de libération 154 traversent la couche support 148 et forment des accès à la couche diélectrique enterrée 150. Ces trous de libération 154 sont bouchés temporairement via 3063991 21 une couche diélectrique 156 recouvrant la face de la couche support 148 opposée à celle contre laquelle se trouve la couche diélectrique enterrée 150. Avant le report du second substrat 146, la couche superficielle 152 est structurée afin de former différentes parties destinées à faire partie des différents capots 5 des cavités dans lesquelles les différentes parties mobiles du micro-dispositif 100 sont encapsulées. Ainsi, sur l'exemple de la figure 8E, une première partie 158 de la couche superficielle 152, qui est fixe par rapport à l'élément fixe 102, forme, avec la couche support 148, le premier capot de la première cavité 116. Une deuxième partie 160 de la couche superficielle 152 est mobile par rapport à la première partie 158 grâce à des 10 moyens 161 de maintien en suspension, par exemple des bras de type micro-poutres, de cette deuxième partie 160 par rapport à la première partie 158. Cette deuxième partie 160 de la couche superficielle 152 forme le deuxième capot de la deuxième cavité 120. Selon un exemple de réalisation particulier, il est possible qu'au moins une ouverture 155 (représentée en pointillé sur la figure 8E) soit réalisée à travers la 15 couche support 136 afin de faire communiquer l'intérieur de la deuxième cavité 120 avec l'atmosphère extérieure dans laquelle se trouve le micro-dispositif 100. Dans ce cas, la pression au sein de la deuxième cavité 120 correspond à la pression à l'extérieur du micro-dispositif 100. Le micro-dispositif 100 est achevé en gravant la couche diélectrique 156 20 ainsi que les parties de la couche diélectrique enterrée 150 accessibles via les trous de libération 154, libérant ainsi la deuxième partie 160 de la couche superficielle 152 vis-à-vis de la couche support 148 et rendant ainsi mobile le deuxième capot vis-à-vis du premier capot (figure 8F). En raison des trous de libération 154 non bouchés, la pression au sein de la première cavité 116 correspond à la pression à l'extérieur du micro-dispositif 25 100. Ainsi, le micro-dispositif 100 obtenu et représenté sur la figure 8F comporte : - un premier élément fixe 102 solidarisé au substrat 136 par l'intermédiaire des portions restantes de la couche diélectrique enterrée 138; 3063991 22 - un premier élément mobile 104 suspendu à l'élément fixe 102 par les moyens de maintien 106 ici de type bras formés par des micro-poutres ; - une première cavité 116 dans laquelle est encapsulé le premier élément mobile 104, dont les parois latérales sont formées par des portions restantes de 5 la couche 138, l'élément fixe 102, le premier cordon de scellement 118, la première partie 158 de la couche superficielle 152 et des portions restantes 162 de la couche diélectrique enterrée 150, ainsi que par le premier capot formé par la couche support 148 (et ici traversé par les trous de libération 154) ; - un deuxième élément mobile 108 suspendu au premier élément 10 mobile 104 par les moyens de maintien 110, 114 ici de type bras formés par des micro- poutres ; - une deuxième cavité 120 dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile 108, dont les parois latérales sont formées par des portions restantes de la couche 138, le premier élément mobile 104 et le deuxième cordon de scellement 122, 15 ainsi que par le deuxième capot formé par la deuxième partie 160 de la couche superficielle 152. Un procédé de réalisation du micro-dispositif 100 selon une variante du mode de réalisation ci-dessus est maintenant décrit. Les étapes précédemment décrites en lien avec les figures 8A à 8D sont 20 tout d'abord mises en oeuvre. Ensuite, avant de reporter le second substrat 146 sur la structure obtenue, la couche diélectrique enterrée 150 est retirée sélectivement par rapport à la couche support 148 et la couche superficielle de semi-conducteur 152 afin d'assurer la mobilité de la deuxième partie 160 de la couche superficielle 152, qui est destinée à 25 former le deuxième capot de la deuxième cavité 120, par rapport à la première partie 158 de cette couche 152 destinée à former une partie des parois latérales de la première cavité 116. De manière optionnelle, une portion ou couche de matériau getter 164 peut être disposée contre la deuxième partie 160 de la couche superficielle 152 afin 30 qu'après le report du second substrat 146, la portion de matériau getter 164 soit 3063991 23 encapsulée dans la deuxième cavité 120. Dans ce cas, la température à laquelle est réalisé le scellement du second substrat 146, ainsi que la nature du matériau getter utilisé pour la portion 164, peuvent être avantageusement choisies telles que le matériau getter de la portion 164 soit activé thermiquement au cours de ce scellement, c'est-à-dire telles que 5 la température d'activation thermique du matériau getter soit inférieure ou égale à celle de la température à laquelle est mis en oeuvre le scellement. Le second substrat 146 est alors reporté et scellé à la structure précédemment réalisée, achevant la réalisation du micro-dispositif 100. Le micro-dispositif 100 obtenu est représenté sur la figure 9. 10 Dans cette variante de réalisation, la différence de pressions régnant dans les première et deuxième cavités 116, 120 est due non pas au fait que la pression dans la première cavité 116 est égale à la pression atmosphérique obtenue grâce à des trous traversant la couche 148, mais grâce à l'absorption et/ou l'adsorption gazeuse réalisée par la portion de matériau getter 164 dans la deuxième cavité 120. 15 REVENDICATIONS1. Micro-dispositif (100) comportant au moins : - un substrat (136), - un élément fixe (102) solidaire du substrat (136), - un premier élément mobile (104) suspendu à l'élément fixe (102) par des premiers éléments de maintien (106), et apte à se déplacer par rapport à l'élément fixe (102), - un deuxième élément mobile (108) suspendu au premier élément mobile (104) par des deuxièmes éléments de maintien (110), et apte à se déplacer par rapport au premier élément mobile (104) et à l'élément fixe (102), - une première cavité (116) dont au moins une partie des parois est formée par l'élément fixe (102) et dans laquelle est encapsulé le premier élément mobile (104), - une deuxième cavité (120) disposée au sein de la première cavité (116), dont au moins une partie des parois est formée par le premier élément mobile (104), dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile (108) et qui est isolée de la première cavité (116). 2. Micro-dispositif (100) selon la revendication 1, dans lequel l'élément fixe (102) forme un cadre fixe solidaire du substrat (136) et dans lequel le premier élément mobile (104) forme un cadre mobile suspendu au cadre fixe. 3. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le premier élément mobile (104) est apte à se déplacer en translation et/ou en rotation par rapport à l'élément fixe (102), et/ou dans lequel le deuxième élément mobile (108) est apte à se déplacer en translation et/ou en rotation par rapport au premier élément mobile (104) et à l'élément fixe (102). 3063991 25 4. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, dans lequel les premiers éléments de maintien (106) comportent des premiers bras de maintien en suspension dont les extrémités sont reliées à l'élément fixe (102) et au premier élément mobile (104), et/ou dans lequel les deuxièmes éléments de maintien 5 (110) comportent des deuxièmes bras de maintien en suspension dont les extrémités sont reliées au premier élément mobile (104) et au deuxième élément mobile (108). 5. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, dans lequel les première et deuxième cavités (116, 120) ont leur centre alignés l'un au- 10 dessus de l'autre selon un axe sensiblement perpendiculaire au substrat (136). 6. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, comportant en outre au moins une première ouverture (154) formée à travers au moins une des parois de la première cavité (116) telle que la pression au sein de la première 15 cavité (116) soit sensiblement égale à une pression extérieure au micro-dispositif (100), et/ou au moins une deuxième ouverture (155) formée à travers au moins une des parois de la deuxième cavité (120) telle que la pression au sein de la deuxième cavité (120) soit sensiblement égale à la pression extérieure au micro-dispositif (100). 20 7. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, comportant en outre un premier capot (148, 158) solidarisé à l'élément fixe (102) et fermant la première cavité (116) et/ou un deuxième capot (160) solidarisé au premier élément mobile (104) et fermant la deuxième cavité (120) vis-à-vis de la première cavité (116), le deuxième capot (160) étant mobile par rapport au premier capot (148, 158) et à 25 l'élément fixe (102). 8. Micro-dispositif (100) selon la revendication 7, comportant en outre un premier cordon de scellement (118) solidarisant le premier capot (148, 158) à l'élément fixe (102), et/ou un deuxième cordon de scellement (122) solidarisant le deuxième capot (160) au premier élément mobile (104), le deuxième cordon de 3063991 26 scellement (122) étant mobile par rapport au premier cordon de scellement (118), au premier capot (148, 158) et à l'élément fixe (102). 9. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, 5 comportant en outre des éléments (112) de détection et/ou de mesure d'un déplacement du premier élément mobile (104) par rapport à l'élément fixe (102), et/ou des éléments (114) de détection et/ou de mesure d'un déplacement du deuxième élément mobile (108) par rapport au premier élément mobile (104), et/ou des éléments aptes à déplacer le premier élément mobile (104) par rapport à l'élément fixe (102), et/ou des éléments 10 aptes à déplacer le deuxième élément mobile (108) par rapport au premier élément mobile (104). 10. Micro-dispositif (100) selon l'une des revendications précédentes, comportant en outre : 15 - un troisième élément mobile (124) disposé entre les premier et deuxième éléments mobiles (104, 108), suspendu au premier élément mobile (104) par des troisièmes éléments de maintien (126), apte à se déplacer par rapport au premier élément mobile (104) et à l'élément fixe (102), et qui est encapsulé dans la deuxième cavité (120), 20 - une troisième cavité (130) disposée au sein de la deuxième cavité (120), dont au moins une partie des parois est formée par le troisième élément mobile (124), dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile (108) et qui est fermée vis-à-vis de l'atmosphère des première et deuxième cavités (116, 120), et dans lequel le deuxième élément mobile (108) est suspendu au 25 troisième élément mobile (124) par les deuxièmes éléments de maintien (110), et apte à se déplacer par rapport au troisième élément mobile (124), au premier élément mobile (104) et à l'élément fixe (102). 3063991 27 11. Procédé de réalisation d'un micro-dispositif (100), comportant au moins : - réalisation d'un élément fixe (102) solidaire d'un substrat (136) ; - réalisation d'un premier élément mobile (104) suspendu à l'élément 5 fixe (102) par des premiers éléments de maintien (106), et apte à se déplacer par rapport à l'élément fixe (102), - réalisation d'un deuxième élément mobile (108) suspendu au premier élément mobile (104) par des deuxièmes éléments de maintien (110), et apte à se déplacer par rapport au premier élément mobile (104) et à l'élément fixe (102), 10 - réalisation d'une première cavité (116) dont au moins une partie des parois est formée par l'élément fixe (102) et dans laquelle est encapsulé le premier élément mobile (104), - réalisation d'une deuxième cavité (120) disposée au sein de la première cavité (116), dont au moins une partie des parois est formée par le premier 15 élément mobile (104), dans laquelle est encapsulé le deuxième élément mobile (108) et qui est isolée de la première cavité (116). 12. Procédé selon la revendication 11, dans lequel la réalisation de l'élément fixe (102), du premier élément mobile (104) et du deuxième élément mobile 20 (108) comporte la mise en oeuvre d'étapes de : - gravure d'une première couche de matériau (140) disposée sur une première couche sacrificielle (138) elle-même disposée sur le substrat (136), telle que des parties restantes de la première couche de matériau (140) forment l'élément fixe (102), le premier élément mobile (104), le deuxième élément mobile (108), les premiers éléments 25 de maintien (106) et les deuxièmes éléments de maintien (110), puis - gravure d'une partie de la première couche sacrificielle (138) à travers la première couche de matériau (140) gravée, rendant mobile le premier élément mobile (104) et le deuxième élément mobile (108) par rapport à l'élément fixe (102). 3063991 28 13. Procédé selon l'une des revendications 11 ou 12, dans lequel la réalisation de la première cavité (116) et de la deuxième cavité (120) comporte la mise en oeuvre d'un report d'une deuxième couche de matériau (152) sur l'élément fixe (102) et le premier élément mobile (104) tel que : 5 - une première partie (158) de la deuxième couche de matériau (152) soit solidarisée à l'élément fixe (102), - une deuxième partie (160) de la deuxième couche de matériau (152), mobile par rapport à la première partie (158) de la deuxième couche de matériau (152) et formant un deuxième capot de la deuxième cavité (120), soit solidarisé au premier 10 élément mobile (104), - la première partie (158) de la deuxième couche de matériau (152) est solidarisée à un deuxième substrat (148) tel la deuxième couche de matériau (152) soit disposée entre les élément fixe et mobiles (102, 104, 108) et le deuxième substrat (148) qui forme un premier capot de la première cavité (116), 15 - la deuxième partie (160) de la deuxième couche de matériau (152) est mobile par rapport au deuxième substrat (148). 14. Procédé selon l'une des revendications 11 ou 12, dans lequel la réalisation de la première cavité (116) et de la deuxième cavité (120) comporte la mise en 20 oeuvre des étapes de : - gravure d'une deuxième couche de matériau (152) disposée sur une deuxième couche sacrificielle (150) elle-même disposée sur un deuxième substrat (148), formant une première partie (158) de la deuxième couche de matériau (152), une deuxième partie (160) de la deuxième couche de matériau (152) et des quatrièmes 25 éléments de maintien (161) tels que la deuxième partie (160) de la deuxième couche de matériau (152) soit apte à être suspendue à la première partie (158) de la deuxième couche de matériau (152) par les quatrièmes éléments de maintien (161), - report de la deuxième couche de matériau (152) sur l'élément fixe (102) et le premier élément mobile (104) tel que la première partie (158) de la deuxième 30 couche de matériau (152) soit solidarisée à l'élément fixe (102) et que la deuxième partie 3063991 29 (160) de la deuxième couche de matériau (152) soit solidarisée au premier élément mobile (104), - gravure d'une partie de la deuxième couche sacrificielle (150) à travers des ouvertures (154) traversant le deuxième substrat (148), rendant mobile la deuxième 5 partie (160) de la deuxième couche de matériau (152) par rapport à la première partie (158) de la deuxième couche de matériau (152) et au deuxième substrat (148). 15. Procédé selon l'une des revendications 13 ou 14, dans lequel le report de la deuxième couche de matériau (152) sur l'élément fixe (102) et le premier 10 élément mobile (104) comporte la mise en oeuvre d'un collage direct entre la deuxième couche de matériau (152) et l'élément fixe (102) et entre la deuxième couche de matériau (152) et le premier élément mobile (104), ou un scellement entre la deuxième couche de matériau (152) et l'élément fixe (102) par un premier cordon de scellement (118) et un scellement entre la deuxième couche de matériau (152) et le premier élément mobile 15 (104) par un deuxième cordon de scellement (122).