FR 3052161 A1 20171208 FR 1655039 A 20160602 1 PROCEDE DE FORMATION D'UN REVETEMENT BARRIERE A LA SURFACE D'UN RECIPIENT ET INSTALLATION AFFERENTE La présente invention se rapporte au domaine général des procédés et installations de traitement de surface et plus particulièrement aux procédés et installations de formation de revêtements par dépôt de couches à la surface de récipients à paroi en verre. L'invention concerne également le domaine technique des récipients à paroi en verre destinés à des applications pharmaceutiques et diagnostiques. L'invention concerne plus précisément un procédé de formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient comprenant une paroi en verre délimitant une cavité 10 d'accueil pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre présentant une face interne située en regard de ladite cavité d'accueil. L'invention concerne également une installation pour la formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient comprenant une paroi en verre délimitant une cavité 15 d'accueil pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre présentant une face interne située en regard de ladite cavité d'accueil. Il est connu de recourir pour le stockage de produits et préparations à usage pharmaceutique ou diagnostique à des récipients en verre tels que des flacons, des 20 bouteilles ou des ampoules. Or il a été observé que de telles préparations sont susceptibles d'interagir avec la paroi interne de ces récipients en verre. En particulier, dans le cas de récipients en verre sodocalcique ou en verre borosilicate, il est observé un phénomène de migration d'ions alcalins ou alcalino-terreux depuis la face interne en verre du récipient vers le produit contenu dans ce dernier. Une telle migration est 25 particulièrement indésirable puisqu'elle peut notamment avoir pour conséquence d'entraîner la modification du pH du contenu et donc sa potentielle altération, voire même la dissolution ou la délamination du verre. 3052161 2 Des solutions ont donc été recherchées afin de renforcer la durabilité chimique et la résistance hydrolytique du verre afin de limiter au maximum les interactions entre le récipient en verre et son contenu et, en particulier, la migration dans le contenu d'ions alcalins provenant de la paroi en verre du récipient. L'une des solutions bien connues 5 consiste à déposer sur la face interne de la paroi en verre du récipient, laquelle définit une cavité d'accueil du contenu, un revêtement doté d'une propriété barrière. Ainsi positionné entre ladite face interne de la paroi en verre et le contenu du récipient, ce revêtement barrière vient empêcher, ou au moins limiter très sensiblement, tout phénomène d'interaction, et en particulier de migration ionique, entre la paroi en verre et ledit contenu. Un des procédés couramment utilisés pour la mise en oeuvre de cette solution consiste à venir déposer par voie chimique en phase vapeur activée ou assistée par un plasma (PECVD, PICVD) une ou plusieurs couches d'oxyde protectrices sur la surface du verre, à partir d'un mélange réactif gazeux, contenant un précurseur dudit oxyde et un gaz vecteur. Un tel procédé nécessite la mise en oeuvre de moyens techniques pouvant s'avérer coûteux et complexes, et ne permet, sauf à multiplier de manière coûteuse et encombrante lesdits moyens techniques, le traitement que d'un seul récipient à la fois. Par conséquent, ce procédé connu est difficilement compatible avec le traitement simultané d'un grand nombre de récipients dans le cadre d'une installation de taille et de cadence industrielles, et engendre un coût de fabrication et de traitement des récipients relativement élevé. Un autre procédé connu pour la formation d'un revêtement par dépôt de couche à la surface d'un récipient en verre consiste à venir déposer par voie chimique en phase vapeur (CVD) une ou plusieurs couches d'oxyde protectrices sur la surface du verre préalablement chauffée, à partir d'un mélange réactif gazeux projeté en direction du récipient en verre et de l'ouverture de son col. Or si les procédés de dépôt chimique en phase vapeur activé thermiquement sont bien maitrisés pour le dépôt de couches sur des substrats plats et sont, en principe, moins coûteux et complexes à mettre en oeuvre que les procédés assistés par plasma, ils restent encore relativement peu aisés à mettre en oeuvre de manière optimale pour le traitement d'une surface de géométrie complexe et présentant des zones peu accessibles telles que, en particulier, la face 3052161 3 interne d'un récipient de type flacon ou bouteille dont le col étroit tend à gêner la bonne circulation du mélange réactif gazeux. Pour pallier cette difficulté, il a été proposé un procédé dans lequel un mélange réactif gazeux est injecté dans le récipient dont on cherche à revêtir la face interne en verre à 5 l'aide d'une buse ou d'un dispositif similaire que l'on vient préalablement introduire à l'intérieur du récipient par sa bague et l'ouverture de son col. Si un tel procédé offre globalement satisfaction, il n'en présente pas moins certains inconvénients. En effet, ce procédé connu nécessite lui aussi de traiter indépendamment chaque récipient, et de positionner rapidement et avec précision la 10 buse d'injection à l'intérieur du récipient. Il en résulte dès lors une mise en oeuvre relativement lente et nécessitant des réglages importants. En outre, si la pénétration de la phase gazeuse à l'intérieur du récipient à traiter est généralement meilleure que celle obtenue lorsque la buse d'injection est disposée au-dessus de l'orifice du récipient, l'uniformité et l'homogénéité de la couche déposée reste encore perfectible du fait 15 notamment d'une maîtrise limitée de la diffusion des espèces gazeuses réactives au voisinage de la paroi en verre à revêtir. Les objets assignés à l'invention visent en conséquence à porter remède aux inconvénients exposés dans ce qui précède et à proposer un nouveau procédé qui permet de former facilement et rapidement un revêtement barrière particulièrement 20 uniforme et homogène sur la face interne de la paroi d'un récipient en verre de géométrie complexe, et en particulier d'un récipient à col étroit. Un autre objet de l'invention vise à proposer un nouveau procédé qui permet de conférer à un récipient en verre sodocalcique ou borosilicaté une excellente résistance chimique et hydrolytique en regard de son contenu, le rendant ainsi particulièrement 25 adapté pour le stockage de produits pharmaceutiques ou diagnostiques. Un autre objet de l'invention vise à proposer un nouveau procédé de formation à la surface d'un récipient à paroi en verre d'un revêtement barrière formé d'au moins une couche particulièrement adhérente à ladite paroi en verre. 3052161 4 Un autre objet de l'invention vise à proposer un nouveau procédé de formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient à paroi en verre qui ne requiert pour sa mise en oeuvre que des moyens industriels relativement simples et standards. Un autre objet de l'invention vise à proposer un nouveau procédé qui permet de traiter 5 facilement, à moindre coût et de manière simultanée un grand nombre de récipients à paroi en verre. Un autre objet de l'invention vise à proposer un nouveau procédé particulièrement fiable, robuste et répétable. Un autre objet de l'invention vise à proposer une nouvelle installation de formation d'un 10 revêtement barrière à la surface d'un récipient à paroi en verre qui est particulièrement simple et économique à mettre en oeuvre, tout en étant fiable et robuste. Un autre objet de l'invention vise à proposer une nouvelle installation qui permet de traiter facilement, à moindre coût et de manière simultanée un grand nombre de récipients à paroi en verre. 15 Un autre objet de l'invention vise à proposer une nouvelle installation particulièrement adaptée au traitement consécutif ou simultané de récipients à paroi en verre de tout type et toutes dimensions. Les objets assignés à l'invention sont atteints à l'aide d'un procédé de formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient comprenant une paroi en verre délimitant 20 une cavité d'accueil pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre présentant une face interne située en regard de ladite cavité d'accueil, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : - une étape de disposition dudit récipient dans une enceinte ; 25 - une étape de purge sous vide de ladite enceinte contenant ledit récipient jusqu'à ce que la pression régnant dans l'enceinte atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge ; 3052161 5 - une étape de dépôt chimique en phase vapeur activé thermiquement sur au moins une fraction de ladite face interne d'une couche formant ou contribuant à former ledit revêtement barrière, la valeur de la pression régnant dans l'enceinte au cours de ladite étape de dépôt étant inférieure à la pression atmosphérique et supérieure à 5 ladite valeur prédéterminée de pression de purge. Les objets assignés à l'invention sont également atteints à l'aide d'une installation pour la formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient comprenant une paroi en verre délimitant une cavité d'accueil pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre présentant une face interne située en 10 regard de ladite cavité d'accueil, ladite installation étant caractérisée en ce qu'elle comprend au moins : - une enceinte conçue pour recevoir en son sein ledit récipient en vue de la réalisation d'une étape de dépôt chimique en phase vapeur activé thermiquement sur au moins une fraction de ladite face interne d'une couche formant ou contribuant à former ledit 15 revêtement barrière à partir d'un mélange réactif gazeux introduit dans ladite enceinte ; - un dispositif de pompage connecté à l'enceinte pour aspirer l'atmosphère à l'intérieur de cette dernière ; - un moyen de régulation de la pression régnant dans ladite enceinte, lequel moyen de 20 régulation est conçu pour contrôler ledit dispositif de pompage de façon à ce que ce dernier opère tout d'abord une purge sous vide de ladite enceinte jusqu'à ce que la pression dans cette dernière atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge, puis maintienne la pression régnant dans ladite enceinte au cours de ladite étape de dépôt à une valeur inférieure à la pression atmosphérique et supérieure à 25 ladite valeur prédéterminée de pression de purge. D'autres objets et avantages de l'invention apparaîtront mieux à la lecture de la description qui suit, ainsi qu'à l'aide des figures annexées, fournies à titre purement explicatif et non limitatif, parmi lesquelles : - la figure 1 illustre, selon une vue schématique en coupe, un exemple de récipient 30 pourvu d'un revêtement barrière à l'aide d'un procédé conforme à l'invention, lequel 3052161 6 récipient est constitué en l'espèce par un flacon préférentiellement destiné à accueillir un produit pharmaceutique ou diagnostique liquide ; la figure 2 illustre, selon une vue schématique, un mode de réalisation préférentiel de l'installation de l'invention, qui comprend au moins une enceinte réactionnelle conçue 5 recevoir une pluralité de récipients et un dispositif de pompage contrôlé par un moyen de régulation de pression en vue de la formation, selon le procédé de l'invention, d'un revêtement barrière à la surface de la paroi en verre de ces récipients. Selon un premier aspect, l'invention concerne un procédé de formation d'un revêtement 10 à la surface d'un récipient 1 comprenant une paroi en verre 2 délimitant une cavité d'accueil 3 pour un produit, ou une substance, destiné à être administré à un être humain ou à un animal. Le récipient 1 concerné est donc préférentiellement un récipient en verre creux. De préférence, ledit produit ou ladite substance est avantageusement fluide, c'est-à-dire susceptible de s'écouler comme par exemple une substance liquide, 15 pâteuse (tel qu'un liquide avec un degré de viscosité élevé) ou pulvérulente. De préférence, le récipient 1 forme un récipient conçu pour contenir un produit ou une substance liquide de nature pharmaceutique, comme par exemple un médicament, destiné éventuellement à être administré par voie parentérale (générale ou locorégionale) ou encore à être ingéré ou absorbé par un patient, ou encore une 20 substance liquide de nature diagnostique, comme par exemple un réactif chimique ou biologique destiné à être mis en contact avec un échantillon biologique provenant d'un patient dans le but d'obtenir une information notamment sur l'état physiologique ou pathologique dudit patient. Par extension, ledit récipient 1 peut être conçu pour contenir une substance liquide de nature biologique, ou fluide corporel, tel que par exemple du 25 sang, un produit ou un sous-produit sanguin, de l'urine, etc. Même si l'application aux domaines pharmaceutiques et diagnostiques est préférée, l'invention n'est toutefois pas limitée à des récipients à usage pharmaceutique ou diagnostique et concerne également, à titre de variante alternative, un récipient 1 conçu pour contenir une substance liquide, pâteuse ou pulvérulente à usage vétérinaire, ou à 30 usage alimentaire, ou encore à usage cosmétique (parfum corporel, crème ou autres). 3 0 5 2 1 6 1 7 De manière générale, le récipient 1 est donc avantageusement destiné à contenir dans sa cavité d'accueil 3 un produit, ou une substance, destiné à être administré à un être humain ou un animal. Le récipient 1 peut donc présenter toute forme adaptée à sa fonction, et se présenter par exemple, comme illustré à la figure 1, sous la forme d'un 5 flacon, destiné par exemple à contenir un produit liquide à usage pharmaceutique ou diagnostique. Dans ce cas, la paroi en verre 2 est formée avantageusement par un fond 2A en verre, une paroi latérale 2B en verre qui s'élève à partir et à la périphérie du fond 2A et un col 2C qui ferme le récipient 1 tout en ménageant une ouverture 4 de remplissage / distribution permettant de mettre en communication la cavité 3 avec 10 l'extérieur. Ladite ouverture 4 est éventuellement fermée par un bouchon ou un opercule amovible ou perforable (non représenté). Il est cependant parfaitement envisageable que le récipient 1 affecte toute autre forme, et en particulier une forme dépourvue de col 2C comme par exemple une forme de tube, d'ampoule, de seringue, ou autre, en fonction de l'usage visé. Un tel récipient 1 en verre, et en particulier en 15 forme de flacon, peut être obtenu par tout procédé verrier classique (verre moulé, verre soufflé, verre étiré, procédé Vello ou procédé Danner, etc.). De préférence, la paroi en verre 2 du récipient 1 délimitant la cavité d'accueil 3 se présente sous la forme d'une pièce d'un seul tenant qui forme à la fois le fond 2A, la paroi latérale 2B et le col 2C, de sorte que la cavité d'accueil 3 est avantageusement 20 entièrement délimitée par une pièce monobloc en verre, à l'exception éventuelle du bouchon. Il est cependant parfaitement envisageable que seule une portion du récipient 1 (par exemple uniquement la paroi latérale 2B) soit réalisée en verre. Plus précisément et comme illustré par la figure 1, la paroi en verre 2 présente une face interne 20 située en regard de la cavité d'accueil 3 et une face externe 21 opposée. La 25 paroi en verre 2 forme ainsi avantageusement un corps creux et vide dont la face interne 20 délimite directement la cavité 3, laquelle forme un volume intérieur vide entièrement fermé, à l'exception de l'ouverture 4 vers l'extérieur ménagée au niveau du col 2C dont la section est en l'espèce réduite par rapport à la section moyenne de la cavité 3 (figure 1). Ladite face interne 20 est dès lors destinée à venir en contact avec le 30 contenu du récipient 1. Le terme « verre » doit être ici compris dans son acception classique, et désigne donc un verre minéral. A ce titre, la paroi en verre 2 peut donc, par exemple, être en verre 3 0 5 2 16 1 8 sodocalcique ou borosilicaté. En outre, le verre constituant la paroi 2 est de préférence transparent et incolore, niais peut alternativement être coloré, par exemple par des oxydes métalliques, pour protéger la substance fluide contenue au sein du récipient 1 des effets de la lumière, en particulier dans certaines plages de longueur 5 d'onde (UV, etc.). Le verre étant habituellement considéré comme imperméable aux gaz, la propriété barrière du revêtement concerné par l'invention renvoie ici de préférence à la capacité de ce revêtement à s'opposer au relargage de substances solubles extraites du matériau vitreux de la paroi 2 dans le produit contenu dans le récipient 1 et, en 10 particulier, à limiter voire empêcher le passage d'espèces ioniques, tels que par exemple des ions alcalins et alcalino-terreux, à travers la barrière qu'il a vocation à former entre la face interne 20 en verre et le contenu du récipient 1. De préférence, ce revêtement barrière est incolore et transparent, de sorte à ne pas modifier, au moins visuellement, les propriétés colorimétriques et / ou de transparence du verre dans 15 lequel est formée la paroi 2 du récipient 1. De préférence, ledit revêtement barrière est prévu pour venir directement en contact avec le produit contenu dans le récipient 1. Il vient donc à ce titre avantageusement s'intercaler entre la face interne 20 de la paroi en verre 2 et le produit en question. Selon l'invention, le procédé comprend au moins une étape de dépôt chimique en 20 phase vapeur activé thermiquement sur au moins une fraction, et de préférence la totalité, de ladite face interne 20 d'une couche 5 formant ou contribuant à former ledit revêtement barrière. Cette étape de dépôt est de préférence réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux, préférentiellement chaud, qui comprend au moins un composé chimique précurseur du matériau composant de ladite couche 5 et un gaz vecteur. Ce 25 mélange réactif gazeux est destiné à être mis en contact au cours de ladite étape de dépôt avec au moins une fraction de ladite face interne 20 en verre, laquelle est avantageusement préalablement portée à une température suffisante (en général sensiblement supérieure à la température ambiante) pour apporter l'énergie nécessaire à la décomposition du précurseur transporté jusqu'à ladite face interne 20 par le gaz 30 vecteur. 3052161 9 De préférence, ledit revêtement formé est composé d'une couche 5 unique et continue dans son épaisseur E, laquelle peut-être plus ou moins importante, ladite couche 5 formant avantageusement à elle seule ledit revêtement barrière. Toutefois, il est parfaitement envisageable sans sortir du cadre de l'invention que cette couche 5 5 n'apporte en elle-même qu'une contribution à la formation dudit revêtement barrière et qu'elle puisse être, par exemple, elle-même recouverte d'une ou plusieurs couches différentes déposées éventuellement selon une technique de dépôt différente, de sorte à former avec cette ou ces couches complémentaires ledit revêtement barrière. Afin d'obtenir un revêtement doté d'une bonne résistance hydrolytique et offrant une 10 très bonne propriété barrière à la migration d'espèces ioniques depuis la paroi en verre 2 vers le contenu du récipient 1, la couche 5 déposée suivant le procédé de l'invention est composée, c'est-à-dire formée majoritairement et de préférence intégralement, d'un matériau à base d'un élément choisi parmi le groupe constitué du silicium Si, de l'aluminium Al, du titane Ti, du bore B, du zirconium Zr, du tantale Ta ou 15 d'un mélange de ces derniers. De manière avantageuse, ladite couche 5 est plus précisément composée d'un oxyde, d'un nitrure ou d'un oxy-nitrure d'un élément choisi parmi le groupe constitué du silicium Si, de l'aluminium Al, du titane Ti, du bore B, du zirconium Zr, du tantale Ta ou d'un mélange de ces derniers. La couche 5 est ainsi avantageusement stable et inerte d'un point de vue chimique et biologique. De manière 20 encore plus préférentielle, la couche 5 formée selon le procédé de l'invention est composée de silice SiO2. Si les matériaux à base d'aluminium, telle que par exemple l'alumine A1203, peuvent constituer une couche 5 offrant de bonnes propriétés barrière à la migration d'ions alcalins et alcalino-terreux, il existe cependant un risque de cession par ces matériaux 25 de substances ioniques, en particulier d'ions Al 3*, lesquels peuvent être susceptibles d'une part interagir chimiquement avec le contenu du récipient 1 et sont, d'autre part, généralement considérés comme toxiques sinon problématiques pour les organismes vivants. A ce titre, les matériaux à base d'aluminium pourront donc optionnellement être exclus de la liste des matériaux préférentiellement retenus pour former ladite couche 5, 30 comme pourraient l'être par ailleurs des matériaux à base d'étain Sn ou encore de zinc Zn. 3052161 10 Afin de former sur la face interne 20 de la paroi en verre 2 du récipient 'I le revêtement barrière recherché, les espèces constituant le mélange réactif gazeux doivent pouvoir pénétrer dans la cavité d'accueil 3 du récipient 'I à travers l'ouverture 4 étroite de ce dernier. Or il a été observé qu'un mélange réactif gazeux projeté en direction du 5 récipient 1 et de son ouverture 4 a tendance à s'écouler le long de la paroi externe 21 de ce dernier, sans pénétrer correctement dans la cavité 3 et donc sans réagir de manière optimale au niveau de la paroi interne 20. En effet, il a été noté qu'en conditions atmosphériques habituelles, l'atmosphère (en l'espèce, l'air ambiant) naturellement présente à l'intérieur de la cavité 3 du récipient 1 au moment du dépôt 10 tend à s'opposer à la bonne pénétration du mélange réactif gazeux. Ainsi, pour contrer ce phénomène sans pour autant avoir besoin d'injecter ledit mélange réactif gazeux directement à l'intérieur de la cavité 3 à l'aide d'une buse ou d'un dispositif similaire, le procédé de l'invention comprend, en premier lieu, une étape de disposition dudit récipient 1 dans une enceinte, de préférence étanche à l'air. Cette enceinte est de 15 préférence conçue de manière à recevoir intégralement ledit récipient 1, c'est-à-dire de manière à ce que ledit récipient 1 soit avantageusement totalement inclus dans ladite enceinte. Cette dernière est ainsi avantageusement destinée à jouer un rôle de chambre réactionnelle dans laquelle s'opérera ladite étape de dépôt. L'étape de dépôt est ainsi de préférence réalisée sur un récipient 1 statique, temporairement immobilisé 20 au sein de ladite enceinte. Selon l'invention, le procédé comprend également, de préférence après ladite étape de disposition du récipient 1 dans ladite enceinte et avant ladite étape de dépôt, une étape de purge sous vide de ladite enceinte contenant ledit récipient 1 jusqu'à ce que la pression régnant dans l'enceinte atteigne une valeur prédéterminée de pression de 25 purge. Au cours de cette étape de purge, l'air ambiant résiduel présent à l'intérieur de l'enceinte de dépôt, ainsi qu'à l'intérieur de la cavité d'accueil 3 du récipient 1 disposé en son sein, est ainsi aspiré et évacué hors de l'enceinte jusqu'à ce que cette dernière se retrouve placée sous vide, c'est-à-dire jusqu'à ce que la pression régnant à l'intérieur de ladite enceinte soit inférieure à la pression atmosphérique environnante (c'est-à-dire 30 la pression ambiante environnante, laquelle est par exemple sensiblement égale à 1 013,25 hPa si on se réfère à l'atmosphère normale). De préférence, ladite étape de purge est réalisée de manière à placer ladite enceinte sous vide primaire, c'est-à-dire sous un niveau de vide correspondant à une pression régnant dans l'enceinte qui est 3 0 5 2 16 1 11 inférieure à la pression atmosphérique environnante et peut descendre jusqu'à 0,01 hPa. Il a été observé au cours du développement de l'invention, que la réalisation d'une telle étape de purge sous vide de l'enceinte préalablement à ladite étape de dépôt permet 5 d'obtenir une meilleure diffusion du mélange réactif gazeux à proximité de la face interne 20 de la paroi en verre 2 du récipient 1, le vide conférant un meilleur pouvoir pénétrant au mélange réactif gazeux, ce qui favorise la bonne pénétration de ce dernier à travers l'ouverture 4 et son écoulement le long de ladite face interne 20, à proximité de la paroi du verre et ce même lorsque l'ouverture 4 s'avère relativement étroite. De 10 plus, ladite étape de purge de l'air résiduel ambiant à l'intérieur de l'enceinte avant ladite étape de dépôt permet avantageusement d'éviter de potentielles interactions du mélange réactif gazeux avec les espèces chimiques présentes dans l'air (dioxygène, diazote, vapeur d'eau, dioxyde de carbone, impuretés, etc.). En effet, ces interactions peuvent, d'une part, modifier l'écoulement de la phase gazeuse réactive et, d'autre part, 15 conduire à des réactions chimiques prématurées et préjudiciables dans la phase gazeuse. En outre, il a été noté que, lorsque la pression qui règne dans l'enceinte au cours de ladite étape de dépôt est inférieure à la pression atmosphérique, les réactions en phase gazeuse indésirables tendent à être limitées (du fait notamment d'un plus grand libre 20 parcours moyen des molécules en phase gazeuse), ainsi que les risques de contamination de la couche 5 déposée. Par ailleurs, en comparaison avec une étape de dépôt CVD réalisée à pression atmosphérique et présence d'air ambiant, une telle étape de dépôt sous vide permet avantageusement de recouvrir la totalité de la surface de la face interne 20 du récipient 1. En revanche, si des pressions de dépôt très faibles 25 accroissent le coefficient de diffusion des espèces du mélange réactif gazeux et permettent d'obtenir une couche 5 plus uniforme en épaisseur, de plus haute pureté et couvrant mieux la surface de la face interne 20, la vitesse de dépôt s'en trouve ralentie. Au contraire, il est connu que des pressions élevées favorisent les réactions des espèces en phase gazeuse. C'est pourquoi, une fois ledit récipient 1 disposé au sein de 30 ladite enceinte et cette dernière purgée sous vide au cours de ladite étape de purge, ladite étape de dépôt chimique en phase vapeur est réalisée, conformément à l'invention, de manière à ce que la valeur de la pression régnant dans l'enceinte au 3052161 12 cours de ladite étape de dépôt soit inférieure à la pression atmosphérique et supérieure (strictement) à ladite valeur prédéterminée de pression de purge. La valeur de la pression régnant dans l'enceinte au cours de ladite étape de dépôt, non nécessairement constante, est donc ainsi avantageusement strictement comprise entre 5 la valeur de la pression atmosphérique et ladite valeur prédéterminée de pression de purge. De manière plus précise, il a été observé au cours de développement du procédé de l'invention que, dans le contexte d'une application industrielle dudit procédé et selon la composition de la couche 5 à déposer et / ou la nature du précurseur ou encore selon la géométrie du récipient 1 à traiter, un bon compromis entre la qualité de 10 la couche 5 déposée, notamment en termes d'homogénéité et d'absence de contamination, la vitesse de dépôt et la bonne pénétration / évacuation des espèces réactives et produits de la réaction dans la cavité 3 du récipient 1 est atteint lorsque ladite étape de purge sous vide est préférentiellement réalisée jusqu'à ce que la pression dans l'enceinte atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge 15 inférieure ou égale à 1 hPa et lorsque la valeur de la pression régnant dans l'enceinte pendant ladite étape de dépôt est, préférentiellement encore, sensiblement comprise entre 20 et 980 hPa. Mettant ainsi en oeuvre une dépression relativement faible au sein de l'enceinte par rapport à la pression atmosphérique environnante, le procédé de l'invention est par 20 conséquent de mise en oeuvre particulièrement aisée, fiable et robuste en environnement industriel, ne nécessitant pas de moyens techniques de pompage et d'étanchéification complexes et onéreux. Il autorise ainsi, de manière particulièrement avantageuse, la définition aisée de grandes dimensions d'enceinte permettant de traiter facilement et de manière simultanée un très grand nombre de récipients 1, lesquels 25 peuvent par ailleurs être de taille et géométrie variées. Au cours de ladite étape de dépôt, l'éventuel excès de mélange réactif gazeux n'ayant pas réagi et les sous-produits gazeux de la réaction dudit mélange réactif doivent pouvoir être évacués par ladite ouverture 4 étroite, sans pour autant gêner la pénétration du mélange réactif gazeux. Par conséquent, les profils d'écoulement et 30 débit du mélange réactif gazeux à l'intérieur du récipient 1 doivent pouvoir être contrôlés et maîtrisés avec précision pour éviter les phénomènes de turbulence et pour garantir une répartition uniforme des espèces constituant le mélange réactif à proximité 3052161 13 de la paroi 2 du récipient 1. En effet, la face interne 20 du récipient 1 doit de préférence être entièrement recouverte par ledit revêtement barrière et l'épaisseur E de la couche 5 déposée sur la face interne 20 de la paroi 2 doit être la plus uniforme possible. A ce titre, la valeur de la pression régnant dans l'enceinte au cours de ladite 5 étape de dépôt est préférentiellement maintenue sensiblement constante, avantageusement finement régulée autour d'une valeur prédéfinie de pression de dépôt qui est de préférence comprise dans la gamme de pression de dépôt évoquée ci-dessus. Pour ce faire, l'enceinte est avantageusement reliée à un système de régulation de la pression, constitué par exemple d'une vanne dite papillon et d'un 10 capteur de pression. En fonction d'une pression de consigne, et pour un débit d'introduction du mélange réactif gazeux constant, l'excès de mélange réactif gazeux et les produits de la réaction de ce dernier présents dans l'enceinte sont aspirés et évacués de manière à maintenir la pression régnant dans l'enceinte à ladite valeur prédéfinie de pression de dépôt, après un éventuel régime transitoire lié à l'introduction 15 dudit mélange réactif gazeux. Il a été observé, en outre, que le maintien d'une pression de dépôt sensiblement constante permet avantageusement de maîtriser la cinétique de la réaction menant au dépôt de la couche 5, en particulier pour des temps d'introduction du mélange réactif gazeux relativement longs (typiquement de l'ordre de 60 secondes), en évitant avantageusement la création de gradients de pression dans l'enceinte au 20 cours de dépôt. En effet, de tels gradients de pression risqueraient de provoquer la réaction du précurseur dans le mélange réactif gazeux, et non en contact avec la face interne 20 chaude du récipient 1, et conduire ainsi à la formation d'une couche poudreuse sur la paroi en verre 2. Il ressort de ce qui précède que l'invention rend ainsi possible et relativement aisé le revêtement intégral et homogène de la face interne 20 25 de récipients 1 pourvus d'une ouverture 4 particulièrement étroite. De préférence, ladite étape de dépôt est réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux qui comprend un précurseur métallo-organique (ou précurseur « organométallique »), c'est-à-dire un composé chimique comportant au moins une liaison covalente entre un atome de carbone et un métal ou un métalloïde (tel que par exemple le silicium Si). A 30 ce titre, le procédé de l'invention concerne donc avantageusement une étape de dépôt en phase gazeuse de type MOCVD (« metalorganic chemical vapor deposition »), De manière encore plus préférentielle, ce précurseur est choisi parmi le groupe constitué par l'orthosilicate de tétraéthyle (TEOS), l'hexaméthyldisiloxane (HMDSO) et 3052161 14 l'orthosilicate de tétraméthyle (TMOS), comme précurseur pour le dépôt de silice SiO2. Il est bien évidemment tout à fait envisageable, sans pour autant sortir du cadre de l'invention, de recourir à un précurseur de nature différente, organométallique ou non, comme précurseur pour le dépôt d'une couche de composition différente et, par 5 exemple, composée d'un oxyde, d'un nitrure ou d'un oxy-nitrure d'un autre métal que le silicium. Dans le cas où le précurseur, qu'il soit organométallique ou non, se présente sous une forme solide ou liquide à pression et température ambiantes, la température de stockage Tstock du précurseur devra être inférieure à sa température de 10 sublimation Tsublim ou d'évaporation Tévap. En outre, la température de transport Ttransp du précurseur vers l'enceinte de dépôt sera de préférence au moins égale à sa température de sublimation Tsubiim ou d'évaporation Tévap et strictement inférieure à la température de décomposition Tdécomp du précurseur, de sorte à éviter d'une part la condensation du précurseur dans les conduites d'alimentation de l'enceinte de dépôt et 15 donc l'encrassement de ces dernières et d'autre part la réaction précoce de décomposition du précurseur dans le mélange réactif gazeux. De préférence, ledit mélange réactif gazeux comprend un gaz vecteur neutre qui est du diazote N2 ou de l'argon Ar, ce gaz vecteur ayant notamment pour vocation de transporter le précurseur jusqu'à la surface chaude au contact de laquelle on souhaite 20 le faire réagir, en l'espèce au contact au moins de la face interne 20 de la paroi en verre 2 du récipient 1. De manière particulièrement avantageuse, ladite étape de dépôt est réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux qui est introduit dans ladite enceinte de manière séquentielle et discontinue au cours de l'étape de dépôt. Selon ce mode de réalisation 25 particulier, le mélange réactif gazeux est injecté dans l'enceinte réactionnelle, laquelle a été préalablement purgée sous vide au cours de ladite étape de purge de sorte à en extraire l'air ambiant résiduel, à un débit contrôlé et pendant un temps donné ti relativement court (typiquement de l'ordre de 10 secondes), choisi notamment selon l'aire de la surface de la face interne 20 à revêtir et l'épaisseur E de la couche 5 que 30 cherche à déposer. Puis l'introduction du mélange gazeux est interrompue pendant un temps t2, de sorte à laisser le temps à la quantité de mélange gazeux réactif injectée de 3052161 15 réagir au contact de la face interne 20 chaude. Cette séquence d'introduction du mélange gazeux réactif peut être répétée avantageusement plusieurs fois jusqu'à ce que la quantité de mélange réactif gazeux désirée soit injectée au sein de l'enceinte. De préférence, chaque séquence d'introduction du mélange réactif gazeux est 5 avantageusement suivie d'une opération de purge sous vide de l'enceinte, c'est-à-dire une opération au cours de laquelle on vient aspirer l'atmosphère présente dans l'enceinte (composée en l'espèce d'un éventuel excès de mélange réactif gazeux n'ayant pas réagi et de sous-produits gazeux de la réaction dudit mélange réactif) et rétablir le vide dans cette dernière, préférentiellement jusqu'à atteindre une valeur de 10 pression identique à ladite valeur prédéterminée de pression régnant dans l'enceinte à l'issue de ladite étape de purge et avant l'injection du mélange gazeux. Le procédé de formation de l'invention est alors, selon ce mode de réalisation particulier, avantageusement composé d'une pluralité d'étapes de purge et de dépôt successives. Il est par ailleurs également possible, dans ce mode de réalisation particulier, de 15 maintenir sensiblement constante la pression régnant dans l'enceinte réactionnelle au cours de chaque séquence d'introduction du mélange réactif gazeux, pour les raisons évoquées précédemment. On obtient ainsi, grâce à un tel mode d'introduction séquentiel et discontinu du mélange réactif gazeux dans l'enceinte au cours de l'étape de dépôt, un meilleur contrôle de la 20 quantité de précurseur injectée dans l'enceinte et on s'assure également ainsi de l'absence d'accumulation de matière et de surpression à l'intérieur du récipient 1 au cours de l'étape de dépôt, lesquelles viendraient gêner le bon écoulement entrant / sortant du mélange réactif gazeux à travers l'ouverture 4 étroite du récipient 1. Le procédé est ainsi particulièrement précis, fiable et répétable. 25 Que ledit mélange réactif gazeux soit introduit de manière continue ou bien de manière discontinue et séquentielle dans l'enceinte de dépôt, il est en outre optionnellement envisageable, sans pour autant sortir du cadre de l'invention, de prévoir que ses composants (en l'espèce au moins lesdits gaz vecteur et précurseur) soient introduits de manière séparée ou partiellement séparée dans ladite enceinte au cours de ladite 30 étape de dépôt. Dans cette configuration particulière, une fois le récipient 1 disposé dans l'enceinte et cette dernière purgée sous vide, on vient dans un premier temps introduire au sein de l'enceinte du gaz vecteur jusqu'à atteindre une valeur de pression 3052161 16 de dépôt prédéfinie, laquelle est inférieure à la pression atmosphérique et supérieure à ladite valeur de pression prédéterminée de pression de purge, et avantageusement comprise entre 20 et 980 hPa. Le mélange réactif gazeux comprenant le précurseur, voire le précurseur seul en phase gazeuse, est ensuite introduit au sein de l'enceinte de 5 sorte à venir se mélanger avec le gaz vecteur déjà présent en vue de former la couche 5 au contact de surface de la paroi en verre 2 chaude et en particulier au contact de la face interne 20 de cette dernière. En fixant le débit d'introduction du mélange réactif gazeux (ou du précurseur seul) suffisamment faible et en régulant précisément la pression régnant au sein de l'enceinte de sorte à la maintenir 10 sensiblement constante et égale à ladite valeur de pression de dépôt prédéfinie, il est avantageusement possible d'éviter au maximum la création de gradients de pression au sein de l'enceinte, source de réactions prématurées et indésirables du précurseur dans le mélange réactif gazeux. Afin de garantir un bon compromis entre les performances du revêtement barrière 15 formé en termes de résistance hydrolytique et la compatibilité du procédé de formation avec des conditions d'exploitation industrielles, le temps de dépôt de la couche 5 au sein de l'enceinte au cours de l'étape de dépôt, c'est-à-dire le temps effectif de réaction du mélange réactif gazeux au contact de la paroi en verre 2, et en particulier de sa face interne 20 chaude, est de préférence sensiblement compris entre 9 s et 30 min, de 20 préférence encore entre 10 s et 10 min, selon la nature du précurseur mis en oeuvre et l'épaisseur de la couche 5 recherchée. De préférence, l'épaisseur E de la couche 5 déposée sur la face interne 20 du récipient 1 selon le procédé de l'invention est, en l'espèce, sensiblement comprise entre 1 et 500 nm. Les essais réalisés dans le cadre du développement de l'invention 25 ont montré que cette plage de valeurs, qui peut bien sûr être adaptée en fonction des caractéristiques du récipient 1 à revêtir et de la composition chimique de la couche 5 déposée, permet d'obtenir un revêtement barrière particulièrement efficace pour prévenir la migration d'espèces ioniques, en particulier d'ion alcalins ou alcalino-terreux, depuis la paroi en verre 2 vers le produit contenu dans la cavité 3 du récipient 1, tout en 30 limitant le risque de délamination et de craquelure du revêtement, notamment lors d'une éventuelle étape de stérilisation ultérieure. 3052161 17 Afin d'activer thermiquement la réaction de dépôt chimique en phase gazeuse en apportant l'énergie nécessaire à la décomposition du précurseur au contact de ladite face interne 20, le procédé de formation du revêtement barrière comprend avantageusement, préalablement à l'étape de dépôt, une étape de chauffage du 5 récipient 1 et de sa paroi en verre 2. Au cours de cette étape de chauffage, la température de la paroi en verre 2 du récipient 1 est élevée de façon à ce que ladite étape de dépôt s'effectue sur une paroi en verre (2) portée à une température sensiblement comprise entre 125°C et 600°C et, de manière encore plus préférentielle, en particulier dans le cas du dépôt d'une couche 5 composée de silice Si02, à une 10 température sensiblement comprise entre 350°C et 550°C. Cette étape de chauffage est, de préférence, réalisée préalablement à l'introduction du récipient 1 eu sein de l'enceinte de dépôt, par exemple par passage du récipient 1 sous une arche de chauffage. Elle est avantageusement réalisée à l'aide d'un dispositif de chauffage primaire par infra-rouges ou micro-ondes et de préférence sans convection, de sorte à 15 réchauffer le récipient 1 de manière uniforme tout en évitant le déplacement de poussières ambiantes et leur dépôt à la surface du verre chaud. Alternativement, l'étape de chauffage peut être réalisée directement dans l'enceinte même, une fois le récipient 1 placé en son sein et avant la réalisation desdites étapes de purge et de dépôt. En particulier dans le cas où l'étape de chauffage est réalisée hors de l'enceinte 20 de dépôt, cette dernière peut avantageusement être pourvue d'un dispositif de chauffage secondaire, par exemple un moyen de chauffage par induction ou par micro-ondes, de sorte à permettre de maintenir sensiblement constante la température de la paroi en verre 2 au cours de l'étape de dépôt, et ce malgré les variations de température que pourraient engendrer la purge sous vide de l'enceinte préalablement à 25 l'étape de dépôt et l'introduction du mélange réactif gazeux au cours de ladite étape de dépôt. De préférence, le procédé comprend, préalablement à l'étape de dépôt et, de préférence encore, préalablement à l'étape de purge de l'enceinte, une étape de lavage du récipient 1 et en particulier de sa paroi en verre 2. Cette étape de lavage est 30 préférentiellement réalisée à l'eau ultra pure, c'est-à-dire une eau qui ne contient avantageusement que des molécules H20, et des ions H+ et 0H- en équilibre, ou de manière encore plus préférentielle, à l'eau pour préparation injectable (EPPI ou « Aqua ad iniectabilia »), telle que notamment définie par la pharmacopée européenne, c'est-à- 3052161 18 dire une eau destinée à la préparation de médicaments pour administration parentérale ou une eau destinée à la dissolution ou à la dilution de substances ou préparations pour administration parentérale (eau stérilisée PPI). Au cours de cette étape de lavage, l'eau est avantageusement introduite au sein de la cavité d'accueil 3 du récipient 1 de 5 manière à venir au moins en contact avec la face interne 20 de la paroi en verre 2, puis est extraite, par exemple par aspiration. Cette étape est avantageusement répétée plusieurs fois, de préférence trois fois, pour assurer une performance optimale de lavage. Cette étape de lavage est préférentiellement suivie d'une étape de séchage au cours de laquelle le récipient 1 est séché, de préférence par un jet d'air comprimé sec. 10 Préalablement ou alternativement à cette étape de lavage à l'eau, le récipient 1 peut être nettoyé dans un bain d'acétone sous ultrasons pour en dégraisser au moins sa face interne 20, puis dans un bain d'éthanol sous ultrasons. En outre, le récipient 1 peut alternativement être séché sous un flux de gaz neutre, par exemple sous un flux d'argon Ar. Cette étape de lavage, optionnellement suivie d'une étape de séchage, est 15 importante pour préparer la face interne 20 en verre du récipient 1 avant dépôt, éviter la présence de poussières et contaminants et assurer ainsi une bonne adhésion du revêtement barrière. De préférence, ladite étape de lavage et, optionnellement ladite étape de séchage, sont réalisées avant l'étape de chauffage décrite ci-avant. Il est à noter que le procédé de l'invention concerne, de préférence, un récipient 1 qui a 20 fait l'objet, préalablement à l'étape de dépôt, d'une étape de recuisson primaire visant à relaxer les contraintes résiduelles du verre après formage dudit récipient 1. Une telle étape de recuisson primaire, bien connue en tant que telle, peut être mise en oeuvre dans une arche de recuit classique. Ainsi, la couche 5 destinée à former ou à contribuer à former le revêtement barrière est préférentiellement déposée, au cours de l'étape de 25 dépôt, sur la face interne 20 d'une paroi en verre 2 sensiblement dépourvue de contraintes internes et de surface liées au formage dudit récipient 1. De manière encore plus préférentielle, le procédé de l'invention concerne un récipient 1 ayant subi une recuisson primaire telle que décrite ci-dessus, ainsi qu'une opération préalable d'inspection / contrôle et de tri visant à écarter d'éventuels récipients 1 présentant des 30 défauts de fabrication. De préférence, le procédé comprend en outre une étape de recuisson secondaire du récipient 1 consécutive à l'étape de dépôt de la couche 5. Le récipient 1 revêtu est ainsi 3052161 19 extrait de l'enceinte de dépôt et avantageusement placé dans une arche de recuit secondaire pour y être recuit et progressivement refroidi. Les contraintes régnant dans la couche 5 déposée étant élevées en fin de dépôt, cette étape de recuisson secondaire permet la relaxation de ces contraintes et l'amélioration des propriétés de résistance 5 hydrolytique de la paroi en verre 2 du récipient 1. Avantageusement, la température de recuit est préférentiellement comprise entre 500 et 580°C et la vitesse de refroidissement préférentiellement comprise entre 10 et 30°C / min. Ces plages de valeurs peuvent éventuellement être ajustées selon la composition de la couche 5. De préférence, le procédé de l'invention comprend, à l'issue de ladite étape de dépôt et, 10 de préférence encore, à l'issue de l'étape de recuisson secondaire, une étape d'inspection et de contrôle des caractéristiques physico-chimiques et mécaniques de la couche 5 déposée et du revêtement barrière formé à la surface du récipient 1, Le procédé de l'invention est avantageusement réalisé en reprise, c'est-à-dire hors de la ligne de fabrication du récipient 1, laquelle s'étend au sens de l'invention du « bout 15 chaud » au « bout froid ». Contrairement à un procédé qui serait réalisé en ligne et au cours duquel le revêtement barrière serait alors formé au défilé, c'est-à-dire sur des récipients en mouvement, le fait de réaliser ledit procédé en reprise permet avantageusement de déposer une couche 5 sur la face interne 20 d'un ou plusieurs récipients 1 en configuration statique, en s'affranchissant des contraintes de cadence 20 imposée par les moyens productifs disposés en amont dans la ligne. Il en résulte un procédé plus robuste et plus reproductible, le traitement en reprise permettant avantageusement, par rapport à un traitement en ligne, un meilleur contrôle de la quantité de précurseur introduite et de l'écoulement du mélange réactif gazeux dans la cavité d'accueil 3 du récipient 1 à traiter. Selon ce mode de réalisation préférentiel, le 25 procédé est donc avantageusement réalisé à l'aide d'une installation spécifique distincte, conforme de préférence à celle décrite ci-après, située à distance de la ligne de fabrication du récipient 1, et non directement intégrée à cette dernière. Cela permet avantageusement, en outre, de ne traiter qu'une partie des récipients 1 issus de la ligne de fabrication, à une cadence éventuellement inférieure à la cadence moyenne de 30 ladite ligne. Il est dès lors possible de mettre en oeuvre des temps de dépôt relativement longs en regard de la cadence de la ligne de fabrication, permettant d'aboutir à la formation d'un revêtement barrière de meilleure qualité et en particulier 3052161 20 moins sensible à la délamination, sans remettre pour autant en cause la cadence générale de ladite ligne. L'invention permet ainsi, grâce à un procédé spécifique de dépôt de couche sous atmosphères et pressions contrôlées de former un revêtement barrière à la surface de 5 la face interne 20 d'un récipient 1 en verre qui est particulièrement efficace pour prévenir la cession d'ions du récipient 1 vers le produit que ce dernier contient. Grâce au procédé de l'invention, il est possible, à partir de récipients classiques en verre sodocalcique ou borosilicaté, d'obtenir de manière simple, rapide, peu coûteuse et répétable des récipients 1 particulièrement bien adaptés au conditionnement et au 10 stockage de produits aussi sensibles que des produits pharmaceutiques ou diagnostiques. L'invention concerne par ailleurs en tant que telle une installation 6, de préférence industrielle, pour la formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient 1 avantageusement conforme à la description qui en est faite ci-dessus, c'est-à-dire un 15 récipient comprenant en particulier une paroi en verre 2 délimitant une cavité d'accueil 3 pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre 2 présentant une face interne 20 située en regard de ladite cavité d'accueil 3. Avantageusement prévue pour permettre la mise en oeuvre du procédé de l'invention décrit ci-avant, et telle qu'illustrée à la figure 2, ladite installation 6 de l'invention 20 comprend au moins, d'une part, une enceinte 7 conçue, notamment en termes de dimensions, pour recevoir en son sein ledit récipient 1 et, de manière préférentielle, une pluralité de récipients 1. De préférence, ladite enceinte 7 est prévue pour recevoir intégralement ledit ou lesdits récipients 1, c'est-à-dire que ce ou ces derniers sont avantageusement totalement inclus dans ladite enceinte 7. Préférentiellement dotée de 25 portes étanches à l'air et au vide par lesquelles ledit récipient 1 peut être introduit puis extrait de l'enceinte 7, cette dernière forme une chambre réactionnelle 8 avantageusement hermétique en vue de la réalisation d'une étape de dépôt chimique en phase vapeur activé thermiquement sur au moins une fraction de la face interne 20 de la paroi en verre 2 du récipient 1 d'une couche 5 formant ou contribuant à former 30 ledit revêtement barrière à partir d'un mélange réactif gazeux introduit dans ladite enceinte 7. 3052161 21 Avantageusement conforme à la description qui en est faite plus haut, ladite couche 5 est composée d'un matériau à base d'un élément choisi parmi le groupe constitué du silicium Si, de l'aluminium AI, du titane Ti, du bore B, du zirconium Zr, du tantale Ta ou d'un mélange de ces derniers. De préférence, ladite couche 5 est plus précisément 5 composée d'un oxyde, d'un nitrure ou d'un oxy-nitrure d'un élément choisi parmi le groupe constitué du silicium Si, de l'aluminium AI, du titane Ti, du bore B, du zirconium Zr, du tantale Ta ou d'un mélange de ces derniers. L'installation 6 comprend au moins, d'autre part, un dispositif de pompage 9 connecté à l'enceinte 7 pour aspirer l'atmosphère à l'intérieur de cette dernière, ainsi qu'un moyen 10 de régulation 10 de la pression régnant dans ladite enceinte 7. Selon l'invention, ledit moyen de régulation 10 est conçu pour contrôler ledit dispositif de pompage 9 de façon à ce que ce dernier opère tout d'abord, et préalablement à ladite étape de dépôt, une purge sous vide de ladite enceinte 7 jusqu'à ce que la pression dans cette dernière atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge, puis maintienne la pression 15 régnant dans ladite enceinte 7 au cours de ladite étape de dépôt à une valeur inférieure à la pression atmosphérique et supérieure (strictement) à ladite valeur prédéterminée de pression de purge. La valeur de la pression régnant dans l'enceinte au cours de ladite étape de dépôt, non nécessairement constante, est donc ainsi maintenue avantageusement strictement comprise entre la valeur de la pression atmosphérique et 20 ladite valeur prédéterminée de pression de purge. Relié de préférence au dispositif de pompage 9 et incluant, par exemple, une vanne dite papillon et une jauge de pression reliées à un régulateur PID, ledit moyen de régulation 10 est avantageusement conçu et paramétré de manière à ce que ladite valeur prédéterminée de pression de purge corresponde à un niveau de vide primaire, 25 c'est-à-dire à une pression régnant dans ladite enceinte 7 comprise entre la valeur de la pression atmosphérique environnante (laquelle est généralement sensiblement égale à 1 013,25 hPa) et environ 0,01 hPa et, de façon encore plus préférentielle, de manière à ce que ladite valeur prédéterminée de pression de purge corresponde à une pression inférieure ou égale à 1 hPa. Il est en outre de préférence conçu et paramétré de sorte à 30 maintenir la pression régnant dans ladite enceinte 7 au cours de ladite étape de dépôt à une valeur sensiblement comprise entre 20 et 980 hPa. Il est ici parfaitement envisageable que ledit moyen de régulation 10 autorise une variation de la pression 3052161 22 régnant dans ladite enceinte 7 au cours de ladite étape de dépôt dans cette plage de valeur. Cependant, de manière particulièrement avantageuse, ledit moyen de régulation 10 est au contraire conçu pour maintenir sensiblement constante, par exemple autour d'une valeur prédéfinie de pression de dépôt comprise dans ladite 5 plage de valeur, la valeur de la pression régnant à l'intérieur de ladite enceinte au cours de ladite étape de dépôt. Contrôlé par ledit moyen de régulation 10, ledit dispositif de pompage 9 permet ainsi avantageusement de pomper l'air ambiant présent à l'intérieur de la chambre réactionnelle 8, et en particulier dans la cavité 3 du récipient 1 à traiter, pour y établir le 10 vide avant dépôt. Dans un second temps, au cours de l'étape de dépôt, le dispositif de pompage 9 permet ensuite d'extraire un éventuel excès de mélange réactif gazeux, et les sous-produits gazeux de la réaction de décomposition du précurseur contenu dans ledit mélange réactif gazeux. De préférence, ledit dispositif de pompage 9 comprend une pompe de type primaire (ou pompe primaire), avantageusement apte à permettre 15 d'atteindre un niveau de vide dans ladite enceinte 7 conforme aux valeurs et plages de valeur mentionnées ci-dessus. De préférence encore, et comme illustré à la figure 2, l'aspiration de l'atmosphère à l'intérieur de l'enceinte 7 par le dispositif de pompage 9 se fait par un ou plusieurs orifices ménagés à travers l'enceinte 7 et débouchant sous le récipient 1, de manière à optimiser l'écoulement du mélange réactif au sein de la 20 cavité 3 et le long de la face interne 20 du récipient 1. L'installation 6 comprend en outre, de préférence, un dispositif de chauffage primaire (non représenté), avantageusement positionné en amont de l'enceinte 7, et destiné à élever la température de la paroi en verre 2 du récipient 1, et donc de sa face interne 20, de façon à ce que ladite étape de dépôt s'effectue sur une paroi en verre 2, 25 et en particulier sur la face interne 20 de cette dernière, portée à une température sensiblement comprise entre 125°C et 600°C et, de manière encore plus préférentielle, en particulier dans le cas du dépôt d'une couche 5 composée de silice SiO2, à une température sensiblement comprise entre 350°C et 550°C. Par exemple de type arche, ce dispositif de chauffage primaire comprend de préférence des moyens de chauffage 30 par infra-rouges ou micro-ondes et de préférence encore sans convection, de sorte à réchauffer le récipient 1 de manière uniforme tout en évitant le déplacement de poussières ambiantes et leur dépôt à la surface du verre chaud. Bien évidemment, 3052161 23 selon la distance séparant ledit dispositif de chauffage primaire et l'enceinte 7, on comprend que le dispositif de chauffage primaire pourra être conçu pour élever la température de la paroi en verre 2 du récipient 1 à une température supérieure à celles des plages précitées afin de compenser un éventuel refroidissement du récipient 1 5 entre son passage dans le dispositif de chauffage primaire et son introduction au sein de l'enceinte 7, et de garantir ainsi que, lorsque le récipient 1 est disposé au sein de l'enceinte 1 pour être soumis à ladite étape de dépôt, la température de sa paroi en verre 2 et en particulier de la face interne 20 de cette dernière est bien comprise dans les plages de température précitées. 10 Avantageusement, l'installation 6 comprend également un moyen de préparation (non représenté) dudit mélange réactif gazeux, lequel comprend un précurseur métallo-organique. Dans le cas où ce précurseur métallo-organique est solide ou liquide à pression et température ambiantes, ledit moyen de préparation inclut avantageusement un dispositif de sublimation ou d'évaporation dudit précurseur et de mélange de ce 15 précurseur sublimé ou évaporé avec un gaz vecteur neutre, par exemple du diazote N2 ou de l'argon Ar. Ledit moyen de préparation du mélange réactif gazeux est en outre avantageusement conçu de manière à ce que la température de stockage Tstock du précurseur soit en permanence inférieure à sa température de sublimation Tsubiim ou d'évaporation Tévap. Le moyen de préparation comprend également, de préférence, des 20 moyens de régulation thermique conçus de manière à ce que la température de transport Ttransp du précurseur vers l'enceinte 7 de dépôt soit de préférence au moins égale à sa température de sublimation Tsublini ou d'évaporation Tévap du précurseur et strictement inférieure à la température de décomposition Tdécomp du précurseur. Comme mentionné plus haut, on évite ainsi d'une part la condensation du précurseur dans les 25 conduites d'alimentation 11 de l'enceinte 7 de dépôt et donc l'encrassement de ces dernières et d'autre part la réaction précoce de décomposition du précurseur dans le mélange réactif gazeux. Afin de permettre et de faciliter l'introduction du mélange réactif gazeux au sein de l'enceinte 7 et de la cavité d'accueil 3 du récipient 1, l'installation 6 comprend de plus un 30 système d'injection 12 pourvu d'au moins une buse 13, et de préférence d'une pluralité de buses 13, par exemple de type diaphragme, ou d'une douchette unique, centrée au-dessus du ou des récipients 1 à traiter. En outre, l'installation 6 de l'invention comprend 305 2 1 6 1 24 de manière particulièrement avantageuse un moyen d'introduction séquentielle et discontinue (non représenté) du mélange réactif gazeux dans ladite enceinte 7, lequel moyen d'introduction séquentielle et discontinue est de préférence relié audit moyen de régulation 10. A ce titre, l'installation 6 comprend par exemple, en amont du système 5 d'injection 12 à buse(s) 13 décrit ci-avant, une première électrovanne 14A (de type piézoélectrique ou autre) associée au système d'injection 12 du mélange réactif gazeux. Pendant un temps donné ti, relatif notamment à l'aire de la face interne 20 à revêtir, cette première électrovanne 14A peut être maintenue position ouverte, de sorte à laisser s'écouler le mélange réactif gazeux à l'intérieur de l'enceinte 7 selon un débit 10 prédéfini. A la fin du temps ti, la première électrovanne 14A est ensuite fermée pour arrêter l'écoulement du mélange réactif gazeux dans l'enceinte 7 et le récipient 1. Comme envisagé plus haut, il est en outre possible de prévoir pendant le temps t2 au cours duquel ladite première électrovanne 14A est fermée, une opération de purge sous vide de l'enceinte, c'est-à-dire une opération au cours de laquelle on vient aspirer 15 l'atmosphère présente dans l'enceinte (composée en l'espèce d'un éventuel excès de mélange réactif gazeux n'ayant pas réagi et de sous-produits gazeux de la réaction dudit mélange réactif) et rétablir le vide dans cette dernière, préférentiellement jusqu'à atteindre une valeur de pression identique à ladite valeur prédéterminée de pression régnant dans l'enceinte à l'issue de ladite étape de purge et avant l'injection du 20 mélange gazeux. L'installation 6 peut alors avantageusement comprendre une seconde électrovanne 14B, installée en amont dudit dispositif de pompage 9. Cette seconde électrovanne 14B est alors conçue pour pouvoir être fermée (partiellement ou totalement) au début du temps ti, une fois le niveau de vide souhaité établi au sein de l'enceinte 7, et pour pouvoir être totalement ouverte au début du temps t2 de sorte à 25 permettre l'évacuation des sous-produits de réaction et du mélange réactif gazeux non consommé vers la pompe du dispositif de pompage 9. De préférence, l'installation 6 comprend un moyen de lavage, et optionnellement un moyen de séchage, (non représentés) du récipient 1 destinés à soumettre ce dernier à une étape de lavage / séchage avantageusement conforme à la description qui en est 30 faite ci-avant, c'est-à-dire de préférence une étape de lavage à l'eau ultra pure ou, de manière encore plus préférentielle, à l'eau pour préparation injectable (EPPI ou « Aqua ad iniectabilia »). Ces moyens de lavage et, optionnellement, de séchage sont de 3052161 25 préférence positionnés en amont d'une part de l'enceinte 7 et, d'autre part, du dispositif de chauffage primaire de manière à permettre avantageusement le lavage I séchage du récipient 1 avant son réchauffage par ledit dispositif de chauffage primaire et préalablement à son introduction et à sa disposition au sein de l'enceinte 7. 5 L'installation 6 comprend préférentiellement une arche de recuit secondaire (non représentée) destinée à recevoir le récipient 1 extrait de l'enceinte 7 après dépôt de la couche 5 pour le soumettre à une étape de recuisson secondaire telle que décrite plus haut. De préférence, l'installation 6 comprend également un dispositif d'inspection et de 10 contrôle (non représenté) des caractéristiques physico-chimiques et mécaniques de la couche 5 déposée et du revêtement barrière formé à la surface du récipient 1. Enfin, l'installation 6 est avantageusement conçue pour être mise en oeuvre en reprise, c'est-à-dire hors de la ligne de fabrication du récipient 1 et pour pouvoir fonctionner de manière autonome et indépendante de ladite ligne de fabrication. 15 En définitive, l'installation 6 de l'invention, qui permet la formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient 1 à paroi en verre 2, est relativement simple et économique à fabriquer et à mettre en oeuvre, ne faisant appel qu'à des moyens techniques relativement classiques et aisément utilisables en conditions industrielles. Une fois convenablement dimensionnée, elle est en outre particulièrement bien adaptée 20 au traitement consécutif ou simultané de grande quantité de récipients à paroi en verre, lesquels peuvent être de tout type (flacons, pots, bouteilles, tubes, etc.) et dimensions variées. REVENDICATIONS1. Procédé de formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient (1) comprenant une paroi en verre (2) délimitant une cavité d'accueil (3) pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre (2) présentant une face interne (20) située en regard de ladite cavité d'accueil (3), ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes : - une étape de disposition dudit récipient (1) dans une enceinte ; - une étape de purge sous vide de ladite enceinte contenant ledit récipient (1) jusqu'à ce que la pression régnant dans l'enceinte atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge ; une étape de dépôt chimique en phase vapeur activé thermiquement sur au moins une fraction de ladite face interne (20) d'une couche (5) formant ou contribuant à former ledit revêtement barrière, la valeur de la pression régnant dans l'enceinte au cours de ladite étape de dépôt étant inférieure à la pression atmosphérique et supérieure à ladite valeur prédéterminée de pression de purge. 2- Procédé selon la revendication précédente caractérisé en ce que ladite étape de purge est réalisée de manière à placer ladite enceinte sous vide primaire. 3- Procédé selon la revendication précédente caractérisé en ce que ladite étape de purge sous vide est réalisée jusqu'à ce que la pression dans l'enceinte atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge inférieure ou égale à 1 hPa. 4- Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 caractérisé en ce que la valeur de la pression régnant dans l'enceinte pendant ladite étape de dépôt est sensiblement comprise entre 20 et 980 hPa. 5- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la valeur de la pression régnant dans l'enceinte au cours de ladite étape de dépôt est maintenue sensiblement constante. 305 2 1 6 1 27 6- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que ladite paroi (2) est en verre sodo-calcique ou en verre borosilicate. 7- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la couche (5) déposée est composée d'un oxyde, d'un nitrure ou d'un oxy- 5 nitrure d'un élément choisi parmi le groupe constitué du silicium Si, de l'aluminium Al, du titane Ti, du bore B, du zirconium Zr, du tantale Ta, ou d'un mélange de ces derniers. 8- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que ladite étape de dépôt est réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux 10 comprenant un précurseur métallo-organique. 9- Procédé selon la revendication précédente caractérisé en ce que le précurseur est choisi parmi le groupe constitué par l'orthosilicate de tétraéthyle (TEOS), l'hexaméthyldisiloxane (HMDSO) et l'orthosilicate de tétraméthyle (TMOS), comme précurseur pour le dépôt de silice Si02. 15 10- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que ladite étape de dépôt est réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux comprenant un gaz vecteur neutre qui est du diazote N2 ou de l'argon Ar. 11- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que ladite étape de dépôt est réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux qui est 20 introduit dans ladite enceinte de manière séquentielle et discontinue au cours de ladite étape de dépôt. 12- Procédé selon la revendication précédente caractérisé en ce que chaque séquence d'introduction du mélange gazeux réactif dans ladite enceinte est suivie d'une opération de purge sous vide de ladite enceinte. 25 13- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que ladite étape de dépôt est réalisée à partir d'un mélange réactif gazeux dont les composants sont introduits de manière séparée ou partiellement séparée dans ladite enceinte au cours de ladite étape de dépôt. 3052161 28 14- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend, préalablement à l'étape de dépôt, une étape de lavage de ladite paroi en verre (2) à l'eau ultra pure ou à l'eau pour préparation injectable, préférentiellement suivie d'une étape de séchage à l'air sec. 5 15- Procédé selon l'une quelconques des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend, préalablement à ladite étape de dépôt, une étape de chauffage dudit récipient (1) de façon à ce que ladite étape de dépôt s'effectue sur une paroi en verre (2) portée à une température sensiblement comprise entre 125°C et 600°C. 10 16- Procédé selon la revendication précédente caractérisé en ce qu'il comprend, préalablement à ladite étape de dépôt, une étape de chauffage dudit récipient (1) de façon à ce que ladite étape de dépôt s'effectue sur une paroi en verre (2) portée à une température sensiblement comprise entre 350°C et 550°C. 17- Procédé selon l'une quelconques des revendications précédentes caractérisé en ce 15 que ledit récipient (1) a fait l'objet, préalablement à ladite étape de dépôt, d'une étape de recuisson primaire visant à relaxer les contraintes résiduelles du verre après formage dudit récipient (1). 18- Procédé selon l'une quelconques des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il comprend une étape de recuisson secondaire du récipient (1), consécutive à 20 ladite étape de dépôt de ladite couche (5). 19- Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu'il est réalisé en reprise, hors ligne de fabrication du récipient (1). 20- Installation (6) pour la formation d'un revêtement barrière à la surface d'un récipient (1) comprenant une paroi en verre (2) délimitant une cavité d'accueil (3) 25 pour un produit destiné à être administré à un être humain ou à un animal, ladite paroi en verre (2) présentant une face interne (20) située en regard de ladite cavité d'accueil (3), ladite installation (6) étant caractérisée en ce qu'elle comprend au moins : 3052161 29 - une enceinte (7) conçue pour recevoir en son sein ledit récipient (1) en vue de la réalisation d'une étape de dépôt chimique en phase vapeur activé thermiquement sur au moins une fraction de ladite face interne (20) de la paroi en verre (2) d'une couche (5) formant ou contribuant à former ledit revêtement 5 barrière à partir d'un mélange réactif gazeux introduit dans ladite enceinte (7) ; - un dispositif de pompage (9) connecté à l'enceinte (7) pour aspirer l'atmosphère à l'intérieur de cette dernière ; - un moyen de régulation (10) de la pression régnant dans ladite enceinte (7), lequel moyen de régulation (10) est conçu pour contrôler ledit dispositif de 10 pompage (9) de façon à ce que ce dernier opère tout d'abord une purge sous vide de ladite enceinte (7) jusqu'à ce que la pression dans cette dernière atteigne une valeur prédéterminée de pression de purge, puis maintienne la pression régnant dans ladite enceinte (7) au cours de ladite étape de dépôt à une valeur inférieure à la pression atmosphérique et supérieure à ladite valeur 15 prédéterminée de pression de purge. 21- Installation (6) selon la revendication précédente caractérisée en ce que ledit moyen de régulation (10) est conçu pour maintenir sensiblement constante la valeur de la pression régnant à l'intérieur de ladite enceinte (7) au cours de ladite étape de dépôt. 20 22- Installation (6) selon la revendication 20 ou 21, caractérisée en ce qu'elle comprend un moyen de préparation dudit mélange réactif gazeux, lequel comprend un précurseur métallo-organique. 23- Installation (6) selon l'une quelconque des revendications 20 à 22 caractérisée en ce qu'elle comprend un moyen d'introduction séquentielle et discontinue dudit 25 mélange gazeux réactif dans ladite enceinte (7). 24- Installation (6) selon l'une quelconque des revendications 20 à 23 caractérisée en ce qu'elle comprend un moyen de lavage de ladite paroi en verre (2) à l'eau ultra pure ou à l'eau pour préparation injectable. 3052161 25- Installation (6) selon l'une quelconque des revendications 20 à 24 caractérisée en ce qu'elle comprend un moyen de chauffage du récipient (1) conçu de façon à ce que ladite étape de dépôt s'effectue sur une paroi en verre (2) portée à une température sensiblement comprise entre 125°C et 600°C, et de préférence 5 sensiblement comprise entre 350°C et 550°C.