FR 3055427 A1 20180302 FR 1657975 A 20160826 B15185 - DD17167HB 1 STRUCTURE DE COUPLAGE D'UN CIRCUIT PHOTONIQUE A UN DISPOSITIF EXTERIEUR Domaine La présente demande concerne le domaine des circuits optiques intégrés ou circuits photoniques, et vise plus particulièrement une structure de couplage d'un circuit photonique 5 à un dispositif extérieur. Exposé de l'art antérieur Dans certaines applications, on peut être amené à vouloir coupler optiquement deux circuits photoniques distincts, c'est-à-dire réalisés sur des puces différentes. A titre 10 d'exemple, on peut vouloir coupler une source laser intégrée sur une première puce photonique, par exemple réalisée à base de matériaux semiconducteurs III-V, à un circuit photonique passif intégré sur une deuxième puce, par exemple réalisée à base de silicium. 15 On trouve dans la littérature principalement deux méthodes permettant de coupler optiquement deux circuits photoniques, le couplage par onde évanescente et le couplage bout à bout. Le couplage par onde évanescente consiste à superposer 20 les deux circuits de façon à disposer, à une distance relativement faible mais non nulle, une portion d'un premier guide d'onde 3055427 B15185 - DD17167HB 2 intégré dans le premier circuit, et une portion sensiblement parallèle (mais non coaxiale) d'un deuxième guide d'onde intégré dans le deuxième circuit. Les conditions à respecter pour réaliser un couplage par onde évanescente entre deux guides d'ondes sont par exemple décrites dans les articles intitulés "Electrically driven hybrid Si/III-V Fabry-Pérot lasers based on adiabatic mode transformera" de B. Ben Bakir et al., Opt Exp 19, 10317 (2011), et "Adiabaticity criterion and the shortest adiabatic mode transformer in a coupled-waveguide system" de X. Sun et al., Opt let 34, 280 (2009). Le couplage par onde évanescente permet, lorsqu'il est correctement réalisé, d'obtenir de bonnes performances de couplage, et en particulier de très faibles pertes d'énergie lumineuse lors du transfert du signal entre les deux circuits. Ce type de couplage nécessite toutefois de prendre des précautions particulières lors de l'assemblage des circuits, pour pouvoir contrôler avec précision la distance entre les deux portions parallèles de guides superposées et la qualité de l'interface entre les deux circuits. En pratique, ce type de couplage est donc relativement délicat à mettre en oeuvre. Le couplage bout à bout ("butt coupting" en anglais) consiste à juxtaposer les deux circuits de façon à abouter, selon un même axe optique, une extrémité d'un premier guide d'onde intégré dans le premier circuit à une extrémité d'un deuxième guide d'onde intégré dans le deuxième circuit. Des exemples de système optiques mettant en oeuvre un couplage bout à bout entre un circuit photonique et un dispositif extérieur sont par exemple décrits dans les articles intitulés "Diode-laser-to-waveguide butt coupling" de P. Karioja et al., Applied optics 35, 404 (1996), et "Efficient Silicon-on-Insulator Fiber Coupler Fabricated Using 248-nm-Deep UV Lithography" de G. Roelkens et al., Photonics technology letters 17, 2613 (2005). Le couplage bout à bout est largement utilisé, notamment dans le domaine des télécommunications, en raison de sa facilité de mise en oeuvre. Le couplage bout à bout présente toutefois l'inconvénient d'être 3055427 B15185 - DD17167HB 3 relativement sensible aux erreurs d'alignement entre les deux guides, et donc de procurer des rendements de couplage incertains. Il existe un besoin pour une structure de couplage d'un circuit photonique à un dispositif extérieur, cette structure 5 palliant tout ou partie des inconvénients des structures connues. Résumé Ainsi, un mode de réalisation prévoit un circuit photonique comportant une structure de couplage à un dispositif extérieur, cette structure comportant un guide d'onde principal 10 et au moins deux guides d'ondes secondaires, chaque guide secondaire ayant une première portion sensiblement parallèle au guide principal disposée au voisinage du guide principal de façon à réaliser un couplage par onde évanescente entre le guide principal et le guide secondaire, la première portion se 15 prolongeant par une deuxième portion dont une extrémité opposée à la première portion définit une face de couplage du guide secondaire, débouchant au niveau d'une face extérieure du circuit. Selon un mode de réalisation, chaque guide secondaire présente une terminaison en pointe du côté de sa face de couplage. 20 Selon un mode de réalisation, les coefficients de couplage entre le guide principal et chacun des guides secondaires sont sensiblement identiques. Selon un mode de réalisation, les premières portions des guides secondaires sont sensiblement à égale distance du guide 25 principal. Selon un mode de réalisation, la structure de couplage comprend quatre guides secondaires. Selon un mode de réalisation, le guide principal est à section transversale rectangulaire, les premières portions des 30 quatre guides secondaires étant, en section transversale, disposées autour du guide principal sur les axes de symétrie diagonaux du guide principal. Selon un mode de réalisation, la distance centre à centre maximale entre deux guides secondaires au niveau de leurs 35 faces de couplage est sensiblement égale à deux fois le rayon du 3055427 B15185 - DD17167HB 4 faisceau lumineux propagé par chaque guide secondaire au niveau de sa face de couplage. Selon un mode de réalisation, le long de leurs premières portions, les guides secondaires s'élargissent progressivement 5 jusqu'à atteindre une largeur maximale au niveau de leurs deuxièmes portions. Selon un mode de réalisation, le long des premières portions des guides secondaires, le guide principal s'affine progressivement. 10 Selon un mode de réalisation, le guide principal s'interrompt avant la face extérieure du circuit. Selon un mode de réalisation, le guide d'onde principal et les guides d'ondes secondaires sont en silicium-germanium et sont entourés de silicium. 15 Selon un mode de réalisation, le guide d'onde principal et les guides d'ondes secondaires sont en silicium amorphe et sont entourés d'oxyde de silicium. Selon un mode de réalisation, le guide d'onde principal forme un prolongement d'un guide d'onde interne au circuit, le 20 guide d'onde interne étant en silicium cristallin. Selon un mode de réalisation, le guide d'onde principal et les guides d'ondes secondaires sont en nitrure de silicium et sont entourés d'oxyde de silicium. Selon un mode de réalisation, le circuit comprend en 25 outre une source laser intégrée, le guide d'onde principal étant couplé à la source laser. Brève description des dessins Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de 30 réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : les figures LA et 1B illustrent un exemple de structure de couplage d'un circuit photonique à un dispositif extérieur ; 3055427 B15185 - DD17167HB 5 les figures 2A, 2B, 2C, 2D illustrent un exemple d'un mode de réalisation d'une structure de couplage d'un circuit photonique à un dispositif extérieur ; les figures 3A et 3B illustrent un avantage de la 5 structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D ; la figure 4 illustre une variante de réalisation de la structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D ; les figures SA, 5B, 5C, 5D, 5E, 5F, 5G, 5H, 51 illustrent des étapes d'un exemple de procédé de fabrication d'une structure 10 de couplage du type décrit en relation avec la figure 4 ; les figures 6A, 6B, 6C illustrent des étapes d'un autre exemple de procédé de fabrication d'une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4 ; et les figures 7A, 7B, 7C, 7D illustrent des étapes d'un 15 autre exemple de procédé de fabrication d'une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4. Description détaillée De mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références aux différentes figures et, de plus, les diverses 20 figures ne sont pas tracées à l'échelle. Par souci de clarté, seuls les éléments qui sont utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, dans la description qui suit, seules des structures de couplage d'un circuit photonique à un dispositif extérieur sont 25 détaillées. Les autres éléments que peut comporter un circuit photonique ne sont pas détaillés, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec tous les composants usuels que l'on peut trouver dans un circuit photonique. Dans la description qui suit, sauf indication contraire, 30 lorsque l'on fait référence à des qualificatifs de position absolue, tels que les termes "avant", "arrière", "haut", "bas", "gauche", "droite", etc., ou relative, tels que les termes "dessus", "dessous", "supérieur", "inférieur", etc., ou à des qualificatifs d'orientation, tels que les termes "horizontal", "vertical", etc., il est fait référence à l'orientation des vues 3055427 B15185 - DD17167HB 6 en coupe des figures, étant entendu que, dans la pratique, les structures décrites peuvent être orientées différemment. Sauf précision contraire, les expressions "approximativement", "sensiblement", et "de l'ordre de" signifient à 10 % près, de 5 préférence à 5 % près, ou, lorsqu'elles se réfèrent à des dimensions ou orientations angulaires (horizontal, vertical, parallèle, orthogonal, etc.), à 10° près, de préférence à 5° près. Les figures lA et lB illustrent un exemple d'une structure de couplage d'un circuit photonique à un dispositif 10 extérieur. Plus particulièrement, les figures lA et lB représentent un assemblage comportant deux circuits photoniques distincts Cl et C2 couplés optiquement. La figure lA est une vue de dessus de l'assemblage, et la figure lB est une vue en coupe longitudinale selon le plan B-B de la figure lA. 15 Le circuit Cl comprend une structure de couplage à un dispositif extérieur comportant un guide d'onde Wl en forme de ruban, par exemple de section transversale rectangulaire. Le guide d'onde Wl est réalisé en un premier matériau transparent, et est entouré d'une gaine Gl en un deuxième matériau transparent 20 d'indice de réfraction inférieur à celui du premier matériau. La gaine Gl est en contact avec toute la surface extérieure du guide Wl à l'exception de ses faces d'entrée/sortie, qui correspondent aux deux faces orthogonales à l'axe longitudinal du guide. Dans l'exemple représenté, l'axe longitudinal ou axe optique du guide 25 d'onde Wl est sensiblement horizontal. Le guide d'onde Wl débouche au niveau d'une face latérale du circuit Cl, c'est-à-dire que l'une de ses faces d'entrée/sortie, appelée face de couplage, forme une portion d'une face latérale du circuit Cl. Du côté de sa face de couplage, le guide d'onde Wl présente une portion de 30 terminaison en forme de pointe, c'est-à-dire dans laquelle sa largeur décroit progressivement jusqu'à atteindre une valeur minimale au niveau de la face de couplage. Dans cet exemple, le guide d'onde Wl présente une épaisseur sensiblement constante sur toute sa longueur. 3055427 B15185 - DD17167HB 7 Dans l'exemple représenté, le circuit C2 comprend une structure de couplage sensiblement symétrique, comportant un guide d'onde W2 en forme de ruban, dont une face de couplage débouche au niveau d'une face latérale du circuit C2, le guide W2 présentant 5 une terminaison en pointe du côté de sa face de couplage, et étant entouré d'une gaine G2 en un matériau de plus faible indice de réfraction. Le couplage entre les circuits Cl et C2 est un couplage bout à bout, c'est-à-dire que les circuits Cl et C2 sont juxtaposés 10 de façon à accoler la face de couplage du guide d'onde Wl contre la face de couplage du guide d'onde W2, de façon que les axes optiques des guides Wl et W2 soient confondus au niveau de la zone de couplage. La prévision d'une portion de terminaison en forme de 15 pointe au niveau de la face de couplage a pour avantage d'améliorer la tolérance aux erreurs d'alignement par rapport à une structure de couplage à section transversale régulière. En effet, le guidage de la lumière dans la structure s'effectue par contraste d'indice entre la région Wl (respectivement W2), de plus haut indice, et 20 la région Gl (respectivement G2), de plus bas indice. Lorsque la section du guide Wl (respectivement W2) s'affine progressivement jusqu'à disparaître, on tend vers une gaine infinie homogène, transportant une onde plane d'extension infinie. Pour une section de guide Wl (respectivement W2) réduite mais non nulle, on obtient 25 donc un mode de propagation (ou surface du faisceau lumineux en section transversale) plus étendu. Il en résulte que pour une erreur d'alignement donnée, la diminution du coefficient de couplage liée au désalignement des guides Wl et W2 est réduite par rapport à une structure de couplage à section transversale 30 régulière. Le coefficient ou taux de couplage est en effet lié à l'intégrale spatiale de recouvrement entre les deux modes, tenant compte du désalignement. Une limitation est que pour réaliser un couplage efficace, la taille du mode de propagation de la lumière dans le 35 guide Wl et la taille du mode de propagation de la lumière dans 3055427 B15185 - DD17167HB 8 le guide W2 doivent de préférence être sensiblement identiques au niveau des faces de couplage des guides. En pratique, pour pouvoir contrôler la taille du mode au niveau de la face de couplage du guide, la largeur finale du guide à l'extrémité de la pointe doit 5 rester suffisamment grande pour pouvoir être contrôlée précisément à la fabrication. Cette contrainte de reproductibilité constitue une limite à l'extension de mode accessible et donc à la tolérance aux erreurs d'alignement qui peut être atteinte. Les figures 2A, 2B, 2C, 2D illustrent un exemple d'un 10 mode de réalisation d'une structure de couplage d'un circuit photonique à un dispositif extérieur. Plus particulièrement, les figures 2A, 2B, 2C, 2D représentent un assemblage comportant deux circuits photoniques distincts Cl et C2 couplés optiquement. La figure 2A est une vue de dessus de l'assemblage, les figures 2B 15 et 2C sont des vues en coupe longitudinales selon les plans B-B et C-C de la figure 2A, et la figure 2D est une vue en coupe transversale selon le plan D-D de la figure 2A. Le circuit Cl comprend une structure de couplage à un dispositif extérieur comportant un guide d'onde principal WP1, 20 par exemple couplé optiquement à un autre composant (non visible sur les figures) du circuit Cl, et deux guides d'ondes secondaires WS11 et WS12, par exemple sensiblement identiques, non directement couplés à d'autres composants du circuit. Le guide d'onde principal WP1 et les guides d'ondes secondaires WS11 et WS12 sont 25 par exemple en forme de rubans, par exemple rectilignes, par exemple à sections transversales rectangulaires (par exemple carrées). Dans cet exemple, chacun des guides WP1, WS11 et WS12 présente une épaisseur sensiblement constante sur toute sa longueur. Chacun des guides WP1, WS11 et WS12 est réalisé en un 30 premier matériau transparent et est entouré d'une gaine en un deuxième matériau transparent d'indice de réfraction plus faible. A titre d'exemple, les guides WP1, WS11 et WS12 sont en un même premier matériau, et sont enrobés dans une même région de gainage continue Gl en un deuxième matériau de plus faible indice de 35 réfraction. Les axes optiques des guides WP1, WS11 et WS12 sont 3055427 B15185 - DD17167HB 9 par exemple sensiblement parallèles, mais non confondus. Dans cet exemple, les axes optiques des guides WP1, WS11 et WS12 sont sensiblement horizontaux. Chaque guide secondaire WS11, WS12 comprend une première 5 portion ou portion de couplage d'axe optique sensiblement parallèle à l'axe optique du guide WP1, disposée au voisinage du guide WP1 de façon à permettre un couplage par onde évanescente entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12. Les guides secondaires WS11, WS12 sont de préférence agencés de 10 façon que les coefficients de couplage entre le guide principal WP1 et chacun des guides secondaires WS11, WS12 soient sensiblement identiques. Pour cela, les guides secondaires WS11, WS12 peuvent être disposés à distance sensiblement égale du guide principal WP1. La distance d'axe optique à axe optique entre le 15 guide principal WP1 et chacun des guides secondaires WS11, WS12 est par exemple sensiblement constante sur toute la longueur de la portion de couplage entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12. La longueur de la portion de couplage entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12, 20 et la distance entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12 le long de cette portion de couplage, sont choisies de façon à minimiser les pertes de couplage, par exemple selon les enseignements décrits dans les articles susmentionnés de B. Ben Bakir et al. et de X. Sun et al.. 25 Dans l'exemple représenté, le long de la portion de couplage entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12, le guide WP1 s'affine progressivement jusqu'à s'interrompre, tandis que les guides WS11 et WS12 s'élargissent progressivement. Cet agencement en pointes inversées des guides 30 WP1 et WS11, WS12 permet d'améliorer le couplage entre le guide WP1 et les guides WS11 et WS12. Cet agencement permet en outre de rendre le couplage sensiblement indépendant de la longueur de la portion de couplage, pour autant que la longueur de la portion de couplage soit supérieure à une valeur minimale pouvant être 35 déterminée à partir des enseignements des articles susmentionnés. 3055427 B15185 - DD17167HB 10 On notera que la largeur finale des pointes formées par les terminaisons des guides WP1, WS11 et WS12 du côté de la zone de couplage entre le guide WP1 et les guides WS11 et WS12 n'a pas besoin d'être contrôlée précisément, dans la mesure où les pointes 5 n'ont pas ici pour fonction de contrôler précisément la taille des modes pour réaliser à couplage bout à bout comme dans l'exemple des figures lA et lB, mais seulement de faciliter le transfert d'énergie lumineuse par onde évanescente entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11 et WS12. Par ailleurs, les 10 modes de réalisation décrits ne se limitent pas au cas particulier où le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12 ont des formes en pointes inversées au niveau de la zone de couplage entre le guide WP1 et les guides WS11, WS12. A titre de variante, seul le guide principal WP1 peut présenter une 15 terminaison en pointe, les guides secondaires WS11, WS12 ayant une section transversale régulière dans la zone de couplage entre le guide WP1 et les guides WS11, WS12. Alternativement, le guide principal WP1 peut présenter une section régulière, tandis que les guides secondaires WS11, WS12 peuvent s'élargir 20 progressivement dans la zone de couplage entre le guide WP1 et les guides WS11, WS12. A titre de variante, le guide principal et les guides secondaires WS11, WS12 peuvent tous présenter une section régulière dans la zone de couplage entre le guide WP1 et les guides WS11, WS12. 25 Comme cela apparaît sur les figures 2A, 2B et 2C, à la fin de la portion de couplage entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12, le guide principal WP1 s'interrompt, tandis que chacun des guides secondaires WS11, WS12 se prolonge par une deuxième portion débouchant au niveau d'une 30 face latérale du circuit Cl. En d'autres termes, chacun des guides secondaires WS11, WS12 présente une face d'entrée/sortie ou face de couplage à un dispositif extérieur formant une portion d'une face latérale du circuit Cl. Comme dans l'exemple décrit ci-dessus en relation avec les figures lA et lB, chaque guide secondaire 35 WS11, WS12 présente, du côté de sa face de couplage à un dispositif 3055427 B15185 - DD17167HB 11 extérieur, une portion de terminaison en forme de pointe, c'est-à-dire dans laquelle sa largeur décroit progressivement jusqu'à atteindre une valeur minimale au niveau de la face de couplage, de façon à augmenter la taille des modes au niveau des faces de 5 couplage tout en conservant une largeur de guide suffisamment importante pour pouvoir être reproduite avec une bonne précision. A titre d'exemple, la largeur des guides secondaires WS11, WS12 au niveau de la face de couplage du circuit Cl est comprise entre 0,1 et 0,5 pin. De préférence, la longueur de la pointe est 10 supérieure à 100 fois la longueur d'onde de la lumière destinée à être transmise par la structure de couplage. Ainsi, la structure décrite permet de coupler optiquement le guide principal WP1 à un dispositif extérieur, par couplage évanescent entre le guide WP1 et les guides WS11, WS12, 15 puis par couplage bout à bout entre les guides WS11, WS12 et le dispositif extérieur. Dans l'exemple représenté, le circuit C2 comprend une structure de couplage sensiblement symétrique, comportant un guide d'onde principal WP2, et deux guides d'ondes secondaires WS21 et 20 WS22 entourés d'un matériau de gainage G2 de plus faible indice de réfraction. Les guides d'ondes WP2, WS21 et WS22 sont agencés de façon d'une part à réaliser un couplage par ondes évanescentes entre le guide principal WP2 et les guides secondaires WS21 et WS22, et d'autre part à permettre un couplage bout à bout entre 25 les guides secondaires WS21 et WS22 et un dispositif extérieur, de façon similaire à ce qui a été décrit pour le circuit Cl. Le couplage entre les circuits Cl et C2 est un couplage bout à bout, c'est-à-dire que les circuits Cl et C2 sont juxtaposés de façon à accoler la face de couplage du guide WS11 contre la face de 30 couplage du guide WS21 et la face de couplage du guide WS12 contre la face de couplage du guide WS22, de façon que les axes optiques des guides WS11 et WS21 d'une part, et WS12 et WS22 d'autre part, soient confondus au niveau de la zone de couplage. 3055427 B15185 - DD17167HB 12 Les figures 3A et 3B illustrent un avantage de la structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D par rapport à la structure de couplage des figures lA, lB. La figure 3A comprend un premier diagramme, en partie 5 gauche de la figure, représentant, pour la structure de couplage des figures lA, lB, la distribution de l'énergie lumineuse I portée par les guides Wl et W2 selon une direction x transverse aux guides, par exemple une direction verticale dans l'orientation de la figure lA. Ce premier diagramme comprend une courbe 101 en 10 trait continu correspondant à la distribution de l'énergie lumineuse portée par le guide W1 au niveau de la face de couplage du guide Wl, et une courbe 103 en trait interrompu correspondant à la distribution de l'énergie lumineuse portée par le guide W2 au niveau de la face de couplage du guide W2. On se place ici dans 15 le cas où il existe une erreur d'alignement e selon la direction x entre les guides W1 et W2, c'est-à-dire que les axes optiques ou axes centraux des guides W1 et W2 sont décalés d'une distance e selon la direction x au niveau de la zone de couplage. Comme cela apparaît sur la figure, dans cet exemple, les distributions 20 101 et 103 sont sensiblement gaussiennes, et ont des formes générales sensiblement identiques. Toutefois, du fait de l'erreur d'alignement e entre les guides W1 et W2, les distributions 101 et 103 ne sont pas alignées. Dans l'exemple représenté, l'aire de recouvrement entre les courbes 101 et 103 est très restreinte, 25 d'où il résulte un coefficient de couplage particulièrement faible entre les guides W1 et W2. La figure 3A comprend en outre un deuxième diagramme, en partie droite de la figure, représentant, pour la structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D, la distribution de l'énergie 30 lumineuse I portée par les guides WS11 et WS12 d'une part, et WS21 et WS22 d'autre part, selon une direction x transverse aux guides, c'est-à-dire une direction verticale dans l'orientation de la figure 2A. Ce deuxième diagramme comprend une courbe 201 en trait continu correspondant à la distribution de l'énergie lumineuse 35 portée par les guides WS11 et WS12 au niveau de la face de couplage 3055427 B15185 - DD17167HB 13 du circuit Cl, et une courbe 203 en trait interrompu correspondant à la distribution de l'énergie lumineuse portée par les guides WS21 et WS22 au niveau de la face de couplage du circuit C2. On se place ici dans le cas où il existe, entre les circuits Cl et 5 C2, une erreur d'alignement e selon la direction x de même valeur que dans le premier diagramme, c'est-à-dire que les axes optiques des guides WS11 et WS21 d'une part, et WS12 et WS22 d'autre part sont décalés de la distance e selon la direction x au niveau de la zone de couplage. Comme cela apparaît sur la figure, dans cet 10 exemple, chacune des distributions 201 et 203 correspond sensiblement à une somme de deux gaussiennes décalées selon l'axe x d'une distance égale à la distance d'axe optique à axe optique entre les guides WS11 et WS12 d'une part (pour la distribution 201) et WS21 et WS22 d'autre part (pour la distribution 203). Il 15 en résulte que les distributions 201, respectivement 203 de la structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D, sont nettement plus étendues que les distributions 101, respectivement 103 de la structure de couplage des figures lA, lB. En particulier, pour une même erreur d'alignement e, l'aire de recouvrement entre les 20 courbes 201 et 203 est nettement supérieure à l'aire de recouvrement entre les courbes 101 et 103. Ainsi, pour une même erreur d'alignement e, le coefficient de couplage entre les circuits Cl et C2 est plus élevé avec la structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D qu'avec la structure de couplage des 25 figures lA, lB. La structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D permet donc d'augmenter la tolérance aux erreurs d'alignement dans la direction x par rapport à la structure de couplage des figures lA, lB. La figure 3B est un diagramme représentant l'évolution 30 du coefficient de couplage k (valeur sans unité comprise entre 0 et 1) en fonction de l'erreur d'alignement e (en pm), pour une structure de couplage du type décrit en relation avec les figures LA, lB (courbe 301 de la figure 3B, en pointillés), et pour une structure de couplage du type décrit en relation avec les figures 35 2A à 2D (courbe 303 de la figure 3B, en trait plein). Comme cela 3055427 B15185 - DD17167HB 14 apparaît sur la figure 3B, lorsque l'erreur d'alignement e augmente, le coefficient de couplage k décroit plus fortement pour la structure des figures lA et lB (courbe 301) que pour la structure des figures 2A à 2D (courbe 303). La structure de 5 couplage des figures 2A à 2D présente donc une meilleure tolérance aux erreurs d'alignement que la structure de couplage des figures lA, lB. La distance entre les guides secondaires WS11 et WS12 (respectivement WS21 et WS22) au niveau de la face de couplage du 10 circuit Cl (respectivement C2) est de préférence choisie suffisamment faible pour que les faisceaux portés par les guides secondaires se recouvrent partiellement au niveau de la face de couplage de la structure. A titre d'exemple, pour une largeur donnée des guides secondaires au niveau de la face de couplage 15 (par exemple la largeur minimale reproductible dans la technologie considérée), on peut assimiler le faisceau porté par chaque guide secondaire au niveau de sa face de couplage à un faisceau gaussien de rayon R, c'est-à-dire tel que l'intensité lumineuse I au niveau de la face de couplage soit définie par la relation x2 +y2 20 I = e R2 , x et y étant les coordonnées dans le plan de la face de couplage du guide, dans un repère orthogonal centré sur l'axe optique du guide. La distance centre à centre entre les guides secondaires WS11 et WS12 au niveau de la face de couplage de la 25 structure est par exemple comprise entre R et 3R, et de préférence de l'ordre de 2R. La figure 4 illustre une variante de réalisation de la structure de couplage des figures 2A, 2B, 2C, 2D. Sur la figure 4, seule une coupe transversale du circuit Cl dans le même plan 30 de coupe que celui de la figure 2D a été représentée. La structure de la figure 4 diffère de la structure des figures 2A, 2B, 2C, 2D principalement en ce qu'elle comprend non pas deux, mais quatre guides secondaires WS11, WS12, WS13, WS14, par exemple 3055427 B15185 - DD17167HB 15 sensiblement identiques, couplés par couplage évanescent avec le guide principal WP1 et débouchant sur une face latérale du circuit Cl. Dans la structure de la figure 4, au niveau de la face de couplage du circuit Cl, les axes optiques des guides secondaires 5 WS11 et WS13 d'une part, et WS12 et WS14 d'autre part définissent deux plans sensiblement orthogonaux. Il en résulte que la structure de couplage de la figure 4 permet d'améliorer la tolérance aux erreurs d'alignement non seulement dans la direction x, mais aussi dans une direction y orthogonale à la direction x 10 et orthogonale à la direction de propagation de la lumière au niveau de la zone de couplage. De même que dans l'exemple des figures 2A, 2B, 2C, 2D, la distance maximale entre deux guides secondaires de la structure de la figure 4 est de préférence choisie suffisamment faible pour que les faisceaux portés par les 15 guides se recouvrent partiellement au niveau de la face de couplage de la structure. Par exemple, si on appelle R le rayon des faisceaux (assimilés à des faisceaux gaussiens) portés par les guides secondaires au niveau de la face de couplage de la structure, la distance centre à centre maximale entre deux guides 20 secondaires au niveau de la face de couplage peut être de l'ordre de 2R. La figure 4 représente une configuration préférée dans laquelle les guides WP1, WS11, WS12, WS13 et WS14 sont à section rectangulaire, et dans laquelle, au niveau de la zone de couplage 25 entre le guide WP1 et les guides WS11, WS12, WS13 et WS14, les guides WS11, WS12, WS13 et WS14 sont placés à égale distance du guide WP1, et sont situés, en section transversale, respectivement aux quatre coins du guide WP1. En d'autres termes, dans l'exemple de la figure 4, en section transversale, les axes optiques des 30 guides secondaires WS11 et WS13 sont situés de part et d'autre du guide WP1 sur une première diagonale du guide WP1, et les axes optiques des guides secondaires WS12 et WS14 sont situés de part et d'autre du guide WP1 sur la deuxième diagonale du guide WP1. Un avantage de cette configuration est lié au fait que, dans un 35 guide d'onde à section rectangulaire, la lumière est généralement 3055427 B15185 - DD17167HB 16 polarisée. La disposition des guides secondaires sur les axes diagonaux de symétrie du guide principal permet que le couplage entre le guide principal et les guides secondaires s'effectue sensiblement de la même manière dans les quatre guides 5 secondaires, c'est-à-dire que les coefficients de couplage entre le guide principal et les quatre guides secondaires soient sensiblement les mêmes. Des exemples de procédé de fabrication d'une structure de couplage du type décrit ci-dessus vont maintenant être décrits. 10 Les figures 5A, 5B, 5C, 5D, 5E, 5F, 5G, 5H, 51 illustrent des étapes d'un exemple de procédé de fabrication d'une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4. On considère dans cet exemple que la structure de couplage est intégrée dans un circuit photonique utilisant le 15 silicium-germanium (SiGe) comme matériau de haut indice et le silicium (Si) comme matériau de bas indice. Ce type de circuit peut par exemple être utilisé dans la gamme spectrale du moyen infrarouge, par exemple pour traiter des signaux optiques de longueurs d'ondes comprises dans la plage allant de 3 à 12 pin. A 20 titre de variante, pour cette même gamme de longueurs d'ondes, un procédé de fabrication similaire pourra être mis en oeuvre pour réaliser une structure de couplage utilisant le germanium comme matériau de haut indice (coeur) et le silicium-germanium comme matériau de bas indice (gaine). 25 Les figures aA, 5B, 5C, 5D, 5E, 5F, 5G, 5H, 51 comprennent chacune, en partie gauche de la figure, une vue de dessus de la structure, et, en partie droite de la figure, une vue en coupe selon le plan a-a de la figure aA. La figure aA illustre une étape initiale au cours de 30 laquelle on part d'un substrat 501 en silicium cristallin, sur la face supérieure duquel on dépose, par exemple par épitaxie, une couche de silicium-germanium 503. La figure 5B illustre une étape postérieure à l'étape de la figure SA, au cours de laquelle les guides secondaires 35 inférieurs WS14 et WS13 de la structure de la figure 4 sont 3055427 B15185 - DD17167HB 17 délimités dans la couche de silicium-germanium 503, par exemple par lithographie et gravure. La figure 5C illustre une étape de dépôt, par exemple par épitaxie, d'une couche de silicium 505 d'épaisseur supérieure 5 à l'épaisseur de la couche de silicium-germanium 503, sur la face supérieure de la structure obtenue à l'issue de l'étape de la figure 5B. La couche de silicium 505 peut ensuite être planarisée, par exemple par planarisation mécano-chimique (CMP). A l'issue de cette étape, la couche de silicium 505 comble l'espace entourant 10 latéralement les guides secondaires WS14 et WS13 et recouvre entièrement les faces supérieures des guides secondaires WS14 et WS13. La figure 5D illustre une étape postérieure à l'étape de la figure 5C, au cours de laquelle une couche de silicium-15 germanium 507 est déposée, par exemple par épitaxie, sur la face supérieure de la couche 505. La figure 5E illustre une étape postérieure à l'étape de la figure 5D, au cours de laquelle le guide principal WP1 de la structure de la figure 4 est délimité dans la couche de 20 silicium-germanium 507, par exemple par lithographie et gravure. La figure 5F illustre une étape de dépôt, par exemple par épitaxie, d'une couche de silicium 509 d'épaisseur supérieure à l'épaisseur de la couche de silicium-germanium 507, sur la face supérieure de la structure obtenue à l'issue de l'étape de la 25 figure 5E. La couche de silicium 509 peut ensuite être planarisée, par exemple par planarisation mécano-chimique (CMP). A l'issue de cette étape, la couche de silicium 509 comble l'espace entourant latéralement le guide principal WP1, et recouvre entièrement la face supérieure du guide principal WP1. 30 La figure 5G illustre une étape postérieure à l'étape de la figure 5F, au cours de laquelle une couche de silicium-germanium 511 est déposée, par exemple par épitaxie, sur la face supérieure de la couche 509. La figure 5H illustre une étape postérieure à l'étape 35 de la figure 5G, au cours de laquelle les guides secondaires 3055427 B15185 - DD17167HB 18 supérieurs WS11 et WS12 de la structure de la figure 4 sont délimités dans la couche de silicium-germanium 511, par exemple par lithographie et gravure. La figure 51 illustre une étape de dépôt, par exemple 5 par épitaxie, d'une couche de silicium 513 d'épaisseur supérieure à l'épaisseur de la couche de silicium-germanium 511, sur la face supérieure de la structure obtenue à l'issue de l'étape de la figure 5H. La couche de silicium 513 peut ensuite être planarisée, par exemple par planarisation mécano-chimique (CMP). A l'issue de 10 cette étape, la couche de silicium 513 comble l'espace entourant latéralement les guides secondaires WS11 et WS12, et recouvre entièrement la face supérieure des guides secondaires WS11 et WS12. A l'issue de l'étape de la figure 51, on obtient une 15 structure de couplage similaire à celle de la figure 4, les couches de silicium 501, 505, 509 et 513 formant la gaine de matériau de bas indice G1 de la structure. Pour la gamme du proche infrarouge, par exemple pour des signaux optiques de longueurs d'ondes comprises entre 0,8 et 2 20 pin, un procédé similaire peut être mis en oeuvre en utilisant de l'oxyde de silicium comme matériau de bas indice, et du silicium amorphe comme matériau d'indice supérieur. A titre de variante, pour cette même gamme de longueurs d'ondes ou pour de la lumière visible (par exemple dans la gamme de longueurs d'ondes allant de 25 0,3 à 0,8 pm), un procédé de fabrication similaire peut être mis en oeuvre en utilisant du nitrure de silicium (SiN) comme matériau de haut indice et de l'oxyde de silicium comme matériau de bas indice. Les figures 6A, 6B, 6C illustrent des étapes d'un autre 30 exemple de procédé de fabrication d'une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4. Les figures 6A, 6B, 6C comprennent chacune, en partie supérieure gauche de la figure, une vue de dessus de la structure, en partie supérieure droite de la figure, une vue en coupe 35 transversale selon le plan a-a de la figure 6A, et en partie 3055427 B15185 - DD17167HB 19 inférieure gauche de la figure, une vue en coupe longitudinale selon le plan 13-13 de la figure 6A. Dans cet exemple, on considère un circuit photonique réalisé en technologie SOI (silicium sur isolant), auquel on 5 souhaite adjoindre une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4. La figure 6A illustre une structure de départ comprenant un substrat de support 601 en silicium, surmonté d'une couche d'oxyde de silicium 603. Un guide d'onde W interne au circuit 10 photonique, réalisé en silicium cristallin, est disposé sur la face supérieure de la couche d'oxyde de silicium 603. Le guide d'onde 603 est entouré latéralement et du côté de sa face supérieure par une couche d'oxyde de silicium planarisée 605. La figure 6B illustre une étape de formation, depuis la 15 face supérieure de la structure de la figure 6A, d'une cavité ou évidement 607 au niveau d'une zone périphérique du circuit dans laquelle on souhaite réaliser la structure de couplage. La cavité 607 s'étend, en profondeur, jusqu'à la face supérieure du substrat de silicium 601. La cavité 607 est localisée de façon que le guide 20 d'onde interne W débouche dans la cavité 607. La figure 6C illustre une étape de formation, dans la cavité 607, d'une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4, par dépôts successifs de couches d'oxyde de silicium (comme matériau de plus faible indice) et de couches de 25 silicium amorphe (comme matériau de plus haut indice), par exemple selon un procédé similaire à ce qui a été décrit en relation avec les figures aA à 51. A titre de variante, le matériau de haut indice peut être du nitrure de silicium et le matériau de bas indice peut être de l'oxyde de silicium. Dans cet exemple, on 30 veille, lors de cette étape, à aligner le guide principal WP1 de la structure de couplage avec le guide interne W du circuit photonique, de façon que le guide WP1 forme un prolongement du guide interne W. En d'autres termes, dans l'exemple représenté, une face du guide interne W débouchant dans la cavité 607 est 35 accolée à la face du guide principal WP1 opposée à la région de 3055427 B15185 - DD17167HB 20 couplage entre le guide principal WP1 et les guides secondaires WS11, WS12, WS13 et WS14. Ainsi, la structure réalisée permet de coupler le guide interne W du circuit photonique à un dispositif extérieur. 5 Une fois les guides WP1, WS11, WS12, WS13 et WS14 de la structure de couplage réalisés, la structure obtenue peut être découpée, par exemple par clivage, selon un plan de coupe vertical passant par les faces de couplage des guides secondaires WS11, WS12, WS13 et WS14, de façon à faire déboucher les faces de 10 couplage des guides secondaires WS11, WS12, WS13 et WS14 sur une face latérale du circuit photonique. Les figures 7A, 7B, 7C, 7D illustrent des étapes d'un autre exemple de procédé de fabrication d'une structure de couplage du type décrit en relation avec la figure 4. 15 Les figures 7A, 7B, 7C, 7D comprennent chacune, en partie supérieure gauche de la figure, une vue de dessus de la structure, en partie supérieure droite de la figure, une vue en coupe transversale selon le plan a-a de la figure 7A, et en partie inférieure gauche de la figure, une vue en coupe longitudinale 20 selon le plan 13-13 de la figure 7A. Dans cet exemple, le circuit photonique dans lequel est formée la structure de couplage est un circuit actif intégrant une source laser. La figure 7A illustre une structure de départ comprenant 25 un substrat de support 701 en phosphure d'indium (InP), surmonté d'une couche tampon 703, également en phosphure d'indium. La couche tampon 703 est surmontée d'un empilement actif de diode laser, par exemple un empilement de puits quantiques à base d'arséniure d'indium-gallium (InGaAs), dans lequel sont formés la 30 source laser (non visible sur la figure) du circuit, ainsi que, couplé à la source laser, un guide d'onde correspondant au guide d'onde principal WP1 de la structure de couplage. L'empilement actif est surmonté d'une couche supérieure 705 de phosphure d'indium, qui entoure le guide d'onde WP1 latéralement et du côté 35 de sa face supérieure. 3055427 B15185 - DD17167HB 21 La figure 7B illustre une étape de formation, depuis la face supérieure de la structure de la figure 7A, de deux tranchées ou cavités 707a et 707b s'étendant verticalement dans la structure jusqu'à la face supérieure du substrat 701. En vue de dessus, la 5 tranchée 707a a sensiblement la forme des guides secondaires WS11 et WS14 de la structure de couplage que l'on cherche à réaliser, et la tranchée 707b a sensiblement la forme des guides secondaires WS12 et WS13 de la structure de couplage que l'on cherche à réaliser. 10 La figure 7C illustre une étape de dépôt d'une couche de passivation 709, par exemple en oxyde de silicium, sur la surface supérieure de la structure obtenue à l'issue de l'étape de la figure 7B, suivie d'une étape de retrait localisé de la couche 709 au fond des tranchées 707a, 707b. A l'issue de cette 15 étape, la couche 709 revêt sensiblement toute la surface supérieure du circuit, ainsi que les parois latérales des tranchées 707a, 707b, mais laisse accessible la surface supérieure du substrat 701 au fond des tranchées 707a, 707b. La figure 7D illustre une étape postérieure à l'étape 20 de la figure 7C, au cours de laquelle sont successivement déposées dans les tranchées 707a, 707b, par exemple par épitaxie, une première couche d'arséniure d'indium-gallium 711 formant les guides d'ondes secondaires inférieures WS14 et WS13 de la structure de couplage respectivement dans les tranchées 707a et 25 707b, une couche de phosphure d'indium 713, et une deuxième couche d'arséniure d'indium-gallium 715 formant les guides d'ondes secondaires supérieurs WS11 et WS12 de la structure de couplage respectivement dans les tranchées 707a et 707b. Des modes de réalisation particuliers ont été décrits. 30 Diverses variantes et modifications apparaîtront à l'homme de l'art. En particulier, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples de dimensions et de matériaux décrits ci-dessus. De plus, les modes de réalisation décrits ne se limitent 35 pas aux exemples décrits ci-dessus dans lesquels la structure de 3055427 B15185 - DD17167HB 22 couplage comprend deux ou quatre guides secondaires. Plus généralement, une augmentation de la tolérance aux erreurs d'alignement peut être obtenue dès lors que la structure de couplage comprend au moins deux guides secondaires. 5 En outre, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples susmentionnés dans lesquels la structure de couplage comprend des guides d'ondes à section rectangulaire. Plus généralement, les modes de réalisation s'appliquent quelle que soit la forme des guides d'ondes de la structure de couplage. 10 A titre d'exemple, les guides d'ondes de la structure de couplage peuvent être à section circulaire ou elliptique. Par ailleurs, bien que l'on ait décrit uniquement des exemples dans lesquels la structure de couplage proposée est utilisée pour coupler le circuit photonique auquel elle est 15 intégrée à un autre circuit photonique, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas à cette application particulière. En effet, les structures de couplage décrites peuvent être utilisées pour coupler un circuit photonique à un autre dispositif optique, par exemple une fibre optique. REVENDICATIONS1. Circuit photonique (Cl) comportant une structure de couplage à un dispositif extérieur, cette structure comportant un guide d'onde principal (WP1) et au moins deux guides d'ondes secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14), chaque guide secondaire (WS11, WS12, WS13, WS14) ayant une première portion sensiblement parallèle au guide principal (WP1) disposée au voisinage du guide principal (WP1) de façon à réaliser un couplage par onde évanescente entre le guide principal (WP1) et le guide secondaire, la première portion se prolongeant par une deuxième portion dont une extrémité opposée à la première portion définit une face de couplage du guide secondaire, débouchant au niveau d'une face extérieure du circuit. 2. Circuit selon la revendication 1, dans lequel chaque guide secondaire (WS11, WS12) présente une terminaison en pointe 15 du côté de sa face de couplage. 3. Circuit selon la revendication 1 ou 2, dans lequel les coefficients de couplage entre le guide principal (WP1) et chacun des guides secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) sont sensiblement identiques. 20 4. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel les premières portions des guides secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) sont sensiblement à égale distance du guide principal (WP1). 5. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 25 à 4, dans lequel la structure de couplage comprend quatre guides secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14). 6. Circuit selon la revendication 5, dans lequel le guide principal (WP1) est à section transversale rectangulaire, les premières portions des quatre guides secondaires (WS11, WS12, 30 WS13, WS14) étant, en section transversale, disposées autour du guide principal (WP1) sur les axes de symétrie diagonaux du guide principal. 7. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel la distance centre à centre maximale entre deux 3055427 B15185 - DD17167HB 24 guides secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) au niveau de leurs faces de couplage est sensiblement égale à deux fois le rayon du faisceau lumineux propagé par chaque guide secondaire au niveau de sa face de couplage. 5 8. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel, le long de leurs premières portions, les guides secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) s'élargissent progressivement jusqu'à atteindre une largeur maximale au niveau de leurs deuxièmes portions. 10 9. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel, le long des premières portions des guides secondaires, le guide principal (WP1) s'affine progressivement. 10. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel le guide principal s'interrompt avant la face extérieure du circuit (Cl). 11. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel le guide d'onde principal (WP1) et les guides d'ondes secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) sont en silicium-germanium et sont entourés de silicium. 12. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel le guide d'onde principal (WP1) et les guides d'ondes secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) sont en silicium amorphe et sont entourés d'oxyde de silicium. 13. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 25 à 10, dans lequel le guide d'onde principal (WP1) et les guides d'ondes secondaires (WS11, WS12, WS13, WS14) sont en nitrure de silicium et sont entourés d'oxyde de silicium. 14. Circuit selon la revendication 12 ou 13, dans lequel le guide d'onde principal (WP1) forme un prolongement d'un guide 30 d'onde (W) interne au circuit (Cl), le guide d'onde interne (W) étant en silicium cristallin. 15. Circuit selon l'une quelconque des revendications 1 à 10 comprenant une source laser intégrée, le guide d'onde principal (WP1) étant couplé à la source laser.