FR 3050942 A1 20171110 FR 1654010 A 20160503 1 PROCEDE DE PURIFICATION D'ACIDE CHLORHYDRIQUE OBJET DE L'INVENTION La présente invention concerne un procédé de purification d'acide chlorhydrique, ainsi qu'une installation adaptée à la mise en oeuvre de ce procédé. L'invention peut être en particulier utilisée dans le cadre du traitement des sous-produits ou des effluents issus de la synthèse d'un composé fluoré à partir d'un composé ogano-halogéné. ARRIERE-PLAN DE L'INVENTION Il est connu de produire des composés fluorés tels que les hydrofluorocarbures par fluoration de composés chlorés tels que les hydrochlorocarbures. Cette fluoration est généralement une fluoration catalytique utilisant l'acide fluorhydrique (HF) comme agent fluorant. Au cours de ce type de réaction, de l'acide chlorhydrique (HC1) est co-produit. En pratique, il n'est par ailleurs pas toujours possible ou souhaitable de faire réagir la totalité du HF mis en jeu. Ce dernier se retrouve alors sous forme d'impureté associée à l'acide chlorhydrique. D'autres réactions de synthèse de composés fluorés conduisent également à la co-production de HC1 pollué par une faible quantité d'HF. Tel est notamment le cas de la fabrication du fluorure de vinylidène par pyrolyse du 1-chloro-1,1-difluoroéthane. Dans la mesure où l'acide chlorhydrique ne peut être rejeté dans l'environnement, des techniques ont été proposées pour le valoriser. Il est ainsi connu de séparer le HC1 des autre gaz produits (y compris les composés fluorés d'intérêt) par absorption adiabatique pour générer une solution d'HC1 de type commercial et récupérer en tête les gaz bruts à traiter. Dans le cas où l'acide chlorhydrique est co-produit dans un procédé de pyrolyse, il a toutefois été observé que la pyrolyse pouvait entraîner la formation de goudrons susceptibles d'encrasser la colonne adiabatique. En outre, la solution de HC1 ainsi obtenue est polluée non seulement par de faibles quantités d'acide fluorhydrique (HF), mais aussi par des résidus organiques de pyrolyse et des composés organo-halogénés qui constituent des sous-produits de la pyrolyse. Cette solution de HC1 n'est donc pas suffisamment pure pour la plupart des applications. Des procédés ont été proposés pour améliorer la pureté d'une solution de HC1 polluée par du HF et éventuellement des composés organiques halogénés. 3050942 2 Ainsi, le document FR 1507252 décrit un procédé visant à séparer l'acide fluorhydrique mélangé à HC1, consistant à faire passer ce mélange gazeux dans un dispositif de lavage continu à contre-courant comprenant une colonne à plateaux, le lavage étant effectué à l'aide d'une 5 solution aqueuse concentrée d'acide chlorhydrique à basse température, qui est capable d'absorber l'acide fluorhydrique. On obtient en sortie de cette colonne une solution aqueuse d'acide chlorhydrique et d'acide fluorhydrique, ainsi que de l'acide chlorhydrique gazeux, appauvri en HF par rapport à l'acide chlorhydrique de départ. Pour obtenir de l'acide chlorhydrique quasiment exempt de HF, il est toutefois nécessaire de faire passer le mélange 10 de gaz brut sur du charbon actif en présence d'eau, en amont de l'étape de lavage acide. On comprend que ce procédé n'est donc pas applicable à un mélange de gaz brut renfermant un gaz fluoré d'intérêt, qui se trouverait alors piégé dans le charbon actif Il a par ailleurs été suggéré dans le document WO 2015/079137 que l'acide chlorhydrique co- 15 produit dans un procédé de fluoration catalytique pouvait être purifié suivant un procédé impliquant une étape d'hydrolyse catalytique des composés fluoro-oxygénés contenus dans le flux gazeux brut, suivie d'une étape de lavage par une solution acide puis d'une étape d'adsorption des gaz sur un lit de charbon actif, et enfin d'une étape d'adsorption adiabatique permettant d'obtenir une solution aqueuse d'acide chlorhydrique. Cette solution peut 20 éventuellement être ultérieurement purifiée sur gel de silice. Ce procédé intègre nécessairement une étape préliminaire de distillation des gaz bruts afin d'éviter que le produit fluoré d'intérêt ne se trouve piégé dans le lit de charbon actif mis en oeuvre dans l'étape d'hydrolyse catalytique. Il serait donc souhaitable de disposer d'un procédé qui ne soit pas plus complexe que celui décrit dans la demande WO 2015/079137, mais qui permette de traiter directement le flux gazeux brut 25 issu de la réaction catalytique, sans qu'il ne soit nécessaire de le soumettre à une distillation préalable. RE SUME DE L'INVENTION 30 Il subsiste donc le besoin de proposer un procédé amélioré de purification de l'acide chlorhydrique contenu dans un flux gazeux brut, en mélange avec de l'acide fluorhydrique, un composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés, lequel procédé permette de réduire à la fois le taux d'acide fluorhydrique et de composés organiques et avantageusement d'atteindre une concentration finale élevée en acide chlorhydrique. 3050942 3 Les inventeurs ont démontré que ce besoin pouvait être satisfait en sélectionnant une succession d'étapes de traitement particulières, agencées dans un ordre déterminé. 5 L'invention a ainsi pour premier objet un procédé de traitement d'un flux gazeux contenant de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique, un composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés, dans lequel le flux gazeux est successivement soumis à: (a) une étape de lavage par une solution acide pour obtenir un flux gazeux lavé ; (b) une étape d'absorption adiabatique dans une solution aqueuse de l'acide chlorhydrique 10 contenu dans ledit flux gazeux lavé, permettant de collecter une solution d'acide chlorhydrique et un flux gazeux renfermant ledit composé fluoré d'intérêt ; (c) une étape d'adsorption sur charbon actif des impuretés organiques présentes dans ladite solution d'acide chlorhydrique, pour obtenir une solution d'acide chlorhydrique purifiée ; et (d) une étape de mise en contact de ladite solution d'acide chlorhydrique purifiée avec un gel 15 de silice. Un second objet de l'invention porte sur un procédé de préparation d'un composé fluoré comprenant : - la fluoration catalytique d'un composé organochloré avec de l'acide fluorhydrique ou la 20 pyrolyse, catalytique ou non, d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore, - la collecte d'un flux gazeux brut contenant de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique, ledit composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés ; et - le traitement dudit flux gazeux brut suivant le procédé décrit ci-dessus. 25 L'invention a pour troisième objet une installation de traitement d'un flux gazeux brut contenant de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique, un composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés, comprenant : - une unité de lavage comprenant une colonne de lavage alimentée, d'une part, par une conduite 30 d'amenée dudit flux gazeux brut et, d'autre part, par une conduite d'amenée de solution acide ; - une unité d'absorption adiabatique comprenant une colonne alimentée, d'une part, par une conduite de collecte de flux lavé issue de l'unité de lavage et d'autre part par une conduite d'amenée de solution aqueuse ; 3050942 4 - une conduite de collecte du composé fluoré d'intérêt sous forme gazeuse, en sortie de colonne de l'unité d'adsorption adiabatique, - une unité d'adsorption d'impuretés organiques, comprenant un lit de charbon actif alimenté par une conduite de collecte de solution d'acide chlorhydrique issue de l'unité d'adsorption 5 adiabatique ; - une unité d'adsorption complémentaire reliée à une conduite de collecte de solution purifiée issue de l'unité d'adsorption d'impuretés, et comprenant une colonne renfermant un gel de silice. Dans une forme d'exécution préférée de l'invention, l'installation comprend en outre, au sein de 10 l'unité de lavage, une unité de séparation de composés lourds disposée en amont de la colonne de lavage, ladite unité de séparation de composés lourds étant alimentée par une conduite d'amenée du flux brut et reliée à la colonne de lavage par une conduite de collecte de flux gazeux dégoudronné. 15 Le procédé et l'installation selon l'invention permettent de produire, à l'issue de l'étape (d), une solution aqueuse d'acide chlorhydrique renfermant au moins 30% en poids d'acide chlorhydrique, moins de 10 ppm, voire moins de 5 ppm, mieux, moins de 1 ppm, d'acide fluorhydrique et moins de 150 ppm, voire moins de 100 ppm, mieux, moins de 50 ppm, de composés organiques halogénés. 20 FIGURES La figure 1 représente de manière schématique un mode de réalisation d'une installation selon l'invention. DESCRIPTION DETAILLEE L'invention est maintenant décrite plus en détail et de façon non limitative dans la description qui suit. L'invention s'applique en particulier au traitement d'un flux gazeux issu d'une réaction de synthèse d'un composé fluoré, notamment par pyrolyse, catalytique ou non, d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore, ou par fluoration catalytique d'un composé organochloré avec de l'acide fluorhydrique, de préférence par pyrolyse catalytique 25 30 3050942 5 d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore. Le composé fluoré issu de ces réactions est désigné dans cette description par "composé fluoré d'intérêt". Il se distingue des composés chlorés et/ou fluorés obtenus à titre de co-produits à l'issue de ces réactions, ainsi que des réactifs utilisés. Ce composé fluoré d'intérêt peut être en particulier le fluorure de 5 vinylidène (VF2). Par composé organochloré, on entend un composé organique comprenant un ou plusieurs atomes de chlore, et par composé organofluoré, on entend un composé organique comprenant un ou plusieurs atomes de fluor. Il est entendu que le composé organochloré peut comprendre 10 un ou plusieurs atomes de fluor, de même que le composé organofluoré renferme au moins un atome de chlore. Le composé organochloré peut être un alcane ou un alcène ayant au moins un substituant Cl et éventuellement au moins un substituant choisi parmi F, I et Br (de préférence F). Le composé 15 organofluoré peut être un alcane ou un alcène ayant au moins un substituant F et Cl et éventuellement au moins un substituant choisi parmi I et Br. Le composé organochloré et le composé organofluoré peuvent être linéaires ou ramifiés, de préférence linéaires. L'invention trouve notamment à s'appliquer pour les réactions de fluoration suivantes : 20 - fluoration du perchloroéthylène (PER) en pentafluoroéthane (HFC-125) ; - fluoration du 1,1,1,2,3-pentachloropropane (HCC-240db) en 2-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233xf) ; - fluoration du 1,1,1,2,3-pentachloropropane (HCC-240db) en 2,3,3,3-tétrafluoropropène (HF0-1234yf) ; 25 fluoration du 1,1,1,3,3-pentachloropropane (HCC-240fa) en 1,3,3,3 -tétrafluoroprop ène (HF 0-1234ze) ; - fluoration du 1,1,1,3,3-pentachloropropane (HCC-240fa) en 1 - chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF 0-1233 zd) ; - fluoration du 2-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233xf) en 2,3,3,3-tétrafluoropropène 30 (HF0-1234yf) ; - fluoration du 1,1,2,2,3-pentachloropropane (HCC-240aa) en 2,3,3,3-tétrafluoropropène (HF0-1234yf) ; - fluoration du 1,1,2,2,3-pentachloropropane (HCC-240aa) en 2-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233xf) ; 3050942 6 - fluoration du 2,3 -di chl oro-1, 1,1 -tri fluoroprop ane (HCF C-243 db) en 2,3,3,3 - tétrafluoropropène (HF0-1234yf) ; - fluoration du 2,3 -dichloro-1, 1,1 -tri fluoroprop ane (HCF C-243 db) en 1-chloro-3,3,3- trifluoropropène (HCF0-1233zd) ; 5 - fluoration du 2,3 -di chl oro-1, 1,1 -tri fluoroprop ane (HCF C-243 db) en 1,3,3,3 - tétrafluoropropène (HF0-1234ze) ; - fluoration du 2,3-dichloro-1,1,1-trifluoropropane (HCFC-243db) en 2-chloro-3,3,3- trifluoropropène (HCF 0-1233xf) ; fluoration du 1 ,1 ,2,3-tétrachloropropène (HCO-1230xa) en 2,3,3,3- tétrafluoropropène (HFO- 10 1234yf) ; - fluoration du 1,1,2,3-tétrachloropropène (HCO-1230xa) en 2-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233xf) ; - fluoration du 2,3,3,3-tetrachloropropène (HCO-1230xf) en 2,3,3,3- tétrafluoropropène (HFO1234yf) ; 15 - fluoration du 2,3,3,3-tétrachloropropène (HCO-1230xf) en 2-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233xf) ; - fluoration du 1,1,3,3-tétrachloropropène (HCO-1230za) en 1- chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233zd) ; - fluoration du 1,1,3,3-tétrachloropropène (HCO-1230za) en 1,3,3,3- tétrafluoropropène (HFO- 20 1234ze) ; - fluoration du 1,3,3,3-tétrachloropropène (HCO-1230zd) en 1- chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233zd) ; - fluoration du 1,3,3,3-tétrachloropropène (HCO-1230zd) en 1,3,3,3- tétrafluoropropène (HFO1234ze) ; 25 - fluoration du 1-chloro-3,3,3-trifluoropropène (HCF0-1233zd) en 1,3,3,3-tétrafluoropropène (HF0-1234ze) ; - fluoration du 1,1,2-trichloroéthane en 1-chloro,2,2-difluoroéthane (HCFC-142) ; - fluoration du 1,2-dichloroéthylène en 1-chloro-2,2-difluoroéthane (HCFC-142). 30 La conversion du composé organochloré en composé fluoré d'intérêt peut être une conversion directe (avec une seule étape de réaction ou avec un seul ensemble de conditions réactionnelles) ou une conversion indirecte (avec deux ou plus de deux étapes de réaction ou en utilisant deux ou plus de deux ensembles de conditions réactionnelles). La conversion peut être totale ou partielle. 3050942 7 Afin d'éviter une désactivation rapide du catalyseur lors de la réaction, un agent d'oxydation (par exemple de l'oxygène ou du chlore) peut être ajouté. On peut par exemple utiliser un flux d'oxygène pur ou de chlore pur, ou un mélange oxygène / azote ou chlore / azote. 5 Le catalyseur utilisé peut être par exemple à base d'un métal comprenant un oxyde de métal de transition ou un halogénure ou un oxyhalogénure d'un tel métal. On peut citer par exemple FeC13, l'oxyfluorure de chrome, les oxydes de chrome (éventuellement soumis à des traitements de fluoration), les fluorures de chrome et leurs mélanges. D'autres catalyseurs possibles sont les 10 catalyseurs supportés sur du carbone, les catalyseurs à base d'antimoine, les catalyseurs à base d'aluminium (par exemple A1F3 et A1203, l'oxyfluorure d'aluminium et le fluorure d'aluminium). On peut utiliser en général un oxyfluorure de chrome, un fluorure ou un oxyfluorure d'aluminium, ou un catalyseur supporté ou non contenant un métal tel que Cr, Ni, Fe, Zn, Ti, V, Zr, Mo, Ge, Sn, Pb, Mg, Sb. On peut faire référence à cet égard au document WO 15 2007/079431 (en p.7, 1.1-5 et 28-32), au document EP 0939071 (paragraphe [0022]), au document WO 2008/054781 (en p.9 1.22-p.10 1.34), et au document WO 2008/040969 (revendication 1), auxquels il est fait expressément référence. Avant son utilisation, le catalyseur est de préférence soumis à une activation avec de l'air, de l'oxygène ou du chlore et/ou avec de l'HF. En variante, on peut utiliser le chlore comme catalyseur. 20 Dans une forme d'exécution préférée, le procédé selon l'invention est appliqué à un flux gazeux issu de la pyrolyse catalytique d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore, plus particulièrement un flux gazeux issu de la déshydrochloration pyrolytique du 1- chloro-1,1-difluoroéthane en fluorure de vinylidène, selon la réaction suivante : t. I I, {. I ICI 25 la réaction étant de préférence effectuée en présence de chlore comme catalyseur. Le flux gazeux traité selon le procédé de l'invention, qui est mis en oeuvre dans l'étape (a), peut être directement le flux gazeux brut issu de la réaction de synthèse du composé fluoré d'intérêt (tel que le fluorure de vinylidène), ou plus préférentiellement un flux gazeux résultant de la 30 séparation des composés lourds contenus dans ce flux gazeux brut. Cette étape de séparation vise à séparer le flux gazeux à traiter selon l'invention d'une fraction organique lourde, contenant notamment des goudrons formés lors de la réaction. On préfère selon l'invention que le flux gazeux à traiter, issu de la réaction de pyrolyse catalytique ou de fluoration catalytique 3050942 8 ou, le cas échéant, de l'étape de séparation de composés lourds, ne soit pas soumis préalablement à une étape de distillation. Le flux gazeux à traiter selon le procédé de l'invention renferme de l'acide chlorhydrique, de 5 l'acide fluorhydrique, le composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés, en particulier des composés organochlorés et/ou organofluorés. Ces composés organiques comprennent généralement le réactif organochloré ou organofluoré n'ayant pas réagi lors de la réaction de fluoration ou de pyrolyse catalytique, ainsi que les sous-produits de ces réactions. Ce flux gazeux comprend généralement moins de 30%, par exemple moins de 25% en poids, 10 voire moins de 20% en poids, d'acide chlorhydrique. En particulier, lorsqu'il est issu de la réaction de pyrolyse catalytique illustrée ci-dessus, le flux gazeux à traiter selon l'invention contient par exemple du fluorure de vinylidène, de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique et des composés organiques halogénés, tels que des composés organochlorés et organofluorés. 15 Dans la première étape du procédé selon l'invention, ce flux gazeux est soumis à un lavage à l'aide d'une solution acide, qui permet de réduire la quantité d'acide fluorhydrique qu'il renferme. On pourra à cette fin utiliser le procédé de lavage acide décrit dans la demande FR 1 507 252, qui est incorporée ici par référence, ainsi que l'installation de lavage acide décrite ci- 20 après. Selon un mode de réalisation, la solution acide utilisée lors de l'étape de lavage est une solution d'acide chlorhydrique, à une concentration molaire pouvant aller par exemple de 5 à 60 %, notamment de 10 à 50 %, plus préférentiellement de 20 à 45 % et en particulier de 30 à 35 %. 25 Le lavage par la solution acide est de préférence mis en oeuvre à une température de 5 à 50°C, et plus particulièrement de 7 à 40°C et/ou à une pression de 0,1 à 4 bars, de préférence de 0,3 à 2 bars, plus préférentiellement de 0,5 à 1,5 bar. Cette solution circule de préférence en contre-courant par rapport au flux gazeux à traiter et se 30 charge ainsi en acide fluorohydrique. On récupère alors un flux gazeux comprenant de l'acide chlorhydrique et appauvri en HF, à l'issue de cette étape de lavage acide. Ce flux gazeux renferme par exemple moins de 500 ppm, voire moins de 100 ppm, de préférence au plus 50 ppm de HF. 3050942 9 Dans la seconde étape, dite d'adsorption adiabatique, du procédé selon l'invention, le flux gazeux d'acide chlorhydrique est absorbé dans de l'eau déminéralisée ou une solution aqueuse acide, pour former une solution aqueuse d'acide chlorhydrique, tandis que le composé fluoré d'intérêt est collecté sous forme gazeuse. La réaction d'absorption de l'HC1 dans l'eau étant 5 exothermique, il est préférable de limiter la pression à laquelle cette opération est conduite. En général, la pression est inférieure à 2 bars et de préférence inférieure à 1,5 bar. De cette façon, la température d'absorption n'excède pas 130°C, et de préférence 90°C. La concentration massique d'HC1 dans la solution issue de l'étape d'adsorption adiabatique peut être de 5 à 50 %, de préférence de 15 à 40 %, et plus particulièrement de 30 à 35 % et la concentration en HF 10 peut être par exemple inférieure à 200 ppm, de préférence d'au plus 100 ppm voire d'au plus 50 ppm. La solution d'acide chlorhydrique issue de l'étape d'adsorption adiabatique est ensuite soumise à une étape d'adsorption d'impuretés sur lit de charbon actif. Cette étape peut être mise en oeuvre 15 dans des gammes de pression et de température qui ont déjà été indiquées ci-dessus en relation avec l'étape de lavage par une solution acide. On préfère que le lit de charbon actif soit préalablement lavé à l'acide chlorhydrique afin de limiter le relargage dans la solution de cendres ou de polluants minéraux ou métalliques. Cette étape permet de réduire le taux de composés organiques totaux d'environ 40 à 70%, par exemple de 50 à 60%, et le taux de 20 composés organiques volatils de 60 à 80%, par exemple d'environ 70%. Les impuretés adsorbées par le lit de charbon actif sont en premier lieu des composés organiques volatils (COV). A l'issue de l'étape d'adsorption d'impuretés, la température de la solution d'HC1 doit être aussi 25 faible que possible, et par exemple inférieure ou égale à 35°C, car l'étape suivante d'adsorption sur le gel de silice est exothermique. Au-dessus de cette température, l'efficacité d'adsorption diminue fortement. Le temps de contact de la solution d'acide chlorhydrique purifiée avec le gel de silice est compris entre quelques minutes et quelques heures (de préférence entre 10 et 60 min). Les vitesses de passage sont lentes et comprises entre 1 et 20 m/h et de préférence 30 entre 3 et 10 m/h. La pression de fonctionnement est de quelques bars (de 1 à 7 bars et de préférence de 1 à 5 bars). Des exemples de gels de silice utilisables dans cette invention sont ceux commercialisés sous la référence Siogel® par CALDIC et sous la référence Fuji® B par FUJI SYLISIA CHEMICAL Ltd. 3050942 10 La teneur en fluorures de la solution d'HC1 en entrée est de préférence inférieure ou égale à 100 ppm pour éviter tout risque de dégradation du gel de silice. Pour ce faire, une partie au moins de la solution traitée dans l'étape d'adsorption complémentaire, donc issue de l'étape (d), peut être recyclée dans cette étape, ce qui permet d'augmenter la concentration en acide 5 chlorhydrique de la solution à traiter par le gel de silice et de réduire ainsi la concentration en HF dans cette solution, lorsque celle-ci est initialement supérieure à 100 ppm. Après cette étape d'adsorption complémentaire sur gel de silice, il est possible d'atteindre des teneurs en HF inférieures à 1 ppm dans la solution d'HC1. 10 Dans une forme d'exécution avantageuse, le procédé selon l'invention comprend une étape préliminaire de séparation des composés lourds, qui permet de condenser les goudrons. Cette étape consiste généralement à mettre le flux gazeux brut en contact avec une solution d'acide concentrée, sous pression, puis à désengager le gaz du liquide pour récupérer un flux gazeux dégoudronné. 15 En faisant à présent référence à la figure 1, l'installation 1 selon l'invention comprend quatre unités de traitement successives, à savoir une unité de lavage 3, une unité d'absorption adiabatique 4, une unité d'adsorption d'impuretés 5 et une unité d'adsorption complémentaire 6. 20 Dans la forme d'exécution illustrée à la Figure 1, le flux de produits réactionnels est amené d'abord vers une unité de séparation de composés lourds alimentée par une conduite de collecte 31 en sortie du réacteur catalytique. Cette unité vise à séparer le flux de produits réactionnels en un flux gazeux à traiter et en une fraction lourde contenant des goudrons. Cette unité de séparation est optionnelle. Elle comprend un éjecto-laveur 32 alimenté, d'une part, par le flux 25 de produits réactionnels et, d'autre part, par une solution d'acide concentrée. L'éjecto-laveur assure la mise en contact des deux fluides et permet à la fois de relever le niveau de pression du gaz en utilisant la solution acide comme fluide moteur et d'abaisser la température du gaz. Le mélange de fluides est ensuite transféré vers un ballon flash 33 qui permet le désengagement du gaz par rapport au liquide. La fraction liquide est envoyée vers un décanteur 34 permettant 30 de séparer les lourds. La solution acide surnageante est reprise par pompe et refroidie dans un échangeur avant d'être réinjectée dans l'éjecto-laveur. Une purge de la solution acide riche en HF est assurée en sortie de l'échangeur. Le flux gazeux issu du ballon flash est de son côté amené par une conduite d'alimentation 35 dans une colonne de lavage 36. La colonne de lavage 36 peut être une colonne à plateaux, telle qu'une colonne à plateaux perforés, ou à cloches, ou 3050942 11 à clapets ou de type Duaiflowe. On préfère utiliser une colonne à plateaux à cloches. Pour limiter les phénomènes d'encrassement, on peut également utiliser une hauteur de garnissage vrac en pied de colonne. Le lavage du flux gazeux est effectué de préférence à contre-courant : le flux gazeux est alimenté en pied, et une solution d'acide est alimentée en tête, via une conduite 5 d'amenée de solution acide 37. Au stade du lavage par la solution acide, la grande majorité de HF du flux gazeux passe en solution et est donc éliminée via une conduite de collecte de solution acide usée 38 en pied de colonne. Cette solution acide est refroidie dans un échangeur thermique avant d'être, pour partie, réintroduite dans la colonne de lavage 36 et, pour partie, réinjectée dans le décanteur 34 afin de compenser l'élimination de la solution acide en sortie du décanteur. 10 Le flux gazeux lavé issu de l'unité de lavage 3 est amené, via une conduite d'alimentation 41, dans l'unité d'adsorption adiabatique 4. L'unité d'absorption 4 permet d'absorber le HC1 du flux gazeux dans une solution aqueuse, apportée par une conduite d'amenée de solution aqueuse 42. Cette solution aqueuse peut être simplement de l'eau déminéralisée, ou alternativement il peut 15 s'agir d'une solution acide. Généralement, l'unité d'absorption 4 comporte une colonne 43 de mise en contact à contre-courant, la solution aqueuse étant fournie en tête et le flux gazeux en pied. Pour résister à la corrosion, la colonne 43 peut être en graphite ou bien en acier revêtu de polytétrafluoroéthylène (PTFE). Les internes de colonne peuvent être par exemple soit en graphite soit en polyfluorure de vinylidène (PVDF). Un flux gazeux désacidifié est récolté en 20 tête, via une conduite de collecte de flux gazeux désacidifié 44. Ce flux gazeux renferme le composé fluoré d'intérêt, par exemple le fluorure de vinylidène. Une solution d'HC1 est récoltée en pied, via une conduite de collecte de solution d'acide chlorhydrique 45. Après refroidissement, cette solution est amenée, via une conduite d'amenée 25 46, vers une unité d'adsorption d'impuretés 5, qui comprend une ou plusieurs colonnes, ici deux colonnes 51 et 51', renfermant chacune un lit de charbon actif Après passage dans l'une et/ou l'autre de ces colonnes, la solution d'acide chlorhydrique purifiée est ensuite envoyée, via une conduite de collecte 63, vers une unité d'adsorption 30 complémentaire 6, qui peut comprendre une ou plusieurs colonnes, ici deux colonnes 61 et 61', renfermant chacune un gel de silice. Il peut en effet être avantageux de disposer d'au moins deux colonnes 51, 51' et 61, 61', de façon à pouvoir changer de colonne une fois que la première est saturée, sans interrompre le procédé de purification d'acide chlorhydrique. L'installation 1 3050942 12 comprend en outre une conduite 62 de collecte de solution d'acide chlorhydrique purifiée issue de l'unité d'adsorption complémentaire 6. La solution d'HC1 purifiée récupérée à l'issue du procédé de l'invention peut être valorisée 5 commercialement. EXEMPLES Dans ces exemples, la concentration en ions fluorure (et donc en Eff) est mesurée par 10 ionométrie, selon la méthode des ajouts dosés, en utilisant une électrode au fluor. Les composés organiques totaux (COT) sont déduits de la différence entre le carbone total et le carbone inorganiques, mesurés selon la norme NF-EN-1484. Les composés organiques volatils (COV) sont mesurés en deux étapes : - une étape d'identification par chromatographie en phase gazeuse, couplée à un détecteur de masse en 15 mode ionisation par électrons, - une étape de quantification par chromatographie en phase gazeuse. L'installation illustrée à la Figure 1 est montée en dérivation sur un atelier industriel de production de fluorure de vinylidène par pyrolyse catalytique de 1-chloro-1,1-difluoroéthane. 20 Le flux de gaz brut issu du réacteur catalytique est constitué de : 33% en poids de fluorure de vinylidène (VF2), 19% en poids de HC1, 47% de 1-chloro-1,1-difluoroéthane et 600 ppm de HF. Ce flux gazeux brut est envoyé dans l'éjecto-laveur 32 de l'unité de séparation de composés 25 lourds, à un débit de 5120 kg/h. La température dans l'éjecto-laveur est de 70°C et la pression est réglée à 2,4 bars. Le flux gazeux issu de cette unité de séparation est débarrassé des composés lourds susceptibles de former des goudrons. Il est envoyé au pied d'une colonne à plateaux 36, à un débit de 5120 kg/h. La colonne a une hauteur de 1,20 mètres et cinq centimètres de diamètre. Elle comporte vingt plateaux perforés (200 perforations par plateau, 30 chacune faisant 1,75 mm de diamètre). L'écartement entre les plateaux est égal au diamètre de la colonne. Chaque plateau comporte un déversoir permettant la circulation du liquide vers le pied de colonne tandis que les perforations autorisent le passage du gaz vers la tête de colonne. Le matériau préféré pour la colonne est le PVDF. La colonne est alimentée par une solution d'acide chlorhydrique liquide commerciale à 33% en poids, renfermant moins de 5 ppm de HF. Cette solution est introduite dans la colonne 36 à un débit de 285 kg/h, à une température de 3050942 13 35°C et sous une pression de 1,4 bar. La température de la colonne est de 30°C et la pression est maintenue à 1,7 bar. Le liquide en pied de colonne renferme 59% en poids d'eau, 40% en poids d'HC1 et 0,85% en poids de HF. Sa température est abaissée à 30°C avant de le réinjecter, pour partie, dans la colonne et d'envoyer l'autre partie vers le décanteur 34. Le gaz sortant en 5 tête de la colonne de lavage 36 à un débit de 5080 kg/h comprend 33,3% en poids de VF2, 47,3% en poids de 1-chloro-1,1-difluoroéthane, 18,5% de HC1 et 100 ppm de HF. Le flux gazeux issu de la colonne 36 est traité ensuite sur la colonne adiabatique 43, qui est alimentée en eau déminéralisée, permettant l'absorption de l'acide chlorhydrique. Le gaz sortant en tête de colonne adiabatique renferme essentiellement du VF2 et du CC1F2-CH3 (50/50 en % 10 molaire) et ne contient que des traces d'HC1. On obtient en pied de colonne adiabatique une solution d'HC1 concentrée à 33%, contenant des composés organo-halogénés résultant de la pyrolyse, majoritairement des composés chlorés en C2 tels que C12C=CC12 (F1110), CHC12- CHC12 (F130), CH2C1-CC13 (F130A), CH2C1-CHF2 (F142), ainsi que du CC1F2-CH3 (F142B) résiduel. Cette solution renferme 200 ppm de composés organiques totaux (COT) et 100 ppm 15 de composés organiques volatils (COV). Ces composés organiques sont ensuite séparés par passage de cette solution aqueuse sur le lit de charbon actif 51 de l'unité d'adsorption d'impuretés 5, à un débit de 2850 kg/h. La température du lit est de 35°C et la pression est de 0,4 bar. Cette étape permet de réduire les taux de COT et COV à 100 ppm et 30 ppm, respectivement. 20 La solution aqueuse sortant de l'unité 5 est dirigée vers l'unité d'adsorption complémentaire 6, dans la colonne 61, à un débit de 7600 kg/h. La colonne 61 comprend un lit de gel de silice maintenu à une température de 35°C, qui se sature en HF au contact de la solution. La solution aqueuse de HC1 récupérée en pied de colonne est pour partie dirigée vers une cuve de stockage, l'autre partie étant recyclée en tête de la colonne 61 et mélangée à la solution aqueuse provenant 25 de l'unité d'adsorption d'impuretés. Il est ainsi possible de réduire la concentration en HF de 200 ppm à 75 ppm en entrée de colonne et de favoriser le traitement complémentaire sur gel de silice. Le débit de recyclage est dans cet exemple de 4750 kg/h. On obtient ainsi une solution aqueuse d'acide chlorhydrique renfermant une quantité indétectable de HF. Le lit est ensuite régénéré par lavage à l'eau. Une solution contenant de l'acide fluorhydrique dilué est ainsi 30 générée, qui doit être détruite. 35 REVENDICATIONS1. Procédé de traitement d'un flux gazeux contenant de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique, un composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés, dans lequel le flux gazeux est successivement soumis à: (a) une étape de lavage par une solution acide, telle qu'une solution d'acide chlorhydrique, pour obtenir un flux gazeux lavé ; (b) une étape d'absorption adiabatique dans une solution aqueuse de l'acide chlorhydrique contenu dans ledit flux gazeux lavé, permettant de collecter une solution d'acide chlorhydrique et un flux gazeux renfermant ledit composé fluoré d'intérêt ; (c) une étape d'adsorption sur charbon actif des impuretés organiques présentes dans ladite solution d'acide chlorhydrique, pour obtenir une solution d'acide chlorhydrique purifiée ; et (d) une étape de mise en contact de ladite solution d'acide chlorhydrique purifiée avec un gel de silice. 15 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit flux gazeux mis en oeuvre dans l'étape (a) est un flux gazeux brut issu d'une réaction de synthèse du composé fluoré d'intérêt, tel que le fluorure de vinylidène. 20 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit flux gazeux mis en oeuvre dans l'étape (a) résulte de la séparation des composés lourds contenus dans le flux gazeux brut issu d'une réaction de synthèse d'un composé fluoré d'intérêt, tel que le fluorure de vinylidène. 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'il comprend une étape préliminaire de 25 séparation des composés lourds consistant à mettre le flux gazeux brut en contact avec une solution d'acide concentrée, sous pression, puis à désengager le gaz du liquide pour récupérer un flux gazeux dégoudronné. 5. Procédé selon la revendication 2 ou 3, caractérisé en ce que la synthèse du composé fluoré 30 d'intérêt est effectuée par pyrolyse, catalytique ou non, d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore, ou par fluoration catalytique d'un composé organochloré avec de l'acide fluorhydrique, de préférence par pyrolyse catalytique d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore. 3050942 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce qu'une partie au moins de la solution issue de l'étape (d) est recyclée dans l'étape (d). 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que la solution 5 aqueuse d'acide chlorhydrique issue de l'étape (d) renferme au moins 30% en poids d'acide chlorhydrique, moins de 10 ppm, voire moins de 5 ppm, mieux, moins de 1 ppm, d'acide fluorhydrique et moins de 150 ppm, voire moins de 100 ppm, mieux, moins de 50 ppm, de composés organiques halogénés. 10 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le flux gazeux n'est pas préalablement soumis à une étape de distillation. 9. Installation (1) de traitement d'un flux gazeux brut contenant de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique, un composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés, 15 comprenant : - une unité de lavage (3) comprenant une colonne de lavage (36) alimentée, d'une part, par une conduite d'amenée (35) dudit flux gazeux brut et, d'autre part, par une conduite d'amenée (37) de solution acide ; - une unité d'absorption adiabatique (4) comprenant une colonne (43) alimentée, d'une part, par une conduite de collecte (41) de flux lavé, issue de l'unité de lavage (3), et, d'autre part, par une conduite d'amenée (42) de solution aqueuse ; - une conduite de collecte (44) du composé fluoré d'intérêt sous forme gazeuse, en sortie de colonne (43) de l'unité d'adsorption adiabatique (4), - une unité d'adsorption d'impuretés organiques (5), comprenant un lit de charbon actif alimenté par une conduite de collecte (46) de solution d'acide chlorhydrique issue de l'unité d'adsorption adiabatique (4) ; - une unité d'adsorption complémentaire (6) reliée à une conduite de collecte (63) de solution purifiée issue de l'unité d'adsorption d'impuretés (5), et comprenant une colonne (61) renfermant un gel de silice. 10. Installation selon la revendication 9, caractérisée en ce qu'elle comprend en outre, au sein de l'unité de lavage (3), une unité de séparation de composés lourds disposée en amont de la colonne de lavage, ladite unité de séparation de composés lourds étant alimentée par une 3050942 16 conduite d'amenée (31) du flux gazeux brut et reliée à la colonne de lavage (36) par une conduite de collecte (35) de flux gazeux dégoudronné. 11. Procédé de préparation d'un composé fluoré d'intérêt comprenant : 5 - la pyrolyse, catalytique ou non, d'un composé organofluoré comprenant au moins un atome de chlore ou la fluoration catalytique d'un composé organochloré avec de l'acide fluorhydrique, - la collecte d'un flux gazeux brut contenant de l'acide chlorhydrique, de l'acide fluorhydrique, ledit composé fluoré d'intérêt et des composés organiques halogénés ; et - le traitement dudit flux gazeux brut suivant le procédé selon l'une quelconque des 10 revendications 1 à 8.