FR 3038127 A1 20161230 FR 1555785 A 20150624 1 PROCEDE DE FABRICATION D'UNE PLURALITE DE DIPOLES EN FORME D'ILOTS AYANT DES ELECTRODES AUTO-ALIGNEES DOMAINE DE L'INVENTION L'invention a trait au domaine de la fabrication de composants électroniques, et plus particulièrement à la fabrication de composants électroniques comportant sur une même face une densité importante de dipôles. L'invention s'applique notamment aux dispositifs comportant deux composants électriques interconnectés face contre face avec de très petits pas d'interconnexion, au moyen d'une technique d'hybridation de type « flip-chip », ou « puce retournée ». L'invention trouve ainsi particulièrement application dans les assemblages dits « puce sur puce », « puce sur wafer » et « wafer sur wafer ». Par exemple, l'invention s'applique aux matrices d'éclairage et aux imageurs hybridés de très grandes dimensions et à très petits pas. ETAT DE LA TECHNIQUE L'augmentation de la densité de composants électroniques (diodes, transistors, résistances, capacités...), c'est-à-dire le nombre de composants par unité de surface, dans les circuits électroniques se heurte souvent à la précision limitée des procédés de fabrication, notamment la photolithographie. Cette problématique est d'autant plus présente pour un composant électrique qui comprend plusieurs parties fabriquées successivement et nécessitant d'être positionnées avec précision les unes par rapport aux autres, par exemple afin d'éviter des court-circuits. Par ailleurs, la difficulté est encore plus grande lorsque plusieurs niveaux de connexion sont présents dans un composant électronique, comme cela est notamment le cas d'un dipôle de type « ilot », par exemple une photodiode (communément appelée photodiode « mésa »), dont le fonctionnement nécessite d'appliquer une différence de potentiels entre le sommet et le pied de l'ilot. Ces problématiques sont illustrées aux figures 1 et 2 dans le cas particuliers d'un afficheur et un détecteur matriciel à base de photodiodes. En se référant aux figures 1 et 2, il est d'usage, pour réaliser un afficheur (respectivement un détecteur) matriciel 20, de former une matrice de photodiodes 10 dans un premier composant électronique 22 d'émission (respectivement de détection ) et de former les circuits d'injection de courant 14 (respectivement de collecte de courant 18) dans un 3038127 2 second composant électronique 24 de commande (respectivement de lecture). Les deux composants 22, 24 sont fabriqués indépendamment l'un de l'autre, puis sont ensuite hybridés l'un avec l'autre au moyen d'une technique dite «flip chip ». L'hybridation permet de connecter électriquement les électrodes 12 des photodiodes 10 avec leur 5 circuits d'injection 14, (respectivement de collecte 18) respectifs, au moyen d'interconnexions métalliques 24, qui sont usuellement également prévues pour solidariser les composants 22, 24. Les électrodes 16 des photodiodes 10 sont quant à elles, par exemple connectées à un même potentiel électrique au moyen de diverses techniques. Selon une première technique, le premier composant 22 comprend, en son 10 sein ou sur sa face 26 destinée à être connectée avec le composant 24, une couche conductrice ou fortement dopée en contact avec toutes les électrodes 16 des photodiodes 10. Cette technique est cependant rédhibitoire pour les matrices de photodiodes de grandes dimensions en raison de la résistance électrique en série qu'implique ladite couche. 15 De fait, les électrodes 12, 16 des photodiodes 10 sont fabriquées de manière à être accessibles depuis la face 26 du composant 22 pour leur connexion électrique. Parallèlement, une photodiode consistant essentiellement en des volumes de matériaux différents empilés et/ou alignés les uns avec les autres, la fabrication des photodiodes 10 20 utilise avantageusement des techniques de gravure pour aligner automatiquement un nombre maximum de composants des photodiodes. Cette fabrication est illustrée à la figure 2 qui est une vue schématique en coupe d'une photodiode 10 de type mesa dans une forme simplifiée de jonction PN. 25 En se référant plus particulièrement à la figure 2, pour fabriquer la photodiode 10, un volume de matériau semi-conducteur de dopage par exemple P 30 est réalisé sur une couche 32 de matériau semi-conducteur de dopage par exemple N 32 de manière à former une jonction PN. Un îlot de matériau semi-conducteur P 34 est ensuite individualisé en déposant par photolithographie un masque de gravure sur le volume P 30, par exemple un 30 masque de SiO2 déposé par une technique de dépôt en phase vapeur assistée par plasma (ou « PECVD »), puis en appliquant une gravure de manière à réaliser une tranchée 36 autour du volume 34 jusqu'à atteindre le matériau semi-conducteur N (voir plus haut) 32. Par exemple, la gravure est une gravure ionique couplée à un plasma induit (ou gravure « RIE-ICP » pour « reactive-ion etching inductively coupled plasma »). La gravure est 35 également appliquée de manière à réaliser une tranchée 38 de même hauteur de manière à isoler un ilot P 40 à proximité de l'ilot P 34. Une couche de passivation 42, par exemple en SiN, est ensuite déposée sur toute la surface des ilots P 34, 40 et la surface des tranchées 36, 38, par exemple au moyen d'un dépôt PECVD. La couche de passivation 3038127 3 42, bien qu'optionnelle, est considérée comme quasi-obligatoire. Non seulement, elle corrige les défauts de surface de l'ilot P 34, défauts qui sont une cause importante de recombinaisons non souhaitées des porteurs de charge, mais en outre la couche 42 permet d'isoler électriquement différents éléments de la photodiode 10, et permet ainsi de se 5 prémunir contre d'éventuels court-circuits lors du dépôt ultérieur du métal formant les électrodes de la photodiode 10. Le procédé de fabrication de la photodiode 10 se poursuit par la réalisation d'ouvertures 44, 46 dans la couche de passivation 42, à la fois sur le sommet de l'ilot P 34 et dans le fond de la tranchée 36 individualisant celui-ci, par exemple au moyen d'une gravure RIE. Une couche de métal est alors déposée pleine 10 plaque puis est gravée pour faire apparaître une première métallisation 48 au sommet de l'ilot P 34 formant une première électrode 12 de la photodiode 10 ainsi qu'une deuxième métallisation 50, isolée de la métallisation 48, réalisée dans le fond de la tranchée 36 et formant une deuxième électrode 16 de la photodiode 10. Cette structure permet ainsi une reprise de contact, par exemple par des billes de soudure 52 du composant 24, de l'anode 15 12 et de la cathode 16 sensiblement au même niveau, ce qui facilite l'hybridation avec le composant 24. Cette structure est cependant très consommatrice de surface et le pas de la matrice de photodiodes est sensiblement doublé, ce qui limite donc la densité d'intégration des photodiodes. 20 Afin d'augmenter la densité d'intégration, il serait ainsi possible de ne pas prévoir une reprise de contact de la cathode au même niveau que l'anode. L'ilot P 40 est donc supprimé et la reprise de contact de la cathode 16 est réalisée directement dans le fond de la tranchée 36. Ce type de structure est classique. Toutefois, comme le décrit le document « A Novel Blu-free Full-Color LED projector Using LED on Silicon Micro-Displays » de 25 Z.J. Liu et al., IEEE Photonics Technology Letters, vol. 25, N°23, Decembre 2013, cela suppose de prévoir des connexions 52 de différentes hauteurs sur le composant 24, ce qui est particulièrement complexe lorsqu'une hybridation de qualité est recherchée. En outre, lorsque la reprise de contact de la cathode est réalisée directement dans le fond de la tranchée 36, l'accès à celle-ci devient très difficile si le diamètre de la tranchée est faible. 30 Au mieux cela demande donc des outillages d'alignement très précis, et donc très couteux. Au pire, il est impossible de descendre en deçà d'un pas de matrice donné. De même, il peut être également envisagé de réduire la largeur de la tranchée 36 pour réduire le pas de la matrice de photodiodes. Toutefois, il se pose alors un problème dans 35 la réalisation de l'ouverture 46 donnant accès à la couche N pour la conception de la cathode. En outre, en réduisant la largeur de la tranchée 36, des précautions particulières doivent être prises pour que la métallisation 50 ne chevauche pas la métallisation 44. Il est donc souhaitable d'utiliser les techniques de fabrication bien au-delà de leur précision 3038127 4 pour garantir le positionnement souhaité des éléments de la photodiode les uns par rapport aux autres. On note ainsi que dans l'état de la technique, tel que par exemple décrit dans le document « 360 PPI Flip-Chip Mounted Active Matrix Adressable Light Emitting Diode on Silicon (LEDoS) Micro-Display », de Z.J. Liu, Journal of Display 5 Technology, vol.9, N°8, août 2013, ou encore décrit dans le document ci-dessous, le pas de la matrice est de l'ordre de la dizaine de micromètres. Bien entendu, ce qui vient d'être exposé, bien que décrit en relation avec des diodes, s'applique à tout type d'élément électronique, notamment de dipôles, dès lors qu'il est 10 souhaité connecter deux électrodes de cet élément associées respectivement à deux niveaux différents. Par exemple, la problématique exposée ci-dessus s'applique à une matrice de photoconducteurs, par exemple formés d'un empilement N/N+ ou P/P+, à une matrice de capacités, une matrice de bolomètres, une matrice de diode Zener, etc. 15 EXPOSE DE L'INVENTION Le but de la présente invention est de proposer un procédé de fabrication d'une matrice de dipôles en ilots nécessitant chacun deux connections à des niveaux respectifs différents, permettant une connexion aisée des dipôles, y compris pour des pas de matrice 20 jugés petits au regard de la précision des techniques de fabrication. A cet effet, l'invention a pour objet un procédé de fabrication d'un composant électronique comportant une pluralité de dipôles chacun comportant un ilot solidaire d'un socle, une première électrode disposée au sommet de l'ilot et une seconde électrode 25 disposée sur le socle, le procédé comportant : - la réalisation, sur le socle, d'une épaisseur de matériau constitutif des ilots, ladite épaisseur étant apte à être gravée à l'aide d'une gravure isotrope prédéterminée; - suivie de la réalisation, sur l'épaisseur de matériau constitutif des ilots, de motifs pleins en matériau électriquement conducteur et inerte à la gravure isotrope; 30 - suivie de l'application d'une gravure l'épaisseur de matériau constitutif des ilots jusqu'au socle au moins entre lesdits motifs pleins de manière à former des ilots surmontés desdits motifs pleins, ladite gravure comportant au moins une phase pendant laquelle la gravure isotrope prédéterminée est appliquée de manière à ce que les motifs pleins surplombent totalement les ilots; et 35 - suivie du dépôt de matériau électriquement conducteur sur et entre les ilots de manière à former les premières et les secondes électrodes des dipôles. 3038127 5 Par « matériau inerte à la gravure », on entend ici que le matériau n'est sensiblement pas gravé par la gravure pendant la réalisation des ilots. Notamment, la vitesse V de gravure du matériau est inférieure ou égale à 1110e de la vitesse de gravure du matériau constitutif des ilots auquel la gravure est destinée, et de préférence inférieure ou égale à 1/100e, 5 notamment inférieure ou égale à 1/1000e. Par « gravure anisotrope d'un matériau», on entend une gravure directive destinée à graver le matériau dans une direction particulière, notamment une gravure dont la vitesse de gravure, dans une direction normale à cette direction particulière, est inférieure ou 10 égale à 10%, et de préférence inférieure ou égale à 1%, de la vitesse de gravure du matériau dans la direction particulière. Par « gravure isotrope d'un matériau », on entend une gravure dont la vitesse de gravure du matériau est sensiblement uniforme quelle que soit la direction dans le matériau, 15 notamment une vitesse de gravure dont la valeur varie de moins de 10%, et de préférence de moins de 1%, en fonction de la direction. En d'autres termes, le caractère isotrope de la gravure, qui attaque donc l'épaisseur de matériau dans toutes les directions, produit une surgravure sous les motifs pleins. Les 20 ilots sont donc fabriqués toujours à l'aide d'une seule étape de gravure, mais en étant surmontés d'« ombrelles » protectrices. Ces ombrelles limitent naturellement les risques de court-circuits ultérieurs lors du dépôt des métallisations, de sorte qu'il n'est donc plus besoin de prendre des mesures ultérieures spécifiques dans ce but, y compris lorsqu'une matrice à très faible pas est fabriquée. Par exemple, il n'est plus besoin de prévoir une 25 couche de passivation. Une très grande simplification de la fabrication des dipôles et de leurs connections est ainsi obtenue. En outre, la métallisation constitutive des connexions du niveau inférieur est déposée directement sur le socle. Non seulement le procédé est encore simplifié, mais en outre il est ainsi obtenu naturellement une électrode sous forme de grille qui entoure les ilots. Cela permet ainsi de prévoir une seule reprise de contact 30 pour l'ensemble des connexions des dipôles prévues sur un niveau inférieur, par exemple les cathodes de photodiodes, en périphérie de la photodiode. La connexion entre deux niveaux est ainsi aisée et peut être réalisée simplement en prévoyant une plage de connexion de hauteur désirée. On note ainsi que le procédé selon l'invention permet un auto-alignement des électrodes lors de la fabrication. 35 3038127 6 Selon l'invention, la gravure des ilots comprend, préalablement à l'application de la gravure isotrope, une phase pendant laquelle une gravure anisotrope est appliquée. En d'autres termes l'alternance d'une phase anisotrope avec une phase isotrope permet de régler le volume des ilots, et donc de régler le volume de matériau actif des dipôles. 5 Plus particulièrement, la gravure anisotrope est appliquée de manière à graver l'épaisseur de matériau constitutif des ilots sur une hauteur égale à h - ô, où h est la hauteur finale des ilots et ô est une valeur supérieure ou égale à 0,1 micromètre, et de préférence supérieure ou égale à 0,5 micromètre, et la gravure isotrope est appliquée de manière à 10 graver la hauteur ô restante de l'épaisseur de matériau constitutif des ilots. Grâce à ces valeurs, il est possible de fabriquer des matrices de dipôles avec un pas inférieur à 5 micromètres avec un volume d'ilot maximal. Selon un mode de réalisation, on réalise une passivation des ilots et du socle, ladite 15 passivation étant réalisée uniquement après le dépôt du matériau électriquement conducteur formant les premières et les secondes électrodes. En d'autres termes, une passivation est utilisée, mais uniquement une fois les dipôles avec leur connexions formés. La couche de passivation, avantageusement utilisé pour limiter les recombinaisons en surface des ilots dans le cadre de photodiodes par exemple, n'est plus 20 utilisée pour éviter les court-circuits lors de la fabrication des dipôles. Il existe donc un degré supplémentaire dans le choix de celle-ci. Selon un mode de réalisation, les ilots sont regroupés dans une zone prédéterminée du socle, et le dépôt du matériau électriquement conducteur pour former les premières et les 25 secondes électrodes consiste en le dépôt d'une couche dudit matériau conducteur sur la totalité du support (i.e. de la surface définie par les ilots et le socle), et donc de ladite zone. Comme précédemment décrit, le dépôt pleine plaque simplifie grandement le procédé et permet de former simplement une électrode sous forme de grille. 30 Par exemple, le composant auquel est hybridé le composant muni d'ilot selon l'invention dispose d'éléments d'hybridation permettant de rattraper les différences de niveau entre le haut des ilots et le bas des ilots. Notamment, l'hybridation permet de se connecter sur aux électrodes disposés en haut des ilots et en fond de tranchée pour le contact commun, d'une manière par exemple similaire à l'hybridation décrite dans le document «A Novel 35 Blu-free Full-Color LED projector Using LED on Silicon Micro-Displays » de Z.J. Liu et al. 3038127 7 Pour les pas très fins, il est avantageux d'avoir les deux types de connexions (électrodes en haut des ilots et grilles communes en fond de tranchées) au même niveau, à savoir celui défini par les électrodes au sommet des ilots. De préférence, la connexion située en bas des ilots est donc « remontée » au niveau des électrodes disposées aux sommets des 5 ilots. A cet effet, selon un mode de réalisation de l'invention : - un motif plein supplémentaire constitué du matériau électriquement conducteur et inerte à ladite gravure est déposé sur l'épaisseur de matériau constitutif des ilots ; 10 - la gravure est appliquée également au moins partiellement autour du motif plein supplémentaire de manière à former une tranchée jusqu'au socle, la tranchée étant surplombée par le motif plein supplémentaire ; - préalablement au dépôt du matériau électriquement conducteur en vue de former les premières et les secondes électrodes des dipôles, une gravure locale est appliquée 15 pour éliminer une portion du surplomb au-dessus de la tranchée ; et - le matériau électrique conducteur est également déposé sur le motif plein supplémentaire et dans la tranchée. Un ilot supplémentaire, de même hauteur que les ilots formant les dipôles, est ainsi 20 obtenu suite à la gravure. L'élimination d'au moins une portion du surplomb permet par ailleurs de former une connexion électrique entre le motif plein supplémentaire et le fond de la tranchée, et par conséquent avec le socle. L'ilot supplémentaire ainsi métallisé définit alors une borne de connexion pour la grille commune autour des ilots. 25 Selon un mode de réalisation, le matériau constitutif des ilots est un matériau semi- conducteur et le matériau constitutif des motifs pleins est un métal. Selon un mode de réalisation, le socle est constitué d'un matériau semi-conducteur ayant un type de conductivité prédéterminé, et les ilots comprennent chacun une portion semi- 30 conductrice ayant un type de conductivité opposée à la conductivité du matériau semi- conducteur du socle de manière à former des diodes avec ledit socle. 3038127 8 BREVE DESCRIPTION DES FIGURES L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d'exemple, et réalisée en relation avec les dessins annexés, dans 5 lesquels des références identiques désignent des éléments identiques ou analogues, et dans lesquels : - la figure 1 est une vue schématique en coupe d'une matrice de photodiodes formée dans un premier composant hybridée avec un second composant comprenant une matrice de polarisation/lecture de la matrice de photodiodes ; 10 - la figure 2 est une vue schématique en coupe d'une photodiode MESA avec deux électrodes formées au même niveau ; - les figures 3 à 15 sont des vues schématiques illustrant un procédé de fabrication d'une matrice de dipôles MESA selon l'invention - les figures 16 et 17 sont des vues schématiques illustrant une variante de fabrication 15 de l'électrode commune pour la reprise de contact de l'électrode en forme de grille formée des MESA ; - la figure 18 est une vue schématique illustrant la passivation conforme de la matrice de dipôles mise en oeuvre après la réalisation des électrodes ; - les figures 19 et 20 sont des vues schématiques illustrant une passivation mise en 20 oeuvre après l'hybridation des composants électroniques ; et - la figure 21 est une vue schématique illustrant un exemple numérique d'une matrice de dipôles fabriquée selon le procédé de l'invention. DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION Il va à présent être décrit en relation avec les figures 3 à 15 un premier mode de réalisation du procédé selon l'invention de fabrication collective d'une matrice de dipôles en ilots, la matrice étant destinée à être ultérieurement hybridée avec un circuit externe pour la connexion électrique de chaque dipôle. Le procédé débute (figure 3) par la réalisation d'une plaque 60 contenant l'ensemble des matériaux actifs constitutifs des dipôles. Cette plaque 60 est divisée entre une première épaisseur 62, de valeur « h », dans laquelle seront formés des ilots et une seconde épaisseur 64 constituant le socle sur lequel reposeront les ilots. 25 30 35 3038127 9 Des plaques 60 utilisées dans le cadre de la fabrication d'une matrice de photodiodes sont illustrées aux figures 4A-4D, qui sont par exemple des vues de détail du cadre A de la figure 3. 5 Par exemple (figure 4A), la plaque 60 comprend une couche 200 de matériau semiconducteur de type N sur laquelle est déposée une couche 202 de matériau semiconducteur de type P, la fabrication des ilots consistant à individualiser des volumes 66 réalisés dans la totalité de l'épaisseur de la couche 202 et dans une partie de la couche 200. Sur la figure 4B, l'épaisseur 62 à graver correspond à l'épaisseur d'une couche de 10 matériau semi-conducteur de type N 204 et d'une partie de l'épaisseur d'une couche semi-conductrice de type P 206 déposée sur la couche N 204. La structure des épaisseurs 62, 64 peut prendre de multiples formes en fonction des photodiodes souhaitées. Par exemple (figure 4C), l'épaisseur 62 comprend un empilement de couches formant des puits quantiques (MPQ) 208, une couche de matériau semi-conducteur de type P 210 et 15 une partie de l'épaisseur d'une couche de matériau semi-conducteur de type N 212. De manière analogue (figure 4D), l'épaisseur 64 peut être constituée de différents matériaux, par exemple un substrat en saphir sur lequel est déposée une couche de matériau semiconducteur de type N. La réalisation de la plaque 60 est classique et ne sera donc pas décrite plus en détail par la suite. Ainsi, les épaisseurs 62, 64 sont illustrées sous la forme 20 de « couches » dans les figures, mais ne correspondent pas nécessairement à des couches de matériau, comme cela est illustré aux figures 4A-4D. Bien évidemment, les épaisseurs 62, 64 peuvent également correspondre à des couches de matériau. Le procédé se poursuit (figure 5) par le dépôt sur la plaque 60, au moins sur une portion 25 de celle-ci destinée à la réalisation des ilots, par exemple en totalité sur la plaque 60, d'une couche 68 de matériau, qui est à la fois conducteur électrique et inerte au moins à une gravure ultérieurement appliquée pour individualiser les ilots. Avantageusement la vitesse de gravure du matériau de la couche 68 est inférieure ou égale à 1110e, et de préférence inférieure ou égale à 1/100e, notamment inférieure ou égale à 1/1000e, de la 30 vitesse de gravure du matériau de l'épaisseur 62. L'épaisseur de la couche 68 est avantageusement supérieure ou égale à 10 nm afin de limiter le risque d'effondrement de surplombs réalisés ultérieurement sous le poids d'un matériau conducteur ultérieurement déposé comme détaillé ci-après. 35 Des motifs pleins 70 sont ensuite réalisés à partir de la couche 68 aux emplacements souhaités pour les ilots, la géométrie des motifs 70 étant choisie en fonction de la géométrie souhaitée pour les ilots (rectangulaire, carré, circulaire, etc.). Un motif supplémentaire 72 est également réalisé en périphérie de la matrice de motifs 70 à des 3038127 10 fins de connexion électrique comme cela sera expliqué ci-après. Les motifs 70, 72 sont par exemple obtenus en superposant un masque de gravure 74 à la couche 68 et en appliquant une gravure sèche anisotrope, notamment à base de plasma ou ionique, d'une manière connue en soi. Bien entendu, les motifs pleins 70, 72 peuvent être obtenus 5 différemment, par exemple par l'emploi d'une photolithographie à base de photorésine et de dépôt chimique en phase vapeur. Dans une étape suivante du procédé, une gravure est appliquée autour de motifs pleins 70, 72, qui servent ainsi de masque, pour réaliser des tranchées dans l'épaisseur 62 10 jusqu'à l'épaisseur 64, et ainsi individualiser des ilots entrant dans la constitution des dipôles. Plus particulièrement, comme cela est illustré à la figure 7, qui est une vue de détail du cadre B de la figure 6, une première gravure anisotrope 80 est tout d'abord appliquée afin de graver une épaisseur h - ô de l'épaisseur 62. Cette gravure 80 est donc calibrée pour obtenir une très forte sélectivité d'attaque telle que le ratio de la vitesse 15 d'attaque du matériau de la couche 62 sur la vitesse d'attaque du matériau des motifs 70, 72 soit supérieure à 10, de préférence supérieure à 100, de préférence supérieure à 1000. A la fin de la gravure 80, il subsiste donc dans les tranchées ainsi formées une portion résiduelle ô de l'épaisseur 62. 20 Une deuxième gravure isotrope 82 (figure 8) est ensuite appliquée pour retirer la portion restante ô de l'épaisseur 62 restante dans les tranchées. Comme cette deuxième gravure est isotrope, elle grave donc également le matériau sous les motifs pleins 70 en formant des flancs d'ilots inclinés. Plus particulièrement, l'épaisseur restante ô est choisie de sorte 25 que son retrait par la gravure isotrope choisie ait pour conséquence une surgravure telle que les motifs pleins 70, 72 surplombent totalement les ilots 84, 88, les motifs pleins 70, 72 dépassant le pied des ilots d'une largeur a mesurée dans le plan de l'épaisseur 64. Par exemple, dans le cadre d'ilots tronconiques, les pieds des ilots 84 sont des disques de rayon R et les motifs 70 sont des disques de rayon R + a, ou dans le cadre d'ilots à section 30 carrée, les pieds des ilots 84 sont des carrées de côté R et les motifs 70 sont des cotes de côté R + a. De manière avantageuse, les deux gravures anisotrope et isotrope sont mises en oeuvre en série dans une même machine, ce qui évite ainsi d'avoir à manipuler la plaque. 35 Notamment, une gravure RIE est utilisé. Comme cela est connu, cette gravure combine deux types de réaction entre un plasma et le matériau à graver. Une première réaction physique du plasma avec le matériau, dite « ionique », est très directive et donc anisotrope. Une seconde réaction chimique du plasma avec le matériau, dite 3038127 11 « chimique », est très peu directive et donc isotrope. Par ailleurs, avec ce type de gravure, il est possible de pondérer chacune des réactions en fonction du taux d'isotropie/anisotropie souhaité pour la gravure, ce qui est l'un des avantages bien connu de ce type de gravure. 5 Selon l'invention, la gravure est donc contrôlée : selon une première phase pendant laquelle le processus ionique est favorisé de manière à graver la portion h - ô de l'épaisseur 62 ; puis selon une deuxième phase selon laquelle le processus chimique est favorisé de 10 manière à graver la portion restante ô de l'épaisseur 62. En se référant à la vue de détail de la figure 9, correspondant au cadre C de la figure 6, la gravure décrite précédemment a également formé un ilot 88, de même hauteur que les ilots 84, surplombé du motif plein périphérique 72. 15 Le procédé se poursuit par l'application d'une gravure sur une zone spécifique du composant où il est souhaité réaliser une remontée de l'électrode commune réalisée ultérieurement au fonds des tranchées, par une gravure RIE 90 réalisée au travers d'un masque 92, de manière à éliminer partiellement ou en totalité la partie 94 du motif 72 qui 20 fait saillie de l'ilot 88, comme illustré à la figure 10. Un dépôt de matériau conducteur 96 est ensuite mis en oeuvre (figure 11) sur toute la surface de l'ensemble obtenu (ou dépôt « pleine plaque »), et par conséquent sur et autour des ilots 84 et de l'ilot 88. Par exemple, un dépôt en phase vapeur est utilisé. Ainsi, le 25 surplomb a des motifs pleins 70 joue alors le rôle de masque en protégeant les flancs des ilots 84 (figure 12). Il est donc obtenu une première électrode 98 au sommet de chaque ilot 84, ici constituée du motif plein 70 et d'une couche du matériau conducteur 96, et une deuxième électrode commune 100 en forme de grille constituée d'une couche du matériau conducteur 96 et disposée au pied des ilots 84, sans qu'il y ait de court-circuit 30 électrique entre la première et la deuxième électrode 98, 100. Par ailleurs, les électrodes 98, 100 sont « automatiquement » alignées avec les ilots 84. Il est ainsi obtenu une matrice de dipôles, chacun formé d'un ilot surmonté d'une première électrode et d'une deuxième électrode disposée à son pied. En outre, le surplomb a est 35 choisie minimal, c'est-à-dire juste suffisante pour obtenir l'effet de masque recherché. Ainsi, le volume 84, qui est le volume de matériau actif des dipôles, par exemple le matériau intervenant dans la jonction PN d'une photodiode, est maximal. 3038127 12 Parallèlement, en se référant aux vues de détail des figures 13 et 14, en raison de l'absence de surplomb sur l'ilot périphérique 88 et l'inclinaison des flancs de l'ilots 88, le dépôt du matériau conducteur 98 (figure 13) a pour effet de former une électrode 102 sur le sommet de l'ilot 88 qui se prolonge par une portion 104 sur le flanc de l'ilot 88 et par 5 la deuxième électrode commune 100 des dipôles (figure 14). Notamment, l'électrode 102 est au même niveau que les premières électrodes 98 des dipôles. En se référant à la vue de dessus de la figure 15 du composant électronique ainsi obtenu, avec des motifs pleins 70 carrés et le motif plein supplémentaire 72 rectangulaire, on note 10 ainsi que la deuxième électrode 100 forme une grille autour des ilots qui est en continuité électrique avec l'électrode périphérique 102. Les dipôles sont ainsi pilotés individuellement via leurs premières électrodes 98, alors que la deuxième électrode 100 permet de porter au même potentiel, par exemple le commun du circuit. En outre pour l'hybridation, les premières électrodes 98 et l'électrode périphérique 102 sont au même 15 niveau. Il n'est donc pas besoin de prévoir des éléments d'interconnexion de hauteurs différentes pour l'hybridation. Bien qu'avantageuse, la mise à niveau des connexions est optionnelle. En se référant aux figures 16 et 17, une variante de fabrication diffère du procédé décrit ci-dessus en ce que 20 le motif plein supplémentaire 72 est omis (figure 16), et en ce qu'il n'existe donc pas d'étape de gravure telle que décrite aux figures 9 et 10. Le dépôt du matériau conducteur 96 mène ainsi à une électrode 100, qui se prolonge en périphérie du composant électronique ainsi réalisé (vue de détail de la figure 17 correspondant au cadre D). Soit il est prévu un élément d'interconnexion de hauteur supérieure pour la connexion de 25 l'électrode 100, soit un motif conducteur rattrapant la différence de niveau est déposé sur l'électrode 100. Il peut être noté qu'à ce stade, aucune passivation des dipôles n'a encore été réalisée. Avantageusement, la passivation intervient uniquement une fois les dipôles et leurs 30 électrodes fabriquées. Plus particulièrement, en se référant à la figure 18, une couche de passivation 104 est déposée pleine plaque au moyen d'une technique de dépôt isotrope conforme, par exemple un dépôt chimique en phase vapeur, notamment un dépôt de couche atomique (« atomic layer deposition ») d'A1203, afin d'obtenir une couche de passivation qui recouvre toutes les surfaces des dipôles, et donc leurs flancs. La couche 35 de passivation 104 recouvre donc également les électrodes 98, 100 des dipôles. De manière avantageuse, l'hybridation utilise alors un insert creux, qui vient s'insérer en force dans chaque électrode 98 et l'électrode périphérique 102 en brisant la couche de passivation 104. 3038127 13 En variante, la couche de passivation 104 est omise et la passivation est mise en oeuvre uniquement une fois l'hybridation réalisée en introduisant entre les deux composants hybridés un matériau de remplissage 106 ayant une propriété passivante et présentant une forte résistivité électrique (communément appelé « underfill »). Par exemple, l'underfill 5 remplit l'espace entre les composants hybridés à l'aide de billes de soudure 52 (figure 19) ou à l'aide d'inserts creux 110 insérés respectivement dans les électrodes 98, 102 (figure 20). Par exemple, l'underfill est une résine époxy à faible viscosité tel que de l'Epotek© 353 ND ou l'EPOTEK 301 et ayant une résistivité électrique volumique supérieure à 1,8.1011 ohm.cm après réticulation. 10 Comme décrit précédemment, le matériau des motifs pleins 70 et 72 est choisi à la fois pour être conducteur et pour être inerte au moins à la phase isotrope de la gravure de formation des ilots, et de préférence inerte à la totalité de la gravure. 15 Notamment, pour une épaisseur 62 à graver, constituée de matériau semi-conducteur GaN, InGaN, InGaAs, CdHgTe, InP, SnPb, Ge, Si.... Et, plus généralement, tous les matériaux et empilements traditionnels permettant de réaliser des circuits de détection ou d'émission « OPTIQUES » , construits à partir d'alliages ou d'empilements de matériaux issus des colonnes II à VI (semiconducteurs des Groupes III-V et groupe II-VI) et pour 20 une gravure isotrope chimique humide, gazeuse ou physique ou le couplage des trois plasma, le matériau 68 des motifs pleins 70, 72 est choisi en métal, notamment choisi parmi Ag, Al, Ni, Pt, Ni, Ti et alliages de Ti (TiN, TiW,...), Pd, Au, W et alliages de W (W Si, WN,...) et Co, et de préférence du Ni ou du Pt. 25 Le matériau 68 peut également être un multicouches de ces métaux et alliages. En outre, ces matériaux sont également inertes à une gravure anisotrope adaptée. Le matériau 68 des motifs peut également être choisi en fonction de l'hybridation mise en oeuvre. Par exemple, l'or, le platine et le nickel sont privilégiés lorsque les électrodes 98, 30 102 sont réalisées en matériau dit de « soudure », par exemple de l'indium, un alliage d'indium, de l'étain ou un alliage d'étain, matériau qui sont traditionnellement utilisés dans le cas d'assemblage de type flip-chip Par exemple, le titane et les alliages de titane sont privilégiés si les électrodes 98, 102 35 sont réalisés en aluminium car ils permettent une bonne adhérence du dépôt final d'aluminium et sont utilisés généralement dans ce but comme « couche d'accroche » de l'aluminium avant dépôt en raison de leur bonne affinité avec l'aluminium. 3038127 14 En outre, le matériau 68 des motifs 70, 72 peut également être choisi en fonction de l'application visée par la matrice de dipôles. Par exemple, certains afficheurs à base de photodiodes sont conçus pour émettre de la lumière par leur face arrière, c'est-à-dire au travers de l'épaisseur 64 qui est choisie transparente à la longueur d'onde visible 5 d'émission des photodiodes. Le matériau 68 des motifs 70 est ainsi choisi pour présenter un fort pouvoir réflecteur à cette longueur d'onde. Par exemple, le matériau est l'argent. Evidemment, le matériau 96 des électrodes 98, 100, 102 peut également être identique au matériau 68 des motifs pleins 70, 72. 10 Concernant la largeur a du surplomb entre le pied des ilots 84 et les motifs pleins 70, les inventeurs ont noté qu'une largeur supérieure à 0,1 micromètre, et notamment supérieure à 0,5 micromètre, permet de protéger de manière efficace les flancs des ilots lors du dépôt des électrodes 98, 100. En outre, au-delà de 1 micromètre, il n'est observé aucun gain 15 particulier en termes de protection. La figure 21 illustre un exemple numérique d'une matrice de photodiodes fabriquée selon le procédé décrit précédemment. La couche à graver est une couche telle que décrite à la figure 4C et réalisée par croissance épitaxiale des couches la constituant, d'une épaisseur 20 de 1000 nanomètres. Les motifs 70 sont des carrés de côté égal à 2300 nanomètres et d'une épaisseur de 100 nanomètres, cette épaisseur étant donc également celle du motif périphérique 72, la distance séparant les motifs 70 étant égale à 700 nanomètres. Le matériau des motifs 70, 72 est du nickel ou de l'or et le métal des électrodes 98, 100, 102 est un matériau de soudure en vue d'une hybridation par insertion, comme décrit ci- 25 dessous, d'une épaisseur de 500 nanomètres. Le surplomb a est égal à 300 nanomètres. La matrice de photodiodes ainsi obtenue présente donc un pas de 3000 nanomètres, c'est-à-dire un pas faible (inférieur à 5 micromètres) relativement aux pas de matrices de photodiodes de l'état de la technique supérieur à 10 micromètres. 30 Il a été décrit des modes de réalisation particuliers, notamment concernant la gravure appliquée. Bien entendu tout type de gravure permettant de former un surplomb protégeant les flancs et les pieds des ilots lors d'un dépôt ultérieur de matériau convient. Par exemple, il est possible d'alterner plusieurs phases de gravures anisotropes avec plusieurs phases de gravure isotrope dans des enchainements dédiés pour obtenir des 35 profils de gravure spécifiques et contrôler plus finement la forme du surplomb a. 3038127 15 De même, il est possible d'appliquer uniquement une gravure isotrope pour individualiser les ilots en réglant les paramètres de gravure pour réaliser une isotropie contrôlée de manière à obtenir le surplomb souhaité, par exemple en contrôlant le facteur d'isotropie I = a/h. 5 De même, il est possible d'utiliser des gravures différentes, par exemple une gravure RIE pour la phase anisotrope et une gravure chimique humide (« wet chemical etching ») pour la phase isotrope. 10 Il a été décrit une application à la réalisation d'une matrice de photodiodes de type MESA. Bien entendu, l'invention s'applique à la fabrication de tout type de dipôle de type MESA nécessitant la connexion à deux niveaux. Par exemple, la problématique exposée ci-dessus s'applique à une matrice de photoconducteurs, par exemple formés d'un empilement N/N+ ou P/P+, à une matrice de capacités, une matrice de bolomètres, 15 une matrice de diode Zener, etc. L'invention présente au moins les avantages suivants : la fabrication de dispositifs optiques « hybridables » (puces d'émission ou de détection) à petit pas, et de grande taille (matrice tricolores, projecteurs, glisplay, IR, 20 visible, X, visibles, matrice d'émetteur VCSEL...) ; la possibilité d'utiliser les techniques de fiabilisation de l'état de la technique. Ainsi, le dispositif final assemblé peut être fiabilisé par enrobage ou dépôt de passivation conforme ; une reprise de contact aisée du plot commun, notamment en ayant un même niveau 25 de connexion. REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'un composant électronique (10) comportant une pluralité de dipôles (70, 98, 84, 100), chacun comportant un ilot (84) solidaire d'un socle (64), une première électrode (98) disposée au sommet de l'ilot (84) et une seconde électrode (100) disposée sur le socle (64), le procédé comportant : - la réalisation, sur le socle (64), d'une épaisseur de matériau constitutif des ilots (62), ladite épaisseur (62) étant apte à être gravée à l'aide d'une gravure isotrope prédéterminée; - suivie de la réalisation, sur l'épaisseur de matériau constitutif des ilots (62), de motifs pleins (70) en matériau électriquement conducteur et inerte à la gravure isotrope; - suivie de l'application d'une gravure de l'épaisseur de matériau constitutif des ilots (62) jusqu'au socle (64) au moins entre lesdits motifs pleins (70) de manière à former des ilots (84) surmontés desdits motifs pleins (70), ladite gravure comportant au moins une phase pendant laquelle la gravure isotrope prédéterminée est appliquée de manière à ce que les motifs pleins (70) surplombent totalement les ilots (84); et - suivie du dépôt de matériau électriquement conducteur (96) sur et entre les ilots (84) de manière à former les premières et les secondes électrodes (98, 100) des dipôles. 2. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon la revendication 1, dans lequel la gravure des ilots (84) comprend, préalablement à l'application de la gravure isotrope, une phase pendant laquelle une gravure anisotrope est appliquée. 3. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon la revendication 2, dans lequel : - la gravure anisotrope est appliquée de manière à graver l'épaisseur de matériau constitutif des ilots (62) sur une hauteur égale à h - ô, où h est la hauteur finale des ilots (84) et ô est une valeur supérieure ou égale à 0,1 micromètre, et de préférence supérieure ou égale à 0,5 micromètre ; et - la gravure isotrope est appliquée de manière à graver la hauteur ô restante de l'épaisseur de matériau constitutif des ilots (62). 3038127 17 4. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant une passivation des ilots (84) et du socle (64), ladite passivation étant réalisée uniquement après le dépôt du matériau électriquement conducteur (96) formant les premières et les secondes électrodes 5 (98, 100). 5. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le dépôt du matériau électriquement conducteur (96) pour former les premières et les secondes électrodes (98, 100) 10 consiste en le dépôt d'une couche dudit matériau conducteur sur la totalité de la surface constituée des ilots (84) et du socle (64). 6. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel : 15 - un motif plein supplémentaire (72) constitué du matériau électriquement conducteur et inerte à ladite gravure est déposé sur l'épaisseur de matériau constitutif des ilots (62); - la gravure est appliquée également au moins partiellement autour du motif plein supplémentaire (72) de manière à former une tranchée jusqu'au socle 20 (64), la tranchée étant surplombée par le motif plein supplémentaire (72) ; - préalablement au dépôt du matériau électriquement conducteur (96) en vue de former les premières et les secondes électrodes (98, 100) des dipôles, une gravure locale est appliquée pour éliminer au moins une portion du surplomb au-dessus de la tranchée ; et 25 - le matériau électrique conducteur (96) est également déposé sur le motif plein supplémentaire (72) et dans la tranchée. 7. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le matériau constitutif des ilots (84) est un 30 matériau semi-conducteur, et le matériau constitutif des motifs pleins (70) est un métal. 8. Procédé de fabrication d'un composant électronique selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le socle (64) est constitué d'un matériau 35 semi-conducteur ayant un type de conductivité prédéterminé, et dans lequel les ilots (84) comprennent chacun une portion semi-conductrice ayant un type de conductivité opposée à la conductivité du matériau semi-conducteur du socle (64) de manière à former des diodes avec ledit socle (64).