FR 3037836 A1 20161230 FR 1655968 A 20160627 1 PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE COUCHE DE POLISSAGE COMPOSITE POUR UN TAMPON DE POLISSAGE MECANO-CHIMIQUE La présente invention concerne un procédé de formation d'une couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique. Plus particulièrement, la présente invention concerne un procédé de formation d'une couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique en utilisant un dispositif de mélange axial. Dans la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs électroniques, de multiples couches de matériaux conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques sur et retirées d'une surface d'une galette anglais) de semi-conducteur. De fines couches 15 conducteurs, semi-conducteurs et diélectriques déposées en utilisant un certain nombre de dépôt. Les techniques de dépôt classiques dans sont déposées (« wafer » en de matériaux peuvent être techniques de le traitement moderne des galettes comprennent le dépôt physique en phase vapeur (PVD), connu également sous le nom de pulvérisation 20 cathodique, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et le plaquage électrochimique, entre autres. Les techniques de retrait courantes comprennent la gravure isotrope et anisotrope à l'état mouillé et sec, entre autres. 25 Comme les couches de matériaux sont déposées et enlevées séquentiellement, la surface supérieure de la galette devient non plane. Comme le traitement consécutif de semi-conducteur (par ex., par métallisation) nécessite que la galette ait une surface plane, la galette doit être planarisée. La 30 planarisation est utile pour éliminer une topographie de surface indésirable et des défauts de surface tels que des surfaces rugueuses, des matériaux agglomérés, des dommages du réseau cristallin, des rayures et des couches ou matériaux contaminés. 35 La planarisation mécano-chimique ou le polissage mécano- chimique (CMP), est une technique courante utilisée pour rendre planes ou polir des pièces à usiner telles que des 3037836 2 galettes de semi-conducteur. Dans un CMP classique, un support de galette ou une tête de polissage est monté(e) sur un ensemble formant support. La tête de polissage maintient la galette et la place en contact avec une couche de polissage 5 d'un tampon de polissage qui est monté sur une table ou un plateau dans un appareil de CMP. L'ensemble formant support assure une pression contrôlable entre la galette et le tampon de polissage. Simultanément, un milieu de polissage (par ex., suspension) est distribué sur le tampon de polissage et est attiré dans l'espace entre la galette et la couche de polissage. Pour effectuer le polissage, le tampon de polissage et la galette tournent habituellement l'un par rapport à l'autre. Lorsque le tampon de polissage tourne sous la galette, la galette balaie une trajectoire de polissage habituellement annulaire ou une région de polissage dans laquelle la surface de la galette se trouve directement en face de la couche de polissage. La surface de la galette est polie et planarisée par l'action chimique et mécanique de la couche de polissage et du milieu de polissage sur la surface. James et al. décrivent l'importance du rainurage dans la surface de polissage des tampons de polissage mécano-chimiques dans le brevet U.S. n° 6 736 709. Spécifiquement, James et al. indiquent que le « quotient de rigidité de rainures » ((« Groove Stiffness Quotient » (« GSQ »)) évalue les effets 25 du rainurage sur la rigidité du tampon et le « quotient de débit de rainures» (« Groove Flow Quotient » (« GFQ »)) évalue les effets du rainurage sur l'écoulement du fluide (interface avec le tampon) ; et qu'il existe un équilibre délicat entre GSQ et GFQ pour choisir une surface de polissage idéale pour 30 un processus de polissage donné. Néanmoins, comme les dimensions des galettes continuent à se réduire, les demandes de processus de polissage associés sont de plus en plus importantes. En conséquence, il existe un besoin constant de disposer 35 de configuration de couche de polissage qui élargissent la plage de performance opérationnelle des tampons de polissage mécano-chimiques et de procédés de production de ceux-ci. 3037836 3 La présente invention fournit un procédé de formation d'une couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique, comprenant : la fourniture d'un premier composant de couche de polissage de la couche de polissage 5 composite de tampon de polissage mécano-chimique ; où le premier composant de la couche de polissage a un côté de polissage, une surface de base, une pluralité de cavités périodiques et une épaisseur moyenne du premier composant, T1_ avg mesurée perpendiculairement par rapport au côté de 10 polissage depuis la surface de base jusqu'au côté de polissage ; où le premier composant de la couche de polissage comprend une première phase polymérique non-fugitive continue ; où la pluralité des cavités périodiques a une profondeur de cavité moyenne, Davg, mesurée perpendiculairement 15 par rapport au côté de polissage depuis le côté de polissage tourné en direction de la surface de base, où la profondeur de cavité moyenne, Davg, est inférieure à l'épaisseur moyenne du premier composant, Ti_avg, où la première phase polymérique non-fugitive continue est un produit réactionnel d'un 20 prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue ayant 8 à 12 % en poids de groupes NCO n'ayant pas réagi et d'un agent de durcissement de première phase continue ; la fourniture d'un composant liquide de côté poly (P), comprenant au moins l'un parmi un polyol de côté (P), une polyamine de côté de côté (P) et une alcool amine de côté(P) ; la fourniture d'un composant liquide de côté iso (I), comprenant au moins un isocyanate polyfonctionnel ; la fourniture d'un gaz pressurisé ; la fourniture d'un dispositif de mélange axial ayant une chambre cylindrique interne ; où la chambre cylindrique interne a une extrémité fermée, une extrémité ouverte, un axe de symétrie, au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, et au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne ; où l'extrémité fermée et 3037836 4 l'extrémité ouverte sont perpendiculaires à l'axe de symétrie ; où le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) et le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) sont disposés suivant une circonférence de 5 la chambre cylindrique interne à proximité de l'extrémité fermée ; où le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel est disposé suivant une circonférence de la chambre cylindrique interne en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) et du au moins un 10 orifice d'alimentation en liquide de côté (I) depuis l'extrémité fermée ; où le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) à une pression de charge de côté (P) de 6 895 à 27 600 kPa ; où le 15 composant liquide iso de côté (I) est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) à une pression de charge de côté (I) de 6 895 à 27 600 kPa ; où un débit de masse combiné du composant liquide de côté poly (P) et du composant 20 liquide de côté iso (I) dans la chambre cylindrique interne est de 1 à 500 g/s, tel que, de préférence, de 2 à 40 g/s ou, de manière davantage préférée, de 2 à 25 g/s ; où le composant liquide de côté poly (P), le composant liquide de côté iso (I) et le gaz pressurisé sont mélangés dans la chambre cylindrique 25 interne pour former une combinaison ; où le gaz pressurisé est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel avec une pression d'alimentation de 150 à 1 500 kPa ; où la vitesse d'entrée dans la chambre cylindrique interne du gaz pressurisé 30 est de 50 à 600 m/s calculée sur la base de conditions de gaz parfait à 20 °C et à une pression de 1 atm, ou de préférence, de 75 à 350 m/s ; l'évacuation de la combinaison de l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne en direction du côté de polissage du premier composant de la 35 couche de polissage à une vitesse de 5 à 1 000 m/s, ou de préférence, de 10 à 600 m/s ou de manière davantage préférée, de 15 à 450 m/s, le remplissage de la pluralité de cavités 3037836 5 périodiques avec la combinaison ; la solidification de la combinaison en tant que deuxième composant de la couche de polissage dans la pluralité des cavités périodiques pour former une structure composite ; où le deuxième composant de 5 la couche de polissage est une deuxième phase polymérique non fugitive ; et l'obtention d'une couche de polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique à partir de la structure composite, où la couche de polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique a une surface de polissage 10 sur le côté de polissage du premier composant de la couche de polissage ; et où la surface de polissage est adaptée pour polir un substrat. Selon une caractéristique particulière de la présente invention, le procédé de la présente invention comprend en 15 outre: l'usinage de la structure composite pour obtenir la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ; où la couche de polissage composite d'un tampon de 20 polissage mécano-chimique ainsi obtenue a une épaisseur moyenne de couche de polissage composite, Tp_avg, mesurée perpendiculairement par rapport à la surface de polissage depuis la surface de base jusqu'à la surface de polissage ; où l'épaisseur moyenne du premier composant, Ti-avg, égale 25 l'épaisseur moyenne de la couche de polissage composite, Tp_ avg ; où la deuxième phase polymérique non fugitive occupant la pluralité des cavités périodiques a une hauteur moyenne, Havg, mesurée perpendiculairement par rapport à la surface de 30 polissage depuis la surface de base en direction de la surface de polissage ; et, où une valeur absolue d'une différence, AS, entre l'épaisseur moyenne de couche de polissage composite, Tp_avg, et la hauteur moyenne, Havg, est _ 0,13 mm(5 mils) (de préférence, de 0,13 à 3,81 mm (5 à 150 mils) ; de manière davantage préférée, de 0,25 à 2,54 mm (10 à 100 mils) ; de manière préférée entre toutes, de 0,38 à 1,27 mm (15 à 50 mils)) et un espacement de 0,25 mm (10 mils) (de 10 préférence, de 0,63 à 3,8 mm (25 à 150 mils) ; de manière davantage préférée, de 1,27 à 2,54 mm (50 à 100 mils) ; de manière préférée entre toutes, de 1,52 à 2,03 mm (60 à 80 mils)). De préférence, les au moins deux cavités concentriques ont une largeur et un espacement, la largeur et l'espacement 15 étant égaux. De préférence, la pluralité des cavités périodiques (40) peut être choisie dans le groupe constitué d'une pluralité de cavités périodiques non reliées entre elles et d'une pluralité de cavités périodiques reliées entre elles. De préférence, 20 lorsque la pluralité de cavités périodiques est une pluralité de cavités périodiques non reliées entre elles, la deuxième phase polymérique non fugitive est une deuxième phase polymérique non fugitive discontinue. De préférence, lorsque la pluralité des cavités périodiques est une pluralité de 25 cavités périodiques reliées entre elles, la deuxième phase utilisé dans le procédé de la présente invention a 30 cylindrique interne (65). De préférence, polymérique axial (60) une chambre la chambre polymérique non fugitive est une deuxième phase non fugitive continue. De préférence, le dispositif de mélange cylindrique interne (65) a une extrémité fermée (62) et une extrémité ouverte (68). De préférence, l'extrémité fermée (62) et l'extrémité perpendiculaires 35 cylindrique l'extrémité ouverte (68) sont chacune sensiblement à un axe de symétrie (70) de la chambre (65). De manière davantage préférée, (62) et l'extrémité ouverte (68) sont interne fermée essentiellement perpendiculaires à un axe de symétrie (70) de 3037836 25 la chambre cylindrique interne (65). De manière préférée entre toutes, l'extrémité fermée (62) et l'extrémité ouverte (68) sont chacune perpendiculaires à un axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). (Voir Figures 6-8). 5 De préférence, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a une chambre cylindrique interne (65) avec un axe de symétrie (70), où l'extrémité ouverte (68) a une ouverture circulaire (69). De manière davantage préférée, le dispositif de mélange axial 10 (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a une chambre cylindrique interne (65) avec un axe de symétrie (70) ; où l'extrémité ouverte (68) a une ouverture circulaire (69) ; et où l'ouverture circulaire (69) est concentrique par rapport à la chambre cylindrique interne (65). De manière 15 préférée entre toutes, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a une chambre cylindrique interne (65) avec un axe de symétrie (70) ; où l'extrémité ouverte (68) a une ouverture circulaire (69) ; où l'ouverture circulaire (69) est concentrique avec la chambre 20 cylindrique interne (65) ; et où l'ouverture circulaire (69) est perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). De préférence, l'ouverture circulaire (69) a un diamètre de 1 à 10 mm (de manière davantage préférée, de 1,5 à 7,5 mm ; de manière encore 25 davantage préférée, de 2 à 6 mm ; de manière préférée entre toutes, de 2,5 à 3,5 mm). (Voir Figures 6-8). De préférence, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvre 30 dans la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65). De préférence, lorsque le 35 dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquides de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre 3037836 26 cylindrique interne (65) , les au moins deux orifices d'alimentation en liquides de côté (P) (75) sont disposés uniformément suivant la circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, 5 lorsque le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65), les au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) sont 10 disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65) et sont à égale distance de l'extrémité fermée (62) de la chambre cylindrique interne (65). De préférence, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) s'ouvre dans la chambre cylindrique 15 interne (65) par un orifice ayant un diamètre interne de 0,05 à 3 mm (de préférence, de 0,1 à 0,1 mm ; de manière davantage préférée, de 0,15 à 0,5 mm). De préférence, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé vers l'axe de 20 symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé vers et de façon essentiellement perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la 25 chambre cylindrique interne (65). De manière préférée entre toutes, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé vers et de façon perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). 30 De préférence, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le 35 procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquides de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65). De préférence, lorsque le 3037836 27 dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquides de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65), les au moins deux orifices 5 d'alimentation en liquides de côté (I) (80) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, lorsque le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices 10 d'alimentation en liquides de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65), les au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65) et sont à une égale distance 15 de l'extrémité fermée (62) de la chambre cylindrique interne (65). De préférence, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) par un orifice ayant un diamètre interne de 0,05 à 3 mm (de préférence, de 0,1 à 0,1 mm ; de manière davantage 20 préférée, de 0,15 à 0,5 mm). De préférence, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) par un orifice ayant un diamètre interne de 0,05 à 1 mm (de préférence, de 0,1 à 0,75 mm ; de manière davantage préférée, de 0,15 à 0,5 mm). De 25 préférence, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé vers l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, le au moins un (I) orifice d'alimentation en liquide de côté s'ouvre 30 dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé vers et de façon essentiellement perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). De manière préférée entre toutes, le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) s'ouvre dans la chambre cylindrique 35 interne (65) et est dirigé vers et de façon perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). 3037836 28 De préférence, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et au moins un 5 orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) ; où le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) sont disposés uniformément suivant la circonférence (67) de la 10 chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, le dispositif de mélange axial (60) utilisé procédé de la présente invention a au moins un d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvre chambre cylindrique interne (65) et au moins un 15 d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvre chambre cylindrique interne (65) ; où le au moins un dans le orifice dans la orifice dans la orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la 20 chambre cylindrique interne (65) et sont à une égale distance de l'extrémité fermée (62) de la chambre cylindrique interne (65). De préférence, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins 25 deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) et au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65). De préférence, lorsque le dispositif de mélange axial (60) 30 utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) et au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65), les au 35 moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65) et les au moins deux 3037836 29 orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65). De préférence, lorsque le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la 5 présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) et au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65), les orifices 10 d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et les orifices d'alimentation en liquides de côté (I) (80) alternent suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, lorsque le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente 15 invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) et au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65), les orifice d'alimentation en 20 liquide de côté (P) (75) et les orifice d'alimentation en liquides de côté (I) (80) alternent et sont espacés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65). De manière préférée entre toutes, lorsque le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le 25 procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (P) (75) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) et au moins deux orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) ; les orifices 30 d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et les orifices d'alimentation en liquide de côté (I) (80) alternent et sont uniformément espacés suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65) ; et les orifices d'alimentation en liquides de côté (P) (75) et les orifices 35 d'alimentation en liquide de côté (I) (80) sont tous à une égale distance de l'extrémité fermée (62) de la chambre cylindrique interne (65). 3037836 30 De préférence, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel (85) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65). De manière 5 davantage préférée, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel (85) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) ; où le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel 10 (85) est disposé suivant une circonférence de la chambre cylindrique interne (65) en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) depuis l'extrémité fermée (62). De manière encore davantage préférée, 15 le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) ; où les au moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) 20 sont disposés suivant la circonférence de la chambre cylindrique interne (65) en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté(I) (80) depuis l'extrémité fermée (62). De manière encore davantage préférée, 25 le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel (85) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) ; où les au moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) 30 sont disposés suivant la circonférence de la chambre cylindrique interne (65) en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) depuis l'extrémité fermée (62) ; et où les au moins deux orifices 35 d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65). De manière préférée entre 3037836 31 toutes, le dispositif de mélange axial (60) utilisé dans le procédé de la présente invention a au moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) qui s'ouvrent dans la chambre cylindrique interne (65) ; où les au 5 moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) sont disposés suivant la circonférence de la chambre cylindrique interne (65) en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) 10 depuis l'extrémité fermée (62) ; et où le au moins deux orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiels (85) sont disposés uniformément suivant une circonférence (67) de la chambre cylindrique interne (65) et sont à égale distance de l'extrémité fermée (62) de la chambre cylindrique interne 15 (65). De préférence, le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) par un orifice ayant une dimension critique de 0,1 à 5 mm (de préférence, de 0,3 à 3 mm ; de manière davantage préférée, de 0,5 à 2 mm). De préférence, le au moins 20 un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé tangentiellement suivant une circonférence interne de la chambre cylindrique interne (65). De manière davantage préférée, le au moins un orifice d'alimentation en gaz 25 pressurisé tangentiel s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé tangentiellement suivant une circonférence interne de la chambre cylindrique interne et sur un plan qui est essentiellement perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). De 30 manière préférée entre toutes, le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel s'ouvre dans la chambre cylindrique interne (65) et est dirigé tangentiellement suivant une circonférence interne de la chambre cylindrique interne et sur un plan qui est 35 perpendiculaire à l'axe de symétrie (70) de la chambre cylindrique interne (65). 3037836 32 De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté poly (P) comprend au moins l'un parmi un polyol de côté (P), une polyamine de côté (P) et une alcool amine de côté (P). 5 De préférence, le polyol de côté (P) est choisi dans le groupe constitué de diols, de polyols, de polyol diols, de leurs copolymères et leurs mélanges. De manière davantage préférée, le polyol de côté (P) est choisi dans le groupe constitué des polyéther polyols (par ex., 10 poly(oxytétraméthylène)glycol, poly(oxypropylène)glycol et leurs mélanges) ; des polyols de polycarbonate ; des polyester polyols ; des polycaprolactone polyols; leurs mélanges et des mélanges de ceux-ci avec un ou plusieurs polyols de bas poids moléculaire choisis dans le groupe 15 constitué d'éthylène glycol ; de 1,2-propylène glycol ; de 1,3-propylène glycol ; de 1,2-butanediol ; de 1,3-butanediol ; de 2-méthyl-1,3-propanediol ; de 1,4-butanediol ; de néopentyl glycol ; de 1,5-pentanediol ; de 3-méthy1-1,5-pentanediol ; de 1,6-hexanediol ; de diéthylène glycol ; de dipropylène 20 glycol ; et de tripropylène glycol. De manière encore davantage préférée, le au moins un polyol de côté (P) est choisi dans le groupe constitué de polytétraméthylène éther glycol (PTMEG) ; de polyols à base d'esters (tels qu'éthylène adipates, butylène adipates) ; de polypropylène éther glycols 25 (PPG) ; de polyols de polycaprolactone ; leurs copolymères et leurs mélanges. De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté poly (P) utilisé contient au moins un polyol de côté(P); où le au moins un polyol de côté 30 (P) comprend un polyol de haut poids moléculaire ayant un poids moléculaire moyen en nombre, MN, de 2 500 à 100 000. De manière davantage préférée, le polyol utilisé de haut poids moléculaire a un poids moléculaire moyen en nombre, MN, de 5 000 à 50 000 (de manière encore davantage préférée, de 7 500 35 à 25 000 ; de manière préférée entre toutes, de 10 000 à 12 000). 3037836 33 De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté poly (P) utilisé contient au moins un polyol de côté (P) ; où le au moins un polyol de côté (P) comprend un polyol de haut poids moléculaire ayant en 5 moyenne trois à dix groupes hydroxyle par molécule. De manière davantage préférée, le polyol de haut poids moléculaire utilisé a en moyenne quatre à huit (de manière encore davantage préférée, cinq à sept ; de manière préférée entre toutes six) groupes hydroxyle par molécule. 10 Les exemples de polyols de haut poids moléculaire disponibles dans le commerce comprennent les polyols Specflex®, les polyols Voranol® et les polyols Voralux° (disponibles auprès de The Dow Chemical Company) ; des polyols de spécialité Multranol° et des polyols flexibles Ultracelc) 15 (disponibkes auprès de Bayer MaterialScience LLC) ; et des polyols Pluracol® (disponibles auprès de BASF). Plusieurs polyols de haut poids moléculaire préférés sont présentés dans le TABLEAU 1 . 20 TABLEAU 1 Polyol de haut poids moléculaire Nombre de groupes MN Nombre de groupes hydroxyle (mq KOH/q) OH par molécule Multranol® 3901 Polyol 3,0 6 000 28 Pluracol® 1385 Polyol 3,0 3 200 50 Pluracol® 380 Polyol 3,0 6 500 25 Pluracol® 1123 Polyol 3,0 7 000 24 ULTRACEL® 3000 Polyol 4,0 7 500 30 SPECFLEX® NC630 Polyol 4,2 7 602 31 SPECFLEX® NC632 Polyol 4,7 8 225 32 VORALUX® HF 505 Polyol 6,0 11 400 30 MULTRANOL® 9185 Polyol 6,0 3 366 100 VORANOL® 4053 Polyol 6,9 12 420 31 3037836 34 De préférence, la polyamine de côté (P) est choisie dans le groupe constitué de diamines et d'autres amines multifonctionnelles. De manière davantage préférée, la polyamine de côté (P) est choisie dans le groupe constitué de 5 diamines aromatiques et d'autres amines aromatiques multifonctionnelles telles que, par exemple, la 4,4'- méthylène-bis-o-chloroaniline (« MbOCA ») ; la 4,4'-méthylène- bis-(3-chloro-2,6-diéthylaniline) (« MCDEA ») ; la diméthylthiotoluènediamine ; le di-p-aminobenzoate de 10 triméthylèneglycol ; le di-p-aminobenzoate de polytétraméthylèneoxyde ; le mono-p-aminobenzoate de polytétraméthylèneoxyde ; le di-p-aminobenzoate de polypropylèneoxyde ; le mono-p-aminobenzoate de polypropylèneoxyde ; le 1,2-bis(2-aminophénylthio)éthane ; la 15 4,4'-méthylène-bis-aniline ; la diéthyltoluènediamine ; la 5- tert-buty1-2,4-toluènediamine ; la 3-tert-buty1-2,6- toluènediamine ; la 5-tert-amyl-2,4-toluènediamine ; et la 3- tert-amy1-2,6-toluènediamine et la chlorotoluènediamine. De préférence, l'alcool amine de côté (P) est choisi dans 20 le groupe constitué de polyols à initiateur amine. De manière davantage préférée, l'alcool amine de côté (P) est choisi dans le groupe constitué de polyols à initiateur amine contenant un à quatre (de manière encore davantage préférée, deux à quatre ; de manière préférée entre toutes, deux) atomes 25 d'azote par molécule. De préférence, l'alcool amine de côté (P) est choisi dans le groupe constitué de polyols à initiateur amine qui ont en moyenne au moins trois groupes hydroxyle par molécule. De manière davantage préférée, l'alcool amine de côté (P) est choisi dans le groupe constitué 30 de polyols à initiateur amine qui ont en moyenne de trois à six (de manière encore davantage préférée, trois à cinq ; de manière préférée entre toutes, quatre) groupes hydroxyle par molécule. Les polyols à initiateur amine particulièrement préférés ont un poids moléculaire moyen en nombre MN, de 700 35 (de préférence, de 150 à 650 ; de manière davantage préférée, de 200 à 500 ; de manière préférée entre toutes, de 250 à 300) et ont un indice hydroxyle (déterminé par le procédé de test 3037836 35 ASTM Test Method D4274-11) de 350 à 1 200 mg KOH/g. De manière davantage préférée, le polyol initié par une amine utilisé a un indice hydroxyle de 400 à 1 000 mg KOH/g (de manière préférée entre toutes 600 à 850 mg KOH/g). Les exemples de 5 polyols à initiateur amine disponibles dans le commerce comprennent la famille de polyols à initiateur amine Voranol® (disponibles auprès de The Dow Chemical Company) ; les polyols de spécialité Quadrol® (N,N,N',N'-tétrakis(2-hydroxypropyléthylène-diamine))(disponibles auprès de BASF) ; les polyols à 10 base d'amine Pluracol® (disponibles auprès de BASF) ; les polyols à base d'amine Multranol® (disponibles auprès de Bayer MaterialScience LLC) ; la triisopropanolamine (TIPA) (disponible auprès de The Dow Chemical Company) ; et la triéthanolamine (TEA) (disponible auprès de Mallinckrodt Baker 15 Inc.). Plusieurs polyols à initiateur amine préférés sont présentés dans le TABLEAU 2. TABLEAU 2 Polyol initié par une amine Nombre de groupes OH MN Indice groups par d'hydroxyle (mq KOH/q) molécule Triéthanolamine 3 149 1 130 Triisopropanolamine 3 192 877 MULTRANOL® 9138 Polyol 3 240 700 MULTRANOL® 9170 Polyol 3 481 350 VORANOL® 391 Polyol 4 568 391 VORANOL® 640 Polyol 4 352 638 VORANOL® 800 Polyol 4 280 801 QUADROL® Polyol 4 292 770 MULTRANOL® 4050 Polyol 4 356 630 MULTRANOL® 4063 Polyol 4 488 460 MULTRANOL® 8114 Polyol 4 568 395 MULTRANOL® 8120 Polyol 4 623 360 MULTRANOL® 9181 Polyol 4 291 770 VORANOL® 202 Polyol 5 590 475 20 3037836 36 De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne (65) par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) à une pression de 5 charge de côté (P) de 6 895 à 27 600 kPa. De manière davantage préférée, le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne (65) par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) à une pression de charge de côté (P) de 8 000 à 20 000 kPa. De 10 manière préférée entre toutes, le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne (65) par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) (75) à une pression de charge de côté (P) de 10 000 à 17 000 kPa. 15 De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté iso (I) comprend au moins un isocyanate polyfonctionnel. De préférence, le au moins un isocyanate polyfonctionnel contient deux groupes isocyanate réactifs (à savoir, NCO). 20 De préférence, le au moins un isocyanate polyfonctionnel est choisi dans le groupe constitué d'un isocyanate polyfonctionnel aliphatique, d'un isocyanate polyfonctionnel aromatique et d'un mélange de ceux-ci. De manière davantage préférée, l'isocyanate polyfonctionnel est un diisocyanate 25 choisi dans le groupe constitué du 2,4-toluène diisocyanate ; du 2,6-toluène diisocyanate ; du 4,4'-diphénylméthane diisocyanate ; du naphtalène-1,5-diisoc yanate ; du tolidine diisocyanate ; du para-phénylène diiso cyanate ; du xylylene diisocyanate de l'isophorone diisocyanate ; de 30 l'hexaméthylène diisocyanate ; du 4,4'-dicyclohexylméthane diisocyanate ; du cyclohexanediisocyanate ; et leurs mélanges. De manière encore davantage isocyanate polyfonctionnel est terminaison isocyanate formé par 35 avec un polyol prépolymère. De préférence, le au moins préférée, le au moins un un prépolymère d'uréthane à la réaction d'un diisocyanate un isocyanate polyfonctionnel est un prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate ; où le 3037836 37 prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate a 2 à 12 % en poids de groupes isocyanate n'ayant pas réagi (NC0). De manière davantage préférée, le prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate utilisé dans le procédé de la présente 5 invention a 2 à 10 % en poids (de manière encore davantage préférée, 4 à 8 % en poids ; de manière préférée entre toutes, 5 à 7 % en poids) de groupes isocyanate n'ayant pas réagi (NCO). De préférence, le prépolymère d'uréthane à terminaison 10 isocyanate utilisé est le produit réactionnel d'un diisocyanate avec un polyol prépolymère ; où le polyol prépolymère est choisi dans le groupe constitué de diols, de polyols, de polyol diols, leurs copolymères et leurs mélanges. De manière davantage préférée, le prépolymer polyol est choisi 15 dans le groupe constitué de polyéther polyols (par ex., poly(oxytétraméthylène)glycol, poly(oxypropylène)glycol et leurs mélanges) ; de polyols de polycarbonate ; polyester polyols de; de polycaprolactone polyols; de leurs mélanges et des mélanges de ceux-ci avec un ou plusieurs 20 polyols de bas poids moléculaire choisis dans le groupe constitué d'éthylène glycol ; de 1,2-propylène glycol ; de 1,3-propylène glycol ; de 1,2-butanediol ; de 1,3-butanediol ; de 2-méthyl-1,3-propanediol ; de 1,4-butanediol ; de néopentyl glycol ; de 1,5-pentanediol ; de 3-méthy1-1,5-pentanediol ; de 25 1,6-hexanediole ; de diéthylène glycol ; de dipropylène glycol ; et de tripropylène glycol. De manière encore davantage préférée, le polyol prépolymère est choisi dans le groupe constitué de polytétraméthylène éther glycol (PTMEG) ; de polyols à base d'ester (tels que les éthylène adipates, 30 butylène adipates) ; de polypropylène éther glycols (PPG) ; de polycaprolactone polyols ; de leurs copolymères ; et leurs mélanges. De manière préférée entre toutes, le polyol prépolymère est choisi dans le groupe constitué de PTMEG et de PPG 35 De préférence, lorsque le polyol prépolymère est le PTMEG, le prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate a une concentration en groupes isocyanate n'ayant pas réagi 3037836 38 (NCO) de 2 à 10 % en poids (de manière davantage préférée, de 4 à 8 % en poids ; de manière préférée entre toutes, de 6 à 7 % en poids). Les exemples de prépolymères d'uréthane à terminaison isocyanate à base de PTMEG disponibles dans le 5 commerce comprennent les prépolymères Imuthane (disponibles auprès de COIM USA, Inc., tels que PET-80A, PET-85A, PET-90A, PET-93A, PET-95A, PET-60D, PET-70D, PET-75D) ; les prépolymères Adiprene® (disponibles auprès de Chemtura, such as, LF 800A, LF 900A, LF 910A, LF 930A, LF 931A, LF 939A, LF 10 950A, LF 952A, LF 600D, LF 601D, LF 650D, LF 667, LF 700D, LF750D, LF751D, LF752D, LF753D et L325) ; les prépolymères Andur® (disponibles auprès d'Anderson Development Company, tels que 70APLF, 80APLF, 85APLF, 90APLF, 95APLF, 60DPLF, 70APLF, 75APLF). 15 De préférence, lorsque le polyol prépolymère est le PPG, le prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate a une concentration en groupes isocyanate n'ayant pas réagi (NCO) de 3 à 9 % en poids (de manière davantage préférée, de 4 à 8 % en poids, de manière préférée entre toutes, de 5 à 6 % en poids). 20 Les exemples de prépolymères d'uréthane à terminaison isocyanate à base de PPG disponible dans le commerce comprennent les prépolymères Imuthane® (disponibles auprès de COIM USA, Inc., tels que PPT-80A, PPT-90A, PPT-95A, PPT-65D, PPT-75D) ; les prépolymères Adiprene® (disponibles auprès de 25 Chemtura, tels que LFG 963A, LFG 964A, LFG 740D) ; et les prépolymères Andur® (disponibles auprès d'Anderson Development Company, tels que 8000APLF, 9500APLF, 6500DPLF, 7501DPLF). De préférence, le prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate utilisé dans le procédé de la présente invention 30 est un prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate aà faible teneur en monomère libre ayant moins de 0,1 % en poids de teneur en monomère de toluène diisocyanate (TDI) libre. Les prépolymères d'uréthane à terminaison isocyanate non à base de TDI peuvent également être utilisés dans le procédé 35 de la présente invention. Par exemple, les prépolymères d'uréthane à terminaison isocyanate comprennent ceux formés par la réaction de 4,4'-diphénylméthane diisocyanate (MDI) et 3037836 39 de polyols tels que le polytétraméthylène glycol (PTMEG) avec des diols éventuels tels que le 1,4-butanediol (BDO) sont acceptables. Lorsque ces prépolymères d'uréthane à terminaison isocyanate sont utilisés, la concentration en groupes 5 isocyanate n'ayant pas réagi (NCO) est de préférence de 4 à 10 % en poids (de manière davantage préférée, de 4 à 8 % en poids, de manière préférée entre toutes, de 5 à 7 % en poids). Les exemples de prépolymères d'uréthane à terminaison isocyanate disponibles dans le commerce dans cette catégorie 10 comprennent les prépolymères Imuthane® (disponibles auprès de COIM USA, Inc. tels que 27-85A, 27-90A, 27-95A) ; les prépolymères Andur® (disponibles auprès d'Anderson Development Company, tels que IE75AP, IE80AP, IE85AP, IE90AP, IE95AP, IE98AP) ; les prépolymères Vibrathane® (disponibles auprès de 15 Chemtura, tels que B625, B635, B821) ; les prépolymères modifiés Isonate (disponibles auprès de The Dow Chemical Company, tels que Isonate! 240 avec 18,7 % de NCO, Isonate® 181 avec 23 % de NCO, Isonate® 143L avec 29,2 % de NCO) ; et le MDI polymère (disponibles auprès de The Dow Chemical Company, 20 tel que PAPI' 20, 27, 94, 95, 580N, 901). De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté iso (I) est introduit dans la chambre cylindrique interne (65) par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) à une pression de 25 charge de côté (I) de 6 895 à 27 600 kPa. De manière davantage préférée, le composant liquide de côté iso (I) est introduit dans la chambre cylindrique interne (65) par le au moins un orifice d'alimentation liquide de côté (I) (80) à une pression de côté de charge (I) de 8 000 à 20 000 kPa. De manière 30 préférée entre toutes, le composant liquide de côté iso de (I) est introduit dans la chambre cylindrique interne (65) par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) (80) à une pression de charge de côté (I) de 10 000 à 17 000 kPa. De préférence, dans le procédé de la présente invention, 35 au moins l'un du composant liquide de côté poly (P) et du composant liquide de côté iso (I) peut contenir éventuellement des matériaux liquides supplémentaires. Par exemple, au moins 3037836 40 un composant parmi le composant liquide de côté poly (P) et le composant liquide de côté iso (I) peut contenir des matériaux liquides choisis dans le groupe constitué d'agents moussants (par ex., agents moussant de type carbamate tels que le 5 produit d'addition CO2/amine aliphatique SpecflexTM NR 556 CO2/adduit disponibles auprès de The Dow Chemical Company) ; de catalyseurs (par ex., catalyseurs de type amines tertiaires tels que le catalyseur Dabco® 33LV disponibles auprès d'Air Products, Inc. ; et le catalyseur étain tel que Fomrez tin 10 catalyst de Momentive) ; et de tensioactifs (par ex., tensioactif silicone Tegostab® d'Evonik). De préférence, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté poly (P) contient un matériau liquide supplémentaire. De manière davantage préférée, dans le procédé de la présente 15 invention, le composant liquide poly de côté (P) contient un matériau liquide supplémentaire ; où le matériau liquide supplémentaire est au moins l'un parmi un catalyseur et un tensioactif. De manière préférée entre toutes, dans le procédé de la présente invention, le composant liquide de côté poly 20 (P) contient un catalyseur et un tensioactif. De préférence, dans le procédé de la présente invention, le gaz pressurisé utilisé est choisi dans le groupe constitué de dioxyde de carbone, d'azote, d'air et d'argon. De manière davantage préférée, le gaz pressurisé utilisé est choisi dans 25 le groupe constitué de dioxyde de carbone, d'azote et d'air. De manière encore davantage préférée, le gaz pressurisé utilisé est choisi dans le groupe constitué d'azote et d'air. De manière préférée entre toutes, le gaz pressurisé utilisé est l'air. 30 De préférence, dans le procédé de la présente invention, le gaz pressurisé utilisé a une teneur en eau de 10 ppm. De manière davantage préférée, le gaz pressurisé utilisé a une teneur en eau de la profondeur moyenne de la pluralité de cavités périodiques, Davg. De préférence, la au moins une rainure (105) forme un motif de rainure qui comprend au moins deux rainures (105) ayant une combinaison d'une profondeur moyenne de rainure, Gdep th-avg / 20 choisie parmi 0,25 mm(10 mils), 0,38 mm (15 mils) et 0,38 à 3,81 mm (15 à 150 mils) ; une largeur choisie parmi 0,25 mm (10 mils) et 0,25 à 2,5 mm (10 à 100 mils) ; et un espacement choisi parmi 0,76 mm (30 mils), 41,27 mm (50 mils), 1,27 à 5,10 mm (50 à 200 mils), 1,78 à 5,10 mm (70 à 25 200 mils) et 2,29 à 5,10 mm (90 à 200 mils). De préférence, la au moins une rainure (105) est choisie parmi (a) au moins deux rainures concentriques ; (b) au moins une rainure spiralée ; (c) un motif à rainures croisées ; et (d) une combinaison de ceux-ci. (Voir Figures 12, 13a et 13b). 30 De préférence, la couche de polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique (90) préparée selon le procédé de la présente invention a une épaisseur moyenne de couche de polissage, Tp_avg, de 0,51 à 3,81 mm (20 à 150 mils). De manière davantage préférée, la couche de polissage composite de tampon 35 de polissage mécano-chimique (90) préparée selon le procédé de la présente invention a une épaisseur moyenne de la couche de polissage, Tp_avg, de 0,76 à 3,17 mm (30 à 125 mils) (de manière 3037836 49 encore davantage préférée, de 1,00 à 3,05 mm (40 à 120 mils) ; de manière préférée entre toutes, de 1,27 à 2,50 mm (50 à 100 mils)). (Voir Figure 3). De préférence, dans le procédé de la présente invention, 5 la fourniture du premier composant de la couche de polissage comprend en outre : la fourniture d'un moule (10) ayant un fond (12) et une paroi périphérique (15), le fond (12) et la paroi périphérique (15) définissant une cavité de moule (20) ; la fourniture d'un prépolymère d'uréthane à terminaison 10 isocyanate de première phase continue ayant 8 à 12 % en poids de groupes NCO n'ayant pas réagi, d'un agent de durcissement de première phase continue et éventuellement, d'une pluralité de matériaux polymérique à noyau creux ; le mélange du prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate de première 15 phase continue et de l'agent de durcissement de première phase continue pour former un mélange ; le versement du mélange dans la cavité de moule (20) ; la solidification du mélange en un gâteau de la première phase polymérique non fugitive continue ; l'obtention d'une feuille à partir du gâteau (de 20 préférence, l'obtention d'une pluralité de feuilles du gâteau) ; la formation de la pluralité de cavités périodiques dans la feuille pour fournir le premier composant de la couche de polissage (de préférence, la formation de la pluralité de cavités périodiques dans la pluralité de feuilles pour fournir 25 une pluralité des premiers composants de la couche de polissage). De manière davantage préférée, la pluralité de matériaux polymériques à noyau creux est incorporée dans la première phase polymérique non fugitive continue à 1 à 58 % en poids. (Voir Figure 1). 30 De préférence, dans le procédé de la présente invention, la cavité de moule (20) a un axe central, Caris, (22) qui coïncide avec l'axe z et qui croise la frontière interne horizontale (14) du fond (12) du moule (10) en un point central (21). De préférence, le point central (21) est situé 35 au centre géométrique de la section transversale, Cx-sectr (24) de la cavité du moule (20) projetée sur le plan x-y (28). (Voir Figure 1). 3037836 De préférence, la section transversale de la cavité, Cx_ sect I (24) projetée sur le plan x-y (28) peut être de toute forme bidimensionnelle régulière ou irrégulière. De préférence, la section transversale de la cavité du moule, Cx_ 5 sect (24) est choisie parmi un polygone et une ellipse. De manière davantage préférée, la section transversale de la cavité du moule, Cx-secti (24) est une section transversale sensiblement circulaire ayant un rayon moyen, r, (de préférence, où rc est de 20 à 100 cm ; de manière davantage 10 préférée, où rc est de 25 à 65 cm ; de manière préférée entre toutes, où rc est de 40 à 60 cm). De manière préférée entre toutes, la cavité du moule (20) se rapproche d'une région ayant la forme d'un cylindre droit ayant une section transversale sensiblement circulaire, Cx-sect ; où la cavité de 15 moule a un axe de symétrie, Cx-s, (25) qui coïncide avec l'axe central de la cavité de moule, Caxis, (22) ; dans laquelle la région de forme cylindrique droit a une surface de section transversale, Cx-areai définie comme suit : Cx-area = nrc2 I 20 où rc est le rayon moyen de la surface de section transversale de la cavité du moule, Cx-areaf projetée sur le plan x-y (28) ; et où re est de 20 à 100 cm (de manière davantage préférée, de 25 à 65 cm ; de manière préférée entre toutes, de 40 à 60 cm). (Voir Figure 1). 25 De préférence, la couche de polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique préparée selon le procédé de la présente invention peut être amenée à former une interface avec au moins une couche supplémentaire pour former un tampon de polissage mécano-chimique. De préférence, la couche de 30 polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique préparée selon le procédé de la présente invention est amenée à former une interface avec un sous-tampon (220) en utilisant un adhésif d'empilement (210). De préférence, le sous-tampon (220) est constitué d'un matériau choisi dans le groupe 35 constitué d'une mousse à alvéoles ouverts, d'une mousse à alvéoles fermés, d'un matériau tissé, d'un matériau non tissé (par ex., matériau feutré, filé-lié ou aiguilleté), et leurs 3037836 51 combinaisons. L'homme du métier moyen saura choisir un matériau de construction et une épaisseur de sous-tampon, Ts, appropriés, pour leur utilisation en tant que sous-tampon (220). De préférence, le sous-tampon a une épaisseur moyenne 5 de sous-tampon (220) , Ts_svg, de 0,38 (15 mils) (de manière davantage préférée, de 0,76 à 2,54 mm (30 à 100 mils) ; de manière préférée entre toutes, de 0,76 à 1,90 mm (30 à 75 mils). (Voir Figure 11). L'homme du métier moyen saura comment choisir un adhésif 10 d'empilement approprié pour son utilisation dans le tampon de polissage mécano-chimique. De préférence, l'adhésif d'empilement est un adhésif thermofusible. De manière davantage préférée, l'adhésif d'empilement est un adhésif thermofusible réactif. De manière encore davantage préférée, 15 l'adhésif thermofusible est un adhésif thermofusible réactif durci qui présente une température de fusion dans son état non durci de 50 à 150 °C, de préférence de 115 à 135 °C et présente un délai d'utilisation 5 90 minutes après la fusion. De manière préférée entre toutes, l'adhésif thermofusible 20 réactif dans son état non durci comprend une résine polyuréthane (par ex., Mor-Melt' R5003 disponible auprès de The Dow Chemical Company). De préférence, le tampon de polissage mécano-chimique de la présente invention est adapté pour être amené à former une 25 interface avec une platine d'une machine de polissage. De préférence, le tampon de polissage mécano-chimique est adapté pour être fixé au plateau d'une machine de polissage. De manière davantage préférée, le tampon de polissage mécano-chimique peut être fixé au plateau en utilisant au moins l'un 30 parmi un adhésif sensible à la pression et un vide. De préférence, le tampon mécano-chimique (200) comprend un adhésif de plateau sensible à la pression (230) appliqué au sous-tampon (220). L'homme du métier moyen saura comment choisir un adhésif sensible à la pression approprié pour son 35 utilisation comme adhésif de plateau sensible à la pression. De préférence, le tampon de polissage mécano-chimique comprendra également une couche de séparation (240) appliquée 3037836 52 sur l'adhésif de plateau sensible à la pression(230), l'adhésif de plateau sensible à la pression(230) étant interposé entre le sous-tampon (220) et la couche de séparation (240). (Voir Figure 11). 5 Une étape importante des opérations de polissage de substrat est la détermination d'un point final du procédé. Un procédé classique in situ pour la détection d'un point final consiste à doter un tampon de polissage d'une fenêtre qui est transparente pour des longueurs d'ondes de lumière choisies. 10 Pendant le polissage, un faisceau lumineux est dirigé au travers de la fenêtre à la surface de la galette où il se reflète et repasse au travers de la fenêtre jusqu'à un détecteur (par ex., un spectrophotomètre). Sur la base du signal de retour, les propriétés de la surface du substrat 15 (par ex., l'épaisseur des films sur celui-ci) peuvent être déterminées pour la détection du point final. Pour faciliter ces procédés de détection du point final basés sur la lumière, le tampon de polissage mécano-chimique (200) de la présente invention, comprend en outre éventuellement une fenêtre de 20 détection de point final (270). De préférence, la fenêtre de détection de point final est choisie à partir d'une fenêtre intégrée incorporée dans la couche de polissage composite ; et un bloc de fenêtre de détection de point finalmis en place incorporé dans le tampon de polissage mécano-chimique. L'homme 25 du métier moyen saura choisir un matériau de construction approprié pour la fenêtre de détection de point final pour son utilisation dans le procédé de polissage prévu. (Voir Figure 14) Des modes de réalisation de la présente invention seront 30 à présent décrits en détail dans les exemples suivants. Exemples 1 à 3 : tampons de polissage mécano-chimique Des tampons de polissage en polyuréthane du commerce ont été utilisés comme première phase non fugitive continue dans 35 les tampons de polissage mécano-chimiques préparés selon chacun des exemples 1 à 3. En particulier, dans l'exemple 1, un tampon de polissage en polyuréthane IC1000TM du commerce 3037836 53 présentant une pluralité de cavités périodiques circulaires concentriques ayant une profondeur moyenne de cavité, Davg, de 0,76 mm (30 mils), une largeur de 1,52 mm (60 mils) et un espacement de 3,05 mm (120 mils) a été fourni en tant que 5 première phase polymérique non fugitive continue. Dans l'exemple 2, un tampon de polissage polyuréthane du commerce VP5000TM présentant une pluralité de cavités circulaires concentriques ayant une profondeur moyenne de cavité, Davg, de 0,76 mm (30 mils), une largeur de 0,89 mm (35 mils) et un 10 espacement de 1,78 mm (70 mils) a été fourni en tant que première phase polymérique non fugitive continue. Dans l'exemple 3, un tampon de polissage en polyuréthane VP5000TM présentant une pluralité de cavités circulaires concentriques ayant une profondeur de cavité moyenne, Davg, de 0,76 mm (30 15 mils), une largeur de 1,52 mm (60 mils) et un espacement de 3,05 mm (120 mils) a été fourni en tant que première phase polymérique non fugitive continue. Un composant liquide de côté poly (P) a été fourni, contenant : 77,62 % en poids de polyéther polyol de haut poids 20 moléculaire (Voralux'e HF 505 polyol disponible auprès de The Dow Chemical Company) ; 21,0 % en poids de monoéthylène glycol ; 1,23 % en poids d'un tensioactif à base de silicone (tensioactif Tegostab B8418 disponibles auprès d'Evonik) 0,05 % en poids d'un catalyseur à base d'étain (Fomrez UL-28 25 disponible auprès de Momentive) ; et 0,10 % en poids d'un catalyseur à base d'amine tertiaire (Dabco 33LV catalyst disponible auprès d'Air Products, Inc.). Un matériau liquide supplémentaire (produit d'addition CO2/amine aliphatique SpecflexTM NR 556 disponible auprès de The Dow Chemical 30 Company) a été ajouté au composant liquide de côté poly (P) à raison de 4 parties pour 100 parties en poids de composant liquide de côté poly (P). Un composant liquide de côté iso (I) a été fourni, contenant : 100 % en poids d'un diphénylméthane diisocyanate modifié (prépolymère de MDI IsonateTM 181 35 disponible auprès de The Dow Chemical Company.) Un gaz pressurisé (air sec) a été fourni. 3037836 54 Une deuxième phase polymérique non fugitive a ensuite été fournie dans la pluralité des cavités circulaires concentriques de chacun des matériaux de première phase polymérique non fugitif continu en utilisant un dispositif de 5 mélange axial (MicroLine 45 CSM dispositif de mélange axial disponible auprès d'Hennecke GmbH) ayant un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) , un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) et quatre orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel. Le composant 10 liquide de côté poly (P) et le composant liquide de côté iso (I) ont été chargés dans le dispositif de mélange axial par leurs orifices d'alimentation respectifs avec une pression de charge de côté (P) de 12 500 kPa, une pression de charge de côté (I) de 17 200 kPa et à un rapport en poids de (I)/(P) de 15 1,564 (en donnant un rapport stoechiométrique de groupes hydrogène réactifs aux groupes NCO de 0,95). Le gaz pressurisé a été chargé par les orifices d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel avec une pression d'alimentation de 830 kPa pour donner un rapport des débits massiques des composants liquides 20 combinés au gaz dans le dispositif de mélange axial de 3,8 à 1 pour former une combinaison. La combinaison a ensuite été évacuée du dispositif de mélange axial en direction de chacune des premières phases polymériques non fugitives continues notées à une vitesse de 254 m/s pour remplir la pluralité des 25 cavités et former des structures composites. Les structures composites ont été mises à durcir pendant 16 heures à 100 °C. Les structures composites ont ensuite été usinées sur un tour pour donner des tampons de polissage mécano-chimique des exemples 1 à 3. Les surfaces de polissage de chacun des 30 tampons de polissage mécano-chimique des exemples 1 à 3, ont ensuite été rainurées pour donner un motif de rainures X-Y ayant une largeur de rainure de 1,78 mm (70 mils), une profondeur de rainure de 0,81 mm (32 mils) et un espacement de 14,73 mm (580 mils). 35 Porosité ouverts 3037836 La porosité des cellules ouvertes des couches de polissage du tampon de polissage du commerce l'IC1000TM et des couches de polissage du tampon de polissage du VP5000TM est indiquée comme étant 10 % en vol. Exemples comparatifs PC1-PC2 et exemples P1-P3 10 Expériences sur la vitesse de retrait du polissage mécano-chimique Des tests de vitesse de retrait par polissage du dioxyde de silicium ont été réalisés avec les tampons de polissage mécano-chimique préparés selon chacun des exemples 1 à 3 et 15 comparés avec ceux obtenus dans les Exemples comparatifs PCi à PC2 en utilisant un tampon de polissage en polyuréthane IC1000TM et un VP5000TM (tous deux disponibles dans le commerce auprès de Rohm and Haas Electronic Materials CMP Inc.) et chacun ayant le même motif de rainure X-Y noté dans les 20 Exemples. Spécifiquement, la vitesse de retrait du dioxyde de silicium pour chacun des tampons de polissage est présenté dans le TABLEAU 3. Les expériences de la vitesse de retrait par polissage ont été réalisées sur des galettes en feuille de TEOS S15KTEN de couverture de 200 mm de Novellus Systems, Inc. 25 Un appareil de polissage de 200 mm Mirra® Applied Materials a été utilisé. Toutes les expériences de polissage ont été réalisées avec une force d'appui de 8,3 kPa (1,2 psi), un débit de suspension de 200 ml/min (suspension ACuPlaneTM 5105 disponible auprès de Rohm and Haas Electronic Materials CMP 30 Inc.), une vitesse de rotation de table de 93 t/m et une vitesse de rotation de support de 87 t/m. Un conditionneur à tampon diamanté Saesol 8031C (disponible dans le commerce auprès de Saesol Diamond Ind. Co., Ltd.) a été utilisé pour conditionner les tampons de polissage. Les tampons de 35 polissage ont chacun été rodés avec le conditionneur en utilisant une force d'appui de 31,1 N pendant 10 minutes. Les tampons de polissage ont été encore conditionnés à 50 % in 3037836 56 situ pendant le polissage à raison de 10 balayages/min de 1,7 à 9,2 depuis le centre du tampon de polissage avec une force d'appui de 31,1 N. Les taux de retrait ont été déterminés par la mesure de l'épaisseur du film avant et après le polissage 5 en utilisant un outil de métrologie KLA-Tencor FX200 appliquant un balayage en spiral de 49 points avec une exclusion de bord de 3 mm. Chacune des expériences de vitesse de retrait a été réalisée trois fois. La vitesse moyenne de retrait pour les expériences sur la vitesse de retrait en 10 triple pour chacun des tampons de polissage est présentée dans le TABLEAU 3. TABLEAU 3 Ex # Tampon de polissage Taux de retrait TEOS (kmin) mécano-chimique PC1 IC1000TM pad 321 PC2 VP5000TM pad 199 P1 Ex. 1 (1521A) 426 P2 Ex. 2 (1521B) 355 P3 Ex. 3 (1521C) 304 15 REVENDICATIONS1. Procédé de formation d'une couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique, 5 comprenant : la fourniture d'un premier composant de couche de polissage de la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ; où le premier composant de couche de polissage a un côté 10 de polissage, une surface de base, une pluralité de cavités périodiques et une épaisseur moyenne du premier composant, T1_ avg f mesurée perpendiculairement par rapport au côté de polissage depuis la surface de base jusqu'au côté de polissage ; 15 où le premier composant de couche de polissage comprend une première phase polymérique non fugitive continue ; où la pluralité des cavités périodiques a une profondeur de cavité moyenne, D aVg , mesurée perpendiculairement par rapport au côté de polissage depuis le côté de polissage en 20 direction de la surface de base, où la profondeur moyenne de cavité, Dag, est inférieure à l'épaisseur moyenne du premier composant, Ti-avg; où la première phase polymérique non fugitive continue est un produit réactionnel d'un prépolymère 25 d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue ayant 8 à 12 % en poids de groupes NCO n'ayant pas réagi et d'un agent de durcissement de première phase continue ; la fourniture d'un composant liquide de côté poly (P), comprenant au moins l'un parmi un polyol de côté (P), une 30 polyamine de côté (P) et une alcool amine de côté (P) ; la fourniture d'un composant liquide de côté iso (I), comprenant au moins un isocyanate polyfonctionnel ; la fourniture d'un gaz pressurisé ; la fourniture d'un dispositif de mélange axial ayant une 35 chambre cylindrique interne ; où la chambre cylindrique interne a une extrémité fermée, une extrémité ouverte, un axe de symétrie, au moins un orifice 3037836 58 d'alimentation en liquide de côté (P) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne, et au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel qui s'ouvre dans la chambre cylindrique interne où l'extrémité fermée et l'extrémité ouverte sont perpendiculaires à l'axe de symétrie où le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) de côté chambre fermée ; où et le au moins un orifice d'alimentation en liquide (I) sont disposés suivant une circonférence de la cylindrique interne à proximité de l'extrémité le au moins un orifice d'alimentation en gaz pressurisé tangentiel est disposé suivant une circonférence de la chambre cylindrique interne en aval du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) et du au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) depuis l'extrémité fermée ; où le composant liquide de côté poly (P) est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (P) à une pression de charge de côté (P) de 6 895 à 27 600 kPa ; où le composant liquide de côté iso (I) est introduit 25 dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation en liquide de côté (I) à une pression de charge de côté (I) de 6 895 à 27 600 kPa ; où un débit de masse combiné du composant liquide de côté poly (P) et du composant liquide de côté iso (I) dans la 30 chambre cylindrique interne est de 1 à 500 g/s ; où le composant liquide de côté poly (P), le composant liquide de côté iso (I) et le gaz pressurisé sont mélangés dans la chambre cylindrique interne pour former une combinaison 35 où le gaz pressurisé est introduit dans la chambre cylindrique interne par le au moins un orifice d'alimentation 3037836 59 en gaz pressurisé tangentiel avec une pression d'alimentation de 150 à 1 500 kPa ; où une vitesse d'entrée dans la chambre cylindrique interne de gaz pressurisé est de 50 à 600 m/s calculée sur la 5 base de conditions de gaz parfait à 20 °C et à une pression de 1 atm ; l'évacuation de la combinaison de l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne en direction du côté de polissage du premier composant de couche de polissage à une vitesse de 5 à 1 000 m/s, le remplissage de la pluralité de cavités périodiques avec la combinaison, la solidification de la combinaison en tant que deuxième composant de couche de polissage dans la pluralité de cavités périodiques pour former une structure composite ; où le 15 deuxième composant de couche de polissage est une deuxième phase polymérique non fugitive ; et, l'obtention d'une couche de polissage composite de tampon de polissage mécano-chimique à partir de la structure composite, où la couche de polissage composite de tampon de 20 polissage mécano-chimique a une surface de polissage sur le côté de polissage du premier composant de couche de polissage et où la surface de polissage est adaptée pour le polissage d'un substrat. 2. Procédé selon la revendication 1, comprenant en outre : l'usinage de la structure composite pour obtenir la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ; où la couche de polissage composite d'un tampon de polissage mécano-chimique ainsi obtenue a une épaisseur moyenne de couche de polissage composite, Tp_avg, mesurée perpendiculairement par rapport à la surface de polissage depuis la surface de base jusqu'à la surface de polissage ; où l'épaisseur moyenne du premier composant, T - 1-avg égale l'épaisseur moyenne de la couche de polissage composite, Tp_ avg ; 3037836 60 où la deuxième phase polymérique non fugitive occupant la pluralité des cavités périodiques a une hauteur moyenne, Havg, mesurée perpendiculairement par rapport à la surface de polissage depuis la surface de base en direction de la surface 5 de polissage ; et, où une valeur absolue d'une différence, AS, entre l'épaisseur moyenne de couche de polissage composite, Tp_avg, et la hauteur moyenne, Havg, est 0,5 pm. 10 3. Procédé selon la revendication 2, comprenant en outre : la formation d'au moins une rainure dans la surface de polissage. 15 4. Procédé selon la revendication 1, où la fourniture du premier composant de couche de polissage comprend en outre : la fourniture d'un moule ayant un fond et une paroi périphérique, où le fond et la paroi périphérique définissant une cavité de moule ; 20 la fourniture d'un prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue ayant 8 à 12 % en poids de groupes NCO n'ayant pas réagi, de l'agent de durcissement de première phase continue et éventuellement, d'une pluralité de matériaux polymériques à noyau creux ; 25 le mélange du prépolymère d'uréthane à terminaison isocyanate de première phase continue et de l'agent de durcissement de première phase continue pour former un mélange ; le versement du mélange dans la cavité de moule ; 30 la solidification du mélange en un gâteau de la première phase polymérique non fugitive continue ; l'obtention d'une feuille à partir du gâteau ; la formation de la pluralité of cavités périodiques dans la feuille pour donner le premier composant de couche de 35 polissage. 3037836 61 5. Procédé selon la revendication 4, où la pluralité de matériaux polymériques à noyau creux est incorporée dans la première phase polymérique non fugitive continue à 1 à 58 % en vol. 5 6. Procédé selon la revendication 1, où le composant liquide de côté poly (P) comprend 25 à 95 % en poids d'un polyol de côté (P) ; où le polyol de côté (P) est un polyéther polyol de haut poids moléculaire ; où le polyéther polyol de 10 haut poids moléculaire a un poids moléculaire moyen en nombre, MN, de 2 500 à 100 000 et une moyenne de 4 à 8 groupes hydroxyle par molécule. 7. Procédé selon la revendication 1, où le composant 15 liquide de côté iso (I) comprend un isocyanate polyfonctionnel ayant une moyenne de deux groupes isocyanate réactifs par molécule. 8. Procédé selon la revendication 1, où le gaz 20 pressurisé est choisi dans le groupe constitué de CO2, N2, air et argon. 9. Procédé selon la revendication 1, où la chambre cylindrique interne a une section transversale circulaire dans 25 un plan perpendiculaire à l'axe de symétrie de la chambre cylindrique interne ; où l'extrémité ouverte de la chambre cylindrique interne a une ouverture circulaire perpendiculaire à l'axe de symétrie de la chambre cylindrique interne ; où l'ouverture circulaire est concentrique avec la section 30 transversale circulaire ; et où l'ouverture circulaire a un diamètre interne de 2,5 à 6 mm. 10. Procédé selon la revendication 1, où la surface de polissage est adaptée pour polir une galette de semi35 conducteur.