FR 3035975 A1 20161111 FR 1554108 A 20150507 MODULATEUR SPATIAL DE LUMIERE A CRISTAL LIQUIDE ET SON PROCEDE DE FABRICATION L'invention porte sur un modulateur spatial de lumière à cristal liquide et sur son procédé de fabrication. Elle permet notamment, mais pas uniquement, la réalisation de modulateur spatiaux de lumière transmissif de petites dimensions (quelques millimètres de côté) pouvant être intégrés à des systèmes optiques pour des applications d'optique adaptative, afin d'obtenir à la fois un grand champ, une haute résolution et un faible encombrement. Le terme « modulateur spatial de lumière » (ou « SLM », de 10 l'anglais « Spatial Light Modulator ») désigne tout dispositif susceptible de moduler spatialement l'amplitude, la phase et/ou l'état de polarisation de la lumière incidente ; les afficheurs, par exemple, peuvent être considérés comme des SLM agissant sur l'amplitude. L'invention se prête particulièrement à la réalisation de modulateurs spatiaux de phase 15 fonctionnant en transmission. Un SLM à cristal liquide comprend habituellement une matrice de lignes et colonnes de pixels à cristal liquide, comportant chacun un volume rempli de cristal liquide, une électrode de pixel qui reçoit une tension correspondant à une information de modulation et une contre-électrode qui 20 définit un potentiel de référence, commun à tous les pixels. La tension appliquée entre l'électrode de pixel et la contre-électrode produit un champ électrique qui oriente les molécules du cristal liquide. Ces molécules étant optiquement anisotropes, leur orientation affecte la phase et/ou l'état de polarisation de la lumière incidente ; dans le cas des afficheurs (SLM 25 d'amplitude), un film polarisant transforme une modulation d'état de polarisation induite par le cristal liquide en modulation d'amplitude. La figure 1 montre une vue en coupe d'un pixel d'un SLM à cristal liquide conventionnel. L'électrode de pixel Ep, de forme planaire, est réalisée à la surface d'un substrat SUB ; elle définit la forme de la du pixel, qui 30 n'est pas délimité par des parois latérales ; l'application d'une tension à l'électrode Ep s'effectue par l'intermédiaire d'un transistor à couche mince Q. La contre-électrode CE, réalisée en matériau conducteur transparent tel que 3035975 l'oxyde d'indium et étain (ITO), est formée à la surface d'une dalle transparente, parallèle au substrat et séparée de ce dernier par des espaceurs (non représentés) ; la distance Ep - CE est typiquement de quelques micromètres. Un cristal liquide LC remplit l'espace entre le substrat et la plaque transparente portant la contre-électrode. Au repos, en l'absence de champ électrique, les molécules formant le cristal liquide sont orientées avec leur axe principal presque parallèle aux plans des électrodes. Plus exactement, cet axe forme un petit angle, dit de « tilt », avec ces plans afin de faciliter leur rotation dans une direction déterminée lors de l'application du 10 champ électrique ; cela est obtenu en déposant sur les électrodes un film polymère traité par frottement (cas le plus fréquent) ou par insolation UV polarisée, ou bien déposé par évaporation oblique. L'application d'une différence de potentiel entre les électrodes engendre un champ électrique E orienté selon une direction verticale (perpendiculaire aux plans des 15 électrodes), qui provoque une rotation des molécules du cristal liquide. Si le champ E est suffisamment intense, les molécules prennent une orientation sensiblement verticale ; s'il est plus faible, elles prennent une orientation intermédiaire. Il est connu (F Templier et al. « Development of 5 pm-Pixel 20 Pitch Active- Matrix for Transmissive LCD Picoprojector», Leti Annual Research Report 2012 - Optics and photonics, page 34) de réaliser des SLM du type représenté sur la figure 1 à partir d'un substrat SOI (« Silicon On Insulator », c'est-à-dire silicium sur isolant), comprenant un substrat massif - « bulk » en anglais - de silicium, une couche enterrée de SiO2 et une couche 25 épitaxiale de silicium déposée au-dessus de cette couche enterrée. Les électrodes Ep et les transistors Q sont déposés sur ce substrat, puis recouverts d'une couche de SiO2 qui est ensuite planarisée par planarisation mécano-chimique (CMP, de l'anglais « Chemical-Mechanical Planarization »). Une dalle de verre - destinée à former le « substrat » SUB du modulateur - 30 est collée à cette couche de Si02 planarisée par adhésion moléculaire directe (sans apport de matière), puis le silicium massif du substrat SOI est enlevé par abrasion. Une étape de photolithographie permet la reprise des contacts à 3035975 3 travers la couche de Si02 « enterrée » - qui est désormais exposée. Toutefois, le collage du substrat SOI à la dalle de verre induit l'apparition de contraintes mécaniques qui déforment la matrice d'électrodes Ep et transistors Q. Dans le cas de dispositifs très miniaturisés, ces déformations rendent délicate cette étape de reprise des contacts. La figure 2A montre une vue en plan d'un pixel à cristal liquide d'un SLM présentant une structure alternative dite IPS, de l'anglais « In Plane Switching », c'est-à-dire « commutation dans le plan » (voir par exemple le document FR 2976707). Dans une telle structure aussi bien les électrodes de 10 pixel Ep que les contre-électrodes CE sont agencées à la surface d'un substrat qui, comme dans le cas précédent, peut être une dalle sur laquelle est rapportée une structure réalisée à partir d'un substrat de fabrication en SOI. Le champ électrique E est donc horizontal, c'est à dire parallèle au plan dudit substrat, et induit une rotation dans un plan horizontal des molécules du 15 cristal liquide LC qui se trouvent au-dessus du substrat. Sur la figure 2, les références L,, 14+1, Ci, Ci÷i désignent les conducteurs de ligne et de colonne connectés, respectivement, aux grilles et aux drains des transistors Q. Les conducteurs de ligne sont superposés aux contre-électrodes, mais sans contact électrique. Dans le cas des SLM de type IPS, toutes les électrodes, 20 les transistors et les conducteurs d'adressage Li, Ci sont réalisés sur un même substrat de fabrication ; il n'est donc pas nécessaire de réaliser une étape de lithographie après transfert de la structure du substrat de fabrication à une dalle de verre. Ainsi, la technologie IPS s'avère particulièrement bien adaptée à la réalisation de pixels très petits (quelques micromètres de côtés, au lieu 25 d'environ 100 micromètres comme dans le cas des afficheurs à cristal liquide conventionnels). D'ailleurs les petites dimensions latérales des pixels permettent d'obtenir un champ électrique suffisamment intense sans devoir appliquer une différence de potentiel trop importante aux électrodes, ou sans avoir à prévoir des électrodes interdigitées. 30 La technologie IPS présuppose une orientation horizontale des molécules du cristal liquide. Une telle orientation est avantageuse pour la réalisation d'afficheurs à vision directe (écrans de téléviseur ou d'ordinateur, 3035975 par exemple) à large angle de vue sans besoin d'utiliser des films de compensation, nécessaires dans les écrans exploitant un basculement horizontal - vertical des molécules. Cependant, elle ne convient pas à la réalisation de modulateurs de phase car la rotation de molécules dans le plan s'accompagne d'une torsion du cristal liquide. En effet seules les molécules qui se trouvent à mi-hauteur, entre la dalle portant les électrodes et la dalle supérieure qui ferme la structure, peuvent tourner librement sous l'influence du champ électrique E ; les molécules les plus proches des deux dalles maintiennent une orientation fixe. Ainsi, après application d'une différence de potentiel entre les électrodes Ep et CE, les molécules du cristal liquide LC prennent en réalité une configuration en hélice, comme le montre la vue en coupe de la figure 2B, où les références D1 et D2 désignent les deux dalles confinant le cristal liquide dans une direction verticale. Cela n'est pas gênant si l'on cherche à obtenir une rotation de la polarisation de la lumière traversant le cristal liquide, comme dans le cas des afficheurs en technologie IPS ; mais une telle configuration n'est pas adaptée à la réalisation d'un modulateur de phase, où l'on souhaite que le cristal liquide se comporte comme un matériau biréfringent aussi homogène que possible, présentant un axe optique principal dont l'orientation est contrôlée par l'application d'un champ électrique. L'invention vise à remédier aux inconvénients précités de l'art antérieur. Plus particulièrement elle vise à procurer une nouvelle structure de modulateur spatial de lumière permettant une modulation de phase et convenant à la réalisation de pixels de très petites dimensions latérales. Conformément à l'invention, un tel but est atteint par un modulateur spatial de lumière à cristal liquide comprenant une matrice de pixels à cristal liquide délimités, dans une direction dite verticale, par une première et une seconde dalles transparentes parallèles l'une à l'autre et espacées dans ladite direction verticale, chaque dit pixel comprenant une première électrode, dite électrode de pixel, et une deuxième électrode, dite contre-électrode, et contenant un cristal liquide, caractérisé en ce que l'électrode de pixel et la contre-électrode de chaque pixel sont agencées en 3035975 5 face à face à des extrémités opposées du pixel, espacées aussi bien de la première que de la seconde dalle dans ladite direction verticale. Selon des modes de réalisation avantageux d'un tel modulateur spatial de lumière : 5 - L'électrode de pixel et la contre-électrode de chaque pixel peuvent être situées à une position intermédiaire entre les interfaces de chaque dite dalle avec le cristal liquide, à une distance de chaque dite interface comprise entre 25% et 75% de l'espacement entre les deux interfaces. 10 - Les molécules dudit cristal liquide peuvent avoir une orientation naturelle de repos non parallèle aux dalles. Plus particulièrement, elles peuvent avoir une orientation naturelle de repos formant un angle inférieur à 200, et de préférence compris entre 1° et 15°, avec ladite direction verticale. 15 - Lesdits pixels peuvent également être délimités par des parois latérales s'étendant sur au moins une partie de l'espacement entre la première et la seconde dalle, et dans lequel l'électrode de pixel et la contre-électrode de chaque pixel sont portées par deux parois latérales opposées dudit pixel. Plus particulièrement, chaque pixel peut comprendre également 20 un transistor configure pour relier sélectivement ladite électrode de pixel à une ligne conductrice dite d'alimentation, ledit transistor étant agencé à la surface de la paroi latérale portant ladite électrode. Encore plus particulièrement, le modulateur spatial de lumière à cristal liquide peut comprendre une pluralité de dites lignes conductrices d'alimentation reliées aux électrodes de pixel des 25 pixels par des transistors respectifs, une pluralité de lignes conductrices de commande reliées à des grilles desdits transistors et une pluralité de lignes conductrices de référence reliées aux contre-électrodes des pixels, ces lignes conductrices d'alimentation et de commande étant agencées, au moins en partie, au-dessus de parois latérales respectives. 30 - Les pixels à cristal liquide peuvent être organisés par lignes et par colonnes, les électrodes de pixels des pixels d'une même ligne étant reliées à une même ligne conductrice d'alimentation par l'intermédiaire 3035975 6 de transistors respectifs, et les transistors des pixels d'une même colonne ayant des grilles reliées à une même ligne conductrice de commande. - L'espacement entre les deux interfaces entre le cristal liquide et la première et la seconde dalle peut être compris entre 1 et 5 pm. 5 - L'espacement entre l'électrode de pixel et la contre- électrode de chaque pixel peut être compris entre 2 et 15 pm. Un autre objet de l'invention est un pProcédé de fabrication d'un tel modulateur spatial de lumière à cristal liquide, comportant les étapes suivantes : 10 a) sur un substrat de fabrication, déposer un premier matériau formant des blocs agencés en matrice, destinés à former des pixels à cristal liquide, et un second matériau, diélectrique et différent du premier matériau, formant des parois latérales délimitant lesdits blocs ; b) déposer un matériau conducteur sur lesdites parois 15 latérales pour former des paires d'électrodes agencées en face à face aux extrémités de chaque dit bloc destiné à former un pixel à cristal liquide ; c) coller, par adhésion moléculaire, une poignée au-dessus de l'ensemble formé par le premier et le second diélectrique et les électrodes ; d) supprimer le substrat de fabrication ; 20 e) coller par adhésion moléculaire de l'ensemble formé par le premier et le second matériau diélectrique et les électrodes à une première dalle transparente ; f) supprimer la poignée ; g) graver sélectivement le premier matériau en laissant 25 subsister le second matériau de manière à obtenir, à la place des pavés, des cavités formant lesdits pixels à cristal liquide ; et h) agencer une seconde dalle transparente au-dessus de l'ensemble ainsi obtenu, de telle sorte que lesdites électrodes soient espacées aussi bien de la première que de la seconde dalle, remplir d'un 30 cristal liquide le volume compris entre la première et la seconde dalle et sceller l'ensemble ainsi obtenu avec un cordon de scellement. 3035975 7 Ledit substrat de fabrication peut notamment être un substrat d'oxyde sur isolant. D'autres caractéristiques, détails et avantages de l'invention ressortiront à la lecture de la description faite en référence aux dessins annexés, donnés à titre d'exemple, dans lesquels : - Les figures 1, 2A et 2B, décrites plus haut, illustrent l'état de la technique ; - La figure 3 illustre une structure hypothétique de pixel à cristal liquide, non conforme à l'invention et donnée à titre de comparaison ; 10 - La figure 4 illustre la structure d'un pixel à cristal liquide selon un mode de réalisation de l'invention ; - Les figures 5A à 5G illustrent les différentes étapes d'un procédé de fabrication d'un modulateur spatial de lumière selon un mode de réalisation de l'invention ; et 15 - La figure 6 illustre la structure matricielle d'un modulateur spatial de lumière selon un mode de réalisation de l'invention. L'invention préconise l'utilisation de pixels à cristal liquide dans lesquels, comme dans le cas de la technologie IFS, les électrodes de pixel et les contre-électrodes se font face dans une direction horizontale, c'est- 20 à-dire dans un plan parallèle à celui des deux dalles transparentes confinant le cristal liquide. Cependant, afin d'éviter l'effet de torsion en hélice du cristal liquide illustré sur la figure 2B, les molécules de ce dernier sont orientées verticalement dans leur position de repos. En outre, les électrodes ne sont pas agencées sur « le fond » du pixel, comme dans le cas de la structure IFS, 25 mais se trouvent à mi-hauteur entre les deux dalles, ou plus précisément à une position intermédiaire entre les interfaces de chaque dalle avec le cristal liquide (typiquement à une distance de chaque interface comprise entre 25 % et 75%, de préférence entre 40% et 60% et de manière encore préférée entre 45% et 55% de l'espacement entre les deux interfaces cristal liquide - dalle). 30 La figure 3 illustre la configuration qu'on obtiendrait en appliquant une différence de potentiel entre les électrodes Ep et CE d'un pixel IFS modifié pour que l'orientation de repos des molécules du cristal liquide LC 3035975 soit sensiblement verticale (perpendiculaire aux deux dalles Dl, portant les électrodes, et D2). On indique par « z » la direction verticale, par « x » la direction dans laquelle les électrodes se font face et par «y » celle dans laquelle les électrodes s'étendent ; ainsi, les dalles sont parallèles au plan « x5 y ». Les molécules du cristal liquide ont tendance à s'aligner suivant les lignes du champ électrique E ; mais comme elles ne sont pas polaires, elles peuvent prendre deux orientations opposées. On observe ainsi des plans de disclinaison DIS qui séparent des domaines du cristal liquide dans lesquels les molécules basculent dans des sens opposés (si les molécules au repos 10 étaient parfaitement verticales, les plans de disclinaison seraient situés à mi- chemin entre les électrodes Ep et CE ; l'angle dit de « tilt » que les molécules forment avec la verticale dans leur état de repos brise cette symétrie). On constate que l'orientation des molécules - et donc l'indice de réfraction vu par un rayon lumineux se propageant dans la direction verticale « z » - varie le 15 long de la direction inter-électrodes « x » : la modulation de phase ainsi obtenue n'est donc pas homogène d'un point à l'autre du pixel. La figure 4 montre une structure de pixel à cristal liquide selon un mode de réalisation de l'invention, permettant de surmonter cet inconvénient. Dans un tel pixel, les électrodes Ep et CE sont portées par des 20 parois latérales Pi, P2 s'étendant verticalement sur une partie de la distance entre les dalles Dl, D2, de manière à se situer à mi-hauteur entre ces dernières. Dans ces conditions, les plans de disclinaison disparaissent et l'orientation des molécules du cristal liquide devient presque indépendante des coordonnées « x » et « y » (sauf directement au-dessous des parois 25 latérales, mais cela n'a pas d'importance car ces dernières bloquent le passage de la lumière). L'orientation des molécules varie le long de la direction «z », mais cela n'est pas gênant : un rayon de lumière polarisée dans le plan « x-y » verra simplement un indice de réfraction efficace dépendant de l'orientation moyenne des molécules, la moyenne étant 30 calculée selon la direction « z ». On peut dire que, contrairement à l'architecture IPS qui assure une commutation « dans le plan », dans le cas 3035975 9 d'un pixel selon l'invention la commutation s'effectue « dans le volume » du pixel. Les parois latérales P1 et/ou P2 peuvent porter à leur surface les lignes d'adressage L, les transistors Q et, optionnellement, des condensateurs de stockage OS destinés à être connectés en parallèle aux pixels à cristal liquide pour stabiliser la tension à leurs bornes : comme au moins certains de ces éléments sont, de toute façon, indispensables, la présence des parois ne réduit pas significativement la transmission optique du pixel. 10 La structure de la figure 4 peut être obtenue au moyen d'un procédé qui sera décrit à l'aide des figures 5A à 5G. Comme illustré sur la figure 5A, le procédé commence par des opérations de dépôt réalisées sur un substrat de fabrication SE de type SOI, comprenant un substrat massif (« bulk ») de silicium BS, une couche 15 d'oxyde (Si02) enterrée BOX et une couche épitaxiale de silicium ES. Au-dessus de la couche ES on dépose des lignes conductrices d'adressage L, puis un premier et un deuxième matériau 0X1, 0X2 présentant des propriétés chimiques différentes. Le matériau 0X1 forme des blocs ou pavés sacrificiels, qui occupent des volumes qui seront ensuite remplis par le cristal liquide ; le 20 matériau 0X2, qui doit être isolant, forme des parois délimitant latéralement ces pavés. Par exemple, 0X1 peut être de l'oxyde de silicium et 0X2 du nitrure de silicium, ou inversement. Des électrodes Ep, CE sont réalisées par dépôt métallique au-dessus du matériau 0X2, à la limite entre les parois latérales d'un pixel et le bloc de matériau 0X1 occupant provisoirement le 25 volume interne de ce pixel. Les électrodes sont reliées aux lignes conductrices L par des interconnexions verticales, ou « vias ». On peut également déposer, sur les parois latérales en matériau 0X2, des transistors à couche mince reliant les lignes conductrice L aux électrodes Ep (non représentés), ainsi que des condensateurs montés en parallèle auxdites 30 électrodes. Ensuite, une couche diélectrique CP est déposée au-dessus des pavés et des parois latérales et planarisée. La couche CP peut être constituée du matériau 0X1 ; dans ce cas, il peut être avantageux de procéder dans 3035975 10 l'ordre suivant : dépôt des lignes L, dépôt du matériau 0X2 et sa gravure pour réaliser les interconnexions verticales, dépôt des électrodes, dépôt du matériau 0X1 en couche épaisse entre les dépôts d'0X2 et en couche mince au-dessus de ces derniers, planarisation du matériau 0X1. Cela n'est cependant pas essentiel. Ensuite (figure 5B) un substrat en silicium SP destiné à former une « poignée » est collé, par adhésion moléculaire, à la couche planarisée CP. Puis (figure 50) le substrat en silicium BS est abrasé jusqu'à 10 exposer la couche d'oxyde BOX, qui est planarisée pour permettre son collage, également par adhésion moléculaire, à une dalle transparente D1, typiquement en verre (figure 50). De préférence, l'abrasion laisse subsister une épaisseur de silicium de quelques dizaines de micromètres, l'élimination du substrat étant ensuite achevée par attaque chimique jusqu'à la couche 15 d'oxyde BOX. A ce point, on détache la poignée (figure 5E) et on procède à la gravure chimique sélective du matériau 0X1 (et de la couche CP, si elle est réalisée en un autre matériau), en laissant intactes les parois latérales en matériau 0X2 et les électrodes Ep, CE (figure 5F). Par exemple, si le 20 matériau 0X1 est de l'oxyde de silicium (Si02), sa gravure peut être réalisée par CHF3+02. Ensuite une couche mince (épaisseur de l'ordre de 50 nm, par exemple) de polyimide est déposée (par exemple à la tournette) sur la surface de la structure ainsi réalisée, et sur celle de la deuxième dalle transparente 25 D2. Cette couche de polyimide est ensuite traitée, généralement par frottage, pour déterminer l'orientation des molécules de cristal liquide destinées à remplir les pixels ; cela a déjà été mentionné plus haut en référence à l'art antérieur. Puis la deuxième dalle transparente 02 est agencée en face 30 de la première dalle D1 et maintenue à une distance prédéfinie de cette dernière par des espaceurs (billes de silice ou fibres) non représentés, le volume entre les deux dalles est rempli avec le cristal liquide LC et ce volume 3035975 11 est scellé au moyen d'un cordon de scellement CS. Généralement, les espaceurs sont mélangés à la colle formant le cordon de scellement. On remarque que les parois latérales P1, P2 ne séparent que partiellement les différents pixels CL, dont un seul est représenté sur la figure 5G. En raison de 5 la présence de la couche de polyimide traitée, les molécules du cristal liquide s'orientent presque - mais de préférence pas parfaitement perpendiculairement aux dalles D1, D2 ; l'angle de « tilt » formé par l'axe principal de ces molécules et la direction « z» en l'absence de champ électrique est généralement inférieur à 20° et typiquement compris entre 75° 10 et 89° ; il peut par exemple valoir 85°. Un pixel CL selon l'invention présente de préférence des dimensions latérales comprises entre 2 et pm et 15 pm et une hauteur (distance, selon la direction «z », entre les interfaces du cristal liquide avec les dalles D1 et 02) comprise entre 1 pm et 5 pm. La largeur des parois 15 latérales séparant deux pixels est de préférence inférieure ou égale à 1 pm, par exemple comprise entre 500 nm et 1 pm (plus généralement, cette largeur devrait être la plus faible possible, sous réserve des contraintes technologiques, pour minimiser la fraction opaque de la surface de la matrice). On peut, par exemple, prendre des pixels carrés de 5 pm de côté avec une 20 épaisseur de 2,4 pm. La figure 6 représente la structure générale d'un SLM comprenant une matrice de pixels à cristal liquide CL du type de la figure 4. Comme dans la figure 2A, les conducteurs de ligne, dits aussi « de commande, connectées aux grilles des transistors Q des pixels d'une même 25 ligne, sont désignés par L1 à 1_, pour une matrice de n lignes, et les conducteurs de colonne, connectées aux drains des électrodes Ep des pixels d'une même colonne, sont désignés par Ci à C, pour une matrice de m colonnes ; les conducteurs reliant les contre-électrodes à un potentiel de référence ne sont pas représentés pour ne pas surcharger la figure. Un 30 décodeur de ligne DEC adresse successivement les différentes lignes. Un circuit de conversion numérique-analogique DAC applique aux conducteurs de colonne pendant l'adressage d'une ligne, un ensemble de tensions 3035975 12 analogiques représentant la modulation spatiale de phase à réaliser par cette ligne. Le circuit de conversion établit ces tensions analogiques à partir d'un signal numérique. Un circuit de séquencement SEQ assure le fonctionnement synchronisé du décodeur de ligne et du circuit de conversion DAC. L'invention a été décrite en référence à un mode de réalisation particulier, mais de nombreuses variantes sont envisageables. Par exemple : - Le cas où l'orientation au repos des molécules du cristal photonique est approximativement verticale parait le plus intéressant, 10 notamment car il permet la réalisation d'un modulateur spatial de phase optique. Cependant, si on souhaite réaliser une modulation spatiale de direction de polarisation ou d'amplitude, il est également possible d'utiliser un cristal liquide dont les molécules présentent une orientation au repos sensiblement horizontale. 15 - Un film polariseur peut être collé à l'une des dalles ; cela n'est pas nécessaire si le SLM est destiné à être éclairé par un faisceau de lumière qui est déjà polarisé. - La présence de parois latérales n'est pas essentielle en soi : il s'agit simplement de la manière la plus simple pour supporter les 20 électrodes. Ce qui est essentiel, en revanche, est le positionnement des électrodes à un niveau intermédiaire entre les deux dalles. - Les pixels ne présentent pas nécessairement une forme rectangulaire, et la structure des électrodes peut être plus complexe, par exemple interdigitée. 25 - Le terme « matrice » doit être entendu dans un sens large, comme indiquant tout agencement bidimensionnel, voire unidimensionnel. En effet, il n'est pas essentiel que les pixels soient agencés par lignes et par colonnes. - Les transistors peuvent être absents, en particulier si l'on 30 adopte un adressage direct des pixels (autant de lignes d'alimentation distinctes que d'électrodes de pixel devant être pilotés de manière 3035975 13 indépendante), mais cela n'est intéressant que dans le cas de matrices comportant un petit nombre de pixels. - Le substrat de fabrication ne doit pas nécessairement être de type SOI. Plus généralement, de nombreux matériaux peuvent être utilisés pour la réalisation d'un SLM selon l'invention. REVENDICATIONS1. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide comprenant une matrice de pixels à cristal liquide (CL) délimités, dans une direction dite 5 verticale (z), par une première (D1) et une seconde (D2) dalles transparentes parallèles l'une à l'autre et espacées dans ladite direction verticale, chaque dit pixel comprenant une première électrode (Ep), dite électrode de pixel, et une deuxième électrode (CE), dite contre-électrode, et contenant un cristal liquide (LC), caractérisé en ce que l'électrode de pixel et la contre-électrode de 10 chaque pixel sont agencées en face à face à des extrémités opposées du pixel, espacées aussi bien de la première que de la seconde dalle dans ladite direction verticale. 2. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon la 15 revendication 1, dans lequel l'électrode de pixel et la contre-électrode de chaque pixel sont situées à une position intermédiaire entre les interfaces de chaque dite dalle avec le cristal liquide, à une distance de chaque dite interface comprise entre 25% et 75% de l'espacement entre les deux interfaces. 20 3. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon l'une des revendications précédentes, dans lequel les molécules dudit cristal liquide ont une orientation naturelle de repos non parallèle aux dalles. 25 4. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon la revendication 3, dans lequel les molécules du cristal liquide ont une orientation naturelle de repos formant un angle inférieur à 200, et de préférence compris entre 10 et 15°, avec ladite direction verticale. 5. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon l'une des revendications précédentes, dans lequel lesdits pixels sont également délimités par des parois latérales (P1, P2) s'étendant sur au moins une partie 3035975 15 de l'espacement entre la première et la seconde dalle, et dans lequel l'électrode de pixel et la contre-électrode de chaque pixel sont portées par deux parois latérales opposées dudit pixel. 6. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon la revendication 5, dans lequel chaque pixel comprend également un transistor (Q) configuré pour relier sélectivement ladite électrode de pixel à une ligne conductrice (C1, Cm) dite d'alimentation, ledit transistor étant agencé à la surface de la paroi latérale portant ladite électrode. 10 7. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon la revendication 6 comprenant une pluralité de dites lignes conductrices (C1, Cm) d'alimentation reliées aux électrodes de pixel des pixels par des transistors respectifs, une pluralité de lignes conductrices de commande (L1, Le,) reliées 15 à des grilles desdits transistors et une pluralité de lignes conductrices de référence reliées aux contre-électrodes des pixels, ces lignes conductrices d'alimentation et de commande étant agencées, au moins en partie, au-dessus de parois latérales respectives. 20 8. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon la revendication 7, dans lesquels les pixels à cristal liquide sont organisés par lignes et par colonnes, les électrodes de pixels des pixels d'une même ligne étant reliées à une même ligne conductrice d'alimentation par l'intermédiaire de transistors respectifs, et les transistors des pixels d'une même colonne 25 ayant des grilles reliées à une même ligne conductrice de commande. 9. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'espacement entre les deux interfaces entre le cristal liquide et la première et la seconde dalle est compris 30 entre 1 et 5 pm. 3035975 16 10. Modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'espacement entre l'électrode de pixel et la contre-électrode de chaque pixel est compris entre 2 et 15 pm. 11. Procédé de fabrication d'un modulateur spatial de lumière à cristal liquide selon l'une des revendications précédentes, comportant les étapes suivantes : a) sur un substrat de fabrication (SF), déposer un premier matériau (0X1) formant des blocs agencés en matrice, destinés à former des pixels à cristal liquide (CL), et un second matériau (0X2), diélectrique et différent du premier matériau, formant des parois latérales (P1, P2) délimitant lesdits blocs ; b) déposer un matériau conducteur sur lesdites parois latérales pour former des paires d'électrodes (Ep, CE) agencées en face à face aux extrémités de chaque dit bloc destiné à former un pixel à cristal liquide ; c) coller, par adhésion moléculaire, une poignée (SP) au-dessus de l'ensemble formé par le premier et le second diélectrique et les électrodes ; 20 d) supprimer le substrat de fabrication ; e) coller par adhésion moléculaire de l'ensemble formé par le premier et le second matériau diélectrique et les électrodes à une première dalle transparente (D1) ; f) supprimer la poignée ; 25 g) graver sélectivement le premier matériau en laissant subsister le second matériau de manière à obtenir, à la place des pavés, des cavités formant lesdits pixels à cristal liquide ; et h) agencer une seconde dalle transparente (D2) au-dessus de l'ensemble ainsi obtenu, de telle sorte que lesdites électrodes soient 30 espacées aussi bien de la première que de la seconde dalle, remplir d'un cristal liquide le volume compris entre la première et la seconde dalle et sceller l'ensemble ainsi obtenu avec un cordon de scellement (CS). 3035975 17 12. Procédé selon la revendication 11, dans lequel ledit substrat de fabrication est un substrat d'oxyde sur isolant. 5