FR 3012604 A1 20150501 FR 1360436 A 20131025 DOMAINE TECHNIQUE GENERAL L'invention concerne un capteur de pression comprenant un substrat support et une membrane déformable disposée sur le substrat support. ETAT DE LA TECHNIQUE En relation avec la figure 1, un capteur de pression comprend un élément sensible 1 comprenant une membrane 10 déformable dont la déformation est représentative d'une pression appliquée sur ce dernier. La membrane est disposée sur un substrat support 11 typiquement en matériau à base de verre. La membrane 10 supporte en outres des éléments de mesure de pression 12a, 12b, 12c. L'élément sensible 1 est assemblé à un boitier 2 métallique. Le substrat support est connecté au boitier par l'intermédiaire d'une couche d'adhésif 3 par exemple une base de silicone présentant des propriétés de souplesse lorsque soumis à des variations de température (en anglais, « R7V silicone glue »). L'utilisation de cette couche d'adhésif 3 participe à la précision du capteur. En effet, la précision du capteur est sensible aux cycles thermiques et une variation de température induit une contrainte entre l'élément sensible et le boitier (en raison du fait que la dilatation thermique est différente entre les deux matériaux) ; cette contrainte est transmise par le substrat support 11 et créée un stress mécanique et donc une déformation mécanique de la membrane 10 déformable, déformation qui est transmise au niveau des éléments de mesure de pression, et qui génère un décalage (en anglais, « offset ») résiduel du signal issu de l'élément sensible, décalage résiduel non nul et proportionnel aux variations de température appliquées et aux stress induit par les contraintes mécaniques. Cette contrainte peut être toutefois plus ou moins absorbée par la couche d'adhésif 3. Toutefois, si l'épaisseur de la couche d'adhésif est trop fine, la contrainte est partiellement transférée à l'élément sensible et crée une déformation sur cet élément sensible, déformation qui génère, au niveau des éléments de mesure de pression, un offset résiduel au niveau du signal mesuré, offset résiduel non nul et proportionnel aux variations de température appliquées et aux stress induit par les contraintes mécaniques; cet offset résiduel indépendant de la pression créé une erreur de mesure appelée hystérésis de température. Il existe par conséquent un besoin de pouvoir contrôler l'épaisseur de la couche d'adhésif utilisée dans l'assemblage d'un capteur de pression du type précité.35 PRESENTATION DE L'INVENTION L'invention propose de pallier cet inconvénient. A cet effet, l'invention propose un capteur de pression comprenant : un élément sensible comprenant un substrat support, ledit substrat support comprenant une surface supérieure et une surface inférieure, l'élément sensible comprenant en outre une membrane déformable connectée à la surface supérieure du substrat support ; un boitier dans lequel l'élément sensible est disposé, le boitier comprenant un socle ; une structure intermédiaire disposée entre le socle du boitier et le substrat support, ladite structure intermédiaire comprenant une base, la base comprenant une surface supérieure et une surface inférieure connectée au socle du boitier, ladite structure intermédiaire étant configurée pour maintenir à une distance prédéterminée le substrat support de la surface supérieure de la structure intermédiaire ; une couche d'adhésif s'étendant sur la surface supérieure de la structure intermédiaire, ladite couche d'adhésif étant d'épaisseur contrôlée par la distance prédéterminée à laquelle le substrat support est maintenu de la surface supérieure de la structure intermédiaire. L'invention est avantageusement complétée par les caractéristiques suivantes, prises seules ou en une quelconque de leur combinaison techniquement possible : - la structure intermédiaire est en outre configurée pour définir un espace entre la surface inférieure du substrat support et la surface supérieure de la structure intermédiaire ; - la structure intermédiaire est rectangulaire et comprend quatre cales, chaque cale étant disposée dans un coin de ladite structure intermédiaire, les cales maintenant à la distance prédéterminée le substrat support de la surface supérieure de la structure intermédiaire ; - la structure intermédiaire est déformable et comprend une partie fine et une partie épaisse, ladite partie fine supportant la couche d'adhésif ; - la structure intermédiaire comprend en outre une butée disposée au centre de la partie fine de ladite structure intermédiaire ; - la structure intermédiaire est un substrat en matériau choisi parmi le groupe suivant : silicium, verre, quartz, pyrexTM, alumine, saphir, SiC ; - la couche d'adhésif est à base de silicone, matériau présentant des propriétés de souplesse lorsque soumis à des variations de température ; - la surface inférieure de la structure intermédiaire est connectée au socle du boitier par l'intermédiaire d'une couche de liaison ; - la couche de liaison est par exemple une couche en résine époxy ; - la couche d'adhésif a une épaisseur égale à la distance prédéterminée à laquelle est maintenu l'élément sensible de la surface supérieure de la structure intermédiaire ; - il comprend un évidement central de sorte que ledit capteur de pression est configuré pour mesurer une pression de manière différentielle. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, comprenant les étapes suivantes : fournir un élément sensible comprenant un substrat support ledit substrat support comprenant une surface supérieure et une surface inférieure, l'élément sensible comprenant en outre une membrane déformable connectée à la surface supérieure du substrat support ; fournir un boitier comprenant un socle ; fournir une structure intermédiaire comprenant une base, la base comprenant une surface supérieure, ladite structure intermédiaire étant configurée pour maintenir à une distance prédéterminée le substrat support de la surface supérieure de la structure intermédiaire ; déposer une couche d'adhésif sur la surface supérieure de la structure intermédiaire, ladite couche d'adhésif étant d'épaisseur contrôlée par la distance prédéterminée à laquelle le substrat support est maintenu de la surface supérieure de la structure intermédiaire ; connecter la structure intermédiaire au substrat support ; connecter au socle du boitier la structure intermédiaire. PRESENTATION DES FIGURES D'autres caractéristiques, buts et avantages de l'invention ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés sur lesquels outre la figure 1 déjà discutée : - la figure 2 illustre un capteur de pression selon un premier mode de réalisation de l'invention ; - la figure 3 illustre un capteur de pression selon un second mode de réalisation de l'invention ; - la figure 4 illustre un capteur de pression selon un troisième mode de réalisation de l'invention ; - la figure 5 illustre un capteur de pression selon un quatrième mode de réalisation ; - la figure 6 illustre une vue en perspective d'une structure intermédiaire du capteur de pression selon le premier mode de réalisation de l'invention ; - les figures 6a et 6b illustrent respectivement des vues en perspective de dessus et de dessous d'une structure intermédiaire du capteur de pression selon le second mode de réalisation de l'invention ; - la figure 7 illustre schématiquement des étapes d'un procédé de fabrication d'un capteur de pression selon l'invention. Sur l'ensemble des figures, les éléments similaires portent des références identiques. DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION On a illustré sur la figure 2 un capteur de pression selon un premier mode de réalisation de l'invention. Un tel capteur comprend : - un élément sensible 1 ; - un boitier 2 dans lequel l'élément sensible est disposé, le boitier comprenant un socle 21; - une couche d'adhésif 3 comprenant une épaisseur e ; et - un structure intermédiaire 4. L'élément sensible comprend un substrat support 11 qui comprend une surface supérieure 11a et une surface inférieure 11b, l'élément sensible 1 comprenant en outre une membrane 10 déformable connectée à la surface supérieure 11a du substrat support 11. Le substrat support 11 peut être en matériau à base de verre, de Silicium, quartz, pyrexTM, saphir, alumine, SiC. La membrane 10 déformable est connectée au substrat support 11 par scellement anodique ou au moyen d'une liaison moléculaire ou atomique avec ou sans couche intermédiaire, ou par frittage ou par brasage. La membrane 10 déformable est typiquement formée à partir d'un substrat par exemple constitué de Silicium monocristallin comme le SOI (en anglais, « Silicon On Insulator») et le PSOI (en anglais, « Poly Silicon On Insulator »), de saphir comme le SOS (en anglais, « Silicon On Saphir »), ou d'un autre matériau comme le SiCOI (en anglais, « SiC on Insulator ») ou le SiC. Une couche électriquement isolante 13 est en outre disposée au-dessus de la membrane déformable 10. Une telle couche est par exemple en 5102 dans le cas d'une membrane en SOI ou PSOI. Sur cette couche isolante 13 différents matériaux tels que des nitrures, des oxydes, des couches métalliques, du Silicium mono et polycristallin sont disposés de manière à former des éléments de mesure de pression 12a, 12b, 12c (sur la figure 2, seuls trois éléments de mesure de pression sont représentées alors que quatre éléments de mesure de pression sont en réalité présents). Le boitier 2 est de préférence en matériau métallique. La structure intermédiaire 4 comprend une base 41, la base 41 comprenant une surface supérieure 41a sur laquelle s'étend la couche d'adhésif 3 et une surface inférieure 41b connectée au socle du boitier. Afin de contrôler l'épaisseur e de la couche d'adhésif, la structure intermédiaire 4 est configurée pour maintenir à une distance d prédéterminée le substrat support 11 de la surface supérieure 41a de la structure intermédiaire 4. En particulier, la configuration de la structure intermédiaire 4 permet de définir un espace libre 40 entre la surface inférieure 11b du substrat support 11 et la surface supérieure 41a de la structure intermédiaire 4. C'est notamment dans cet espace 40 que la couche d'adhésif 3 est déposée. De cette manière, la structure intermédiaire 4 permet de disposer avec précision l'épaisseur e de la couche d'adhésif 3. De manière préféré, la structure intermédiaire 4 comprend au moins une cale 42, 43 en contact du substrat support 11. C'est donc grâce à au moins une cale 42, 43 que la distance d prédéterminée entre le substrat support 11 et la surface supérieure 41a de la structure intermédiaire 4 est obtenue ce qui permet de contrôler l'épaisseur e de la couche d'adhésif 3 disposée entre la surface supérieure 41a de la structure intermédiaire 4 et la surface inférieure 11b du substrat support 11. En effet, ladite au moins une cale 42, 43 permet de définir l'espace libre 40 entre la surface supérieure 41a de la structure intermédiaire 4 et la surface inférieure 11b du substrat support 11, la couche d'adhésif étant disposée dans cet espace libre 40. La couche d'adhésif 3 est de préférence à base de silicone, ou de tout produit adhésif présentant des propriétés de souplesse lorsque soumis à des variations de température. A titre d'exemple, une épaisseur e d'une telle couche d'adhésif supérieure à 100 itm permet de minimiser l'erreur due aux cycles en température et permet d'obtenir des hystérésis en température négligeable ( Ce second mode de réalisation est similaire au premier mode de réalisation mais en diffère toutefois par la structure intermédiaire 4 qui est dans ce second mode de réalisation déforma ble. Selon ce mode de réalisation, la structure intermédiaire 4 comprend, outre la surface supérieure 41a et la surface inférieure 41b, une partie fine 41c et une base 41d formant partie épaisse 41d de la structure intermédiaire 4. La couche d'adhésif 3 repose, de préférence, sur la partie fine 41c. La partie épaisse 41d est d'épaisseur supérieure à la partie fine 41c. C'est cette différence d'épaisseur qui rend possible la déformation de la partie fine 41c et assure alors une fonction d'amortisseur. Ceci contribue encore à avoir des hystérésis en température réduit et améliore donc les performances du capteur de pression. Afin de protéger la structure intermédiaire 4, qui est ici déformable, d'éventuelles suppressions appliquées sur la partie fine 41c, la structure intermédiaire 4 comprend une butée 41e en son centre. Ainsi, en cas de surpression, la butée 41e va venir en contact avec le socle 21 du boitier 2. La butée 41e peut être soit formée d'une seule pièce avec le reste de la structure intermédiaire soit rapportée et alors connectée à la partie fine 41c de la structure intermédiaire 4. Bien entendu, dans ce second mode de réalisation, la structure intermédiaire 4 comprend au moins une cale 42, 43 en contact du substrat support 11. On a illustré sur la figure 4 un capteur de pression selon un troisième mode de réalisation de l'invention. Ce troisième mode de réalisation est similaire au premier mode de réalisation et comprend un plus un évidement central 50 de sorte que le capteur de pression est configuré pour mesurer une pression de manière différentielle (le capteur de la figure 2 précédemment décrit permet une mesure absolue de pression). Bien entendu, comme cela est illustré sur la figure 3, la membrane 10 déformable n'est pas traversée par l'évidement 50. On a illustré sur la figure 5 un capteur de pression selon un quatrième mode de réalisation de l'invention. Ce quatrième mode de réalisation est similaire au second mode de réalisation et comprend un plus un évidement 50 central de sorte que le capteur de pression est configuré pour mesurer une pression de manière différentielle. Sur cette figure, la butée 4e n'est pas visible, s'agissant d'une vue en coupe. On comprend toutefois que l'évidement est formé au milieu de la butée. De manière avantageuse, comme cela est illustré sur les figures 6, 6a et 6b la structure intermédiaire 4 est rectangulaire ou encore de forme et de dimensions adaptées pour supporter le substrat support 11. De manière avantageuse, la structure intermédiaire 4 comprend plusieurs cales (quatre dans l'exemple) 42, 43, 44, 45 qui sont de manière plus précise quatre protubérances en saillie de la structure intermédiaire 4. La structure intermédiaire 4 peut être en matériau à base de verre, de Silicium, quartz, pyrexTM, saphir, alumine, SiC. De manière complémentaire, la surface inférieure 41b de la structure intermédiaire 4 est connectée au socle du boitier 2 par l'intermédiaire d'une couche de liaison 5. Cette couche de liaison 5 est de préférence une couche en résine époxy. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un capteur de pression tel que décrit ci-dessus et en relation avec la figure 7. Un tel procédé de fabrication comprend les étapes suivantes : - fournir El l'élément sensible 1 ; - fournir E2 le boitier 2 ; - fournir E3 la structure intermédiaire. Une fois les éléments principaux du capteur fournis, le procédé comprend les étapes suivantes : - déposer E4 la couche d'adhésif 3 sur la surface supérieure de la structure intermédiaire 4, ladite couche d'adhésif 3 étant d'épaisseur e contrôlée par la distance d prédéterminée à laquelle le substrat support 11 est maintenu de la surface supérieure de la structure intermédiaire 4. - connecter E5 au substrat support 11 la structure intermédiaire munie de ladite au moins une cale 42, 43, 44, 45 ; - connecter E6 au socle 21 du boitier la structure intermédiaire 4. L'ordre des étapes du procédé ci-dessus décrit n'est pas limitatif. En particulier, l'ordre des étapes de dépôt de la couche d'adhésif (étape E4), de connexion de la structure intermédiaire 4 (étape E5) et de connexion de la structure intermédiaire au socle (étape E6) peut être modifié sans que cela n'ait d'impact sur la structure finale obtenue. REVENDICATIONS1. Capteur de pression comprenant : un élément sensible (1) comprenant un substrat support (11) ledit substrat support (11) comprenant une surface supérieure (11a) et une surface inférieure (11b), l'élément sensible (1) comprenant en outre une membrane (10) déformable connectée à la surface supérieure (11a) du substrat support (11) ; un boitier (2) dans lequel l'élément sensible est disposé, le boitier comprenant un socle (21) ; une structure intermédiaire (4) disposée entre le socle (21) du boitier (2) et le substrat support (11), ladite structure intermédiaire (4) comprenant une base (41, 41d), la base (41, 41d) comprenant une surface supérieure (41a) et une surface inférieure (41b) connectée au socle (21) du boitier, ladite structure intermédiaire (4) étant configurée pour maintenir à une distance (d) prédéterminée le substrat support (11) de la surface supérieure (41a) de la structure intermédiaire (4) ; une couche d'adhésif (3) s'étendant sur la surface supérieure de la structure intermédiaire (4), ladite couche d'adhésif (3) étant d'épaisseur (e) contrôlée par la distance (d) prédéterminée à laquelle le substrat support (11) est maintenu de la surface supérieure de la structure intermédiaire (4). 2. Capteur de pression selon la revendication 1, dans lequel la structure intermédiaire est en outre configurée pour définir un espace (e) entre la surface inférieure (11b) du substrat support (11) et la surface supérieure (41a) de la structure intermédiaire (4) 3. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la structure intermédiaire (4) est rectangulaire et comprend quatre cales (42, 43, 44, 45), chaque cale étant disposée dans un coin de ladite structure intermédiaire (4), les cales maintenant à la distance (d) prédéterminée le substrat support (11) de la surface supérieure (41a) de la structure intermédiaire (4). 4. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la structure intermédiaire (4) est déformable et comprend une partie fine (41c) et une partie épaisse (41d), ladite partie fine (41c) supportant la couche d'adhésif (3). 5. Capteur de pression selon la revendication précédente, dans lequel la structure intermédiaire comprend en outre une butée (41e) disposée au centre de la partie fine (41c) de ladite structure intermédiaire (4). 6. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la structure intermédiaire (4) est un substrat en matériau choisi parmi le groupe suivant : silicium, verre, quartz, pyrexTM, alumine, saphir, SiC. 7. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la couche d'adhésif (3) est à base de silicone, matériau présentant des propriétés de souplesse lorsque soumis à des variations de température. 8. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la surface inférieure (41b) de la structure intermédiaire (4) est connectée au socle du boitier (2) par l'intermédiaire d'une couche de liaison (5). 9. Capteur de pression selon la revendication précédente, dans lequel la couche de liaison (5) est une couche en résine époxy. 10. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'épaisseur de la couche d'adhésif (3) a une épaisseur (e) égale à la distance prédéterminée (d) à laquelle est maintenu l'élément sensible (1) de la surface supérieure de la structure intermédiaire (4). 11. Capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, comprenant un évidement (50) central de sorte que ledit capteur de pression est configuré pour mesurer une pression de manière différentielle. 12. Procédé de fabrication d'un capteur de pression selon l'une des revendications précédentes, comprenant les étapes suivantes : fournir (El) un élément sensible (1) comprenant un substrat support (11) ledit substrat support comprenant une surface supérieure (11a) et une surface inférieure (11b), l'élément sensible comprenant en outre une membrane (10) déformable connectée à la surface supérieure (11a) du substrat support (11) ; fournir (E2) un boitier (2) comprenant un socle (21) ;fournir (E3) une structure intermédiaire (4) comprenant une base (41), une surface supérieure (41a), ladite structure intermédiaire (4) étant configurée pour maintenir à une distance (d) prédéterminée le substrat support (11) de la surface supérieure (41a) de la structure intermédiaire (4) ; déposer (E4) une couche d'adhésif (3) sur la surface supérieure de la structure intermédiaire (4), ladite couche d'adhésif (3) étant d'épaisseur (e) contrôlée par la distance (d) prédéterminée à laquelle le substrat support (11) est maintenu de la surface supérieure de la structure intermédiaire (4) ; connecter (E5) la structure intermédiaire au substrat support (11) ; connecter (E6) au socle (21) du boitier la structure intermédiaire (4).