FR 3000298 A1 20140627 FR 1262474 A 20121220 PROCÉDÉ OPTIMISÉ DE FABRICATION DE NANOFILS ELECTROLUMINESCENTS Le domaine de l'invention est celui des composants à base de nanofils électroluminescents pouvant être utilisés par exemple pour produire de la lumière, notamment des diodes électroluminescentes, couramment désignées par l'acronyme LED (« Light Emitting Diode »). Au cours de ces dernières années, il a été réalisé par exemple, 10 des diodes électroluminescentes (LEDs) visibles à base de nanofils InGaN/GaN verticaux contenant une jonction p-n et connectés collectivement en parallèle. De manière générale, on désigne par nanofils, des fils pouvant présenter des dimensions pour leur base pouvant atteindre jusqu'à plusieurs 15 centaines de nanomètres. Grâce à leurs propriétés intrinsèques potentielles (bonne qualité cristalline, relaxation des contraintes aux surfaces libres verticales, bonne efficacité d'extraction de la lumière par effet de guide d'onde...), les nanofils sont considérés comme des candidats très intéressants pour pallier les 20 difficultés rencontrées actuellement avec des LEDs GaN conventionnelles fabriquées en structure planaire (2D). Deux approches LEDs Nanofils, basées sur des techniques de croissance différentes, ont été développées au CEA Grenoble. La première filière consiste à épitaxier des nanofils GaN contenant 25 des puits quantiques InGaN en configuration axiale par Epitaxie par Jet Moléculaire (MBE). Les dispositifs fabriqués à partir de ces nanofils ont donné des résultats intéressants dans le domaine spectral vert. Les puces processées de 1 mm2 peuvent émettre autour de 10 pW à 550 nm pour un courant continu de fonctionnement de 100 mA. 30 La figure 1 illustre une telle configuration mettant en évidence des nanofils NT; à la surface d'un substrat 11 typiquement en silicium en contact avec un contact inférieur 10, le contact supérieur de type p étant assuré par une couche transparente 12 et la reprise de contact effectuée par une reprise épaisse 13. Les nanofils NT; de structure axiale comportent une zone dopée 35 n pouvant typiquement être en GaN dopée n, une zone active ZA en InGaN 30002 9 8 2 ou possédant une structure à puits quantiques, ou à multi-puits quantiques et une zone dopée p pouvant être en GaN dopée p. Avec la technique de croissance par jets moléculaires (MBE), certaines inhomogénéités apparaissent en raison de mécanismes de 5 nucléation aléatoire, mais typiquement il a été obtenu une puissance optique sur un fil unique émettant à 550nm de 50nW, soit 5 W/mm2 avec une centaine de nanofils émetteurs/mm2. Plus récemment, la technique de croissance MOCVD (dépôt chimique en phase vapeur à base d'organométalliques) a permis la 10 réalisation de nanofils InGaN/GaN contenant une structure LED radiale (configuration Coeur/Coquille). La figure 2 illustre ce type de configuration dans laquelle, des nanofils NT, sont réalisés à la surface d'un substrat 20 recouvert d'une couche de nucléation 21 permettant de faire l'adaptation de maille entre par 15 exemple un substrat en silicium et des nanofils en GaN. La structure des nanofils présentant une partie photoconductrice, comportent un coeur 22 en GaN dopé n typiquement avec un taux de dopage de 1019 cm-3, une structure à puits quantiques avec une alternance de couches 23, 24, pouvant respectivement être en GaN non dopée et InGaN, 20 et enfin une couche 25 GaN dopée p avec typiquement un taux de dopage de 1019 cm-3. Une couche diélectrique isolante 26 est prévue afin d'isoler le coeur 22 et le contact supérieur. Il peut typiquement s'agir d'un dépôt de Si02 ou de SiN. Les contacts supérieurs sont assurés via une couche supérieure 27 conductrice et transparente à la longueur d'onde d'émission de 25 la structure photoconductrice. Dans cette approche, la structure LED étant en configuration Coeur/Coquille, la surface de la zone active est plus importante que dans l'approche LEDs nanofils 2D. Cette propriété apporte deux avantages : l'augmentation de la 30 surface émissive et la diminution des densités de courant dans la zone active. Des structures complètes de LEDs nanofils MOCVD ont été réalisées sur substrat silicium et l'électroluminescence dans le domaine spectral bleu (450nm) a été obtenue sur un ensemble de nanofils intégrés après process technologique. 35 Grâce aux technologies de croissance de nanofils, la surface d'une puce peut comprendre des centaines de milliers de colonnes sur une surface pouvant typiquement être de 1 mm2. De telles structures inédites, qui tirent parti des nanotechnologies, 5 offrent l'avantage d'augmenter la surface d'émission et donc le flux lumineux. Néanmoins, ce type de LED étant composé d'un nombre de nanofils très important connectés en parallèle, il est à noter, que même un nombre très faible de nanofils défectueux peut devenir responsable d'une mauvaise reproductibilité en cours de procédé de fabrication et d'un mauvais 10 fonctionnement de la LED. En effet, une LED élémentaire de quelques millimètres carré présentant moins de 0,1% de nanofils défectueux correspond à environ une centaine de nanofils non utilisables en raison notamment de court-circuits ou de défauts structurels entraînant un disfonctionnement au niveau de la zone 15 active, générés lors du procédé de fabrication. De manière générale, les nanofils peuvent aussi être capables d'absorber un rayonnement à une première longueur inférieure à leur longueur d'onde d'émission, permettant ainsi de les commander optiquement pour qu'ils émettent à la longueur d'onde d'émission souhaitée. 20 C'est dans ce contexte, que la présente invention a pour objet un procédé optimisé de fabrication de dispositif notamment de type LED dans lequel il devient possible d'isoler les nanofils défectueux. Plus précisément, la présente invention a pour objet un procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils à la surface d'un substrat, lesdits 25 nanofils présentant une partie capable d'émettre un rayonnement à au moins une longueur d'onde À sous l'action d'une commande électrique ou optique et étant au moins partiellement connectés entre eux électriquement via une couche supérieure conductrice, caractérisé en ce qu'il comporte des étapes permettant l'identification d'un sous-ensemble de nanofils défectueux parmi 30 des nanofils actifs, lesdites étapes comprenant : - la réalisation d'une couche de résine photosensible négative, sensible à ladite longueur d'onde d'émission À, recouvrant l'ensemble desdits nanofils ; - l'activation de l'ensemble desdits nanofils sous commande 35 électrique ou sous commande optique de manière à ce que lesdits nanofils actifs émettent ledit rayonnement en direction de ladite résine, ledit rayonnement réduisant la solubilité de ladite résine négative ; - le développement de ladite résine au niveau des nanofils défectueux, laissant des zones rendues moins solubles et entourant lesdits nanofils actifs ; - le retrait de ladite couche conductrice au dessus desdits nanofils défectueux. Selon une variante de l'invention, ladite résine comprenant des 10 interstices entre deux nanofils consécutifs, le procédé comprend la réalisation de motifs absorbants à ladite longueur d'onde À dans lesdits interstices. Avantageusement, la résine photosensible négative peut être autoconformée de manière à s'adapter à la forme des nanofils. 15 L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils à la surface d'un substrat , lesdits nanofils présentant une partie capable d'émettre un rayonnement à au moins une longueur d'onde À sous l'action d'une commande électrique ou optique et étant au moins partiellement connectés entre eux électriquement via une couche 20 supérieure conductrice, caractérisé en ce qu'il comporte des étapes d'identification d'un sous-ensemble de nanofils défectueux parmi des nanofils actifs, lesdites étapes comprenant : - le dépôt d'une couche de résine photosensible positive absorbante et sensible à une longueur d'onde dite auxiliaire Àa 25 recouvrant l'ensemble desdits nanofils ; - l'exposition de ladite résine positive à l'exception de régions situées entre deux nanofils consécutifs, à un rayonnement à ladite longueur d'onde auxiliaire Àa ; - le développement de ladite résine positive définissant des 30 motifs situés dans lesdites régions entre deux nanofils consécutifs à la surface dudit substrat, de solubilité réduite ; - le dépôt d'une couche de résine photosensible négative, sensible à ladite longueur d'onde d'émission À, recouvrant l'ensemble desdits nanofils et des motifs situés entre deux 35 nanofils consécutifs ; 30002 9 8 5 - l'activation de l'ensemble desdits nanofils sous commande électrique ou sous commande optique de manière à ce que lesdits nanofils actifs émettent ledit rayonnement, ledit rayonnement réduisant la solubilité de ladite résine négative ; 5 - le développement de ladite résine photosensible négative au niveau des nanofils défectueux, laissant des zones rendues moins solubles et entourant lesdits nanofils actifs ; - le retrait de ladite couche conductrice au dessus desdits nanofils défectueux. Selon une variante de l'invention, les nanofils ont des structures à base d'hétérojonction de matériaux III-V, pouvant être en GaN ou en alliage à base de GaN. Selon une variante de l'invention, le procédé comprend la réalisation de contacts au travers de ladite résine photosensible négative. Selon une variante de l'invention, l'activation desdits nanofils génère une dose de l'ordre de 300 à 400 mJ/ cm2 dans la résine photosensible négative. Selon une variante de l'invention, l'activation desdits nanofils est réalisée avec une commande optique, on peut typiquement utiliser un laser He,Cd émettant à une longueur d'onde d'excitation de 235 nm inférieure à la longueur d'onde d'émission des nanofils, à laquelle la zone active des nanofils est sensible pour émettre un rayonnement à une autre longueur d'onde. Selon une variante de l'invention, le retrait de la couche 25 conductrice est effectué par une opération chimique. Selon une variante de l'invention, le substrat est en silicium fortement dopé n, typiquement avec un taux de dopage de 1019 cm-3. Avantageusement, il peut être prévu le dépôt d'une couche métallique dans les interstices entre nanofils de manière à assurer une 30 fonction de réflexion du rayonnement émis à ladite longueur d'onde À, par rapport au substrat silicium. Selon une variante de l'invention, le procédé comporte la croissance épitaxiale de nanofils à hétérojonction à base de GaN ou d'alliage comprenant du GaN, de GaN ou d'alliage comprenant du GaN dopé n et de 35 GaN ou d'alliage comprenant du GaN dopé p. Selon une variante de l'invention, le procédé comporte des étapes de croissance épitaxiale axiale dans un plan perpendiculaire au substrat. Selon une variante de l'invention, le procédé comporte des étapes de croissance épitaxiale radiale dans un plan parallèle au plan du substrat. Selon une variante de l'invention, les étapes de croissance épitaxiale sont réalisées par MOCVD. Selon une variante de l'invention, la couche conductrice est en oxyde d'indium et d'étain (ITO) ou en oxyde de zinc. Selon une variante de l'invention, le procédé comporte une étape 10 de dépôt d'une couche métallique sur le substrat entre les nanofils, pouvant être réfléchissante vis-à-vis de l'émission à la longueur d'onde À. L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication de diode électroluminescente caractérisé en ce qu'il comprend le procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils à la surface d'un substrat selon 15 l'invention. L'invention a encore pour objet un procédé de fabrication collective d'un ensemble de diodes électroluminescentes à la surface d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comporte : - le procédé de fabrication d'une série d'ensemble de nanofils à 20 la surface dudit substrat, lesdits nanofils présentant une partie photoconductrice capable d'émettre un rayonnement à au moins une longueur d'onde À selon l'invention ; - la découpe dudit substrat de manière à obtenir des diodes électroluminescentes unitaires comprenant chacune un 25 ensemble de nanofils. L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre donnée à titre non limitatif et grâce aux figures annexées parmi lesquelles : 30 - la figure 1 illustre une première configuration de LED utilisant des nanofils à structure axiale selon l'art connu ; - la figure 2 illustre une seconde configuration de LED utilisant des nanofils à structure radiale selon l'art connu ; - la figure 3 illustre le dépôt d'une résine négative autoconformée 35 utilisée dans une seconde étape de fabrication de nanofils à la surface d'un substrat dans le premier exemple de procédé selon l'invention ; - les figures 4a à 4c illustrent une troisième étape dans le premier exemple de procédé selon l'invention, comportant la réalisation de motifs absorbants et la commande électrique de la structure ainsi obtenue et permettant d'identifier les nanofils défectueux ; - la figure 5 illustre une quatrième étape relative à l'isolement des nanofils défectueux dans le premier exemple de procédé selon l'invention ; - la figure 6 illustre une cinquième étape relative au retrait complet de la résine négative ; - les figures 7a et 7b schématisent une vue de dessus des connexions de nanofils, à des lignes d'interconnexion selon un procédé de fabrication classique et selon un procédé de l'invention ; - les figures 8a à 8d illustrent une première série d'étapes dans un second exemple de procédé selon l'invention, comprenant l'utilisation d'une résine photosensible positive et la réalisation de motifs de résine positive permettant d'obtenir une structure équivalente à celle illustrée en figure 4a du premier exemple de fabrication. L'invention va être décrite plus précisément ci-après dans le cadre 25 de la fabrication de diodes électroluminescentes utilisant des matériaux photoconducteurs à base de GaN, émettant dans le domaine spectral bleu (450nm) et de structure Coeur/Coquille et ce sur un substrat en silicium. En effet, de manière générale, le substrat utilisé peut être en GaN, ou en saphir ou bien encore en silicium, néanmoins ce dernier présente de 30 nombreux avantages et notamment en termes de coûts pour envisager des productions à grande échelle, en raison de la maîtrise que l'on peut en avoir en tant que substrat de technologie en micro-électronique. Un premier exemple de procédé de fabrication est illustré grâce notamment aux figures 3 à 5 et concernant une structure de nanofils de type coeur/coquille : Première série d'étapes communes à l'art connu : On réalise un ensemble de nanofils NT, tels que ceux illustrés en figure 2. Seconde série d'étapes : Comme illustré en figure 3, on procède alors au dépôt d'une résine négative photosensible 30 dans la gamme de longueurs d'onde d'émission des nanofils photoconducteurs. Avec ce type de résine négative, dans les zones exposées, les photons réagissent avec la résine photosensible négative et dégradent ses propriétés de solubilité, la résine exposée devenant moins soluble. Des motifs sélectifs pourront ensuite être révélés dans un développeur (typiquement une solution aqueuse basique), en effet les zones de la résine peu solubles dans le développeur subsistant ainsi à la surface du substrat, le reste étant solubilisé dans le développeur. La résine peut de plus être choisie de manière à être capable de s'autoconformer, c'est-à-dire de s'adapter au plus près de la forme des nanofils. Il peut par exemple s'agir d'une résine XP Microspray© de la société MicroChem applicable en spray. L'autoconformation de la résine permet de laisser des interstices ou ouvertures Oi entre deux nanofils adjacents. Durant l'étape de dépôt de la résine photosensible, les plots de contact non représentés sont protégés. Troisième série d'étapes : On procède alors comme illustré en figure 4a, au dépôt d'une encre dans les interstices Oi permettant de définir des motifs absorbants de matériau absorbant dans la gamme de longueurs d'onde de sensibilité des nanofils. Typiquement, il peut s'agir d'un mélange de phtalocyanine de cuivre et de disazopyrazolone dans une solution acrylique. Par injection de courant depuis les plots de commande, on active les nanofils comme illustré en figure 4b. Sur cette figure, sont représentés deux nanofils actifs NTi et un nanofil défectueux NT, les nanofils émettant un rayonnement représenté par les flèches en trait épais. L'intérêt de l'encre absorbante et ainsi des motifs MÀ; dans les interstices Oh réside dans le fait d'empêcher que la résine qui enrobe un nanofil défectueux soit éclairée par un nanofil voisin. L'illumination générée crée dans les régions 30b de résine, des zones de résine peu solubles comme représentées en figure 4c, qui illustre 10 les parties de résine insolées, différentes de la partie de résine non-insolée. Pour réaliser cette phase de test, on peut avantageusement utiliser une carte de contrôle qui est une interface entre un système de test électronique et le substrat sur lequel a été réalisé l'ensemble de nanofils. Typiquement, la carte de contrôle est mécaniquement accouplée à 15 un testeur et connectée électriquement à un appareil de contrôle. Son but est de fournir un chemin électrique entre le système de test et les circuits sur le substrat comportant l'ensemble des nanofils, et permettant ainsi de procéder à l'essai et à la validation des circuits au niveau de la plaquette, le plus souvent avant que le substrat ne soit découpé en modules élémentaires. 20 Une alternative à la commande électrique est la commande optique. En effet, on peut également exciter l'ensemble des nanofils NT,, à une longueur d'onde à laquelle ils sont sensibles pour émettre un rayonnement à une longueur d'onde d'émission choisie. 25 On peut utiliser un laser émettant à une longueur d'onde d'excitation de 235 nm inférieure à la longueur d'onde d'émission des nanofils et à laquelle la résine 30 est transparente. Les nanofils défectueux, en raison par exemple de défauts structurels, ne seront pas en mesure d'émettre un rayonnement capable de modifier la solubilité de la résine 30 photosensible négative et donc de permettre de conserver une enveloppe de protection autour des nanofils actifs NT. Quatrième série d'étapes : On procède alors au développement et au retrait de la résine 35 photosensible dans les régions où celle-ci n'a pas été rendue peu soluble, (et donc à l'exception des régions 30b), lesdites régions intégrant également les éléments absorbants. On peut avantageusement utiliser une solution à base de composé d'ammonium quaternaire choisi dans le groupe constitué d'hydroxyde de tétraméthylammonium (TMAH), connu pour son comportement sélectif et notamment vis-à-vis des éléments métalliques. La concentration de cette solution peut être par exemple de 0,26N. On peut alors réaliser le retrait de la couche conductrice 27 pouvant être en ITO, au niveau des nanofils défectueux en raison de court-circuits, laissés à nus. Ce retrait peut être réalisé par attaque chimique. Typiquement on peut utiliser dans le cas de l'ITO, une solution à base de HCI et de FeCI3 dans le rapport de 2 :1,5. La figure 5 met en évidence cette élimination de la couche conductrice Cinquième étape : On peut procéder au retrait de la résine demeurant autour des nanofils actifs NTi avec de l'acétone, comme illustré en figure 6. L'ensemble des séries d'étapes précédentes conduisent ainsi à ne conserver que des nanofils actifs Nj recouverts de couche conductrice. On dispose ainsi d'un substrat comprenant un ensemble de nanofils photoconducteurs permettant de réaliser des LEDs de qualité. Les figures 7a et 7b mettent en évidence la couche de contact supérieur, selon l'art connu et selon l'invention qui permet d'isoler les nanofils 25 défectueux. La figure 7a met en évidence en périphérie un anneau 40 de reprise de contact sur le substrat, tous les nanfofils NT, y compris les nanofils défectueux sont en contact avec la couche conductrice supérieure 27. 30 La figure 7b met en évidence la configuration obtenue avec le procédé de la présente invention, montrant que les nanofils défectueux Ni ne sont plus en contact avec la couche 27, lesdits nanofils défectueux étant dégagés et laissant à nu leur partie supérieure 25 et localement la couche diélectrique 26. 35 Second exemple de procédé de fabrication : Une variante de procédé de l'invention peut comprendre l'utilisation d'une résine photosensible positive pour réaliser des motifs 5 absorbants puis l'emploi d'une résine photosensible négative non auto-conformée. Pour ce faire comme illustré en figure 8a, après l'ensemble des étapes notamment précédemment décrites dans la première série d'étapes du premier exemple, pour réaliser les nanofils à la surface du substrat, on 10 procède au dépôt d'une résine photosensible positive 50, sensible à une longueur d'onde auxiliaire Àa, appartenant à un autre domaine spectral que le domaine d'émission des nanofils, typiquement cette longueur d'onde peut être située dans le domaine UV et plus précisément inférieure à 370 nm. La figure 8b met en évidence l'étape d'insolation locale, 15 permettant de former des régions 50a de solubilité accrue. Le développement de cette résine positive laisse des motifs MN (qui n'ont pas été dissous lors du développement de ladite résine positive) à la surface du substrat entre deux nanofils consécutifs, comme illustré en figure 8c. 20 On vient déposer de la résine 30 photosensible négative et sensible à la longueur d'onde À, cette résine n'ayant pas besoin d'être auto-conformée, et ce au dessus de la résine positive, et des motifs MN , comme illustré en figure 8d. L'ensemble des étapes ultérieures peut être équivalent à celui du 25 premier exemple de procédé précédemment décrit. Quel que soit le procédé de fabrication de nanofils précédemment décrits, il permet un traitement collectif sur un wafer présentant une densité en nanofils pouvant être de l'ordre de 10 7 nanofils / cm2, organisés en sous- 30 ensembles, chaque sous-ensemble étant connecté à des plots de connexion. Une méthode de test permet de révéler de manière collective l'ensemble des nanofils défectueux, de les isoler électriquement, puis de procéder aux découpes unitaires destinées à la réalisation des LEDs individuelles. 35 REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la surface d'un substrat, lesdits nanofils présentant une partie capable 5 d'émettre un rayonnement à au moins une longueur d'onde (À) sous l'action d'une commande électrique ou optique et étant au moins partiellement connectés entre eux électriquement via une couche supérieure conductrice, caractérisé en ce qu'il comporte des étapes permettant l'identification d'un sous-ensemble de nanofils défectueux (NT;) parmi des nanofils actifs (NTi), 10 lesdites étapes comprenant : - la réalisation d'une couche de résine photosensible négative, sensible à ladite longueur d'onde d'émission (À), recouvrant l'ensemble desdits nanofils ; - l'activation de l'ensemble desdits nanofils sous commande 15 électrique ou commande optique, de manière à ce que lesdits nanofils actifs émettent ledit rayonnement, ledit rayonnement réduisant la solubilité de ladite résine négative ; - le développement de ladite résine au niveau des nanofils défectueux (NT;), laissant des zones rendues moins solubles et 20 entourant lesdits nanofils actifs (NTi) ; - le retrait de ladite couche conductrice au dessus desdits nanofils défectueux. 2. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la 25 surface d'un substrat selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite résine comprenant des interstices (0i) entre deux nanofils consécutifs, il comprend la réalisation de motifs absorbants (MO à ladite longueur d'onde À dans lesdits interstices (0i). 30 3. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la surface d'un substrat , lesdits nanofils présentant une partie capable d'émettre un rayonnement à au moins une longueur d'onde (À) sous l'action d'une commande électrique ou optique et étant au moins partiellement connectés entre eux électriquement via une couche supérieure conductrice, 35 caractérisé en ce qu'il comporte des étapes d'identification d'un sous-ensemble de nanofils défectueux (NT;) parmi des nanofils actifs (NT), lesdites étapes comprenant : - le dépôt d'une couche de résine photosensible positive absorbante à ladite longueur d'onde d'émission et sensible à une longueur d'onde dite auxiliaire (Àa), recouvrant l'ensemble desdits nanofils recouvrant l'ensemble desdits nanofils ; - l'exposition de ladite résine positive à l'exception de régions situées entre deux nanofils consécutifs, à un rayonnement à ladite longueur d'onde auxiliaire (Àa) de manière à créer des motifs (NAK) de solubilité réduite ; - le développement de ladite résine positive de manière à ne laisser que lesdits motifs (M),) de résine positive entre deux nanofils consécutifs à la surface dudit substrat, de solubilité réduite ; - le dépôt d'une couche de résine photosensible négative, sensible à ladite longueur d'onde d'émission (À), recouvrant l'ensemble desdits nanofils et des motifs situés entre deux nanofils consécutifs ; - l'activation de l'ensemble desdits nanofils sous commande électrique ou commande optique de manière à ce que lesdits nanofils actifs émettent ledit rayonnement, ledit rayonnement réduisant la solubilité de ladite résine négative ; - le développement de ladite résine photosensible négative au niveau des nanofils défectueux, laissant des zones rendues moins solubles et entourant lesdits nanofils actifs ; - le retrait de ladite couche conductrice au dessus desdits nanofils défectueux. 4. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT) à la 30 surface d'un substrat selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que les nanofils ont des structures à base d'hétérojonction de matériaux III-V. 5. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT) à la surface d'un substrat selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en cequ'il comprend la réalisation de contacts au travers de ladite résine photosensible négative. 6. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la 5 surface d'un substrat selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que l'activation desdits nanofils est réalisée par commande optique à une longueur d'onde pouvant être de l'ordre de 235 nm. 7. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la 10 surface d'un substrat selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le retrait de la couche conductrice est effectué par une opération chimique. 8. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la 15 surface d'un substrat selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que les nanofils sont à base de GaN ou d'alliage comprenant du GaN. 9. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la surface d'un substrat selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'il 20 comporte la croissance épitaxiale de nanofils à hétérojonction à base de GaN ou d'alliage comprenant du GaN, de GaN ou d'alliage comprenant du GaN dopé n et de GaN ou d'alliage comprenant du GaN dopé p. 10. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la 25 surface d'un substrat selon la revendication 9, caractérisé en ce qu'il comporte des étapes de croissance épitaxiale axiale dans un plan perpendiculaire au substrat. 11. Procédé de fabrication d'un ensemble de nanofils (NT,) à la 30 surface d'un substrat selon la revendication 9, caractérisé en ce qu'il comporte des étapes de croissance épitaxiale radiale dans un plan parallèle au plan du substrat. 12. Procédé de fabrication collective d'un ensemble de diodes électroluminescentes à la surface d'un substrat, caractérisé en ce qu'il comporte : - le procédé de fabrication d'une série d'ensemble de nanofils (NT) à la surface dudit substrat, lesdits nanofils présentant une partie photoconductrice capable d'émettre un rayonnement à au moins une longueur d'onde (À) selon l'une des revendications 1 à 11 ; - la découpe dudit substrat de manière à obtenir des diodes électroluminescentes unitaires comprenant chacune un ensemble de nanofils (NT).