FR 3010302 A1 20150313 FR 1358544 A 20130906 - 1 - PROCEDE DE FABRICATION D'UN IMPLANT DENTAIRE COMPORTANT UNE COUCHE DE MATERIAU AMORPHE ET IMPLANT DENTAIRE OBTENU SELON LEDIT PROCEDE DOMAINE TECHNIQUE La présente invention concerne le domaine des implants dentaires utilisés pour la mise en place d'une ou plusieurs prothèses dentaires venant remplacer une ou plusieurs dents manquantes afin de redonner au patient, partiellement ou totalement édenté, une fonction de mastication et/ou un confort buccal et/ou un meilleur aspect esthétique et/ou une meilleure occlusion dentaire. L'invention concerne plus particulièrement un implant dentaire procurant une meilleure ostéo-intégration. ART ANTERIEUR Un implant dentaire consiste usuellement en un corps principal d'ancrage dit douille, muni d'un filetage extérieur et d'un taraudage intérieur, destinée à prendre place dans le maxillaire et/ou la mandibule préalablement percé pour recevoir la douille. Le filetage extérieur est avantageusement auto-taraudant afin de permettre le vissage dans le puits de forage de la mâchoire prévu à cet effet, ledit filetage présentant un diamètre tout juste supérieur au diamètre du puits de forage. La douille comporte à son extrémité dite supérieure, en contact avec le milieu buccal après implantation, un col implantaire apte à recevoir un système prothétique, communément appelé faux moignon pour la réalisation d'une prothèse dentaire scellée, ledit faux moignon étant solidarisé à l'implant au moyen du taraudage de la douille, ou une connectique apte à recevoir une prothèse dentaire dite vissée. Il existe plusieurs procédures chirurgicales de mise en place des implants dentaires, la technique en deux temps chirurgicaux dite enfouie et la technique en un temps chirurgical dite non enfouie. - 2 - A chacune de ces techniques correspond un type d'implant. Selon la technique dite enfouie, le chirurgien après avoir ouvert la gencive du patient prépare le puits de forage, communément appelé lit de l'implant, dans le maxillaire ou la mandibule du patient. Le chirurgien place ensuite l'implant constitué d'une douille globalement cylindrique puis il referme par des points de suture la gencive au-dessus de l'implant. Cette étape d'enfouissement de l'implant sous la gencive consiste en une étape de mise en nourrice, pendant une durée comprise entre 3 à 6 mois, qui permet l'intégration de l'implant dans l'os. Après cette étape de 3 à 6 mois, une deuxième phase chirurgicale est nécessaire. Le chirurgien incise la gencive au-dessus de la partie supérieure de l'implant pour mettre en place soit une pièce de cicatrisation soit directement un faux moignon soit une connectique pour prothèse vissée. Cette phase de cicatrisation permet de préparer le contour des tissus gingivaux. Après cicatrisation, généralement après 15 jours à 1 mois, la prothèse définitive est mise en place soit par scellement sur le faux moignon vissé à l'extrémité supérieure de la douille soit par vissage sur la connectique prévue à cet effet. Cette technique chirurgicale, et les implants adaptés à cette technique, présentent l'inconvénient de nécessiter deux interventions chirurgicales et de grever considérablement le temps de mise en place de la prothèse dentaire définitive. De surcroît, un temps de reconstruction des maxillaires par greffe osseuse peut venir se grever à ce temps de mise en place de l'implant, une greffe osseuse pouvant être nécessaire si la zone d'implantation présente un os de volume insuffisant. Afin de remédier à cet inconvénient, la mise en place de l'implant peut se faire en un seul temps chirurgical par la technique dite non enfouie. En effet, des études ont montré que des implants mis en place en un temps chirurgical pouvaient s'implanter dans l'os de la mâchoire avec le même succès que les implants posés en technique enfouie. Dans la technique dite non enfouie, le chirurgien met en place l'implant consistant en une douille globalement cylindrique, conique, ou cylindro-conique munie d'un filetage et à l'extrémité supérieure de laquelle est situé un col implantaire apte à recevoir le système prothétique. La mise en place de l'implant s'effectue soit en ouvrant la gencive - 3 - au-dessus de la zone d'implantation soit en passant directement au travers de la gencive suivant la technique dite transmuqueuse puis en pratiquant un puits implantaire à la profondeur choisie en fonction du volume osseux du patient, la longueur de l'implant déterminant la profondeur dudit puits implantaire. Dans le cas de la mise en place de l'implant par incision de la gencive, ladite gencive, après la mise en place de l'implant, est refermée autour du col implantaire solidaire du corps de la douille par des points de suture (technique dite à lambeau), le col implantaire restant en contact avec le milieu buccal. Dans la technique de la mise en place de l'implant par la technique transmuqueuse, il n'est pas nécessaire de suturer la gencive qui s'adapte parfaitement autour du col implantaire en contact avec le milieu buccal. Le col implantaire est fermé par une vis de couverture pendant la phase de cicatrisation osseuse et gingivale. Après cette phase de cicatrisation d'une durée comprise entre 3 et 6 mois, la vis de fermeture est retirée pour mettre en place le système prothétique sur le col implantaire, le système prothétique étant adapté au type de concept prothétique choisi par le chirurgien telle qu'une prothèse dentaire scellée sur un faux moignon ou une prothèse vissée sur une connectique adaptée. On observera que la vis de fermeture présente une hauteur adaptée à la hauteur gingivale, usuellement de l'ordre de 1 ,5 mm à 2 mm. De tels implants sont par exemple décrits dans les demandes de brevet français FR 2 747 031, FR 2 747 032 et FR 2 709 660. Ces implants sont usuellement obtenus dans des métaux biocompatibles tels que du titane ou un alliage de titane par exemple ; Toutefois, ce type d'implant présente l'inconvénient de ne pas procurer une précharge suffisante lors du vissage. Afin de remédier à cet inconvénient, on a déjà imaginé de recouvrir le pas de vis d'un matériau présentant un coefficient de frottement bas tel que du carbone amorphe dit DLC selon l'acronyme anglo-saxon « Diamond Like Coating ». C'est le cas notamment de la demande de brevet international WO 2009/039254 qui décrit un système d'implant dentaire qui utilise une vis de butée améliorée avec des caractéristiques acceptables en termes de biocompatibilité, de corrosion, de force et de précharge. Certains modes de réalisation en particulier concernent un système d'implant dentaire qui présente un implant artificiel et une butée, qui sont fixés avec une vis formée à partir d'acier inoxydable, tel que l'acier inoxydable chirurgical 316L. Dans certains - 4 - modes de réalisation, la vis en acier inoxydable est recouverte d'un matériau malléable, tel que l'or, l'argent ou le polytétrafluoroéthylène, destiné à améliorer la précharge de la vis. En variante, la vis en acier inoxydable peut être recouverte d'un matériau plus dur, tel qu'un carbone amorphe (DLC), un diamant amorphe, un diamant cristallin, ou une combinaison de ceux-ci, qui présentent un coefficient de frottement bas, fournissant ainsi des propriétés de précharge améliorées. Toutefois, tous les implants dentaires de l'art antérieur présentent l'inconvénient de libérer des ions métalliques dans la bouche et/ou dans les tissus du patient, lesdits ions métalliques pouvant être néfastes pour la santé du patient. Afin de palier et inconvénient, on a déjà imaginé de recouvrir l'implant d'une couche amorphe permettant d'éviter la libération d'ions métalliques. C'est le cas notamment de la demande de brevet international WO 00/74637. En effet, ce document décrit un procédé de revêtement d'un implant dentaire, d'une structure supportée par un implant ou d'une pièce ou appareil métallique et de laboratoire dentaire se composant d'un alliage coulé de CoCr ou d'un autre métal ou alliage de métaux. Ce document décrit également un implant dentaire, une structure supportée par un implant ou une pièce ou appareil métallique et de laboratoire dentaire. Le revêtement consiste en un film DLC fabriqué, par exemple, selon un procédé de DCPV. Ce revêtement empêche le Co et le Cr ou autres ions de se dissoudre sous l'effet des conditions buccales. Toutefois, ce type d'implant présente l'inconvénient de ne pas procurer une ostéo- intégration suffisante de sorte que l'implant n'est pas stable au cours du temps. EXPOSE DE L'INVENTION L'un des buts de l'invention est donc de remédier à ces inconvénients en proposant un procédé de fabrication d'un implant dentaire et un implant dentaire obtenu selon le procédé de conception simple et peu onéreuse, empêchant la libération d'ions métalliques, présentant de très bonnes propriétés de biocompatibilité et d'hémocompatibilité, stable à long terme et procurant une excellente ostéo-intégration. - 5 - A cet effet et conformément à l'invention, il est proposé un procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps comportant une étape de dépôt d'au moins une couche d'un matériau amorphe ; ledit procédé est remarquable en ce qu'il comporte au moins une étape de traitement de la surface du corps avant et/ou après l'étape de dépôt de la couche de matériau amorphe. De manière surprenante, le Déposant a constaté que le traitement de la surface du corps du dispositif d'implantologie dentaire de telle sorte que la surface de la couche de matériau amorphe présente des micro-aspérités permet d'améliorer sensiblement l'ostéo- intégration du dispositif d'implantologie. De préférence, le procédé comporte une première étape de traitement de la surface du corps du dispositif et une seconde étape de dépôt d'une couche d'un matériau amorphe sur ledit corps. Accessoirement, le procédé comporte une seconde étape de traitement de la surface de la couche de matériau amorphe déposée sur ledit corps. Alternativement, le procédé comporte une première étape de dépôt d'une couche de matériau amorphe sur ledit corps et une seconde étape de traitement de la surface de la couche de matériau amorphe préalablement déposée sur ledit corps. De préférence, la couche de matériau amorphe est déposée sur une épaisseur comprise entre 0,1 et li.tm et elle consiste dans du carbone amorphe dit DLC. Ladite couche de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma dit PACVD. Selon une variante d'exécution, la couche de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt physique en phase vapeur d'un matériau cible, à l'état solide, dit PVD. - 6 - Ladite étape de traitement de surface consiste en une étape de sablage et/ou de sablage mordançage et/ou en en une étape de traitement chimique. Un autre objet de l'invention concerne un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps muni d'une couche d'un matériau amorphe obtenu selon le procédé suivant l'invention remarquable en ce que la surface de la couche amorphe comporte des micro-aspérités. Ladite couche de matériau amorphe présente de préférence une épaisseur comprise entre 0,1 et lum et consiste dans du carbone amorphe dit DLC. DESCRIPTION SOMMAIRE DES FIGURES D'autres avantages et caractéristiques ressortiront mieux de la description qui va suivre de plusieurs variantes d'exécution, données à titre d'exemples non limitatifs, du procédé de fabrication d'un implant dentaire comportant une couche d'un matériau amorphe et de l'implant dentaire obtenu conforme à l'invention, en référence aux dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 est une vue de côté de l'implant dentaire suivant l'invention, - la figure 2 est une vue en coupe d'un détail du corps de l'implant dentaire suivant l'invention. DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION On décrira dans cet exemple particulier, un implant dentaire destiné à être utilisé pour la mise en place d'une ou plusieurs prothèses dentaires venant remplacer une ou plusieurs dents manquantes ; toutefois, il est bien évident que le procédé suivant l'invention pourra s'appliquer à tout dispositif d'implantologie dentaire tel qu'une bague de transfert, un porte-implant, un faux moignon et les différentes pièces d'un système de transfert bien connu de l'homme du métier sans pour autant sortir du cadre de l'invention. - 7 - Dans la suite de la description du procédé de fabrication d'un implant dentaire suivant l'invention, les mêmes références numériques désignent les mêmes éléments. Les différentes vues ne sont pas nécessairement tracées à l'échelle. En référence à la figure 1, l'implant dentaire suivant l'invention est constitué d'un corps principal dit d'ancrage se présentant sous la forme d'une douille (1) globalement conique comprenant une première partie inférieure dite apicale (2) conique s'évasant depuis son extrémité apicale et une seconde partie supérieure dite basale (3) tronconique prolongeant la partie apicale (2) conique et rétrécissant depuis l'extrémité supérieure de la partie apicale (2) jusqu'à son extrémité supérieure. Cette douille (1) est, pour des raisons de clarté de la description, représentée verticalement et est destinée à prendre place dans le maxillaire et/ou la mandibule préalablement percé pour recevoir ladite douille (1). La partie apicale (2) conique de la douille (1) présente un filetage (4) et la partie supérieure (3) de ladite douille (1) présente une paroi latérale concave (5). De manière avantageuse, la douille (1) présente une extrémité inférieure (6) légèrement arrondie permettant son utilisation dans les techniques chirurgicales du 20 relèvement du plancher sinusal bien connu de l'Homme du Métier. Accessoirement, la douille (1) présente entre deux filets successifs du filetage (4) une paroi droite. De préférence, les parois de la douille (1) s'étendant entre deux filets successifs de la douille (1) sont cylindriques. Lesdits cylindres formant les parois de la 25 douille (1) s'étendant entre deux filets successifs présentent un diamètre décroissant depuis l'extrémité basale jusqu'à l'extrémité apicale de la douille (1). Par ailleurs, l'implant comporte un col implantaire (7) s'étendant depuis l'extrémité supérieure de la douille (1), la douille (1) et le col implantaire (7) étant obtenus d'un seul 30 tenant. Ce col implantaire (7) est issu de l'extrémité supérieure de la douille (1) en présentant une forme globalement conique, coaxiale à ladite douille (1), s'évasant depuis sa base, c'est-à-dire depuis l'extrémité supérieure de ladite douille (1). - 8 - Le col implantaire (7) comporte une première partie (10) dont la paroi externe s'évase depuis sa base en présentant une concavité orientée vers l'extérieur et une seconde partie (11) dont la paroi externe s'évase en présentant une convexité orientée vers l'extérieur. La paroi externe du col implantaire (7) présente un état de surface usiné globalement lisse ou non. Il est bien évident que le col implantaire (7) pourra présenter une forme quelconque et comporter une connectique quelconque, interne ou externe, telle qu'une connectique interne en forme d'hexagone par exemple, sans pour autant sortir du cadre de l'invention. Par ailleurs, il va de soi que l'implant pourra être constitué de deux parties sans sortir du cadre de l'invention. En référence à la figure 2, la douille (1) est recouverte d'une couche (12) d'un matériau amorphe sur une épaisseur comprise entre 0,1 et 11.1m. Ledit matériau consiste de préférence dans du carbone amorphe dit DLC selon l'acronyme anglo-saxon « Diamond Like Coating ». Ladite couche (12) de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma dit PACVD selon l'acronyme anglo-saxon « Plasma Assited Chemical Vapour Deposition » ou selon un procédé de dépôt physique en phase vapeur d'un matériau cible, à l'état solide, dit PVD selon l'acronyme anglo-saxon « Physical Vapour Deposition ». Le procédé PVD comporte une première étape dans laquelle les implants dentaires sont positionnés sur des carrousels et sont mis en rotation, lesdits carrousels s'étendant dans une enceinte. L'enceinte est alors mise sous vide, c'est-à-dire à une pression comprise entre 10-4 et 10-5 mbar, puis les implants sont chauffés pour monter en température et la température est maintenue à une température sensiblement constante. Un décapage ionique est alors réalisé par un bombardement d'ions argon. Des cibles ou cathodes disposées dans l'enceinte sont alors évaporées sous l'effet d'arcs électriques de sorte que la vapeur métallique ionisée formée sous l'effet des arcs électriques métallise les implants qui sont polarisés. L'addition de gaz tel que l'azote (N2) par exemple permet de réaliser des nitrures de ces métaux qui peuvent consister dans du nitrure de titane (TiN), du nitrure de titane aluminium (TiAIN), du nitrue de chrome (CrN) ou similaire. Alternativement, l'activation des cathodes ou cibles peut se faire au moyen d'un bombardement des - 9 - cathodes par un plasma constitué du gaz d'argon ionisé, en lieu et place des arcs électriques, selon le procédé de dépôt PVD dit par « sputtering ». Le dépôt du carbone amorphe dit DLC pourra, par exemple, être réalisé selon le procédé décrit dans le brevet européen EP1720702 dans lequel deux couches d'un matériau amorphe sont déposées successivement. Avant et/ou après l'étape de dépôt de la couche (12) de matériau amorphe, le procédé comporte une étape de traitement de la surface du corps d'ancrage (1) et du col implantaire (7) de sorte que la couche (12) de matériau amorphe présente des micro- aspérités. Cette étape de traitement de surface consiste en une étape de sablage et/ou de sablage mordançage ou similaire. Ces micro-aspérités dans la couche (12) de matériau amorphe permettent d'améliorer sensiblement l'ostéo-intégration du dispositif d'implantologie. Il est bien évident que la couche (12) de carbone amorphe DLC pourra être déposée par tout autre procédé bien connu de l'homme du métier sans pour autant sortir du cadre de l'invention. De plus, il est bien évident que le carbone amorphe pourra être substitué par tout autre matériau amorphe bien connu de l'homme du métier tel que de l'alumine amorphe ou de la céramique amorphe par exemple sans pour autant sortir du cadre de l'invention. Enfin, il est bien évident que les exemples que l'on vient de donner ne sont que des illustrations particulières et en aucun cas limitatif quant au domaine d'application de l'invention. REVENDICATIONS1- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps comportant une étape de dépôt d'au moins une couche (12) d'un matériau amorphe, caractérisé en ce qu'il comporte au moins une étape de traitement de la surface du corps avant et/ou après l'étape de dépôt de la couche (12) de matériau amorphe de sorte que la couche de matériau amorphe présente des micro-aspérités. 2- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant la revendication précédente caractérisé en ce qu'il comporte une première étape de traitement de la surface du corps du dispositif et une seconde étape de dépôt d'une couche (12) d'un matériau amorphe sur ledit corps. 3 - Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant la revendication 2 caractérisé en ce qu'il comporte une seconde étape de traitement de la surface de la couche (12) de matériau amorphe déposée sur ledit corps. 4- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant la revendication 1 caractérisé en ce qu'il comporte une première étape de dépôt d'une couche (12) de matériau amorphe sur ledit corps et une seconde étape de traitement de la surface de la couche (12) de matériau amorphe préalablement déposée sur ledit corps. 5 - Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant l'une quelconque des revendications 1 à 4 caractérisé en ce que la couche (12) de matériau amorphe est déposée sur une épaisseur comprise entre 0,1 et liam. 6- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant l'une quelconque des revendications 1 à 5 caractérisé en ce que le matériau amorphe consiste 30 dans du carbone amorphe dit DLC. 7- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant la revendication 6 caractérisé en ce que la couche (12) de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma dit PACVD.-11 8- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant la revendication 6 caractérisé en ce que la couche (12) de carbone amorphe est déposée suivant un procédé de dépôt physique en phase vapeur d'un matériau cible, à l'état solide, 5 dit PVD. 9- Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant l'une quelconque des revendications 1 à 8 caractérisé en ce que l'étape de traitement de surface consiste en une étape de sablage et/ou de sablage mordançage. 10 10 - Procédé de fabrication d'un dispositif d'implantologie dentaire suivant l'une quelconque des revendications 1 à 8 caractérisé en ce que l'étape de traitement de surface consiste en une étape de traitement chimique. 15 11 - Dispositif d'implantologie dentaire comportant au moins un corps muni d'une couche d'un matériau amorphe obtenu selon le procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que la surface de la couche (12) amorphe comporte des micro-aspérités. 20 12 - Dispositif d'implantologie dentaire suivant la revendication 11 caractérisé en ce que la couche (12) de matériau amorphe présente une épaisseur comprise entre 0,1 et liam. 13 - Dispositif d'implantologie dentaire suivant l'une quelconque des 25 revendications 11 ou 12 caractérisé en ce que la couche (12) de matériau amorphe consiste dans du carbone amorphe dit DLC. 14 - Application du dispositif d'implantologie dentaire suivant l'une quelconque des revendications 11 à 13 à un implant dentaire comportant un corps central dit d'ancrage 30 (1) de révolution apte à être implanté dans un trou pratiqué dans un os d'un patient, et un col implantaire (7) solidaire du corps d'ancrage apte à recevoir un système prothétique.