FR 3009865 A1 20150227 FR 1358128 A 20130822 DETECTEUR BOLOMETRIQUE A BOLOMETRE DE COMPENSATION A THERMALISATION RENFORCEE DOMAINE DE L'INVENTION La présente invention a trait au domaine des détecteurs bolométriques, et plus particulièrement aux détecteurs bolométriques à micro-ponts suspendus associés à une ou plusieurs branches d' ébasage comprenant des bolomètres de compensation. L'invention trouve particulièrement application dans la détection bolométrique à température ambiante, la détection de rayonnement infrarouge, notamment l'imagerie infrarouge, la détection de rayonnement térahertz, notamment l'imagerie térahertz, la thermographie, et la détection de gaz par la mesure de l'absorption optique dans le spectre infrarouge. ETAT DE LA TECHNIQUE Usuellement, un détecteur bolométrique résistif mesure la puissance d'un rayonnement incident dans la gamme infrarouge. Il comprend à cet effet un élément bolométrique résistif absorbant qui convertit le flux lumineux en flux calorifique, ce qui produit une élévation de température dudit élément par rapport à une température de référence. Cette augmentation de température induit alors une variation de la résistance électrique de l'élément absorbant, provoquant des variations de tension ou de courant aux bornes de celui-ci. Ces variations électriques constituent le signal délivré par le capteur. Toutefois, la température de l'élément bolométrique est usuellement dépendante en grande partie de l'environnement de celui-ci, et notamment celle du substrat qui comprend le circuit électronique de lecture. Afin d'insensibiliser au maximum l'élément absorbant de son environnement, et ainsi augmenter la sensibilité du détecteur, l'élément bolométrique est généralement isolé thermiquement du substrat. La figure 1 est une vue schématique simplifiée en perspective d'un détecteur bolométrique résistif élémentaire 10 de l'état de la technique pour la détection infrarouge illustrant ce principe d'isolation thermique. Ce détecteur élémentaire, usuellement désigné par le terme de « bolomètre » ou de « micro-pont bolométrique », ici sous la forme d'une membrane suspendue, fait classiquement partie d'une matrice de détecteurs élémentaires à une ou deux dimensions. Le bolomètre 10 comporte une fine membrane 12 absorbant le rayonnement incident, suspendue au-dessus d'un substrat - support 14 par l'intermédiaire de deux clous d'ancrage conducteurs 16 auxquels elle est fixée par deux bras d'isolation thermique 18. La membrane 12 comprend usuellement une couche d'isolant électrique, comme par exemple du SiO2, du SiO, du SiN, du SiON, du ZnS ou autre, qui assure la rigidité mécanique de la membrane 12, ainsi qu'une couche métallique d'interconnexion électrique déposée sur la couche d'isolant. Une couche mince 20 de matériau thermométrique résistif est par ailleurs déposée au centre de la membrane 12 sur la couche métallique d'interconnexion, notamment une couche en un matériau semi-conducteur, tel que du silicium polycristallin ou amorphe de type p ou n faiblement ou fortement résistif, ou bien un oxyde de vanadium (V205, V02) élaboré dans une phase semi-conductrice, ou bien du titane, de l'oxyde de titane (TiOx), ou de l'oxyde de nickel (NiOx). Enfin, le substrat - support 14 comprend un circuit électronique intégré sur une plaquette de silicium, usuellement connu sous l'expression « circuit de lecture ». Le circuit de lecture comporte d'une part les éléments de stimuli et de lecture de l'élément thermométrique 20, et d'autre part les composants de multiplexage qui permettent de sérialiser les signaux issus des différents éléments thermométriques présents dans le détecteur matriciel. En fonctionnement, la membrane 12 s'échauffe sous l'effet d'un rayonnement électromagnétique incident et la puissance calorifique produite est transmise à la couche 20 de matériau thermométrique. Périodiquement, le circuit de lecture agencé dans le substrat 14 polarise la membrane 12 en soumettant les clous 16 à une tension de polarisation et recueille le courant circulant dans l'élément thermométrique 20 pour en déduire une variation de sa résistance, et donc le rayonnement incident à l'origine de ladite variation. Si le fait de suspendre l'élément thermométrique au-dessus du substrat permet à celui-ci de subir une variation de résistance électrique sous l'effet du rayonnement incident, cette variation reste cependant infime. En effet, dans le cadre du détecteur bolométrique élémentaire de la figure 1, à 300°K, une variation de 1 K de la scène observée induit une variation relative de la résistance électrique de la couche thermométrique 20 d'environ 0,04%. En effet, l'essentiel de la valeur de la résistance électrique de cet élément est principalement dicté par l'environnement direct de la membrane. Notamment, le substrat influence la température de la membrane 12 via la conduction thermique au travers des clous 16 et des bras 18 qui fixent environ 70% de la valeur de la résistance électrique de la couche 20. Dans le meilleur des cas, moins de 10 % de la valeur de la résistance électrique sont fixés par le rayonnement incident, et plus généralement moins de 1%. L'essentiel de la résistance électrique de la couche de matériau thermométrique 20 étant fixé par des éléments étrangers à la scène observée, en l'absence de mesure particulière, la dynamique de lecture du détecteur est donc très limitée, ce qui rend un tel détecteur très difficile d'utilisation. Pour pallier ce problème, le détecteur bolométrique élémentaire est associé à une structure de compensation, ou « d'ébasage », visant à éliminer la part non utile du signal issu de la lecture de l'élément thermométrique de la membrane. La figure 2 est un schéma électrique d'un détecteur bolométrique infrarouge 200 de l'état de la technique comprenant une telle structure d'ébasage. Le détecteur 200 comprend une matrice bidimensionnelle 202 d'éléments unitaires de détection 204, ou « pixels », comprenant chacun un bolomètre sensible 206 sous la forme d'une membrane suspendue au-dessus d'un substrat, par exemple le bolomètre illustré à la figure 1, connecté à l'une de ses bornes à une tension constante « VDET » et à l'autre de ses bornes à un transistor MOS de polarisation 208 réglant la tension aux bornes du bolomètre 206 au moyen d'une tension de commande de grille « GUET ». Le pixel 204 comprend également un interrupteur de sélection 210, connecté entre le transistor MOS 208 et un noeud « A » prévu pour chaque colonne de la matrice 202, et piloté par un signal de commande « SELECT », permettant la sélection du bolomètre 206 pour sa lecture. L'ensemble bidimensionnel de membranes suspendues, usuellement désigné sous le terme de « rétine », est placé dans un boitier hermétique au droit d'une fenêtre transparente au rayonnement infrarouge à détecter et dans le plan focal d'une optique (non représentée). Le transistor 208 et l'interrupteur 210 sont quant à eux usuellement formés dans le substrat sous l'emprise de la membrane du bolomètre 206. Le détecteur 200 comporte également, en pied de chaque colonne de la matrice 202, une structure d'ébasage 212 comportant un bolomètre de compensation 214 identique aux bolomètres 206 des pixels 204 du point de vue électro-thermique et rendu insensibles au rayonnement incident issu de la scène à observer en étant « thermalisés » au substrat 14. La résistance électrique du bolomètre 214 est ainsi essentiellement dictée par la température du substrat 14. Le bolomètre 214 est par ailleurs connecté à l'une de ses bornes à une tension constante « VsKim », et la structure d'ébasage 212 comporte en outre un transistor MOS de polarisation 218 réglant la tension aux bornes du bolomètre 214 au moyen d'une tension de commande de grille « GSKIM » et connecté entre l'autre borne du bolomètre 214 et le noeud « A ». Le détecteur 200 comporte également, en pied de chaque colonne de la matrice 202 un intégrateur 220 de type CTIA (pour « capacitive transimpedance amplifier ») comportant par exemple un amplificateur 222 et une capacité 224 connectée entre l'entrée inverseuse et la sortie de l'amplificateur 222. La borne inverseuse et la borne non-inverseuse de ce dernier sont par ailleurs connectées respectivement au noeud « A » et à une tension constante « VBUS ». Un interrupteur 226, piloté par un signal « RAZ », est également prévu en parallèle de la capacité 224, pour la décharge de celui-ci. Les sorties des CTIA 220 sont enfin par exemple connectées à des échantillonneurs bloqueurs 228 respectifs pour la délivrance des tensions « Vout » des CTIA en mode multiplexé. Le détecteur 200 comprend enfin une unité de gestion 230 commandant les différents interrupteurs décrits précédemment. En fonctionnement, la matrice 202 est lue ligne par ligne. Pour lire une ligne de la matrice 202, les interrupteurs 210 de la ligne de pixels 204 sont fermés et les interrupteurs 210 des autres lignes sont ouverts. Après une phase de décharge des condensateurs des CTIA en pied de colonne, réalisée par la fermeture des interrupteurs 226 suivi de leur ouverture, il est ainsi obtenu un circuit tel que représenté sur la figure 3 pour chaque pixel de la ligne en cours de lecture. Un courant « Iop » circule dans le bolomètre 206 du pixel sous l'effet de sa polarisation en tension par le transistor MOS 208, et un courant « Is » circule dans le bolomètre 214 de la structure d'ébasage sous l'effet de sa polarisation en tension par le transistor MOS 218. La différence de courant résultante est intégrée par le CTIA 220 pendant une durée d'intégration prédéterminée « Tint ». La tension de sortie « Vout » du CTIA 220 représente ainsi une mesure de la variation de la résistance du bolomètre 206 provoquée par le rayonnement incident à détecter, puisque la partie non utile du courant « Iop », à savoir la température du substrat, et donc la température ambiante, est compensée, au moins en partie, par le courant « Is » spécifiquement produit pour reproduire cette partie non utile. La température du substrat étant compensée, celle-ci peut librement varier et il n'est donc pas besoin de prévoir des dispositifs de contrôle de la température du substrat, notamment un module Peltier. Selon une première conception particulière de l'état de la technique, le bolomètre de compensation 214 comporte un empilement identique à l'empilement constitutif de la partie suspendue de la membrane des bolomètres 206, et donc la membrane suspendue des bolomètres 206 sans le système d'isolation thermique comportant essentiellement les bras 18 d'isolation thermique, formé directement sur et/ou dans le substrat 14. Cette première configuration nécessite cependant une conception différente de celle des bolomètres sensibles, ce qui complexifie la fabrication du détecteur. Selon une seconde configuration particulière de l'état de la technique, le bolomètre de compensation 214 comporte l'ensemble des éléments constitutifs des bolomètres sensibles 206 de la matrice 202. La membrane du bolomètre 214 est thermalisée au substrat par des éléments de faible résistance thermique, par exemple des éléments métalliques, solidaires de la membrane et du substrat, et agencés en périphérie de la membrane. Ces éléments forment ainsi des court-circuits thermiques entre la membrane et le substrat afin que ces éléments présentent la même température. Les figures 4A et 4B sont respectivement des vues en coupe d'un bolomètre sensible et d'un bolomètre de compensation de l'état de la technique, par exemple du type décrit en relation avec la figure 1, les vues en coupe correspondant au plan de coupe IV-IV de la figure 1. Comme on peut le constater, le bolomètre de compensation 214 diffère du bolomètre sensible 206 par deux éléments 300 métalliques disposés de part et d'autre de la membrane bolométrique 12 en périphérie de celle-ci. Cette configuration permet de fabriquer le bolomètre de compensation 214 de manière sensiblement identique à la fabrication du bolomètre sensible 206, hormis les éléments 300. Grâce aux éléments 300, la fabrication du détecteur est donc plus simple et moins onéreuse mais la fabrication du bolomètre de compensation reste malgré tout complexe. Si la structure d'ébasage venant d'être décrite permet d'obtenir des résultats satisfaisants, on observe cependant que la thermalisation des bolomètres de compensation 214 au substrat est insuffisante pour compenser exactement la température de celui-ci. De plus, les court-circuits thermiques 300 étant formés en périphérie de la membrane 12 des bolomètres de compensation 214, ces derniers nécessitent des étapes technologiques de fabrication supplémentaires et sont plus encombrants que les bolomètres sensibles 206, ce qui nuit à la miniaturisation et/ou au facteur de remplissage des bolomètres de compensation. On notera que le problème se pose quel que soit le type de circuit utilisé pour polariser et « lire » la matrice de bolomètres sensibles. Dans l'état de la technique précédemment décrit, la polarisation est réalisée en tension. Le problème se pose également dans les détecteurs polarisés en courant, le signal de lecture étant alors une différence entre les tensions aux bornes de bolomètres sensibles et les tensions aux bornes des bolomètres de compensation.35 De même, le problème se pose quel que soit le nombre de bolomètres de compensation prévus dans le détecteur. Notamment, un bolomètre de compensation peut être prévu pour chaque bolomètre sensible. De même, un bolomètre de compensation peut être constitué de la mise en série de bolomètres de compensation unitaires du type venant d'être décrit afin de réduire par exemple le bruit colonnaire. Le problème se pose donc dans les mêmes termes. EXPOSE DE L'INVENTION Le but de la présente invention est de proposer un détecteur bolométrique comportant des bolomètres de compensation à base de membranes suspendues présentant une thermalisation accrue au substrat. A cet effet, l'invention a pour objet un détecteur bolométrique comportant : - un substrat ; ^ des micro-ponts bolométriques de détection suspendus au-dessus du substrat et thermiquement isolés du substrat ; ^ des micro-ponts bolométriques de compensation suspendus au-dessus du substrat et thermalisés au substrat; et - un circuit de lecture formé dans le substrat pour appliquer une polarisation aux micro- ponts de détection et au micro-ponts de compensation et pour former des différence entre des signaux produits par les micro-ponts de détection et des signaux produits par les micro-ponts de compensation sous l'effet de la polarisation appliquée, Dans le détecteur, chaque micro-pont de détection et chaque micro-pont de compensation comporte des clous d'ancrage électriquement conducteurs connectés au circuit de lecture, une membrane fixée aux clous d'ancrage au-dessus du substrat et un élément thermométrique agencé dans la membrane, et chaque micro-pont de compensation comporte en outre des éléments de court-circuit thermique entre la membrane et le substrat, Selon l'invention, les éléments de court-circuit thermique de chaque micro-pont de compensation comportent des motifs métalliques agencés sous l'élément bolométrique de chaque micro-pont de compensation et au contact de membrane du micro-pont de compensation et du substrat. En d'autres termes, le volume existant entre la membrane et le substrat est utilisé pour loger des liens thermiques entre ces deux éléments. Non seulement ces liens sont disposés au plus proche de l'élément thermométrique à thermaliser, mais en outre il est possible de prévoir un nombre important de court-circuits thermiques. Une thermalisation accrue est donc obtenue. De plus, la thermalisation peut être obtenue à l'aide de ces seuls court- circuits, sans l'emploi d'éléments de court-circuit en périphérie de la membrane. L'encombrement des bolomètres de compensation peut ainsi être réduit. Enfin, la fabrication des bolomètres de compensation peut être simplifiée en fabricant les éléments de court-circuit de manière identique aux clous d'ancrage suspendant les membranes des micro-ponts de détection et de compensation. Selon un mode de réalisation, les motifs métalliques sont sensiblement des cylindres de de section circulaire d'un diamètre compris entre 0,25 micromètre et 5 micromètres. Selon un mode de réalisation, le nombre de motifs métalliques est compris entre 0,5 et 1,5 motif par 1.1.m2, notamment 1 motif par 1.1.m2. Notamment, avec des motifs cylindriques d'un diamètre compris entre 0,5 i.tm et 5 iam, le nombre de motifs pour une membrane de 10x10 i.tm2 est compris entre 1 et 100. Selon un mode de réalisation, les motifs métalliques sont identiques aux clous d'ancrage suspendant la membrane du micro-pont de compensation. L'invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un détecteur du type précité, qui comporte : ^ la réalisation du substrat et du circuit de lecture, le circuit de lecture comportant des plots métalliques aux endroits prévus pour les clous d'ancrage des micro-ponts de détection et des micro-ponts de compensation ; ^ le dépôt sur la surface du substrat d'une couche sacrificielle ; ^ la réalisation de trous traversants dans la couche sacrificielle aux endroits prévus pour les clous d'ancrage et pour les motifs de court-circuit thermique; ^ la métallisation des trous traversants ; ^ la réalisation des membranes des micro-ponts de détection et des micro-ponts de compensation sur la couche sacrificielle ; et ^ le retrait de la couche sacrificielle.35 BREVE DESCRIPTION DES FIGURES L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d'exemple, et réalisée en relation avec les dessins annexés, dans lesquels des références identiques désignent des éléments identiques ou analogues, et dans lesquels : ^ la figure 1 est une vue schématique en perspective d'un détecteur bolométrique élémentaire de l'état de la technique, déjà décrit ci-dessus; ^ la figure 2 est un schéma électrique d'un détecteur bolométrique infrarouge de l'état de la technique, déjà décrit ci-dessus ; ^ la figure 3 est un schéma électrique illustrant la lecture d'un bolomètre sensible du détecteur de la figure 2 à l'aide d'une structure d' ébasage ; ^ les figures 4A et 4B sont des vues schématiques en coupe selon le plan IV-IV de la figure 1 respectivement d'un bolomètre sensible et d'un bolomètre de compensation de l'état de la technique ; ^ les figures 5 à 17 sont des vues schématiques en coupe selon le plan IV-IV d'un procédé de fabrication d'un bolomètre de compensation selon l'invention ; et ^ la figure 18 est une vue schématique de dessus d'un bolomètre de compensation pourvu des éléments de court-circuit selon l'invention. DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION Il va à présent être décrit en relation avec les figures 5 à 8 un procédé de fabrication d'un bolomètre de compensation 214 selon l'invention constitutif d'un détecteur bolométrique, par exemple un détecteur du type décrit en relation avec les figures 1 à 3. Le procédé débute par la fabrication d'un substrat 14 et d'un circuit de lecture 302 du détecteur, comme cela est connu en soi de l'état de la technique (figure 5). Par exemple, le substrat 14 comporte une couche de silicium intégrant des circuits CMOS pour la réalisation des fonctions de lecture (non représentés), par exemple les composants et circuits illustrés à la figure 2 pour polariser et lire les bolomètres 206, 214, couche sur laquelle est formée une couche de diélectrique 304, par exemple en oxyde de silicium (Si02), recouverte d'une couche de nitrure de silicium (Si'Ny) 306. La couche diélectrique 304 intègre le niveau d'interconnexion le plus supérieur du circuit de lecture 302. Ce niveau d'interconnexion comporte des plages de connexion 308, 310 aux emplacements prévus pour les clous d'ancrage 16 des bolomètres sensibles et des bolomètres de compensation, des vias métalliques 312, et des plages d'interconnexion inférieure 314, 316, 318 connectées aux plages 306, 308 à la surface du substrat 14 par les vias 312. Différentes options techniques peuvent être mises en oeuvre pour réaliser l'interconnexion entre des plages de niveau différents. Une première option consiste à utiliser des plages de métal 308, 318 constituées d'une couche d'aluminium, avantageusement recouverte sur leurs faces en regard d'une ou deux couches de titane ou de nitrure de titane 310, 314, 316, et d'utiliser un via 310 en tungstène. Selon une autre option, le via 310 est réalisé en cuivre selon un procédé de fabrication connu, appelé procédé damascène qui consiste à remplir des tranchées d'un diélectrique 304 avec du cuivre. Dans une étape suivante du procédé, une couche sacrificielle 320 est déposée sur le substrat 14 et les plages d'interconnexion 308, avantageusement constituée d'un polymère organique tel que du polyimide ou du benzocyclobutène (BCB) ou constituée d'une couche minérale en oxyde de silicium ou en silicium (figure 6). La couche organique 320 est déposée par exemple par enduction centrifuge (ou « spin coating ») et subit après son dépôt un traitement thermique de réticulation pour la stabiliser thermiquement. L'épaisseur de la couche sacrificielle 320 dépend de la hauteur désirée entre les membranes des bolomètres sensibles et des bolomètres de compensation et le substrat, cette hauteur étant usuellement comprise entre 1 micromètre et 5 micromètres. L'épaisseur de la couche sacrificielle organique 320 peut être aisément réglée en ajustant la vitesse de rotation du dépôt par enduction centrifuge. Une fois la couche sacrificielle 320 déposée, des trous traversants 322 sont réalisés dans l'épaisseur totale de la couche 320 au-dessus des plages 308 pour les bolomètres sensibles et les bolomètres de compensation. Pour les bolomètres de compensation, des trous traversants supplémentaires 324 sont réalisés dans l'épaisseur totale de la couche 320 en des endroits prévus pour la réalisation ultérieure d'éléments de court-circuit thermiques, à savoir sous les membranes des bolomètres de compensation ultérieurement réalisées sur la couche sacrificielle 320, comme expliqué ci-après (figure 7). Les trous 322, 324 sont avantageusement réalisés conjointement à l'aide de la même technique, notamment de photolithogravure. Ces trous prennent par exemple la forme de trous cylindriques de section circulaire d'un diamètre compris entre 0,25 micromètre et 5 micromètre. Les trous 322, 324 sont ensuite métallisés, par exemple remplis de tungstène et/ou de cuivre à l'aide d'un procédé de type damascène (figure 8). Les clous d'ancrage 16 des bolomètres sensibles et des bolomètres de compensation sont fabriqués, ainsi qu'un ensemble d'éléments 326 de court-circuit thermique vers le substrat 14 des bolomètres de compensation. Le procédé se poursuit par le dépôt d'une couche de diélectrique 328 sur la couche sacrificielle 320, au moins aux emplacements prévus pour les membranes des bolomètres de compensation, et de manière avantageusement également aux emplacements prévus pour les membranes des bolomètres sensibles afin d'obtenir des membranes identiques pour les deux types de bolomètre (figure 9). La couche 328 est par exemple déposée sur la totalité de la couche sacrificielle 320. La couche de diélectrique 328, par exemple constituée de SiN, de SiON, de Si ou de SiO2, a pour fonction d'isoler électriquement les membranes des bolomètres de compensation des éléments de court-circuit thermique 326. La couche de diélectrique 326 est ensuite gravée au-dessus des clous d'ancrage 16 pour dégager ceux-ci (figure 10). La fabrication de la membrane 12 des bolomètres de détection et de compensation se poursuit alors de manière classique. Par exemple, une couche 330 de matériau absorbant le rayonnement à détecter est déposée sur la couche de diélectrique 328 et les clous d'ancrage 16 dégagés (figure 11). La couche absorbante 330 est également électriquement conductrice pour permettre l'application d'une polarisation électrique au travers des clous 16. Par exemple, la couche absorbante 330 est constituée de titane (Ti), de nitrure de titane (TiN), de tugnstène de titane (TiW), de nitrate d' amonium (TaN), ou de nitrate de tungstène (WN). La couche 330 est ensuite gravée, afin de définir deux motifs distincts 332, 334 servant d'électrodes de polarisation du matériau thermométrique ultérieurement déposé (figure 12). Une seconde couche diélectrique 338, de constitution par exemple identique à la couche diélectrique 328, est alors déposée sur la couche absorbante 330 (figure 13) et la couche 338 est gravée pour définir deux ouvertures vers la couche d'absorbant 330 de sorte que les deux électrodes 332, 334 seront électriquement isolés une fois l'élément en matériau thermométrique déposé (figure 14). L'élément en matériau thermométrique 20, par exemple constitué de silicium amorphe ou d'oxyde de vanadium, est alors déposé sur la couche de diélectrique 338 de manière à remplir les ouvertures vers la couche 330 finalisant ainsi l'empilement technologique de la membrane 12 des bolomètres (figure 15). Les membranes sont ensuite individualisées par gravure de tranchées 340 dans l'empilement des membranes 12 (figure 16) et la couche sacrificielle 320 est retirée, libérant ainsi les membranes 12 des bolomètres (figure 17). La figure 18 illustre pour un bolomètre de compensation un exemple de clous d'ancrage 16 et les éléments de court-circuit thermique 326 vus de dessus, la membrane 12 étant illustrée en traits pointillés. Comme on peut le noter, il est possible de réaliser une quantité importante d'éléments 326 sous la membrane 12, par exemple sous la forme d'une matrice d'éléments régulièrement espacés afin d'obtenir une thermalisation homogène de la membrane 12. Avantageusement, il est prévu un nombre maximum d'éléments de court-circuit par unité de surface, ce qui permet une thermalisation optimale de la membrane 12. Bien entendu, d'autres modes de réalisation sont possibles, notamment concernant la forme et la constitution des membranes des bolomètres de détection et de compensation. REVENDICATIONS1. Détecteur bolométrique comportant : ^ un substrat (14) ; - des micro-ponts bolométriques de détection (206) suspendus au-dessus du substrat (14) et thermiquement isolés du substrat (14); ^ des micro-ponts bolométriques de compensation (214) suspendus au-dessus du substrat (14) et thermalisés au substrat (14); et ^ un circuit de lecture (302) formé dans le substrat (14) pour appliquer une polarisation aux micro-ponts de détection (206) et au micro-ponts de compensation(214) et pour former des différences entre des signaux produits par les micro-ponts de détection (206) et des signaux produits par les micro-ponts de compensation (214) sous l'effet de la polarisation appliquée, chaque micro-pont de détection (206) et chaque micro-pont de compensation (214) comportant des clous d'ancrage (16) électriquement conducteur connectés au circuit de lecture (302), une membrane fixée (12) aux clous d'ancrage (16) au-dessus du substrat (14) et un élément thermométrique (20) agencé dans la membrane (12); chaque micro-pont de compensation (201) comportant en outre des éléments de court-circuit thermique (326) entre la membrane (12) et le substrat (14), caractérisé en ce que les éléments de court-circuit thermique (326) de chaque micro- pont de compensation (214) comportent des motifs métalliques agencés sous l'élément bolométrique (20) du micro-pont de compensation et au contact de la membrane (12) du micro-pont de compensation (214) et du substrat (14). 2. Détecteur bolométrique selon la revendication 1, caractérisé en ce que les motifs métalliques (326) sont sensiblement des cylindres de section circulaire d'un diamètre compris entre 0,25 micromètre et 5 micromètres. 3. Détecteur bolométrique selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le nombre de motifs métalliques (326) est compris entre 0,5 et 1,5 par i.tm2. 4. Détecteur bolométrique selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les motifs métalliques (326) sont identiques aux clous d'ancrage (16) suspendant la membrane (12) du micro-pont de compensation (214).35 5. Procédé de fabrication d'un détecteur bolométrique selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comporte : ^ la réalisation du substrat (14) et du circuit de lecture (302), le circuit de lecture comportant des plots métalliques (308) aux endroits prévus pour les clous d'ancrage (16) des micro-ponts de détection (206) et des micro-ponts de compensation (214); ^ le dépôt sur la surface du substrat (14) d'une couche sacrificielle (320) ; ^ la réalisation de trous traversants (322, 324) dans la couche sacrificielle aux endroits prévus pour les clous d'ancrage (16) et pour les motifs de court-circuit thermique (326); ^ la métallisation des trous traversants (322, 324); ^ la réalisation des membranes (12) des micro-ponts de détection (206) et des micro-ponts de compensation (214) sur la couche sacrificielle (320) ; et ^ le retrait de la couche sacrificielle (320). 15