FR 2999378 A1 20140613 FR 1362243 A 20131206 CONCEPTION DÉTERMINISTE D'UNE GRILLE DE PROTECTION CONTRE LES EMI POUR CONTRÔLER LA DIFFRACTION OPTIQUE CONTEXTE [0001] La présente invention a pour objet un écran métallique destiné à réduire les interférences électromagnétiques (EMI), et plus spécialement, une grille métallique qui réduit en outre les effets de diffraction à des longueurs d'onde optiques. [0002] Les interférences électromagnétiques (EMI) représentent une perturbation pour un circuit électrique dû au rayonnement électromagnétique émis par une source externe. Protéger un circuit contre les EMI implique généralement le placement d'une grille métallique entre le circuit et la source externe. La grille métallique est généralement constituée d'un revêtement métallique à motif appliquée sur un substrat optique. En plus de protéger contre les EMI, le revêtement métallique à motif est conçu pour permettre la transmission de longueurs d'onde optiques à travers le revêtement. Dans diverses implémentations d'un revêtement à motif réducteur d'EMI, la présence du revêtement réduit inévitablement la transmission optique, à la fois en bloquant la lumière et par diffraction d'une partie de la lumière transmise, résultant en une perte de signal et une augmentation de l'éclairage de fond. Dans de nombreuses applications, il peut être utile de laisser passer la lumière (par exemple, un faisceau de désignation) depuis une source de lumière : comme un laser à travers la grille métallique pour identifier un objet. Toutefois, si le diagramme de la grille est périodique, la lumière passant à travers la grille peut générer un halo de dispersion de diffraction ayant des lobes latéraux, qui sont des pics lumineux apparaissant dans le halo de diffraction entourant le faisceau désiré (spéculaire). En outre, les lobes latéraux peuvent tomber sur des objets autres que la cible à identifier, donnant lieu à la possibilité d'une identification fausse positive. Par conséquent il est nécessaire de réduire les effets de diffraction à des longueurs d'onde optiques. 1 RÉSUMÉ [0003] Selon un mode de réalisation de la présente invention, un écran d'interférences électromagnétiques comprend un substrat optiquement transparent ; un revêtement métallique sur le substrat optiquement transparent, le revêtement métallique étant caractérisé par une pluralité d'ouvertures alignées selon une configuration définie par un rapport déterministe, dans lequel les distances entre chacune de la pluralité d'ouvertures et un point d'observation dans un plan d'image associés ne sont pas corrélées. Préférentiellement, un paramètre de la configuration est choisie pour contrôler au moins l'un: (i) d'une propriété électrique du revêtement métallique ; et (ii) d'une propriété optique du revêtement métallique. Il est préférable que l'alignement de la pluralité d'ouvertures dans la configuration offre une distribution moyenne sensiblement uniforme du métal dans le revêtement métallique. Préférentiellement, la configuration de la pluralité d'ouvertures dans le revêtement métallique produit une relation non corrélée de phase de la lumière, diffractée lors de son passage à travers le revêtement métallique, à un plan d'image du revêtement métallique. De préférence, la relation de phase non corrélée réduit l'apparition de lobes latéraux dans le plan d'image. Convenablement, le rapport déterministe comprend en outre une spirale 20 d'Archimède. De préférence, un paramètre de la configuration comporte un paramètre de la spirale, une épaisseur de la pluralité d'ouvertures, une forme de la pluralité d'ouvertures. De préférence, les ouvertures adjacentes appartiennent au moins à l'un d'un type non-chevauchant et à l'un d'un type en contact l'une avec l'autre à leurs limites. 25 [00041 Selon un autre mode de réalisation, une méthode de protection d'un objet contre un signal électromagnétique comprend : la formation d'un revêtement métallique caractérisé par une pluralité d'ouvertures alignées selon une configuration définie par un rapport déterministe, dans lequel les distances entre chacune de la pluralité d'ouvertures 2 et un point d'observation dans un plan d'image associé ne sont pas corrélées, et le placement d'un revêtement métallique entre l'objet et le signal électromagnétique. Préférentiellement, le procédé comprend en outre la sélection d'un paramètre du revêtement métallique pour contrôler au moins l'un : (i) d'une propriété électrique du revêtement métallique et (ii) d'une propriété optique du revêtement métallique. De préférence, l'alignement de la pluralité d'ouvertures dans la configuration fournit une distribution moyenne sensiblement uniforme du métal dans le revêtement métallique. Il est préférable que la configuration de la pluralité d'ouvertures dans le revêtement métallique produise une relation de phase non carrelée de la lumière qui est diffractée lors de son passage à travers le revêtement métallique à un plan d'image du revêtement métallique. De préférence, la relation de phase non carrelée réduit la production de lobes latéraux par le passage de la lumière à travers le tissu à mailles métallique. Préférentiellement, le rapport déterministe comprend en outre une spirale d'Archimède. Il est préférable qu'un paramètre de la configuration comporte un paramètre de la spirale, une épaisseur de la pluralité d'ouvertures, une forme de la pluralité d'ouvertures. [0005] Selon un autre mode de réalisation, une méthode de réduction des effets de diffraction dans un écran d'interférences électromagnétiques, comprenant : la formation de l'écran d'interférences électromagnétiques à l'aide d'un revêtement métallique ayant une pluralité d'ouvertures alignées selon une configuration définie par un rapport déterministe, dans lequel les distances entre chacune de la pluralité d'ouvertures et un point d'observation dans un plan d'image associé ne sont pas corrélées. [0006] Des caractéristiques et avantages supplémentaires sont obtenus grâce aux techniques de la présente invention. D'autres modes de réalisation et aspects de l'invention sont décrits en détail aux présentes et sont considérés comme faisant partie de l'invention revendiquée. Pour une meilleure compréhension de l'invention avec ses avantages et caractéristiques, veuillez vous reporter à la description et aux dessins. 3 BRÈVE DESCRIPTION DES DIFFÉRENTES VUES DES DESSINS [0007] L'objet qui est considéré comme l'invention est souligné en particulier et distinctement revendiqué dans les revendications à la conclusion de la spécification. Ce qui précède et d'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortent de la description détaillée qui suit prise en liaison avec les dessins annexés, dans lesquels : [0008] La figure 1 montre un exemple de système qui comprend un écran d'interférences électromagnétiques (EM1) qui réduit les interférences électromagnétiques et permet le passage de longueurs d'onde optiques: [0009] La figure 2 (art antérieur) montre un exemple de configuration d'un revêtement métallique qui peut être utilisé pour bloquer les interférences électromagnétiques dans un écran d'EMI classique ; [0010] La figure 3 (art antérieur) montre un exemple de diagramme de diffraction lié à l'utilisation du revêtement métallique comportant la configuration représentée sur la figure 2; [0011] La figure 4 (art antérieur) montre une autre configuration du quadrillage 400 utilisé dans le revêtement métallique d'écrans d'EMI classiques ; [0012] La figure 5 (art antérieur) montre un exemple de diagramme de diffraction lié à l'utilisation d'un revêtement métallique présentant la configuration de la figure 4; [0013] La figure 6 montre un exemple de configuration d'un revêtement métallique de la présente invention ; et 4 [0014] La figure 7 montre un exemple de diagramme de diffraction lié à l'utilisation d'un revêtement métallique présentant la configuration illustrée dans la figure 6. DESCRIPTION DÉTAILLÉE [0015] La figure 1 montre un exemple de système 100 qui comprend un écran d'interférences électromagnétiques (EMI) 102 qui réduit les interférences électromagnétiques et permet le passage de longueurs d'onde optiques. L'écran EM1 102 comprend un substrat optique 104 et un revêtement métallique 106 formés sur une surface du substrat optique 104. Les faces de l'écran d'EMI 102 séparent l'espace environnant en un espace interne 120 et un espace externe 122. Dans un exemple de 10 mode de réalisation, l'écran d'EMI 102, y compris le substrat 104 et le revêtement métallique 106, fait partie d'une plus grande structure contigüe qui entoure ou enveloppe l'espace interne 120 pour former une cage de Faraday. Dans divers modes de réalisation, le revêtement métallique 106 de l'écran d'EMI 102 réduit la pénétration d'EMI dans l'espace interne 120, tout en permettant la transmission relativement libre de longueurs 15 d'onde optiques. Un capteur 108 est situé dans l'espace interne 120 de manière à être protégé contre un rayonnement électromagnétique provenant d'une source électromagnétique 110 dans l'espace externe 122. En outre, une source de lumière 112 telle qu'un laser peut être disposé dans l'espace interne 120 et une cible 114 peut être située dans l'espace externe 122. Le laser 112 peut être utilisé pour émettre un faisceau 20 laser sur la cible. La réflexion du faisceau laser depuis la cible 114 peut être détectée au niveau du capteur 108 pour détecter ou identifier la cible. Comme il sera décrit ci-dessous, une configuration du revêtement métallique 106 peut affecter la nature de la lumière qui traverse l'écran d'EMI 102. La présente invention fournit la configuration d'un revêtement métallique 106 qui permet une protection contre les EMI tout en 25 réduisant l'apparition de lobes de diffraction latéraux de la lumière qui traverse le revêtement métallique 106. Les figures 2 à 5 illustrent les configurations actuelles utilisées dans les écrans d'EMI.5 [0016] La figure 2 montre un exemple de configuration 200 d'un revêtement métallique qui peut être utilisée pour bloquer les interférences électromagnétiques dans un écran d'EMI classique. L'exemple de configuration 200 comprend une configuration en étoile qui comprend une pluralité d'ouvertures (les centres) 201 formant une configuration périodique. Les centres 201 sont reliés par plusieurs rayons 203. Les centres 201 et les rayons 203 définissent donc une configuration qui, dans le cas de la configuration 200, est définie selon une configuration hexagonale. Les centres 201 et les rayons 203 peuvent être composés d'une substance métallique qui est appropriée pour conduire la charge à travers la configuration en réponse aux EMI. Lorsque la lumière traverse la configuration de la grille, elle subit une diffraction depuis les centres 201 ainsi que depuis les rayons 203. La figure 3 montre une image formée dans un plan d'image pour un faisceau de lumière traversant l'exemple de configuration métallique 200. L'image produit un faisceau lumineux central 301 entouré par des anneaux de diffraction 303. Des lobes latéraux 305 sont apparents dans l'image 300. Les lobes latéraux 305 sont formés à des emplacements sensiblement périodiques par rapport au faisceau lumineux central 301. La présence des lobes latéraux 305 et leur périodicité sont le résultat d'une interférence constructive de la lumière traversant la pluralité d'ouvertures 201. En raison de la nature périodique de la configuration 200, les phases de la lumière à un lobe latéral sélectionné sont liées par un nombre entier de longueurs d'onde de la lumière. Par conséquent, la lumière interfère de façon constructive à l'emplacement des lobes latéraux 305, ce qui conduit à leur apparition dans l'image 300. [0017] La figure 4 montre un autre quadrillage 400 utilisé dans le revêtement métallique pour les écrans d'EMI classiques. Le quadrillage 400 réduit l'apparition des lobes latéraux formés dans la diffraction à des longueurs d'onde optiques tout en évitant la transmission d'EM1. Le quadrillage 400 comprend une pluralité d'ouvertures 401 qui sont placées à des endroits aléatoires dans le quadrillage 400. Le placement aléatoire des ouvertures 401 produit un rapport aléatoire ou sans corrélation entre les phases de la lumière diffractée par chacune des ouvertures, au plan de l'image associé 500 (voir figure 5). Étant donné que les phases de la lumière ne sont pas corrélées, il existe une interférence destructive 6 globale à la lumière aux emplacements des lobes latéraux qui a pour résultat la disparition ou l'absence de lobes latéraux, comme le montre l'absence de lobes latéraux dans le plan d'image 500. [0018] La figure 4 montre en outre divers éléments qui ne font pas partie du modèle 400 lorsque le revêtement est fabriqué, mais qui sont illustrés à des fins explicatives pour discuter de divers aspects du modèle 400. Ces éléments explicatifs incluent la ligne verticale 410, les parties hachurées d'ouvertures sélectionnées 412 et les zones carrées 414 et 416. La ligne verticale 410 et les ouvertures hachurées 412 illustrent la relation aléatoire ou non corrélée des ouvertures. Les ouvertures hachurées sont celles qui sont sensiblement contactées par la ligne verticale 410. La lumière qui tombe verticalement le long de la ligne peut avoir une certaine relation de phase corrélée. Les centres de chacune des ouvertures 412 hachurées peuvent être à une distance perpendiculaire déterminée de la ligne verticale 410. La distribution de ces distances est aléatoire et donc non corrélée. Étant donné que leurs distances relatives ne sont pas corrélées, la lumière diffractée par chacune des ouvertures 412 hachurées possède des phases aléatoires et non corrélées par rapport l'une à l'autre. Cette relation de phases non corrélées produit des interférences sensiblement destructives n'importe où dans le plan d'image associé - y compris à l'emplacement où des lobes latéraux se seraient formés si le quadrillage n'avait pas été favorablement disposé conformément à la présente invention - réduisant ainsi l'apparition de lobes latéraux. [0019] Les carrés 414 et 416 sont présentés pour illustrer la densité granulaire du métal d'un revêtement présentant une configuration d'ouvertures 400. La densité granulaire du métal est liée à la conductivité locale du revêtement. Cette conductivité locale varie sur l'ensemble du quadrillage par suite de l'emplacement aléatoire des ouvertures 401 dans le quadrillage 400. Pour un carré sélectionné, une densité granulaire du métal peut être déterminée en mesurant la longueur du total des segments des ouvertures dans un carré sélectionné. Le carré 414 et le carré 416 ont les mêmes dimensions. 11 est clair que la densité du métal dans le carré 414 est inférieure à la densité du métal dans le carré 416. 7 Cette différence dans la densité du métal est évidente dans la semi-transparence relative du quadrillage dans le carré 414 par rapport à l'opacité relative du quadrillage dans le carré 416. En fait, la densité granulaire du métal est inégalement répartie sur le quadrillage 400. En conséquence, la conductivité électrique ou la capacité du quadrillage aléatoire 400 à protéger les circuits contre des impulsions électromagnétiques est plus faible dans la zone définie par le carré 414 qu'elle ne l'est dans la zone définie par le carré 416. Par conséquent, le placement aléatoire des ouvertures produit un revêtement métallique qui, bien que réduisant la présence de lobes latéraux dans l'image 500, possède des capacités de protection potentiellement inégales contre les EMI. [0020] La figure 6 montre un exemple de quadrillage 600 d'un revêtement métallique de la présente invention. L'exemple de quadrillage 600 comprend une configuration de grille créée à l'aide d'un algorithme déterministe qui produit une configuration qui présente cependant une relation aléatoire ou non corrélée entre les emplacements des ouvertures 601 dans la configuration. En conséquence, un faisceau laser ou faisceau de lumière traversant l'exemple de quadrillage 60 produit un seul lobe central 702 (voir figure 7) tout en réduisant la présence de lobes latéraux. Dans le même temps, la densité du métal du quadrillage est sensiblement la même pour toutes les tailles de grain sélectionnées ou zones carrées du quadrillage. L'exemple de quadrillage 600 est formé à partir d'une spirale d'Archimède 603, qui est décrite mathématiquement par l'équation suivante : s=a+b43 Équation (1) où s est la courbe de la spirale 603, a est un décalage angulaire de la configuration 620 de la spirale 603, b est une dimension scalaire de la spirale égale à la distance entre les spires de la spirale 603 et 0 est le paramètre d'angle de la spirale 603. Ces paramètres de configuration de l'équation (1) peuvent être sélectionnés par un concepteur pour s'adapter à un critère sélectionné ou à plusieurs critères sélectionnés. Dans un exemple de mode de réalisation, les cercles 601, qui forment les ouvertures du quadrillage 600, sont placés dans la spirale d'Archimède 603. Un premier cercle est placé dans la spirale à partir d'un 8 emplacement le plus proche de l'origine 620 de la spirale 603. Chaque cercle ultérieur est placé dans la spirale 602 de façon adjacente au cercle précédent de sorte que les limites des cercles sont en contact à sensiblement un seul point, à savoir, les limites des cercles sont en contact sans chevauchement des cercles. Un cercle sélectionné est en contact avec la spirale 603 à deux emplacements sensiblement diamétralement opposés. Ce processus d'ajout d'ouvertures peut se poursuivre pour produire l'exemple de quadrillage 600. Le quadrillage 600 formé en utilisant cette méthode déterministe n'a ni une symétrie translationnelle, ni une symétrie rotationnelle. En outre, la relation de phase entre les cercles 601 n'est pas corrélée, conduisant à une relation de phase non corrélée aux lobes latéraux de l'image, comme nous le verrons ci-dessous. [0021] Dans l'exemple de quadrillage 600, différents éléments sont présentés qui ne font pas partie du quadrillage 600 lorsque le revêtement est fabriqué, mais sont présentés à des fins explicatives pour discuter de divers aspects du quadrillage 600. Ces éléments explicatifs incluent la ligne verticale 610, les ouvertures 612 hachurées sélectionnées, et les zones carrées 614 et 616. La ligne verticale 610 et les ouvertures 612 hachurées illustrent la relation aléatoire ou non corrélée des ouvertures. Les ouvertures sont situées le long d'un "treillis" non-périodique. De plus, chaque ouverture est séparée par une distance depuis un point d'observation dans un plan d'image associé. La pluralité de ces distances associées à la pluralité d'ouvertures dans le quadrillage n'est pas corrélée. Les distances perpendiculaires entre les centres des ouvertures 612 hachurées et la ligne verticale 410 ne sont pas corrélées bien que leurs emplacements soit le résultat d'une méthode de placement déterministe plutôt que d'une méthode de placement aléatoire. En conséquence, la relation de phase de la lumière n'est pas corrélée au niveau des lobes latéraux dans le plan d'image (voir plan d'image 700 de la figure 7), ce qui a pour résultat une interférence destructive globale de la lumière au niveau des lobes latéraux et la disparition ultérieure des lobes latéraux. On voit également dans la figure 6 deux carrés 614 et 616 qui sont utilisés pour déterminer une densité granulaire du métal du quadrillage 600.11 est évident que la densité des centres sur l'ensemble du quadrillage est relativement constante. Par conséquent, la densité granulaire du métal dans le carré 614 9 est approximativement la même que la densité granulaire du métal dans le carré 616. La méthode déterministe de production de l'exemple de quadrillage 600 de la présente invention fournit donc une distribution uniforme de la densité du métal sur l'ensemble du quadrillage. Cela conduit à une conductance constante au niveau de toutes les parties d'un revêtement métallique qui utilise l'exemple de quadrillage 600, ce qui permet une protection constante contre les EMI. [0022] Dans un autre mode de réalisation de l'invention, le quadrillage 600 peut comprendre une seconde spirale qui passe par les centres des cercles 601. Dans un autre mode de réalisation, la spirale 603 peut être remplie de demi-cercles. Le mode de réalisation en demi-cercles peut être adapté pour permettre un réglage facile de la résistance de surface du revêtement métallique en modifiant l'espacement entre les demi-cercles. Le mode de réalisation en demi-cercles permet d'ajuster l'irradiance d'un halo par extension en redimensionnant la totalité du quadrillage, tout en assurant la résistivité en redimensionnant l'espacement relatif des demi-cercles le long de la spirale. Dans un autre mode de réalisation, la spirale reliant les bords des cercles peut être supprimée en utilisant des cercles d'un plus grand diamètre que l'espacement des spires individuels de la spirale (« b » de l'équation 1), ce qui a pour résultat que les cercles chevauchent ceux des spires adjacents de la spirale. Dans d'autres modes de réalisation, la forme de l'ouverture peut ne pas être circulaire, c'est-à-dire elliptique, polygonale, etc. Bien que la spirale d'Archimède 603 soit utilisée comme exemple illustratif, toute courbe algébrique déterministe qui organise des ouvertures dans une configuration où la distance entre chacune des ouvertures et n'importe quel point donné dans l'espace d'image associé est aléatoire ou non corrélée, peut être utilisé dans d'autres modes de réalisation de l'invention. [0023] Dans d'autres aspects de la présente invention, l'utilisation d'une configuration de revêtement algébriquement déterministe permet à un concepteur de modifier un ou plusieurs paramètres du quadrillage pour augmenter ou diminuer la capacité du revêtement résultant pour une protection contre les EMI, tout en maintenant la capacité 10 du revêtement résultant à réduire l'apparition de lobes latéraux dans un plan d'image. Toute modification de la capacité de protection du revêtement contre les EMI nécessite de modifier la résistance électrique de la grille, ce qui nécessite de modifier la surface relative du substrat qui est couvert par le quadrillage. Par exemple, si l'ensemble du quadrillage est redimensionné en modifiant la valeur de « b » dans l'équation 1, mais la largeur des lignes métalliques qui forment le quadrillage n'est pas redimensionnée, la surface relative couverte par le quadrillage sera alors modifiée selon ce facteur global de redimensionnement. La zone fractionnelle couverte par le quadrillage représente un blocage obscurcissant de la lumière optique incidente. C'est pourquoi le concepteur peut concevoir une configuration qui troquera une protection contre les EMI pour une transmission optique, tout en assurant la réduction des lobes latéraux. En outre, la fabrication du revêtement peut être contrôlée par la sélection de paramètres de configuration, ce qui simplifie le processus de fabrication. En désignant la valeur de la largeur de la ligne de métal, le diamètre du cercle (ouverture), la valeur de « b » dans l'équation 1 et l'emplacement de l'origine de la spirale sur le substrat optique, l'ensemble du quadrillage peut être spécifié pour le processus de fabrication, et sa performance attendue peut être déterminée, à la fois en termes de performance contre les FMI et de performance optique. [0024] La terminologie utilisée aux présentes a pour seul but de décrire des modes de réalisation particuliers et n'a pas pour but de limiter l'invention. Tels qu'utilisés ici, les formes singulières "un", "une" et "le" visent à inclure également les formes plurielles, à moins que le contexte n'indique clairement le contraire. Il sera en outre entendu que les termes « comprend » et/ou « comprenant », lorsqu'il sont utilisés dans cette spécification, désignent la présence indiquée de caractéristiques, nombres entiers, étapes, opérations, éléments, et/ou composants, mais n'excluent pas la présence ou l'addition d'une ou plusieurs autres caractéristiques, nombres entiers, étapes, opérations, éléments, composants et/ou groupes de ceux-ci. 11 [0025] Les structures, les matériaux, les actes et les équivalents correspondant aux moyens ou étapes ainsi qu'aux éléments fonctionnels contenus dans les revendications ci-dessous sont destinés à inclure toute structure, matière ou acte pour réaliser la fonction en combinaison avec d'autres éléments revendiqués tels que spécifiquement revendiqués. La description de la présente invention a été présentée à des fins d'illustration et de description mais ne vise pas à être exhaustive ou limitée à la divulgation dans la forme décrite. De nombreuses modifications et variations seront évidentes à l'homme de l'art sans s'écarter de la portée et de l'esprit de l'invention. Le mode de réalisation a été sélectionné et décrit afin d'expliquer au mieux les principes de l'invention et de son application pratique, et de permettre à d'autres personnes ayant des compétences dans l'art de comprendre l'invention pour divers modes de réalisation avec diverses modifications adaptées à l'usage particulier envisagé. [0026] Bien que l'exemple du mode de réalisation de l'invention ait été décrit, il est entendu que l'homme de l'art, maintenant et à l'avenir, peut y apporter diverses améliorations et perfectionnements qui s'inscrivent dans le cadre des revendications qui suivent. Ces revendications doivent être interprétées de manière à assurer une protection adéquate de l'invention décrite au préalable. 12 REVENDICATIONSI. Écran d'interférences électromagnétiques (102), comprenant : un substrat optiquement transparent (104); un revêtement métallique (106) sur le substrat (104) optiquement transparent, le revêtement métallique (106) étant caractérisé par une pluralité d'ouvertures (201) alignées selon une configuration définie par un rapport déterministe, dans lequel les distances entre chacune de la pluralité d'ouvertures (201) et un point d'observation dans un plan d'image associé ne sont pas corrélées. 2. Écran d'interférence électromagnétique (102) selon la revendication 1, dans lequel un paramètre de la configuration est choisie pour contrôler au moins l'un: (i) d'une propriété électrique du revêtement métallique (106) ; et (ii) d'une propriété optique du revêtement métallique (106). 3. Écran d'interférences électromagnétiques (102) selon la revendication I ou 2, dans lequel l'alignement de la pluralité d'ouvertures (201) dans la configuration offre une distribution moyenne sensiblement uniforme du métal dans le revêtement métallique (106). 4. Écran d'interférences électromagnétiques (102) selon l'une quelconques des revendications 1 à 3, dans lequel la configuration de la pluralité d'ouvertures (201) dans le revêtement métallique (106) produit une relation non corrélée de phase de la lumière, diffractée lors de son passage à travers le revêtement métallique (106), à un plan d'image du revêtement métallique (106). 5. Écran d'interférences électromagnétiques (102) selon la revendication 4, dans lequel la relation de phase non corrélée réduit l'apparition de lobes latéraux dans le plan d'image. 6. Écran d'interférences électromagnétiques (102) selon l'une quelconques des revendications 1 à 5, dans lequel le rapport déterministe comprend en outre une spirale d'Archimède. 7. Écran d'interférences électromagnétiques (102) selon la revendication 6, dans lequel un paramètre de la configuration comporte un paramètre de la spirale, une épaisseur de la pluralité d'ouvertures (201), une forme de la pluralité d'ouvertures (201). 13. Écran d'interférences électromagnétiques (102) selon l'une quelconques des revendications 1 à 7, dans lequel les ouvertures (201) adjacentes appartiennent au moins à l'un d'un type non-chevauchant et à l'un d'un type en contact l'une avec l'autre à leurs limites. 9. Procédé de protection d'un objet contre un signal électromagnétique, comprenant : la formation d'un revêtement métallique (106) caractérisé par une pluralité d'ouvertures (201) alignées selon une configuration définie par un rapport déterministe, dans lequel les distances entre chacune de la pluralité d'ouvertures (201) et un point d'observation dans un plan d'image associé ne sont pas corrélées ; et le placement d'un revêtement métallique (106) entre l'objet et le signal électromagnétique. 10. Procédé selon la revendication 9. comprenant en outre la sélection d'un paramètre du revêtement métallique (106) pour contrôler au moins l'un : (i) d'une propriété électrique du revêtement métallique (106) ; et (ii) d'une propriété optique du revêtement métallique (106). 11. Procédé selon la revendication 9 ou 10, dans lequel l'alignement de la pluralité d'ouvertures (201) dans la configuration fournit une distribution moyenne sensiblement uniforme du métal dans le revêtement métallique (106). 12. Procédé selon l'une quelconques des revendications 9 à 11, dans lequel la configuration de la pluralité d'ouvertures (201) dans le revêtement métallique (106) produit une relation de phase non corrélée de la lumière qui est diffractée lors de son passage à travers le revêtement métallique (106) à un plan d'image du revêtement métallique (106). 13. Procédé selon la revendication 12, dans lequel la relation de phase non corrélée réduit la production de lobes latéraux par le passage de la lumière à travers le tissu à mailles métallique. 14. Procédé selon l'une quelconques des revendications 9 à 13, dans lequel le rapport déterministe comprend en outre une spirale d'Archimède (603). 15. Procédé selon la revendication 14, dans lequel un paramètre de la configuration comporte un paramètre de la spirale, une épaisseur de la pluralité d'ouvertures (201), une forme de la pluralité d'ouvertures (201). 14