FR 3001335 A1 20140725 FR 1350540 A 20130122 STRUCTURE SEMICONDUCTRICE ET PROCEDE DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE SEMICONDUCTRICE DOMAINE TECHNIQUE L'invention se rapporte au domaine de l'émission de lumière et des dispositifs adaptés pour une telle émission de lumière. On note ces vingt dernières années une tendance lourde vers la minimisation de la consommation énergétique des appareils électriques. Les dispositifs adaptés pour émettre de la lumière ne sont pas épargnés par une telle tendance. Ainsi, les sources de lumière de ces dispositifs sont passées tour à tour des sources de lumière incandescentes, aux tubes fluorescents et, ces dernières années, aux structures semiconductrices. Bien que le gain en consommation d'une telle structure vis-à-vis d'un tube fluorescent soit significatif, l'optimisation du rendement énergétique reste une problématique d'actualité. L'invention concerne plus particulièrement une structure semiconductrice et le procédé de fabrication d'une telle structure. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Les structures semiconductrices adaptées pour émettre de la lumière sont généralement des structures de type diode électroluminescente, plus connues sous leur sigle français DEL ou anglais LED. Une structure de ce type comporte une première et une deuxième zone semiconductrice présentant respectivement un premier et un deuxième type de conductivité opposés l'un à l'autre, la première et la deuxième zone étant reliées l'une à l'autre de manière à former une jonction semiconductrice. Selon une configuration usuelle qui est celle d'une diode verticale (plus connue sous la dénomination anglaise « Vertical Thin Film Diode » et sous le sigle anglais VTF LED), une telle structure présente une première face selon laquelle la lumière est émise, la deuxième face, opposée à la première, présentant une couche réfléchissante adaptée pour réfléchir la partie de la lumière qui n'est pas émise en direction de la face émettrice. Dans une telle configuration la première zone comporte la première face et la deuxième zone comporte la deuxième face. Afin de permettre une polarisation de la structure, chacune des zones comporte un contact électrique, le contact électrique de la deuxième zone formant la couche réfléchissante. Dans cette même configuration, le contact électrique de la première zone, afin de laisser passer la lumière émise par la jonction, occupe une surface réduite de la première face. Ainsi, les contacts électriques permettent de polariser la jonction dans laquelle a lieu la génération des photons. Une telle structure, si elle permet une émission de lumière avec un fort rendement énergétique vis-à-vis des sources de lumière à tube fluorescent, présente un certain nombre d'inconvénients. En effet, de par sa conception et la faible conductivité des matériaux dans lesquels sont formées la première et la deuxième zone semiconductrice (en comparaison de la conductivité des contacts électriques) le courant, et donc les porteurs, circulent principalement dans un volume des première et seconde zones semiconductrices défini par les lignes de projection orthogonale du contact de la première zone sur le contact de la deuxième zone, ce volume étant appelé volume de conduction. L'émission de lumière a donc principalement lieu dans la partie de la jonction comprise dans ce volume de conduction. En somme, la dispersion du courant dans la jonction de la diode électroluminescente est faible puisque la densité de courant est maximale dans le volume de conduction et décroit rapidement dans les parties de la jonction adjacentes audit volume. Il en résulte deux inconvénients qui sont qu'une majeure partie de la jonction ne contribue pas à l'émission de la lumière, puisqu'elle n'est pas traversée par un courant, et que l'émission ayant principalement lieu entre les deux contacts électriques, une part importante de la lumière émise est piégée dans une cavité optique formée par les deux contacts électriques non transparents. Il est connu, afin de remédier à ces inconvénients de prévoir dans la première zone un système de blocage de porteurs s'étendant uniquement en regard du contact électrique de la première zone. Un tel système de blocage, formé par insertion d'une zone semiconductrice de plus grand gap que le gap du semi-conducteur formant la première zone, permet de créer une barrière énergétique. Cette barrière énergétique impose aux porteurs électriques de la contourner afin d'atteindre la jonction. Autrement dit, les porteurs sont déviés vers les parties de la jonction non comprises dans le volume de conduction décrit précédemment. Ainsi, avec une telle déviation du courant de porteurs à la périphérie de la région formant le système de blocage, l'émission de lumière a lieu dans la jonction sur une partie plus étendue que celle contenue dans le volume de conduction. Il en résulte donc une augmentation du rendement d'émission de la jonction et donc de la structure, la surface d'émission étant plus grande et la part du rayonnement piégé par les contacts électriques étant réduite. Néanmoins, l'aménagement d'un tel système de blocage lors de la fabrication d'une structure semiconductrice nécessite un nombre important d'étapes de fabrication supplémentaires qui entraîne, par rapport à une structure ne présentant pas un tel système de blocage, un surcoût de fabrication non négligeable peu compatible avec les applications grand public. En particulier, l'étape de structuration du système de blocage afin que celui-ci ne s'étende que sur les parties de la première zone en regard du premier contact électrique, requiert une sortie puis un retour dans le bâti de croissance des zones semiconductrices. De plus, un tel système de blocage est principalement optimisé pour les faibles tensions de polarisation de la structure. En effet, pour les tensions de polarisation supérieures à la hauteur de barrière induite par le système de blocage, le courant n'est plus totalement dévié et une partie non négligeable de lumière est émise dans la région entre les deux contacts électriques. Une structure présentant un tel système n'est donc pas optimisée pour les applications nécessitant une forte émission de lumière. Il est également connu, pour remédier aux inconvénients présentés par une structure sans système de blocage, d'insérer une électrode transparente entre le contact électrique de la première zone et la première zone. Une telle électrode transparente, généralement réalisée en oxyde d'indium-étain (ITO), s'étend le long de la face émettrice. Ainsi, avec une telle électrode, la polarisation est appliquée sur l'ensemble de la structure et le courant de porteurs se distribue uniformément dans la structure. Il en résulte que l'émission de lumière a lieu sur la majeure partie de la jonction et que seule une faible part du rayonnement lumineux est piégée entre les contacts électriques des première et seconde zones, le reste du rayonnement passant au travers de l'électrode transparente. Si une structure comportant une telle électrode transparente permet une émission de lumière sur toute la surface de la jonction, elle présente néanmoins l'inconvénient qu'une telle électrode, en plus d'absorber une partie de la lumière émise, présente une conductivité réduite vis-à-vis de celle du contact métallique. Une telle réduction de conductivité engendre des pertes électriques qui limitent donc, avec l'absorption de lumière par l'électrode, le rendement énergétique d'une telle structure. De plus, l'emploi d'une telle électrode nécessite des traitements de surface lourds afin d'obtenir un contact électrique ohmique avec le matériau semiconducteur formant la première zone, qui augmentent drastiquement les coûts de fabrication d'une structure présentant une telle électrode vis-à-vis d'une structure ne présentant pas une telle électrode. Il est également connu pour remédier aux inconvénients présentés ci-avant de considérablement accroître l'épaisseur de la première zone semi-conductrice. En effet, l'accroissement de l'épaisseur de la première zone autorise un courant circulant dans la diode électroluminescente à se disperser. Cette solution technologique, bien que très facile à mettre en oeuvre, présente le désavantage notable, d'une part, d'accroître le temps de formation de la diode électroluminescente et, d'autre part, de consommer plus de matériaux semiconducteurs. Or, nombre de ces matériaux semiconducteurs sont en quantité limitée sur terre et donc onéreux. C'est le cas en particulier du gallium. EXPOSÉ DE L'INVENTION La présente invention vise à remédier à ces inconvénients. Un but de l'invention est de fournir une structure semiconductrice adaptée pour émettre de la lumière, présentant un rendement énergétique optimisé vis- à-vis de l'art antérieur et qui puisse être obtenue sans surcoût de fabrication significatif lié aux moyens permettant une telle optimisation du rendement. A cet effet l'invention concerne une structure semiconductrice adaptée pour émettre un rayonnement électromagnétique, ladite structure comportant : une première et une deuxième zone présentant respectivement un premier et un second type de conductivité opposé l'un par rapport à l'autre, lesdites première et deuxième zones étant reliées l'une à l'autre pour former une jonction semiconductrice, la dite jonction s'étendant le long d'un plan, dit plan de jonction, la première zone comportant au moins une première et une deuxième partie, telles que la deuxième partie est la partie de la première zone par laquelle la première zone est reliée à la deuxième zone, la première et la deuxième partie étant séparées l'une de l'autre par une couche intermédiaire, dite de dispersion, s'étendant sensiblement parallèlement au plan de jonction le long d'une majeure partie de la jonction, ladite couche de dispersion étant adaptée pour provoquer une dispersion des porteurs dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion. Une telle couche de dispersion permet, lors de la polarisation de la structure la comportant, de disperser les porteurs dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion. Ainsi, on obtient dans la deuxième partie de la première zone une distribution du courant plus homogène dans la jonction. Les recombinaisons paires électron-trou, et donc l'émission de lumière, dans la jonction peuvent donc avoir lieu sur la majeure partie de la jonction. Il en résulte donc que par rapport à une structure de l'art antérieur ne comportant une telle couche de dispersion l'émission de lumière est répartie sur la majeure partie de la jonction et seule une faible part du rayonnement est absorbée par le contact de la première zone. De plus une telle couche de dispersion peut, dans une configuration multicouche, être simplement réalisée en modifiant temporairement, durant l'étape de formation de la première zone, les matériaux formant la première zone. Il en résulte que les surcoûts de fabrication d'une structure comportant une telle couche de dispersion peuvent ne pas être significatifs vis-à-vis des coûts de fabrication d'une structure ne comportant pas une telle couche de dispersion. On entend par dispersion de porteurs, plus connu sous son équivalent anglais de « carrier spreading », la redistribution homogène des porteurs selon le plan de la couche de dispersion. La première et la deuxième zone peuvent être reliées l'une à l'autre par une troisième zone. La troisième zone peut comprendre un semiconducteur intrinsèque ou non intentionnellement dopé, de nature identique ou différente de celle des première et seconde zones. La troisième zone peut ètre formée de différentes parties. La première et la deuxième zone peuvent être en contact physique l'une avec l'autre de manière à former la jonction et à être reliées directement l'une à l'autre. La couche de dispersion peut s'étendre le long de la totalité de la jonction. Ainsi les porteurs peuvent être répartis sur la totalité de la jonction. La couche de dispersion peut présenter sur toute son épaisseur une résistivité plus forte que celle de la première partie de la première zone. Ainsi la résistivité de la couche de dispersion devient prépondérante par rapport à celle de la première partie et avantageusement par rapport à celle de la deuxième partie. La résistance dans le plan de la première partie est donc négligeable vis- à-vis de la résistance pour traverser orthogonalement la couche de dispersion et n'augmente donc pas significativement la résistance perçue par un porteur s'éloignant du chemin le plus court entre les deux contacts électriques. Il en résulte donc une bonne dispersion des porteurs de la première zone dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion. La première partie peut être une couche sensiblement parallèle au plan de jonction, la première partie de la première zone présentant une résistivité pi et une épaisseur d1, la couche de dispersion présentant une résistivité pd et une épaisseur dd et la jonction présentant dans plan jonction une dimension maximale 2L, les épaisseurs et les résistivités respectives de la première partie de la première zone et de la couche de P xd dispersion respectant l'inégalité suivante :- iih La couche de dispersion peut présenter sur toute son épaisseur une résistivité plus forte que celle de la première et de la deuxième partie de la première zone. Selon cette même possibilité et une température de fonctionnement nominale de la structure qui est Tuf, la couche de dispersion peut présenter une bande de conduction de niveau d'énergie inférieure au plus de kTnf au niveau énergétique de la bande de conduction de la première partie de la première zone si la première zone est du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des électrons, ou une bande de valence de niveau d'énergie supérieure au plus de kTnf au niveau d'énergie de la bande de valence de la première zone si la première zone est du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des trous. On entend ci-dessus et dans le reste de ce document par température de fonctionnement nominale Tnf de la structure, la température maximale pour laquelle la structure a été conçue pour fonctionner. Ainsi pour des structures destinées à fonctionner à la température ambiante, la température de fonctionnement nominale Tnf sera généralement fixée à 100°C. La couche de dispersion peut être adaptée pour former avec la première partie de la première zone une chute de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone lorsque ces derniers passent de la première partie de la première zone à la couche de dispersion. On entend ci-dessus et dans le reste de ce document par porteurs majoritaires de la première ou de la deuxième zone, les porteurs majoritaires correspondant au type de conductivité de la zone correspondante en l'absence de polarisation de la structure. Ainsi par exemple, si la première zone présente une conductivité dans laquelle les porteurs majoritaires sont obtenus au moyen de donneurs d'électrons, les porteurs majoritaires de la première zone sont des électrons. A l'inverse, si la première zone présente une conductivité dans laquelle les porteurs majoritaires sont obtenus au moyen d'accepteurs d'électrons, les porteurs majoritaires sont des trous. On entend également dans la suite de ce document par porteurs minoritaires de la première ou de la deuxième zone les porteurs d'un type opposé au type des porteurs majoritaires de la zone correspondante. Ainsi avec une telle chute de potentiel, les porteurs majoritaires de la première zone, lors de leur passage par l'interface entre la première partie et la couche de dispersion, voient une partie de leur énergie potentielle qui est convertie en énergie cinétique. Cette énergie cinétique entraîne une dispersion des porteurs majoritaires de la première zone qui a notamment lieu dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion. Selon cette même possibilité et une température de fonctionnement nominale de la structure qui est Tuf, la couche de dispersion peut présenter - une bande de conduction de niveau d'énergie supérieur au niveau d'énergie de la bande de conduction de la première partie de la première zone d'une valeur au moins égale à kTnf si la première zone est du type de conductivité pour laquelle les porteurs majoritaires sont des électrons, ou une bande de valence de niveau d'énergie inférieur au niveau d'énergie de la bande de valence de la première zone d'une valeur au moins égale à kTnf si la première zone est du type de conductivité pour laquelle les porteurs majoritaires sont des trous, k étant dans l'expression ci-dessus la constante de Boltzmann. La couche de dispersion peut être adaptée pour former avec la deuxième partie de la première zone une chute de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion à la deuxième partie. Ainsi avec une telle chute de potentiel, les porteurs majoritaires de la première zone, lors de leur passage par l'interface entre la couche de dispersion et la deuxième partie de la première zone, voient une partie de leur énergie potentielle qui est convertie en énergie cinétique. Cette énergie cinétique entraîne une dispersion des porteurs majoritaires de la première zone qui a notamment lieu dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion. Selon cette même possibilité et une température de fonctionnement nominale de la structure qui est Tuf, la couche de dispersion peut présenter : - une bande de conduction de niveau d'énergie inférieur au niveau d'énergie de la bande de conduction d'une valeur au moins égale à kTnf de la seconde partie de la première zone si la première zone est du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des électrons, ou une bande de valence de niveau d'énergie supérieur au niveau d'énergie de la bande de valence de la seconde zone d'une valeur au moins égale à kTnf si la première zone est du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des trous. Selon cette dernière possibilité, la deuxième partie de la première zone peut présenter une largeur de bande interdite dont l'énergie est inférieure à la largeur de bande interdite de la couche de dispersion. Une telle différence entre les largeurs de bandes interdites de la deuxième partie et de la couche de dispersion peut permettre de ne pas créer une barrière de potentiel entre la couche de dispersion et la deuxième zone. Ceci permet de limiter les pertes lors du fonctionnement de la structure et donc d'améliorer le rendement énergétique de la structure. La couche de dispersion peut être adaptée pour former avec la deuxième partie une barrière de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion à la deuxième partie. Avec une telle barrière de potentiel, la résistance d'interface entre la couche de dispersion et la deuxième partie de la première zone est augmentée pour les porteurs majoritaires de la première zone lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion à la deuxième partie de la première zone. Ainsi, la résistance pour les porteurs majoritaires le long de la couche de dispersion est donc négligeable vis-à-vis de la barrière énergétique d'interface entre la couche de dispersion et la deuxième partie de la première zone et n'augmente donc pas significativement la résistance perçue par un porteur s'éloignant du chemin le plus court entre les contacts électriques de la première zone et de la deuxième zone. Selon cette même possibilité et une température de fonctionnement nominale de la structure qui est Tuf, la couche de dispersion peut présenter : - une bande de conduction de niveau d'énergie supérieure au niveau énergétique de la bande de conduction de la seconde partie de la première zone d'une valeur inférieure à kTnf pour une première zone du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des électrons, ou une bande de valence de niveau énergétique inférieure au niveau énergétique de la bande de valence de la seconde zone d'une valeur inférieure à kTnf pour une première zone du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des trous. Selon cette dernière possibilité, la deuxième partie de la première zone peut présenter une largeur de bande interdite dont l'énergie est supérieure à celle de la largeur de bande interdite de la couche de dispersion. La couche de dispersion peut former un puits de potentiel, pour les porteurs majoritaires de la première zone, entre la première et la deuxième partie de la première zone. Ainsi, les porteurs majoritaires de la première zone traversant l'interface entre la première partie et la couche de dispersion perdent une partie de leur énergie potentielle qui est convertie en énergie cinétique et sont partiellement confinés dans la couche de dispersion en raison de la barrière de potentiel présente à l'interface entre la couche de dispersion et la deuxième partie de la première zone. Les porteurs majoritaires de la première zone sont donc à même, en raison de leur énergie cinétique et du confinement partiel dans la couche de dispersion, de se disperser dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion. la première zone peut être formée d'au moins trois éléments chimiques dont la proportion en au moins un desdits éléments permet de varier la largeur de bande interdite d'un matériau semiconducteur formé desdits éléments, la couche de dispersion présentant une proportion moyenne en au moins un des éléments différents de celle d'au moins la première partie de la première zone de manière à ce que la couche de dispersion présente une largeur de bande interdite inférieure à celle de la première partie. De tels éléments chimiques permettent lors de la fabrication de la structure, en faisant varier la proportion d'au moins un de ces éléments lors de l'étape de fourniture de la première zone, de modifier la largeur de bande interdite en fonction des valeurs de bande interdite recherchée. On obtient ainsi une structure selon l'invention avec des coûts de fabrication du même ordre de grandeur que ceux d'une structure de l'art antérieur. La première zone peut être formée d'au moins trois éléments chimiques sélectionnés dans le groupe comportant l'indium (In), le gallium (Ga), l'aluminium (AI), l'azote (N) et un élément chimique donneur ou accepteur d'électrons pour les 2 0 semiconducteurs formés par lesdits éléments chimiques. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'une structure semiconductrice comportant les étapes consistant à : former la première partie de la première zone, former la couche de dispersion en contact sur l'une de ses 25 deux faces avec la première partie, former la deuxième partie de la première zone en contact avec la couche de dispersion sur la face de la couche de dispersion qui est opposée à la première partie de la première zone, former la deuxième zone de la structure, la deuxième zone 30 de la structure étant reliée à la première zone. Un tel procédé permet la fourniture d'une structure selon l'invention. La première zone peut être une multicouche comportant une première et une deuxième couche formant respectivement la première et la deuxième partie, les étapes de formation de la première et de la deuxième partie étant chacune une étape de formation d'un matériau semiconducteur afin de former une couche dudit matériau. Les étapes de formation des première et deuxième parties et de la couche de dispersion peuvent être réalisées en une seule étape consistant à déposer un matériau semiconducteur comportant au moins un type d'éléments dopants adapté pour fournir au moins un porteur correspondant au premier type de conductivité, la concentration en l'au moins un type d'éléments dopants étant variée pendant le dépôt de manière à former la couche de dispersion. Les première et deuxième parties de la première zone et la couche de dispersion peuvent être formées de matériaux semiconducteurs présentant pour au moins la première partie et la couche de dispersion une largeur de bande interdite différente, les étapes de formation des première et deuxième parties et de la couche de dispersion étant réalisées en une seule étape consistant à déposer des éléments chimiques, formant un matériau semiconducteur, dont la composition est variée pendant le dépôt de manière à former successivement la deuxième partie, la couche de dispersion et la première partie. De tels procédés permettent la fourniture de structures selon l'invention sans surcoûts significatifs vis-à-vis d'une structure selon l'art antérieur, les couches formant la première zone étant fournies en une seule étape. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation, donnés à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 illustre une vue schématique en coupe transversale d'une structure selon l'invention, la figure 2 illustre un diagramme de bande en bandes plates simplifié et schématisé d'un premier mode de réalisation de l'invention, la figure 3 illustre le principe de fonctionnement général d'une structure selon l'invention, la figure 4 illustre un diagramme de bandes en bandes plates simplifié et schématisé d'un deuxième mode de réalisation de l'invention, la figure 5 illustre un diagramme de bandes en bandes plates simplifié et schématisé d'un troisième mode de réalisation de l'invention. Des parties identiques, similaires ou équivalentes des différentes figures portent les mêmes références numériques de façon à faciliter le passage d'une figure à l'autre. Les différentes parties représentées sur les figures ne le sont pas nécessairement selon une échelle uniforme, pour rendre les figures plus lisibles. Les différentes possibilités et variantes de l'invention doivent être comprises comme n'étant pas exclusives les unes des autres et peuvent se combiner entre elles. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Les structures selon l'invention décrites ci-dessous sont des exemples de mise en oeuvre de l'invention qui ont pour but d'illustrer les possibilités de l'invention et ne sont donc pas limitatives des applications possibles de l'invention. De même les valeurs indiquées ci-dessous, quand cela est précisé, sont des valeurs correspondant à une application particulière de l'invention. Ces valeurs ne doivent donc pas être entendues comme des valeurs limitatives de l'invention et ne sont donc données qu'à titre d'exemple. Premier mode de réalisation La figure 1 illustre une vue en coupe transversale d'une structure 1 selon un premier mode de réalisation de l'invention qui est une structure adaptée pour émettre un rayonnement électromagnétique, dit plus généralement de la lumière. Ce premier mode de réalisation est le mode de réalisation préféré de l'invention. La structure 1 selon l'application particulière est une structure adaptée pour émettre un rayonnement électromagnétique dont la gamme de longueurs d'onde est comprise dans la gamme de longueurs d'onde du visible. Bien entendu, l'invention ne se limite pas aux seules gammes de longueurs d'onde présentes dans le visible et le principe de l'invention peut être adaptée sur tout type de structure semiconductrice quelle que soit la gamme de longueur dans laquelle elle est destinée à émettre. La structure présente une température de fonctionnement nominale à laquelle elle est destinée à fonctionner, une telle température de fonctionnement nominale est notée Tuf. Dans l'application particulière la température de fonctionnement nominale est égale à 100°C. Une telle structure 1 comporte une première et une deuxième zone 10, 20 reliées l'une à l'autre par une troisième zone 30 pour former une jonction semiconductrice, chacune étant en contact avec un contact électrique respectif 41, 42. Plus précisément, une telle structure 1 comporte en partant du deuxième contact 42 électrique en direction du premier contact 41 électrique : le deuxième contact 42 électrique, la deuxième zone 20 semiconductrice présentant une première et une seconde face, la première face étant en contact avec le deuxième contact 42 électrique, la deuxième zone 20 présentant une conductivité d'un deuxième type, la troisième zone 30 semiconductrice en contact avec la deuxième zone 20, sur la seconde face de la deuxième zone 20, la troisième zone 30 présente une largeur de bande interdite inférieure à celle des zones 10 et 20, la première zone 10 semiconductrice en contact avec la troisième zone 30, sur la face de la troisième zone 30 qui est opposée à la deuxième zone 20, la première zone 10 présentant une conductivité d'un premier type opposé au deuxième type de conductivité de manière à former avec la deuxième zone 20 une jonction semiconductrice qui s'étend dans la troisième zone 30, la face de la première zone qui est opposée à la troisième zone 30 présentant la surface d'émission de la structure 1, le premier contact 41 électrique en contact avec la première zone 10, sur la face de la première zone 10 qui est opposée à la troisième zone 30. Selon une possibilité avantageuse de l'invention, au moins la première zone 10 et préférentiellement l'ensemble des zones semiconductrices 10, 20, 30 de la structure 1 sont réalisées dans des matériaux semiconducteurs formés d'au moins trois même éléments chimiques adaptés pour que la variation de la proportion d'au moins un de ces éléments chimiques induise une variation de la largeur de bande interdite du matériau comportant ladite proportion dudit élément chimique. Selon cette possibilité avantageuse de l'invention, les éléments semiconducteurs formés peuvent être une combinaison d'éléments sélectionnés dans les colonnes III et V du tableau périodique de Mendeleiev, tels que l'indium In, le gallium Ga, l'arsenic As, l'antimoine Sb, l'aluminium Al et l'azote N, ou d'éléments sélectionnés dans les colonnes II et VI du tableau périodique de Mendeleiev, tels que le cadmium Cd, le tellure Te, le mercure Hg, le zinc Zn, l'oxygène O et le sélénium Se. Ainsi dans l'application particulière, les première, deuxième et troisième zones sont composées des trois mêmes éléments chimiques que sont le gallium Ga, l'indium In et l'azote N et sont ainsi formées soit en nitrure de gallium GaN, soit dans un nitrure de gallium-indium InxGai_xN, x étant une valeur comprise entre 0 et 1. Dans la configuration illustrée sur la figure 1, la deuxième zone 20 comprend un support semiconducteur sensiblement plat. Le support est un semiconducteur préférentiellement à gap direct. La largeur de bande interdite de la deuxième zone 20 possède une énergie supérieure à celle du rayonnement électromagnétique émis par la structure 1. Dans l'application particulière, la deuxième zone 20 présente le deuxième type de conductivité qui est un type de conductivité dont les porteurs majoritaires sont des trous. Selon cette même application particulière, la concentration en porteurs majoritaires de la deuxième zone 20 est adaptée pour que ladite deuxième zone 20 présente une résistivité de 1 0.cm. On peut noter que, selon une possibilité alternative de l'invention, qui n'est pas illustrée, la deuxième zone peut comprendre une zone semiconductrice prenant une forme autre que celle d'un support semiconducteur plat. Selon une configuration alternative de l'invention non illustrée, l'invention peut également comporter un support en contact avec la deuxième zone. Dans cette configuration, le support est en contact avec la deuxième couche sur la face de la deuxième zone qui est opposée à la troisième zone. Le deuxième contact électrique forme une couche réfléchissante sur la face du support qui est opposée à la deuxième zone. La première face de la deuxième zone 20 est en contact avec le deuxième contact électrique 42. Le deuxième contact 42 électrique est une couche en matériau conducteur adaptée pour injecter des porteurs majoritaires de la deuxième zone 20 dans la deuxième zone 20 et former un contact de type ohmique avec le matériau formant ladite deuxième zone. Le matériau conducteur formant le deuxième contact 42 est préférentiellement un matériau adapté pour réfléchir au moins partiellement, et préférentiellement sensiblement totalement, les rayonnements électromagnétiques dont la longueur d'onde est comprise dans la gamme de longueurs d'onde dans laquelle est destinée à émettre la structure 1. Le deuxième contact 42 recouvre sensiblement la totalité de la première face de la deuxième zone 20. La deuxième zone 20 est en contact sur sa deuxième face avec la troisième zone 30. La troisième zone 30 est une couche semiconductrice réalisée dans un matériau semiconducteur généralement à gap direct dont la largeur de bande interdite est adaptée à la longueur d'onde du rayonnement électromagnétique à laquelle est destinée à émettre la structure 1. Afin d'obtenir un meilleur rendement de la structure, la troisième zone présente préférentiellement, comme cela est illustré sur la figure 2, une largeur de bande interdite qui est inférieure à celle de la première zone et à celle de la deuxième zone. On peut noter que la troisième zone 30 peut présenter une largeur de bande interdite qui n'est pas inférieure à celle des première et deuxième zones 10, 30. La troisième zone s'étend selon un plan qui est dit plan de la troisième zone. La troisième zone 30 peut être une zone dite « intrinsèque » ou une zone dite « non intentionnellement dopée ». On entend par zone non intentionnellement dopée que la concentration en porteurs majoritaires dans ladite zone est celle dans un matériau dans lequel on n'a pas intentionnellement introduit d'éléments dopants, c'est-à-dire adaptés pour fournir des porteurs, et qui présente alors une concentration en porteurs majoritaires qui est dite non intentionnellement dopée. La valeur et le type de porteurs dans une zone du type non intentionnellement dopé sont liés au procédé de formation de ladite zone. Selon une possibilité de l'invention non illustrée, la troisième zone 30 peut comporter un ou plusieurs systèmes de confinement de porteurs, tel que des puits quantiques afin d'augmenter le rendement d'émission de ladite structure 1. Dans l'application particulière, la troisième zone 30 est formée en nitrure de gallium-indium InxGai_xN avec une proportion en indium In x qui est de 15 %. Selon cette même application, l'épaisseur de la troisième zone 30 est sensiblement égale à 50 nm. La concentration en porteurs dans la troisième zone 30 dans l'application particulière est celle d'un nitrure de gallium-indium InxGai_xN de type intrinsèque ou non 2 0 intentionnellement dopé. La troisième zone 30 est en contact avec la première zone 10 sur la face de la troisième zone 30 qui est opposée à la deuxième zone 20. Ainsi la troisième zone 30 relie la première et la deuxième zone 10, 20 de manière à former une double hétérojonction semiconductrice. Le plan de la troisième 25 zone 30 forme le plan de jonction. La première zone 10, selon la possibilité illustrée sur la figure 1, prend la forme d'une multicouche comportant, en partant de la troisième zone en direction du premier contact : - une deuxième partie 12 prenant la forme d'une couche, la première zone 10 étant reliée à la troisième zone 30 et donc à la deuxième zone 20 par la deuxième partie 12, - une couche intermédiaire 13, dite de dispersion, qui est en contact avec la deuxième partie 12 sur la face de la deuxième partie 12 qui est opposée à la troisième zone 30, - une première partie 11 en contact avec la couche de dispersion 13 sur la face de la couche de dispersion 13 qui est opposée à la deuxième partie 12. La deuxième partie 12 de la première zone 10 est une couche semiconductrice préférentiellement à gap direct. La deuxième partie 12 présente une conductivité du premier type avec une concentration en porteurs majoritaires qui est, en valeur absolue, plus importante que celle de la troisième zone 30. Selon une possibilité de l'invention, la deuxième partie 12 peut être réalisée dans le même matériau semiconducteur que celui de la deuxième zone 20, le type de conductivité étant inversé. Dans l'application particulière la deuxième partie 12 est réalisée en nitrure de gallium (GaN). Dans cette même application, la concentration en porteurs majoritaires dans la deuxième partie 12 est adaptée pour que la deuxième partie 12 présente une résistivité de 1.10-3 Q.cm et la conductivité de cette même deuxième partie 12 est du type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des électrons. La deuxième partie 12 est en contact avec la couche de dispersion 13. La couche de dispersion 13 est une couche en matériau semiconducteur préférentiellement à gap direct. La couche de dispersion 13 est du premier type de conductivité. La couche de dispersion 13 présente une résistivité plus forte que celle de la première partie 11, et préférentiellement que celle de la deuxième partie 12. La résistivité augmentée de la couche de dispersion 13 vis-à-vis de la première partie 11 et préférentiellement de la deuxième partie 12, peut être fournie, comme cela est illustré sur la figure 2, par une concentration en porteurs majoritaires dans la couche de dispersion 13 qui est inférieure à celle de la première partie 11 et préférentiellement de la deuxième partie 12. La couche de dispersion 13 est préférentiellement réalisée dans le même matériau que la deuxième partie 12. La différence de concentration en porteurs majoritaires entre la première partie 11 e et la couche de dispersion 13 implique inévitablement la formation d'une barrière énergétique à l'interface entre cette même première partie 11 et la couche de dispersion 13. Dans le cas particulier de la figure 2, la barrière énergétique correspond à une différence énergétique négative entre les bandes de conduction de la couche de dispersion 13 et la première partie 11. Il est préférable, afin que cette barrière ne limite pas significativement la circulation des porteurs, que les concentrations en porteurs majoritaires de la première partie 11 et la couche de dispersion 13 soient adaptées de manière à ce que la barrière énergétique présente une valeur inférieure à kTnf. Autrement dit que les porteurs transitant de la première partie 11 vers la deuxième partie 12 ne ressentent pas la barrière en passant dans la couche de dispersion 13 puisque l'agitation thermique leur permet de la franchir. La couche de dispersion 13 s'étend sensiblement parallèlement au plan de jonction au moins le long d'une majeure partie de la jonction et préférentiellement, comme cela est illustré sur la figure 1, le long de la totalité de la jonction. L'épaisseur de la couche de dispersion 13 est préférentiellement adaptée pour permettre une dispersion des porteurs sur toute la longueur de la jonction, la dimension maximale de la structure dans le plan de jonction 31 étant 2L. Une telle adaptation, selon ce mode de réalisation, est obtenue lorsque l'épaisseur de la couche de dispersion respecte l'inégalité suivante : Pi d dd Afin d'illustrer l'application pratique de cette inégalité on peut prendre l'exemple présenté ci-dessous. Ainsi dans une diode électroluminescente présentant une jonction d'un diamètre de 500 iim (L), dans laquelle doit avoir lieu l'émission de lumière avec un premier contact 41 électrique centrale de diamètre de 50 iim, une longueur de dispersion, de plus de 225 iim (L/2) serait nécessaire pour distribuer uniformément le courant sur la « surface de jonction ». Dans une telle configuration avec une épaisseur de la première zone de 1 iim et une résistivité de cette dernière de 1.10-3 Q.cm, la couche de dispersion pourrait présenter une épaisseur de 0.6 iim pour une résistivité de 1 Q.cm ou encore une épaisseur de 60 nm pour une résistivité de 10 Q.cm. Dans l'application particulière, la couche de dispersion 13 est réalisée en nitrure de gallium GaN. La couche de dispersion 13 présente un type de conductivité dont les porteurs majoritaires sont des électrons. Dans cette même application particulière, la concentration en porteurs majoritaires est adaptée pour que la couche de dispersion présente une résistivité sensiblement égale à 1.104 Q.cm. Ainsi, une telle couche de dispersion 13 est adaptée pour provoquer une dispersion des porteurs de la première zone 10 dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion 13 et permet d'obtenir une répartition homogène du courant lors de son passage dans la jonction. La couche de dispersion 13 est en contact avec la première partie 11 de la première zone 10. La première partie 11 est une couche semiconductrice préférentiellement à gap direct. La première partie 11 est préférentiellement formée dans le même matériau que la deuxième partie 12. La première partie 11 est du premier type de conductivité. La première partie 11 présente une conductivité plus importante que la couche dispersion 13 et du même ordre de grandeur que celle de la deuxième partie 12 et préférentiellement sensiblement égale à celle de la deuxième partie 12. Ainsi, dans la configuration illustrée sur la figure 2, la première et la deuxième partie 11, 12 et la couche de dispersion 13 étant réalisées dans le même matériau semiconducteur, la couche de dispersion 13 forme à son interface avec la première partie 11 une barrière de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone 10 lorsque ces derniers passent de la première partie 11 à la couche de dispersion 13. Dans cette même configuration, la couche de dispersion 13 forme également à son interface avec la première partie 11 une barrière de potentiel pour les porteurs minoritaires de la première zone 10 lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion 13 à la première partie 11. Dans l'application particulière, la première partie 11 est formée de nitrure de gallium GaN. La première partie 11 est d'un type de conductivité pour lequel les porteurs majoritaires sont des électrons. La première partie 11, dans cette même application particulière, comporte une concentration en porteurs majoritaires adaptée pour que la première partie 11 présente une résistivité de 1.10-4 Q.cm. La première partie 11 est en contact avec le premier contact 41. Le premier contact 41 est un matériau conducteur adapté pour former un contact du type ohmique avec la première partie 11. Le premier contact 41 est en contact avec la première partie 11 sur une portion de la face de la première partie 11 qui est opposée à la couche de dispersion 13. La portion représente un pourcentage au moins inférieur à 20 % de la surface de la face de la première partie 11. Une telle structure 1 peut être formée par la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication comprenant les étapes consistant à : fournir un support semiconducteur de manière à former la deuxième zone 20, ledit support présentant le deuxième type de conductivité et comportant une première et une seconde face, former en contact avec la deuxième face de la deuxième zone 20, une troisième zone 30 semiconductrice, ladite troisième zone 30 étant du type intrinsèque ou du type non intentionnellement dopé, former en contact avec la troisième zone 30, sur la face de la troisième zone 30 qui est opposée à première zone 10, la deuxième partie 12, ladite deuxième partie 12 présentant une conductivité du premier type, former en contact avec la deuxième partie 12, sur la face de la deuxième partie 12 qui est opposée à la troisième zone 30, la couche de dispersion 13, la couche de dispersion 13 présentant le premier type de conductivité et une résistivité plus importante que celle de la deuxième partie 12, - former la première partie 11 en contact avec la couche de dispersion 13, sur la face de la couche de dispersion 13 qui est opposée à la deuxième partie 12, la première partie 11 présentant une conductivité du premier type et présentant une concentration en porteurs majoritaires du même ordre de grandeur que celui de la deuxième partie 12, la première partie 11 formant, avec la couche de dispersion 13 et la deuxième partie 12, la première zone 10, former le premier contact 41 en contact avec la première partie 11 sur la face de la première partie 11 qui est opposée à la couche de dispersion 13, former le deuxième contact électrique 42 en contact avec la première face de la deuxième zone 20. On peut également noter qu'un tel procédé de fabrication possède l'avantage que la formation des couches 11, 12, 13 composant la première zone 10, dans le cas où l'ensemble des couches constituant la première zone 10 est formé du même matériau, peut être obtenue en une seule étape en modulant la concentration en éléments dopants lors du dépôt dudit matériau pour former la couche de dispersion 13. Ainsi il est possible, de même que pour une diode électroluminescente de l'art antérieur, de former la première zone 10 en une seule étape ceci avec le même équipement mis en oeuvre lors de la fabrication de la structure 1 de l'art antérieur. Deuxième mode de réalisation La figure 4 illustre schématiquement un diagramme de bandes de bandes plates d'une structure 1 selon un deuxième mode de réalisation de l'invention. Une structure 1 selon le deuxième mode de réalisation se différencie d'une structure 1 selon le premier mode de réalisation en ce que la couche de dispersion 13 présente une largeur de bande interdite inférieure à celle des première et deuxième parties 11, 12 de la première zone 10. Dans ce mode de réalisation, la couche de dispersion 13 est réalisée dans un matériau semiconducteur qui présente une largeur de bande interdite inférieure au matériau semiconducteur formant la première et la deuxième partie 11, 12 de la première zone 10. Dans le mode de réalisation illustré en figure 4, la couche de dispersion 13 forme un puits de potentiel entre les première et deuxième parties 11' 12. Le niveau de la bande de conduction et le niveau de la bande de valence de la couche de dispersion sont respectivement plus et moins énergétiques que les niveaux de la bande correspondante des première et deuxième parties 11, 12. Ainsi, la couche de dispersion 13 forme avec la première partie 11 une chute de potentiel pour les porteurs de la première zone 10 lorsque ces derniers passent de la première partie 11 à la couche de dispersion 13. De même dans cette configuration, la couche de dispersion 13 forme à son interface avec la deuxième partie 12 une barrière de potentiel pour les porteurs de la première zone 10 lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion 13 à la deuxième partie 12. La couche de dispersion 13 forme ainsi, avec la chute de potentiel formée à son interface avec la première partie 11 et avec la barrière de potentiel formée à son interface avec la deuxième partie 12 un puits de potentiel. Les porteurs de la première zone 10 lorsqu'ils passent de la première partie 11 à la couche de dispersion 13 perdent, en raison de la chute de potentiel, une partie de leur énergie potentielle qui est convertie en énergie cinétique et se retrouvent partiellement confinés dans la couche de dispersion 13 en raison de la barrière de potentiel. Les porteurs de la première zone 10, avec cette énergie cinétique et en étant partiellement confinés, se dispersent dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion permettant ainsi l'obtention d'une répartition plus homogène du courant lors de son passage dans la jonction. Une structure 1 selon l'application particulière décrite dans le premier mode de réalisation peut être adaptée selon le deuxième mode de réalisation. Dans une telle adaptation, la couche de dispersion 13 n'est pas réalisée dans le même matériau que celui de la première et de la deuxième partie 11, 12 mais est réalisée en nitrure de gallium-indium InxGal,N avec une proportion relative de 5 % d'indium In. Les autres caractéristiques de la structure 1 restent identiques à celles précédemment décrites. Un procédé de fabrication d'une structure 1 selon ce deuxième mode de réalisation se différencie d'un procédé de fabrication d'une structure 1 selon le premier mode de réalisation dans la réalisation de l'étape de formation de la couche de dispersion 13. En effet, pour un procédé de fabrication d'une structure 1 selon le deuxième mode de réalisation, la couche de dispersion 13 étant réalisée dans un matériau possédant une largeur de bande interdite inférieure de celle de la première et de la deuxième partie 11, 12, il est nécessaire de modifier le matériau déposé entre l'étape de formation de la deuxième partie 12 et l'étape de formation de la couche de dispersion 13. On peut noter que pour des matériaux semiconducteurs offrant la possibilité de modifier la largeur de bande interdite par le changement de proportion d'un élément comme c'est le cas par exemple pour les nitrures de gallium-indium InxGal_ xN et pour les oxydes de zinc-manganèse ZnxMg1,0, il est possible de former la couche de dispersion 13 en modifiant la proportion d'au moins un des éléments de manière à obtenir la largeur de bande interdite adéquate et de modifier la concentration en éléments dopants. Après formation de la couche de dispersion 13, les conditions de dépôt utilisées pour la formation de la deuxième partie 12 sont rétablies afin de former la première partie 11. Troisième mode de réalisation La figure 5 illustre schématiquement un diagramme de bandes en bandes plates d'une structure 1 selon un troisième mode de réalisation de l'invention. Une structure 1 selon le troisième mode de réalisation se différencie d'une structure 1 selon le deuxième mode de réalisation en ce que la deuxième partie 12 présente une largeur de bande interdite qui est inférieure à celle de la couche de dispersion 13. Dans ce troisième mode de réalisation la couche formant la deuxième partie 12 est réalisée dans un matériau semiconducteur, préférentiellement à gap direct, qui possède une largeur de bande interdite inférieure à celle de la couche de dispersion 13. Une telle deuxième partie 12, en présentant une conductivité sensiblement identique à celle de la première partie 11, permet à la couche de dispersion 13 de former avec la deuxième partie une chute de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone 10 lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion 13 à la deuxième partie 12. Ainsi, pour une structure 1 selon le troisième mode de réalisation, comme pour une structure 1 selon le deuxième mode réalisation, un porteur, en passant de la première partie 11 à la couche de dispersion 13, et donc en passant par la chute de potentiel formée à l'interface entre la première partie 11 et la couche de dispersion 10, voit son énergie potentielle en partie diminuée et convertie en énergie cinétique. Les porteurs peuvent, avec cette énergie cinétique se disperser notamment selon les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion 13. De plus, dans ce mode de réalisation, la couche de dispersion 13 formant une chute de potentiel avec la deuxième partie 12, les porteurs subissent également une perte d'une partie de leur énergie potentielle qui est convertie en énergie cinétique lors de leur passage de la couche de dispersion 13 à la deuxième partie 12. Ainsi, les porteurs peuvent de nouveau, avec cette énergie cinétique, se disperser notamment selon les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion 13. Le troisième mode de réalisation est particulièrement avantageux car les porteurs ne sont soumis à aucune barrière énergétique dans la zone 10. En conséquence les tensions de fonctionnement de la structure sont plus faibles que celles d'une structure selon les modes de réalisation précédemment exposés. Un tel troisième mode de réalisation peut être adapté à l'application particulière décrite dans le premier mode de réalisation. Dans une telle adaptation, la couche de dispersion 13 est réalisée selon l'adaptation déjà décrite pour le deuxième mode de réalisation tandis que la première partie 11 est réalisée en nitrure de gallium-indium InxGai_xN avec la proportion relative en indium In qui est de 10%. Selon cette même adaptation, le type de conductivité et la résistivité de la première partie 11 reste sensiblement les mêmes que celle selon l'adaptation décrite pour le deuxième mode de réalisation. Un procédé de fabrication d'une structure 1 selon ce troisième mode de réalisation se différencie d'un procédé de fabrication d'une structure 1 selon le deuxième mode de réalisation par la réalisation de l'étape de formation de la deuxième partie 12 de la première zone 10. En effet, pour un procédé de fabrication d'une structure 1 selon le troisième mode de réalisation, la deuxième partie 12 étant réalisée dans un matériau possédant une largeur de bande interdite inférieure à celle de la première partie 11 et de la couche de dispersion 13, il est nécessaire que le matériau déposé, selon un principe similaire au procédé de fabrication d'une structure 1 selon le deuxième mode de réalisation, soit modifié lors du passage de la deuxième partie 12 à la couche de dispersion 13 et lors du passage de la couche de dispersion 13 à la première partie 11. Ainsi, un procédé de fabrication d'une structure 1 selon ce troisième mode de réalisation se différencie d'un procédé de fabrication d'une structure 1 selon le deuxième mode de réalisation en ce que lors du passage de la couche de dispersion 13 à la première partie 11 les conditions de dépôt ne sont pas rétablies à celles utilisées pour le dépôt de la deuxième partie 12 mais sont adaptées pour déposer un matériau présentant une largeur de bande interdite supérieure à celle de la couche de dispersion 13 et à celle de la deuxième partie 12. Dans l'ensemble des modes de réalisation décrits dans ce document les structures 1 sont toutes des diodes électroluminescentes d'un même type qui est le type diode verticale à film mince (plus connu sous la dénomination anglaise « Vertical Thin Film Diode » et sous le sigle anglais VTF LED). Néanmoins le principe de l'invention peut être appliqué à un autre type de diode électroluminescente. Ainsi, il est possible, sans que l'on sorte du cadre de l'invention, de prévoir une couche de dispersion dans des diodes électroluminescentes aussi bien du type conventionnel (connu sous sa dénomination anglaise « Conventional Chip Diode » et sous son sigle anglais CC LED), du type puce retournée (connue sous sa dénomination anglaise « Flip Chip » et sous son sigle anglais FC LED) ou encore, par exemple, du type puce retournée à film mince (plus connue sous sa dénomination anglaise « Thin Film Flip Chip » et sous son sigle anglais TFFC LED). Les différentes structures décrites ci-dessus au travers de ces trois modes de réalisation ne sont données qu'à titre d'exemple des possibilités de l'invention et ne sont pas limitatives. En effet, l'invention englobe l'ensemble des structures semiconductrices émettrices de lumière présentant dans l'une des deux zones formant une jonction émettrice une couche de dispersion adaptée pour disperser les porteurs dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion, ceci en formant, par exemple, un accroissement localisé de la résistivité et/ou une chute de potentiel dans ladite zone à l'encontre d'au moins un type de porteurs, préférentiellement du type de porteurs majoritaires de ladite zone. De même, si chacune des structures 1 selon les modes de réalisation de l'invention décrites ci-dessus comporte une première zone 10 dont chacune de la première et la deuxième partie 11, 12 et de la couche de dispersion 13 présente une composition en matériaux semiconducteur et une concentration en porteurs majoritaires qui sont sensiblement constantes sur la totalité desdites parties 11, 12 ou couche de dispersion 13, il est également envisageable que cette composition et/ou cette concentration soient variées sur au moins une portion d'au moins l'une de la première et deuxième partie 11, 12 et de la couche de dispersion 13, ceci sans que l'on sorte du cadre de l'invention. Ainsi, une structure 1 selon l'invention peut présenter, par exemple et sans que l'on sorte du cadre de l'invention, au moins une portion de la première et de la deuxième partie 11, 12 et de la couche de dispersion 13 qui comporte une gradation de composition en matériaux semiconducteurs et/ou de concentration en porteurs majoritaires afin que l'une des interfaces entre la première partie 11 et la couche de dispersion 13 et entre la couche dispersion 13 et la deuxième partie 12 soit une interface graduelle et non une interface abrupte. REVENDICATIONS1. Structure (1) semiconductrice adaptée pour émettre un rayonnement électromagnétique, ladite structure (1) comportant : - une première et une deuxième zone (10, 20) présentant respectivement un premier et un second type de conductivité opposé l'un par rapport à l'autre, lesdites première et deuxième zones (10, 20) étant reliées l'une à l'autre pour former une jonction semiconductrice, la dite jonction s'étendant le long d'un plan (31), dit plan de jonction, la structure (1) étant caractérisée en ce que la première zone (10) comporte au moins une première et une deuxième partie (11, 12), telles que la deuxième partie (12) est la partie par laquelle la première zone (10) est reliée à la deuxième zone (20), la première et la deuxième partie (11, 12) étant séparées l'une de l'autre par une couche (13) intermédiaire, dite de dispersion, s'étendant sensiblement parallèlement au plan de jonction le long d'une majeure partie de la jonction, ladite couche de dispersion (13) étant adaptée pour provoquer une dispersion des porteurs dans les directions comprises dans le plan de la couche de dispersion (13). 2. Structure (1) selon la revendication 1, dans laquelle la couche de dispersion (13) présente sur toute son épaisseur une résistivité plus forte que celle de la première partie (12) de la première zone (10). 3. Structure (1) selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle la première partie (11) est une couche sensiblement parallèle au plan de jonction, la première partie (11) de la première zone (10) présentant une résistivité pl et une épaisseur d,, la couche de dispersion (13) présentant une résistivité pd et une épaisseur dd et la jonction présentant dans le plan de jonction (31) une dimension maximale 2L, lesépaisseurs et les résistivités respectives de la première partie (11) de la première zone Pi (10) et de la couche de dispersion (13) respectant l'inégalité suivante :- 4. Structure (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle la couche de dispersion (13) est adaptée pour former avec la première partie (11) une chute de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone (10) lorsque ces derniers passent de la première partie (11) à la couche de dispersion (13). 5. Structure (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle la couche de dispersion (13) est adaptée pour former avec la deuxième partie (12) une chute de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone (10) lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion (13) à la deuxième partie (12). 6. Structure (1) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans laquelle la couche de dispersion (13) est adaptée pour former avec la deuxième partie (12) une barrière de potentiel pour les porteurs majoritaires de la première zone (10) lorsque ces derniers passent de la couche de dispersion (13) à la deuxième partie (12). 7. Structure (1) selon les revendications 4 et 6 dans laquelle la couche de dispersion (13) forme un puits de potentiel, pour les porteurs majoritaires de la première zone (10), entre la première et la deuxième partie (11, 12) de la première zone. 25 8. Structure (1) selon l'une quelconque des revendications 4 à 7 dans laquelle la première zone (10) est formée d'au moins trois éléments chimiques dont la proportion en au moins un desdits éléments permet de varier la largeur de bande interdite d'un matériau semiconducteur formé desdits éléments, la couche de dispersion 30 présentant une proportion moyenne en au moins un des éléments différents de celle d'aumoins la première partie (11) de manière à ce que la couche de diffusion (13) présente une largeur de bande interdite inférieure à celle de la première partie (11). 9. Procédé de fabrication d'une structure (1) semiconductrice selon l'une quelconque des précédentes revendications comportant les étapes consistant à : - former la première partie (11) de la première zone (10), - former la couche de dispersion (13) en contact sur l'une de ses deux faces avec la première partie (11), - former la deuxième partie (12) de la première zone (10) en contact avec la couche de dispersion (13) sur la face de la couche de dispersion (13) qui est opposée à la première partie (11), - former la deuxième zone (20) de la structure (1), la deuxième zone (20) de la structure (1) étant reliée à la première zone (10). 15 10. Procédé selon la revendication précédente dans lequel la première zone (10) est une multicouche comportant une première et une deuxième couche formant respectivement la première et la deuxième partie (11, 12), les étapes de 20 formation de la première et de la deuxième partie (11, 12) étant chacune une étape de dépôt d'un matériau semiconducteur afin de former une couche dudit matériau. 11. Procédé selon la revendication précédente dans laquelle, les étapes de formation des première et deuxième parties (11, 12) et de la couche de dispersion (13) 25 sont réalisées en une seule étape consistant à déposer un matériau semiconducteur comportant au moins un type d'éléments dopants adaptés pour fournir des porteurs correspondant au premier type de conductivité, la concentration en l'au moins un type d'éléments dopants étant variée pendant le dépôt de manière à former la couche de dispersion (13). 3012. Procédé selon la revendication 11, dans lequel, les première et deuxième parties (11, 12) de la première zone (10) et la couche de dispersion (13) sont formées de matériaux semiconducteurs présentant pour au moins la première partie (11) et la couche de dispersion (13) une largeur de bande interdite différente, la formation des première et deuxième parties (11, 12) et de la couche de dispersion (13) étant réalisée en une seule étape consistant à déposer des éléments chimiques, formant un matériau semiconducteur, dont la composition est variée pendant le dépôt de manière à former successivement la deuxième partie (12), la couche de dispersion (13) et la première partie (11).10