FR 3008716 A1 20150123 FR 1357027 A 20130717 PROCEDE DE PREPARATION D'UN DEPOT DE NANOPARTICULES D'UN METAL OU D'UN ALLIAGE SUR UN SUBSTRAT, SUBSTRAT AINSI OBTENU, ET SES UTILISATIONS DANS UN RECUPERATEUR THERMO-ELECTRIQUE OU UNE VANNE EGR. DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE L'invention concerne un procédé de préparation d'un dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage de métaux sur un substrat associant la technique de dépôt de couche atomique (« Atomic Layer Deposition » ou « ALD » en langue anglaise) et la technique de dépôt chimique en phase vapeur (« Chemical Vapour Deposition » ou « CVD » en langue anglaise). Le métal ou les métaux sont choisis notamment parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la classification périodique des éléments. Plus particulièrement, l'invention concerne un procédé de préparation d'un dépôt de nanoparticules d'argent ou d'un alliage d'argent tel qu'un alliage d'argent et de platine, sur un substrat. L'invention concerne également un substrat comprenant au moins une surface pourvue d'un dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage de métaux. L'invention concerne également des utilisations dudit substrat, en particulier pour catalyser une réaction chimique. Un domaine d'application particulièrement préféré de l'invention est celui de la combustion catalytique des produits carbonés ou suies déposés sur des surfaces en contact avec des fumées et gaz d'échappement chargés en particules carbonées, qu'il s'agisse des fumées et gaz d'échappement des moteurs diesel ou à essence ou des fumées industrielles. Ainsi l'invention peut-elle trouver son application dans un dispositif, récupérateur, thermo-électrique pour le traitement des fumées ou une vanne EGR. Un autre domaine d'application préféré de l'invention est celui de l'élimination des polluants tels que les oxydes d'azote NOx et le monoxyde de carbone CO qui sont contenus notamment dans les gaz d'échappement des véhicules automobiles. ETAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE On sait que les propriétés d'un métal changent lorsque les particules ont une taille dans la gamme des nanomètres. Des métaux tels que l'or, le platine, l'iridium, le palladium, deviennent très réactifs lorsqu'ils atteignent des tailles nanométriques. En particulier, du fait du plus faible coût des précurseurs à base d'argent et du fort potentiel catalytique des matériaux à base de ce métal, les catalyseurs à base d'argent ont fait l'objet d'une attention particulière et il a été montré que leur efficacité catalytique était très sensiblement accrue par suite d'une augmentation de leur dispersion et donc d'une diminution de la taille des particules. Habituellement, l'imprégnation par voie liquide est le procédé principal pour préparer les catalyseurs métalliques supportés à base d'argent ou non, tels que ceux qui servent à la conversion des oxydes d'azote NOx. Ainsi on peut, afin de préparer un catalyseur à l'argent supporté, imprégner un support par exemple en alumine avec une solution de nitrate d'argent AgNO3, ou une solution d'argent lactique préparée par dissolution d'Ag20 dans de l'acide lactique. Après une imprégnation de 24 heures, le support imprégné de catalyseur est ensuite récupéré, séché et calciné à 550°C pendant quelques heures. Dans le cas où l'on souhaite préparer un catalyseur supporté au platine, le support, par exemple en alumine, est mis en contact pendant 24 heures avec un sel de platine, généralement [Pt(NH3)4] (NO3)2 ou (NH4)2PtC16, puis récupéré, séché et calciné. Le support peut être une couche d'alumine nanoporeuse très fine, par exemple d'une épaisseur de l'ordre de 10 um formée sur une surface, par exemple une surface développée en contact avec une fumée, par dépôt sur cette surface d'une barbotine d'alumine. Cette couche étant très fine et en un matériau relativement bon conducteur thermique, elle a un impact négligeable sur l'échange thermique. Un traitement de calcination à 550°C permet d'accrocher solidement cette couche d'alumine à la surface. Le procédé d'imprégnation par voie liquide présente l'inconvénient de nécessiter plusieurs étapes comprenant des réductions et des oxydations à haute température. Ce procédé fournit des tailles d'agrégat voisines de 1 à 10 um. Outre l'imprégnation, les catalyseurs actuellement mis en oeuvre et développés, peuvent être déposés par d'autres procédés classiques de préparation, tels que la voie sol-gel, la coprécipitation et autres. Les catalyseurs préparés par tous ces procédés classiques, à savoir l'imprégnation, la voie sol-gel, ou la coprécipitation présentent, par exemple, des activités de conversion des NOx dans une gamme de températures généralement comprises entre 300°C et 500°C. Néanmoins, de réelles difficultés sont rencontrées quant à la maîtrise de la taille des nanoparticules, notamment pour ce qui concerne les particules de taille, diamètre, inférieur à 50 nm ; ainsi que de leur dispersion, ce qui influe ainsi négativement sur les rendements de catalyse et les températures d'activation. Un autre procédé permettant le dépôt d'un métal sur un substrat est le procédé dit de dépôt chimique en phase vapeur et plus particulièrement le procédé dit de dépôt chimique en phase vapeur d'organométalliques (« OMCVD » ou « Organometallic Chemical Vapour Deposition » en anglais). Ce procédé présente de nombreux avantages par rapport à des procédés tels que l'imprégnation, ou l'électrodéposition ou encore par rapport aux technologies de dépôt physique en phase vapeur (« Physical Vapour Deposition » ou « PVD » en anglais). En effet, le procédé d'OMCVD permet de recouvrir les pièces de géométries macroscopiquement complexes telles que les supports catalytiques par exemple les mousses, nids d'abeille en céramiques, et zéolithes, sans qu'il soit nécessaire de travailler dans des domaines de vide poussé. On peut ainsi opérer à une pression allant de 100 Pa à la pression atmosphérique, par exemple de 100 Pa à 500 Pa, ce qui en fait un procédé facilement industrialisable lorsqu'on le compare au procédé de dépôt physique en phase vapeur (« PVD ») par exemple. En outre, le procédé de dépôt « OMCVD » est un procédé que l'on peut qualifier de « propre » qui génère peu d'effluents liquides ou gazeux au contraire notamment de l'électrodéposition qui est un procédé de synthèse très polluant. Le procédé d'OMCVD permet notamment de préparer des nanomatériaux catalytiques performants. Ainsi, le document de P. SERP, R. FEURER, R. MORANCHO, P. KALCK, Journal of Catalysis, 157 (1995), 294-300, décrit la préparation en une étape de catalyseurs comprenant des nanoparticules de palladium fortement dispersées par OMCVD à basse température sur des substrats en silice en présence d'une atmosphère d'hélium et d'hydrogène. Ces catalyseurs présentent une meilleure activité catalytique pour l'hydrogénation que les catalyseurs déposés par une technique d'imprégnation classique. Le document de J-C. HIERSO, P. SERP, R. FEURER, P. KLACK, Appl. Organomet. Chem. 1998, 12, p.161, décrit la synthèse de nanoparticules de Rhodium dispersées, de 1 à 5 nm, par CVD en lit fluidisé. Ces systèmes catalytiques présentent une meilleure activité catalytique pour l'hydrogénation que des catalyseurs préparés par une méthode d'imprégnation traditionnelle. Le document WO-A1-2006/070130 a trait à un procédé de préparation de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage de métaux sur un substrat par la technique du dépôt chimique en phase vapeur. Ce document s'intéresse plus particulièrement à la préparation de nanoparticules d'argent ou d'un alliage d'argent, dispersées sur un substrat, par CVD, notamment par OMCVD. Néanmoins, les procédés de dépôt chimique en phase vapeur d'organométalliques, OMCVD sont pour la plupart basés sur l'évaporation de précurseurs solides organométalliques et présentent des problèmes de reproductibilité de la phase vapeur. Les conditions de nucléation et de croissance en sont fortement affectées, ce qui influence de manière négative les propriétés des films catalytiques préparés qui possèdent des performances aléatoires. Plus généralement, les inconvénients du procédé de dépôt chimique en phase vapeur d'organométalliques, OMCVD sont donc les suivants : un rendement généralement inférieur à 20%; l'utilisation d'une grande quantité de solution de précurseurs dans un solvant ; l'appauvrissement de la phase vapeur au fur et à mesure qu'elle traverse un support poreux, par réaction avec la surface. Par ailleurs, on sait que les fumées d'échappement des moteurs diesel contiennent des particules qui comprennent un matériau carboné appelé suie formant un noyau ou « sphérule » de carbone. Sur ce matériau carboné, engendré lors de la combustion, sont adsorbées des espèces organiques diverses, constituées notamment de molécules condensées lors des étapes suivant la combustion. Ces espèces organiques adsorbées forment une fraction adsorbée extractible par divers solvants, lors d'analyses en laboratoire, qui est appelée « SOF » (« Soluble Structure Organic Fraction » en langue anglaise). Cette fraction renferme des hydrocarbures imbrûlés, des dérivés oxygénés (cétones, esters, aldéhydes, lactones, éthers, acides organiques) et des hydrocarbures aromatiques polycycliques (« HAP ») ainsi que leurs dérivés nitrés, oxygénés, et autres. Sur le matériau carboné du noyau sont également adsorbés des composés minéraux tels que les sulfates, et des composés métalliques. Afin de ne pas rejeter ces particules carbonées dans l'atmosphère, on peut utiliser des filtres à particules (« FAP ») qui arrêtent ces particules par filtration. Néanmoins, ces filtres à particules s'encrassent et il faut régulièrement les nettoyer en effectuant une régénération qui consiste à brûler les particules retenues par le filtre ainsi que les hydrocarbures imbrûlés qui peuvent se déposer dans le filtre à particules. La température de combustion des dépôts accumulés dans les filtres à particules étant de l'ordre de 600°C-800°C, cette température est rarement ou jamais atteinte dans les conditions habituelles de fonctionnement des moteurs diesel. En effet, la température de fonctionnement est de l'ordre de 450°C pour un moteur d'automobile, mais peut descendre jusqu'à 250°C pour les gros moteurs diesel installés sur les bateaux, les camions, et les engins de travaux. Plusieurs procédés de régénération peuvent être utilisés. Le plus classique est basé sur la combustion des particules carbonées grâce à une élévation de la température des gaz d'échappement à l'entrée du filtre à particules. Cette opération de combustion doit être réalisée en présence d'un catalyseur d'oxydo-réduction. Une grande quantité de gazole imbrûlé est envoyée dans le catalyseur où il va s'enflammer, avec pour conséquence d'élever de manière significative la température des gaz d'échappement et d'activer l'oxydation des produits carbonés piégés dans le filtre. Certains modèles de filtres nécessitent l'addition d'un composé catalyseur, généralement à base de cérine, dans le carburant, afin de réduire les oxydes d'azote NOx contenus dans le filtre et faciliter ainsi la régénération de ce dernier. D'autres procédés utilisent des métaux précieux tels que le platine ou le palladium, déposés directement dans le filtre à particules, mais ces procédés nécessitent des températures plus élevées. Le document US-A1-2010/0313547 décrit un appareil pour régénérer un filtre à particules dans lequel un dispositif catalytique chauffé électriquement est disposé en amont du filtre à particules afin de provoquer une oxydation du mélange de gaz d'échappement et d'hydrocarbure. D'autres procédés de régénération encore mettent en oeuvre des récupérateurs thermo-électriques. Un dépôt de catalyseur peut être réalisé sur les surfaces développées des récupérateurs thermo-électriques en contact avec les fumées par l'un des procédés déjà décrits plus haut. Le document US-A-6,986,247 décrit un système de dépollution des hydrocarbures, du monoxyde de carbone et des oxydes d'azote NOx (HC/CO/NOx) intégré à un récupérateur thermo-électrique. Les thermo-éléments sont utilisés en pompe à chaleur (effet Peltier) en injectant du courant pour chauffer le catalyseur au démarrage afin que celui-ci démarre plus rapidement. Le document WO-A1-2012/046170 décrit un récupérateur thermo-électrique pour le traitement des fumées de moteur à combustion interne dans lequel les fumées circulent dans des micro-canaux. Ces micro-canaux peuvent être recouverts de catalyseur de dépollution (HC/CO/NOx). Les thermo-éléments peuvent être utilisés en effet Peltier afin de démarrer la réaction de catalyse rapidement à froid. Les récupérateurs thermo-électriques pour les fumées de moteur voient leur application au traitement des fumées de moteurs diesel limitée à cause des problèmes d'encrassement dus à ces fumées. Ce problème est d'autant plus critique que la température des fumées est froide, ce qui est le cas pour les gros moteurs diesel installés sur les bateaux ou sur les camions. L'augmentation de la surface développée dans les espaces inter-ailettes ainsi que l'utilisation de promoteurs de turbulence sont limitées par les risques d'encrassement et de colmatage du système. Par ailleurs, l'échange thermique est également freiné considérablement par la résistance d'encrassement occasionnée par les dépôts de produits carbonés, à savoir les particules de suie. Il existe donc, au regard de ce qui précède, un besoin pour un procédé de préparation de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage de métaux sur un substrat qui ne présente pas les inconvénients, défauts, limitations et désavantages des procédés de l'art antérieur et notamment les procédés de dépôt chimique en phase vapeur d'organométalliques (« OMCVD »). Il existe en particulier un besoin pour un procédé qui permette de déposer des nanoparticules catalytiques d'un métal ou d'un alliage de métaux sur une surface destinée à être en contact avec des effluents gazeux tels que des fumées de moteur afin de préparer un catalyseur d'une grande efficacité à faible température pour la combustion catalytique des particules carbonées ou pour l'élimination des hydrocarbures, du monoxyde de carbone et des oxydes d'azote NOx. Le but de la présente invention est, entre autres, de fournir un procédé de préparation d'un dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage de métaux, sur une surface d'un substrat qui réponde, entre autres, à ces besoins. Le but de la présente invention est de fournir un tel procédé qui ne présente pas les inconvénients, défauts, limitations et désavantages des procédés de l'art antérieur, et qui résolve les problèmes des procédés de l'art antérieur. EXPOSÉ DE L'INVENTION Ce but et d'autres encore, sont atteints, conformément à l'invention, par un procédé de préparation d'un dépôt de nanoparticules d'un métal, ou d'un alliage dudit métal avec au moins un autre métal, ledit métal étant choisi parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la Classification périodique des éléments, sur une surface poreuse d'un substrat à partir d'un précurseur dudit métal ou à partir d'un précurseur dudit métal et d'au moins un précurseur d'un autre métal, dans lequel le substrat est placé dans une enceinte de dépôt chimique en phase vapeur CVD sous vide, et dans lequel on réalise les étapes successives suivantes : a) on expose la surface du substrat, préalablement chauffé, à une phase vapeur contenant le(s)dit(s) précurseur(s), moyennant quoi la pression dans l'enceinte augmente ; b) on met l'enceinte sous vide ; c) on injecte un gaz réactif dans l'enceinte ; d) on met l'enceinte sous vide ; e) on répète éventuellement les étapes a) à d). Le substrat peut être dense ou poreux. Par surface poreuse, on entend la surface externe d'une couche poreuse à la surface du substrat. Cette couche poreuse fait partie intégrante du substrat si ce dernier est poreux ou bien il s'agit une couche poreuse ou tampon (par exemple « washcoat ») déposé à la surface d'un substrat dense. Avantageusement, ladite surface poreuse ou plus exactement ladite couche poreuse peut présenter une surface spécifique BET comprise entre 100 et 500 m2/g. Le gaz réactif peut être un gaz réducteur ou un gaz oxydant. Le procédé selon l'invention n'a jamais été décrit dans l'art antérieur tel que représenté notamment par les documents cités plus haut. Le procédé selon l'invention est fondamentalement défini par le fait qu'il comprend les étapes successives a), b), c) et d) qui sont caractéristiques d'un procédé de dépôt de couche atomique (« Atomic Layer Deposition », ou « ALD » en anglais) mais en ce que ces étapes sont réalisées dans une enceinte, chambre de dépôt chimique en phase vapeur CVD. Autrement dit, le procédé selon l'invention est mis en oeuvre dans un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur CVD classique et non dans un réacteur de dépôt de couche atomique ALD, mais selon les principes, d'un procédé de dépôt de couche atomique ALD et non selon les principes d'un procédé de dépôt en phase vapeur CVD. Lee procédé selon l'invention applique le principe de fonctionnement par impulsions de l'ALD et le met en oeuvre non pas dans un réacteur d'ALD mais dans un réacteur, enceinte de CVD. On peut dire que le procédé selon l'invention présente tous les avantages d'un procédé d'ALD sans en présenter les inconvénients et qu'il présente, de même, tous les avantages d'un procédé de CVD sans en présenter les inconvénients. Ainsi, le procédé selon l'invention ne présente pas les inconvénients inhérents au procédé de CVD, liés notamment à son fonctionnement continu, en mode cinétique. En effet dans un procédé de CVD, on introduit en continu une solution de précurseur dans l'enceinte et la vapeur générée traverse, en continu, en permanence, le support poreux. En conséquence, dans le procédé de dépôt chimique en phase vapeur CVD, le rendement du dépôt défini par le rapport de la quantité de précurseur(s) déposée sur la quantité introduite au départ est faible, à savoir généralement de 15% à 30% car, comme on l'a déjà précisé, on est en mode cinétique. Le rendement du dépôt par le procédé selon l'invention est beaucoup plus élevé que celui d'un procédé de CVD et il peut aller généralement de 50% à 70%. Le procédé selon l'invention, bien qu'il applique le principe de fonctionnement par impulsions de l'ALD est mis en oeuvre non pas dans un réacteur d'ALD mais dans un réacteur, enceinte de CVD. Un tel réacteur, enceinte de CVD présente généralement un volume de 1L à 5L, de préférence de plus de 1L à 5L, de préférence encore de 2L ou 3L à 5L, ce qui est nettement supérieur au volume d'un réacteur d'ALD qui n'est généralement que de 0,1L à 1L. De ce fait, le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre avec des substrats (tridimensionnels) de grande taille, par exemple dont la plus grande dimension est de l'ordre de 20 à 50 cm en hauteur (axe z), alors qu'un réacteur d'ALD ne permet le traitement que de substrats (plans, bidimensionnels) dont la plus grande dimension est par exemple de 1 à 5 cm en hauteur. En outre, la forme de ce réacteur, enceinte de CVD, permet de traiter des pièces, substrats possédant une géométrie, forme tridimensionnelle complexe, alors qu'un réacteur d'ALD du fait de la forme qu'il possède ne permet le traitement que de substrats de géométries, formes, simples, bidimensionnels, plans. En conséquence, du fait que le procédé selon l'invention est mis en oeuvre dans une enceinte de CVD, il n'est pas limité comme les procédés d'ALD à des supports, substrats plans, plus exactement à des supports macroscopiquement plans, et de tailles peu importantes. Le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre avec succès avec des substrats de grande taille et/ou présentant des géométries complexes voire très complexes, ou plus exactement des géométries macroscopiquement complexes. En outre, le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre avec succès quel que soit l'état de surface du substrat, lisse ou rugueux. Enfin, le procédé selon l'invention peut être mis en oeuvre avec succès quelle que soit la nature du matériau constituant le substrat, en effet, le dépôt étant réalisé comme on l'indique plus bas à une température relativement basse généralement inférieure ou égale à 500°C, même des substrats en des matériaux sensibles à la chaleur peuvent recevoir un dépôt par le procédé de l'invention. Le substrat est choisi généralement parmi les substrats poreux. Le substrat peut cependant aussi être choisi parmi les substrats denses. Un substrat dense peut généralement être défini comme étant un substrat présentant une surface spécifique BET inférieure à 5 m2/g. Dans ce cas, ce substrat dense est avantageusement recouvert d'une ou plusieurs couches tampons dites « washcoat » de grande surface spécifique de sorte à obtenir une surface externe poreuse sur laquelle est réalisé le dépôt. Par substrat de géométrie complexe, on entend généralement que ce substrat présente une surface développée importante. Ainsi ce substrat pourra être choisi parmi les ailettes décalées, les ailettes ondulées, les ailettes à persiennes, les mousses métalliques ou céramiques, les nids d'abeille métalliques ou céramiques. A titre d'exemple, l'espace entre les ailettes peut être compris entre 0,5 et 5 mm. Par exemple, le procédé selon l'invention permet le dépôt de nanoparticules de métal ou d'alliage de métaux, par exemple de nanoparticules d'alliages d'argent ou d'un alliage d'argent, sur des substrats présentant des géométries aussi complexes que celles utilisées dans le domaine du traitement des effluents gazeux qui se présentent par exemple sous la forme de mousses ou de nids d'abeille céramiques. Le procédé selon l'invention est facile à mettre en oeuvre dans l'industrie, il ne nécessite pas généralement de vide poussé, en effet il requiert seulement un vide primaire, et il est peu polluant, en particulier lorsqu'on le compare à des procédés tels que l'électrodéposition. Un autre avantage du procédé selon l'invention est sa grande souplesse car il permet en effet de déposer tous les métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la Classification périodique des éléments. Avantageusement, le métal est choisi parmi l'argent, le rhodium, le platine, le palladium et l'iridium. Lorsque les nanoparticules sont des nanoparticules d'un alliage, on dispose aussi d'une grande palette de choix en ce qui concerne le choix et le nombre du ou des autre(s) élément(s) allié(s) éventuel(s) et ce ou ces autre(s) élément(s) allié(s) peut (peuvent) être choisi(s) parmi les métaux nobles ou non. Lorsque les nanoparticules sont des nanoparticules d'un alliage, cet alliage est avantageusement choisi parmi les alliages des métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la Classification périodique des éléments, tels que Ag, Rh, Pt, Pd et Ir, entre eux. Ainsi dans le cas où le métal est de l'argent, le métal ou les autres métaux alliés à l'argent peuvent être choisis parmi les métaux nobles tels que le platine, le palladium, le rhodium et l'iridium. De préférence, l'alliage est choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine ou les alliages binaires d'argent et de rhodium, de préférence encore, l'alliage est choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine en toutes proportions, de préférence comprenant de 30% à 70% en masse d'argent et de 70% à 30% en masse de platine, par exemple 30% en masse d'argent et 70% en masse de platine, 50% en masse d'argent et 50% en masse de platine, ou 70% en masse d'argent et 30% en masse de platine. On peut aussi, selon l'invention, préparer des nanoparticules d'alliages ternaires, tels que Ag/Pt/Rh. C'est là un autre des avantages du procédé selon l'invention, que de permettre le dépôt de nanoparticules d'alliages car cela peut occasionner un gain économique important. Ainsi, on peut remplacer selon l'invention, dans le cadre d'applications catalytiques des catalyseurs constitués uniquement par des métaux nobles et chers tels que le platine ou le rhodium par des catalyseurs constitués par exemple par un alliage d'argent et d'un métal noble tels que ceux décrits plus haut . Par ailleurs, on peut déposer selon le procédé de l'invention uniquement des nanoparticules d'un seul métal ou d'un seul alliage ou bien on peut déposer simultanément plusieurs particules différentes dont chacune est constituée par un métal ou un alliage différent. De manière étonnante, le procédé selon l'invention, permet d'obtenir un dépôt comprenant une première famille de nanoparticules d'un métal ou alliage et une seconde famille distincte de nanoparticules dudit métal ou alliage, la première famille et la seconde famille possédant des tailles moyennes de nanoparticules différentes et des densités surfacique différentes. Autrement dit, les nanoparticules de la première famille et de la seconde famille sont en un même métal ou un même alliage et se différencient par leurs tailles moyennes et leurs densités surfaciques. Pour obtenir un tel dépôt, les températures utilisées vont généralement pour l'évaporateur de 120°C à 250°C et pour le substrat de 250°C à 400°C. Avantageusement, la première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 1 à 10 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 100 à 800 nanoparticules par urn2; et la seconde famille de nanoparticules dudit métal ou alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 25 à 40 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 35 à 45 nanoparticules par um2. Dans le cas où les nanoparticules sont des nanoparticules d'un alliage, cet alliage est de préférence choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine ou les alliages binaires d'argent et de rhodium qui ont été décrits plus haut. La première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage peut être dédiée à une première réaction catalytique tandis que la seconde famille est dédiée à une deuxième réaction catalytique. Avec un seul et même dépôt catalytique, on peut donc réaliser simultanément deux réactions catalytiques. Ainsi, dans le cas de nanoparticules d'un alliage argent/platine ou argent/ rhodium, la première famille est dédiée à l'oxydation du CO tandis que la seconde famille est dédiée à l'oxydation des NON. En effet, les tailles des particules optimales pour l'oxydation des NON sont de 15-20 nm, tandis que pour le CO, des tailles de particules de 4 nm sont plus efficaces. On obtient ainsi un gain en termes de chargement couplé à une efficacité en « light off » du CO et des NON (élimination par oxydation). Un avantage supplémentaire est un avantage économique et est dû à l'utilisation d'un alliage, par exemple d'un alliage d'argent et d'un métal noble tel que le platine au lieu de ce métal noble seul. Avantageusement, le substrat peut être constitué par un matériau choisi parmi les métaux ; les alliages de métaux tels que les aciers ; les céramiques, notamment les céramiques oxydes telles que l'alumine, la cérine, la zircone ; le silicium ; et les zéolithes et les matériaux composites comprenant plusieurs des matériaux précités. Le substrat peut comprendre, en outre, notamment lorsqu'il s'agit d'un substrat dense, une ou plusieurs couche(s) tampon(s) dite(s) « washcoat» de grande surface spécifique déposée(s) sur au moins une surface du substrat, et le dépôt est préparé sur la surface externe poreuse de ladite couche tampon ou desdites couches tampons. Cette surface spécifique peut aller par exemple de 125 (pour une couche tampon « washcoat» en cérine/zircone par exemple) à 190 m2/g (pour un « washcoat» en alumine par exemple). La ou les couche(s) tampon(s) peut (peuvent) être en un matériau choisi parmi les oxydes de métal, les oxydes de métaux (c'est-à-dire les oxydes mixtes), les oxydes de métalloïdes, les zéolithes, et leurs mélanges. Avantageusement, la ou lesdites couche(s) tampon(s) peut (peuvent) être réalisée(s) par un procédé de dépôt de couche atomique ALD dans une enceinte de dépôt chimique en phase vapeur CVD, c'est-à-dire par un procédé de dépôt semblable au procédé selon l'invention de dépôt d'un métal ou d'un alliage de métaux mais mis en oeuvre pour déposer un matériau constituant une couche tampon. Avantageusement, les précurseurs (qu'il s'agisse des précurseurs du métal, tel que de l'argent, ou des précurseurs éventuels des autres métaux formant un alliage avec ce métal tel que l'argent) peuvent être choisis parmi les composés organométalliques et les sels de métaux. Les précurseurs organométalliques peuvent être solides ou liquides. Les précurseurs organométalliques sont choisis généralement parmi les carboxylates de métaux et les P-dicétonates de métaux. Par exemple, le précurseur de l'argent est choisi généralement parmi les carboxylates d'argent de formule RCO2Ag, dans laquelle R représente un groupe alkyle linéaire ou ramifié de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 3 à 7 atomes de carbone ; et les 13-dicétonates d'argent tels que le tétraméthyl heptanedionate d'argent. De préférence, le précurseur de l'argent est le pivalate d'argent. De préférence, le précurseur du platine est l'acétylacétonate de platine ou Pt(acac). Les sels métalliques peuvent être choisis notamment parmi les nitrates de métaux. Avantageusement, le substrat peut être chauffé à une température inférieure ou égale à 500°C, de préférence de 250°C à 400°C, de préférence de 340°C à 350°C. La température du substrat correspond à la température à laquelle est réalisé le dépôt. C'est là un avantage supplémentaire du procédé selon l'invention que de permettre le dépôt de nanoparticules à une température basse compatible avec un grand nombre de substrats. Avantageusement, la phase vapeur est produite par évaporation d'une solution liquide du ou des précurseurs (s) dans un solvant organique. L'évaporation est généralement réalisée à une température de 120°C à 250°C, par exemple de 190°C. Cette évaporation est généralement réalisée dans un évaporateur situé « en amont » du réacteur dans lequel est réalisé le dépôt, autrement dit en amont de la zone de dépôt où est placé le substrat. Ledit évaporateur est relié audit réacteur par des canalisations adéquates. La phase vapeur ainsi créée dans l'évaporateur est acheminée, transportée, jusqu'au réacteur et à la zone de dépôt où se trouve le substrat chauffé à la température précisée plus haut. La concentration du ou des précurseur(s) dans la solution est généralement de 0,01 à 0,6 mol/L. Ladite solution, dans le cas où la solution contient au moins un précurseur de l'argent, peut avantageusement comprendre une amine et/ou un nitrile afin de faciliter la dissolution du ou des précurseur(s) de l'argent. La concentration de l'amine et/ou du nitrile dans la solution est généralement supérieure à 0,1% en volume, de préférence cette concentration en amine et/ou en nitrile est de 0,5% à 10% en volume. Le solvant de ladite solution est généralement choisi parmi les solvants dont la température d'évaporation est inférieure à la température de décomposition du ou des précurseur(s). Le solvant est choisi de préférence parmi les composés organiques liquides à la température ambiante et jusqu'à 200°C dans les conditions normales de pression tels que le mésitylène, le cyclohexane, le xylène, le toluène, le n-octane, l'acétylacétone, l'éthanol ; l'eau ; et leurs mélanges. L'amine éventuellement incluse dans la solution est généralement choisie parmi les monoamines primaires, secondaires ou tertiaires telles que la n-hexylamine, l'isobutylamine, la disecbutylamine, la triéthylamine, la benzylamine, l'éthanolamine, et la diisopropylamine ; les polyamines ; et leurs mélanges. Le nitrile éventuellement inclus dans la solution est généralement choisi parmi l'acétonitrile, le valéronitrile, le benzonitrile, le propionitrile et leurs mélanges. Par exemple, le Pt(acac) peut être dissout dans le toluène à une concentration de 0,03 mol/L tandis que le pivalate d'argent ou AgPiv peut être dissout dans le mésitylène à une concentration de 0,15 mol/L. Le gaz réactif peut être un gaz oxydant ou bien le gaz réactif peut être un gaz réducteur. Généralement, le gaz oxydant comprend un gaz réactif oxydant, et le gaz réducteur comprend un gaz réactif réducteur. Avantageusement, le gaz oxydant comprend plus de 50% en volume d'un gaz réactif oxydant. Avantageusement, le gaz en présence duquel est réalisé le dépôt comprend plus de 70%, de préférence 100%, en volume du gaz réactif oxydant. Le gaz réactif oxydant peut être choisi parmi l'oxygène, le dioxyde de carbone, l'ozone, le N20, le NO2 et leurs mélanges. Le gaz en présence duquel est réalisé le dépôt peut être constitué par un mélange du gaz réactif oxydant et d'un gaz inerte. Le gaz inerte peut être choisi parmi l'argon, l'azote, l'hélium, et leurs mélanges. Dans ledit mélange de gaz réactif oxydant et d'un gaz inerte, le rapport des débits gaz réactif oxydant/gaz inerte est (strictement) supérieur à 1, ce qui correspond à la condition mentionnée ci-dessus selon laquelle le gaz réactif oxydant est présent à plus de 50% en volume dans le mélange gazeux en présence duquel est réalisé le dépôt. Le gaz réactif réducteur peut être choisi parmi H2, NH3, et leurs mélanges. Le gaz en présence duquel est réalisé le dépôt peut être constitué par un mélange du gaz réactif réducteur et d'un gaz inerte. Le gaz inerte peut être choisi parmi l'argon, l'azote, l'hélium, et leurs mélanges. De manière générale, le procédé selon l'invention permet de déposer des métaux ou alliages jouant, par exemple, le rôle de catalyseurs au sein de structures complexes en surface (2D) ou en volume (3D). Le dépôt se présente sous la forme d'une couche homogène aussi bien en ce qui concerne son épaisseur que sa structure. Par structure « homogène », on entend généralement une structure conforme du point de vue de sa morphologie et de sa composition dans les 3 dimensions de l'espace. L'épaisseur de la couche est en effet généralement comprise entre 1 et 400 nm, de préférence entre 1 et 200 nm, de préférence encore entre 1 et 10 nm, et mieux de 4 à 50 nm et mieux encore entre 5 et 15 nm et varie peu sur l'ensemble de la surface. Cette couche est constituée de nanoparticules de métaux ou d'alliages qui peuvent être, selon notamment la composition du gaz oxydant ou du gaz réducteur utilisé, des nanoparticules discrètes, dispersées, en surface du support dense ou poreux) ou bien former un film discontinu, poreux ou bien encore un film continu.30 Généralement, la couche est discontinue, même si les nanoparticules peuvent être jointives. Selon l'invention, la maîtrise des paramètres d'élaboration (tels que la nature des gaz, les paramètres d'injection, la pression) permet d'élaborer des films discontinus, poreux à des températures de dépôt relativement basses (par exemple souvent inférieures à 400°C). Le film poreux ainsi obtenu peut se présenter sous la forme d'îlots métalliques de taille nanométrique, par exemple souvent de l'ordre de 1 à 100 nm de diamètre, bien dispersés en surface du support (dense ou poreux), ce qui leur confère une grande surface active. La technique de synthèse selon l'invention permet d'élaborer des couches dont la composition, et en particulier la porosité peuvent être ajustées par certains paramètres du procédé, tels que la nature et le débit de gaz réactif, la quantité de précurseur, la température, la pression..., influant directement sur la taille et la dispersion des nanoparticules qui sont des facteurs primordiaux pour les applications catalytiques (dans le cas notamment où les métaux ou alliages jouent le rôle de catalyseur, la maîtrise des conditions de dépôt, grâce au procédé de l'invention, permet de moduler la morphologie (taille) et la concentration (dispersion) des agrégats de catalyseurs. L'activité du dépôt catalytique obtenu est étroitement liée à ces deux paramètres, cela se traduit suivant le système étudié par un abaissement des températures de réaction ou encore par une modification de la cinétique des réactions. Enfin, la capacité d'une part de localiser le catalyseur dans le volume des pièces et d'autre part de le disperser à l'échelle nanométrique permet un abaissement significatif du taux de chargement en phase active et donc du coût des dispositifs, surtout pour ceux utilisant des métaux nobles. Les particules déposées par le procédé de l'invention sont des particules nanométriques. La taille est définie par la plus grande dimension des particules dispersées ; dans le cas des particules sphériques ou sensiblement sphériques, la taille est définie par le diamètre des particules. Par taille « nanométrique », on entend que les particules déposées par le procédé de l'invention ont généralement une taille de 1 à 400 nm, de préférence de 1 à 200 nm, de préférence encore de 1 à 100 nm, mieux de 4 à 50 nm et encore mieux de 5 à 15 nm. On peut aussi dire que le procédé selon l'invention permet de préparer (dans certains cas) des films poreux, discontinus, qui se présentent sous la forme d'îlots métalliques, par exemple d'argent, de taille nanométrique très bien dispersés à la surface du substrat, la signification des termes « taille nanométrique » ayant déjà été définie plus haut. Un film poreux, discontinu est obtenu dans le cas où l'on observe une certaine coalescence des particules. Dans certains cas, on n'obtient pas selon l'invention un film continu mais bien un dépôt de particules individuelles, notamment d'argent, dispersées se rejoignant éventuellement par un phénomène de coalescence pour former alors des agrégats de taille plus importante si bien que le dépôt peut alors être qualifié de film poreux, ou discontinu, avec une portion de la surface du substrat qui est toujours exempte de dépôt de particules, et qui reste exposée. Lorsqu'on réalise le dépôt en présence d'une atmosphère spécifique comprenant une proportion majoritaire en volume de gaz réactif oxydant cela conduit, notamment dans le cas de l'agent, à la formation de particules, notamment d'argent, dispersées, et non d'un film continu, ces particules présentant en outre une taille spécifique, nanométrique, bien plus faible que dans certains procédés de l'art antérieur. En conséquence, ces particules, notamment d'argent, présentent de plus une dispersion sur le substrat beaucoup plus grande que dans l'art antérieur. A titre d'exemple, la densité du dépôt des nanoparticules selon l'invention est généralement de 10 à 500 particules par um2, de préférence de 50 à 200 particules par 11m2. Le taux de chargement du substrat est généralement de 300 à 1500g/m3. Le taux de chargement est aussi une caractéristique qui différencie le procédé selon l'invention des procédés de l'art antérieur. Ainsi, à isoperformance, on peut effectivement abaisser de 50% à 75% le taux de chargement par le procédé OMCVD selon l'invention par rapport au procédé d'imprégnation. L'invention concerne également un substrat (poreux ou dense) comprenant une surface poreuse qui a été pourvue d'un dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage dudit métal avec au moins un autre métal, ledit métal étant choisi parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la Classification périodique des éléments, par le procédé tel que décrit plus haut. Les métaux et alliages ainsi que le substrat ont déjà été définis plus haut ainsi notamment que l'épaisseur du dépôt, la densité du dépôt et le taux de chargement. Ainsi, généralement lesdites nanoparticules ont une taille de 1 à 400 nm, de préférence de 1 à 200 nm, de préférence encore de 1 à 100 nm, mieux de 4 à 50 nm et encore mieux de 5 à 15 nm. Généralement, lesdites nanoparticules ont une densité, sur la surface du substrat de 10 à 500 um-2, de préférence de 50 à 200 um-2. Les nanoparticules peuvent former un film continu ou bien les nanoparticules peuvent être discrètes, dispersées en surface du support ou bien encore former un film discontinu, poreux. En effet, il est possible que certaines des particules dispersées se rejoignent pour former ainsi un film discontinu, poreux, sur la surface du substrat. Lesdits substrats peuvent être utilisés comme éléments de dispositifs optiques ou électroniques mais leur utilisation préférée est dans le domaine de la catalyse. Du fait notamment de la dispersion élevée des particules et de leur faible taille, les substrats selon l'invention que l'on peut définir comme des catalyseurs nanostructurés ont une activité catalytique très élevée. Cette activité catalytique est présente même à basse température. Les propriétés avantageuses des substrats et en particulier des substrats jouant le rôle de catalyseur selon l'invention proviennent intrinsèquement du procédé de préparation, de dépôt, de nanoparticules selon l'invention. Ces propriétés avantageuses des substrats selon l'invention, en particulier des substrats jouant le rôle de catalyseur selon l'invention, découlent notamment de la nanostructuration induite par le procédé de synthèse selon l'invention. En effet, la synthèse de matériaux nanostructurés par le procédé selon l'invention permet d'accroître très fortement l'efficacité catalytique par l'augmentation de plusieurs ordres de grandeur du nombre de sites actifs et par la formation d'alliages et composites qui sont définis plus facilement que par des procédés classiques de préparation. La capacité d'une part de localiser le catalyseur dans le volume des pièces et d'autre part de le disperser à l'échelle nanométrique permet par ailleurs un abaissement significatif du taux de chargement en catalyseur, qui peut être par exemple de l'ordre de 10 fois inférieur par rapport à un procédé traditionnel tel que l'imprégnation et donc un abaissement du coût des dispositifs, surtout pour ceux utilisant des métaux nobles tels que le platine, le rhodium,... Le procédé selon l'invention et les substrats préparés par ce procédé peuvent permettre d'envisager un saut technologique en combinant les avantages suivants : diminution du coût du système catalytique : la capacité d'une part de diminuer de façon conséquente le taux de chargement en catalyseur et d'autre part de travailler sur la nature chimique des systèmes engagés (remplacement des métaux nobles par des métaux non nobles) permet d'abaisser significativement le coût du système (avec un gain escompté de l'ordre de 5%); - diminution des coûts énergétiques : les résultats issus de caractérisations réalisées sur des catalyseurs nanostructurés déposés par le procédé selon l'invention permettent de penser que l'efficacité catalytique en termes de rendement et de sélectivité ainsi qu'en terme de température d'activation des réactions catalytiques (gain en température d'au minimum 100°C) est largement amélioré par rapport aux technologies existantes, diminuant ainsi les coûts énergétiques : à titre d'exemple, le fait d'initier les réactions d'oxydation du NO en NO2 à des températures proches de 200°C a pour conséquence directe de réduire drastiquement la consommation en carburant et la production de CO2 : à titre indicatif, une diminution de l'ordre de 50% du surcroît de consommation en carburant peut être escomptée. Il a été démontré qu'un catalyseur constitué par un dépôt de nanoparticules d'un alliage PtAg préparé par le procédé selon l'invention présentait des températures d'activation très basses, notamment lors de la catalyse des réactions d'oxydation telles que celles du NO et du CO. Plus particulièrement il a été mis en évidence qu'un catalyseur constitué par un dépôt de nanoparticules d'un alliage PtAg (50/50) préparé par le procédé selon l'invention présentait une température d'activation pour l'oxydation du NO, et une température pour l'oxydation du CO, inférieures respectivement au minimum de 25°C et de 30°C par rapport aux températures d'activation des catalyseurs classiques, tels que les catalyseurs de référence Pt, Pd ou PtPd (métaux purs déposés par imprégnation). En outre, le catalyseur selon l'invention est moins cher du fait du remplacement d'une partie du métal noble par un métal noble moins coûteux tel que l'argent et le taux de chargement utilisé est moindre. Comme on l'a déjà indiqué plus haut, un substrat particulièrement préféré selon l'invention, qui ne peut être obtenu que par le procédé selon l'invention est un substrat qui comprend un dépôt de nanoparticules d'un métal ou alliage, ce dépôt comprenant une première famille de nanoparticules d'un métal ou alliage et une seconde famille distincte de nanoparticules dudit métal ou alliage possédant des tailles moyennes de nanoparticules différentes et des densités surfaciques différentes. Un dépôt présentant une telle structure avec une première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage et une seconde famille distincte de nanoparticules de métal ou d'alliage possédant des tailles moyennes de nanoparticules différentes et des densités surfaciques différentes n'a jamais été obtenu par les procédés de dépôt de l'art antérieur et a pu être obtenu de manière surprenante par le procédé selon l'invention. Sans vouloir être lié par aucune théorie, il apparaît que dans les procédés de CVD et d'ALD, il se produit une croissance simultanée de toutes les particules et on obtient donc une seule distribution granulométrique avec une seule taille moyenne. Dans le procédé selon l'invention, il est apparu de manière étonnante que seule une partie des particules croissait tandis que l'autre partie ne croissait pas. Une partie de la vapeur de précurseur fait croître de manière prioritaire une famille de particules par rapport à l'autre famille. Avantageusement, la première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 1 à 10 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 100 à 800 nanoparticules par um2; et la seconde famille de nanoparticules dudit métal ou alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 25 à 40 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 35 à 45 nanoparticules par um2. Cet alliage est de préférence choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine ou les alliages binaires d'argent et de rhodium qui ont été décrits plus haut. La première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage peut être dédiée à une première réaction catalytique tandis que la seconde famille peut être dédiée à une deuxième réaction catalytique. Avec un seul et même dépôt catalytique, on peut donc réaliser simultanément deux réactions catalytiques. Ainsi, dans le cas de nanoparticules d'un alliage argent/platine ou argent/ rhodium, la première famille est dédiée à l'oxydation du CO tandis que la seconde famille est dédiée à l'oxydation des NON. En effet, les tailles des particules optimales pour l'oxydation des NON sont de 15-20 nm, tandis que pour le CO, des tailles de particules de 4 nm sont plus efficaces. On obtient ainsi un gain en terme de chargement couplé à une efficacité en « light off » du CO et des NON (élimination par oxydation). Un avantage supplémentaire est un avantage économique et est dû à l'utilisation d'un alliage, par exemple d'un alliage d'argent et d'un métal noble tel que le platine au lieu de ce métal noble seul. Un substrat qui comprend un dépôt de deux familles de métal d'alliage possède aussi les avantages liés aux températures d'activation basses et aux faibles taux de chargement exposés plus haut. En conséquence, l'invention concerne aussi l'utilisation du substrat décrit plus haut pour catalyser une réaction chimique. Cette réaction chimique peut être toute réaction connue susceptible d'être catalysée par un catalyseur à base d'un des métaux ou alliages de métaux cités plus haut, tels que l'argent. Il peut s'agir par exemple d'une réaction en phase gazeuse comme une réaction d'oxydation, de préférence sélective, telle que l'oxydation du méthanol, l'époxydation d'oléfines, l'oxydation ménagée d'hydrocarbures, l'oxydation du CO, l'oxydation des NON, la combustion des particules carbonées notamment des matériaux carbonés ou suies, la combustion des particules contenues dans les gaz émis par les moteurs diesel, la décomposition du N20, le reformage d'alcools légers tels que le méthanol et l'éthanol, ou un reformage de gaz par exemple dans les piles à combustible, ou une réaction pour réaliser la dépollution de l'air. Il peut s'agir d'une réaction en phase liquide, notamment en phase aqueuse, par exemple pour réaliser la dépollution de l'eau. Les substrats selon l'invention peuvent aussi être utilisés comme membranes pour la perméation à l'hydrogène, pour catalyser les réactions d'hydrogénation/déshydrogénation, ou pour catalyser d'autres réactions se produisant par exemple dans les piles à combustible. Une utilisation préférée du substrat décrit plus haut dans la catalyse d'une réaction chimique qui est une réaction de décomposition, d'élimination des oxydes d'azote, tels que NON, NO par oxydation et/ou réduction. En effet, le substrat selon l'invention fournit des systèmes catalytiques performants qui permettent d'accroître sensiblement l'efficacité catalytique des réactions d'élimination des NON, par exemple lors des réactions mises en oeuvre dans des catalyseurs dits "NON-Traps" ou pièges à NON pour véhicules automobiles. En effet, les substrats selon l'invention qui comme on l'a indiqué ci-dessus peuvent être définis comme des "catalyseurs nanostructurés" à base d'un élément métallique noble tel que Pt, Pd, Rh, Ir... et/ou non noble, tel que Ag, permettent l'élimination des émissions d'oxyde d'azote à basse température, par exemple inférieure à 300°C, et trouvent donc une application directe en tant que catalyseurs dans des procédés tels que : l'élimination des NON issus de sources fixes (incinérateurs, cimenteries, verreries, usines électriques,...) par le procédé SCR à l'ammoniac sur matériaux zéolithiques, afin d'obtenir la bonne teneur en NO2; - l'élimination des NON issus de sources mobiles via un procédé h-SCR, où les nanoparticules de métal peuvent oxyder facilement le réducteur en le rendant ainsi actif et, en même temps, générer des espèces les NON plus oxydées et plus réactives mentionnées ci-dessus ; - l'élimination des NON issus de sources mobiles via un procédé NON-Trop, où les nanoparticules de métal peuvent oxyder facilement les NON en nitrates, même à basse température. Le substrat selon l'invention notamment lorsqu'il comprend deux familles de nanoparticules peut être utilisé de manière surprenante pour catalyser simultanément une réaction d'oxydation du Co et une réaction d'oxydation des oxydes d'azote NON. D'autres applications préférées des substrats catalytiques selon l'invention sont : - les récupérateurs thermo-électriques qui équipent notamment les moteur diesel de forte puissance, en particulier les moteurs diesel marins, les moteurs diesel de camions, les moteurs diesel de gros engins. les échangeurs EGR pour moteurs diesel. les vannes EGR pour moteurs diesel automobiles. les échangeurs industriels pour le traitement de fumées de combustion chargées en particules de carbone. - la dépollution automobile, avec notamment l'oxydation du CO, l'oxydation des NON déjà citée, et des suies contenues dans le gaz d'échappement. - le traitement de l'air, par exemple l'élimination des COV, et des NON déjà citée. la production d'hydrogène par reformage ; les matériaux de stockage de l'hydrogène. L'invention a également trait à un dispositif de récupération thermo- électrique pour le traitement de fumées de moteur diesel comprenant le substrat selon l'invention. Un tel dispositif comprend des surfaces d'échange thermique auto- décrassantes en fonctionnement normal et en continu et assure un nettoyage périodique des surfaces grâce à des thermo-éléments fonctionnant en effet Peltier. L'invention a aussi trait à un dispositif pour éviter l'encrassement d'une vanne EGR, ou vanne EGR comprenant le substrat selon l'invention. En d'autres termes, le substrat catalytique selon l'invention fait généralement partie de la vanne EGR c'est-à-dire qu'un dépôt catalytique est réalisé sur les surfaces de la vanne. Un tel dispositif comprend des surfaces d'échange auto décrassantes en fonctionnement normal et en continu et comprend un dispositif de nettoyage périodique des surfaces grâce à un chauffage électrique de la vanne EGR. En effet, des problèmes d'encrassement se posent également dans les systèmes dits systèmes « EGR » (« Exhaust Gas Recirculation » en langue anglaise). Ces systèmes EGR sont utilisés sur les moteurs diesel afin de satisfaire aux normes de pollution concernant les oxydes d'azote NON. Une partie des gaz d'échappement est prélevée, refroidie à l'aide d'un échangeur fumées/eau glycolée afin d'améliorer le rendement énergétique puis réinjectée avec l'air frais. Une vanne EGR permet de réguler la quantité de gaz recirculée. Une panne courante des systèmes EGR provient de l'encrassement de la vanne de régulation EGR provoquant son blocage en position ouverte, ce qui occasionne une perte de rendement du moteur, ou fermée, ce qui occasionne une pollution. La vanne EGR étant placée en aval de l'échangeur est donc en contact de fumées relativement froides, ce qui est un facteur favorisant l'encrassement. Monter un filtre à particules en amont du système EGR permet de résoudre en partie les problèmes d'encrassement, néanmoins le filtre introduit une perte de pression supplémentaire dans la ligne EGR et nécessite de traiter l'ensemble du débit de fumées. Le dispositif selon l'invention pour éviter l'encrassement d'une vanne EGR qui comprend le substrat selon l'invention permet de résoudre complètement les problèmes d'encrassement des vannes EGR sans qu'il soit nécessaire de monter un filtre à particules en amont du système EGR. L'invention a enfin trait à un dispositif permettant d'éviter l'encrassement d'échangeurs pour le traitement de fumées industrielles comprenant le substrat selon l'invention. Un tel dispositif comprend des surfaces d'échange auto-décrassantes en fonctionnement normal et en continu et comprend un dispositif de nettoyage périodique des surfaces grâce à un chauffage électrique. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS L'invention va maintenant être décrite de manière plus détaillée dans la description qui suit, donnée à titre illustratif et non limitatif, faite en référence aux dessins joints, dans lesquels : La Figure 1 est une vue en coupe schématique d'un support, substrat, pourvu de couches tampons sur la surface desquelles sont déposées des nanoparticules d'un métal ou alliage par le procédé selon l'invention. Cette Figure illustre également le mode d'action d'un substrat catalytique selon l'invention pour le traitement de polluantes gazeux. - La Figure 2 est une vue en perspective d'un TEG (« ThermoElectric Generator ») dont les surfaces des parois peuvent être pourvues d'un dépôt de nanoparticules catalytiques par le procédé selon l'invention. La Figure 3 est une vue en coupe d'un TEG dont les surfaces des parois peuvent être pourvues d'un dépôt de nanoparticules catalytiques par le procédé selon l'invention. La Figure 4 montre des exemples de surfaces développées que peuvent présenter des systèmes de combustion catalytique dont les parois peuvent être pourvues d'un dépôt de nanoparticules catalytiques par le procédé selon l'invention. La Figure 4A montre des ailettes droites rectangulaires, la Figure 4B montre des ailettes droites triangulaires, la Figure 4C montre des ailettes ondulées, la Figure 4D montre des ailettes « OSF », la Figure 4E montre des ailettes droites perforées, et la Figure 4F montre des ailettes à persiennes. - La Figure 5 est une photographie prise au microscope électronique à transmission à haute résolution (MET-HR ou « HR-TEM », « High Resolution-Transmission Electron Microscope » en anglais) d'une nanoparticule d'alliage Pt/Ag du dépôt préparé dans l'exemple 1. L'échelle portée sur la Figure 5 représente 2 nm. - La Figure 6 est une photographie prise au microscope électronique à balayage (MEB ou « SEM », « Scanning Electron Microscope » en anglais) à canon à émission de champ (« FEG » ou « Field Emission Gun » en anglais) du dépôt de nanoparticules d'alliage Pt/Ag préparé dans l'exemple 2. L'échelle portée sur la Figure 6 représente 300 nm. - La Figure 7 est une photographie prise au MEB-FEG du dépôt de nanoparticules d'alliage Pt/Ag préparé dans l'exemple 3. L'échelle portée sur la Figure 7 représente 30 um. - La Figure 8 est un graphique qui représente la taille des grains (nanoparticules) d'un alliage Pt/Ag 50/50 déposé par le procédé selon l'invention en fonction du temps de dépôt. En abscisse est porté le temps de dépôt (en minutes), et en ordonnée est portée la taille des grains déposés (en nm). - La Figure 9 est un graphique qui donne les fractions surfaciques en fonction des diamètres de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag déposées par le procédé selon l'invention ; En abscisse sont portés les diamètres des nanoparticules (en nm) et en ordonnée sont portées les fractions surfaciques (en %). - La Figure 10 est un graphique qui donne le taux de conversion du CO lors de l'oxydation d'un flux gazeux contenant 3000 ppm de CO à un débit de 25,5 L/minute en fonction de la température. Cette oxydation est réalisée avec un substrat catalytique préparé par le procédé selon l'invention comprenant un dépôt de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag à 25 g/ft3(M) ou avec un substrat comparatif, à savoir un substrat comprenant un dépôt de nanoparticules de platine pur à 70 g /ft3 (0) réalisé par imprégnation. En ordonnée est porté le taux de conversion du CO (en %) et en abscisse est portée la température (en °C). EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS De manière plus précise, pour la mise en oeuvre du procédé selon l'invention, la composition généralement sous forme liquide contenant le ou les précurseur(s) est envoyée tout d'abord dans un dispositif de vaporisation ou vaporisateur, évaporateur pour ainsi créer une phase gazeuse contenant le ou lesdits précurseurs. A titre d'exemple d'un tel évaporateur, on peut citer notamment les appareils disponibles auprès de la société KEMSTRAM® sous le nom de VAPBOX® (VAPBOX®300, VAPBOX® 500, VAPBOX®1500, et VAPBOX® 4000). La composition contenant le ou les précurseur(s) de métal (métaux), se présente de préférence, comme on l'a indiqué plus haut sous la forme d'une solution du ou des précurseur(s) dans un solvant, ladite solution comprenant de préférence un nitrile et/ou une amine pour favoriser la dissolution du précurseur dans la solution si le précurseur en question est un précurseur de l'argent. Ou bien la composition contenant le ou les précurseur(s) peut être constituée par ce ou ces précurseur(s) pur(s), à l'état liquide. Le ou lesdits précurseur(s) sont généralement des composés organométalliques ou des sels de métaux. La solution peut ne contenir qu'un seul précurseur qui est alors, par exemple, un composé organométallique de l'argent. Si la solution contient plusieurs précurseurs alors l'un de ces précurseurs peut être un précurseur d'un premier métal, par exemple un composé organométallique de l'argent, et le ou les autres précurseur(s) sont des composés organométalliques d'autres métaux différents du premier métal, par exemple différent de l'argent, tel que le platine, afin de former sur le substrat un alliage de ce premier métal, tel que l'argent et de cet autre métal ou de ces autres métaux. On a vu plus haut que les précurseurs organométalliques aussi bien de l'argent que des autres métaux sont choisis de préférence parmi les 13-dicétonates et les carboxylates de métaux, et que les précurseurs qui sont des sels de métaux sont choisis de préférence parmi les nitrates de métaux, par exemple le nitrate d'argent. Ainsi, les précurseurs préférés de l'argent seront-ils choisis parmi les 13- dicétonates et les carboxylates d'argent. Un précurseur d'argent préféré entre tous est le pivalate d'argent qui permet de s'affranchir des problèmes de faible volatilité rencontrés avec des précurseurs tels que les carboxylates d'argent Ag(02CR) où R est un groupe alkyle de préférence de 3 à 7C, et également des problèmes de contamination généralement rencontrés avec les précurseurs organométalliques fluorés. L'évaporation, comme on l'a déjà indiqué plus haut, est généralement réalisée à une température de 120°C à 250 C, par exemple de 190°C. A titre d'exemple, les solutions de pivalate d'argent à 0,15 mol/L dans le mésitylène, ou d'acétyl acétonate de platine dans le toluène à 0,03 mol/L sont évaporées à une température d'évaporation de 190°C. Avant son arrivée dans le dispositif de vaporisation, la composition qui est constituée par une solution du ou des précurseurs ou bien par le ou les précurseur(s) pur(s) à l'état liquide est généralement maintenue dans un réservoir à la température ambiante. La phase vapeur contenant les précurseurs ainsi créée dans l'évaporateur est acheminée, transportée, par des canalisations adéquates, jusqu'au réacteur, enceinte de dépôt, et à la zone de dépôt située dans ce réacteur, enceinte où se trouve placé le substrat chauffé à la température précisée plus haut sur lequel doit être réalisé le dépôt. Comme on l'a déjà mentionné plus haut, le réacteur enceinte de dépôt dans lequel est mis en oeuvre le procédé selon l'invention est un réacteur, enceinte de dépôt en phase vapeur CVD, classique, et non un réacteur de dépôt de couche moléculaire ALD. L'homme du métier sait en quoi un réacteur ou enceinte de CVD est différent d'un réacteur, enceinte d'ALD. En particulier, un réacteur ou enceinte de CVD, constituée par un réservoir fermé, se distingue d'un réacteur d'ALD par son volume plus important. Ainsi, comme on l'a déjà indiqué plus haut, un réacteur, enceinte de CVD a généralement un volume de 1L à 5L, de préférence de plus de 1L à 5L, de préférence encore de 2 ou 3L à 5L, tandis qu'un réacteur, enceinte d'ALD a généralement un volume très inférieur, seulement de 0,1L à 1 L. De ce fait, dans le réacteur de CVD des substrats, pièces de bien plus grande taille (par exemple d'une taille, définie par leur plus grande dimension de 20 à 50 cm en hauteur (axe z)) que dans un réacteur d'ALD (substrats dont la plus grande dimension est par exemple de 1 à 5 cm en hauteur) peuvent être traités. De plus dans une enceinte de CVD, plusieurs substrats, pièces, par exemple de 1 à 200 pièces, même de grande taille peuvent être traités simultanément. Un réacteur, enceinte de CVD et un réacteur d'ALD se distinguent en outre par leur forme. En effet, un réacteur de CVD a généralement une forme cylindrique ce qui permet donc de traiter des substrats, pièces présentant toutes sortes de géométries même macroscopiquement complexes alors qu'un réacteur d'ALD a généralement une forme sensiblement plate adaptée et limitée au traitement de substrats, pièces, macroscopiquement plans. Le substrat ou support placé dans le réacteur, enceinte de CVD, peut avoir une forme quelconque car le procédé selon l'invention permet le dépôt de particules de métaux, par exemple de particules d'argent, même sur des substrats qui présentent une géométrie très complexe. Le substrat peut être choisi parmi les substrats poreux ou parmi les substrats denses, non poreux. Le substrat peut avoir un état de surface quelconque, il peut être rugueux ou lisse. La taille du substrat n'est pas limitée, aussi bien des substrats de petite que de grande taille peuvent recevoir un dépôt par le procédé de l'invention. Le substrat peut être en un matériau quelconque, et même en un matériau relativement sensible à la chaleur grâce aux températures de dépôt relativement faibles utilisées. Le substrat peut être par exemple en un matériau choisi parmi les céramiques, le silicium, les zéolithes, l'acier, ou en un matériau composite comprenant plusieurs parmi les matériaux précités. A titre d'exemple de substrat, support de géométrie complexe dont une surface peut être pourvue d'un dépôt de nanoparticules de métal ou d'alliage par le procédé selon l'invention, on peut citer les substrats, supports macroporeux utilisés pour le traitement des effluents gazeux tels que les mousses ou nids d'abeilles en céramique, par exemple en cordiérite ou en mullite, et les mousses ou nids d'abeille en métal ou en alliage métallique, par exemple en FeCrAI. De tels supports macroporeux, tels que les supports filtrants pour la catalyse, comme les mousses ou nids d'abeille peuvent avoir une porosité définie par un nombre de canaux de 2 à 600 cpsi (canaux par pouce carré) et/ou par une porosité de 2 à 60 ppi (pores par pouce carré). La surface de réaction du support peut être fortement augmentée par l'application d'un « washcoat» ou couche tampon homogène de grande surface spécifique, par exemple de 125à 190m2/g. Ce « washcoat» peut être composé d'un ou plusieurs oxydes ou oxydes mixtes. Ainsi, ce « washcoat» peut être en A1203, Ti02, Ce02-Zr02, Ba02, en une zéolithe, en Ti02/ V205. Ce « washcoat» peut être déposé par le procédé selon l'invention mais adapté de façon à déposer le matériau constituant le « washcoat» et non plus un métal ou un alliage métallique. Un exemple de pièce, substrat est un monolithe en cordiérite dont la surface peut avoir été pourvue d'un « washcoat » ce qui accroît la surface spécifique. Un autre exemple de substrat est un nid d'abeille de 400 cpsi en FeCrAI recouvert d'un «washcoot » de Ti02. La ou les pièce(s) propre(s) préalablement nettoyée(s) est (sont) généralement tout d'abord positionnée(s) sur un porte-substrat puis placée(s) dans l'enceinte de dépôt. Le nettoyage de la ou des pièce(s) est généralement réalisé à l'aide d'un solvant organique tel que l'éthanol, l'acétone ou le xylène. Le nettoyage est généralement effectué en trempant la ou les pièce(s) dans un bain de ce solvant ; ce bain étant éventuellement soumis à l'action des ultrasons. La température du substrat à revêtir qui se confond généralement avec la température dans l'enceinte de dépôt et que l'on peut définir comme étant la température de dépôt est selon l'invention généralement une température relativement basse, à savoir inférieure ou égale à 500°C, de préférence de 250°C à 400°C, de préférence de 340°C à 350°C. Une telle température basse a l'avantage de permettre le dépôt des nanoparticules, par exemple des nanoparticules d'argent sur des substrats thermiquement fragiles ce qui n'aurait pas été possible par d'autres procédés opérant à des températures beaucoup plus élevées. A l'intérieur de l'enceinte de dépôt, on peut régler la pression de façon à ce que règne dans cette enceinte un vide primaire ou un vide plus poussé c'est-à-dire une pression inférieure ou égale à 100 Torrs (soit 133,322 mbar). Un tel vide est nécessaire pour que les dépôts métalliques réalisés soient de bonne qualité. Conformément à l'invention, le procédé selon l'invention est mis en oeuvre selon les principes d'un procédé de dépôt de couche atomique ALD et comprend les étapes successives a) à e) décrites plus haut. Plus exactement, un cycle de dépôt de couche atomique « ALD » tel que celui réalisé selon l'invention comprend généralement 4 étapes : 1) Exposition de la surface du substrat, préalablement chauffé à la température mentionnée plus haut, à la phase vapeur produite dans l'évaporateur. La durée de l'exposition de la surface du substrat au précurseur doit être suffisante pour saturer la surface du substrat avec la phase vapeur contenant le(s) précurseur(s). Cette durée est généralement de 5 à 20 secondes. Pour cela, on injecte la phase vapeur dans l'enceinte de dépôt sous vide à une pression initiale généralement de 0 à 6 mbar, par exemple de 1 mbar, en ouvrant simplement une vanne d'injection sur la canalisation qui relie l'évaporateur à l'enceinte de dépôt CVD. La durée de l'injection correspond à la durée d'exposition. Lorsque la durée d'injection est suffisante, alors la vanne d'injection est simplement fermée. Pendant la durée de l'injection, la pression dans l'enceinte augmente et passe de la pression initiale indiquée plus haut à une pression généralement de 10 à 300 mbar, par exemple de 100 mbar. 2) Etape de mise sous vide encore appelée étape de purge. Lors de cette étape, le substrat est maintenu pendant une certaine durée sous vide, sans exposition de la surface du substrat au précurseur. Cette étape permet de laisser le temps aux molécules du précurseur en excès de se désorber de la surface du substrat et d'être évacuées par le pompage. La durée de cette étape est généralement de 2 à 100 secondes, par exemple de 7 secondes. A l'issue de cette étape, la pression dans l'enceinte est ramenée à la pression initiale, à savoir généralement de 0 à 6 mbar, par exemple 1 mbar. Au cours de cette étape, on peut réaliser simplement un pompage, mais on peut éventuellement, en outre, envoyer un gaz de purge inerte dans l'enceinte. En effet un simple pompage, purge, suffit généralement, mais il est également possible en outre de « pousser » les résidus grâce à un gaz inerte. Dans ce cas, le pompage et le balayage avec un gaz inerte sont réalisés successivement. En particulier, le balayage avec le gaz inerte est réalisé pendant quelques secondes avant de reprendre le pompage. 3) Exposition de la surface du substrat à un gaz réactif tel qu'un gaz oxydant. Au cours de cette étape, les molécules de précurseur(s) réagissent avec le gaz réactif, par exemple oxydant ou réducteur, pour former les nanoparticules de métal ou d'alliage. Cette étape permet par exemple d'oxyder les molécules de précurseur(s) pour former les nanoparticules de métal ou d'alliage. Pour cela, on introduit le gaz réactif, par exemple le gaz oxydant dans l'enceinte. Au cours de cette étape, la pression dans l'enceinte de dépôt remonte généralement jusqu'à une pression de 1 à 20 mbar, par exemple de 10 mbar. La durée de cette étape est généralement de 5 à 50 secondes, par exemple de 7 secondes. 4) Etape de mise sous vide encore appelée étape de purge finale. Lors de cette étape, le substrat et les nanoparticules de métal ou d'alliage déposées sont maintenus pendant une certaine durée sous vide, sans exposition de la surface du substrat à un gaz réactif tel qu'un gaz oxydant. Cette étape permet d'évacuer l'excès de molécules de gaz réactif tel qu'un gaz oxydant comme l'oxygène. La durée de cette étape est généralement de 5 à 50 secondes, par exemple de 7.secondes. A l'issue de cette étape, la pression dans l'enceinte est ramenée à la pression initiale, à savoir généralement de 0 à 6 mbar, par exemple 1 mbar. Ce cycle est généralement répété. Le nombre de cycles est choisi de façon à obtenir le taux de chargement souhaité. On peut réaliser de 1 à 1000 cycles, par exemple 100 cycles. Pour un taux de chargement de 100 à 1500 ppm (sachant que lppm = 0,0283g/ft3) de nanoparticules, on réalise typiquement de 20 à 100 cycles. A l'issue du dernier cycle, le substrat dont la surface a été pourvue de nanoparticules est ramené à la température ambiante et extrait de l'enceinte de dépôt. La durée totale du procédé qui est généralement de 40 à 90 minutes est plus longue que celle d'un procédé ALD classique qui est seulement de 10 à 30 minutes. Le procédé selon l'invention peut avantageusement être réalisé avec une assistance plasma. Les techniques d'assistance plasma sont complémentaires des procédés de dépôt chimique en phase vapeur à l'aide de précurseurs organométalliques ou des procédés d'ALD, dans le sens où elles autorisent également de faibles températures de réaction (techniques dites PA ou PE-CVD, à savoir « Plasma Assisted » ou « Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition »). Le type d'excitation plasma peut être choisi par exemple parmi les excitations au plasma basse fréquence (BF), radiofréquence (RF) ou courant continu pulsé (DC pulsé). L'assistance plasma permet d'offrir des possibilités supplémentaires de structuration de surfaces. Un plasma froid peut donc éventuellement être ajouté autour du support. Lorsque le dépôt est effectué en présence de plasma, il est suffisant que le support, substrat, destiné à recevoir les nanoparticules de métal ou d'alliage de métaux, par exemple d'argent ou d'alliage d'argent soit maintenu à la même température qui règne dans l'évaporateur. En l'absence de plasma, il est nécessaire que ledit support soit à une température supérieure à celle de l'évaporateur, la différence de température étant au moins égale à 20°C, de préférence au moins égale à 50°C, afin d'éviter le dépôt de métal sur les parois du réacteur. Une installation qui convient particulièrement bien à la mise en oeuvre du procédé selon l'invention et qui est celle utilisée dans les exemples ci-dessous comprend : Un dispositif de vaporisation du type cité plus haut commercialisé qui est couplé à une enceinte de dépôt chimique en phase vapeur. Le dispositif « VAPBox» comprend quatre parties principales : - le ou les réservoirs de stockage de la ou des solutions chimiques de précurseurs ; dans le cas où les nanoparticules sont constituées par un seul métal, un seul réservoir de stockage est prévu ; dans le cas d'alliages dont la mise en solution des précurseurs organométalliques ne peut être effectuée dans un solvant commun, plusieurs réservoirs de stockage sont utilisés ; une ou plusieurs cartouches d'injecteur(s) constituées de 2 injecteurs en série, par exemple du type injecteur de moteur à essence ou diesel relié(s) par une ou plusieurs ligne(s), canalisation(s) d'alimentation au(x) réservoir(s) de stockage(s), de liquide et qui est piloté par un dispositif de commande électronique ; ce procédé permet une brumisation beaucoup plus fine de la solution à déposer par rapport au système d'injection « I nject » une ligne, canalisation d'alimentation en gaz vecteur ou porteur inerte neutre (par exemple l'azote) ; et un dispositif de vaporisation (évaporateur). L'enceinte de dépôt chimique en phase vapeur, qui contient le substrat à revêtir, comprend des moyens de chauffage, une alimentation en gaz réactif, par exemple en gaz oxydant tel que l'oxygène, et des moyens de pompage et de régulation de la pression, réduite si l'on opère sous vide. L'évaporateur est connecté à l'enceinte de dépôt chimique en phase vapeur par une canalisation qui est munie de moyens de chauffage et qui est maintenue à la même température que l'évaporateur. Un cône de forçage de flux, régulé en température est introduit afin de conduire la phase vapeur (+ gaz réactifs) à l'intérieur du poreux (sur l'intégralité ou préférentiellement sur une zone d'arrosage privilégiée). L'enceinte de dépôt possède un contre-tube interne en quartz servant de chambre réactionnelle adaptée à la dimension du support à revêtir. L'enceinte de dépôt chimique en phase vapeur et le substrat à revêtir qui y est placé sont généralement maintenus à une température supérieure à celle de l'évaporateur afin de créer un gradient thermique positif. La solution chimique contenant un précurseur d'argent est introduite dans le réservoir maintenu sous pression à une pression par exemple de 1 bar ou 2 bar, puis envoyée à partir dudit réservoir, par l'intermédiaire du ou des injecteur(s) (par différence de pression) dans l'évaporateur qui est maintenu sous vide. Le débit d'injection est contrôlé en agissant sur la fréquence et la durée d'ouverture du ou des injecteur(s) que l'on peut considérer comme une micro- électrovanne et qui est commandée par un ordinateur. La réaction chimique se fait en présence d'un gaz réactionnel composé d'un gaz réactif, tel que 02, H2 ou CO2 et sous une pression généralement inférieure ou égale à 2000 Pa. Une vue en coupe schématique d'un substrat catalytique préparé par le procédé selon l'invention est représentée sur la Figure 1. Ce substrat comporte un support par exemple en cordiérite (1) dont une surface (2) est revêtue de couche(s) tampon(s) (3). Sur la surface (4) de ces couches tampons (« wash-coat ») (3) sont dispersées des nanoparticules (5) d'un métal ou d'un alliage par le procédé selon l'invention. On obtient donc une nanodispersion de particules de métal ou d'alliage sur un support 3D. On note la présence de sites actifs (6), à savoir de points triples de réaction d'élimination, entre le module catalytique (on désigne ainsi le support, par exemple en cordiérite, revêtue de couche(s) tampon(s)), le catalyseur et les polluants gazeux (flèche 7) tels que des composés organiques volatils (COV). Des réactions se produisent sur ces sites actifs et les polluants gazeux (7) sont transformés en sous-produits non-polluants (flèche 8). Le procédé selon l'invention permet de munir d'un dépôt de nanoparticules catalytiques les surfaces d'échange avec les fumées (21) d'un TEG qui comporte en outre des canaux froids (22), et des thermo-éléments (23). Pour minimiser les problèmes d'encrassement sur les fumées de diesel, on utilise classiquement des ailettes avec des passages minimum de 2 à 3 mm. De plus, on évite également les surfaces améliorées par des promoteurs de turbulence qui sont plus promptes à s'encrasser. Selon l'invention, l'encrassement étant réduit grâce au système de combustion catalytique utilisant le substrat catalytique selon l'invention, les limitations précitées n'existent plus et on peut envisager toutes sortes de surfaces développées notamment pour les TEG. Par exemple, outre les ailettes droites rectangulaires ou triangulaires (Figures 4A et 4B), on pourra utiliser des ailettes décalées de type Offset Strip Fin (OSF) (Figure 4D), des ailettes ondulées (Figure 4C), des ailettes droites perforées (Figure 4E), des ailettes à persiennes (Figure 4F), des mousses métalliques, des nids d'abeille, des générateurs de vortex et tout autre type de surface d'échange permettant de développer de la surface et intensifiant l'échange thermique par promotion de la turbulence. La régénération des surfaces peut être continue par combustion catalytique continue des dépôts lorsque la température des fumées dépasse 150°C. Les surfaces ailetées peuvent être réalisées suivant les températures en alliage d'aluminium, en cuivre, en acier au carbone, en acier inoxydable, en alliages réfractaires, en céramique. Des tôles « cladées » comme par exemple acier inox/cuivre/acier inox peuvent également être utilisées. Pour les moteurs très froids, des cycles de régénération des surfaces développées sont effectués à intervalles périodiques manuellement ou automatiquement en utilisant comme moyen de chauffage les thermo-éléments, alors utilisés en pompe à chaleur par effet Peltier. Ces cycles peuvent également être déclenchés manuellement ou automatiquement en fonction du nombre d'heures de fonctionnement du moteur diesel. Ces cycles peuvent également être déclenchés manuellement ou automatiquement par une détection d'encrassement liée par exemple à une élévation de la perte de pression dans le TEG, un capteur d'encrassement ou des performances thermo-électriques anormalement basses. L'invention va maintenant être décrite en référence aux exemples suivants, donnés à titre illustratif et non limitatif. Exemples. Dans ces exemples, on étudie le dépôt de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag sur divers substrats. Les solutions de précurseurs utilisées ainsi que les températures d'évaporation et de dépôt sont données dans le Tableau I ci-dessous. Tableau I. Précurseur Formule Chimique Alias Solvant et Température d'évaporation /de dépôt Gaz Pression mBar Injection Hz/ms concentration en précurseur 02/N2 en 1/min Pivalate d'Argent Ag (C202 (CH3)3) AgPiv Mésitylène 0,15 M 190°C/340°C 0,8/0,185 8 2,5/22* + amine 10% Acétylacétonate de Platine Pt(C(H702))2 Pt(acac)2 Toluène 0,03M 190°C/340°C 0,8/0,185 8 5/11* *Régulée par le débit du débit massique « mass flow » liquide (à 15,9% de la pleine échelle qui est de 500 gr/h) Précurseur Masse molaire précurseur (g/mol) Teneur en métal Volume de solution (en ml) pour des ratios en Pt/Ag de : 30/70 50/50 70/30 AgPiv 206 52,4% 80 50 30 Pt(acac)2 393 49,6% 80 80 80 Il est à noter que le bimétallique PtAg est réalisé par injection simultanée dans l'enceinte de dépôt de la vapeur de la solution contenant le précurseur d'argent et de la vapeur de la solution contenant le précurseur de platine mais par deux lignes d'injection distinctes car ces deux précurseurs n'ont pas de solvant commun. Les proportions respectives des deux vapeurs injectées sont réglées de façon à obtenir la proportion souhaitée de chacun des deux métaux dans l'alliage. Exemple 1. Dans cet exemple, on réalise le dépôt de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag 50/50 par le procédé selon l'invention sur un substrat, support de type nid d'abeille 400 cpsi en cordiérite, avec un « wash-coat » d'alumine. La Figure 5 montre un cliché HR-TEM d'une nanoparticule de ce dépôt sur le substrat. Exemple 2. Dans cet exemple, on réalise le dépôt de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag 50/50 par le procédé selon l'invention sur un substrat qui est un nid d'abeille métallique en FeCrAI 400 cpsi, recouvert d'un « wash-coat » de TiO2 Le taux de chargement en nanoparticules est de 150 ppm. La Figure 6 montre un cliché en MEB-FEG de ce dépôt. Les nanoparticules d'alliage sont visibles en blanc sur ce cliché. Pour les conditions de mise en oeuvre du procédé conduisant à ce dépôt, on pourra se référer au Tableau I ci-dessus. Exemple 3. Dans cet exemple, on réalise le dépôt de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag 50/50 par le procédé selon l'invention sur un substrat qui est un nid d'abeille métallique en FeCrAI 400 cpsi, recouvert d'un « wash-coat » de TiO2 d'une épaisseur de 12 um . Le taux de chargement en nanoparticules est de 150 ppm. La Figure 7 montre un cliché en MEB-FEG de ce dépôt. Pour les conditions de mise en oeuvre du procédé conduisant à ce dépôt, on pourra se référer au Tableau I ci-dessus. Exemple 4. Dans cet exemple, on étudie l'influence de la durée de dépôt, en d'autres termes de la durée du procédé sur la taille des nanoparticules d'un alliage Pt/Ag 50/50 déposé par le procédé selon l'invention sur un substrat qui est le même que celui de l'exemple 1, Figure 5. Le graphique de la Figure 8 montre que la taille des nanoparticules de l'alliage Pt/Ag 50/50 augmente avec la durée de dépôt. Exemple 5. Dans cet exemple, on étudie la taille et la densité de nanoparticules d'alliages Pt/Ag 70/30, 50/50, et 30/70 déposés par le procédé selon l'invention sur un substrat qui est le même que celui de l'exemple 1, Figure 5. La durée de dépôt est de 40 minutes. Pour l'alliage Pt/Ag 50/50, les structures obtenues consistent en deux familles de nanoparticules de PtAg à savoir : une première famille, ou famille 1, avec une densité de nanoparticules supérieure à 300 particules/µm2 avec un diamètre moyen des particules 2 nm Les distributions en taille de particules sont extrêmement serrées. Le maintien du substrat à une température pouvant aller jusqu'à 650°C ne modifie pas la structure des nanoparticules obtenues. La Figure 9 montre la répartition des fractions surfaciques en fonction des diamètres des nanoparticules d'alliage Pt/Ag obtenues pour une durée de dépôt de 40 minutes. Les tailles et les densités des nanoparticules (« NPs ») déposées pour chacun des alliages sont indiquées dans le Tableau Il ci-dessous. Tableau Il Famille 1 de NPs Famille 2 de NPs Taille (nm) Densité Taille (nm) Densité (particules/µm2) (particules/µm2) Pt70Ag30 1-4 500-800 25 45 Pt50Ag50 2-5 300-500 30 50 Pt30Ag70 5-10 100-250 30-40 35 Exemple 6. Dans cet exemple, on réalise l'oxydation d'un flux gazeux contenant 3000 ppm de CO à un débit de 25,5 L/minute à diverses températures. Cette oxydation est réalisée avec un substrat qui est le même que celui de l'Exemple 1, Figure 5, pourvu par le procédé selon l'invention d'un dépôt de nanoparticules d'un alliage Pt/Ag 50/50. Le taux de chargement est de 25 g de nanoparticules d'alliage par pied cube (25 g/ft3). L'oxydation de ce même courant est réalisée dans les mêmes conditions mais avec un substrat comparatif, à savoir un substrat par exemple en alumine pourvu d'un dépôt de nanoparticules de platine pur réalisé par imprégnation par le procédé décrit ci- après. - Procédé d'imprégnation. Un tel procédé est exposé notamment dans les documents suivants : - T.N. Angelidis, N. Kruse, Applied Catalysis B : Environmental 34, (2001), 201. ^ A. Bueno-Lopez, D. Lozano-Castello, I. Such-Basanez, J.M. Garcia-Cortes, M.J. Illan-Gomez, C. Salinas-Martinez de Lecea, Applied Catalysis B : Environmental 58, (2005), 1-7. Ce mode de dépôt est retrouvé assez classiquement. Le support (l'alumine par exemple) est imprégné d'une solution de nitrate d'argent AgNO3 ou d'une solution d'argent lactique préparée par dissolution d'Ag20 dans de l'acide lactique. Pour une meilleure répartition du métal sur le support, la solution d'argent lactique est conseillée. Après une imprégnation de 24 heures, le support est ensuite récupéré, séché et calciné à 550°C pendant quelques heures. Dans le cas du platine, le support est mis en contact pendant 24 heures avec un sel de platine, généralement [Pt(NH3)4](NO3)2 ou (NH4)2PtC16, puis récupéré, séché et calciné. Le taux de chargement de ce substrat comparatif est de 70 g/ft3. La Figure 10 montre que la température à laquelle est obtenu un taux de conversion du CO de 50% est seulement de 147°C avec le substrat selon l'invention et de 210°C avec le substrat comparatif. Le substrat selon l'invention permet donc un gain en température de 63% et un gain en taux de chargement d'un facteur 3. De plus, une importante économie est réalisée car dans le catalyseur selon l'invention, 50% en masse du platine sont remplacés par de l'argent beaucoup moins cher. REVENDICATIONS1. Procédé de préparation d'un dépôt de nanoparticules d'un métal, ou d'un alliage dudit métal avec au moins un autre métal, ledit métal étant choisi parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la classification périodique des éléments, sur une surface poreuse d'un substrat, à partir d'un précurseur dudit métal ou à partir d'un précurseur dudit métal et d'au moins un précurseur d'un autre métal, dans lequel le substrat est placé dans une enceinte de dépôt chimique en phase vapeur CVD sous vide, et dans lequel on réalise les étapes successives suivantes : a) on expose la surface poreuse du substrat, préalablement chauffé, à une phase vapeur contenant le(s)dit(s) précurseur(s) moyennant quoi la pression dans l'enceinte augmente ; b) on met l'enceinte sous vide ; c) on injecte un gaz réactif dans l'enceinte ; d) on met l'enceinte sous vide ; e) on répète éventuellement les étapes a) à d). 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le métal est choisi parmi l'argent, le rhodium, le platine, le palladium et l'iridium. 3. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel les nanoparticules sont des nanoparticules d'un alliage choisi parmi les alliages des métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la Classification périodique des éléments, tels que Ag, Rh, Pt, Pd et Ir, entre eux. 4. Procédé selon la revendication 3, dans lequel l'alliage est choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine ou les alliages binaires d'argent et de rhodium. 5. Procédé selon la revendication 4, dans lequel l'alliage est choisi parmi 30 les alliages binaires d'argent et de platine comprenant de 30% à 70% en masse d'argent 25et de 70% à 30% en masse de platine, par exemple de 30% en masse d'argent et 70% en masse de platine, 50% en masse d'argent et 50% en masse de platine, ou 70% en masse d'argent et 30% en masse de platine. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le dépôt comprend une première famille de nanoparticules d'un métal ou alliage et une seconde famille distincte de nanoparticules dudit métal ou alliage, la première famille et la seconde famille possédant des tailles moyennes de nanoparticules différentes et des densités surfaciques différentes. 7. Procédé selon la revendication 6, dans lequel la première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 1 à 10 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 100 à 800 nanoparticules par µm2; et la seconde famille de nanoparticules dudit métal ou alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 25 à 40 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 35 à 45 nanoparticules par urn2. 8. Procédé selon la revendication 6 ou 7, dans lequel les nanoparticules sont des nanoparticules d'un alliage choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine ou les alliages binaires d'argent et de rhodium. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat est constitué par un matériau choisi parmi les métaux ; les alliages de métaux tels que les aciers ; les céramiques, notamment les céramiques oxydes telles que l'alumine, la cérine, la zircone ; le silicium ; et les zéolithes ; et les matériaux composites comprenant plusieurs des matériaux précités. 10. Procédé selon l'un quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat comprend en outre une ou plusieurs couche(s) tampon(s) dite(s) « washcoat » de grande surface spécifique déposée(s) sur au moins une surface du substrat, et le dépôt est préparé sur la surface externe poreuse de ladite couche tampon ou desdites couches tampon. 11. Procédé selon la revendication 10, dans lequel la ou lesdites couche(s) tampon(s) sont réalisées par un procédé de dépôt de couche atomique ALD, dans une enceinte de dépôt chimique en phase vapeur CVD. 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel les précurseurs sont choisis parmi les composés organométalliques et les sels de métaux tels que les nitrates de métaux. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat est chauffé à une température inférieure à 500°C, de préférence de 250°C à 400°C, de préférence encore de 340°C à 350°C. 14. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la phase vapeur est produite par évaporation d'une solution du ou des précurseur(s) dans un solvant organique. 15. Procédé selon la revendication 14, dans lequel l'évaporation est réalisée à une température de 120°C à 250°C, par exemple de 190°C. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le gaz réactif est un gaz oxydant. 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 15, dans lequel le gaz réactif est un gaz réducteur. 18. Substrat comprenant une surface poreuse pourvue d'un dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage dudit métal avec au moins un autre métal, ledit métal étant choisi parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB (8, 9, 10, et 11) de la Classification périodique des éléments, par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 17. 19. Substrat selon la revendication 18, dans lequel le dépôt comprend une première famille de nanoparticules d'un métal ou alliage et une seconde famille distincte de nanoparticules dudit métal ou alliage, la première famille et la seconde famille possédant des tailles moyennes de nanoparticules différentes et des densités surfaciques différentes. 20. Substrat selon la revendication 19, dans lequel la première famille de nanoparticules de métal ou d'alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 1 à 10 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 100 à 800 nanoparticules par p.m2; et la seconde famille de nanoparticules dudit métal ou alliage a une taille moyenne des nanoparticules de 25 à 40 nm et une densité surfacique des nanoparticules de 35 à 45 nanoparticules par gm2. 21. Substrat selon l'une quelconque des revendications 18 à 21, dans lequel les nanoparticules sont des nanoparticules d'un alliage choisi parmi les alliages binaires d'argent et de platine ou les alliages binaires d'argent et de rhodium. 22. Utilisation du substrat selon l'une quelconque des revendications 18 à 20, pour catalyser au moins une réaction chimique. 23. Utilisation selon la revendication 22, dans laquelle la réaction chimique est une réaction en phase gazeuse. 24. Utilisation selon la revendication 23, dans laquelle la réaction chimique est une réaction d'oxydation, de préférence sélective, telle que l'oxydation du méthanol, l'époxydation d'oléfines, l'oxydation ménagée d'hydrocarbures, l'oxydation du CO, l'oxydation des NOx, la combustion des particules carbonées notamment des matériaux carbonés ou suies, la combustion des particules contenues dans les gaz émis par les moteurs diesel, la décomposition du N20, le reformage d'alcools légers tels que le méthanol et l'éthanol, ou un reformage de gaz par exemple dans les piles à combustible, ou une réaction pour réaliser la dépollution de l'air. 25. Utilisation selon la revendication 22, dans laquelle la réaction chimique est une réaction en phase liquide, par exemple en phase aqueuse. 26. Utilisation du substrat selon la revendication 19 ou 20 pour catalyser simultanément une réaction d'oxydation du CO et une réaction d'oxydation des oxydes d'azote. 27. Dispositif de récupération thermo-électrique pour le traitement de fumées de moteur diesel comprenant le substrat selon l'une quelconque des revendications 18 à 21. 28. Dispositif pour éviter l'encrassement d'une vanne EGR, ou vanne EGR comprenant le substrat selon l'une quelconque des revendications 18 à 21. 29. Dispositif pour éviter l'encrassement d'échangeurs pour le traitement de fumées industrielles comprenant le substrat selon l'une quelconque des revendications 18 à 21.