FR 2979340 A1 20130301 FR 1157635 A 20110830 - 1 - ELECTRODE SUPPORTEE TRANSPARENTE La présente invention concerne une électrode mince supportée, transparente, comprenant un substrat non conducteur et une couche mince conductrice présentant une géométrie particulière. L'invention concerne également des procédés de fabrication d'une telle électrode mince supportée et des dispositifs électriques, en particulier électrochimiques, contenant au moins une telle électrode. Dans le domaine des vitrages actifs électrocommandables tels que les vitrages électrochromes, les cellules photovoltaïques ou les dispositifs électroluminescents de visualisation tels que les écrans à OLED, on est confronté à un problème récurrent désigné couramment par le terme anglais « pinholes » (en française « trous d'épingle » ou « piqûres »). Il s'agit de courts-circuits créés localement entre deux électrodes séparées par un électrolyte mince, et que l'on attribue généralement à des inhomogénéités au niveau des électrodes ou de l'électrolyte. L'effet Joule consécutif au passage indésirable d'un courant de forte densité au niveau du court-circuit aboutit à la dégradation thermique de certains composants du système actif. Par exemple dans le cas d'un système électrochrome ou électroluminescent, cela crée des points sombres ou incolores inactifs qui dégradent de façon définitive et permanente la qualité de l'image et réduisent la durée de vie du dispositif. Le problème des pinholes est particulièrement important dans le domaine des dispositifs électrochimiques dits « tout solide » qui sont constitués de couches minces solides empilées les unes sur les autres. Il se pose moins dans des systèmes électrochimiques dits « hybrides » ou « tout organique » où un électrolyte liquide ou polymère, relativement plus épais, sépare les électrodes. Pour éviter la formation de pinholes, une approche a consisté à en éliminer les sources. Ainsi, pour éviter des projections métalliques de la cathode au cours du dépôt par pulvérisation magnétron, on a eu recours à des coaters verticaux (au lieu des coaters horizontaux) afin de faire tomber - 2 - les résidus dans le fond de la machine. Ce type d'appareil est toutefois plus cher, en particulier parce que les substrats doivent être maintenus dans des cadres métalliques qui nécessitent un nettoyage régulier assez coûteux. La solution technique à la base de la présente invention est très différente de l'approche décrite ci-dessus. Elle se propose en effet non pas d'éliminer les sources de la formation des courts-circuits mais d'en réduire les conséquences. En effet, on comprendra aisément que les pinholes constituent un problème surtout lorsqu'ils dépassent une certaine taille - de l'ordre de quelques centaines de microns - et deviennent visibles à l'oeil nu. Comme il sera expliqué en détail ci-après, la Demanderesse a développé une structure originale d'électrodes comportant un très grand nombre de « fusibles » internes qui « sautent » lorsque la densité de courant dans l'électrode devient anormalement forte, isolant ainsi la zone affectée, de très petite taille, du reste de l'électrode. L'idée à la base de la présente invention est de conférer à l'électrode mince une forme constituée d'une multitude de zones conductrices non contigües, c'est-à-dire de zones qui ne se touchent pas. Comme les pavés d'une rue ou les carreaux d'un revêtement de carrelage, les zones conductrices de l'électrode de la présente invention sont disposées à proximité les unes des autres de manière à couvrir une grande proportion de la surface du substrat, tout en laissant persister entre elles un réseau ou espace continu non conducteur. Une telle mosaïque de zones conductrices non connectées les unes aux autres est bien entendu non conductrice et pour que l'électrode puisse remplir son rôle de conducteur électrique, on reliera chacune des zones conductrices à au moins trois zones conductrices à proximité, par l'intermédiaire de « ponts » électroconducteurs. Ces ponts auront une section transversale suffisamment petite par rapport à la surface des zones conductrices, pour fondre par effet Joule lorsqu'une des zones conductrices avec laquelle ils sont en contact est affectée par un court- circuit. Ces ponts électroconducteurs fonctionnent ainsi comme des « fusibles ». La fusion de l'ensemble des ponts conducteurs reliant une zone - 3 - conductrice affectée par un court-circuit à ses voisines, isolera électriquement cette zone du reste de l'électrode et empêchera la propagation des effets du court-circuit aux zones voisines. La présente invention a ainsi pour premier objet une électrode supportée transparente, comprenant un substrat transparent non conducteur et, sur au moins une des faces du substrat non conducteur, une couche mince essentiellement constituée d'une multitude de zones conductrices non contiguës couvrant de 70 % à 98 % de la zone du substrat couverte par ladite couche mince, chacune desdites zones conductrices étant reliée électriquement à plusieurs zones conductrices voisines au moyen de ponts électroconducteurs. La couche mince peut être formée de n'importe quel matériau connu dans la technique pour former des électrodes minces transparentes. On peut citer à titre exemples de tels matériaux les métaux tels que l'argent, le platine, le cuivre et l'or. Lorsqu'on souhaite que les électrodes minces soient transparentes, l'épaisseur de la couche ne dépasse de préférence pas environ 20 nanomètres et est comprise généralement entre 10 et 15 nm. La couche mince peut également être formée d'un oxyde conducteur transparent (TCO) tels que des couches d'oxyde d'indium dopé à l'étain (In203:Sn ou ITO), d'oxyde d'indium dopé à l'antimoine (In203:Sb), d'oxyde d'étain dopé au fluor (Sn02:F) et d'oxyde de zinc dopé à l'aluminium (ZnO:A1). On peut également envisager des couches composites comportant une ou plusieurs couches métalliques à base de Ag, Pt, Au ou Cu, en particulier Ag, et des couches diélectriques et/ou de TCO. De telles couches sont familières à l'homme du métier et sont décrites par exemple dans les demandes EP 2062462 et FR 2821349 On peut citer à titre d'exemples de couches composites, des couches de type TCO/métal/TCO, le TCO et le métal étant notamment choisis parmi ceux énumérés ci-dessus. Une couche métallique peut également être prise en sandwich entre deux couches minces d'un matériau diélectrique tel que SiO2, Si3N4, SnZnO ou ZnO. L'invention couvre également les configurations où une couche métallique est déposée sur une - 4 - couche d'accrochage, par exemple une couche de NiCr ou de titane (Ti) ou est couverte par une couche de protection, par exemple une couche de tantale (Ta) ou de niobium (Nb). Enfin, on pourrait également envisager en tant que matériau pour 5 former la couche mince électroconductrice un polymère organique conducteur électrique tel que le poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), en particulier en mélange avec du poly(styrène sulfonate) (PEDOT :PSS). Lorsque la couche mince conductrice est une couche d'un oxyde ou d'un polymère conducteur transparent ou une couche composite, elle a 10 de préférence une épaisseur comprise entre 50 nm et 1 gm, en particulier entre 100 et 800 nm. L'ensemble des zones conductrices couvre de 70 à 98 %, de préférence de 80 à 95 %, en particulier de 85 - 92 % de la zone active, c'est-à-dire de la zone du substrat non conducteur couverte par l'électrode. 15 La partie complémentaire, c'est-à-dire de 2 à 30 %, de préférence de 5 à 20 % et en particulier de 8 à 15 % de la zone active étant formée par un système de « canaux » ou « joints » non conducteurs, vides ou remplis d'un matériau non conducteur, séparant les zones conductrices les unes des autres. 20 La taille des zones conductrices n'est pas déterminante pour la présente invention. Pour des raisons faciles à comprendre, cette taille est toutefois de préférence suffisamment petite pour résoudre le problème technique exposé en introduction, à savoir pour limiter l'étendue des dégradations thermiques du système électrochimique suite à une surchauffe 25 provoquée par un court-circuit. Cette limitation de l'étendue des pinholes n'est satisfaisante que si la taille moyenne des zones conductrices est inférieure à la taille maximale admissible par le client, généralement la limite de visibilité. Les zones conductrices non contiguës de l'électrode de la présente 30 invention ont par conséquence de préférence une surface moyenne comprise entre 10 et 106 gm2, plus préférentiellement entre 100 et 40 000 gm2 et en particulier entre 1000 et 20 000 gm2. Cette taille moyenne peut être déterminée par analyse d'image de clichés microscopiques. Comme déjà mentionné en introduction, chacune des zones - 5 - conductrices de la couche mince est reliée en moyenne à au moins trois zones conductrices voisines au moyen d'un pont électroconducteur. En effet, si chacune des zones conductrices était reliée strictement à seulement deux autres zones, toutes les zones seraient connectées en série et un court- circuit affectant une seule de ces zones interromprait toute la chaîne de conduction, rendant une grande partie de l'électrode inopérable. Par contre, si chacune des zones conductrices est reliée en moyenne à au moins trois zones voisines, alors, lorsqu'une de ces trois zones voisines sera affectée par un court-circuit, la zone conductrice ne sera déconnectée que de cette zone voisine affectée mais restera en contact de conduction électrique avec les deux autres zones voisines, non affectées par le court-circuit. Le nombre d'au moins trois connections est un nombre moyen. En effet, certains procédés de fabrication préférés, décrits plus en détail ci- après, introduisent un facteur aléatoire et ne permettent pas de maîtriser de façon stricte le nombre de connections pour chaque zone individuelle. Dans un mode de réalisation préféré de l'électrode supportée de la présente invention, chacune des zones conductrices est reliée électriquement en moyenne à au moins quatre zones conductrices voisines. Comme indiqué ci-dessus, les zones conductrices non contiguës sont reliées entre elles par des ponts électroconducteurs. Ces ponts peuvent être constitués d'un matériau conducteur identique à celui des zones conductrices non contiguës, ou bien d'un matériau différent, choisi de préférence parmi ceux indiqués ci-avant (métaux, TCO, polymères organiques conducteurs). Pour que ces ponts puissent jouer efficacement le rôle de fusible en cas de court-circuit, ils doivent avoir une résistance suffisamment élevée pour fondre par effet Joule et déconnecter ainsi la zone conductrice, affectée par le court-circuit, des zones conductrices voisines. La résistance appropriée dépendra bien entendu de la densité du courant susceptible de traverser le pont électrique en cas de court-circuit, cette densité de courant étant directement reliée à la surface des zones conductrices non contiguës et à la surface de la section transversale des ponts électroconducteurs. La Demanderesse a constaté que les ponts conducteurs ont une 2 9 79340 - 6 - sensibilité appropriée lorsque le rapport de la surface moyenne des zones conductrices non contiguës à la surface de la section transversale des ponts électroconducteurs reliant les zones conductrices les unes aux autres, était compris entre 10 et 100 000, de préférence entre 100 et 10 000 et en 5 particulier entre 500 et 5000. Les ponts électroconducteurs sont déposés en des épaisseurs similaires à celles indiquées ci-avant pour les zones conductrices non contiguës, c'est-à-dire de préférence de 10 à 15 nm lorsqu'il s'agit de dépôts métalliques et de 50 nm à 1 gm, de préférence de 100 à 800 nm, lorsqu'il 10 s'agit de TCO, de polymères organiques conducteurs ou de couches composites. Leur largeur est de préférence comprise entre 10 nm et 5 gm, de préférence comprise entre 50 nm et 1 gm. Le substrat non conducteur supportant la couche mince peut être 15 un matériau transparent ou non. Lorsque, dans un mode de réalisation préféré, il s'agit d'un substrat transparent celui-ci est choisi de préférence dans le groupe formé par le verre minéral, par exemple le verre float, et les polymères transparents. Les polymères transparents sont de préférence choisis dans le groupe formé par le poly(méthacrylate de méthyle) (PMMA), 20 le polycarbonate (PC), le poly(éthylène téréphtalate) (PET), le poly(éthylène naphtanoate) (PEN) et les copolymères de cyclooléfines (COC). Les substrats non conducteurs, transparents ou non, ont généralement une épaisseur comprise entre 0,7 et 12 mm, en particulier entre 1,5 - 8mm. 25 Lorsqu'il s'agit d'un substrat en verre minéral, celui-ci est de préférence couvert d'une couche superficielle formant barrière aux ions alcalins du verre, telle qu'une couche de SiO2 ou de Si3N4. Les électrodes supportées décrites ci-dessus peuvent en principe être préparées selon des techniques de dépôt familières à l'homme du 30 métier permettant le dépôt de couches minces structurées. On peut mentionner, par exemple la pulvérisation assistée par magnétron, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt en phase vapeur activé par plasma (PECVD), l'évaporation sous vide, le dépôt de couches atomiques (ALD) ou la sérigraphie. - 7 - Nous décrivons ci-après un procédé particulier, également objet de la présente invention, comprenant une succession d'étapes simples de masquage, de lavage, et de dépôt de matériaux conducteurs, permettant d'aboutir à une électrode supportée telle que décrite ci-dessus. Dans un premier mode de réalisation, le procédé de la présente invention, décrit ci-après, se sert à deux reprises d'une étape de « craquèlement » d'un dépôt en une multitude de zones non contiguës, définie par un réseau continu de « craquelures ». Ce dépôt peut être une couche d'un polymère organique non filmogène ou encore une couche obtenue par dépôt d'une suspension de fines particules minérales, par exemple de nanoparticules de silice. Les zones de polymère non contiguës formées lors de la première étape de craquèlement (étape (b)) donneront les zones conductrices non contiguës de l'électrode finie. Le réseau continu de « craquelures » formé lors de la deuxième étape de craquèlement (étape (h)) donnera le réseau de ponts électroconducteurs reliant l'ensemble des zones conductrices non contiguës entre elles. Le procédé de la présente invention sera décrit ci-après à l'aide d'un mode de réalisation utilisant un polymère organique non filmogène pour la formation de la couche de craquèlement. Par souci de simplification, il ne sera pas spécifié à chaque occurrence du terme « polymère non filmogène » que ce polymère peut être remplacé par des particules minérales. Il faut toutefois comprendre que la portée des revendications de procédé ne se limite pas uniquement à l'utilisation de polymères organiques non filmogènes, mais également à l'utilisation de suspension de particules minérales, notamment de nanoparticules de silice. Dans un mode de réalisation, le procédé de fabrication d'une électrode supportée selon la présente invention comprend les étapes successives suivantes : (a) dépôt d'une composition liquide d'un polymère non filmogène sur un substrat non conducteur, (b) évaporation de la phase solvant de la composition liquide de manière à former une couche discontinue de polymère, (c) dépôt d'un agent masquant sur l'ensemble de la surface, à - 8 - savoir sur les zones couvertes et les zones non couvertes de polymère, (d) élimination du polymère par lavage dans des conditions qui n'éliminent pas l'agent masquant des zones non couvertes de polymère, (e) dépôt d'une couche d'un matériau électroconducteur sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones non couvertes d'agent masquant et les zones couvertes d'agent masquant, (f) élimination de l'agent masquant dans des conditions qui n'éliminent pas le matériau électroconducteur des zones non couvertes d'agent masquant, (g) dépôt d'une composition liquide d'un polymère non filmogène sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones non couvertes et les zones couvertes de matériau électroconducteur, (h) évaporation de la phase solvant de la composition liquide de manière à former une couche discontinue de polymère, (i) dépôt d'un matériau conducteur sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones non couvertes et les zones couvertes de polymère, (j) élimination du polymère par lavage dans des conditions qui n'éliminent pas le matériau électroconducteur des zones non couvertes de polymère. La composition liquide de polymère non filmogène utilisée à l'étape (a) est de préférence une dispersion colloïdale aqueuse d'un copolymère acrylique, comme par exemple la composition commercialisée par la société DSM sous la dénomination NeoCryl® XK 52 (teneur en matières solides de 40 %, un pH d'environ 5, température de transition vitreuse du copolymère acrylique d'environ 115 °C), ou sous la dénomination Neocryl XK38® (taille des particules environ 118 nm, Tg 71 °C, teneur en matières solides 50 %, pH environ 5). Comme déjà mentionné ci-dessus, le polymère organique non filmogène peut être remplacé par des nanoparticules minérales, par exemple par une suspension aqueuse colloïdale de silice commercialisée sous la dénomination LUDOX® AS 40 (Sigma) contenant environ 40 % en masse de particules ayant des dimensions de l'ordre de 10 à 20 nm. Le séchage de l'étape (b) peut se faire à température ambiante ou sous un léger chauffage, à une température comprise par exemple entre - 9 - 30 °C et 60 °C. Lors du séchage, il est essentiel de ne pas dépasser la température de transition vitreuse du polymère organique non filmogène utilisé. Lorsqu'on utilise une composition à base de nanoparticules minérales, la température de séchage n'est pas particulièrement limitée. Au cours de l'étape de séchage, la couche de polymère ou de particules minérales se fissure et craquèle, formant un réseau continu de fissures définissant une multitude de zones couvertes de polymère ou de particules minérales. Sur l'ensemble de cette couche craquelée, on dépose un agent masquant qui, du fait de la présence du polymère, se fixera sur le substrat non conducteur uniquement au niveau des fissures. Cet agent masquant est par exemple du graphite déposé par pulvérisation cathodique en une épaisseur comprise entre 10 et 20 nm. Après élimination du polymère à l'étape (d), on dispose d'un substrat non conducteur couvert d'un réseau continu de graphite correspondant au réseau de fissures formé à l'étape (b). Ce réseau couvre environ 12 % de la surface totale du substrat non conducteur. La surface moyenne des zones non contiguës est comprise entre 300 gm2 et 4000 gm2. Sur l'ensemble de la surface du substrat on dépose ensuite à l'étape (e) le matériau conducteur qui formera les zones conductrices non contiguës de la couche mince de l'électrode. Après dépôt du matériau conducteur, celui-ci est éliminé à l'étape (f) par un lavage dans l'éthanol et sous ultrasons uniquement dans les zones où il est en contact avec le graphite. A l'issue de l'étape (f) on dispose d'un substrat non conducteur couvert d'une couche formée d'une multitude de zones conductrices qui ne sont pas en contact les unes avec les autres. Cette couche est globalement non conductrice. Dans la deuxième partie du procédé (étapes (g) à (j)), on formera les ponts conducteurs pour relier les zones conductrices les unes aux autres. Pour cela on répète les étapes (a) et (b), c'est-à-dire on dépose de nouveau une dispersion colloïdale d'un polymère organique non filmogène ou de nanoparticules minérales, qu'on laissera sécher pour obtenir une couche craquelée. Cette couche craquelée ne sera toutefois pas couverte de graphite - 10 - (agent masquant), comme dans l'étape (c), mais directement par le matériau conducteur destiné à former les ponts. Il suffira ensuite d'éliminer par lavage le polymère pour obtenir une électrode supportée selon la présente invention. Dans une variante du procédé selon l'invention, toute la première partie de formation des zones conductrices non contiguës (étapes (a) à (f)) est remplacée par une technique de structuration de couches minces, basée sur l'incompatibilité de deux polymères. Dans cette variante, les étapes (a) à (f) du procédé décrit en détail ci-dessus sont remplacées par les étapes (a') à (e') suivantes : (a') dépôt d'une solution de deux polymères filmogènes incompatibles, c'est-à-dire non miscibles l'un avec l'autre après séchage, dans un solvant commun, (b') évaporation de la phase solvant de la solution de manière à provoquer la séparation spinodale des deux polymères incompatibles en une zone continue et des zones discontinues, (c') élimination sélective du polymère couvrant les zones discontinues, par dissolution sélective dans un solvant approprié qui n'élimine pas le polymère couvrant la zone continue, ou par attaque plasma 20 sélective, (d') dépôt d'une couche d'un matériau électroconducteur sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones discontinues et sur la zone continue couverte de polymère, (e') élimination du polymère couvrant la zone continue dans des 25 conditions qui n'éliminent pas le matériau électroconducteur couvrant la zone continue. Les deux polymères filmogènes sont par exemple le polystyrène et le poly(méthacrylate de méthyle) en solution dans du tétrahydrofurane. Dans encore une autre variante du procédé selon l'invention les 30 étapes (a) à (f) ci-avant sont remplacées par les étapes (a") à (e") suivantes : (a") dépôt d'une couche conductrice transparente continue sur un substrat non conducteur, (b") dépôt d'une composition liquide d'un polymère non filmogène sur la couche conductrice continue, (c") évaporation de la phase solvant de la composition liquide de manière à former une couche discontinue de polymère, (d") enlèvement de la couche conductrice par gravure, par exemple par gravure chimique réactive (RIE), dans les zones non couvertes par le polymère. (e") élimination du polymère, par exemple par lavage. On soumet ensuite le substrat non conducteur couvert de zones conductrices non contiguës ainsi obtenu aux étapes (g) à (j) afin de former les ponts conducteurs reliant les zones conductrices non contiguës. Enfin, dans les trois variantes du procédé décrites ci-avant, il est possible d'intervertir la formation des zones conductrices non contiguës et celles des ponts conducteurs, c'est-à-dire de mettre en oeuvre les étapes (g) à (f) avant, et non pas après les étapes (a) à (e), (a') à (e') ou (a") à (e"). L'électrode supportée transparente de la présente invention peut en principe être utilisée, sans restriction particulière, dans tous les domaines d'application connus d'électrodes minces transparentes, en particulier dans ceux susceptibles d'être le siège de pinholes, c'est-à-dire de courts-circuits localisés entre deux électrodes par un électrolyte mince. La présente invention a donc également pour objet un dispositif électrique comprenant au moins une électrode supportée transparente telle que décrite ci-dessus. Le dispositif électrique contenant une électrode supportée transparente selon l'invention est choisi de préférence parmi les dispositifs électrochimiques, électroluminescents et photovoltaïques. Un dispositif électrochimique selon l'invention est de préférence un dispositif avec un empilement de couches actives « tout solide », et en particulier d'un vitrage électrochrome. Un dispositif électroluminescent est de préférence un dispositif de visualisation électrochimique à diodes électroluminescentes organiques 30 (OLED). La figure annexée est une représentation schématique d'une électrode mince supportée selon la présente invention. Le substrat non conducteur 1 comporte une zone périphérique 6 « inactive », non couverte par l'électrode, et une zone centrale 3 « active » - 12 - couverte par l'électrode. L'électrode, dans la zone active, est constituée d'une multitude de zones conductrices 2 non contiguës. Ces zones conductrices forment une mosaïque et sont séparées les unes des autres par un réseau continu de minces « canaux » ou « joints » 5 non conducteurs. Les zones conductrices étant isolées les unes des autres par les joints non conducteurs 5, l'électrode serait globalement non conductrice s'il n'y avait pas un ensemble de ponts conducteurs 4 reliant les zones conductrices 2 les unes aux autres. Chacune des zones conductrices 2 est reliée en moyenne par des ponts conducteurs 4 à au moins trois zones conductrices voisines. REVENDICATIONS1. Electrode supportée transparente, comprenant un substrat non conducteur transparent (1) et, sur au moins une des faces du substrat non conducteur, une couche mince essentiellement constituée d'une multitude de zones conductrices (2) non contiguës couvrant 70 % à 98 % de la zone active (3) du substrat couverte par l'électrode, chacune desdites zones conductrices (1) étant reliée électriquement à plusieurs zones conductrices voisines au moyen de ponts électroconducteurs (4). 2. Electrode supportée selon la revendication 1, caractérisée par le fait que les zones conductrices non contigües couvrent de 80 à 95 %, de préférence de 85 - 92 % de la zone active (3) du substrat couverte par l'électrode. 3. Electrode supportée selon la revendication 1 ou 2, caractérisée par le fait qu'en moyenne chacune des zones conductrices est reliée électriquement à au moins trois zones conductrices voisines, de préférence à au moins quatre zones conductrices voisines. 4. Electrode supportée selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que la couche mince est une couche métallique, de préférence une couche d'argent, d'or, de platine ou de cuivre, en particulier une couche d'argent, et présente une épaisseur comprise entre 10 et 15 nm. 5. Electrode supportée selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée par le fait que la couche mince est une couche en oxyde conducteur transparent (TCO), une couche en polymère conducteur transparent ou une couche composite comportant une ou plusieurs couches métalliques à base de Ag, Pt, Au ou Cu, en particulier Ag, et des couches diélectriques et/ou TCO, et qu'elle présente une épaisseur comprise entre 50 nm et 1 gm, de préférence entre 100 et 800 nm. 6. Electrode supportée selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que les zones conductrices non contigües ont une surface moyenne comprise entre 10 et 106 grn2, préférentiellement entre 100 et 40 0001.1m2 et en particulier entre 1000 et 20 000 grn2.- 14 - 7. Electrode supportée selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que le rapport de la surface moyenne des zones conductrices à la surface de la section transversale des ponts électroconducteurs reliant les zones conductrices les unes aux autres, est compris entre 10 et 100 000, de préférence entre 100 et 10 000 et en particulier entre 500 et 5000. 8. Electrode supportée selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la largeur des ponts électroducteurs reliant les zones conductrices les unes aux autres est comprise entre 10 nm 10 et 5 gm, de préférence entre 50 nm et 1 gm 9. Procédé de fabrication d'une électrode supportée selon l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant les étapes successives suivantes : (a) dépôt d'une composition liquide d'un polymère organique non 15 filmogène sur un substrat non conducteur, (b) évaporation de la phase solvant de la composition liquide de manière à former une couche discontinue de polymère, (c) dépôt d'un agent masquant sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones couvertes et les zones non couvertes de polymère, 20 (d) élimination du polymère par lavage dans des conditions qui n'éliminent pas l'agent masquant des zones non couvertes de polymère, (e) dépôt d'une couche d'un matériau électroconducteur sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones non couvertes d'agent masquant et les zones couvertes d'agent masquant, 25 (f) élimination de l'agent masquant dans des conditions qui n'éliminent pas le matériau électroconducteur des zones non couvertes d'agent masquant, (g) dépôt d'une composition liquide d'un polymère non filmogène sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones non couvertes et les 30 zones couvertes de matériau électroconducteur, (h) évaporation de la phase solvant de la composition liquide de manière à former une couche discontinue de polymère, (i) dépôt d'un matériau conducteur sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones non couvertes et les zones couvertes de polymère,- 15 - (j) élimination du polymère par lavage dans des conditions qui n'éliminent pas le matériau électroconducteur des zones non couvertes de polymère. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé par le fait que les étapes (a) à (f) sont remplacées par les étapes successives (a') à (e') suivantes : (a') dépôt d'une solution de deux polymères filmogènes non miscibles l'un avec l'autre après séchage, dans un solvant commun, (b') évaporation de la phase solvant de la solution de manière à provoquer la séparation spinodale des deux polymères incompatibles en une zone continue et des zones discontinues, (c') élimination sélective du polymère couvrant les zones discontinues, par dissolution sélective dans un solvant approprié qui n'élimine pas le polymère couvrant la zone continue ou par attaque plasma sélective, (d') dépôt d'une couche d'un matériau électroconducteur sur l'ensemble de la surface, à savoir sur les zones discontinues et sur la zone continue couverte de polymère, (e') élimination du polymère couvrant la zone continue dans des conditions qui n'éliminent pas le matériau électroconducteur couvrant la zone continue. 11. Procédé selon la revendication 9, caractérisé par le fait que les (a) à (f) sont remplacées par les étapes successives (a") à (e") suivantes : (a") dépôt d'une couche conductrice transparente continue sur un substrat non conducteur, (b") dépôt d'une composition liquide d'un polymère non filmogène sur la couche conductrice continue, (c") évaporation de la phase solvant de la composition liquide de manière à former une couche discontinue de polymère, (d") enlèvement de la couche conductrice par gravure dans les zones non couvertes par le polymère. 12. Dispositif comprenant au moins une électrode supportée selon l'une quelconque des revendications 1 à 8. 13. Dispositif selon la revendication 12, caractérisé par le fait qu'il-16- s'agit d'un dispositif électrochimique, d'un dispositif électroluminescent ou d'un dispositif photovoltaïque.