FR 2986909 A1 20130816 FR 1251258 A 20120210 ELECTRODE SUPPORTEE TRANSPARENTE POUR OLED La présente invention concerne une électrode supportée destinée à 5 être utilisée, de préférence en tant qu'anode, dans une diode électroluminescente organique. Une diode électroluminescente organique (OLED, de l'anglais Organic Light Emitting Diode) est un dispositif électrochimique comportant deux électrodes dont une au moins est transparente à la lumière visible, et un 10 empilement de couches minces comportant au moins une couche émettrice de lumière (couche EL). Cette couche émettrice de lumière est prise en sandwich au moins entre, d'une part, une couche d'injection ou de transport d'électrons (EIL ou ETL) située entre la couche EL et la cathode et, d'autre part, une couche d'injection ou de transport de trous (HIL ou HTL) située 15 entre la couche EL et l'anode. Les OLED comportant un support d'électrode transparent et une électrode transparente en contact avec celui-ci sont classiquement appelées OLED à émission à travers le substrat ou OLED à émission vers le bas (bottom emitting OLED). L'électrode transparente est dans ce cas 20 typiquement l'anode. De façon analogue, les OLED comportant un support d'électrode opaque sont appelées OLED à émission vers le haut (top emitting OLED), l'émission se faisant alors à travers l'électrode transparente qui n'est pas en contact avec le support, généralement la cathode. 25 Au-delà d'un seuil de potentiel donné, la puissance lumineuse d'une OLED dépend directement de la différence de potentiel entre l'anode et la cathode. Pour fabriquer des OLED de grande taille présentant une puissance lumineuse homogène sur toute leur surface, il est nécessaire de limiter le plus possible la chute ohmique entre les arrivées de courant, généralement 30 situées en bordure des OLED, et le centre de l'OLED. Une voie connue pour limiter cette chute ohmique est la réduction de la résistance par carré (RE ou R' de l'anglais sheet resistance) des électrodes, typiquement par augmentation de leur épaisseur. Une telle augmentation de l'épaisseur des électrodes pose toutefois d'importants problèmes lorsqu'il s'agit d'électrodes transparentes. En effet, les matériaux utilisés pour ces électrodes, par exemple l'ITO (Indium Tin Oxide), présentent une transmission lumineuse insuffisante et un coût prohibitif qui font que des épaisseurs supérieures à 500 nm sont très peu intéressantes. En pratique, les couches d'ITO ne dépassent pas environ 150 nm. Il a été proposé, par exemple dans les demandes US 2004/0150326, WO 2005/008800 et W02009/07182, de remédier à ce problème en doublant l'électrode transparente ou en incorporant dans celle-ci un réseau de fils ou de brins métalliques suffisamment fins pour être invisibles à l'oeil nu. Ces documents de l'état de la technique recommandent de limiter la surface totale couverte par les brins métalliques sous peine de réduire de façon indésirable la transmission lumineuse de l'électrode. Ainsi on peut lire dans WO 2005/008800 que la structure métallique ne couvre de préférence pas plus de 10 % de la surface du substrat. US2004/0150306 explique au paragraphe [0040] que la transmission lumineuse diminue avec la taille des domaines non couverts par la structure métallique, et enfin, la demande W02009/07182 recommande une taille des trous importante par rapport à la largeur des brins métalliques afin d'obtenir une transmission lumineuse élevée. Il existait ainsi jusqu'ici un préjugé technique selon lequel l'homme du métier devait trouver un compromis entre un taux d'ouverture (pourcentage de surface non couverte par la structure métallique) trop important ne permettant pas d'obtenir les résistances par carré souhaitées et un taux d'ouverture trop faible opacifiant indésirablement l'électrode transparente. La présente invention est basée sur la découverte surprenante que la diminution du taux d'ouverture d'une électrode transparente n'aboutissait pas nécessairement à une réduction de la quantité de lumière extraite depuis la couche EL, via la couche HTL ou ETL, et la couche transparente de l'électrode, vers le support en verre et, pour finir, l'air. Des phénomènes complexes liés à la réflexion et la réfraction de la lumière produite dans la couche EL ont en effet tout autant d'influence sur la quantité de lumière parvenant, depuis la couche EL, jusqu'à l'air. En effet, l'empilement des couches HTL/EL/ETL présente un indice de réfraction élevé, proche de 1,8, tandis que l'indice de réfraction du support transparent, lorsqu'il est en verre ordinaire, est d'environ 1,5, et celui de l'air égal à 1. La réflexion totale interne de la lumière aux différentes interfaces (empilement/électrode transparente, électrode transparente/support et support/air) fait que l'OLED est un guide d'onde dans lequel une très grande partie de la lumière est réfléchie un grand nombre de fois et finit par être absorbée. Il est connu de réduire le phénomène de la réflexion totale interne de la lumière au niveau des interfaces des OLED par des moyens classiques de diffusion de la lumière tels que des surfaces dépolies ou la présence d'éléments diffusants (microparticules, nanoparticules, micropores ou nanopores). Ces éléments diffusants peuvent être incorporés dans le substrat ou dans l'électrode ou bien ils peuvent être insérés entre l'électrode et le substrat sous forme d'une couche diffusante supplémentaire, comme il est décrit par exemple dans la demande internationale W02009/116531. L'efficacité de ces éléments diffusants est toutefois limitée par le fait qu'ils ont un effet opacifiant indésirable lorsqu'ils sont présents en trop grande quantité. La présente invention est basée sur l'idée de réduire le phénomène de réflexion totale interne de la lumière au niveau de l'interface entre l'électrode transparente (indice proche de celui de l'empilement HTL/EL/ETL) et le support en verre (n = 1,5) non pas grâce à la présence d'éléments diffusants, mais - en rendant l'interface en question peu accessible aux rayons lumineux susceptibles d'être réfléchis par celle-ci, et - en réorientant ces rayons lumineux de façon à réduire leur angle d'incidence et permettre leur passage dans le support en verre. La loi de Snell-Descartes (n1 sin e1 = nz sin e2) permet de calculer l'angle d'incidence e1 au-delà duquel un rayon lumineux est totalement réfléchi (Oz = 90°) par une interface entre deux milieux d'indices optiques différents. A titre d'exemple, on peut ainsi calculer qu'un rayon lumineux provenant de l'empilement de couches à haut indice d'une OLED et frappant l'interface entre l'électrode transparente (n = 1,8) et le support (n = 1,5) est réfléchi totalement par cette interface lorsque son angle d'incidence est supérieur à environ 56 °. Cet angle est égal à 52 ° et 49 ° pour une électrode transparente présentant respectivement un indice égal à 1,9 et 2, sur un support en verre (n=1,5). Dans une électrode composite telle que décrite dans les documents US 2004/0150326, WO 2005/008800 et W02009/07182, tous les rayons à e1 trop élevé, appelés ci-après rayons « rasants », sont ainsi réfléchis et ne pénètrent pas dans le substrat en verre sous-jacent. Pour empêcher ces rayons rasants de venir frapper l'interface électrode/substrat, la Demanderesse propose dans la présente invention, de réduire la taille moyenne des domaines non métallisés. En effet, pour une hauteur donnée de brins métalliques, les rayons rasants ont d'autant moins de chances de parvenir à l'interface électrode/substrat que la taille moyenne des domaines, ou la distance moyenne entre brins, est faible. Formulé différemment, pour une taille moyenne de domaines non métallisés donnée, les rayons rasants ont d'autant moins de chances de parvenir à l'interface électrode/substrat que la hauteur des brins métalliques est élevée. Un tel rapprochement des brins métalliques n'a jusqu'ici pas été proposé du fait de l'existence d'un préjugé technique selon lequel la réduction du pourcentage de la surface non métallisée, appelé ci-après « taux d'ouverture », se traduirait par une diminution indésirable de la fraction de lumière transmise par l'électrode composite. Or, la Demanderesse a constaté que, de façon surprenante, ce préjugé n'était pas fondé et que dans certaines conditions la diminution du taux d'ouverture de l'électrode composite n'aboutissait pas à une diminution significative de la quantité de lumière extraite de l'OLED. L'absence de réduction de la quantité de lumière transmise par l'électrode composite, malgré une réduction du taux d'ouverture de celle-ci, est probablement due au fait que les rayons lumineux réfléchis par les brins métalliques sont réorientés et, après avoir été réfléchis par la contre-électrode métallique, viennent frapper la surface non métallisée de l'interface avec un angle d'incidence plus faible leur permettant finalement de pénétrer dans le substrat en verre sous-jacent. La présente invention a par conséquent pour objet une électrode composite transparente pour OLED comportant, sur un substrat transparent, une couche d'électrode formée par un réseau métallique continu, de type grille régulière ou irrégulière, incorporé dans une couche conductrice transparente, et dans laquelle la taille moyenne des « mailles » (en anglais mesh) non métallisées est réduite par rapport aux électrodes composites connues jusqu'ici. Plus précisément, la présente invention a pour objet une électrode pour diode électroluminescente organique, comprenant (a) un substrat non conducteur, transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, (b) un réseau continu de lignes métalliques constituées d'un métal ou alliage métallique présentant une conductivité électrique au moins égale à 5.106 S.rn-1, déposé sur au moins une zone de surface du substrat (a), les lignes métalliques ayant une largeur moyenne L comprise entre 0,05 et 3 grn, et délimitant une pluralité de domaines non métallisés ayant un diamètre équivalent D tel que le rapport D/L est compris entre 0,8 et 5, (c) une couche transparente ou translucide présentant un indice de réfraction compris entre 1,6 et 2,4, de préférence entre 1,75 et 2,05, et une résistivité supérieure à celle du réseau continu de lignes métalliques et inférieure à 104 Q.cm, de préférence inférieure à 103 Q.cm, ladite couche recouvrant complètement le réseau de lignes métalliques et les domaines non métallisés, le réseau continu de lignes métalliques (b) et la couche (c) transparente ou translucide formant ensemble une couche composite appelée couche d'électrode. L'invention a également pour objet une OLED contenant une telle électrode, cette électrode étant de préférence l'anode, et l'OLED étant de préférence une OLED à émission à travers le substrat. Le substrat non conducteur utilisé dans la présente invention peut être n'importe quel substrat en verre minéral ou organique classiquement utilisé dans le domaine des OLED. Il peut également s'agir d'une feuille ou d'un film souple en matière plastique. On entend par substrat transparent ou translucide un substrat présentant une transmission lumineuse (TL) de la lumière (déterminée selon la norme NF EN 410) au moins égale à 85 %. Il s'agit généralement de substrats plans et plats, éventuellement polis, présentant deux surfaces principales et une tranche. L'épaisseur du substrat est de préférence comprise entre 0,05 et 5 mm. On entend par indice de réfraction dans la présente demande l'indice de réfraction du matériau déterminé à une longueur d'onde de 550 nm. Certains matériaux anisotropes servant de substrats transparents, par exemple des films plastiques mono- ou bi-orientés, peuvent présenter plus qu'un seul indice de réfraction. Dans ce cas, au moins un des indices de réfraction du substrat anisotrope présente une valeur comprise entre 1,3 et 1,6 à 550 nm. En effet, dans la mesure où l'émission de la lumière d'une OLED est réalisée à différentes incidences et selon différentes polarisations, au moins une composante non nulle du rayonnement électromagnétique de l'OLED sera émise selon l'axe ayant un indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6. Le réseau continu de lignes métalliques est généralement déposé sur une seule des surfaces principales du substrat. Cette surface principale est couverte, sur une ou plusieurs zones, du réseau continu de lignes métalliques. Lorsqu'il s'agit d'une seule zone, celle-ci peut couvrir la totalité de la surface principale du substrat ou seulement une partie de cette surface. Il peut en effet être intéressant de laisser libre par exemple une zone périphérique de cette surface. Il est important de noter que l'aire de la zone ou des zones couverte(s) par le réseau continu de lignes métalliques servira dans la présente demande de valeur de référence, par exemple pour la définition et le calcul du taux d'ouverture ou du grammage du réseau métallique. Le métal ou alliage métallique formant le réseau continu de lignes métalliques (b) a de préférence une conductivité électrique comprise entre 6.106 S.rn-1 et 6,3.107 S.rn-1, cette dernière valeur correspondant à la conductivité électrique de l'argent, supérieure à celle de tous les autres métaux. Le métal ou alliage métallique est de préférence choisi dans le groupe formé par l'argent, le cuivre, l'aluminium, l'or, et les alliages à base ces métaux. L'argent est le matériau métallique préféré parmi tous car il présente à la fois la meilleure conductivité électrique possible et un coefficient de réflexion supérieur à celui de tous les autres métaux. Il s'agit toutefois d'un métal considérablement plus cher que l'aluminium et le cuivre. Dans un mode de réalisation particulièrement intéressant de l'électrode de la présente invention, le réseau continu de lignes métalliques est par conséquent formé d'un réseau à base d'aluminium et/ou de cuivre plaqué d'argent. Le plaquage à l'argent peut se faire par des procédés électrochimiques simples et bien connus dans la technique. Un tel réseau composite de cuivre ou d'aluminium plaqué d'argent présente le coefficient de réflexion de l'argent et un coût proche de celui du métal sous-jacent (Al ou Cu). Dans la présente demande, la géométrie du réseau continu de lignes métalliques a une grande importance. Elle est caractérisée par les paramètres suivants : Le diamètre équivalent moyen (D) des domaines non métallisés : Ce diamètre équivalent moyen est la moyenne de l'ensemble des diamètres équivalents des domaines non métallisés, également appelés « ouvertures », déterminés par analyse d'image sur un cliché de microscopie électronique ou optique. Le diamètre équivalent d'un domaine non métallisé est le diamètre d'un cercle de même surface que le domaine non métallisé. Le taux d'ouverture (T) est le rapport de la surface non métallisée à la surface totale (surface non métallisée + surface métallisée) de la zone couverte par le réseau continu de lignes métalliques. Ce taux d'ouverture est mesuré, comme le diamètre équivalent moyen, par analyse d'image. Il est important de distinguer ce taux d'ouverture (T) de ce que l'on appelle classiquement la transmission lumineuse (TL) de la couche d'électrode. La transmission lumineuse, mesurée conformément à la norme NF EN 410, est le rapport du flux de lumière transmis par un matériau au flux de lumière incident. La transmission lumineuse dépend, entre autres, du coefficient d'absorption et de l'épaisseur du matériau considéré. Dans le cas d'une électrode composite selon l'invention, la transmission lumineuse (TL) est toujours significativement inférieure au taux d'ouverture. En effet, à l'absorption et à la réflexion de la lumière par le réseau continu de lignes métallique (b) s'ajoutent l'absorption et la réflexion de la lumière par la couche (c). A titre d'exemple, une électrode composite constituée d'un réseau métallique présentant un taux d'ouverture de 70 %, qui est rempli et couvert d'une couche transparente (c) présentant (en l'absence du réseau (b)) une transmission lumineuse de 80 %, aura globalement une TL d'environ 56 %. La largeur moyenne L des lignes métalliques est obtenue par calcul à partir des deux grandeurs expérimentales définis ci-dessus (D et T), en assimilant le réseau continu à une grille métallique régulière comportant des ouvertures carrées de coté (C) grâce à la formule : (1) L=C1 où T est le taux d'ouverture du réseau continu de lignes métallique et C =D,Ft - 2 D étant le diamètre équivalent moyen du réseau continu de lignes métalliques. Le diamètre équivalent moyen D du réseau continu de lignes métalliques de l'électrode de la présente invention est de préférence compris entre 0,1 et 7,0 gm, en particulier entre 0,3 et 4,0 gm, plus préférentiellement entre 0,4 et 3,0 gm et idéalement entre 0,5 et 2,0 gm. Bien que le taux d'ouverture du réseau continu de lignes métalliques puisse en principe être compris entre des limites relativement larges, par exemple entre 20% et 80% de la zone couverte par ledit réseau, la Demanderesse a observé qu'il n'était nullement pénalisant d'utiliser des taux d'ouverture de la couche d'électrode plus faibles compris entre 30 et 70%, de préférence entre 30% et 60 %, et même entre 35 % et moins de 50 %. Comme expliqué en introduction, la présente invention est basée sur le principe de la réorientation des rayons lumineux rasants émis par la couche EL et frappant le réseau de lignes métalliques. Pour que cette réorientation soit efficace, elle doit se traduire par une réduction de l'angle d'incidence du rayon lumineux lorsque celui-ci, après avoir été réfléchi par exemple par la contre-électrode, revient frapper à nouveau l'interface substrat/couche d'électrode. En considérant un modèle d'optique géométrique d'une OLED selon l'invention où le réseau métallique continu comporterait uniquement des surfaces parallèles et des surfaces perpendiculaires à l'interface substrat/couche d'électrode, une telle réorientation n'aurait pas lieu et le rayon lumineux reviendrait avec le même angle d'incidence sur la surface substrat/couche, comme cela a été représenté à la figure 1. Pour que la réorientation soit efficace, les surfaces du réseau continu métallique devraient idéalement comporter des surfaces formant un angle proche de 45° par rapport au plan du substrat et des électrodes. Le réseau continu de lignes métalliques de l'électrode de la présente invention est par conséquent essentiellement exempt de surfaces parallèles ou perpendiculaires au plan général de l'interface entre la couche d'électrode (c) et le substrat (a). Une section transversale d'une telle électrode selon l'invention est représentée à la figure 2. Dans un mode de réalisation particulièrement avantageux de la présente invention, au moins 40 %, de préférence au moins 50 % et en particulier au moins 60 % de la surface du réseau continu de lignes métalliques présente une tangente formant un angle compris entre 33° et 57° par rapport au plan général du substrat et de l'électrode. Pour que le réseau continu métallique empêche les rayons lumineux rasants de venir frapper les domaines non métallisés, les lignes métalliques doivent présenter une certaine hauteur. Cette hauteur est de préférence au moins égale à un tiers de la largeur L des lignes métalliques et de préférence comprise entre L/2 et L/1,5. La masse surfacique du réseau continu de lignes métalliques (b) est de préférence comprise entre 4 et 1000 gg/cm2 d'électrode, en particulier entre 20 et 600 gg/cm2 d'électrode, et idéalement entre 50 et 300 gg/cm2 d'électrode. Bien entendu, lorsque le réseau métallique est essentiellement constitué d'aluminium, éventuellement recouvert d'argent, ces valeurs sont à diviser par un facteur d'environ 4. Les « ouvertures » du réseau continu de lignes métalliques sont remplies par un matériau transparent ou translucide électroconducteur. Ce matériau présente un indice de réfraction compris entre 1,70 et 2,40, de préférence entre 1,75 et 2,05, en particulier entre 1,80 et 1,98 et une résistivité supérieure à celle du réseau continu de lignes métalliques et inférieure à 104 Q.cm. Cette couche non seulement remplit les vides laissés par le réseau métallique mais recouvre complètement ce dernier. Ce dernier aspect est important. En effet, le réseau métallique continu présente des surfaces irrégulières, pourvues de nombreuses pointes et parties saillantes qui, si elles n'étaient pas recouvertes par la couche (c) traverseraient l'empilement HTL/EL/ITL très mince. Ceci aboutirait à des courts-circuits locaux et des défauts visuels appelés « points noirs » qui peuvent conduire, à terme, à la destruction de l'OLED. Pour la fabrication d'OLEDs de bonne qualité présentant une luminosité uniforme il est important que cette couche (c) de planarisation soit la moins rugueuse possible. Sa rugosité RMS est de préférence inférieure à 5 nm, en particulier inférieure à 3 nm. On peut en principe utiliser pour cette couche transparente ou translucide (c) n'importe quel matériau conducteur transparent ou translucide présentant un indice de réfraction suffisamment élevé, proche de l'indice moyen de l'empilement HTL/EL/ITL, et une conductivité électrique inférieure à celui du réseau métallique. On peut citer à titre d'exemple de tels matériaux les oxydes conducteurs transparents tels que l'oxyde de zinc dopé à l'aluminium (AZO), l'oxyde d'étain dopé à l'indium (ITO), l'oxyde d'étain et de zinc (SnZnO) ou le dioxyde d'étain (5n02). Ces matériaux ont avantageusement un coefficient d'absorption très inférieur à celui des matériaux organiques formant l'empilement HTL/EL/ITL, de préférence un coefficient d'absorption inférieur à 0,005, en particulier inférieur à 0,0005. Lorsque l'oxyde conducteur transparent n'est pas l'ITO, il est généralement recommandé de recouvrir la couche (c) d'une mince couche supplémentaire présentant un travail de sortie supérieur à celui de la couche (c), par exemple une couche de ITO, de Mo03, WO3 ou de V205. Les techniques de dépôt de ces oxydes telles que la pulvérisation cathodique, le dépôt sous vide par magnétron, les procédés sol-gel ou la pyrolyse, n'aboutissent généralement pas à des couches suffisamment lisses pour une application en tant qu'électrode d'OLED. Il sera par conséquent généralement nécessaire de procéder, après dépôt, à une étape de polissage. Le PEDOT (poly(3,4-éthylènedioxythiophène)) est un polymère organique conducteur électrique connu qui pourrait constituer une alternative intéressante aux oxydes conducteurs mentionnés ci-dessus, à condition d'ajuster son indice de réfraction par exemple par incorporation de nanoparticules d'un oxyde à indice élevé, tel que l'oxyde de titane. La possibilité de déposer ce polymère sous forme liquide permet en effet d'aboutir à des couches (c) d'un lissé de surface suffisant, qui pourrait rendre superflue l'étape de polissage. Il est connu d'incorporer dans certaines couches transparentes d'OLEDs des particules ou pores, destinés à favoriser l'extraction de la lumière par diffusion de celle-ci. La couche (c) de l'électrode de la présente invention peut ainsi contenir une certaine fraction de particules ou de pores ayant un diamètre équivalent moyen compris entre 0,05 et 2 grn, de préférence entre 0,1 et 0,5 grn. La présence de telles particules, si elle aide efficacement à l'extraction de la lumière, se traduit toutefois à des concentrations trop importantes par une certaine opacification de la couche. Grâce à la géométrie particulière de la couche d'électrode composite de la présente invention, les problèmes d'extraction de la lumière sont en très grande partie résolus et la présence de particules ou de pores diffusants devient moins importante ou même superflue. La couche (c) de la couche d'électrode composite contient par conséquent moins de 1 % en volume, de préférence moins de 0,8 % en volume de pores ou de particules ayant un diamètre équivalent moyen compris entre 0,05 et 2 grn. Il s'agit de préférence d'une couche transparente essentiellement exempte de tels pores et particules diffusants ayant un diamètre équivalent moyen compris entre 0,05 et 2 grl. La couche d'électrode composite de la présente invention formée par le réseau continu de lignes métalliques (b) et par la couche transparente ou translucide (c) a de préférence une épaisseur totale comprise entre 0,1 et 3 grn, en particulier entre 0,2 et 1,0 grn, et plus préférentiellement entre 0,3 et 0,6 grn. Sa résistance par carré (R^) est de préférence la plus faible possible et notamment inférieure à 5 Q/D, de préférence comprise entre 0,05 et 2,0 Q/D, en particulier entre 0,1 et 1 Q/D. L'électrode de la présente invention peut être utilisée pour la fabrication d'OLEDs selon des procédés familiers à l'homme du métier utilisant des étapes et matériaux connus. Cette fabrication ne présente aucune difficulté particulière liée aux caractéristiques techniques de l'électrode. L'homme du métier veillera bien entendu à ne pas porter atteinte à l'intégrité de l'électrode afin de ne pas dégrader les qualités intrinsèques de celle-ci. Les couches de l'empilement HTL/EL/ITL de l'OLED de la présente invention ont de préférence un indice de réfraction moyen compris entre 1,7 et 2,1, c'est-à-dire un indice proche de celui de la couche translucide ou transparente (c) directement en contact avec l'empilement. L'électrode supportée de la présente invention peut être fabriquée par exemple de la manière suivante : Une couche métallique continue en aluminium ou argent est déposée par pulvérisation cathodique magnétron sur une feuille de verre minéral en une épaisseur d'environ 300 nm. On soumet ensuite le substrat portant la couche métallique à une opération de photolithogravure de manière à obtenir une grille métallique régulière avec des ouvertures (domaines non métallisés) ayant une surface d'environ 3 grn2 (= diamètre équivalent de 1,95 grn). Le taux d'ouverture T, mesuré par analyse d'image, est de 48 %. A partir des paramètres D et T, on calcule à l'aide de la formule (1) ci-avant, la largeur L des lignes métalliques de la grille : 0,76 grn. La couche ainsi « ajourée » est ensuite soumise à une attaque chimique limitée ayant pour but de texturer la surface métallique de la grille 25 de manière à augmenter la proportion de surfaces présentent un angle proche de 45 ° par rapport au plan général de l'électrode. On dépose ensuite sur l'ensemble du réseau métallique texturé une couche d'AZO par pulvérisation cathodique en une épaisseur de l'ordre de 500 nm. Cette couche est ensuite soumise à un polissage de manière à 30 obtenir une rugosité de surface inférieure à 2 nm. L'idée à la base de la présente invention est illustrée aux figures annexées dans lesquelles la figure 1 représente une vue en section transversale d'une OLED contenant une électrode comparative, la figure 2 représente une vue en section transversale d'une OLED contenant une électrode selon l'invention. Plus particulièrement, sur la figure 1 est représentée une OLED avec un support ou substrat non conducteur (1) portant une anode composite constituée d'un réseau continu de lignes métalliques (2) dont les vides sont remplis par un oxyde conducteur transparent (3). L'anode composite est surmontée d'un empilement de couches HTL/EL/ETL (4) en contact avec la cathode (5). L'ensemble des surfaces du réseau continu de lignes métalliques (2) est soit parallèle soit perpendiculaire à l'interface anode/support (6). Un rayon R présentant un angle d'incidence e1 élevé (supérieur à 57 °) est réfléchi par l'interface (6), la surface du réseau continu métallique (2), la cathode (5) puis vient de nouveau frapper l'interface (6) avec un angle e2 identique à e1. Les composants de l'électrode selon l'invention représentée à la figure 2 sont les mêmes que ceux de la figure 1. La seule différence réside dans le fait que les surfaces du réseau métallique (2) ne sont ni perpendiculaires ni parallèles à l'interface (6) entre l'électrode (3) et le support (1). Le phénomène de piégeage du rayon lumineux est ainsi impossible. Un rayon R présentant un angle d'incidence e1 élevé est réfléchi par l'interface (6), la surface du réseau continu métallique (2), la contre-électrode (cathode) (5) puis vient de nouveau frapper l'interface (6) avec un angle e2 inférieur à e1 et suffisamment faible pour être réfracté par l'interface (6). REVENDICATIONS1. Electrode pour diode électroluminescente organique, comprenant (a) un substrat non conducteur (1), transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, (b) un réseau continu de lignes métalliques (2) constituées d'un métal ou alliage métallique présentant une conductivité électrique au moins égale à 5.106 S.rn-1, déposé sur au moins une zone de surface du substrat, les lignes métalliques ayant une largeur moyenne L comprise entre 0,05 et 3 grn, de préférence entre 0,2 et 2 grn, en particulier entre 0,3 et 1,5 grn, ces lignes métalliques délimitant une pluralité de domaines non métallisés ayant un diamètre équivalent D tel que le rapport D/L est compris entre 0,8 et 5, de préférence entre 1,2 et 4,5 et en particulier entre 2 et 3,5, (c) une couche transparente ou translucide (3) présentant un indice de réfraction compris entre 1,6 et 2,4 et une résistivité supérieure à celle du réseau continu de lignes métalliques et inférieure à 104 Q.cm, ladite couche recouvrant complètement le réseau de lignes métalliques et les domaines non métallisés, le réseau continu de lignes métalliques (b) et la couche (c) transparente ou translucide formant ensemble une couche composite appelée couche d'électrode. 2. Electrode selon la revendication 1, caractérisée par le fait que le diamètre équivalent D est compris entre 0,1 et 7,0 grn, de préférence entre 0,3 et 4,0 grn, en particulier entre 0,4 et 3,0 grn et idéalement entre 0,5 et 2,0 grn. 3. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que les lignes métalliques présentent une hauteur au moins égale à L/3, de préférence comprise entre L/2 et L/ 1,5. 4. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que le taux d'ouverture de la couche d'électrode est compris entre 20 et 80 %, de préférence entre 30 et 70 'Vo.Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que le métal ou alliage métallique formant le réseau continu de lignes métalliques (b) a une conductivité électrique comprise entre 6.106 S.rn-1 et 6,3.107 S.rn-1. Electrode selon la revendication 5, caractérisé par le fait que le métal ou alliage métallique est choisi dans le groupe formé par l'argent, le cuivre, l'aluminium, l'or, et les alliages à base ces métaux. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que le réseau continu de lignes métalliques est un réseau à base d'aluminium et/ou de cuivre plaqué d'argent. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que le réseau continu de lignes métallique (b) est essentiellement exempt de surfaces parallèles ou perpendiculaires au plan général de l'interface entre la couche (c) et le substrat (a). Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait la masse surfacique du réseau continu de lignes métalliques (b) est compris entre 4 et 1000 gg/cm2 d'électrode, de préférence entre 20 et 600 gg/cm2 d'électrode, et en particulier entre 50 et 300 gg/cm2. 20 10. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait que la couche (c) a une rugosité de surface RMS inférieure à 5 nm. 11. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la couche (c) est une couche transparente qui 25 est essentiellement exempte de pores et de particules diffusantes ayant un diamètre équivalent moyen compris entre 0,05 et 2 grn. 12. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la résistance par carré (R^) de la couche d'électrode est inférieure à 5 Q/D, de préférence comprise entre 0,05 et 30 2,0 Q/D, en particulier entre 0,1 et 1 Q/D. 13. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la couche d'électrode a une épaisseur comprise entre 0,1 et 3 grn, de préférence entre 0,2 et 1,0 grn, en particulier entre 0,3 et 0,6 grn.5. 6. 7 8. 9.14. Electrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée par le fait qu'elle contient en outre une couche recouvrant la la couche (c) et présentant un travail de sortie supérieur à celle-ci, de préférence une couche de ITO, de Mo03, de WO3ou de V205. 15. Diode électroluminescente organique comprenant une électrode selon l'une quelconque des revendications précédentes, de préférence en tant qu'anode.