FR 2986369 A1 20130802 FR 1250841 A 20120130 PROCEDE POUR CONTRAINDRE UN MOTIF MINCE ET PROCEDE DE FABRICATION DE TRANSISTOR INTEGRANT LEDIT PROCEDE Le domaine de l'invention est celui des matériaux semi-conducteurs notamment utilisés dans la microélectronique. Les circuits intégrés sont généralement fabriqués sur des substrats en silicium. Des substrats de type « SOI » pour « Silicon On Insulator » correspondant à des substrats de silicium incorporant une couche d'oxyde de silice S102 sont couramment utilisés dans l'industrie de la microélectronique et ce notamment pour la fabrication de transistors, permettant la réduction de courants de fuite. La figure 1 illustre un schéma de transistor classique réalisé à partir d'un substrat semiconducteur 1, et comprenant de manière classique une source 2a, un drain 2b et une grille 4, ladite grille étant séparée d'un canal conducteur 2, par un matériau isolant 3 encore appelé isolant de grille, et comprenant des éléments 5a et 5b appelés espaceurs isolants, notamment décrit dans une demande de brevet FR 2 872 626 du Demandeur. Classiquement, le matériau semi-conducteur est localement dopé de manière à définir les régions correspondant à la source et au drain. Cette opération de dopage peut notamment être réalisée par implantation ionique, la nature de l'espèce ionique implantée, de type donneur ou accepteur d'électrons définissant la nature du transistor : transistor respectivement appelé NMOS ou PMOS. Afin d'augmenter les performances en termes de mobilité et de porteurs d'un transistor, il a déjà été montré qu'il était possible d'agir sur les contraintes exercées au niveau de la couche de silicium (ou de tout autre matériau semi-conducteur) du substrat SOI, pour augmenter la mobilité des porteurs grâce à l'effet d'une contrainte mécanique sur un matériau semi- conducteur générant une amélioration très forte de la mobilité des porteurs et donc les performances électriques des transistors. Le demandeur a notamment déposé la demande de brevet FR 2 872 626 relative à un procédé permettant de contraindre ou de déformer un motif ou une couche mince à partir d'un composant initial comportant une couche précontrainte. Ce procédé comporte une étape de gravure de la couche précontrainte perpendiculairement à sa surface. Cette couche 2 9 8636 9 2 précontrainte peut être isolante ou conductrice mais, pour des applications telles que le contrôle des propriétés de transport par déformation du canal d'un transistor MOS, elle est de préférence électriquement isolante (par exemple en Si3N4), afin de limiter les courants de fuite. 5 D'autres auteurs : J.G. Fiorenza « Detailed Simulation Study of a Reverse Embedded-SiGe Strained-Silicon MOSFET » IEEE Transactions on Electron Devices; Vol.55, No.2, p.640; 2008, ont proposé sur un principe similaire, de transférer de la contrainte dans le canal : une couche de SiGe avec une concentration en Germanium de 35%, en compression induit une 10 tension dans le canal juste au dessus, des simulations permettant d'optimiser le processus avec certains paramètres physiques et d'architecture de structure, comme illustré en figure 2. Les simulations de cette publication montrent une optimisation suivant deux critères : 15 - la maximisation du rapport de l'épaisseur de la couche de SixGey (tSiGe) sur l'épaisseur de la couche supérieure de Si (tSi) ; - le rapport d'aspect AR= (tSiGe+tSi)/W avec W la longueur du motif réalisé, tel que 0.3 Selon une variante de l'invention, l'alliage SixGey est dopé. Selon une variante de l'invention, l'épaisseur de la couche d'alliage SixGey est sensiblement égale à l'épaisseur critique au-delà de laquelle sont susceptibles d'apparaître des dislocations dans ladite couche d'alliage SixGey. Selon une variante de l'invention, le procédé comprend la détermination : - d'une première fonction tsiGe = f (W), relative à l'évolution de d'une épaisseur optimale de la couche d'alliage SixGey (tsiGe) en fonction d'une dimension de motif (W), permettant d'obtenir une contrainte maximum (SOzz) dans ledit motif, ladite épaisseur optimale étant indépendante de la fraction molaire y - d'une seconde fonction tcsiGe = g (y) relative à l'évolution de l'épaisseur critique de la couche d'alliage SixGey au-delà de laquelle des dislocations apparaissent dans ladite couche contrainte pour une fraction 35 molaire y donnée ; - la détermination d'une fraction molaire y par égalité des épaisseurs tsiGe = tCSiGe, permettant de définir pour une dimension de motif donnée, un couple optimal de valeurs (tsiGe, y), pour une dimension de motif donnée. Selon une variante de l'invention, la gravure est effectuée également dans une partie dudit substrat sur une profondeur de gravure non nulle, de manière à augmenter le transfert de contrainte. L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication de transistor caractérisé en ce qu'il comprend le procédé pour contraindre un motif selon la présente invention et comprenant la gravure d'une zone active dont la dimension selon la direction du courant dans le plan des couches est au moins supérieure ou égale à la somme des dimensions d'une zone de source, d'une zone de grille et d'une zone de drain. Selon une variante de l'invention, le procédé comprend : - une étape de dépôt d'une couche de nitrure de silicium, postérieure à l'étape de gravure de la zone active ; - une étape de dépôt épais de couche d'oxyde ; - la réalisation de plots d'isolation d'oxyde de part et d'autre des zones de source, grille et drain, permettant de définir des plots d'oxyde selon 20 un procédé proche d'un procédé classique STI. L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre donnée à titre non limitatif et grâce aux figures annexées parmi lesquelles : 25 - la figure 1 illustre un schéma de transistor classique décrit dans la demande de brevet FR 2 872 626 ; - la figure 2 illustre une structure de transistor avec une couche contrainte en SiGe selon l'art connu ; - les figures 3a, 3b et 3c illustrent une structure pouvant être 30 optimisée selon le procédé de la présente invention dans le cas d'une structure de transistor ; - la figure 4 illustre l'évolution de la contrainte SOzz selon la largeur du motif contraint, et ce pour différentes profondeurs de gravure dans le substrat Si en dessous de la couche précontrainte de 35 SixGey ; - la figure 5 illustre l'évolution de la contrainte SOzz en fonction de la largeur du motif contraint et ce pour différentes concentrations en germanium dans une couche d'alliage Si,Gey ; - la figure 6 illustre pour un ensemble de dimensions données de motif contraint, l'évolution de la contrainte SOzz en fonction de l'épaisseur de la couche d'alliage de silicium et de germanium ; - la figure 7 illustre la relation linéaire existant entre l'épaisseur de la couche d'alliage en silicium et germanium et la dimension du motif contraint, pour une contrainte maximale ; - la figure 8 illustre l'évolution de l'épaisseur critique d'une couche d'alliage de silicium et de germanium en fonction de la concentration en germanium dans l'alliage ; - la figure 9 schématise une étape du procédé selon l'invention dans laquelle on reporte la relation linéaire telle qu'illustrée en figure 8 pour déterminer une fraction molaire en germanium dans l'alliage et correspondant à une valeur d'épaisseur critique ; - la figure 10 illustre un exemple de profil de contrainte avec une épaisseur de 80nm de SiN lors d'une opération de gravure dans un procédé de l'invention ; - les figures 11 a à 11f illustrent les différentes étapes d'un procédé de fabrication d'un transistor utilisant le procédé de l'invention. Selon le procédé de la présente invention, on élabore une structure comprenant sur un substrat 1, une couche précontrainte 2 de SixGey, une 25 couche d'oxyde enterrée 3 encore dénommée Box, elle-même en contact avec la couche de silicium 4 dans laquelle on cherche à réaliser un motif comprenant un transfert de contrainte et ce en gravant en périphérie ladite structure, et une couche 5 d'oxyde natif qui se serait formé, comme l'illustre la figure 3a qui met par ailleurs en évidence : 30 - l'épaisseur de la couche précontrainte d'alliage de SiGe : tsiGe - l'épaisseur de la couche d'oxyde : tBox - l'épaisseur de la couche de silicium : ts; ; - l'épaisseur de la couche d'oxyde supérieure tox ; - la profondeur de gravure dans le substrat t -etch- 2 98636 9 6 La structure étudiée permet de transférer la contrainte dans un film mince de silicium ou de tout autre semi-conducteur. Pour cela la couche précontrainte de Si,Gey en compression est légèrement relaxée lors de la gravure définissant les zones actives. Une contrainte en tension est alors 5 induite dans les couches supérieures et notamment dans le silicium à travers la couche isolante mince enterrée (Box). Cette structure vise l'amélioration de la mobilité des porteurs grâce à une contrainte en tension dans les transistors FDSOI pour les noeuds avancés (sub-22nm). La figure 3b illustre une demie structure de ce type de transistor, 10 mettant en évidence la grille et les plots isolants STI « shallow trench isolation », selon des structures connues de transistors individuels isolés entre eux par des plots d'oxyde isolants. La couche précontrainte de SixGey en compression est au moins partiellement relaxée lors de la gravure définissant les zones actives. Une 15 contrainte en tension est alors induite dans les couches supérieures et notamment dans le silicium à travers la couche isolante mince Box. Le Demandeur a mis en évidence qu'il était possible de renforcer la contrainte au centre de la couche de Si en gravant également partiellement le substrat sur une profondeur de gravure comme l'illustre les résultats de la 20 figure 4, les courbes C4A, C4B, C4c, C4D, C4E et C4F étant relatives à différentes profondeurs croissantes de gravure respectivement de Onm, 10 nm, 30 nm, 50 nm, 70 nm et 200 nm. Le Demandeur a par ailleurs mis en évidence que l'alliage SixGey possède une forte contrainte intrinsèque modulable avec la concentration de Ge comme l'illustrent les courbes de la figure 5 relatives à l'évolution de la composante de stress suivant l'axe z, SOzz en GPa au centre de la zone active dans la couche supérieure de silicium, pour une longueur W de motif et ce pour différentes concentrations y en Germanium dans l'alliage SixGey. Les courbes C5A, C5B, C5c, C5D et C5E sont respectivement relatives à des fractions molaires de 0,6, 0,55, 0,5, 0,4 et 0,3. Le Demandeur a mis en évidence que pour chaque dimension W de motif contraint, il existe une épaisseur optimale de SixGey permettant d'obtenir un maximum pour la composante de stress suivant l'axe z, SOzz en GPa. Les différentes courbes sont respectivement relatives à des motifs de dimension W égale à : 94 nm, 100 nm, 120 nm, 140 nm, 160 nm et 200 nm, il est alors possible de définir des courbes passant par les maxima de ces contraintes pour deux exemples de concentrations molaires en germanium respectivement de 0,3 et 0,5 comme montré sur la figure 6. La valeur de W correspondant à cet optimum de contrainte est 5 indépendant de la concentration, mettant en évidence qu'il est possible d'établir une relation linéaire entre l'épaisseur de la couche d'alliage pour laquelle la contrainte est maximale en fonction de la largeur du motif comme l'illustre la figure 7. La contrainte au milieu du film de silicium augmente avec la concentration de germanium et avec l'épaisseur de l'alliage en SiGe mais 10 les propriétés de ce matériau imposent une épaisseur critique au-delà de laquelle des dislocations apparaissent et où la contrainte n'est plus maintenue. A ce titre, la figure 8 illustre des données de la littérature relatives à des épaisseurs critiques de relaxation plastique d'alliage SiGe en fonction de 15 la concentration en germanium : J.Appl.Phys. 83, 171 (1998). Cette épaisseur critique diminue lorsque la concentration en Germanium augmente, cette dernière est donnée à titre illustratif, son estimation variant selon les sources dans la littérature. La zone A correspond à une zone dans laquelle l'alliage SixGey est contraint. La zone C correspond à une zone dans 20 laquelle l'alliage SixGey est relaxé, la zone B correspondant à une zone intermédiaire dans laquelle l'alliage SixGey est dit métastable. Exemple de mise en application du procédé de l'invention pour définir une contrainte bi-axiale optimale au sein d'un canal de transistor 25 On réalise une structure telle que celle illustrée en figure 3, comprenant à la surface d'un substrat en silicium, une couche d'alliage en SixGey d'épaisseur tsiGe, une couche d'oxyde enterrée BOX d'épaisseur tBox, une couche de silicium d'épaisseur tsi , dans laquelle on cherche à créer une 30 contrainte optimisée, recouverte d'une couche supérieure d'oxyde d'épaisseur tox, avec une dimension de motif W déterminée par les fonctions que l'on souhaite utiliser. De manière générale, les données tBox, tsi , et tox, sont plus ou moins préalablement définies et l'on cherche selon le procédé de la présente invention à optimiser à partir de ces paramètres d'entrée fixés, 35 selon la dimension W le couple : fraction y / épaisseur tsiGe. La figure 9 illustre plus précisément comment le procédé de la présente invention permet d'optimiser les conditions d'élaboration des couches en fonction d'une dimension de motif donnée W. Il s'agit de mettre en relation les deux courbes d'optimum : la courbe correspondant plus précisément à la droite illustrée en figure 7 et relative à la variation de l'épaisseur de la couche d'alliage en SixGey en fonction de la dimension de motif contraint et la courbe d'épaisseur critique jusqu'à laquelle on peut pousser la concentration en germanium dans l'alliage. Par exemple pour une dimension W=100nm, l'épaisseur de SiGe optimale par rapport à la géométrie de la structure est de 35nm (droite de la figure 7 reportée). Puis pour cette même épaisseur, (comme indiqué par la flèche ascendante) la concentration maximale est déterminée par les propriétés de l'alliage SiGe (deuxième courbe : dénommée optimum 2) dans le cas présent conduisant à déterminer une concentration de 0,47 en germanium. Ainsi selon cet exemple pour une dimension prédéterminée de motif, on est en mesure selon le procédé de l'invention de déterminer un couple de valeurs en termes d'épaisseur de couche d'alliage et de concentration en germanium dans l'alliage de manière à obtenir une composante de stress maximale au niveau de la couche dans laquelle le motif est réalisé, soit la couche 4. Selon le présent exemple, dans le cas d'une zone active rectangulaire W=L=100nm le stress biaxial au centre est de 1,4GPa. Cette taille se rapproche de la zone active des nMOSFETs pour les circuits 25 logiques. Lorsque les conditions optimales d'élaboration sont définies, il convient de manière classique de réaliser un ensemble plots d'isolation de SiO2 permettant de séparer des zones actives de transistor. Pour cela on 30 utilise couramment une couche d'arrêt de polissage de nitrure de silicium SiN. Néanmoins comme l'illustre la figure 10 relative à l'évolution de la composante de stress en fonction de l'épaisseur de SiN lors de la gravure, la présence de couches au dessus de la couche de silicium dans laquelle est 35 contraint le motif, limite fortement le transfert de contrainte. Le Demandeur propose une optimisation dans l'enchaînement classique des étapes pour réaliser une architecture de type STI afin d'éviter le dépôt de SiN (de l'ordre de 80nm) avant gravure. Selon cette technique classique, le substrat de silicium est recouvert d'une couche de nitrure de silicium. Cette couche est ainsi que les couches sous-jacentes sont gravées en dehors des motifs définissant les zones actives. Ensuite, les tranchées dans le silicium sont remplies d'oxyde de silicium. On peut avantageusement utiliser un procédé de type CMP « chemical mechanical polishing » de polissage mécano-chimique, 1 0 permettant d'éliminer tout l'oxyde au dessus de la surface de nitrure en ne conservant que de plots d'isolation en oxyde de silicium entre les zones actives de transistor. Ainsi l'enchaînement classique des différentes étapes est le suivant : le dépôt d'une couche d'arrêt de polissage SiN ; 15 la gravure de la zone active ; le remplissage par de l'oxyde (STI) ; le polissage jusqu'à la couche de SiN (CMP) ; le retrait du masque de SiN. 20 Selon la présente invention il est proposé de procéder au préalable à la gravure en périphérie d'une surface de dimensions supérieures aux dimensions du motif contraint. Un exemple de procédé de fabrication de transistor est à ce titre 25 illustré grâce aux figures 11 a à 11f. On réalise l'empilement de couches suivantes sur un substrat de silicium 1 : - une couche 2 d'alliage de Si,Gey ; - une couche 3 d'oxyde enterrée : 30 - une couche 4 de silicium correspondant à la couche à l'intérieur de laquelle on cherche à optimiser une contrainte ; - une couche supérieure d'oxyde 5. On procède alors à une opération de gravure comme illustré en figure 11a qui permet d'optimiser la valeur de la contrainte selon 35 l'enseignement illustré par les courbes de la figure 4. On procède à la réalisation d'une couche isolante 6 suivie du dépôt d'une couche 7 de nitrure de silicium, comme illustré en figure 11b. On procède alors à la réalisation d'un dépôt épais d'oxyde de silicium 8, comme illustré en figure 11c, correspondant à l'oxyde des plots STI. On procède alors à une opération classique de polissage de type CMP par exemple, jusqu'à dégager la couche de nitrure de silicium comme illustré en figure 11d. On procède alors au retrait du nitrure de silicium et de la couche d'isolant au dessus de la couche active de silicium dans laquelle est 10 transférée la contrainte et correspondant à une zone dite de grille, comme illustré en figure 11 e. On positionne la grille 90, en regard de ladite zone de grille, comme illustré en figure 11f. 15 REVENDICATIONS1. Procédé pour contraindre un motif présentant une surface dite de motif (W, LZA), dans une couche de matériau semiconducteur pouvant 5 être en silicium à la surface d'un empilement de couches élaboré à la surface d'un substrat, ledit empilement comprenant au moins une couche contrainte d'alliage SixGey avec x et y des fractions molaires, et une couche d'oxyde de silicium enterrée (BOX), caractérisé en ce qu'il comporte la gravure en périphérie d'une surface de dimensions supérieures à celles de ladite surface 10 de motif, de la couche d'oxyde de silicium enterrée et de la couche contrainte d'alliage SixGey sur au moins une partie de la profondeur de ladite couche d'alliage. 2. Procédé pour contraindre un motif dans une couche de 15 matériau semiconducteur pouvant être en silicium selon la revendication 1, caractérisé en ce que la fraction molaire y est égale à 1-x. 3. Procédé pour contraindre un motif dans une couche de matériau semiconducteur pouvant être en silicium selon l'une des 20 revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que l'alliage SixGey est dopé. 4. Procédé pour contraindre un motif dans une couche de matériau semiconducteur pouvant être en silicium selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'épaisseur de la couche d'alliage 25 de SixGey est sensiblement égale à l'épaisseur critique au-delà de laquelle sont susceptibles d'apparaître des dislocations dans ladite couche d'alliage de SixGey. 5. Procédé pour contraindre un motif dans une couche de 30 matériau semiconducteur pouvant être en silicium selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'il comprend la détermination : - d'une première fonction tsiGe = f (W), relative à l'évolution de d'une épaisseur optimale de la couche d'alliage SixGey (tsiGe) en fonction d'une dimension de motif (W), permettant d'obtenir une contrainte maximum(SOzz) dans ledit motif, ladite épaisseur optimale étant indépendante de la fraction molaire y ; - d'une seconde fonction tcsiGe = g (y) relative à l'évolution de l'épaisseur critique (tcsiGe) de la couche d'alliage SixGey au-delà de laquelle 5 des dislocations apparaissent dans ladite couche contrainte pour une fraction molaire y donnée ; - la détermination d'une fraction molaire y par égalité des épaisseurs tsiGe = tcsiGe, permettant de définir pour une dimension de motif donnée, un couple optimal de valeurs (tsiGe, y), pour une dimension de motif 10 donnée. 6. Procédé pour contraindre un motif dans une couche de matériau semiconducteur pouvant être en silicium selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la gravure est effectuée 15 également dans une partie dudit substrat sur une profondeur de gravure non nulle. 7. Procédé de fabrication de transistor caractérisé en ce qu'il comprend le procédé pour contraindre un motif selon l'une des 20 revendications précédentes et comprenant la gravure d'une zone active dont la dimension (LZA) selon la direction du courant dans le plan des couches est au moins supérieure ou égale à la somme des dimensions d'une zone de source, d'une zone de grille et d'une zone de drain. 25 8. Procédé de fabrication de transistor selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'il comprend : - une étape de dépôt d'une couche de nitrure de silicium, postérieure à l'étape de gravure de la zone active ; - une étape de dépôt épais de couche d'oxyde ; 30 - la réalisation de plots d'isolation d'oxyde de part et d'autre des zones de source, grille et drain.