FR 2977810 A1 20130118 FR 1156430 A 20110713 INSTALLATION ET PROCEDE POUR LE DEPOT D'UN FILM DE PARTICULES ORDONNEES, DE LARGEUR REGLABLE, SUR UN SUBSTRAT EN DEFILEMENT DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE 10 L'invention se rapporte au domaine des installations et procédés pour le dépôt d'un film de particules ordonnées, sur un substrat en défilement. Plus précisément, elle concerne le dépôt d'un film de particules ordonnées, de préférence du 15 type monocouche, dont la taille des particules peut être comprise entre quelques nanomètres et plusieurs centaines de micromètres. Les particules, de préférence de forme sphérique, peuvent par exemple être des particules de silice, ou de polymère comme le 20 polystyrène. L'invention présente de nombreuses applications, en particulier dans le domaine des piles à combustible, de l'optique, de la photonique, du revêtement de polymère, des puces, des MEMs, de la 25 structuration de surface pour l'électronique organique et le photovoltaïque, etc. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE De l'art antérieur, il est connu de tels procédés et installations visant au dépôt d'un film de5 2 particules ordonnées sur un substrat en défilement, ce dernier pouvant être souple ou rigide. De manière générale, il est prévu une zone de transfert alimentée en particules, qui flottent dans un liquide porteur contenu dans cette même zone de transfert. Les particules ordonnées dans la zone de transfert, formant une monocouche de particules dite film de faible épaisseur, sont poussées par l'arrivée d'autres particules ainsi que par la circulation du liquide porteur, vers une sortie de cette zone par laquelle elles atteignent le substrat en défilement sur lequel elles se déposent. Pour ce faire, un pont capillaire assure habituellement la liaison entre le substrat et le liquide porteur contenu dans la zone de transfert. En régime normal de fonctionnement de l'installation, dans la zone de transfert, les particules sont maintenues ordonnées grâce notamment à la pression exercée en amont par les particules en déplacement destinées à rejoindre ultérieurement cette zone de transfert. La cohésion de l'ordonnancement des particules est en outre assurée par des forces faibles de type capillaire ou électrostatique. A titre d'exemple indicatif, lorsque la zone de transfert de particules est reliée vers l'amont à une rampe inclinée sur laquelle défilent les particules issues d'un dispositif de dispense, ce sont ces mêmes particules présentes sur la rampe inclinée qui exercent une pression sur les particules contenues dans la zone de transfert, et qui permettent donc, en coopération avec les forces capillaires de proximité, de conserver 3 l'ordonnancement des particules dans cette zone, jusqu'au dépôt sur le substrat, par capillarité ou contact direct. Toujours dans ce même exemple de configuration intégrant une rampe inclinée, c'est l'énergie cinétique associée aux particules en mouvement sur la rampe qui permet à celles-ci de s'ordonner automatiquement sur cette même rampe, lorsqu'elles impactent le front de particules, lui aussi situé sur la rampe inclinée. L'ordonnancement est donc établi sur la rampe, puis conservé lorsque les particules ordonnées pénètrent dans la zone de transfert, grâce à l'alimentation en continu des particules venant impacter le front. L'énergie cinétique nécessaire à l'ordonnancement des particules est ici amenée par la rampe inclinée transportant le liquide porteur et les particules. D'autres solutions sont néanmoins possibles, comme la mise en mouvement, à l'aide d'une pompe, du liquide porteur sur un plan horizontal dont la partie aval constitue la zone de transfert des particules. Une autre solution consiste à remplacer ladite pompe par une soufflerie permettant d'appliquer un flux d'air à la surface du liquide porteur, sur lequel flottent les particules. Dans toutes ces réalisations de l'art antérieur, le film déposé sur le substrat présente une largeur déterminée, correspondant à la pleine largeur de la sortie de la zone de transfert par laquelle s'échappent les particules. Des dépôts de films de largeurs différentes ne sont envisagés que par le biais 4 d'installations distinctes, aux dimensions adaptées. Cela génère des inconvénients en termes d'encombrement, de coûts de fabrication et de coûts de mise au point des installations. A titre d'exemple, la détermination délicate de la position du front de particules sur la rampe inclinée est fonction d'une multitude de paramètres, parmi lesquels certains sont spécifiques à l'installation concernée. Cela implique de déterminer la position du front pour chacune des installations de conceptions différentes. EXPOSÉ DE L'INVENTION L'invention a donc pour but de remédier au moins partiellement aux inconvénients mentionnés ci-dessus, relatifs aux réalisations de l'art antérieur. Pour ce faire, l'invention a tout d'abord pour objet une installation pour le dépôt d'un film de particules ordonnées sur un substrat, de préférence en défilement, l'installation comprenant : une zone de transfert comprenant une entrée de particules et une sortie de particules espacées l'une de l'autre par deux rebords latéraux en regard, retenant un liquide porteur sur lequel flottent les particules, ladite installation étant conçue pour permettre le dépôt, sur le substrat, d'un film de particules ordonnées s'échappant par ladite sortie de particules présentant une première largeur (L1), le dépôt s'effectuant par exemple par contact ou à l'aide d'un pont capillaire assurant la liaison entre le liquide porteur contenu dans la zone de transfert et ledit substrat sur lequel le film de particules ordonnées est destiné à être déposé. Selon l'invention, l'installation comporte en outre un dispositif accessoire en forme de tête de 5 dépôt, prévu pour obturer ladite sortie de particules et conçu pour permettre le dépôt, sur le substrat, d'un film de particules ordonnées s'échappant par une extrémité d'un canal de transfert de particules de cette tête de dépôt, ladite extrémité présentant une seconde largeur (L2) strictement inférieure à ladite première largeur (L1) . L'invention prévoit ainsi, de manière astucieuse, un dispositif accessoire pouvant être monté sur l'installation de manière à obtenir le dépôt d'un film de largeur inférieure. Cette solution apporte donc réponse satisfaisante aux problèmes d'encombrement, de coûts de fabrication et de coûts de mise au point rencontrés dans les réalisations de l'art antérieur. A titre d'exemple indicatif, la position du front peut être conservée, que l'installation soit ou non équipée du dispositif accessoire. Avantageusement, plusieurs dispositifs accessoires sont prévus en association avec une même installation, chacun de ces dispositifs permettant d'obtenir une largeur de film différente. Il est également possible de prévoir qu'un même dispositif accessoire présente une pluralité de canaux de transfert de particules, afin de déposer simultanément plusieurs films sur un même substrat, ces films pouvant alors bien entendu être de largeurs identiques ou différentes. Une solution analogue à plusieurs têtes 6 monocanal ou multicanaux est également envisageable, sans sortir du cadre de l'invention. De plus, pour chacune de ces réalisations, la seconde largeur peut éventuellement être réglable. L'installation selon l'invention est remarquable en ce qu'elle permet de présenter une base commune pour une multitude de dépôts de formes différentes, seul le dispositif accessoire formant tête de dépôt étant adapté à la taille de film désirée, voire retiré lorsque le dépôt doit présenter une largeur maximale correspondant à la première largeur de la sortie de particules de la zone de transfert. De préférence, l'installation comporte également une ou plusieurs buses d'aspiration capables d'attirer les particules ordonnées présentes dans la zone de transfert vers le canal de transfert de particules de ladite tête de dépôt, lorsque celle-ci est montée sur l'installation. L'aspiration créée permet de favoriser l'introduction, dans le canal de transfert, des particules initialement présentes dans la zone de transfert. Cette aspiration est préférentiellement effectuée au niveau de l'interface liquide/air dans le canal de transfert des particules. De préférence, ladite une ou plusieurs buses d'aspiration est agencée dans ledit canal de transfert de particules, à proximité de ladite extrémité. De préférence, l'installation comporte également des moyens permettant d'agir sur les particules, avant leur entrée dans le canal de transfert, et/ou au sein de ce dernier. Ces moyens 7 permettent préférentiellement d'agir sur l'orientation des particules et/ou sur les propriétés physicochimiques de celles-ci. Pour ce faire, ces moyens peuvent être du type laser, magnétique, électrique, thermique, ultrasonique, ou de toute autre conception réputée appropriée par l'homme du métier. De préférence, le fond dudit canal de transfert présente un revêtement en matériau hydrophile, s'interrompant avant ladite extrémité, réalisée en matériau hydrophobe. Le revêtement en matériau hydrophile favorise l'avancée et le retrait du liquide porteur au sein du canal de transfert. Le fond de la partie de la tête de dépôt située en amont du canal de transfert peut lui aussi être pourvu d'un tel revêtement. Le caractère hydrophobe de l'extrémité du canal destinée à coopérer avec le substrat, permet quant à lui de rompre efficacement le contact entre le liquide et le substrat lors d'une opération d'évacuation du liquide porteur hors de la tête de dépôt, à la fin d'une étape de dépôt d'un film sur ce substrat. De préférence, le rapport entre les première et seconde largeurs (L1, L2) est compris entre 2000 et 2, et de préférence entre 100 et 10. De préférence, l'installation comprend une rampe inclinée de circulation des particules, rattachée à ladite entrée de la zone de transfert, et sur laquelle ledit liquide porteur est également destiné à circuler. L'énergie cinétique nécessaire à l'ordonnancement des particules en régime normal est 8 ici amenée par la rampe inclinée transportant le liquide porteur et les particules. D'autres solutions sont néanmoins possibles, comme la mise en mouvement, à l'aide d'une pompe, du liquide porteur sur un plan horizontal dont la partie aval constitue la zone de transfert des particules. Une autre solution consiste à remplacer la pompe par une soufflerie permettant d'appliquer un flux d'air à la surface du liquide porteur, sur lequel flottent les particules. D'autres solutions sont néanmoins envisageables, sans sortir du cadre de l'invention, comme un travail de compression des particules via une technique dite « Langmuir-Blodgett ». De préférence, ledit dispositif accessoire en forme de tête de dépôt est conçu pour permettre le dépôt, sur le substrat, d'un film de particules ordonnées s'échappant par l'extrémité du canal de transfert de particules, à l'aide d'un contact direct prévu entre l'extrémité de la tête de dépôt et le substrat. Alternativement, il peut être prévu un pont capillaire assurant la liaison entre le liquide porteur contenu dans le canal de transfert de particules, et ledit substrat sur lequel le film de particules ordonnées est destiné à être déposé. Enfin, l'invention a également pour objet un procédé de dépôt d'un film de particules ordonnées sur un substrat, de préférence en défilement, à l'aide d'une installation telle que décrite ci-dessus. Dans ce procédé, selon la largeur souhaitée pour le film de particules, ledit dispositif accessoire en forme de 9 tête de dépôt est monté ou non sur ladite installation, préalablement audit dépôt. D'autres avantages et caractéristiques de l'invention apparaîtront dans la description détaillée non limitative ci-dessous. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS Cette description sera faite au regard des dessins annexés parmi lesquels ; - la figure 1 montre une installation de dépôt selon un mode de réalisation préféré de la présente invention, en coupe schématique prise le long de la ligne I-I de la figure 2, l'installation représentée se trouvant dans une première configuration ; - la figure 2 représente une vue schématique de dessus de l'installation de dépôt montrée sur la figure 1 ; - les figures 3 à 6 représentent différentes étapes d'un procédé de dépôt mis en oeuvre à l'aide de l'installation montrée sur les figures précédentes ; - la figure 7 représente une vue en perspective d'un dispositif accessoire formant tête de dépôt, destiné à équipé l'installation montrée sur les figures précédentes ; - la figure 8 montre l'installation de dépôt se trouvant dans une seconde configuration, cette vue étant une coupe schématique prise le long de la ligne VIII-VIII de la figure 9 ; 10 - la figure 9 représente une vue schématique de dessus de l'installation de dépôt montrée sur la figure 8 ; - les figures 10 à 14 représentent différentes étapes d'un procédé de dépôt mis en oeuvre à l'aide de l'installation montrée sur les figures 8 à 14 ; et - les figures 15 et 16 montrent des vues en perspective d'un dispositif accessoire formant tête de dépôt, selon une alternative de réalisation. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PRÉFÉRÉS En référence tout d'abord aux figures 1 et 2, on peut apercevoir une installation 1 pour le dépôt d'un film de particules ordonnées sur un substrat en défilement. L'installation se présente selon une première configuration, dans laquelle elle n'est pas équipée de son dispositif accessoire formant tête de dépôt, spécifique à la présente invention et qui sera décrit ci-après. L'installation 1 comporte un dispositif 2 de dispense de particules 4, dont la taille peut être comprise entre quelques nanomètres et plusieurs centaines de micromètres. Les particules, de préférence de forme sphérique, peuvent par exemple être des particules de silice. D'autres particules d'intérêt peuvent être faites de métal ou d'oxyde de métal comme le Platine, le TiO2, de polymère comme le polystyrène ou le PMMA, de carbone, etc. Plus précisément, dans le mode de réalisation préféré, les particules sont des sphères de silice d'environ 1 pm de diamètre, stockées en solution 11 dans le dispositif de dispense 2. La proportion du milieu est d'environ 7 g de particules pour 200 ml de solution, ici du butanol. Naturellement, pour des raisons de clarté, les particules représentées sur les figures adoptent un diamètre supérieur à leur diamètre réel. Le dispositif de dispense 2 présente une buse d'injection 6 commandable, d'environ 500 pm de diamètre. L'installation comporte également un convoyeur liquide 10, intégrant une rampe inclinée 12 de circulation des particules, et une zone de transfert 14 sensiblement horizontale, voire présentant une légère inclinaison de façon à favoriser la vidange de l'installation, le cas échéant. L'extrémité haute de la rampe inclinée est prévue pour recevoir les particules injectées depuis le dispositif de dispense 2. Cette rampe est droite, inclinée d'un angle compris entre 5 et 60°, de préférence entre 10 et 30°, permettant aux particules d'être acheminées vers la zone de transfert 14. De plus, un liquide porteur 16 circule sur cette rampe 12, jusque dans la zone de transfert. Ce liquide 16 peut d'ailleurs être re-circulé à l'aide d'une ou deux pompes 18, entre la zone de transfert 14 et l'extrémité haute de la rampe. Il s'agit ici de préférence d'une eau dé-ionisée, sur laquelle les particules 4 peuvent flotter. Néanmoins, on peut privilégier un liquide neuf via un circuit de circulation ouvert. L'extrémité basse de cette même rampe est raccordée à une entrée de la zone de transfert de 12 particules 14. Cette entrée 22 se situe au niveau d'une ligne d'inflexion 24 matérialisant la jonction entre la surface du liquide porteur présent sur le plan incliné de la rampe 12, et la surface du liquide porteur présent sur la partie horizontale de la zone de transfert 14. L'entrée de particules 22 est espacée d'une sortie de particules 26 à l'aide de deux rebords latéraux 28 retenant le liquide porteur 16 dans la zone 14. Ces rebords 28, en regard et à distance l'un de l'autre, s'étendent parallèlement à une direction principale d'écoulement du liquide porteur et des particules dans l'installation, cette direction étant schématisée par la flèche 30 sur les figures 1 et 2. La zone 14 prend par conséquent la forme d'un couloir ou d'un chemin ouvert à son entrée et à sa sortie. Le fond de la partie aval de la zone de transfert présente un plateau 27 légèrement incliné vers l'amont par rapport à la direction horizontale, par exemple d'une valeur de l'ordre de 5 à 10°. C'est l'extrémité aval de ce même plateau 27, également dénommé « blade », qui définit en partie la sortie de particules 26. L'installation 1 est également pourvue d'un convoyeur de substrat 36, destiné à mettre le substrat 38 en défilement. Ce substrat peut être rigide ou souple. Dans ce dernier cas, il peut être mis en mouvement sur un rouleau 40 dont l'axe est parallèle à la sortie 26 de la zone 14, à proximité de laquelle il se situe. En effet, le substrat 38 est destiné à défiler de manière très rapprochée de la sortie 26, 13 afin que les particules s'échappant de cette sortie puisse se déposer aisément sur ce substrat, via un pont capillaire 42, également dénommé ménisque, qui le relie au liquide porteur 16. De manière encore plus préférentielle, le substrat peut être au contact directement de la zone de transfert, sans sortir du cadre de l'invention. Le pont capillaire mentionné ci-dessus n'est alors plus requis. Dans l'exemple montré sur les figures, la largeur du substrat correspond à la largeur de la zone 14 et de sa sortie 26. Il s'agit d'une première largeur L1, qui correspond aussi à la largeur du film de particules à déposer sur le substrat. Cette première largeur peut être de l'ordre de 25 à 30 cm. Le pont capillaire 42 est assuré entre le liquide porteur 16 qui se situe au niveau de la sortie 26, et une partie du substrat 38 épousant le rouleau de guidage / d'entraînement 40. L'axe de rotation de ce dernier rouleau peut se situer dans le plan de la surface supérieure du liquide porteur retenu dans la zone 14. Alternativement, en particulier lorsque le substrat 38 est solide, il peut être en défilement selon la direction verticale, sensiblement orthogonalement à la direction 30. Un procédé de dépôt d'un film de particules ordonnées va maintenant être décrit en référence aux figures 3 à 6. Tout d'abord, la buse d'injection 6 est 30 activée pour débuter la dispense des particules 4 sur la rampe 12. Il s'agit de mettre en oeuvre une étape 14 initiale de remplissage de la zone de transfert 14, par les particules 4, avec le liquide porteur 16 déjà au niveau requis dans la zone 14. Durant cette phase d'amorçage, les particules dispensées par le dispositif 2 circulent sur la rampe 12, puis pénètrent dans la zone 14 dans laquelle elles se dispersent, comme cela a été schématisé sur les figures 3 et 4. Au fur et à mesure que les particules 4 sont injectées sur la rampe 12 et pénètrent dans la zone de transfert 14, elles viennent en butée contre le substrat 38, puis le front amont de ces particules a tendance à se décaler vers l'amont, en direction de la ligne d'inflexion 24. L'injection de particules est poursuivie même après que ce front amont ait dépassé la ligne 24, afin qu'il remonte sur la rampe inclinée 12. Effectivement, il est fait en sorte que le front amont de particules 54 remonte sur la rampe 12 de manière à ce qu'il se situe à une distance horizontale « d » donnée de la ligne d'inflexion 24, comme montré sur la figure 5. La distance « d » peut être de l'ordre de 30 mm. A cet instant, les particules 4 sont ordonnées dans la zone de transfert et sur la rampe 12, sur laquelle elles s'ordonnent automatiquement, sans assistance, grâce notamment à leur énergie cinétique mise à profit au moment de l'impact sur le front 54. L'ordonnancement est tel que le film obtenu présente une structure dite « hexagonale compacte », dans laquelle chaque particule 4 est entourée et contactée 15 par six autres particules 4 en contact entre elles, comme cela a été schématisé sur la figure 6. Cette figure 6 montre l'état de l'installation après le déclenchement du mouvement du substrat 38, initié dès que le front 54 a atteint le niveau requis représenté sur la figure 5. Le film de particules se dépose alors sur ce même substrat 38, en empruntant le pont capillaire 42, à la manière de celle décrite dans le document CA 2 695 449. Comme évoqué ci- dessus, la largeur de ce film 4' correspond à la première largeur L1 de la sortie 26. Au cours du dépôt, l'injection de particules et la vitesse de défilement du substrat sont réglées de sorte que le front de particules reste dans une position sensiblement identique. Pour ce faire, le débit de particules peut être de l'ordre de 0,1 ml/min à plusieurs ml/min, tandis que la vitesse linéaire du substrat 38, également dénommée vitesse de tirage, peut être de l'ordre de quelques mm/min à plusieurs centaines de mm/min. Lorsque l'installation doit permettre un dépôt de film sur une largeur inférieure à la pleine largeur L1 de la sortie de particules 26, il est utilisé un dispositif accessoire propre à la présente invention, représenté sur la figure 7. Ce dispositif accessoire 100 prend la forme d'une tête de dépôt de particules, destinée à être montée à l'extrémité avant de la zone de transfert 14, sur le plateau incliné 27. Il comprend en effet une plateforme plane 50, destinée à reposer sur le plateau 27 en l'épousant. Un muret vertical 52 s'étend à partir 16 d'une extrémité avant de la plateforme 50. Il présente une ouverture traversante qui est prolongée vers l'avant par une structure déportée 54, ces éléments définissant conjointement un canal de transfert de particules 56 dont le fond se trouve dans la continuité avant de la plateforme 50. La longueur de ce canal 56 est réduite au maximum de manière à faciliter la circulation du liquide et le passage des particules. La structure déportée 54 présente un fond, deux flancs latéraux 58 correspondants aux bords du canal 56, ainsi qu'une butée 60 s'étendant vers le bas par rapport à la plateforme 50, de manière à pouvoir s'appuyer contre la sortie 26 de la zone de transfert et empêcher le dispositif 100 de glisser vers le bas dans cette même zone 14. L'extrémité avant 62 du canal de transfert 56, de section globale en forme de U, présente une seconde largeur L2 inférieure la première largeur L1, un rapport compris entre 100 et 10 pouvant être retenu. Ici, c'est la largeur L2 qui conditionne la largeur du film de particules qui doit être déposé, car les particules sont destinées à s'échapper par cette extrémité 62 avant de rejoindre le substrat, avec lequel elle est préférentiellement en contact par le biais d'un chant d'extrémité 64 sensiblement vertical. De façon générale, il est recherché un chant 64 tangent localement au substrat. Ce chant présente une épaisseur aussi faible que possible de manière à limiter la quantité de liquide infiltrée à l'interface avec le substrat en regard, et donc de manière à limiter la rétention de liquide. 17 La plateforme 50 et le fond dudit canal de transfert présentent un revêtement 66 en matériau hydrophile, s'interrompant avant l'extrémité 62, qui est elle réalisée dans un matériau hydrophobe, comme préférentiellement toute la structure du dispositif accessoire 100. Ce matériau hydrophobe est préférentiellement du Téflon (PTFE), retenu pour ses propriétés d'hydrophobicité parmi lesquelles une tension de surface de 73 mN.ml et un angle de contact à l'eau de 112°, ainsi que pour ses propriétés mécaniques comme son module de Young entre 300 et 800 MPa, un coefficient de Poisson de l'ordre de 0,46, et un coefficient de frottement de 0,05 à 0,2. De plus, ses propriétés physicochimiques sont également intéressantes, notamment en raison de son insensibilité aux solvants usuels. Les avantages procurés par ces propriétés, pour le fonctionnement de l'installation, sont nombreux. Tout d'abord, l'hydrophobicité des parois verticales limite le risque de déposer des particules sur ces parois, constituées par les faces verticales du muret 52 et les flancs 58 du canal de transfert 56. De plus, les propriétés mécaniques mentionnées ci-dessus permettent de conférer un matériau peu rigide et relativement élastique, autorisant une mise en contact de la tête de dépôt avec le substrat sans risque de dommages collatéraux. Enfin, les propriétés physicochimiques du Téflon impliquent que le dispositif reste insensible à la plupart des produits chimiques. 18 De plus, le caractère hydrophobe de l'extrémité 62 du canal permet de rompre efficacement le contact entre le liquide porteur et le substrat, lors d'une opération d'évacuation du liquide porteur hors de la tête de dépôt, à la fin d'une étape de dépôt d'un film sur ce substrat, comme cela sera détaillé ci-après. Le dispositif accessoire est également équipé de deux buses d'aspiration 70 capables d'attirer les particules en direction du canal de transfert 56. L'aspiration est préférentiellement assurée à l'extrémité 62, au niveau de l'interface liquide/air, à proximité des flancs 58 et du substrat, comme cela a été représenté schématiquement sur la figure 7. Chaque buse peut présenter un diamètre intérieur de l'ordre de quelques dizaines de pm à quelques mm. En outre, le dispositif comporte également des moyens permettant d'agir sur les particules, avant leur entrée dans le canal de transfert 56, et/ou au sein de ce dernier. Ces moyens 72, représentés schématiquement sur la figure 7, permettent préférentiellement d'agir sur l'orientation, et éventuellement l'ordonnancement des particules et/ou sur les propriétés physicochimiques de celles-ci. Pour ce faire, ces moyens peuvent être du type laser, magnétique, thermique, ultrasonique, ou encore électrique. A titre d'exemple, il est possible d'orienter des particules sphériques de type Janus grâce à un faisceau laser, ou encore d'orienter des bâtonnets de type Janus par l'application d'un champ magnétique. Egalement, il est possible de favoriser la 19 disparition d'éventuelles lacunes dans l'ordonnancement des particules, via l'application d'ultrasons au liquide porteur. Cela permet, grâce à l'agitation des particules en surface, d'améliorer l'ordonnancement. La fonctionnalisation de la tête de transfert est donc aussi possible grâce à l'application d'un champ électrique externe normal à la surface du liquide porteur. L'application d'un champ électrique normal permet d'espacer de manière contrôlée les particules, puis de les arranger de façon compacte et organisée lorsque le champ électrique est réduit progressivement. Alternativement, dans le cas de particules colloïdales diélectriques, de préférence de diamètre compris entre 10 nm et 10 pm, une autre méthode consiste à utiliser un faisceau laser pour capturer, déplacer les particules. Ce moyen peut être utilisé pour augmenter l'ordonnancement initial. Un procédé de dépôt d'un film de particules ordonnées va maintenant être décrit en référence aux figures 8 à 14. En référence aux figures 8 et 9, le dispositif accessoire 100 est tout d'abord placé à l'extrémité aval de la zone de transfert 14, avec la plateforme 50 en appui plan contre le plateau incliné 27, et avec la butée 60 en appui contre l'extrémité libre de ce même plateau, afin d'interdire le glissement du dispositif 100 vers l'aval. Dans cette position, le muret vertical 52 s'étend sur toute la première largeur L1 de la sortie de particules 26, de manière à interdire le passage de celles-ci autre part 20 qu'à travers le canal de transfert 56, de largeur inférieure L2. La mise en place du dispositif 100 est de préférence réalisée à sec, c'est-à-dire avec le niveau de liquide porteur suffisamment bas dans la zone de transfert pour ne pas mouiller le dispositif 100 lors de sa mise en position. Ce n'est qu'après le positionnement du dispositif 100 que le niveau du liquide porteur 16 est augmenté, jusqu'à ce qu'il recouvre l'extrémité 62 du canal 56, sans pour autant dépasser l'extrémité haute des flancs 58. La buse d'injection 6 est alors activée pour débuter la dispense des particules 4 sur la rampe 12. Il s'agit de mettre en oeuvre une étape de remplissage de la zone de transfert 14 et de la tête de dépôt 100, par les particules 4. Durant cette phase d'amorçage, les particules dispensées par le dispositif 2 circulent sur la rampe 12, puis pénètrent dans la zone 14 dans laquelle elles se dispersent. Ensuite, elles arrivent à proximité du muret 52 du dispositif 100 et pénètrent dans le canal de transfert 56. Pour aider à l'initiation de l'introduction de ces particules dans le canal 56, les buses d'aspiration représentées sur la figure 7 sont activées, le débit pouvant être de l'ordre de quelques ml/min à plusieurs centaines de ml/min. Cette aspiration est préférentiellement brève, par exemple exercée pendant une demi seconde. Elle est préférentiellement initiée après le contact des particules avec le muret 52, lorsque le film est déjà bien ordonné. 21 Au fur et à mesure que les particules 4 sont injectées sur la rampe 12 et pénètrent dans la zone de transfert 14 et le canal 26, elles viennent en butée contre le muret 52 et le substrat 38, qui est ici un substrat rigide, agencé verticalement comme cela a été représenté sur les figures 10 et 11. Il peut être créé un pont capillaire entre le substrat 38 et l'extrémité 62 de la tête de dépôt 100, ou bien, de préférence, un contact est établi entre ce même substrat 38 et le chant vertical 64 de l'extrémité 62. Dans ce dernier cas, la pression de contact est de préférence de l'ordre de quelques N/mm2. Le front amont de ces particules a alors tendance à se décaler vers l'amont, en direction de la ligne d'inflexion 24 montrée sur les figures précédentes. L'injection de particules est poursuivie même après que ce front amont ait dépassé la ligne 24, afin qu'il remonte sur la rampe inclinée 12. Comme mentionné précédemment, il est ici aussi fait en sorte que le front amont de particules 54 remonte sur la rampe 12 de manière à ce qu'il se situe à la distance horizontale « d » donnée de la ligne d'inflexion 24, comme montré sur la figure 5. A cet instant, les particules 4 sont ordonnées dans le canal de transfert 56, dans la zone de transfert 14 et sur la rampe 12, sur laquelle ces particules s'ordonnent automatiquement, sans assistance, grâce notamment à leur énergie cinétique mise à profit au moment de l'impact sur le front 54. De plus, comme montré sur la figure 12, dans le canal de transfert 56, les particules 4 et le liquide 16 ne 22 débordent pas des flancs latéraux 58, ce qui assure un dépôt ultérieur de qualité. La figure 13 montre l'état de l'installation après le déclenchement du mouvement vertical du substrat 38, initié dès que le front 54 a atteint le niveau requis, analogue à celui représenté sur la figure 5. Les particules 4 se déposent alors sur ce même substrat 38, pour obtenir un film 4" de largeur inférieure correspondant à la seconde largeur L2 de l'extrémité 62. Lorsque le dépôt doit être stoppé, l'injection de particules est arrêtée, et le niveau de liquide porteur abaissé de sorte que le liquide ne soit plus au contact du substrat. Le dispositif 100 peut ensuite être séché avant d'être retiré de l'installation, selon tout moyen réputé approprié par l'homme du métier, ces moyens pouvant être du type conduction, convection, rayonnement, etc. Par ailleurs, en raison du caractère hydrophobe de l'extrémité 62 du dispositif, la rupture du contact entre le liquide porteur et le substrat s'opère efficacement lors de l'abaissement du niveau de ce liquide. Pour la reprise d'un dépôt avec le dispositif accessoire 100, l'ensemble des étapes mentionnées ci-dessus est réitéré. Naturellement, l'installation 1 peut comprendre plusieurs dispositifs accessoires du type de celui qui vient d'être décrit, chacun dédié au dépôt d'un ou de plusieurs films de particules de largeur(s) déterminée(s). A cet égard, les figures 15 et 16 23 montrent un dispositif accessoire 100 selon une alternative de réalisation, dans laquelle plusieurs canaux 56 sont prévus, espacés les uns des autres selon la direction de la largeur, de manière à pouvoir déposer plusieurs films simultanément. Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'homme du métier à l'invention qui vient d'être décrite, uniquement à titre d'exemples non limitatifs.10 REVENDICATIONS1. Installation (1) pour le dépôt d'un film de particules ordonnées (4) sur un substrat (38), de préférence en défilement, l'installation comprenant : une zone de transfert (14) comprenant une entrée de particules (22) et une sortie de particules (26) espacées l'une de l'autre par deux rebords latéraux (28) en regard, retenant un liquide porteur (16) sur lequel flottent les particules, ladite installation étant conçue pour permettre le dépôt, sur le substrat (38), d'un film (4') de particules ordonnées s'échappant par ladite sortie de particules (26) présentant une première largeur (L1) , caractérisée en ce qu'elle comporte en outre un dispositif accessoire (100) en forme de tête de dépôt, prévu pour obturer ladite sortie de particules (26) et conçu pour permettre le dépôt, sur le substrat (38), d'un film (4") de particules ordonnées s'échappant par une extrémité (62) d'un canal de transfert de particules (56) de cette tête de dépôt, ladite extrémité présentant une seconde largeur (L2) strictement inférieure à ladite première largeur (L1). 2. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'elle comporte également une ou plusieurs buses d'aspiration (70) capables d'attirer les particules ordonnées (4) présentes dans la zone de transfert (14), vers le canal de transfert de 25 particules (56) de ladite tête de dépôt (100), lorsque celle-ci est montée sur l'installation. 3. Installation selon la revendication 2, caractérisée en ce que ladite une ou plusieurs buses d'aspiration (70) est agencée dans ledit canal de transfert de particules (56), à proximité de ladite extrémité (62). 4. Installation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comporte également des moyens (72) permettant d'agir sur les particules (4), avant leur entrée dans le canal de transfert (56), et/ou au sein de ce dernier. 5. Installation selon la revendication 4, caractérisée en ce que lesdits moyens (72) permettent d'agir sur l'orientation des particules (4) et/ou sur les propriétés physicochimiques de celles-ci. 6. Installation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le fond dudit canal de transfert (56) présente un revêtement (66) en matériau hydrophile, s'interrompant avant ladite extrémité (62), réalisée en matériau hydrophobe. 7. Installation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le rapport entre les première et seconde largeurs (L1, L2) 26 est compris entre 2000 et 2, encore plus préférentiellement entre 100 et 10. 8. Installation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comprend une rampe inclinée (12) de circulation des particules, rattachée à ladite entrée de la zone de transfert, et sur laquelle ledit liquide porteur (16) est également destiné à circuler. 9. Installation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que ledit dispositif accessoire (100) en forme de tête de dépôt est conçu pour permettre le dépôt, sur le substrat (38), d'un film (4") de particules ordonnées s'échappant par l'extrémité (62) du canal de transfert de particules (56), à l'aide d'un contact direct prévu entre l'extrémité de la tête de dépôt et le substrat (38). 10. Procédé de dépôt d'un film de particules ordonnées (4) sur un substrat (38), de préférence en défilement, à l'aide d'une installation (1) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que selon la largeur souhaitée pour le film de particules, ledit dispositif accessoire (100) en forme de tête de dépôt est monté ou non sur ladite installation, préalablement audit dépôt.30