FR 2879183 A1 20060616 FR 0413345 A 20041215 PROCEDE DE FABRICATION COLLECTIVE DE MICROSTRUCTURES A ELEMENTS SUPERPOSES L'invention concerne d'une manière générale la fabrication collective de micro-structures collées superposées et elle s'applique notamment à la fabrication de circuits électroniques intégrés, et, par extension, de structures micro-usinées fabriquées selon des procédés collectifs analogues à ceux qui sont employés dans la fabrication des circuits électroniques intégrés. Ces structures micro-usinées sont connues sous l'appellation MEMS quand elles intègrent des fonctions électriques et mécaniques (par exemple des microcapteurs de pression, d'accélération, etc.) et MOEMS quand elles intègrent des fonctions électriques et optiques (capteurs d'image, afficheurs). Pour mieux faire comprendre l'invention, et à titre d'exemple seulement, on décrira plus précisément l'application à la fabrication d'un capteur d'image électronique; un capteur d'image électronique est typiquement destiné par exemple à former le coeur d'un appareil de photographie numérique ou d'une caméra numérique; il convertit en signaux électriques une image projetée sur sa surface sensible. Le capteur d'image est classiquement un circuit intégré électronique monolithique formé sur un substrat de silicium; à la surface de ce substrat sont formés d'une part une matrice de photodétecteurs et d'autre part des circuits électroniques périphériques; les circuits périphériques servent à la commande de la matrice et à l'extraction et au traitement des signaux qui sont issus de la matrice et qui représentent sous forme électronique l'image projetée par un objectif sur la matrice. Le circuit intégré monolithique est donc destiné à être associé, dans l'appareil de photographie, à une optique de projection (une lentille ou plusieurs lentilles superposées) qui projette l'image à détecter sur la surface photosensible de la matrice. Cette optique de projection peut faire partie du capteur, c'est-à-dire être intégrée avec le capteur devant la surface supérieure de celui-ci, ou être séparée et faire partie de l'appareil de photographie. Mais même si elle est séparée, il peut être utile de prévoir sur le capteur lui-même un autre élément optique tel qu'une plaquette transparente de protection ou de filtrage optique, montée directement sur le capteur lors de la fabrication de celui-ci. C'est le cas non seulement pour la photographie dans le domaine visible, mais c'est le cas aussi par exemple dans le domaine de l'imagerie à rayons X, où il peut être souhaitable de monter sur le capteur, à la fabrication de celui-ci, une plaquette de matériau scintillateur, et éventuellement une galette de fibres optiques entre le scintillateur et la matrice de photodétecteurs. On peut ainsi donner des exemples dans lesquels il est utile d'associer à un circuit intégré à fonctions électroniques une structure mécanique ou optique qui ne fait pas partie au départ du même substrat que le circuit intégré proprement dit mais qui doit être rapportée sur ce substrat lors de la fabrication de celui-ci. L'exemple le plus simple est la plaquette transparente sur un capteur d'image, et on continuera l'explication à propos de ce cas simple, mais l'invention s'applique aux autres structures mentionnées ci-dessus (lentilles, galette de fibres etc. ) ou même un simple capot de protection transparent ou non, ou une superposition de plaques de circuits électroniques. On va voir que ce report d'une plaque de protection ou d'une autre structure sur le circuit intégré a posé jusqu'à maintenant des problèmes, et la présente invention se propose d'aider à résoudre ces problèmes. De manière classique, la fabrication d'un circuit intégré se fait collectivement à partir d'une tranche (en anglais "wafer") de silicium: on forme sur cette tranche, par des opérations successives de dépôt de couches, de photolithographie de ces couches, et de gravures chimiques ou ioniques, une multiplicité de circuits intégrés individuels identiques, agencés en réseau de lignes et de colonnes; puis on découpe la tranche en "puces" individuelles correspondant chacune à un seul circuit intégré. Chaque puce est ultérieurement montée dans un boîtier individuel. Lorsqu'il faut rapporter sur la face avant du circuit intégré, avant montage en boîtier individuel, une plaquette de verre transparente, cette plaquette est d'abord coupée aux dimensions désirées (un peu plus petites que celles de la puce elle-même) puis elle est collée sur la face supérieure de la puce. Dans ce qui suit on appellera "face supérieure" ou "face avant" de la puce ou du substrat la face à partir de laquelle sont formés par dépôts et gravures successifs les motifs de circuit définissant les fonctions électroniques du capteur d'image. Parmi ces motifs, il y a des plots de contact permettant la connexion électrique avec l'extérieur du capteur, pour la commande du capteur et le recueil des signaux représentant l'image; ces plots sont situés à la périphérie de la puce; ils doivent rester accessibles pour pouvoir être soudés à des broches de connexion du boîtier; c'est la raison pour laquelle la plaquette de verre transparente est coupée à des dimensions plus petites que la surface de la puce: les plots à la périphérie de la puce ne doivent pas être recouverts par la plaquette de verre. Cette technique de fabrication impose que la plaquette transparente soit collée individuellement sur chaque puce; l'étape de collage n'est donc pas collective pour l'ensemble d'une tranche de multiples puces; pour réduire le coût de fabrication, il serait souhaitable que cette étape soit collective; de plus, si l'étape de collage est collectivement faite avant la découpe, la plaque transparente protège la puce contre les poussières issues de la découpe, ce qui n'est pas le cas lorsque le collage n'est fait qu'après la découpe. Mais une technique de fabrication collective se heurte a priori à une difficulté : si on colle une plaque de verre sur la tranche, cette plaque de verre vient recouvrir la totalité des puces, c'est-à-dire non seulement la matrice photosensible et ses circuits périphériques, mais aussi les plots de contact, ce qui rend difficile l'accès à ces derniers. Des techniques de fabrication collective permettant de résoudre cette difficulté ont déjà été imaginées. Ainsi, le brevet US 6 040 235 propose une technique consistant à faire, après collage de la plaque transparente, une tranchée à flancs obliques venant couper les plots, puis un dépôt métallique dans cette tranchée, en contact avec la partie coupée des plots; ce dépôt dans la tranchée remonte sur la face supérieure de la plaque pour y constituer de nouveaux plots; ces derniers sont accessibles. Cette technique est complexe, elle utilise des étapes de procédé non classiques en microélectronique et l'établissement de contacts à l'intérieur de la tranchée n'est pas facile. Une autre technique consiste à faire en sorte que les plots de contact soient situés sur la face arrière de la puce tout en étant reliés, à travers l'épaisseur de la tranche semiconductrice, aux circuits formés sur la face avant de celle-ci; cette technique a été utilisée notamment pour des capteurs d'image à substrat semiconducteur aminci; mais le passage de contacts de la face avant du substrat (face sur laquelle sont établis tous les éléments du circuit intégré) à la face arrière est difficile et oblige d'une part à des gravures profondes et d'autre part à des traitements de dépôts et gravure sur les deux faces du substrat, ce qui n'est pas souhaitable. II existe donc un besoin pour une fabrication collective plus simple de puces à partir d'une tranche, qui permette de coller collectivement une plaque sur la face avant de la tranche, en autorisant cependant un accès électrique à des contacts du capteur par la face avant de ce dernier après division de la tranche en multiples puces. 1 o En résumé, on propose selon l'invention un procédé de fabrication collective de structures individuelles comportant chacune un premier élément et un second élément superposés; les premiers éléments sont préparés sur une première structure collective; les deuxièmes éléments sont préparés sur une deuxième structure collective; les structures collectives sont collées l'une contre l'autre sur la majeure partie de leurs surfaces en regard, mais leurs surfaces ont été préalablement préparées de manière à définir des zones limitées où il n'y aura pas d'adhérence; les structures individuelles sont ensuite découpées par le haut d'une part et par le bas d'autre part selon des lignes de découpe parallèles différentes, passant dans les zones sans adhérence, de manière qu'après découpe les premiers éléments conservent des portions de surface (celles situées entre les lignes de découpe parallèle) non recouvertes par un second élément. Plus précisément, on propose selon l'invention un procédé de fabrication collective de structures à deux éléments superposés collés l'un à l'autre, à partir de deux plaques dont l'une comprend un réseau de premiers éléments sur lesquels doivent être collés des deuxièmes éléments appartenant à la deuxième plaque, le procédé comprenant les opérations suivantes: - collage de la face inférieure de la deuxième plaque sur la face supérieure de la première plaque, sur la majeure partie de leurs surfaces respectives, en excluant du collage des zones dites chemins de découpe; - découpe des plaques en structures individuelles à deux éléments superposés comprenant un élément de plaque inférieur et un élément de plaque supérieur, les opérations de découpe comportant au moins une découpe d'un élément de la deuxième plaque par le côté de sa face supérieure selon une première ligne de découpe passant dans un chemin de découpe, et une découpe d'un élément de la première plaque, situé sous l'élément de la deuxième plaque, par le côté de sa face inférieure selon une deuxième ligne de découpe passant dans le même chemin de découpe mais non superposée à la première ligne de découpe, de sorte qu'une partie de l'élément de plaque inférieur, située entre les deux lignes de découpe, ne soit pas recouverte par l'élément de plaque supérieur qui est collé sur le premier élément. Les appellations plaque supérieure et plaque inférieure ou face supérieure et face inférieure n'impliquent pas de fonctionnalité particulière de ces plaques ou de ces faces, ces dernières pouvant être actives ou passives. L'élément de plaque inférieur peut alors comporter, sur sa face supérieure et dans cette partie non recouverte, un contact électrique d'accès à la structure (ou plusieurs contacts), l'écartement latéral entre les deux lignes de découpe étant supérieur à la largeur de ce contact (typiquement la largeur d'un plot de contact de circuit intégré est de plusieurs dizaines de micromètres et l'écart latéral entre lignes de découpe peut être d'au moins une centaine de micromètres) ; si l'élément de plaque inférieure est une puce de circuit intégré, le contact est sur la face avant de la puce, c'est-à-dire la face à partir de laquelle ont été effectués les dépôts et gravures des circuits électroniques de la puce. Les éléments de la première plaque peuvent être des circuits électroniques intégrés ayant n'importe quelle fonction électronique; la structure à deux éléments superposés est une structure purement électronique ou optoélectronique ou une structure micro-usinée ayant à la fois des fonctions mécaniques et électroniques (MEMS) ou encore des fonctions optiques (MOEMS). Les éléments de la deuxième plaque peuvent être des éléments optiques à associer aux éléments de la première plaque: soit de simples plaquettes de protection transparentes, soit des plaquettes ayant des fonctions plus sophistiquées (filtrage, mosaïques de filtres de couleur, lentilles, réseaux de microlentilles, galettes de fibres optiques, structures scintillatrices avec ou sans galette de fibres pour l'imagerie à rayons X, etc;). Dans le cas de la fabrication d'un capteur d'image ou d'un 35 afficheur d'image comprenant une puce de circuit intégré recouverte d'une structure optique individuelle, on comprend que le premier élément est la puce de capteur ou d'afficheur, la première plaque est une tranche semiconductrice sur laquelle on a formé un réseau de puces identiques disposées en lignes et en colonnes; la deuxième plaque peut être une simple plaque transparente; elle ne comporte pas nécessairement de motifs gravés; ou bien la deuxième plaque peut, comme on le verra plus loin, comporter des motifs individuels gravés disposés avec la même périodicité en ligne et en colonne que les puces de la tranche semiconductrice. Typiquement, les chemins de découpe ont une largeur de quelques centaines de micromètres, pour des plots de quelques dizaines de micromètres de large; les puces ont plusieurs millimètres de côté, typiquement cinq à dix. Le collage peut être un collage avec apport de matière de collage (colle, brasure) ou un collage sans apport de matière; notamment il est très intéressant d'utiliser un collage direct, par simple adhérence moléculaire entre deux surfaces très planes, propres et de faible rugosité : si les surfaces sont très planes et assez étendues, la force d'adhérence entre les plaques est très élevée, surtout après une opération de recuit. Les zones non collées sont définies simplement dans ce cas par des renfoncements sur la surface de l'une des plaques (ou les deux) ; les surfaces de la première et de la deuxième plaque sont en contact presque partout mais ne sont pas en contact dans les renfoncements de sorte que l'adhérence entre les plaques se produit partout sauf dans les zones comportant les renfoncements. Le collage peut se faire aussi par soudure thermique, soudure anodique, fusion, etc. La découpe le long des chemins de découpe se fait en principe par une scie mécanique, mais on peut envisager aussi des découpes par laser, par gravure chimique, par gravure par plasma, par électro-érosion, etc. La découpe de la première plaque se fait en principe, pour chaque chemin de découpe, selon une seule ligne de découpe fine passant dans le chemin de découpe entre deux rangées de puces. La largeur de la ligne de découpe, c'est-à-dire la largeur de la lame de scie si c'est une scie qui fait la découpe, est faible, typiquement d'environ 30 à 50 micromètres de large. Mais sur la deuxième plaque plusieurs possibilités existent: - découpe selon une seule ligne de découpe fine passant dans le chemin de découpe entre deux rangées de puces, cette ligne étant parallèle à (mais ne se superposant pas à) la ligne de découpe de la première plaque; - ou bien découpe selon deux lignes de découpe fines parallèles passant dans le chemin de découpe entre deux rangées de puces, ces lignes étant parallèles à la ligne de découpe de la première plaque mais l'une au moins ne se superposant pas à cette dernière; dans ce deuxième cas, la partie située entre les deux lignes de découpe de la deuxième plaque est un déchet qui est enlevé et qui ne fait pas partie de la structure finale à deux éléments superposés; - ou bien encore découpe de la deuxième plaque selon une largeur de trait plus importante que la largeur de la ligne de découpe fine de la première plaque; dans ce cas on considère que ce trait comporte selon l'invention au moins un bord qui est décalé latéralement par rapport à la ligne de découpe de la première plaque, et c'est ce bord qui constitue la ligne de découpe de deuxième plaque non superposée à la ligne de découpe de la première plaque; là encore, après découpe, l'élément de la première plaque comporte une partie non recouverte par l'élément de deuxième plaque qui est collé sur lui; cette partie non recouverte contient au moins un plot de connexion extérieure. D'autres caractéristiques de l'invention apparaîtront à la lecture de 25 la description détaillée qui suit et qui est faite en référence aux dessins annexés dans lesquels: - la figure 1 représente une tranche de silicium vue de dessus dans deux configurations de plots de contact des puces individuelles de la tranche; - la figure 2 représente la tranche de silicium en coupe, en vue agrandie; - la figure 3 représente l'ensemble superposé de la tranche et d'une plaque de verre transparente collée par adhérence moléculaire; - la figure 4 représente les lignes de découpe supérieures et inférieures de l'ensemble superposé ; - la figure 5 représente les structures superposées individuelles résultant de la découpe; - la figure 6 représente le montage d'une structure sur un boîtier avec une connexion électrique entre la structure et le boîtier; la figure 7 représente une découpe de la plaque supérieure par un trait de découpe large englobant les plots de contact; - la figure 8 représente les structures superposées individuelles qui en résultent; - la figure 9 représente l'ensemble superposé d'une tranche semiconductrice et d'une plaque de protection, avec les lignes de découpe correspondantes, dans le cas d'une puce électronique ayant des plots de contact sur deux côtés opposés de la puce; - la figure 10 représente les structures individuelles résultant de la découpe de l'ensemble de la figure 7; - la figure 11 représente une découpe avec un trait de découpe large; - la figure 12 représente les deux plaques avec des chemins de découpe définis par des renfoncements dans la plaque supérieure; - la figure 13 représente les deux plaques avec des chemins de découpe définis par des renfoncements ayant deux niveaux de profondeur. L'invention sera décrite de manière détaillée à propos d'un exemple simple qui est un capteur d'image formé par une puce de silicium recouverte d'une plaquette de verre transparente, la plaquette de verre laissant accessible les plots de contact de la puce en vue de permettre des liaisons électriques entre la puce et l'extérieur du capteur. L'invention n'est cependant pas limitée à cet exemple particulier. On part d'une tranche semiconductrice (en principe du silicium monocristallin) sur laquelle on fabrique par des procédés classiques de dépôts et photogravures un réseau de puces identiques, en lignes et en colonnes, correspondant chacune à un capteur d'image respectif. L'indice n est affecté à une puce de rang n du réseau, l'indice n-1 à une puce adjacente d'un côté et l'indice n+1 à une puce adjacente de l'autre côté. Chaque puce Pn possède une zone active ZAn comportant une matrice d'éléments photosensibles et des circuits électroniques associés. A la périphérie de cette zone active et à l'extérieur de celle-ci sont disposés des plots de contact conducteurs PLn, qui seront ultérieurement connectés, après découpage de la tranche en puces individuelles et lors de l'encapsulation de la puce dans un boîtier de protection, à des bornes du boîtier. La connexion entre les plots de contact et les bornes extérieures se fait généralement par des fils d'or ou d'aluminium soudés d'un côté sur les plots de contact et de l'autre sur le boîtier. La distinction qui est faite ici entre zone active et zone contenant des plots de contact n'implique pas bien entendu qu'il n'y a aucun élément actif en dehors de la zone active. Cette distinction est faite seulement pour distinguer une zone qui contient des plots de connexion extérieure d'une zone qui n'en contient pas, la zone qui contient des plots étant située à la périphérie de la zone qui n'en contient pas. Les plots de contact peuvent être disposés sur un ou plusieurs côtés de la puce. Sur la figure 1A, les plots sont disposés seulement sur deux côtés adjacents de la puce, mais pas sur deux côtés opposés. Sur la figure 1 B, les plots sont disposés au moins sur deux côtés opposés de la puce, de sorte que des plots PL1 n de la puce Pn sont en vis-à-vis de plots de la puce Pn_1 le long d'un côté qui sépare la puce Pn de la puce Pn_1, et de la même manière, sur le côté opposé, des plots PL2n de la puce Pn sont en vis-à-vis de plots de la puce Pn+i le long d'un côté qui sépare la puce Pn de la puce Pn+1; à titre d'exemple, on a représenté sur la figure 1 b des plots sur trois côtés de la puce. Le procédé de fabrication dépend de la disposition des plots comme on va le voir. La figure 2 représente en vue agrandie une coupe de la tranche de silicium 10 avec des puces juxtaposées ayant des plots sur un seul côté ou sur deux côtés adjacents mais pas sur deux côtés opposés. Comme à la figure 1, les puces adjacentes sont désignées par Pn-1, Pn, Pn+i et la zone active de la puce Pn est désignée par ZAn; un plot de contact PLn, situé en dehors de la zone active, est représenté schématiquement. Le détail des motifs de la zone active n'est bien sûr pas représenté ; ces motifs peuvent contenir des centaines de milliers d'éléments de circuit, réalisés essentiellement par des opérations classiques de dépôts de couches isolantes, semiconductrices et conductrices sur la face avant de la tranche (face supérieure située au-dessus sur la figure 2), et photogravures de ces couches. Pour simplifier la représentation, les circuits de chaque zone active sont schématisés sur la figure 2 par un rectangle 50 respectif. Après fabrication des capteurs, on peut effectuer ce qu'on appelle une planarisation de la surface de la tranche. En effet, les opérations de dépôts et gravures de couches diverses, conductrices, isolantes ou semiconductrices, ont créé un relief sur la tranche (non visible sur la figure 2) et ce relief est de préférence éliminé autant que possible pour aboutir à une surface de tranche aussi plane que possible sur la majeure partie de sa surface; l'opération de planarisation consiste en pratique essentiellement à recouvrir la tranche d'une couche de protection 30 (en général en silice) de quelques micromètres d'épaisseur qui comble les creux du relief, puis à graver uniformément cette couche pour en laisser seulement une épaisseur désirée, choisie pour assurer une protection suffisante du capteur contre les agressions de l'environnement extérieur. Une planarisation n'est pas obligatoire, mais on déposera en général une couche isolante telle que 30 sur la surface de la tranche, et dans ce qui suit on appellera cette couche "couche de planarisation". De manière classique, avant ou après l'opération de planarisation, des ouvertures sont pratiquées dans la couche 30 pour dénuder au moins le centre des plots de contact et les rendre ainsi accessibles pour une soudure ultérieure de fil conducteur. Cependant, dans la réalisation ici décrite, on va pratiquer des ouvertures plus larges, englobant les plots de contact mais aussi des zones adjacentes aux plots de contact. Plus précisément, ces ouvertures s'étendent sur toute la largeur de zones qu'on appellera "chemins de découpe", occupant l'espace séparant la zone active ZA,, d'une puce Pr, et la zone active ZAn_1ou ZAr,+1 d'une puce adjacente. Le chemin de découpe entre les puces Pn_1 et Pn est désigné par ZDn. Les lignes pointillées de la figure 2 représentent des lignes de découpe LDn, LDn+1, LDn+2 selon lesquels la tranche est découpée pour être divisée en puces individuelles. L'épaisseur des traits de découpe est considérée comme négligeable sur la figure 2; en pratique ils font environ 30 à 50 micromètres de large. Les lignes de découpe LDn passent à l'intérieur des chemins de découpe ZDn, entre les plots PLn d'une puce Pn et la zone active de la puce adjacente PLn_1. II faut imaginer ces lignes de découpe comme la lame filaire d'une scie verticale qui se déplacerait en avançant le long d'un chemin de découpe; les chemins de découpe sont en pratique des bandes perpendiculaires situées entre les rangées et entre les colonnes de puces d'un réseau régulier. La couche de planarisation est enlevée complètement dans les 5 chemins de découpe. La tranche fabriquée au stade de la figure 2 comporte donc des puces, des plots, des zones actives, et des chemins de découpe situés entre les zones actives de puces adjacentes. Les zones actives sont recouvertes d'une couche de protection plane; les chemins de découpe englobent les 1 o plots et sont dénudés par enlèvement local de la couche de planarisation 30 pour mettre à nu les plots; les plans de la découpe ultérieure passeront à l'intérieur des chemins de découpe, entre les plots d'une puce et les zones actives d'une puce adjacente. La figure 3 représente l'étape suivante de la fabrication. Pour protéger la puce ou pour assurer une autre fonction optique, on recouvre la tranche d'une plaque qui correspond à cette fonction de protection ou cette fonction optique. Dans cet exemple, il s'agit simplement d'une plaque de verre transparente 40 d'épaisseur uniforme, mais on comprend que la plaque peut être préparée avec un motif de fonctions (optiques par exemple) en correspondance avec le motif de puces préparé sur la tranche semiconductrice. L'épaisseur de la plaque est par exemple de l'ordre de 1 mm. La surface inférieure de la plaque de verre 40 et la surface supérieure de la tranche 10 sont extrêmement planes et elles peuvent être collées directement l'une à l'autre par adhérence moléculaire. Le collage par adhérence moléculaire est avantageux en ce qu'il ne nécessite pas d'apport de matière de collage risquant de déborder dans les chemins de découpe et surtout sur les plots, et ne supportant pas des températures supérieures à 2000C. L'adhérence se produit sur la presque totalité de ces surfaces, mais il n'y a pas adhérence dans les chemins de découpe ZD du fait que ceux-ci, étant renfoncés par rapport à la surface de la couche de planarisation 30, ne sont pas en contact avec la plaque. On notera à ce stade que l'on peut aussi prévoir des renfoncements sur la plaque de verre plutôt que sur la tranche de silicium, dans les mêmes zones qui sont les chemins de découpe, et obtenir le même résultat d'absence d'adhérence dans ces zones; toutefois cela nécessite ensuite d'aligner exactement les chemins de découpe gravés dans la plaque de verre avec les puces à découper sur la tranche et cette solution n'évite pas la gravure de la couche de planarisation puisqu'il faut de toutes façons dénuder les plots de contact. La figure 4 représente les lignes de découpe de la structure collée ainsi formée. II y a deux lignes de découpe dans chaque zone de découpe ZDn, la ligne de découpe déjà mentionnée LDn de la tranche semiconductrice inférieure et une ligne de découpe LHn de la plaque supérieure. Ces lignes sont toutes deux dans le chemin de découpe mais décalées latéralement l'une par rapport à l'autre. La ligne de découpe LDn de la tranche 10 passe comme on l'a dit entre la zone active ZAn_1 de la puce Pn_1 et les plots PLn de la puce Pn; la ligne de découpe LHn de la plaque supérieure 40 passe entre le plot PLn et la zone active ZAn de la même puce Pn. L'écart entre les lignes est supérieur à la largeur d'un plot de contact. La découpe selon la ligne de découpe LHn se fait à partir de la face supérieure de la plaque supérieure; la découpe selon la ligne LDn se fait à partir de la face inférieure de la plaque inférieure. La figure 5 représente les structures superposées d'une puce (élément de plaque inférieur) et d'une plaquette de verre (élément de plaque supérieur) qui résultent de cette double découpe. La plaquette transparente recouvre l'essentiel de la surface supérieure de la puce et adhère fortement à toute cette surface sauf dans la partie qui correspondait au chemin de découpe. Les plots PLn sont complètement accessibles, n'étant recouverts ni par la plaquette de verre 40 ni par lacouche de planarisation 30. Du côté de la puce qui ne comporte pas les plots PLn ( côté droit de la puce sur la figure 5), la plaquette de verre déborde de la puce. La figure 6 représente le montage de la puce, protégée par sa plaquette transparente, sur une embase 60 de boîtier d'encapsulation. La puce est collée par sa face inférieure à l'embase (en général sur une surface conductrice prévue sur l'embase), et des fils conducteurs 62 sont soudés selon la technique classique dite "wire-bonding" entre les plots PLn de la puce et des plots correspondants 64 aménagés sur l'embase, ces derniers plots étant en principe reliés à des broches de connexion extérieure du composant ainsi réalisé. Dans l'exemple des figures 4 à 6, on a considéré que les lignes de découpe étaient obtenues par une scie (ou un autre instrument de découpe) aboutissant à une largeur de découpe très fine (inférieure à 50 micromètres) et en tous cas plus petite que la largeur des plots de contact qu'on veut laisser apparents sur l'élément de plaque inférieure. A la figure 7, on a représenté une autre manière de procéder, qui consiste à utiliser une lame de scie (ou un autre instrument de découpe) de largeur plus importante, à peu près égale à la largeur de la partie qu'on veut laisser découverte sur l'élément de plaque inférieure. La figure 7 représente l'amorce de découpe résultant de l'utilisation d'un trait de découpe large. La ligne de découpe fine LDn de la plaque inférieure n'est pas modifiée. La bande large de découpe, BHn de la plaque supérieure, comporte d'un côté un bord qui est constitué par la même ligne de découpe LHn que dans le cas de la figure 4 et qui est décalé latéralement par rapport à la ligne LDn, et de l'autre un bord LH'n qui est ou qui n'est pas décalé par rapport à la ligne LDn. Dans ce cas, la bande de découpe BHn entre les lignes de découpe LHn et LH'n recouvre les plots de contact qui doivent rester non recouverts par l'élément de plaque supérieur. L'avantage de cette solution est qu'après découpe, le côté du composant qui ne comporte pas de plots apparents ne comporte pas de partie de deuxième plaque en surplomb au-dessus de la première plaque. Cependant, on notera qu'on peut parfois préférer avoir un surplomb dans le cas où on souhaite prendre un contact également sur la face inférieure de la plaque supérieure (sous le surplomb). La figure 8 représente le composant qui en résulte après découpe 25 lorsque la ligne LH'n est superposée à la ligne LDn. La figure 9 représente la tranche et la plaque superposées dans le cas où la puce comporte des plots sur deux côtés opposés, conformément à la représentation de la figure 1 b; les plots sont désignés par PL1 n pour le côté gauche de la puce Pn et par PL2n pour le côté droit. Dans ce cas, le chemin de découpe ZDn entre la puce Pn et la puce Pn_1, qui s'étend encore dans tout l'espace séparant la zone active de la première puce et la zone active de la deuxième puce, s'étend à la fois au-dessus de plots PL2n_1 de la puce Pn_1 et au-dessus de plots PL1 n de la puce adjacente Pn_1. La ligne de découpe LDn de la tranche entre les puces Pn et Pn_1 passe dans le chemin de découpe ZDn entre le plot PL2n_1 de la puce Pn_1 et le plot PL1 n de la puce Pn. Pour définir la découpe de la plaque supérieure 40, il y a cette fois deux lignes de découpe parallèles et distinctes, respectivement une ligne LH1 n et une ligne LH2n. La première passe dans le chemin de découpe entre la zone active ZAn de la puce Pn et un plot PL1 n de cette même puce; la deuxième s'étend dans le même chemin de découpe ZDn entre le plot PL2n_i de la puce Pn_1 et la zone active ZAn_1 de la même puce. Les lignes de découpe LH1, et LH2n ne sont ni l'une ni l'autre superposées aux lignes de découpe LDn ou LDn+1 de la plaque inférieure. Comme dans les explications relatives aux figures 3 et 4, le chemin de découpe est formé à la suite de l'opération de planarisation, par enlèvement local de la couche de planarisation 30 dans tout le chemin de découpe, ce qui d'une part crée un renfoncement de la surface de la tranche dans tout le chemin, et d'autre part dénude les plots de contact. Lors du collage par adhérence moléculaire, la quasi-totalité de la plaque adhère fortement à la tranche; dans les chemins de découpe il n'y a pas d'adhérence entre la plaque et la tranche. Lorsque la tranche est découpée le long des chemins de découpe, en principe d'abord par le haut puis par le bas, la double découpe du haut engendre un déchet qui est la partie de plaque située entre les deux lignes de découpe LH1 et LH2 du même chemin de découpe. La figure 10 représente les structures à deux éléments après l'opération de découpe. La plaquette de verre qui recouvre chaque puce ne recouvre pas les plots de contact, ni d'un côté ni de l'autre et elle ne déborde de la puce ni à droite ni à gauche; le déchet ou résidu Rn constitué par la portion de plaque de verre située entre les lignes de découpe LH2n_1 et LH1n est évacué lors d'une opération de nettoyage après découpe. Le déchet de verre n'adhère pas à la tranche semiconductrice puisqu'il provient entièrement de la zone située entre les deux lignes de découpe qui sont elles-mêmes entièrement situées dans le chemin de découpe non adhérent. Si la puce comporte des plots sur trois côtés seulement (cas de la figure 1 b), on comprendra que la découpe sera faite conformément à la figure 4 pour les chemins de découpe en colonne et conformément à la figure 9 pour les chemins de découpe en ligne. Sur trois côtés, la plaquette ne déborde pas de la puce afin de laisser les plots accessibles; sur le quatrième côté, elle peut déborder. Si la puce comporte des plots sur quatre côtés, la découpe sera faite conformément à la figure 9 pour les directions de découpe en ligne et pour les directions de découpe en colonne, et la plaquette ne débordera de la puce sur aucun des quatre côtés. Lorsqu'il n'y a pas de plots sur l'un de deux côtés opposés (cas de la figure la et des figures 3 à 5), on peut souhaiter cependant que la plaquette de verre ne déborde pas de la puce contrairement à ce qui o apparaît sur la figure 5. Dans ce cas, il suffit d'adopter une découpe de même type qu'aux figures 9 et 10, c'est-à-dire une double découpe de la plaque de verre dans le même chemin de découpe, laissant un résidu Rn. Par rapport à la figure 4, une deuxième ligne de découpe de la plaque de verre est prévue, analogue à la ligne de découpe LH2 _1 de la figure 9 mais de préférence superposée à la ligne de découpe LDn, ce qui élimine le surplomb. Dans le cas où la puce comporte des plots sur deux côtés opposés, conformément à la figure 9 et à la figure 10, on peut aussi adopter une découpe de la plaque supérieure par un trait de découpe large à la manière de ce qui est fait à la figure 7: dans ce cas, au lieu d'avoir deux lignes de découpe fines voisines LH1 n et LH2n_1, on utilise un seul trait de découpe large dont un bord est constitué par la ligne LH1n et un autre bord est constitué par la ligne LH2n_1. La figure 11 représente l'amorce de découpe qui résulte du sciage selon un trait de découpe large. La découpe enlève la matière au-dessus des plots PL2n_1 et PL1 n simultanément. Le composant qui résulte de cette découpe est le même qu'à la figure 10. D'une manière générale, la découpe se fait au laser ou à la scie. Elle est de préférence linéaire sur toute la tranche, les chemins de découpe étant des bandes longitudinales entre des lignes et des colonnes de puces individuelles. On peut effectuer la découpe d'abord par le haut ou d'abord par le bas. En pratique on peut procéder de la manière suivante: la première découpe est faite par la face supérieure de la plaque transparente 40, sur une profondeur qui correspond à l'épaisseur de la plaque 40 ou légèrement inférieure; puis la découpe est effectuée par la face inférieure de la tranche semiconductrice, sur une profondeur qui correspond à une épaisseur égale ou légèrement inférieure à l'épaisseur de la tranche 10; dans le cas où une partie d'épaisseur non coupée subsiste sur la plaque ou sur la tranche, on termine la séparation en cassant la plaque et la tranche le long des lignes de découpe pour former des puces individuelles. Dans ce qui précède on a considéré que le collage de la plaque et de la tranche se faisait par adhésion moléculaire car c'est la manière préférée de faire le coulage; en effet, d'une part l'adhérence est forte du fait de la grande planéité des surfaces et du fait que la quasi- totalité des surfaces en regard sont en contact direct, seuls des chemins de découpe o étroits étant hors de contact direct; et d'autre part le procédé est extrêmement propre puisque aucune matière de collage ne risque de polluer la surface de la tranche semiconductrice. La mise en contact des plaques est en général suivie d'un irecuit qui complète l'adhérence. On peut cependant dans certains cas envisager un collage avec de la colle. Dans ce cas, il est préférable que la face inférieure de la plaque de verre, destinée à venir en contact avec la tranche semiconductrice, soit gravée pour ménager un réseau de zones renfoncées au-dessus des chemins de découpe. Ces zones renfoncées permettent de mieux délimiter les zones où la colle viendra se mettre afin d'éviter toute présence de colle sur les plots de contact et plus généralement dans les chemins de découpe. La figure 12 représente la constitution de la plaque et de la tranche collées avant découpe. Les zones renfoncées gravées sur la plaque de verre avant collage sont désignées par 70. La colle peut être sérigraphiée sur la face inférieure de la plaque de verre, en dehors des renfoncements. Les renfoncements 70 peuvent avoir une profondeur de 10 micromètres par exemple. Si de tels renfoncements sont présents, ce seront en pratique eux qui définiront les chemins de découpe; les ouvertures de la couche de planarisation peuvent se limiter alors à la surface des plots, ou même une partie seulement de cette surface comme on le voit à la figure 12. Lors de l'opération de découpe de la plaque 40, il faut faire attention que le laser ou la scie n'endommage pas la surface de la puce puisque la ligne de découpe se situe au-dessus d'une partie active de la puce. C'est pourquoi, même si le collage est fait par adhésion moléculaire, il est préférable de ménager dans la plaque des renfoncements importants (comme sur la figure 12 mais par exemple de plusieurs dizaines de micromètres de profondeur) au-dessus des chemins de découpe. La profondeur de coupe peut alors être réglée de manière qu'il n'y ait aucun risque que l'outil de coupe atteigne la tranche semiconductrice. Ceci est particulièrement utile lorsqu'on utilise une découpe avec un trait de découpe large comme aux figures 7 et 11. II est possible aussi de combiner des renfoncements peu profonds ayant pour but d'éviter une adhérence dans les chemins de découpe et des renfoncements plus profonds dans la plaque 40, ayant pour but d'éviter l'endommagement de la surface supérieure de la tranche 10 par l'outil de coupe; les renfoncements plus profonds 80 sont alors localisés à l'endroit des lignes de découpe de la plaque de verre 40. La figure 13 représente un exemple de configuration de la plaque de verre avec des renfoncements à double profondeur dans les chemins de découpe. S'il y a deux lignes de découpe dans la plaque 40 dans le même chemin de découpe, il y a deux renfoncements profonds. La profondeur peut-être de plusieurs dizaines de micromètres. Les renfoncements sont faits par photolithogravure ou par usinage mécanique ou usinage par laser, selon la profondeur désirée. Lors de la mise en place de la plaque supérieure sur la plaque inférieure, on aligne les plaques de manière que les renfoncements soient correctement localisés par rapport aux chemins de découpe. L'alignement est particulièrement simple dans le cas où la plaque supérieure est transparente. On a ainsi décrit l'invention plus en détail dans le cas de la protection d'un capteur d'image par une plaquette de verre transparente. L'invention est applicable aussi à toutes sortes d'autres structures à deux éléments superposés. La plaque supérieure 40 pourrait être une plaque du même matériau que la tranche 10 dans des applications où la transparence de la plaque à la lumière visible n'est pas un paramètre décisif mais où il serait important que les coefficients de dilatation soient les mêmes et où il serait important aussi que les traitements effectués sur la plaque supérieure soient de même nature que ceux qui sont faits sur la plaque inférieure. La plaquette peut aussi être une plaquette de fibres optiques. Dans le cas de la radiologie, l'élément de structure supérieur peut comporter une structure scintillatrice convertissant les rayons X en une image lumineuse détectable par le capteur d'image (élément de structure inférieur). Cette structure scintillatrice peut être associée à une galette de fibres optiques juxtaposées, orientées perpendiculairement à la surface du capteur; cette galette est alors recouverte d'une couche de matériau scintillateur. La plaque de verre peut être remplacée par une plaque de silice fondue, ou d'autres matériaux dépendant de l'application envisagée. Des matériaux piézoélectriques peuvent par exemple être prévus pour des applications piézoélectriques. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication collective de structures à deux éléments superposés collés l'un à l'autre, à partir de deux plaques (10, 40) dont l'une comprend un réseau de premiers éléments sur lesquels doivent être collés des deuxièmes éléments appartenant à la deuxième plaque, le procédé comprenant les opérations suivantes: - collage de la face inférieure de la deuxième plaque (40) sur la face supérieure de la première plaque (10), sur la majeure partie de leurs surfaces respectives, en excluant du collage des zones dites chemins de découpe (ZDn) ; - découpe des plaques en structures individuelles à deux éléments superposés comprenant un élément de plaque inférieur et un élément de plaque supérieur, les opérations de découpe comprenant au moins une découpe d'un élément de la deuxième plaque (40) par le côté de sa face supérieure selon une première ligne de découpe (LHn; LH1 n) passant le long d'un chemin de découpe (ZDn), et une découpe de l'élément de la première plaque (10), situé sous l'élément de la deuxième plaque, par le côté de sa face inférieure selon une deuxième ligne de découpe (LDn) passant le long du même chemin de découpe mais non superposée à la première ligne de découpe, de sorte qu'une partie de l'élément de plaque inférieur, située entre les deux lignes de découpe, ne soit pas recouverte par l'élément de plaque supérieur. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les opérations de découpe comportent une découpe de la deuxième plaque par sa face supérieure selon une troisième ligne de découpe (LH2n_1) passant dans le même chemin de découpe (ZDn) et non superposée à la première et à la deuxième lignes de découpe, la partie située entre les première et troisième lignes de découpe constituant un déchet (Rn) ne faisant pas partie des structures superposées à deux éléments résultant du découpage des plaques. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la découpe de la deuxième plaque est effectuée avec une largeur de trait de découpe plus grande que la largeur de découpe de la première plaque, un bord du trait de découpe plus large constituant la ligne de découpe de la deuxième plaque, non superposée à la ligne de découpe de la première plaque. 4. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'élément de plaque inférieur est une puce de circuit intégré, et la partie de l'élément de plaque inférieur non recouverte par l'élément de plaque supérieur comprend au moins un contact électrique (PL ) d'accès à des circuits électroniques formés sur la puce, ce contact étant situé sur la face supérieure de l'élément de plaque inférieur. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que les circuits électroniques formés sur la puce sont situés sur la face supérieure de 15 la première plaque. 6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le collage des plaques l'une sur l'autre est un collage direct, notamment un collage par adhérence moléculaire entre la face supérieure plane de la première plaque et la face inférieure plane de la deuxième plaque, des renfoncements étant prévus localement dans les surfaces en regard pour empêcher localement l'adhérence et constituer ainsi les chemins de découpe. 7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le collage est un collage avec apport de matière de collage, telle que de la colle ou de la brasure, et des moyens, notamment des renfoncements dans une face d'une plaque, sont prévus pour empêcher la matière de collage de pénétrer dans les chemins de découpe. 8. Procédé selon l'une des revendications 6 et 7, caractérisé en ce que les renfoncements sont formés par enlèvement local d'une couche de planarisation (30) formée sur la face supérieure de la plaque inférieure. 9. Procédé selon l'une des revendications 6 à 8, caractérisé en ce que des renfoncements sont formés dans la face inférieure de la plaque supérieure. 10. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que la deuxième plaque (40) comprend des renfoncements (80) au niveau de la première ligne de découpe (LHn) pour diminuer la profondeur de coupe nécessaire pour découper la deuxième plaque et ainsi empêcher que l'outil de coupe n'endommage la surface supérieure de la première plaque. 11. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'élément de plaque supérieur est un élément de protection de l'élément de plaque inférieur. 12. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la plaque supérieure est une plaque transparente, notamment une plaque de verre ou de silice fondue. 13. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la plaque supérieure comporte un réseau d'éléments optiques individuels, chaque élément optique correspondant à une puce de circuit intégré respective formée dans la plaque inférieure. 14. Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que l'élément de plaque inférieur est un capteur d'image ou un afficheur d'image et l'élément de plaque supérieur est une structure optique associée à ce capteur. 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la structure à deux éléments superposés est un capteur d'image radiologique, l'élément de plaque supérieur comportant une galette de fibres et/ou une structure scintillatrice convertissant les rayons X en une image lumineuse détectable par le capteur d'image. 16. Procédé selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les structures à deux éléments superposés sont des structures micro-usinées de type MEMS ou MOEMS combinant des fonctions électroniques et des fonctions mécaniques et/ou optiques.