FR 2878863 A1 20060609 FR 0413025 A 20041207 DISPOSITIF DE DÉPâT SOUS VIDE À RÉSERVOIR DE RECHARGE ET PROCÉDÉ DE DEPâT SOUS VIDE CORRESPONDANT. La présente invention se rapporte au domaine du dépôt sous vide. Elle concerne plus particulièrement le dépôt sous vide de films minces de matériau organique, par exemple pour la fabrication de diodes électroluminescentes à base de matériaux organiques (OLED). La structure d'une cellule élémentaire d'un dispositif OLED est constituée d'un empilement de couches organiques très fines en sandwich entre une anode transparente et une cathode métallique. La fabrication de ces couches organiques se fait par évaporation du ou des matériaux constituant les couches et dépôt sous vide. Un des problèmes que pose ce procédé de fabrication est celui de l'introduction dans une enceinte sous vide contenant le substrat à traiter du matériau organique évaporé. Un appareil connu utilisé pour mettre en uvre ce procédé, décrit par exemple dans le brevet US4553022, comprend une cellule d'effusion thermique constituée d'un creuset qui contient le matériau organique à évaporer et un four permettant le chauffage du creuset. Cette cellule d'effusion thermique peut être introduite dans l'enceinte. Le matériau contenu dans le creuset est alors chauffé à une température donnée à laquelle le matériau évaporé s'échappe par l'orifice du creuset vers la surface du substrat où il se dépose pour former un film mince. Pour interrompre l'opération de dépôt du film mince, on interpose entre le creuset et le substrat un cache qui fait obstacle au flux de vapeur. Le matériau va alors se déposer sur la surface du cache ou sur les parois intérieures de l'enceinte et n'est par conséquent plus utilisable. Par ailleurs, le four de chauffage du creuset se trouve en regard du substrat dans l'enceinte à vide et la chaleur qu'il émet risque d'endommager le film mince déposé. Finalement, il faut ouvrir l'enceinte pour recharger le creuset et par conséquent remettre cette enceinte à l'air. 1l faut faire de même pour intervenir sur le four qui se trouve dans l'enceinte. 1l existe dans le domaine technique de l'épitaxie par jet moléculaire (MBE) des brevets, tels US5080870 ou US5156815, qui décrivent un appareil dans lequel l'enceinte principale contenant le substrat communique avec une enceinte secondaire adaptée à recevoir un réservoir contenant le matériau à évaporer. Un tube d'injection peut être ouvert ou fermé par une vanne. L'enceinte secondaire et le réservoir sont chacun pourvus de couvercles étanches respectifs permettant une fermeture hermétique. L'enceinte secondaire et l'enceinte principale sont raccordées par une bride étanche. Un dispositif de chauffage entoure le réservoir mais également le tube d'injection. Un tel appareil permet de contrôler le flux de vapeur au moyen de la vanne disposée entre le réservoir et l'enceinte principale. Toutefois, là encore, le réservoir ne peut être rechargé qu'après ouverture du couvercle étanche de l'enceinte secondaire, ce qui fait que l'ensemble enceinte secondaire/enceinte principale se trouve mis à l'air. La présente invention entend remédier aux inconvénients de l'art antérieur en proposant un dispositif et un procédé permettant de produire des vapeurs sous vide de matériaux organiques dans lequel un réservoir de produit peut être facilement rechargé. A cet effet elle propose un dispositif de dépôt sous vide comprenant une enceinte adaptée à recevoir un substrat à traiter et à être mise sous vide et au moins un injecteur pour générer un jet moléculaire de vapeur d'un matériau organique, la distribution spatiale dudit jet moléculaire étant adaptée à la projection de ladite vapeur sur la surface dudit substrat, caractérisé en ce que ledit injecteur comprend un conduit traversant une paroi de ladite enceinte, ledit conduit comprenant une première extrémité qui s'étend à l'intérieur de ladite enceinte et dont les caractéristiques géométriques sont adaptées à la génération d'un jet moléculaire et une seconde extrémité qui s'étend à l'extérieur de ladite enceinte et qui est adaptée à être raccordée hermétiquement, de manière détachable, à un réservoir amovible contenant ledit matériau organique, un four intervenant au niveau de l'emplacement dudit réservoir amovible pour mettre ledit matériau organique à une température de génération d'un jet moléculaire, ledit conduit comprenant entre lesdites extrémités une vanne permettant sa fermeture hermétique. Ce dispositif permet une recharge en matériaux organiques s'effectuant depuis l'extérieur de l'enceinte à vide, l'opération de recharge n'obligeant pas à mettre l'enceinte à vide à l'air. La capacité en matériaux organiques peut être ajustée quelle que soit la taille de la chambre. La charge est facilement séparable de l'enceinte à vide. Le four de chauffage peut être placé loin du substrat, dans une partie du dispositif qui n'est pas soumise au vide. En agissant sur la vanne, l'opération de dépôt peut être arrêtée, les vapeurs restant confinées à l'extérieur de l'enceinte à vide de sorte qu'il n'y a pas de perte. La température de chauffage peut être maintenue entre deux opérations de dépôt. Selon un autre aspect de la présente invention, ledit conduit dudit injecteur est pourvu d'un dispositif de chauffage adapté à empêcher le dépôt du matériau organique sur ledit conduit. Selon un autre aspect de la présente invention, ladite vanne est pourvue d'un dispositif de chauffage adapté à empêcher le dépôt du matériau organique sur ladite vanne. Avantageusement, ledit réservoir amovible a une forme de bouteille avec un corps cylindrique et un goulot dont l'extrémité est adaptée à être introduite dans l'extrémité extérieure dudit conduit dudit injecteur. Avantageusement, ledit réservoir amovible comprend, à l'intérieur de son corps cylindrique, une pluralité d'ailettes métalliques s'étendant radialement entre la paroi dudit réservoir et un tube central s'étendant sur toute la hauteur dudit corps cylindrique. Un tel dispositif permet d'améliorer la transmission de la chaleur vers l'intérieur du réservoir, de manière à éviter l'accumulation du produit dans la zone centrale du réservoir. Selon un autre mode de réalisation de la présente invention, ledit réservoir amovible a un corps cylindrique de section annulaire. De la sorte, un dispositif de chauffage peut être introduit axialement par le fond dudit réservoir. C'est une autre manière d'éviter l'accumulation du produit dans la zone centrale du réservoir. Avantageusement, ledit réservoir amovible est pourvu d'une vanne au niveau de son goulot. Selon un autre aspect de la présente invention, ledit conduit dudit injecteur est vertical et il traverse le fond de ladite enceinte à vide, ledit substrat s'étendant horizontalement dans une partie supérieure de ladite enceinte. Avantageusement, ledit four de chauffage chauffe ledit réservoir avec un gradient de température entre la base et le goulot de ce réservoir, de sorte que la température au niveau de la base est inférieure à la température au niveau du goulot. La présente invention concerne également un procédé de dépôt sous vide utilisant un dispositif tel que défini ci-dessus, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes de recharge consistant à : fermer ladite vanne; détacher ledit réservoir dudit injecteur; recharger ledit réservoir; raccorder ledit réservoir audit injecteur; ouvrir progressivement la vanne; chauffer ledit conduit; chauffer ladite vanne; et chauffer ledit réservoir. On comprendra mieux l'invention à l'aide de la description, faite ci-après à titre purement explicatif, d'un mode de réalisation de l'invention, en référence aux figures annexées, où : la figure 1 est une vue schématique d'un dispositif de dépôt sous vide à réservoir de recharge selon l'invention, le dispositif se trouvant dans une position de recharge; la figure 2 est une vue similaire à celle 15 de la figure 1, le dispositif se trouvant dans une position de fonctionnement; la figure 3 est une vue schématique de modes alternatifs de réalisation de réservoirs de recharge pour le dispositif de la figure 1; et la figure 4 est une vue schématique illustrant les différentes étapes de recharge d'un procédé de dépôt sous vide selon la présente invention. Les figures 1 et 2 représentent schématiquement un dispositif pour le dépôt sous vide de films minces. Il peut s'agir de dépôt de matériaux organiques ou de matériaux à forte tension de vapeur que l'on désignera par la suite par le terme de charge. Un tel dispositif servira par exemple pour la fabrication de diodes électroluminescentes à base de matériaux organiques (OLED). La charge est solide dans des conditions normales de température et de pression. Ce dispositif comporte une enceinte 1 adaptée à recevoir un substrat 2 s'étendant horizontalement dans une partie supérieure de l'enceinte 1. Une cellule d'injection 3 est adaptée à injecter dans l'enceinte 1 une charge sous forme d'un jet de vapeur s'étendant sensiblement sous forme d'un cône dont les dimensions sont telles que le substrat 2 forme sensiblement la base de ce cône. La cellule d'injection 3 comprend un injecteur 100 à conduit vertical traversant le fond de ladite enceinte. L'injecteur peut être monté sur ladite enceinte à la faveur d'une ouverture ménagée sur le fond de cette dernière. L'injecteur peut être monté de manière permanente sur l'enceinte ou de manière amovible, afin notamment de permettre son remplacement par un autre injecteur, par exemple pour modifier les caractéristiques d'injection. Le conduit de l'injecteur 100 comprend une première extrémité 110 qui s'étend à l'intérieur de ladite enceinte et une seconde extrémité 120 qui s'étend à l'extérieur de ladite enceinte. Entre ces deux extrémités intervient une vanne 20 adaptée, en position fermée, à fermer hermétiquement le conduit 100. L'extrémité 110 a une forme adaptée à la génération d'un jet moléculaire ayant la forme souhaitée. Cette extrémité peut se terminer par une embouchure en forme de tronc de cône, de diffuseur étendu de type pommeau ou de bec de gaz. L'extrémité 120 se termine par un embout adapté à recevoir le goulot 11 d'un réservoir amovible 10 de charge. L'extrémité 120 s'étendant à l'extérieur est conçue pour être la plus courte possible en fonction des contraintes d'accrochage du réservoir 10. La vanne 20 est constituée d'une ou plusieurs vannes. Cette ou ces vannes sont avantageusement réglables afin de pouvoir modifier la conductance de l'injecteur. Le réservoir amovible 10 de charge a globalement la forme d'une bouteille avec un corps cylindrique 12 et un goulot 11 dont l'extrémité est adaptée à être introduite dans l'embout de l'injecteur. Le goulot est connecté de manière étanche à l'embout de l'injecteur 100 de sorte que, une fois le réservoir installé, le conduit de l'injecteur 100 est isolé de l'atmosphère extérieure. Ce réservoir est fabriqué dans un matériau inerte chimiquement vis- à-vis du matériau organique et pouvant supporter des températures entre - 50 C et + 600 C sans qu'il ne se déforme ou que ses qualités d'étanchéité soient affectées. Ce réservoir 10 peut être réalisé en métal, graphite, verre, quartz, PBN, PG, alumine ou plusieurs de ces matériaux. Avantageusement, le volume utile de ce réservoir peut aller de 1 cm3 à plusieurs litres. Avantageusement, ce réservoir à un diamètre D > 30mm et le rapport de la hauteur et du diamètre est supérieur à deux. Le réservoir peut être équipé, en plus d'un orifice de remplissage, d'une ou plusieurs entrées différentes permettant par exemple l'introduction d'un gaz inerte ou réactif dans la recharge et/ou permettant le pompage de l'intérieur de la recharge. Lorsque le réservoir est détaché de l'injecteur 100 et fermé par un bouchon 130, il est étanche vis-à-vis de l'extérieur et peut conserver un vide de l'ordre de 10e-8 torr sans pompage pendant 1 semaine. La figure 3 représente des modes alternatifs de réalisation du réservoir 10. Dans tous ces modes de réalisation, la forme de l'extrémité du goulot est identique de sorte que chacun des réservoirs représentés peut être installé sur l'embout de l'injecteur 3. Un bouchon 130 permet la fermeture du réservoir lorsqu'il n'est pas monté sur l'injecteur 3. Dans un premier mode de réalisation 10A alternatif, une pluralité d'ailettes métalliques 150 s'étendent radialement entre la paroi 152 du réservoir et un tube central 151 s'étendant sur toute la hauteur dudit corps cylindrique. Ce dispositif permet d'améliorer la transmission de la chaleur vers l'intérieur du réservoir, de manière à éviter l'accumulation du produit dans la zone centrale du réservoir. Dans un mode de réalisation 10C, le réservoir a un corps cylindrique de section annulaire de sorte qu'un logement ouvert vers le bas 170 s'étend le long de son axe. Un dispositif de chauffage peut être introduit axialement par le fond afin d'éviter l'accumulation du produit dans la zone centrale du réservoir. Dans un mode de réalisation 10B, une vanne 160 est installée au niveau du goulot du réservoir. Bien entendu, les caractéristiques de ces trois modes de réalisation peuvent être conjuguées sur un même réservoir. Un système de chauffage 50 permettant de chauffer le réservoir 10 est installé au niveau de l'emplacement de ce dernier. Ce système de chauffage 50 a pour rôle de porter la charge à la température voulue pour la génération du jet moléculaire par l'injecteur 100. Avantageusement, cette température est comprise entre 50 et 600 degrés. Le système de chauffage 50 se trouve entièrement à l'extérieur de l'enceinte 1 et est indépendant de cette dernière. Avantageusement le système de chauffage 50 permet d'imposer un gradient de température entre la base et le goulot du réservoir 10, la température à la base de la recharge 10 étant inférieure à la température au niveau du goulot. Selon un mode de réalisation alternatif, le chauffage du réservoir peut être intégré dans les parois de ce dernier. Le chauffage du réservoir peut être assuré par conduction, par convection, par radiation, par induction ou toutes combinaisons de ces moyens de chauffage. Selon un autre aspect de la présente invention, le conduit de l'injecteur 100 est chauffé à l'aide d'un ou plusieurs dispositifs de chauffage. Par exemple, un dispositif de chauffage 30 chauffe les parois du conduit 100 de manière à ce que la charge ne se dépose pas sur ces parois, et un dispositif de chauffage 40 chauffe la vanne 30 de sorte que la charge ne se dépose pas sur cette vanne. Les dispositifs de chauffage 30 et 40 sont indépendants l'un de l'autre et du dispositif de chauffage 50. Avantageusement, les dispositifs de chauffage permettent également un refroidissement des différents éléments de l'injecteur. La figure 4 représente schématiquement plusieurs étapes de charge ou de recharge dans le cadre d'un procédé de dépôt sous vide. Ces étapes de charge ou de recharge interviennent alors que l'enceinte 1 est sous vide, la vanne 20 fermant l'orifice de l'injecteur 100. Tout d'abord, le réservoir 10 est rempli puis est connecté à l'embout de l'injecteur. La vanne 20 est ensuite ouverte progressivement. Un pompage est réalisé afin que la pression dans le réservoir soit équivalente à la pression dans l'enceinte. Le dispositif de chauffage 30 est activé pour chauffer les parois du conduit de l'injecteur 100. Puis le dispositif de chauffage 40 est activé pour chauffer la vanne 20 et enfin le dispositif de chauffage 50 est activé pour chauffer le réservoir 10. Un gradient de température est établi sur l'injecteur, la température à la base du réservoir étant inférieure à la température au niveau de la connexion entre le réservoir et le conduit, elle même étant inférieure à la température au niveau de l'embouchure intérieure de l'injecteur. 12 REVENDICATIONS 1. Dispositif de dépôt sous vide comprenant une enceinte (1) adaptée à recevoir un substrat (2) à traiter et à être mise sous vide et au moins un injecteur (100) pour générer un jet moléculaire de vapeur d'un matériau organique, la distribution spatiale dudit jet moléculaire étant adaptée à la projection de ladite vapeur sur la surface dudit substrat, caractérisé en ce que ledit injecteur comprend un conduit traversant une paroi de ladite enceinte, ledit conduit comprenant une première extrémité (110) qui s'étend à l'intérieur de ladite enceinte et dont les caractéristiques géométriques sont adaptées à la génération d'un jet moléculaire et une seconde extrémité (120) qui s'étend à l'extérieur de ladite enceinte et qui est adaptée à être raccordée hermétiquement, de manière détachable, à un réservoir amovible (10) contenant ledit matériau organique, un dispositif de chauffage (50) intervenant au niveau de l'emplacement dudit réservoir amovible pour mettre ledit matériau organique à une température de génération d'un jet moléculaire, ledit conduit comprenant entre lesdites extrémités une vanne (20) permettant sa fermeture hermétique. 2. Dispositif de dépôt sous vide selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit conduit dudit injecteur (100) est pourvu d'un dispositif de chauffage (30, 40) adapté à empêcher le dépôt du matériau organique sur ledit conduit. 3. Dispositif de dépôt sous vide selon la revendication 2, caractérisé en ce que ladite vanne 2878863 13 (20) dudit injecteur (100) est pourvue d'un dispositif de chauffage adapté à empêcher le dépôt du matériau organique sur ladite vanne. 4. Dispositif de dépôt sous vide selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit réservoir amovible (10) a une forme de bouteille avec un corps cylindrique (12) et un goulot (11) dont l'extrémité est adaptée à être introduite dans l'extrémité extérieure (120) dudit conduit dudit injecteur (100). 5. Dispositif de dépôt sous vide selon la revendication 4, caractérisé en ce que ledit réservoir amovible (l0A) comprend, à l'intérieur de son corps cylindrique, une pluralité d'ailettes métalliques (150) s'étendant radialement entre la paroi (152) dudit réservoir et un tube central (151) s'étendant sur toute la hauteur dudit corps cylindrique. 6. Dispositif de dépôt sous vide selon la revendication 4, caractérisé en ce que ledit réservoir amovible (10C) a un corps cylindrique de section annulaire. 7. Dispositif de dépôt sous vide selon la revendication 4, caractérisé en ce que ledit réservoir amovible (10B) est pourvu d'une vanne (160) au niveau de son goulot. 8. Dispositif de dépôt sous vide selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit conduit dudit injecteur (100) est vertical et traverse le fond de ladite enceinte à vide (1), ledit substrat (2) s'étendant horizontalement dans une partie supérieure de ladite enceinte. 9. Dispositif de dépôt sous vide selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit four de chauffage (50) chauffe ledit réservoir (10) avec un gradient de température entre la base et le goulot de ce réservoir, de sorte que la température au niveau de la base est inférieure à la température au niveau du goulot. 10. Procédé de dépôt sous vide utilisant un dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes de recharge consistant à : fermer ladite vanne; détacher ledit réservoir dudit injecteur; recharger ledit réservoir; raccorder ledit réservoir audit injecteur; ouvrir progressivement la vanne; chauffer ledit conduit; chauffer ladite vanne; et chauffer ledit réservoir.