FR 2885266 A1 20061103 FR 0504280 A 20050428 La présente invention concerne un élément actif pour source laser, ainsi qu'une source laser comportant un tel élément actif. Plus précisément, ladite source laser est du type comportant: un élément actif comprenant un barreau allongé, de section transversale généralement circulaire, mais non exclusivement, comportant une matrice dopée susceptible d'absorber un faisceau de pompage pour ampli-fier un rayonnement laser se propageant longitudinalement avec ou sans rebond; un système de pompage, comportant des diodes (laser) de pompage 10 susceptibles d'émettre un faisceau de pompage; - un système optique de transport pour diriger le faisceau de pompage émis par ledit système de pompage dans ledit élément actif de manière à obtenir un pompage longitudinal; et une cavité optique permettant d'extraire ledit rayonnement laser. On sait que pour être efficace, le faisceau de pompage doit être spectralement accordé au spectre d'absorption de l'élément actif de telle sorte que ledit faisceau de pompage soit absorbé et transfère son énergie vers l'ion de terre rare dopant ledit élément actif. On sait également que les diodes (laser) de pompage présentent un spectre d'émission, généralement de quelques nanomètres de large, qui se décale de 0,25 à 0,3 nanomètre par degré, lorsque l'on fait varier la température desdites diodes de pompage. Pour assurer une conformité satisfaisante de la longueur d'onde du faisceau de pompage (issu desdites diodes de pompage) avec le spectre d'absorption du milieu actif, il est connu de monter lesdites diodes sur des modules Peltier, dont la fonction est de stabiliser leur température à mieux que 0,5 C de sorte qu'un centrage de longueur d'onde est assuré à au moins 0,2 nm. Toutefois, notamment dans le cadre d'applications militaires, les paramètres de compacité, de consommation et de rapidité de mise en oeuvre revêtent une importance particulière. Aussi, l'utilisation de modules Peltier, qui induit une consommation importante et qui nécessite un temps de stabilisation de l'ordre de la minute, est un frein à l'emploi de sources laser pompées par diode(s) dans des systèmes compacts. II en va de même pour d'autres systèmes de stabilisation actifs de la température des diodes. Aussi, la technologie toujours employée actuellement, par exemple pour des désignateurs laser terrestres, est une technologie de pompage par flash, qui est peu rentable et encombrante. Pour essayer de remédier à ce problème, il convient: soit d'augmenter la tolérance du milieu actif à la dérive de longueur d'onde, ce qui est proposé par exemple par le brevet FR-2 803 697, pour lequel le faisceau de pompage est guidé pour passer plusieurs fois au travers du milieu actif; soit de mettre en oeuvre une stabilisation passive de l'émission de la longueur d'onde des diodes de pompage, comme proposé par exemple dans la demande de brevet US-2005/0018743 qui décrit l'utilisation d'un système incluant un ou plusieurs Réseaux de Bragg en Volume (RBV ou VBG, pour "Volume Bragg Grating" en anglais) afin de condi-tionner une ou plusieurs caractéristiques d'émission du laser. Toutefois, les solutions précédentes permettent uniquement d'ob-tenir une insensibilité sur 3 à 10 nanomètres correspondant à une dérive de température des diodes de 15 à 40 C. Une telle plage d'insensibilité thermique est largement insuffisante pour utiliser le système de pompage, par exemple dans un désignateur laser terrestre, entre -40 C et +70 C. La présente invention a pour objet de fournir un élément actif et une source laser permettant d'obtenir une insensibilité thermique de l'émission laser sur plus de 15 nanomètres. On sait que la proportion d'énergie de pompage absorbée par l'élément actif dépend, d'une part, du coefficient d'absorption a(X) de l'élément actif et, d'autre part, de la longueur de matériau L, traversée par le faisceau de pompage. Cette proportion d'énergie absorbée Abs vérifie la relation Abs = 1-Exp[-a(X)L]. Aussi, pour optimiser ladite proportion Abs, il convient de maximiser, d'une part, ledit coefficient d'absorption a pour toutes les longueurs d'onde X intéressantes et, d'autre part, ladite longueur L traversée par le faisceau de pompage. On sait, par ailleurs, qu'il est difficile d'extraire convenablement l'énergie d'un grand volume de milieu actif (élément actif) , dans lequel l'énergie de pompage serait dispersée. Aussi, la configuration proposée est une configuration de pompage longitudinal, pour laquelle la longueur d'absorption du faisceau de pompage peut être longue, pourvu que celui-ci soit colinéaire (ou quasiment) à l'axe de la source laser. La principale difficulté d'un pompage longitudinal à des niveaux élevés de puissance (supérieurs à 500 W) réside dans la production d'ef-fets parasites tels qu'une amplification d'émission spontanée (amplification ASE ci-après) ou des modes d'émission parasites (modes MEP ci-après). L'amplification ASE provient d'une radiation spontanée, naturelle-ment émise par les ions excités par le faisceau de pompage et amplifiée par le gain résultant de la présence de ces ions excités. Les modes MEP, quant à eux, proviennent de la combinaison: de réflexions présentes aux bords de l'élément actif et/ou sur tout autre réflecteur; et - du gain laser provenant des ions excités. La combinaison de ces deux facteurs engendre une émission laser parasite suivant un ou plusieurs axes qui sont habituellement distincts de l'axe laser principal. L'amplification ASE est un paramètre gouverné essentiellement par le gain et la longueur maximale de gain possible dans l'élément actif. La seule possibilité de diminuer son effet est de limiter la longueur de gain ou la valeur du gain. En outre, les modes MEP sont gouvernés par le gain et la présence de réflexions parasites qui renvoient des photons vers le laser et permettent ainsi un cyclage à gain de ces photons. La présente invention a pour objet de remédier à ces inconvénients. Elle concerne un élément actif pour source laser, permettant d'obtenir une insensibilité thermique importante, tout en limitant la génération d'effets parasites du type précité (amplification ASE et modes MEP). A cet effet, selon l'invention, ledit élément actif du type comportant un barreau allongé qui comprend une matrice dopée susceptible d'absorber au moins un faisceau de pompage, pour amplifier au moins un rayonnement laser se propageant longitudinalement, est remarquable en ce que ledit élément actif comporte de plus: un premier revêtement qui est agencé à la périphérie dudit barreau et qui présente un indice de réfraction permettant de réfléchir au moins 80% dudit faisceau de pompage; et un moyen d'absorption permettant d'absorber au moins 70% de tout rayonnement qui traverse la périphérie dudit barreau et qui présente une longueur d'onde sensiblement égale à celle dudit rayonnement laser. Ainsi, grâce audit premier revêtement, le faisceau de pompage est susceptible d'être guidé et maintenu pour l'essentiel (au moins 90%) dans ledit barreau, ce qui permet d'obtenir un pompage particulièrement efficace. De plus, grâce audit moyen d'absorption, les rayonnements parasi- tes qui traversent le barreau sont absorbés pour l'essentiel, ce qui permet de supprimer les modes MEP et de minimiser l'amplification ASE. Dans un premier mode de réalisation, ledit premier revêtement est formé de manière à correspondre également audit moyen d'absorption, c'est-à- dire que l'absorption dudit rayonnement (qui présente la longueur d'onde du rayonnement laser) est directement réalisée par ce premier revêtement qui présente donc une double fonction de réflexion et d'absorption. Dans un second mode de réalisation, ledit moyen d'absorption correspond à un second revêtement qui est agencé sur la face externe dudit premier revêtement. Dans ce dernier cas, dans une variante de réalisation particulière, ledit barreau allongé présente une section transversale circulaire, ledit premier revêtement comporte une colle qui est prévue sur la périphérie dudit barreau et qui présente un indice de réfraction inférieur à celui du barreau et ledit second revêtement comporte une monture en matériau absorbant, qui entoure ledit barreau munie de ladite colle. Dans une variante de réalisation susceptible d'être associée à l'un quelconque des premier et second modes de réalisation précédents, ledit premier revêtement comporte une couche mince qui présente un indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau. Dans une autre variante de réalisation susceptible d'être associée à l'un quelconque des premier et second modes de réalisation précédents, ledit premier et/ou second revêtement est réalisé à partir d'un matériau microstructuré. En outre, dans une autre variante de réalisation, ledit barreau pré-sente des faces latérales planes, et ledit premier revêtement comporte des plaques qui sont soudées sur lesdites faces latérales planes dudit barreau et qui sont réalisées en un matériau présentant un indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau. Avantageusement, ledit barreau est formé d'au moins un matériau présentant une variation longitudinale de dopage avec un dopage le plus faible, limité à une valeur prédéterminée, par exemple 0,5%, au niveau d'une face d'entrée du faisceau de pompage. Ainsi, on agit sur le gain, en limitant le dopage en début de barreau (au niveau de ladite face d'entrée) pour limiter l'absorption dans cette zone et donc limiter le gain transverse, ce qui permet de réduire à la fois l'apparition d'une amplification ASE et l'apparition de modes MEP. De plus, le barreau peut comporter une zone non dopée devant sa face d'entrée. La baisse de dopage en début de barreau diminue l'efficacité d'absorption. II importe donc de prévoir, au-delà des premiers millimètres d'absorption, un niveau de dopage plus élevé. Pour maximiser l'absorption du faisceau de pompage, ledit élément actif peut comporter avantageusement, au moins partiellement, comme 15 matériau, un cristal YVO4/Nd. Dans un premier mode de réalisation, ledit matériau de l'élément actif présente une variation longitudinale de dopage qui est continue, tan-dis que, dans un second mode de réalisation, il présente une variation longitudinale de dopage qui est par pas. Dans le premier mode de réalisation, ledit matériau comporte, de préférence, une céramique à gradient de dopage et, dans le second mode, plusieurs cristaux présentant des dopages différents. Ces deux modes peuvent être par ailleurs combinés. En outre, dans une variante de réalisation particulière, ledit maté- riau comporte à la fois un cristal YAG/Nd et un cristal YVO4/Nd. Comme les bandes d'absorption de ces deux cristaux sont différentes, la gamme d'insensibilité est ainsi étendue. De plus, ledit cristal YAG/Nd est, de préférence, disposé en amont dudit cristal YVO4/Nd. La présente invention concerne également une source laser du type comportant: un élément actif pour source laser; un système de pompage muni de diodes laser de pompage qui sont sus- ceptibles d'émettre au moins un faisceau de pompage; un système optique de transport pour diriger le faisceau de pompage émis par lesdites diodes laser dans ledit élément actif de manière à obtenir un pompage longitudinal; et une cavité optique permettant d'extraire au moins un rayonnement la- ser. Selon l'invention, ladite source laser est remarquable en ce que le-dit élément actif est du type précité. De façon avantageuse, ledit système de pompage est formé de manière à engendrer un faisceau de pompage: qui comporte une stabilité de l'énergie déposée stable à plus de 20% sur plusieurs dizaines de degrés; et/ou qui est compris dans un angle solide prédéterminé relatif audit barreau. Dans un mode de réalisation particulier, ledit système de pompage comporte des modules (ou empilements) de diodes, formés de semi- conducteurs issus de différents disques (waffers). La somme des émissions spectrales des différents semi-conducteurs engendre ainsi un spectre plus large que celui d'une diode unique. De plus, avantageuse-ment, chaque module de diodes comporte un moyen de refroidissement, ce qui permet d'obtenir une situation thermique spécifique et un fonctionnement également étalé du spectre. Par ailleurs, de façon avantageuse, ladite source laser comporte, de plus, des moyens pour engendrer au moins un double passage du faisceau de pompage dans l'élément actif. Les figures du dessin annexé feront bien comprendre comment l'invention peut être réalisée. Sur ces figures, des références identiques désignent des éléments semblables. La figure 1 est le schéma synoptique d'une source laser conforme à l'invention. Les figures 2 et 3 montrent schématiquement deux exemples d'élément actif conforme à l'invention. L'élément actif 1 conforme à l'invention comporte un barreau al-longé 2 qui comprend une matrice dopée susceptible d'absorber un fais-ceau de pompage 3, pour amplifier au moins un rayonnement laser 4 se 1 o propageant longitudinalement selon un axe X-X. Cet élément actif 1 peut être intégré dans une source laser 5 telle que représentée à titre d'exemple sur la figure 1. Ladite source laser 5 comporte, de façon usuelle, en plus dudit élément actif 1: un système de pompage 6 usuel, qui comprend des diodes de pompage 6A de type laser et qui est susceptible d'émettre au moins un faisceau de pompage 3; un système optique de transport 7 usuel, pour diriger le faisceau de pompage 3 émis par ledit système de pompage 6 dans ledit élément ac- tif 1 de manière à obtenir un pompage longitudinal; et une cavité optique 8 usuel, d'axe X-X, comprenant notamment un miroir réfléchissant 9 et un miroir 10 légèrement transparent, qui sont placés en regard l'un de l'autre. Cette cavité optique 8 confère au rayonnement laser 4 obtenu par l'amplification laser et émis à travers ledit miroir 10 selon l'axe X-X, ses caractéristiques de directivité et de géométrie. Selon l'invention, ledit élément actif 1 comporte de plus: un revêtement 12 qui est agencé à la périphérie dudit barreau 2 (c'est-à-dire sur sa ou ses faces extérieures) et qui présente un indice de ré-fraction permettant de réfléchir au moins 80% dudit faisceau de pompage 3, comme illustré pour un faisceau F1 sur la figure 1; et un moyen d'absorption 13 qui permet d'absorber au moins 70% de tout rayonnement qui traverse la périphérie dudit barreau 2 et qui présente une longueur d'onde sensiblement égale à celle dudit rayonnement laser 4, comme représenté pour un faisceau F2 sur la figure 1. Ainsi, grâce audit revêtement 12, le faisceau de pompage 3 est susceptible d'être guidé et maintenu presqu'en totalité (au moins à 90%) dans ledit barreau 2, ce qui permet d'obtenir un pompage particulièrement efficace. De plus, grâce audit moyen d'absorption 13 précisé ci-dessous, les rayonnements parasites qui traversent le barreau 2 sont absorbés pour l'essentiel, ce qui permet de supprimer des modes MEP et de minimiser une amplification ASE. Les contraintes de dimensionnement relatives aux caractéristiques précédentes sont les suivantes: guidage du faisceau de pompage 3 dans une ouverture numérique au moins égale à celle des diodes de pompage 6A après passage dans une optique de focalisation, ce qui implique un indice de réfraction faible du revêtement 12; et évacuation hors de l'élément actif 1 (barreau 2) et/ou absorption d'un maximum de photons de fluorescence, ce qui implique que l'indice de réfraction de la zone périphérique (revêtement 12, moyen d'absorption 13) soit le plus proche possible de celui de l'élément actif 1 (barreau 2). Ces deux contraintes ne sont pas totalement compatibles et de-mandent donc de trouver un compromis. Pour guider l'ensemble du faisceau de pompage 3 à l'intérieur du barreau 2 (d'indice nyag), le demi angle total 0 d'émission des diodes de pompage 6A doit correspondre à l'angle d'incidence critique ic sur l'inter-face du revêtement 12 (d'indice de réfraction n). On a ic=arcsin(n/nyag) et on calcule que l'indice de réfraction n présente une valeur qui ne doit pas être plus faible que: n = Jnyag2 - sin2 0. Par exemple, si 0 est de l'ordre de 45 degrés, avec nyag =1,819, l'indice n vaut 1,64. L'émission de fluorescence a encore une possibilité d'être piégée dans un angle solide limité par une ouverture de (t/2-ic) soit 25 degrés dans l'exemple considéré. Dans la pratique, ceci accroît notablement le seuil d'apparition des modes MEP à condition de s'assurer qu'aucun chemin fermé ne soit contenu dans cet angle solide. Le rayonnement non guidé est ensuite absorbé dans un matériau à absorption sélective à la longueur d'onde du rayonnement laser 4 ou simplement évacué en dehors du barreau 2. Dans un premier mode de réalisation, ledit revêtement 12 est formé de manière à correspondre également audit moyen d'absorption 13, c'est-àdire que l'absorption du rayonnement (qui présente la longueur d'onde du rayonnement laser 4) est directement réalisée par ce revête-ment 12 qui présente donc une double fonction de réflexion et d'absorption. Dans un second mode de réalisation, ledit moyen d'absorption 13 comprend un revêtement 14 qui est agencé sur la face externe (ou les fa-ces externes) dudit revêtement 12, comme représenté en traits interrompus sur la figure 1. Dans ce dernier cas, dans une variante de réalisation particulière représentée sur la figure 2, ledit barreau allongé 2 présente une section transversale circulaire, ledit revêtement 12 comporte une colle 15 qui est prévue sur la périphérie dudit barreau 2 sensiblement selon une forme annulaire et qui présente un indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau et ledit revêtement 14 comporte une monture 16 en matériau absorbant, qui entoure ledit barreau 2 munie de la colle 15. Ladite monture 16 est susceptible d'absorber l'émission d'un rayonnement à 1 micromètre qui peut circuler dans cette zone. Dans le cas de l'exemple du YAG dopé Nd avec un angle 9 de 45 , ladite colle 15 devrait avoir un indice de réfraction proche de 1,64. Cet indice, nettement plus élevé que celui de la plupart des colles commerciales, peut par exemple être atteint en utilisant une colle commerciale, dans laquelle est introduite de la poudre d'un matériau transparent d'indice de réfraction élevé. Cette poudre peut être en particulier une poudre nanométrique d'oxyde telle que TiO2, Y2O3, Sm203, Sc203, Lu203, Gd203, ZrO2 ou YAI03. Un autre mode de réalisation non représenté de l'élément actif 1 comprend un barreau 2 de section quelconque, dont la périphérie est revêtue d'une couche mince 12, d'indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau 2. Cette couche mince 12 est soit absorbante à la longueur d'onde du rayonnement laser 4, soit entourée d'un revêtement 14 absorbant. Dans un autre mode de réalisation représenté sur la figure 3, le barreau 2 présente des faces latérales 2A, 2B, 2C, 2D qui sont planes, avec une section transversale de forme carrée par exemple. Sur les faces latérales 2A à 2D de ce barreau 2 sont soudées ou collées respectivement des plaques 17A, 17B, 17C, 17D réalisées en un matériau présentant un indice de réfraction plus faible que le barreau 2. De plus: lesdites plaques 17A à 17D sont suffisamment épaisses pour qu'un rayonnement présentant la longueur d'onde du rayonnement laser 4 ne puisse revenir dans le barreau 2; ou le matériau desdites plaques 17A à 17D est absorbant pour ladite Ion- gueur d'onde du rayonnement laser 4; ou lesdits plaques 17A à 17D sont revêtues sur leur face externe d'un revêtement non représenté qui est absorbant pour ladite longueur d'onde du rayonnement laser 4. Par ailleurs, dans un mode de réalisation particulier, ledit barreau 2 de l'élément actif 1 est formé d'au moins un matériau présentant une variation longitudinale de dopage, selon l'axe X-X, avec le dopage le plus faible qui est limité à une valeur prédéterminée, par exemple 0,5%, au niveau de la face amont 11 (ou d'entrée du faisceau de pompage 3) dudit élément actif 1. Ainsi, en limitant le dopage en début du barreau 2 (au niveau de ladite face amont Il), on limite l'absorption dans cette zone et donc le gain transverse, ce qui permet de réduire l'apparition à la fois d'une amplification ASE et de modes MEP. La baisse de dopage en début du barreau 2 diminue l'efficacité d'absorption. II importe donc de prévoir, au-delà d'une distance prédéterminée, par exemple quelques millimètres en aval de la face amont 1 1, un niveau de dopage plus élevé. En outre, afin de maximiser l'absorption du faisceau de pompage 3, le barreau 2 de l'élément actif 1 comporte de préférence comme matériau, au moins en partie, un cristal YVO4/Nd. Dans un premier mode de réalisation, ledit matériau du barreau 2 présente une variation longitudinale de dopage qui est continue, tandis que, dans un second mode de réalisation, il présente une variation longitu- dinale de dopage qui est par pas. Dans le premier mode de réalisation, ledit matériau est de préférence un matériau à gradient de dopage. De tels matériaux peuvent être réalisés, de façon usuelle, par procédé céramique. Il est également possible d'employer plusieurs cristaux de dopage progressif pour atteindre à l'entrée de chacun de ces derniers le gain maximal de démarrage de l'amplification ASE. Un perfectionnement possible consiste à combiner un cristal de YAG/Nd et un cristal de YVO4/Nd. Comme les bandes d'absorption de ces deux cristaux sont différentes, la gamme d'insensibilité est ainsi étendue. En particulier, l'absorption du cristal YVO4/Nd est plus forte vers 808-815 nm, alors que le cristal YAG/Nd présente une bande d'absorption à 792-797 nm que ne possède pas le cristal YVO4/Nd. Une telle combinaison est possible puisque les deux cristaux émettent chacun à 1064 nm. Dans ce cas, si on place de plus le cristal YAG/Nd en amont dudit cristal YVO4/Nd, on obtient un avantage supplémentaire. En effet, le cristal YAG/Nd va être soumis à la puissance de pompage la plus forte et il présente une séquence efficace d'émission stimulée moins importante que le cristal YVO4/Nd. Il convertira donc l'absorption en un gain plus faible que si le cristal YVO4/Nd était placé en amont, ce qui permet de repousser le seuil d'apparition d'effets parasites. Dans ce cas, on a également intérêt à conserver partiellement le cristal YVO4/Nd afin d'assurer un gain longitudinal suffisant pour que l'effet laser soit efficace. Par ailleurs, dans un mode de réalisation préféré, ledit système de pompage 6 comporte des modules (ou empilements) de diodes 6A, formés de semi-conducteurs issus de différents disques (waffers). La somme des émissions spectrales des différents semi-conducteurs engendre ainsi un spectre plus large que celui d'une diode unique. De plus, de préférence, chaque module de diodes 6A comporte un moyen de refroidissement individuel, ce qui permet d'obtenir un fonctionnement également étalé du spectre. En outre, dans un mode de réalisation particulier, ledit système de pompage 6 est formé de manière à engendrer un faisceau de pompage 3 qui comporte une stabilité de l'énergie déposée stable à plus de 20% sur plusieurs dizaines de degrés. Par ailleurs, ladite source laser 6 comporte, de plus, des moyens non représentés pour engendrer au moins un double passage du faisceau de pompage 3 dans l'élément actif 1. REVENDICATIONS 1. Elément actif pour source laser, ledit élément actif (1) comportant un barreau allongé (2) qui comprend une matrice dopée susceptible d'absorber au moins un faisceau de pompage (3), pour amplifier au moins un rayonnement laser (4) se propageant longitudinalement, caractérisé en ce que ledit élément actif (1) comporte de plus: un premier revêtement (12) qui est agencé à la périphérie dudit barreau (2) et qui présente un indice de réfraction permettant de réfléchir au moins 80% dudit faisceau de pompage (3) ; et un moyen d'absorption (13) permettant d'absorber au moins 70% de tout rayonnement qui traverse la périphérie dudit barreau (2) et qui pré-sente une longueur d'onde sensiblement égale à celle dudit rayonne-ment laser (4). 2. Elément actif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit premier revêtement (12) est formé de manière à correspondre également audit moyen d'absorption (13). 3. Elément actif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit moyen d'absorption (13) correspond à un second revêtement (14) qui est agencé sur la face externe dudit premier re- vêtement (12). 4. Elément actif selon la revendication 3, caractérisé en ce que ledit barreau allongé (2) présente une section transversale circulaire, en ce que ledit premier revêtement (12) comporte une colle (15) qui est prévue sur la périphérie dudit barreau (2) et qui présente un indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau et en ce que ledit second revêtement (14) comporte une monture (16) en matériau absorbant, qui entoure ledit barreau (2) munie de ladite colle (15). 5. Elément actif selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit premier revêtement (12) comporte une couche mince qui présente un indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau (2). 6. Elément actif selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit barreau (2) présente des faces latérales planes (2A à 2D), et en ce que ledit premier revêtement (12) comporte des plaques (17A à 17D) qui sont soudées sur lesdites faces latérales planes (2A à 2D) dudit barreau (2) et qui sont réalisées en un matériau présentant un indice de réfraction inférieur à celui dudit barreau (2). 7. Elément actif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que ledit barreau (12) est formé d'au moins un matériau présentant une variation longitudinale de dopage avec un dopage le plus faible, limité à une valeur prédéterminée, au niveau d'une face d'entrée (Il) du faisceau de pompage (3). 8. Elément actif selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit matériau présente une variation longitudinale de dopage continue. 9. Elément actif selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit matériau présente une variation longitudinale de dopage par pas. 10. Elément actif selon l'une des revendications 8 ou 9, caractérisé en ce que ledit matériau comporte une céramique à gradient de dopage. 11. Elément actif selon la revendication 9, caractérisé en ce que ledit matériau comporte plusieurs cristaux de dopages différents. 12. Elément actif selon la revendication Il, caractérisé en ce que ledit matériau comporte un cristal YAG/Nd et un cristal YVO4/Nd. 13. Elément actif selon la revendication 12, caractérisé en ce que ledit cristal YAG/Nd est disposé en amont dudit cristal YVO4/Nd. 14. Source laser comportant: un élément actif (1) pour source laser; un système de pompage (6) muni de diodes laser (6A) qui sont 1 o susceptibles d'émettre au moins un faisceau de pompage (3) ; un système optique de transport (7) pour diriger le faisceau de pompage (3) émis par lesdites diodes laser (6A) dans ledit élément actif (1) de manière à obtenir un pompage longitudinal; et une cavité optique (8) permettant d'extraire au moins un rayonnement laser (4), caractérisée en ce que ledit élément actif (1) est du type de celui spécifié sous l'une quelconque des revendications 1 à 13. 15. Source laser selon la revendication 14, caractérisée en ce que ledit système de pompage (6) est formé de manière à engendrer un faisceau de pompage (3) qui comporte une stabilité de l'énergie déposée stable à plus de 20% sur plusieurs dizaines de degrés. 16. Source laser selon l'une des revendications 14 et 15, caractérisée en ce que ledit système de pompage (6) est formé de manière à engendrer un faisceau de pompage (3) qui est compris dans un angle solide prédéterminé relatif audit barreau (2). 17. Source laser selon l'une quelconque des revendications 14 à caractérisée en ce que ledit système de pompage (6) comporte des modules de diodes (6A), formés de semi-conducteurs issus de différents disques de silicium. 18. Source laser selon la revendication 17, caractérisée en ce que chaque module de diodes (6A) comporte un moyen de refroidissement individuel. 19. Source laser selon l'une des revendications 14 à 18, caractérisée en ce qu'elle comporte, de plus, des moyens pour engendrer au moins un double passage du faisceau de pompage (3) dans l'élément actif (1).