FR 2864229 A1 20050624 FR 0453035 A 20041217 Domaine de l'invention La présente invention concerne un capteur de flux intégré pour déterminer un flux de fluide comprenant une première couche fonctionnelle et une seconde couche fonctionnelle appliquée sur la première couche fonctionnelle et reliée électriquement à celle-ci. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel capteur. En microfluidique, il faut non seulement transporter et traiter de faibles quantités de produits gazeux ou liquides (appelés fluides) mais également déterminer aussi précisément que possible et avec le moins de perturbations possibles, les quantités de produits transportés. Cela se fait habituellement par la mesure d'un flux de fluide. La faible taille des composants nécessite toutefois d'autres développements que dans les composants classiques. Les capteurs de flux réalisés par exemple comme variante du principe du fil chauffé, peuvent provoquer des courtscircuits ou avoir des interactions avec des liquides conducteurs si ces fils ne sont pas suffisamment passivés. Le procédé par fil chauffant mesure le flux d'un fluide par chauffage précis à un endroit et mesure de l'échauffement du fluide dans un capteur de température installé en aval; à partir de la température du fluide mesuré par le capteur de température on peut déterminer la vitesse d'écoulement du fluide. But de l'invention La présente invention a pour but de développer un capteur de flux intégré qui puisse se fabriquer et se réaliser de manière simple. L'invention a également pour but de développer un procédé de fabrication d'un tel capteur de flux. Exposé de l'invention A cet effet l'invention concerne un capteur de flux du type 30 défini ci-dessus caractérisé en ce qu' - un canal de fluide est réalisé dans les couches fonctionnelles pour gui- der un courant de fluide, - au moins une zone de chauffage et au moins une zone de mesure sont prévues au voisinage du canal de fluide, - dans la zone de chauffage et dans la zone de mesure, la première couche fonctionnelle est soit non couverte par la seconde couche fonctionnelle soit isolée de la seconde couche fonctionnelle lorsque celle-ci se trouve par dessus, - la première couche fonctionnelle ou la seconde couche fonctionnelle présente une plus forte résistance au moins dans la zone de chauffage, et - le capteur de flux peut être branché pour faire passer un courant de chauffage à travers la première ou la seconde couche de la zone de chauffage et/ou pour mesurer une valeur de résistance de la première ou de la seconde couche fonctionnelle dans la zone, - le flux de fluide se déterminant en fonction de la valeur de la résistance mesurée pour une puissance de chauffage constante ou par la puis- 0 sance de chauffage demandée en cas de valeur prédéfinie de la résistance. L'élément principal du capteur de flux selon l'invention est constitué par un point de chauffage et un point de mesure dans un système à double couche permettant d'injecter une certaine quantité de cha- leur à un endroit déterminé ou dans une zone déterminée de la paroi du canal de fluide et de déterminer dans le courant de fluide passant dans le canal, une variation de résistance au point de mesure ou dans la zone de mesure provoquée par la variation de température. On forme la zone de chauffage et la zone de mesure par un segment du circuit électrique formé par la première et la seconde couche fonctionnelle, segment pour lequel le courant passe uniquement à travers la première couche fonctionnelle qui a une résistance plus élevée. Si l'on fait passer un courant à travers un tel circuit électrique, la première couche fonctionnelle chauffe car cette couche fonctionnelle présente dans cette zone une résistance plus élevée que celle des autres parties du circuit, et ainsi la grande partie de la chute de la tension appliquée se produit à cet endroit. Pour mesurer la variation de température du courant de fluide qui passe on applique une tension de mesure d'un courant de mesure dans un circuit de courant passant par la zone de mesure et on détermine la variation de résistance de la première couche fonctionnelle dans la zone de mesure. Pour augmenter encore plus la chute de tension dans la zone de chauffage ou dans la zone de mesure, la première couche fonctionnelle a une résistance plus élevée que la seconde couche fonctionnelle. De manière préférentielle on fait passer le courant de chauffage par un segment de paroi du canal de fluide situé sur le côté de la zone de chauffage. Cette solution a l'avantage que les alimentations électriques pour fournir le courant de chauffage puissent être prévues à une faible distance externe de contact dans le capteur de flux intégré. De manière préférentielle on mesure la résistance en mesurant un courant de mesure lorsqu'on applique une tension de mesure, le courant de mesure étant appliqué par un segment de paroi du canal de fluide situé sur les côtés de la plage de mesure. La première couche fonctionnelle peut être appliquée sur un substrat et cette première couche fonctionnelle est isolée électriquement par rapport au substrat au moins dans la zone de chauffage et/ou dans la zone de mesure. On évite ainsi qu'une partie du courant de chauffage ou du courant de mesure ne passe par le substrat ou le fluide au niveau de la résistance de chauffage ou de la résistance de mesure. Il est en outre prévu d'appliquer la première couche fonctionnelle sur un substrat, cette couche étant isolée thermiquement du substrat dans la zone de chauffage. On réduit ainsi l'influence de la température du substrat sur l'apport thermique fourni au courant de fluide car le substrat recevra moins de chaleur de la zone de chauffage. De manière préférentielle, le courant de chauffage est appliqué par une surface de contact à la seconde couche fonctionnelle et/ou une tension de mesure ou un courant de mesure est appliqué pour mesurer la résistance de mesure par l'intermédiaire d'une surface de contact. La zone de chauffage et/ou la zone de mesure sont de préférence formées par un segment de paroi du canal de fluide, la seconde couche fonctionnelle du segment de paroi étant isolée de la seconde couche fonctionnelle munie de la surface de contact de sorte que la zone de chauffage et/ou la zone de mesure sont formées par la première couche fonctionnelle du segment de paroi. Ainsi, à la place d'un point de chauffage sur la paroi du canal de fluide on aura un segment de paroi pour chauffer le courant de fluide. Cela permet de réaliser la zone de mesure par un autre segment de paroi du canal de fluide. Cet autre segment de paroi est également chauffé par le courant de fluide chauffé dans la zone de chauffage ce qui se traduit par une variation de résistance du segment de paroi permettant de déterminer le flux du courant de fluide. Pour avoir un effet électrique alterné entre le fluide passant par le canal de fluide et la zone de chauffage ou la zone de mesure, la paroi intérieure du segment de paroi du canal de fluide est munie de préférence d'une couche d'isolation électrique. L'invention concerne également un procédé du type ci-dessus pour la fabrication d'un capteur de flux. Ce procédé étant caractérisé par les étapes suivantes: application d'une couche sacrifiée sur un substrat, cette couche sacrifiée étant mise en structure pour former les parois d'un canal de fluide du capteur de flux, - application d'une première couche fonctionnelle avec une résistance 5 électrique spécifique élevée, application d'une couche d'arrêt de gravure sur la première couche fonctionnelle, la couche d'arrêt de gravure étant structurée pour définir une zone de chauffage et une zone de mesure dans le capteur de flux, application d'une seconde couche fonctionnelle ayant une résistance électrique spécifique plus faible, - application de surfaces de contact pour le branchement électrique de la zone de chauffage et de la zone de mesure, - masquage des surfaces de contact et des parois du canal de fluide, - gravure profonde des couches fonctionnelles sans attaquer les surfaces de contact masquées et les parois, et libération de la couche sacrifiée. Suivant une autre caractéristique, on enlève la couche sacrifiée ainsi libérée par un procédé de gravure de couche sacrifiée de façon à enlever la couche sacrifiée sous la première couche fonctionnelle dans la zone de chauffage et dans la zone de mesure en créant ainsi un espace intermédiaire pour une isolation thermique ou électrique entre le substrat et la première couche fonctionnelle dans la zone de chauffage et dans la zone de mesure. Suivant une autre caractéristique, après avoir réalisé la structure de la couche d'arrêt de gravure on applique une autre couche sacrifiée pour définir un segment de paroi dans la paroi du canal de fluide, segment réalisé en forme de zone de chauffage ou de zone de mesure, l'autre couche sacrifiée étant réalisée pour être enlevée par le procédé de gravure de la couche sacrifiée, pour que la première et la seconde couche fonctionnelle du segment de paroi soient isolées électriquement de l'autre. Cela permet de définir un segment dans la paroi du canal de fluide servant de zone de chauffage ou de zone de mesure. Pour réduire au minimum la perturbation du courant de fluide par les intensités ou tensions électriques appliquées, le segment de la paroi de canal de fluide est muni d'une couche d'isolation. Dessins La présente invention sera décrite ci-après de manière plus détaillée à l'aide de modes de réalisation préférentiels représentés dans les dessins annexés dans lesquels: - la figure 1 est une section d'un capteur de flux correspondant à un premier mode de réalisation de l'invention, - la figure lb est une vue de dessus du capteur de flux de la figure la, - les figures 2a-2f montrent différentes étapes du procédé de fabrication 5 du capteur de flux selon la figure 1, - la figure 3 est une section et une vue de dessus d'un capteur de flux selon un autre mode de réalisation de la présente invention, la figure 4 est une section et une vue de dessus d'un capteur de flux correspondant à un autre mode de réalisation de l'invention, o les figures 5a-5f montrent les étapes de fabrication du capteur de flux du mode de réalisation de la figure 4, - la figure 6 est une vue de dessus d'un capteur de flux selon un autre mode de réalisation de l'invention, - la figure 7 est une vue de dessus d'un capteur de flux équipé de cap- 15 teurs de température de référence correspondant à un autre mode de réalisation de l'invention, - la figure 8 est une vue de dessus d'un capteur de flux pour des mesures de courant de fluide dans les deux sens de passage selon un autre mode de réalisation de l'invention. Description de modes de réalisation La figure la est une section d'un capteur de flux selon l'invention. La figure lb montre une vue de dessus selon la ligne de coupe B-B' qui correspond à la vue en coupe de la figure la. Le capteur de flux 1 est installé sur un substrat 2 et comprend un canal à fluide 3 entre une première paroi 4 et une seconde paroi 5. La première et la seconde parois 4, 5 sont formées par une première couche fonctionnelle 6 et par une seconde couche fonctionnelle 7, cette dernière étant prévue sur la première couche fonctionnelle 6. Selon la vue de dessus de la figure lb, le capteur de flux 1 comprend une zone de chauffage 8 et une zone de mesure 9; la zone de chauffage 8 est en amont de la zone de mesure 7 par rapport à la direction de passage dans le canal de fluide 3. La vue en coupe concerne la zone de mesure 9. Cette zone de mesure 9 est formée par une zone de la première couche fonctionnelle 6 isolée du substrat 2 par un intervalle et dont on a enlevé la seconde couche fonctionnelle 7. Le capteur de flux selon les figures la, lb fonctionne selon le procédé de chauffage; selon une première variante de ce procédé, une source de chaleur installée en amont d'une vanne de fluide chauffe cette veine de fluide ou une partie de celle-ci et un capteur de température me-sure l'élévation de température de la veine de fluide. Le degré de chauffage dépend de la vitesse d'écoulement de la veine de fluide de sorte que la température mesurée de la veine de fluide permet de connaître la vitesse d'écoulement. Selon une seconde variante du procédé de chauffage ponctuel, on maintient constante l'élévation de température mesurée par le capteur de température et on détermine la puissance de chauffage nécessaire pour maintenir la température constante. La puissance de chauffage nécessaire dépend ainsi de la veine de fluide. Il est en outre possible dans Io le procédé de chauffage ponctuel, de coupler thermiquement la source de chaleur et le capteur de température, la chaleur fournie par la source de chaleur étant évacuée par la veine de fluide en fonction de sa vitesse d'écoulement si bien qu'au niveau du capteur de température on aura une variation de température dépendant de l'évacuation de la chaleur. Selon la première variante du procédé de mesure, à l'aide de la zone de chauffage 8 on chauffe une partie de la paroi du canal de fluide en un point de chauffage et on fournit ainsi la chaleur à la veine de fluide. Du fait du passage dans le canal de fluide, le fluide chaud passe dans la zone de mesure 9 située en aval et chauffe celle-ci en modifiant la résistance de la zone de mesure 9; cette modification se détecte à l'aide d'un courant de mesure approprié ou à l'aide d'une tension de mesure appropriée. La vue de dessus de la figure lb montre une première sur-face de contact 10, une seconde surface de contact 11 et une troisième surface de contact 12. Le chauffage assuré par la zone de chauffage 8 se fait par application d'un courant de chauffage entre la première et la seconde surface de contact 10, 11 et la détection de la variation de résistance de la zone de mesure 9 en appliquant un courant de mesure ou une tension de mesure entre la seconde et la troisième surface de contact 11, 12 et en mesurant la tension ou le courant résultant. Le courant de chauffage passe par la première surface de contact 10 prévue au niveau d'une zone de contact 13 dans la zone de chauffage 8. La zone de contact 13 est une zone formée par la première et la seconde couche fonctionnelle 6, 7 et reliée à la zone de chauffage 8 uni- quement par la première couche fonctionnelle; pour cela, la première zone fonctionnelle s'étend à travers la zone de contact et la zone de chauffage 8. Le courant de chauffage continue alors en passant par un segment de paroi du canal de fluide vers une autre zone de contact 14 portant la seconde surface de contact 11. On forme ainsi un circuit de courant de chauffage dans lequel la chute de tension la plus importante est développée dans la zone de chauffage 8 car dam; cette zone, la section de la première couche fonctionnelle traversée par le courant est inférieure à la section de la première et de la seconde couche fonctionnelle 6, 7 conduisant par ailleurs en commun le courant du segment de paroi du canal de fluide 3 et des zones de contact 13, 14. Pour augmenter encore plus la fraction de la chute de tension dans la zone de chauffage 8, on prévoit de préférence un fort dopage I o pour la seconde couche fonctionnelle 7 pour la rendre fortement conductrice et on laisse la première couche fonctionnelle 6 dopée aussi faible-ment que possible pour qu'elle soit fortement ohmique. De manière préférentielle on applique la première et/ou la seconde couche fonctionnelle 6, 7 par un procédé de croissance épitaxiale sous la forme d'une couche épitaxiale. La première couche fonctionnelle 6 présente à cet effet fréquemment une première couche de démarrage sur laquelle on applique la couche épitaxiale comme première couche fonctionnelle 6. La seconde couche fonctionnelle 7 est appliquée sur une seconde couche de démarrage 16 prévue sur la première couche fonctionnelle 6, cette seconde couche étant également développée par croissance épitaxiale. La première et la seconde couche fonctionnelle 6, 7 sont de préférence des couches de silicium polycristallin. Après mise en structure du capteur de flux, on couvre la structure de capteur de flux formée sur le substrat 2 à l'aide d'une plaque plane 19 notamment d'une plaque de verre pour constituer le capteur de flux 1. Les figures 2a-2f montrent le procédé de fabrication d'un tel capteur de flux. La figure 2a montre l'application sur le substrat 2 de préfé- rence un substrat en silicium, d'une couche sacrifiée 18 s'étendant sur toute la surface et à laquelle on donne ensuite une structure pour dégager seulement les endroits auxquels on veut former les parois de canal 4, 5 du canal de fluide 3. Puis on développe la première couche fonctionnelle 6 par croissance épitaxiale en utilisant de préférence une première couche de démarrage 61 et une couche épitaxiale polycristalline 62. On applique en- suite une couche d'arrêt de gravure 17 de préférence après aplanissement de la première couche fonctionnelle 6 et on la structure pour qu'elle ne reste que dans la zone de chauffage 8 et dans la zone de mesure 9. Cette situation est représentée à la figure 2b. La figure 2c montre l'application de la seconde couche fonctionnelle 7 en surface à l'aide d'une seconde couche de démarrage 71 et d'une couche épitaxiale polycristalline 72. Pour diminuer la résistance de la liaison électrique entre la première couche fonctionnelle et la seconde couche fonctionnelle, on prévoit un dopage approprié au moins à proximité de la zone limite avec la première couche fonctionnelle 6; ce do-page peut se développer par diffusion dans la première couche fonction- o nelle 6 après l'opération de chauffage. La seconde couche fonctionnelle 7 est métallisée dans les zones des surfaces de contact 10, 1l, 12 et ensuite on applique un masque de vernis pour protéger pour l'étape de gravure profonde effectuée ensuite; on protège ainsi les zones de contact 13, 14 et les surfaces de contact 10, 11, 12 qu'elles portent ainsi que les parois de canaux 4, 5 contre l'attaque par gravure. Le résultat de l'étape de gravure profonde effectuée ensuite est présenté à la figure 2d. La couche d'arrêt de gravure 17 est dégagée dans les zones non masquées par le masque de vernis et la couche sacrifiée 18 est dégagée dans les zones non couvertes par la couche d'arrêt de gravure 17. La vue en coupe selon la ligne de coupe A-A' représentée à la figure 2d montre que dans la zone de chauffage 8 et dans la zone de me-sure 9 il ne subsiste que la première couche fonctionnelle car celle-ci a été protégée par la couche d'arrêt de gravure 17. La gravure sélective effectuée ensuite dans la couche sacrifiée 18 permet de dégager la première couche fonctionnelle 6 dans la zone de chauffage 8 et dans la zone de mesure 9 par rapport au substrat pour isoler électriquement et thermiquement le substrat 2 par un espace intermédiaire. En couvrant la structure ainsi formée, on ferme le canal de fluide formant ainsi le capteur de flux. La structure du capteur de flux est de préférence munie d'une plaque plane 19 en un verre approprié ou en un matériau analogue. La plaque 19 comporte des ouvertures 10, 11, 12 de préférence dans la zone des surfaces de contact pour que ces surfaces de contact soient accessibles à partir de l'extérieur pour réaliser le contact. La figure 3 montre un autre mode de réalisation d'un capteur de flux selon l'invention pour que le courant passant par le segment de paroi soit aussi réduit que possible, on a rapproché étroitement les surfaces de contact pour commander la zone de chauffage 8 et/ou la zone de mesure 9 et le courant sort latéralement en passant par la seconde couche fonctionnelle 7 pour que la chaleur ne soit dégagée que dans la paroi proche de la première couche fonctionnelle 6. La première couche fonctionnelle 6 est installée pour que partant de la zone de contact 13 elle comporte un bras 16 décalé latéralement dans la première couche fonctionnelle 6, ce bras étant relié à l'autre zone de contact 14, voisine. On peut en outre prévoir l'alimentation du courant à travers une couche fortement dopée dans le substrat 2 ou dans une autre couche fonctionnelle dans laquelle on aura par exemple un chemin conducteur i o isolé. La figure 4 montre un autre mode de réalisation d'un capteur de flux selon l'invention. Dans cet exemple, entre deux zones de con-tact 20, 21 par lesquelles passe le courant de chauffage ou de mesure, on a un segment de paroi 22 du canal de fluide servant de zone de chauffage 8 ou de zone de mesure 9. Le segment de paroi 22 est formé comme dans le mode de réalisation précédent par la première et la seconde couche fonctionnelle 6, 7; toutefois la première couche fonctionnelle 6 n'est pas en liaison de conduction électrique avec le substrat ou avec la seconde couche fonctionnelle 7. Les zones de contact 20, 21 sont ainsi en liaison électrique uniquement avec la première couche fonctionnelle 6 dans la zone du segment de paroi 22. Le rétrécissement de section et/ou grâce à un dopage approprié, le segment de paroi 22 constitue la zone de plus grande résistance dans la branche de courant entre les zones de contact 20, 21 ce qui donnera la plus grande tension au bord du segment de paroi 22 dans le cas de la zone de chauffage 8 pour développer la chaleur dans ce segment de paroi 22. Lorsque le segment de paroi 22 constitue la zone de mesure 9, une variation de température du fluide qui passe produit une variation de résistance ce qui se traduit par une modification de la différence de tension de part et d'autre du segment de paroi 22. Si l'isolation électrique et thermique de la première couche fonctionnelle 6 se fait au niveau du segment de paroi 22 par dégagement par attaque chimique d'une couche sacrifiée, on formera ainsi dans le segment de paroi correspondant des ouvertures pour le canal de fluide 3 dans lesquelles le fluide pourra pénétrer. C'est pourquoi il est nécessaire de munir les parois du canal de fluide 3 d'une couche d'isolation 23 assurant l'isolation du canal de fluide 3 notamment le niveau du segment de paroi 22 en réalisant l'étanchéité et l'isolation électrique. Les figures 5a-5f montrent un procédé de fabrication d'un capteur de flux selon le mode de réalisation de la figure 4. On réalise une couche sacrifiée 31 d'épaisseur appropriée sur le substrat 30 par exemple une plaquette semi-conductrice (silicium). La couche sacrifiée 31 est par exemple du dioxyde de silicium SiO2. La couche sacrifiée 31 sert à réaliser non seulement l'isolation électrique des contacts pour les séparer les uns des autres pour que le courant passe par la paroi du canal, mais aussi une isolation thermique pour diminuer la déperdition calorifique dans le substrat. La couche sacrifiée 31 est structurée en la dégageant dans la zone des parois de canal 4, 5 et en laissant cette couche sacrifiée 31 sous la paroi du canal 5 uniquement dans la zone du segment de paroi 22. Selon la figure 5b on applique sur cette couche sacrifiée 31 une première couche fonctionnelle fortement ohmique de préférence sous la forme d'une couche épitaxiale polycristalline de préférence avec une couche de démar- rage 32 et une couche épitaxiale polycristalline 33. Après application de la première couche fonctionnelle 33 on planifie la couche. Sur la première couche fonctionnelle 6 on applique une couche d'arrêt de gravure 34 par exemple de dioxyde de silicium et on lui donne une structure de façon que toute la zone de résistance c'est-à-dire la zone de chauffage 8 ou la zone de mesure 9 soit couverte par la couche d'arrêt de gravure 34. Elle est utilisée pour l'isolation électrique et l'isolation thermique de la zone de chauffage 8 et de la zone de mesure 9 par rapport à la seconde couche fonctionnelle 7 appliquée sur celle-ci ainsi que comme couche d'arrêt de gravure 34 pour les zones d'alimentation. Sur la succession de couches ainsi obtenues on applique alors une seconde couche fonctionnelle 7 également sous la forme d'une couche épitaxiale polycristalline ayant une seconde couche de démarrage 35 et une seconde couche de matière épitaxiale polycristalline 36. La seconde couche fonctionnelle 7 est dopée pour qu'elle conduise bien le cou- rant électrique. Ensuite on applique sur cette couche une métallisation et on lui donne une structure pour former les surfaces de contact 37, 38 sur les zones de contact 39, 40. Ces surfaces de contact 37, 38 permettent alors de réaliser par liaison, le branchement électrique ultérieur pour la zone de chauffage 8 ou la zone de mesure 9. Ensuite, sur l'ensemble du système de couche on applique un masque de vernis 41 auquel on donne une structure protégeant les surfaces de contact 37, 38, les zones de contact 39, 40 et les parois de canal 4, 5 vis-à-vis de l'étape de gravure profonde exécutée ensuite. Puis on utilise un procédé de gravure approprié pour les deux couches fonctionnelles 6, 7 par exemple le procédé DRIE pour laisser la structure apparaissant à la figure 5d. Le procédé de gravure des deux couches fonctionnelles 6, 7 se termine à la couche sacrifiée 31 ou à la couche d'arrêt de gravure 34 que l'on enlève par un procédé de gravure suivant de la couche sacrifiée par exemple par une gravure en phase gazeuse ou gravure BOE. On dégage ainsi la première couche fonctionnelle 6 du segment de paroi 22 comme cela est indiqué à la figure 5e.La première et la seconde couche fonctionnelle 6, 7 du segment de paroi 22 sont uniquement tenues par les zones de la paroi de canal 4 dont la première et la seconde couche fonctionnelle 6, 7 n'ont pas été séparées par la couche d'arrêt de gravure 34 ou couche sacrifiée. Pour éviter que le fluide ne s'échappe par les ouvertures ainsi formées dans le segment de paroi il faut les fermer. Pour cela on dé-pose une couche d'isolation 23 permettant de fermer les ouvertures. Pour ne pas gêner par la couche d'isolation 23, la liaison anodique de la plaque 19 fermant la structure du capteur de flux on peut prévoir de dégager de nouveau les surfaces horizontales supérieures de la couche d'isolation 23 pour ne laisser couvertes que les surfaces verticales. En fermant ensuite la structure de capteur de flux (par exemple en réalisant une liaison anodique avec le verre structuré de manière appropriée qui comporte des trous de contact au niveau des surfaces de contact) on rend fonctionnel le composant pour permettre à un fluide de passer dans le canal de fluide fermé ainsi obtenu et passer sur le capteur de flux, latéral. La seconde couche fonctionnelle 7, fortement dopée conduit le courant des surfaces de contact 37, 38 vers la résistance de chauffage ou de mesure formée par la première couche fonctionnelle 6 à faible do-page (couche fortement ohmique) du segment de paroi 22. A l'opposé du mode de réalisation de la figure 1, la chute de tension ne se produit pas seulement sur un court segment en avant de la paroi du canal mais dans toute la zone du segment de paroi 22. Dans le cas de la zone de chauffage 8, la chaleur est formée directement au niveau du fluide, par une surface plus grande. La zone de mesure 9 a également une surface plus grande pour mesurer la température du fluide ce qui augmente la sensibilité de la mesure. A la figure 6 apparaît une zone de chauffage 45 et une zone de mesure 46 sur des côtés différents du canal de fluide de sorte que la variation de température mesurée dépend de la vitesse de diffusion dans le fluide transversalement à la direction d'écoulement et de la vitesse d'écoulement du fluide. Plus le fluide s'écoule rapidement et plus intense sera le signal mesuré jusqu'à ce que finalement la vitesse de diffusion n'est plus suffisamment rapide pour transporter la chaleur transversale-ment àtravers le canal. Dans une telle conception, la vitesse d'écoulement maximale ne doit pas dépasser une certaine valeur. L'avantage de ce to montage est de ne pas avoir de conducteur de chaleur dans la paroi entre la zone de chauffage et la zone de mesure de sorte que le transport de la chaleur est fait uniquement par le fluide. Selon la figure 7, la zone de mesure et la zone de chauffage se trouvent du méme côté de la paroi du canal. Dans ce mode de réalisa- tion, la chaleur n'est pas transportée uniquement par le fluide mais également par la matière, c'est-à-dire les couches fonctionnelles de la paroi du canal. La zone de chauffage 45 est installée en aval de la zone de me-sure 46. Plus le fluide circule rapidement dans le canal de fluide 3 et plus il transportera de chaleur avant que celle-ci ne puisse modifier la résistance de mesure par conduction thermique dans la paroi. La température dans la zone de mesure diminue de façon correspondante. En utilisant une zone de mesure de référence 47 offrant la même sensibilité et notamment ayant les mêmes dimensions géométriques que la zone de mesure on peut déterminer la température ambiante. En variante on peut également réaliser un montage triple composé de deux zones de mesure et d'une zone de chauffage installée entre les deux zones de mesure en exploitant alors les valeurs de mesure fournies par les deux zones de mesure. Cela permet de détecter des courants de fluide dans les deux directions du canal de fluide. La figure 8 montre un autre mode de réalisation du capteur de flux selon l'invention. Dans ce capteur, la structure décrite à la figure 1 est installée également sur le côté opposé de la paroi du canal mais néanmoins de façon à pouvoir mesurer un courant de fluide dans la di- rection opposée. Liste des références 1. Capteur de flux 2. Substrat 3. Canal de fluide 4. Paroi de canal 5. Paroi de canal 6. Première couche fonctionnelle 7. Seconde couche fonctionnelle I o 8. Zone de chauffage 9. Zone de mesure 10. Première surface de contact 11. Seconde surface de contact 12. Troisième surface de contact 13. Zone de contact 14. Autre zone de contact 16. Bras décalé latéralement de la première couche fonctionnelle 17. Couche d'arrêt de gravure 18. Couche sacrifiée 19. Plaque plane 20. Zone de contact 21. Zone de contact 22. Segment de paroi 23. Couche d'isolation 30. Substrat 31. Couche sacrifiée 32. Première couche de démarrage 33. Première couche épitaxiale polycristalline 34. Couche d'arrêt de gravure 35. Seconde couche de démarrage 36. Seconde couche épitaxiale polycristalline 37. Surface de contact 38. Surface de contact 39. Zone de contact 40. Zone de contact 41. Masque de vernis 61. Couche de démarrage 62. Couche épitaxiale polycristalline 71. Couche de démarrage 72. Couche épitaxiale polycristalline REVENDICATIONS 1 ) Capteur de flux intégré (1) pour déterminer un flux de fluide comprenant une première couche fonctionnelle (6) et une seconde couche fonctionnelle (7) appliquée sur la première couche fonctionnelle (6) et reliée électriquement à celle-ci, caractérisé en ce qu' - un canal de fluide (3) est réalisé dans les couches fonctionnelles (6, 7) pour guider un courant de fluide, - au moins une zone de chauffage (8) et au moins une zone de mesure (9) 1 o sont prévues au voisinage du canal de fluide (3), dans la zone de chauffage (8) et dans la zone de mesure (9), la première couche fonctionnelle (6) est soit non couverte par la seconde couche fonctionnelle (7) soit isolée de la seconde couche fonctionnelle (7) lors-que celle-ci se trouve par dessus, - la première couche fonctionnelle (6) ou la seconde couche fonctionnelle (7) présente une plus forte résistance au moins dans la zone de chauffage (8), et - le capteur de flux (1) peut être branché pour faire passer un courant de chauffage à travers la première ou la seconde couche (6, 7) de la zone de chauffage (8) et/ ou pour mesurer une valeur de résistance de la première ou de la seconde couche fonctionnelle (6, 7) dans la zone (9), - le flux de fluide se déterminant en fonction de la valeur de la résistance mesurée pour une puissance de chauffage constante ou par la puissance de chauffage demandée en cas de valeur prédéfinie de la résis- tance. 2 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la première couche fonctionnelle (6) a une résistance spécifique plus élevée que la seconde couche fonctionnelle (7). 3 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que le courant de chauffage passe par la paroi du canal de flux (3) situé sur le 35 côté de la zone de chauffage (8). 4 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la résistance se mesure par la mesure d'un courant de mesure obtenu en appliquant une tension de mesure, le courant de mesure étant conduit par la paroi du canal de fluide (3) situé du côté de la zone de mesure. 5 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la première couche fonctionnelle (6) est appliquée sur un substrat (2), et dans la zone de chauffage (8) et/ou dans la zone de mesure (9), la première couche fonctionnelle (6) est isolée électriquement par rapport au substrat. 6 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la première couche fonctionnelle (6) est appliquée sur un substrat (2) et 15 dans la zone de chauffage (8) cette première couche fonctionnelle (6) est isolée thermiquement du substrat. 7 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la zone de chauffage (8) et/ou la zone de mesure (9) sont formées par un segment de paroi (22) du canal de fluide (3), la seconde couche fonctionnelle (7) du segment de paroi (22) étant isolée d'une zone de contact assurant le contact de la première couche fonctionnelle (6), et la seconde couche fonctionnelle (7) du segment de paroi est isolée de la première couche fonctionnelle (6) pour que la zone de chauffage (8) et/ou la zone de mesure (9) soient formées par la première couche fonctionnelle (6) du segment de paroi (22). 8 ) Capteur de flux (1) selon la revendication 7, caractérisé en ce qu' au moins la paroi intérieure du segment de paroi (22) du canal de fluide (3) est munie d'une couche d'isolation (23). 9 ) Procédé de fabrication d'un capteur de flux (1), caractérisé par les étapes suivantes: - application d'une couche sacrifiée (18) sur un substrat (2), cette couche sacrifiée (18) étant mise en structure pour former les parois (4, 5) d'un canal de fluide (3) du capteur de flux (1), - application d'une première couche fonctionnelle (6) avec une résistance 5 électrique spécifique élevée, - application d'une couche d'arrêt de gravure (17) sur la première couche fonctionnelle (6), la couche d'arrêt de gravure (17) étant structurée pour définir une zone de chauffage (8) et une zone de mesure (9) dans le capteur de flux (1), I o - application d'une seconde couche fonctionnelle (7) ayant une résistance électrique spécifique plus faible, - application de surfaces de contact (10, 11, 12) pour le branchement électrique de la zone de chauffage (8) et de la zone de mesure (9), - masquage des surfaces de contact (10, 11, 12) et des parois (4, 5) du canal de fluide, - gravure profonde des couches fonctionnelles (6, 7) sans attaquer les surfaces de contact masquées (10, 11, 12) et les parois (4, 5), et libération de la couche sacrifiée (18). 10 ) Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce qu' on enlève la couche sacrifiée (18) une fois libérée par un procédé de gravure de couche sacrifiée pour enlever la couche sacrifiée (18) sous la première couche fonctionnelle (6) dans la zone de chauffage (8) et dans la zone de mesure (9). 11 ) Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce qu' après avoir réalisé la structure de la couche d'arrêt de gravure (31) on ap- plique une autre couche sacrifiée pour définir un segment de paroi (22) dans la paroi (4, 5) du canal de fluide (3), segment réalisé en forme de zone de chauffage (8) ou de zone de mesure (9), l'autre couche sacrifiée étant réalisée pour être enlevée par le procédé de gravure de la couche sacrifiée, pour que la première et la seconde couche fonctionnelle (6, 7) du segment de paroi (22) soient isolées électriquement de l'autre. 12 ) Procédé selon la revendication 9, caractérisé par au moins une couche d'isolation (23) appliquée sur le segment de paroi (22) de la paroi (4) du canal de fluide (3).