FR 2846776 A1 20040507 FR 0213615 A 20021030 CELLULE MEMOIRE TROIS TATS La présente invention concerne le domaine des cellules mémoire réalisées en circuit intégré. Plus particulièrement, l'invention concerne la réalisation d'une cellule mémoire à partir de laquelle on puisse distinguer un état non programmé 5 (issu de fabrication) de la cellule de deux états programmés et, plus généralement, distinguer le fait que la cellule mémoire ait été programmée dans un état quelconque après sa fabrication. Aujourd'hui, pour remplir une telle fonction, on a généralement recours à des mémoires dites multi-niveaux associées à un 10 compteur sur deux bits en éléments fusibles afin de verrouiller ou mémoriser une première programmation. L'interprétation des deux bits du compteur permet d'obtenir trois états pour la mémoire ainsi constituée. La présente invention vise à proposer une cellule 15 mémoire à trois états ou au moins à détection d'un état non programmé de la cellule, qui fournisse le résultat sur un bit unique. L'invention vise, plus particulièrement, à éviter le recours à un compteur pour isoler les états respectifs de la 20 cellule. L'invention vise également à proposer une cellule à programmation irréversible. L'invention vise en outre à proposer une cellule mémoire qui soit compatible avec un arrangement matriciel. Pour atteindre ces objets et d'autres, la présente invention prévoit une cellule mémoire à au moins deux états 5 détectables parmi lesquels un état non programmé, comprenant, en série entre deux bornes d'application d'une tension de lecture, au moins une première branche comportant: un étage de préfecture comprenant, en parallèle, deux résistances commutables ayant des valeurs différentes d'un 10 premier écart prédéterminé; et un étage de programmation constitué d'une résistance de programmation en silicium polycristallin, une borne de la résistance de programmation étant accessible par un circuit de programmation propre à provoquer une diminution irréversible de 15 sa valeur. Selon un mode de réalisation de la présente invention, ladite diminution de la valeur de la résistance de programmation est prédéterminée et choisie pour être supérieure audit premier écart entre les résistances de l'étage de préfecture. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la cellule comporte des commutateurs propres à appliquer une tension de programmation supérieure à la tension de lecture aux bornes de la résistance de programmation. Selon un mode de réalisation de la présente invention, 25 la cellule comporte au moins un interrupteur d'isolement de l'étage de prélecture par rapport à l'étage de programmation. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la lecture de l'état de la cellule est effectuée en deux étapes successives au cours desquelles lesdites résistances commutables 30 de l'étage de préfecture sont sélectionnées alternativement. Selon un mode de réalisation de la présente invention, ladite borne de la résistance de programmation constitue une borne de lecture de la cellule propre à être reliée à une première borne d'un amplificateur de lecture dont une deuxième 35 borne reçoit au moins une tension de référence choisie pour être un niveau intermédiaire entre le niveau de tension pris par la borne de lecture dans les deux phases de lecture, alors que la résistance de programmation est dans un état non programmé. Selon un mode de réalisation de la présente invention, 5 la cellule comporte une deuxième branche de structure identique à la première, chaque résistance programmable étant connectée à la borne d'application de la tension de lecture opposée à l'étage de prélecture, par un transistor monté en bascule avec le transistor de l'autre branche. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les résistances commutables de la deuxième branche sont commandables en même temps que les résistances commutables de la première branche, de façon à ce que les valeurs respectives des résistances sélectionnées dans chacune des branches soient inversées. 15 Selon un mode de réalisation de la présente invention, la diminution irréversible de valeur susceptible d'être appliquée aux résistances de programmation est choisie pour être supérieure à la somme de l'écart entre les résistances de préfecture et d'un troisième écart de valeur nominale entre les 20 résistances de programmation dans un état non programmé. L'invention prévoit également un procédé de commande en lecture et en écriture d'une cellule mémoire à au moins deux états. Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que 25 d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: la figure 1 représente un mode de réalisation d'une 30 cellule mémoire selon la présente invention; la figure 2 illustre, sous forme de chronogrammes, le fonctionnement d'une cellule mémoire telle que représentée en figure 1; la figure 3 représente un mode de réalisation d'un 35 circuit logique de commande en programmation selon l'invention; la figure 4 illustre, par une vue partielle en perspective, un mode de réalisation d'une résistance en silicium polycristallin constituant chacun des éléments de mémorisation de la cellule de la figure 1; la figure 5 illustre, par un réseau de courbes, la programmation d'un élément de mémorisation tel qu'illustré par la figure 4; et la figure 6 représente une variante de réalisation d'une cellule mémoire selon l'invention. Les mêmes éléments ont été désignés par les mêmes références aux différentes figures. Pour des raisons de clarté, seuls les éléments qui sont nécessaires à la compréhension de l'invention ont été représentés aux figures et seront décrits par la suite. En particulier, les circuits exploitant les états 15 possibles d'une cellule mémoire selon l'invention ou d'un réseau de plusieurs cellules mémoire de ce type n'ont pas été détaillés. L'invention pourra être mise en oeuvre quelle que soit l'utilisation faite de l'état détecté. La figure 1 représente un premier mode de réalisation 20 d'une cellule mémoire selon l'invention à au moins deux états détectables parmi lesquels un état non programmé. Cette cellule 1 comporte deux branches parallèles 2, 3 identiques entre des bornes 4 et 5 d'application d'une tension d'alimentation Vr, la borne 5 représentant généralement la 25 masse. Chaque branche 2, 3 comporte un étage 6, 7 de préfecture en série avec un étage respectivement 8, 9 de programmation. Chaque étage 6, 7 de préfecture comporte, en parallèle entre la borne 4 et l'étage de programmation 8 ou 9 correspondant (borne 10, respectivement 11), deux résistances commutables Rgl et Rg2, 30 respectivement Rg3 et Rg4. La commutation de ces résistances, c'est-à- dire l'introduction de chacune des résistances dans le circuit est assurée au moyen d'un interrupteur Kl, K2, K3 ou K4, respectivement. Les interrupteurs Kl et K3 commutant les résistances Rgl et Rg3 des branches 2 et 3 sont commandés ensemble au 35 moyen d'un premier signal de préfecture Pll. Les interrupteurs K2 et K4 d'introduction dans le circuit des résistances Rg2 et Rg4 sont commandés par un deuxième signal P12. Selon l'invention, les résistances Rgl, Rg2, Rg3, Rg4 sont choisies pour avoir deux à deux des valeurs identiques avec une 5 commande inversée. En d'autres termes, les valeurs des résistances Rgl et Rg4 sont identiques, alors que les valeurs des résistances Rg2 et Rg3 sont identiques et supérieures d'une quantité prédéterminée ARg par rapport aux deux autres résistances. Chaque étage de programmation 8, 9 comporte, en série 10 entre l'étage de préfecture correspondant 6 ou 7 (bornes 10, 11), un commutateur K10, Kil d'isolement de l'étage de préfecture par rapport à l'étage de programmation, une résistance programmable Rpl, Rp2 et un transistor (par exemple, MOS à canal N) de confirmation de lecture MNl, MN2. Les grilles 15 respectives des transistors MN1 et MN2 sont croisées c'est-àdire que la grille du transistor MNl de la branche 2 est connectée au point milieu 13 de l'association en série de la résistance Rp2 avec le transistor MN2 de la branche 3 tandis que la grille du transistor MN2 est connectée au point milieu 12 de 20 la connexion en série de la résistance Rpl avec le transistor MN1. Les points milieu 12 et 13 constituent les bornes de sortie, respectivement directe (état L) et inverse de la cellule 1. Selon l'invention, les résistances Rpl et Rp2 sont des 25 résistances en silicium polycristallin dont la valeur est programmable par diminution irréversible, comme cela sera exposé par la suite en relation avec les figures 3 et 4. Pour l'instant, on se contente de noter que si une des résistances Rpl ou Rp2 en silicium polycristallin est soumise à un courant 30 supérieur au courant pour lequel sa valeur est maximale, on assiste à une diminution irréversible de la valeur de sa résistance lorsque l'on revient à des courants situés dans la plage nominale de fonctionnement. La plage nominale de courants de fonctionnement d'une résistance en silicium polycristallin 35 utilisée selon l'invention est inférieure à la centaine de microampères et, le plus souvent, inférieure à la dizaine de microampères. L'amplitude des courants de programmation est de l'ordre du milliampère. Un courant de programmation des résistances Rpl et Rp2 telles qu'il soit supérieur au courant 5 pour lequel la résistance correspondante présente une valeur maximale est obtenu en appliquant, entre les bornes 14 et 12, respectivement 15 et 13, de ces résistances, une tension Vp de programmation supérieure à la tension Vr d'alimentation normale de la cellule. En variante, la tension Vp est, comme cela est 10 représenté en figure 1, appliquée entre les bornes 14, respectivement 15, et la masse 5 pourvu que les transistors de lecture MN1 et MN2 puissent supporter la tension correspondante. La sélection de celle des résistances Rpl ou Rp2 soumise à un courant de programmation est effectuée au moyen d'interrupteurs 15 (par exemple, des transistors MOS) K14, K15 reliant respectivement les bornes 14 et 15 des résistances Rpl et Rp2 à une borne 16 d'application de la tension de programmation Vp. Les interrupteurs K10 et Kîl de programmation ont pour rôle essentiel d'isoler l'étage de prélecture d'une program20 mation de l'étage inférieur de la cellule de façon à protéger les résistances Rgl à Rg4 et les interrupteurs Kl à K4 de l'application d'une tension qui pourrait s'avérer destructrice pour ces composants. Selon une variante de réalisation, le rôle joué par 25 les interrupteurs K10, Kîl peut être rempli par les interrupteurs Kl, K2, K3, K4 si ces derniers peuvent tenir la différence de tension entre la tension de programmation Vp et la tension de lecture Vr. Selon l'invention, les résistances Rpl et Rp2 sont 30 choisies pour présenter des valeurs nominales différentes d'une quantité E. L'application de la tension de programmation Vp à l'une des deux résistances est alors choisie pour provoquer une différence de valeur entre la résistance programmée et l'autre résistance restant à sa valeur nominale, d'une quantité ARp, 35 supérieure à la quantité E. Selon la présente invention, les relations entre les valeurs des différentes résistances et leurs écarts respectifs sont choisies de la façon suivante: - l'écart ARg entre les résistances de préfecture Rgl 5 de valeur Rg et Rg3, respectivement Rg4 de valeur Rg et Rg2, est choisi pour être supérieur au déséquilibre initial (natif) E entre les résistances de programmation Rpl et Rp2, en s'assurant que cette relation soit respectée quelles que soient les dispersions de fabrication entre les résistances; et - la quantité ARp de différenciation des résistances programmables Rpl et Rp2 est choisie pour être supérieure à la somme de l'écart ARg entre les résistances de prélecture et de l'écart natif E entre les résistances de programmation Rpl et Rp2. De préférence, l'écart E est choisi pour être le plus faible possible en restant compatible avec les dispersions technologiques de fabrication. En d'autres termes, cet écart E correspond approximativement aux dispersions technologiques maximales de fabrication possibles dans l'ensemble des résis20 tances, y compris celles des interrupteurs à l'état passant en série avec celles-ci. La figure 2 illustre, par des chronogrammes représentant respectivement des exemples d'allures des signaux Pl, P12 et L en fonctions des valeurs des résistances Rpl et Rp2, le 25 fonctionnement d'une cellule mémoire 1 telle qu'illustrée en figure 1. La figure 2 représente les trois états possibles de la cellule, à savoir: état non programmé; programmation à l'état 1; et programmation à l'état 0. Selon l'invention, une lecture de l'état de la cellule 30 mémoire est effectuée en deux étapes. En partie gauche de la figure 2, on suppose un état non programmé de la cellule. Dans une première étape (A), on active un des signaux Pli ou P12 (par exemple, le signal PlF à un instant ti o il ferme les interrupteurs Kl et K3). 35 S'agissant d'une lecture, on suppose que les interrupteurs K10 et Kîl sont fermés tandis que les interrupteurs K14 et K15 sont ouverts, de même que les interrupteurs K2 et K4, le signal P12 et les signaux Pgl et Pg2 étant à l'état inactif. Comme la résistance Rg3 est égale à Rg + ARg, et que les résistances Rpl 5 et Rp2 sont dans leurs états issus de fabrication (c'est-à-dire non programmés et présentant des valeurs respectives Rnom et Rnom + E), la résistance totale de la branche 2 est égale à Rg + Rnom alors que la résistance totale de la branche 3 est égale à Rg + ARg + Rnom + E. Il en découle un déséquilibre entre 10 les potentiels des noeuds 12 et 13, le potentiel du noeud 12 étant supérieur à celui du noeud 13. Il s'ensuit une conduction plus rapide du transistor MN2, ce qui stabilise l'état ainsi détecté en ouvrant le transistor MN1. Dans cet exemple, l'état L est alors un état haut (1). Cet état haut, noté 1 par 15 convention, est mémorisé, par exemple dans un registre temporaire (non représenté) associé à la mémoire ou au circuit d'exploitation des résultats de lecture. La première étape A de lecture se termine à un instant t2 par l'ouverture des commutateurs Kl et K3. A un instant t3, légèrement postérieur 20 pour éviter une conduction simultanée dans les deux résistances de chaque branche, on active le signal P12 pour fermer les commutateurs K2 et K4. L'ouverture des interrupteurs Kl et K3 entre les instants t2 et t3 a rendu l'état L (noeud 12) de sortie flottant (illustré par une croix en figure 2). A 25 l'instant t3, la mise en conduction des interrupteurs K2 et K4 conduit à ce que la résistance globale de la branche 2 est Rg + ARg + Rnom alors que la résistance globale de la branche 3 est Rg + Rnom + E. Comme les résistances Rgl à Rg4 sont dimensionnées pour que la quantité ARg soit supérieure à E, la 30 résistance de la branche 2 est désormais supérieure à celle de la branche 3. Il en découle un déséquilibre inversé de la cellule mémoire dans la deuxième étape B de lecture, le potentiel du point 12 étant inférieur à celui du point 13. Cet état bas (noté O par convention) en sortie se retrouve comme 35 précédemment stabilisé par les transistors MN1 et MN2. On constate donc que, si avec deux lectures successives de la cellule en inversant les signaux Pll et P12, on obtient deux états successifs différents sur la même borne 12, cela signifie que la cellule 1 est vierge, c'est-à-dire dans un état non programmé tel qu'issu de fabrication. Supposons désormais que l'une des résistances Rpl ou Rp2 (par exemple, la résistance Rpl) a été programmée par diminution irréversible de sa valeur (portion centrale de la figure 2). Une telle programmation est, selon l'invention, 10 prévue pour diminuer la valeur de la quantité ARp. En reproduisant un cycle de lecture constitué des deux étapes A et B, on commence par fermer les interrupteurs Kl et K3. La résistance totale de la branche 2 est Rg + Rnom - ARp. La résistance de la branche 3 est Rg + ARg + Rnom + E. Le désé15 quilibre des résistances entre les deux branches (supérieure dans la branche 3) conduit à un état haut sur le noeud 12, comme précédemment confirmé par les transistors MN1 et MN2. Dans la deuxième étape B de lecture (fermeture des interrupteurs K2 et K4) , la résistance globale de la branche 2 est Rg + ARg + Rnom - ARp. 20 La résistance de la branche 3 est Rg + Rnom + E. Comme ARp est supérieure à ARg, la résistance de la branche 3 reste supérieure à la résistance de la branche 2. Par conséquent, on assiste encore à un état haut sur le noeud 12. On est donc en présence d'un état programmé 1 qui se différencie bien de l'état vierge V 25 décrit précédemment. Supposons maintenant une programmation par diminution irréversible de sa valeur de la résistance Rp2 d'une quantité ARp, la résistance Rpl restant à la valeur nominale Rnom (partie droite de la figure 2). Dans la première étape A de lecture, la résistance globale de la branche 2 est Rg + Rnom alors que la résistance globale de la branche 3 est Rg + ARg + Rnom + E - ARp. Comme ARp est choisie pour être supérieure à la somme ARg + E, la résistance de la branche 3 est inférieure à la résistance de la 35 branche 2. Il en découle un état L bas sur la borne 12 pendant la première étape de lecture. Dans la deuxième étape B de lecture, la résistance globale de la branche 2 est Rg + ARg + Rnom alors que la résistance de la branche 3 est Rg + Rnom + E - ARp. Comme ARp est supérieure à E, la résistance de la branche 3 est là 5 encore inférieure à la résistance de la branche 2. On retrouve donc, dans la deuxième étape de lecture, encore un état L bas sur la borne 12. Cet état bas correspond à un état 0 programmé de la cellule mémoire. De ce qui précède, on voit bien que le seul cas o 10 l'état de la borne de lecture de la cellule mémoire est différent dans les deux étapes de lecture est le cas o la cellule est vierge, c'est-à-dire n'a jamais été programmée. Dans la description qui précède, on a pas tenu compte des résistances série dans les interrupteurs à l'état passant 15 dans la mesure o ces résistances ont des contributions identiques sur les deux branches (aux dispersions technologiques près, dont on peut tenir compte dans la détermination de la quantité E). On notera que la cellule mémoire 1 de la figure 1 20 pourrait être reprogrammée un nombre limité de fois après une première programmation. En effet, on pourrait provoquer une diminution de la valeur de celle des deux résistances Rpl et Rp2 qui n'a pas été programmée lors d'une première programmation pour, soit revenir vers l'état vierge, soit programmer la 25 cellule dans un état inverse. Toutefois, selon un mode de réalisation préféré de réalisation, appliqué notamment à des applications dites sécuritaires, on souhaite garantir que la cellule ne puisse être reprogrammée ni retrouver un état vierge après une première 30 programmation. Pour cela, avant d'effectuer (d'autoriser) une programmation, il faut vérifier que la lecture de la sortie L indique bien que la cellule est vierge. La figure 3 représente un mode de réalisation d'un circuit 20 de commande en programmation permettant d'atteindre 35 cet objectif. En figure 3, la cellule 1 n'a pas été représentée. En fait, le circuit de la figure 3 permet de générer les signaux Pgl et Pg2 de commande des interrupteurs K14 et K15, lors d'une commande en programmation d'un état DATA, identifiée par un état haut sur le signal Pg. Le circuit 20 comporte deux bascules 21 et 22 recevant respectivement sur leurs entrées d'horloge les signaux PlF et P12 inversés et dont les entrées de donnée sont reliées au noeud 12 de sortie de la cellule fournissant le signal L. Les sorties directes des bascules 21 et 22 sont reliées aux entrées d'une 10 porte 23 de type OU-Exclusif (XOR). La sortie de la porte 23 est reliée en entrée de données d'une bascule 24 dont l'entrée d'horloge reçoit l'inverse d'un signal Rd de commande en lecture, actif à l'état haut. La bascule 24 est donc déclenchée par le front descendant du signal Rd indiquant la fin d'un cycle 15 de lecture. La sortie de la bascule 24 est reliée à des entrées de deux portes 25 et 26 de type ET (AND) à trois entrées dont les sorties respectives fournissent les signaux Pgl et Pg2 à destination des interrupteurs K14 et K15. Les portes 25 et 26 reçoivent également le signal Pg de demande de programmation, 20 ainsi que le signal DATA fournissant l'état du bit à programmer, le signal DATA traversant un inverseur 27 avant d'arriver sur la porte 26. La programmation d'un état 0 ou 1 dans la cellule 1 par la fermeture d'un des interrupteurs K14 et K15 n'est 25 autorisée par une des portes 25 et 26 que si la bascule 24 fournit un état haut. Or, un état haut en sortie de la bascule 24 ne peut intervenir que si, lors du front descendant du signal Rd indiquant la fin du cycle de lecture de la cellule 1, seule une des bascules 21 et 22 fournit un état haut. Comme les 30 bascules 21 et 22 sont commandées par les inverses respectifs des signaux Pl et P12, elles lisent les états présents en sortie de la cellule 1 à l'issue des deux phases de lecture (A et B, figure 2). Par conséquent, c'est seulement si la cellule est vierge que la porte 23 fournira un état haut et autorisera 35 une programmation à l'issue du cycle de lecture. La réalisation d'un tel circuit en logique câblée permet de garantir une programmation unique et irréversible de la cellule 1. En variante, le courant de programmation des 5 résistances Rpl et Rp2 est choisit de telle sorte que la valeur atteinte par une résistance programmée soit telle que l'autre résistance ne puisse prendre une valeur encore inférieure (par exemple, par application du même courant de contrainte). Un avantage de l'invention est qu'elle permet 10 d'enregistrer de façon irréversible une première programmation de la cellule mémoire après sa fabrication, en rendant cette programmation détectable par l'analyse d'un seul bit de sortie de la cellule. Un autre avantage de l'invention est qu'elle permet de 15 réaliser une cellule mémoire à trois états à programmation unique. La figure 4 représente un mode de réalisation d'une résistance en silicium polycritallin constituant l'une des résistances Rpl ou Rp2 de la cellule caractéristique de 20 l'invention. Une telle résistance (désignée par 31 en figure 4) est constituée d'une piste (dite aussi barreau) en silicium polycristallin obtenue par gravure d'une couche déposée sur un substrat 32 isolant. Le substrat 32 est indifféremment direc25 tement constitué du substrat du circuit intégré ou est constitué d'une couche isolante formant un substrat isolant ou équivalent pour la résistance 31. La résistance 31 est connectée, par ses deux extrémités, à des pistes conductrices (par exemple, métalliques) 33 et 34 destinées à raccorder le barreau résistif 30 aux autres éléments du circuit intégré. La représentation schématique de la figure 4 ne fait pas référence aux différentes couches isolantes et conductrices constituant généralement le circuit intégré. Pour simplifier, on s'est contenté de représenter le barreau résistif 31 posé sur le substrat isolant 32 et 35 en contact, par les extrémités de sa face supérieure, avec les deux pistes métalliques 33 et 34. En pratique, les liaisons de l'élément résistif 31 aux autres composants du circuit intégré sont obtenues par des pistes plus larges en silicium polycristallin partant des extrémités du barreau 31 dans l'ali5 gnement de celui-ci. En d'autres termes, l'élément résistif 31 est généralement formé en rendant un tronçon d'une piste en silicium polycristallin plus étroit que le reste de la piste. La résistance R de l'élément 31 est donnée par la formule suivante: R = p(L/s), o p désigne la résistivité du matériau (silicium polycristallin le cas échéant dopé) constituant la piste dans laquelle est gravé l'élément 31, o L désigne la longueur de l'élément 31, et o s désigne sa section, c'est-à-dire sa 15 largeur 1 par son épaisseur e. La résistivité p de l'élément 31 dépend, entre autres, du dopage éventuel du silicium polycristallin le constituant. Le plus souvent, lors de la réalisation d'un circuit intégré, on prévoit les résistances en faisant référence à une 20 notion dite de résistance par carreau RFj (square résistance). Cette résistance par carreau se définit comme étant la résistivité du matériau divisée par l'épaisseur avec laquelle il est déposé. En reprenant la relation ci-dessus donnant la résistance d'un élément 31, la résistance est donc donnée par la 25 relation: R = R- * L/l. Le quotient L/1 correspond à ce que l'on appelle le nombre de carreaux (square number) constituant l'élément résistif 31. Cela représente, vu de dessus, le nombre de carreaux de 30 dimension donnée en fonction de la technologie, mis côte à côte pour former l'élément 31. La valeur de la résistance en silicium polycristallin est donc définie, à la fabrication, d'après les paramètres cidessus, conduisant à des résistivités et résistances dites nomi35 nales. Généralement, l'épaisseur e du silicium polycristallin est fixée par d'autres paramètres de fabrication du circuit intégré. Par exemple, cette épaisseur est fixée par l'épaisseur souhaitée pour les grilles des transistors MOS du circuit intégré. Une caractéristique de la présente invention est d'imposer temporairement, dans une résistance en silicium polycristallin (Rp) dont on souhaite diminuer irréversiblement la valeur, un courant de programmation ou de contrainte supérieur à un courant pour lequel la résistance passe par une 10 valeur maximale, ce courant étant au-delà de la plage de courants de fonctionnement normal (en lecture) de cette résistance. En d'autres termes, on diminue la résistivité du silicium polycristallin dans la plage de courants de fonctionnement, de façon stable et irréversible, en imposant tempo15 rairement dans l'élément résistif correspondant la circulation d'un courant au-delà de la plage de courants de fonctionnement. Une autre caractéristique de l'invention est que le courant servant à diminuer la valeur de la résistance est, à la différence d'un élément fusible, non destructif pour l'élément 20 en silicium polycristallin. La figure 5 illustre, par un réseau de courbes donnant la résistance d'un élément en silicium polycristallin du type de celui représenté en figure 4 en fonction du courant le traversant, un mode de mise en oeuvre de la présente invention 25 pour programmer la résistance de la cellule mémoire. On suppose que le silicium polycristallin ayant servi à la fabrication de l'élément résistif 31 (Rp) présente une résistivité nominale conférant à l'élément 31, pour les dimensions 1, L et e données, une valeur de résistance Rnom. 30 Cette valeur nominale (d'origine) de la résistance correspond à la valeur prise de façon stable par l'élément résistif 31 dans la plage de courants de fonctionnement du système, c'est-à-dire généralement pour des courants inférieurs à 100 pA. Selon l'invention, pour diminuer la valeur de la 35 résistance et passer de façon irréversible et stable, par exemple, à une valeur Ri inférieure à Rnom, on applique aux bornes de l'élément résistif 31 un courant (par exemple Il), dit de contrainte, supérieur à un courant Im pour lequel la valeur de la résistance R de l'élément 31 est maximale sans toutefois 5 être infinie. Comme l'illustre la figure 5, une fois que ce courant Il a été appliqué à l'élément résistif 31, on obtient, dans la plage Ai de courants de fonctionnement du circuit intégré, une résistance stable de valeur Ri. En fait, l'allure Snom de la résistance en fonction du courant est stable pour des 10 courants relativement faibles (inférieurs à 100 pA) . Cette allure se met à croître pour des courants sensiblement supérieurs de l'ordre de quelques milliampères, voire plus (plage A2). C'est dans cette plage de courants que l'allure Snom passe par un maximum pour la valeur Im. La résistance décroît 15 ensuite progressivement. En figure 5, on a illustré une troisième plage A3 de courants correspondant à la plage généralement utilisée pour réaliser des fusibles. Il s'agit de courants de l'ordre du dixième d'ampère o la résistance se met à croître brusquement jusqu'à devenir infinie. Par conséquent, 20 on peut considérer que l'invention utilise la plage intermédiaire A2 de courants entre la plage de fonctionnement Al et la plage destructrice A3, pour diminuer de façon irréversible la valeur de la résistance ou plus précisément de la résistivité de l'élément en silicium polycristallin. En effet, une fois passé le maximum de l'allure Snom de la résistivité en fonction du courant, la valeur prise par la résistance dans la plage de courants de fonctionnement se trouve inférieure à la valeur Rnom. La nouvelle valeur, par exemple Ri, dépend de la valeur la plus élevée du courant (ici, Il) qui a 30 été appliquée pendant la phase de diminution irréversible. On notera en effet que la diminution irréversible opérée par l'invention s'effectue dans une phase spécifique de programmation, hors du fonctionnement normal en lecture (plage Al) du circuit intégré, c'est-àdire hors du fonctionnement normal de 35 la résistance. Le cas échéant, une fois que la valeur de la résistance en silicium polycristallin a été abaissée vers une valeur inférieure (par exemple Ri en figure 5), on peut encore procéder à une diminution irréversible de cette valeur. Il 5 suffit pour cela de dépasser le courant maximum Il de la nouvelle allure Si de la résistance en fonction du courant. Par exemple, on peut accroître la valeur du courant jusqu'à atteindre une valeur I2. Quand le courant est alors de nouveau diminué, on obtient une valeur R2 pour la résistance dans sa 10 plage de fonctionnement normal. La valeur R2 est inférieure à la valeur Ri et, bien sr, à la valeur Rnom. On voit que toutes les allures de la résistance en fonction du courant se rejoignent sur la pente de décroissance de la valeur de la résistance, après être passé par le maximum 15 de l'allure. Ainsi, pour un élément résistif donné (p, L, s), les courants Il, I2, etc. qui doivent être atteints, pour passer à une valeur de résistance inférieure, sont indépendants de la valeur de la résistance (Rnom, Ri, R2) à partir de laquelle on provoque la diminution. Ce qui a été exprimé ci-dessus comme valeur de résistance correspond en fait à une diminution de la résistivité du silicium polycristallin constituant l'élément résistif. Les inventeurs considèrent que l'on assiste à une modification stable de la structure cristalline du silicium polycristallin et 25 que l'on assiste, en quelque sorte, à un fluage du matériau, la structure cristalline finale obtenue dépendant du courant maximum atteint. En fait, le courant de contrainte provoque une élévation de température de l'élément en silicium, ce qui entraîne son fluage. Bien sr, on veillera à ne pas dépasser la plage de courants de programmation A2 (de l'ordre de quelques milliampères) afin de ne pas risquer de détruire la résistance en silicium polycristallin. Cette précaution ne posera en pratique pas de problème dans la mesure o l'utilisation du silicium 35 polycristallin pour constituer un fusible requiert des courants nettement plus élevés (de l'ordre du dixième d'ampère) qui ne sont pas disponibles une fois le circuit fabriqué. La réalisation pratique d'une résistance en silicium polycristallin selon l'invention ne diffère pas de la réali5 sation d'une résistance classique. Partant d'un substrat isolant, on dépose une couche de silicium polycristallin que l'on grave en fonction des dimensions souhaitées pour la résistance. Comme l'épaisseur de silicium polycristallin déposée est généralement fixée par la technologie, les deux dimensions que l'on 10 peut régler sont la largeur et la longueur. Généralement, on redépose un isolant sur le barreau de silicium polycristallin ainsi obtenu. Dans le cas d'une interconnexion en ligne, on aura modifié la largeur 1 par rapport aux pistes d'accès plus larges pour être fortement conductrices. Dans le cas d'un accès aux 15 extrémités du barreau par le dessus comme cela est illustré en figure 4, on réalisera des vias dans l'isolant surjacent (non représenté) du barreau de silicium polycristallin pour connecter des pistes métalliques 33 et 34 de contact. En pratique, pour disposer de la capacité de réglage 20 de résistance la plus importante avec un courant de contrainte minimum, on cherchera à utiliser une épaisseur minimale et une largeur minimale pour les éléments résistifs. Dans ce cas, seule la longueur L conditionne la valeur nominale de la résistance une fois la structure du silicium polycristallin fixée. Le 25 dopage éventuel du silicium polycristallin, quel que soit son type, n'entrave pas la mise en oeuvre de l'invention. La seule différence liée au dopage est la résistivité nominale avant contrainte et les résistivités obtenues pour des courants de contraintes donnés. En d'autres termes, pour un élément de 30 dimensions données, cela conditionne le point de départ de la valeur de la résistance, et par voie de conséquence, les valeurs de résistance obtenues pour des courants de contrainte donnés. Pour passer de la valeur nominale à une valeur de résistance ou résistivité inférieure, on peut selon l'invention 35 utiliser plusieurs méthodes. Selon un premier mode de mise en oeuvre, on fait croître progressivement (pas à pas) le courant dans la résistance. Après chaque application d'un courant supérieur, on revient dans la plage de courants de fonctionnement et on mesure la 5 valeur de la résistance. Tant que le point Im de courant n'est pas atteint, cette valeur de résistance restera à la valeur Rnom. Dès que le point Im en courant est dépassé, on change de courbe (allure S) et la valeur mesurée lorsque l'on repasse sur les courants de fonctionnement devient une valeur inférieure à 10 la valeur Rnom. Si cette nouvelle valeur convient, on en reste là. Dans le cas contraire, on réapplique des courants supérieurs pour dépasser la nouvelle valeur maximale de l'allure courante. Dans ce cas, il n'est pas nécessaire de repartir des courants minimaux comme lorsque l'on démarre de la résistance nominale. 15 En effet, la valeur du courant pour laquelle la résistance va de nouveau diminuer est forcément supérieure à la valeur du courant de contrainte Il appliqué pour passer sur l'allure courante. La détermination du pas à appliquer est à la portée de l'homme du métier et n'est pas critique en ce qu'elle conditionne 20 essentiellement le nombre de diminutions possibles. Plus le pas est élevé, plus les sauts entre les valeurs seront importants. Selon un deuxième mode de mise en oeuvre préféré, on prédétermine, par exemple par mesures, les différents courants à appliquer pour passer des différentes valeurs de résistance Rnom 25 et Rnom + E aux valeurs inférieures Rnom - ARp et Rnom + E - ARp. Cette prédétermination tient compte bien entendu de la nature du silicium polycristallin utilisé ainsi que préférentiellement de la résistance par carreau c'est-à-dire de la résistivité du matériau et de l'épaisseur dans laquelle il est déposé. En 30 effet, comme les allures illustrées par la figure 5 peuvent également être lues comme allure de la résistance par carreau, on est en mesure de transposer les valeurs calculées aux différentes résistances d'un circuit intégré définies par les largeurs et longueurs des tronçons résistifs. Selon ce deuxième 35 mode de mise en oeuvre, on est alors en mesure de prédéterminer la valeur du courant de contrainte à appliquer à l'élément résistif pour diminuer, de façon irréversible et stable, sa valeur. Les deux modes de mise de oeuvre cidessus peuvent 5 être combinés. On peut ainsi, dans une première étape, sélectionner une valeur approximative (dans une table) et appliquer le courant prédéterminé correspondant. Puis, dans une deuxième étape, on affine la valeur de la résistance par des diminutions pas à pas de sa valeur. Selon l'invention, la diminution irréversible de la résistance ou résistivité peut être effectuée après fabrication lorsque le circuit est dans son environnement fonctionnel. En d'autres termes, le circuit 4 de commande et les transistors de programmation décrits en relation avec les figures 1 et 2 15 peuvent être intégrés avec la ou les cellules mémoires. Le changement de courbes, c'est-à-dire la diminution de la valeur de résistance en fonctionnement normal est quasi immédiate dès que le courant de contrainte correspondant est appliqué. Par quasi-immédiat, on entend une durée de quelques 20 dizaines voir centaines de microsecondes qui suffisent pour appliquer la contrainte correspondante au barreau de silicium polycristallin et diminuer la valeur de sa résistance. Cette valeur empirique dépend de la taille (physique) du barreau. On pourra choisir une durée de quelques millisecondes par sécurité. 25 De plus, on peut considérer que, une fois la durée minimale atteinte, toute durée supplémentaire d'application du courant de contrainte ne modifie pas, au moins au premier ordre, la résistance atteinte. En outre, même si dans une application particulière on considère ne pas pouvoir négliger l'influence de 30 la durée d'application de la contrainte, les deux modes préférés de mise en oeuvre (prédéterminer des valeurs de contraintes en durée et en intensité, ou progression pas à pas jusqu'à la valeur souhaitée) sont parfaitement compatibles avec la prise en compte de la durée d'application de la contrainte. A titre d'exemple particulier de mise en oeuvre, on a réalisé une résistance en silicium polycristallin dopée N+ ayant une section de 0,225 micromètre carré (l = 0,9 gm, e = 0,25 gm) et une longueur L de 45 micromètres. Avec le silicium 5 polycristallin utilisé et le dopage correspondant, la résistance nominale était d'environ 6300 Ohms. Cela correspond à une résistance par carreau d'environ 126 Ohms (50 carreaux). En appliquant à cette résistance un courant supérieur à trois milliampères, on a provoqué une diminution de sa valeur, stable 10 pour un fonctionnement sous des courants allant jusqu'à 500 microampères. Avec un courant de 3,1 milliampères, la valeur de la résistance a été abaissée à environ 4500 Ohms. En appliquant à la résistance un courant de 4 milliampères, on a diminué la valeur de la résistance jusqu'environ 3000 Ohms. Les valeurs 15 obtenues de résistances ont été les mêmes pour des durées de contraintes allant de 100 microsecondes à plus de 100 secondes. Bien entendu, les exemples ci-dessus ainsi que les ordres de grandeurs donnés de courants et de résistances pour les différentes plages concernent les technologies actuelles. 20 Les courants des plages Al, A2 et A3 pourront être différents (inférieurs) pour des technologies plus avancées et peuvent être transposés à des densités de courant. Le principe de l'invention n'en est pas modifié. On a toujours trois plages et on utilise la plage intermédiaire pour forcer la diminution de résistivité. 25 La tension de programmation Vp peut être une tension variable selon que les niveaux de courant de programmation sont prédéterminés ou sont inconnus et doivent être obtenus par une augmentation par paliers. Selon une variante de réalisation, le courant de 30 programmation forcé dans la résistance Rp est fixé par la commande (tension de grille) du transistor de programmation correspondant, la tension Vp étant alors fixe. Un avantage de la présente invention est qu'une cellule mémoire réalisée au moyen d'une résistance en silicium 35 polycristallin programmable par diminution irréversible de sa valeur est compatible avec les technologies classiques de réalisation des transistors MOS. En particulier, aucun transistor à grille flottante n'est nécessaire pas plus que de structure tunnel comme pour la réalisation d'une mémoire EPROM. Un autre avantage de l'invention est que le code stocké dans l'élément de mémorisation n'est pas détectable optiquement à la différence d'une résistance en silicium polycristallin utilisée comme fusible o la détérioration physique du barreau de silicium rend la programmation visible. Un autre avantage de l'invention est que la modification irréversible de la valeur de la résistance programmée n'est pas destructrice et ne risque donc pas d'endommager d'autres parties du circuit. Cela permet notamment de prévoir une diminution de la valeur de la résistance après fabrication, 15 et même au cours de sa vie dans son circuit applicatif. Un autre avantage de la présente invention est qu'elle permet, dans un exemple d'application, de conserver un historique de la puce de circuit intégré sur des opérations que l'on souhaite surveiller et réaliser dans cette puce. En parti20 culier, en provoquant la programmation d'une cellule mémoire telle qu'illustrée par la figure 1 suite à une certaine action, on peut distinguer le cas o l'action a été jugée positive ou négative par la programmation de la cellule du cas o cette action n'a jamais eu lieu depuis la fabrication de la cellule. De préférence, les résistances Rgl à Rg4 sont des résistances de précision de valeur fixe afin de pouvoir prévoir un ARg le plus faible possible tout en restant compatible avec les dispersions technologiques éventuelles. La figure 6 représente un deuxième mode de réalisation 30 d'une cellule mémoire 40 selon la présente invention. Ce mode de réalisation diffère essentiellement de celui de la figure 1 en ce sens qu'il est d'une structure non différentielle. On retrouve en figure 6 l'équivalent d'une seule des deux branches parallèles 2 et 3 de la figure 1, cette branche comporte un 35 étage 41 de prélecture entre la borne 4 d'application de la tension de lecture Vr et un étage de programmation 42, l'étage de programmation 42 étant par ailleurs connecté à la masse 5. L'étage de prélecture 41 comporte deux branches parallèles contenant chacune la résistance Rg et une résistance Rg + ARg 5 commutable par des commutateurs Kl et K2 associés en série et commandés respectivement par les signaux Pll et P12. Côté étage de programmation 42, on retrouve une résistance de programmation Rp en silicium polycristallin susceptible d'être isolée de l'étage de préfecture 41 par un interrupteur Kp2 commandé par un 10 signal de programmation Pg. La programmation de la résistance Rp s'effectue par diminution irréversible de sa valeur en appliquant une tension Vp à ses bornes au moyen d'un interrupteur Kpl reliant la tension Vp à la borne 43 de la résistance Rp connectée à l'interrupteur Kp2. Dans l'exemple de 15 la figure 6, on a prévu un transistor MOS de sélection MN commandé par un signal Sel. Ce transistor est ici optionnel mais peut servir dans un agencement de plusieurs cellules mémoire 40 utilisant un même amplificateur de lecture 50. Un interrupteur Kp3, commandé par le signal Pg, est destiné à isoler 20 l'amplificateur 50 de lecture de la résistance Rp lors de sa programmation, pour éviter de l'endommager si celui-ci ne supporte pas la tension Vp. Un tel interrupteur d'isolement peut également être prévu dans le mode de réalisation de la figure 1 décrit précédemment entre la borne 13 et les circuits 25 d'interprétation de son état. Selon le mode de réalisation de la figure 6, le point 43 est relié à une entrée (par exemple, non inverseuse) de l'amplificateur de lecture 50, l'entrée inverseuse de cet amplificateur différentiel recevant une tension de référence 30 Vref. La sortie de l'amplificateur différentiel fournit l'état L lu dans la cellule 40. Pour garantir une détection d'un état vierge issu de fabrication par rapport à un état programmé de la cellule 40, la tension de référence Vref appliquée sur l'amplificateur 50 doit 35 être d'une valeur comprise entre Vr * Rnom / (Rg + LRg + Rnom) et Vr * Rnom / (Rg + Rnom). Avec un tel seuil, les états respectifs détectés par l'amplificateur 50 dans les deux étapes successives de lecture commandées par les signaux Pl et P12 conduisent à des états différents, respectivement 1 et 0, en sortie de l'amplificateur 50. Par contre, si la résistance Rp programmée par diminution irréversible de sa valeur jusqu'à un état Rnom - ARp et en supposant que la quantité ARp est choisie pour être supérieure à la quantité ARg, les valeurs respectives Vr*(Rnom-ARp)/(Rg+Rnom-ARp) 10 et Vr*(Rnom-ARp)/(Rg+ARg+Rnom-ARp) présentes sur l'entrée noninverseuse de l'amplificateur 50 dans les deux étapes de lecture seront inversées (respectivement O et 1). Dans le mode réalisation décrit ci-dessus, la mémoire ne possède qu'un état programmé. De plus, on notera que la 15 programmation est irréversible, en ce sens qu'il n'est pas possible de retrouver l'état "vierge" en diminuant de nouveau la valeur de la résistance Rp. Parmi les exemples possibles d'application de la présente invention, on citera la réalisation de témoins de 20 cycles de vie d'un produit, de gestionnaires d'irréversibilité, de phases de vie d'une puce (durée de validité d'une carte bancaire, par exemple), de mémorisation d'alarmes majeures, etc. Bien entendu, la présente invention est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l'homme 25 de l'art. En particulier, les dimensions données aux différentes résistances et les valeurs des tensions de lecture et de programmation sont à la portée de l'homme du métier à partir des indications fonctionnelles indiquées dans la présente description. Enfin, on notera que l'invention est aisément transposable 30 d'une technologique à une autre. REVENDICATIONS 1. Cellule mémoire (1; 40) à au moins deux états détectables parmi lesquels un état non programmé, caractérisée en ce qu'elle comprend, en série entre deux bornes (4, 5) d'application d'une tension de lecture (Vr) , au moins une première branche (2) comportant: un étage (6; 41) de préfecture comprenant, en parallèle, deux résistances commutables (Rgl, Rg2, Rg3, Rg4; Rg, Rg + ARg) ayant des valeurs différentes d'un premier écart (ARg) prédéterminé; et un étage (9; 42) de programmation constitué d'une résistance de programmation en silicium polycristallin (Rpl, Rp2; Rp), une borne (14, 15; 43) de la résistance de programmation étant accessible par un circuit de programmation propre à provoquer une diminution irréversible (ARp) de sa 15 valeur. 2. Cellule mémoire selon la revendication 1, caractérisée en ce que ladite diminution (ARp) de la valeur de la résistance de programmation (Rpl, Rp2; Rp) est prédéterminée et choisie pour être supérieure audit premier 20 écart (ARg) entre les résistances (Rgl, Rg2, Rg3, Rg4; Rg, Rg + ARg) de l'étage de préfecture (6; 41). 3. Cellule mémoire selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce qu'elle comporte des commutateurs (K14, K15; Kpl) propres à appliquer une tension (Vp) de 25 programmation supérieure à la tension de lecture (Vr) aux bornes de la résistance de programmation (Rpl, Rp2; Rp). 4. Cellule mémoire selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce qu'elle comporte au moins un interrupteur (K10, Kll; Kp2) d'isolement de l'étage 30 de préfecture (6; 41) par rapport à l'étage de programmation (9; 42). 5. Cellule mémoire selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisée en ce que la lecture de l'état de la cellule est effectuée en deux étapes successives (A, B) au cours desquelles lesdites résistances commutables (Rgl, Rg2, Rg3, Rg4; Rg, Rg + ARg) de l'étage de préfecture (6; 41) sont sélectionnées alternativement. 6. Cellule mémoire selon la revendication 5, 5 caractérisée en ce que ladite borne (43) de la résistance de programmation (Rp) constitue une borne de lecture de la cellule propre à être reliée à une première borne d'un amplificateur (50) de lecture dont une deuxième borne reçoit au moins une tension de référence (Vref) choisie pour être un 10 niveau intermédiaire entre le niveau de tension pris par la borne de lecture (43) dans les deux phases de lecture (A, B), alors que la résistance de programmation est dans un état non programmé. 7. Cellule mémoire selon l'une quelconque des 15 revendications 1 à 5, caractérisée en ce qu'elle comporte une deuxième branche (3) de structure identique à la première (2), chaque résistance programmable (Rpl, Rp2) étant connectée à la borne (5) d'application de la tension de lecture opposée à l'étage de préfecture (6) , par un transistor (MN1, MN2) monté 20 en bascule avec le transistor (MN2, MN1) de l'autre branche. 8. Cellule mémoire selon la revendication 7, caractérisée en ce que les résistances commutables (Rg3, Rg4) de la deuxième branche (3) sont commandables en même temps que les résistances commutables (Rgl, Rg2) de la première branche 25 (2), de façon à ce que les valeurs respectives des résistances sélectionnées dans chacune des branches soient inversées. 9. Cellule mémoire selon la revendication 7 ou 8, caractérisée en ce que la diminution irréversible (ARp) de valeur susceptible d'être appliquée aux résistances de 30 programmation (Rpl, Rp2) est choisie pour être supérieure à la somme de l'écart (ARg) entre les résistances de préfecture (Rgl, Rg2, Rg3, Rg4) et d'un troisième écart (E) de valeur nominale entre les résistances de programmation (Rpl, Rp2) dans un état non programmé. 10. Procédé de lecture d'une cellule mémoire conforme à l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'il consiste à effectuer deux étapes de lecture successives au cours desquelles lesdites résistances 5 commutables de l'étage de prélecture sont respectivement sélectionnées.