FR 2857459 A1 20050114 FR 0407249 A 20040630 FILM REFLECHISSANT EN ALLIAGE D'Ag POUR DES REFLECTEURS ET REFLECTEUR POURVU DE CELUI-CI La présente invention concerne un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs et un réflecteur comprenant celui-ci. Spécifiquement, elle concerne un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui a une réflectivité élevée et connaît rarement une diminution de réflectivité au chauffage, et elle concerne un réflecteur comprenant celui-ci. Les films en Ag sont utilisés à de nombreuses fins puisqu'ils ont une réflectivité élevée pour la lumière visible. Par exemple, ils sont utilisés pour des réflecteurs pour les lampes automobiles, des rétro- éclairages'*pour des afficheurs à cristaux liquides, des réflecteurs pour des dispositifs d'éclairage, des miroirs pour des pièces optiques et des réflecteurs pour des pièces photoémettrices comme les LED. Un réflecteur comprenant un film d'Ag est fabriqué par revêtement d'un substrat en verre ou en résine avec de l'Ag par pulvérisation cathodique ou similaire, et le film d'Ag est utilisé comme film réfléchissant pour des réflecteurs. Cependant, le film d'Ag est insatisfaisant en termes de durabilité environnementale. Comme il est détérioré par l'humidité, il est difficile de l'utiliser pendant longtemps. En outre, l'Ag est facilement diffusé par chauffage entre 100 et 200 C et la cohésion de l'Ag se produit, ce qui réduit sa réflectivité. Par conséquent, on propose d'augmenter sa stabilité chimique en ajoutant divers métaux précieux à l'Ag, comme le montre le document JP-A 2001-226765 (document de brevet 1). Bien que la stabilité chimique dans un environnement humide soit accrue par ce procédé, la rugosité de surface moyenne du film est détériorée par une hausse de température provoquée par le rayonnement d'une lampe. Par conséquent, l'amélioration de durabilité n'est pas obtenue et le problème à résoudre pour son usage pratique reste entier. La formation d'une couche protectrice transparente sur un film en Ag est efficace pour améliorer sa durabilité. Une résine organique ou un oxyde métallique, présentés dans le document JP-A-2000-106017 (document de brevet 2), est en général utilisé dans la couche protectrice. Même si le film en Ag est revêtu avec ceuxci, un film de résine organique pose le problème de l'absorption de lumière par la couche protectrice et de la réaction avec un composant de la couche protectrice, et un film d'oxyde métallique pose le problème de la détérioration provoquée par un défaut comme un trou d'épingle. Le film en alliage d'Ag, proposé ci-dessus, perd sa platitude de surface car la cohésion de l'Ag s'érode pendant la durée du chauffage et il apparaît le phénomène que la réflectivité de la lumière ayant une longueur d'onde de 400 à 450 nm chute particulièrement. Par conséquent, le film en alliage d'Ag doit être revêtu de manière relativement épaisse, moyennant quoi, la haute réflectivité du film en alliage d'Ag se détériore, sa productivité chute, ou la détérioration (surface rugueuse) du film en alliage d'Ag se produit à partir de parties griffées ou arrachées du matériau de revêtement, ce qui réduit le rendement. Un objet de la présente invention, qui a été réalisée en vue de la situation précédente, pour proposer un film réfléchissant en alliage d'Ag, qui possède une excellente platitude de surface et montre une haute réflectivité, même dans un environnement chauffant, ainsi qu'un réflecteur comprenant ce film en alliage d'Ag réfléchissant ayant les excellentes propriétés caractéristiques précédentes. Les inventeurs de la présente invention ont effectué des recherches approfondies pour atteindre l'objectif précédent et ont réalisé la présente invention. L'objectif précédent peut être atteint par la présente invention. La présente invention qui a été réalisée et a atteint l'objectif précédent concerne un film en alliage d'Ag réfléchissant pour des réflecteurs et un réflecteur comprenant ce film réfléchissant en alliage d'Ag. Ce qui veut dire, selon un premier aspect de la présente invention, que l'on propose un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, ayant une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 mm ou moins. Selon un deuxième aspect de la présente invention, on propose un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui contient un lanthanide en une teneur dans la plage allant de 0,1 à 3,0 % atomique. Selon un troisième aspect de la présente invention, on propose un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, dans lequel le lanthanide est Nd. Selon un quatrième aspect de la présente invention, on propose un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui contient au moins un élément choisi parmi Au, Pd, Cu et Pt en une teneur allant de 0,5 à 5,0 % atomique. Selon un cinquième aspect de la présente invention, on propose un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui a une épaisseur de 50 à 300 nm. Selon un sixième aspect de la présente invention, on propose un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui est obtenu par chauffage entre 50 et 200 C au moment de la formation du film. Selon un septième aspect de la présente invention, on propose un réflecteur comprenant le film réfléchissant en alliage d'Ag formé sur un substrat. Selon un huitième aspect de la présente invention, on propose un réflecteur, dans lequel un film contenant au moins un élément choisi dans le groupe constitué d'un oxyde, nitrure et oxynitrure, est formé sur le substrat à titre de couche d'amorce. Le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs de la présente invention a une excellente platitude de surface et montre une réflectivité élevée même dans un environnement chauffant. Par conséquent, il peut être avantageusement utilisé comme film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs et sa fonction peut être améliorée. Puisque le réflecteur de la présente invention comprend le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, ayant les excellentes propriétés caractéristiques précédentes de la présente invention, formé sur un substrat, il possède une excellente platitude de surface et une réflectivité élevée même dans un environnement chauffant et sa fonction peut être améliorée. Pour atteindre l'objectif précédent, les inventeurs de la présente invention ont formé des films minces en alliage d'Ag qui diffèrent en composition dans des conditions filmogènes variées sur un substrat et ils ont évalué les propriétés caractéristiques des films en tant que films réfléchissants en alliage d'Ag pour des réflecteurs. Finalement, ils ont découvert que la rugosité de surface moyenne (Ra) du film mince en alliage d'Ag doit être de 2,0 nm ou moins pour obtenir la réflectivité élevée de l'alliage d'Ag et, en outre, que la réflectivité est réduite quand la rugosité de surface moyenne d'un film mince en alliage d'Ag est augmentée par chauffage ou similaire, ce qui veut dire que la réflectivité peut difficilement être réduite quand la modification de rugosité de surface moyenne est faible, même dans un environnement chauffant. En outre, on a découvert que l'addition d'un lanthanide, en particulier Nd, est efficace pour réaliser un film mince en alliage d'Ag ayant une excellente platitude, qui modifie rarement la rugosité de surface moyenne. La présente invention a été réalisée sur la base de ces découvertes. Un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention sera principalement décrit ciaprès. La rugosité de surface moyenne Ra désigne une rugosité de surface moyenne arithmétique. Le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention est un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui possède une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins (premier aspect). Cela veut dire que c'est un film réfléchissant qui est un film mince en alliage d'Ag ayant une rugosité de surface moyenne de 2,0 nm ou moins. Comme pour un film mince en alliage d'Ag, sa réflectivité à la plage limite inférieure (longueur d'ondes d'environ 400 nm) de la lumière visible chute dès que sa rugosité de surface moyenne Ra augmente. Ceci est provoqué par la diffraction et l'absorption d'ingénierie géométrique par le plasmatron sur la surface, dépendant de la configuration de la surface. Puisque l'Ag est difficilement oxydé et se diffuse très rapidement, les atomes d'Ag sont facilement enlevés par chauffage ou similaire, ce qui provoque une augmentation de la rugosité de surface moyenne du film mince en alliage d'Ag. Comme pour un film mince en alliage d'Al qui est utilisé comme film réfléchissant comme un film mince en alliage d'Ag, le changement de sa configuration de surface ne se produit pas de manière appréciable du fait de la fonction protectrice d'un film d'oxyde sur la surface. Par conséquent, pour maintenir la réflectivité élevée de l'Ag, le film mince en alliage d'Ag doit conserver une excellente platitude de surface avec une rugosité de surface moyenne Ra petite. A cette fin, le film mince en alliage d'Ag doit avoir une excellente platitude de surface en phase initiale (phase avant que le film ne soit exposé à un environnement chauffant après avoir été formé) et donc dans un environnement chauffant. Pour l'exprimer plus spécifiquement, la rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag doit être maintenue à 2,0 nm ou moins. A cette fin, la rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag doit être de 2,0 nm ou moins dans la phase initiale et aussi dans un environnement chauffant. Quand la rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag est supérieure à 2,0 nm, la réflectivité à une plage de longueurs d'ondes courtes du film mince en alliage d'Ag devient presque identique à celle d'un film en Al et le bénéfice obtenu de la réflectivité élevée du film mince en alliage d'Ag est perdu. La rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag est maintenue de manière souhaitable à 1,0 nm ou moins. Quand il en est ainsi, une réflectivité élevée peut être maintenue avec une meilleure probabilité (à un niveau supérieur). Le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention peut conserver la réflectivité élevée de l'Ag, comme on peut le comprendre à la lecture de la description précédente. Ce qui veut dire que le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention possède une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins, comme décrit précédemment. Cela veut dire que, puisque c'est un film réfléchissant en alliage d'Ag qui maintient sa rugosité de surface moyenne Ra à 2,0 nm ou moins, sa rugosité de surface moyenne Ra est de 2,0 nm ou moins dans la phase initiale et donc dans un environnement chauffant, moyennant quoi une réflectivité élevée peut être maintenue. Cela veut dire qu'il possède une excellente platitude de surface et montre une réflectivité élevée même dans un environnement chauffant. Pour maintenir la rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag à 2,0 nm ou moins, le type et la teneur en un élément à ajouter doivent être adéquatement contrôlés. Cela veut dire que, en contrôlant adéquatement le type et la teneur en cet élément, on peut obtenir un film mince en alliage d'Ag ayant une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins après la formation du film et pouvant conserver sa rugosité de surface moyenne Ra à 2,0 nm ou moins. Pour obtenir un film mince en alliage d'Ag qui possède une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins après la formation du film et pouvant conserver sa rugosité de surface moyenne Ra à 2,0 nm ou moins, l'élément à ajouter est un lanthanide et son addition est efficace. La teneur en ce lanthanide est située de manière souhaitable à 0,3 % atomique ou plus. Quand le lanthanide est ajouté (présent) en une teneur dans la plage de 0,3 % atomique ou plus, la croissance des grains de cristal provoquée par la diffusion superficielle de l'Ag peut être efficacement supprimée, même dans un environnement chauffant, ce qui permet de supprimer un changement (une augmentation) de la rugosité de surface moyenne. Cela veut dire que la diffusion de surface et la cohésion de l'Ag se produisent difficilement dans un environnement chauffant (excellente résistance thermique) et que la croissance des grains de cristal se produit difficilement, moyennant quoi un changement (une augmentation) de la rugosité de surface moyenne se produit difficilement. Cela veut dire qu'une augmentation de la rugosité de surface moyenne (réduction de la platitude de surface) provoquée par le chauffage est éliminée ou réduite par l'amélioration de la résistance thermique. Puisque la réflectivité initiale (réflectivité quand le film n'est pas exposé à un environnement chauffant ou un environnement de forte humidité et haute température après la formation du film) chute dès que la teneur en lanthanide augmente, la teneur en lanthanide est de 3,0 % atomique ou moins de manière souhaitable. Quand la teneur en lanthanide est supérieure à 3,0 % atomique, la différence de réflectivité entre le film mince en alliage d'Al et le film mince en alliage d'Ag devient petite et un bénéfice obtenu de la réflectivité élevée de l'alliage d'Ag n'est pas obtenu. Au vu de ce qui précède, il est souhaitable que la teneur en lanthanide soit de 0,1 à 3,0 % atomiques (second aspect). Quand il en est ainsi, on peut obtenir un film mince en alliage d'Ag qui possède une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins après la formation du film et peut conserver sa rugosité de surface moyenne Ra à 2,0 nm ou moins, c'est-à-dire un film mince en alliage d'Ag qui possède une excellente platitude de surface et une réflectivité initiale élevée dans la phase initiale et possède une excellente platitude de surface et une haute réflectivité même dans un environnement chauffant. En d'autres termes, on peut obtenir un film mince en alliage d'Ag qui possède une excellente platitude de surface et une réflectivité initiale élevée dans la phase initiale et possède une petite réduction de platitude de surface provoquée par le chauffage et une excellente platitude de surface et une réflectivité élevée dans un environnement chauffant. Quand deux lanthanides ou plus sont ajoutés, la teneur totale en ces éléments est de 0,1 à 3,0 % atomique. Pour obtenir une réflectivité initiale supérieure, la teneur totale en lanthanides est de manière souhaitable de 2,0 % atomique ou moins. Parmi les lanthanides précédents, l'addition de Nd est particulièrement efficace. Cela veut dire que quand Nd est ajouté, une résistance thermique particulière devient élevée (la diffusion de surface et la cohésion de l'Ag se produisent difficilement dans un environnement chauffant), ce qui permet de supprimer efficacement la croissance des grains de cristaux provoquée par la diffusion superficielle de l'Ag et un changement (une augmentation) de rugosité de surface moyenne pour diminuer une réduction de platitude de surface provoquée par le chauffage et pour conserver sa rugosité de surface moyenne Ra à 2,0 nm ou moins avec une certitude supérieure. La réflectivité initiale devient également supérieure. Par conséquent, on souhaite que Nd soit utilisé parmi les lanthanides précédents et que la teneur en Nd soit comprise entre 0,1 et 3,0 % atomique (troisième aspect). La teneur en Nd est de préférence de 0,3 à 3,0 % atomique. Quand le lanthanide est ajouté en une teneur allant de 0,1 à 3,0 % atomique, comme décrit précédemment, et au moins l'un parmi Au, Pd, Cu et Pt est ajouté en une teneur allant de 0,5 % atomique ou plus, la stabilité chimique augmente et la résistance aux ions halogène s'améliore particulièrement. Puisque la réflectivité initiale chute dès que la teneur en l'élément précédent (au moins l'un parmi Au, Pd, Cu et Pt) augmente, la teneur en l'élément est de manière souhaitable de 5,0 % atomique ou moins. Par conséquent, il est souhaitable qu'au moins l'un parmi Au, Pd, Cu et Pt soit ajouté en une teneur allant de 0,5 à 5,0 % atomique (quatrième aspect). Quand deux éléments ou plus sont ajoutés, la teneur totale en ces éléments est de 0,5 à 5,0 % atomique. Pour augmenter encore la réflectivité initiale, la teneur totale en ces éléments est de manière souhaitable de 3,0 % atomique ou moins. Parmi ces éléments, la résistance de l'Au aux ions halogène est supérieure à celle du Cu et la résistance du Pd aux ions halogène est supérieure à celle de Pt. Par conséquent, l'addition de Pd est la plus efficace en matière d'augmentation de la résistance aux ions halogène. On souhaite que le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention ait une épaisseur de 50 à 300 nm (cinquième aspect). Quand l'épaisseur du film réfléchissant en alliage d'Ag est inférieure à 50 nui, la lumière passe à travers le film, moyennant quoi une réflectivité élevée suffisante est difficilement obtenue. Puisque la rugosité de surface moyenne devient supérieure dès que l'épaisseur augmente, quand l'épaisseur du film est plus grosse que 300 nm, une surface plate n'est pas obtenue et une réflectivité élevée est difficilement obtenue. Quand un film est formé en chauffant un substrat entre 50 et 200 C du point de vue de l'adhérence, la croissance des grains de cristal peut être supprimée et un film réfléchissant en alliage d'Ag ayant une surface plate peut être obtenu. Par conséquent, un film peut être formé sous chauffage entre 50 et 200 C. Quand un film est formé sous chauffage, l'adhérence du film peut être améliorée (sixième aspect). Le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention peut comprendre un film mince en alliage d'Ag ne contenant aucun lanthanide, formé sur un film mince en alliage d'Ag, contenant un lanthanide, spécifiquement Nd. Quand le film possède la structure précédente, il possède une surface très plate avec une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins et une haute réflectivité et une résistance thermique meilleure puisque sa résistance thermique est améliorée par le film mince en alliage d'Ag contenant un lanthanide comme couche d'amorce. Le réflecteur selon la présente invention comprend le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention formé sur un substrat (septième aspect). Ce réflecteur possède une excellente platitude de surface et montre une haute réflectivité, même dans un environnement chauffant. La formation du film réfléchissant en alliage d'Ag précédent sur le substrat est réalisée par pulvérisation cathodique ou par procédé PVD (dépôt physique en phase vapeur) comme le dépôt en phase vapeur. La matière et la forme du substrat sont adéquatement choisies. Par exemple, on utilise une résine, un verre ou un métal. En outre, pour améliorer les propriétés d'adhérence et de barrières, un film contenant au moins un élément choisi dans le groupe constitué d'un oxyde, d'un nitrure et d'un oxynitrure peut être formé sur le substrat en tant que couche d'amorce (huitième aspect). Cette couche d'amorce n'est pas limitée à un film contenant seulement un oxyde, un film contenant seulement un nitrure ou un film contenant seulement un oxynitrure, et un film contenant deux ou plus de ceux-ci et un film contenant ceux-ci et une autre substance peut aussi être utilisé. Le film contenant s eul ement un oxyde n'est pas limité à un film contenant seulement un oxyde, mais un film contenant deux oxydes ou plus peut aussi être utilisé. La même chose peut être dite du film contenant seulement un oxynitrure, et un film contenant deux oxynitrures ou plus peut être aussi utilisé. Comme pour la couche d'amorce précédente, les exemples de film contenant un oxyde comprennent des films contenant un oxyde comme l'oxyde de zinc, l'oxyde d'étain, l'oxyde de titane, l'oxyde d'indium, l'ITO, l'oxyde d'yttrium, l'oxyde de zirconium ou l'oxyde d'aluminium comme composant principal. Les exemples de film contenant un nitrure comprennent des films contenant un nitrure comme le nitrure de silicium, le nitrure d'aluminium ou le nitrure de bore comme composant principal. Les exemples de film contenant un oxynitrure comprennent des films contenant un oxynitrure comme le sialon comme composant principal. Le procédé de formation de la couche d'amorce précédente n'est pas particulièrement limité. Un procédé approprié à la composition de la couche d'amorce est utilisé pour former la couche d'amorce sur le substrat. Ce procédé est choisi parmi la pulvérisation cathodique, le procédé CVD (dépôt chimique en phase vapeur) au plasma et le procédé sol-gel. Pour améliorer encore la durabilité et la résistance aux intempéries ou la résistance chimique, la résistance à l'abrasion, la résistance aux griffures et la résistance à la cohésion de l'Ag en fonction de son environnement d'utilisation, un film protecteur peut être formé sur le film réfléchissant en alliage d'Ag (film mince en alliage d'Ag). Une cible de pulvérisation cathodique en alliage d'Ag contenant un lanthanide peut être utilisée comme cible de pulvérisation cathodique pour la formation du film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs contenant un lanthanide selon la présente invention. Une cible en alliage d'Ag fabriquée par le procédé de fusion/ coulée (désignée ci-après "cible en alliage d'Ag coulé") est de préférence utilisée comme cible de pulvérisation cathodique en alliage d'Ag. Puisque la cible en alliage d'Ag coulé est homogène en termes de composition et uniforme en matière de rendement de pulvérisation cathodique et d'angle d'éjection, un film mince en alliage d'Ag ayant une composition uniforme est obtenu de manière stable, moyennant quoi une matière filmogène en alliage d'Ag ayant des performances supérieures est obtenue. Quand la teneur en oxygène de la cible en alliage d'Ag coulé susmentionnée est contrôlée (de préférence à 100 ppm ou moins), le taux filmogène peut être facilement maintenu à une valeur constante et la teneur en oxygène du film mince en alliage d'Ag peut être réduite, ce qui permet de renforcer la résistance à la corrosion de ce film mince en alliage d'Ag. La cible de pulvérisation cathodique en alliage d'Ag utilisée pour former le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention contient de préférence des lanthanides en une teneur allant de 0,1 à 3,0 % atomique. Un film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs qui contient des lanthanides en une teneur dans la plage allant de 0,1 à 3,0 % atomique et possède une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins peut être formé en utilisant cette cible de pulvérisation cathodique d'alliage d'Ag. Les conditions de pulvérisation cathodique pour former le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention par pulvérisation cathodiques ne sont pas particulièrement limitées. Bien qu'un film mince en alliage d'Ag (film réfléchissant en alliage d'Ag) ayant la même composition que la cible de pulvérisation cathodique soit formé sur le substrat par pulvérisation cathodique, un élément d'Ag ou d'alliage peut être quelque peu concentré en fonction des conditions et une légère différence (différence d'un niveau par rapport à la place de la seconde décimale) peut être observée entre la composition de la cible et la composition du film mince en alliage d'Ag. Un film mince en alliage d'Ag ayant la composition désirée peut être obtenu en ajustant les conditions de pulvérisation cathodique (comme la puissance). Quand Nd est présent comme lanthanide en une teneur allant de 0,1 à 3,0 %, un film réfléchissant en alliage d'Ag contenant 0,1 à 3,0 % atomique de Nd peut être formé. Quand au moins un élément parmi Au, Pd, Cu et Pt est présent en une teneur allant de 0,5 à 5,0 % atomique, on peut former un film réfléchissant en alliage d'Ag contenant 0,5 à 5,0 % atomique d'au moins un élément parmi Au, Pd, Cu et Pt. Pour former le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la présente invention, le dépôt physique comme le dépôt sous vide et le dépôt chimique comme le CVD peuvent être utilisés, hormis la pulvérisation cathodique. Exemples Des exemples et exemples comparatifs de la présente invention sont donnés ci-après. La présente invention n'est pas limitée à ces exemples et des modifications peuvent être opérées dans l'invention sans s'éloigner de l'esprit et de l'étendue de l'invention et sont comprises dans l'étendue technique de l'invention. Le symbole "%" utilisé pour montrer la composition de l'alliage dans les exemples suivants et exemples comparatifs suivants signifie "% atomique". Exemple 1 et exemple comparatif 1 Une cible coulée Ag - 0,7 % de Nd - 0,9 % de Cu, ayant un diamètre de 101,6 mm (cible en alliage d'Ag coulé ayant une teneur en Nd de 0,7 % atomique et une teneur en Cu de 0,9 % atomique) a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Ag de 100 nm d'épaisseur sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre : 50 mm, épaisseur 0,5 mm) par pulvérisation cathodique DC magnétron de manière à obtenir un spécimen A. Une cible en Ag pur ayant un diamètre de 101,6 mm a été utilisée pour former un film mince en Ag pur de 100 nm d'épaisseur sur le même substrat en verre que précédemment, de la même manière que précédemment de manière à obtenir un spécimen B. Une cible coulée en Al - 1,0 % de Ti ayant un diamètre de 101. 6 mm (cible en alliage d'Al coulé ayant une teneur en Ti de 1,0 % atomique) a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Al d'une épaisseur de 100 nm sur le même substrat en verre que précédemment et de la même manière que précédemment de manière à obtenir un spécimen C. Comme pour les conditions filmogènes pour tous les spécimens précédents, la température de substrat a été la température ambiante, la distance entre la cible et le substrat a été de 55 mm et la puissance filmogène a été de 100 W. Pour modifier la rugosité de surface moyenne du film mince en alliage d'Ag obtenu et la rugosité de surface moyenne du film mince en Ag pur, la pression du gaz Ar au moment de la formation du film a été modifiée entre 2 et 10 mtorrs. Pour étudier les compositions du film mince en alliage d'Ag précédent et du film mince en alliage d'Al, les mêmes cibles en alliage d'Ag coulé et cibles en alliage d'Al coulé que précédemment ont été utilisées pour former un film mince en alliage d'Ag et un film mince en alliage d'Al sur un verre flottant afin d'analyser les compositions des films par ICP. Une partie du spécimen B précédent (film mince d'Ag pur / substrat en verre) a été chauffée dans un four de chauffage sous vide (degré de vide : inférieur à 1 x 10-5 torrs) à 150 C pendant 1 heure et à 200 C pendant 1 heure. Le spécimen A (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre), le spécimen B (film mince d'Ag pur / substrat en verre), le spécimen B chauffé et le spécimen C (film mince en alliage d'Al / substrat en verre), obtenus comme décrit précédemment, ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique). Ra a été mesurée en observant une plage de mesure de 2,5 x 2,5 pm au microscope de force atomique (Nanoscopca of Digital Instrument Co., Ltd. ) Il a été confirmé par l'analyse précédente de la composition que le film mince en alliage d'Ag du spécimen A était un film mince d'alliage d'Ag - 0,7 % de Nd - 0,9 % de Cu et le film mince en alliage d'Al du spécimen C a été un film mince en alliage d'Al - 1,0 % de Ti. Les résultats de mesure figurent dans le tableau 1 avec les compositions et conditions filmogènes des films minces. Comme on le voit sur le tableau 1, la réflectivité chute dès que la rugosité de surface moyenne Ra augmente dans le film mince d'Ag pur et dans le film mince en alliage d'Ag (film mince d'alliage Ag - 0,7 % de Nd - 0,9 % de Cu). Particulièrement quand la rugosité de surface moyenne Ra devient supérieure à 2,0 nm, la réflectivité chute énormément et il n'y a presque aucune différence significative de réflectivité entre le film mince en alliage d'Al et le film mince en alliage d'Ag. Dès que la pression d'un gaz Ar au moment de la formation du film augmente, la rugosité de surface moyenne Ra du film mince d'Ag pur obtenu et la rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag deviennent plus élevées. La rugosité de surface moyenne Ra du film mince d'Ag pur est augmentée par le traitement thermique et devient plus élevée dès que la température du traitement thermique augmente. La rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag est inférieure à celle du film mince d'Ag pur et celle du film mince en alliage d'Al. Exemple 2 et exemple comparatif 2 Une cible d'Ag pur ayant un diamètre de 101,6 mm a été utilisée pour former un film mince d'Ag pur d'une épaisseur de 100 nm sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre 50 mm, épaisseur : 0,5 mm) par pulvérisation cathodique DC magnétron de manière à obtenir un spécimen D. Une puce de métal (Nd ou Y) de 5 mm2 a été placée sur une cible d'Ag pur ayant un diamètre de 101,6 mm et utilisée comme cible pour former un film mince en alliage d'Ag d'une épaisseur de 100 nm (film mince en alliage d'Ag - Nd ou film mince en alliage d'Ag - Y) sur le même substrat en verre que précédemment, de la même manière que précédemment de manière à obtenir un spécimen E. En outre, une puce de métal de 5 mm2 (Au, Cu, Pd ou Pt) a été placée sur une cible d'Ag pur ayant un diamètre de 101,6 mm et utilisée comme cible pour former un film mince en alliage d'Ag d'une épaisseur de 100 nm (film mince en alliage d'Ag - Au, film mince en alliage d'Ag Cu, film mince en alliage d'Ag - Pd ou film mince en alliage d'Ag - Pt) sur le même substrat en verre que précédemment, de la même manière que précédemment de manière à obtenir un spécimen F. Comme pour les conditions de formation pour les films minces précédents, la température du substrat a été la température ambiante, la distance entre la cible et le substrat a été de 55 mm, la puissance filmogène a été de 100 W, et la pression du gaz Ar a été de 2 mtorrs. Pour étudier les compositions des films minces en alliage d'Ag précédentes, la même cible que précédemment a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Ag sur un verre flottant de la même manière que précédemment pour analyser les compositions des films par ICP. Le spécimen D (film mince d'Ag pur/ substrat en verre), le spécimen E (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre) et le spécimen F (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre), obtenus comme décrit précédemment, ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique) par les mêmes procédés que dans l'exemple 1. La réflectivité était une valeur à une longueur d'ondes de 650 nm. Après avoir chauffé les spécimen D, spécimen E et spécimen F ci-dessus dans l'air à 250 C pendant 1 heure, ils ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique) par les mêmes procédés que dans l'exemple 1. Il a été confirmé par l'analyse précédente de la composition que le film mince en alliage d'Ag du spécimen E (désigné ci-après "film mince en alliage d'Ag contenant un terreux rare") avait la composition figurant dans le tableau 2 (film mince en alliage d'Ag - Nd ou film mince en alliage d'Ag - Y) et que le film mince en alliage d'Ag du spécimen F (désigné ci-après "film mince en alliage d'Ag contenant un métal précieux") avait la composition figurant dans le tableau 2 (film mince en alliage d'Al - Au, film mince en alliage d'Al - Cu, film mince en alliage d'Al - Pd ou film mince en alliage d'Al - Pt) . Les résultats de mesure précédents sont illustrés dans le tableau 2 avec les compositions des films minces. Comme on le voit sur le tableau 2, le film mince en alliage d'Ag pur a une faible rugosité de surface moyenne Ra et une haute réflectivité (réflectivité initiale) après la formation du film et avant le traitement thermique mais une rugosité de surface moyenne élevée Ra et une faible réflectivité après le traitement thermique (250 C x 1 heure). Cela veut dire que la rugosité de surface moyenne Ra est nettement augmentée et la réflectivité grandement réduite par le traitement thermique, avec pour résultat une faible résistance thermique. Le film mince en alliage d'Ag contenant du métal précieux (film mince en alliage d'Ag du spécimen F) possède une résistance thermique supérieure à celle du film mince d'Ag pur. Bien que la hausse de sa rugosité de surface moyenne Ra et la réduction de sa réflectivité, provoquées par le traitement thermique, soient faibles, sa rugosité de surface moyenne Ra après traitement thermique (250 C x 1 heure) est supérieure à 2,0 nm et sa réflectivité est faible. En revanche, le film mince en alliage d'Ag contenant un lanthanide (film mince en alliage d'Ag du spécimen E) a une excellente résistance thermique et la hausse de sa rugosité de surface moyenne Ra et la réduction de sa réflectivité, provoquées par le traitement thermique (250 C x 1 heure), sont faibles. Parmi ces films minces en alliage, le film mince en alliage d'Ag - Nd qui a une teneur en Nd de 0,1 % (film mince en alliage d'Ag - 0,1 de Nd) a une rugosité de surface moyenne Ra avant le traitement thermique de 1,2 nm et une réflectivité initiale élevée de 89,6 % comme le film mince d'Ag pur, mais sa rugosité de surface moyenne Ra après le traitement thermique (250 C x 1 heure) est de 2,0 nm, ce qui est légèrement supérieur à celle avant le traitement thermique et sa réflectivité est de 83,9 %, ce qui est bien plus élevé que celle du film mince d'Ag pur. Un film mince en alliage d'Ag ayant une teneur en Nd de 0,3 % (film mince en alliage d'Ag - 0,3 de Nd) a une rugosité de surface moyenne Ra de 0,9 nm et une réflectivité de 86,2 % après un traitement thermique (250 C x 1 heure). La réduction de sa réflectivité provoquée par le traitement thermique est faible. Une hausse de rugosité de surface moyenne par le traitement thermique (250 C x 1 heure) n'est pas observée dans le film mince en alliage d'Ag ayant une teneur en Nd supérieure, et une réduction de réflectivité provoquée par le traitement thermique devient plus faible dès que la teneur en Nd augmente. Quand la teneur en Nd est de 3,0 % ou plus, une réduction de réflectivité, provoquée par le traitement thermique, n'est pas observée. La réflectivité initiale diminue dès que la teneur en Nd augmente, et un film mince en alliage d'Ag ayant une teneur en Nd de 4,0 % possède une réflectivité initiale de 78,5 %. Un film mince en alliage d'Ag - 1,0 de Y possède une réflectivité initiale identique ou légèrement inférieure à celle du film mince en alliage d'Ag - 1,0 de Nd. Sa réflectivité après traitement thermique (250 C x 1 heure) est légèrement inférieure à celle du film mince en alliage d'Ag - 0,1 de Nd et une réduction de réflectivité provoquée par le traitement thermique est légèrement supérieure à celle du film mince en alliage d'Ag - 0,1 de Nd. Exemple 3 Une cible d'Ag - 0,7 % de Nd (matière coulée), ayant un diamètre de 101,6 mm a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Ag d'une épaisseur de 100 nm sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre 50 mm, épaisseur : 0,5 mm) par pulvérisation cathodique DC magnétron de manière à obtenir un spécimen G. Une puce de métal de 5 mm2 (Cu, Au, Pd ou Pt) a été placée sur un matériau cible d'Ag - 0,7 % de Nd, ayant un diamètre de 101,6 mm et utilisé comme cible pour former un film mince en alliage d'Ag d'une épaisseur de 100 nm (film mince en alliage d'Ag - Nd - Cu, film mince en alliage d'Ag - Nd - Au, film mince en alliage d'Ag - Nd Pd ou film mince en alliage d'Ag - Nd - Pt) sur le même substrat en verre que précédemment de la même manière que précédemment de manière à obtenir un spécimen H. En ce qui concerne les conditions de formation pour tous les spécimens précédents, la température du substrat a été la température ambiante, la distance entre la cible et le substrat a été de 55 mm, la puissance filmogène a été de 100 W, et la pression du gaz Ar a été de 2 mTorrs. Pour étudier les compositions des films minces en alliage d'Ag précédentes, la même cible que précédemment a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Ag sur un verre flottant de la même manière que précédemment pour analyser la composition des films par ICP. Le spécimen G (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre) et le spécimen H (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre), obtenus comme décrit précédemment, ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique) par les mêmes procédés que dans l'exemple 1. Après avoir chauffé les spécimen G et spécimen H dans l' air à 250 C pendant 1 heure, ils ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique) par les mêmes procédés que dans l'exemple 1. Il a été confirmé par l'analyse précédente de la composition que le film mince en alliage d'Ag du spécimen G (désigné ciaprès "film mince en alliage d'Ag - Nd") avait la composition figurant dans le tableau 3 et que le film mince en alliage d'Ag du spécimen H (désigné ci-après "film mince en alliage d'Ag - Nd - métal précieux") avait la composition figurant dans le tableau 3 (film mince en alliage d'Ag - Nd - Cu, film mince en alliage d'Ag - Nd Au, film mince en alliage d'Ag - Nd - Pd ou film mince en alliage d'Ag - Nd - Pt). En outre, un test d'immersion en eau salée (concentration en NaCl : 0,05 mol/1, temps d'immersion : 15 minutes) a été fait sur le spécimen G et le spécimen H précédents (juste après la formation du film, c'est-àdire avant le traitement thermique) pour observer à l'#il nu le changement de couleur et l'écaillage de chacun des spécimens. Une fois que l'écaillage et le changement de couleur de toute la surface ont été observés à l'#il nu, le spécimen a été évalué comme X (non satisfaisant), quand 20 points blancs ou plus d'une longueur de 1 mm ou plus ont été observés sur le substrat, le spécimen a été évalué comme #, quand 5 à 20 points blancs ont été observés, il a été évalué comme 0 (satisfaisant), et quand aucun point n'a été observé, il a été évalué comme # (excellent). Les résultats des mesures et tests précédents sont illustrés dans le tableau 3 avec les compositions de films minces. Comme on le voit dans le tableau 3, le film mince en alliage d'Ag du spécimen G (film mince en alliage d'Ag - 0,7 de Nd) a une faible résistance à l'eau salée puisqu'il a été évalué comme X dans le test d'immersion en eau salée. En revanche, la résistance à l'eau salée du film mince en alliage d'Ag (film mince en alliage d'Ag - Nd - métal précieux) du spécimen H a été évaluée comme #, 0 (satisfaisante) ou # (excellente) à l' exception du film mince en alliage d'Ag - 0,7 de Nd - 0,3 de Cu. Cela veut dire que la résistance à l'eau salée est améliorée par l'addition de Cu, d'Au, de Pd ou de Pt à l'Ag - Nd et dès que la teneur en cet élément augmente, la résistance à l'eau salée devient supérieure. Egalement, dès que la teneur en cet élément augmente, la réflectivité initiale a tendance à chuter. Exemple 4 et exemple comparatif 3 Une cible d'Ag - 0,7 % de Nd (matière coulée) ayant un diamètre de 101,6 mm a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Ag (film mince en alliage d'Ag Nd) sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre : 50 mm, épaisseur 0,5 mm) par pulvérisation DC magnétron de manière à obtenir un spécimen I. L'épaisseur du film a été modifiée. Une cible d'Ag - 1,0 % d'Au, une cible d'Ag - 1,0 % de Cu et une cible d'Ag - 1,0 % de Pd (matières coulées) ayant un diamètre de 101,6 mm ont été utilisées pour former un film mince en alliage d'Ag (film mince en alliage d'Ag - Au, film mince en alliage d'Ag - Cu, film mince en alliage d'Ag - Pd) sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre : 50 mm, épaisseur 0,5 mm) par pulvérisation DC magnétron de manière à obtenir des spécimens J, respectivement. L'épaisseur de chaque film a été modifiée. En ce qui concerne les conditions de formation pour tous les spécimens ci-dessus, la température du substrat a été la température ambiante, la distance entre la cible et le substrat a été de 55 mm, la puissance filmogène a été de 100 W, et la pression du gaz Ar a été de 2 mtorrs. L'épaisseur du film mince en alliage d'Ag a été modifiée en contrôlant le temps de formation du film. Le spécimen I (film mince en alliage d'Ag/ substrat en verre) et les spécimens J (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre), obtenus comme décrit précédemment, ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique) par les mêmes procédés que dans l'exemple 1. Les résultats de ces mesures sont illustrés dans le tableau 4 avec les compositions et épaisseurs des films minces. Comme on le voit sur le tableau 4, dès que l'épaisseur du film augmente, la rugosité de surface moyenne devient plus élevée et la réflectivité diminue. Quand l'épaisseur du film est inférieure à 50 nm, la réflectivité diminue grandement visiblement dès que la lumière passe à travers le film. Exemple 5 et exemple comparatif 4 Une cible d'Ag - 0,7 % de Nd (matière coulée) ayant un diamètre de 101,6 mm a été utilisée pour former un film mince en alliage d'Ag (film mince en alliage d'Ag Nd) d'une épaisseur de 100 nm sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre : 50 mm, épaisseur : 0,5 mm) par pulvérisation DC magnétron de manière à obtenir un spécimen K. Une cible d'Ag - 1,0 % d'Au, une cible d'Ag - 1,0 % de Cu et une cible d'Ag - 1,0 % de Pd (matières coulées) ayant un diamètre de 101,6 mm ont été utilisées pour former des films minces en alliage d'Ag (film mince en alliage d'Ag - Au, film mince en alliage d'Ag - Cu, film mince en alliage d'Ag - Pd) d'une épaisseur de 100 nm sur un substrat en verre (Corning #1737, diamètre : 50 mm, épaisseur 0,5 mm) par pulvérisation DC magnétron de manière à obtenir des spécimens L, respectivement. En ce qui concerne les conditions de formation pour tous les spécimens ci-dessus, la distance entre la cible et le substrat a été de 55 mm, la puissance filmogène a été de 100 W, et la pression du gaz Ar a été de 2 mtorrs. La température du substrat a été modifiée comme paramètre. Cela veut dire que la température du substrat a été amenée à température ambiante (23 C), à 50 C, à 100 C, à 150 C, à 200 C et à 250 C. Le spécimen K (film mince en alliage d'Ag/ substrat en verre) et les spécimens L (film mince en alliage d'Ag / substrat en verre), obtenus comme décrit précédemment, ont été mesurés au niveau de la réflectivité et de la rugosité de surface moyenne Ra (rugosité de surface moyenne arithmétique) par les mêmes procédés que dans l'exemple 1. Les résultats de ces mesures sont illustrés dans le tableau 5 avec les compositions et les températures filmogènes (températures de substrat) des films minces. Comme on le voit sur le tableau 5, la température du substrat pour la formation du film a été de 100 C et la rugosité de surface moyenne Ra a été de plus de 2,0 nm, dans le cas du film mince en alliage d'Ag - Au, du film mince en alliage d'Ag - Cu et du film mince en alliage d'Ag - Pd. Cela veut dire que, quand un film a été formé à une température de substrat de 100 C, la rugosité de surface moyenne du film mince obtenu a augmenté. En revanche, la rugosité de surface moyenne Ra du film mince en alliage d'Ag - Nd a été faible à 2,0 nm ou moins, même quand la température du substrat pour la formation d' un film a été de 100 C ou de 150 à 250 C. Donc, le film mince en alliage d'Ag - Nd est peu influencé par la température du substrat pour la formation d'un film. Quand la température du substrat est de 200 C ou moins, cela augmente rarement la rugosité de surface moyenne d'un film mince. Tableau 1 spécimen Composition du film Pression du Température Rugosité Réflectivité (%) mince (% atomique) gaz Ar pour de traitement de surface Longueur Longueur la formation thermique moyenne Ra d'ondes d'ondes du film sous vide (nm) de 400 de 600 (mTorr) ( C) nm nm Ag - 0,7 Nd - 0,9 - Cu 2- 0,6 87,5 90,2 A Ag - 0,7 Nd - 0,9 - Cu 5 - 0,8 87,6 90,3 Ag - 0,7 Nd - 0,9 - Cu 10 - 2,1 80,2 89,2 Ag pur 1 - 1,64 89,3 92,2 B Ag pur 5 - 1,89 88,7 91,8 Ag pur 2 150 2,4 81,5 90,2 Ag pur 2 200 6,7 73,2 89,5 C Al - 1,0 Ti 2 - 1,6 80,2 80,3 Tableau 2 spécimen Composition du film Avant traitement thermique Après traitement thermique mince (% atomique) (250 C x 1 h à l'air) Ra (nm) Réflectivité Ra (nm) Réflectivité (%) (%) D Ag pur 1,7 89,5 6,2 74,2 Ag - 0,1 Nd 1,2 89,6 2,0 83,9 Ag - 0,3 Nd 0,8 88,4 0,9 86,2 Ag - 0,5 Nd 0,6 88,2 0,7 86,3 Ag - 0,7 Nd 0,6 87,6 0,6 86,4 E Ag - 1,0 Nd 0,7 85,3 0,6 85,2 Ag - 2,0 Nd 0,6 82,4 0,5 81,8 Ag - 3,0 Nd 0,5 80,1 0,6 80,2 Ag - 4,0 Nd 0,5 78,5 0,6 77,9 Ag - 1,0 Y 0,6 84,6 0,6 83,4 Ag - 1,0 Au 1,3 89,5 2,5 80,6 F Ag - 1,0 Cu 1,2 89,2 3,2 79,2 Ag - 1,0 Pd 1,4 86,4 2,1 79,5 Ag - 1,0 Pt 1,6 86,3 2,3 78,6 5 Tableau 3 spécimen Composition du film Avant traitement Après traitement Résultat du mince (% atomique) thermique thermique (250 C x 1 h test à l'air) d'immersion Ra (nm) Réflectivité Ra (nm) Réflectivité en eau salée initiale (%) G Ag - 0,7 Nd 0,6 87,5 0,6 86,4 X Ag - 0,7 Nd-0,3 Cu 0,5 87,5 0,6 87,2 X Ag - 0,7 Nd-0,5 Cu 0,5 87,7 0,7 87,3 Ag - 0,7 Nd-1,0 Cu 0,6 87,6 0,7 86,9 Ag - 0,7 Nd -3,0 Cu Ô,6 8674 Ô7~5 857e 0,7 3,0 0,6 o5 85,6 Ag - 0,7 Nd -5,0 Cu 0,4 84,3 0,5 83,1 Ag - 0,7 Nd-7,0 Cu 0,4 81,1 0,4 80,1 O Ag - 0,7 Nd-0,3 Au 0,8 87,6 0,9 87,5 Ag - 0,7 Nd-0,5 Au 0,7 87,8 0,8 87,6 Ag - 0,7 Nd -1,0 Au 0,6 87,7 0,7 87,9 Ag - 0,7 Nd-3,0 Au 0,7 87,2 0,6 86,9 # Ag 0,7 Nd -5,0 Au 0,8 85,3 0,9 86,3 Ag - 0,7 Nd -7,0 Au 0,5 83,6 0,6 82,5 # Ag - 0,7 Nd-0,3 Pd 0,9 86,5 1,0 86,4 Ag - 0,7 Nd -0,5 Pd 0,6 85,2 0,8 86,3 # Ag - 0,7 Nd-1,0 Pd 0,8 85,3 0,9 84,2 # Ag - 0,7 Nd -3,0 Pd 0,7 82,1 0,6 81,6 # Ag - 0,7 Nd-5,0 Pd 0,7 80,9 0,8 80,2 # Ag 0,7 Nd -7,0 Pd 0,7 78,1 0,9 78,6 # Ag - 0,7 Nd -1,0 Pt 0,6 84,3 0,8 83,8 Tableau 4 spécimen Composition du film Epaisseur du Une fois formé mince (% atomique) film (nm) Ra (nm) Réflectivité (%) 25 0,4 60,4 50 0,5 85,8 75 0,7 88,2 Ag - 0,7 Nd 100 0,7 88,6 300 1,0 88,8 500 1,8 83,1 Ag - 1,0 Au 100 1,5 84,2 Ag - 1,0 Cu 100 1,6 85,2 Ag - 1,0 Pd 100 1,4 86,4 @ Tableau 5 spécimen Composition du film Température Une fois formé mince (% atomique) du substrat Ra (nm) Réflectivité ( C) (%) 23 0,7 87,5 50 0,6 87,4 K 100 0,7 88,4 Ag - 0,7 Nd 150 0,6 88,6 200 0,8 86,8 250 0,9 85,2 Ag - 1,0 Au 100 2,4 84,2 L Ag - 1,0 Cu 100 2,9 86,5 Ag - 1,0 Pd 100 2,2 80,1 Puisque le film mince réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs de la présente invention possède une excellente platitude de surface et montre une haute réflectivité même dans un environnement chauffant, il peut être avantageusement utilisé comme film mince réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs et sa fonction peut être améliorée. Comme le réflecteur de la présente invention possède le film mince réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs ayant les excellentes propriétés caractéristiques précédentes formé sur un substrat, il peut être avantageusement utilisé dans un environnement chauffant. REVENDICATIONS 1. Film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs, qui a une rugosité de surface moyenne Ra de 2,0 nm ou moins. 2. Film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la revendication 1, qui contient un lanthanide en une teneur allant de 0,1 à 3,0 % atomique. 3. Film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la revendication 2, dans lequel le lanthanide est le Nd. 4. Film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la revendication 1, qui contient au moins un élément choisi parmi Au, Pd, Cu et Pt en une teneur allant de 0,5 à 5,0 % atomique. 5. Film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la revendication 1, qui possède une épaisseur de 50 à 300 nm. 6. Film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la revendication 1, qui est obtenu par chauffage d'un substrat entre 50 et 200 C au moment de la formation du film. 7. Réflecteur comprenant le film réfléchissant en alliage d'Ag pour des réflecteurs selon la revendication 1, formé sur un substrat. 8. Réflecteur selon la revendication 7, dans lequel un film contenant au moins un élément choisi dans le groupe constitué d'un oxyde, d'un nitrure et d'un oxynitrure est formé sur le substrat à titre de couche d'amorce.