FR 2828933 A1 20030228 FR 0111144 A 20010827 mélange gazeux. L'invention concerne un procédé de détermination de la qualité optique d'un monocristal de fluorure ainsi qu'un élément optique. Il existe actuellement une forte demande pour des outils d'exposition fonctionnant à 193 et 157 nm. s A cet égard, les cristaux de fluorure sont utilisés en tant qu'éléments optiques dans des systèmes d'illumination, des systèmes de projection et des lasers excimer, en raison de leur transmission et durabilité qui en font des matériaux optiques idéaux pour des applications à des longueurs d'ondes inférieures à nm. o Cette région du spectre électromagnétique est d'un grand intérêt, en particulier pour les systèmes de microlithographie à résolution élevée. Un système de microlithographie contient des sous-systèmes qui sont principalement le système d'illumination et le système de projection. Le système de projection sert à focaliser l'image et donc les éléments optiques qui le composent doivent être d'une qualité optique supérieure. A cet égard, pour des applications dans des systèmes de projection, l'homogénéité optique des cristaux doit être inférieure à 2 ppm, et de préférence r À mereure a 1 ppm. Quant au système d'illumination, il sert à former le faisceau laser et les exigences sur la qualité cristalline des éléments optique qui le composent est également très élevée bien que moins élevoe que pour le système de projection. Jusqu'à présent, la qualité optique des monocristaux constituant de tels éléments optiques était contrôlée en mesurant la biréfringence, l'homogéncité optique, et par inspection visuelle générale des monocristaux. 2s Cependant, ces techniques n'offrent qu'une vue au niveau macroscopique de la qualité du cristal. Or, on l'a vu pour des applications dans des systèmes de projection de haute résolution, l'homogénéité optique des cristaux doit être inférieure à 2 ppm, et de préférence inférieur à 1 ppm, ce qui signifie que le contrôle de la qualité optique du cristal doit être effectué au niveau microscopique, en contraste à macroscopique, ce que ne font pas les méthodes utilisces actuellement. L'invention vise à pallier les inconvénients des méthodes, de l'art antérieur, de détermination de la qualité optique d'un monocristal, en particulier d'un monocristal de fluorure en proposant une méthode qui permet de détecter les 3s microdéfauts dans ces monocristaux. Cette méthode est basoe sur la méthode d'analyse en volume par rayons X du monocristal. Ainsi, I'invention propose un procédé de détermination de la qualité optique d'un monocristal de fluorure, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes s de (a) irradiation d'au moins un élément de volume du monocristal de fluorure, suivant au moins une famille de plans cristallins par un faisccau de rayons X durs, pour obtenir une image de la diffraction en mode transmission des rayons X durs à travers cet au moins un élément de volume selon cette au moins une famille de plans cristallins, (b) étude de l'image obtenue à l'étape (a), et (c) calcul de la mosaicité du au moins un élément de volume selon la au moins une famille de plans cristallins, à partir de l'étude de l'étape (b). De préférence, les étapes (a) à (c) sont répétées suivant plusieurs familles de plans cristallins dans le au moins un élément de volume. Avantageusement, les étapes (a) à (c) sont répétées dans plusieurs éléments de volume différent du monocristal de fluorure. Dans ces derniers cas, on calcule la mosaicité globale du monocristal de fluorure à partir des calculs des mosaicités obtenus aux étapes (c). L'élément de volume a une épaisseur, dans le sens de l'épaisseur du monocristal de fluorure, de 3 à 10 cm, et une surface irradiée par le faisceau de rayons X durs de 0,5 mm x 20 à 40 mm. De préférence, on sélectionne les monocristaux de fluorure ayant une mosaïcité inférieure à 10' à travers le au moins un élément de volume donné. Le procédé de l'invention est d'un intérêt particulier pour les monocristaux de fluorure utilisés ou utilisables dans les systèmes de projection, tels que les 2s monocristaux de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)X(M2),xF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que O être choisi parmi Li, Na ou K, et R peut être choisi parmi Ca, Sr, Ba ou Mg. L'invention propose également un élément optique pour utilisation dans des systèmes de projection fonctionnant à des longueurs d'ondes comprises entre et 200 nm, caractérisé en ce qu'il est constitué d'un monocristal de fluorure 3s ayant une mosaicité inférieure à 10'. De préférence, le monocristal de fluorure est un monocristal de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)x(M2),xF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que 0 s x s 1, ou encore des combinaisons de formulation Ca,xy Bax Sry F2 dans laquelle x et y sont tels que O s x s 1 et 0 s y s 1, ou encore des combinaisons de formulation MRF dans laquelle M peut être choisi parmi Li, Na ou K, et R peut être choisi parmi Ca, Sr, Ba ou Mg. Dans le cas des monocristaux mixtes les variables x et y sont choisies pour obtenir les propriétés particulières souhaitées pour une application particulière. Par exemple, les variables x et y peuvent être choisies pour que les caractéristiques de dispersion du monocristal soient optimales, comme indiqué dans le document WOOO/75697, ou bien pour d'autres applications, de manière à minimiser la biréfringence intrinsèque du monocristal selon une direction cristallographique donnée, et à une longueur d'onde donnce. L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et caractéristiques de celle-ci apparâîtront plus clairement à la lecture de la description explicative qui va suivre qui est faite en référence aux figures annexces dans lesquelles: - la figure 1 représente une vue schématique d'une distocation à un joint de grain dans un monocristal; - la figure 2 représente les résultats des mesures de l'homogénéité optique d'un échantillon monocristallin de CaF2 ayant une pluralité de sous-grains, mesurée en utilisant un interféromètre; - la figure 3 représente l'image obtenue par le procédé de détermination de l'invention, sur un premier monocristal de CaF2; - la figure 4 représente l'image obtenue par le procédé de détermination de l'invention, sur un deuxième monocristal de CaF2; - la figure 5 représente l'image obtenue par le procédé de détermination de l'invention sur un troisième monocristal de CaF2; et -la figure 6 représente l'image obtenue par le procédé de détermination de l'invention sur un quatrième monocristal de CaF2. La qualité optique d'un monocristal est fortement affectée par la présence de défauts dans sa structure cristalline, au niveau microscopique. En effet, un monocristal est constitué d'un grand nombre de sous-grains délimités entre eux par ce qu'on appelle les joints de sous-grains. C'est au niveau de ces joints de sous-grains qu'apparaissent la plupart des défauts ayant une influence négative sur la qualité optique du monocristal et en particulier sur l'homogénéité optique du monocristal. Or, l'homogéncité optique du monocristal est un facteur important pour s son utilisation dans des systèmes optiques à résolution élevoe. L'homogénéité optique est une mesure de la qualité optique d'un monocristal. Elle est représentative de l'écart entre les indices optiques trouvés dans chaque région du monocristal. Un défaut affectant la qualité optique d'un monocristal est la présence de 0 dislocations aux joints de sous-grain dans le monocristal représenté. La figure 1 représente un ensemble de dislocations à un joint entre deux sous-grains d'un monocristal. Comme on le voit en figure 1, les deux sous-grains forment un angle noté H en figure 1, au niveau du joint de sous-grains les séparant. Ce changement d'orientation d'un sous-grain par rapport à un autre est dû à des dislocations au niveau microscopique. Ces dislocations se traduisent par un changement local de la densité et de la polarisabilité du monocristal. Donc, à ce joint, il y a un changement local de l'indice de réfraction du monocristal. De plus, plus l'angle entre deux sous-grains augmentent, plus la désorientation des sous-grains est élevoe. Or, lorsque la désorientati on d'un sous -grain dans le cristal augmente par rapport aux sous-grains qui lui sont les plus proches, le sous-grain passe de l'état de ce qu'on appelle un "sous-grain" à l'état de "grain". I1 n'y a pas de règles strictes pour quantifier ce joint mais il est reconnu 2s que si l'angle augmente, le monocristal en entier ne se comporte plus comme un matériau monocristallin mais comme un matériau polycristallin. Cela peut être visualisé sur la figure 2 qui montre deux images des résultats des mesures d'homogénéité optique d'un échantillon de monocristal de CaF2, cette mesure ayant été effectuce par une des méthodes utilisées dans l'art antérieur, c'est-à-dire en utilisant un interféromètre, et qui représentent l'homogénéité optique d'un monocristal de CaF2 qui a une pluralité de sous-grains autour de sa circonférence. Dans l'échantillon de CaF2, représenté en figure 2, un des sous-grains de la circonférence présente une telle désorientation, vis-à-vis des sousgrains qui lui sont le plus proches, qu'il forme un grain proéminent. s Ce grain est indiqué par les flèches en figure 2. La présence de ce grain fait que la valeur de l'homogénéité optique de cet échantillon de CaF est plus élevée, c'est-à-dire que l'homogénéité optique de l'échantillon dans son entier est moins bonne, l'effet de la désorientation étant particulièrement dramatique sur l'homogénéité optique dans la région du grain proominent. Ainsi, la qualité optique d'un monocristal de fluorure dépend fortement des défauts cristallins au niveau "microscopique" de ce monocristal. Par le terme microscopique, on entend dans l'invention des défauts all ant 0 du nanomètre au micron. Or, jusqu'à présent, l'homogéncité optique et donc la qualité optique d'un monocristal de fluorure était détermince seulement au niveau macroscopique. Une méthode idéale pour observer les défauts au niveau microscopique dans des cristaux de fluorure est d'utiliser une méthode d'analyses en volume par irradiation des cristaux par des rayons X durs. Cette méthode implique le positionnement de l'échantillon entre un détecteur et une source de rayons X durs avec une énergie supérieure à 100 ke V et une largeur de bande Ak avec une ouverture angulaire A0. L'échantillon est orienté dans le faisccau des rayons X durs pour observer la diffraction d'une famille donnée de plans cristallins. La taille efficace du faisceau sur la surface de l'échantillon peut être élevée, mais de préférence on réglera la taille du faisceau sur la surface de l'échantillon pour qu'il balaye une surface de l'échantillon de 0,5 mm par environ 2 à 4 cm. Par cette technique, on obtient des informations sur un élément de volume significatif du cristal dont on veut déterminer la qualité optique. Comme la mesure prend seulement quelques secondes, on peut rapidement effectuer de nombreuses mesures au travers de l'échantillon pour ainsi obtenir une image complète de la structure des défauts du cristal. On peut travailler en mode transmission et dès lors obtenir des informations, notamment sur les défauts cristallins, sur l'épaisseur entière du cristal. Ceci est possible grâce à l'intensité importante de la source de rayons X et à la très faible absorption des cristaux de fluorure à ces longueurs d'onde. C'est là que réside l'effet avantageux, en particulier du procédé de l'invention. On peut donc déterminer avec une grande fiabilité, la qualité optique du cristal et donc son adéquation en tant qu'élément optique pour les dispositifs s fonctionnant entre 100 et 200 nanomètres. C'est ainsi que l'on a découvert que l'on pouvait mesurer la qualité optique d'un élément de volume sur l'épaisseur entière de cristaux ayant une épaisseur qui peut excéder 10 cm. Cependant, pour une application en tant qu'élément optique dans des ]o systèmes à haute résolution, tels que les systèmes de projection, l'épaisseur des monocristaux utilisés est généralement comprise entre 3 et 10 cm, ce qui rend le procédé de l'invention tout à fait approprié. Le procédé utilise un diffractomètre de rayons X durs. I1 fournit une mesure directe de la mosaïcité du cristal, également appelée s répartition mosaique. La mosaïcité est une mesure de la qualité optique du cristal. Plus spécifiquement, la mosaicité reflète l'orientation relative des grains et sous-grains du cristal dans un élément de volume donné. En effet, le faisccau diffracté par chaque grain ou sous-grain est enregistré sur le détecteur à une position liée à l' orientation de ce grain ou sous-grain par rapport aux grains ou sous-grains voisins. Cette orientation relative est calculée directement sur l'image projetée. Or, on l'a vu lorsque la désorientation d'un sous-grain par rapport à ses voisins les plus proches augmente, l'homogénéité et la qualité optique du cristal 2s sont moins bonnes. Ainsi, dans un premier aspect, l'invention propose un procédé de détermination de la qualité optique d'un monocristal, de préférence de fluorure, qui comprend une irradiation d'au moins un élément de volume du monocristal, suivant au moins une famille donnée de plans cristallins par un faisceau de rayons X durs, pour obtenir une image de la diffraction en mode transmission des rayons X durs à travers cet au moins un élément de volume et selon cette au moins une famille de plans cristallins. A l'aide de cette seule opération, le calcul de la mosaïcité de cet élément de volume selon cette famille de plans cristallins est effectué en étudi ant l ' image 3s obtenue, ce qui permet de déterminer la qualité optique du monocristal. Chacune de ces mesures étant effectuée selon une famille de plans cristallins dans l'élément de volume particulier du monocristal de fluorure prenant quelques secondes, il est particulièrement avantageux non seulement de répéter cette mesure suivant plusieurs familles de plans cristallins dans le au moins un s élément de volume particulier, mais également de la répéter dans plusieurs éléments de volume différents du monocristal de fluorure. Dans les deux cas, le calcul de la mosaïcité globale du monocristal de fluorure se fait, bien évidemment, à partir des valeurs des mosaïcités obtenues à chaque mesure. 0 Avec le procédé de l'invention, on peut régler la taille du faisceau de rayons X durs, en balayant le monocristal pour que l'élément de volume donné ait une épaisseur, dans le sens de l'épaisseur du monocristal de fluorure, de 3 à 10 cm, et une surface irradiée par le faisceau de rayons X durs d'environ 0,5 mm x 20 à mm. s Pour une utilisation en tant qu'élément optique pour des dispositifs fonctionnant entre 100 et 200 nm, on sélectionne les monocristaux de fluorure ayant une mosaïcité inférieure à 10' à travers l'élément de volume. Le procédé de l'invention s'applique particulièrement à la détermination de la qualité optique d'un monocristal de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF" ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)x(M2),xF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que O Ba ou Mg. Ainsi, un élément optique selon l'invention, pour utilisation des longueurs d'ondes comprises entre 100 et 200 nm, est constitué d'un monocristal de fluorure ayant une mosaicité inférieure à 10' à travers un élément de volume donné, la mosaïcité ayant de préférence été détermince avec le procédé de l'invention. Dans ce cas, l'élément de volume donné a une surface de 0,5 mm x 20 mm et une épaisseur, dans le sens de l'épaisseur du monocristal de fluorure, de 3 à lOcm. Un élément optique particulièrement intéressant est un monocristal de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)x(M2),xF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que 0 ou K, et R peut être choisi parmi Ca, Sr, Ba ou Mg. 0 Afin de mieux faire comprendre l'invention, on va maintenant en décrire, à titre d'exemples purement illustratifs et non limitatifs plusieurs modes de mise en _uvre. EXEMPLE 1 Dans cet exemple, un premier monocristal de fluorure de calcium est irradié avec un faisceau de rayons X durs, selon plusieurs familles de plans cristallins et dans différents éléments de volume du monocristal. A chaque mesure, la surface du monocristal balayée par le faisccau de rayons X durs était de 0,5 mm x 20 mm et l'épaisseur du monocristal traversée par les rayons X durs était de 4 cm. Par conséquent, chaque élément de volume avait une surface de 0,5 mm x 20 mm et une profondeur de 4 cm. 2s Une image, représentative de celles obtenues en appliquant le procédé de l'invention sur chaque élément de volume selon chaque famille de plans cristallins de ce premier échantillon de monocristal de fluorure de calcium, est représentée en figure 3. En figure 3, l'axe vertical correspond à la hauteur ou épaisseur mesurée de l'échantillon. La largeur de l'image obtenue, c'est-à-dire la dimension de l'image obtenue selon l'axe horizontal est proportionnelle à la mosacité du monocristal selon cette famille de plans cristallins particuliers, dans cet élément de volume particulier. On l'a déjà dit, l'image représentée en figure 3 est représentative de celles 3s obtenues sur les différents éléments de volume et selon les différentes familles de plans cristallins, sur cet échantillon de monocristal de fluorure, en appliquant le procédé de détermination de l'invention. I1 ressort de l'étude de 1'ensemble des images obtenues que la mosaïcité globale du monocristal de fluorure testé dans cet exemple est inférieure à 1'. Afin de vérifier qu'une telle valeur de la mosaïcité globale du monocristal traduit une très bonne qualité optique de ce monocristal, on a procédé à une mesure de l'homogénéité optique de ce monocristal, par des méthodes connues de l'homme de l'art, dans ce cas particulier en utilisant un interféromètre. Il s'est avéré que l'homogénéité optique globale de ce monocristal est de 0 1,3 ppm. On voit donc que la mosaicité traduit une certaine valeur de l'homogénéité optique et donc de la qualité optique du monocristal. Autrement dit, plus la largeur de l'image obtenue en appliquant le procédé de l'invention est faible, plus la valeur de l'homogénéité optique de l'ensemble du monocristal est faible, et donc plus son homogénéité optique est bonne. En conclusion, l'échantillon mesuré ici est de très bonne qualité et peut étre utilisé en tant qu'élément optique pour des systèmes de projection requérant une très bonne qualité optique. EXEMPLE 2 Un second échantillon de monocristal de fluorure de calcium a été traité par le procédé selon l'invention et comme décrit à l'exemple 1, sauf que l'épaisseur du monocristal traversée par les rayons X était de 10 cm. Une image représentative de celles obtenues en appliquant le procédé de l'invention est représentée en figure 4. Comme on le voit en figure 4, l' image obtenue présente un él argi ssement selon l'axe horizontal. Plus précisément, on distingue sur la moitié b as se de l 'image, qu 'il y a une désorientation abrupte entre les sous-grains adjacents, dans la partie basse de l'échantillon traversce par les rayons X durs, ce qui se traduit par la présence de taches dispersées dans la partie inférieure de l'image. De plus, on voit en figure 4 que pour cette partie inférieure, l'élargissement de l'image obtenue en appliquant le procédé de l'invention à l'échantillon de monocristal de fluorure de calcium est plus important que dans la partie haute de l'image. Le résultat de l'analyse de cette image est que pour le grain à gauche dans la partie inférieure de la figure 4, la mosaîcité est de 2,5'. Quant à la partie supérieure de l'image, son élargissement selon l' axe horizontal traduit une mosaïcité des grains dans la partie supérieure du monocristal d'environ 5'. L'analyse de l'ensemble des images obtenues a permis de déterminer que la mosaïcité globale du monocristal de fluorure de calcium selon ce second exemple 0 est supérieure à 20'. Là encore, afin de vérifier qu'une telle valeur de la mosaîcité globale était représentative de la qualité optique globale du monocristal, on a déterminé la valeur de l'homogénéité optique de ce mode de cristal en utilisant un interféromètre. La valeur de l'homogénéité optique trouvée était de 1 1,6 ppm. Une telle valeur d'homogénéité optique ne permet pas d'utiliser l'échantillon de l'exemple 2 en tant qu'élément optique pour des systèmes de projection à haute résolution fonctionnant à des longueurs d'ondes de 100 et nm. En effet, à partir des résultats des différents tests effectués sur différents échantillons de monocristaux de fluorure de calcium, on a trouvé que la mosaîcité à travers un élément de volume de O, 5 mm x 40 mm x 3 à 10 cm d'épaisseur, de préférence à travers l'ensemble des éléments de volume, doit être inférieure à 10', pour que le monocristal puisse avantageusement être utilisé en tant qu'élément 2s optique pour des systèmes de projection. EXEMPLE 3 On a appliqué le procédé de l'invention tel que décrit à l'exemple 1 sur un troisième monocristal de fluorure de calclum. Une image représentative de celles obtenues par le procédé de l'invention est représentée en figure 5. La figure 5 illustre l'image qui apparaît sur le détecteur, pour une famille de plans donnés dans un élément de volume donné. Sur cette image, plusieurs taches apparaissent provenant de divers plans cristallins: une tache au centre et d'autres taches satellites. Seule la tache au centre a été exploitée car elle est représentative de la famille de plans cristallins selon laquelle on a voulu mesurer. s Autrement dit, les valeurs de mosaïcité ont été mesurées à partir de la tache centrale, seulement. Comme on le voit en figure 5, la tache centrale présente un fort élargissement selon l' axe horizontal. Cependant, cet élargissement est à peu près constant sur toute l'épaisseur de 4 cm de l'élément de volume étudié, contrairement à l'échantillon de l'exemple 2, ce qui montre qu'il n'y a pas de désorientation abrupte de sous-grains. La mosaicité de cet échantillon, lorsque calculée à partir de l'ensemble des images obtenues en appliquant le procédé de l'invention, est de 16'. A nouveau, l'homogénéité optique de ce monocristal a été mesurée en utilisant un interféromètre. Elle est de 6,9 ppm. Là encore, le monocristal de fluorure de calcium étudié ne peut pas être utilisé en tant qu'élément optique pour des applications à haute résolution, la mosaïcité étant supérieure à 10'. EXEMPLE 4 On a appliqué le procédé de l'invention sur un quatrième échantillon de monocristal de fluorure de calcium, selon le procédé décrit à l'exemple 1. Une image représentative de celles obtenues est représentée en figure 6. 2s Comme on le voit en figure 6, l'élargissement selon l'axe horizontal de l'image obtenue est plus faible que les élargissements des images obtenues aux exemples 2 et 3. Cet élargissement des images obtenues, selon l'axe horizontal traduit une mosaïcité de 9'. L'homogénéité optique de cet échantillon, lorsque mesurée en utilisant un interféromètre est de 1,9 ppm. Ce monocristal de fluorure de calclum peut être utilisé en tant qu'élément optique pour des systèmes de projection car sa mosaïcité est inférieure à 10', ce qui traduit une homogénéité optique inférieure à 2 ppm. Cependant, lorsqu'une homogénéité optique de l'ordre de 1 ppm est requise par le fabriquant ou l'utilisateur du système, il ne pourra pas être utilisé. En effet, bien qu'ici la mosaïcité du monocristal soit sous la forme d'une désorientation faible mais continue des sous-grains à travers les différents s éléments de volume, cette faible désorientation peut être un désavantage. La technique des rayons X durs peut facilement être utilisce pour détecter des désorientations de joints de sous-grains de l'ordre de 0,5'. Elle donne des informations non seulement sur la mosaïcité globale mais 0 également quant à la présence de fortes dislocations locales que n'apparaîtraient pas si l'on faisait une analyse seulement globale. Or, la structure mosaïque dans des cristaux peut avoir un impact négatif sur l'homogénéité optique. En particulier, cette technique permet de révéler les cristaux avec une répartition mosaïque élevoe qui traduit une désorientation élevoe entre les sous grains adjacents. On préfère que l'angle de désorientation d'un sous-grain par rapport à ses plus proches voisins soit le plus faible possible. La technique des rayons X durs procure des informations complémentaires sur la mosaïcité d'un cristal à travers un élément de volume donné qui balaye l'épaisseur entière du cristal. Comme on l'a déjà dit, à partir des différents tests réalisés, il a été déterminé que la mosaicité à travers un élément de volume donné dont l'épaisseur correspond à l'épaisseur du cristal entier, c'est-à-dire de 4 à 10 cm et dont la surface supérieure est de 0,5 mm x 40 mm, doit être inférieur à 10'. Bien entendu, l'invention n'est nullement limitée aux modes de réalisation décrits et illustrés qui n'ont été donnés qu'à titre d'exemples. Ainsi, bien que l'invention ait été décrite dans les exemples uniquementen référence à un monocristal de fluorure de calcium, le procédé de l' invention pourra s'appliquer à d'autres monocristaux de fluorure tels que des monocristaux de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)x(M2),xF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que 0 s x ou K, et R peut être choisi parmi Ca, Sr, Ba ou Mg. De la même façon, I'élément optique selon l'invention pourra être aussi bien un monocristal de fluorure de calcium qu'un monocristal de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)x(M2), XF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que O s x s 1, ou encore des combinaisons de formulation Ca, x y Bax Sry F2 dans laquelle x et y sont 0 tels que 0 s x s 1 et 0 s y s 1, ou encore des combinaisons de formulation MRF, dans laquelle M peut être choisi parmi Li, Na ou K, et R peut être choisi parmi Ca, Sr,BaouMg. Mais encore, le procédé de l'invention pourra également être utilisé pour déterminer la qualité optique de tout monocristal à utiliser pour des applications autres que des dispositifs fonctionnant entre lOQ et 200 nm. En effet, les informations fournies par le procédé de l'invention pourront être exploitées d'une manière différente de celle décrite ici, en vue d'autres applications. Par exemple, lorsque le monocristal de fluorure est utilisé en tant qu'élément optique pour des applications autres que des systèmes de projection dans lesquels une moins bonne qualité optique est requise, le procédé de l'invention pourra également être appliqué pour déterminer cette qualité optique moindre. C'est dire que l'invention comprend tous les équivalents techniques des moyens décrits ainsi que leurs combinaisons si celles-ci sont effectuées suivant son esprit. REVENDICATIONS 1. Procédé de détermination de la qualité optique d'un monocristal de fluorure, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: s (a) irradiation d'au moins un élément de volume du monocristal de fluorure, suivant au moins une famille de plans cristallins par un faisceau de rayons X durs, pour obtenir une image de la diffraction en mode transmission des rayons X durs à travers cet au moins un élément de volume selon cette au moins une famille de plans cristallins, 0 (b) étude de l'image obtenue à l'étape (a), et (c) calcul de la mosaîcité du au moins un élément de volume selon la au moins une famille de plans cristallins, à partir de l'étude de l'étape (b). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les étapes (a) à (c) sont répétées suivant plusieurs familles de plans cristallins dans le au moins un élément de volume. 3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que les étapes (a) à (c) sont répétées dans plusieurs éléments de volume différents du monocristal de fluorure. 4. Procédé selon la revendication 2 ou 3, caractérisé en ce qu'on calcule la mosaïcité globale du monocristal de fluorure à partir des calculs des mosaïcités obtenus aux étapes (c). 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que chaque élément de volume a une épaisseur, dans le sens de l'épaisseur du monocristal de fluorure, de 3 à 10 cm, et une surface irradice par le 2s faisccau de Rayons X durs de 0,5 mm x 20 à 40mm. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'on sélectionne les monocristaux de fluorure ayant une mosa cité inférieure à 10' à travers le (les) élément(s) de volume. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, o caractérisé en ce que le monocristal de fluorure est un monocristal de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)x(M2),xF2 dans laquelle M1 peut étre choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que 0 s x s 1, ou encore des combinaisons de formulation Ca, x.y Bax Sry F2 dans laquelle x et y sont tels que 0 s x s 1 et 0 être choisi parmi Ca, Sr, Ba ou Mg. 8. Elément optique pour utilisation dans des systèmes de projection fonctionnant à des longueurs d'ondes comprises entre 100 et 200 nm, caractérisé en ce qu'il est constitué d'un monocristal de fluorure ayant une mosaïcité inférieure à 10'. 9. Elément optique selon la revendication 8, caractérisé en ce que le monocristal de fluorure est un monocristal de NaF, de KF, de LiF, de CaF2, de BaF2, de MgF2, ou de SrF2, ou bien les combinaisons mixtes de ces derniers, o comme par exemple des combinaisons de formulation (M1)X(M2), xF2 dans laquelle M1 peut être choisi parmi Ba, Ca ou Sr et x est tel que O