FR 2831990 A1 20030509 FR 0213813 A 20021105 notamment d'hydrogène est un générateur sur site de gaz. 1 2831990 SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR EMP CHER LE DÉPLACEMENT DE TRANCHES DE SEMICONDUCTEUR DANS UNE CHAMBRE À PRESSION VARIABLE L' invention concerne un système et un pro cédé p our emp êcher le dép lacement d'objets plans, telles que des tranches de semi-conducteur, dans une chambre soumise à une alternance de dépressurisation et de repressurisation, et de façon plus p articulière, à un système et un pro cédé de mainti en de tranche p our fixer de façon sûre des tranches dans une chambre formant sas à charge durant le transfert des 0 tranches, dans et depuis un système métrologique automatique fonctionnant sous vide, via la chambre formant sas sous vide. Les systèmes d'imagerie sont utilisés dans des domaines tels que la microélectronique, la médecine, la blologie, l'ingénierie génétique, la cartographie et même l'astronomie. Le dispositif d'imagerie peut être un type approprié de microscope ou bien dans le cas de l'astronomie, un télescope. La demande que l'image soit d'une certaine précision est forte et par conséquent, l'influence du bruit dans un signal dérivé par le système d'imagerie à partir d'un objet ayant été imagé, peut être minimisé. Pour des raisons de commodité et d'efficacité, l'invention va être décrite dans l'environnement de la microélectronique bien qu'un autre environnement pourrait également avoir été choisi. Durant la fabrication de composants à semi-conducteur à intégration à très grande échelle (VLSI) , de mesures sont faites à différents stades du processus de fabrication pour déterminer si des caractéristiques particulières sur l'objet sont dans des tolérances de conception spécifiées. Dans la négative, on entreprend rapidement une action correctrice. Ainsi que ceci est bien connu, un tel procédé de fabrication produit une galette qui est divisée en des pastilles ou puces. Chaque pastille à un grand nombre de composants électroniques. Ces composants sont définis par ce que l'on peut généralement qualifer de "caractéristique" dans le sens o une caractéristique est détectable par un microscope en tant qu'élément de premier plan distinguable d'un arrière-plan vice-versa et ayant une dimension telle qu'une largeur. Pour mesurer cette largeur, les bords ou flancs de la caractéristique doivent être localisés précisément. Le terme de "bord" ou flanc" est un terme utilisé pour signifier des discontinuités détectables dans un signal obtenu par imagerie de la caractéristique (dans un environnement quelconque, pas seulement microélectronique). Le but de la détection des bords est de localiser précisément les transitions, malgré l'influence du flou de nuage et la présence de bruit. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - l/37 2 2831990 Étant donné que la technologie a réussi à augmenter la densité en composant par puce, les dimensions de la caractéristique se sont restreintes pour se trouver 8tre signification inférieures à la valeur d'un micromètre. Par conséquent, l'équipement de mesure doit mesurer des dimensions sub-micrométriques avec des tolérances d'erreur acceptables inférieures. Des systèmes automatisés ont été développés pour effectuer ces mesures pour remplacer les systèmes manuels pour obtenir des rendements de processus plus élevés pour réduire l'exposition des tranches à la contamination et pour fournir un plus grand débit de production. Un exemple d'un système automatisé est décrit dans lo le brevet US N 4 938 600. Tel que représenté sur la Fig. 1 qui est prise de ce brevet et qui est explicitée par les détails cidriers, une image d'une caractéristique est enregistrée par un microscope et l'image enregistrée est ensuite traitée électroniquement pour obtenir les mesures requises. Un tel système automatisé est le système métrologique appelé Model IVS- 120, fabriqué par Schlumberger Vérification Systems de Concord, Mass., qui est une division de Schlumberger ATE products. Les éléments principaux du système, y compris un manipulateur de tranche, un système optique et un système d'ordinateur sont montés dans une armoire (non représentée). Le manipulateur de tranche comprend un support de tranche en cassette 112 contenant des tranches devant être mesurées, un pré-aligneur 114, un mécanisme de prélèvement et de transport de tranche (par exemple des bras de transfert robotisés, non représentés), pour déplacer des tranches, et un étage de mesure 118 qui supporte les tranches pendant l'opération réclle de mesure. Par un fonctionnement, le mécanisme de prélèvement et de transport de tranche procède à l'enlèvement d'une tranche 116 d'une cassette 112 et la place sur le pré-aligneur 114. Le pré-aligneur fait ensuite tourner la tranche 116 vers une orientation prédéterminée, par détection d'une marque, d'un point plat ou d'un bord encoché prévu sur la tranche 116, après quoi le mécanisme de prélèvement et de transport de tranche procède au transfert de la tranchell6 depuis le préaligneurll4 à l'étage de mesurell8 et positionne la tranche 116 en orientation horizontale. L'étage 118 est déplaçable en trois dimensions pour positionner précisément la tranche 116 par rapport au système optique aDm d'effectuer la mesure rcelle. Le système optique comprend le microscope 120 et la caméra vidéo 122 positionnée au-dessus de l'étage de mesure 118 et de la tranche 116. Le 3s microscope 120 comporte typiquement une tourelle portant plusieurs lentilles d'objectif fournissant une plage d'amplifcation souhaitée et aimantées de manière que le microscope et la caméra 122 aient un axe optique vertical perpendiculaire à la surface de la tranche. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 noYembre 2002 - 2/37 3 2831990 Une caractéristique à mesurer sur la tranche 116 est localisée avec le microscope 120 de manière bien connue par l'étage de mesure mobile 118 par une man_uvre visant à ce que la caractéristique vienne se trouver finalement dans le champ de vision de lentille d'objectif. Le système optique est focalisé et une image focalisée de la caractéristique est numérisée et enregistrée par la caméra 122. L'image est ensuite stockée ou "figée". Le système est commandé par un ordinateur 130. On a couplé à l'ordinateur 130 un moniteur 132 pour l'affchage de l'image enregistrée par la caméral22 et l'affichage de texte et un clavierl36 (qui constitue un terminal d'entrée permettant d'entrer des instructions venant de l'opérateur) et une unité à disque 138 pour stocker un logiciel système et des donnces. Le processeur d'image 128 utilise des algorithmes logiciels pour localiser les bords de la caractéristique sélectionnce et effectuer une mesure. L'ordinateur 130 affiche ensuite les données de mesure sur l'écran, imprime une copie papier ou transfère les données directement à un ordinateur hôte (non représenté) pour effectuer une analyse centralisce des données. Une fois que le processus est achevé, la tranche 116 est retournée à la cassette 112 par le manipulateur de tranche. Une modification apportée au système ci-dessus implique le placement de l'étage de mesure dans une chambre d'inspection sous vide maintenue à la pression d'un vide. Etant donné que la cassette 112 est usuellement placée dans l'atmosphère ambiante, une ou plusieurs chambres souvent appelées des chambres de transfert sont interposces entre l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection dans le but de faciliter le transtert des tranches entre la chambre d'inspection et l'atmosphère amblante. La chambre de transfert est alternativement dépressurisée et repressurisée. Elle est dépressurisée vers la pression de vide dans la chambre d'inspection pour permettre le transtert d'une tranche 130 venant de la chambre de transiert vers la chambre d'inspection, et le transfert d'une tranche sortante inspectée de la chambre d'insp ecti on à la chambre de transfert. Elle est repressuri s ée à la pres si on atmosphérique pour permettre le transfert d'une tranche sortante inspectée, de la chambre de transfert à l'atmosphère ambiante, et le transfert d'une tranche entrante de l'atmosphère ambiante à la chambre de transtert. A cette fn, des vannes à obturateur sont associées à chaque chambre de transfert pour isoler l'environnement de vide vis- à-vis de l'atmosphère ambiante durant le transfert des tranches entre la chambre d'inspection et l'atmosphère ambiante. Tandis qu'elles se trouvent dans la chambre de transfert, les tranches sont usuellement placces sur des spatules ou des piédestaux. Un problème se posant lors du placement de l'étage de mesure dans une chambre à vide et le besoin afférent de faire fonctionner des sas à charge pour faciliter le transfert de tranche entre l'atmosphère ambiante et la chambre à vide, est R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 3/37 4 2831990 celui de la réduction de débit. Spécifquement, le temps de traitement pour obtenir des mesures des tranches a augmenté au vu du temps nocessaire pour dépressuriser ou évacuer par pompage la chambre de sas à charge pour atteindre le niveau de pression de la chambre à vide pour permettre le transfert des tranches entre la chambre de sas à charge et la chambre à vide et ensuite, de re pressuriser, ou de regonfler par pompage la chambre de sas à charge au niveau de pression de l'atmosphère ambiante pour permettre le transfert des tranches entre la chambre de sas à charge et l'atmosphère ambiante. De plus, la dépressurisation et la re-pressurisation de la chambre de sas à o charge provoquent souvent un déplacement des tranches sur les palettes. Ceci peut interrompre le transfert des tranches du fait que les tranches doivent étre positionnces précisément dans la chambre de s as à charge pour qu'elle puis se étre saisi e et positionnce précisément dans la chambre à vide, par les bras de transtert robotisés. En particulier, lorsque l 'on pompe du gaz pour l' évacuer de la chambre de s as à charge, un écoulement turbulent de gaz se produit lorsque la pression régnant dans la chambre de sas à charge est brutalement réduite par rapport à la pression atmosphérique et cet écoulement turbulent de gaz est en mesure de provoquer un déplacement non prévu et indésirable de la tranche. Lorsque l'on re-pompe du gaz dans la chambre de sas à charge, il se produit une soudaine entrée de gaz qui est également capable de déplacer la tranche. Les approches de l'art antérieur visant à éviter ce problème ont procédé par ralentissement du pompage de gaz, à la fois dans et depuis la chambre de sas à charge de manière à éviter d'avoir de violents écoulements d'air qui pourraient provoquer le déplacement des tranches. Malheureusement, ce ralentissement du pompage tend à réduire en plus le débit de production en tranches. De manière correspondante, un but de la présente invention est de fournir un système et un procédé nouveaux et améliorés permettant d'empêcher tout déplacement non prévu d'objets plans, telles que des tranches à semiconducteur, tandis que les tranches se kouvent dans un chambre de transLert ou de sas à charge qui est soumise à une alternance de dépressurisation et de repressurisation. Un autre but de la présente invention est de fournir un système et un procédé de maintien de tranche permettant de maintenir de façon sure des tranches sur des palettes dans une chambre de sas à charge durant le transfert des tranches dans et depuis un système métrologique automatique, fonctionnant sous vide, via la chambre de sas à charge, tout en empêchant un déplacement non prévu des tranches sur les palettes durant la dépressurisation et la re-pressurisation de la chambre de sas à charge. R:\Brevets\20300 20337.doc - 5 noYembre 2002 - 4137 2831990 Un autre but de la présente invention est de fournir un système et un procédé de transtert de tranche nouveau et amélioré permettant de transtérer des tranches par une chambre de sas à charge dans laquelle la dépressurisation et/ou la re- pressurisation de la chambre de sas à charge est commandée dans le but d'empécher tout déplacement non prévu des tranches y étant placées durant une telle dépressurisation ou re-pressurisation. Encore un autre but de la présente invention est de fournir un système et un procédé nouveau et amélioré pour transtérer des tranches par une chambre de sas à charge dans laquelle le débit en tranches est augmenté, sans provoquer de lo déplacement problématique des tranches qui sont positionnées sur des palettes dans la chambre, en réduisant le temps de dépressurisation et de re-pressurisation de la chambre de sas à charge. Le système est caractérisé en ce qu'il comprend: - une chambre de transtert interposoe entre l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection et soumise à une alternance de dépressurisation et la repressurisation; - au moins une palette agencée dans ladite chambre de transfert et ayant une surface de réception de tranches, munie en son sein d'ouvertures adaptées pour étre couvertes par une tranche; et - les moyens d' aspiration pour aspirer la tranche sur ladite surface de réception de tranches de ladite au moins une palette, pour, de cette manière empécher tout déplacement de la tranche dans ladite chambre de transtert, durant au moins l'une des étapes de pressurisation et de dépressurisation. Selon un mode de réalisation, du système lesdits moyens d'aspiration sont agencés pour produire une pression au niveau desdites ouvertures qui soit inférieure à la pression prévalant dans ladite chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens d'aspiration comprennent une source de vide ou pompe et des moyens de conduit pour produire une communication d'écoulement entre ladite source de vide ou pompe et lesdites ouvertures, afin de crcer à ce niveau une aspiration. Selon encore un mode de réalisation, lesdits moyens d' aspiration comprennent en outre de s mo yens de valve agenc é s foncti onnell em ent avec l es dits mo yens de conduit pour ouvrir et fermer la communication d'écoulement entre ladite source de vide ou pompe et lesdites ouvertures. Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens de conduit comprennent un conduit respectif menant à chacune desdites au moins une palette et lesdits moyens de valve comprennent une valve respective agencce fonctionnellement avec chaque dit conduit. R:\Brevets\20300 20337.doc - 5 novembre 2002 - S/37 6 2831990 Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens de valve comprennent une connexion d'écoulement vers l'intérieur de ladite chambre de transtert pour établir une communication pouvant être commandée, desdites ouvertures avec l'intérieur de ladite chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens d'aspiration comprennent en outre des conduits de palette agencés dans chacune desdites au moins une palette, en communication d'écoulement avec lesdites ouvertures ménagées dans ladite palette. Selon un autre mode de réalisation, ladite au moins une palette comprend deux o palettes. Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens d'aspiration comprennent une source de vide ou pompe, des conduits de palette agencés dans chacune desdites palettes, des premier et deuxième conduits de ramification agencés chacun entre ladite source de vide ou pompe et lesdits conduits de palette, dans l'une respective desdites première et deuxième palettes et des première et deuxième valves agencces fonctionnellement avec un conduit respectif parmi lesdits premier et deuxième conduits de ramification pour ouvrir et fermer la communication d'écoulement entre ladite source de vide ou pompe et lesdites ouvertures dans l'une respectives desdites première et deuxième palettes. Selon encore un autre mode de réalisation, le système omprend en outre des moyens d'écoulement laminaire, pour introduire un écoulement laminaire de gaz dans ladite chambre de transLert, dans le but de repressuriser ladite chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, lesdits moyens d'écoulement laminaires comprennent un diffuseur agencé dans ladite chambre de transfert et ayant au moins une ouverture par laquelle le gaz s'est introduit dans ladite chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, le système comprend en outre des valves pour isoler de façon étanche ladite chambre de transfert par rapport à l'atmosphère ambiante et la chambre d' inspection durant la dépressurisation et la repressurisation de ladite chambre de sas à charge. Ces buts ainsi que d'autres buts sont atteints selon un aspect de la présente invention orientée sur un système support de tranche à semiconducteur, pour maintenir en position des tranches dans une chambre de transfert durant le transfert des tranches entre l'atmosphère amblante et une chambre d'inspection qui se trouve à une pression de vide. Un autre aspect de la présente invention est orienté sur un système de maintien de tranche à semi-conducteur pour maintenir des tranches en position durant le transfert des tranches entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection qui se R:\Brevets\20300 20337.doc - 5 novembre 2002 - 6/37 7 2831990 trouve à la pression du vide. Une chambre de transtert est interposce entre l'atmosphère amblante et la chambre d'inspection et soumise à une alternance de pressurisation et de dépressurisation. Une palette est agencée dans la chambre de transtert et comporte une surface de réception de tranche ayant en son sein des ouvertures adaptées pour être couvertes par une tranche. Un conduit couple une source de vide ou pomp e en communication d'écoulement avec l es ouvertures. Au moins une vanne ou valve est agencée fonctionnellement dans le conduit de manière que l'actionnement de la au moins une vanne permette de commander la communication d'écoulement lorsque la pression au niveau des ouvertures est lo inférieure à la pression régnant dans la chambre de transtert, la tranche soit aspirce vers la surface de réception de tranche de la palette pour, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche dans la chambre de transfert. Selon un mode de réalisation lesdits moyens de valve comprennent une connexion d'écoulement vers l'intérieur de ladite chambre de transfert pour faire communiquer, avec possibilité de commande, lesdites ouvertures avec l'intérieur de ladite chambre de transfert. Selon encore un mode de réalisation, ledit conduit comprend un conduit à palette agencé dans ladite palette en communication d'écoulement avec lesdites ouvertures dans ladite palette. Selon un autre mode de réalisation, le système comprend en outre un diffuseur agencé dans ladite chambre et ayant au moins une ouverture par laquelle un écoulement laminaire de gaz est introduit dans ladite chambre de transfert, afin de repressuriser ladite chambre de transfert. Un autre aspect de la présente invention concerne un procédé pour empêcher tout déplacement d'une tranche de semi-conducteur dans une chambre de transfert soumise à une alternance de dépressurisation et de repressurisation, caractérisé en ce qu'il comprend: l'agencement d'une palette dans la chambre de transfert, la palette ayant une surface de réception de tranches munie en son sein d'ouvertures; le placement de la tranche sur la surface de réception de tranches de la palette et sur les ouvertures; l'accouplement des ouvertures en communication d'écoulement avec une source de vide ou pompe; la commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe et les ouvertures durant au moins l'une parmi la dépressurisation et la repressurisation de la chambre de transfert pour provoquer l'aspiration de la tranche sur la surface de réception de tranches de la palette, par la force du vide et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche dans la chambre de transfert. R:\Brevets\20300\20337 doc - 5 rovembre 2002 - 7/37 8 2831990 Selon un mode de réalisation du procédé l'étape d'accouplement des ouvertures à une source de vide ou pompe comprend la fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, et ladite commande de communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe et les ouvertures comprend s l'agencement fonctionnel d'une valve avec le conduit. Selon un mode de réalisation du procédé celui-ci comprend en outre la fermeture de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et des ouvertures lorsque la pression régnant dans la chambre de transfert dépressurisée monte pour s'approcher de la pression atmosphérique. o Selon encore un autre mode de réalisation du procédé, celui-ci comprend en outre l'introduction d'un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transfert durant la dépressurisation de la chambre de transfert. Selon un mode de réalisation du procédé, l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transtert comprend l'agencement d'un diffuseur dans la chambre de transfert et l'agencement du diffuseur avec au moins une ouverture par laquelle le gaz s'est introduit dans la chambre de transfert. Selon un aspect, l'invention concerne un procédé pour transférer des tranches de semiconducteur entre l'atmosphère ambiante et une chambre d' inspection maintenue à une pression de vide par une chambre de transfert, comprenant: le transfert d'une tranche de l'atmosphère amblante par une première vanne à obturateur sur une palette dans la chambre de transfert, tandis que la chambre de transfert est isolée de la chambre d'inspection par une deuxième vanne à obturateur fermée; la fermeture de la première vanne à obturateur, afm d'isoler la chambre de transfert vis à vis de l'atmosphère ambiante, après que la première tranche ait été placce sur la palette; la dépressurisation de la chambre de transfert jusqu'à ce que la pression régnant dans la chambre de transfert soit proche de la pression régnant dans la chambre d'inspection puis ouverture de la deuxTème vanne à obturateur; le transfert de la tranche, de la chambre de transfert à la chambre d'inspection après que la deuxième vanne à obturateur ait été ouverte; l' inspection de la tranche puis retour de la tranche inspectée à la palette dans la chambre de transfert dépressurisée; la fermeture de la deuxième vanne à obturateur et, tandis que la deuxième vanne à obturateur est fermée, repressurisation de la chambre de transfert; la réalisation de la palette avec une surface de réception de tranches comportant en son sein des ouvertures, la tranche étant placée sur la palette et sur les ouvertures s'y trouvant; R \} 3reYets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 8/37 9 2831990 le couplage des ouvertures en communication d'écoulement avec une source de vide ou pompe; et la commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, durant la au moins une étape de dépressurisation et de s repressurisation de la chambre de transfert pour aspirer la tranche sur la surface de réception de tranches de la palette par aspiration et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche durant ladite au moins une étape de dépressurisation et repressurisation de la chambre de transfert. Selon un mode de réalisation du procédé, ledit couplage des ouvertures à une o source de vide ou pompe comprend la fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe, et l'étape de commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pomp e et les ouvertures comprend l' agencement fonctionnel d'une valve avec le conduit. Selon un autre mode de réalisation, le procédé comprend en outre l'étape de coupure de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures lorsque la pression régnant dans la chambre de transfert dépressurisée monte pour s'approcher de la pression atmosphérique. Selon un autre mode de réalisation, le procédé comprend en outre l'étape d'établissement de la communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transtert et les ouvertures lorsque la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures est cessée. Selon un autre mode de réalisation, l'étape de repressurisation de la chambre de transfert comprend l'étape d'introduction d'un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transtert. 2s Selon un autre aspect, l'invention concerne un procédé de transfert de tranches de semiconducteur entre l'atmosphère ambiante et une chambre d' inspection maintenue à une pression de vide, par une chambre de transtert comprenant: le transfert d'une tranche de l'atmosphère amblante par une première vanne à obturateur sur une palette dans la chambre de transfert, tandis que la chambre de transfert est isolée de la chambre d' inspection par une deuxième vanne à obturateur fermée; la fermeture de la deuxième vanne à obturateur, afin d'isoler la chambre de transfert vis à vis de l'atmosphère ambiante, après que la première tranche ait été placée sur la palette; 3s la dépressurisation de la chambre de transfert jusqu'à ce que la pression régnant dans la chambre de transfert soit proche de la pression régnant dans la chambre d'inspection puis ouverture de la deuxième vanne à obturateur; R:\BreYcts\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 9/37 2831990 le transtert de la première tranche, de la chambre de transfert à la chambre d'inspection après que la deuxième vanne à obturateur ait été ouverte; la fermeture de la deuxième vanne à obturateur et, tandis que la deuxième vanne à obturateur est fermée, placement de la première tranche sur un site de mesure dans la chambre d'inspection, repressurisation de la chambre de transtert, ouverture de la première vanne à obturateur, placement d'une deuxième tranche sur une deuxième palette, dans la chambre de transfert, fermeture de la première vanne à obturateur et dépressurisation de la chambre de transfert; l'ouverture de la deuxième vanne à obturateur et avec la deuxième vanne à o obturateur ouverte, le transfert de la première tranche de la chambre d'inspection sur la première palette de la chambre de kansfert et le transtert de la deuxième tranche de la chambre de transfert à la chambre d'inspection; la fermeture de la deuxième vanne à obturateur et, tandis que la deuxième vanne à obturateur est fermée, placement de la deuxième tranche sur un site de î5 mesure dans la chambre d'inspection, repressurisation de la chambre de transtert, ouverture de la troisième vanne à obturateur, placement d'une première tranche sur une deuxième palette, dans la chambre de transfert, fermeture de la première vanne à obturateur et dépressurisation de la chambre de transfert; la fourniture des première et deuxième palettes avec une surface de réception de tranches ayant en son sein des ouvertures, les tranches étant placées sur les première et deuxième palettes et sur les ouvertures; le couplage des ouvertures en communication d'écoulement avec une source de vide ou pompe; et la commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, durant la au moins une étape de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transfert pour aspirer la tranche sur la surface de réception de tranches de la palette par aspiration et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche durant ladite au moins une étape de dépressurisation et repressurisation de la chambre de transtert. Selon un mode de réalisation, ledit accouplement des ouvertures à une source de vide ou pompe comprend la fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, et ladite commande de communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe et les ouvertures comprend l'agencement fonctionnel d'une valve avec le conduit. Selon un autre mode de réalisation, le procédé comprend en outre l'étape de cessation de la communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe et les ouvertures lorsque la pression dans la chambre de transLert dépressurisée monte en s'approchant de la pression atmosphérique. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 -10/37 1 1 2831990 Selonun autre mode de réalisation, le procédé comprend en outre l'étape d'établissement de la communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transfert et les ouvertures lorsque la communication d'écoulement entre la source de s vide ou pompe et les ouvertures est cessée. Selon un autre mode de réalisation, l'étape de dépressurisation de la chambre de transfert comprend les étapes d'ouverture d'une vanne de dégrossissage, associce fonctionnellement à la chambre de transfert pour dépressuriser la chambre, de mesure de la pression dans la chambre de transtert durant la dépressurisation et, lo lorsque la pression mesurée s'approche de 10-3 Torr, de fermeture de la vanne de dogrossissage et ouverture d'une turbo-pompe à vide moléculaire pour dépressuriser la chambre de transfert à une pression d'environ 1 o-6 Torr. Selon un autre mode de réalisation, le procédé comprend en outre les étapes consistant à: établir la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures jusqu'à ce que la pression dans la chambre dépressurisée augmente pour s'approcher de la pression atmosphérique; et ensuite, établir la communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transfert et les ouvertures. Selon un autre mode de réalisation, l'étape de repressurisation de la chambre de transtert comprend l'étape d'introduction d'un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transLert. Selon un autre mode de réalisation, l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transLert comprend les étapes d'agencement fonctionnel d'un diffuseur dans la chambre de transfert et réalisation du diffuseur avec au moins une ouverture par laquelle du gaz est introduit dans la chambre de transLert. Encore un autre aspect de la présente invention concerne un système de maintien de tranche à semi-conducteur pour maintenir des tranches dans une chambre de transfert durant le transfert des tranches, entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection qui est sous une pression de vide. Une chambre de transfert est interposée entre l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection et est soumise à une alternance de dépressurisation et de re-pressurisation. Une palette est agencée dans la chambre de transfert, ladite palette ayant une surface de réception de tranche. Des moyens d'écoulement laminaires sont prévus pour introduire un écoulement de laminaire de gaz dans la chambre de transfert pour repressuriser la chambre de transfert pour de cette manière empécher tout déplacement d'éventuelles tranches durant la re-pressurisation. R:\Brevels\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 11/37 ^ 2831990 Selon un mode de réalisation de ce système, les moyens d'écoulement laminaire comprennent un diffuseur, agencé fonctionnellement dans ladite chambre de transfert et ayant au moins une ouverture par laquelle du gaz est introduit dans ladite chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, le système comprend en outre une source de gaz, un conduit menant de ladite source de gaz audit diffuseur et une vanne agencée fonctionnellement avec ledit conduit, pour régler l'écoulement de gaz de ladite source de gaz audit diffuseur. Selon un autre mode de réalisation, ladite au moins une ouverture dans le o diffuseur est positionnce au-dessus de la palette. Selon un autre mode de réalisation, ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est dirigée pour créer un écoulement transversalement dans la chambre de transtert. Selon encore un autre mode de réalisation, ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est positionnce de façon adjacente à une paroi de la chambre de transLert. Selon un autre mode de réalisation, ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est positionnce dans un angle de la chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, ladite surface de réception de tranches de ladite palette comporte des ouvertures adaptées pour étre couvertes par la tranche, le système comprenant en outre des moyens d' aspiration pour aspirer des tranches sur ladite surface de réception de tranches de ladite palette, en fournissant une pression aux dites ouvertures, qui soit inférieure à la pression régnant dans ladite chambre de transfert pour, de cette manière, empécher tout déplacement d'une quelconque des tranches dans ladite chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation, le système comprend en outre une deuxième palette et des moyens d' aspiration pour aspirer des tranches sur ladite surface de réception de tranches desdites palettes pour, de cette manière, empécher tout déplacement de la tranche dans ladite chambre de transfert, lesdits moyens d' aspiration comprenant une source de vide ou pompe, des premier et deuxième conduits de branchement agencés chacun entre ladite source de vide ou pompe et lesdits conduits de palettes, dans l'une respective desdits première et deuxième palettes et des première et deuxième vannes, agencces fonctionnellement avec un conduit respectif parmi lesdits premier et deuxième conduits de ramification pour ouvrir et fermer la communication d'écoulement entre ladite source de vide ou 3s pompe et lesdites ouvertures dans ladite palette respective parmi lesdites première et deuxième palettes. R:\Brevets\20300\20337 doc - 5 novembre 2002 - 12/37 13 2831990 Selon un autre mode de réalisation, ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est dirigée pour crcer un écoulement transversal dans ladite chambre de transtert. Selon un autre mode de réalisation, ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est positionnée de façon adjacente à une paroi de la chambre de transfert. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est positionnce dans un angle de la chambre de transtert. Un autre aspect de la présente invention concerne un procédé d'empéchement de déplacement d'une tranche à semi-conducteur dans une chambre de transtert lo durant la re-pressurisation de la chambre de transfert. Une palette est agencée dans la chambre de transfert et la tranche est placée sur une surface de réception de tranche de la palette. Un écoulement laminaire de gaz est introduit dans la chambre de transfert durant la re-pressurisation de la chambre de transfert pour de cette manière empêcher tout déplacement de la tranche durant la re- pressurisation de la chambre de transfert. Selon un mode de réalisation de ce procédé, l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transfert comprend les étapes d'agencement des diffuseurs en liaison avec la chambre de transfert et de réalisation du transfert du diffuseur avec des ouvertures par lesquelles du gaz est introduit dans la chambre de transfert. S elon un autre mode de réalis ation, le pro cédé comprend en outre les étap es consistant à: agencer des ouvertures dans la surface de réception de tranches de la palette, la tranche étant placce sur la surface de réception de tranches de la palette sur les ouvertures; 2s coupler les ouvertures à une source de vide ou pompe; et établir sélectivement une communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, durant la repressurisation pour provoquer l'aspiration de la tranche sur la surface de réception de tranches de la palette, par aspiration. Selon un autre mode de réalisation, l'étape de couplage des ouvertures à une source de vide ou pompe comprend l'étape de fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pomp e, et l'étap e d'établiss ement sélectif d'une communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe comprend l'étape d'agencement d'une valve en liaison avec le conduit. Selon un autre mode de réalisation, la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures est établie lors de l'introduction du gaz dans la chambre de transfert. R:\BreYets\20300 20337 doc - 5 novembre 2002 - 13/37 14 2831990 L'invention concerne également un procédé d'inspection de tranches de semiconducteur dans une chambre d'inspection maintenue sous pression de vide, comprenant les étapes consistant à: s - transférer une première tranche de la pression atmosphérique par une première vanne à obturateur sur une première palette dans une chambre de transfert, tandis que la chambre de transfert est isolée de la chambre d'inspection par une deuxième vanne à obturateur fermée; - fermer la première vanne à obturateur pour isoler la chambre de transfert de lo l'atmosphère ambiante après avoir placé la première tranche sur la palette; - dépressuriser la chambre de transfert jusqu'à ce que la pression régnant dans la chambre de transfert soit proche de la pression régnant dans la chambre d'inspection, puis ouvrir la deuxième vanne à obturateur; - enlever la première tranche de la chambre de transtert lorsque la deuxième is vanne à obturateur est ouverte; - fermer la deuxième vanne à obturateur et, tandis que la deuxième vanne à obturateur est fermoe, placer la première tranche sur un site de mesure dans la chambre d'inspection, repressuriser la chambre de transfert, ouvrir la première à obturateur, placer la deuxième tranche sur une deuxième palette, dans la chambre de transtert, fermer la première vanne à obturateur et dépressuriser la chambre de transfert; - ouvrir la deuxième vanne à obturateur et tandis que la deuxième vanne à obturateur est ouverte, transtérer la première tranche de la chambre d' inspection sur la première palette dans la chambre de transfert et enlever la deuxième tranche de la chambre de transfert; et - fermer la deuxième vanne à obturateur et tandis que la deuxième vanne à obturateur est fermée, placer la deuxième tranche sur un site de mesure, dans la chambre d'inspection, repressuriser la chambre d'inspection, ouvrir la première vanne à obturateur, placer une première tranche sur la première palette, dans la chambre de transfert, fermer la première vanne à obturateur et dépressuriser la chambre de transfert; l' étap e de repressurisation comprenant l' étape d'intro duction de gaz dans la chambre de transfert tout en créant un écoulement laminaire dans la chambre de transfert. Selon un mode de réalisation du procédé d'inspection, l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transLert comprend les étapes d'agencement d'un diffuseur en liaison avec la chambre de transfert et de réalisation du diffuseur avec des ouvertures par lesquelles le gaz est introduit dans la chambre de transfert. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 -14/37 2831990 Selon un mode de réalisation du procédé d'inspection, celui-ci comprend en outre les étapes de: - réalisation des première et deuxième palettes avec une surface de réception de tranches ayant en son sein des ouvertures, les tranches étant placces sur s les première et deuxième palettes sur les ouvertures; - liaison des ouvertures à une source de vide ou pompe; et établir sélectivement la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures durant au moins l'une des étapes de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transfert pour o provoquer l'aspiration de la tranche sur la surface de réception de tranches, de la palette, par aspiration et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche durant ladite au moins une étape de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transtert. Selon un mode de réalisation du procédé d'inspection, l'étape de liaison des ouvertures à une source de vide ou pompe comprend l'étape de fourniture d'un conduit enkre la source de vide ou pompe et l'étape d'établissement sélectif d'une communication d' écoulement entre la source de vide ou pomp e qui comprend une étape de disposition d'une valve en liaison avec le conduit. Selon un mode de réalisation du procédé d'inspection, celui-ci comprend en ouke l'étape de cessation de la communication d'écoulement enke la source de vide ou pompe et les ouvertures, lorsque la pression régnant dans la chambre de transfert dépressurisoe augmente pour s'approcher de la pression atmosphérique. Selon un mode de réalisation du procédé d'inspection, celui-ci comprend l'étape d'établissement de communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de 2s transfert et les ouvertures après que la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures ait été fermoe. Ces buts et ainsi que d'autres buts et aspects et caractéristiques de l'invention vont être compris mieux aisément à la lecture de la description détaillée ci-après en liaison avec les dessins annexés, dans lesquels: La Fig. 1 est un schéma à blocs d'un système de mesure automatisé de l'art antérieur pour fournir des mesures optiques d'un dispositif à semi-conducteur; La Fig. 2 est une vue en plan d'un système de mesure automatisé dans lequel le procédé et le dispositif selon l'invention peuvent étre appliqués; La Fig. 3 est un diagramme schématique incluant une vue en coupe d'une 3s chambre formant sas de chambre, suivant la ligne 3-3 sur la Fig. 4 agencée selon les principes de la présente invention; La Fig. 4 est une vue en coupe suivant la ligne 4-4 sur la Fig. 3; et R:\Brevets\2030020337.doc - 5 novembre 2002 - 15/37 16 2831990 La Fig. 5 est un diagramme schématique d'un système agencé selon les principes de la présente invention. En se référant à la Fig. 2, un système de mesure automatisé dans lequel l'invention peut étre appliquce est globalement désigné par 10 et comprend une chambre d'inspection 12 et une chambre formant de sas à charge 14. Une chambre d'inspection 12 a une partie de transfert 16 et une partie d'inspection et de mesure 18 munie d'une paire de sites de mesure 20. Un dispositif de mesure (non représenté) exécute une mesure ou une inspection des tranches lorsque ces tranches sont situées o sur les sites de mesure 20. La chambre d'inspection 12 est maintenue sous un vide plus élevé (par exemple 10-6 Torr). La chambre d'inspection 12 est également montée sur un système d'isolation des vibrations 15 (voir Fig. 5) pour annuler toute vibration environnementale ou bien d'autres vibrations résultant du déplacement des compo s ants du système de mesure. Aucun détai l conc ernant le système d'i so lation de vibrations n'est donné du fait que de tels systèmes sont bien connus et, en outre, parce qu'ils ne font pas partie de la présente invention étant donné que la chambre formant sas à charge est fixée à un cadre support 24, un accouplement flottant 33 est prévu entre la chambre d'inspection 12 et la chambre formant sas à charge 14 et un accouplement flottant 13 (voir Fig. 5) est mis en place entre la chambre 12 et les pompes, tel qu'explicité ci-dessous. Des détails concernant l'accouplement flottant 33 sont indiqués dans la demande de brevet français du demandeur ayant pour titre "accouplement isolant des vibrations, incluant un diaphragme en élastomère pour un microscope électronique à balayage et analogues. Un bras de transtert robotisé 22 est placé dans la chambre d'inspection 12 et il transfère les tranches entre la chambre forrnant sas de charge 14 et lapartie de mesure 18 de la chambre d'inspection 12. La chambre formant sas de charge 14 comprend un ou plusieurs piédestaux, ou palettes, sur lequel des tranches28 sont maintenues pendant le transfert entre l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection 12. Au moins deux palettes 26 sont typiquement prévues de manière qu'une reçoit une tranche entrante à inspecter, l'autre reçoit une tranche sortante devant retourner à la continnation du traitement. Par conséquent, la discussion ci-après va impliquer l'utilisation de deux palettes 26a, 26b. Par souci de commodité, les deux palettes vont être désignées ci dessous collectivement par le numéro 26 sauf s'il est nécessaire de faire référence à une palette particulière parmi celles-ci. Une première vanne obturateur 30 est interposée entre la chambre d'inspection 12 et la chambre forrnant sas de charge 14 et une deuxième vanne obturateur 32 est interposée entre la chambre formant sas de charge 14 et l'atmosphère ambiante. Chaque vanne à obturateur 30, 32 est susceptible de R:\Tdrevcts\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 16137 17 2831990 fonctionner entre une position ouverte à laquelle les atmosphères que l'on a de chaque côté de la vanne sont mises en communication entre elles et une position fermoe à laquelle les atmosphères que l'on a sur chaque côté de la vanne sont isolées l'une de l'autre. Une cassette de tranches, un pré-aligneur et éventuellement d'autres s dispositifs de manutention de tranches tel qu'un bras de transtert robotisé (non représenté) sont placés à l'extérieur de la deuxième vanne à obturateur 32 pour placer les kanches sur les palettes 26 et en enlever les tranches ayant été inspectées. On va d'abord donner une description générale, sans inclure aucun aspect spécifique de la présente invention, visant à expliciter comment le dispositif 0 représenté sur la FIG. 2 fonctionne. Ceci va étre suivi par une explication détaillée des caractéristiques et des opérations selon les principes de la présente invention. En fonctionnement, la vanne obturateur 30 est initialement fermée tandis que la vanne obturateur 32 est ouverte et une tranche est placée sur une palette 26 dans la chambre formant sas de charge 14 en passant par la vanne obturateur 32, depuis la 1S cassette (non représentée) placce à l'atmosphère ambiante. Ceci est un échange de tranche à la pression atmosphérique étant donné que la chambre formant sas de charge 14 se trouve à la même pression que la pression atmosphérique. La vanne obturateur 32 est ensuite fermoe, la pression régnant dans la chambre formant sas de charge 14 est amenée sensiblement au méme niveau de vide que celui qui règne dans la chambre d'inspection 12, et la vanne obturateur 30 est ensuite ouverte. Le bras de transfert 22 enlève la tranche de la chambre formant sas de charge 14 et la place dans la partie de transfert 16 de la chambre d'inspection 12. Ceci est un échange de tranche sous vide étant donné qu'à la fois la chambre à vide 12 et la chambre formant sas de charge 14 sont sensiblement à la méme pression de vide. La valve 2s obturateur 30 est ensuite fermée, la chambre formant sas de charge 14 est re- pressurisée, la valve à obturateur 32 est ouverte et une autre tranche est transférce de la cassette sur l'une des palettes 26. Durant cette repressurisation et cet échange de tranche à la pression atmosphérique, le bras de transfert 22 déplace la tranche qui a été placce dans la partie de transfert 16 en un site de mesure 20 dans la partie de mesure 18 à inspecter et l'inspection est effectuée. Après avoir placé une autre tranche sur une palette disponible dans la chambre formant sas de charge 14, la vanne obturateur 32 est fermoe, la chambre formant sas de charge 14 est dépressurisée et la vanne obturateur 30 est ouverte. Le bras de transfert 22 transfère la tranche depuis le site de mesure 20 à la palette 26 non occupée, dans la chambre 3s formant sas de charge 14, de manière que cette chambre formant sas de charge 14 contienne ainsi une tranche entrante non inspectée et une tranche sortante inspectée. Le bras de transtert 32 enlève ensuite la tranche entrante de la chambre formant sas de charge 14. La vanne obturateur 30 est fermée, la chambre formant sas de R:U3re,ets\20300\20337.doc - 5 navembre 2002 - 17/37 18 2831990 charge 14 est re-pressurisce et la vanne obturateur 32 est ensuite ouverte. La tranche inspectée est enlevée de la chambre formant sas de charge 14 et une autre tranche non inspectée entrante est placée dans la chambre formant sas de charge 14. Au même moment que lorsque la chambre formant sas de charge 14 a été re-pressurisée et que la tranche sortante inspectée en est extraite, le bras de transLert 22 place la tranche qu'il vient d'enlever de la chambre formant sas de charge 14 sur un site de mesure 20 et la tranche est inspectée. Ce processus est répété jusqu'à ce que la totalité des tranches présentes dans la cassette aient été inspectées. Avant de passer à la discussion des caractéristiques et des opérations effectuées lo par la présente invention, les facteurs ci-après doivent étre appréciés. Durant l'occurrence d'un échange de tranche sous pression atmosphérique, la vanne obturateur 32 étant ouverte, la chambre formant sas de charge 14 se trouve à la pression ambiante. Après avoir fermé la vanne à obturateur 32 et avant d'ouvrir la vanne obturateur 30, la chambre formant sas de charge 14 doit être dé-pressurisée pour atteindre à peu près le vide très élevé maintenu dans la chambre 12. Durant l'opération de dé-pressurisation, ou l'extraction par pompage, c'est-à- dire lorsque du gaz est extrait de la chambre formant sas de charge 14 après la fermeture de la vanne obturateur 32 et avant d'ouvrir la vanne obturateur 30, deux types d'écoulement de gaz se forment séquentiellement. Le premier type d'écoulement de gaz est un écoulement de gaz de nature turbulente qui se produit lorsque la pression atmosphérique est pompée et est d'une valeur supérieure à 10-3 Torr, et le deuxième type d'écoulement de gaz est un écoulement de gaz de type moléculaire se produisant à des pressions inférieures à 10-3 Torr. L'écoulement turbulent de gaz imputable à l'expulsion d'air durant les stades initiaux de cette dépressurisation crée dans la 2s chambre formant sas de charge 14 des forces suffisantes pour déplacer la tranche présente dans la chambre formant sas de charge 14, en un mouvement de rotation et/ou latéral pendant qu'il est placé sur la palette 26. Un tel déplacement peut faire quitter sa position à la tranche pour le prélèvement par le bras de transtert 22 et même s'il est possible d'opérer le prélèvement, ceci peut provoquer des lectures imprécises dans la chambre d'inspection 12. L'écoulement de gaz moléculaire ne peut inculquer aucun déplacement à la tranche. En se référant à présent aux Figs. 3 et 4 selon l'invention, le déplacement des tranches sur les palettes 26 durant la dépressurisation et la re-pressurisation de la chambre formant sas de charge 14 est empêchée en prévoyant des moyens actionnés par le vide 34 pour aspirer ou attirer la tranche vers une surface supérieure 36 des palettes 26 avec une force d' aspiration. La palette 26a est illustrée comme ayant un support vertical 27a et une partie supérieure 29a ronde horizontale plate avec une R:43revets\2030020337.doc - 5 novembre 2002 - 18/37 19 2831990 surface de réception de tranche 36 tournce vers le haut. La palette 26b est une réplique de la palette 26a. Dans le mode de réalisation illustré, les moyens d'aspiration 34 actionnés par le vide comprennent des ouvertures 38 ménagées à la surface supérieure 36 des s palettes 26, une pompe à vide 40 et des conduits de branchement 42a, 42b menant de la pompe à vide 40 vers les conduits de palette 44a, 44b agencés dans les palettes 26 et s'achevant au niveau des ouvertures 38. Les sites des ouvertures 38 dans la surface 36 sont sélectionnés de manière que les ouvertures 38 soient couvertes par une tranche 28 lorsque la tranche est située sur la palette 26. Egalement des lo conduits 48 mènent des vannes 46a, 46b à l'intérieur de la chambre formant sas de charge 14. Une vanne à trois voies 46 est interposée entre les ouvertures 38 dans chaque palette et la source de vide 40 pour permettre une commande marche/arrêt sélective de la force d'aspiration appliquée sur l'ouverture 38. La vanne 46a est commandée par l'entrce 47a pour faire communiquer les conduits 42a et 44a l'un avec l'autre de manière qu'une force d'aspiration soit générée au niveau des ouvertures 38 de la palette26a. En résultat, la tranche28 reposant sur la surface supérieure36 de la palette 26a est aspirée vers la surface supérieure 36 tel que représenté par la flèche A sur la Fig. 3. Cette force d'aspiration ou de traction exercée sur la tranche sert à empêcher tout déplacement de cette tranche pendant la dépressurisation et re pressurisation de la chambre formant sas de charge 14. L'entrée de commande 47a prévue pour la vanne 46a peut être de nature électrique ou pneumatique selon des agencements de vanne bien connus. La force d'aspiration est générce au niveau des ouvertures 38 par le vide au moins durant la période de temps pendant laquelle l'écoulement de gaz turbulent règne dans la chambre formant sas de charge 14. Pour rompre la force d'aspiration, l'entrée 47a provoque la communication au niveau de la vanne 46a entre les conduits 44a et 48 l'un avec l'autre. En résultat, la même pression est appliquée au dessus et au-dessous de la tranche 28 de sorte qu'elle est maintenue en place sur la palette uniquement par la force de la gravité. La Fig. 5 illustre une vue schématique plus détaillée du dispositif nécessaire pour mettre en _uvre la présente invention. Les composants de ce dessin qui sont les mêmes que ceux de la Fig. 3 sont identifiés avec le même numéro de référence. Ainsi, la Fig. 5 comprend les chambres 12 et 14, les vannes à obturateur 30 et 32, les 3s palettes 26a, 26b, les vannes 46a, 46b et la pompe à vide 40 avec leurs conduits associés tel que décrit ci-dessus eu égard à la Fig. 3. En plus, la Fig. 5 représente une pompe de dégrossissage 50 (le terme de "dégrossissage") est un terme de l'art se référant à des pressions supérieures à 10-3 Torr) fournissant un pompage sous vide R:\Etrevets\2030020337.doc - 5 navembre 2002 - 19/37 2831990 aux chambres 12 et 14 via des conduits 57 et58 respectivement. La vanne de dégrossissage 52 est placée entre la pompe de dégrossissage 56 et l'intérieur de la chambre formant sas de chargel4. La turbo-pompe à vide moléculaire62 est susceptible de communiquer avec la pompe de dégrossissage 56 via la vanne 64 et s avec l'intérieur de la chambre formant sas de charge 14 via la vanne 60. Ainsi, la pression régnant dans la chambre 14 est rapidement réduite de la pression atmosphérique à 10-3 Torr par la pompe de dégrossissage. Ensuite, la turbo-pompe effectue une réduction supplémentaire de la pression pour atteindre 1 o-6 Torr. Une autre turbo-pompe à vide moléculaire 72 est susceptible d'étre mis en o communication avec la pompe de dégrossissage 56 via la vanne 74 et avec l'intérieur de la chambre à vide 12 via la vanne 80. La pompe 72 est toujours en communication avec la chambre 12 tandis que le dispositif est en fonctionnement et agit pour maintenir une pression constante d'une valeur de 10-6 Torr dans la chambre 12. La chambre 12 est isolée des diverses pompes par l'accouplement flottant 13 et le reste de l'environnement par le système d'isolation des vibrations 15 tel quediscuté ci dessus. La vanne obturateur 30 est couplée à la chambre 12 par un accouplement flottant 33 tel que discuté ci-dessus. Les vannes 64 et 74 sont en ligne entre le conduit 58 et les chambres 14 et 12, respectivement. Il faut noter que la pression dans la ligne 58 augmente à la pression atmosphérique chaque fois que la vanne 52 est ouverte et que la chambre 14 se trouve à la pression atmosphérique. Les vannes 64 et 74 sont utilisées pour isoler les turbo-pompes 62 et 72 du conduit 58 à de tels moments du fait qu'autrement les turbo-pompes ne pourraient être coupées et seraient endommagées par une telle pression. 2s Pour re-pressuriser la chambre 14, on prévoit une source d'azote 78 qui communique avec le diffuseur 82 dans la chambre formant sas de charge 14 via la vanne 86 et les conduits 78, 79. Des détails concernant le diffuseur vont être fournis ci-dessous en liaison avec une explication concernant la raison et la façon de créer un écoulement luminaire. L'azote gazeux est typiquement utilisé pour re-pressuriser les chambres parce qu'il présente des caractéristiques avantageuses bien connues pour * cette tache. Bien sûr, d'autres gaz pourraient également être utilisés si on le préfère. Le dispositif de la Fig. 5 fonctionne de la façon suivante selon la présente invention. 1. Un échange atmosphérique est effectué avec la vanne obturateur 32 ouverte, 3s tel que décrit ci-dessus. 2. La vanne obturateur 32 est fermoe. 3. Les vannes 46a et/ou 46b sont actionnées pour faire communiquer la source de vide 40 avec des ouvertures 38 de la palette correspondante pour crcer une force R:\BreYets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 20/37 21 2831990 d'aspiration qui aspire la tranche vers la surface 36 en vertu de la différence de pression formoe entre l es surfaces sup érieures et inférieures de la tranche. Etant donné qu'il est nocessaire d'ouvrir uniquement la vanne à vide 46a, 46b associée à une palette occupée, un capteur, (non représenté) est prévu pour déterminer si une tranche est placce sur une palette, et l'aspiration est crcée uniquement si une palette quelconque a sur elle une tranche. 4. Les vannes 64 et 74 sont fermées. 5. La vanne de dégrossissage 52 est ouverte pour faire communiquer la pompe de dégrossissage56 avec la chambre formant sas de charge 14. La pompe de o dogrossissage 56 est conçue pour évacuer très rapidement la chambre formant sas de charge 14. Durant cette étape, un écoulement de gaz turbulent est créé dans la chambre formant sas de charge 14 ce qui pourrait provoquer le déplacement de la tranche sur la palette 26, mais ne le fait pas parce que la tranche est plaquce par l'aspiration appliquée sur la surface inférieure de la tranche via des ouvertures 38 ménagées dans la surface 36 des palettes 26. 6. Le capteur de pression 90 détermine lorsqu'une pression de déclenchement déterminée proche de 10-3 Torr est atteinte dans le sas de charge 14, et ceci provoque la génération d'un signal de commande qui commande l'entrée 53 de la vanne de dogrossissage 52 dans le but de fermer cette vanne de dégrossissage. 7. Les vannes 64 et 74 sont ouvertes. 8. Les vannes 46a et 46b sont commandées pour placer les ouvertures 38 en communication avec le conduit48, de manière que la pression au-dessus et au dessous des tranches soit égalisée. Bien qu'à ce moment les tranches soient maintenues en place par la force de la gravité seule, aucun déplacement de celles-ci ne va se produire parce qu'elles vont étre exposées uniquement à l'écoulement moléculaire. 9. La turbo vanne 60 est ouverte pour faire communiquer la turbo-pompe moléculaire 62 avec la chambre formant sas de charge 14 pour réduire encore plus la pression y régnant à une valeur de 10-6 Torr. 10. Le capteur de pression 90 détermine le moment auquel une pression de déclencheur prédéterminée proche de 10-6 Torr est atteinte dans la chambre formant sas de charge 14 et ceci provoque la génération d'un signal de commande qui actionne la vanne à obturateur30 pour l'ouvrir. Il y a usuellement une légère différence de pression entre les chambres 12 et 14 lorsque la vanne à obturateur 30 est ouverte du fait que le débit est affecté de façon nuisible si la chambre 14 était dépressurisée pour égaler le niveau de la chambre 12. Ainsi, il va y avoir un certain écoulement moléculaire minimal de la chambre formant sas de charge 14 à la R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 21137 22 2831990 chambre d'inspection 12. Cependant, cet écoulement moléculaire est incapable de provoquer un déplacement de la tranche sur les palettes. 11. Un échange sous vide est achevé, la vanne obturateur 30 étant ouverte, tel que décrit ci-dessus. 12. La vanne obturateur 30 est fermée. 13. La vanne 60 est fermée. 14. On applique un vide aux palettes, depuis la source de vide 40 en ouvrant les vannes 46a, 46b. 15. On fait communiquer la source d'azote 76 avec le diffuseur 82 en ouvrant la vanne 86 de manière à obtenir un pompage très rapide ou un rechargement de la chambre forçat. 16. Lorsque le capteur 90 détecte une pression qui s'approche de la pression atmosphérique dans la chambre formant sas de charge 14, les vannes 46a, 46b sont de nouveau actionnées tel que décrit ci-dessus pour égaliser la pression sur les tranches 17. Lorsque la pression atmosphérique est atteinte dans la chambre formant sas de charge 14, la vanne 32 est ouverte. 18. Un autre échange sous pression atmosphérique lance une répétition du cycle des étapes 1 à 17. Une valve de détente de pression 92 classique est prévue pour empêcher tout sur-remplissage de la chambre 14 durant l'opération de pompage. Pour aider à empêcher le déplacement des tranches durant le rechargement de la chambre formant sas de charge 14, des moyens sont agencés à l'intérieur de la chambre formant sas de charge 14 pour y crcer un écoulement laminaire durant l'étape de rechargement ou de repressurisation. Dans un mode de réalisation donné comme exemple, les moyens d'écoulement laminaires comprennent un diffuseur 92 agencé à une extrémité du conduit 79. Le diffuseur 82 a une ou plusieurs ouvertures de construction spéciales conçues pour crécr un écoulement laminaire plutôt que turbulent, s'écoulant dans la chambre formant sas de charge 14 lorsque l'azote gazeux provenant de la source 76 est introduit rapidement dans la chambre formant sas de charge 14. En créant un écoulement laminaire, la chambre formant sas de charge 14 peut être rechargée très rapidement sans y provoquer de turbulence et ainsi sans y crécr aucun déplacement des tranches sur les palettes 26. Le diffuseur 82 est de préférence un tube ayant une extrémité pointée dans la chambre 14. Une ouverture ou buse tournée latéralement est prévue dans les côtés du tube et est en communication avec le conduit 79. Le diffuseur 82 est de préférence placé au-dessus des palettes et près d'une paroi de la chambre 14. Ainsi, lorsqu'on injecte l'azote depuis les buses, il tend à manifester un mouvement rotatif autour de la périphérie de la chambre. Une amélioration est apportée à cet effet si le diffuseur R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 rovembre 2002 - 22137 23 2831990 est placé en un angle de la chambre. En outre, en positionnant le diffuseur au-dessus des palettes, l'azote pénètre au-dessus des tranches et ceci minimise la création d'une portance pouvant provoquer le flottement des tranches. Egalement, en positionnant le diffuseur sur un côté de la chambre, les forces orientées latéralement qui sont créées par l'azote entrant renconkont l'aire de surface très petite formoe par le bord mince de la tranche pour de cette manière n'appliquer sur la tranche des forces orientées latéralement n'ayant qu'une valeur minimale. Bien que la description détaillée donnée ci-dessus traite de modes de réalisation spécifiques de l'invention, diverses modifications lui étant apportées o peuvent être aisément apparentes à l'homme de l'art ordinaire. Par exemple, la source de vide 40 peut être replacce par le fait de mettre en communication les palettes avec la pompe de dégrossissage 56. Dans un tel cas, pour certaines séquences d'étape, la pression créce sur les ouvertures 38 et appliquée sur le fond des tranches peut dépasser la pression régnant dans la chambre 14. Dans un tel cas, un clapet d'arrêt peut être nécessaire pour empêcher que la pression au-dessous des tranches ne dépasse la pression dans la chambre formant sas de charge 14 ou sinon la tranche flotterait. Egalement, le support 29 est palettes peut être horizontal. Egalement, une turbo-pompe pourrait être utilisée, qui n'est pas à être couplée à une pompe de dogrossissage. Egalement, la vanne 80 peut être séparce de la chambre 12 par la plate-forme flottante 13. En outre, une chambre formant sas de charge unique est représentée et décrite pour être utilisée avec une chambre d'inspection unique. L'invention peut être appliquée dans des systèmes de manipulation et de transfert de tranche comprenant une pluralité de chambres formant sas de charge mais n'ayant qu'une chambre d'inspection unique ou une pluralité de chambres formant sas de charge et une pluralité de chambres d'inspection. Une ou plusieurs des chambres formant sas de charge dans de tels systèmes pourraient incorporer l'un quelconque ou la totalité des aspects de l'invention décrite ci-dessus. Egalement, le conduit 44 qui mène aux ouvertures 38 dans la palette 26 peut être mis en _uvre de différentes manières. Par exemple, le conduit 44 n'a pas à être un passage à l'intérieur de la palette. Il peut être une tuyauterie passant le long du support 27 de la palette. En plus, un capteur de pression autre que 90 peut être utilisé pour l'étape 10. De plus, diverses conceptions peuvent être utilisoes pour le diffuseur 82. La totalité de telles modifications sont considérces comme tombant dans le champ de la présente invention, tel que défini par les revendications ci-après. R:\Brevels\2030020337.doc - 5 rovembre 2002 - 23/37 24 2831990 REVEND I C AT I ON S 1. Système de maintien de tranche de semiconducteur pour maintenir des tranches en position à l'intérieur d'une chambre de transfert, durant le transfert des s tranches entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection qui est sous une pression de vide, caractérisé en ce qu'il comprend: - une chambre de transfert (14) interposée entre l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection (12) et soumise à une alternance de dépressurisation et la repressurisation; 0 - au moins une palette (26) agencée dans ladite chambre de transfert (14) et ayant une surface de réception de tranches, munie en son sein d'ouvertures (38) adaptées pour être couvertes par une tranche (28); et - les moyens d' aspiration (34) pour aspirer la tranche (28) sur ladite surface de réception de tranches de ladite au moins une palette (26), pour, de cette manière empécher tout déplacement de la tranche (28) dans ladite chambre de transfert, durant au moins l'une des étapes de pressurisation et de dépressurisation. 2. Système selon la revendication 1, caractérisé en ce que lesdits moyens d'aspiration (34) sont agencés pour produire une pression au niveau desdites ouvertures (38) qui soit inférieure à la pression prévalant dans ladite chambre de transfert (14). 3. Système selon la revendication 1 ou la revendication 2, caractérisé en 2s ce que lesdits moyens d'aspiration (34) comprennent une source de vide ou pompe (40) et des moyens de conduit (42a, 42b) pour produire une communication d'écoulement entre ladite source de vide ou pompe et lesdites ouvertures, afin de . .. creer a ce mveau une aspraton. 4. Système selon la revendication 3, caractérisé en ce que lesdits moyens d' aspiration (3 4) comprennent en outre des moyens de valve (46a, 46b) agencés fonctionnellement avec lesdits moyens de conduit (42a, 42b) pour ouvrir et fermer la communication d' écoulement entre ladite source de vide ou pomp e (40) et lesdites ouvertures. 5. Système selon la revendication 4, caractérisé en ce que lesdits moyens de conduit (42a, 42b) comprennent un conduit respectif menant à chacune desdites R:\Brevets\20300\20337 doc - 5 noembre 2002 - 24/37 2831990 au moins une palette (26) et lesdits moyens de valve (46a, 46b) comprennent une valve respective agencée fonctionnellement avec chaque dit conduit. 6. Système selon la revendication S. caractérisé en ce que lesdits moyens s de valve (46a, 46b) comprennent une connexion d'écoulement vers l'intérieur de ladite chambre de transfert (14) pour établir une communication pouvant être commandée, desdites ouvertures (38) avec l'intérieur de ladite chambre de transfert. 7. Système selon la revendication S ou la revendication 6, caractérisé en o ce que lesdits moyens d'aspiration (34) comprennent en outre des conduits de palette agencés dans chacune desdites au moins une palette (26), en communication d'écoulement avec lesdites ouvertures (38) ménagées dans ladite palette (26). 8. Système selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que ladite au moins une palette (26) comprend deux palettes (26a, 26b). 9. Système selon la revendication 8, caractérisé en ce que lesdits moyens d' aspiration (34) comprennent une source de vide ou pompe (40), des conduits de palette agencés dans chacune desdites palettes (26a, 26b), des premier et deuxième conduits de ramification agencés chacun entre ladite source de vide ou pompe et lesdits conduits de palette, dans l'une respective desdites première et deuxième palettes (26a, 26b) et des première et deuxième valves agencées fonctionnellement avec un conduit respectif parmi lesdits premier et deuxième conduits de ramification pour ouvrir et fermer la communication d'écoulement entre ladite source de vide ou 2s pompe et lesdites ouvertures (38) dans l'une respective desdites première et deuxième palettes (26a, 26b). 10. Système selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, comprenant en outre des moyens d'écoulement laminaire, pour introduire un écoulement laminaire de gaz dans ladite chambre de transfert, dans le but de repressuriser ladite chambre de transfert. 11. Système selon la revendication 10, caractérisé en ce que lesdits moyens d'écoulement laminaires comprennent un diffuseur agencé dans ladite chambre de transfert (14) et ayant au moins une ouverture par laquelle le gaz s'est introduit dans ladite chambre de transfert. R:\Brevets\20300\20337 doc - 5 novembre 2002 - 25/37 26 2831990 12. Système selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, comprenant en outre des valves pour isoler de façon étanche ladite chambre de transfert (14) par rapport à l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection (12) durant la dépressurisation et la repressurisation de ladite chambre de sas à charge. 13. Un système de maintien de tranche de semiconducteur pour maintenir des tranches en position, durant le transfert des tranches entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection (12), placce sous une pression de vide, comprenant: une chambre de transfert (14) interposce entre l'atmosphère ambiante et la lo chambre d'inspection (12) et soumise à une alternance de dépressurisations et de repressurisations; une palette (26) agencée dans ladite chambre de transfert (14) et ayant une surface de réception de tranches, avec des ouvertures (38) ménagées en sons sein adaptées pour être couvertes par une tranche (28); une source de vide ou pompe (40); un conduit raccordant ladite source de vide ou pompe en communication d'écoulement avec lesdites ouvertures (38); et au moins une valve agencée fonctionnellement dans ledit conduit, de manière que l'actionnement de ladite au moins une valve commande ladite communication d'écoulement, de façon que lorsque la pression aux dites ouvertures (38) est inférieure à la pression régnant dans ladite chambre de transtert (14), la tranche (28) soit aspirée sur ladite surface de réception de tranches de la palette (26) pour, de cette manière, empécher tout déplacement de la tranche dans ladite chambre de transtert. 14. Le système selon la revendication 13, caractérisé en ce que lesdits moyens de valve (46a, 46b) comprennent une connexion d'écoulement vers l'intérieur de ladite chambre de transtert (14) pour faire communiquer, avec possibilité de commande, lesdites ouvertures (38) avec l'intérieur de ladite chambre de transfert. 15. Le système selon la revendication 13 ou la revendication 14, caractérisé en ce que ledit conduit comprend un conduit à palette agencé dans ladite palette (26) en communication d'écoulement avec lesdites ouvertures (38) dans ladite palette. 3s 16. Le système selon l'une quelconque des revendications 13 à 15, comprenant en outre un diffuseur agencé dans ladite chambre et ayant au moins une ouverture par laquelle un écoulement laminaire de gaz est introduit dans ladite chambre de transtert, afm de repressuriser ladite chambre de transfert. R:\}3revets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 26/37 27 2831990 17. Un procédé pour empécher tout déplacement d'une tranche de semiconducteur dans une chambre de transfert (14) soumise à une alternance de dépressurisation et de repressurisation, caractérisé en ce qu'il comprend: s l'agencement d'une palette (26) dans la chambre de transfert (14), la palette ayant une surface de réception de tranches munie en son sein d'ouvertures (38); le placement de la tranche (28) sur la surface de réception de tranches de la palette (26) et sur les ouvertures (38); l'accouplement des ouvertures (38) en communication d'écoulement avec une o source de vide ou pompe (40); la commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe (40) et les ouvertures durant au moins l'une parmi la dépressurisation et la repressurisation de la chambre de transtert pour provoquer l'aspiration de la tranche (28) sur la surface de réception de tranches de la palette, par la force du vide et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche dans la chambre de transiert. 18. Le procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que l'étape d'accouplement des ouvertures (38) à une source de vide ou pompe (40) comprend la fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures, et ladite commande de communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe (40) et les ouvertures (38) comprend l'agencement fonctionnel d'une valve avec le conduit. 19. Le procédé selon la revendication 17, ou la revendication 18, caractérisé en ce qu'il comprend en outre la fermeture de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et des ouvertures (38) lorsque la pression régnant dans la chambre de transfert dépressurisée monte pour s'approcher de la pression atmosphérique. 20. Le procédé selon la revendication 17, ou la revendication 18, caractérisé en ce qu'il comprend en outre l'introduction d'un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transLert (14) durant la dépressurisation de la chambre de transfert. 21. Le procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce que l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transfert (14) comprend l'agencement d'un diffuseur dans la chambre de transfert et l'agencement du diffuseur avec au moins une ouverture par laquelle le gaz s'est introduit dans la chambre de transfert. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 noYembre 2002 - 27/37 28 2831990 22. Un procédé pour transférer des tranches de semiconducteur entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection (12) maintenue à une pression de vide par une chambre de transfert (14), comprenant: le transtert d'une tranche (28) de l'atmosphère ambiante par une première vanne à obturateur (30) sur une palette (26) dans la chambre de transfert (14), tandis que la chambre de transtert (14) est isolée de la chambre d'inspection (12) par une deuxième vanne à obturateur (32) fermoe; fermeture de la première vanne à obturateur (30), afin d'isoler la chambre de o transfert vis à vis de l'atmosphère ambiante, après que la première tranche ait été placée sur la palette; dépressurisation de la chambre de transfert jusqu'à ce que la pression régnant dans la chambre de transfert soit proche de la pression régnant dans la chambre d'inspection (12) puis ouverture de la deuxième vanne à obturateur (32); 1S transfert de la tranche, de la chambre de transfert à la chambre d'inspection (12) après que la deuxième vanne à obturateur (32) ait été ouverte; inspection de la tranche puis retour de la tranche inspectée à la palette (26) dans la chambre de transfert dépressurisée; fermeture de la deuxième vanne à obturateur (32) et, tandis que la deuxième vanne à obturateur (32) est fermée, repressurisation de la chambre de transLert; réalisation de la palette (26) avec une surface de réception de tranches comportant en son sein des ouvertures, la tranche étant placée sur la palette (26) et sur les ouvertures (38) s'y trouvant; couplage des ouvertures (38) en communication d'écoulement avec une source 2s de vide ou pompe (40); et commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures, durant la au moins une étape de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transfert (14) pour aspirer la tranche (28) sur la surface de réception de tranches de la palette (26) par aspiration et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche (28) durant ladite au moins une étape de dépressurisation et repressurisation de la chambre de transfert. 23. Le procédé selon la revendication22, caractérisé en ce que ledit couplage des ouvertures (38) à une source de vide ou pompe (40) comprend la 3s fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe, et l'étape de commande de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures (38) comprend l'agencement fonctionnel d'une valve avec le conduit. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 28/37 29 2831990 24. Le procédé selon la revendication 22 ou la revendication 23, comprenant en outre l'étape de coupure de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures lorsque la pression régnant dans la chambre de transtert (14) dépressurisée monte pour s'approcher de la pression atmosphérique. 25. Le procédé selon la revendication24, comprenant en outre l'étape d'établissement de la communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transfert et les ouvertures lorsque la communication d'écoulement entre la source de o vide ou pompe (40) et les ouvertures est cessoe. 26. Le procédé selon l'une quelconque des revendications22 à 25, caractérisé en ce que l'étape de repressurisation de la chambre de transfert (14) comprend l'étape d'introduction d'un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transSert. 27. Un procédé de transfert de tranches de semiconducteur entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection (12) maintenue à une pression de vide, par une chambre de transfert (14) comprenant: le transfert d'une tranche (28) de l'atmosphère ambiante par une première vanne à obturateur (30) sur une palette (26) dans la chambre de transfert (14), tandis que la chambre de transfert (14) est isolée de la chambre d'inspection (12) par une deuxième vanne à obturateur (32) fermoe; fermeture de la deuxième vanne à obturateur (32), afin d'isoler la chambre de transtert vis à vis de l'atmosphère ambiante, après que la première tranche (28) ait été placce sur la palette (26); dépressurisation de la chambre de transfert (14) jusqu'à ce que la pression régnant dans la chambre de transfert soit proche de la pression régnant dans la chambre d'inspection (12) puis ouverture de la deuxième vanne à obturateur (32); transfert de la première tranche, de la chambre de transfert à la chambre d'inspection (12) après que la deuxième vanne à obturateur (32) ait été ouverte; fermeture de la deuxième vanne à obturateur (32) et, tandis que la deuxième vanne à obturateur (32) est fermoe, placement de la première tranche sur un site de mesure dans la chambre d'inspection, repressurisation de la chambre de transfert, ouverture de la première vanne à obturateur (30), placement d'une deuxième tranche sur une deuxième palette (26b), dans la chambre de transLert, fermeture de la première vanne à obturateur (30) et dépressurisation de la chambre de transfert; R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 29/37 2831990 ouverture de la deuxième vanne à obturateur et avec la deuxième vanne à obturateur ouverte, le transtert de la première tranche de la chambre d'inspection sur la première palette de la chambre de transtert et le transfert de la deuxième tranche de la chambre de transfert à la chambre d'inspection; s fermeture de la deuxTème vanne à obturateur (32) et, tandis que la deuxième vanne à obturateur (32) est fermée, placement de la deuxième tranche sur un site de mesure dans la chambre d'inspection, repressurisation de la chambre de transfert, ouverture de la troisième vanne à obturateur, placement d'une première tranche sur une deuxième palette, dans la chambre de transtert, fermeture de la première vanne à lo obturateur (30) et dépressurisation de la chambre de transfert; fourniture des première et deuxième palettes (26a, 26b) avec une surface de réception de tranches ayant en son sein des ouvertures, les tranches étant placées sur les première et deuxième palettes (26a, 26b) et sur les ouvertures; couplage des ouvertures (38) en communication d'écoulement avec une source 1S de vide ou pompe (40); et commande de la communication d'écoulement enhe la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures, durant la au moins une étape de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transfert pour aspirer la tranche (28) sur la surface de réception de tranches de la palette par aspiration et, de cette manière, empécher tout déplacement de la tranche durant ladite au moins une étape de dépressurisation et repressurisation de la chambre de transfert. 28. Le procédé selon la revendication27, caractérisé en ce que ledit accouplement des ouvertures (38) à une source de vide ou pompe (40) comprend la 2s fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, et ladite commande de communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe et les ouvertures comprend l'agencement fonctionnel d'une valve avec le conduit. 29. Le procédé selon la revendication 27 ou la revendication 28, comprenant en outre l'étape de cessation de la communication d'écoulement entre la source de vide ou la pompe (40) et les ouvertures (38) lorsque la pression dans la chambre de transfert (14) dépressurisée monte en s'approchant de la pression atmosphérique. 3s 30. Le procédé selon la revendication29, comprenant en outre l'étape d'établissement de la communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transfert (14) et les ouvertures (38) lorsque la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures est cessée. R:43res ets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 30/37 3 2831990 31. Le procédé selon l'une quelconque des revendications 27 à 30, caractérisé en ce que l'étape de dépressurisation de la chambre de transfert comprend les étapes d'ouverture d'une vanne de dégrossissage, associée fonctionnellement à la chambre de transfert pour dépressuriser la chambre, de mesure de la pression dans la chambre de transtert durant la dépressurisation et, lorsque la pression mesurée s'approche de 10-3 Torr, de fermeture de la vanne de dogrossissage et ouverture d'une turbo - pompe à vide mo léculaire (62) pour dépressuri ser la chambre de transfert à une pression d'environ 10-6 Torr. 32. Le procédé selon la revendication 31, comprenant en outre les étapes consistant à: établir la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures (38) jusqu'à ce que la pression dans la chambre dépressurisée augmente pour s'approcher de la pression atmosphérique; et ensuite, établir la communication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transfert et les ouvertures. 33. Le procédé selon l'une quelconque des revendications 27 à 32, caractérisé en ce que l'étape de repressurisation de la chambre de transfert comprend l'étape d'introduction d'un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transfert. 34. Le procédé selon la revendication 33, caractérisé en ce que l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transfert comprend les étapes d'agencement 2s fonctionnel d'un diffuseur dans la chambre de transfert et réalisation du diffuseur avec au moins une ouverture par laquelle du gaz est introduit dans la chambre de transfert. 35. Un système de maintien de tranches de semiconducteur pour maintenir des tranches dans une chambre de transfert durant le transfert des tranches entre l'atmosphère ambiante et une chambre d'inspection (12) qui est sous une pression de vide, comprenant: une chambre de transfert (14) interposce entre l'atmosphère ambiante et la chambre d'inspection (12) et soumise à une alternance de dépressurisation et la 3s repressurisation; une palette (26) agencce dans ladite chambre de transfert, ladite palette ayant une surface de réception de tranches; et R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 31/37 32 2831990 des moyens d'écoulement laminaire pour introduire un écoulement laminaire de gaz dans ladite chambre de transfert pour repressuriser ladite chambre de transfert pour, de cette manière, empêcher tout déplacement d'éventuelles tranches durant la repressurisation. s 36. Le système selon la revendication 35, caractérisé en ce que les moyens d'écoulement laminaire comprennent un diffuseur, agencé fonctionnellement dans ladite chambre de transfert et ayant au moins une ouverture par laquelle du gaz est introduit dans ladite chambre de transfert. 37. Le système selon la revendication 36, comprenant en outre une source de gaz, un conduit menant de ladite source de gaz audit diffuseur et une vanne agencce fonctionnellement avec ledit conduit, pour régler l'écoulement de gaz de ladite source de gaz audit diffuseur. 38. Le système selon la revendication 36 ou la revendication 37, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur, est positionnée au-dessus de la palette. 39. Le système selon la revendication 38, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur, est dirigée pour créer un écoulement transversalement dans la chambre de transfert. 40. Le système selon la revendication 39, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur, est positionnée de façon adjacente à une paroi de la chambre de transfert. 41. Le système selon la revendication 40, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur, est positionnée dans un angle de la chambre de transtert. 42. Le système selon la revendication41, caractérisé en ce que ladite surface de réception de tranches de ladite palette (26), comporte des ouvertures (38) adaptées pour être couvertes par la tranche, le système comprenant en outre des moyens d' aspiration (34) pour aspirer des tranches sur ladite surface de réception de tranches de ladite palette, en fournissant une pression aux dites ouvertures, qui soit inférieure à la pression régnant dans ladite chambre de transtert pour, de cette R:\Brevels\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 32/37 33 2831990 manière, empêcher tout déplacement d'une quelconque des tranches dans ladite chambre de transfert. 43. Le système selon la revendication 42, comprenant en outre une s deuxième palette (26b) et des moyens d' aspiration (34) pour aspirer des tranches sur ladite surface de réception de tranches desdites palettes (26a, 26b) pour, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche (28) dans ladite chambre de transfert (14), lesdits moyens d'aspiration (34) comprenant une source de vide ou pompe (40), des premier et deuxième conduits de branchement agencés chacun entre lo ladite source de vide ou pompe et lesdits conduits de palettes, dans l'une respective desdits première et deuxième palettes (26a, 26b) et des première et deuxième vannes, agencées fonctionnellement avec un conduit respectif parmi lesdits premier et deuxième conduits de ramification pour ouvrir et fermer la communication d'écoulement entre ladite source de vide ou pompe (40) et lesdites ouvertures dans ladite palette respective parmi lesdites première et deuxième palettes (26a, 26b). 44. Le système selon l'une quelconque des revendications 36 à 43, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est dirigée pour crcer un écoulement transversal dans ladite chambre de transtert. 45. Le système selon l'une quelconque des revendications 36 à 44, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est positionnée de façon adjacente à une paroi de la chambre de transfert. 2s 46. Le système selon l'une quelcouque des revendications 36 à 44, caractérisé en ce que ladite au moins une ouverture dans le diffuseur est positionnce dans un angle de la chambre de transfert. 47. Un procédé pour empêcher un déplacement d'une tranche de semiconducteur dans une chambre de transfert durant la repressurisation de la chambre de transfert, comprenant les étapes consistant à: agencer une palette (26) dans la chambre de transtert; placer la tranche (28) sur une surface de réception de tranches de la palette (26); et 3s introduire un écoulement laminaire de gaz dans la chambre de transtert durant la repressurisation de la chambre de transfert, pour, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche (28) durant la repressurisation de ladite chambre de transtert. R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 33/37 48. Le procédé selon la revendication 47, caractérisé en ce que l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de trans fert comprend les étap es d' agencement des diffuseurs en liaison avec la chambre de transfert et de réalisation du transfert du diffuseur avec des ouvertures (38) par lesquelles du gaz est introduit dans la chambre de transfert. 49. Le procédé selon la revendication 47 ou la revendication 48, comprenant en oube les étapes consistant à: o agencer des ouvertures (38) dans la surface de réception de tranches de la palette, la tranche (28) étant placée sur la surface de réception de tranches de la palette sur les ouvertures (38); coupler les ouvertures à une source de vide ou pompe (40); et établir sélectivement une communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe et les ouvertures, durant la repressurisation pour provoquer l'aspiration de la tranche (28) sur la surface de réception de tranches de la palette (26), par aspiration. 50. Le procédé selon la revendication 49, caractérisé en ce que l'étape de couplage des ouvertures (38) à une source de vide ou pompe (40) comprend l'étape de fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe (40), et l'étape d'établissement sélectif d'une communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe comprend l'étape d'agencement d'une valve en liaison avec le conduit. 51. Le procédé selon la revendication 49, caractérisé en ce que la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures (38) est établie lors de l'introduction du gaz dans la chambre de transfert. 52. Un procédé d'inspection de tranches de semiconducteur dans une chambre d'inspection (12) maintenue sous pression de vide, comprenant les étapes consistant à: transtérer une première tranche de la pression atmosphérique par une première vanne à obturateur (30) sur une première palette (26a) dans une chambre de transfert ( 1 4), tandis que la chambre de transfert est isolée de la chambre d' inspection ( 1 2) par 3s une deuxième vanne à obturateur (32) fermée; fermer la première vanne à obturateur (30) pour isoler la chambre de transfert de l'atmosphère amblante après avoir placé la première tranche sur la palette; R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 novembre 2002 - 34/37 3s 2831990 dépressuriser la chambre de transfert (14) jusqu'à ce que la pression régnant dans la chambre de transfert soit proche de la pression régnant dans la chambre d'inspection (12), puis ouvrir la deuxième vanne à obturateur (32); enlever la première tranche de la chambre de transfert lorsque la deuxième vanne à obturateur (32) est ouverte; fermer la deuxième vanne à obturateur (32) et, tandis que la deuxième vanne à obturateur (32) est fermée, placer la première tranche sur un site de mesure dans la chambre d'inspection (12), repressuriser la chambre de transfert, ouvrir la première à obturateur, placer la deuxième tranche sur une deuxième palette (26b), dans la o chambre de transfert, fermer la première vanne à obturateur (30) et dépressuriser la chambre de transfert; ouvrir la deuxième vanne à obturateur (32) et tandis que la deuxième vanne à obturateur (32) est ouverte, transférer la première tranche de la chambre d' inspection (12) sur la première palette dans la chambre de transfert (14) et enlever la deuxième tranche de la chambre de transfert; et fermer la deuxième vanne à obturateur (32) et tandis que la deuxième vanne à obturateur (32) est fermoe, placer la deuxième tranche sur un site de mesure, dans la chambre d' inspection (1 2), repressuriser la chambre d'inspection, ouvrir la première vanne à obturateur (30),placer une première tranche sur la première palette, dans la chambre de transfert, fermer la première vanne à obturateur (30) et dépressuriser la chambre de transfert; l'étape de repressurisation comprenant l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transfert tout en créant un écoulement laminaire dans la chambre de transfert. 2s 53. Le procédé selon la revendication 52, caractérisé en ce que l'étape d'introduction de gaz dans la chambre de transfert (14) comprend les étapes d'agencement d'un diffuseur en liaison avec la chambre de transfert et de réalisation du diffuseur avec des ouvertures (38) par lesquelles le gaz est introduit dans la chambre de transfert. 54. Le procédé selon la revendication 52, ou la revendication 53 caractérisé en ce qu'il comprend en outre les étapes de: réalisation des première et deuxième palettes (26a, 26b) avec une surface de réception de tranches ayant en son sein des ouvertures, les tranches étant placées sur les première et deuxième palettes (26a, 26b) sur les ouvertures (38); liaison des ouvertures (38) à une source de vide ou pompe (40); et R:\Brevets\20300\20337.doc - 5 rovembre 2002 - 35/37 36 2831990 établir sélectivement la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures durant au moins l'une des étapes de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transtert pour provoquer l'aspiration de la tranche (28) sur la surface de réception de tranches, de la palette, par aspiration et, de cette manière, empêcher tout déplacement de la tranche (28) durant ladite au moins une étape de dépressurisation et de repressurisation de la chambre de transfert. 55. Le procédé selon la revendication 54, caractérisé en ce que l'étape de liaison des ouvertures (38) à une source de vide ou pompe (40) comprend l'étape de o fourniture d'un conduit entre la source de vide ou pompe et l'étape d'établissement sélectif d'une communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe qui comprend une étape de disposition d'une valve en liaison avec le conduit. 56. Le procédé selon la revendication54 ou la revendication 55, comprenant en outre l'étape de cessation de la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures, lorsque la pression régnant dans la chambre de transfert dépressurisée augmente pour s'approcher de la pression atmosphérique. 57. Le procédé selon la revendication 56, comprenant en outre l'étape d'établissement de coromunication d'écoulement entre l'intérieur de la chambre de transfert et les ouvertures (38) après que la communication d'écoulement entre la source de vide ou pompe (40) et les ouvertures ait été fermée. 2s