FR 2831710 A1 20030502 FR 0213159 A 20021022 l'opArstion d'bmsion est rdalise en milieu liquide exempt d'eau. : :::::::: :::::::::::::: 2831710: :: :: :::: :::: : 1:. :: :::.:' : -:: MASQUE A ESPACES MULTIPLES, PROCEDE DE FABRICATION DU:; SUSDIT ET PROCEDE DE FABRICATION D'UNE PARTIE DE:: COMPOSANT EN UTILISANT LE SUSDIT ::::: Arrière-plan de l' invention :: :::::::: Domaine de l' invention: La présente invention concerne un masque à espaces multiples, un procédé pour fabriquer le. susUit et un procédé pour fabriquer une partie de composant en utilisant le susdit, et plus particulièrement le masque :: à espaces multiples devant être placé d'une manière: fixée sur une surface de travail tandis que la surface de travail est usince en délivrant avec puissance un :: fluide visqueux comprenant un composé abrasif, le procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples et: un procédé pour fabriquer la partie de composant en: utilisant le masque à espaces multiples. La présente invention est. de préférence, utilisée, par exemple, pour usiner des parois de séparation (nervures) pour; diviser une cellule d'affichage (espace de décharge de: gaz) dans un panneau d'affichage à plasma. La présente invention revendique la priorité de la: demande de brevet japonais n 2001-323847 déposée le 22; octobre 2001.: Description de l'art connexe - En tant que technique de polissage utilisant un fluide visqueux, le sablage avec un écoulement diphasique de: solide et de gaz utilisant del'air ou un composé abrasif est généralement utilisé. Un produit usiné type obtenu par usinage de modèle ou motif ("pattern'') en utilisant la technique de sablage après avoir formé un modèle maltre sur un objet à usiner est un modèle de cellule de décharge formé sur un substrat d'un panneau d'affichage. Un procédé pour former des modèles usinés présentant chacun une hauteur différente sur un substrat d'un panneau d'affichage en utilisant le procédé de sablage est présenté dans la demande de brevet japonais mise à l'inspection publique n 2000-123747, dans lequel, après qu'un matériau à usiner pour un modèle usiné présentant une faible hauteur sur un substrat ait été formé à la suite de la formation répétée d'un matériau à usiner pour un modèle usiné présentant une hauteur plus importante et d'un modèle de masque sur un substrat, un sablage est effectué pour produire un modèle usiné présentant une hauteur importante et un modèle usiné précentant une faible hauteur. Un autre procédé pour former un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante est présenté dans la demande de brevet japonais mise à l' inspection publique n Hei 7 - 45191, dans lequel, après qu'un matériau à usiner et un modèle de masque pour un modèle à usiner présentant une faible hauteur aient été formés sur un substrat d'un panneau d'affichage, un matériau à usiner pour un modèle usiné présentant une hauteur plus importante et ensuite un modèle de masque présentant une hauteur importante est formé de manière à ce qu'il ne recouvre pas le modèle de masque présentant une faible hauteur et un sablage est effectué pour produire un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante. Un autre procédé pour former des modèles usinés présentant chacun une hauteur différente sur un substrat dun panneau d'affichage en effectuant de manière répétée une opération de sablage deux fois ou plus est présenté dans la demande de brevet japonais mise à l'inspection publique n Xei 7 282730, dans lequel, après qu'un modèle de masque ait été formé, le sablage et le séchage sont répétés afin de former un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présente une hauteur importante. Un autre procédé encore pour former des modèles usinés présentant chacun une hauteur différente sur un substrat d'un panneau d'affichage en effectuant une opération de sablage est disponible, dans lequel, après qu'un modèle usiné présentant une faible hauteur ait été formé en utilisant une pâte de verre photosensible, un matériau à usiner et un modèle de masque sont formés et ensuite une opération de sablage est effectuée afin de former un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante. En outre, un procédé pour former un modèle usiné présentant une faible hauteur dont la forme en coupe est présentée dans la demande de brevet japonais mise à l'inspection publique n Hei 10 - 321148, dans lequel un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante sont formés en utilisant une feuille de transfert. Un autre procédé encore pour former un modèle usiné présentant une hauteur importante et un modèle usiné présentant une faible hauteur est présentédans la demande de brevet japonais mise à l' inspection publique n Hei 11 - 317170,- dans lequel un espace de décharge est formé en faisant en sorte qu'un modèle usiné présentant une hauteur importante et un modèle usiné présentant une faible hauteur obtenus en ajustant une forme en utilisant un procédé d' impression se croisent en des croix parallèles. Cependant, la technologie classique présente les problèmes suivants. Un procédé dans lequel un matériau à usiner et un modèle de masque pour un modèle usiné présentant une faible hauteur et un matériau à usiner et un modèle de masque pour un modèle usiné présentant une hauteur importante sont empilés par couches présente un problème en ce que, étant donné qu'une opération de recouvrement par le matériau à us iner et une opérat ion de formation du modèle de masque sont répétées deux fois, une augmentation du nombre d'heures-homme est inévitable. En outre, il y a un autre problème en ce quun modèle usiné subit des dommages provoqués par un masque d'un modèle usiné présentant une faible hauteur au moment du détachement d'un modèle de masque pour un modèle usiné présentant une faible hauteur et, en conséquence, un défaut apparaît. A ce moment, un autre problème apparaît en ce que, même si un modèle de masque est retiré par une opération de cuisson, un défaut apparaît du fait d'un reste subsistant après la cuisson. Le procédé présenté dans la demande de brevet japonais mise à l' inspection publique n Hei 7 282730, dans lequel, après que le modèle de masque ait été formé, le sablage et le séchage sont répétés de manière alternée afin de former un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante, présente un problème en ce que, étant donné qu'une opération de recouvrement par un matériau à usiner, une opération de formation d'un modèle de masque et une opération de polissage en utilisant une technique de sablage doivent être répétées, une augmentation d'un nombre d'heures-homme est inévitable et un ajustement de position devient difficile à réaliser. Un procédé dans lequel, après qu'un modèle usiné présentant une faible hauteur sur un substrat ait été formé en utilisant une pâte de verre photosensible, un matériau à usiner et un modèle de masque sont formés afin de produire un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante en effectuant l'opération de sablage, présente un problème en ce quun nombre d'heures-homme pour la formation des modèles du fait de l'utilisation d'une pâte de verre photosensible augmente et le positionnement du masque devient difficile. Ainsi, toutes les technologies classiques présentent un problème en ce que le nombre d'heures homme nécessaires pour effectuer les opérations ci dessus augmente et les coûts augmentent. Un procédé pour former un modèle usiné (appelé " procédé de transfert ") présenté dans la demande de brevet japonais mise à l' inspection publique n Hei 10-321148, dans lequel le modèle usiné dont la forme en coupe présente une inclinaison est formé en utilisant une feuille de transfert, présente également un problème en ce que, étant donné que la formation d'une partie inclinée dans un moule métallique utilisé pour fabriquer une feuille de transfert est difficile, il est impossible de fabriquer le modèle usiné présentant une forme compliquée. Le procédé présenté dans la demande de brevet japonais mise à l' inspection publique n Hei 11-317170, dans lequel un espace de décharge est formé faisant en sorte qu'un modèle usiné présentant une hauteur importante et un modèle usiné présentant une faible hauteur obtenus en ajustant une forme en utilisant un procédé d' impression se croisent en des croix parallèles, présente également un problème en ce que, étant donné que les opérations d' impression et de séchage doivent être répétées plusieurs dizaines de fois en utilisant des plaques pour l' impression d'au moins deux types ou davantage, il est difficile dobtenir une précision de position et les coûts augmentent du fait de l' augmentation du nombre d'heures-homme. Résumé de l' invention Compte tenu de ce qui précède, c'est un objet de la présente invention de proposer un masque à espaces multiples qui permette de former simplement un modèle usiné présentant une faible hauteur et un modèle usiné présentant une hauteur importante, un procédé d'usinage en utilisant le masque à espaces multiples et un procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples. Selon un premier aspect de la présente invention, un masque à espaces multiples est proposé comprenant: au moins deux modè-les de masque devant être fixés sur une surface d'un objet à usiner tandis qu'un usinage est effectué sur la surface de l'objet à usiner en envoyant un jet d'un fluide visqueux comprenant un composé abrasif et présentant chacun un espace différent par rapport à la surface de l'objet à usiner. Dans ce qui précède, un mode préféré est un mode dans lequel au-moins l'un d'au moins deux modèles de masque présente l'espace nul par rapport à la surface de l'objet à usiner. 1S Par ailleurs, un mode préféré est un mode dans lequel un premier et un deuxième modèles de masque sont réalisés présentant chacun l'espace différent, dans lequel le première modèle de masque a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres, et dans lequel le deuxième modèle de masque croise le premier modèle de masque et a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres. Par ailleurs, un mode préféré est un mode dans lequel la totalité ou une partie des formes comportant la pluralité de lignes droites sont de forme cylindrique circulaire. Selon un deuxième aspect de la présente invention, un procédé d'usinage est proposé comprenant: une étape de fixation d'un masque à espaces multiples décrit ci-dessus sur une surface d'un objet à usiner; une étape de réalisation d'un usinage sur la surface de l'objet à usiner en envoyant un jet d'un fluide visqueux comprenant un composé abrasif; et une étape d'utilisation d'une région de vortex du fluide visqueux apparaissant d'un côté de la surface de l'objet à usiner du masque à espaces multiples lorsque l'usinage est effectué sur la surface de l'objet à usiner. Dans ce qui précède, un mode préféré est un mode dans lequel le jet du fluide visqueux est envoyé vers la surface de l'objet à usiner en oblique lorsque l'usinage est effectué sur la surface de l'objet à usiner. Selon un troisième aspect de la présente invention, un procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples décrit ci-dessus est proposé, le procédé comprenant: une étape de tension de fils présentant une hauteur et une direction déterminces dans une émuleion photosensible; une étape de formation d'un modèle tridimensionnel en effectuant une opération de séchage, une opération d' exposition et une opération de développement sur l'émulsion photosensible. Selon un quatrième aspect de la présente invention, un procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples décrit ci-dessus est proposé, le procédé comprenant: une étape de collage d'un film photosensible sec sur les deux côtés d'un film; une étape de réalisation d'une exposition et d'un développement sur chacun des films photosensibles secs afin de produire un modèle différent; et une étape de formation d'un modèle de masque tridimensionnel en effectuant une gravure sur le film en utilisant les films photosensibles sec en tant que masque. Selon un cinquième aspect de la présente invention, un procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples décrit ci-dessus est proposé, le procédé comprenant: une étape de formation d'un film photosensible sur un film à mailles; et une étape de formation d'un modèle de masque tridimensionnel en effectuant une exposition et un développement sur le film photosensible en utilisant un modèle de masque en forme de lignes droites. Avec les configurations ci-dessus, par la formation d'au moins deux modèles de masque présentant À chacun un espace différent par rapport à la surface de lobjet à usiner, étant donné qu'un écoulement d'un fluide visqueux comprenant un composé abrasif est modifié en fonction de l' importance de l'espace, il est possible de former des modèles usinés présentant chacun une hauteur différente en même temps. Avec une autre configuration telle que ci-dessus, étant donné qu'en utilisant une région de vortex d'un fluide visqueux comprenant le composé abrasif, une vitesse du fluide visqueux est modifiée de facon remarquable dans et en-dehors de la région de vortex, des modèles usinés présentant chacun une hauteur différente peuvent être facilement formés. Avec une autre configuration telle que ci-dessus, étant donné qu'en tendant-des fils- dans une émulsion photosensible et en séchant l'émulsion photosensible et en effectuant une exposition et un développement, une hauteur et une direction sont modifiées, des configurations tridimensionnelles sont facilement formées. En outre, l'émulsion photosensible peut être utilisée non seulement en tant que matériau de fixation des fils, mais également en tant que masque. Par ailleurs, en utilisant l'émulsion photosensible, la formation de modèles est simple et un masque à espaces multiples présentant une excellente caractéristique de production de masse peut être réalisé. Avec encore une autre configuration, en collant le film photosensible sec sur les deux côtés du film, en effectuant une exposition et un développement sur le film photosensible sec afin de produire un modèle différent et en effectuant une gravure sur le film en utilisant le film photosensible sec en tant que masque, différents modèles peuvent être formés sur les deux côtés par une seule opération de gravure et, par le percage d'une région de modèle commune du modèle sur les deux côtés du film, le masque à espaces multiples peut être formé. En outre, une réserve photosensible utilisée en tant que masque pour graver le film peut être utilisée en tant que masque servant d'élément résistant au sablage. Avec encore une autre configuration, en formant un film photosensible sur un film à mailles et en effectuant une exposition et un développement sur le film photosensible afin de produire un modèle de masque en forme de lignes droites et afin de former un modèle de masque tridimensionnel, étant donné qu'un modèle de réserve photosensible présentant un modèle différent du modèle à mailles peut être formé, il est facile de former une configuration tridimensionnelle du masque. En outre, le film à mailles contribue à la stabilité des formes et des dimensions du macque à espaces multiples et le film photosensible a également pour effet d'améliorer la caractéristique de réaistance au sablage. Par ailleurs, un procédé de formation d'un maillage en utilisant la technique de graw re et le procédé de formation du -modèle en utilisant un film photosensible, étant donné que le masque à espaces multiples, qui présente une excellente précision dimensionnelle, peut être facilement réalisé en utilisant des technologies d'exposition et de développement ordinaires, présentent d'excellentes caractéristiques de production de masse. Avec encore une autre configuration, pour l'opération de polissage en utilisant un fluide visqueux, en utilisant le masque à espaces multiples présentant un espace par rapport à une surface d'un objet à usiner et en utilisant une répartition de vitesses du fluide visqueux dans la région de l'espace, des modèles usinés ayant chacun une profondeur différente peuvent être formés sans augmentation du nombre d'heures-homme. Par ailleurs, en utilisant les fils métalliques et l'émuleion photosensible, des masques à espaces multiples présentant chacun un espace par rapport à une surface de l'objet à- usiner peuvent être fournis à faibles coûts dans une production de masse. En outre, en effectuant une gravure sur le film à partir des deux côtés en utilisant différents modèles, des masques à espaces multiples présentant chacun un espace par rapport à une surface de l'objet à usiner peuvent être réalisés à faibles coûts dans une production de masse. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS _ _ Les objets, avantages et caractéristiques ci- dessus et d'autres de la présente invention ressortiront plus clairement à la lecture de la description ci-après faite en référence aux dessins joints, sur lesquels: la figure 1 est un schéma destiné à expliquer les principes de base de la présente invention; la figure 2A est un schéma expliquant une action d'un masque à espaces multiples dans un cas o l'espace est petit et la figure 2s est un schéma expliquant une action du masque à espaces multiples dans un cas o l'espace est grand conformément à la présente invention; la figure 3A est un schéma illustrant les principes d'un procédé d'usinage dans un cas dans lequel un jet d'un composé abrasif est envoyé dans une direction et la figure 3B est un schéma illustrant les principes d'un procédé d'usinage dans un cas dans lequel le jet du composé abrasif est envoyé dans deux directions de la présente invention; les figures 4A, 4B et 4C sont des wes en perspective illustrant le masque à espaces multiples de S la présente invention et le procédé d'usinage utilisant le susdit selon un premier mode de réalisation de la présente invention (le procédé seffectue dans l'ordre de la figure 4A à la figure 4C); les figures 5A, 5B et 5C sont des wes en perspective illustrant le masque à espaces multiples de la présente invention et le procédé d'usinage utilisant le susdit selon le premier mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 5A à la figure 5C); les figures 6A, 6B et 6C sont des wes en coupe illustrant un masque à espaces multiples de la présente invention et un procédé d'usinage utilisant le susdit selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 6A à la figure 6C); les figures 7A, 7B et 7C sont des wes en coupe illustrant le masque à espaces multiples de la présente invention et le procédé d'usinage utilisant le susdit selon le deuxième mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 7A à la figure 7C); les figures 8A, 8B et 8C sont des wes en perapective illustrant un procédé de fabrication du masque à espaces multiples selon le premier mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 8A à la figure 8C); les figures 9A, 9B et 9C sont des vues en perspective illustrant le procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon le premier mode de -réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 9A à la figure 9C) i les figures- lOA et lOB sont des vues en perepective montrant un autre exemple du masque à espaces multiples utilisé dans le premier mode de réalisation de la présente invention réalisé sur les figures 8A, 8B et 8C et sur les figures 9A, 9B et 9C; les figures llA et llB sont des schémas illustrant schématiquement un procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon le deuxième mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure llA à la figure llB); les figures 12A et 12B sont des schémas illustrant schématiquement le procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon le deuxième mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 12A à la figure 12B); les figures 13A et 13B sont des vues planes et des vues de droite illustrant un procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples selon un troisième mode de réalisation de la présente invention (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 13A à la figure 13B); et les figures 14A et 14B sont des vues planes et des vues de droite illustrant le procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon le troisième mode de réalisation (le procédé s'effectue dans l'ordre de la figure 14A à la figure 14B). Principes de la présente invention Avant de décrire chaque mode de réalisation de la présente invention, les principes de la présente invention sont expliqués en utilisant les dessins. D'abord, la figure 1 montre un écoulement autour et au-delà d'un cylindre. Une configuration d'écoulement est symétrique à droite et à gauche par rapport à une direction de déplacement; cependant, la configuration d'écoulement n'est pas symétrique en avant et en arrière. A l'arrière (en aval) du cylindre circulaire, un écoulement se sépare du cylindre circulai-re et deux vortex symétriques (vortex double ou jumaux ("twin vortexes")) sont formés de manière permanente. Sur la figure 1, les lettres A, B et C montrent une répartition d'une vitesse d'écoulement respectivement à des points de traits en pointillé a, b et c sur la photographie. Un écoulement au point a du trait en pointillé, étant donné qu'un vortex double apparaît à l'arrière du cylindre circulaire, se déplace vers l'arrière à proximité d'une ligne médiane et, alors que l'écoulement s'écarte de la ligne médiane, il s'effectue dans la direction de déplacement et la vitesse d'écoulement devient élevée. La vitesse de l'écoulement au point b du trait en pointillé, étant donné que la position est un point o le vortex disparaît, reste inchangée à proximité de la ligne médiane et augmente graduellement alors que l'écoulement s'écarte de la ligne médiane. La vitesse de l'écoulement au point c du trait en pointillé, étant donné que le vortex disparaît mais qu'une influence du cylindre circulaire (provoquée par une couche limite ou le décollement) subsiste, est faible-- et augmente graduellement alors que l'écoulement s'écarte- de la ligne médiane. Dans la présente invention, une distance entre une partie arrière du cylindre circulaire et une position o le vortex disparaît est définie comme une longueur de région de vortex 1. Les figures 2A et 2B montrent une différence de formes de parois de séparation 81 et 82 devant être forméss en fonction d'espaces 31 et 32 entre des cylindres circulaires 2 et des objets à usiner 4 dans une opération de sablage. Le cylindre circulaire 2 est un masque pour une paroi de séparation horizontale (non montrée) constitué de fils. L'objet à usiner 4 est formé sur un substrat 5. Un écoulement diphasique de solide et de gaz 7 d'un composé abrasif et d' air délivrés par pression par jet à partir d'un gicleur est divisé dans des directions droite et gauche sur une surface du côté amont du cylindre circulaire 2 et, après avoir parcouru les deux faces latérales du cylindre circulaire 2, s'éloigne du cylindre circulaire 2. Ensuite, l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7, après s'être éloigné du cylindre circulaire 2, produit le vortex double et se déplace de nouveau de manière intégrce. La figure 2A montre un cas dans lequel l'objet à usiner 4 est placé au point a sur la figure 1. A ce point, étant donné qu'un vortex de l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7 est produit à proximité de la ligne médiane de l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7 autour de l'objet à usiner 4, il est impossible d'effectuer un polissage sur l'objet à usiner 4. Ensuite, alors que l'écoulement s'écarte de la ligne médiane de l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7, étant donné qu'une vitesse de l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7 augmente, la forme de la paroi de séparation 81 obtenue par polissage devient un trapèze pointu. L,espace 31 est. par exemple, de 40,um. La figure 2B montre un cas dans lequel l'objet à usiner 4 est placé au point c sur la figure 1. A ce point, à proximité de la ligne médiane de l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7 dans l'objet à usiner 4, bien qu'aucune modification d'une direction de l'écoulement ne soit provoquée par le vortex, une répartition de la vitesse de l'écoulement existe, laquelle est influencée par le cylindre circulaire 2. Alors que l'écoulement s'écarte de la ligne médiane de l'écoulement diphasique de solide et de gaz 7, étant donné que la vitesse de l' écoulement de l' écoulement diphasique de solide et de gaz 7 augmente, la forme de la paroi de séparation 82 obtenue par polissage devient triangulaire. L'espace 32 est supérieur à une longueur de région de vortex l et est. par exemple, de 200 um. Ainsi, la formation des parois de séparation présentant chacune une hauteur différente en utilisant un masque à espaces multiples 12 (montré sur la figure 3A) est influencée par une répartition de l'écoulement à l'arrière du masque à espaces multiples 12. Par conséquent, afin de former des parois de séparation présentant chacune une hauteur différente en modifiant une quantité d'usinage, il est seulement nécessaire de calibrer un espace entre le masque à espaces multiples 12 et l'objet à usiner 4. -: Plus une longueur de la région de vortex du double vortex est grande (les espaces 31 et 32 étant présents à l'arrière du masque à espaces multiples 12), étant donné que la quantité d'usinage augmente, plus une hauteur de la paroi de séparation diminue. Le calibrage d'une hauteur de la paroi de séparation devient possible en modifiant une longueur du double vortex en calibrant l'espace entre le masque à espaces multiples 12 et la surface de l'objet à usiner (surface d'usinage) 4 et en calibrant une pression utilisée pour délivrer le composé abrasif. Conformément à la présente invention, en utilisant le masque à espaces multiples 12 présentant un espace différent, étant donné qu'une région ayant une quantité d'usinage différente est produite par une seule opération de sablage, la formation simultanée de la paroi de séparation présentant une hauteur différente devient possible. Sur la figure 3A, une ligne d'usinage 61 (trait plein) par traitement en oblique en utilisant un masque plan 11 (masque classique) et une ligne dusinage 62 (trait interrompu) par traitement en oblique en utilisant le masque à espaces multiples 12 (le masque de la présente invention) sont montrées. Une opération en oblique représente une technologie dans laquelle l'objet à usiner 4 est traité dans un état dans lequel une direction de jet de composé abrasif 13 est oblique. Le masque plan 11 et le masque à espaces multiples 12 sont un masque pourune paroi de séparation horizontale constitué d'un film photosensible sec. Un espace 3 entre le masque plan 11 et l'objet à usiner 4 est nul, tandis que l'espace 3 entre le masque à espaces multiples 12 et l'objet à usiner 4 a une valeur supérieure à zéro. En utilisant le masque à espaces multiples 12, un décalage dans la courbe d'usinage 62 se produit vers un côté d'une composante horizontale dans la direction de jet de composé abrasif 13. En utilisant ce décalage dans la courbe d'usinage 62 et en effectuant un usinage en oblique uniforme, la formation de divers types de parois de séparation présentant respectivement une hauteur différente devient possible. La figure 3B est un schéma de conception illustrant un usinage en oblique en utilisant un masque à espaces multiples. L'usinage est effectué sur l'objet à usiner 4 à la fois depuis les côtés droit et gauche du cylindre circulaire 2 faisant partie du masque à espaces multiples, les directions de jet de composé abrasif 13 et 14 étant obliques. Ensuite, étant donné qu'un usinage en oblique provoque un décalage d'une courbe d'usinage 6 dans les directions droite et gauche, une section d'un triangle 15 en utilisant une partie d' intersection des courbes dusinage droite et gauche 6 en tant que sommet est formée. Une surface inclinée du triangle 15 représente une surface incurvée le long de la courbe d'usinage 6. La formation de parois de séparation présentant chacune une hauteur différente en utilisant la technique d'usinage en oblique est provoquée par un décalage de la courbe d'usinage 6 dû à la réalisation d'un masque à espaces multiples, et une hauteur de la paroi de séparation est déterminée par la longueur d'un espace et un angle de jet du composé abrasif. Dans la présente invention, une partie ou la totalité d'une section du modèle de masque est circulaire. Lorsque la section d'un masque est circulaire ou semi-circulaire, l'apparition d'un écoulement décollé dans une direction vers le bas diminue une région de vortex. C'est-à-dire qu'étant donné qu'un espace dans le masque à espaces multiples devient plus petit, la fabrication du masque à espaces multiples devient facile. Description détaillée des modes de réalisation préférés Les meilleurs modes de réalisation de-la présente invention vont être décrits plus en détail en utilisant divers modes de réalisation et en faisant référence aux dessins joints. Premier mode de réalisation - Les figures 4A, 4B et 4C sont des vues en perepective illustrant un masque à espaces multiples 30 de la présente invention et des procédés d'usinage utilisant le masque à espaces multiples 30 seIon un premier mode de réalisation de la présente invention. Les descriptions sont effectuées en se basant sur ces dessins. Le masque à espaces multiples 30 du premier mode de réalisation est fixé sur une surface 23 d'un objet à usiner lorsque l'usinage est effectué sur la surface 23 de l'objet à usiner par une opération de sablage, et des premier et deuxième modèles de masque (décrits ultérieurement) présentant chacun un espace 24 différent par rapport à la surface 23 de l'objet à usiner sont formés. Le premier modèle de masque (non montré) est constitué d'une pluralité de fils métalliques 33 parallèles les uns aux autres et le deuxième modèle de masque (non montré) croise les fils métalliques 33 à angles droits et est constitué d'une pluralité d'émulsions photosensibles 34 ayant la forme de parallélépipèdes rectangles parallèles les unes aux autres. Les fils métalliques 33 sont de section circulaire et sont respectivement de 150 um de diamètre. L'espace 24 entre les fils métalliques 33 et une surface 23 d'un objet à usiner est de 200,um, ce qui est supérieur à une longueur de la région de vortex. Dans le procédé d'usinage du mode de réalisation, du carbonate de calcium est utilisé en tant que composé abrasif pour le sablage et une pâte de mélange constituée d'un mélange d'un verre et d'un agent de remplissage est utilisée en tant qu'objet à usiner 20, et une opération de polissage est effectuée sur une surface 23 de l'objet à usiner en envoyant un jet d'un composé abrasif 25 (figure 5A) dans une direction verticale afin de former un modèle usiné 26 (figure 5B) présentant une faible hauteur et un modèle usiné 27 (figure 5C) présentant une hauteur importante. D'abord, un substrat en verre 10 est revêtu de l'objet à usiner 20 et est ensuite séché (figure 4A). Ensuite, le masque à espaces multiples 30 est placé sur une surface de l'objet à usiner 23 (voir figure 4B). Ensuite, une fois que le positionnement a été effectué en utilisant un repère en forme de croix (non montré) gravé dans le substrat en verre 10 et le masque à espaces multiples 30, le masque à espaces multiples 30 est fixé sur la surface 23 de l'objet à usiner en utilisant un mandrin à vide (figure 4C). Ensuite, l'opération de polissage par sablage est effectuée sur la surface 23 de l'objet à usiner dans une direction verticale (figure 5A). Ensuite, le masque à espaces multiples 30 est libéré du mandrin à vide, de telle manière que la surface 23 de l'objet à usiner et le masque à espaces multiples 30 soient séparés l'un de l'autre (figure SB). Ceci entraîne la formation du modèle usiné 26 présentant une faible hauteur et du modèle usiné 27 présentant une hauteur importante et l'achèvement d'une paroi de séparation du type à deux niveaux (figure 5C). Une forme d'une section du modèle usiné 26 présentant une faible hauteur est un triangle isocèle et une forme d'une section du modèle usiné 27 présentant une hauteur importante est un trapèze isocèle. En outre, dans le mode de réalisation, du carbonate de calcium est utilisé en tant que composé abrasif 25 et une pâte de mélange de verre et d'un agent de remplissage est utilisée en tant qu' objet à usiner 20, cependant, la présente invention n'est pas limitée à la combinaison du composé abrasif 25 et de l'objet à usiner 20. Une forme de la section des fils métalliques 33 peut être demi-ronde, rectangulaire et triangulaire. Par ailleurs, au lieu du sablage, une technique de sablage humide ou sablage liquide ("liquid honing") peut étre utilisée. Le sablage humide représente une technologie par- laquelle un jet d'un liquide obtenu en mélangeant le composé abrasif à de l'eau est envoyé sur un objet à: usiner 20, en même temps que de l'air comprimé, à partir d'un gicleur afin d'effectuer l'usinage de l'objet à usiner 20. Une forme de la section du modèle usiné 26 présentant une faible hauteur peut étre une forme de M ou trapézoïdale en réduisant un intervalle entre des fils métalliques 33 adjacents dans le masque à espaces multiples 30. Un matériau pour les fils métalliques 33 n'est pas limité à des matériaux métalliques tels que l'acier inoxydable SUS (acier inoxydable à usage spécial), l'acier inoxydable, le cuivre, le laiton et similaire, mais peut cons ister en des matériaux non métall iques tel. s que le Kevlar [marque déposée] (fibre aramide), le carbone ou similaire. En outre, dans le mode de réalisation, une profondeur d'usinage peut être de deux types, cependant, peut être de trois types. Les figures 8A, 8B et 8C et les figures 9A, 9B et 9C sont des vues en perepective illustrant un procédé de fabrication d'un masque à espaces multiples 142 selon le premier mode de réalisation de la présente invention. Les descriptions sont effectuées en faisant référence à ces dessins. D'abord, un moule sans fond 100 comportant une pluralité de rainures en V 110 et une plaque de fond mobile 101 sont préparés pour le positionnement et la fixation de fils métalliques 120. Ensuite, les fils métalliques 120 sont tendus à travers les rainures en V du moule 100 (figure 8B). Ensuite, une émuleion photosensible 130, après avoir été versée dans le moule , est séchée et durcie (figure 8C). Ensuite, l'émulsion photosensible 130, ainsi que la plaque de fond 101 sont retirées du moule 100. Ensuite, après avoir placé un masque d'exposition 140 (figure 9B) sur l'émuleion photosensible 130 (figure 9A), un rayon ultraviolet 141 est appliqué à travers le masque d'exposition 140 à l'émuleion photosensible 130 et une image latente est formée dans l'émulsion photosensible 130 (figure 9B). Enfin, en développant l'émulsion photosensible 130 en utilisant du peroxyde d'hydrogène, le masque à espaces multiples 142 est obtenu (figure 9C). Le masque à espaces multiples 142 est pourvu d'un modèle de masque 143 constitué d'une pluralité de fils métalliques 120 parallèles les uns aux autres et d'un modèle de masque 144 constitué d'une pluralité des émuleions photosensibles en forme de parallélépipèdes rectangles 130 croisant les fils métalliques 120 à angles droits et parallèles les unes aux autres. Dans le mode de réalisation, de lacier inoxydable à usage spécial est utilisé pour le moule 100, un substrat en verre est utilisé pour la plaque de fond lol, une émulsion diazoïque est utilisée en tant qu'émulsions photosensibles 130, et une pluralité de fils de cuivre respectivement avec un diamètre de ,um sont utilisés pour les fils métalliques 120. En tant que masque d' exposition 140, un masque d' émuleion présentant une configuration de bandes est utilisé. En outre, dans le mode de réalisation, l'exposition est effectuée uniquement à partir d'une face, cependant, une fois que le masque d'exposition 140 a été placé à la fois sur une surface supérieure et sur une surface inférieure de l'émulsion photosensible 130, une image latente peut être formée dans l'émulsion photosensible en appliquant le rayon ultraviolet 141. Les figures lOA et lOB sont des vues en perspective montrant un autre exemple des masques à espaces multiples 14S, 146 utilisés dans le premier mode de réalisation montré sur les figures 8A, 8B et 8C et sur les figures 9A, 9B et 9C. Les descriptions sont effectuées en faisant référence aux dessins ci-dessus. Un masque à espaces multiples 145 montré sur la figure lOA est fabriqué par deux groupes de fils métalliques 120 se croisant les uns les autres à angles droits et à plusieurs niveaux. Tandis qu'un masque à espaces multiples 146 montré sur la figure lOB est fabriqué par deux groupes de fils métalliques 120 se croisant les uns les autres au méme niveau. Dans tous les cas, étant donné que la résistance mécanique augmente du fait que les fils métalliques 120 croisent l'émuleion photosensible 130, la durée de vie de chacun des masques à espaces multiples 145, 146 devient longue et la précision dimensionnelle est améliorée. Deuxième mode de réalisation - Les figures 6A, 6B et 6C et les figures 7A, 7B et 7C sont des vues en coupe illustrant un masque à espaces multiples 30 de la présente invention et un procédé d'usinage utilisant le susdit selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention. Les descriptions du mode de réalisation seront effectuées en faisant référence aux dessins. Sur les figures 4A à 4C et sur les figures 5A à 5C, des numéros de référence identiques sont attribués aux parties ayant les mêmes fonctions et leurs descriptions seront omises. Dans le masque à espaces multiples 30 du mode de réalisation, un espace 24 entre un fil métallique 33 et une surface 23 d'un objet à usiner est de 40 um, ce qui est inférieur à la longueur de la région de vortex. Dans le procédé d'usinage du mode de réalisation, une opération de polissage est effectuce en envoyant, vers la surface 23 de l'objet à usiner, un jet d'un composé abrasif 25 dans deux directions inclinées de + 15 par rapport à une direction verticale, les deux jets étant décalés dans le temps afin de former un modèle usiné 21 présentant une hauteur importante et un modèle usiné 22 présentant une faible hauteur. D'abord, un substrat en verre 10 est revêtu d'un objet à usiner 20 et l'objet à usiner 20 revêtu est séché (figure 6A). Ensuite, le masque à espaces multiples 30 est placé sur la surface 23 de l'objet à usiner (figure 6s). Ensuite, une fois que le positionnement a été effectué en utilisant un repère en forme de croix (non montré) gravé dans le substrat en verre 10 et le masque à espaces multiples 30, le masque à espaces multiples 30 est fixé sur la surface 23 de l'objet à usiner en utilisant un mandrin à vide (figure 6C). Ensuite, une opération de polissage par sablage est effectuée sur la surface 23 de l'objet à usiner dans des directions obliques droite et gauche (figure 7A). Ensuite, le masque à espaces multiples 30 est libéré du mandrin à vide, de telle manière que la surface 23 de l'objet à usiner et le masque à espaces multiples 30 soient séparés l'un de l'autre (figure 7B). Ceci entraîne la formation du modèle usiné 21 présentant une hauteur importante et du modèle usiné 22 présentant une faible hauteur et l'achèvement d'une paroi de séparation du type à deux niveaux (figure 7C). A ce point, une forme d'une section du modèle usiné 22 présentant une faible hauteur est un triangle isocèle et sa surface inclinée est une courbe. Les figures llA et llB et les figures 12A et 12B sont des schémas illustrant de manière schématique un procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples selon le deuxième mode de réalisation. Les descriptions sont effectuées en faisant référence aux dessins ci- dessus. Dans le mode de réalisation, un procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples en effectuant une gravure sur un film métallique est réalisé. D'abord, des films photosensibles secs (DFR) 211 et 212 en NIT 625 fabriqué par Nihon Synthetic Chemical Ltd., étant une réserve ou résine ("resist") qui permet un développement alcalin et qui a une résistance aux acides, sont lamifiés sur les deux côtés d'un film métallique 210 réalisé en acier inoxydable à usage spécial (d'une épaisseur de 0,3 mm) (voir figure llA). Ensuite, un masque d'émuleion pour exposition 221 avec un pas d'une bande longitudinale d'une maille de 0,27 mm, avec une largeur de la bande longitudinale de la maille de 0,07 mm, avec un pas d'une bande horizontale de 0,54 mm et avec une largeur de la bande horizontale de 0, 15 mm, et un masque d'émulsion pour exposition 222 avec un pas d'une bande longitudinale de 0,27 mm et avec une largeur d'une bande longitudinale de 0,07 mm sont préparés. Ensuite, une exposition est effectuée sur les films photosensibles secs 211 et 212 en appliquant un rayon ultraviolet 230 à travers les masques d'émulsion d'exposition 221 et 222 (voir figure llB). Ensuite, une solution de développement constituée d'une solution aqueuse de carbonate de sodium est vaporisée sur les films photosensibles secs 211 et 212 en utilisant une machine de développement du type à pulvérisation 240. Ceci entraîne la formation du film photosensible sec 211 présentant une configuration de mailles et du film photosensible sec 212 présentant une configuration de bandes sur les deux côtés du film métallique 210 (voir figure 12A). Ensuite, en utilisant un appareil de gravure à pulvérisation 250, un agent de gravure constitué d'une solution aqueuse d'acide chlorhydrique est pulvérisé sur les deux côtés du film métallique 210 à travers les films photosensibles secs 211 et 212. Par l'opération de gravure, une partie de maille d'une surface de la maille et une partie de bande horizontale d'une autre surface de la maille sont retirées. En utilisant la partie de maille en tant que trou débouchant et en effectuant une demi-gravure sur la partie de bande horizontale, une configuration de bandes longitudinales et une configuration de bandes horizontales présentant chacune une épaisseur différente sont formées. De cette manière, un masque à espaces multiples 260 peut être obtenu (voir figure 12B). A ce point, les configurations de films photosensibles secs laissées peuvent être retirées à l'aide d'un solvant de décapage ou peuvent être utilisées, en les laissant telles qu'elles sont, en tant que film protecteur servant d'élément résistant au sablage (non montré). Par le procédé de fabrication ci-dessus, un masque à espaces multiples 260 avec une épaisseur de la bande longitudinale de la maille métallique de 0,3 mm, avec une épaisseur de la configuration de bandes horizontales de 0,1 mm et avec un espace par rapport à une surface d'un objet à usiner de 0,2 mm est fabriqué. Selon le procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples 260 du mode de réalisation, une différence d'épaisseur entre la configuration de bandes longitudinales et la configuration de bandes horizontales peut être calibrée en se basant sur l'épaisseur du film métallique 210 et sur une quantité de gravure. En outre, dans le mode de réalisation, la gravure est effectuce sur les deux côtés du film métallique 210 en même temps, cependant, la grawre peut être effectuée alternativement sur un côté et l'autre côté du film métallique 210 ou la grawre peut être effectuée d'abord sur les deux côtés du film métallique 210 en même temps et, ensuite, une fois qu'une profondeur de gravure d'un côté du film métallique 210 a atteint une quantité fixée, en arrêtant la gravure d'un côté du film métallique 210, la grawre peut être effectuée sur un autre côté du film métallique 210. Le film métallique 210 peut être un film monocouche réalisé en acier inoxydable, en alliage 42, en alliage 426, en cuivre, en alliage de cuivre, en fer, en alliage de fer et de nickel, en aluminium ou similaire, ou peut être un film multicouche réalisé en divers métaux. En outre, au lieu du film métallique 210, un matériau organique peut être utilisé tant qu'un matériau peut être gravé. Au lieu des films photosensibles secs 211 et 212, une réserve liquide peut être utilisée. Troisième mode de réalisation Les figures 13A et 13B et les figures 14A et 14B sont des vues planes et des vues de droite illustrant un procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples selon un troisième mode de réalisation de la présente invention. Les descriptions sont effectuées en faisant référence aux dessins ci-dessus. Dans le mode de réalisation, un procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples en formant une couche de réserve sur un film à mailles préparé à l'avance et par la formation d'une configuration de bandes par exposition et développement. D'abord, un film à mailles 301 est préparé en formant un film photosensible sec d'une configuration de mailles sur les deux côtés du film à mailles 301 et en effectuant une gravure (figure 13A). Ensuite, un film photosensible sec 302 d'une épaisseur équivalente à un espace par rapport à une surface d'un objet à usiner est collé sur un côté du film à mailles 301 (figure 13B). Ensuite, une exposition est effectuée sur le film photosensible sec 302 en appliquant un rayon ultraviolet 305 au film photosensible sec 302 à travers un masque d'émulsion pour exposition 303. Ceci entraîne la formation d'une image latente en forme de bandes (figure 14A). Enfin, un masque à espaces multiples 304 est terminé en développant le film photosensible sec 302 (figure 14B). Selon le mode de réalisation, en modifiant seulement une épaisseur du film photosensible sec 302, un espace par rapport à une surface d'un objet à usiner peut être facilement calibré. Dans le mode de réalisation, un film à mailles 301 est préparé en utilisant de l'acier inoxydable à usage spécial 304 d'une épaisseur de 0, 15 mm en tant que film et par un masque d'émulsion pour exposition avec un pas d'une bande longitudinale d'une maille de 0,27 mm, avec une largeur de la bande longitudinale de 0,07 mm, avec un pas d'une bande horizontale de 0,54 mm et avec une largeur de la bande horizontale de 0, 15 mm. En outre, deux types de films photosensibles secs 302 sont préparés, l'un en utilisant un morceau du film photosensible sec d'APD- 401 fabriqué par Asahi Chemical Ltd., qui réalise une épaisseur de 40,um, et l'autre en utilisant cinq morceaux du film photosensible sec qui réalise une épaisseur de 200 um. Le masque d'émuleion pour exposition 303 a un pas de la bande longitudinale de 0,27 mm et une largeur de la bande longitudinale de 0,07 mm. Dans l'opération de développement, une machine de développement à pulvérisation, adaptée pour pulvériser une solution aqueuse de carbonate de sodium est utilisée. Ainsi, selon la présente invention, des modèles de masque tridimensionnels, dont une partie ou la totalité n'est pas en contact avec la surface de l'objet à usiner et qui sont pourvus d'un espace o des espaces (c'est-à-dire, des distances) entre la surface de l'objet à usiner et le modèle de masque sont différents les uns des autres sont utilisés. Une opération de polissage est effectuée en plagant le masque à espaces multiples 304 sur la surface de l'objet à usiner et en envoyant un jet d'un fluide visqueux vers la surface de l'objet à usiner dans une direction verticale ou oblique sur le modèle de masque tridimensionnel. Selon la présente invention, il est possible de former un objet usiné selon un modèle comportant au moins deux modèles usinés présentant chacun une hauteur différente et une forme d'au moins un modèle usiné étant triangulaire. En outre, étant donné qu'en utilisant le masque à espaces multiples 304 pour le sablage, des modèles présentant chacun une hauteur différente peuvent être formés simultanément et, étant donné que le collage du film photosensible sec 302 sur l'objet à usiner, l'opération d'exposition, le développement, l'opération de détachement, qui sont nocessaires dans l'opération de sablage classique, ne sont pas nécessaires, une réduction des coûts devient possible. I1 est évident que la présente-invention n'est pas limitée aux modes de réalisation ci-dessus, mais peut être changée et modifiée sans s'écarter de l'étendue et de l' esprit de l'invention. REVENDICATIONS 1. Masque à espaces multiples caractérisé en ce qu'il comprend: au moins deux modèles de masque devant être fixés sur une surface (23) d'un objet à usiner (20) -tandis que l'usinage est effectué sur ladite surface dudit objet à usiner par l'envoi d'un jet d'un fluide visqueux comprenant un composé abrasif (25) et présentant chacun un espace différent par rapport à ladite surface dudit objet à usiner. 2. Masque à espaces multiples selon la revendication 1, dans lequel au moins l'un d'au moins deux modèles de masque présente l'espace nul par rapport à ladite surface (23) dudit objet à usiner (20). 3. Masque à espaces multiples selon la revendication 1, comprenant des premier et deuxième modèles de masque présentant chacun ledit espace différent, dans lequel ledit premier modèle de masque a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres, et dans lequel ledit deuxième modèle de masque croise ledit premier modèle de masque et a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres. 4. Masque à espaces multiples selon la revendication 3, dans lequel la totalité ou une partie des formes comportant ladite pluralité desdites lignes droites sont de forme cylindrique circulaire. 5. Procédé pour fabriquer une partie de composant en utilisant un masque à-espaces multiples comprenant au moins deux modèles de masque présentant chacun un espace différent par rapport à une surface (23) d'un objet à usiner (20), ledit procédé comprenant: une étape de fixation dudit masque à espaces multiples sur ladite surface (23) dudit objet à usiner (20); une étape de réalisation d'un usinage sur ladite surface (23) dudit objet à usiner (20) en envoyant un jet d'un fluide visqueux comprenant un composé abrasif (25); et - une étape d'utilisation d'une région de vortex dudit fluide visqueux apparaissant d'un côté de ladite surface (23) dudit objet à usiner (20) dudit masque à espaces multiples lorsqu'un usinage est effectué sur ladite surface dudit objet à usiner. 6. Procédé pour fabriquer une partie de composant en utilisant le masque à espaces multiples selon la revendication 5, dans lequel au moins l'un d'au moins deux modèles de masque constituant ledit masque à espaces multiples présente l'espace nul par rapport à ladite surface (23) dudit objet à usiner (20). 7. Procédé pour fabriquer une partie de composant en utilisant le masque à espaces multiples selon la revendication 5, dans lequel ledit masque à espaces multiples est constitué de premier et deuxième modèles de masque présentant chacun ledit espace différent, dans lequel ledit premier modèle de masque a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres, et dans lequel ledit deuxième modèle de masque croise ledit premier modèle de masque et a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres. 8. Procédé pour fabriquer une partie de composant en utilisant le masque à espaces multiples selon la revendication 7, dans lequel la totalité ou une partie des formes comportant ladite pluralité desdites lignes parallèles sont de forme cylindrique circulaire. 9. Procédé pour fabriquer une partie de composant en utilisant le. masque à espaces multiples selon la revendication 5, dans lequel ledit jet dudit fluide visqueux est envoyé vers ladite surface (23) dudit objet à usiner (20) en oblique lorsqu'un usinage est effectué sur ladite surface dudit objet à usiner. 10. Procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples comprenant au moins deux modèles de masque présentant chacun un espace différent par rapport à une surface (23) d'un objet à usiner (20), ledit procédé comprenant: une étape de tension de fils ayant une hauteur et une direction déterminées dans une émuleion photosensible; une étape de formation d'un modèle de masque tridimensionnel en effectuant une opération de séchage, une opération d' exposition et une opération de développement sur ladite émulsion photosensible. 11. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 10, dans lequel au moins l'un d'au moins deux modèles de masque constituant ledit masque à espaces multiples présente l'espace nul par rapport à ladite surface (23) dudit objet à usiner (20). 12. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 10, dans lequel ledit masque à espaces multiples est constitué de premier et deuxième modèles de masque présentant chacun ledit - espace différent, dans lequel ledit premier modèle de masque a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres, et dans lequel ladit deuxième modèle de masque croise ledit premier modèle de masque et a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres. 13. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 10, dans lequel la totalité ou une partie des formes comportant ladite pluralité desdites lignes droites sont de forme cylindrique circulaire. 14. Procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples comprenant au moins deux modèles de masque présentant chacun un espace différent par rapport à une surface (23) d'un objet à usiner (20), ledit procédé comprenant: une étape de collage d'un film photosensible sec sur les deux côtés d'un film; une étape de réalisation d'une exposition et d'un développement sur chacun desdits films photosensibles secs afin de produire un modèle différent; et une étape de formation d'un modèle de masque tridimensionnel en effectuant une gravure sur ledit film en utilisant lesdits films photosensibles secs en tant que masque. 15. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 14, dans lequel au moins l'un d'au moins deux modèles de masque constituant ledit masque à espaces multiples comporte l'espace nul par rapport à ladite surface (23) dudit objet à usiner (20). 16. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 14, dans lequel ledit masque à espaces multiples est constitué de premier et deuxième modèles de masque présentant chacun ledit espace différent, dans lequel ledit premier modèle de masque a une forme dune pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres, et dans lequel ledit deuxième modèle de masque croise ledit premier modèle de masque et a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres. 17. procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 14, dans lequel la totalité ou une partie des formes comportant ladite pluralité desdites lignes droites sont de forme cylindrique circulaire. 18. Procédé pour fabriquer un masque à espaces multiples comprenant au moins deux modèles de masque présentant chacun un espace différent par rapport à une surface t23) d'un objet à usiner (20), ledit procédé comprenant: une étape de formation d'un film photosensible sur un film à mailles; et une étape de formation d'un modèle de masque tridimensionnel en effectuant une exposition et un développement sur ledit film photosensible en utilisant un modèle de masque en forme de lignes droites. 19. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 18, dans lequel au moins l'un d'au moins deux modèles de masque constituant ledit masque à espaces multiples présente l'espace nul par rapport à ladite surface (23) dudit objet à usiner (20). 20. Procédé pour fabriquer le masque à espaces multiples selon la revendication 18, dans lequel le masque à espaces multiples est constitué de premier et deuxième modèles de masque présentant chacun ledit espace différent, dans lequel ledit premier modèle de masque a une forme d'une pluralité de lignes droites parallèles les unes aux autres, et dans lequel ledit 3g deuxiAme module de masque croise ladiL premier module de masque et a une forge d'une plurality de lignes droiLes parallles les unes aux autres. 21. ProcAdA pour fabriguer 1, masque espaces multiples salon la revendicaLion 18, dans laguel la toLaliLA ou une parLie des forges comporLant ladite pluraliLA desdiLes lignes droiLes song de forge ...