FR 2797524 A1 20010216 FR 9910412 A 19990809 CCMJTATEUR STATIQUE BIDIRECTIONEL SENSIBLE La présente invention concerne la réalisation sous forme monolithique de commutateurs bidirectionnels de moyenne puissance. Les commutateurs bidirectionnels statiques les plus courants sont les triacs. Un triac correspond à l'association en antiparallèle de deux thyristors. Il peut donc être connecté directement dans un réseau alternatif, par exemple le secteur. La gâchette d'un triac classique correspond à la gâchette de cathode de l'un au moins des deux thyristors qui le constituent et est référencée à l'électrode située sur la face avant de ce triac, c'est-àdire la face qui comporte la borne de gâchette, alors que c'est l'autre face du triac qui est couramment reliée à un radia- teur et à la masse. On considérera ci-après plus particulièrement des commutateurs bidirectionnels du type décrit dans la demande de brevet européen N 0617277 dont le déclenchement est assuré par application d'une tension entre une électrode de commande située sur la face avant du composant et une électrode principale située sur la face opposée du composant. La figure 1 représente un schéma électrique équivalent d'un tel commutateur bidirectionnel. Une électrode G de commande du conmmutateur bidirectionnel est reliée à l'émetteur d'un tran- sistor bipolaire T dont le collecteur est relié aux gâchettes d'anode de premier et deuxième thyristors Thl et Th2 placés en antiparallèle entre deux bornes Ai et A2. La borne Ai correspond à l'anode du thyristor Thlm et à la cathode du thyristor Th2. La borne A1 est également reliée à la base du transistor T. La borne A2 correspond à l'anode du thyristor Th2 et à la cathode du thy- ristor Thmi. La figure 2 est une vue en coupe schématique d'un exemple de réalisation sous forme monolithique du commutateur bidirectionnel décrit en relation avec la figure 1. Le transistor T est réalisé dans la partie gauche de la figure, le thyristor Thlm au centre et le thyristor Th2 à droite. La structure de la figure 2 est formée à partir d'un substrat semiconducteur 1 faiblement dopé de type N. L'anode du thyristor Thl correspond à une couche 2 de type P qui est formée du côté de la face arrière du substrat 1. Sa cathode correspond à une région 3 de type N formée du côté de la face avant dans un caisson 4 de type P. L'anode du thyristor Th2 correspond à un caisson 5 de type P formé du côté de la face avant et sa cathode correspond à une région 6 de type N formée du côté de la face arrière dans la couche 2. La périphérie de la structure est constituée d'une région 7 de type P fortement dopée s'étendant depuis la face avant jusqu'à la couche 2 de type P. De façon classique, la région 7 est obtenue par diffusion profonde à partir des deux faces du substrat. La face arrière est revêtue d'une métallisation Ml correspondant à la première borne A1 du commutateur bidirectionnel. Les faces supérieures des régions 3 et 5 sont revêtues d'une deuxième métallisation M2 correspondant à la deuxième borne A2 du commutateur bidirectionnel. Une région 8 de type N est formée, du côté de la face avant, dans un caisson 9 de type P en contact avec la région périphérique 7. La surface de la région 8 est solidaire d'une métallisation M3 reliée à la borne de commande G du commutateur bidirectionnel. Une métallisa- tion M4 peut être formée sur la surface supérieure de la région périphérique 7. La métallisation M4 n'est pas connectée à une borne externe. A titre de variante, le caisson 9 peut être séparé de la région périphérique 7 et relié électriquement à celle-ci par l'intermédiaire de la métallisation M4. Le fonctionnement de ce commutateur bidirectionnel est le suivant. Quand la borne A2 est négative par rapport à la borne Al, c'est le thyristor Thl qui est susceptible d'être passant. Si on applique sur la borne G une tension suffisamment négative par rapport à la métallisation Mi, la jonction base-émetteur du tran- sistor T est polarisée en direct et ce transistor devient passant. Il circule donc un courant vertical ic représenté en pointillés en figure 2 depuis la métallisation Mi, à travers la jonction en direct entre la couche 2 et le substrat 1 puis dans les régions 1, 9 et 8 correspondant au transistor T. Il y a donc une génération de porteurs au niveau de la jonction entre le substrat 1 et le caisson 9 près de la jonction entre le substrat 1 et le caisson 4 et le thyristor Thl est mis en état de conduc- tion. On peut également considérer que l'on a provoqué l'amorçage d'un thyristor auxiliaire vertical NPNP comprenant les régions 8- 9-1-2, dont la région 9 constitue la région de gâchette de cathode. De même, dans le cas o la borne A2 est positive par rapport à la borne Ai, l'application d'une tension négative sur la borne G rend passant le transistor T. Les porteurs présent au voisinage de la jonction entre le substrat 1 et la couche 5 entraînent la mise en conduction du thyristor Th2 comme on le comprendra mieux en se référant à la vue de dessus schématique de la figure 4 dans laquelle on voit que la région correspondant au transistor T est voisine d'une portion de chacun des thyristors Thl et Th2. L'expérience montre que ce type de commutateur bidirec- tionnel présente une sensibilité de commande non optimale, c'est- à-dire, notamment que le courant nécessaire à l'amorçage du thyristor Thl est de plusieurs centaines de milliampères. Un objet de la présente invention est de proposer un nouveau mode de réalisation sous forme monolithique d'un commuta- teur bidirectionnel du type susmentionné qui présente une plus grande sensibilité de commande du thyristor Thl. Pour atteindre cet objet, la présente invention prévoit un commutateur bidirectionnel monolithique formé dans un substrat semiconducteur d'un premier type de conductivité ayant une face avant et une face arrière, comprenant un premier thyristor verti- cal principal dont la couche de face arrière est du deuxième type de conductivité, un deuxième thyristor vertical principal dont la couche de face arrière est du premier type de conductivité, un thyristor vertical auxiliaire dont la couche de face arrière est du deuxième type de conductivité et est commune avec celle du premier thyristor, une région périphérique du deuxième type de conductivité reliant notamment la couche de face arrière du thy- ristor auxiliaire à la couche de ce thyristor située de l'autre côté du substrat, une première métallisation du côté de la face arrière, une deuxième métallisation du côté de la face avant reliant les couches de face avant des premier et deuxième thyris- tors. Une région supplémentaire a une fonction d'isolement entre la face arrière du thyristor auxiliaire et ladite métallisation. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la région supplémentaire (10) est en un matériau semiconducteur du premier type de conductivité. Selon un mode de réalisation de la présente invention, l'épaisseur de la région supplémentaire (10) est inférieure à celle de la région de la face arrière du deuxième thyristor vertical principal (Th2). Selon un mode de réalisation de la présente invention, la région supplémentaire (10) est en oxyde de silicium. Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: la figure 1 est un schéma électrique d'un commutateur bidirectionnel classique; la figure 2 est une vue en coupe schématique d'un mode de réalisation classique du commnutateur bidirectionnel de la figure 1; la figure 3 représente une vue en coupe schématique d'un mode de réalisation selon la présente invention du commuta- teur bidirectionnel de la figure 1; et la figure 4 représente un exemple de vue de dessus du commutateur bidirectionnel de la figure 3. Par souci de clarté, les mêmes éléments ont été dési- gnés par les mêmes références aux différentes figures. De plus, comme cela est habituel dans la représentation des circuits inté- grés, les figures 2, 3 et 4 ne sont pas tracées à l'échelle. La figure 3 est une vue en coupe schématique d'un mode de réalisation d'un commutateur bidirectionnel monolithique selon la présente invention. La structure des diverses zones formées dans le substrat semiconducteur 1 est identique à celle illustrée en figure 2. La différence entre les deux figures est qu'il est prévu du côté de la face arrière, entre la couche 2 et la métal- lisation Mi, une région 10 ayant une fonction d'isolement, sensi- blement au droit du thyristor auxiliaire vertical susmentionné. Ceci ressort également de la figure 4 dans laquelle le contour de la région 10 est désigné par un trait en pointillés à la partie inférieure gauche de la figure. La couche 6, non représentée en figure 4, occupe toute la face inférieure à l'exception de la zone située sous le caisson 4 de type P et de la surface occupée par la région 10. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la région 10 est en un matériau semiconducteur dopé de type N. Le fonctionnement du conmmutateur bidirectionnel reste sensiblement similaire à ce qui a été décrit en relation avec la figure 2. Toutefois, le courant de base ib du transistor T, allant de la métallisation Mi vers la région 8 est maintenant dévié par la présence de la région 10, selon le trajet ib de la figure 3. Le courant principal du thyristor auxiliaire vertical est également dévié, comme le montrent les flèches ic. On voit qu'en modifiant les dimensions de la région 10, on favorise le passage du courant ic au voisinage des zones o il est le plus efficace pour provoquer l'amorçage du thyristor Thl, c'est-à-dire près de la limite du caisson 4. Les essais effectués par la demanderesse ont montré que le courant d'amorçage du thyristor Thl est minimisé lorsque la région 10 s'étend jusqu'à être en regard du caisson 4 de type P dans lequel est formée la région 3 de type N constituant la cathode du thyristor Thl. Selon la présente invention, l'épaisseur de la région 10 doit être suffisamment faible pour permettre initialement l'amorçage du transistor T par le passage du courant ib de la couche 2 vers la région 8 par l'intermédiaire de la région péri- phérique 7. En effet, si la région 10 est trop épaisse, l'épais- seur restante de la couche 2 entre cette région 10 et le substrat 1 entraîne l'existence d'une trop forte résistance qui s'oppose à la circulation du courant de base ib. En pratique, l'épaisseur de la région 10 sera infé- rieure à celle de la couche 6. En effet, la couche 6 constitue la cathode du thyristor Th2 et son épaisseur est fixée par les caractéristiques, notamment de courant d'amorçage de ce seul thyristor. L'épaisseur de la couche 6 sera par exemple de l'ordre de 10 à 15 gm, alors que l'épaisseur de la région 10 sera aussi faible que possible. Selon une variante de réalisation de la présente inven- tion, la région 10 est en un matériau isolant, de préférence en oxyde de silicium (SiO2). Bien entendu, la présente invention est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l'homme de l'art. En particulier, la présente invention s'applique à tout type de réalisation sous forme monolithique de la structure de commutateur bidirectionnel ou d'un réseau de conmmutateurs bidi- rectionnels similaires à celui représenté en figure 1. En outre, tous les types de conductivité pourraient être inversés, les polarisations étant alors modifiées de façon correspondante. REVENDICATIONS 1. Commutateur bidirectionnel monolithique formé dans un substrat semiconducteur (1) d'un premier type de conductivité ayant une face avant et une face arrière, comprenant: un premier thyristor vertical principal (Thl) dont la couche de face arrière (2) est du deuxième type de conductivité, un deuxième thyristor vertical principal (Th2) dont la couche de face arrière (6) est du premier type de conductivité, un thyristor vertical auxiliaire dont la couche de face arrière (2) est du deuxième type de conductivité et est commune avec celle du premier thyristor, une région périphérique du deuxième type de conducti- vité reliant notamment la couche de face arrière du thyristor auxiliaire à la couche de ce thyristor située de l'autre côté du substrat, une première métallisation (Ml) du côté de la face arrière, une deuxième métallisation (M2) du côté de la face avant reliant les couches de face avant des premier et deuxième thyristors, caractérisé en ce qu'il comporte une région supplémen- taire (10) ayant une fonction d'isolement entre la face arrière du thyristor auxiliaire et la première métallisation. 2. Commutateur bidirectionnel selon la revendication 1, caractérisé en ce que la région supplémentaire (10) est en un matériau semiconducteur du premier type de conductivité. 3. Commutateur bidirectionnel selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'épaisseur de la région supplémentaire (10) est inférieure à celle de la région de la face arrière du deuxième thyristor vertical principal (Th2). 4. Commutateur bidirectionnel selon la revendication 1, caractérisé en ce que la région supplémentaire (10) est en oxyde de silicium.