FR 2782176 A1 20000211 FR 9910120 A 19990804 UTILISATION D'UN ALCOXY-N-HYDROXYALKYL-ALCANAMIDE, EN TANT QU'AGENT D'ELIMINATION DE RESERVE, COMPOSITION POUR ELIMINER LA RESERVE ET PROCEDE POUR LEUR PREPARATION ET PROCEDE POUR ELIMINER LA RESERVE LES UTILISANT CONTEXTE DE L'INVENTION 1. Domaine de l'invention La présente invention se rapporte à un agent d'élimination de réserve, à une composition pour éliminer la réserve, à un procédé pour leur préparation et à un procédé pour éliminer la réserve les utilisant. En particulier, la présente invention se rapporte à l'utilisation d'un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide en tant qu'agent d'élimination de réserve, une composition pour éliminer la réserve, un procédé pour leur préparation et un procédé pour éliminer la réserve les utilisant. 2. Description de la technique apparentée Le procédé d'élimination de réserve est un procédé majeur dans la préparation d'un dispositif semi- conducteur. Après divers procédés pour préparer un dispositif semiconducteur, par exemple un procédé de gravure (par voie sèche ou humide) ou un procédé d'implantation ionique, un motif de réserve utilisé en tant que masque doit être éliminé. Egalement, dans le cas o le motif de réserve est mal aligné, il doit être éliminé pour former un nouveau motif de réserve. En particulier, diverses couches de matériau différentes, par exemple une couche d'oxyde, une couche d'aluminium, une couche de cuivre, une couche de polysilicium, une couche de siliciure ou une couche de polyimide, peuvent être présentes sous une couche de réserve à éliminer. Par conséquent, une considération importante pour un procédé d'élimination de réserve est l'élimination complète d'une réserve, aussi rapidement que possible, et sans attaque des couches sous-jacentes. Un agent d'élimination de réserve actuellement largement utilisé comprend une amine basique telle que l'hydroxylamine, la diglycolamine, la monoéthanolamine ou la méthyléthanolamine, et un solvant polaire tel que l'eau ou un alcool, à titre de ses composants essentiels. Comme de tels agents d'élimination de réserve conventionnels ne peuvent pas éliminer complètement le polymère, une étape de pré- élimination pour éliminer le polymère est en outre nécessaire. Le polymère est un matériau produit par la réaction de composants constituant le motif de réserve, tels que le carbone (C), l'hydrogène (H) ou l'oxygène (O), et de plasma lorsqu'une gravure par plasma ou une gravure par ions réactifs (RIE) est réalisée pour graver les couches sous-jacentes, utilisant le motif de réserve en tant que masque. En particulier, quand une couche de métal est formée sous le motif de réserve, un polymère organométallique est produit. Si un tel polymère ou polymère organométallique n'est pas éliminé, mais reste dans un trou de contact ou un trou d'interconnexion, la résistance de contact augmente. Ainsi, avant d'utiliser l'agent d'élimination de réserve, un agent de renfort de nettoyage capable d'éliminer le polymère, par exemple une solution d'acide nitrique (HNO3), doit être utilisé pour traiter le substrat durant l'étape de pré- élimination. L'agent d'élimination de réserve conventionnel peut attaquer les couches sous-jacentes. Un exemple caractéristique d'une couche sous-jacente susceptible d'être attaquée est une couche métallique. La raison de ce qui précède est que l'agent d'élimination de réserve est principalement composé d'un solvant basique ou d'eau, qui corrode facilement la couche métallique. Ainsi, une étape de post-élimination pour empêcher l'attaque doit être en outre réalisée avant l'exécution d'une étape de rinçage post- élimination. Dans l'étape de post-élimination, on utilise par exemple de l'alcool isopropylique (IPA). Par conséquent, comme une étape de traitement à l'acide nitrique (à savoir une étape de pré- élimination) et une étape de traitement à l'alcool isopropylique (à savoir une étape de post-élimination) sont en outre réalisées, le procédé d'élimination de réserve devient davantage compliqué et la durée du traitement est prolongée, ce qui diminue par conséquent la productivité. Egalement, comme un matériau de pré- élimination, par exemple l'acide nitrique, et un matériau de post-élimination, par exemple l'alcool isopropylique, sont en outre requis, ainsi que le matériau d'élimination de réserve, les coûts de fabrication augmentent. De plus, comme les divers bains pour l'étape de pré-élimination et pour l'étape de post-élimination sont requis, le dispositif d'élimination de réserve devient encombrant, de façon indésirable. RESUME DE L'INVENTION Un premier objet de la présente invention est de fournir un agent d'élimination de réserve ayant une excellente aptitude à l'élimination d'une réserve et d'un polymère, et qui n'attaque pas les couches sous- jacentes exposées à l'agent d'élimination de réserve. Un deuxième objet de la présente invention est de fournir une composition d'élimination de réserve ayant une excellente aptitude à l'élimination d'une réserve et d'un polymère, et qui n'attaque pas les couches sous-jacentes exposées à l'agent d'élimination de réserve. Un troisième objet de la présente invention est de fournir un procédé pour préparer l'agent d'élimination de réserve. Un quatrième objet de la présente invention est de fournir un procédé pour éliminer une réserve utilisant la composition d'élimination de réserve. Ainsi, pour atteindre les objets ci-dessus et d'autres objets et avantages de la présente invention, on propose un agent d'élimination de réserve comprenant un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide. Selon un autre aspect de la présente invention, la composition d'élimination de réserve comprend un alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide et au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et un inhibiteur d'attaque. Selon un autre aspect de la présente invention, la composition d'élimination de réserve comprend un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide et une alcanolamine. La composition peut en outre comprendre au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et un inhibiteur d'attaque. Selon un autre aspect de la présente invention, le procédé pour préparer l'alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide comprend un mélange d'une alcanolamine et d'un alcoxyalcanoate d'alkyle, et une réaction du mélange de l'alcanolamine et de 1'alcoxyalcanoate d'alkyle. Pour réaliser le quatrième objet, il est fourni un procédé pour éliminer une réserve comprenant les étapes consistant à fournir d'un substrat, à former une réserve sur le substrat, à mettre le substrat en contact avec un agent d'élimination de réserve comprenant un alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide ou une composition d'élimination de réserve afin d'éliminer la réserve du substrat, la composition d'élimination de réserve comprenant un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide et au moins composé choisi dans le groupe constitué par un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3, un inhibiteur d'attaque et une alcanolamine. L'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve selon la présente invention a une excellente aptitude à l'élimination d'une réserve et est capable d'éliminer efficacement un polymère et un polymère organométallique, et n'attaque pas les couches sous-jacentes exposées à l'agent ou à la composition d'élimination de réserve. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS La figure 1 est un organigramme dans lequel les lignes pleines indiquent un procédé d'élimination d'une réserve et d'un polymère utilisant un agent d'élimination de réserve ou une composition d'élimination de réserve selon la présente invention, et les lignes interrompues indiquent les étapes conventionnelles éliminées par l'utilisation de la présente invention; la figure 2 est un schéma de principe d'un dispositif d'élimination de réserve utilisant un agent d'élimination de réserve ou une composition d'élimination de réserve selon la présente invention; la figure 3 est un diagramme schématique d'un dispositif d'élimination de réserve de type horizontal utilisant un agent d'élimination de réserve ou une composition d'élimination de réserve selon la présente invention; la figure 4 un diagramme schématique d'un dispositif d'élimination de réserve de type vertical utilisant un agent d'élimination de réserve ou une composition d'élimination de réserve selon la présente invention; la figure 5 est une photographie prise au microscope électronique à balayage illustrant le résultat de l'élimination du motif de réserve par utilisation de la composition d'élimination de réserve selon la présente invention; la figure 6 est une photographie prise au microscope électronique à balayage illustrant le résultat de l'élimination du motif de réserve par utilisation de la composition d'élimination de réserve conventionnelle; la figure 7 est une vue en coupe droite d'un substrat portant une couche de cuivre qui n'est pas traité avec une composition d'élimination de réserve; la figure 8 est une vue en coupe droite d'un substrat portant une couche de cuivre qui est traité avec une composition d'élimination de réserve selon la présente invention; la figure 9 est une vue en coupe droite d'un substrat portant une couche de cuivre qui est traité avec une composition d'élimination de réserve conventionnelle; la figure 10 est un graphique illustrant le résultat de l'observation de la couche de cuivre formée sur un substrat par spectroscopie électronique Auger avant que le substrat portant une couche de cuivre ne soit traité avec une composition d'élimination de réserve selon la présente invention; la figure 11 est un graphique illustrant le résultat de l'observation de la couche de cuivre formée sur un substrat par spectroscopie électronique Auger après que le substrat portant une couche de cuivre soit traité avec une composition d'élimination de réserve selon la présente invention; et la figure 12 est un graphique illustrant le changement des teneurs en composants de la composition de réserve, mesurées par chromatographie gazeuse pendant 48 heures à intervalles de 8 heures. DESCRIPTION DES MODES DE REALISATION PREFERES On va décrire ci-dessous en détail un agent d'élimination de réserve et une composition d'élimination de réserve selon la présente invention, et on va décrire en détail un procédé pour leur préparation, un procédé d'élimination d'une réserve les utilisant et un dispositif d'élimination de réserve utilisé dans le procédé d'élimination d'une réserve. La présente invention peut être, toutefois, mise en oeuvre sous de nombreuses formes différentes et ne doit pas être considérée comme étant limitée aux modes de réalisation indiqués ici. En fait, ces modes de réalisation sont fournis pour que cette description soit exhaustive et complète et présentent entièrement le cadre de la présente invention à l'homme du métier. Agent d'élimination de réserve Un agent d'élimination de réserve selon la présente invention comprend un alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide. De façon détaillée, l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide est représenté par la formule (I): R4-O-R3-CO-N-R1R2OH (I) dans laquelle RI est un atome d'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C5 (c'est-à-dire un hydrocarbure non cyclique comportant 1 à 5 atomes de carbone) ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; R2 est un hydrocarbure en Cl à C5 ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; et R3 et R4 sont indépendamment un hydrocarbure en C1 à C5. Dans un autre mode de réalisation préféré, R1 est un atome d'hydrogène, R2 est -CH2CH2-, R3 est -CH2CH2- et R4 est -CH3. L'agent d'élimination de réserve selon la présente invention contient de préférence un groupe hydroxy (- OH), un groupe alcoxy (-OR4) et un groupe carbonyle (C=O). Par conséquent, l'agent d'élimination de réserve selon la présente invention est très efficace pour éliminer et dissoudre une réserve et un polymère. Egalement, comme le montre l'équation réactionnelle (1) suivante, l'agent d'élimination de réserve réagit avec un polymère organométallique, permettant ainsi une élimination facile du polymère organométallique de la surface d'un substrat: (Equation réactionnelle 1) O O Mp Il Il / \ Mp + R4-O-R3- C-N-HR20H ---> R4-O-R3-C-N 0 \ / R2 dans laquelle Mp représente un polymère organométallique. Composition d'élimination de réserve Mode de réalisation 1 Une composition d'élimination de réserve selon un premier mode de réalisation de la présente invention comprend un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide et au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et un inhibiteur d'attaque. L'alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide est un composé représenté par la formule (I) décrite ci-dessus. Le matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 présente une solubilité élevée vis-à-vis du polymère réticulé et de la réserve. En d'autres termes, le polymère fortement collé aux parois latérales du motif de réserve et à la surface de la couche sous- jacente exposée peut être efficacement éliminé par un tel matériau polaire. De plus, l'élimination de la réserve est elle- même facilitée par un tel matériau polaire. En ce qui concerne le matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3, on peut employer l'eau, le méthanol ou le diméthylsulfoxyde. L'inhibiteur d'attaque empêche diverses couches exposées à la composition d'élimination de réserve, en particulier les couches métalliques, d'être attaquées. L'inhibiteur d'attaque est représenté par la formule (Ii) suivante: R6(OH) n (II) dans laquelle R6 est un hydrocarbure en C1 à C5, un hydrocarbure en C1 à C5 ayant un groupe -COOH, un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles et un groupe -COOH dans au moins un cycle. L'entier n peut avoir une valeur de 1 à 4, bornes comprises. En particulier, on préfère que R6 soit un cycle benzène et que l'inhibiteur d'attaque soit le catéchol, dans lequel n vaut 2. Egalement, l'acide gallique est un inhibiteur d'attaque largement connu représenté par la formule (II), qui peut être utilisé dans le cadre de la présente invention. Le mécanisme d'inhibition de l'attaque d'une couche métallique est illustré par l'équation réactionnelle (2) suivante dans le cas o l'inhibiteur d'attaque est le catéchol: (Equation réactionnelle 2) OH M + a M M+ OH [j / dans laquelle M représente un métal. Mode de réalisation 2 Une composition d'élimination de réserve selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention comprend l'alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide et une alcanolamine. L'alcanolamine est un composé représenté par la formule (III): R1-NH-R2-OH (III) dans laquelle R1 est un atome d'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; et R2 est un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles. Dans un mode de réalisation préféré, R1 est l'hydrogène et R2 est la monoéthanolamine, c'est-à-dire -CH2CH2-. L'alcanolamine est aussi efficace pour éliminer un polymère organométallique. Le mécanisme d'élimination du polymère organométallique de l'alcanolamine est représenté par l'équation réactionnelle (3) suivante dans le cas de la monoéthanolamine: (Equation réactionnelle 3) Mp / \ Mp + H2NR2OH ---> NH O \ / Rd dans laquelle Mp représente un polymère organométallique. De préférence, la composition d'élimination de réserve selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention comprend en outre au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et un inhibiteur d'attaque. Les compositions d'élimination de réserve selon la présente invention et les pourcentages en poids des divers composants sont exprimés dans le tableau 1 suivant. Dans le tableau 1, les proportions des compositions préférées sont données entre parenthèses. Tableau 1: Compositions d'élimination de réserve Composition alcoxy-NAlcanol- Matériau Inhibiteur d'élimi- hydroxyalkyl- amine (% polaire d'attaque nation de alcanamide (% en (% en (% en réserve en poids) poids) poids) poids) 1 30 à 99,99 0,01 à 70 2 30 à 99,99 0,01 à 70 3 30 à 99,98 0,01 à 40 0,01 à 40 (40 à 60) (20 à 30) (20 à 30) 4 30 à 99,9 0,1 à 70 30 à 99,89 0,1 à 40 0,01 à 30 6 30 à 99,89 0,1 à 40 0,01 à 30 7 30 à 99,88 0,1 à 40 0,01 à 30 0,01 à 30 (40 à 65) (5 à 30) (5 à 20) (5 à 20) Les teneurs des compositions décrites ci-dessus sont des teneurs optimales pour lesquelles une réserve et un polymère peuvent être efficacement éliminés, et la couche sous-jacente à la réserve, par exemple une couche métallique, exposée à un agent d'élimination de réserve ou à une composition d'élimination de réserve est attaquée au minimum par ces compositions. Parmi les compositions ci-dessus, les compositions 3 et 7 qui comprennent à la fois un matériau polaire et un inhibiteur d'attaque sont les plus efficaces pour éliminer une réserve et un polymère. De plus, dans le cas o une couche métallique est sous-jacente à la réserve, elles n'attaquent pas la couche métallique. Toutefois, les compositions 1, 4 et 5, qui ne comprennent pas d'inhibiteur d'attaque, peuvent aussi produire le même effet que les compositions 3 et 7 dans le cas o un matériau habituellement attaqué par une composition d'élimination de réserve, tel qu'une couche métallique, n'est pas exposé à la composition d'élimination de réserve. De plus, les compositions 2, 4 et 6, qui ne comprennent pas de matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3, peuvent aussi produire le même effet que les compositions 3 et 7, dans le cas o l'inhibition de l'attaque d'une couche métallique est un facteur plus important, la quantité de polymère à éliminer est très faible, ou une étape de pré-élimination a été réalisée. Comme décrit ci-dessus, l'agent d'élimination de réserve ou les compositions d'élimination de réserve présentent une excellente aptitude à l'élimination de la réserve et du polymère qui est un sous-produit de gravure. De plus, ils n'attaquent pas la couche sous- jacente à la réserve, par exemple une couche métallique. De plus, les matériaux décrits ci-dessus sont plus économiques que les composants des compositions d'élimination de réserve conventionnelles. Procédé de préparation de l'agent d'élimination de réserve Un alcoxy-Nhydroxyalkyl-alcanamide selon la présente invention est préparé par réaction d'une alcanolamine représentée par la formule (III) et d'un alcoxyalcanoate d'alkyle représenté par la formule (IV) selon l'équation réactionnelle (4) suivante: (Equation réactionnelle 4) NH-R1-R20H + R4-O-R3-COO-R5 --> R4-O-R3-CONR1-R20H + R50H + dans laquelle R1 est un atome d'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C5 ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; R2 est un hydrocarbure en C1 à C5 ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; et R3, R4 et R5 sont indépendamment un hydrocarbure en C1 à C5. L'alcanolamine est de préférence la monoéthanolamine dans laquelle R1 est un atome d'hydrogène, R2 est - CH2CH2-, et l'acoxyalcanoate d'alkyle est de préférence le méthoxypropanoate de méthyle dans lequel R3 est -CH2CH2-, R4 est -CH3 et R5 est -CH3. Ici, pour fournir l'énergie suffisante pour cette réaction, la température réactionnelle est maintenue à une température dans la gamme de la température ambiante jusqu'à environ 120 C. Dans le mode de réalisation préféré du procédé, le mélange est chauffé à une température dans la gamme d'environ 80 C à environ 90 C. Comme le montre l'équation réactionnelle ci- dessus, l'amine (III) est mise à réagir avec un ester (IV) pour produire un amide (I) et un alcool (V). Alors que l'alcool (V) est un alcool en C1 à C5 ayant un bas point d'ébullition, par exemple le méthanol ayant un point d'ébullition d'environ 60 C, l'amide (I) est un matériau ayant un point d'ébullition élevé, par exemple le méthoxy-N-hydroxyéthyl- propaneamide ayant un point d'ébullition d'environ 200 C. Par conséquent, l'alcool (V) est éliminé par une distillation fractionnée pour donner un composé amide (I). De préférence, la distillation fractionnée est réalisée avec un barbotage d'azote dans le bain réactionnel, ou la vaporisation de l'alcool (V) est facilitée par une réduction de la pression du bain réactionnelle. Bien sûr, les deux procédés peuvent être adoptés simultanément. Procédé de préparation d'une composition d'élimination de réserve On prépare les compositions d'élimination de réserve présentées dans le tableau 1 en préparant d'abord l'alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide selon la présente invention de la manière décrite ci- dessus, puis en y mélangeant au moins un matériau choisi dans un groupe constitué par un inhibiteur d'attaque, un matériau ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et une alcanolamine, dans la gamme des teneurs indiquées dans le tableau 1. De plus, on peut préparer les compositions 1 à 7 présentées dans le tableau 1 de la manière suivante. Tout d'abord, on mélange au moins un composant parmi 0,01 à 30% en poids d'un inhibiteur d'attaque et 0,01 à 30% en poids d'un matériau polaire, 10 à 70 % en poids (de préférence 30 à 40% en poids) d'alcanolamine et 10 à 70 % en poids (de préférence 30 à 40% en poids) d'alcoxyalcanoate d'alkyle. On mélange de préférence l'alcanolamine et 1'alcoxyalcanoate d'alkyle dans un rapport de mélange dans lequel la quantité totale d'alcoxyalcaoate d'alkyle puisse réagir complètement avec l'alcanolamine pour être converti en un amide. On maintient la température du mélange à une température située dans une plage allant de la température ambiante à environ 120 C. De préférence, on chauffe le mélange à une température située dans une plage allant d'environ C à environ 90 C. La durée de la réaction est de 1 à 24 heures, de préférence de 1 à 12 heures. Une fois le chauffage terminé, on laisse le réactif seul pendant 1 à 7 heures. L'achèvement de la réaction peut être vérifié visuellement ou par chromatographie gazeuse. Dans la vérification visuelle, on observe la disparition de la séparation de phases des composants au fur et à mesure que la réaction progresse. Quand on observe une disparition complète des couches de composants séparées, on suppose que la réaction est terminée. Quand on analyse la composition en utilisant une chromatographie gazeuse, la surface, exprimée en pourcentage, du N-alcanol-alcoxy- alcanamide, dépassant 80 %, implique l'achèvement de la réaction. La surface en pourcentage est définie comme étant la zone sous le pic du spectre de chromatographie gazeuse associé à un composant, divisée par la somme des zones sous tous les pics de tous les composants, et le quotient est multiplié par 100. Ensuite, afin d'éliminer l'alcool ayant un bas point flash généré en tant que sous-produit, on réalise une distillation fractionnée. On réalise la distillation fractionnée conjointement à un barbotage d'azote dans le bain réactionnel, ou on facilite une vaporisation de l'alcool en réduisant la pression du bain réactionnel. De plus, on peut adopter les deux procédés simultanément. De préférence, on réalise la distillation fractionnée de façon à ce qu'il ne reste que 7 à 8% en poids ou moins d'alcool par rapport à la quantité totale de composition. Procédé pour l'élimination d'une réserve Les étapes d'élimination de la réserve utilisant l'agent d'élimination de réserve et la composition d'élimination de réserve selon la présente invention vont être décrites en référence aux étapes en lignes pleines sur la figure 1. Il est à noter que le procédé conventionnel est représenté par les étapes tant en lignes pleines qu'en lignes interrompues sur la figure 1. On réalise divers procédés pour achever un dispositif semi-conducteur, par exemple un procédé de gravure (par voie sèche ou humide) ou un procédé d'implantation ionique, en utilisant un motif de réserve en tant que masque. Ensuite, on réalise une étape de polissage, qui est un procédé d'élimination du revêtement à sec, sur le substrat lorsque le motif de résine est formé (étape 110). On peut omettre l'étape de polissage. Ensuite, on laisse un substrat, sur lequel est formé le motif de réserve, venir au contact d'un agent d'élimination de réserve ou d'une composition d'élimination de réserve indiquée dans le tableau 1 afin d'éliminer la réserve ou le polymère ou les deux (étape 120). On atteint ceci en plaçant l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve dans un bain et ensuite en immergeant le substrat dans le bain. D'une autre façon, on peut pulvériser l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve sur le substrat en déplaçant le substrat dans la pulvérisation. Dans le cas de l'utilisation de l'agent d'élimination de réserve ou des compositions d'élimination de réserve selon la présente invention, on réalise l'étape d'élimination de réserve à une basse température, d'environ 70 C ou moins, et de façon spécifique dans la plage allant de la température ambiante à 70 C, de préférence de 45 C à 70 C. On préfère un temps de contact situé dans la plage allant d'environ 10 à environ 30 minutes. On peut appliquer l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve selon la présente invention à une réserve convenant à une exposition à une longueur d'onde courte, telle qu'une réserve pour un laser excimer à ArF (193 nm), une réserve pour une source à ligne i conventionnelle (365 nm), ou bien une réserve pour un laser excimer à KrF (248 nm). Après élimination complète de la réserve, on élimine par rinçage (étape 140) l'agent d'élimination de réserve, la composition d'élimination de réserve et la réserve dissoute restant sur le substrat. On réalise l'étape de rinçage en utilisant une solution de rinçage, par exemple de l'eau déminéralisée. Si nécessaire, on peut réaliser l'étape de rinçage en deux étapes. Finalement, on sèche le substrat par un procédé de séchage centrifuge ou un procédé de séchage utilisant de l'alcool isopropylique pour éliminer l'eau déminéralisée restant sur le substrat (étape 150). Après l'étape de séchage 150, on transfère le substrat pour un traitement ultérieur. Quand on utilise encore une réserve dans une étape ultérieure, on élimine ensuite la réserve utilisée par les étapes indiquées sur la figure 1 après achèvement complet de l'étape ultérieure prévue. On termine le dispositif semi-conducteur par de tels procédés de fabrication d'unités et étapes d'élimination de réserve répétés. Comme le montre la figure 1, comme l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve selon la présente invention a uneexcellente aptitude à l'élimination de la réserve ou de polymère, l'étape de pré-élimination 100 (lignes interrompues) n'est pas nécessaire, contrairement au cas de la technique conventionnelle. Egalement, comme la couche sous-jacente à la réserve n'est pas attaquée, l'étape de post-élimination 130 (lignes interrompues) peut être omise, également contrairement au cas de la technique conventionnelle. Ainsi, selon la présente invention, la réserve peut être complètement éliminée par un procédé simple, comparativement au procédé d'élimination de réserve conventionnel. Par conséquent, la productivité de dispositifs semi-conducteurs peut être significativement accrue. Dispositif d'élimination de réserve Comme décrit ci-dessus, comme le procédé d'élimination de réserve est simplifié, le dispositif d'élimination de réserve selon la présente invention peut être rendu plus petit ou plus compact. En référence à la figure 2, un dispositif d'élimination de réserve 200 selon la présente invention comprend simplement une unité d'élimination de réserve 210, une unité de rinçage 220 et une unité de séchage 230. A savoir, l'unité de pré-élimination et l'unité de post-élimination conventionnelles ne sont pas nécessaires. Ainsi, la surface occupée par le dispositif d'élimination de réserve 200 peut être significativement réduite, par comparaison à la technique conventionnelle. Dans le cas o le dispositif d'élimination de réserve 200 emploie un procédé par immersion, les unités 210, 220 et 230 correspondent chacun à un bain indépendant. Ainsi, contrairement à la technique conventionnelle, un bain de traitement à l'acide nitrique (HNO3) de pré-élimination et un bain de traitement à l'alcool isopropylique (IPA) de post- élimination ne sont pas nécessaires, ce qui élimine par conséquent deux bains et réduit significativement la surface occupée par le dispositif d'élimination de réserve 200. Un dispositif d'élimination de réserve employant un procédé par pulvérisation peut être classé en un type horizontal et un type vertical. En référence à la figure 3, un dispositif d'élimination de réserve du type horizontal 300 emploie un moyen de support horizontal 340, par exemple un système convoyeur, une poignée ou un bras, et est divisé en une unité d'élimination de réserve 310, une unité de rinçage 320 et une unité de séchage 330. Une source 360 contenant un agent d'élimination de réserve ou une composition d'élimination de réserve de la présente invention délivre l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve à l'unité d'élimination de réserve 310 par l'intermédiaire d'une unité de délivrance 370. Une source d'unité de rinçage 362 et une source d'unité d'agent siccatif 364 sont aussi reliés respectivement à l'unité de rinçage et à l'unité de séchage 330 par l'intermédiaire de l'unité de délivrance 370. Des buses 312, 322 et 332 sont installées dans les unités pour les matériaux de pulvérisation convenant aux fonctions des unités respectives. En fonctionnement, quand un substrat est chargé dans l'unité d'élimination de réserve 310, un agent d'élimination de réserve ou une composition d'élimination de réserve est pulvérisé depuis la buse 312 pour éliminer la réserve. A ce stade, le substrat est convoyé horizontalement en continu, par le convoyeur 340, vers l'unité de rinçage 320. Une solution de rinçage est pulvérisée dans l'unité de rinçage 320 par l'intermédiaire de la buse 322. Finalement, le substrat est convoyé dans l'unité de séchage 330 par le convoyeur 340 de façon à être ensuite séché par un agent siccatif, tel que l'air ou un produit chimique siccatif dirigé sur le substrat par la buse 332. Comme le dispositif d'élimination de réserve du type horizontal ne comprend que trois unités, la taille du dispositif est significativement réduite. En référence à la figure 4, un dispositif d'élimination de réserve du type vertical 400 emploie un support de substrat mobile verticalement 440. Le type vertical comprend aussi une source 460 de l'agent d'élimination de réserve ou de la composition d'élimination de réserve de la présente invention et une unité de délivrance 470 pour délivrer l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve. Dans le mode de réalisation préféré, le support de substrat 440 peut tourner. Egalement, l'intérieur du dispositif est construit de trois zones avec une structure en plate-forme, verticalement déplacées les unes par rapport aux autres, et non de chambres indépendantes. A savoir, les unités sont composées d'une zone de séchage 430, d'une zone de rinçage 420 et d'une zone d'élimination de réserve 410, en séquence verticale. Une source de solution de rinçage 462 et une source d'agent siccatif 464 sont reliées à une conduite d'alimentation 450 par l'intermédiaire de l'unité de délivrance 470. Dans le mode de réalisation, une conduite d'alimentation unique 450 délivre en séquence les matériaux respectifs à la totalité des trois unités. Quand un substrat (non représenté) sur lequel une réserve est formée est chargé sur le support de substrat 440, le support 440 se déplace d'abord vers une zone o l'élimination de réserve est réalisée et l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve provenant de la source 460 par l'intermédiaire de l'unité de délivrance 470 est pulvérisé par l'intermédiaire de la conduite de délivrance 450. Dans le mode de réalisation préféré, l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve est déchargé vers l'extérieur par l'intermédiaire d'une conduite d'évacuation (non représentée). Quand l'étape d'élimination de réserve est terminée, le support de substrat 440 déplace le substrat vers l'unité de rinçage 420 en descendant. Une solution de rinçage est ensuite pulvérisée dans l'unité de rinçage 420 par l'intermédiaire de la conduite de délivrance 450. Finalement, le substrat est ensuite porté vers l'unité de séchage 430 par le mouvement vertical du support de substrat 440 afin d'être séché. Bien que la figure 4 montre que l'unité de séchage 430, l'unité de rinçage 420 et l'unité d'élimination de réserve 410 sont disposées verticalement en séquence du bas vers le haut, ces unités peuvent être disposées verticalement dans un ordre inverse. Comme le dispositif d'élimination de réserve du type vertical de la présente invention ne comprend également que trois unités, la taille du dispositif est significativement réduite par comparaison à un dispositif du type vertical conventionnel. Les autres détails de la présente invention sont décrits en référence aux exemples suivants, mais on doit comprendre que l'invention n'est pas limitée à ces modes de réalisation spécifiques. Exemple I Préparation de méthoxy-N-hydroxyéthyl-propanamide On mélange 200 ml de monoéthanolamine, à titre d'alcanolamine, et 200 ml de méthoxypropanoate de méthyle, à titre d'ester. Ensuite, on chauffe le mélange à 90 C pendant 5 heures. Après le chauffage, on rétablit les réactifs à la température ambiante pendant heures. On analyse le matériau résultant par chromatographie gazeuse pour déterminer que l'on a obtenu le produit méthoxy-N-hydroxyéthyl-propanamide. De plus, on analyse le produit au moyen d'un spectre de résonance magnétique nucléaire du proton (RMN-1H) par rapport aux quantités de composants en parties par million (ppm). Les données de RMN du produit sont les suivantes: 6,8 ppm (1H), 3,7 à 3,8 ppm (4H), 3,4 à 3,5 ppm (3H) et 2,8 à 2,9 ppm (1H). Exemple II Préparation de méthoxy-N-butylhydroxyéthyl-propanamide On mélange 200 ml de N,N-t-butyl-éthanolamine, à titre d'alcanolamine, et 200 ml de méthoxypropanoate de méthyle, à titre d'ester. Ensuite, on chauffe le mélange à 90 C pendant 5 heures. Après le chauffage, on rétablit les réactifs à la température ambiante pendant 5 heures. On analyse le matériau résultant obtenu par chromatographie gazeuse pour déterminer que l'on a obtenu le produit méthoxy-N-butyl-hydroxyéthyl- propanamide. Exemple III Evaluation d'une température appropriée dans la préparation de méthoxy-Nhydroxyéthyl-propanamide On mélange 200 ml de monoéthanolamine (MEA), à titre d'alcanolamine, et 200 ml de méthoxypropanoate de méthyle (MMP), à titre d'ester. Ensuite, pour déterminer la température convenant à la réaction de l'amine et de l'ester, on synthétise le méthoxy-N- hydroxyéthyl-propanamide à différentes températures, comme le montre le tableau 2, et on mesure le temps nécessaire à l'achèvement de la synthèse. On détermine le temps nécessaire à l'achèvement de la synthèse par le temps écoulé jusqu'à ce que le pourcentage de surface de l'amide (méthoxy-N-hydroxyéthyl-propanamide) dépasse 80 % lors d'une analyse par chromatographie gazeuse. Tableau 2: Températures et durées de réaction pour le méthoxy-N-hydroxyéthyl-propanamide Température de 25 35 45 55 65 80 90 réaction ( C) Durée de réaction (h) 55 24 30 7 6 4 3 A partir du résultat ci-dessus, on comprend que la réaction se déroule à la température ambiante, et que la réaction se déroule plus rapidement à des températures plus élevées. Toutefois, prenant en compte d'autres conditions de traitement, il est préférable que la température de réaction ne dépasse pas 120 C. Ainsi, la température pour la préparation du composé amide selon la présente invention va, de façon souhaitable, de la température ambiante à environ 120 C. Dans le mode de réalisation préféré du procédé, la température de réaction est située dans la plage allant d'environ 80 C à environ 90 C. Exemple IV Préparation d'une composition d'élimination de réserve et évaluation de celle-ci dans l'élimination de la réserve Comme le montre le tableau 3, on prépare sept (7) compositions d'élimination de réserve avec différentes teneurs en MEA, MMP, catéchol et eau. Ensuite, on chauffe les compositions à 80 C pendant 5 heures. Puis on place le matériau résultant à la température ambiante pendant 6 heures. Ensuite, on élimine le méthanol par distillation fractionnée dans laquelle des opérations de barbotage d'azote et de pression réduite sont toutes deux adoptées pour achever les compositions. On prépare de la façon suivante, sur chacune de 7 feuilles de substrats, la réserve devant être éliminée au moyen de la composition d'élimination de réserve décrite ci-dessus. Tout d'abord, on forme des couches de verre de borophosphosilicate (BPSG) sous une épaisseur de 5000 À respectivement sur 7 feuilles de substrats. Puis on forme une couche de titane et une couche de nitrure de titane sous une épaisseur de 200 À chaque, et on chauffe. Ensuite, on dépose une couche d'aluminium sous une épaisseur de 6000 A, après quoi on la laisse s'écouler. On forme une couche de nitrure de titane, servant de couche de recouvrement, sur la couche d'aluminium, et ensuite on forme une couche diélectrique inter-niveaux sous une épaisseur de 10000 A. Puis on dépose une réserve sur la couche diélectrique inter-niveaux et on réalise une photolithographie pour former un motif de réserve définissant un trou d'interconnexion. On cuit le motif de réserve puis on grave la couche diélectrique inter- niveaux, en utilisant le motif de réserve en tant que masque, au moyen d'un agent de gravure de type oxyde tamponné pour former un trou d'interconnexion exposant la couche d'aluminium. Après formation du trou d'interconnexion, on polit et on immerge les 7 substrats dans 7 bains respectifs contenant les 7 compositions respectives indiquées dans le tableau 3. On maintient à 60 C la température des bains. Après 20 minutes d'immersion, on rince les substrats à l'eau pendant 5 minutes et on les sèche, puis on examine les substrats en utilisant un microscope électronique à balayage (MEB). Les substrats sont notés bons, très bons ou excellents sur la base des observations au MEB, et les notes sont indiquées dans le tableau 3 au moyen de symboles. L'état du substrat est caractérisé par les quantités relatives de polymère restant et de réserve restante. Tableau 3: Performances d'élimination de réserve de plusieurs compositions Article MEA (ml) MMP (ml) Catéchol Eau (ml) Observat (g) ions 1 50 350 60 100 O 2 100 300 60 100 O 3 150 250 60 100 T 4 200 200 60 100 T 250 150 60 100 6 300 100 60 100 O 7 350 50 60 100 O (O: bon: très bon; T excellent) L'état "bon" est un état similaire à celui obtenu par utilisation d'une composition d'élimination de réserve conventionnelle EKC-245, l'état "très bon" est un état meilleur que celui du cas conventionnel, et l'état "excellent" indique un état significativement amélioré par rapport au cas conventionnel. EKC-245 est une composition d'élimination de réserve conventionnelle ayant de l'hydroxylamine, de la diglycolamine, du catéchol et de l'eau, à titre de ses composants essentiels. Exemple V Analyse des composants de composition On mélange les composants respectifs dans un rapport indiqué dans le tableau 3, puis on analyse les quantités de composants des compositions respectives après qu'un temps prédéterminé se soit écoulé. Les résultats d'analyse montrent que les compositions respectives comprennent les composants énumérés dans le tableau 4. Tableau 4: Composition des composants Article Méthoxy-N- Mono- Catéchol Eau hydroxyéthyl éthanolamine (% en (% en - propanamine (% en poids) poids poids) (% en poids) 1 71,9 0,1 13 15 2 67 5 13 15 3 62 10 13 15 4 55 17 13 15 47 25 13 15 6 42 30 13 15 7 32 40 13 15 Exemple VI Evaluation du temps de traitement approprié Pour vérifier le temps de traitement approprié, on utilise la composition correspondant au numéro d'article 4 dans le tableau 4, et on élimine la réserve à différents temps de traitement, comme l'indique le tableau 5. Les autres conditions de traitement sont les mêmes que celles de l'exemple IV. On observe, en utilisant un MEB, l'état d'élimination de la réserve et l'état d'attaque de la couche d'aluminium et de la couche de silicium. Tableau 5: Performance d'élimination de réserve en fonction du temps Article Temps de Observations d'aptitude Attaque ou traitement à l'élimination de non (Al, (min) réserve Si) 1 10 a X 2 15 T X 3 20 T X 4 25 T X 30 T X (: très bon; T: excellent) Les symboles du Tableau 5 représentant l'état d'élimination observé sont les mêmes que dans le tableau 3. Dans le tableau 5, une X indique que la couche sous-jacente n'est pas attaquée. D'après les résultats présentés dans le tableau 5, on observe que le temps de réaction le plus approprié pour éliminer la réserve comprend des temps allant de à 30 minutes et que la couche sous-jacente n'est absolument pas attaquée. Exemple VII Evaluation de la température de traitement appropriée Pour vérifier la température de traitement appropriée, on utilise la composition correspondant au numéro d'article 4 dans le tableau 4, et on élimine la réserve à différentes températures de traitement, comme l'indique le tableau 6. Les autres conditions de traitement sont les mêmes que celles de l'exemple IV. On observe, en utilisant un MEB, l'état d'élimination de la réserve et l'état d'attaque de la couche d'aluminium et de la couche de silicium. Tableau 6: Performance d'élimination de réserve en fonction de la température Article Température Observations Attaque ou de d'aptitude à non (Al, traitement l'élimination de Si) ( C) réserve 1 45 T X 2 50 T X 3 55 T X 4 60 T X 65 T X 70 T X * Les symboles dans le tableau 6 sont les mêmes que ceux dans le tableau 5. D'après le résultat présenté dans le tableau 6, on observe que l'élimination de la réserve a lieu rapidement dans la plage des températures plus basses, allant d'environ 45 C à environ 70 C. Exemple VIII Comparaison d'aptitude à l'élimination de réserve On forme un trou d'interconnexion en utilisant un motif de réserve de la même façon que dans l'exemple IV, on élimine la réserve avec la composition correspondant au numéro d'article 4 indiqué dans le tableau 4, la durée de traitement est de 20 minutes, et la température de réaction est de 60 C. On observe le matériau résultant en utilisant un MEB, et les résultats de l'observation sont présentés sur la figure 5. Dans un exemple comparatif, on élimine la réserve en utilisant la composition d'élimination de réserve conventionnelle EKC-245, les autres conditions étant les mêmes que celles des exemples décrits ci-dessus, puis on observe le matériau résultant en utilisant un MEB. Les résultats de l'observation sont présentés sur la Figure 6. Quand on compare les photographies au MEB présentées sur les figures 5 et 6, on peut voir que la réserve est complètement éliminée quand on utilise la composition d'élimination de réserve selon la présente invention, tandis que la réserve reste en partie quand on utilise la composition d'élimination de réserve conventionnelle, par exemple EKC-245. Egalement, alors que la couche d'aluminium sous- jacente n'est pas attaquée dans la présente invention, la couche d'aluminium est partiellement attaquée dans le cas de l'utilisation EKC-245. Exemple IX Mesure de l'effet d'une attaque sur une couche de cuivre Comme le montre la figure 7, pour déterminer l'effet d'une attaque sur une couche de cuivre à laquelle on a porté une attention particulière à titre de couche d'interconnexion de la génération suivante, on forme d'abord une couche de BPSG 1200 sur chacun d'une pluralité de substrat 1100 sous une épaisseur de 5000 A, puis on réalise un motif sur la couche de BPSG de chaque substrat en utilisant une photolithographie, de façon à former une pluralité de trous de contact. Ensuite, on forme en séquence des couches de titane/nitrure de titane 1300 et 1350, jouant le rôle de couche métallique de barrière, sur la surface des trous de contact respectivement sous une épaisseur de A, puis on forme une couche de cuivre 1400 remplissant les trous de contact respectifs sous une épaisseur de 10000 A. Ensuite, on répartit la pluralité de substrats en trois groupes A, B et C. On ne traite pas le groupe A avec une composition d'élimination de réserve quelconque, on immerge le groupe B dans une composition d'élimination de réserve correspondant au numéro d'article 4 présenté dans le tableau 4 à 65 C pendant minutes, et on immerge le groupe C dans une composition d'élimination de réserve conventionnelle (EKC-245) à 65 C pendant 100 minutes. On observe en continu certains substrats de chaque groupe en utilisant une SEB. La figure 7 présente le cas o un substrat n'est pas traité avec une composition d'élimination de réserve (groupe A), et la figure 8 présente le cas o un substrat est traité avec une composition d'élimination de réserve selon la présente invention (groupe B). Dans le cas de l'utilisation de la composition d'élimination de réserve selon la présente invention, on obtient le même résultat que dans le cas o l'on ne traite pas le substrat avec une composition d'élimination de réserve, ce qui est le résultat recherché. En d'autres termes, on détermine que la composition d'élimination de réserve selon la présente invention n'attaque absolument pas la couche de cuivre. Toutefois, dans le cas de l'utilisation d'une composition d'élimination de réserve conventionnelle (groupe C), comme le montre la figure 9, la couche de cuivre est attaquée si sévèrement que la couche de cuivre est pratiquement entièrement éliminée. D'après les résultats présentés sur les figures 7 à 9, on peut calculer les taux de gravure de la couche de cuivre. Les taux de gravure calculés sont énumérés dans le tableau 7 suivant. Tableau 7: Taux de gravure de la couche de cuivre Groupe A B C Taux de gravure (A/min) 0 0 > 1000 Pour déterminer l'effet de la composition d'élimination de réserve selon la présente invention sur la surface de la couche de cuivre, on analyse par spectroscopie électronique Auger la surface d'une couche de cuivre du groupe A (sans traitement avec une composition d'élimination de réserve) et la surface d'une couche de cuivre du groupe B (avec un traitement avec la composition d'élimination de réserve selon la présente invention), et les résultats d'analyse sont présentés respectivement sur les figures 10 et 11. Comme le montrent les figures 10 et 11, la composition d'élimination de réserve selon la présente invention ne présente aucun effet sur la couche de cuivre, comme les spectres électroniques Auger présentés sur les figures 10 et 11 sont essentiellement les mêmes. Exemple X Analyse des composants de composition d'élimination de réserve On analyse par chromatographie gazeuse la quantité de composants de la composition d'élimination de réserve correspondant au numéro d'article 4 indiqué dans le tableau 4, à intervalles de 8 heures. Les résultats de l'analyse sont présentés sur la figure 12, dans laquelle -M- est le pourcentage de surface de l'amide, -A- est le pourcentage de surface de la monoéthanolamine, et -X- est le pourcentage de surface du méthoxypropanoate de méthyle, respectivement. D'après les résultats présentés sur la figure 12, on observe que le pourcentage de surface de l'amide est constant, à environ 80 %, même après que 48 heures se sont écoulées. Egalement, le pourcentage de surface de la monoéthanolamine est constant, à 3,4. Le pourcentage de surface du méthoxypropanoate de méthyle est réduit de 0,9 à 0,5 après écoulement de 24 heures, jusqu'à ce qu'il devienne pratiquement de 0 après 40 heures. Egalement, on comprendra que la composition selon la présente invention, qui a subi complètement la réaction et qui s'est stabilisée, contient de l'amide, de l'amine, du catéchol et de l'eau. Si l'on considère que le composant actif principal de la composition selon la présente invention est l'amide, un faible changement de la teneur en l'amide même après 48 heures implique que la composition selon la présente invention n'est pas rapidement consommée dans le procédé et peut être utilisée pendant longtemps. Ceci signifie que la composition selon la présente invention peut augmenter la productivité et peut réduire de façon significative les coûts de fabrication, contrairement à la composition d'élimination de réserve conventionnelle EKC-245 qui doit être remplacée toutes les 24 heures. Le composé amide selon la présente invention a une excellente aptitude à l'élimination d'une réserve. Ainsi, l'agent d'élimination de réserve ayant le composé amide ou la composition d'élimination de réserve selon la présente invention a une excellente aptitude à l'élimination d'une réserve et peut efficacement éliminer un polymère et un polymère organométallique. Egalement, la couche sous-jacente à la réserve peut ne pas être attaquée. Par conséquent, quand on utilise l'agent d'élimination de réserve ou la composition d'élimination de réserve selon la présente invention, il n'est pas nécessaire de réaliser une étape de pré-élimination pour éliminer le polymère et une étape de post-élimination pour empêcher l'attaque de la couche sous-jacente. Ainsi, le procédé d'élimination de réserve peut être simplifié et la durée du traitement peut être réduite. Egalement, la température nécessaire à l'élimination de la réserve peut être établie à une température plus basse. En outre, le dispositif d'élimination de réserve peut être simplifié et peut être rendu plus compact. Il apparaîtra à l'homme du métier que diverses modifications et variations de la présente invention peuvent être réalisées sans s'écarter de l'esprit ou du cadre de l'invention. Ainsi, il est prévu que la présente invention couvre les modifications et variations de cette invention dans la mesure o elles rentrent dans le cadre des revendications annexées et de leurs équivalents. REVENDICATIONS 1. Agent d'élimination de réserve comprenant un alcoxy-N-hydroxyalkylalcanamide. 2. Agent d'élimination de réserve selon la revendication 1, dans lequel l'alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide répond à la formule (I): R4-O-R3-CO-N-R1R2OH (I) dans laquelle: R: est un atome d'hydrogène, un hydrocarbure en Cl à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, R2 est un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, et R3 et R4 sont indépendamment un hydrocarbure en Cl à C5. 3. Agent d'élimination de réserve selon la revendication 2, dans lequel: R1 est l'hydrogène, R2 est -CH.CH2-, R3 est -CH2CH2-, et R4 est -CH3. 4. Composition d'élimination de réserve, comprenant: un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide; et au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et un inhibiteur d'attaque. 5. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 4, dans laquelle l'alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide répond à la formule (I): R4-O-R3-CO-N-R1R2OH (I dans laquelle: R1 est l'hydrogène, un hydrocarbure en Cl à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, R2 est un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, et R3 et R4 sont indépendamment un hydrocarbure en C1 à C5. 6. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 4, dans laquelle le matériau polaire est un élément choisi dans le groupe constitué par l'eau, le méthanol et le diméthylsulfoxyde. 7. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 4, dans laquelle l'inhibiteur d'attaque est un composé représenté par la formule (II): R6-(OH)n (II) dans laquelle: R6 est un hydrocarbure en Cl à C5, un hydrocarbure en Ci à C5 ayant un groupe -COOH, un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles et un groupe -COOH dans au moins un cycle, et n est un entier de 1 à 4. 8. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 4, dans laquelle l'alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide est présent dans une gamme d'environ 30 à environ 99,9% en poids de la composition d'élimination de réserve. 9. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 4, dans laquelle le matériau polaire et l'inhibiteur d'attaque sont, indépendamment, dans une gamme d'environ 0,01 à environ 30% en poids de la composition d'élimination de réserve. 10. Composition d'élimination de réserve comprenant: un alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide; et une alcanolamine. 11. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 10, comprenant en outre au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et un inhibiteur d'attaque. 12. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 10, dans laquelle l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide répond à la formule (I): R4-O-R3-CO-N-R1R2OH (I dans laquelle: R1 est un atome d'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, R2 est un hydrocarbure en Cl à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, et R3 et R4 sont indépendamment un hydrocarbure en Cl à Cs. 13. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 10, dans laquelle l'alcanolamine répond à la formule (III): R1-NH-R2-OH (III dans laquelle: R1 est l'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; et R2 est un hydrocarbure en Cl à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles. 14. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 11, dans laquelle le matériau polaire est un élément choisi dans un groupe constitué par l'eau, le méthanol et le diméthylsulfoxyde. 15. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 11, dans laquelle l'inhibiteur d'attaque est un composé représenté par la formule (II): R6-(OH)n (II) dans laquelle: R6 est un hydrocarbure en Cl à C5, un hydrocarbure en C1 à C5 ayant un groupe -COOH, un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles et un groupe -COOH dans au moins un cycle, et n est un entier de 1 à 4. 16. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 10, dans laquelle l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide est présent dans une gamme d'environ 30 à environ 99,9% en poids de la composition d'élimination de réserve. 17. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 10, dans laquelle l'alcanolamine est présente dans une gamme d'environ 0,1 à environ 70% en poids de la composition d'élimination de réserve. 18. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 11, dans laquelle le matériau polaire et l'inhibiteur d'attaque sont, indépendamment, dans une gamme d'environ 0,01 à environ 30% en poids de la composition d'élimination de réserve. 19. Composition d'élimination de réserve selon la revendication 11, dans laquelle l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide, l'alcanolamine, le matériau polaire et d'inhibiteur d'attaque sont respectivement dans une gamme d'environ 40 à environ 65% en poids de la composition d'élimination de réserve, dans une gamme d'environ 5 à environ 30% en poids de la composition d'élimination de réserve, dans une gamme d'environ 5 à environ 20% en poids de la composition d'élimination de réserve, et dans une gamme d'environ 5 à environ 20% en poids de la composition d'élimination de réserve. 20. Procédé de préparation d'un alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide comprenant: un mélange d'une alcanolamine et d'un alcoxyalcanoate d'alkyle; et une réaction du mélange de l'alcanolamine et de l'alcoxyalcanoate d'alkyle pour former l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide. 21. Procédé selon la revendication 20, dans lequel, pendant ledit mélange, l'alcanolamine répond à la formule (III): R1-NH-R2-OH (III) dans laquelle: R1 est l'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; et R2 est un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles et l'alcoxyalcanoate d'alkyle répond à la formule (IV): R4-O-R3-COO-R5 (IV) dans laquelle R3, R4 et R5 sont indépendamment un hydrocarbure en C1 à C5. 22. Procédé selon la revendication 21, dans lequel, pendant ledit mélange, l'alcanolamine est dans une gamme d'environ 10 à environ 70% en poids de la composition d'élimination de réserve et l'alcoxyalcanoate d'alkyle est dans une gamme d'environ à 70% en poids de la composition d'élimination de réserve. 23. Procédé selon la revendication 20, comprenant en outre, pendant ledit mélange, un mélange d'au moins un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3 et d'un inhibiteur d'attaque. 24. Procédé selon la revendication 23, dans lequel, pendant ledit mélange, le matériau polaire et l'inhibiteur d'attaque sont, indépendamment, dans une gamme d'environ 0,01 à environ 30% en poids de la composition d'élimination de réserve. 25. Procédé selon la revendication 20, dans lequel ladite réaction est réalisée à une température dans une plage allant de la température ambiante à environ 120 C. 26. Procédé selon la revendication 25, comprenant en outre, après ladite réaction, une élimination de l'alcool produit à titre de sous- produit de la réaction. 27. Procédé d'élimination de réserve comprenant les étapes consistant à: fournir un substrat; former une réserve sur le substrat; et mettre le substrat en contact avec un agent d'élimination de réserve comprenant un alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide ou une composition d'élimination de réserve afin d'éliminer la réserve du substrat, la composition d'élimination de réserve comprenant un alcoxy-N-hydroxyalkyl- alcanamide et au moins un composé choisi dans un groupe constitué par un matériau polaire ayant un moment dipolaire supérieur ou égal à 3, un inhibiteur d'attaque et une alcanolamine. 28. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, l'alcoxy-N-hydroxyalkyl-alcanamide répond à la formule (I): R4-O-R3-CO-N-R1R2OH (I) dans laquelle: R1 est l'hydrogène, un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, R2 est un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, et R3 et R4 sont indépendamment un hydrocarbure en Cl à C5. 29. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, le matériau polaire est un élément choisi dans un groupe constitué par l'eau, le méthanol et le diméthylsulfoxyde. 30. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, l'inhibiteur d'attaque est un composé représenté par la formule (II): R6- (OH)n (II) dans laquelle: R6 est un hydrocarbure en Cl à C5, un hydrocarbure en C1 à C5 ayant un groupe -COOH, un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles et un groupe -COOH dans au moins un cycle, et n est un entier de 1 à 4. 31. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, l'alcanolamine répond à la formule (III): R1-NH-R2-OH (III) dans laquelle: RI est l'hydrogène, un hydrocarbure en Cl à C^, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles; et R2 est un hydrocarbure en C1 à C5, ou un hydrocarbure aromatique ayant de 1 à 3 cycles. 32. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide est dans une gamme d'environ 30 à environ 99, 9% en poids de la composition d'élimination de réserve. 33. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, le matériau polaire et l'inhibiteur d'attaque sont, indépendamment, dans une gamme d'environ 0,01 à environ 30% en poids de la composition d'élimination de réserve. 34. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, l'alcanolamine est dans une gamme d'environ 0,1 à environ 70% en poids de la composition d'élimination de réserve. 35. Procédé selon la revendication 27, dans lequel, pendant ladite mise en contact, l'alcoxy-N- hydroxyalkyl-alcanamide, l'alcanolamine, le matériau polaire et l'inhibiteur d'attaque sont respectivement dans une gamme d'environ 40 à environ 65% en poids de la composition d'élimination de réserve, dans une gamme d'environ 5 à environ 30% en poids de la composition d'élimination de réserve, dans une gamme d'environ 5 à environ 20% en poids de la composition d'élimination de réserve, et dans une gamme d'environ 5 à environ 20% en poids de la composition d'élimination de réserve. 36. Procédé selon la revendication 27, comprenant en outre, après ladite mise en contact: le rinçage du substrat; et le séchage du substrat. 37. Procédé selon la revendication 36, comprenant en outre, avant ladite mise en contact, un polissage du substrat. 38. Procédé selon la revendication 27, dans lequel ladite mise en contact est réalisée à une température dans une plage allant d'environ 45 C à environ 700C.