FR 2777914 A1 19991029 FR 9805301 A 19980428 l 2777914 L'invention concerne un dispositif pour le dépôt par voie électrolytique d'un revêtement métallique sur une pièce de révolution de grandes dimensions servant de cathode et dont la surface à revêtir comprend au moins une portion de la surface extérieure de ladite pièce de révolution. Plus particulièrement, l'invention concerne un dispositif du type qui comprend un système d'anodes, une enceinte contenant un électrolyte, des moyens d'alimentation en électrolyte, des moyens d'évacuation de l'électrolyte débouchant dans ladite enceinte, et des moyens de circulation continue de l'électrolyte entre lesdits moyens d'évacuation et lesdits moyens d'alimentation. Ce type de dispositif évite le transfert de la pièce de cuve en cuve. Il existe de multiples situations dans lesquelles il est nécessaire de procéder à un dépôt d'un revêtement métallique sur une pièce de révolution de grandes dimensions. Ainsi, par exemple, dans le cas des turbines, les disques de rotor doivent être régulièrement réajustés à leurs côtes initiales en raison de l'usure inhérente à leur mouvement et de l'atmosphère corrosive dans laquelle ils sont placés en permanence. Il en est de même pour le revêtement de viroles de grande dimensions. Les procédé et dispositif de l'art antérieur utilisaient une série de cuves contenant chacune un liquide correspondant à l'une des étapes du dépôt électrolytique, ces cuves devant avoir des dimensions supérieures à celles de la pièce afin de pouvoir la contenir. Ce dispositif de l'art antérieur, particulièrement encombrant, ne permet pas de réaliser de façon fiable un dépôt présentant une épaisseur et une qualité constantes sur toute la zone revêtue de la pièce. Afin de pallier certains inconvénients du procédé et du dispositif de l'art antérieur, il a été proposé de mettre en rotation les pièces à traiter. Cette solution ne permet pourtant pas de résoudre tous les inconvénients de l'art antérieur, notamment les irrégularités du dépôt réalisé, et elle ralentit la vitesse de déposition lorsque la pièce est partiellement immergée. 2 2777914 L'invention vise à fournir un dispositif pour le dépôt par voie électrolytique d'un revêtement métallique sur une pièce de révolution grandes dimensions servant de cathode et dont la surface à revêtir comprend au moins une portion de la surface extérieure de ladite pièce de révolution, ledit dispositif permettant d'obtenir, à moindre coût et de façon techniquement aussi simple que possible, un revêtement métallique relativement épais (entre 0,01 et plusieurs millimètres), relativement uniforme et présentant des propriétés physiques sensiblement homogènes et reproductibles. A cette fin, le dispositif selon la présente invention se caractérise en ce qu'il comprend: - une embase pour supporter ladite pièce en maintenant son axe de révolution vertical, - au moins une paroi de révolution coaxiale avec ladite pièce et constituant une paroi complémentaire de la surface à revêtir et de l'embase pour délimiter ladite enceinte, et - des moyens d'étanchéité placés entre ladite embase et, d'une part, ladite pièce et, d'autre part, ladite paroi complémentaire. On comprend que, grâce à l'invention, on réalise un dispositif pour le dépôt par voie électrolytique d'un revêtement métallique sur une pièce de révolution de grandes dimensions dans lequel on limite de façon considérable le volume de l'enceinte devant être remplie d'électrolyte, ladite enceinte étant restreinte à un volume annulaire délimité par la surface extérieure de la pièce de révolution, l'embase et la paroi complémentaire avantageusement placée de façon coaxiale autour de la pièce de révolution. Ainsi, du fait que la surface à revêtir constitue une portion de la paroi de l'enceinte, la pièce à traiter n'est pas déplacée au cours des différentes étapes du procédé permettant d'obtenir le dépôt, les différents bains et/ou électrolytes circulant successivement autour de la surface à revêtir de ladite pièce. 3 2777914 Selon une forme de réalisation préférée, ledit système d'anodes comprend un rideau d'anodes placé de façon coaxiale entre ladite surface à revêtir et ladite paroi complémentaire, à une distance sensiblement constante de ladite surface. De cette manière, le positionnement relatif entre les anodes et la cathode, s formée par la pièce elle-même, reste constant pendant toute la durée du dépôt, l'agencement géométrique coaxial facilitant en outre la reproductibilité du dépôt. Selon une caractéristique complémentaire importante, le dispositif selon la présente invention comprend en outre au moins une paroi intermédiaire de révolution amovible depuis le dessus de l'enceinte et destinée à se positionner de i0 façon coaxiale entre ledit système d'anodes et ladite pièce, ladite paroi intermédiaire reposant sur ladite embase, avec interposition de moyens d'étanchéité, de façon à diviser ladite enceinte en deux compartiments étanches. Grâce à cette disposition, il est possible de faire circuler un certain nombre de produits liquides autour de la pièce à traiter, sans que ces liquides n'atteignent le système d'anodes ainsi protégé par la paroi intermédiaire. On peut donc ainsi réaliser des étapes de préparation (dégraissage, décapage...) et de dépôt sur la surface à revêtir de la pièce sans toucher au système d'anodes, de sorte que la géométrie anodecathode est maintenue constante tout au long de la réalisation du dépôt du revêtement métallique par voie électrolytique. Afin de faciliter la reproductibilité du dépôt et le positionnement coaxial entre la pièce à traiter, d'une part, et la paroi de révolution, le système d'anodes ou la paroi intermédiaire, d'autre part, le dispositif selon la présente invention comprend avantageusement des moyens de positionnement de la pièce par rapport à ladite embase et au moins des moyens de repérage (angulaire et radial) de la position de la paroi de révolution et de la paroi intermédiaire par rapport à ladite embase. Selon une caractéristique avantageuse, il est prévu que lesdits moyens d'alimentation en électrolyte débouchent au moins partiellement dans la partie basse de l'enceinte, à une hauteur inférieure à celle de ladite pièce. Ainsi, dans le cas o 4 2777914 les moyens d'alimentation en électrolyte fonctionnent en continu, la disposition précitée permet une circulation d'électrolyte ascendante le long de la surface de la pièce, assurant au mieux l'évacuation des bulles de gaz formées pendant les étapes de préparation du substrat et de dépôt, ces bulles de gaz devant être évacuées pour éviter la présence de piqûres au sein de la couche de revêtement formée par électrolyse. Afin d'assurer un dépôt relativement régulier et homogène sur toute la surface à revêtir de ladite pièce, le dispositif selon la présente invention comprend en outre des moyens d'agitation de l'électrolyte dans l'enceinte et des moyens de régulation et de contrôle de la température et du pH de l'électrolyte à l'intérieur de ladite enceinte. La surface à revêtir peut présenter, outre une surface cylindrique de section circulaire, au moins une zone angulaire telle qu'un retour à angle droit. Une telle géométrie a pour effet de former des lignes de courant n'ayant pas une densité égale dans toute l'enceinte, la forte concentration des lignes de courant dans certaines zones de l'enceinte tendant à l'augmentation de l'épaisseur du dépôt à proximité de ces zones (effet de pointe), ce qui est fortement préjudiciable au résultat souhaité, à savoir un dépôt sensiblement régulier, homogène et isotrope, du point de vue géométrique et physique, sur toute la surface à revêtir. Pour pallier cet inconvénient, le dispositif selon la présente invention comprend en outre des moyens de modification, au moins locale, de la densité de courant à l'intérieur de ladite enceinte. Ces moyens de modification peuvent être de nature diverse. Les moyens énoncés ci-après sont formés d'un dispositif de masques réglable (forme et position) pour lequel plusieurs solutions, éventuellement combinables, sont possibles - selon une première variante, lesdits moyens de modification comprennent au moins un premier élément passif réglable formant écran pour ladite pièce (masque de pièce), pouvant être placé précisément dans ladite enceinte, en position 2777914 coaxiale avec ladite pièce, en regard et à proximité d'une zone angulaire de la surface à revêtir, afin d'éviter une épaisseur trop importante du dépôt sur ladite zone angulaire; - selon une deuxième variante, pouvant éventuellement compléter la première variante précitée, lesdits moyens de modification comprennent au moins un deuxième élément passif réglable formant écran d'anode (masque d'anode), pouvant être placé précisément dans ladite enceinte, en position coaxiale avec ladite pièce, entre ladite pièce et ledit système d'anodes, à proximité d'une portion de surface dudit système d'anodes ne se trouvant pas en regard de ladite surface à revêtir; - selon une troisième variante, pouvant éventuellement compléter la deuxième variante précitée, lesdits moyens de modification comprennent au moins un élément actif, formant une cathode auxiliaire, pouvant être placé précisément dans ladite enceinte, en position coaxiale avec ladite pièce, en regard et à proximité d'une zone angulaire de la surface à revêtir, afin d'éviter une épaisseur trop importante du dépôt sur ladite zone angulaire du fait d'une concentration importante des lignes de courant autour dudit élément actif. On comprend que, selon les deux premières variantes précitées, les moyens de modification consistent en un masque formant un obstacle physique dans l'enceinte et qui perturbe la répartition des lignes de courant entre la pièce formant cathode et ledit système d'anodes. Dans le cas de la troisième variante, les moyens de modification sont constitués d'un élément actif soumis à un potentiel, cette cathode auxiliaire ainsi formée déviant une partie des lignes de courant. Cette concentration relativement importante des lignes de courant à proximité de la cathode auxiliaire évite tout effet de pointe sur la zone angulaire de la surface à revêtir, la cathode auxiliaire, placée à proximité de cette zone angulaire, recevant, sur toute sa surface, une couche métallique issue du système d'anodes et/ou du bain, la cathode auxiliaire étant remplacée pour chaque nouveau dépôt. La présente invention a également pour objet un procédé pour le dépôt par voie électrolytique de revêtement métallique sur au moins une portion de la surface extérieure d'une pièce de révolution de grandes dimensions servant de cathode. Le procédé selon la présente invention se caractérise en ce qu'il comprend les étapes suivantes: -on centre ladite pièce sur une embase, avec interposition de moyens d'étanchéité, ladite embase maintenant l'axe de révolution de ladite pièce vertical, - on dispose au moins une paroi de révolution, coaxiale avec ladite pièce, sur ladite embase, avec interposition de moyens d'étanchéité, ladite paroi de révolution constituant une paroi complémentaire de ladite surface à revêtir et de ladite embase pour constituer une enceinte, - on remplit ladite enceinte d'un électrolyte circulant entre des moyens d'alimentation et des moyens d'évacuation de l'électrolyte, et - on fait circuler un courant électrique entre un rideau d'anodes, placé à une distance constante autour de l'axe de la pièce, et ladite pièce servant de cathode. De manière plus générale, la présente invention concerne également une installation pour le dépôt par voie électrolytique de revêtement métallique sur des pièces de révolution de grandes dimensions servant de cathode dont la surface à revêtir délimite au moins partiellement une enceinte contenant un électrolyte. Cette installation comporte au moins un dispositif tel que présenté précédemment et se caractérise en ce qu'elle comporte en outre un système central relié au moins audit dispositif par l'intermédiaire de circuits électriques, un desdits circuits amenant le courant d'électrolyse à la (ou aux) cathode(s) et au système d'anodes, et de circuits hydrauliques et pneumatiques débouchant dans l'enceinte, et présentant - une série de réservoirs de liquides, notamment un réservoir d'électrolyte, - une source d'alimentation électrique, - une unité de contrôle-commande et de gestion des flux reliée auxdits réservoirs, à ladite source et auxdits circuits afin de permettre successivement la distribution et 7 2777914 le retour programmés d'au moins un desdits liquides entre ledit dispositif et ledit réservoir correspondant, et - des moyens de mesure et de détection asservis à ladite unité de contrôle- commande. L'invention sera mieux comprise et des caractéristiques secondaires et leurs avantages apparaîtront au cours de la description d'un mode de réalisation donnée ci-dessous à titre d'exemple. Il est entendu que la description et les dessins ne sont donnés qu'à titre indicatif et non limitatif Il sera fait référence aux dessins annexés dans lesquels: - la figure 1 est une vue en coupe verticale d'un dispositif selon l'invention représenté pendant une phase de préparation de la pièce, sur la partie gauche de la figure, et pendant la phase de dépôt par voie électrolytique du revêtement métallique, sur la partie droite; - la figure 2 comporte les deux demi-vues de la figure 1, en élévation depuis le dessus dudit dispositif selon l'invention, le couvercle ayant été retiré; et - la figure 3 est un diagramme illustrant de façon schématique une installation pour le dépôt par voie électrolytique intégrant le dispositif des figures 1 et2. Sur la figure 1, on a représenté une virole cylindrique 10 constituant la pièce de révolution de grandes dimensions à traiter. Cette pièce 10 comporte un alésage 12, une surface extérieure cylindrique 14 et deux surfaces annulaires supérieure 16 et inférieure 18. Le dispositif 20 selon la présente invention permet le dépôt par voie électrolytique d'un revêtement métallique sur la surface extérieure cylindrique 14 et sur les deux retours à angle droit 16a et 18a, appartenant aux surfaces annulaires 16 et 18 et qui sont adjacents à ladite surface extérieure 14. Le dispositif 20 selon la présente invention comporte une embase 22 reposant sur le sol et composée d'un socle 24, directement en contact avec le sol, 8 2777914 d'une première pièce de support 26 en forme de disque surmontant ledit socle 24 et sur laquelle est posée une deuxième pièce de support 28 surmontée de ladite pièce à traiter. La deuxième pièce de support 28 présente sensiblement la forme d'un cylindre droit dont le diamètre extérieur D2 est largement inférieur au diamètre extérieur D1 de la première pièce de support 26 et est légèrement inférieur au diamètre extérieur D de la pièce 10 afin de laisser saillant le retour à angle droit 18a. La surface inférieure 26a de la première pièce de support 26 est sensiblement plane alors que la surface supérieure 26b présente une partie centrale plane 29 sur laquelle repose la deuxième pièce de support et une partie périphérique comportant deux surfaces annulaires concentriques 30 et 32 légèrement inclinées vers le bas en direction de la partie centrale 29 de la première pièce de support 26. D'une façon générale, le dispositif 20 selon la présente invention présente une symétrie de révolution autour d'un axe central vertical Z. Le dispositif 20 présente en outre une première paroi 34 de révolution qui est coaxiale avec la pièce 10, possède un diamètre extérieur D3 au plus égal à DI et largement supérieur à D, cette première paroi 34 formant une virole de tôle délimitant le contour extérieur d'une enceinte 36. L'enceinte 36 est par ailleurs délimitée par les surfaces annulaires 30 et 32 de la première pièce de support 26, la surface périphérique annulaire 28a de la deuxième pièce de support 28 et par la portion de la surface de la pièce 10 comportant la surface extérieure 14 et les deux retours à angle droit 16a et 18a. La partie inférieure de la première paroi 34 est prolongée par une collerette annulaire 38 reposant sur la deuxième surface annulaire 32 de la première pièce de support 26, avec interposition d'un premier joint d'étanchéité 40 constitué d'un jonc en élastomère. Le bord supérieur de la première paroi 34 forme un déversoir et constitue le niveau maximum du bain remplissant l'enceinte 36, le trop- plein de ce bain pouvant être évacué à l'extérieur de la première paroi 34 au niveau d'un bac 42 annulaire délimité par la surface extérieure de la partie haute de la première paroi 34 et par une virole de trop-plein 44 solidaire de la première paroi 34. Des moyens d'évacuation de l'électrolyte composant le bain, constitués par des bouches d'évacuation 46, communiquent avec le fond du bac 42 en direction d'un circuit hydraulique d'évacuation comportant des moyens de filtration et dirigeant ledit électrolyte (ou tout autre liquide utilisé au cours du cycle), par l'intermédiaire d'une unité de contrôle- commande et de gestion des flux, en direction du réservoir contenant ledit électrolyte, si l'enceinte 36 doit être vidée, ou en direction des moyens d'alimentation décrits ci-après pour un retour dans l'enceinte 36. Les moyens d'alimentation pour l'amenée des différents liquides dans l'enceinte 36 sont constitués tout d'abord de bouches d'injection 48 en communication de liquide avec le fond de l'enceinte 36 au niveau de la première surface annulaire 30 de la première pièce de support 26. i5 Ces bouches d'injection 48 sont donc placées dans le fond de l'enceinte 36, à un niveau plus bas que la pièce 10, et elles permettent, outre le remplissage initial de l'enceinte 36, la vidange de cette dernière. Un deuxième joint d'étanchéité 40' similaire au premier joint d'étanchéité 40 est placé entre la deuxième pièce de support 28 et la première pièce de support 26. Les joints 40 et 40' assurent l'étanchéité au moyen d'un dispositif de serrage. Afin d'assurer le centrage et un positionnement en hauteur reproductibles de la pièce 10, le dispositif 20 comprend en outre des moyens de positionnement de la pièce 10 par rapport à ladite embase 22, ces moyens étant adaptés à la forme particulière de la pièce 10 à traiter. Ces moyens de positionnement permettent, en outre, d'assurer un montage stable, les surfaces annulaires supérieure 16 et inférieure 18 de la pièce 10 n'étant pas forcément planes. Ces moyens de positionnement comportent, pour les parties basses et hautes de la pièce 10, un dispositifde centrage composé, en bas et en haut, de plots o10 2777914 de centrage 50 (51) dont le contour extérieur est complémentaire du profil intérieur de la partie basse (ou haute) de la pièce 10. La partie basse de ce dispositif de centrage (plot de centrage 50) repose sur la surface supérieure de la deuxième pièce de support 28. Les moyens de positionnement comprennent en outre un dispositif de support et d'étanchéité comportant une virole basse 52 (ou haute 53) dont le profil intérieur correspond à une portion de la surface annulaire inférieure 18 ou supérieure 16 de la pièce, à proximité du retour à angle droit 18a ou 16a. La virole 52 basse est placée entre la deuxième pièce de support 28 et la surface annulaire inférieure 18 de la pièce 10 avec interposition de deux joints d'étanchéité 54 identiques au premier joint 40. On comprend que les éléments supportant et surmontant la pièce 10 sont symétriques les uns des autres par rapport à un plan médian horizontal. Ainsi, les plots de centrage 51 et la virole 53, placés en contact avec la surface annulaire supérieure 16 de la pièce 10, sont surmontés d'un chapeau 56 de forme sensiblement identique à celle de la deuxième pièce de support 28, ce chapeau 56 formant une pièce annulaire dont le diamètre extérieur D4 est largement inférieur au diamètre de la pièce 10, de façon à laisser le chant 16a en saillie dans l'enceinte 36, D4 étant de l'ordre de grandeur de D2. Un système d'anodes 58 amovible présentant une géométrie de révolution est monté de façon coaxiale autour de la pièce 10. Ce système d'anodes 58 est composé d'une couronne métallique pouvant être réalisée dans le matériau destiné à venir former une couche de revêtement sur la pièce 10. De façon alternative, le système d'anodes 58 est composé d'un rideau d'anodes comportant une couronne annulaire 60 sur laquelle sont montés des paniers 62 (figure 2) remplis du matériau formant anode (par exemple des billes). Le bord supérieur de la première paroi 34, correspondant au niveau maximum du bain, se situe à un niveau supérieur à celui de la surface annulaire il supérieure 16 de la pièce 10 et à un niveau inférieur à celui de la partie haute du système d'anode 58 et du chapeau 56. Un couvercle 64 vient refermer, de façon non étanche (ouvertures ou évents), l'enceinte 36 afin d'éviter que le bain qu'elle contient ne soit pollué par des éléments extérieurs. La pièce 10 formant cathode est soumise au potentiel électrique voulu par l'intermédiaire de contacts électriques 66 disposés contre l'alésage 12 et le système d'anodes 58 est également relié à une alimentation électrique au niveau de la couronne 60. Il est bien entendu que le système d'anodes s'étend sur une hauteur plus importante que la hauteur de la pièce 10 afin que toute la surface extérieure 14 soit placée en regard du système d'anodes 58. Afin de contrôler et de réguler la température du bain à l'intérieur de l'enceinte 36, il est prévu un système de conditionnement chaud et froid 67 placé dans le fond de l'enceinte 36 et dont l'action est commandée par l'unité de contrôle-commande extérieure au dispositif, la température étant contrôlée par un capteur également placé dans l'enceinte 36 et relié à l'unité de contrôle-commande. On comprend donc que, pendant le fonctionnement du dispositif 20, chaque liquide, formant éventuellement un électrolyte, faisant partie de la gamme des traitements à effectuer sur la pièce 10, est injecté dans l'enceinte 36 par l'intermédiaire des bouches d'injection 48. Lorsque l'électrolyte a rempli l'enceinte 36, la pièce 10 formant cathode et le système d'anodes 58 sont soumis à leur potentiel respectif pour la mise en oeuvre de l'électrolyse proprement dite. Pour que les bains préliminaires à cette électrolyse ne réagissent pas avec le système d'anodes 58 mis en place dans l'enceinte 36, il est prévu, de façon avantageuse, que le dispositif 20 comprenne une paroi intermédiaire 68 de révolution amovible depuis le dessus de l'enceinte 36 et destinée à se positionner de façon coaxiale entre ledit système d'anodes 58 et ladite pièce 10, ladite paroi intermédiaire 68 reposant sur le support 26, au niveau du bord radialement 12 2777914 intérieur de la deuxième surface annulaire 32, avec interposition de moyens d'étanchéité (joint torique 40") de façon à diviser ladite enceinte en deux compartiments étanches 36a et 36b. Ainsi, pendant les étapes précédant l'électrolyse, la paroi intermédiaire 68 isole le système d'anodes 58 du bain remplissant uniquement le compartiment 36b (partie de gauche des figures I et 2). Lorsque les étapes préliminaires ont été mises en oeuvre, il suffit alors de retirer la paroi intermédiaire 68 de façon à réunir les deux compartiments 36a et 36b formant l'enceinte 36 utilisée pendant l'étape d'électrolyse. Du fait de la géométrie du système, si aucune précaution particulière n'est prise pendant l'étape d'électrolyse, l'importante concentration des lignes de courant près des zones angulaires 16b et 18b, o convergent la surface extérieure 14 et les retours à angle droit 16a et 18a, entraîne un effet de pointe engendrant une excroissance non souhaitable du revêtement et rendant les caractéristiques du dépôt hétérogènes. Pour éviter cela, l'invention prévoit de munir le dispositif 20 de moyens de modification, au moins locale, de la densité de courant à l'intérieur de ladite enceinte. Dans le cas de figure illustré et décrit ci-après, ces moyens de modification sont constitués d'éléments électriquement passifs formant un écran ou un obstacle physique que les lignes de courant doivent contourner. Un premier élément passif 70 (ou 71) est disposé à proximité et de façon coaxiale avec la zone angulaire 16b (ou 18b). Le contour de la section transversale de ce premier élément passif 70 (ou 71) formant écran pour ladite pièce (masque de pièce) est conformé pour permettre une répartition homogène des lignes de courant à proximité de cette zone angulaire 16b (ou 18b) et à proximité du retour à angle droit 16a (ou 18a). Afin de limiter sensiblement les lignes de courant dans l'espace séparant la pièce 10 du système d'anodes 58, il est prévu en outre deux deuxièmes éléments passifs 72 et 73 formant écran d'anode (masque d'anode) et placés de façon 13 2777914 coaxiale avec ledit système d'anodes 58, respectivement à proximité des portions haute et basse du système d'anodes 58 se trouvant dans l'enceinte 36. Ces masques 70 à 73 sont réglables en hauteur et en diamètre afin de s'adapter à des pièces de forme et de dimensions différentes. Le dispositif 20 comprend en outre des moyens d'agitation de l'électrolyte dans l'enceinte 36. Ces moyens d'agitation comprennent au moins une rampe tubulaire annulaire 74 munie d'orifices dans sa partie haute et placée dans le fond de l'enceinte 36, à proximité des bouches d'injection 48. Cette rampe 74 amène un gaz (ou un liquide) sous pression dans l'enceinte 36, créant un courant ascendant d'électrolyte qui entraîne dans son mouvement les bulles de gaz formées à la surface de la pièce 10 pendant l'étape d'électrolyse, ces bulles pouvant, si elles ne sont pas évacuées, former des piqûres. De façon particulièrement avantageuse, le liquide s'évacuant par la bouche d'évacuation 46 reliée au trop-plein 42 peut, après filtration, être réinjecté dans i5 l'enceinte 36 au niveau de deux rampes d'injection secondaire. Une première rampe d'injection secondaire supérieure 76 est placée au-dessus du retour à angle droit 16a, entre le chapeau 56 et le masque d'anode supérieur 72, de façon particulièrement avantageuse à une distance de l'axe Z légèrement inférieure à celle du rayon du premier élément passif 70. Une deuxième rampe d'injection secondaire inférieure 78 est placée sous le retour à angle droit 18a à une distance de l'axe Z légèrement inférieure à celle du rayon du premier élément passif 71. Ces rampes 76 et 78 sont réglables en hauteur. Ces deux rampes secondaires 76 et 78 assurent un courant de liquide à proximité des zones angulaires 16b et 18b, le renouvellement du liquide permettant d'obtenir une vitesse de dépôt constante au cours du temps sur toute la surface à revêtir (14, 16a, 18a) de la pièce 10 et peuvent également servir en injection ou en aspiration. D'autres rampes additionnelles d'injection de liquide, d'aspiration de liquide ou d'injection de gaz peuvent être rajoutées à l'intérieur de l'enceinte 36 afin 14 2777914 d'obtenir une circulation et une concentration en électrolyte convenables et constantes au moins dans toute les zones de l'enceinte 36 entourant la surface à revêtir (14, 16a et 18a) de la pièce 10 et, avantageusement, dans toute l'enceinte 36 pour former un bain homogène. Pour une bonne reproductibilité du procédé de dépôt, il est prévu que les éléments mobiles (première paroi 34, paroi intermédiaire 68 et les éléments passifs , 71, 72 et 73) soient munis de moyens de repérage angulaire et radial permettant de les positionner toujours de la même manière par rapport à l'embase 22. Il est également prévu que le système d'anodes 58 et le deuxième élément passif 72, 73 comportent des moyens de repérage en hauteur permettant de les placer toujours de la même manière par rapport à la pièce 10. Sur la figure 3 est représenté un exemple d'une installation 100 intégrant (niveau supérieur) le dispositif 20 décrit précédemment et permettant de traiter une (ou plusieurs) pièce(s) de révolution 10 de grandes dimensions. Cette installation comprend également (niveau inférieur) des cuves de stockage (104a, 104b,... 104i et 104n) des différents bains reliées à un premier robinet tournant RTI qui alimente le dispositif 20 par les bouches d'injection 48, via une pompe 108 et un filtre 106 et à un second robinet tournant RT2 relié aux bouches d'évacuation 46 du trop-plein 42 de l'enceinte 36. Le dispositif 20 est relié aux cuves 104 par une tuyauterie d'alimentation et de vidange comprenant des organes de filtration et des organes de contrôle connectés à une armoire de programmation et de contrôle 102, constituant l'unité de contrôle-commande, également reliée à des organes de contrôle situés dans l'enceinte, tel que le système de conditionnement chaud et froid 67 ou un capteur (température, pH....). Les bains contenus dans les cuves 104 n'étant jamais à l'air libre et étant filtrés, on évite ainsi le risque de codéposition d'impuretés. 2777914 REVENDICATIONS 1. Dispositif (20) pour le dépôt par voie électrolytique d'un revêtement métallique sur une pièce de révolution (10) de grandes dimensions servant de cathode et dont la surface à revêtir comprend au moins une portion de la surface extérieure (14) de ladite pièce de révolution (10), ledit dispositif (20) comprenant un système d'anodes (58), une enceinte (36) contenant un électrolyte, des moyens d'alimentation en électrolyte (48), des moyens d'évacuation de l'électrolyte (46) débouchant dans ladite enceinte (36), et des moyens de circulation continue de l'électrolyte entre lesdits moyens d'évacuation et lesdits moyens d'alimentation, caractérisé en ce que qu'il comprend en outre: - une embase (22) pour supporter ladite pièce (10) en maintenant son axe de révolution vertical, - au moins une paroi de révolution (34) coaxiale avec ladite pièce (10) et constituant une paroi complémentaire de la surface à revêtir et de l'embase (22) pour délimiter ladite enceinte (36), et - des moyens d'étanchéité (40, 54) placés entre ladite embase (22) et, d'une part, ladite pièce (10) et, d'autre part, ladite paroi complémentaire (34). 2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit système d'anodes comprend un rideau d'anodes (58) placé de façon coaxiale entre ladite surface à revêtir et ladite paroi complémentaire (34), à une distance sensiblement constante de ladite surface. 3. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce qu'il comprend en outre au moins une paroi intermédiaire (68) de révolution amovible depuis le dessus de l'enceinte (36) et destinée à se positionner de façon coaxiale entre ledit système d'anodes (58) et ladite pièce (10), ladite paroi intermédiaire (68) reposant sur ladite embase (22), avec interposition de moyens d'étanchéité (40"), de façon à diviser ladite enceinte en deux compartiments étanches (36a, 36b). 16 2777914 4. Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens de positionnement (50, 51, 52, 53) de la pièce par rapport à ladite embase (22). 5. Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que lesdits moyens d'alimentation en électrolyte (48) débouchent au moins partiellement dans la partie basse de l'enceinte (36), à une hauteur inférieure à celle de ladite pièce (10). 6. Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens d'agitation (74) de l'électrolyte dans l'enceinte (36). 7. Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens de régulation et de contrôle (67) de la température et du pH de l'électrolyte à l'intérieur de ladite enceinte. 8. Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens de modification, au moins locale, de la densité de courant à l'intérieur de ladite enceinte. 9. Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que lesdits moyens de modification comprennent au moins un premier élément passif réglable (70, 71) formant écran pour ladite pièce, pouvant être placé précisément dans ladite enceinte (36), en position coaxiale avec ladite pièce (10), en regard et à proximité d'une zone angulaire (16b, 18b) de la surface à revêtir, afin d'éviter une épaisseur trop importante du dépôt sur ladite zone angulaire. 10. Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que lesdits moyens de modification comprennent au moins un deuxième élément passif réglable (72, 73) formant écran d'anode, pouvant être placé précisément dans ladite enceinte (36), en position coaxiale avec ladite pièce (10), entre ladite pièce (10) et ledit système d'anodes (58), à proximité d'une portion de surface dudit système d'anodes ne se trouvant pas en regard de ladite surface à revêtir. 11. Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que lesdits moyens de modification comprennent au moins un élément actif, formant une anode auxiliaire et pouvant être placé précisément dans ladite enceinte, en position coaxiale avec ladite pièce, en regard et à proximité d'une zone angulaire de la surface à revêtir, afin d'éviter une épaisseur trop importante du dépôt sur ladite zone angulaire du fait d'une concentration importante des lignes de courant autour dudit élément actif. 12. Procédé pour le dépôt par voie électrolytique d'un revêtement métallique sur au moins une portion de la surface extérieure d'une pièce de révolution (10) de !0 grandes dimensions servant de cathode, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: - on centre ladite pièce sur une embase (22), avec interposition de moyens d'étanchéité (54), ladite embase (22) maintenant l'axe de révolution (Z) de ladite pièce vertical, i5 - on dispose au moins une paroi de révolution (34), coaxiale avec ladite pièce (10), sur ladite embase (22), avec interposition de moyens d'étanchéité (40), ladite paroi de révolution (34) constituant une paroi complémentaire de ladite surface à revêtir et de ladite embase (22) pour constituer une enceinte (36), - on remplit ladite enceinte (36) d'un électrolyte circulant entre des moyens d'alimentation (48) et des moyens d'évacuation (46) de l'électrolyte, et - on fait circuler un courant électrique entre un rideau d'anodes (58), placé à une distance constante autour de l'axe (Z) de la pièce (10), et ladite pièce (10) servant de cathode. 13. Installation (100) pour le dépôt par voie électrolytique de revêtement métallique sur des pièces (10) de révolution de grandes dimensions servant de cathode dont la surface à revêtir délimite au moins partiellement une enceinte contenant un électrolyte, comportant au moins un dispositif (20) selon l'une quelconque des revendications 1 à il 1 et caractérisée en ce qu'elle comporte en outre un système central (102) 18 2777914 relié au moins audit dispositif (20) par l'intermédiaire de circuits électriques, un desdits circuits amenant le courant d'électrolyse à la cathode et au système d'anodes, et de circuits hydrauliques et pneumatiques débouchant dans l'enceinte (36), et présentant: - une série de réservoirs de liquides (104), notamment un réservoir d'électrolyte, une source d'alimentation électrique, - une unité (102) de contrôle-commande et de gestion des flux reliée auxdits réservoirs, à ladite source et auxdits circuits afin de permettre successivement la distribution et le retour programmés d'au moins un desdits liquides entre ledit dispositif (20) et ledit réservoir (104) correspondant, et - des moyens de mesure et de détection asservis à ladite unité (102) de contrôle- commande.