FR 2766011 A1 19990115 FR 9708793 A 19970710 i Cathode froide à micropointes La présente invention concerne une cathode froide à micropointes. En particulier, l'invention s'applique aux spectromètres de masse dans lesquels le filament électrique chauffant émetteur d'électrons est remplacé par une telle cathode froide à micropointes. De telles cathodes froides sont des dispositifs émetteurs d'électrons réalisés par des procédés semiconducteurs. Ces cathodes froides sont malheureusement peu performantes, de l'ordre de 10% seulement des pointes d'un réseau de micropointes émettent. Ceci est dû à la non homogénéité du réseau de pointes à cause, entre autre, des 1o tolérances de fabrication. Ainsi, à cause de cette non homogénéité des pointes, le champ électrique en bout de pointe varie beaucoup d'une pointe à l'autre, or, I'émission d'électrons suit une loi exponentielle en fonction du champ électrique en bout de pointe. On a donc une hétérogénéité de l'émission qui est dommageable. Cet inconvénient est accru si l'on travaille à "haute pression", par exemple à une pression égale ou supérieure à 104 mbar. En effet, si une pointe émet plus d'électrons que ses voisines, elle est plus sensible aux phénomènes de retour d'ions positifs et de création d'arc qui détériorent les pointes. La présente invention a donc pour but de proposer une cathode froide à micropointes qui permet d'améliorer l'homogénéité de l'émission d'électrons de ses micropointes. L'invention a ainsi pour objet une cathode froide à micropointes comprenant un substrat comportant un réseau de micropointes et une plaque disposée parallèlement au substrat portant les pointes, ladite plaque comportant un trou en face de chaque pointe et constituant ainsi une grille, un isolant comblant l'espace entre le substrat et ladite grille en dehors desdites pointes, caractérisée en ce que la distance d, nominale, séparant le sommet d'une pointe, de la face de ladite grille la plus éloignée du substrat est d = 0, en ce que le rayon de courbure RT, nominal, du sommet de chaque pointe est RT = 25 nm et en ce que le rayon RGH, nominal, desdits trous de la grille est de RGH = 1,3 pm. Les expériences ont en effet montré que dans la géométrie d'une cathode froide, certains paramètres sont très importants, il s'agit précisément des paramètres ci-dessus: d: distance qui sépare le sommet d'une pointe, de la face de la grille la plus éloignée du substrat; RT rayon de courbure du sommet des pointes et RGH le rayon des trous de la grille en face de chaque pointe. Pour ces trois paramètres, on a trouvé une valeur nominale pour laquelle la dérivée totale de la valeur du champ en bout de pointes, par rapport à ces trois paramètres d, RT et RGH, est minimale et correspond donc à une valeur du champ en bout de pointes ayant une dispersion minimale. Dans ces conditions, on obtient un réseau optimisé, c'est-à-dire pour lequel le champ électrique en bout de pointes varie très peu, dans les limites de tolérances de fabrication, autour de la valeur nominale de ces paramètres. Ces valeurs nominales sont ainsi les suivantes: d = 0, RT = 25 nm et RGH = 1, 3 pm. Le résultat est que l'on obtient un réseau ayant un nombre élevé de 1o pointes qui émettent de la même façon, trois ou quatre fois plus que dans un réseau non optimisé. La figure 1 est une vue schématique partielle montrant une portion de cathode froide à micropointes selon l'invention. Les figures 2, 3 et 4 sont les courbes de la valeur du champ en bout de pointes en fonction, respectivement, de la valeur des paramètres d, RT et RGH. La figure 1 montre ainsi une portion de cathode froide o une seule pointe est représentée. Les pointes telles que 1 sont formées sur un substrat 2. Une plaque 3, appelée grille, et portant un trou 4 de rayon RGH en face de chaque pointe est disposée parallèlement au substrat 2. Un isolant 5 comble l'espace entre le substrat 2 et la grille 3 en dehors des pointes. Conformément à l'invention, la valeur nominale de RGH = 1,3 pm avec une tolérance correspondant à la tolérance de fabrication de + 0,2 Ipm; la valeur nominale du rayon de courbure RT du sommet de chaque pointe 1 est RT = 25 nm, la tolérance de fabrication étant de + 5 nm; et la valeur nominale de la distance d séparant le sommet d'une pointe 1 de la face de la grille 3 la plus éloignée du substrat 2 est d = 0, la tolérance de fabrication étant de + 0,5 pm. La figure 2 montre la valeur du champ E en 109 v/m en fonction de d. La figure 3 montre la valeur du champ en fonction de RT, et la figure 4 montre la valeur du champ en fonction de RGH. Le calcul montre que la dérivée totale du champ par rapport à ces trois paramètres, est minimale pour ces valeurs d = 0, RT = 25 nm et RGH = 1,3 pm. REVENDICATION Cathode froide à micropointes (1) comprenant un substrat (2) comportant un réseau de micropointes (1) et une plaque disposée parallèlement au substrat portant les pointes (1), ladite plaque comportant un trou (4) en face de chaque pointe et constituant ainsi une grille (3), un isolant (5) comblant l'espace entre le substrat (2) et ladite grille (3) en dehors des pointes (1), caractérisée en ce que la distance d, nominale, séparant le sommet d'une pointe (1) de la face de ladite grille (3) la plus éloignée du substrat (2) est d = 0, en ce que le rayon de courbure RT, nominal, du sommet de chaque pointe (1) est RT = 25 nm et en ce que le rayon RGH, nominal, desdits trous (4) de la grille (3) est RGH = 1,3 pm.