FR 2759362 A1 19980814 FR 9701468 A 19970210 SUBSTRAT TRANSPARENT MUNI D'AU MOINS UNE COUCHE MINCE A BASE DE NITRURE OU D'OXYNITRURE DE SILICIUM ET SON PROCEDE D'OBTENTION La présente invention concerne un substrat transparent que l'on munit d'au moins une couche mince. L'application principale de l'invention est la fabrication de vitrages dits fonctionnels utilisés soit dans les bâtiments, soit dans les véhicules, soit en tant qu'écran o0 plasma de télévision. Une autre application envisageable est le traitement de surface de récipients du type bouteilles en verre. Dans le contexte de l'invention, il faut comprendre par vitrage fonctionnel un vitrage dont au moins un de ses substrats transparents constitutifs est recouvert d'un empilement de couches minces, afin de lui conférer des propriétés particulières, notamment thermiques, optiques, électriques ou mécaniques comme par exemple une propriété anti- rayure. Il existe ainsi des couches minces appelées bas-émissives, notamment composées d'oxyde métallique dopé, par exemple d'oxyde d'étain dopé au fluor (SnO2:F) ou d'oxyde d'indium dopé à l'étain (ITO), et que l'on peut déposer sur du verre par des techniques de pyrolyse. Une fois revêtu d'une couche bas-émissive, le substrat monté en vitrage notamment dans un bâtiment permet de réduire l'émission dans l'infrarouge lointain vers l'extérieur de la pièce ou de l'habitacle à travers ledit vitrage. En diminuant ainsi les pertes énergétiques dues en partie à cette fuite de rayonnement, on améliore fortement le confort thermique, notamment en hiver. Le substrat ainsi recouvert peut être monté en double-vitrage, la couche bas- émissive étant tournée du côté de la lame de gaz espaçant les deux substrats, par exemple disposée en face 3 (les faces d'un vitrage multiple sont conventionnellement numérotées en commençant par la face la plus extérieure par rapport à la pièce ou l'habitacle). Le double- vitrage ainsi constitué présente alors une isolation thermique renforcée, avec un coefficient d'échange thermique K faible tout en conservant le bénéfice des apports d'énergie solaire, avec un facteur solaire (soit le rapport entre l'énergie totale entrant dans le local et l'énergie solaire incidente) élevé. Le lecteur pourra se reporter, à ce sujet, notamment aux demandes de brevet EP-0544 577, FR-2704 543 et EP-0500 445. Les couches bas-émissives sont également de bons conducteurs électriques, ce qui permet d'en équiper les vitrages pour l'automobile afin d'en faire des vitrages chauffants/dégivrants en prévoyant les amenées de courant adéquates, application décrite par exemple dans le brevet EP- 0353 140. s5 Il existe également des couches minces filtrantes appelées sélectives ou anti-solaires qui, déposées sur des substrats montés en vitrage, permettent de réduire l'apport thermique du rayonnement solaire à travers le vitrage dans la pièce ou l'habitacle, par absorption/réflexion. Il peut s'agir, par exemple, de couches de nitrure (ou oxynitrure) de titane TiN, telles que celles obtenues par une technique de pyrolyse en phase gazeuse et o0 décrites dans les demandes de brevet EP-0638 527 et EP-0650 938. Il peut aussi s'agir d'une couche réfléchissante en aluminium de faible épaisseur (inférieure ou égale à 30 nm), notamment obtenue par condensation de vapeur métallique, par CVD ou par la technique de dépôt décrite dans la demande de brevet internationale PCT/FR-96/00362 déposée le 07 mars 1996 au nom de SAINT-GOBAIN VITRAGE. L'invention s'intéresse également aux techniques de dépôt de ces diverses couches, et plus particulièrement à celles ayant recours à une réaction de pyrolyse. Ces dernières consistent à projeter des "précurseurs", par exemple de nature organo-métallique, soit sous forme gazeuse, soit sous forme pulvérulente, soit liquides par eux-mêmes ou encore en solution dans un liquide, à la surface du substrat porté à haute température. Lesdits précurseurs, à son contact, s'y décomposent en laissant par exemple une couche de métal, d'oxyde, d'oxynitrure, ou de nitrure. L'avantage de la pyrolyse réside dans le fait qu'elle permet de réaliser le dépôt des couches directement sur le ruban de verre d'une ligne de fabrication de verre plat du type float, en continu, et également dans le fait que les couches pyrolysées présentent (en général) une forte adhérence au substrat. Les couches bas-émissives ou filtrantes précédemment mentionnées font fréquemment partie d'un empilement de couches, et se trouvent au moins sur l'une de leurs faces, en contact avec une autre couche, en général un matériau diélectrique à rôle optique et/ou protecteur. Ainsi, dans les demandes de brevet précitées EP-0544 577 et FR-2704 543, la couche bas-émissive, par exemple en SnO2:F, est entourée de deux couches de diélectrique du type SiO2, SiOC ou oxyde métallique, couches d'indice de réfraction et d'épaisseur sélectionnés afin d'ajuster l'aspect optique du substrat, notamment en reflexion, par exemple sa couleur. Dans la demande de brevet EP-0500 445 également précitée, la couche bas- émissive en ITO, est surmontée d'une couche d'oxyde d'aluminium afin de la protéger de l'oxydation, et aussi, dans certaines conditions, de supprimer la nécessité de lui faire subir un recuit réducteur et /ou autoriser le bombage ou la trempe du substrat une fois revêtu sans détériorer ses propriétés. La couche TiO2 ou la double couche TiO2/SiOC qui surmonte la couche filtrante de TiN dans la demande de brevet précitée EP-0650 938 a également pour rôle de protéger le TiN de l'oxydation et d'améliorer sa durabilité en général. Or, il est important de pouvoir s'assurer de l'intégrité des empilements de couches minces. Ainsi, il leur faut: - une capacité à résister à des agressions de nature chimique. En effet, il arrive fréquemment que le substrat transparent, une fois revêtu de couches, soit stocké pendant une période assez longue avant d'être monté en vitrage. S'il n'est pas soigneusement conditionné de manière étanche, et donc coûteuse, les couches dont il est revêtu peuvent se trouver exposées directement à une atmosphère polluée ou soumises à un nettoyage par des détergents peu adaptés pour les dépoussiérer, même si les substrats sont ultérieurement assemblés en double-vitrage ou en vitrage feuilleté, avec les couches minces disposées en face 2 ou 3, donc protégées. Par ailleurs, outre ce problème de stockage, des empilements susceptibles de corrosion chimique sont un frein à une utilisation des substrats en tant que " vitrages monolithiques " ou à une disposition des couches en face I ou 4 dans le cas de vitrages multiples, c'est-à-dire des configurations o les couches sont à longueur d'année exposées à l'atmosphère ambiante. - une aptitude à résister à des détériorations mécaniques. Par exemple, le substrat transparent, une fois revêtu de couches, peut être utilisé dans des configurations o il est facilement exposé à des détériorations du type rayure. De ce fait, d'une part le substrat n'offre plus visuellement un aspect esthétique "correct" puisque rayé partiellement et d'autre part, la durabilité à la fois de l'empilement et du substrat est très amoindrie, des sources de fragilisation mécanique pouvant, le cas échéant, être introduites. On est donc en permanence à la recherche d'empilements de couches à durabilité chimique et/ou mécanique améliorées. Toutefois, ces améliorations ne doivent pas se faire au détriment des qualités optiques de l'ensemble constitué par le substrat et l'empilement de couches minces. Comme précédemment évoqué, il existe déjà des surcouches en matériau diélectrique exerçant une certaine protection des couches sous-jacentes dans l'empilement. Pour rester intègre face à une corrosion chimique intense ou de longue durée et/ou pour protéger totalement les couches sous-jacentes éventuellement plus "fragiles", la demande de brevet EP-0712 815 décrit une couche mince à base d'oxyde comprenant du silicium et un troisième élément, par exemple sous la forme d'un halogène du type fluor F, qui facilite la formation d'une structure mixte en silicium et en aluminium. Cette couche est particulièrement appropriée pour servir de dernière couche dans des empilements o la couche fonctionnelle est du type filtrante ou bas-émissive sur des vitrages, car elle peut remplir une fonction optique notamment une fonction d'optimisation de l'aspect en reflexion et garantir une certaine constance dans le temps de l'aspect des vitrages. Cependant, elle n'est pas forcément apte à résister à des détériorations mécaniques telles que des rayures, car elle présente une dureté qui n'est pas extrêmement élevée. Il est connu qu'un type de couche mince dure tout particulièrement adapté pour être durable et stable à l'abrasion mécanique et/ou à des agressions de nature chimique est une couche mince à base de nitrure de silicium, qui peut, le cas échéant, contenir une certaine proportion d'impuretés telles que l'oxygène et le carbone. Il est ainsi connu un type de couche mince à base de nitrure de silicium déposée sur un substrat par une technique de pyrolyse en phase gazeuse à partir de deux précurseurs, le précurseur silicié étant un silane, le précurseur azoté étant soit minéral du type ammoniac, soit organique du type hydrazine notamment substituée par des méthyles. Lorsque le dépôt est effectué à partir de précurseurs azotés du type ammoniac, les températures sont trop hautes (plus de 700 C) pour pouvoir être par exemple compatibles avec un dépôt en continu sur un ruban de verre silico-sodo-calcique dans l'enceinte d'un bain float car, à ces températures, ces verres standards n'ont pas encore attteint leur stabilité dimensionnelle. Les précurseurs azotés du type hydrazine présentent quant à eux une certaine toxicité qui rend leur application industrielle délicate. Il est également connu de déposer une couche mince à base de nitrure de silicium par la même technique que celle mentionnée ci-dessus notamment en utilisant non pas deux précurseurs, mais un seul qui est à la fois silicié et azoté du type Si(NMe2)4nHn. Les vitesses de dépôt qui peuvent être atteintes sont trop faibles pour pouvoir exploiter le procédé de dépôt à l'échelle industrielle. En outre, la synthèse de ce produit est relativement complexe et donc onéreuse, et on ne peut plus moduler les proportions respectives du(des) précurseur(s) azoté(s) et silicié(s). De plus, les couches minces à base de nitrure de silicium connues présentent certains inconvénients: - d'une part, elles ne sont pas nécessairement suffisamment dures et présentent une durabilité moindre, notamment lorsqu'elles sont déposées sous vide pour pouvoir, par exemple, conférer à un substrat muni de cette seule couche ou d'un empilement de couches minces comprenant cette couche une fonction anti-rayure. - d'autre part, notamment lorsqu'elles sont déposées par pyrolyse, elles sont io absorbantes aux longueurs d'onde du domaine visible, ce qui est pénalisant d'un point de vue optique. Le but de l'invention est alors de pallier aux inconvénients précités et donc de mettre au point une nouvelle couche mince à base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium présentant une plus grande dureté tout en étant très peu absorbante, et susceptible de faire i5 partie d'un empilement de couches minces, notamment afin d'y jouer un rôle de protection vis-à- vis de l'attaque chimique de l'empilement de couches minces dans lequel elle se trouve incorporée. Un autre but de l'invention est de proposer un nouveau procédé de dépôt d'une couche mince à base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium, notamment par une technique de pyrolyse en phase gazeuse, compatible avec un dépôt en continu sur un ruban de verre dans l'enceinte d'un bain float et qui permette d'atteindre des vitesses de dépôt élevées. Pour ce faire, l'invention a tout d'abord pour objet un substrat transparent du type substrat verrier recouvert d'au moins une couche mince à base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium. Selon l'invention, la couche mince comprend les éléments Si, O, N, C dans les pourcentages atomiques suivants: - Si: de 30 à 60 %,notamment de 40 à 50 %, - N: de 10 à 56%, notamment de 20 à 56%, - O:de I à40%,notammentde 5 à30%, - C: de I à40 %, notammentde 5 à 30 %. D'une manière surprenante, cette couche mince s'est révélée être à la fois très dure par rapport aux autres couches minces à base de nitrure de silicium connues, très transparente et donc peu ou pas absorbante aux longueurs d'onde du domaine visible: les taux élevés en Si et N montrent que l'on est en présence d'un matériau majoritairement en nitrure de silicium. En modulant les proportions entre les constituants minoritaires du type C, O, on parvient à ajuster finement les propriétés de la couche. Ainsi, en jouant sur les proportions relatives en carbone et en oxygène, on peut à la fois par exemple " régler " finement la densité et l'indice de réfraction de la couche mince de manière à lui conférer une dureté mécanique et des propriétés optiques tout à fait intéressantes et ciblées. Le carbone a en effet tendance à augmenter l'indice de réfraction, l'oxygène ayant plutôt l'effet inverse. Par exemple, I'indice de réfraction de la couche est supérieur à 1,6, notamment compris entre 1,8 et 2,0, de préférence 1,85. La couche peut comprendre d'autres éléments sous la forme d'un additif tel que le fluor, le phosphore ou le bore, de préférence dans un pourcentage atomique compris entre 0,1 et 5 %. La couche peut également être homogène ou à gradient de composition dans son épaisseur. Avantageusement, la couche mince présente un coefficient d'absorption lumineuse AL inférieur à 2% pour 100 nanomètres d'épaisseur géométrique, qualité optique particulièrement mise en évidence lorsque le dépôt de ladite couche est effectué par une technique de pyrolyse en phase gazeuse, comme expliqué ci-après. La couche mince fait avantageusement partie d'un empilement de couches minces, dont au moins une est une couche fonctionnelle à propriétés thermiques, notamment filtrantes, de protection solaire ou à basémissivité et/ou à propriétés électriques et/ou à propriétés optiques telles qu'une couche à fonction miroir, du type oxyde métallique dopé, nitrure/oxynitrure métallique ou métal du type aluminium ou silicium. Elle peut aussi faire partie d'un empilement de couches anti-reflets, en jouant le rôle de la couche à haut indice ou indice " intermédiaire ". Comme oxyde métallique dopé ou nitrure/oxynitrure métallique, il peut être choisi l'oxyde d'étain dopé au fluor SnO2:F, I'oxyde d'indium dopé à l'étain ITO, l'oxyde de zinc dopé à l'indium ZnO:ln, au fluor ZnO:F, à l'aluminium ZnO:AI, à l'étain ZnO:Sn, le nitrure de titane TiN, le nitrure de zirconium ZrN. Selon une caractéristique additionnelle, la couche peut être sous la couche fonctionnelle. Elle peut remplir alors notamment le rôle de couche barrière à la diffusion des ions notamment des alcalins, de l'oxygène à partir du substrat de type verrier, ou encore le rôle de couche de nucléation, et/ou avoir un rôle optique (ajustement de la couleur, effet anti-irisation, effet anti-reflets). Dans certaines applications du type écran- plasma, elle peut également remplir le rôle de couche barrière à la migration des ions Ag+ à partir des couches fonctionnelles à base d'argent vers le substrat de type verrier. Selon une autre caractéristique, la couche peut être disposée sur la couche fonctionnelle. Elle peut alors servir, notamment de couche protectrice de la couche fonctionnelle vis-à-vis de l'oxydation à haute température ou de la corrosion chimique, de couche de protection mécanique du type anti-rayure, de couche à rôle optique, de couche améliorant l'adhésion de la couche supérieure. Selon une autre caractéristique, la couche mince est la seule couche recouvrant le substrat et remplit avantageusement une fonction antirayure. L'épaisseur géométrique de la couche peut être ajusté très librement dans une gamme très large de 5nm à 5gm, notamment entre 20 et 1000 nanomètres, une épaisseur assez conséquente d'au moins 250 nm étant par exemple privilégiée pour accentuer l'effet anti-rayure du substrat muni d'au moins ladite couche, une couche d'épaisseur plus faible étant généralement recherchée pour une autre fonctionnalité (nucléation, adhésion...). L'invention a également pour objet le procédé d'obtention du substrat précédemment défini, procédé qui consiste à déposer la couche mince à base de nitrure de silicium par une technique de pyrolyse en phase gazeuse (appelée aussi " Chemical Vapor Deposition " en anglais ou CVD, qui utilise au moins deux précurseurs dont au moins un de silicium et au moins un d'azote. Selon le procédé de l'invention, au moins un précurseur d'azote est une amine. Le choix d'un tel précurseur azoté est particulièrement avantageux: il est d'une réactivité adéquate dans la mesure o il permet d'effectuer le dépôt à des températures o le substrat verrier du type substrat standard silico-sodo-calcique a atteint parfaitement sa stabilité dimensionnelle, notamment dans le contexte d'une ligne de production de verre flotté. De plus, les vitesses de dépôt atteintes sont suffisamment élevées pour pouvoir déposer des épaisseurs conséquentes dans l'enceinte de flottage. Le précurseur silicié choisi peut être avantageusement un silane, du type hydrure et/ou alkyle de silicium, silazane. L'amine peut être choisie parmi les amines primaires, secondaires ou tertiaires, notamment à radicaux alkyls ayant de I à 6 atomes de carbone chacun. Ainsi, il peut s'agir de l'éthylamine C2H5NH2, de la méthylamine CH3NH2, de la diméthylamine (CH3)2NH, de la butylamine C4HoNH2, de la propylamine C3H7NH2. Le choix de l'amine appropriée pour une couche d'épaisseur géométrique et/ou d'indice de réfraction donnés résulte d'un compromis à trouver entre un certain nombre de paramètres tels que l'encombrement stérique, la réactivité... De préférence, le rapport en nombre de moles de la quantité de précurseur d'azote sur la quantité de précurseur silicié est compris entre 5 et 30, avantageusement égal à 10. s Il est en effet important de contrôler un tel rapport pour éviter d'une part une incorporation insuffisante d'azote et d'autre part tout risque de nucléation en phase gazeuse et par là tout risque de formation de poudre. On limite ainsi les risques d'encrassement du dispositif et les baisses de rendement de production. Selon une caractéristique supplémentaire, lorsqu'on désire incorporer un additif, on io choisit un précurseur de l'additif indépendant du précurseur silicié et de l'amine. Il peut par exemple s'agir d'un gaz fluoré du type CF4 lorsque l'additif désiré est du fluor F ou d'un gaz organique porteur de phosphate du type PO (OCH3)3 ou un gaz du type triéthylphosphite, triméthylphosphite, triméthylborite, PF5, PC13, PBr3, PCls lorsque l'additif désiré est du phosphore P ou du bore B. Ces additifs permettent avantageusement d'augmenter généralement la vitesse de dépôt. La température de dépôt est en adéquation avec le choix des précurseurs, notamment l'amine. De préférence, elle est comprise entre 550 et 700 C, de préférence entre 600 et 650 C: c'est-à-dire entre la température o le verre notamment silico-sodo- calcique est dimensionnellement stable et la température qu'il a à sa sortie de l'enceinte du float. Il est ainsi préférable d'effectuer le dépôt de la couche à atmosphère essentiellement inerte ou réductrice, par exemple en mélange N2/H2 sans ou quasiment sans oxygène en continu sur un ruban de verre float, dans l'enceinte de flottage et/ou dans un caisson de contrôle de l'atmosphère inerte, sans oxygène, pour le déposer plus en aval de la ligne float, à des températures éventuellement un peu plus basses. L'invention permet ainsi la fabrication de vitrages de contrôle solaire filtrants, avec des empilements du type: - verre / TiN et/ou ZrN / couche selon l'invention / SiOC et/ou SiO2 ladite couche selon l'invention permettant d'avoir une interface beaucoup plus solide entre la couche TiN et/ou la couche ZrN d'une part, et la couche SiOC et/ou la couche SiO2, d'autre part. Elle permet également d'avoir une protection efficace du TiN et/ou du ZrN contre l'éventuel risque d'oxydation superficielle soit sur ligne industrielle après le dépôt de la couche de SiOC et/ou de SiO2, soit hors ligne industrielle par exemple lorsque le substrat muni de l'empilement de couches, une fois découpé, subit des traitements thermiques du type bombage/trempe ou recuit. Avantageusement, la couche présente une épaisseur géométrique comprise entre 10 et 50 nanomètres, la couche mince selon l'invention présente une épaisseur géométrique comprise entre 5 et 20 nanomètres, et la surcouche en SiOC et/ou SiO2 une épaisseur géométrique comprise entre 30 et 100 nanomètres. - ou encore du type: verre / Al / couche mince selon l'invention, la couche réfléchissante en aluminium étant soit de faible épaisseur (inférieure ou égale à 30 nm) soit de plus forte épaisseur lorsque la fonction miroir est recherchée, telle que celle décrite dans la demande de brevet internationale précitée PCT/FR-96/00362, la couche mince selon l'invention ayant à la fois un rôle d'agent protecteur vis-à-vis de l'oxydation et une fonction anti-rayure. L'invention permet également de réaliser des vitrages dont la fonctionnalité essentielle est d'être anti-rayure, c'est-à-dire des vitrages tels que des dalles de sol, du mobilier en verre o le substrat verrier est uniquement revêtu de la couche mince à base de Si3N4 selon l'invention éventuellement associée à une couche anti-irisation. On protège ainsi avantageusement le verre de toute dégradation.La couche mince selon l'invention peut également être associée à des couches basémissives avec des empilements du type: verre / SiOC / SnO2:F ou ITO /couche mince selon l'invention. Dans ces empilements, la sous-couche en SiOC peut bien évidemment être remplacée par d'autres oxydes métalliques, tels que ceux décrits dans la demande de brevet EP-0677 493. Enfin, la couche mince selon l'invention permet de fabriquer tout type de vitrages fonctionnels munis d'un empilement de couches minces qui sont de grande durabilité et qui sont aptes à être trempés et/ou bombés lorsque le substrat utilisé est un substrat verrier. L'invention s'applique également au traitement de surface de récipients du type bouteille en verre; la couche dure selon l'invention renforçant lesdits récipients par exemple vis-à-vis des manipulations susceptibles de les détériorer et ceci quelle que soit l'inhomogénéité relative d'épaisseur de ladite couche constatée. Le dépôt de la couche dure selon l'invention peut ainsi s'effectuer sur la paroi externe des récipients en la renforçant mécaniquement notamment contre des chocs mais aussi sur la paroi interne des récipients afin, par exemple, d'empêcher le relargage d'éléments à partir du substrat. D'autres détails et caractéristiques avantageuses ressortent ci-après de la description d'exemples de réalisation non limitatifs à l'aide de la figure I et 2 annexées. Par souci de clarté, ces figures ne respectent pas les proportions concernant les épaisseurs relatives des différents matériaux. Dans tous les exemples suivants, le dépôt de toutes les couches minces est effectué dans l'enceinte de flottage. EXEMPLE 1: La figure I représente un substrat 1 de verre silico-sodo-calcique clair de 3 millimètres d'épaisseur, par exemple celui commercialisé sous marque PLANILUX par la société SAINT-GOBAIN VITRAGE, recouvert de la couche mince à base de nitrure de silicium 2 mise au point par l'invention. La couche mince à base de nitrure de silicium 2 est obtenue par une technique de pyrolyse en phase gazeuse à partir de silane SiH4, qui est le précurseur silicié, et de l'éthylamine C2HsNH2, qui est le précurseur azoté. Les débits de précurseurs sont choisis tels que le rapport en volume de la quantité d'éthylamine sur la quantité de silane est égal à environ 10. Ce paramètre est avantageux en ce sens qu'il optimise l'apport de chacun des constituants de la couche. En effet, il a été observé qu'il ne doit pas être: - trop élevé sinon il peut y avoir un risque de nucléation en phase gazeuse et donc un risque de formation de poudre. - trop faible sinon il peut y avoir une incorporation insuffisante d'azote dans la couche. Une plage de rapports de 5 à 30 s'avère tout à fait satisfaisante, lorsqu'on veut déposer une couche de 50 à 300 nm d'épaisseur à partir d'un silane et de l'éthylamine. Le dépôt a été effectué sur le substrat 1 porté à une température comprise entre 600 et 650 C, à pression atmosphérique. Dans ces conditions, la vitesse de croissance de la couche 2 selon l'invention a atteint 60nm par minute. La couche 2 obtenue telle que représentée à la figure 1 a une épaisseur d'environ 350 nanomètres et un indice de réfraction de l'ordre de 1,85. Une analyse par microsonde indique que la couche 2 comporte, en pourcentages atomiques, 32,7 % de silicium, 30,6% d'azote, 21,1% de carbone et 15,6% d'oxygène. La technique de dépôt selon l'invention permet de moduler les quantités des différents éléments incorporés, notamment celle du carbone en jouant sur différents paramètres tels que la température à laquelle on effectue le dépôt, l'utilisation d'une autre amine que l'éthylamine ou d'un mélange d'amines ou de l'ammoniac ajouté à l'éthylamine comme précurseur d'azote. Les différentes amines qui ont une réactivité adéquate sont les suivantes: la méthylamine CH3NH2, de la diméthylamine (CH3)2NH, de la butylamine C4H9NH2 et la propylamine C3H7NH2. Les températures satisfaisantes au dépôt de la couche 2 selon l'invention sont comprises dans une gamme de 550 à 700 C. Les caractéristiques spectrophotométriques d'une telle couche sont regroupées dans le tableau ci-dessous, dans lequel TL, RL, AL représentent respectivement les valeurs de la transmission lumineuse, de la réflexion lumineuse et de l'absorption lumineuse en pourcentage: TL RL AL Couche 2 84 13 3 ces valeurs étant mesurées à partir de l'illuminant D65., à incidence quasi-normale. On constate que la couche selon l'invention présente une absorption lumineuse très faible et qu'elle est exempte de flou. (On rappelle que le flou est le rapport de la transmission diffuse sur la transmission lumineuse à une longueur d'onde égale à 550 nm). Sur le substrat 1 recouvert de la seule couche 2 selon l'invention a été effectué un test qui permet d'évaluer la résistance mécanique de ladite couche. Ce test est effectué à l'aide de meules faites de poudre abrasive noyée dans un élastomère. La machine est fabriquée par la société TABER INSTRUMENT CORPORATION Il s'agit du modèle 174 "standard Abrasion Tester ", les meules sont de type CSIOF chargées de 500 grammes. On soumet le substrat 1 recouvert localement à 50 rotations, puis onréalise à l'aide d'un microscope optique un comptage des rayures sur quatre carrés de côté égal à 1 inch, soit 2,54 cm. Après avoir réalisé ce comptage, on calcule la moyenne R du nombre de rayures par carré. Enfin, on calcule le " score Taber " Ts suivant la formule Ts =-0,18 R+ 10 Pour une couche 2 selon l'invention de 300 nanomètres d'épaisseur géométrique, ce " score " est égal à 9,3. Cette valeur dénote une détérioration peu importante et révèle donc une très bonne résistance de la couche selon l'invention à la rayure. A titre d'exemple comparatif, on peut noter qu'une couche d'oxyde d'étain dopé au fluor SnO2:F de 340 nanomètres d'épaisseur géométrique, connue comme étant la couche " la plus dure " déposée par une technique de pyrolyse en phase gazeuse, présente, suite au test un " score Taber " Ts égal à 9,1. On voit donc bien que la couche à base de nitrure de silicium selon l'invention est une couche qui, intrinsèquement, présente une très bonne résistance à l'abrasion mécanique et est d'un point de vue optique très satisfaisante puisque très transparente et très peu absorbante aux longueurs d'onde du domaine visible. EXEMPLE 2: La figure 2 représente un vitrage de type protection solaire comportant un empilement de couches minces dans lequel a été incorporée la couche 2 selon l'invention. Le substrat 1 de verre silico-sodo-calcique clair de 6 millimètres d'épaisseur est recouvert de trois couches successivement: - une première couche 3 en TiN d'épaisseur 23 nm obtenue par pyrolyse en phase gazeuse à partir d'un tétrachlorure de titane TiCI4 et de la méthylamine CH3NH2 tel que décrit dans la demande de brevet EP-0638 527. - une deuxième couche 2 selon l'invention d'épaisseur environ égale à 10 nanomètres et d'indice de réfraction égal à 1,85, déposée dans les mêmes conditions que l'exemple 1. - une troisième couche 4 ou oxycarbure de silicium en SiOC d'épaisseur 65 nm, d'indice de réfraction égale à 1,65, obtenue également par pyrolyse en phase gazeuse à partir de silane et d'éthylène comme décrit dans la demande de brevet EP-0518 755, la couche essentiellement sous forme siliciée s'oxydant à la sortie du float, et plus particulièrement dans l'étenderie. On a donc un empilement de type: verre / TiN / Si3N4 / SiOC. EXEMPLE 3: On a réalisé cet exemple comparatif utilisant un empilement: verre / TiN / SiOC. o les deux couches en TiN et SiOC ont les mêmes caractéristiques que celles définies précédemment et sont obtenues dans les mêmes conditions de dépôt. On constate que la couche 2 selon l'invention, même d'une faible épaisseur, crée une interface très solide entre la première couche 3 de TiN et la surcouche 4 de SiOC. De plus, la couche 2 selon l'invention protège efficacement le TiN de l'éventuel risque d'oxydation superficielle sur la ligne industrielle après dépôt de la surcouche 4 de SiOC. Le cas échéant, elle isole le TiN lorsque le substrat une fois découpé, subit des traitement thermiques ultérieurs du type bombage/trempe ou recuit. De même après avoir mesuré les valeurs spectrophotométriques, notamment la transmission lumineuse TL pour chacun des deux empilements des exemples 2 et 3, ainsi que le facteur solaire Fs, on constate que la sélectivité correspondant à la différence TL-Fs est bien meilleure dans le cas du " tri-couche "> de l'exemple 2 avec la couche 2 selon l'invention intercalée entre les deux couches en TiN et SiOC puisque sa valeur est de 10 %. Dans le cas du dans un vitrage de protection solaire utilisant les mêmes couches que dans l'exemple 2. Cette couche à " gradient " peut être obtenue à partir de la même technique de dépôt par pyrolyse en phase gazeuse mais en utilisant une buse apte à créer des gradients chimiques telle que celle décrite dans la demande de brevet FR-2 736 632. En conclusion, l'invention a mis au point une nouvelle couche à base de nitrure de silicium, particulièrement apte à résister à l'abrasion mécanique et très satisfaisante d'un point de vue optique puisque très peu absorbante, ce qui n'est pas le cas des couches à base de Si3N4 connues. Très avantageusement, la couche selon l'invention peut se déposer par pyrolyse en phase gazeuse à des vitesses de dépôt élévées à l'aide d'un précurseur azoté que l'on peut utiliser industriellement sans surcoût prohibitif. Le précurseur azoté utilisé est en outre d'une réactivité adéquate car il permet d'atteindre des températures de dépôt à partir desquelles il est possible sans difficulté majeure de réaliser des empilements tri- couche en ligne sur le ruban de verre float, par exemple afin de réaliser un vitrage anti-solaire avec la couche fonctionnelle en TiN et la dernière couche en SiOC, la couche selon l'invention étant avantageusement incorporée à l'empilement " bi-couche ") classique pour donner une interface plus solide et pour isoler la couche fonctionnelle de l'oxydation après le dépôt de la surcouche en SiOC et ceci, sans perturber la production sur ligne industrielle, ou encore lors de traitements thermiques du substrat hors ligne industrielle. REVENDICATIONS 1. Substrat transparent (1) du type substrat verrier recouvert d'au moins une couche mince (2) à base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium, caractérisé en ce que ladite couche mince (2) comprend les éléments Si, O, N, C dans les pourcentages atomiques suivants: - Si: de 30 à 60 %, notamment de 40 à 50 %, - N: de 10 à 56 %, notamment de 20 à 56%, - O: de 1 à 40 %, notamment de 5 à 30 %, - C: de 1 à 40 %, notamment de 5 à 30 %. 2. Substrat selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite couche mince comprend au moins un additif, notamment sous la forme d'un halogène, de préférence du fluor F et/ou sous la forme de phosphore P ou de bore B, de préférence dans un pourcentage atomique compris entre 0,1 et 5 %. 3. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche mince est homogène ou à gradient de composition dans son épaisseur. 4. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche mince présente un coefficient d'absorption lumineuse AL inférieur à 2% pour 100 nanomètres d'épaisseur géométrique. 5. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche mince présente une épaisseur géométrique comprise entre 5nm et 5pim, notamment entre 20 et 1000 nanomètres. 6. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche mince présente un indice de réfraction supérieur à 1,6, notamment compris entre 1,8 et 2,0, de préférence 1,85. 7. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche mince fait partie d'un empilement de couches minces, dont au moins une est une couche fonctionnelle à propriétés thermiques, notamment filtrantes de protection solaire ou à bas-émissivité et/ou à propriétés électriques et/ou à propriétés optiques telles qu'une couche à fonction miroir, du type oxyde métallique dopé, nitrure/oxynitrure métallique ou métal du type aluminium ou silicium, ou fait partie d'un empilement de couches anti- reflets. 8. Substrat selon la revendication 7, caractérisé en ce que ladite couche mince est sous la couche fonctionnelle, notamment comme couche barrière à la diffusion aux ions notamment des alcalins, de l'oxygène à partir dudit substrat du type substrat verrier, couche barrière à la migration des ions de la couche fonctionnelle vers le substrat du type substrat verrier destiné à la fabrication d'écran plasma, couche de nucléation, couche à rôle optique. 9. Substrat selon la revendication 7, caractérisé en ce que ladite couche mince est sur la couche fonctionnelle, notamment comme couche de protection de la couche fonctionnelle vis-à-vis de l'oxydation à haute température ou de la corrosion chimique, couche de protection mécanique du type anti-rayure, couche à rôle optique, couche améliorant l'adhésion de la couche supérieure. 10. Substrat selon l'une des revendications 7, 8 ou 9, caractérisé en ce que la couche fonctionnelle est en oxyde d'étain dopé au fluor SnO2:F, en oxyde d'indium dopé à l'étain ITO, en oxyde de zinc dopé à l'indium ZnO:In, au fluor ZnO:F, à l'aluminium ZnO:AI ou à l'étain ZnO:Sn ou en nitrure ou oxynitrure de titane TiN ou en nitrure de zirconium. 11. Substrat selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que ladite couche mince (2) est la seule couche recouvrant le substrat ou est associée à une couche anti-irisation et remplit une fonction anti-rayure. 12. Substrat selon la revendication 11, caractérisé en ce que ladite couche mince (2) présente une épaisseur géométrique d'au moins 250 nanomètres. 13. Substrat selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que ladite couche mince fait partie d'un empilement du type verre / TiN et/ou ZrN / couche mince (2) / SiOC et/ou SiO2 et remplit notamment une fonction d'interface solide entre TiN et/ou ZrN et SiOC et/ou SiO2 et une fonction anti-oxydante après le dépôt de la surcouche en SiOC et/ou en SiO2 sur et/ou hors ligne industrielle. 14. Substrat selon la revendication 13, caractérisé en ce que ladite couche en TiN présente une épaisseur géométrique comprise entre 10 et 50 nanomètres, ladite couche mince (2) présente une épaisseur géométrique comprise entre 5 et 20 nanomètres, ladite surcouche en SiOC et/ou SiO2 présente une épaisseur géométrique comprise entre 30 et nanomètres. 15. Procédé de dépôt de la couche mince (2) selon l'une des revendications précédentes effectué par une technique de pyrolyse en phase gazeuse à partir d'au moins deux précurseurs dont au moins un précurseur de silicium et au moins un précurseur d'azote caractérisé en ce qu' au moins un précurseur d'azote est sous la forme d'une amine. 16. Procédé selon la revendication 15, caractérisé en ce que le précurseur de silicium est un silane, du type hydrure et/ou alkyle de silicium, silazane. 17. Procédé selon la revendication 15 ou 16, caractérisé en ce que l'amine est une amine primaire, secondaire ou tertiaire, notamment à radicaux alkyls ayant de 1 à 6 atomes de carbone chacun. 18. Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce que l'amine est de l'éthylamine C2H5NH2, de la méthylamine CH3NH2, de la diméthylamine (CH3)2NH, de la o0 butylamine C4H9NH2, de la propylamine C3H7NH2. 19. Procédé selon l'une des revendications 15 à 18, caractérisé en ce que le rapport en nombre de moles de la quantité de précurseur(s) d'azote sur la quantité de précurseur(s) de silicium est compris entre 5 et 30, de préférence 10. 20. Procédé selon l'une des revendications 15 à 19, caractérisé en ce que le précurseur de l'additif est indépendant des précurseurs de silicium et d'azote, et est notamment un gaz fluoré du type CF4 lorsque l'additif est du fluor F et un gaz organique porteur de phosphate du type PO(OCH3)3 ou un gaz du type triéthylphosphite, triméthylphosphite, triméthylborite, PCI3, PF5, PBr3, PCI5 lorsque l'additif est du phosphore P ou du bore B. 21. Procédé selon l'une des revendications 15 à 20, caractérisé en ce que la température de dépôt est choisie entre 550 et 700 C, de préférence entre 600 et 650 C. 22. Procédé selon l'une des revendications 15 à 21, caractérisé en ce que l'on effectue le dépôt de ladite couche mince, dans une atmosphère essentiellement inerte ou hydrogénée, sans oxygène, en continu sur un ruban de verre float, dans l'enceinte de flottage et/ou dans un caisson de contrôle de l'atmosphère inerte ou réductrice. 23. Application du substrat selon l'une des revendications 1 à 12 ou du procédé selon l'une des revendications 15 à 22, à la fabrication de vitrages munis de couches minces, de protection solaire du type filtrants ou bas-émissifs et/ou anti-rayure et/ou à fonction miroir ou anti-reflets. 24. Application selon la revendication 23, à la fabrication de vitrages munis de couches minces trempables/bombables et/ou de grande durabilité. 25. Application selon la revendication 24, aux vitrages monolithique, feuilletés, multiples dans lesquels le(s) substrat(s) est(sont) clair(s) ou teinté(s) dans la masse. 26. Application du produit selon l'une des revendications 1 à 11 ou du procédé selon l'une des revendications 15 à 22, au traitement de surface de récipients du type bouteilles en verre.