FR 2748034 A1 19971031 FR 9615718 A 19961220 PARTIE EN ALLIAGE DE TiAl ET PROCEDE DE PREPARATION DE CELLE-Ci Cette invention concerne une parcie en alliage de TiAl ayant une excellente résistance à l'oxydaton à haute température et un procdée de préparation de celle-ci. De manière générale, un comose intermé:allique de TiAl a un poids plus faible et une résistance à des hautes températures plus élevée comparé avec Ti en tant que substance simple. Une partie en alliage de TiAl principalement formée du com7posé intermêtall que TiAl susmentionné a été très attendue cour être utilisée comme parties d'un moteur à réaction, d'un turbocompresseur pour un moteur d'automobile ou du même genre exigeant un faible poids et une résistance élevée. Cependant, le composé intermétallique de TiAI a un caractere innesirable du fait au il a tendance à se déraer_ du cein: de vue de sa résistance à l'oxydation lorscu'il est chauffé à une haute température de 800 C ou plus haut. La dégradation de la ràsistance à l'oxydation peut être attribuée à Ti qui diffuse de manière active vers la surface à une haute tepeérature. En d'autres mots, dans le composé intermétallique de TiAl à 800C ou plus haut, l'oxydation se déroule probablement brusquement dans des conditions atmosphériques et du TiO2 est principalement produit. Comme résultat, une échelle d'oxydation de trois couches, une couche de TiO2 en tant que premiere couche la plus à l'extérieur, une couche de A-203 en tant que seconde couche et une couche de TiO2.A1203 en tant que troisième couche, est formée sur une surface d'un matériau de base contenant le composé interm'tallique de Ti'. A un stade initial de l'oxydation, la seconde couche de A1203 sert à fournir une résistance a 'oxydation. On pense que cela est du au phnomne que le A!203 a été formé consécutivement au stade initial de!'oxydation, la couche de celui-ci inhibant la diffusion du Ti denuis le matériau de base vers sa surface et la diffusion de l'oxygène depuis la surface vers le matériau de base. A un stade o l'oxydation s'est poursuivie plus loin, Ti a déjà diffusé pour briser la continuité de la seconde couche de A1203 Ainsi, la couche de A1203 perd son aptitude à inhiber la diffusion à la fois de Ti et de O, résultant en une résistance à l'oxydation diminuée du composé intermétalliaue de TiAl. Dans le but d'améliorer la résistance à l'oxydation à haute température, deux techniques antérieures ont été proposées. i0 Premièrement, la publication d'une demande de brevet japonais No. 63148/1992 décrit un procédé pour former un film de résistance à l'oxydation contenant du A1203 sur une surface du composé interméeallique de TiAl. Dans le procédé ci-dessus, le composé intermétallique de TiAl est chauffé sous une atmosphère pauvre en oxygène et une couche de A1203 est formée en oxydant sélectivement Al sur sa surface. La couche de A1203 résultante sert comme film résistant à l'oxydation qui améliore la résistance à l'oxydation à température élevée. Deuxièmement, la publication du brevet japonais mise à la disposition du public No. 78817/1993 décrit un procédé pour former au moins un type de couche concentrée ayant une épaisseur de 0,5 Lm ou plus choisi dans le groupe constitué par Mo et W sur la surface du composé intermétallique de TiAl. Dans ce procédé, une couche en alliage de TiAl-(W ou Mo) ayant une résistance à l'oxydation est formé sur la surface d'un composé intermétallique de TiAl. Comme résultat, la résistance à l'oxydation peut être améliorée. Cet art antérieur décrit une combinaison d'un traitement par projection et diffusion, d'une opération de compactage de poudre et une combinaison d'une opération de compactage de poudre et d'un traitement par diffusion comme procédé pour préparer la couche concentrée. Chacune de ces méthodes conventionnelles pour améliorer la résistance à l'oxydation a un désavantage comme décrit ci-dessous. Dans le premier procédé conventionnel, la couche de A1203 formée sur la surface du matériau de base n'est pas suffisamment densifiée, ce qui empêche l'inhibition de la diffusion de Ti vers la surface. Comme résultat, la résistance d'adhésion entre le matériau de base et la couche de A1203 devient réellement faible. La couche de A1203 ne peut pas mainten-r sa stabilité pendant longtemps. Dans le second procéde conventionnel, W ou du même genre est collé contre la surface du composé intermétallique de TiAl par un traitement par projection et de compactage de poudre. Il devient difficile de faire adhérer le W à la surface du compose intermézallique de TiAl ayant une forme compliquée ou une grande surface. Accompagné de la difficulté susmentionnée, la couche concentrée de W ou du meme genre n'est pas formée de manière uniforme. Dans le cas oc une partie en traitement ayant une forme compliquée ou une grande surface est mise à adhérer avec W par le procédé ci-dessus, certaines parties de la surface peuvent garder une résistance à l'oxydation réellement faible. Un objet de a présente in.vention consiste à fournir une partie en alliage de TiAi ayant un film uniforme résistant à l'oxydation à température élevée sur la totalité de la surface de celle-ci ainsi qu'une excellente résistance à l'oxydation meme si la partie en alliage de TiAl a une forme complicuée cu une grande surface ainsi qu'un procédé de préparation de celle-ci. La présente invention fournit un procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl en recouvrant d'un film résistant à l'oxydation à haute temperature une surface d'un matériau de base comprenant les étapes consistant à préparer une solution de sol d'oxyde formée par un oxyde d'un élément de métal, soit le tungstène, soit le niobium, soit le tantale, qui a été obtenue à partir d'un composé métallique contenant un des éléments de métal et un solvant comme produits de départ; recouvrir d'une solution de sol d'oxyde la surface du matériau de base foré d'un composé intermétallique de TiA1; chauffer sous vide le matériau de base sous une atmosphère de vide; et former un film résistant à l'oxydation à haute temperature sur la surface du matériau de base. Ces objets et d'autres ainsi que beaucour des avantages de l'invention qui les accompagner.nt seront rapidement appréciés puisque celle-ci devient mieux comprise en référence à la description détaillée suivante lorsque celle-ci est considérée en relation avec les dessins annexés. La Figure 1 est une vue en coupe d'une_ partie en alliage de TiAl de l'Exemple 1. La Figure 2 est une représentation graphique de la relation entre le temps de maintien d'une Température de chauffage et le degré d'oxydation accru dans l'Exemple 2. La Figure 3 est une vue en coupe d'une partie en alliage de TiAl de l'Exemple 3. La Figure 4 est une représentation graphique de la relation entre le temps de maintien d'une température de chauffage et le degré d'oxydation accru dans l'Exemple 4. La caractéristique la plus importante de la présente invention est qu'un procédé sol-gel utilisent la solution de sol d'oxyde susmentionnée est employé et qu'un chauffage sous vide est exécuté. La solution de sol d'oxyde est utilisée à travers un procédé sol-gel pour produire un film soit de WO3 (oxyde de tungstène), soit de Nb205 (oxyde de niobium), soit de Ta205 (oxyde de tantale) sur une surface du matériau de base. La solution de sol d'oxyde est produite en utilisant le composé métallique et un solvant comme produits de départ. Plus particulièrement, la solution de sol d'oxyde est obtenue en mélangeant le composé métallique tel que le tungstène, le niobium ou le tantale dans un solvant tel que un alcool ou du même genre, qui est agitée pour la dissolution. N'importe quel solvant comme un alcool, de l'eau, un mélange d'alcool et d'eau, le toluène, le xylène ou du même genre peut être utilisé comme szlvant en fonction de quel type de composé m-etallique est utilisé. Cependant, il est préférable d'utiliser un alcool pour des raisons de sécurité. Les effets dérivés de la présente invention sont décrits ci-après. Le procédé de préparation. de la présente invention emploie le procédé solgel par lequel une solution de sol d'oxyde est appliquée sur la surface d'un matériau de base. Même si le matériau de base a une forme compliquée ou une grande surface, le film d'oxyde peut être appliqué de manière uniforme sur la totalité de la surface du matériau de base. Après application du film d'oxyde sur la surface du matériau de base, le matériau de base recouvert est chauffé sous vide. Le chauffage sous vide provoque la diffusion soit de W, soit de Nb, soit de Ta contenu dans le film d'oxyde et du Ti contenu dans le matériau de base. Pendant ce temps l'oxygène contenu dans le film d'oxyde et une petite quantité d'oxygène restée dans l'atmosphère de vide sert à oxyder la surface du matériau de base. Comme résultat, un film résistant à l'oxydation à haute température formé de 3 couches es: produit sur la surface du matériau de base. Le film résistant à l'oxydation à haute température est formé d'une première couche la plus à l'extérieur soit d 3e W3.TiO2.A1203, soit de Nb2O.i2.A203, soit de Ta205.TiO2.A1203, d'une seconde couche de TiO2. A1203 et une troisième couche de A1203. Chaque couche a un métal tel que W, Nb ou Ta dispersé dans celle-ci. Ainsi, en supposant que WO3.TiO2. A1203 est utilisé comme première couche, le métal W est dispersé dans chaque couche. En supposant que Nb205.TiO2.A1203 est utilisé, le métal Nb est dispersé dans chaque couche. En supposant que Ta205 TiO2.A1203 est utilisé, le métal Ta est dispersé dans chaque couche. En fonction du type de composé métallique utilisé comme produit de départ de la solution de sol d'oxyde, il est nécessaire de chauffer le film (WO3, Nb20- ou Ta205) qui a été appliqué pour la cristallisation avant le chauffage sous vide. Il est préférable de fixer la température de chauffage à 4000C ou plus de manière à ce que le film de WO3, le film de Nb205 ou le film de Ta2o05 formé sur la totalité de la surface du matériau de base puisse être cristallisé de manière uniforme. Dans le cas o la température de chauffage est inférieure à 400 C, le film est maintenu amorphe en contenant une petite quantité d'eau sur la surface de TiAl. Le chauffage sous vide peut accélérer l'oxydation de TiAl, ce qui résulte en une dégradation de la densité de la couche de A1203 en tant que troisième couche du film résistant à l'oxydation à haute température comme décrit ci-dessous. La présente invention est réalisée en utilisant un composé métallique contenant du tungstène qui est au moins un des composés choisi dans le groupe constitué par un alkylate de métal tungstène, un acétylacétonate de métal tungstène, un chlorure de tungstène et un composé acide de tungstène. Plus particulièrement, le tungstène peut être un alkylate de métal, W(OC2H5)6, W(OC3H7)6, W(OC4H9)6, W(OC2H5)5, W(OC3H7)5 ou du même genre. L'acétylacétonate de métal tungstène peut être W(O2C5H7)6, W(O2C5H7)5 ou du même genre. Le chlorure de tungstène peut être WC16, WC15, WOC14 ou du même genre. Le composé acide de tungstène peut être H2W04, Na2WO4, Na2WO4.2H20 ou du même genre. La présente invention est réalisée en utilisant un composé métallique contenant du niobium qui est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par un alkylate de métal niobium, un acétylacétonate de métal niobium et un chlorure de niobium. Plus particulièrement, l'alkylate de métal niobium peut être Nb(OCH3)5, Nb(OC2H5)5, Nb(OC3H7)5 ou du même genre. L'acétylacétonate de métal niobium peut être Nb(O2C5H7)5 ou du même genre. Le chlorure de niobium peut être NbCl5, NbOCl3 ou du même genre. La présente invention est réalisée en utilisant un composé métallique conter.ant du tantale aui est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par un alcoxydo de métal tantale, un acétylacêtonate de métal tantale et un chlorure de tantale. Plus particulièrement, l'alcoxydo de métal tantale peut être Ta(OCH3)5 Ta(OC2H5)F, Ta(OC3H7)5 ou du même genre. L'acétylacétorate de métal tantale peut être Ta(O2C5H7)5 ou du même genre. Le chlorure de tantale peut être TaCl5, TaOCl3 ou au même genre. Il est préférable que la solution de sol d'oxyde contienne un agent de chélation ajouté à celle-ci pour former un complexe en combinaison avec le composé métallique, conduisant à une solution de sol d'oxyde stabilisée. L'agent de chélation peut être de l1acétylacétone, de la diéthanolamine, de a triéthanolamine ou du même genre. Le matériau de base est recouvert en utilisant le procédé sol-gel par revêtement par immersion, par revêtement par centrifugation ou par revêtement par projection ou du même genre. Il est préférable que le chauffage sous vide soit exécuté à une température se situant dans la gamme de 800 à 1100 C sous un degré de vide se situant dans la gamme de 1,3 Pa à 1,3 x 10-5 Pa. Le film résistant à l'oxydation à haute température résultant recouvre de manière uniforme la surface du matériau de base. Si le degré de vide dépasse 1,3 Pa, la densité de la couche de A1203 ern tant que troisième couche du film résistant à l'oxydation à haute température devient faible. Si le degré de vide est inférieur à 1,3 x 10-5 Pa, le Al contenu dans le matériau de base en TiAl s'évapore. Si la température pour le chauffage sous vide est inférieure à 800 C, une longue période de temps sera prise pour former le film résistant à l'oxydation à haute température, ce qui résulte en une diminution de la productivité. Si la température dépasse llC00 C, le Al contenu dans le matériau de base en TiAl s'évapore. La partie en alliage de TiAl qui a été produite avec le procédé décrit ci-dessus est formée d'un matériau de base produit à partir d'un ccmosé inr.termétallicue de TiAl et d'un film résistant à l'oxydation à haute température recouvrant la surface de celui-ci. Le film résistant à l'oxydation à haute température est formé d'une première couche la plus à l'extérieur formée soit de W03.TiO2.Al203, soit de Nb205.TiO2.A1203, soit ce Ta2O5.TiO2.A1203, d'une seconde couche au-dessous de la premiere couche formée de TiO2.A1203 et d'une troisième couche interposée entre la seconde couche et le matériau de base formée de A1203. Chaque couche a le métal (W, Nb ou Ta contenu dans la première couche) dispersé dans celle-ci. La caractéristique la plus importante de la partie en alliage de TiAl de la présente invention est le film résistant à l'oxydation à haute température formé des trois couches spécifiées ci-dessus, qui recouvre la surface du matériau de base. L'effet dérivé de la partie en alliage de TiAl est décrit. La partie en alliage de TiAl de la présente invention a un film résistant à l'oxydation à haute temdcérature. La première couche située la plus à l'extérieur du film résistant à l'oxydation à haute température est formée soit de WO3.TiO2.A1203, soit de Nb2O5.TiO2. At203, soit de Ta205.TiO2.A1203. Le métal contenu dans le compose métallique en utilisation est dispersé dans celui-ci. Comme résultat, la première couche sert à inhiber la diffusion de O depuis la surface la plus à l'extérieur vers le matériau de base et de diffusion de Ti depuis le matériau de base vers la surface. Puisque la couche d'oxyde contient le métal, soit W, soit Nb, soit Ta dispersé dans celle-ci, la seconde couche et la troisième couche deviennent plus densifiée, inhibant en plus la diffusion de O et Ti. Cela inhibe l'oxydation du composé intermétallique de TiAl, améliorant ainsi la résistance à l'oxydation à haute température de la partie en alliage de TiAl. Il est préférable que le film résistant à l'oxydation à haute température ait une épaisseur de 5,0 um ou moins, que la première couche ait une épaisseur se situant dans la gamme de 0,001 à 0,2 4m et que la troisième couche ait une épaisseur se situant dans la gamme de 0,1 à 5,0 pm. Si l'épaisseur du film résistant à l'oxydation à haute température dépasse 5,0 "m, la résistance d'adhésion entre le matériau de base et le film résistant à l'oxydation à haute température est diminuée. Si l'épaisseur de la première couche est inférieure à 0,001 gm, l'effet pour inhiber la diffusion de Ti depuis le matériau de base vers la surface du film résistant à l'oxydation à haute température est dégradée. Tandis que si l'épaisseur de la première couche dépasse 0,2 /m, la résistance d'adhésion de celle-ci est dégradée. Si l'épaisseur de la troisième couche est inférieure à 0,1 gm, l'effet pour inhiber la diffusion de O et de Ti est dégradée. Tandis que si l'épaisseur de la troisième couche dépasse 5,0 pm, la résistance d'adhésion du film résistant à l'oxydation à haute température est dégradée. EXEMPLES Exemole 1 Il est décrit un exemple d'une partie en alliage de TiAl et un procédé pour produire celle-ci de la présente invention comme montré sur la Ficure 1. La partie en alliage de TiAl est formée dans un rotor de turbocompresseur utilisé dans un moteur automobile. Comme le montre la Figure 1, la partie en alliage de TiAl est formée d'un matériau de base 11 produit à partie d'un composé intermêtallique de TiAl et d'un film résistant à l'oxydation à haute température 12 formé sur la surface de celui-ci. Le film résistant à l'oxydation à haute température 12 est constitué de trois couches: une première couche la plus à l'extérieur 121 formée de W03.TiO2.Al203, une seconde couche 122 au-dessous de la première couche 121 formée de TiO2.A1203 et une troisième couche 123 formée de A1203 interposée entre la seconde couche 122 et le matériau de base 11. Chacune des première couche 121, seconde couche 122 et troisième couche 123 a le métal W dissersé dans celle-ci. Comme le montre la figure i, le film résistant à l'oxydation à haute temperature 12 a une épaisseur H de ,0 gm ou moins. La premiere couche 121 a une épaisseur Hi se situant dans la gamme de 0,001 à 0,2 im. La troisième couche 123 a une épaisseur H3 se situant dans la gamme de 0,1 à 5,0 Pm. Le composant de l'alliage de TiAl 10 est produit en appliquant une solution de sol de W03 sur la surface du matériau de base formé du compose intermêtallique de TiAl. Le matériau de base recouvert résultant est placé dans une atmosphère sous vide et chauffé sous vide. La solution de sol de WO3 a été préparée à partir d'un composé de tungstène et d'un solvant comme produits de départ. Dans cet exemple, le matériau de base recouvert a été chauffé pour cristalliser le film de revêtement avant le chauffage sous vide. Le procédé de préparation est décrit ci-après. Premièrement 4 g d'hexaêthoxytungstène W(OC2H5)6 en tant que composé de tungstène, 45,0 g de 1-butanol en tant que solvant et 1,0 g d'acétylacétone en tant que agent de chélation ont été mélangés et agités pendant 10 minutes. Ensuite, le mélange a été mis à reflux à 117 C pendant deux heures et refroidi. Ensuite, une solution de sol de WO3 a été obtenue. La solution de sol de WO3 a été appliquee sur la surface du matériau de base de la partie en alliage de TiAl qui avait été nettoyée avec de l'acétone par un procédé de revêtement par immersion. La vitesse pour sortir le matériau de base de la solution de WO3 était de 60 mm/min. Après application du revêtement, le matériau de base a été chauffé à 500 C pendant 30 minutes, formant ainsi un film de WO3 sur la surface du matériau de base. Ensuite le matériau de base recouvert a été chauffé sous vide sous 6,7 x 10-2 Pa à 1000 C pendant 24 heures. Comme résultat, la partie en alliage de TiAl 10 a été obtenue. L'effet résultant de la Présente invention est décrit. Selon le procédé de préparation de la présente invention, la surface du matériau de base il est recouverte avec une solution de sol de WO3 préparée ci-dessus par un procédé sol-gel. Mlême si le matériau de base 11 a une forme compliquée comme le rotor du turbocompresseur de cet exemple, le film de WO3 peut être appliqué de manière uniforme sur la totalité de la surface du matériau de base 11. Après application du film de WO3 sur le matériau de base 11, le matériau de base recouvert a été chauffé sous vide. Le métal W contenu dans le film de WO3 et Ti contenu dans le matériau de base 11 commence à se disperser dans ceux-ci, respectivement. L'oxygène contenu dans le film de WO3 et un petite quantité d'oxygène restée dans l'atmosphère de vide sert à oxyder la surface du matériau de base 11. Comme le montre la Figure 1, le film résistant à l'oxydation à haute température constitué de trois couches est formé sur la surface du matériau de base 11. Le film résistant à l'oxydation à haute température 12 est constitué de 3 couches, une première couche 121 en tant que couche la plus à l'extérieur formée de W03.TiO2.A1203, une seconde couche 122 au-dessous de la première couche 121 formée de TiO2.A1203 et une troisième couche 123 formée de A1203 interposée entre la seconde couche 122 et le matériau de base 11. Chaque couche contient le métal W dispersé dans celle-ci. La partie en alliage de TiAl produite par le procédé décrit ci- dessus a une excellente caractéristique en ce qui concerne la résistance à l'oxydation à haute température. La partie en alliage de TiAl a un film 12 résistant à l'oxydation à haute température formé sur sa surface. La première couche 121 en tant que couche la plus à l'extérieur du film 12 résistant à l'oxydation à haute température est formé de W03.TiO2.Al203 oû le métal W est dispersé. Ainsi, la première couche 121 sert à inhiber la diffusion de l'oxygène depuis la surface extérieure vers le matériau de base 1il et la diffusion de Ti deuis le matériau de base il vers la surface. Puisque le métal W est dispersé dans la couche d'oxydation ci-dessus, chaoue structure de la seconde couche 122 et de la troisième couche 123 devient densifiée, inhibant ainsi en plus la diffusion de O e. de Ti. Comme résultat, le composé intermêtallique de TiAl est préservé d'une oxydation, résultant en une amélioration substantielle de la résistance à l'oxydation à haute température de la partie en alliage de TiAl 10. Exemple 2 Dans cet exemple, la partie en alliage de TiAl de l'Exemple 1 a été soumise à un test d'oxydation à haute température en continu comme montré sur la Figure 2. A une température atmosphérique chauffée à 900 C, le degré d'oxydation accru (g/mn2) par rapport au temps de séjour à la température de chauffage a été mesuré. Dans un but de comparaison, trois types de produits ont été préparés comme exemples comparatifs et soumis au même test d'oxydation à haute température en continu que celui indiqué ci-dessus. L'exemple comparatif 1 était une partie formée d'un composé intermétallique de TiAl comme celui produit avec aucun traitement de surface appliqué à celui-ci. L'exemple comparatif 2 était une partie comportant un film de WO3 appliqué sur la surface du matériau de base par un procédé sol-gel, qui a été produite par la même procédure que celle de la partie en alliage de TiAl 10 de l'Exemple 1. Toutefois, l'exemple comparatif 2 n'a pas été traité par un chauffage sous vide. L'exemple comparatif 3 était formé comme la partie en alliage de TiAl ne comportant aucun film de W0)3 formé sur sa surface comme dans l'Exemple 1. Cependant, l'exemple comparatif 3 a été chauffé sous vide dans les mêmes conditions que celles de l'Exempcle 1. Les résultats du test sont montrés sur la Figure 2. Sur le graphique de la Figure 2, l'axe de l'abscisse est la période de séjour à une température de chauffage de 900 C et l'axe de l'ordonnée est le degré d'oxydation accru dû au chauffage. Les lignes brisées Ci, C2 et C3 représentent les exemples comparatifs 1, 2 et 3, respectivement. Comme montré sur la Figure 2, l'exemple comparatif en tant que partie en alliage de TiAl conventionnelle avec aucun traitement de surface sur celle-ci augmentait rapidement son degré d'oxydation en approximativement heures. L'oxydation se produisait ensuite progressivement à une vitesse plus élevée. La vitesse d'augmentation des degrés d'oxydation accrus à la fois des exemples comparatifs 2 et 3 aiminuait comparé avec l'exemple comparatif 1, cependant l'oxydation se produisait à un taux essentiellement élevé. Tandis que la partie en alliage de TiAl 10 de la présente invention développait une oxydation à un degré plus faible en environ 50 heures. Après un laps de temps de heures, l'oxydation se produisait difficilement et présentait une excellente caractéristique du point de vue de la résistance à l'oxydation à haute température. Exemple 3 Dans l'exemple 3, un film résistant à l'oxydation à haute température 22, qui est différent de celui de l'Exemple 1 a été formé sur la surface d'un rotor de turbocompresseur en tant cue matériau de base 1l formé d'un composé intermétallique de TiAl. Le film résistant à l'oxydation à haute température 22 est constitué de 3 couches: la premiere couche 221 en tant que couche la plus à l'extérieur formée de Nb205.TiO2.A1203, la seconde couche 222 au- dessous de la première couche 221 formée de TiO2.Al203 e: la troisième couche 223 formée de Al203 interposee entre la seconde couche 223 omed A23' couche 222 et le matériau de base 11. Chacune de ces couches 221, 222, 223 a le métal Nb dispersé dans celle-ci. Afin de produire la partie en alliage de TiAl, une solution de sol d'oxyde de niobium contenant un composé de niobium a été utilisée au lieu d'un composé de tungstène utilisé dans l'Exemple 1. Ainsi, 10,8 g de pentaéthoxyniobium Nb(OC2H5)5 en tant que composé de niobium et 3,6 g de diéthanolamine en tant que agent de chélation ont été mélangés et agités pendant une heure. Ensuite, la solution de sol d'oxyde de niobium a été obtenue. Le matériau de base de la partie en alliage de TiAl a été préalablement nettoyé avec de l'acétone et immergé dans la solution de sol d'oxyde de niobium pour être recouvert par immersion. Le matériau de base a été retiré de la solution à 3 mm/sec. Le matériau de base ainsi recouvert a été chauffé à 500 C pendant 30 minutes, résultant en un film d'oxyde de niobium formé sur la surface du matériau de base. Le matériau de base ayant le film d'oxyde de niobium a été chauffé à 1000 C pendant 24 heures sous un degré de vide de 1,3 x 10-4 Pa. Les autres conditions étaient les mêmes que celles de l'Exemple 1. Comme résultat, la partie en alliage de TiAl 20 revêtue avec le film résistant à l'oxydation à haute température a été obtenue. Le film résistant à l'oxydation à haute température 22 est uniformément appliqué sur la totalité de la surface de la partie en alliage de TiAl 20 de cet Exemple. Similaire au film résistant à l'oxydation à haute température 12 de l'Exemple 1, le film résistant à l'oxydation à hautetempérature 22 contribue à améliorer la résistance à l'oxydation à haute température de la partie en alliage de TiAl. Cet exemple fournit aussi les mêmes effets que ceux de l'Exemple 1. Exemple 4 Dans cet exemple la partie en alliage de TiAl 20 obtenue de l'Exemple 3 a été soumise à un test d'oxydation à haute température en continu. Les conditions du test étaient les mêmes que celles de l'Exemple 2. Cet exemple préparait trois types d'exemples comparatifs qui ont aussi été testés. L'exemple comparatif 4 était le même que l'exemple comparatif 1 de l'Exemple 2, c'est-à-dire une partie formée d'un composé intermétallique de TiAl avec aucun traitement de surface. L'exemple comparatif 5 était une parzie avec le matériau de base recouvert avec un film d'oxyde de niobium sur sa surface. Cependant, cet exemple comparatif 5 n'a pas été chauffé sous vide. L'exemple comparatif 6 n'avait pas eu un traitement de surface sur la surface du matériau de base mais avait subi un traitement par chauffage sous vide dans les mêmes conditions que celles de l'Exemple 3. Les résultats du test sont montrés sur la Figure 4. L'axe de l'ordonnée et l'axe de l'abscisse sont les mêmes que ceux de la Figure 2. La ligne pleine E3 représente la partie de l'Exemple 3. Les lianes brisées C4, C5 et C6 représentent les exemples comparatifs 4, 5 et 6, respectivement. Comme le montre la figure 4, le produit de la présente invention ayant un film résistant à l'oxydation à haute température 22 présente une excellente caractéristique du point de vue de la résistance à l'oxydation à haute température. Dans les exemples tels que décrits ci-dessus, une solution de sol d'oxyde de tungstène et une solution de sol d'oxyde de niobium ont été utilisées comme solution de sol d'oxyde pour former le film résistant à l'oxydation à haute température. Il est aussi possible d'utiliser une solution de sol d'oxyde de tantale comme solution de sol d'oxyde, par laquelle des effets similaires peuvent être obtenus. La présente invention fournit une partie en alliage de TiAl présentant une excellente résistance à l'oxydation à haute température à cause du film résistant à l'oxydation à haute température recouvrant uniformément la totalité de la surface du matériau de base même si la partie a une grande surface ou une forme compliquée ainsi qu'un procédé de préparation de celle-ci. Alors que l'invention a été montrée de manière particulière et décrite en référence à des exemples de celle-ci, il devra être compris par les hommes du métier que les changements ci-dessus et autres changements dans la forme et les détails peuvent être effectués sans s'écarter de l'esprit et du but de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl en recouvrant d'un film résistant à l'oxydation à haute température une surface d'un matériau de base comprenant les étapes consistant à: préparer une solution de sol d'oxyde formée par un oxyde d'un élément de métal, sot le tungstène, soit le niobium, soit le tantale, aui a été obtenue à partir d'un composé métallique contenant un desdits éléments de métal et un solvant comme produits de départ; recouvrir avec ladite solution de sol d'oxyde une surface dudit matériau de base formé d'un composé intermétallique de TiAl; chauffer sous vide ledit matériau de base dans une atmosphère sous vide; et - former un film résistant à l'oxydation à haute température sur ladite surface du matériau de base. 2. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl selon la revendication 1, dans lequel ledit matériau de base recouvert avec ladite solution de sol d'oxyde est chauffé avant d'être chauffé sous vide de sorte qu'un film résistant est cristallisé. 3. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl selon l'une des revendications 1 ou 2, dans lequel ledit composé métallique contenant ledit tungstène est au moins un composé choisi parmi un alkylate de métal tungstène, un acétylacétonate de métal tungstène, un chlorure de tungstène et un composé acide de tungstène. 4. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl selon l'une des revendications i ou 2, dans lequel ledit composé métallique contenant ledit niobium est au moins un composé choisi parmi un alkylate de métal niobium, un acétylacétonate de métal niobium et un chlorure de niobium. 5. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl selon l'une des revendications 1 ou 2, dans lequel ledit composé mêtallique contenant ledit tantale es: au moins un composé choisi parmi un alkylate de métal tantale, un acétylacétonate de métal tantale et un chlorure de tantale. 6. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl selon l'une quelconque des revendications 1, 2, 3, 4 ou 5, dans leauel un agent de chêlation pour former un complexe avec ledit composé métallique est ajouté à ladite solution de sol d'oxyde. 7. Procédé pour préparer une partie en alliage de TiAl selon l'une quelconque des revendications 1, 2, 3, 4, 5 ou 6, dans lequel ledit chauffage sous vide est exécuté à une température se situant dans la gamme d'environ 800 à environ 1100 C sous un degré de vide se situant de 1,3 Pa à 1,3 x 10-5 Pa. 8. Partie en alliage de TiAl formée d'un matériau de base tel qu'un composé intermétallique de TiAl et d'un film résistant à l'oxydation à haute tempeêrature recouvrant celui-ci, ledit film résistant à l'oxydation à haute température étant constitué d'une première couche en tant que couche la plus à l'extérieur formée soit de W03.TiO2.A1203, soit de Nb2O5.TiO2.A1203, soit de Ta205.TiO2.A1203, une seconde couche formée de TiO2.A1203 et une troisième couche formée de A1203 interposée entre ladite seconde couche et ledit matériau de base, chaque couche dudit film résistant à l'oxydation à haute température ayant un métal, soit W, soit Nb, soit Ta, dispersé dans celle-ci. 9. Partie en alliage de TiAl selon la revendication 8, dans laquelle l'épaisseur dudit film résistant à l'oxydation à haute température est de 5,0 dm ou moins, l'épaisseur de la première couche se situant dans la gamme de 0,001 à 0,2 m et 1' épaisseur de ladite troisième couche se situant dans la gamme de 0,1 à 5,C =m.