FR 2743938 A1 19970725 FR 9600811 A 19960119 CCPOSANT DE PROTECTICN D' DNTERFACE DE LIGNES TrIE.ENIQUES La présente invention concerne un composant de protec- tion, plus particulièrement applicable à la protection de lignes téléphoniques. La demande de brevet européen EP-A-0 687 051 de la demanderesse décrit un circuit de protection d'interface de lignes téléphoniques et des modes de réalisation particuliers de ce circuit sous forme de composant monolithique. La figure 1 de la présente demande reproduit la figure 4 de cette demande de brevet antérieure et représente un élément de circuit comprenant deux thyristors tête-bêche Thl et Th2, respectivement à gâchette de cathode et à gâchette d'anode, connectés entre une ligne AB et une borne de référence G. Les gâchettes sont reliées ensemble au point B. Une borne commune des thyristors est reliée au point A, une résistance Rd étant insérée entre les points A et B. L'autre borne commune des thyristors est reliée à la borne de référence G. Une diode Zener Z1 connectée entre les bornes B et G entraîne, quand elle entre en avalanche, le déclenchement du thyristor Thl et une diode Zener Z2 connectée entre les bornes A et G entraîne, quand elle entre en avalanche, le déclenchement du thyristor Th2. Quand le courant entre les bornes A et B dépasse un seuil déterminé, l'un ou l'autre des thyristors Thl et Th2 est mis en conduction par sa gâchette. Ainsi, dans les circuits de la figure 1, selon la pola- rité en cause, l'un ou l'autre des thyristors Thl et Th2 entre en conduction si le courant dans la résistance Rd dépasse un seuil déterminé ou si la tension sur la ligne AB dépasse la tension d'avalanche de la diode Zl ou Z2. La figure 2 de la présente demande reproduit la figure 7 de la demande de brevet susmentionnée et constitue un mode de réalisation du circuit de la figure 1. On a rajouté sur la figure 2 l'indication des emplacements des éléments Thl, Th2, Zi et Z2 de la figure 1. Lors de la conception et de la réalisation de l'inven- tion faisant l'objet de la demande de brevet susmentionnée, il était apparu à l'inventeur que l'une des difficultés essentielles à résoudre résidait dans l'obtention de sensibilités équivalentes pour le déclenchement par la gâchette des thyristors Thl et Th2 et dans l'obtention de courants de maintien appropriés. Ainsi, divers moyens ont été indiqués dans cette demande de brevet anté- rieure pour résoudre ce problème. Toutefois, lors de la réalisation pratique du circuit, la demanderesse s'est aperçu que, si le déclenchement du thyris- tor Thl à la suite de la mise en avalanche de la diode Zener Zl ne posait pas de problèmes particuliers, la sensibilité de déclenchement du thyristor Th2 à la suite du passage d'un courant dans la résistance Rd devait encore être améliorée. Plus parti- culièrement, ce déclenchement s'est avéré trop lent (durée supérieure à 1 gs). Les efforts pour optimiser la topologie du composant (voir figures 8A et 8B de la demande de brevet européen EP-A-0 687 051) se sont avérés infructueux. Ainsi, quand une surintensité à front particulièrement raide (par exemple une onde normalisée 0,5/700 ls d'une intensité de 30 A) survient sur la ligne AB, le thyristor Th2 entre bien en conduction mais avec un certain retard et, pendant ce retard, le composant de protection va laisser passer l'intensité de crête de 30 A, ce qui peut dégrader le circuit intégré à protéger. La présente invention vise à résoudre ce problème et à améliorer la vitesse de réaction du composant à la suite de l'apparition d'une surintensité positive sur la ligne AB. Pour atteindre cet objet, la demanderesse a été conduite à modifier complètement la structure du composant de la figure 2 et plus particulièrement de la partie de ce composant correspondant au thyristor Th2, conme cela sera exposé ci-après. Avec la modification selon la présente invention, on obtient une mise en conduction extrêmement rapide du thyristor Th2 à la suite d'une surintensité (moins de 1 Us après le début de la surintensité). Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: la figure 1 correspond à la figure 4 de la demande de brevet européen EP-A-0 687 051; la figure 2 correspond à la figure 7 de la demande de brevet européen EP-A-0 687 051; et la figure 3 représente un exemple d'intégration selon la présente invention de la structure de la figure 1. Comme cela est usuel dans le domaine de la représen- tation des composants semiconducteurs, les vues en coupe de composants ne sont tracées à l'échelle ni horizontalement ni verticalement. Pour le choix des dimensions, l'homme de l'art se référera à ses connaissances habituelles et à ce qui est enseigné dans la demande de brevet susmentionnée. La figure 3 représente de façon schématique et simpli- fiée un exemple de réalisation monolithique selon la présente invention du circuit de la figure 1. Ce composant est réalisé comme celui de la figure 2 à partir d'un substrat de type N. On retrouve dans la partie gauche du composant les mêmes éléments que ceux représentés dans la partie gauche de la figure 2 désignés par les nmêmes références. Une différence par rapport au circuit de la figure 2 est que cet ensemble de couches et de régions semiconductrices est formé dans un caisson isolé par des murs de diffusions profondes 11 de type P pour isoler le thyristor Thl et ses compo- sants associés du thyristor Th2. Ces murs sont de façon classique formés à partir des faces supérieure et inférieure du substrat. En outre, on n'a pas représenté en figure 3 la région P8 de détection de court-circuit mais celle-ci pourra bien entendu être prévue si on le souhaite. Ainsi, la partie gauche de la figure 3 comprend, du côté de la face inférieure du substrat, une couche P2 de type P et, du côté de la face supérieure du substrat, des régions Pl et P7 de type P dans lesquelles sont respectivement formées des régions N1 et N7 de type N. A l'interface entre la région P7 et le substrat N est formée une région N4 de type N. La face inférieure de la plaquette est revêtue d'une métallisation M2. La région P7 est revêtue d'une métallisation M3. La région N7 et une portion de la région P1 sont revêtues d'une métallisation M7. La région N1 est revêtue d'une métalli- sation Mi-1 qui correspond à une portion de la métallisation M1 de la figure 2. Conoe cela est décrit dans la demande de brevet euro- péen susmentionnée, cette structure constitue une réalisation de l'ensemble du thyristor Thl et de la diode Zener Zl de la figure 1. Le thyristor Thl comprend les régions Nl-P1-N-P2 et est asso- cié aux régions N7 et P7 pour constituer un thyristor à amplifi- cation de gâchette. La diode Zener Zl est formée par la jonction entre les régions P7 et N4 spécialement conçue pour assurer cette fonction. La partie droite de la figure 3 représente une réali- sation des éléments correspondant à l'ensemble du thyristor Th2 et de la diode Zener Z2 de la figure 1. Conne on le notera ci- après, il n'y a pas de distinction entre le thyristor Th2 et la diode Z2, cette diode correspondant à l'une des jonctions du thyristor qui est en fait un thyristor à déclenchement en direct par retournement. Cette structure est éventuellement formée dans un caisson isolé par des murs de diffusion verticaux 12 de type p. Dans cette partie droite, la face arrière est occupée par une couche Nll de type N fortement dopée formée par diffusion ou imnplantation-diffusion. Du côté de la face avant, sont succes- sivement formées une diffusion profonde P12 de type P; à l'inté- rieur de la région P12, une diffusion profonde N13 de type N et; à l'intérieur de la région N13, des régions disjointes P14 de type P et N15 de type N. Le thyristor Th2, de son anode vers sa cathode, corres- pond à l'ensemble des régions et couches P14-N13-P12-N-Nll. La région N15 est une région de reprise de contact de gâchette d'anode. La région d'anode P14 est revêtue d'une métallisation M1-2 reliée à la métallisation Ml-1. La région N15 de reprise de contact de gâchette d'anode est revêtue d'une métallisation M4 correspondant à la métallisation portant la méme référence en figure 2 et reliée à la borne B. Dans cette structure, quand le thyristor Th2 est pola- risé en direct, la jonction susceptible d'entrer en avalanche est la jonction N13-P12. C'est donc cette jonction qui doit être optimisée pour présenter un seuil de déclenchement désiré, de préférence voisin de celui de la jonction P7-N4. Les régions P12 et M13 étant formées par des diffusions successives, il est possible d'optimiser les niveaux de dopage et les profils de diffusion pour que cette jonction présente les caractéristiques souhaitées. Egalement, si l'on considère le thyristor Th2 comme constitué d'un assemblage de deux transistors PNP P14-N13-P12 et NPN N13-P12-N-Nll, les gains de ces transistors pourront être optimisés pour augmenter la sensibilité du thyristor Th2, confor- mément à l'objet de l'invention. La réalisation d'un tel composant ne nécessite pas d'étape supplémentaire de fabrication par rapport à celle du composant de la figure 2 (en notant que, bien que l'on n'ait pas illustré dans la vue partielle de la figure 2 de mur d'isolement, il existera en pratique des murs d'isolement dans la structure d'ensemble dont le composant de la figure 2 fait partie). Plus particulièrement, la région P12 pourra être réalisée en même temps que la partie supérieure des murs d'isolement 11 et 12, la région N13 pourra être réalisée en même temps que la région N4, la région P14 en même temps que les régions P1 et P7 et la région N15 en mêmne temps que les régions Nl, N7 et Nil. Toutefois, bien que résultant des mêmes étapes de diffusion, c'est-à-dire même durée et même température de recuit, ces diffusions pourront faire suite à des implantations de doses distinctes. En parti- culier, le niveau de dopage de la région P12 sera nettement infé- rieur à celui des murs d'isolement. A titre d'exemple de valeurs numériques, on pourra choisir pour diverses régions les valeurs de concentration super- ficielle Cs (en atomes/cm3) et de profondeur de jonction xj (en im) suivantes. Cs xj couche P 14 quelques 1018 20 couche N 15 quelques 1020 10 couche N 13 quelques 1017 40 couche P 12 quelques 1016 90 couche N 11 quelques 1020 10 Bien entendu, la présente invention est susceptible de nombreuses variantes et adjonctions. Notamment, diverses struc- tures usuelles, telles que des régions d'arrêt de canal (stop- channel) ou des zones de court-circuit d'émetteur pourront être réalisées de façon classique par l'hormme de l'art. Comme dans le cas de la demande de brevet susmentionnée, la structure décrite peut ne constituer qu'une partie d'un composant d'ensemble comprenant par exemple deux structures symétriques analogues à celles de la figure 3. En ce qui concerne les répartitions et les densités de courts- circuits d'émetteur dans les régions Ni et Nil, on pourra se référer à l'enseignement de la demande de brevet européen susmentionnée. REVENDICATINS 1. Coaposant monolithique de protection contre des sur- charges électriques susceptibles de se produire sur un conducteur (AB) en série avec lequel est disposée une résistance de détection (Rd), ce composant étant formé dans un substrat (N) d'un premier type de conductivité ayant une face supérieure et une face inférieure et comprenant: des premières (Ml-1, M1-2) et deuxièmes (M3, M4) métal- lisations de face supérieure destinées à être connectées aux bornes (A, B) de ladite résistance (Rd) et une troisième métalli- sation (M2) de face inférieure destinée à être connectée à un potentiel de référence (G); un premier thyristor à gâchette de cathode (Thl) et un second thyristor à gâchette d'anode (Th2) formés tête-bêche entre les premières et troisième métallisations, les deuxièmes métalli- sations correspondant aux gâchettes de ces thyristors; et une diode à avalanche (Zi) entre les deuxième et troi- sième métallisations disposée pour que sa mise en avalanche provoque la mise en conduction en direct du premier thyristor; caractérisé en ce que le deuxième thyristor (Th2) est du type à déclenchement par courant de gâchette ou par retourne- ment en direct, sa tension de retournement étant sensiblement égale à la tension d'avalanche de ladite diode à avalanche et en ce que le premier thyristor est isolé latéralement par un mur de diffusion (11) du deuxième type de conductivité. 2. Composant monolithique de protection selon la reven- dication 1, dans lequel l'ensemble du premier thyristor et de la diode à avalanche comprend: une première couche (P2) du deuxième type de conduc- tivité formée dans la surface inférieure du substrat; des deuxième (Pl) et troisième (P7) régions du deuxième type de conductivité formées dans la surface supérieure du substrat; des quatrième (N1) et cinquième (N7) régions du premier type de conductivité respectivement formées dans les deuxième et troisième régions; une sixième région (N4) du premier type de conductivité formée à l'interface entre la troisième région (P7) et le substrat (N); caractérisé en ce que le deuxième thyristor comprend: une septième région (Nil) du premier type de conduc- tivité formée à partir de la face inférieure du substrat; une huitième région (P12) du deuxième type de conduc- tivité formée à partir de la face supérieure du substrat; une neuvième région (N13) du premier type de conduc- tivité formée dans la huitième région; une dixième région (P14) du deuxième type de conduc- tivité formée dans la neuvième région; et en ce que la première métallisation (Ml-l, M1-2) est solidaire des surfaces supérieures des quatrième (N1) et dixième (P14) régions, la deuxième métallisation (M3, M4) est solidaire des troisième (P7) et neuvième (N13) régions, et une quatrième métal- lisation (M7) relie les deuxième (Pi) et cinquième (N7) régions. 3. Composant monolithique de protection selon la reven- dication 2, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une onzième région (N15) du premier type de conductivité de reprise de contact formée dans la neuvième région (N13). 4. Procédé de fabrication d'un composant selon la revendication 3, caractérisé en ce que la huitième région (P12) est formée en même temps que les murs d'isolement de face supé- rieure, les sixième et neuvième régions (N4, N13) sont formées simultanément, et les deuxième, troisième et dixième régions (Pl, P7, P14) sont formées simultanément.