FR 2738670 A1 19970314 FR 9610211 A 19960814 La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif grâce auquel un motif peut être formé dans des conditions optimales d'une source lumineuse, ne présentant qu'un faible inconvénient sous forme d'un pic secondaire même lorsque par exemple un masque de déphasage est utilisé, et elle concerne aussi un appareil d'exposition. Actuellement, dans la recherche et le développement de circuits intégrés à semi-conducteur, on étudie et on met au point des dispositifs ayant une dimension nominale infé- rieure à 1/2 gm. Pour la mise au point de ces dispositifs, il est indispensable d'utiliser une technologie photolitho- graphique. On ne peut trop insister sur le fait que les performances de résolution de l'appareil d'exposition utilisé dans cette technologie photolithographique, c'est-à- dire les appareils "d'alignement de projection" (appareils de réduction, de projection et d'exposition) déterminent le succès de la recherche et de la mise au point des disposi- tifs à semi-conducteur et de leurs possibilités de fabri- cation en grande série. Les performances de résolution des organes d'alignement ont été améliorées par augmentation de l'ouverture numérique de l'objectif de réduction et de projection ou par réduction de la forme d'onde d'exposition, déterminée par l'équation de Rayleigh. Au cours de la fabrication d'un dispositif à semi-conducteur cependant, il existe des différences de hauteur dues à la topographie, à la planéité de la tranche, etc. du dispositif à semi-conducteur, si bien que non seule- ment les performances de résolution mais aussi l'obtention de la profondeur du foyer sont des paramètres importants. La précision sur les dimensions du motif du matériau de réserve dans le traitement photolithographique au cours de la fabri- cation d'un dispositif à semi-conducteur est en général de +15 %. Dans un dispositif réel, tel que représenté sur la figure 1, des défauts d'uniformité apparaissent toujours à la surface du substrat semiconducteur S. Par exemple, il existe une partie en saillie In, par exemple de silicium polycristallin. En conséquence, le motif du matériau de réserve PR n'est pas formé dans le même plan focal. Pour cette raison, les dimensions du motif du matériau de réserve PR deviennent différentes entre la partie supérieure et la partie inférieure de la différence de hauteur. Evidemment, ce phénomène apparaît plus nettement lorsque le motif est plus fin et lorsque des organes de déplacement de même forme d'onde et de même ouverture numérique sont utilisés. Cette tendance s'observe habituellement dans tous les types de matériaux de réserve. La profondeur du foyer devient plus petite essentiel- lement en proportion de la forme d'onde d'exposition et en proportion inverse du carré de l'ouverture numérique. Dans un procédé de fabrication en série, une profondeur du foyer d'environ 1,5 Im est nécessaire. Pour cette raison, il existe une limite que doivent respecter à la fois les performances de résolution et la profondeur du foyer. Les figures 2A et 2B indiquent la variation avec l'ouverture numérique lorsque les performances de résolution pour la profondeur du foyer sont utilisées comme paramètres de lithographie par un laser à excimère KrF qui correspond au procédé le plus récent d'exposition. Comme l'indiquent les figures, la résolution la plus élevée qui peut être obtenue une fois remplie la condition de profondeur du foyer de 1,5 gm est d'environ 0,35 gm. Ainsi, il est extrêmement difficile d'obtenir une résolution pour une largeur de ligne de 0,35 gm ou moins, tout en ayant une profondeur de foyer supérieure ou égale à 1,5 gm. On doit utiliser certaines technologies pour augmenter la profondeur du foyer. On a déjà proposé un procédé de déphasage en demi- teinte ces dernières années pour remplir les conditions précitées. Ce procédé d'exposition est un procédé extrême- ment utile pour accroître le degré de résolution et la profondeur du foyer d'un motif isolé, par exemple de trous de contact. Dans le procédé de déphasage en demi-teinte comme représenté sur la figure 3, des films semi-transpa- rents de CrxOy, SixNy, SiOXNy, MoxSiy, etc. qui présentent un coefficient de transmission allant de quelques pourcents à % environ pour la lumière d'exposition, c'est-à-dire transmettant une quantité très faible de lumière pour l'exposition, sont utilisés comme films de demi-teinte 2 correspondant à une partie sombre 1. Dans une partie claire 3, le film 2 et le substrat transparent (sur lequel est formée la partie en creux 5) ou seul le film 2 sont attaqués et réalisés sous forme d'un masque. A ce moment, grâce au réglage de la différence de phase entre la partie claire 3 et la partie sombre 1 formée par le film semi-transparent à 180 comme indiqué sur la figure 4B, le gradient de distribution d'intensité lumineuse dans le motif isolé (par exemple un dessin de trous de 0,6 y/ouverture numérique ON) peut être plus net. Il faut noter que la figure 4A représente la distribution de l'intensité lumineuse dans un motif isolé lors de l'utilisation d'un masque de chrome dans des techniques voisines. La figure 5 représente le résultat d'expériences qui indiquent que la profondeur du foyer DOF augmente beaucoup lors de l'utilisation d'un masque de déphasage destiné à former un trou isolé de contact. Les points sombres de la figure 5 représentent le cas dans lequel le masque de dépha- sage est utilisé, et les points blancs le cas dans lequel un masque de chrome de techniques voisines est utilisé. Pour la réalisation de ce masque de déphasage, le coefficient de transmission du film en demi-teinte 2 repré- senté sur la figure 3 constitue un élément important. Plus précisément, pour que le gradient de distribution de l'intensité lumineuse dans le motif isolé soit plus net, il suffit d'augmenter le coefficient de transmission du film en demi-teinte 2. Cependant, lorsque le coefficient de trans- mission augmente, l'effet d'arrêt de lumière donné par le film en demiteinte 2 diminue, et la totalité de la surface du matériau de réserve est exposée. En outre, habituellement, lors de la formation du motif, un pic secondaire appelé "lobe latéral" apparaît par un effet de proximité des deux côtés de la position du motif voulu dans la distribution d'intensité lumineuse, indépendamment de la position d'arrêt de lumière comme indi- qué sur la figure 6. Le pic secondaire est renforcé lorsque le coefficient de transmission en demi-teinte augmente. Comme l'indique la figure 7, même dans des trous de contact dits "complètement isolés" dans lesquels les motifs adjacents sont séparés les uns des autres par une distance supérieure ou égale à 3W, W étant la dimension nominale par exemple du motif 6 du trou, les parties périphériques finissent avec une configuration "creusée" (parties portant la référence 8). Dans la configuration indiquée sur la figure 7, un problème est posé par le fait que le diamètre des contacts peut augmenter au cours de l'étape d'attaque. En outre, lorsqu'on veut appliquer le procédé du masque de déphasage en demi-teinte à une partie à motif dit "répété", ayant une densité élevée de motifs, le pic secon- daire est accentué par les interférences entre les motifs adjacents, c'est-à-dire par l'effet de proximité dans la partie de motif dit "répété" qui a une densité élevée de motifs, et le défaut devient plus net. Ainsi, lorsqu'on veut former le motif d'un dispositif par utilisation du procédé du masque de déphasage en demi- teinte, une opération de réalisation et de dessin assisté par ordinateur doit être exécutée avec prise en considé- ration suffisante de la distance comprise entre les motifs. L'étape de conception et de dessin assisté par ordinateur constitue une charge énorme et son utilisation en pratique est gênée. Il suffit, pour réduire la résolution du pic secon- daire, de réduire l'intensité de la lumière du pic secon- daire afin que sa résolution n'apparaisse pas. L'intensité lumineuse du pic secondaire dépend de l'intensité lumineuse de la partie centrale de la source lumineuse. En consé- quence, un procédé de réduction de la résolution du pic secondaire par réduction de l'intensité lumineuse de la partie centrale de la source lumineuse est proposé. De cette manière, on a confirmé expérimentalement que, dans le procédé d'exposition avec réduction de l'intensité lumineuse de la partie centrale de la source lumineuse et à l'aide d'un masque de déphasage, le pic secondaire n'est pas résolu avec une source lumineuse ayant une distribution d'intensité lumineuse de distribution gaussienne habituelle, même lorsque l'intervalle des motifs des trous de contact est inférieur à celui de l'opération d'exposition. Par exemple, la figure 8B est une vue d'un exemple dans lequel un motif de trous de contact ayant un diamètre interne de 0,30 Mm est formé sur le substrat par un organe de décalage répété à laser à excimère KrF ayant une ouverture numérique de 0,45 à l'aide d'une source lumineuse efficace ayant une faible intensité lumineuse dans la partie centrale et avec un masque de déphasage en demi-teinte. Dans cette expérience, on a utilisé, comme matériau de réserve, un matériau de type positif à amplification chimique (WKR-PT2). Les motifs de trous de contact ont été formés de motifs dont le rapport du diamètre interne des trous de contact et de l'intervalle entre les trous (coefficient d'utilisation) a varié à 1/3, 1/1,5 et 1/1. Les résultats des photographies réalisées au microscope électronique à balayage sont indiqués sur la figure 8B. En outre, à titre comparatif, des motifs de trous de contact ont été formés dans trois types de conditions de la même manière, mais la distribution d'intensité de lumière projetée sur l'objectif oeil de mouche est mise sous forme gaussienne comme indiqué sur la figure 8A. En outre, à titre de comparaison, on a formé des motifs de trous de contact dans trois types de conditions de la même manière, mais la distribution d'intensité de la lumière projetée par la source lumineuse efficace correspondait à la distribution d'éclairement annulaire (l'intensité de la lumière à la partie centrale est annulée). Les résultats obtenus par observation de photographies réalisées au microscope électronique à balayage sont indiqués sur la figure 8C. Il est ainsi confirmé, d'après les résultats de ces expé- riences, que le pic secondaire n'est presque pas isolé par l'exposition avec une source lumineuse ayant une distribution telle que l'intensité lumineuse est faible dans la partie centrale (figures 8B et 8C) même lorsque l'inter- valle entre les trous de contact devient plus faible. Lorsqu'on veut former un motif de trous isolés de contact cependant, comme indiqué sur la figure 9, en combi- naison (cercles sur la figure) avec l'éclairement annulaire et le masque de déphasage en demi-teinte, la profondeur de foyer diminue (la largeur du foyer devient faible sur la figure) par rapport à la combinaison obtenue avec l'éclai- rement habituel et le masque de déphasage en demi-teinte (les carrés sur la figure). Plus précisément, la résolution du pic secondaire peut être réduite par abaissement de l'intensité lumineuse dans la partie centrale de la source lumineuse, mais lorsque l'abaissement est trop important, l'effet du masque de déphasage en demi-teinte est réduit. En outre, comme l'indiquent les figures 8A à 8C, on note que le degré de résolution du pic secondaire diffère avec l'intervalle entre les motifs. Ainsi, il est nécessaire d'optimiser les condi- tions, telles que la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse, pour réduire la résolution du pic secondaire, mais sans réduire l'effet du masque de déphasage. La présente invention a pour objet la mise à dispo- sition d'un procédé de formation d'un motif permettant la formation d'un motif dans des conditions optimales de la source lumineuse avec un faible inconvénient dû au pic secondaire même lors de l'utilisation par exemple d'un masque de déphasage, et la mise à disposition d'un appareil d'exposition mettant en oeuvre ce procédé. La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif sur un substrat par passage de lumière émise par une source lumineuse dans un masque pour le transfert d'un motif du masque sur un substrat et la formation d'un motif final sur le substrat, le procédé comprenant les étapes suivantes: la délimitation sur le substrat d'une région sur laquelle le motif n'est pas réalisé afin qu'elle forme une région de diagnostic, et le report d'un motif d'inspection sur la région de diagnostic par exposition, la détermination de la distribution d'intensité de la lumière d'exposition transférée à la région de diagnostic et l'observation d'un pic secondaire au moins de la distribution d'intensité lumineuse, l'optimisation de la condition de fonctionnement de la source lumineuse afin que la distribution d'intensité lumineuse du pic secondaire soit réduite, la formation d'une couche d'un matériau de réserve photographique sur le substrat, l'utilisation de la lumière émise par la source lumineuse qui fonctionne dans la condition optimisée pour l'exposition de la couche du matériau de réserve photogra- phique afin qu'un motif final soit reporté sur la couche, et le développement de la couche du matériau de réserve photographique sur lequel est reporté le motif final. De préférence, le motif d'inspection est formé d'un masque différent du masque de formation du motif final. De préférence, le motif d'inspection est formé sur le même masque que le motif de formation du motif final et à la périphérie du motif. De préférence, le motif d'inspection est le même motif que le motif final. De préférence, le masque est un masque de déphasage. En outre, de préférence, la région de diagnostic est formée d'un matériau photochrome, le changement de couleur de la surface du matériau provoqué par la distribution de l'intensité de la lumière d'exposition projetée sur le maté- riau photochrome est photographié, et l'intensité lumineuse du pic secondaire est détectée d'après le résultat de la photographie. De préférence, la région de diagnostic est formée par un dispositif photographique qui peut détecter la dis- tribution bidimensionnelle d'intensité lumineuse et l'image photographiée par le dispositif photographique est utilisée pour la détection de l'intensité lumineuse du pic secondaire. En outre, de préférence, la région de diagnostic est la périphérie du substrat sur lequel le motif final doit être formé, et la lumière réfléchie par le motif d'ins- pection projeté sur la région de diagnostic est photogra- phiée pour la détection de l'intensité lumineuse du pic secondaire. La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif sur un substrat comprenant une étape d'optimi- sation de la condition de fonctionnement de la source lumineuse qui comprend les étapes suivantes: le changement de la distribution de l'intensité lumineuse de la source de manière que l'intensité lumineuse du pic secondaire devienne égale ou inférieure à une valeur prédéterminée, et la déter- mination des conditions d'une source lumineuse ayant une distribution optimale d'intensité lumineuse ne donnant pas plus de la valeur prédéterminée, et l'adoption de la source lumineuse ayant une distribution optimale d'intensité lumi- neuse comme source lumineuse pour la lumière d'exposition. De préférence, l'étape d'optimisation de la condition de fonctionnement de la source lumineuse comprend en outre les étapes suivantes: le changement de la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse afin que le pic primaire de la distribution d'intensité de la lumière d'exposition projetée sur la région de diagnostic prenne une valeur prédéterminée plus grande et la détermination des conditions de la source lumineuse ayant une distribution optimale d'intensité de lumière ne donnant pas plus de la valeur prédéterminée, et l'adoption de la source lumineuse ayant une distribution optimale d'intensité lumineuse comme source lumineuse pour la lumière d'exposition. De préférence, l'étape d'optimisation de l'état de fonctionnement de la source lumineuse comprend en outre les étapes suivantes: la projection de lumière d'exposition pour plusieurs conditions de focalisation, lors de la pro- jection de la lumière d'exposition sur la région de diagnostic, le changement de la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse de manière que les intensités lumineuses des pics secondaires détectés dans les différentes conditions ne dépassent pas globalement une valeur prédéterminée lors de la projection de la lumière d'exposition dans les différentes conditions de focalisa- tion, et l'adoption d'une distribution d'intensité lumineuse de la source lumineuse donnant une valeur globale de la distribution des intensités lumineuses des pics secondaires qui ne dépasse pas une valeur prédéterminée comme distribution optimale de l'intensité lumineuse de la source lumineuse. En outre, de préférence, un procédé de formation de motif selon l'invention comprend les étapes suivantes: la projection de la lumière d'exposition par utilisation de plusieurs motifs d'inspection, lors de la projection de la lumière d'exposition sur la région de diagnostic, le changement de la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse de manière que les intensités lumineuses des pics secondaires détectés dans les différentes conditions ne prennent pas globalement une valeur supérieure à une valeur prédéterminée, et l'adoption d'une distribution d'intensité lumineuse de la source lumineuse donnant une valeur globale de la distribution des intensités lumineuses des pics secondaires qui ne dépasse pas une valeur prédéterminée comme distribution optimale d'intensité lumi- neuse de la source lumineuse. L'invention concerne aussi un appareil d'exposition qui comprend: une source lumineuse destinée à émettre de la lumière d'exposition, un dispositif de changement de source lumineuse destiné à changer la distribution de l'intensité de la lumière émise par la source lumineuse, et un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter le pic secondaire de la lumière d'exposition projetée sur une région de diagnostic, qui ne forme pas un motif, et sur laquelle la lumière d'exposition provenant de la source lumineuse est projetée à travers un masque afin que la distribution d'intensité lumineuse de la lumière d'expo- sition puisse être diagnostiquée. De préférence, la source lumineuse est une source lumineuse efficace. De préférence, le masque est un masque de déphasage De préférence, la région de diagnostic est formée d'un matériau photochrome, et l'appareil comporte en outre un dispositif de photographie du changement de couleur de la surface du matériau d'après la distribution de l'intensité de la lumière d'exposition projetée sur le matériau photo- chrome, et un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter l'intensité lumineuse du pic secondaire d'après le résultat de la photographie par le dispositif de photographie. De préférence, la région de diagnostic est constituée par un dispositif photographique qui peut détecter la dis- tribution bidimensionnelle de l'intensité lumineuse, et l'appareil comporte en outre un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter l'intensité lumineuse du pic secondaire d'après l'image photographiée par le dispo- sitif de photographie. De préférence, la région de diagnostic de l'appareil d'exposition est formée à la périphérie du substrat sur lequel le motif final doit être formé, et l'appareil com- porte en outre un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter l'intensité lumineuse du pic secondaire par photographie de la lumière réfléchie du motif d'inspec- tion projeté sur la région de diagnostic. De préférence, l'appareil d'exposition comporte en outre un dispositif de commande destiné à changer la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse à l'aide du dispositif de changement de source lumineuse de manière que l'intensité lumineuse du pic secondaire ne dépasse pas la valeur prédéterminée. De préférence, l'appareil d'exposition comporte en outre un dispositif de commande destiné à changer la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse à l'aide du dispositif de changement de source lumineuse afin que le pic primaire de distribution d'intensité de la lumière d'exposition projetée sur la région de diagnostic ne soit pas inférieur à une valeur prédéterminée. De préférence, le dispositif de changement de source lumineuse de l'appareil d'exposition comporte un dispositif destiné à abaisser la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace afin qu'elle soit égale ou inférieure d'une quantité prédéter- minée à la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source de lumière efficace. De préférence, le dispositif de changement de source lumineuse de l'appareil d'exposition comporte un dispositif destiné à rendre la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace inférieure d'une valeur comprise entre 0 et 90 % à la valeur de crête de la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source de lumière efficace. De préférence, la source de lumière efficace de l'appareil d'exposition comporte un objectif oeil de mouche comprenant un ensemble de plusieurs lentilles, et la lumière émise par la source lumineuse passe dans l'objectif oeil de mouche afin que la lumière efficace soit projetée. De préférence, le dispositif de changement de source lumineuse de l'appareil d'exposition comporte un élément optique et des organes optiques disposés afin qu'ils puissent être rapprochés ou éloignés dudit élément optique dans la direction axiale du trajet lumineux. De préférence, l'élément optique de l'appareil d'expo- sition est un prisme. De préférence, le dispositif de changement de source lumineuse de l'appareil d'exposition comporte un dispositif destiné à diviser un faisceau tombant sur la source de lumière efficace en au moins deux faisceaux, un miroir mobile destiné à projeter les deux faisceaux divisés au moins sur la source de lumière efficace, et un dispositif de balayage destiné à réduire la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace par rapport à la valeur de crête de la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source de lumière efficace par utilisation de la différence de vitesse de balayage en différents points de la surface de la source de lumière efficace, du fait de la configuration de la surface du miroir mobile. De préférence, le dispositif de changement de source lumineuse de l'appareil d'exposition comporte un premier filtre ayant un coefficient de transmission plus grand dans sa partie périphérique que dans sa partie centrale, et un dispositif de commutation entre un état dans lequel la lumière passe dans le premier filtre et un état dans lequel l'exposition est réalisée sans passage de la lumière dans le premier filtre, dans une même période d'exposition. De préférence, l'appareil d'exposition comprend un second filtre ayant une distribution de coefficient de transmission différente de celle du premier filtre, et, dans un état dans lequel l'exposition est réalisée sans passage de la lumière dans le premier filtre, le dispositif de commutation est commandé afin que la lumière passe dans le second filtre. De préférence, le dispositif de commutation de l'appa- reil d'exposition a au moins un disque rotatif sur lequel est monté le premier filtre, et un dispositif d'entraînement du disque rotatif afin qu'il tourne. De préférence, le dispositif de commutation de l'appa- reil d'exposition comporte au moins un mécanisme coulissant grâce auquel le premier filtre peut se déplacer de manière coulissante. De préférence, le dispositif de commutation de l'appa- reil d'exposition est formé par un matériau optique du type obturateur de lumière ayant un coefficient de transmission de la lumière qui varie lors de l'application d'une tension. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre d'exemples de réalisation, faite en référence aux dessins annexés sur lesquels: la figure 1 est une vue représentant le défaut d'uni- formité qui existe toujours à la surface d'un substrat d'un dispositif réel; la figure 2A est un graphique représentant la variation de la profondeur du foyer avec l'ouverture numérique, le paramètre étant la résolution de profondeur du foyer dans une photolithographie par laser à excimère KrF; la figure 2B est un tableau indiquant les résultats obtenus sur la figure 2A; la figure 3 est une coupe d'un masque de déphasage destiné à être utilisé dans le procédé de déphasage en demi- teinte; la figure 4A est un graphique représentant la distri- bution d'intensité lumineuse à la surface d'une tranche lors de l'utilisation du procédé au masque de chrome; la figure 4B est un graphique représentant la distri- bution d'intensité lumineuse à la surface de la tranche dans le procédé de déphasage en demi-teinte; la figure 5 est un graphique représentant un exemple d'expérience au cours de laquelle la profondeur du foyer est accrue par utilisation du masque de déphasage; la figure 6 est un graphique représentant l'existence d'un pic secondaire dans le procédé de déphasage en demi- teinte; la figure 7 est une coupe indiquant que les parties périphériques ont une configuration "creusée" par le pic secondaire, même dans le trou isolé de contact; les figures 8A à 8C sont des graphiques représentant un motif de trous indiquant l'influence du motif secondaire par distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse; la figure 9 est un graphique représentant le résultat obtenu lorsque la profondeur du foyer devient plus faible pendant l'utilisation d'un masque de déphasage en demi- teinte; la figure 10 est une vue de principe des principales parties d'un appareil d'exposition dans un mode de réalisation de la présente invention; la figure 11 est une vue partielle en plan de l'appareil de la figure 10; la figure 12 est une vue de principe représentant l'ensemble de la configuration de l'appareil d'exposition; la figure 13A est une vue en plan de la distribution de l'intensité lumineuse de la surface de l'objectif oeil de mouche sous forme de valeurs numériques; la figure 13B est une vue représentant tridimen- sionnellement la distribution de l'intensité lumineuse à la surface del'objectif oeil de mouche; la figure 14A représente l'état d'un faisceau sur un prisme; la figure 14B représente la superposition du faisceau sur l'objectif oeil de mouche; la figure 14C représente une distribution gaussienne de la quantité de lumière; les figures 15A et 15B sont des vues illustrant le procédé de superposition du faisceau, la figure 15A repré- sentant l'état avant superposition et la figure 15B après superposition; la figure 16 est un graphique représentant la courbe de contraste obtenue pour chaque configuration de la source lumineuse; la figure 17 est un graphique indiquant que la profon- deur du foyer est aussi améliorée dans le cas o la source lumineuse a la configuration obtenue par mise en oeuvre du procédé dans un mode de réalisation de l'invention; les figures 18A à 18C sont des vues en perspective et en élévation latérale représentant des exemples d'un dispositif de changement de source lumineuse; les figures 19A et 19B sont des vues d'exemples de filtres utilisés dans ces modes de réalisation; la figure 20 est une vue de la distribution de l'intensité lumineuse utilisée dans ces modes de réalisation; la figure 21 est une vue de principe de l'addition de la distribution de l'intensité lumineuse; et les figures 22A à 22D sont respectivement une vue de principe représentant l'addition de la distribution de l'intensité lumineuse, un schéma indiquant la position des plans de coupe (a) et (b), et des coupes suivant ces plans. On décrit maintenant en détail, en référence aux dessins, des modes de réalisation préférés d'un appareil d'exposition et d'un procédé de formation d'un motif selon la présente invention. Premier mode de réalisation Un premier mode de réalisation correspond à un exemple dans lequel l'optimisation de la source lumineuse est obtenue par utilisation de l'appareil d'exposition repré- senté sur les figures 10 à 12 afin qu'un motif d'un dispositif à semiconducteur soit reporté de manière stable par utilisation d'un masque de déphasage en demi-teinte. On décrit d'abord, en référence à la figure 12, la configuration générale de l'appareil d'exposition. Comme l'indique la figure 12, cet appareil d'exposition comporte un dispositif à laser et un dispositif de dépla- cement et répétition. Le dispositif à laser est constitué d'un laser à excimère 30, d'une unité 31 de réglage de dose, d'une unité 33 de décalage et d'un système optique 34 d'émission. Le dispositif à déplacement et répétition est constitué par un répartiteur de faisceau 35, une unité 36 à prisme, un objectif oeil de mouche 37, une lame de masquage 38, un réticule 39 et un objectif de projection 40. La lumière d'exposition émise par le laser à excimère 30 tombe sur l'objectif oeil de mouche 37 en passant dans les divers systèmes optiques. L'objectif oeil de mouche 37 constitue la source de lumière secondaire (source efficace de lumière). Cette lumière d'exposition atteint la partie supérieure de la surface de la tranche 41 en passant par le réticule 39 sur lequel est formé le motif du masque, si bien que le motif du réticule 39 est reporté à la surface de la tranche. Dans le mode de réalisation considéré, un masque de déphasage est utilisé comme réticule 39. L'objectif oeil de mouche 37 est un ensemble de plusieurs lentilles (par exemple cent) et son diamètre externe total est habituellement de 5 à 20 cm. Dans le mode de réalisation considéré, la distribution d'intensité lumineuse représentée sur la figure 12 peut être réalisée à la surface incidente de l'objectif oeil de mouche 37. Lorsque la distribution de l'intensité lumineuse repré- sentée sur la figure 12 peut être réalisée à la surface d'incidence de l'objectif oeil de mouche 37, la distribution d'intensité de la lumière émise par cet objectif utilisé comme source lumineuse efficace présente une distribution semblable. Il faut noter que la figure 13A représente la distribution d'intensité de la lumière tombant sur l'objectif oeil de mouche sous forme numérique. Les parties ayant des astérisques indiquent les parties de crête de l'intensité lumineuse alors que les chiffres de 0 à 9 indiquent la proportion d'intensité lumineuse lorsque la partie de crête est égale à 10. La distribution d'intensité lumineuse présentée est faible dans la partie centrale et élevée dans la partie périphérique. En outre, la figure 13B est une vue tridimensionnelle de la distribution de l'intensité lumineuse indiquée sur la figure 13A. Dans le mode de réalisation considéré, la distribution de l'intensité lumineuse représentée sur la figure 13B est réalisée, et le dispositif de changement de source lumineuse représenté dans la suite est adopté de manière que la distribution d'intensité lumineuse devienne variable. La distribution de quantité de lumière à la surface de l'objectif oeil de mouche d'un appareil de déplacement et répétition des techniques associées est une distribution gaussienne de la quantité de lumière dans laquelle la partie centrale a une valeur élevée et les parties périphériques une faible valeur comme indiqué sur la figure 14C. Ceci est dû au fait que, comme l'indique la figure 14A, la lumière divisée par le répartiteur de faisceau 35 est combinée par le prisme comme indiqué sur la figure 14B. Comme la distribution de quantité de lumière repré- sentée sur la figure 14C est obtenue, un inconvénient est dû au fait que la lumière qui donne un motif grossier est intense et simultanément la lumière qui donne un pic secondaire à la surface de la tranche 41 et qui est efficace pour donner un motif fin est faible. Pour la suppression de cet inconvénient, l'intensité lumineuse de la partie centrale de l'objectif oeil de mouche est réduite progressivement et la composante d'incidence oblique est accentuée afin que le pic secondaire, consti- tuant un inconvénient dans le cas d'un masque de déphasage en demiteinte, ne soit pas créé. Plus précisément, le répartiteur de faisceau 35 représenté sur la figure 12 est utilisé comme indiqué sur la figure 15A pour la division du faisceau 42 et les faisceaux résultants ont été superposés par utilisation de l'unité à prisme 36 représentée sur la figure 12 (voir la figure 15B) afin que la distribution voulue d'intensité lumineuse soit reproduite, dans ce mode de réalisation, à la surface de l'objectif oeil de mouche. Sur la figure 15A, la configuration de la source lumi- neuse après superposition peut être modifiée en fonction de l'amplitude du décalage vers l'intérieur des faisceaux 42 avant superposition et des dimensions des faisceaux dans la direction de plus faible dimension. Sur la figure 15B, les quatre parties de coin 43 sont des parties dans lesquelles de la lumière se superpose et sont donc des parties qui deviennent des parties de crête pour la quantité de lumière. A la partie centrale 44, la lumière qui existe est due aux fuites à partir des faisceaux, mais cette quantité de lumière est faible. Dans le mode de réalisation considéré, le dispositif représenté sur les figures 10 et 11 est ajouté à l'appareil d'exposition afin qu'il assure l'optimisation de la distri- bution de l'intensité de la lumière d'exposition émise par l'objectif oeil de mouche 37 utilisé comme source lumineuse efficace représentée sur la figure 12. Comme l'indiquent les figures 10 et 11, sur la platine de support de tranche, une région 54 de diagnostic est formé à l'extérieur d'un mandrin 52 de support de la tranche 41. Dans le mode de réalisation considéré, la région 54 de diagnostic est constituée d'un matériau photochrome. Un matériau photochrome est un matériau dont la surface change de couleur de façon pratiquement proportionnelle à la quantité de lumière projetée avec la forme d'onde d'expo- sition utilisée. Ainsi, par exposition de cette surface, le motif est transféré du réticule 39 représenté sur la figure 12. On utilise, comme réticule 39, un masque de déphasage. Il est aussi possible d'utiliser, comme réticule 39, le masque du dispositif réel sur lequel doit être formé tel quel le motif final prévu, et il est aussi possible d'utili- ser un masque sur lequel seul le motif d'inspection est formé, ou d'utiliser un masque sur lequel le motif d'inspection est formé à la périphérie du motif final. Le motif d'inspection n'est pas limité à un type particulier et il comprend de préférence plusieurs types de motifs, y compris au moins des motifs isolés et des motifs très condensés. Cette disposition permet la détection et la comparaison des crêtes secondaires de plusieurs types de motifs. La platine 50 de support de tranche représentée sur les figures 10 et 11 est disposée afin qu'elle puisse être déplacée dans la direction de son plan. Un organe 56 d'observation désaxé utilisé comme appareil photographique est placé sur la région 54 de diagnostic dans la position dans laquelle le mandrin 52 de support de tranche est placé sous l'objectif 40 de projection. Cet organe d'observation 56 comporte un objectif 58 et une caméra 60 à dispositifs CCD, il photographie le motif formé dans la région de diagnostic 54, et il le transforme en un signal vidéo. Le signal vidéo photographié est transmis à un ordinateur 62 qui lui fait subir un traitement du signal et il est conservé dans une mémoire sous forme correspondant aux données de forme de source lumineuse à ce moment. On décrit maintenant le procédé mettant en oeuvre l'appareil d'exposition de ce mode de réalisation. Avant l'exposition du motif final prévu, la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse efficace est optimisée par la procédure qu'on considère maintenant. (1) D'abord, la platine 50 de support de tranche est déplacée afin que la région 54 de diagnostic constituée par le matériau photochrome représenté sur la figure 10 se trouve sous l'objectif de projection. Ensuite, l'exposition est réalisée avec la meilleure focalisation à l'aide du * réticule 39 constitué par le masque de déphasage en demi- teinte représenté sur la figure 12, si bien que le motif d'inspection est reporté sur la région de diagnostic 54. (2) Ensuite, la platine 50 de support de tranche représentée sur la figure 12 est déplacée afin que la région de diagnostic 54 se trouve sous l'objectif 58. Le motif d'inspection formé sur la région 54 de diagnostic est alors photographié et transformé en un signal vidéo. Le signal vidéo de photographie est transmis à l'ordinateur 62, soumis à- un traitement du signal, et mémorisé d'une manière correspondant aux données de forme de la source lumineuse à ce moment. (3) Ensuite, l'élément optique, tel que le répartiteur de faisceau 35 représenté sur la figure 12, est commandé afin qu'il change la distance comprise entre les faisceaux divisés 42 représentés sur la figure 15 ou qu'il change les dimensions des faisceaux 42 dans la direction de leur largeur et change ainsi la configuration de la distribution d'intensité de la lumière d'exposition émise par l'objectif oeil de mouche 37 utilisé comme source lumineuse efficace. Les opérations décrites précédemment (1) et (2) sont répétées de la manière décrite, mais on utilise cette fois la lumière d'exposition dont la distribution est changée. Ensuite, les courbes de contraste (a) à (c) représen- tées sur la figure 16 sont tracées pour chaque configuration de la source lumineuse, et ces données sont conservées dans la mémoire de l'ordinateur 62 représenté sur la figure 10 pour chaque source lumineuse. Dans l'ordinateur 62, un niveau de tranche I2nd représenté sur la figure 16 est mémorisé de manière préliminaire. Ce niveau de tranche I2nd est le niveau d'intensité lumineuse pour lequel le pic secondaire est résolu sur le matériau de réserve. Ce niveau varie avec le type du matériau de réserve qui est utilisé, etc. L'ordinateur sélectionne, parmi plusieurs courbes de contraste (a) à (c) qui sont mémorisées, une courbe (b) de contraste pour laquelle le pic secondaire ne dépasse pas le niveau de tranche I2nd et le pic primaire devient maximal, et il détermine la distribution d'intensité lumineuse de la source lumineuse efficace dans ce cas comme valeur optimale. Dans le mode de réalisation considéré, la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse efficace correspondant à la courbe de contraste (a) représentée sur la figure 16 est la distribution d'intensité lumineuse d'éclairement normal représentée sur la figure 14C. En outre, la distribution d'intensité lumineuse de la source lumineuse efficace correspondant à la courbe de contraste (b) de la figure 16 est la distribution de l'intensité lumineuse obtenue par réduction de l'intensité lumineuse de la partie centrale de 2 à 90 % par rapport à la valeur de crête de l'intensité lumineuse dans la partie périphérique, comme représenté sur la figure 13. En outre, la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse efficace correspondant à la courbe de contraste (c) représentée sur la figure 16 est la distribution d'intensité lumineuse d'éclairement annulaire obtenue par annulation de l'inten- sité lumineuse dans la partie centrale et renforcement de l'intensité lumineuse de la partie périphérique comme représenté sur la figure 8C. Dans le mode de réalisation concerné, comme la courbe de contraste (b) représentée sur la figure 16 est sélection- née, il est décidé que la configuration de la source lumineuse représentée sur la figure 13 est optimale. Ensuite, l'exposition est exécutée par combinaison de la source lumineuse ayant la distribution représentée sur la figure 13 avec le masque de déphasage en demi-teinte afin que le motif soit formé en réalité sur la tranche. Les résultats sont indiqués sur la figure 8B. En outre, à titre de comparaison, le résultat de la formation d'un motif par combinaison de l'éclairement habituel avec le masque de déphasage en demi-teinte est représenté sur la figure 8A. De plus, à titre comparatif, le résultat de la formation d'un motif par combinaison de l'éclairement annulaire avec le masque de déphasage en demi-teinte est représenté sur la figure 8C. Comme l'indique la figure 8B, lorsque la configu- ration de la source lumineuse obtenue dans ce mode de réalisation est utilisée, aucune résolution due au pic secondaire pratiquement n'est observée, même lorsque l'intervalle du motif correspond à une grande densité. En outre, comme l'indique la courbe b de la figure 17, il est confirmé que, lorsque la configuration de la source lumineuse obtenue dans le mode de réalisation considéré est utilisée et des motifs isolés sont formés, la profondeur du foyer augmente par rapport au cas de l'éclairement annulaire (courbe c), mais pas autant que dans le cas de l'éclairement habituel (courbe a). Plus précisément, il est confirmé que l'utilisation de la configuration de source lumineuse obtenue dans le mode de réalisation considéré permet une réduction de la résolution du pic secondaire sans réduction de l'effet du masque de déphasage en demi-teinte. Second mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, un élément de caméra bidimensionnelle à semi-conducteur, par exemple à disposi- tifs CCD, est placé directement sans utilisation d'un matériau photochrome dans la région 54 de diagnostic représentée sur les figures 10 et 11, comme dans le cas du premier mode de réalisation. Dans le mode de réalisation concerné, l'organe d'obser- vation désaxé 56 devient superflu, car la lumière émise par la région de diagnostic 54 est directement transformée en un signal vidéo et est conservée dans l'ordinateur, etc. Le reste de la configuration est identique à celui du premier mode de réalisation. Dans ce mode de réalisation, comme dans le premier, on confirme que la configuration optimale de la source lumi- neuse peut être déterminée et que, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage en demi- teinte. Troisième mode de réalisation Ce mode de réalisation est analogue au premier mis à part le fait que la région de diagnostic se trouve à la périphérie de la tranche de silicium (substrat) sur laquelle le motif final doit être formé et la lumière réfléchie du motif d'inspection projetée sur cette région de diagnostic est photographiée pour la détection de l'intensité lumineuse du pic secondaire. - Dans ce mode de réalisation comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage en demi-teinte. Ouatrième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, lors de la projection de la lumière d'exposition sur la région 54 de diagnostic comme dans le premier mode de réalisation, la lumière d'exposition est projetée avec plusieurs conditions de focalisation. Lors de la projection de la lumière d'exposition avec plusieurs conditions de focalisation, la distribution d'intensité de la lumière provenant de la source lumineuse change si bien que les intensités lumineuses des pics secondaires détectés dans les différentes conditions ne dépassent pas des valeurs prédéterminées. La distribution d'intensité lumineuse de la source ne donnant pas plus de la valeur prédéterminée est adoptée comme distribution optimale de l'intensité lumineuse de la source lumineuse. Le reste de la configuration est analogue à celui du premier mode de réalisation. Dans le mode de réalisation considéré, la source lumineuse sélectionnée a aussi une distribution du type représenté sur la figure 13. Dans ce mode de réalisation aussi, comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage en demi-teinte. Cinquième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse est déterminée de la même manière que dans le premier mode de réalisation, mais on utilise un masque de déphasage du type à limites, un masque de déphasage du type à saillies, ou un autre masque différent d'un masque de déphasage en demi-teinte. Le reste de la configuration est analogue à celui du premier mode de réalisation. Dans ce mode de réalisation aussi, la source lumineuse est sélectionnée avec la distribution représentée sur la figure 13. Dans ce mode de réalisation, comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage. Sixième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse est déterminée de la même manière que dans le premier mode de réalisation, mais on utilise un élément optique tel qu'un prisme, et un organe optique disposé afin qu'il puisse être rapproché et éloigné de cet élément optique dans la direction axiale du trajet de la lumière, comme dispositif destiné à faire varier la confi- guration de la source lumineuse. Le reste de la configuration est semblable à celui du premier mode de réalisation. Dans ce mode de réalisation aussi, on sélectionne une source lumineuse ayant la distribution représentée sur la figure 13. Dans ce mode de réalisation aussi, comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduc- tion de l'effet du masque de déphasage. Septième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse est déterminée de la même manière que dans le premier mode de réalisation, mais on utilise, comme dispositif destiné à faire varier la configuration de la source lumineuse, un dispositif comprenant un dispositif de division du faisceau tombant sur la source de lumière efficace en deux ou plusieurs faisceaux, un miroir mobile destiné à projeter deux faisceaux divisés au moins sur la source lumineuse efficace, et un dispositif de balayage destiné à réduire la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace par rapport à la valeur de crête de la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source lumineuse efficace, par utilisation de la différence de vitesse de balayage aux différents points de la surface de la source lumineuse efficace due à la configuration de la surface du miroir mobile. Le reste de la configuration est semblable à celui du premier mode de réalisation. Dans ce mode de réalisation aussi, une source lumineuse est sélectionnée avec la distribution représentée sur la figure 13. Dans ce mode de réalisation aussi, comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage. Huitième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse est déterminée de la même manière que dans le premier mode de réalisation, mais on utilise un dispositif représenté sur la figure 18A comme dispositif destiné à changer la distribution de l'intensité de la lumière de la source lumineuse obtenue en conséquence. Le reste de la configuration est analogue à celui du premier mode de réalisation. Dans le mode de réalisation considéré, un dispositif de commutation de filtre à disque rotatif représenté sur la figure 18A est placé du côté d'incidence de la lumière ou du côté d'émission de la lumière de l'objectif oeil de mouche 37 représenté sur la figure 12. Ce dispositif 90 de commutation de filtre possède un disque rotatif 92 et un arbre 94 d'entraînement en rotation du disque. Une partie 95 d'ouverture destinée à transmettre la lumière, un filtre 96 et un autre filtre sont formés dans le disque rotatif 92 en direction circonférentielle. Le filtre 96 arrête la lumière à-une distance égale à la moitié du diamètre externe par rapport à la partie centrale, comme représenté sur la figure 19A. Lorsque le temps total d'exposition est réglé à 1 s, dans la première fraction correspondant à 0,2 s, la lumière d'exposition (lumière ayant la distribution représentée sur la figure 20) passe par la partie 95 d'ouverture représentée sur la figure 18A, et le disque rotatif 92 tourne instantanément. Dans la fraction restante de 0,8 s, l'exposition est réalisée par transmission de la lumière d'exposition par le filtre 96. En conséquence, comme l'indique la figure 20, la distribution d'intensité de lumière provenant de la source de lumière efficace pendant le temps d'exposition devient égale à la distribution de l'intensité de lumière de la somme du produit de la distribution de l'intensité lumineuse et du temps, comme indiqué sur la figure 20, et du produit de la distribution d'intensité lumineuse transmise par le filtre et du temps, comme indiqué sur la figure 19A. Dans le mode de réalisation considéré, l'ajustement de l'équilibre entre le temps de passage de la lumière dans la partie 95 d'ouverture représentée sur la figure 18A et le temps de passage de la lumière par le filtre 96 permet le changement de la distribution de la quantité de lumière projetée en conséquence (équivalant à la distribution de l'intensité lumineuse). Dans le mode de réalisation considéré, une source lumineuse ayant une forme d'éclairement annulaire est sélectionnée. Dans ce mode de réalisation comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage. Neuvième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse est déterminée de la même manière que dans le premier mode de réalisation, mais on utilise le dispositif de la figure 18B pour changer la distribution de l'intensité lumineuse de la source en conséquence. Le reste de la configuration est analogue à celui du premier mode de réalisation. Dans ce mode de réalisation, on suppose que, lorsque la lumière n'est pas transmise par le filtre, la distri- bution de l'intensité de la lumière tombant sur l'objectif oeil de mouche 37 formant la source de lumière efficace a une distribution plate d'intensité lumineuse comme indiqué sur la figure 20. Dans le mode de réalisation considéré par exemple, un dispositif 97 de commutation de filtre de type coulissant représenté sur la figure 18B est placé du côté d'incidence de la lumière ou du côté d'émission de lumière de l'objectif oeil de mouche représenté sur la figure 12. Le dispositif 97 de commutation de filtre porte plusieurs types de filtres 96a à 96d et comporte un organe 98 de support de filtres qui peut les faire glisser à grande vitesse. Le filtre 96a arrête la lumière dans une plage correspondant à la moitié du diamètre externe par rapport à la partie centrale, comme indiqué par exemple sur la figure 19A. En outre, comme l'indique la figure 19B, le filtre 96b arrête la lumière dans la région en forme de croix ayant une largeur égale à 0,35 fois le diamètre externe. Lorsque le temps total d'exposition est égal à 1 s, dans la première fraction de 0,2 s, l'état est tel que tous les filtres 96a à 96d ont reculé dans l'organe de support 98 représenté sur la figure 18B et la lumière d'exposition n'est pas transmise par le filtre. Ensuite, le filtre 96a est glissé de manière instantanée et, pendant une fraction de 0,3 s, l'exposition est réalisée par passage de la lumière d'exposition dans le filtre 96a. Ensuite, le filtre 96a représenté sur la figure 18B est glissé de manière instantanée et recule dans l'organe de support 98 et, simultanément, le filtre 96b glisse et sort vers l'exté- rieur. Dans la fraction restante de 0,5 s, l'exposition est réalisée par passage de la lumière d'exposition dans le filtre 96b. En conséquence, comme l'indique les figures 22A à 22D, la distribution d'intensité lumineuse provenant de la source de lumière efficace par temps élémentaire d'expo- sition devient égale à la distribution d'intensité lumineuse de la somme du produit de la distribution de l'intensité lumineuse et du temps indiqué sur la figure 1, du produit de la distribution de l'intensité lumineuse passant dans le filtre et du temps comme indiqué sur la figure 19A, et du produit de la distribution de l'intensité lumineuse passant dans le filtre représenté sur la figure 19B et du temps. Dans le mode de réalisation concerné, l'ajustement du temps de passage de la lumière dans les filtres 96a à 96d représentés sur la figure 18B et dumoment de la commutation permet le changement de la distribution de la quantité de lumière projetée en conséquence (équivalant à la distri- bution de l'intensité de la lumière). Dans le mode de réalisation considéré, comme dans le premier, la source lumineuse sélectionnée a la configuration indiquée sur la figure 13. Dans ce mode de réalisation aussi, comme dans le premier mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la forma- tion du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduction de l'effet du masque de déphasage. Dixième mode de réalisation Dans ce mode de réalisation, la configuration optimale de la source lumineuse est déterminée de la même manière que dans le premier mode de réalisation, mais on utilise le dispositif représenté sur la figure 18C comme dispositif de changement de la distribution de l'intensité de la lumière provenant de la source lumineuse en conséquence. Le reste de la configuration est analogue à celui du premier mode de réalisation. Dans le mode de réalisation considéré, on suppose que, dans le cas o la lumière n'est pas transmise par le filtre, la distribution de l'intensité de la lumière tombant sur l'objectif oeil de mouche 37 formant la source de lumière efficace est la distribution plate d'intensité lumineuse représentée sur la figure 20. Dans ce mode de réalisation, un matériau optique 100 du type d'un obturateur de lumière par exemple représenté sur la figure 18C est placé du côté d'incidence ou du côté d'émission de la lumière de l'objectif oeil de mouche représenté sur la figure 12. Ce matériau optique du type obturateur est formé par exemple de titanate-zirconate de plomb avec addition de lanthane PLZT, et constitue un matériau dont le coefficient de transmission de la lumière peut changer grâce à la disposition de plusieurs fines électrodes sur une face au moins du substrat et par application d'une tension. La division convenable de la configuration des électrodes placées à la surface du matériau optique 100 permet une commande séparée de la région centrale 102 et de la région périphérique 104 et il est possible, par application d'une tension, de mettre un moment donné uniquement la partie centrale 102 à un état d'arrêt de la lumière. Lorsque le temps total d'exposition est réglé à 1 s, dans la première fraction de 0,2 s, la partie centrale 102 et la partie périphérique 104 représentée sur la figure 18C sont mises à un état de transmission de lumière, et la lumière d'exposition est transmise par ces régions. Ensuite, une tension est appliquée instantanément aux seules élec- trodes de la partie centrale 102 afin que cette partie centrale 102 soit mise à un état d'arrêt de lumière, et la lumière d'exposition est transmise dans cet état. En conséquence, on peut obtenir un résultat analogue à celui du septième mode de réalisation. Dans le mode de réalisation considéré, une division convenable de la configuration des électrodes formées à la surface du matériau optique 100, la détermination de l'intervalle de disposition des électrodes, la détermination des conditions d'application de la tension, etc. permettent l'obtention de diverses distributions d'intensité lumineuse en conséquence. Dans le mode de réalisation considéré, une source lumineuse est sélectionnée avec la configuration indiquée sur la figure 13, comme dans le premier mode de réalisation. Dans le mode de réalisation considéré, comme dans le premier, la configuration optimale de la source lumineuse peut être déterminée et, lors de la formation du motif, la résolution du pic secondaire peut être réduite sans réduc- tion de l'effet du masque de déphasage. Il faut noter que l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation précédents et peut être modifiée de diverses manières sans sortir de son cadre. Par exemple, on peut aussi utiliser, comme source lumineuse, une source lumineuse efficace autre qu'un objec- tif oeil de mouche ou d'autres sources lumineuses. Comme décrit précédemment, selon l'invention, même lorsqu'on utilise par exemple un masque de déphasage, le motif peut être formé dans les conditions d'utilisation d'une source lumineuse optimale, sans que le pic secondaire présente un inconvénient sérieux. Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art aux procédé et appareil qui viennent d'être décrits uniquement à titre d'exemple non limitatif sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé de formation d'un motif sur un substrat par passage de lumière émise par une source lumineuse (37) dans un masque pour le transfert d'un motif du masque sur un substrat et la formation d'un motif final sur le substrat, le procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: la délimitation sur le substrat d'une région sur laquelle le motif n'est pas réalisé afin qu'elle forme une région (54) de diagnostic, et le report d'un motif d'inspec- tion sur la région (54) de diagnostic par exposition, la détermination de la distribution d'intensité de la lumière d'exposition transférée à la région (54) de diagnostic et l'observation d'un pic secondaire au moins de la distribution d'intensité lumineuse, l'optimisation de la condition de fonctionnement de la source lumineuse (37) afin que la distribution d'intensité lumineuse du pic secondaire soit réduite, la formation d'une couche d'un matériau de réserve photographique sur le substrat, l'utilisation de la lumière émise par la source lumineuse (37) qui fonctionne dans la condition optimisée pour l'exposition de la couche du matériau de réserve photographique afin qu'un motif final soit reporté sur la couche, et le développement de la couche du matériau de réserve photographique sur lequel a été reporté le motif final. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le motif d'inspection est formé d'un masque différent du masque de formation du motif final. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le motif d'inspection est formé sur le même masque que le motif de formation du motif final et à la périphérie du motif. 4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le motif d'inspection est le même motif que le motif final. 5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le masque est un masque (39) de déphasage. 6. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la région (54) de diagnostic est formée d'un matériau photochrome, le changement de couleur de la surface du matériau provoqué par la distribution de l'intensité de la lumière d'exposition projetée sur le matériau photochrome est photographié, et l'intensité lumineuse du pic secondaire est détectée d'après le résultat de la photographie. 7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la région (54) de diagnostic est formée par un dispo- sitif photographique qui peut détecter la distribution bidimensionnelle d'intensité lumineuse et l'image photogra- phiée par le dispositif photographique est utilisée pour la détection de l'intensité lumineuse du pic secondaire. 8. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que la région (54) de diagnostic est la périphérie du substrat sur lequel le motif final doit être formé, et la lumière réfléchie par le motif d'inspection projeté sur la région (54) de diagnostic est photographiée pour la détec- tion de l'intensité lumineuse du pic secondaire. 9. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape d'optimisation de la condition de fonctionnement de la source lumineuse (37) comprend en outre les étapes suivantes: le changement de la distribution de l'intensité lumineuse de la source de manière que l'intensité lumineuse du pic secondaire devienne égale ou inférieure à une valeur prédéterminée, et la détermination des conditions d'une source lumineuse (37) ayant une distribution optimale d'intensité lumineuse ne donnant pas plus de la valeur prédéterminée, et l'adoption de la source lumineuse (37) ayant une distribution optimale d'intensité lumineuse comme source lumineuse (37) pour la lumière d'exposition. 10. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape d'optimisation de la condition de fonctionnement de la source lumineuse (37) comprend en outre les étapes suivantes: le changement de la distribution de l'intensité lumi- neuse de la source lumineuse (37) afin que le pic primaire de la distribution d'intensité de la lumière d'exposition projetée sur la région (54) de diagnostic prenne une valeur prédéterminée plus grande et la détermination des conditions de la source lumineuse (37) ayant une distribution optimale d'intensité de lumière ne donnant pas plus de la valeur prédéterminée, et l'adoption de la source lumineuse (37) ayant une distribution optimale d'intensité lumineuse comme source lumineuse pour la lumière d'exposition. 11. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape d'optimisation de l'état de fonctionnement de la source lumineuse (37) comprend en outre les étapes suivantes: la projection de lumière d'exposition pour plusieurs conditions de focalisation, lors de la projection de la lumière d'exposition sur la région (54) de diagnostic, le changement de la distribution de l'intensité lumi- neuse de la source lumineuse (37) de manière que les intensités lumineuses des pics secondaires détectés dans les différentes conditions ne dépassent pas globalement une valeur prédéterminée lors de la projection de la lumière d'exposition dans les différentes conditions de focali- sation, et l'adoption d'une distribution d'intensité lumineuse de la source lumineuse (37) donnant une valeur globale de la distribution des intensités lumineuses des pics secondaires qui ne dépasse pas une valeur prédéterminée comme distri- bution optimale de l'intensité lumineuse de la source lumineuse. 12. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: la projection de la lumière d'exposition par utilisa- tion de plusieurs motifs d'inspection, lors de la projection de la lumière d'exposition sur la région (54) de diagnostic, le changement de la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse (37) de manière que les intensités lumineuses des pics secondaires détectés dans les différentes conditions ne prennent pas globalement une valeur supérieure à une valeur prédéterminée, et l'adoption d'une distribution d'intensité lumineuse de la source lumineuse (37) donnant une valeur globale de la distribution des intensités lumineuses des pics secondaires qui ne dépasse pas une valeur prédéterminée comme distri- bution optimale d'intensité lumineuse de la source lumineuse (37). 13. Appareil d'exposition, caractérisé en ce qu'il comprend: une source lumineuse (37) destinée à émettre de la lumière d'exposition, un dispositif de changement de source lumineuse (37) destiné à changer la distribution de l'intensité de la lumière émise par la source lumineuse (37), et un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter le pic secondaire de la lumière d'exposition projetée sur une région (54) de diagnostic, qui ne forme pas un motif, et sur laquelle la lumière d'exposition provenant de la source lumineuse (37) est projetée à travers un masque afin que la distribution d'intensité lumineuse de la lumière d'exposition puisse être diagnostiquée. 14. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que la source lumineuse (37) est une source lumineuse efficace. 15. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que le masque est un masque (39) de déphasage 16. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que la région (54) de diagnostic est formée d'un matériau photochrome, et l'appareil comporte en outre un dispositif de photographie du changement de couleur de la surface du matériau d'après la distribution de l'intensité de la lumière d'exposition projetée sur le matériau photochrome, et un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter l'intensité lumineuse du pic secondaire d'après le résultat de la photographie par le dispositif de photographie. 17. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que la région (54) de diagnostic est constituée par un dispositif photographique qui peut détecter la distribution bidimensionnelle de l'intensité lumineuse, et l'appareil comporte en outre un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter l'intensité lumineuse du pic secondaire d'après l'image photographiée par le dispositif de photographie. 18. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que la région (54) de diagnostic est formée à la périphérie du substrat sur lequel le motif final doit être formé, et l'appareil comporte en outre un dispositif de détection de pic secondaire destiné à détecter l'intensité lumineuse du pic secondaire par photographie de la lumière réfléchie du motif d'inspection projeté sur la région (54) de diagnostic. - 19. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un dispositif de commande destiné à changer la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse (37) à l'aide du dispositif de changement de source lumineuse (37) de manière que l'intensité lumi- neuse du pic secondaire ne dépasse pas la valeur prédéterminée. 20. Appareil selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un dispositif de commande destiné à changer la distribution de l'intensité lumineuse de la source lumineuse (37) à l'aide du dispositif de changement de source lumineuse (37) afin que le pic primaire de distribution d'intensité de la lumière d'exposition projetée sur la région (54) de diagnostic ne soit pas inférieur à une valeur prédéterminée. 21. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que le dispositif de changement de source lumineuse (37) comporte un dispositif destiné à abaisser la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace afin qu'elle soit égale ou inférieure d'une quantité prédéterminée à la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source de lumière efficace. 22. Appareil selon la revendication 21, caractérisé en ce que le dispositif de changement de la source lumineuse (37) comporte un dispositif destiné à rendre la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace inférieure d'une valeur comprise entre O et 90 % à la valeur de crête de la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source de lumière efficace. 23. Appareil selon la revendication 21, caractérisé en ce que la source de lumière efficace comporte un objectif oeil de mouche (37) comprenant un ensemble de plusieurs lentilles, et la lumière émise par la source lumineuse (37) passe dans l'objectif oeil de mouche (37) afin que la lumière efficace soit projetée. 24. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que le dispositif de changement de source lumineuse (37) comporte un élément optique et des organes optiques disposés afin qu'ils puissent être rapprochés ou éloignés dudit élément optique dans la direction axiale du trajet lumineux. 25. Appareil selon la revendication 24, caractérisé en ce que l'élément optique est un prisme. 26. Appareil selon la revendication 21, caractérisé en ce que le dispositif de changement de la source lumineuse (37) comporte un dispositif destiné à diviser un faisceau tombant sur la source de lumière efficace en au moins deux faisceaux, un miroir mobile destiné à projeter les deux faisceaux divisés au moins sur la source de lumière efficace, et un dispositif de balayage destiné à réduire la quantité de lumière émise par la partie centrale de la source de lumière efficace par rapport à la valeur de crête de la quantité de lumière émise par la partie périphérique de la source de lumière efficace par utilisation de la différence de vitesse de balayage en différents points de la surface de la source de lumière efficace, du fait de la configuration de la surface du miroir mobile. 27. Appareil selon la revendication 21, caractérisé en ce que le dispositif de changement de la source lumineuse (37) comporte un premier filtre (96a-96d) ayant un coefficient de transmission plus grand dans sa partie péri- phérique que dans sa partie centrale, et un dispositif de commutation entre un état dans lequel la lumière passe dans le premier filtre (96a-96d) et un état dans lequel l'exposi- tion est réalisée sans passage de la lumière dans le premier filtre (96a-96d), dans une même période d'exposition. 28. Appareil selon la revendication 27, caractérisé en ce qu'il comprend un second filtre (96a-96d) ayant une distribution de coefficient de transmission différente de celle du premier filtre (96a- 96d), et, dans un état dans lequel l'exposition est réalisée sans passage de la lumière dans le premier filtre (96a-96d), le dispositif de commu- tation est commandé afin que la lumière passe dans le second filtre (96a-96d). 29. Appareil selon la revendication 27, caractérisé en ce que le dispositif de commutation a au moins un disque rotatif sur lequel est monté le premier filtre (96a-96d), et un dispositif d'entraînement du disque rotatif afin qu'il tourne. 30. Appareil selon la revendication 27, caractérisé en ce que le dispositif de commutation comporte au moins un mécanisme coulissant grâce auquel le premier filtre (96a-96d) peut se déplacer de manière coulissante. 31. Appareil selon la revendication 27, caractérisé en ce que le dispositif de commutation est formé par un matériau optique du type obturateur de lumière ayant un coefficient de transmission de la lumière qui varie lors de l'application d'une tension.