FR 2732683 A1 19961011 FR 9504486 A 19950410 Procédé de scission des sous-produits de la synthèse directe des alkylchlorosilanes. La présente invention a trait à un procédé de scission des sous- produits lourds issus de la synthèse des alkylchlorosilanes, en particulier des méthylchlorosilanes, notamment pour la scission des alkylchlorodisilanes et en5 particulier des méthylchlorodisilanes et parmi eux surtout ceux ayant de un à cinq atomes de chlore, par traitement par l'acide chlorhydrique en présence d'un système catalytique. Les méthylchlorosilanes sont obtenus par action du chlorure de méthyle sur le silicium métal (synthèse directe). Bien que très performante, cette réaction coproduit de nombreux sous-produits lourds, à savoir silylméthylènes, polysilanes, disiloxanes, hydrocarbures et en particulier les méthychlorodisilanes aui représentent la fraction majoritaire (plus de 80 %). Ces sous-produits n'ont pas de débouchés industriels importants et il est donc intéressant de chercher à les valoriser par la scission de a liaison Si-Si. Certains de ces sous-produits peuvent être valorisés par rétrogradation en monosilanes par le procédé de référence HCl+amine: il s'agit des disilanes ayant au moins deux atomes de chlore sur au moins l'un des atomes de silicium; ils sont qualifiés de "scindables". Les autres sont les non-scindables: Me2ClSi- SiClMe2 (tétraméthyldichlorodisilane symétrique), pentaméthylchlorodisilane, les silvylméthylènes, les polysilanes. De nombreuses études ont déjà été réalisées sur la scission des disilanes et notamment sur la scission par l'acide chlorhydrique en présence d'un système catalvtique. Ainsi divers systèmes catalytiques ont déjà été décrits, tels que les amines ou amines tertiaires décrites dans les brevets FR-A-1 119 915 et FR-A-1 447 3C4 (procédé de référence HCl+amine cité plus haut). Le système catalytique décrit dans ces brevets permet de transformer efficacement le tétracalorodiméthyldisilane et le trichlorotriméthyldisilane et certains tétraméthyldichlorodisilanes mais présente l'inconvénient de ne pas pouvoir scinder tous les disilanes et notamment ne convertit pas le tétraméthyldichorodisilane symétrique. Les complexes organométalliques du palladium permettent de résoudre ce proolème moyennant l'utilisation de conditions réactionnelles plus dures. De plus l'emploi d'un tel système catalytique est limité industriellement par la difficulté à recycler un catalyseur homogène. Dans les conditions décrites ( H. Matsumoto et al., Bulletin of the Chemical Society of Japan, vol. 51 (6), 1913-1914, 1978) les débits traités restent faibles et les bilans matières sont mauvais. A ce propos, le brevet US-A-3 772 347 propose de traiter par un halogénure RCl en présence de complexes de métaux de transition, par exemple un complexe phosphine- palladium, éventuellement supporté sur charbon ou gel de silice, conduisant à l'obtention d'environ 25 % en poids d'hydrogénosilanes. Ce procédé décrit la scission du tétraméthyldichlorodisilane avec une durée de réaction de 86 heures. De même, le brevet US-A-5 210 255 propose d'utiliser en catalyse hétérogène un métal du sous-groupe VIII du tableau périodique (norme IUPAC), tel que platine, palladium, rhodium et ruthénium, en particulier sous forme de catalyseur supporté par exemple sur charbon actif. Le palladium est le métal préféré. L'objectif est semble-t-il d'obtenir des méthylchlorosilanes non hydrogénés. Une comparaison est faite entre le palladium sur charbon et le tétrakis(triphénylphosphine)palladium. Le premier conduit semble-t-il à de bons rendements de rétrogradation des disilanes en monosilanes non hydrogénés, tandis que le deuxième conduit à l'obtention d'un taux important d'hydrogénosilanes MeHSiCl2 et Me2HSiCl mais avec un mauvais rendement. Les cinétiques de scission sont lentes: temps de contact de plusieurs heures. La scission thermique en phase vapeur à 500 C décrite dans les brevets US-A-5 292 912, US-A-5 292 902, US-A-5 321 147 et US-A-5 326 896 permet également, en présence de gaz hydrogène, de chlore et/ou d'acide chlorhydrique, de scinder l'ensemble des disilanes sur divers catalyseurs tels que charbon activé, oxydes métalliques, zéolithes ou métaux supportés. A cette température, les réactions sont principalement thermiques et peu d'hydrogénosilanes sont obtenus. D'ailleurs, il est bien connu que les catalyseurs utilisés sont modifiés par réaction des chlorosilanes, ce qui modifiera leurs propriétés catalytiques. Le besoin existe donc toujours d'un procédé permettant de scinder les sous-produits de la synthèse directe et en particulier le tétraméthyldichlorodisilane symétrique dans des conditions intéressantes industriellement. La présente invention a donc pour objectif de remédier aux inconvénients de l'art antérieur en fournissant un procédé permettant la scission dans des conditions douces et rapides des sous-produits de la synthèse directe et permettant d'une manière générale la scission de l'ensemble des disilanes, en particulier les méthylchlorodisilanes présentant de un à cinq atomes de chlore, et tout particulièrement du tétraméthyldichlorodisilane symétrique, ainsi que le pentaméthylchlorodisilane, et cela dans des conditions acceptables industriellement. Un autre objectif de l'invention est aussi de permettre la scission d'autres produits lourds, en particulier de type: (Me)xClySiCH2Si(Me)zClt, ou (Me)xClySiSi(Me)wClu[Si(Me)zClt]n avec n supérieur ou égal à 1, notamment compris entre 1 et 8 o: x = 0 à 3, y = 0 à 3, avec x - y = 3; z = 0 à 3, t = 0 à 3, avec z + t = 3; w = 0 à 2, u = 0 à 2, avec w + u = 2; et au moins y ou t ou u au moins égal à 1. Un autre objectif encore de l'invention est de fournir un tel procédé qui conduise à l'obtention d'une quantité appréciable d'hydrogénosilanes industriellement intéressants. La présente invention a donc pour objet un procédé de scission des sous-produits lourds issus de la synthèse directe des alkylchlorosilanes, en particulier en C1 à C6, notamment pour la scission des alkylchlorodisilanes, par traitement par l'acide chlorhydrique en presence d'un système catalytique, caractérisé en ce que le système catal-tique comprend au moins un phosphate métallique. La présente invention est de préférence appliquée à la scission des sousproduits lourds issus de la synthèse des méthylchlorosilanes et tout particulièrement à la scission des méthylchlorodisilanes ayant de un à cinq atomes de chlore. De préférence, le phosphate métallique comprend un composé d'imprégnation basique, notamment choisi dans le groupe des métaux alcalino-terreux, celui des métaux alcalins, et leurs mélanges (par définition mélanges intra- et/ou inter-groupes), de préférence associés à un contre- anion pour assurer la neutralité électrique. Le(s) contre- anion(s) initial(aux), c'est-à-dire avant traitement thermique, peuvent avantageusement être choisis parmi les anions nitrate, sulfate, chlorure, fluorure, hydrogénophosphate, phosphate, dihydrogéncphosphate, hydrogénosulfate, oxalate, acétate, benzoate, etc. Les anions peuvent être d'une seule espèce ou être constitués d'un mélange d'espèces; pour des raisons de simplicité, on préfère n'avoir qu'une seule espèce ou famille d'espèce. La teneur du catalyseur en composé d'imprégnation (ou agent dopant) est de préférence telle que le pourcentage pondérai en composé d'imprégnation basique, exprimé notamment en élément alcalin et/ou alcalino-terreux, par rapport au phosphate métallique sec est compris entre 0 et 25 %, avantageusement entre 3 et 15 %. De préférence, le phosphate métallique comprend un métal choisi dans ie groupe consistant en métaux monovalents, divalents, trivalents, y compris de terres rares, tétravalents et pentavalents. De préférence encore, le phosphate métallique répond à la formule: M(XPO4)y dans laquelle M représente le métal choisi parmi: - les métaux monovalents, auquel cas X est 2H et y = 1 - les métaux divalents, auquel cas X est H et y = 1 - les métaux trivalents, tels que notamment Al, B, Fe, Ga et métaux de terres rares (lanthanides ayant un numéro atomique de 57 à 71, y compris le lanthane, notamment lanthanides tels que cités ci-dessus, ainsi que l'yttrium et le scandium), auquel cas X est absent et y = 1 - les métaux tétravalents, tels que notamment Zr, Ti, etc., auquel cas X est H et y = 2 - les métaux pentavalents, tels que notamment Nb, -a, etc., auquel cas X est O et y = 1. Dans une forme de réalisation particulièrement préférée, l'invention prévoit d'utiliser un phosphate métallique basé sur l'emploi de terre rare trivalente. Le phosphate métallique répond alors avantageusement à la formule: MPO4 dans laquelle: - M représente: une terre rare trivalente M3, ou un mélange d'au moins une terre rare trivalente M3 et d'au moins un élément choisi dans le groupe consistant en métaux alcalins M1 et métaux alcalino-terreux M2 avec la30 relation: M = aM1 - bM2 - cM3 et a-2b-+3c = 3 -a est un coefficient compris entre 0 et 3, avantageusement entre 0,D1 et 0,5, préférentiellement entre 0,05 et 0, 2, -b est un coefficient compris entre 0 et 3/2, avantageusement entre 0 et 1/3 ou bien 1 + ou 0,1, et -c est un coefficient compris entre 0 et 1, avantageusement supérieur ou égal à 1/3, de préférence à 1/2. On préfère alors que le phosphate métallique comprenne en plus un composé d'imprégnation, si bien que sa formule devient: MPO4(Im)p dans laquelle: Im correspond à un composé d'imprégnation basique constitué d'un métal choisi dans le groupe consistant en métaux alcalino- terreux, métaux alcalins et leurs mélanges, associés de préférence à un contre-anion pour assurer la neutralité électrique, et - p est inférieur à 0,5, notamment compris entre 0,04 et 0,25. De préférence, - Ml est choisi dans le groupe des éléments de la colonne !A, de préférence les métaux alcalins tels que lithium, sodium, potassium, rubidium, zésium, et leurs mélanges, - M2 est choisi dans le groupe des éléments de la colonne 2A, de préférence les métaux alcalino-terreux tels que béryllium, magnésium, calcium, strontium, baryum, et leurs mélanges, M3 est choisi dans le groupe des terres rares trivalentes choisies parmi les lanthanides, l'yttrium et le scandium, et leurs mélanges, les lanthanides étant de préférence lanthane, cérium, praséodyme, néodyme, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium et lutécium. Par définition, on se réfère à la classification des éléments publiée dans le Bulletin de la Société Chimique de France, n !, 1966. En général, M est de préférence constitué d'au plus trois éléments et ce pour des raisons de commodité. Pour les mêmes raisons, il peut être économiquement intéressant d'utiliser des mélanges commerciaux de terres rares sous quelque formes qu'ils soient, dès lors qu'ils conduisent aisément aux composés selon l'invention. Les phosphates métalliques selon l'invention peuvent être préparés par imprégnation du phosphate, notamment du composé de formule MPO4, avec une solution ou une suspension d'Imp dans un solvant volatil, tel que l'eau de préférence. Les résultats sont d'autant meilleurs qu'Imp est plus soluble et que le phosphate, notamment MPO4, est plus fraichement fabriqué. Ainsi, un procédé avantageux de préparation des phosphates de formule MPO4(Im)p consiste: a) à réaliser la synthèse du composé MPO4, puis, de préférence sans séparer MPO4 du milieu réactionnel, b) à introduire l'imprégnant Imp dans le milieu réactionnel, c) à séparer l'éventuel liquide résiduel d'avec le solide réactionnel, d) à sécher et éventuellement calciner. Si l'on se réfère aux techniques générales de préparation de phosphates (telles que décrites notamment dans "PASCAL P., Nouveau traité de chimie minérale" tome X (1956), pages 821-823 et dans "GMELINS, Handbuch der anorganischen Chemie" (8ème édition) volume 16 (C), pages 202-206 (1965), on peut distinguer deux vces principales d'accès aux phosphates. D'une part, la précipitation d'un sel soluble du métal (chlorure, nitrate) par l'hydrogénophosphate d'ammonium ou l'acide phosphorique et traitement de finition avec de l'ammoniaque, puis éventuellement un complément de neutralisation. D'autre part, la réaction de l'oxyde de métal avec ce l'acide phosphorique à chaud. Dans les deux cas on peut envisager un traitement de finition avec un hydroxyde alcalin. Les phosphates desdits métaux peuvent être également préparés par chamottage (réaction solide-solide) de leurs sels avec des sels de phosphore, puis calcination. Le produit est ensuite séché selon les techniques classiques connues de l'homme du métier. Il se fait avantageusement entre 50 C et 200 C, pendant une période allant de préférence de 2 à 8 heures, sous atmosphère normale ou sous pression réduite ou par lyophilisation. Le produit séché peut être ensuite calciné à une température comprise entre 200 C et 1000 C, de préférence entre 400 C et 700 C, pendant une durée variant de 1 à 15 heures, de préférence de 3 à 6 heures. Pour la préparation des phosphates dopés/imprégnés selon l'invention, on pourra aussi se référer aux demandes de brevet EP-A-0 440 555 et EP-A- 0 599 688 qui sont incorporées _ci par référence. Le procédé de scission peut être conduit en phase vapeur (gaz HC1 et produits à scinder vaporisés) ou en système triphasique gaz-liquidesolide (gaz HCl, produits à scinder en solution), le catalyseur étant dans les deux cas de préférence sous forme solide. Il peut être mis en oeuvre soit en continu, soit en discontinu (batch) avec accumulation ou distillation en continu des produits de la réaction. Le catalyseur utilisé peut, dans le cas du procédé en phase vapeur, être disposé en lit fixe ou être mis en oeuvre en lit fluidisé, notamment en mélange avec des inertes, afin d'augmenter la surface de contact, ou, dans le cas du procédé en système triphasique, être mis en oeuvre en suspension (slurry). Le procédé de scission est généralement mis en oeuvre à une température de 100 C à 50 0C. Dans le cas des disilanes comprenant deux atomes de chlore ou plus par atome de silicium, la température peut être comprise entre 'C et 300'C. Pour les autres disilanes ou produits lourds, la température de réaction est avantageusement comprise entre 300, de préférence 350 C, et 500 C. Lorsqu'on utilise un mélange de l'ensemble des produits lourds on peut également observer des réactions de scission de produits lourds ou ne comprenant pas deux atomes de chlore par atomes de silicium même à plus basse température par exemple de 200 C. Lors d'une mise en oeuvre en phase vapeur, le temps de contact, défini comme le rapport entre le volume du catalyseur et le débit total gazeux (disilane + acide chlorhydrique + gaz vecteur) à la température choisie, varie habituellement de 0,01 seconde à 50 secondes et le plus souvent de 0,1 seconde à 10 secondes. La pression n'est pas critique. Elle se situe généralement de la pression atmosphérique à 10 MPa (100 bars) et de préférence de la pression atmosphérique à 1,5 MPa (15 bars). Le rapport molaire entre l'acide chlorhydrique et l'ensemble des disilanes peut être compris entre 0,1 et , de préférence entre 0,5 et 10. On peut àgalement utiliser un gaz vecteur inerte dont la pression partielle représente entre 0 et 10% de l'ensemble du flux gazeux. Le vecteur gazeux inerte peut être constitué par un gaz ou un mélange de gaz inerte dans les conditions réactionnelles, comme par exemple l'argon, l'azote, etc. Lors d'une mise en oeuvre en suspension (slurry), le catalyseur peut être mis en suspension dans un mélange des disilanes et autres produits lourds issus de la synthèse directe, mais également cans un solvant organique inerte de haut point d'ébullition, compris entre 80'C et 300 C. Le solvant organique est choisi pour ses capacités à solubiliser les disilanes. A titre de solvant inerte on 1l peut citer les carboxamides cycliques, les nitriles aliphatiques ou aromatiques, les éthers, etc. Les monosilanes produits peuvent être distillés en continu au cours de leur formation ou être récupérés en fin de réaction. La mise en oeuvre en phase vapeur et en lit fixe est préférée et conduit remarquablement à une scission performante du tétraméthyldichlorodisilane symétrique avec un temps de contact avantageusement très court, de l'ordre de quelques secondes, par exemple de 2 secondes environ, voire moins. Cette mise en oeuvre conduit aussi, de manière tout à fait remarquable, à une scission extrêmement performante des autres méthylchlorodisilanes. Ainsi, des taux de transformation (de scission) de 99 à 100 % ont ét, atteints pour le traitement de mélanges de triméthyltrichlorodisilane diméthyltétrachlorodisilane, avec des temps de contact très courts, de 3 et 0,6 secondes respectivement. Des taux de transformation similaires ont été obtenus avec un mélange de type industriel comprenant les trois susdits disilanes. Les temps de réaction très courts représentent un gros avantage sur!e plan industriel, en particulier en ce qui concerne le réacteur qui peut donc être de très petite taille tout en traitant un vclume important. L'invention présente un autre avantage remarquable dans le fait que la scission performante du tétraméthyldichlorodisilane symétrique s'accompagne de la production d'hydrogénosilane Me2HSiCl qui est actuellement le composé ayant la plus grande valeur commerciale. Pour la mise en oeuvre en suspension, on préfère que le catalyseur soit imprégné. La durée de réaction est de l'ordre de quelques minutes à quelques heures, notamment comprise entre 5 min et 5 h, en particulier entre 30 min et 2 h. Le procédé selon l'invention présente en outre l'avantage de permettre l'obtention d'hydrogénosilanes Me2HSiCl et MeHSiCl2 Les exemples suivants illustrent l'invention sans toutefois la limiter. EXEMPLES Préparation du phosphate de lanthane: Exemple 1: On introduit dans un réacteur, 106g de H3PO4 (à 85% vendu par la société Prolabo), soit 0,92 mole dans 800 ml d'eau désionisée. Cn agite à 500-700 tours/minute. On introduit 299 g de La2(CO3)3, 12H20 à froid, soit 0,8 mole de lanthane dans 736 ml d'eau), lentement et sous forte agitation. On chauffe ensuite le milieu réactionnel jusqu'à C, pendant 2 heures trente. On laisse refroidir jusqu'à température ambiante sans agitation pendant une demi-heure et on finit dans un bain d'eau froide. La suspension est filtrée sur un verre fritté n 3 jusqu'à épuisement des eaux-mères. Le produit est alors redispersé dans deux litres d'eau, sous forte agitation et laissé en suspension pendant une demi-heure, tout en maintenant l'agitation. La suspension est filtrée sur un verre fritté n 3 jusqu'à épuisement des eaux-mères. Le produit est remis en dispersion dans 900 ml d'eau désionisée et neutralisé par une solution d'ammoniaque jusqu'à un pH égal à 9. Le produit est filtré, lavé à l'eau et centrifugé avant d'être séché à 11i0 C. Une partie du produit ainsi obtenu est ensuite calcinée 4 heures à 400 C. Exemple 2: Le produit préparé selon l'exemple 1, séché à 'C, est calciné 4 heures à 700'C. Préparation du phosphate de lanthane dopé par un sel d'un métal alcalin: Exemple 3: On prélève 7,8 ml d'une solution 6M de CsOH, à laquelle on ajoute 23,5 ml d'une solution iM de H3PO4. On ajoute alors la quantité d'eau nécessaire pour compléter à ml. On prend 50g de produit préparé dans l'exemple 1 que l'on place dans un bêcher de 200 ml. On introduit goutte à goutte 20 ml de la solution d'imprégnation précédemment préparée en homogénéisant bien. On laisse le produit reposer une heure. On le sèche une nuit à 110'C et on le calcine 2 heures à 500'C. Teneur en césium sur sec = 5%. Exemple 4: On procède comme dans l'exemple 2 à l'aide d'une solution d'imprégnation préparée a partir de 15,7 mi d'une solution 6M de CsOH et 23,5 ml d'une solution 2M de H3PO4. Teneur en césium sur sec = 10%. Exemple 5: On procède comme dans l'exemple 2 à l'aide d'une solution d'imprégnation préparée à partir de 16,3 ml d'une solution 6M de CsOH et 24 ml d'une solution 4M de H3PO4. Teneur en césium sur sec = 13%. Exemple 6: On procède comme dans l'exemple 2 a l'aide d'une solution d'imprégnation préparée à partir de 4,7 ml d'une solution 6M de KOH et 14,1 ml d'une solution 1M de H3PO4. Teneur en potassium sur sec = 0,88%. Exemple 7: On introduit dans un réacteur, 182,4 g de H3PO4 (à 85% vendu par la société Prolabo), soit 1,6 mole dans 640 ml d'eau désionisée. On chauffe le milieu réactionnel jusqu'à 85'C et, quand la température est atteinte, on introduit 260,8 g de La203 (soit 0,8 mole de lanthane) de façon régulière (14 g toutes les 5 minutes). On laisse chauffer le mélange réactionnel 1 heure à 85C, puis on laisse refroidir jusqu'à température ambiante sous agitation. On additionne ensuite sous forte agitation une solution 1M de CsOH jusqu'à obtenir une solution de pH 9. Le produit est récupéré par centrifugation (3600 tours/minutes), puis redispersé dans 400 ml d'eau désionisée. Le produit ainsi lavé est récupéré par centrifugation. Cette opération de lavage est répétée quatre fois suivant la même procédure. Le produit ainsi lavé est séché à 110'C, puis calciné 4 heures à 300'C. Exemple 8: préparation de l'hydrogenophosphate de zirconium: Dans un réacteur muni d'un réfrigérant et d'une agitation à encre, on introduit 93 ml d'H3PO4 10,33 M. Ensuite, l'aide d'un bain d'huile sur une plaque chauffante o la régulation de température est faite à l'aide d'un thermomètre à contact, on porte H3PO4 à ébullition (agitation 300 trs/minute). A ce moment là, on introduit 0, 064 mole de sulfate de zirconium. Le produit pâteux devient jaune pâle (en 1/2 h). Puis on descend la température à 80'C et on laisse 48 heures. Après refroidissement, on récupère le produit obtenu, que l'on centrifuge 25 minutes. Le produit est lavé une première fois à l'eau chaude (80'C), puis à l'eau froide jusqu'à ce que les eaux de lavage aient un pH de 4. Séchage sous vide pendant 40 heures. Exemple 9: préparation de 1'hydrogénophosphate de calcium: On dissout dans un bécher 106,6 g de Ca(NO3)2 dans 300 ml H20 (pH solution environ 7). On introduit ensuite à un débit ce 1,2 litre/heure une solution de (NH4)2HPO4 dans H20 permutée (m= 145,2 g dans 300 ml H2O). Le produit précipite. On finit l'introduction et on rajoute ml H20 (rinçage des tuyaux de la pompe). On laisse ensuite sous agitation à température ambiante pendant 4 heures. 413,7 g de suspension sont prélevés. On centrifuge ensuite pendant 20 minutes (pH eaux mères = 6, 7). On fait un lavage avec 500 ml H20, agitation pendant 20 minutes. Centrifugation, lavage (pH eaux de lavage = 7,8). On sèche, puis on calcine 3 heures à 500 C. A - Les exemples 10 à 13 illustrent une mise en oeuvre en système triphasique, en réacteur travaillant par lot (batch), le catalyseur étant maintenu en suspension (slurry). Mode opératoire général Dans un réacteur tricol muni d'un réfrigérant ascendant, d'une arrivée de gaz et.'une mesure de température, après avoir balayé le montage sous azote pendant une heure, on charge le disilane et le catalyseur, puis on commence à chauffer, toujours sous courant d'azote. Lorsque le reflux est atteint (145-150 C), l'arrivée d'azote e-st coupée et on alimente en acide chlorhydrique. Lors de l'arrêt de la réaction, l'arrivée d'HCl est coupée, puis le montage est purgé sous azote. L'analyse des produits de la réaction est réalisé par chromatographie en phase gazeuse (CPG). On calcule ainsi pour chaque essai: - le taux de transformation (TT): % de disilane transformé par rapport au disilane introduit - les sélectivités en monosilanes par normalisation à 100. Exemples 10 à 13: tableau 1: taux de transformation tableau 2: monosilanes formés (sélectivité par10 normalisation à 100) Exemn Catalyseur Disilane Pourcentage Durée HCI Taux de pie massique de (heure) (équivalent) transformation catalyscur par (%) rapport au disilanc Zr(HPO4)2 MCe2CISi-SiCI2Me 27% 4 3,5 12 global: 16 préparé selonMcCI2Si- SiCI2Me 61% Me2CISi-SiCI2Me: I' exemplc 8 19 MCCI2Si-SiCI2Me: LaPO4 Cs21P Me2CISi-SiCI2Me 27% 4 3,5 12 global: 18 014 MeCI2Si-SiCI2Me 61% Me2CISi-SiCI2Me: 13 %/Op/p Cs 24 préparé selon McCI2Si-SiCI2MC: I' exemple 5 15 LaPO4.Csprép Mc2CISi-SiCI2Me 27% 13 3,5 12 global: 19 aré selon i' McCl2Si- SiCI2Mc 61% Mc2CISi-SiCI2MC exemple 7 26 McCI2SI-SiCl2MNe: LaPO4,K21tP Mc2CISi-SiCl2Me 27% 4 3,5 12 global: 0,5 d3 o04 McCI2Si- SiCI2Mc 61% 0,88 %p/p 1 Kpréparé N selon 1' w excmple 8 td) I C..Il /.. 1Exern [Catalyseur Tr Mc2SiCI2 MeSiCI3 Me3SiCI MeHSiCI2 (3 Zfr(HPO4)2 16 27 35] 8 29 l IaPO4,Cs2HPO4 13 18 35 34 3 3 25 %p/p Cs 1t LaPO4.Cs 19 40) 40 3 2 15 .3 LaPO4,K2HPO4 0,5 29 31 - - 40 o,88 %/ pl/p K_ _ B - Les exemples 14 à 26 suivants illustrent une mise en oeuvre en phase vapeur en lit fixe. Mode opératoire général: Les catalyseurs seront testés suivant le mode opératoire suivant sauf mention contraire: Dans un réacteur disposé verticalement (tube de quartz de longueur 15 cm et de diamètre 2 cm), on charge successivement 5 cm3 de quartz, le catalyseur, puis 5 cm3 de quartz. Le catalyseur est conditionné à la température choisie pour la réaction, par passage pendant deux heures d'un courant d'azote (2 litres/heure dans les conditions normales de pression et de température). Les chlorodisilanes sont alors injectés par l'intermédiaire d'un pousse-seringue. Le débit est ajusté pour obtenir le temps de contact choisi pour chaque expérience. Après une mise en régime d'environ 15 minutes, l'essai dure généralement 1 heure. Les produits sortant du réacteur sont piégés dans un récepteur refroidit par un bain d'eau maintenu à 0 C. L'analyse des produits de la réaction est réalisée par chromatographie en phase gazeuse (CPG). On calcule ainsi -our chaque essai: -le taux de transformation "TT): % de disilane transformé par rapport au disilane introduit, -les sélectivités en monosilanes par normalisation à 100. Exemples 14 a 20: essais de scission de Me2ClSi-SiClMe2 (85% p/p): tableau 3: taux de transformation tableau 4: monosilanes formés (sélectivité par normalisation à 100) Exemples 21 à 25: essais de scission de Me2C1Si-SiCl2Me (27%) + MeC12Si-SiC12Me (61%) tableau 5: taux de transformation tableau 6: monosilanes formés (sélectivité par5 normalisation à 100) Exemple 26: essai de scission d'un mélange de type indutriel: Me2ClSi-SiClMe2 (25% p/p)+ Me2ClSi-SiC12Me (22% p/p) + MeC12Si-SIC12Me (49% p/p)10 tableau 7: taux de transformation tableau 8: mcnosilanes formés (sélectivité par normalisation à 100). Essais de scission de Me2CISi-SiCIMe2 (89 %p/p) Ltabl I eau 3 Exe Catalyseur Températur HCI Temps de Taux de nmple e (équivalent contact transformiati ( C)) (seconde) oit (%) 14 quartz porosité 0 400 I 5 - 0 LaPO4 prénaré selon 1' 400 5 2 23 exemple 2 16 LaPO4 Cs211P0O4 (5 400 5 2 33 %p/p Cs) préparé selon 1' exemple 3 17 LaPO4 Cs21IPO4(10 400 5 2 54 %p/p Cs), préparé selon l' exemple 4 1- LaPO4 Cs2IlPO4 (13 435 21 0,5 12 %op/p Cs) préparé selon l' exemple 5 t19 LaPO4nK2HIPO4 (0,88 400 5 2 15 %p/p K) preparé selon!' exemple 6 2( Zr(MlP04)2 préparé selon 400 5 2 14 I' exemDle 8 tdb) I eut 4 Exe Catalyseur TT Me2SiCi MeSiCi Me3SiC MeISiCI Me2HSi mille () 2 3 I 2 CI lMeSutres ic 5LaPO4 23 70 18 - 2 2 8 It LaPO4,s2lIPO4 (5 33 81 4 - - 15 O %p/p Cs) 17 LaPO4,Cs2tlPO4 54 89 - - - 6 5 (10%p/p Cs)_,... _ 1X L LaPO4,Cs2!IPO4 12 76 - 16 8 (13%p/p Cs). l1 LaPO4,K2IHPO4 15 78 10 - 1 1 (0,88 %p/p Cs) _ C Zr(HPO4)2 14 75 4 I 1 5 14 Lo td1bI cdu 5) Essais de scission de Nle2CISi-SiCi2Me (27%) + MeCI2Si-SiCI2Me (61%) Exe Catalyseur Températur JICI Temps de Taux de mple e (équivalent contact transforniation ( C)) (seconde) (%) 2 f quartz porosité 0 200 5 - 0 2? 2 LaPO4 préparé selon 1' 200 5 3 global 2 exemple 1. .... . ?.3 al'04 préparé selon 1' 200 5 3 global 3 exemple _2 ?, LaPO4 Cs21-PO4 (5 200 5 3 global: 100 %p/p Cs) préparé selon 1' exemple 3 'LaPO4 Cs211PO4 (5 200 5 0,6 Me2CISi- SiCI2Me: %p/p Cs) préparé selon i' 99 exemple 3 MeCl2Si- SiCI2Me _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _. _9 9 tab I ledu 6 Exe Catalyseur TT Me2SiCI MeSiCI Me3SiC MeHSiCI Me21iSi mple (%) 2 3 I 2 CI e Z 2 LaPO4 2 24 45 - 26 - 5, 3 LaPO4 3 24 46 - 25 - 5 2 1 LaPO4,Cs21IPO4 (5100 17 60 I 22 - 0 %p/p Cs)____ _ ____ LaPO4,Cs2HPO4 (5 99 1 7 43 1 39 - 0 %p/p Cs) Essais de scission de Me2CISi-SiCIMe2 (25 %p/p) + Me2CISi-SiCI2Me (22 %p/p) + MeCI2Si- SiCI2Me (49 %p/p) tal)ledu 7 Exe Catalyseur Températur IICI Temps de Taux de mpile e (équivalen contact transformniation ( C) t) (seconde) (%) 26 LaPO4,Cs2FIHPO4 (5% 200 5 3 Me2CISi-SiCIMe2 5 p/p Cs) préparé selon 1' Me2CISi-SiCI2M: exemple 3 95 MeCl2Si-SiCl2Me tab I edu 8 Exe Catalyseur Me2SiCI MeSiCI Me3Si(C MelSiCI Me2i11Si nmple 2 C3 1 *. 2 s 34 LaPO4,Cs2HPO4 (5 20 61 1 18 - 0 %p/p Cs). REVENDICATIONS 1. Procédé de scission des sous-produits lourds issus de la synthèse des alkylchorosilanes, notamment en C1 à C6, plus particulièrement des méthylchlorosilanes, notamment pour la scission des alkylchlorodisilanes, en particulier des méthylchlorodisilanes ayant de un à cinq atomes de chlore, par traitement par l'acide chlorhydrique en présence d'un système catalytique, caractérisé en ce que le système catalytique comprend au moins un phosphate métallique. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé ce que le phosphate métallique comprend un composé d'imprégnation basique. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le composé d'imprégnation basique est choisi dans le groupe des métaux alcalinoterreux, des métaux alcalins, et leurs mélanges, de préférence associés à un contre-anion pour assurer la neutralité électrique. 4. Procédé selon la revendication 2 ou 3, caractérisé en ce que le pourcentage pondéral en composé d'imprégnation basique par rapport au phosphate métallique sec est compris entre 0 et 25 %, avantageusement entre 3 et %. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le phosphate métallique comprend un métal choisi dans le groupe consistant en métaux monovalents, divalents, trivalents, y compris de terres rares, tétravalents et pentavalents. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le phosphate métallique répond à la formule: M(XPO4)y dans laquelle M représente ie métal choisi parmi: - les métaux monovalents, auquel cas X est 2H et y = i - les métaux divalents, auquel cas X est H et y = 1 - les métaux trivalents, auquel cas X est absent et y = 1 - les métaux tétravalents, auquel cas X est H et y = 2 - les métaux pentavalents, auquel cas X est O et y = 1. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que le phosphate métallique répond à la formule: MPO4 dans laquelle: - M représente: une terre rare trivalente M3, ou 10. un mélange d'au moins une terre rare trivalente M3 et d'au moins un élément choisi dans le grDupe consistant en métaux alcalins M1 et métaux alcalino-terreux M2 avec la relation: M = aM1 + bM2 + cM3 et a-2b-3c = 3 -a est un coefficient compris entre 0 et 3, avantageusement entre 0,01 et 0,5, -b est un coefficient compris entre 0 et 3/2, avantageusement entre 0 et 1/3, et -c est un coefficient compris entre 0 et 1, avantageusement supérieur ou égal à 1/3. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que a est compris entre 0,05 et 0,2 et/ou b est I + ou - 0,1 et/ou c est supérieur ou égal à 1/2. 9. Procédé selon la revendication 7 ou 8, caractérisé en ce que le phosphate métallique comprend en plus un compcóé d'imprégnation, si bien que sa formule devient: MPO4(Im)p dans laquelle: -0 - Im correspond à un composé d'imprégnation basique constitué d'un métal choisi dans le groupe consistant en métaux alcalino- terreux, métaux alcalins et leurs mélanges, associés de préférence à un contre-anion pour assurer la neutralité électrique, et - p est inférieur à 0,5, notamment compris entre 0,04 et 0,25. 10. Procédé selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, caractérisé en ce que: - M1 est choisi dans le groupe consistant en liuhium, sodium, potassium, rubidium, césium et leurs mélanges, - M2 est choisi dans le groupe consistant en béryllium, magnésium, calcium, strontium, baryum et leurs mélanges, - M3 est choisi dans le groupe consistant en lanthanides, yttrium, scandium et leurs mélanges. 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que le traitement est conduit à une température comprise entre 100 et 500'C, de préférence entre 350 et 500 C. 12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que le traitement est conduit à une température comprise e tre 100 et 300 C pour la scission des disilanes ayant deux atomes de chlore ou plus par atome de silicium. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que le traitement est conduit en phase vapeur, avec catalyseur solide en lit fixe ou fluidisé. 14. Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que le temps de contact est compris entre 0,01 et 50 secondes, notamment entre 0,1 et 10 secondes. 15. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisé en ce que le traitement est conduit en système triphasique gaz-liquide-solide avec catalyseur solide en suspension. 16. Procédé selon la revendication 15, caractérisé en ce que le temps de contact est compris entre min et 5 heures, notamment entre 30 min et 2 heures.