FR 2725524 A1 19960412 FR 9511790 A 19951006 Accéléromètre à masse-étalon symétrique à caDacité d'auto-diagnostic et procédé de fabrication associé La présente invention concerne un accéléromètre à masse-étalon symétrique ayant une capacité d'auto-diagnostic, ainsi que son procédé de fabrication, en particulier. celle-ci concerne un accélérometre qui a été conçu pour que sa masse soit répartie de manière symétrique par rapport au plan d'une poutre située en porte-à-faux, tout en ayant un décalage entre la partie supérieure et la partie inférieure de la masse, de manière non seulement à réduire la sensibilité selon un axe transversal, mais aussi à faciliter l'installa- tion d'une résistance d'auto-diagnostic. La présente invention peut être appliquée à des systèmes électroniques d'automobiles, ainsi que dans des circuits électroniques accessi- bles aux consommateurs, et dans des systèmes de mesure électriques industriels, dans lesquels il est nécessaire d'effectuer des mesures de déplacement, de vitesse, de vibra- tions, d'accélération, d'accélération angulaire et de leurs variations. Les accéléromètres habituels présentant une capacité d'auto-diagnostic, ainsi que leurs procédés de fabrication, peuvent être classés en deux types. La figure l(A) représente un accéléromètre à masse-étalon dissymétrique, dans lequel une résis- tance ou un conducteur d'auto-diagnostic sont installés sur la zone de fortes contraintes de manière à détecter la rupture de la poutre en porte-à-faux. L'autre type d'accéléromètre habituel est un accéléromètre à masse- étalon symétrique tel que représenté sur la figure 1(B). Dans ce cas, il est nécessaire d'étendre la résistance ou le conducteur d'auto-diagnostic au niveau de la masse et du support. Ces accéléromètres habituels et les procédés de fabrication qui leur sont associés posent les problèmes suivants. D'abord, l'accéléromètre dissymétrique représenté sur la figure 1(A) pré- sente un problème de sensibilité relative selon un axe transversal comparativement à un accéléromètre symétrique, du fait qu'une accélération dans une direction indésirable peut engendrer la rupture de la poutre en porte-à-faux. Par ailleurs, l'accéléromètre symétri- que représenté sur la figure 1(B) présente un problème constitué de difficultés pour ins- taller la résistance ou le conducteur d'auto-diagnostic au niveau des extrémités 9a, 9b de la poutre en porte-à-faux, lesquelles constituent la zone la plus fragile de l'accéléromètre. du fait que les surfaces formées par la poutre, la masse et les supports ne sont pas situées dans le même plan. Le problème commun aux accélérometres des figures l(A) et I(B) est que la variation brutale de l'épaisseur au niveau de chaque extrémité de la poutre située en porte-à-faux engendre une concentration de contrainte. Par conséquent, celle-ci est sus- ceptible d'engendrer une rupture lors du procédé de fabrication ou lors d'une utilisation quelconque. Les procédés habituels, utilisés pour la commande de l'épaisseur des pou- tres en porte-à-faux dans les accélérométres des figures l(A) et 1(B), tels que l'attaque chimique commandée dans le temps, la jonction p-n et l'arrêt d'attaque chimique p+, pré- sentent des problèmes dus à l'instabilité des traitements, à la complexité de traitement, à la difficulté de commander l'épaisseur et dus aux limites concernant le choix des maté- riaux utilisés. L'accéléromètre de la présente invention surmonte les problèmes posés par les techniques habituelles mentionnées ci-dessus. L'accéléromètre de la présente in- vention comporte deux parties de masse-étalon ayant une masse identique, ayant des emplacements relatifs différents au-dessus et au-dessous de la poutre en porte-à-faux, de manière à permettre à la fois l'adjonction d'un élément d'auto-diagnostic et la réduction de la sensibilité selon un axe transversal. De plus, le traitement de commande de l'épais- seur d'une poutre a été simplifié par le procédé utilisant des différences d'épaisseur d'at- taque, et le rendement et la fiabilité peuvent être renforcés par l'utilisation d'un traitement de formation de congés arrondis. Le traitement de formation de congés arrondis forme une courbure au niveau de chaque extrémité de la poutre (la zone la plus fragile) de ma- nière à empêcher la rupture pendant ou après la fabrication. La présente invention a pour objet un accélérometre à masse-étalon syme- trique, caractérisé en ce qu'il comporte une poutre en porte-à-faux, des masses-étalons, des espaces de commande d'amortissement situés entre les masses et des plaques de sup- port, ainsi que des gorges pour colle, constituant un corps unique, son niveau d'amortis- sement étant commandé en ajustant la profondeur desdits espaces de commande d'amor- tissement, les masses supérieure et inférieure ayant la même surface et la même masse et étant agencées au niveau des deux cotés de la poutre, et l'emplacement relatif de la pou- tre par rapport aux plaques de support et celui de la masse supérieure par rapport à la masse inférieure étant chacun respectivement commandés. et en ce qu'il comporte une surface plate destinée au montage d'éléments d'auto-diagnostic et des congés arrondis situés au niveau des deux cotés de la poutre Avantageusement l'accéléromètre selon l'invention est caractérisé en ce que les éléments d'auto-diagnostic confèrent à la poutre une capacité d'auto-calibrage ou d'auto- contrôle et/ou en ce qu'un matériau piézorésistif ou piézoélectrique est monté sur la poutre pour fournir l'accéléromètre une capacité de détection basée sur un principe pié- zorésistif ou piézoélectrique, ou en ce que des contre-électrodes sont montées au niveau des deux cotés des espaces de commande d'amortissement pour réaliser un accéléromètre capacitif ayant une capacité de détection. La présente invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un acce- léromètre à masse-étalon symétrique, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes de trai- tement consistant à effectuer: un traitement d'attaque chimique destiné à la réalisation simultanée d'espaces d'amortissement, de gorges pour colle, et de zones de commande de l'épaisseur de la poutre, un traitement de commande de la profondeur d'attaque chimique pour la formation d'espaces de commande d'amortissement, un traitement de commande de l'épaisseur de la poutre utilisant une attaque chimique procédant en plusieurs étapes consécutivement à une première attaque chimique destinée à former des gorges, un trai- tement de formation de congés arrondis utilisant des première et deuxième attaques chimiques, et un traitement de formation d'une surface plate destiné à former l'espace de montage d'éléments d'auto-diagnostic en attaquant chimiquement les masses-étalons su- périeure et inférieure tout en laissant subsister entre celles-ci un décalage horizontal le long de la poutre, la fabrication simultanée de lignes métalliques destinées à un circuit en pont et d'électrodes, la fabrication simultanée d'au moins une poutre destinée à la détec- tion et d'au moins une poutre destinée à empêcher toute rupture pendant le traitement de fabrication, l'élimination de la poutre ou des poutres destinées à empêcher toute rupture. au niveau de l'ultime partie du traitement de fabrication, et le collage de plaques supé- rieure et inférieure sur l'accéléromètre en utilisant la colle contenue dans les gorges pour colle. Avantageusement ce procédé comporte la fabrication de deux poutres supportées au niveau des deux extrémités dudit accéléromètre ou de plusieurs poutres supportées sur ledit accéléromètre. D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention apparaî- tront à la lecture de la description qui va suivre de modes de mise en oeuvre particuliers. faite en référence aux dessins, sur lesquels: - la figure l(A) est une vue en coupe d'un accélérometre habituel ayant une masse dissymétrique, - la figure I(B) est une vue en coupe d'un accéléromètre habituel ayant une masse symétrique, - la figure 1(C) est une vue en coupe d'un accéléromètre ayant une masse symétrique décalée selon la présente invention, - la figure 2 est une vue en perspective d'un exemple correspondant à l'ac- céléromètre symétrique décalé de la figure 1(C), réalisé sous la forme d'un accéléromètre piézorésistif à poutre en porte-a-faux, - la figure 3 est une vue en coupe de l'accéléromètre de la figure 2, prise le long de la ligne A-A, auquel sont fixées des plaques supérieure et inférieure, la figure 4 représente les étapes fondamentales du procédé de fabrication de l'accéléromètre de la figure 2, - la figure 5 est un autre exemple d'accéléromètre symétrique décalé, réali- sé sous la forme d'un accéléromètre à deux poutres supportées, dans lequel (A) est une vue de dessus et (B) est une vue en coupe. Le but de la présente invention est d'obtenir pour un accéléromètre une répartition symétrique de la masse-étalon, ainsi qu'un procédé de fabrication associé, de manière à ce que l'accéléromètre puisse recevoir facilement un élément d'auto-diagnostic sur la surface plate située au niveau de chaque extrémité de la poutre. L'accéléromètre, comportant une poutre en porte-à-faux 2, des masses- étalons la, lb, un élément d'auto-diagnostic 5 capable de détecter la rupture de la poutre en porte-à-faux 2, et des plaques de support supérieure et inférieure 10a, 1 Ob est réalise sous la forme d'un corps unique. L'accélérometre comporte aussi des gorges 12a, 12b pour colle, situées au niveau de surfaces de collage supérieure et inférieure 13a, 13b du support 11, au niveau desquelles sont fixées les plaques de support supérieure et infé- rieure 10a, O10b, des espaces d'amortissement 3a, 3b étant situés entre les masses-étalons la, lb et les plaques de support 10a, 0lb et des congés arrondis étant situés au niveau de chaque extrémité 9a, 9b de la poutre en porte-à-faux. L'accéléromètre selon la présente invention peut être fabriqué en utilisant les étapes de traitement individuelles suivantes, qui comportent un traitement d'attaque chimique destiné à la réalisation simultanée d'espaces d'amortissement 1 5a, 15b, des gor- ges 12a, 12b pour colle, et de marches 14a, 14b de commande d'épaisseur de poutre, comme représenté sur la figure 4(B). Le procédé de fabrication comporte aussi un trai- tement de commande de la profondeur d'attaque chimique pour la formation des espaces de commande d'amortissement 3a, 3b représentés sur la figure 3, un traitement de com- mande de l'épaisseur de la poutre par attaque chimique en plusieurs étapes, comme re- présenté sur les figures 4(D) et 4(E), consécutivement à une première attaque chimique destinée à former des gorges 16a, 16b, telles que représentées sur la figure 4(C), un trai- tement de formation de congés arrondis utilisant la première étape d'attaque chimique re- présentée sur la figure 4(D) et la deuxième étape d'attaque chimique représentée sur la figure 4(E), un traitement de formation d'une surface plate, destiné à former l'espace de montage des éléments d'auto-diagnostic, par attaque chimique des massesétalons supé- rieure la et inférieure lb tout en laissant subsister un décalage horizontal entre celles-ci. un traitement d'adjonction simultanée d'une piézorésistance et d'une résistance d'auto- diagnostic, comme représenté sur la figure 4(F), un traitement de métallisation pour établir une connexion entre la piézorésistance et la résistance d'autodiagnostic, la for- mation d'électrodes 6, 7 et d'une ligne conductrice 23, comme représenté sur la figure 4(G), et un traitement de formation et d'élimination d'une poutre antirupture, via les éta- pes de traitement représentées sur les figures 4(E), 4(F) et 4(G), afin d'empêcher la rup- ture de la poutre en porte-à-faux pendant les étapes de fabrication, et, enfin, un traite- ment de collage pour fixer les plaques de support supérieure et inférieure 1Oa, lOb à un support 11, en utilisant la colle contenue de manière étanche dans les gorges 12a, 12b pour colle. D'abord, sur la figure 1(C), les masses-étalons supérieure et inférieure la, lb sont positionnées de manière symétrique par rapport au plan médian de la poutre, mais celles-ci sont décalées au niveau de leur emplacement horizontal de manière à ce que le centre d'inertie de l'ensemble de la masse-étalon soit situé dans le plan médian de la poutre afin de minimiser sa sensibilité selon un axe transversal et fournir une surface plate au niveau des zones les plus fragiles, c'est-à-dire les extrémités 9a, 9b de l'accélé- romètre, sur laquelle peut être monté facilement le conducteur ou la résistance d'auto- diagnostic. De plus, des arrondis sont formés au niveau des deux extrémités 9a, 9b de la poutre, de manière à empêcher qu'une rupture de la poutre ne puisse être engendrée par la concentration des contraintes. Un exemple d'accéléromètre, adoptant la structure symétrique décalée mentionnée ci-dessus, est représenté sur les figures 2 et 3 On va maintenant décrire en détail le principe de fonctionnement de la présente invention. Comme représenté sur la figure 3, si l'on appelle Z, le déplacement absolu des parties de support extérieures 10a, 10b, I11, 13a, 13b et si l'on appelle zo le déplace- ment absolu des masses-étalons la, lb, le déplacement relatif entre la masse et le support peut être représenté par z = zo - Za. La poutre en porte-à-faux 2 représentée sur la figure 3 agit en tant que ressort, les masses la, lb et le fluide contenu dans les espaces 3a, 3b situés entre les masses et les plaques de support 10a, 10b agissent en tant que massesétalons et d'amor- tissement, respectivement. Si l'on appelle K la constante élastique de la poutre 2, M la masse totale de la masse-étalon et C la constante d'amortissement de la masse d'amortis- sement, l'équation du mouvement de l'accéléromètre peut être écrite de la manière sui- vante. NE + 4 1o- ia) + K(Zo - Za) = 0 (I) Pour une grandeur d'entrée sinusoïdale za = Zei"t, le déplacement relatif z î(oet-çf) - o = Zo - z. = Ze( t) peut être obtenu comme suit, dans le cas o 1, (On Z = - 2 a (II) on o la fréquence de résonance n = I M (III) et le coefficient d'amortissement E = (IV) 2Mwn Par conséquent, d'après l'équation (II), on peut voir que l'amplitude de l'accélération ia peut être mesurée à partir de l'amplitude du déplacement relatif z, qui correspond à la déformation de la masse. Les figures 2 et 3 représentent un exemple de réalisation de l'accélérome- tre basée sur le principe mentionné ci-dessus, comportant une détection piézorésistive de la déformation z a partir de la contrainte exercée a l'extrémité de la poutre. Par ailleurs, des accélérométres du type à détection piézoélectrique ou ca- pacitive peuvent être réalisés en remplaçant le matériau piézorésistif par un matériau pié- zoélectrique ou en installant des électrodes au niveau de chaque côté de l'espace d'amor- tissement, respectivement. Pour ces types d'accéléromètres, la fréquence de résonance (O,) et le coefficient d'amortissement (E) souhaités peuvent être obtenus en commandant la dimen- sion des masses la, lb, les dimensions de la poutre, des espaces 3a, 3b, ou la viscosité et la pression du fluide contenu dans les espaces. Comme représenté sur la figure 3, le centre d'inertie de la masse-étalon est positionné dans le plan B-B de la poutre, en supprimant par conséquent le décalage de la masse, et en améliorant la sensibilité selon un axe transversal. Le décalage relatif entre les deux masses-étalons identiques la, lb, facilite l'installation d'éléments d'auto-diagnostic ou d'une piézorésistance 5 sur l'accélérometre. Les éléments d'auto-diagnostic ou piézorésistances 5 peuvent aussi être utilisés de manière à garantir à l'accéléromètre les capacités suivantes: une capacité d'auto-diagnostic pour détecter une rupture structurelle, une capacité d'auto-contrôle pour détecter la fréquence ou la sensibilité de l'accéléromètre, une capacité d'auto- calibrage pour compenser le décalage de sensibilité ou de zéro grâce à l'utilisation de contre-électrodes formées sur les masses témoins la, lb et sur les plaques lOa, lOb. La figure 4 représente un exemple d'étapes de fabrication permettant de fabriquer l'accéléromètre représenté sur les figures 2 et 3 en utilisant du silicium comme matériau pour le substrat. Ces étapes sont décrites en détail ci-dessous. (A) Des films de passivation 22a, 22b sont formés, en tant que masques de gravure, au niveau des deux côtés du substrat en silicium 21. (B) Après l'élimination des films de passivation 22a, 22b au niveau des zones o devront être formées les gorges 12a, 12b pour colle, la gorge de commande d'épaisseur de poutre et la surface d'électrode 14a, 14b, ainsi que les espaces de com- mande d'amortissement 15a, 15b, le substrat en silicium désormais nonprotégé par un masque est attaqué chimiquement jusqu'à atteindre la profondeur souhaitée pour les es- paces d'amortissement 3a, 3b représentés sur la figure 3. Les surfaces de collage supé- rieure et inférieure 13a, 13b sont préparées au cours de cette étape. (C) Après la formation d'un film de passivation comme dans l'étape (A). des zones choisies 16a, 16b du film de passivation et du substrat en silicium sont atta- quées chimiquement jusqu'à une profondeur atteignant la moitié de l'épaisseur de la pou- tre 2 représentée sur la figure 2, pour former des gorges 1 6a, 16b destinées à commander l'épaisseur de la poutre. (D) Après l'élimination d'une zone choisie du film de passivation, qui a été utilisée au cours de l'étape (C), la poutre 2 et la poutre empêchant une rupture 17, sont formées. De manière typique, le substrat en silicium est attaqué sur une profondeur appropriée, par exemple de l'ordre de 50 à 80 gm, afin de former les congés arrondis 9a, 9b représentés sur la figure 3. La longueur d'ouverture sur la poutre 17 de la figure 4(D) est inférieure à celle de la poutre finale. (E) Après l'élimination d'une zone choisie du film de passivation utilisée au cours de l'étape (D), le substrat en silicium est attaqué chimiquement jusqu'à l'obten- tion de trouées 18 et 19 de manière à former une surface plate destinée à la résistance 4, au conducteur 23, aux électrodes 6, 7 de la figure 2, ainsi que les membranes en silicium 2a, 2b ayant une épaisseur identique à celle de la poutre 2 représentée sur la figure 3. Les ouvertures du film de passivation pour les masses-étalons supérieure et inférieure doivent avoir une forme et une surface identiques, tout en étant décalées. La longueur d'ouver- ture 2a est supérieure à celle représentée sur la figure 4(D) de manière à conduire à la longueur finale de la poutre. Au niveau des étapes (D) et (E), un congé arrondi ayant une forme et un rayon de courbure voulus est formé au niveau de l'extrémité de la poutre fi- nale en commandant la longueur et la profondeur d'attaque au cours de la première et de la seconde attaque. (F) Des piézorésistances 4 destinées à la détection de la déformation de la poutre sont formées en même temps sur la partie d'extrémité gauche de la poutre. Des résistances d'auto-diagnostic sont aussi formées entre la jonction 8 et le congé arrondi 9b, représenté sur la figure 4(E). (G) Les électrodes 6a, 6b, 6c, 6d destinées à la mesure de la piézorésis- tance, la ligne en métal destinée à la formation du pont piézorésistif 23 et les électrodes, ainsi que la ligne en métal destinée à l'autodiagnostic, sont formées simultanément. Par ailleurs, la poutre 2 et la poutre empêchant une rupture 2c sont formées en attaquant chimiquement la zone choisie des membranes en silicium 2a, 2b représentées sur la figure 4(E). Après l'élimination de la poutre empêchant une rupture 2c, les plaques de support supérieure et inférieure sont collées à l'aide de la colle contenue dans les gorges 1 2a, 1 2b pour colle. Le procédé de fabrication représenté sur la figure 4 peut aussi être utilisé pour la fabrication d'accéléromètres à deux supports ou à plusieurs supports. Les avantages de la présente invention, résultant de ses caractéristiques structurelles, sont les suivants. 1) Il est possible de réduire la sensibilité selon un axe transversal, ainsi que de simplifier l'installation d'un conducteur ou d'une résistance à des fins d'auto- diagnostic, par l'utilisation de masses identiques la, lb au niveau des deux côtés de la poutre 2, en ajustant leur emplacement relatif 2) Sur la base de la capacité d'auto-diagnostic mentionnée dans le pa- ragraphe 1), il est possible d'engendrer une capacité d'auto-calibrage et d'auto-contrôle 3) Il est possible d'empêcher la rupture de la poutre lors de la fabrica- tion de l'accéléromètre ou lors de son utilisation en obtenant un relâchement de la con- centration des contraintes grâce à l'utilisation du congé arrondi formé au niveau de cha- cune des deux extrémités 9a, 9b de la poutre 2. 4) L'amortissement peut être facilement commandé en ajustant les es- paces 3a, 3b existant entre les masses la, lb et les plaques de support 1Oa, lOb. ) Les gorges 12a, 12b pour colle, situées au niveau des deux côtés du support, facilitent l'alignement et la fixation de l'accéléromètre sur les plaques de recou- vrement O10a, lob. Les avantages de la présente invention, résultant de ces procédés de fabri- cation uniques sont les suivants. 1) Il est possible de commander les espaces d'amortissement lSa, 15b de manière précise et facile en les définissant au niveau de la première étape de fabrica- tion. 2) Il est possible d'obtenir une épaisseur de poutre précise sans pour autant mesurer le temps ni la profondeur d'attaque chimique avant et/ou pendant le pro- cédé d'attaque chimique. L'utilisation de l'attaque sur une demi-hauteur de la poutre, telle que représentée sur la figure 4(C), et des trouées 18 et 19 formées par attaque chimique 2725524 représentées sur la figure 4(E) indiquent l'instant d'arrêt de l'attaque chimique, entraînant une commande précise de l'épaisseur de la poutre. 3) Il est possible d'empêcher la rupture de la poutre lors de son utilisa- tion grâce à l'arrondi formé au niveau de la partie la plus fragile de l'accéléromètre, c'est- à-dire au niveau des extrémités 9a, 9b de la poutre, par un procédé d'attaque chimique en deux étapes. 4) Il est possible d'empêcher la rupture de la poutre lors de sa fabrica- tion grâce à l'utilisation de la poutre empêchant une rupture 2c formée au milieu de sa fa- brication, laquelle peut être enlevée dès la fin de la fabrication. 5) Le nombre d'étapes de traitement est réduit grâce aà la formation simultanée des espaces d'amortissement 15a, 15b et des gorges 12a, 12b pour colle. 1l il 2725524 REVENDICATIONS 1. Accéléromètre à masse-étalon symétrique, caractérisé en ce qu'il com- porte une poutre en porte-à-faux (2), des masses-étalons (la, lb), des espaces de com- mande d'amortissement (3a, 3b) situés entre les masses (la, lb) et des plaques de sup- port (10a, 0lob), ainsi que des gorges (12a, 12b) pour colle, constituant un corps unique, son niveau d'amortissement étant commandé en ajustant la profondeur desdits espaces de commande d'amortissement (3a, 3b), les masses supérieure (la) et inférieure (lb) ayant la même surface et la même masse et étant agencées au niveau des deux cotés de la pou- tre (2), et l'emplacement relatif de la poutre (2) par rapport aux plaques de support (1 Oa, lob) et celui de la masse supérieure (la) par rapport à la masse inférieure (lb) étant cha- cun respectivement commandés, et en ce qu'il comporte une surface plate destinée au montage d'éléments d'auto-diagnostic (5) et des congés arrondis situés au niveau des deux cotés (9a, 9b) de la poutre (2). 2. Accéléromètre à masse-étalon symétrique selon la revendication 1. ca- ractérisé en ce que les éléments d'auto-diagnostic (5) confèrent à la poutre (2) une ca- pacité d'auto-calibrage ou d'auto-contrôle. 3. Accélérometre à masse-étalon symétrique selon la revendication I ou 2. caractérisé en ce qu'un matériau piézorésistif ou piézoélectrique est monté sur la poutre (2) pour fournir à l'accéléromètre une capacité de détection basée sur un principe piézo- résistif ou piézoélectrique, ou en ce que des contre-électrodes (6, 7) sont montées au ni- veau des deux cotés des espaces de commande d'amortissement (3a, 3b) pour réaliser un accéléromètre capacitif ayant une capacité de détection. 4. Procédé de fabrication d'un accéléromètre à masse-étalon symétrique, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes de traitement consistant à effectuer: un traite- ment d'attaque chimique destiné à la réalisation simultanée d'espaces d'amortissement (15a, 15b), de gorges (12a, 12b) pour colle, et de zones (14a, 14b) de commande de l'épaisseur de la poutre (2), un traitement de commande de la profondeur d'attaque chi- mique pour la formation d'espaces de commande d'amortissement (3a, 3b), un traitement de commande de l'épaisseur de la poutre utilisant une attaque chimique procédant en plusieurs étapes consécutivement à une première attaque chimique destinée à former des gorges (16a, 16b), un traitement de formation de congés arrondis (9a. 9b) utilisant des première et deuxième attaques chimiques, et un traitement de formation d'une surface plate destiné à former l'espace de montage d'éléments d'auto-diagnostic (5) en attaquant chimiquement les masses-étalons supérieure et inférieure (la, lb) tout en laissant subsis- ter entre celles-ci un décalage horizontal le long de la poutre (2), la fabrication simulta- née de lignes métalliques (23) destinées à un circuit en pont (23) et d'électrodes (6, 7), la fabrication simultanée d'au moins une poutre (2) destinée à la détection et d'au moins une poutre (2c) destinée à empêcher toute rupture pendant le traitement de fabrication, l'éli- mination de la poutre ou des poutres (2c) destinées à empêcher toute rupture, au niveau de l'ultime partie du traitement de fabrication, et le collage de plaques supérieure (1 Oa) et inférieure (lOb) sur l'accéléromètre en utilisant la colle contenue dans les gorges (12a, 12b) pour colle. 5. Procédé de fabrication d'un accéléromètre à masse-étalon symétrique selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'il comporte la fabrication de deux poutres supportées au niveau des deux extrémités dudit accéléromètre ou de plusieurs poutres supportées sur ledit accéléromètre.