FR 2734759 A1 19961206 FR 9506452 A 19950531 L'invention concerne l'impression d'images par points au moyen d'une tête d'impression multipoints, en particulier un procédé d'impression par jet d'encre. L'impression par jet d'encre est réalisée au moyen d'une tête d'impression mobile par rapport à un support d'impression sur lequel une image doit être reproduite. Habituellement, la tête d'impression est déplacée dans une première direction de balayage (balayage principal) tandis que le support d'impression est déplacé dans une deuxième direction de balayage perpendiculaire à la première (balayage secondaire). La tête d'impression comprend une pluralité d'orifices à travers lesquels des gouttelettes d'encre peuvent être éjectées de façon contrôlée, par exemple par des moyens électrostatiques ou des moyens de chauffage provoquant la formation de bulles de vapeur. Les orifices d'éjection sont alignés dans une direction transversale par rapport à la direction de balayage principal. Ainsi, à chaque balayage de la tête d'impression, le support d'impression étant immobile, une impression peut être réalisée sur une bande du support comprenant plusieurs lignes, c'est-à-dire autant de lignes qu'il y a d'orifices d'éjection. L'impression peut être monodirectionnelle, c'est-à-dire avec impression des bandes d'images dans le même sens de déplacement de la tête d'impression (pas d'impression pendant le retour de la tête), ou bidirectionnelle, c'est-à-dire avec impression des bandes d'image alternativement dans un sens et dans l'autre dans la direction de balayage principal. Lorsqu'une bande d'image est réalisée en une seule passe, c'est-à- dire un seul balayage de la tête, et que le support d'impression est, entre deux passes, avancé d'une distance égale à la largeur d'une bande d'image, la qualité de l'impression n'est pas toujours bonne, en raison de l'effet dit "de bande". L'image apparaît striée, et cela de façon plus visible lorsque l'impression est bidirectionnelle (figure 1) en comparaison avec l'impression monodirectionnelle (figure 2). En outre, dans le cas d'une impression couleur, lorsque plusieurs têtes sont utilisées pour différentes couleurs de base, l'impression en une passe se traduit parfois par un rendu irrégulier des couleurs. En particulier, les gouttelettes forment sur le support d'impression des taches qui se chevauchent légèrement, ont un environnement anisotrope, et un temps de séchage insuffisant entre les projections de taches d'encre contiguës peut provoquer un mélange de couleurs non désiré. Pour remédier à ces difficultés, il a été proposé de réaliser l'impression non pas en une passe, mais en deux passes, la moitié seulement des points d'images (ou "pixels") d'une bande d'image étant autorisés à être imprimés lors de la première passe et l'autre moitié lors de la deuxième passe, avec avance du support d'impression d'une distance égale à la moitié d'une bande d'image entre les deux passes. Lors de chaque passe, les points d'image dont l'impression est autorisée sont distribués spatialement suivant des motifs, ou masques, complémentaires prédéterminés. Le procédé d'impression en deux passes peut être généralisé à un nombre de passes supérieur à deux, l'accroissement du nombre de passes ayant pour effet d'améliorer la qualité finale de l'image, mais au détriment de la vitesse d'impression. Un tel procédé d'impression en plusieurs passes entrelacées est décrit notamment dans le document US-A- 4 967 203. Bien qu'une nette amélioration de l'impression soit apportée par l'impression en plusieurs passes telle que proposée dans l'art antérieur, celle-ci est encore insuffisante lorsqu'une image de très haute qualité est souhaitée, et le but de l'invention est de proposer un procédé permettant de satisfaire ce besoin. A cet effet, l'invention propose un procédé d'impression d'images par points au moyen d'au moins une tête d'impression multipoints mobile par rapport à un support d'impression, procédé selon lequel: (a) on définit un ensemble de M masques binaires complémentaires différents ayant chacun la forme d'une matrice de points de N lignes et P colonnes o M, N et P sont des entiers supérieurs à 1, de sorte que: - chacun des N x P éléments d'un masque a une première ou une deuxième valeur, et - à chaque point de la matrice correspond un élément ayant la première valeur dans un masque et un seul, et (b) on imprime chaque partie de l'image en M passes de la tête d'impression en utilisant successivement les M masques différents, de sorte que: - au cours de chaque passe, la tête d'impression balaie une bande du support d'impression, le même masque étant utilisé de façon répétitive pour chaque groupe de P colonnes et N lignes, et - l'impression d'un point d'image est autorisée au cours d'une passe lorsque l'élément correspondant du masque a la première valeur. Ce procédé est notamment caractérisé par le fait que l'on utilise des masques de dimensions suffisamment grandes pour éviter l'apparition de motifs répétitifs discernables à l'oeil, et dans lesquels les éléments ayant la première valeur sont distribués de façon pseudo aléatoire sensiblement équirépartie. De préférence, les masques comportent chacun sensiblement le même nombre d'éléments ayant la première valeur. Par masque de dimensions suffisamment grandes, on entend ici un masque dont les dimensions N et P sont telles que la probabilité de formation dans l'oeil d'effets répétitifs parasites, ou artefacts soit fortement réduite. L'expérience montre que l'oeil présente une sensibilité plus forte pour certains pas de répétition de motifs, par exemple de lignes verticales ou horizontales. La valeur critique r du pas de répétition de motifs, pour une vision à 25 cm, c'est-à-dire la valeur du pas pour laquelle l'oeil présente une sensibilité plus forte est d'environ 1 mm, ce qui correspond à un décalage angulaire entre motifs, vu du point focal de l'oeil, d'environ 0,2'. Ce phénomène est bien connu; on pourra en particulier se référer à l'article de Quian In "Halftone image quality image based on human vision model" publié dans "Proceedings SPIE human vision, visual processing and digital display" IV 1-4 February 1993. La largeur et la hauteur couvertes par un masque doivent être bien supérieures à ce pas critique, donc typiquement bien supérieures à r = i mm pour une vision à 25 cm. Les valeurs de N et P sont donc choisies en conséquence en tenant compte de la résolution de l'image, c'est-à-dire du pas élémentaire p entre points d'image. Si p est exprimé en mm, on choisira donc N et P de sorte que N x p >> r et P x p >>r. Avec des têtes d'impression par jet d'encre dans lesquelles le pas entre orifices d'éjection est typiquement de 0,07 mm, les valeurs de N et P seront donc bien supérieures à 16, de préférence au moins égales à 64 pour une vision à 25 cm. La valeur P peut être alors égale à la valeur N, mais ce n'est pas une nécessité. Par masque dans lequel les éléments ayant la première valeur sont distribués de façon pseudo aléatoire sensiblement équirépartie, on entend un masque qui n'est pas formé par la répétition d'un motif de plus petites dimensions, mais dans lequel les premières valeurs sont distribuées de façon relativement homogène afin d'éviter la formation d'artefacts dus à la présence de zones dans lesquelles la densité de points ayant la première valeur est très faible ou très élevée. On notera ici qu'en utilisant des masques de grandes dimensions avec répartition pseudo aléatoire, le procédé selon l'invention se distingue radicalement des procédés de l'art antérieur évoqués en tête de la présente demande, puisque ces procédés utilisent des masques de dimensions N x P = 4 x 4 ou 8 x 8 ou des masques formés par la répétition d'un motif élémentaire ayant ces dimensions. Se pose alors le problème, avec le procédé selon l'invention, de la construction de masques de grandes dimensions avec une distribution pseudo aléatoire tout en étant sensiblement équirépartie. Différents modes de réalisation du procédé selon l'invention permettant de résoudre ce problème seront décrits ci-après, à titre indicatif mais non limitatif, en référence aux dessins annexés sur lesquels: - la figure 1 est une reproduction d'une image obtenue au moyen d'une imprimante à jet d'encre en mode d'exploitation en une seule passe et bidirectionnel; - la figure 2 est une reproduction d'une image obtenue au moyen d'une imprimante à jet d'encre en mode d'exploitation en une seule passe et monodirectionnel; - la figure 3 montre très schématiquement une imprimante à jet d'encre; - la figure 4 montre très schématiquement une tête d'impression à jet d'encre; - les figures 5A, 5B, 5C illustrent schématiquement des étapes successives d'une impression en deux passes; la figure 6 est une vue d'une partie de matrice de seuillage pseudo aléatoire utilisable pour la construction de masques destinés à la mise en oeuvre d'un procédé selon l'invention; - les figures 7A et 7B sont des vues partielles de deux masques complémentaires obtenus à partir de la matrice de la figure 6; - les figures 8A et 8B sont des vues partielles de deux autres masques complémentaires obtenus à partir de la matrice de la figure 6; - les figures 9A, 9B, 10A, O10B illustrent des étapes de construction de masques selon un mode particulier de mise en oeuvre du procédé de l'invention; - la figure 11 est une reproduction d'une image obtenue au moyen d'une imprimante à jet d'encre en mode d'exploitation en deux passes entrelacées et bidirectionnel avec masques conformes à l'invention; - la figure 12 est une reproduction d'une image obtenue au moyen d'une imprimante à jet d'encre en mode d'exploitation en deux passes entrelacées et monodirectionnel avec masques conformes à l'invention; et les figures 13A à 13M illustrent les effets de décalages entre passes successives avec des masques dans lesquels les éléments ayant une première valeur ou une deuxième valeur se trouvent dans des positions alternées le long d'une ligne, ou se trouvent groupés par deux. Comme le montre la figure 3, une imprimante à jet d'encre comprend une tête d'impression 10 mobile en direction Y par rapport à un support d'impression 12, par exemple une feuille de papier. La tête d'impression est guidée le long d'une poutre 14 qui s'étend transversalement par rapport à la feuille 12. Cette dernière est déplacée en direction X perpendiculaire à la direction Y. La tête d'impression 10 comprend typiquement au moins une rangée d'orifices 20 (figure 4) à travers lesquels des gouttelettes d'encre peuvent être éjectées de façon contrôlée. Les orifices 20 sont alignés en direction parallèle à la direction X, ou éventuellement légèrement inclinée par rapport à celle-ci. La reproduction d'une image est réalisée en balayant des bandes successives B de largeur L de la feuille 12 par déplacement de la tête 10 en direction Y (balayage principal). Au cours d'une passe de balayage, l'éjection d'encre est commandée pour reproduire l'image souhaitée par points sur un nombre de lignes égal au nombre d'orifices 20. Après chaque passe, la feuille 12 est avancée en direction X (balayage secondaire) et une nouvelle passe de balayage de la tête d'impression est commandée. L'impression peut être réalisée lorsque la tête d'impression est déplacée toujours dans le même sens (mode monodirectionnel), la tête étant ramenée en position d'origine à chaque avance de la feuille. L'impression des bandes B peut aussi être réalisée en déplaçant la tête 10 alternativement dans un sens et dans l'autre (mode bidirectionnel). Le procédé selon l'invention se rapporte à un mode d'impression multipasses c'est-à-dire à un mode d'impression selon lequel chaque bande B est imprimée en plusieurs passes de la tête d'impression et ce, de préférence, de façon entrelacée, comme illustré par les figures 5A à 5C dans le cas d'une impression en deux passes. Au début de l'impression, une moitié de bande B est imprimée en utilisant la moitié inférieure des orifices d'éjection de la tête 10 (figure 5A). La feuille 12 est avancée d'une distance L/2 et une bande complète est imprimée en utilisant la rangée complète d'orifices d'éjection (figure 5B). Ensuite, la feuille est avancée à nouveau d'une distance L/2 et une bande complète est imprimée en utilisant la rangée complète d'orifices d'éjection (figure 5C). Le processus est répété jusqu'à atteindre la dernière demi-bande de la feuille, celle-ci étant imprimée en utilisant seulement la moitié supérieure des orifices d'éjection. A chaque passe, l'impression est autorisée pour une moitié seulement des points d'images ("pixels"), l'impression de l'autre moitié étant réalisée lors de la passe suivante. Les emplacements des points d'image dont l'impression est autorisée sont définis par des masques binaires ayant la forme de matrices de N lignes et P colonnes. Au cours d'une passe d'impression, pour les groupes successifs de P colonnes de points d'image, l'impression des points d'image est autorisée ou non par commande sélective des orifices d'éjection selon que l'élément d'emplacement correspondant dans le masque a une première ou une deuxième valeur (par exemple 1 ou 0). Au cours de la passe suivante, un masque complémentaire est utilisé pour faire en sorte que l'impression de tous les points d'image soit autorisée sur deux passes. Dans le sens de balayage secondaire (X) les masques sont répétés pour chaque groupe de N lignes. Le mode d'impression peut être généralisé à un nombre M de passes supérieur à 2. La feuille de papier 12 est alors avancée d'un certain nombre de lignes entre deux passes, de sorte qu'après M passes l'avance totale soit égale à L, et M masques différents sont utilisés. A chaque point d'image correspond un élément ayant la valeur 1 dans un des M masques et un seul. De préférence, les éléments de valeur 1 sont répartis de façon sensiblement égale entre les masques. Ils sont distribués de façon pseudo aléatoire et quasi équirépartie dans chaque masque, tel que le pavage d'une surface par le masque ne provoque pas d'apparition de motif répétitif discernable à l'oeil. Bien entendu, l'impression multipasses peut être réalisée en mode monodirectionnel ou bidirectionnel. En outre, l'impression multipasses peut être réalisée en mode monochrome ou en mode couleur. Dans ce dernier cas, on utilise plusieurs têtes d'impression telles que celle de la figure 4, chaque tête étant attribuée à une couleur. Habituellement, on utilise quatre têtes pour les couleurs cyan, magenta et jaune et pour la couleur noire. L'impression couleur est alors par exemple réalisée en quatre passes, avec quatre masques différents et en permutant les masques pour les différentes couleurs lors des passes successives. Bien entendu, le nombre de passes avec quatre têtes d'impression n'est pas nécessairement égal à quatre. Il peut être inférieur, en étant au moins égal à deux, ou supérieur en utilisant un nombre correspondant de masques. Les masques peuvent être construits de différentes façons pour satisfaire les conditions de distribution pseudo aléatoire et quasi équirépartie (ou homogène) des valeurs 1. Selon un premier mode de réalisation, les masques sont réalisés à partir d'une matrice formée de nombres répartis de façon pseudo aléatoire, et, pour chaque masque, on attribue à chaque élément la première ou la deuxième valeur en fonction de la valeur du nombre au point correspondant de la matrice. On utilise par exemple une matrice du type des matrices de seuillage utilisées pour la conversion d'images de tonalité continue en images de tonalité binaire. Une méthode de construction d'une telle matrice de seuillage, que l'on désignera ci- après sous le terme de méthode de recherche de Valeur Minimale d'Energie, ou méthode VME, est décrite dans un article de Pierre Lermant paru dans la publication IS & T's 48th Annual Conférence Proceedings May 7-11, 1995 éditée par "The Society for Imaging Science and Technology" Springfield, Virginia, Etats-Unis d'Amérique. Ces matrices de seuillage créées par la méthode VME permettent de satisfaire les exigences d'une distribution pseudo aléatoire et d'une quasi équirépartition. Lorsque le nombre M de passes est égal à 2, les deux masques sont construits à partir d'une matrice de seuillage de mêmes dimensions en fonction des valeurs des nombres de la matrice. Lorsque les nombres formant la matrice sont des nombres entiers consécutifs, l'un des deux masques peut être construit en attribuant la première valeur (valeur 1) aux éléments dont l'emplacement correspondant dans la matrice est occupé par un nombre pair, l'autre masque étant complémentaire. La figure 6 illustre une partie d'une matrice de seuillage aléatoire comprenant des nombres allant de 0 à 255 et les figures 7A et 7B montrent les parties correspondantes des deux masques complémentaires ainsi construits. En variante, l'un des deux masques peut être construit en attribuant la première valeur (1) aux éléments dont l'emplacement correspondant dans la matrice est occupé par un nombre situé d'un côté ou de l'autre d'une valeur de seuil, l'autre masque étant complémentaire. La valeur de seuil est par exemple la valeur moyenne des nombres de la matrice. Les figures 8A et 8B montrent des parties de deux masques complémentaires ainsi construits à partir de la matrice de la figure 6, la valeur moyenne étant 128. L'homogénéité apparaît être mieux garantie avec cette deuxième variante qu'avec la première. On notera en outre qu'avec cette deuxième variante il n'est pas nécessaire que les nombres formant la matrice soient des nombres entiers consécutifs. La valeur de seuil est choisie, en fonction des nombres formant la matrice, pour que chaque masque comprenne un nombre souhaité d'éléments ayant la première valeur. Lorsque le nombre M de masques est supérieur à 2, on pourrait encore envisager d'utiliser une matrice de nombres répartis de façon aléatoire, telle qu'une matrice de seuillage obtenue par la méthode VME. Chaque masque est alors par exemple construit en attribuant la première valeur aux éléments dont l'emplacement correspond à un nombre de la matrice compris dans un intervalle de valeurs prédéterminé, les intervalles attribués aux différents masques étant contigus, sans recouvrement mutuel et de préférence de même largeur. Toutefois, selon un deuxième mode de réalisation du procédé de l'invention, convenant plus particulièrement lorsque le nombre de masques est supérieur à deux, la construction des masques est réalisée directement par une méthode séquentielle de positionnement, l'emplacement d'un élément ayant la première valeur dans un masque étant déterminé sans tenir compte des emplacements des éléments ayant la première valeur attribués aux autres masques, mais en s'interdisant d'occuper un emplacement déjà occupé par un élément ayant la première valeur dans un autre masque. On utilise par exemple des principes similaires à ceux de la méthode VME décrite dans l'article de Pierre Lermant cité plus haut. En partant d'une matrice N x P vide, cet algorithme consiste à sélectionner successivement les points à valeur minimale d'énergie, ou points VME. Les M masques peuvent être construits l'un après l'autre ou en parallèle. Dans le premier cas, un premier masque est réalisé en partant d'une matrice vide et en attribuant la valeur 1 aux éléments dont les emplacements correspondent aux points VME qui sont identifiés successivement, en tenant compte des points déjà placés. La figure 9A montre sous forme de cercles des points VME placés successivement dans la matrice, le point A étant le dernier placé, tenant compte des emplacements déjà attribués. La figure 9B est la traduction faite des emplacements des points VME en éléments de valeur 1 dans le premier masque MA. On procède ainsi jusqu'à avoir placé le nombre voulu d'éléments de valeur 1 du premier masque, par exemple N x P / M éléments (ou le nombre entier le plus proche) lorsque l'on désire que les masques comprennent tous sensiblement le même nombre d'éléments de valeur 1. Un deuxième masque est réalisé de la même façon, c'est-à-dire en ne tenant pas compte des points VME identifiés pour la réalisation du premier masque, mais en s'interdisant de placer des points VME aux emplacements déjà occupés par ceux utilisés pour le premier masque. Ceci est illustré par la figure 10A o les cercles en traits pleins montrent les emplacements dans la matrice des points VME placés lors du processus de création du deuxième masque, et les cercles en traits interrompus les emplacements des points VME pour le premier masque. Ces derniers points sont considérés comme virtuels pour le processus de création du deuxième masque. C'est-à-dire que les emplacements théoriques des points VME pour le deuxième masque sont déterminés sans tenir compte des emplacements des points VME correspondant au premier masque, mais que chaque point VME pour le deuxième masque est effectivement placé en s'interdisant d'occuper dans la matrice un emplacement d'un point VME correspondant au premier masque. C'est ainsi que le point VME du deuxième masque désigné sous la référence B, dont l'emplacement théorique était celui du point A, est en pratique placé à côté de ce dernier. La figure 10B montre la portion de deuxième masque MB correspondant à la figure 10A. La prise en compte des emplacements des points VME pour le premier masque permet de faire en sorte que la valeur 1 ne soit pas attribuée à un élément ayant le même emplacement dans le premier et le deuxième masque. On procède de façon similaire pour les masques suivants en ne tenant pas compte des points VME pour les masques précédents pour la recherche des emplacements des points VME mais en s'interdisant de placer des points aux emplacements déjà occupés lors de l'élaboration des masques précédents. Le nombre d'éléments ayant la valeur 1 dans le dernier masque est déterminé pour atteindre le nombre de N x P pour le total des éléments de valeur 1 dans tous les masques. Dans le deuxième cas, les masques sont construits en parallèle de la facon suivante: (a) rechercher un premier point VME dans une matrice vide et attribuer la valeur 1 à l'élément du premier masque dont l'emplacement correspond à celui de ce point VME, (b) rechercher un premier point VME dans une matrice vide, sans tenir compte du premier point VME correspondant au premier masque, et attribuer la valeur 1 à l'élément du deuxième masque dont l'emplacement correspond à celui du premier point VME ainsi recherché, mais en s'interdisant d'occuper l'emplacement de l'élément ayant la valeur 1 dans le premier masque, (c) successivement, pour chaque masque restant, rechercher le premier point VME, sans tenir compte des emplacements des premiers points VME pour les masques précédents, et attribuer la valeur 1 à l'emplacement correspondant à celui du point VME recherché, mais en s'interdisant 1! d'occuper l'emplacement des éléments ayant la valeur 1 dans les masques précédents, (d) lorsque tous les premiers éléments des M masques sont placés, rechercher le deuxième point VME pour le premier masque en tenant compte du premier point VME déjà placé pour le premier masque mais en considérant les premiers points VME pour les autres masques comme des points virtuels, c'est-à-dire en n'en tenant pas compte pour la recherche du deuxième point VME pour le premier masque mais en s'interdisant de choisir les emplacements déjà occupés par les points VME pour les autres masques, et attribuer la valeur 1 à l'emplacement du premier masque correspondant à l'emplacement du deuxième point VME ainsi déterminé, (e) placer le deuxième élément de valeur 1 de chaque masque restant de la même façon, c'est-à-dire en tenant compte du premier point VME pour le même masque pour la recherche du deuxième point VME et en considérant les points VME pour les autres masques comme des points virtuels, et (f) procéder de façon similaire pour les éléments de valeur i suivants jusqu'à obtenir les M masques complémentaires recherchés, c'est-à-dire jusqu'à avoir placé N x P éléments de valeur 1. Le processus de construction de masques en série ou en parallèle, tel que décrit ci-avant est bien entendu utilisable avec des méthodes de construction de matrices autres que la méthode VME. Des références à d'autres méthodes de construction de matrices de seuillage peuvent par exemple être trouvées dans l'article de Pierre Lermant déjà cité. Un procédé d'impression en mode deux passes a été mis en oeuvre avec une imprimante à jet d'encre comprenant une tête d'impression ayant 64 orifices d'éjection disposés avec un pas d'environ 0,07 mm. Deux masques complémentaires de dimensions 64 x 64 ont été utilisés, après avoir été construits de la façon illustrée par les figures 6, 7A et 7B. Les figures 11 et 12 illustrent les résultats obtenus en mode bidirectionnel et monodirectionnel, respectivement. L'amélioration de la qualité d'image par rapport aux figures i et 2 est considérable. Dans un procédé d'impression multipasses, les positions des points d'images imprimés lors de chaque passe sont reliées entre elles et forment une image partielle. Les positions relatives de ces images partielles dépendent de la précision mécanique de la machine. Si chaque masque est composé d'une majorité de points isolés, un glissement trop important entre deux passes provoquera une superposition de points théoriquement séparés et l'apparition de lacunes, ce qui entraînera une forte dégradation de la qualité de l'image. Cet effet n'est pas visible si l'erreur E du pas de positionnement de la tête est telle que E adjacents sur la même ligne. Lorsque D - p dernières colonnes. Les figures 13A à 13M illustrent ce qui précède. Sur la figure 13A, on a représenté une ligne d'une image devant être imprimée de façon continue en noir, et sur les figures 13B et 13C les deux premières lignes de deux masques complémentaires dans lesquels les éléments de valeur 1 sont isolés. Lorsque le décalage, ou glissement entre deux passes est nul ou quasi nul,l'impression de la ligne d'image est réalisée comme illustré par la figure 13D, qui montre le résultat obtenu après la première passe avec le premier masque, et par la figure 13E qui montre le résultat final après la deuxième passe avec le deuxième masque. Lorsqu'un décalage E se produit, le premier et le deuxième masques sont appliqués comme montré par les figures 13F et 13G. Les figures 13H et 131 montrent les résultats obtenus après une passe, puis après deux passes. Des lacunes t sont visibles, E étant tel que E > D - p. Si l'on duplique les éléments des masques, avec un même décalage E (figures 13J et 13K), les résultats obtenus après une passe puis après les deux passes sont montrés par les figures 13L et 13M. On constate sur la figure 13M une sensible atténuation des défauts en comparaison avec la figure 13I. Revendications 1. Procédé d'impression d'images par points au moyen d'au moins une tête d'impression multipoints mobile par rapport à un support d'impression, procédé selon lequel: (a) on définit un ensemble de M masques binaires complémentaires différents ayant chacun la forme d'une matrice de points de N lignes et P colonnes o M, N et P sont des entiers supérieurs à 1, de sorte que: - chacun des N x P éléments d'un masque a une première ou une deuxième valeur, et - à chaque point de la matrice correspond un élément ayant la première valeur dans un masque et un seul, et (b) on imprime chaque partie de l'image en M passes de la tête d'impression en utilisant successivement les M masques différents, de sorte que: - au cours de chaque passe, la tête d'impression balaie une bande du support d'impression, le même masque étant utilisé de façon répétitive pour chaque groupe de P colonnes et N lignes, et - l'impression d'un point d'image est autorisée au cours d'une passe lorsque l'élément correspondant du masque a la première valeur, caractérisé en ce que l'on utilise des masques de dimensions suffisamment grandes pour éviter l'apparition de motifs répétitifs discernables, et dans lesquels les éléments ayant la première valeur sont distribués de façon pseudo aléatoire sensiblement équirépartie. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les masques comportent chacun sensiblement le même nombre d'éléments ayant la première valeur. 3. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que les nombres N et P sont choisis de sorte que N x p >>"r et P x p >> r, o p est le pas élémentaire entre deux points d'image, et r est le pas critique de répétition de motif pour lequel l'oeil présente une sensibilité maximale. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, pour l'impression par jet d'encre au moyen d'au moins une tête d'impression comportant au moins une rangée d'orifices d'éjection de gouttelettes d'encre. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le nombre N est égal au nombre d'orifices d'éjection. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 4 et 5, caractérisé en ce que les nombres N et P sont au moins égaux à 16. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que les nombres N et P sont au moins égaux à 64. 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications i à 7, caractérisé en ce que les nombres N et P sont égaux. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que, pour construire les M masques, on réalise une matrice N x P de nombres placés de façon pseudo aléatoire et, pour chaque masque, on attribue à chaque élément la première ou la deuxième valeur en fonction de la valeur du nombre au point correspondant de la matrice. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que, lorsque la valeur M est égale à 2, on réalise une matrice formée de N x P nombres entiers consécutifs placés de façon pseudo aléatoire et on attribue à chaque élément d'un premier des deux masques la première valeur ou la deuxième valeur selon que le nombre au point correspondant de la matrice est pair ou impair, le deuxième masque étant complémentaire du premier. 11. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que, pour chaque masque, on attribue la première valeur aux éléments dont l'emplacement correspond à un nombre de la matrice compris dans un intervalle de valeurs prédéterminé, les intervalles attribués aux différents masques étant contigus, sans recouvrement mutuel. 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que l'on construit l'ensemble des masques par une méthode séquentielle de positionnement, l'emplacement d'un élément ayant la première valeur dans un masque étant déterminé sans tenir compte des emplacements des éléments ayant la première valeur attribués aux autres masques, mais en s'interdisant d'occuper un emplacement déjà occupé par un élément ayant la première valeur dans un autre masque. 13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que l'on construit les masques par une méthode séquentielle de positionnement comprenant la recherche d'emplacements de valeurs minimales d'énergie. 14. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que l'on utilise des masques dans lesquels chaque ligne est formée de groupes d'au moins deux points consécutifs ayant même valeur. 15. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 14, caractérisé en ce que l'on réalise une impression en couleur au moyen de plusieurs têtes d'impression distinctes correspondant chacune à une couleur et l'on permute l'affectation des masques aux différentes têtes lors de passes successives.