FR 2713399 A1 19950609 FR 9314389 A 19931201 DISPOSITIF DE REDUCTION DU NIVEAU DE BRUIT D'UN CIRCUIT INTEGRE A PLUSIEURS NIVEAUX DE CONDUCTEURS Dans les circuits intégrés, de type CMOS notamment, il est usuel, compte tenu du très large niveau d'intégration habituellement pratiqué, de réaliser l'alimentation en énergie électrique des différents éléments fonctionnels intégrés au moyen de plusieurs niveaux de conducteurs destinés à porter pour partie ces éléments à un potentiel électrique de valeur fixe déterminée. Le plus souvent, ces potentiels électriques sont constitués par le potentiel électrique de la source d'alimentation électrique, actuelle- ment de valeur égale à 5V ou à 3V et le potentiel de référence. De la fixité des valeurs de ces potentiels électri- ques en fonctionnement dépendent dans une large mesure les performances réelles des circuits intégrés précités, quelle que soit la fonction réalisée par ces derniers. Cette fixité n'est, au cours du fonctionnement, jamais totalement atteinte, en raison des phénomènes de bruit électrique provenant des commutations à l'intérieur même des circuits intégrés, bruit en particulier lié à la self-inductance parasite des boitiers des circuits intégrés, au micro-câblage (bonding) ainsi qu'aux lignes d'alimenta- tion de ces circuits. En outre, la taille actuelle de ces circuits par rapport à l'actuelle densité des réseaux de lignes d'alimen- tation fait que le bruit des alimentations se propage de manière quasiinstantanée sur l'ensemble des fonctions logiques réalisées par les éléments intégrés du circuit intégré. Ainsi, un circuit intégré bruité par sa tension d'alimentation restitue le bruit, les niveaux logiques ou analogiques émis par celui-ci étant ainsi faussés, ce qui provoque de sérieuses difficultés de dialogue entre circuits intégrés successifs, ceux-ci ne reconnaissant plus leurs niveaux de tension respectifs. Les solutions classiques utilisées à ce jour consistaient, d'une part, à utiliser des alimentations stabilisées performantes pour lesquelles la tension de sortie d'alimentation continue est stabilisée avec un taux de variation inférieur à 0,5 à 1% maximum de la valeur nominale, et, d'autre part, à munir les circuits intégrés alimentés de capacités de découplage internes ou externes entre la tension d'alimentation et la tension de référence, dite tension de masse. L'alimentation à partir d'une alimentation stabili- sée efficace ne peut être envisagée que dans le cadre expérimental, et en aucun cas en milieu industriel ou dans des conditions de fonctionnement extrêmes. En outre, le découplage des capacités n'est pas totalamaent efficace en raison du fait que la tension de masse n'est jamais parfaitement une tension de référence absolue, en raison des nombreuses résistances parasites inéluctablement présentes sur les circuits de masse précités. La présente invention a pour but de remédier aux inconvénients précités, par la mise en oeuvre d'un disposi- tif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plusieurs niveaux de conducteurs permettant de répondre instantanément à des appels locaux de courants électriques, ce qui permet de diminuer les chutes de tension sur les résistances parasites présentes sur les circuits des lignes d'alimentation et de masse des circuits intégrés. Un autre objet de la présente invention est la mise en oeuvre d'un dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré permettant de provoquer un couplage électrique maximum entre les lignes d'alimentation de ce circuit intégré, de façon à transférer de manière instanta- née toute variation intempestive de tension d'alimentation, et à rendre le niveau de bruit électrique semblable, ce qui permet de s'affranchir de toute perturbation de bruit électrique, même en présence d'une ligne de masse imparfai- te. Le dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plusieurs niveaux de conducteurs, chaque niveau de conducteurs comportant au moins une ligne d'ali- mentation en tension continue, conforme à l'objet de la présente invention, est remarquable en ce qu'il comprend au moins une capacité électrique reliant deux lignes d'alimen- tation de niveaux de conducteurs distincts ou non. Le dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plusieurs niveaux de conducteurs, objet de l'invention, trouve son application à l'industrie des circuits intégrés, notamment dans un réseau de portes. Une description plus détaillée du dispositif objet de la présente invention sera donnée ci-après en liaison avec les dessins dans lesquels: - la figure 1 au point a) représente un schéma de principe du dispositif objet de la présente invention, sous forme de schéma équivalent, dans un premier mode opératoire; - la figure 1 au point b) représente un schéma de principe du dispositif objet de la présente invention, sous forme de schéma équivalent, dans un deuxième mode opératoire; - la figure 2a représente, selon une vue de dessus, un mode de réalisation avantageux du dispositif selon l'invention dans le cas d'un circuit intégré de type CMOS; - la figure 2b représente une vue en coupe selon le plan de coupe PP de la figure 2a, - la figure 3a représente, selon une vue en coupe longitu- dinale, une première cellule d'alimentation d'un circuit intégré comportant un dispositif de réduction du niveau de bruit conforme à l'objet de la présente invention; - la figure 3b représente, selon une vue en coupe longitu- dinale, une deuxième cellule d'alimentation d'un circuit intégré adjacente à la première cellule dans une direc- tion transversale à cette direction longitudinale. Une description plus détaillée du dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plu- sieurs niveaux de conducteurs conforme à l'objet de la présente invention sera maintenant décrit en liaison avec les figures la, lb et suivantes. Ainsi qu'on l'a représenté sur les figures la et lb, le dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plusieurs niveaux de conducteurs est préférentiel- lement disposé dans un circuit intégré dans lequel chaque niveau de conducteurs comporte au moins une ligne d'alimen- tation électrique en tension continue. Ces lignes d'alimen- tation électrique en tension continue sont des lignes permettant d'amener par exemple une tension de valeur positive, notée +VDD ou une tension de référence notée VSS. Les tensions précitées correspondent par exemple aux tensions de drain et de source dans un circuit intégré de type CMOS par exemple. Ainsi qu'on l'observera sur les figures la et lb, le dispositif objet de la présente invention comprend au moins une capacité électrique reliant deux lignes d'alimentation de niveaux de conducteurs disctincts ou non. Sur la figure la et la figure lb, par exemple, les capacités électriques sont notées 1, 2, 3, 4 et 5, ces capacités assurant la liaison entre les conducteurs portés au potentiel +VDD respectivement au potentiel VSS. De préférence, ainsi que représenté notamment sur la figure la, les capacités utilisées sont des capacités de stockage de charges électriques permettant de répondre à des appels de courants électriques locaux. On comprend bien sûr que dans un tel cas, les capacités de stockage sont des capacités reliant deux lignes à des tensions différentes +VDD et VSS, ce qui permet de charger la capacité correspon- dante à une tension de charge correspondant à VDD - VSS afin de répondre aux appels de courants électriques locaux précédemment mentionnés. C'est en particulier le cas pour les capacités 1, 2, 3, 4 pour lesquelles les appels de courants électriques locaux peuvent être compensés par des courants de décharge notés il, i23 par exemple. En outre, on constate qu'en raison de l'imperfection de la tension de masse représentée sur la figure la ou lb par l'indication masse réelle, la tension de référence VSS est en fait reliée à la masse réelle par l'intermédiaire de résistances parasites notées Rp dont les valeurs ne sont pas connues de manière précise, toute résistance parasite étant notée par la désignation Rp mais pouvant présenter des valeurs quelconques arbitraires. En outre, ainsi qu'on l'a représenté en figure lb, la ou lesdites capacités électriques peuvent être formées par une capacité de couplage des lignes d'alimentation. Ceci est le cas en particulier pour les capacités 4 et 5. Ainsi que représenté sur la figure lb, toute perturbation intem- pestive sur l'une ou l'autre des lignes d'alimentation a pour effet de répercuter cette perturbation sur l'autre ligne d'alimentation ou sur une partie distante de la même ligne d'alimentation pour ce qui concerne la capacité 5. Ansi, pour une perturbation AVSS présente sur la ligne d'alimentation VSS, cette perturbation est immédiate- ment répercutée par la capacité 4 sur la ligne d'alimenta- tion +VDD, ainsi d'ailleurs que par les capacités 1 et 2, la tension instantanée sur cette ligne devenant VDD + AVSS. Ce mode opératoire permet ainsi de conjuguer le bruit entre les lignes d'alimentation et de distribuer ainsi l'énergie de bruit sur l'ensemble du circuit. On comprend bien sûr que, en présence d'une pertur- bation sur l'une des lignes d'alimentation, la tension passant par exemple de VSS à VSS + AVSS, l'autre tension d'alimentation passe instantanément ou quasi-instantanément à la valeur VDD + AVSS, la différence entre les deux tensions d'alimentation instantanée étant maintenue sensi- blement à la valeur VDD - VSS. D'une manière générale, on indique que les différen- tes capacités précitées, dans le cas d'un circuit intégré en technologie MOS, peuvent être intégrées au circuit intégré notamment au niveau de la couche d'oxyde de grille ainsi qu'il sera décrit ci-après en liaison avec les figures 2a et 2b. Sur les figures précitées, on indique que, de manière non limitative, la technologie MOS est décrite dans le cadre d'un substrat de type P. substrat référencé 10, dans lequel un caisson 11 de type N est implanté. De manière classique, le caisson 11 comporte une prise de polarisation N', notée 12, laquelle est reliée à la tension d'alimenta- tion +VDD. Selon un aspect particulièrement avantageux du dispositif objet de la présente invention, la ou l'une des capacités électriques reliant deux lignes d'alimentation de niveaux de conducteurs distincts est formée par un transis- tor virtuel de type MOS intégré au substrat du circuit intégré. Ce transistor comporte une zone de canal, notée 13, laquelle est implantée dans le caisson 11. Une couche de polysilicium de grille 14 est implantée au-dessus de la couche d'oxyde de grille disposée au- dessus du substrat 10 au niveau de la zone de canal 13. La couche de polysilicium de grille 14, placée en vis-à-vis de la zone de canal 13 du transistor, forme avec celle-ci et avec la couche d'oxyde de grille 15 comprise entre la zone de canal 13 et la couche de polysilicium de grille 14 la capacité électrique précitée. Cette capacité est notée CO sur la figure 2b. On indique enfin que la couche de polysilicium de grille 14 peut présenter un décrochement en dehors de la zone de canal 13 libérant une zone d'oxyde de champ au dessus du substrat 10, cette partie de la couche de polysilicium de grille 14 étant reliée à la tension d'alimentation VSS. Ainsi, conformément à un aspect particulièrement avantageux du dispositif objet de la présente invention, celui-ci, par la mise en oeuvre d'un transistor virtuel de type MOS intégré au substrat, permet par exemple en l'ab- sence d'utilisation de la source ou du drain de transistor ainsi créé, celui-ci présentant donc un caractère virtuel, d'engendrer une capacité de forte valeur permettant d'assu- rer les fonctions de couplage et de libération de courant sur appels de courants locaux ainsi que décrit précédemment dans la description. Selon un premier aspect particulièrement avantageux du dispositif objet de la présente invention, la zone de canal 13 peut, par rapport à un transistor MOS de type classique, présenter des dimensions spécifiques telles que par exemple une dimension transversale e sensiblement augmentée, ce qui permet d'augmenter d'autant la valeur de la capacité CO ainsi réalisée par la zone de canal précédem- ment mentionnée. En outre, la zone de canal 13 précitée peut être le siège d'une implantation ionique à partir d'ions positifs ou négatifs selon le type de transistor MOS réalisé, une telle implantation spécialisée ayant pour effet d'augmenter encore la capacité présentée par la zone de canal vis-à-vis de la couche de polysilicium de grille 14 ainsi que mentionné précédemment dans la description. Ainsi, pour une dimension transversale c du caisson 11, ainsi que représenté en figure 2a, on indique que la dimension transversale correspondante de la couche de polysilicium de grille 14, dimension e, et en définitive de la zone de canal 13, peut représenter jusqu'à 60 à 140% de la dimension c précédemment citée. La grille peut en effet déborder sur l'oxyde de grille de toute part, du moment que l'on ménage un accès à la prise de polarisation 12. Enfin, on indique que, dans le but d'augmenter encore les fonctionnalités du dispositif objet de la présente invention, la fonction du transistor créé peut être activée et découplée ou non de celle de la capacité de canal ainsi créée, ce qui permet d'ajouter soit une fonction nouvelle pour le transistor ainsi créé dont le caractère virtuel se limite ainsi à l'utilisation de la capacité de canal ainsi que précédemment mentionné dans la description, soit de renforcer cette capacité. Ainsi qu'on l'a en outre représenté en figure 2b, les lignes d'alimentation à des tensions continues distinc- tes VDD respectivement VSS sont couplées électrostatiquement l'une à l'autre par l'intermédiaire de la capacité Cl représentée sur la figure 2b précitée. Ce couplage peut être réalisé par l'intermédiaire d'une ligne portée à la tension VDD ainsi que représenté sur la figure 2b, la distance séparant cette ligne de la ligne d'alimentation à la tension VSS pouvant être amenée à une valeur de l'ordre de 1 micro- mètre. De même, pour deux lignes d'alimentation à des tensions continues de valeurs distinctes, les valeurs précitées, la couche de polysilicium de grille 14 connectée à l'une des lignes d'alimentation à la tension VSS sur la figure 2b est couplée électrostatiquement à la ligne d'alimentatoin VDD précitée par l'intermédiaire de la capacité C2 par exemple. La distance séparant la ligne d'alimentation VDD de la couche de polysilicium de grille 14 peut être de l'ordre de 2 à 3 micromètres. En ce qui concerne la réalisation du transistor précité en technologie de type MOS, on indique que, à partir du substrat 10 de type P- une implantation de type N- est effectuée par exemple pour réaliser le caisson 11. Après préparation de la couche d'oxyde de grille et de la couche d'oxyde de champ 15, ces couches étant obtenues par dépôt d'oxyde à partir du substrat, la couche de polysilicium de grille 14 est implantée au- dessus de la couche d'oxyde de grille, ainsi que représenté en figure 2b. Un masquage de l'extérieur des zones de prise de polarisation 12, c'està-dire de la zone N*, 12 sur les figures 2a ou 2b, permet ensuite d'effectuer une implanta- tion ionique dans le caisson de type N 11 en présence de la couche de polysilicium de grille 14 pour réaliser, en l'absence d'implantation ionique effective du fait de la présence de la couche de polysilicium de grille 14, la zone de canal correspondante 13 au droit de la couche de polysi- licium de grille 14. Cette opération permet en fait de constituer le transistor virtuel précédemment mentionné dans la description. Bien entendu, lorsqu'une implantation spécialisée est effectuée, afin d'augmenter la valeur de la capacité CO ainsi créée, cette implantation spécialisée est réalisée préalablement à l'implantation de la couche de polysilicium de grille 14 afin d'assurer une homogénéité d'implantation totale au niveau de la zone de canal 13, la zone de canal 13 étant effectuée ultérieurement par implantation en présence de la couche d'oxyde de polysilicium de grille 14 ainsi que précédemment mentionné. Pour la mise en oeuvre du procédé de réalisation du transistor virtuel précité, on indique que les conditions de mode opératoire telles que énergie d'implantation des ions et types d'ions implantés sont connues de l'homme de l'art, et, qu'à ce titre, elles ne sont pas décrites. Une description plus détaillée d'un dispositif conforme à l'objet de la présente invention plus spéciale- ment mis en oeuvre sous forme de cellules de réduction de bruit dans les réseaux de portes de circuit intégré sera maintenant donnée en liaison avec les figures 3a et 3b. D'une manière générale, on indique que chaque cellule est formée sur un substrat 10 de type P-, ce substrat comportant de manière identique aux figures 2a et 2b un caisson 11 de type N-. De même, chaque cellule comprend une prise de polarisation 12 de type N+/N- et un transistor comportant une zone de canal 13 formant transistor virtuel de type P'/N-. Le caisson 11 est porté au potentiel VDD par exemple et une couche de polysilicium de grille 14 est formée ainsi que représenté préalablement en figure 2a et 2b. En outre, le substrat 10 de type P' comporte, pour former la cellule précitée, une deuxième zone de canal, notée 13', formant un deuxième transistor virtuel, cette zone de canal 13' étant de type N*/P- et reliée à une prise de polarisation 12' de type P+/P-, cette prise de polarisa- tion étant bien entendu reliée à la tension d'alimenta- tion VSS. En outre, une couche de polysilicium de grille 14' est implantée de manière symétrique à la couche de polysili- cium de grille 14, la couche de polysicilium de grille 14' étant portée au potentiel de la ligne d'alimentation VDD et connectée à celle-ci. Ainsi qu'on l'a représenté en figure 3a et 3b, on indique que, dans une cellule donnée, la couche de polysili- cium de grille 14 ou 14' connectée à l'une des lignes d'alimentation VSS respectivement VDD est couplée électros- tatiquement à la couche de polysilicium de grille connectée à l'autre ligne d'alimentation VDD, respectivement VSS. Sur l'ensemble des figures 3a et 3b, les couplages électrostatiques sont représentés par des flèches, le nombre de flèches représentant la valeur relative du couplage électrostatique ainsi formé. Ainsi qu'on l'observera sur les figures 3a et 3b, les lignes d'alimentation aux potentiels VDD référencées 22, 23 respectivement VSS référencées 21, 24 sont superposées et imbriquées de façon à favoriser d'une part le couplage électrostatique entre les lignes d'alimentation et entre lignes d'alimentation et couches d'oxyde de grille 14 respectivement 14', et d'autre part, entre couches d'oxyde de grille connectées à des lignes d'alimentation à des tensions continues de valeurs distinctes. Les références 16, 17, 18, 19 et 20 désignent les connexions électriques aux lignes d'alimentation respectives. On comprend bien sûr que les figures 3a et 3b sont des vues en coupe de deux cellules adjacentes selon deux plans parallèles au plan PP de la figure 2a, les deux plans de coupe respectifs des figures 3a et 3b étant distants d'une distance déterminée dans une direction orthogonale au plan PP de la figure 2a, c'est-à-dire dans une direction perpendiculaire aux plans contenant les figures 3a et 3b. On comprend ainsi qu'il existe une certaine continuité dans cette direction, les couches de polysilicium de grille 14 1l respectivement 14' étant par exemple constituées par une seule et même couche 14-14' dans cette direction pour constituer deux cellules adjacentes. On comprend ainsi que la superposition et l'imbrica- tion des lignes d'alimentation précitées permet d'assurer un meilleur couplage pour réaliser les fonctions de libération de charges sur appels de courants locaux et de conjugaison des perturbations de bruit ainsi que déjà mentionné dans la description. Ainsi, sur les figures 3a et 3b, on peut observer que pour un circuit intégré formé sur un substrat de silicium dopé P-, celui-ci comprend une pluralité de cellules de réduction du niveau de bruit, chaque cellule pour deux lignes d'alimentation à la première valeur de tension de niveau haut respectivement à la deuxième valeur de tension de niveau bas comportant, outre le caisson dopé N- 11 précédemment mentionné et les prises de polarisation 12, 12' précitées constituant respectivement prise de polarisation de caisson et prise de polarisation de substrat P*/P-, la prise de polarisation de substrat 12' étant connec- tée à la ligne d'alimentation à la deuxième tension de niveau bas VSS alors que la prise de polarisation de caisson est reliée à la ligne d'alimentation à la première tension de niveau haut VDD, comprend le transistor virtuel P'/N- implanté dans le caisson 11 et comportant la zone de canal 13 ainsi qu'un transistor virtuel N'/P- implanté dans le substrat 10 et comportant une zone de canal 13'. Chaque transistor de caisson respectivement de substrat est électriquement relié à la prise de polarisation de caisson 12 respectivement à la prise de polarisation de substrat 12'. En outre, la couche de polysilicium de grille 14 et la couche de polysilicium de grille 14' sont placées chacune en vis-à-vis du transistor virtuel de caisson et du transistor virtuel de substrat respectivement et la couche de polysili- cium de grille 14 et la couche de polysilicium de grille 14' sont mutuellement couplées électrostatiquement et connectées chacune à la ligne d'alimentation en tension de niveau bas respectivement à la ligne d'alimentation en tension de niveau haut. On comprend bien sûr que les cellules de réduction de niveau de bruit sont alors Juxtaposées dans la direction perpendiculaire à la direction d'alignement du transistor de caisson et du transistor de substrat. Deux cellules adjacen- tes sont telles que la connexion de la première et de la deuxième couche de polysilicium 14, 14' à la ligne d'alimen- tation en tension de niveau bas VSS respectivement à la ligne d'alimentation en tension de niveau haut VDD est effectuée sur une cellule sur deux alternativement. Ainsi qu'on l'a en outre représenté en figures 3a et 3b, les lignes d'alimentation aux tensions continues distinctes sont superposées dans une direction perpendicu- laire au substrat 10 et comportent successivement selon un sens de rapprochement vers la face du substrat comportant les transistors virtuels, une première ligne d'alimentation 21 à la tension de niveau bas VSS s'étendant longitudinale- ment sur toute la distance couvrant les prises de polarisa- tion de caisson et de substrat 12, 12' ainsi que les transistors virtuels comportant les zones de canal 13, 13'. Une deuxième ligne d'alimentation 22 à la tension de niveau haut est prévue, celle-ci s'étendant longitudinale- ment sensiblement sur toute la distance couvrant les prises de polarisation et les transistors virtuels précités. La première 21 et la deuxième 22 ligne d'alimentation sont couplées électrostatiquement, le couplage électrostatique étant représenté par une seule flèche, la distance séparant les deux lignes dans l'oxyde de silicium semblable à l'oxyde de champ étant de l'ordre de quelques micromètres. Une troisième ligne d'alimentation 23 à la tension de niveau haut et une quatrième ligne d'alimentation 24 à la tension de niveau bas VSS sont prévues, la troisième et la quatrième ligne d'alimentation étant situées au voisinage des couches de polysilicium de grille 14, 14' et étant alignées et mutuellement couplées électrostatiquement. On indique en outre que la quatrième ligne d'alimentation 24 est couplée électrostatiquement à la deuxième ligne d'ali- mentation 22, le couplage étant symbolisé par une flèche. Enfin, on indique que la première et la deuxième couche de polysilicium de grille référencées 14, 14' sont connectées à la quatrième 24 respectivement à la troisième 23 ligne d'alimentation précédemment mentionnées alternati- vement d'une cellule de réduction de bruit à une cellule adjacente. D'une manière générale, on indique que la périphérie de la matrice de cellules est entourée d'alimentations de taille non négligeable. En outre, selon un aspect avantageux particulier, la matrice de cellules ainsi obtenue peut être entourée d'anneaux de garde par aboutement des zones de prise de polarisation. De plus, une grille métallique peut être réalisée à l'intérieur de la matrice précitée afin de redistribuer les signaux de bruit électrique de manière homogène sur l'ensemble de la matrice. On a ainsi décrit un dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plusieurs niveaux de conducteurs particulièrement performant dans la mesure o les phénomènes de couplage en tension et en courant des différents niveaux de conducteurs permettent d'égaliser les perturbations électriques sur l'ensemble de ces niveaux conducteurs, ce qui permet de maintenir une différence de valeurs de tensions sensiblement constante quelle que soit la topographie du circuit. REVENDICATIONS 1. Dispositif de réduction du niveau de bruit d'un circuit intégré à plusieurs niveaux de conducteurs, chaque niveau de conducteurs comportant au moins une ligne d'ali- mentation électrique en tension continue, caractérisé en ce que celui-ci comprend une capacité électrique reliant deux lignes d'alimentation de niveaux de conducteurs distincts ou non. 2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite capacité est une capacité de stockage de charges électriques permettant de répondre à des appels de courants électriques locaux, ce qui permet de diminuer les chutes de tension sur les résistances parasites. 3. Dispositif selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que ladite capacité est une capacité de couplage des lignes d'alimentation, ce qui permet de conjuguer le bruit entre lesdites lignes d'alimentation et de distribuer l'énergie de bruit sur l'ensemble du circuit. 4. Dispositif selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que, dans le cas d'un circuit intégré en technologie MOS, ladite capacité électrique est intégrée au circuit intégré au niveau de la couche d'oxyde de grille. 5. Dispositif selon la revendication 4, caractérisé en ce que ladite capacité électrique est formée par: - un transistor virtuel de type MOS intégré au substrat du circuit intégré, ce transistor comportant une zone de canal, - une couche de polysilicium de grille implantée au dessus de la couche d'oxyde de grille, la couche de polysilicium de grille étant placée en vis-à-vis de la zone de canal dudit transistor et formant avec celle-ci et avec la couche d'oxyde de grille comprise entre ladite zone de canal et la couche de polysilicium de grille ladite capacité électrique, ladite couche de polysilicium de grille étant électriquement connectée à une ligne d'alimentation. 6. Dispositif selon la revendication 5, caractérisé en ce que pour deux lignes d'alimentation à des tensions continues de valeurs distinctes, ladite couche de polysili- cium de grille connectée à l'une des lignes d'alimentation est couplée électrostatiquement à ladite couche de polysili- cium de grille connectée à l'autre ligne d'alimentation. 7. Dispositif selon la revendication 6, caractérisé en ce que lesdites lignes d'alimentation à des tensions continues distinctes sont couplées électrostatiquement l'une à l'autre. 8. Dispositif selon la revendication 7, caractérisé en ce que lesdites lignes d'alimentation sont superposées et imbriquées, de façon à favoriser, d'une part, le couplage électrostatique entre lesdites lignes d'alimentation et entre lignes d'alimentation et couches d'oxyde de grille, et, d'autre part, entre couches d'oxydes de grille connec- tées à des lignes d'alimentation à des tensions continues de valeurs distinctes. 9. Dispositif selon l'une des revendications 5 à 8, caractérisé en ce que pour un circuit intégré formé sur un substrat de silicium dopé P-, celui-ci comprend une plura- lité de cellules de réduction du niveau du bruit, chaque cellule pour deux lignes d'alimentation à une première valeur de tension de niveau haut respectivement à une deuxième valeur de tension de niveau bas comportant: - un caisson dopé N-, - une prise de polarisation de caisson N*/N-, et une prise de polarisation de substrat P*/P-, la prise de polarisation de caisson étant électriquement connectée à la ligne d'alimentation à la première tension de niveau haut et la prise de polarisation de substrat étant connectée à la ligne d'alimentation à la deuxième tension de niveau bas, - un transistor virtuel P'/N- implanté dans le caisson, et - un transistor virtuel N'/P- implanté dans le substrat, chaque transistor de caisson respectivement de substrat étant électriquement relié à la prise de polarisation de caisson respectivement à la prise de polarisation de substrat, - une première et une deuxième couche de polysilicium de grille placées chacune en vis-à-vis du transistor virtuel de caisson respectivement de substrat, la première et la deuxième couche de silicium de grille étant mutuellement couplées électrostatiquement et connectées chacune à la ligne d'alimentation en tension de niveau bas respective- ment à la ligne d'alimentation en tension de niveau haut. 10. Dispositif selon la revendication 9, caracté- risé en ce que lesdites cellules de réduction de niveau de bruit sont juxtaposées dans une direction perpendiculaire à la direction d'alignement du transistor de caisson et du transistor de substrat, deux cellules adjacentes étant telles que la connexion de la première et de la deuxième couche de polysilicium à la ligne d'alimentation en tension de niveau bas respectivement de niveau haut est effectuée sur une cellule sur deux alternativement. 11. Dispositif selon l'une des revendications 8 à , caractérisé en ce que lesdites lignes d'alimentation à des tensions continues distinctes sont superposées dans une direction perpendiculaire au substrat, et comportent successivement, selon un sens de rapprochement vers la face du substrat comportant les transistors virtuels, - une première ligne d'alimentation à la tension de niveau bas s'étendant longitudinalement sur toute la distance couvrant les prises de polarisation de caisson et de substrat et les transistors virtuels, - une deuxième ligne d'alimentation à la tension de niveau haut, s'étendant longitudinalement sensiblement sur toute la distance couvrant les prises de polarisation et les transistors virtuels, la deuxième et la première ligne d'alimentation étant couplées électrostatiquement, - une troisième ligne d'alimentation à la tension de niveau haut et une quatrième ligne d'alimentation à la tension de niveau bas, la troisième et la quatrième ligne d'alimentation étant alignées et mutuellement couplées électrostatiquement, ladite quatrième ligne d'alimenta- tion étant couplée électrostatiquement à ladite deuxième ligne d'alimentation. 12. Dispositif selon les revendications 9, 10 et 11, caractérisé en ce que ladite première et ladite deuxième couche de polysilicium de grille sont connectées à la quatrième respectivement la troisième ligne d'alimentation alternativement d'une cellule de réduction de bruit à une cellule adjacente.