FR 2717727 A1 19950929 FR 9503353 A 19950322 La présente invention concerne un appareil destiné à dresser un plateau de polissage utilisé dans un appareil à polir des plaquettes ou tranches, c'est-à-dire destiné à corriger la forme de ce disque de polissage. En général, dans un appareil destiné à polir la surface d'une plaquette de semi-conducteur, un plateau de polissage est attaché sur la surface supérieure d'une platine, ou plaque, fixe, en forme de disque, on place une ou plusieurs plaquettes sur cette platine, et une fine boue diamantée est amenée entre le plateau de polissage et les plaquettes pendant que ces dernières sont mises en rotation forcée sur le plateau de polissage à l'aide d'un support. On utilise, comme plateau de polissage, soit un disque du type velours o une résine de polyuréthanne a imprégné une étoffe en polyester non tissé, soit un disque de type daim o une couche de polyuréthanne alvéolaire est formée sur une étoffe en polyester non tissé en utilisant cette étoffe comme matière de base, soit une feuille de polyuréthanne de type alvéolaire à cellules fermées. Il est préférable que la surface de ce type de plateau de polissage soit aussi plate que possible. Il est cependant impossible d'éviter, en pratique, l'apparition de certaines irrégularités sur cette surface en raison de défauts d'uniformité de l'épaisseur du plateau apparus dans une étape de fabrication de celui-ci ou de l'épaisseur d'une couche de liaison nécessaire pour fixer le plateau à une platine. Il se pose donc des problèmes, par exemple du fait que la planéité du plateau de polissage exerce une influence sur la planéité de la plaquette. Il apparait aussi l'inconvénient que la surface du plateau de polissage devient rugueuse, par exemple en devenant pelucheuse ou ondulée, au fur et à mesure que le polissage des plaquettes est répété, si bien que la précision de polissage de celles-ci diminue en raison des irrégularités provoquées par l'apparition de cette rugosité. Afin de rendre plat le plateau de polissage, il est décrit, par exemple selon le brevet japonais ouvert à l'inspection N 64-71 661, un procédé selon lequel on place sur le plateau de polissage, une bague de correction sur la surface d'extrémité de laquelle une pastille diamantée est collée, ou sur la surface de laquelle des grains abrasifs de diamant sont déposés par procédé électrique, et on déplace le plateau de polissage et la bague de correction l'un par rapport à l'autre afin de polir la surface du plateau de polissage, ce qui augmente la planéité de celle-ci. Dans ce cas, on considère que la granulométrie souhaitable des grains abrasifs de diamant est comprise entre les dimensions de tamis N 400 et 3000. De plus, le brevet japonais ouvert à l'inspection N 4-343 658 décrit un appareil dans lequel une plaquette est montée sur la surface inférieure d'une bague supérieure et cette plaquette est appuyée contre une étoffe de polissage attachée sur la surface supérieure d'une table rotative pour être polie, et dans lequel une bague de correction est montée coaxialement sur la circonférence extérieure de la bague supérieure, la plaquette est polie et, simultanément, l'étoffe de polissage est simultanément meulée par la bague de correction afin d'enlever la rugosité superficielle. Le brevet japonais ouvert à l'inspection N 4-364 730 décrit un agencement dans lequel la rugosité d'une étoffe de polissage est corrigée en amenant une brosse en nylon, une pastille sur laquelle des diamants sont déposés par procédé électrique, ou un couteau, à tourner sur l'étoffe de polissage attachée à la plaque fixe de l'appareil de polissage de plaquettes tandis que la brosse en nylon, la pastille ou le couteau est avancé ou reculé. Comme le procédé de dressage décrit dans chacune des demandes ci-dessus concerne la rectification, ou meulage, de la surface du plateau de polissage, l'épaisseur de ce dernier devient naturellement insuffisante quand le dressage a été effectué un certain nombre de fois, et le plateau de polissage doit être remplacé. Pour remplacer un plateau de polissage, il faut interrompre une opération de polissage de plaquettes, ce qui nuit au rendement de production. Il est donc évident qu'un plateau de polissage est d'autant meilleur que sa durée de vie est plus longue. Les inventeurs de la présente invention ont effectué des expériences en vue d'obtenir un effet de dressage suffisant tout en maintenant à un minimum l'importance du dressage du plateau de polissage. Ils ont trouvé que les deux moyens décrits ci-dessous permettent d'obtenir un effet élevé de polissage et de limiter la réduction d'épaisseur du plateau de polissage. Selon le premier moyen, une meule de dressage est inclinable par rapport à son axe de rotation de sorte que sa surface de dressage est amenée en butée parallèle avec un plateau de polissage, même lorsque la surface de ce dernier est en légère pente, de manière à s'adapter à cette légère pente. Les auteurs de la présente invention ont trouvé qu'avec la structure classique dans laquelle la meule de dressage est fixée rigidement par rapport à son axe de rotation, une pression locale excessive est exercée lors de l'étape de dressage sur la surface d'appui entre le plateau de polissage et la meule de dressage, et que le plateau de polissage est alors meulé plus que nécessaire. Selon le deuxième moyen, on utilise comme grains abrasifs pour former la couche abrasive d'une meule de dressage, des grains ultra-abrasifs de dimensions comprises entre le tamis N 60 (246 gm) et le tamis N 230 (66 pm), qui sont trop grossiers selon l'expérience commune de l'homme de l'art. On pensait jusqu'ici que l'utilisation de tels grains abrasifs ultra grossiers amenait la surface du plateau de polissage à devenir rugueuse. Mais l'expérimentation menée par les auteurs de la présente invention a montré que ce type de grains abrasifs grossiers sous une pression d'appui prédéterminée ne meule pas la matière du plateau de polissage, tout en réalisant un effet d'aplanissement. La présente invention a été réalisée sur la base des connaissances décrites ci-dessus. C'est un but de la présente invention que de réaliser pour un plateau de polissage de plaquettes un appareil de dressage qui soit susceptible d'obtenir un effet de dressage suffisant tout en maintenant à un minimum l'importance du dressage du plateau de polissage. Selon un premier aspect, l'invention atteint ce but en fournissant un appareil destiné à dresser la surface d'un plateau de polissage de plaquettes, et est rattaché à un appareil de polissage de plaquettes, dont la fonction est de polir une série de plaquettes pendant que ces dernières sont mises en rotation sur un plateau de polissage fixé sur une platine, caractérisé en ce qu'il comprend: une meule de dressage pourvue d'une couche annulaire granulaire abrasive dans laquelle des grains ultra-abrasifs sont déposés par procédé électrique dans un bain de plaquage métallique; un mécanisme de support de meule pour supporter à rotation ladite meule de dressage dans une situation dans laquelle la surface de dressage de ladite couche granulaire abrasive est en appui sur la surface du plateau de polissage; un mécanisme de rotation de meule pour amener ladite meule de dressage à tourner autour de son axe; un roulement à alignement automatique, disposé entre ladite meule de dressage et ledit mécanisme de rotation de meule afin de permettre le mouvement d'inclinaison de la meule de dressage; et un moyen pour amener de l'eau pure depuis l'intérieur de ladite meule de dressage vers l'intervalle compris entre la surface de dressage et le plateau de polissage, et en ce que le diamètre extérieur de ladite surface de polissage est supérieur au diamètre extérieur de cercle circonscrit aux plaquettes à polir par ledit plateau de polissage, et ledit mécanisme de support de meule amène la surface de dressage de ladite meule de dressage en appui sur le plateau de polissage sur toute la largeur d'une partie circonférentielle d'une zone annulaire, de polissage de plaquettes, de la surface dudit plateau de polissage. De préférence, la granulométrie desdits grains ultra-abrasifs est comprise entre les dimensions tamis N 60 et tamis N 230. Selon un deuxième aspect, l'invention atteint son but en fournissant un appareil destiné à dresser la surface d'un plateau de polissage de plaquettes qui est attaché sur une platine d'un appareil de polissage de plaquettes et est utilisé pour un polissage mécano-chimique d'une plaquette, caractérisé en ce qu'il comprend: une meule de dressage pourvue d'une couche annulaire granulaire abrasive dans laquelle des grains ultra- abrasifs sont déposés par procédé électrique dans un bain de plaquage métallique; un mécanisme de support de meule pour supporter à rotation ladite meule de dressage dans une position dans laquelle la surface de dressage de ladite couche granulaire abrasive est en appui sur la surface du plateau de polissage; un mécanisme de rotation de meule pour amener ladite meule de dressage à tourner autour de son axe; un roulement à alignement automatique, disposé entre ladite meule de dressage et ledit mécanisme de rotation de meule afin de permettre le mouvement d'inclinaison de la meule de dressage; et un moyen d'amenée d'eau pure pour amener de l'eau pure depuis l'intérieur de ladite meule de dressage vers l'intervalle compris entre la surface de dressage et le plateau de polissage, et en ce que la granulométrie desdits grains ultra-abrasifs est comprise entre les dimensions tamis N 60 et tamis N 230. Ledit mécanisme de support de meule peut être agencé de façon à amener ladite meule de dressage en butée avec ledit plateau de polissage sous une pression de 1 à N/cm2. Ledit mécanisme de support de meule peut comprendre: une base; un mécanisme de montée et de descente de meule pour monter et descendre ladite meule de dressage par rapport à la base; et un mécanisme d'avance/recul de meule pour faire avancer ou reculer une meule de dressage entre une position à laquelle la meule de dressage est reculée vis-à-vis de l'appareil de polissage de plaquettes et une position de dressage. La couche granulaire abrasive de ladite meule de dressage peut être formée en fixant, à une base de meule, une étoffe qui comprend des grains ultra-abrasifs déposés par procédé électrique sur la surface du drap. Ledit mécanisme de rotation de meule peut être relié à un appareil de commande, cet appareil de commande étant programmé de façon à mettre en oeuvre le mécanisme de rotation de meule afin d'effectuer un dressage continu en une étape de dressage pendant 0,5 à 5 minutes. De nombreuses rainures peuvent être ménagées dans ladite couche granulaire abrasive. Comme un roulement à alignement automatique est disposé, dans l'appareil selon le premier aspect de la présente invention, entre la meule de dressage et le mécanisme de rotation de meule de façon à permettre un mouvement d'inclinaison de la meule de dressage, la surface de dressage de cette meule est amenée en butée parallèle avec le plateau de polissage, même lorsque la surface de ce dernier est en légère pente pendant le dressage, de manière à s'adapter à cette légère pente et la pression d'appui entre le plateau de polissage et la meule de dressage est toujours maintenue à une valeur inférieure à une valeur fixe. Par conséquent, le plateau de polissage n'est pas rectifié plus que nécessaire sous l'effet d'une pression locale excessive, ce qui permet d'empêcher une consommation excessive de ce plateau. Cependant, un excellent effet de planéité peut être obtenu en frottant le plateau de polissage au moyen d'un grand nombre de grains ultra-abrasifs en saillie depuis la surface de dressage. Comme la surface de dressage de la meule de dressage a été amenée en appui sur le plateau de polissage sur toute la largeur d'une partie circonférentielle d'une zone de polissage de plaquettes, et que de l'eau pure est amenée depuis l'intérieur de la meule de dressage vers un intervalle compris entre la surface de dressage et le plateau de polissage, il est non seulement possible de rendre plane la zone de polissage de plaquettes mais également d'amener de l'eau pure entre la meule de dressage et le plateau de polissage, ce qui permet d'expulser rapidement, de la zone de polissage de plaquettes, toute matière étrangère qui résulte du dressage. Dans l'appareil de dressage d'un plateau de polissage selon une modalité préférée du premier aspect de la présente invention et selon le deuxième aspect de la présente invention, puisque la granulométrie de grains ultra-abrasifs est comprise entre les dimensions de tamis N 60 et N 230, il est possible d'obtenir un effet de planéité satisfaisant, sans meulage fort de la matière du plateau de polissage, en réglant dans une plage prédéterminée la pression d'appui de la meule de dressage. En outre, puisqu'un roulement à alignement automatique est disposé entre la meule de dressage et le mécanisme de rotation de meule de façon à permettre un mouvement d'inclinaison de la meule de dressage, la surface de dressage de cette meule est amenée en butée parallèle avec le plateau de polissage, même lorsque la surface du plateau de polissage est en légère pente pendant le dressage, de manière à s'adapter à cette légère pente, et la pression d'appui entre le plateau de polissage et la meule de dressage peut toujours être maintenue à une valeur inférieure à une valeur fixe. De ce point de vue également, il est possible d'empêcher une consommation inutile du plateau de polissage. Les buts, avantages et particularités de la présente invention seront mieux compris à partir de la description détaillée qui suit de modes de réalisation de la présente invention, donnés à titre d'illustration et non à titre limitatif, en liaison avec les dessins dans lesquels: la Fig. 1 est une vue en coupe qui illustre un premier mode de réalisation d'un appareil de dressage pour plateau de polissage de plaquettes selon la présente invention; la Fig. 2 est une vue en plan qui illustre la relation de position entre une platine et une couche de grains abrasifs déposée par procédé électrique selon le mode de réalisation de la présente invention; la Fig. 3 est une vue en plan d'une meule de dressage utilisée dans une expérience conforme à la présente invention; la Fig. 4 est une vue en coupe de la meule de dressage; la Fig. 5 est une vue en coupe à plus grande échelle de la couche de grains abrasifs, déposée par procédé électrique, de la meule de dressage; la Fig. 6 est une vue de face illustrant un procédé de mesure de l'épaisseur du plateau de polissage, utilisé dans l'expérience; la Fig. 7 montre les points o est mesurée l'épaisseur du plateau de polissage utilisé dans l'expérience; la Fig. 8 est un graphe qui illustre le résultat de l'expérimentation d'une meule de dressage (c) d'une granulométrie tamis N 100 (147 gm); la Fig. 9 est un graphe qui illustre le résultat de l'expérimentation d'une meule de dressage (a) d'une granulométrie tamis N 100; la Fig. 10 est un graphe qui illustre le résultat de l'expérimentation d'une meule de dressage (b) d'une granulométrie tamis N 100; la Fig. 11 est un graphe qui illustre le résultat de l'expérimentation des meules de dressage (a) à (c); la Fig. 12 est un schéma de lignes de contour qui illustre l'uniformité de la plaquette pour la meule de dressage (c) d'une granulométrie tamis N 100; la Fig. 13 est un schéma de lignes de contour qui illustre l'uniformité de la plaquette pour la meule de dressage (a) d'une granulométrie tamis N 100; la Fig. 14 est un schéma de lignes de contour qui illustre l'uniformité de la plaquette pour la meule de dressage (b), d'une granulométrie tamis N 100; la Fig. 15 est un graphe représentant le cas o la durée du dressage est de trois minutes avec la meule de dressage (a); la Fig. 16 est un graphe représentant le cas o la durée de dressage est de cinq minutes avec la meule de dressage (a); et la Fig. 17 est un graphe représentant le cas o la matière de la surface de polissage de plaquettes et le temps de dressage sont modifiés pour la meule de dressage (a). On va maintenant décrire en premier lieu des modes de réalisation actuellement préférés d'appareillages de la présente invention et, en deuxième lieu, des exemples d'expériences réalisés avec ces appareillages. La Fig. 1 est une vue en coupe transversale qui illustre un premier mode de réalisation d'un appareil de dressage de plateaux de polissage de plaquettes selon la présente invention. En se référant à la Fig. 1, la référence numérique 1 désigne une platine, ou plaque fixe inférieure, d'un appareil de polissage de plaquettes. La configuration de la platine 1 est celle d'une plaque circulaire, comme représenté à la Fig. 2, et elle est mise en rotation horizontalement autour de son axe par un moyen d'entraînement non représenté. Un plateau circulaire de polissage 2 est fixé sur toute la surface supérieure de la platine 1. Dans cet exemple représenté à la Fig. 2, plusieurs plaquettes W, au nombre de six, sont placées sur la platine 1, et ces plaquettes W sont mises en rotation planétaire par un support non représenté, les positions relatives des plaquettes W étant maintenues, et les plaquettes étant alors polies. Des matières classiques quelconques qui sont utilisées pour polir des plaquettes peuvent être utilisées pour le plateau de polissage 2. Il est possible d'utiliser, soit un disque du type velours o une résine de polyuréthanne est imprégnée dans un étoffe en polyester non tissé, soit un disque de type daim o une couche de polyuréthanne alvéolaire est formée sur une étoffe en polyester non tissé en utilisant cette étoffe comme matière de base, soit une feuille de polyuréthanne de type alvéolaire à cellules fermées. La référence numérique 4 désigne un appareil de dressage qui comporte une meule 6 de dressage en forme de disque circulaire placée sur le plateau de polissage 2. La meule 6 présente une partie de paroi périphérique 6A, annulaire, de hauteur fixe, une partie de paroi inférieure 6B, qui s'étend horizontalement vers l'intérieur à partir de la partie de paroi périphérique 6A, et une partie 6C qui constitue l'extrémité inférieure de la partie de paroi périphérique 6A et sert à la formation de couche annulaire 8 de grains abrasifs, déposée par procédé électrique sur toute la superficie de la surface inférieure de cette partie 6C. Le diamètre extérieur de la surface de dressage de la meule de dressage 6, qui est égal au diamètre extérieur de la couche granulaire abrasive 8 déposée par procédé électrique dans ce mode de réalisation, est supérieur au diamètre extérieur des plaquettes W à polir par le plateau de polissage 2, comme représenté à la Fig. 2. La meule de dressage 6 est amenée en butée avec le plateau de polissage 2 sur toute la largeur d'une partie circonférentielle de la zone annulaire K de polissage de plaquettes de la surface du plateau de polissage. Par conséquent il est possible d'effectuer de façon uniforme un dressage de toute la surface de la zone K de polissage de plaquettes. La granulométrie des grains ultra-abrasifs utilisés dans la couche granulaire abrasive déposée par procédé électrique 8 est comprise entre les tamis N 60 (246 Mm) et N 230 (66tm) et, de préférence, entre les tamis N 80 (175 mm) et N 170 (88.m). Si la granulométrie est supérieure au tamis N 60, l'effet de planéité sur la surface du plateau de polissage 2 diminue, de sorte que la précision de polissage de plaquettes W diminue. Si la granulométrie est inférieure au tamis N 230, l'effet de meulage de la surface du plateau de polissage 2 est accru, de sorte que l'épaisseur de ce plateau de polissage diminue et que sa durée de vie est raccourcie. En d'autres termes, c'est seulement lorsque la granulométrie des grains ultra-abrasifs est comprise entre le tamis N 60 et le tamis N 230 qu'il est possible d'obtenir un effet de planéité satisfaisant, pratiquement sans meuler exagérément le plateau de polissage 2, en réglant la pression d'appui de la meule de dressage 6 dans une plage prédéterminée, déterminée notamment par la matière du plateau de polissage 2. Une plaque 10 de support de meule, configurée en plaque circulaire, est insérée coaxialement dans la partie 6A de paroi périphérique de la meule de dressage 6 et elle y est fixée. La plaque 10 de support de meule est supportée par un arbre rotatif 16 au moyen d'un roulement 14 à alignement automatique, et l'arbre 16 est fixé à l'extrémité avant d'un bras de support 24. La forme de l'arbre rotatif 16 est celle d'un tube creux. Une tubulure 22 d'amenée d'eau pure est reliée à l'extrémité supérieure de cet arbre 16 par l'intermédiaire d'une tubulure 20 et à une source d'amenée d'eau pure non représentée. Dans ce mode de réalisation, une ouverture est ménagée dans la partie centrale de la partie de paroi inférieure 6B, et lorsque de l'eau pure est amenée depuis le moyen d'amenée d'eau pure, elle entre à l'intérieur de la meule de dressage 6. L'eau pure qui est ainsi entrée sort ensuite en passant entre la couche granulaire abrasive 8, déposée par procédé électrique, et le plateau de polissage 2, et toute matière étrangère est expulsée dans ce processus. Un couvercle 26 est fixé à l'extrémité avant du bras de support 24 pour couvrir la surface supérieure de la plaque de support 10 de meule. Un moteur rotatif 28 est fixé sur l'extrémité de base du bras de support 24 de façon à être tourné vers le bas, et une poulie 30 est fixée à l'extrémité inférieure de l'arbre du moteur. Une courroie d'entraînement 32 est montée sur une poulie 30 et une partie 10A formant poulie, de la plaque de support 10 de meule, pour transmettre une force de rotation est transmise. L'extrémité de base du bras de support 24 est fixée à une plaque horizontale 34 de support de bras qui est fixée à l'extrémité de la tige d'un vérin 36 à tige ascendante et descendante fixée par sa partie supérieure à une table mobile 42. Deux tiges de guidage 38 sont fixées à la plaque 34 de support de bras et sont supportées, de façon à se déplacer verticalement, par un bossage de guidage 40 qui traverse la table mobile 42. La table mobile 42 est conçue pour être déplacée horizontalement, par un mécanisme 44 à bras d'avance et de recul, entre une position dans laquelle la meule de dressage 6 fait face à la platine 1 et une position à laquelle la meule de dressage 6 est reculée à distance de la platine 1. Le moteur rotatif 28 de la meule, le vérin 36 à bras ascendant et descendant, et le mécanisme 44 à bras d'avance et de recul sont commandés chacun par des programmes à partir d'un panneau de commande non représenté. En outre, la meule de dressage 6 est conçue pour être amenée en appui sur le plateau de polissage 2 sous une pression comprise entre 1 et 10 N/cm2, de préférence entre 2 et 6 N/cm2. Si la pression est inférieure à 1 N/cm2, il est difficile d'obtenir un effet de planéité satisfaisant et, si la pression est supérieure à 10 N/cm2, la meule de dressage 6 meule le plateau de polissage 2, en réduisant la durée de vie de ce dernier. Dans la plage de pressions décrite ci-dessus, il est préférable que le dressage soit programmé pour être effectué en continu en une étape de dressage pendant 0,5 à 5 minutes. Si la durée du dressage est inférieure à 0,5 minute, il est difficile d'obtenir un effet de planéité satisfaisant et, si elle est supérieure à 5 minutes, il n'y a plus de changement de l'effet de planéité, et la meule de dressage 6 pourrait de plus meuler le plateau de polissage 2, en raccourcissant la durée de vie de ce dernier. Dans le cas de l'appareil de dressage 4 de la structure décrite ci-dessus, la granulométrie des grains ultra-abrasifs est réglée entre le tamis N 60 et le tamis N 230, la pression de butée de la meule de dressage 6 est réglée dans la plage décrite ci- dessus. Ainsi, même si la matière de plateau de polissage 2 est difficile à meuler, sa surface est rendue uniforme par le frottement, contre elle, d'un grand nombre de grains abrasifs en saillie depuis la surface de dressage de la meule 6, et l'on peut donc obtenir ainsi un excellent effet de planéité. En outre, comme un grand nombre de fines stries dont la profondeur et la largeur sont exactement appropriées, sont créées sur la surface du plateau de polissage 2 par les grains ultra-abrasifs de la plage de granulométrie décrite ci-dessus, une boue qui est mise en circulation à travers ces stries est répartie pendant le polissage de plaquettes sur toute la surface dressée du plateau de polissage 2. Par conséquent, la densité de grains abrasifs libres peut être rendue uniforme pendant le polissage des plaquettes W, et toute la surface de polissage de celles-ci peut de plus être refroidie uniformément. Ainsi on peut éviter toute variation de l'ampleur du polissage résultant de dilatation thermique locale. De plus, puisque le roulement 14 à alignement automatique est disposé entre la plaque de support 10 de la meule et l'arbre de rotation 16 de la meule de façon à permettre un mouvement d'inclinaison de la meule 6 pendant l'étape de dressage, la surface de dressage de cette meule est amenée en appui parallèle avec le plateau de polissage 2, même lorsque la surface de ce dernier est en légère pente pendant le dressage, de façon à suivre cette légère pente, et la pression d'appui entre le plateau de polissage 2 et la meule de dressage 6 peut toujours être maintenue à une valeur inférieure à une valeur fixe. Par conséquent, le plateau de polissage 2 n'est pas meulé plus que nécessaire sous l'effet d'une pression locale excessive, ce qui permet d'empêcher une consommation inutile de ce plateau. Comme la surface de dressage de la meule de dressage 6 est amenée en appui avec le plateau de polissage sur toute la largeur d'une partie circonférentielle de la zone de polissage K de plaquettes, et que de l'eau pure est amenée depuis l'intérieur de la meule de dressage 6, il est possible, non seulement de rendre plane la zone K de polissage de plaquettes, mais aussi d'amener de l'eau pure entre la meule de dressage 6 et le plateau de polissage 2, ce qui permet d'expulser rapidement des matières étrangères ou similaires qui résultent du dressage de la zone K de polissage de plaquettes. Evidemment, la présente invention n'est pas limitée au mode de réalisation décrit ci-dessus et diverses modifications peuvent être apportées selon les besoins. Par exemple, alors que, dans le mode de réalisation décrit ci-dessus, les grains ultra-abrasifs sont directement déposés par procédé électrique sur la surface de la partie 6C formant couche granulaire abrasive, il est possible, au lieu de cela, de fixer une étoffe qui comprend des grains ultra-abrasifs déposés par procédé électrique sur une étoffe souple sur la partie 6C de formation de couche de grains abrasifs au moyen d'un agent de fixation afin de former la couche 8 à grains abrasifs. Dans ce cas, l'étoffe et la couche d'agent de liaison exercent un effet de coussin, et ceci évite d'appliquer une pression excessive à un grain ultra-abrasif individuel quelconque. Par conséquent, il est possible de diminuer encore l'ampleur de la consommation du plateau de polissage 2. La granulométrie préférable des grains ultra-abrasifs et la pression préférable de butée sont les mêmes dans ce cas que celles qui ont été décrites précédemment. Après avoir décrit l'appareil représenté à la Figure 1, on va maintenantdécrire des exemples d'expériences menées avec celui-ci. Ces expériences sont effectivement réalisées à l'aide de l'appareil de la Fig. 1, mais c'est une meule de dressage 50 telle que représentée aux Fig. 3 et 5, fixée directement à la plaque de support 10 de meule, qui est utilisée au lieu de la meule de dressage 6. Dans la meule de dressage 50 utilisée, une partie 50A formant couche granulaire abrasive qui fait saillie vers le bas est formée sur la partie circonférentielle extérieure d'une base métallique annulaire de la meule de dressage 50, et une couche granulaire abrasive 52 est déposée par procédé électrique sur la surface inférieure de la partie format de couche granulaire abrasive. Les dimensions de la meule de dressage 50 sont les suivantes: diamètre extérieur 305 mm, diamètre inférieur 200 mm et largeur de la couche granulaire abrasive 52 déposée par procédé électrique: 5 mm. On prépare deux types de meule, les meules (a) et (b), dont la base métallique est la même, mais dont les grains ultra-abrasifs sont respectivement de tamis N 100 (147 gm) et de tamis N 400 (33 im). On prépare aussi une autre meule de dressage (c), qui ne comporte pas la partie 50A format de couche granulaire abrasive formée sur la base métallique, mais o une étoffe de polyester sur laquelle des grains ultra-abrasifs sont déposés par procédé électrique est fixée en utilisant une résine époxy sur toute la superficie de la surface inférieure de la base métallique. L'épaisseur du plateau de polissage 2 est mesurée en utilisant un dispositif de mesure représenté à la Fig. 6 Ce dispositif de mesure comprend une tige de support 56 pourvue de pattes à ses deux extrémités et un nombre total de six comparateurs à cadran 58, fixés sur la tige de support 56. Quand chaque comparateur à cadran 58 a été au préalable mis à zéro sur la surface d'un élément de référence plat, qui est le marbre ou plan maître, chaque comparateur à cadran 58 est amené en butée sur le plateau de polissage 2 de la platine 1, et l'épaisseur du plateau de polissage 2 est mesurée. La partie circonférentielle extérieure et la partie centrale du plateau de polissage 2 sont découpées au préalable de façon à exposer la surface de la platine 1, et les pattes de la tige de support 56 sont placées sur la partie centrale et la partie circonférentielle du plateau de polissage 2. La diamètre de la platine 1 utilisée pour l'appareil de polissage est de 915 mm, et le plateau de polissage 2 utilisé est formé de polyuréthanne alvéolaire, d'une épaisseur de 1,3 mm, et d'une dureté Shore 61. On emploie un procédé dans lequel six plaquettes ou tranches, de silicium d'un diamètre de 150 mm, appelées aussi plaquettes de six pouces, sont polies, pendant qu'elles sont mises simultanément en rotation planétaire sur la platine 1. Un film de silice formé d'oxyde thermique est préformé sur la surface de polissage de la plaquette. Comme représenté à la Fig. 7, les distances entre le centre de la platine et les points de mesure des comparateurs à cadran 58, désignées par les références numériques de points de mesure 6, 5, 4, 3, 2 et 1, dans cet ordre, sont les suivantes: , 170, 230, 293, 356 et 420 mm, et le centre de la plaquette vient au point situé à 293 mm du centre de la platine. Le centre de la meule de dressage 50 est également placé en un point située à 293 mm du centre de la platine. En d'autres termes, la plage de dressage par la meule de dressage 50 s'étend de 77 mm vers la partie circonférentielle intérieure et vers la partie circonférentielle extérieure de la zone de polissage de plaquettes, respectivement. L'essai est conduit selon la procédure en cinq étapes décrite dans ce qui suit. A la première étape, un nouveau plateau de polissage 2 est fixé sur la platine 1, et l'épaisseur initiale de ce plateau de polissage 2 est mesurée. A la deuxième étape, un dressage initial est effectué d'une manière telle que la meule de dressage 50 est amenée en appui sur le plateau de polissage 2 sous une pression fixe, la meule de dressage 50 est mise en rotation à une vitesse de 25 tours par minute, tandis que de l'eau pure est amenée à l'intérieur de la meule de dressage 50, et la platine 1 tourne en même temps pendant un temps prédéterminé à 25 tours par minute. L'épaisseur du plateau de polissage 2 après ce dressage initial est de nouveau mesurée. A la troisième étape, un polissage de plaquettes est effectué dans des conditions fixes, et l'épaisseur du plateau de polissage est mesurée après le polissage de plaquettes. A la quatrième étape, un dressage est effectué dans les conditions du dressage initial, et l'épaisseur du plateau de polissage 2 est mesurée après ce dressage. L'étape 5 consiste en une ou plusieurs répétitions des étapes 3 et 4. Les conditions de dressage sont les suivantes: la pression d'appui de la meule de dressage est de 1,6 N/cm2 pour la meule (c), et elle est de 5,3 N/cm2 pour les meules (a) et (b). Le temps de dressage est de cinq minutes pour chaque meule. Les conditions de polissage de plaquettes sont les suivantes: pression d'appui sur les plaquettes 5 N/cm2, durée du polissage 3,5 minutes pour chaque meule. Les huit premiers dressages sont réalisés par la meule (c) pour le même plateau de polissage 2. Les neuvième, dixième et onzième dressages sont effectués par la meule de dressage (a), et les douzième, treizième et quatorzième dressages sont effectués par la meule de dressage (b). Les résultats des dressages sont représentés aux Fig. 8 à 10. A ces figures, Dn désigne une valeur mesurée immédiatement après l'exécution du n-ième dressage; Pn désigne une valeur mesurée immédiatement après l'exécution du n-ième polissage de plaquettes; et une correction est effectuée d'une manière telle que les valeurs mesurées du point de mesure 6, du côté du centre, concordent entre elles. La raison de cette correction est que le point de mesure 6 ne vient en butée ni avec la meule de dressage, ni avec les plaquettes, et que l'épaisseur en ce point ne varie donc pas. Comme représenté à la Fig. 8, l'épaisseur du plateau de polissage 2 ne varie guère après le deuxième dressage par la meule (c) qui porte une étoffe o sont déposés par procédé électrique des grains ultra-abrasifs d'une granulométrie de tamis N 100 (147 jm). De même, comme représenté à la Fig. 9, l'épaisseur du plateau de polissage 2 ne varie guère après le deuxième dressage par la meule (a) sur laquelle des grains ultra-abrasifs d'une granulométrie de tamis N 100 sont directement déposés par procédé électrique. En revanche, il est confirmé que l'épaisseur du plateau de polissage 2 diminue chaque fois qu'un dressage et un polissage de plaquettes sont effectués avec la meule (b) sur laquelle des grains ultra-abrasifs d'une granulométrie de tamis N 400 (33 pm) sont directement déposés par procédé électrique. On mesure ensuite les variations de la vitesse de polissage de plaquettes par le plateau de polissage dressé au moyen des meules (a) à (c) ainsi que l'uniformité de l'épaisseur de la plaquette. De façon spécifique, on répète en alternance trois fois un dressage et un polissage de plaquettes en utilisant la meule (b) pour le plateau de polissage qui est le même qui celui qui a été décrit ci-dessus, à la suite de quoi un dressage et un polissage de plaquettes sont effectués de façon répétée en alternance trois fois, en utilisant la meule (a), ce qui est encore suivi par un dressage et un polissage de plaquettes effectués deux fois en utilisant la meule (c). Les conditions de dressage pour chaque meule de dressage sont les suivantes: la pression d'appui de la meule de dressage est de 1,6 N/cm2 pour la meule de dressage (c), et de ,3 N/cm2 pour les meules de dressage (a) et (b) et le temps de dressage est de cinq minutes pour chaque meule de dressage. Les conditions de polissage de plaquettes sont les suivantes: pression d'appui de plaquettes 5 N/cm2; temps de polissage: 3,5 minutes pour chaque meule de dressage. Les résultats de l'expérience sont représentés à la Fig. 11. Dans cette expérience: avec la meule de dressage (b) dans laquelle des grains ultra-abrasifs de tamis N 400 (33 Lm) sont utilisés, on observe une tendance à une légère diminution de la vitesse de polissage des plaquettes chaque fois qu'un dressage est effectué, alors que avec la meule de dressage (a) dans laquelle des grains ultra-abrasifs d'un tamis N 100 sont utilisés, la vitesse de polissage de plaquettes augmente, et la meule de dressage (a) montre un excellent effet de dressage. Cependant, en pratique, la variation de la vitesse de polissage des plaquettes est indésirable. Par conséquent, en raccourcissant le temps de dressage à une minute et en effectuant les mêmes essais, il est confirmé que la vitesse de polissage des plaquettes devient presque constante aussi pour la meule de dressage (a). En revanche, avec la meule (c), il est impossible d'observer un effet de dressage suffisant parce que la pression d'appui de la meule de dressage est trop faible. En ce qui concerne l'uniformité de l'épaisseur des plaquettes, on obtient presque les mêmes résultats avec les meules de dressage (a) et (b). En revanche, l'uniformité de la meule de dressage (c) est inférieure à celle des autres meules de dressage en raison de la pression insuffisante d'appui de la meule de dressage. Si l'on diminue la superficie de la couche granulaire abrasive et si l'on augmente la pression d'appui de la meule de dressage pour qu'elle atteigne la même valeur que pour la meule de dressage (a), puisque l'on pense que le résultat de la meule de dressage (c) résulte d'une pression insuffisante d'appui de la meule de dressage, il est possible d'obtenir, pour l'étoffe à dépôt par procédé électrique de grains ultra-abrasifs, une uniformité du même degré que dans le cas o les grains ultra-abrasifs sont directement déposés. Les Fig. 12 à 14 montrent l'uniformité de la surface de la plaquette polie par le plateau de polissage 2 qui a été dressé par chaque meule de dressage. La Fig. 12 représente le résultat pour la meule de dressage (c); la Fig. 13 représente les résultat pour la meule de dressage (a); et la Fig. 14 représente le résultat pour la meule de dressage (b). Les intervalles entre les lignes de contour correspondent à 0,01 /m. Comme on peut le voir à ces figures, l'uniformité de la plaquette est davantage augmentée pour le cas des meules de dressage (c) et (a), o des grains ultra-abrasifs de tamis N 100 sont utilisés, que pour la meule de dressage (b). On suppose que cette augmentation est due au fait que la boue de polissage est amenée uniformément, que la température de polissage est uniforme, et que la propreté d'expulsion des copeaux de polissage est améliorée. Puis, on fait passer le temps de dressage à trois et à cinq minutes, en utilisant la meule de dressage (a), et on mesure la vitesse de polissage de plaquettes et l'uniformité d'épaisseur pour chacune des six qui sont polies en même temps. Les autres conditions de dressage et de polissage de plaquettes sont les mêmes que dans l'expérience précédente. Les résultats de l'expérience sont représentés aux Fig. 15 et 16. Comme on peut le voir clairement à la Fig. , lorsque le temps de dressage est de trois minutes, il n'existe aucune différence de vitesse de polissage de plaquettes entre le résultat du premier et du deuxième dressages. En revanche, lorsque le temps de dressage est de cinq minutes comme représenté à la Fig. 16, et comme confirmé dans l'expérience précédente, la vitesse de polissage des plaquettes après le deuxième dressage augmente plus fortement qu'après le premier dressage. Ceci n'est pas souhaitable en cours d'utilisation pratique. On n'observe, pour chaque plaquette, aucune différence significative d'uniformité d'épaisseur entre les deux cas, de trois et de cinq minutes. Par conséquent, dans ce cas, il se révèle que trois minutes est le temps souhaitable pour le dressage. La Fig. 17 est un graphe qui illustre le résultat obtenu lorsque le même plateau de polissage est dressé trois minutes et cinq minutes en utilisant la meule de dressage (a) et que la vitesse de polissage de plaquettes est mesurée. Dans ce cas, pour les trois mesures initiales, le dressage est effectué pendant cinq minutes pour chaque mesure, à la suite de quoi on polit une plaquette de silicium sur laquelle un film de silice, de type film P-TEOS, a été formé par un procédé au plasma, et on mesure la vitesse de polissage. Pour une quatrième et une cinquième mesure, le dressage est effectué pendant cinq minutes pour chaque mesure, à la suite de quoi on polit une plaquette de silicium sur laquelle est formé un film de silice par oxydation thermique et on mesure la vitesse de polissage. Pour les sixième et septième mesures, le dressage est effectué pendant trois minutes pour chaque mesure, à la suite de quoi on polit une plaquette de silicium qui porte un film de silice formé par oxydation thermique et on mesure la vitesse de polissage. A partir des résultats de la Fig. 17 également, il se révèle qu'une durée de trois minutes est souhaitable pour le temps de dressage. Comme décrit précédemment, dans l'appareil de dressage d'un plateau de polissage de plaquettes selon le premier aspect de la présente invention, puisqu'un roulement à alignement automatique est disposé entre cette meule de dressage et le mécanisme de rotation de meule de façon à permettre un mouvement d'inclinaison de cette meule de dressage, la surface de dressage de la meule de dressage est amenée en butée parallèle avec le plateau de polissage, même lorsque la surface de ce dernier est en légère pente pendant le dressage, de manière à s'adapter à cette légère pente et la pression d'appui entre le plateau de polissage et la meule de dressage est toujours maintenue à une valeur inférieure à une valeur fixe. Par conséquent, le plateau de polissage n'est pas rectifié plus que nécessaire sous l'effet d'une pression locale excessive, ce qui permet d'empêcher une consommation excessive de ce plateau de polissage. Cependant, un excellent effet de planéité peut être obtenu en frottant le plateau de polissage au moyen d'un grand nombre de grains ultra- abrasifs en saillie depuis la surface de dressage. Puisque la surface de dressage de la meule de dressage a été amenée en butée avec le plateau de polissage sur toute la largeur d'une partie circonférentielle d'une zone de polissage de plaquettes, et puisque de l'eau pure est amenée depuis l'intérieur de la meule de dressage vers un intervalle compris entre la surface de dressage et le plateau de polissage, il est non seulement possible de rendre plane la zone de polissage de plaquettes mais également d'amener de l'eau pure entre la meule de dressage et le plateau de polissage, ce qui permet d'expulser rapidement, de la zone de polissage de plaquettes, toute matière étrangère qui résulte du dressage. Dans l'appareil de dressage d'un plateau de polissage selon le deuxième aspect de la présente invention, puisque la granulométrie de grains ultra-abrasifs est comprise entre les dimensions de tamis N 60 (246 gm) et NO 230 (66 gm), il est possible d'obtenir un effet de planéité satisfaisant, sans meulage exagéré de la matière du plateau de polissage, en réglant dans une plage prédéterminée la pression d'appui de la meule de dressage. En outre, puisqu'un roulement à alignement automatique est disposé entre la meule de dressage et le mécanisme de rotation de meule de façon à permettre un mouvement d'inclinaison de la meule de dressage, la surface de dressage de la meule de dressage est amenée en butée parallèle avec le plateau de polissage, même lorsque la surface de celui-ci est en légère pente pendant le dressage, de manière à s'adapter à cette légère pente, et la pression d'appui entre le plateau de polissage et la meule de dressage peut toujours être maintenue à une valeur inférieure à une valeur fixe. De ce point de vue également, il est possible d'empêcher une consommation inutile du plateau de polissage. REVEND I CATIONS 1. Appareil (4) destiné à dresser la surface d'un plateau de polissage (2) de plaquettes, et est rattaché à un appareil de polissage de plaquettes, dont la fonction est de polir une série de plaquettes pendant que ces dernières sont mises en rotation sur un plateau de polissage (2) fixé sur une platine (1), caractérisé en ce qu'il comprend: une meule de dressage (6) pourvue d'une couche annulaire granulaire abrasive (8) dans laquelle des grains ultra-abrasifs sont déposés par procédé électrique dans un bain de plaquage métallique; un mécanisme de support (24, 16, 10) de meule pour supporter à rotation ladite meule de dressage (6) dans une situation dans laquelle la surface de dressage de ladite couche granulaire abrasive (8) est en appui sur la surface du plateau de polissage (2); un mécanisme de rotation (28, 30, 32, 10A) de meule pour amener ladite meule de dressage (6) à tourner autour de son axe (10); un roulement (14) à alignement automatique, disposé entre ladite meule de dressage (6) et ledit mécanisme de rotation (28, 30, 32, 10A) de meule afin de permettre le mouvement d'inclinaison de la meule de dressage (6); et un moyen (20, 22) pour amener de l'eau pure depuis l'intérieur de ladite meule de dressage (6) vers l'intervalle compris entre la surface de dressage et le plateau de polissage (2), et en ce que le diamètre extérieur de ladite surface de polissage est supérieur au diamètre extérieur de cercle circonscrit aux plaquettes à polir par ledit plateau de polissage (2), et ledit mécanisme de support (24, 16, 10) de meule amène la surface de dressage de ladite meule de dressage (6) en appui sur le plateau de polissage (2) sur toute la largeur d'une partie circonférentielle d'une zone annulaire, de polissage de plaquettes, de la surface dudit plateau de polissage (2). 2. Appareil de dressage (4) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la granulométrie desdits grains ultra-abrasifs est comprise entre les dimensions tamis N 60 (246 gm) et tamis N 230 (66 4m). 3. Appareil (4) destiné à dresser la surface d'un plateau de polissage (2) de plaquettes qui est attaché sur une platine (1) d'un appareil de polissage de plaquettes et est utilisé pour un polissage mécano-chimique d'une plaquette, caractérisé en ce qu'il comprend: une meule de dressage (6) pourvue d'une couche annulaire granulaire abrasive (8) dans laquelle des grains ultra-abrasifs sont déposés par procédé électrique dans un bain de plaquage métallique; un mécanisme de support (24, 16, 10) de meule pour supporter à rotation ladite meule de dressage (6) dans une position dans laquelle la surface de dressage de ladite couche granulaire abrasive (8) est en appui sur la surface du plateau de polissage (2); un mécanisme de rotation (28, 30, 32, 10A) de meule pour amener ladite meule de dressage (6) à tourner autour de son axe (10); un roulement (14) à alignement automatique, disposé entre ladite meule de dressage (6) et ledit mécanisme de rotation (28, 30, 32, 0lA) de meule afin de permettre le mouvement d'inclinaison de la meule de dressage (6); et un moyen d'amenée (20, 22) d'eau pure pour amener de l'eau pure depuis l'intérieur de ladite meule de dressage (6) vers l'intervalle compris entre la surface de dressage et le plateau de polissage (2), et en ce que la granulométrie desdits grains ultra-abrasifs est comprise entre les dimensions tamis N (246 m) et tamis N 230 (66 gm). 4. Appareil selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ledit mécanisme de support (24, 16, 10) de meule est agencé de façon à amener ladite meule de dressage (6) en appui sur ledit plateau de polissage (2) sous une pression de 1 à 10 N/cm2. 5. Appareil selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que ledit mécanisme de support (24, 16, ) de meule comprend: une base (34); un mécanisme de montée et de descente (36) de meule pour monter et descendre ladite meule de dressage (6; 6A, 6B, 6C) par rapport à la base (34); et un mécanisme d'avance/recul (44) de meule pour faire avancer ou reculer une meule de dressage (6; 6A, 6B, 6C) entre une position à laquelle la meule de dressage (6; 6A, 6B, 6C) est reculée vis-à-vis de l'appareil de polissage de plaquettes et une position de dressage. 6. Appareil de dressage (4) selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que la couche granulaire abrasive (8) de ladite meule de dressage (6; 6A, 6B, 6C) est formée en fixant, à une base de meule (6C), une étoffe qui comprend des grains ultra-abrasifs déposés par procédé électrique sur la surface de l'étoffe. 7. Appareil de dressage (4) selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que ledit mécanisme de rotation (28, 30, 32, 10A) de meule est relié à un appareil de commande, et cet appareil de commande est programmé de façon à mettre en oeuvre le mécanisme de rotation (28, 30, 32, 10A) de meule de façon à effectuer un dressage continu en une étape de dressage pendant 0,5 à 5 minutes. 8. Appareil de dressage (4) selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que de nombreuses rainures sont ménagées dans ladite couche granulaire abrasive (8).