FR 2709378 A1 19950303 FR 9410496 A 19940831 La présente invention concerne des transistors à effet de champ (appelé ci-après FET) et, plus particulièrement, des transistors à effet de champ semi-conducteurs composés à hautes performances qui suppriment le délai dans le temps de montée d'impulsion du courant de drain à la tension de l'impulsion de grille. L'invention concerne également des procédés pour fabriquer des transistors à effet de champ. La figure 9 est une vue en coupe, qui illustre un FET planar conventionnel. Sur la figure, le numéro de référence 1 désigne un substrat en GaAs semi-isolant avec une orientation de surface (100). Une électrode de grille 3 comprenant du WSi est disposée sur une partie du substrat en GaAs 1. Une région active de GaAs 2, du type n, est disposée à l'intérieur du substrat en GaAs 1 et se trouve à la surface où l'électrode de grille 3 est située. Des régions en GaAs du type n d'une concentration en impuretés relativement faible, portant la référence 4, sont prévues aux côtés opposés de la zone active 2. Des régions 5, 5' formant source et drain, en GaAs, du type n et à une concentration d'impuretés relativement élevée sont disposées aux côtés opposés des régions 4 à concentration d'impuretés relativement faible. Les électrodes de source et de drain 6 et 7 comprennent du AuGe/Ni/Au qui sont disposées sur les régions de source et de drain 5 et 5' respectivement. Une couche de passivation comprenant du SiON, SiO, SiN ou analogue est disposée sur la surface entière de la structure. Les figures 20(a)-20(e) illustrent un procédé pour produire des FET planar selon la figure 19. Initialement, la zone active 2 en GaAs du type n est formée dans le substrat 1 en GaAs semi-isolant par implantation d'ions (figure 20(a)). Ensuite, du WSi est déposé sur le substrat par pulvérisation cathodique et une masse de photorésiste est formée là-dessus. En utilisant un motif de photorésiste comme masque, la couche de WSi est attaquée chimiquement par attaque par ions réactifs, ce qui assure la formation de l'électrode de grille de WSi 3 (figure 20(b)). Lorsqu'on utilise la grille de WSi 3 comme masque, des ions de Si sont implantés à des énergies de 50 KeV et à des dosages de 2E12 cm-2, en formant des régions de GaAs du type n 4 ayant une relativement faible concentration d'ions (figure 20(c)). Ensuite, une couche de SiO est déposée sur la surface entière de la plaquette. La couche de SiO est attaquée anisotropiquement par attaque par ions réactifs, en utilisant un mélange de gaz de CHF3/02 pour former des parois latérales 9 aux côtés opposés de la grille 3 de WSi. Lorsqu'on utilise la grille de WSi 3 avec les parois latérales 9 comme masque, des ions de Si sont implantés à une énergie de 60 KeV et à un dosage de 3E13 cm-2. Puis, on enlève les parois latérales 9 en utilisant du BHF (acide fluorhydrique tamponné) et en recuisant à 8000C pendant 30 minutes, en formant la source d'une concentration relativement élevée en ions et les régions de drain 5 et 5'. Quand les parois latérales isolantes 9 restent sur le substrat de GaAs pendant la procédure de recuisson, les parois latérales 9 agissent d'une façon défavorable sur le substrat de GaAs et produisent des zones exemptes d'atomes de Ga et As dans le substrat et une couche de courant de fuite à l'interface entre les parois latérales et le substrat, ce qui affecte négativement les caractéristiques du FET. Donc, les parois latérales 9 doivent être enlevées avant la procédure de recuisson. Après, les électrodes de source et de drain 6 et 7, qui comprennent du AuGe/Ni/Au sont formées par dépôts conventionnels et par des techniques d'arrachement (figure 20(e)). Enfin, une couche isolante telle qu'en SiN, SiON ou SiO, est déposée sur la plaquette pour former la couche de passivation 21, ce qui complète la structure selon la figure 19. La figure 21 est une vue en coupe qui illustre un FET conventionnel d'une structure à grille en retrait. Sur la figure, le numéro de référence 1 désigne un substrat de GaAs semi-isolant, qui a une orientation de surface (100). Une couche active de GaAs 14 du type n ayant un creux est disposée sur le substrat de GaAs. Une électrode de grille 16 comprenant du Ti/Pt/Au est déposée sur le creux ou la partie en retrait. Les électrodes de source et de drain 6 et 7 sont déposées sur la couche active 17 à une distance l'une de l'autre. Une couche isolante 24 est disposée sur la surface entière de la structure. Un procédé pour fabriquer le FET sur la figure 21 est montré aux figures 22(a)-22(d). Initialement, comme cela est illustré à la figure 22(a), la couche active 15 de GaAs du type n est formée dans le substrat de GaAs semi-isolante 1 par implantation d'ions. Alternativement, la couche active peut être formée par croissance épitaxiale sur la surface du substrat par un processus du type MBE (épitaxy de faisceaux moléculaires) ou de MOCVD (Déposition par vapeurs chimiques métallorganiques). Puis, les électrodes de source et de drain 6 et 7, qui comprennent du AuGe/Ni/Au sont formées sur la couche active 15 par des techniques par dépôt conventionnel et d'arrachement (figure 22(b)). En utilisant un masque de photorésiste 23 avec une ouverture opposée à une région où une électrode de grille doit être formée, on le forme d'une couche active 15 et attaquée par un mélange d'un acide tartrique et de l'eau de peroxyde d'hydrogène pour former un creux 15a (figure 22(c)). Puis, du Ti/Pt/Au est déposé par pulvérisation cathodique sur le masque de photorésiste 23, et le masque de photorésiste 23 et les portions superposées du métal sont enlevés par arrachement, en formant ainsi l'électrode de grille 16 dans le creux 15a. Enfin, une couche isolante, telle que du SiN, SiON, ou du SiO, est déposée sur la surface entière de la plaquette pour former la couche de passivation 23, ce qui complète la structure de la figure 21. On donne une description des caractéristiques de réponse transitoire d'un courant de drain lorsqu'une tension d'impulsion est appliquée à l'électrode de grille du FET de GaAs du type à grille en retrait, qui est décrit plus haut. La figure 23 montre schématiquement le retard de la réponse transitoire du courant de drain à la tension de grille d'impulsion et la figure 24 illustre schématiquement le mécanisme du délai de réponse transitoire. Comme le montre la figure 23, lorsqu'une tension d'impulsion ayant une largeur d'impulsion dans la gamme de plusieurs microsecondes à plusieurs millisecondes et une amplitude pour mettre en ou hors service le canal, est appliquée à l'électrode de grille d'un FET conventionnel, bien qu'il n'y ait pas de retard du courant de drain à la tension de grille au temps de décroissance d'impulsion (temps de canal hors service), il y a un retard du courant de drain par rapport à la tension de grille au temps de montée d'impulsion (temps de canal en service). Il y a de différents arguments concernant ce mécanisme de retard, mais aucune explication définitive n'a été donnée jusqu'à présent. Dans "Modeling the Effects of Surface States on DLTS Spectra of GaAs MESFET's" (IEEE Transactions on Electron Devices, Vol. 37, No. 5, p. 1235, 1990) et dans "Numérical Simulation of GaAs MESFET Gate-Lag with a Surface State Model" (Transactions of Electronic Information Communication Society, ED-91-142, p. 25, 1992), la variation de l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface, due à la captation et à l'émission d'électrons par les états de surface sur une zone de la surface de GaAs entre l'électrode ohmique et l'électrode de grille, est considérée comme étant un facteur important du mécanisme de retard. Ce mécanisme de retard sera décrit plus en détail en se référant à la figure 24. Sur la figure 24, la tension de drain (Vds) est de 5V, la tension de grille bloquée est de -5V, et la tension de grille excitée est de OV. Lorsque la grille est à son état excité, avec la tension source-grille de OV et la tension grille-drain de 5V, les états de surface existants entre la bande de valence et le niveau de Fermi ou le niveau quasi-Fermi à la surface de GaAs déterminée par cet état de potentiel capte les électrons. Lorsque d'une tension de 5V est appliquée à la grille pour bloquer cette grille, le niveau de quasi-Fermi à la surface s'approche de la bande de conduction et les états de surface entre la bande de la valence et le niveau de quasi-Fermi augmentent, ce qui a pour conséquence que la quantité d'électrons captés par les états de surface augmentent en comparaison avec celle de l'état excité. L'augmentation des électrons captés par les états de surface augmente les charges électriques positives, c'est-à-dire les donneurs, dans le substrat pour maintenir la neutralité électrique, d'où résulte une couche d'appauvrissement en surface élargie. Lorsque du 0V est appliqué à la grille pour exciter la grille, le niveau de quasi-Fermi à la surface s'approche de la bande de valence et les états de surface entre la bande de conduction et le niveau de quasi-Fermi émettent des électrons, par quoi la quantité des électrons captés par les états de surface décrits diminue en comparaison avec celle de l'état bloqué ou non conducteur. La diminution des électrons captés par les états de surface diminue les charges électriques positives, c'est-à-dire les donneurs à l'intérieur du substrat pour maintenir la neutralité électrique, ce qui a pour effet une mince couche d'appauvrissement en surface. Comme il a été décrit plus haut, l'épaisseur de la couche d'appauvrissement de surface varie selon la captation des électrons et de l'émission des états de surface. Dans le cas d'un substrat de GaAs du type n, la constante de temps de l'émission d'électrons est beaucoup plus longue que celle de la captation d'électrons et, de ce fait, la réduction de la couche d'appauvrissement en surface au temps de grille passante ne concorde pas avec la réduction de la couche d'appauvrissement en-dessous de l'électrode de grille, ce qui a pour conséquence une couche d'appauvrissement entre l'électrode ohmique et l'électrode de grille plus large que la couche d'appauvrissement en-dessous de l'électrode de grille. Le courant de drain Id est qualitativement représenté par l'équation suivante Id a (RCh + R1(T) + R2(T)) où Rch est la résistance intrinsèque de canal, et R1(T) et R2(T) sont des résistances dans des régions rapprochées par les couches d'appauvrisionnement en surface. On comprend de cette formule que le rétrécissement de canal en raison de la couche d'appauvrisionnement en surface réduit le courant de drain et, particulièrement lorsque les résistances R1(T) et R2(T) ont des constantes de temps qui sont plus grandes que la constante de temps de la résistance de canal intrinsèque RCh au temps de grille passante, le temps de montée d'impulsion du courant de drain est retardé. Ce phénomène est visible dans le FET planar conventionnel tel que montré à la figure 25. Etant donné que le délai du temps de montée d'impulsion du courant de drain est produit par le rétrécissement de canal en raison de la zone d'appauvrissement en surface, pour réduire le retard, il est nécessaire de faire décroître la couche d'appauvrissement en surface ou de réaliser une structure dans lequel le rétrécissement de canal en raison de la couche d'appauvrissement en surface ne se produit que difficilement. Comme structure pour éviter le rétrécissement de canal, une structure à grille en retrait à deux étages est décrit dans "Gate Slow Transients in GaAs MESFETs - Causes, Cures, AND Impact on Circuits", IEEE IEDM, p. 842, 1988, et une structure avec une couche de GaAs du type intrinsèque sur la couche de canal est décrit dans "Step-Recessed Gate Structure with an Undoped Surface Layer for Microwave and Millimeterwave High Power, High Efficiency GaAs MESFETs" IEICE Transactions, Vol. E74, No. 12, 4141, 1991. Cependant, ces FETs à grille en retrait sont compliqués en ce qui concerne leur structure et leur procédé de fabrication. Supplémentairement, aucune contre-mesure efficace au retard du courant de drain est rapportée par rapport au FET planar. Etant donné que l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface est déterminée par la densité des états de surface du GaAs et le potentiel en surface est fixé par les états de surface, on considère que l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface est réduite par réduction de la densité des états de surface et par augmentation de la concentration de donneurs du substrat. Bien qu'un traitement de surface utilisant de sulfure d'ammonium ou analogue est proposé comme moyen pour réduire la densité des états de surface, un tel traitement affecte négativement la stabilité thermique dans le procédé subséquent, et n'a aucun effet définitif sur le retard du courant de drain. D'autre part, l'augmentation de la concentration des donneurs du substrat, pour réduire la couche d'appauvrissement en surface, présente les inconvénients suivants. Dans le FET à grille en retrait conventionnel, après la formation de la couche de GaAs du type n, par implantation d'ions ou par croissance épitaxiale, l'attaque chimique de la zone en retrait est effectuée de façon à obtenir une épaisseur souhaitée sur la couche active et ensuite l'électrode de grille est formée dans le retrait. Ainsi la concentration des donneurs dans une région endessous de l'électrode de grille est équivalente à la concentration des donneurs dans une région entre l'électrode de grille et les électrodes de source et de drain, comme cela est montré sur les figures 21. Etant donné que la concentration des donneurs du canal est déterminée par l'utilisation souhaitée du transistor, une concentration de donneurs plus faible occasionne un retard plus important du temps de montée d'impulsion du courant de drain. Dans le FET planar conventionnel, pour supprimer le court effet de canal, la région de GaAs du type n 4 ayant une concentration plus importante de donneurs que la région active 2 est disposée entre la région active et la région de concentration de donneurs relativement élevée 5, comme le montre la figure 19. Etant donné que la concentration de donneurs de la région 4 est optimalisée par le court effet de canal, par la tension de claquage de grille et la résistance de source, il est impossible d'augmenter la concentration de donneurs de la région 4 pour la suppression du retard du temps de montée d'impulsion du courant de drain. Dans les FET conventionnels décrit ci-dessus, la variation de l'épaisseur de la couche d'appauvrissement réalisée entre l'électrode de grille et les électrodes ohmiques ne coïncident pas avec la variation de l'épaisseur de la couche d'appauvrissement réalisée sous l'électrode de grille, ce qui a pour effet le retard du temps de montée d'impulsion du courant de drain. Un objectif de la présente invention est de proposer un transistor à effet de champs qui réduit effectivement le retard du temps de montée d'impulsion du courant de drain par rapport au temps de montée d'impulsion de la tension de grille. Un autre objectif de la présente invention est de proposer un procédé de fabrication du transistor à effet de champs. Pour atteindre ce but, l'invention propose un transistor à effet de champ, qui est caractérisé en ce qu'il comprend une électrode de grille de Schottky disposée sur une zone active formée dans un substrat semi-conducteur composé et des régions de concentration d'impuretés relativement élevée disposées sur des côtés opposés de ladite région active, et en ce que des parties d'extrémité des zones de concentration d'impuretés relativement élevée sont placées plus proche de l'électrode de grille , avec la profondeur allant dans la direction de l'épaisseur du substrat. Selon une autre caractéristique de l'invention, le transistor à effet de champ comprend en outre des régions de concentration d'impuretés relativement faible respectivement disposées entre la zone active et les régions de concentration d'impuretés relativement élevée, et en ce que des portions d'extrémité de ladite zone de concentration d'impuretés relativement faible sont placées en-dessous de l'électrode de grille et augmentent avec la profondeur dans la direction de l'épaisseur du substrat. Selon une autre caractéristique de l'invention, le transistor à effet de champ est caractérisé en ce que la région de concentration d'impuretés relativement faible sur le côté de source comporte une portion d'extrémité qui est moins en-dessous de l'électrode de grille que la zone de concentration d'impuretés relativement faible du côté du drain. Le procédé de fabrication d'un transistor à effet de champ, selon l'invention, est caractérisé en ce qu'il comprend les opérations de réaliser une électrode de grille sur une zone active formée dans un substrat semi-conducteur composé réaliser des parois latérales aux côtés opposés de ladite électrode de grille ; et implanter des ions d'impuretés dans le substrat obliquement par rapport à la surface du substrat, en utilisant l'électrode de grille avec les parois latérales comme masque pour former des zones dopées d'impuretés aux deux côtés de ladite zone active, de façon que des portions d'extrémité des régions dopées d'impuretés se trouvent plus proches de l'électrode de grille, avec la profondeur dans la direction de l'épaisseur du substrat. L'invention sera mieux comprise et d'autres buts, caractéristiques, détails et avantages de celle-ci apparaîtront plus clairement au cours de la description explicative qui va suivre faite en référence aux dessins schématiques annexés donnés uniquement à titre d'exemple illustrant plusieurs modes de réalisation de l'invention et dans lesquels - la figure 1 est une vue en coupe illustrant un FET planar selon un premier mode de réalisation de la présente invention - la figure 2 est une vue en coupe montrant un FET planar selon un second mode de réalisation de la présente invention - les figures 3(a) et 3(b) sont des vues en coupe, qui illustrent un procédé de fabrication du FET planar de la figure 2 - la figure 4 est une vue en coupe illustrant un FET planar selon un troisième mode de réalisation de l'invention - les figures 5(a) et 5(b) sont des vues en coupe qui illustrent un procédé pour fabriquer le FET planar de la figure 4 - la figure 6 est une vue en coupe, qui montre un FET planar selon un quatrième mode de réalisation de la présente invention - les figures 7(a) et 7(b) sont des vues en coupe, qui illustrent un procédé pour fabriquer le FET planar de la figure 6 - la figure 8 est une vue en coupe, montrant un FET planar selon un cinquième mode de réalisation de la présente invention - la figure 9 est une vue en coupe, illustrant un procédé pour fabriquer le FET planar de la figure 8 - la figure 10 est une vue en coupe, illustrant un FET planar selon un sixième mode de réalisation de la présente invention - la figure 11 est une vue en coupe, illustrant un procédé pour fabriquer le FET planar de la figure 10 - la figure 12 est une vue en coupe illustrant un FET à grille en retrait selon un septième mode de réalisation de la présente invention - les figures 13(a) et 13(b) sont des vues en coupe, montrant un procédé pour fabriquer le FET à grille en retrait selon la figure 12 - la figure 14 est une vue en coupe, montrant un FET planar selon un huitième mode de réalisation de la présente invention - les figures 15(a) à 15(g) sont des vues en coupe, illustrant un procédé pour fabriquer le FET planar de la figure 14 - la figure 16 est une vue en coupe, montrant un FET planar selon un neuvième mode de réalisation de la présente invention - les figures 17(a) à 17(g) sont des vues en coupe, illustrant un procédé de fabrication du FET planar selon la figure 16 - la figure 18 est une vue en coupe, montrant un FET planar selon un dixième mode de la présente invention - la figure 19 est une vue en coupe, montrant un FET planar selon l'état de la technique - les figures 20(a) à 20(e) sont des vues en coupe, montrant un procédé de fabrication du FET planar selon la figure 19 - la figure 21 est une vue en coupe montrant un FET à grille en retrait selon l'état de la technique - les figures 22(a) à 22(d) sont des vues en coupe montrant un procédé de fabrication du FET selon la figure 21; - la figure 23 est une représentation schématique qui illustre des formes d'ondes de la tension de grille d'impulsion et du courant de drain - la figure 24 est une représentation schématique pour expliquer le retard de réponse transitoire du courant de drain par rapport à la tension de grille d'impulsion dans le FET à grille à retrait selon l'état de la technique ; et - la figure 25 est une représentation schématique pour expliquer le retard de réponse transitoire du courant de drain par rapport à la tension de grille d'impulsion dans le FET planar de l'état de la technique. La figure 1 est une vue en coupe illustrant un FET planar selon un premier mode de réalisation de la présente invention. A la figure 1, les mêmes numéros de référence qu'à la figure 19 sont utilisés pour désigner les mêmes parties ou les parties correspondantes. Le numéro de référence 30 désigne une électrode de grille de WSi ayant une contrainte de compression F3 au substrat de GaAs (100) 1. Le numéro de référence 8 désigne une couche de SiON sujette à une tension de traction F8 exercée sur le substrat 1 de GaAs (100). Les opérations de procédé pour fabriquer le FET selon la figure 1 sont fondamentalement identiques aux opérations de procédé conventionnelles, représentées aux figures 20(a) à 20 (e) à l'exception du fait que les conditions de la pulvérisation cathodique telle que la pression de gaz et la puissance d'application de gaz, pour former l'électrode de grille de WSi 30, et les conditions de croissance sur la couche de SiON 8 par du CVD de plasma sont optimalisées pour produire les contraintes ou tensions de compression F3 et les contraintes de traction F8. Plus spécifiquement, l'électrode de grille 30 avec la tension de compression F3 au substrat 1 est achevée par réduction de la pression de gaz pendant la pulvérisation cathodique. Dans les modes de réalisation de la présente invention, qui seront décrits ci-après, la direction de grille, perpendiculaire à ce papier est [0/1/1], et la surface (011) est exposée à la section transversale. Quand la contrainte ou tension de compression F3 de l'électrode de grille de WSi 30 et la tension de traction F8 de la couche de SiON 8 sont établies comme illustrées à la figure 1, une tension importante comprenant les tensions de compression F3 et la tension de traction F8 sont appliquées à chacune des extrémités inférieures opposées de l'électrode de grille 30 dans la direction de l'électrode ohmique 6 ou 7. Dans ce cas, les charges piézo-électriques avec une distribution à haute densité sont produites au voisinage de l'extrémité de l'électrode de grille où la tension est appliquée, et des charges piézo-électriques positives sont produites dans la région du côté de l'électrode de grille 30. Plus spécifiquement, lorsque la tension composite, à savoir F3 + F8, est de 3E5 dyne/cm, les charges piézo-électriques positives sur 5E17 cm-3 sont engendrées dans la région 4 de GaAs du type n d'une concentration relativement faible. Cette densité des charges piézo-électriques positives est approximativement égale à la densité de donneurs maximal obtenue par l'implantation d'ions pour la formation des régions 4 de concentration relativement faible sous la condition que des ions de Si soient implantés à une énergie de 50 KeV et à un dosage de 2E12 cm-2. Dans ce cas, l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface dans la région 4 est d'environ 70% de celle du cas où les charges piézo-électriques sont absentes. La réduction de l'épaisseur de la couche d'appauvrissement réduit le rétrécissement de canal et supprime le temps de montée d'impulsion du courant de drain. Les valeurs numériques de la figure 1 indique des quantités normalisées des charges électriques engendrées au voisinage de l'électrode des grille 30, et les valeurs négatives indiquent les quantités des charges piézoélectriques négatives. Supplémentairement, la longueur de grille est de 1.0 llm, l'épaisseur de grille est de 3000 A, et la tension est de 6E9 dyne/cm2. La figure 2 est une vue en coupe illustrant un FET planar selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 2, les mêmes numéros de références et caractères que sur la figure 1 désignent les mêmes éléments ou des éléments correspondants. Le numéro de référence 9a désigne des parois latérales de SiO ayant chacun une tension de traction F9 exercée sur le substrat 1. Le numéro de référence 10 désigne une couche de SiON servant de couche de passivation et ayant une contrainte ou tension de compression F10 appliquée au substrat 1. On donnera une description du procédé de fabrication. Des opérations de procédé jusqu'a la formation du transistor sont fondamentalement identiques aux opérations de procédé conventionnelles, illustrées aux figures 20(a) à 20(e), à l'exception du fait que l'électrode de grille 20 est formée par pulvérisation cathodique dans les conditions décrites plus haut, pour engendrer la tension de compression F3. Après avoir terminé la structure de la figure 20(e), la couche de SiO 19 ayant une tension de traction s'exerçant sur le substrat 1 est formée sur la surface entière de la plaquette par du CVD de plasma (figure 3(a)). Puis la couche de SiO 19 est anisotropicalement attaquée par attaque par ions réactifs utilisant un mélange de gaz de CHF3 + 02, en formant les parois latérales de SiO 9a ayant des tensions de traction F9 aux côtés opposés de l'électrode de grille WSi 30 (figure 3(b)). Finalement, la couche de SiON ayant une tension de compression est déposée sur la structure pour compléter le FET selon la figure 2. Au cours de l'opération de procédé selon la figure 20(d), les parois latérales de SiO 9 utilisées comme masque pour la formation des régions 4 de GaAs du type n de faible concentration d'ions sont une fois enlevées parce que le processus de recuisson subséquent à 8000C réduit la tension des parois latérales et provoque une réaction défavorable entre les parois latérales et le substrat de GaAs. Dans ce second mode de réalisation, après avoir terminé la structure du transistor, comme cela est montré à la figure 20(e), les parois latérales SiO 9a sont à nouveau formées comme cela est montré sur les figures 3(a)-3(b). Dans ce second mode de réalisation de la présente invention, la concentration des charges piézo-électriques produites dans le substrat de GaAs sur chaque côté de l'électrode de grille WSi 30 est égale à la somme de la concentration des charges piézo-électriques engendrée par une tension de synthèse comprenant les tensions de compression F3 de l'électrode de grille de WSi 30 et les tensions de traction F9 des parois latérales 9a, lesquelles tensions F3 et F9 se concentrent à l'extrémité inférieure de l'électrode de grille et la concentration des charges piézo-électriques produites par la tension composite ou de synthèse comprenant les tensions de traction F9 de la paroi latérale 9a et la tension de compression SiON 10, lesquelles contraintes F9 et F10 sont concentrées à l'interface entre la parois latérale 9a et la couche ou film de SiON 10. Cette concentration de charges piézo-électriques augmente avec la diminution dans l'espace entre les deux points de concentration de tension, i.e., la partie d'extrémité inférieure de l'électrode de grille 3 de WSi et l'interface entre la paroi latérale 9a et la couche de SiON 10. Comme les charges piézo-électriques négatives sont produites dans le substrat de GaAs en-dessous de l'interface entre la paroi latérale 9a et la couche de SiON 10, lesquelles charges piézo-électriques étendent la couche d'appauvrissement en surface, la largeur de la paroi latérale 9a est désirée être approximativement égale à la largeur de la région 4 de GaAs du type n à faible concentration d'ions. Dans ce cas, les charges piézoélectriques négatives sont produites à l'intérieur de la région 5 de GaAs du type n à concentration d'ions élevée et n'affectent pas indéfavorablement la couche d'appauvrissement en surface. Dans ce second mode de réalisation, les charges piézoélectriques avec une concentration deux fois plus élevée que celle du premier mode de réalisation sont produites lorsque les tensions appliquées aux points de concentration de tensions respectives sont égales les unes aux autres, grâce à quoi l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface est réduite. Lorsque les charges piézo-électriques positives à concentration élevée sont produites dans le substrat de GaAs au côté de l'électrode de grille de WSi 30, comme cela est décrit à l'occasion du premier mode de réalisation, des charges piézo-électriques négatives sont produites dans la couche active 2 en-dessous de l'électrode de grille de WSi 30. Ces charges piézo-électriques négatives recouvrent partiellement les charges piézo-électriques négatives qui sont produites par les tensions appliquées à l'extrémité opposée de l'électrode de grille, en produisant ainsi des charges piézo-électriques négatives à forte concentration dans la couche active 2, qui affecte négatives produites dans la couche active 2 en-dessous de l'électrode de grille de Wsi 30, en raison de la tension ou contrainte appliquée à la partie d'extrémité de l'électrode de grille de WSi 30, sont éliminées par des charges piézoélectriques positives produites dans la couche active 2 en raison de la tension appliquée à l'interface entre la paroi latérale 9a et la couche de SiON 10, ce qui réduit les influences sur les caractéristiques de transistor. La figure 4 est une vue en coupe qui illustre un FET planar selon un troisième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 4, les mêmes numéros de référence et caractères comme sur la figure 1 désignent les mêmes éléments ou les éléments correspondants. Le numéro de référence îîa désigne des secondes parois latérales de SiN, dont chacune à une tension de compression F11. Le numéro de référence 13 désigne une mince couche ou film de SiON ayant une contrainte compressive inférieure à 1E19 dyne/cm2. On donnera maintenant une description du procédé de fabrication. Les opérations de procédé jusqu'à la formation des parois latérales 9a sont identiques aux opérations de procédé décrites plus haut et illustrées sur les figures 20(a)-20(e) et 3(a)-3(b). Après la formation des premières parois latérales 9a sur les côtés opposés de l'électrode de grille de WSi 30, une couche de SiN 11 ayant une contrainte de compassion est déposée sur la plaquette par CVD par plasma (figure 5(a)). Puis la couche de SiN 11 est anisotropiquement attaquée par attaque par ions réactifs en utilisant un mélange de gaz de CFH3 et 02 pour réaliser les secondes parois latérales lîa sur les côtés opposés des premières parois latérales 9a. Enfin la couche de SiON avec une contrainte de compression inférieure à lElO dyne/cm2 est déposée sur la structure, pour compléter le FET de la figure 4. Dans ce troisième mode de réalisation, étant donné que les secondes parois latérales îîa ont chacune la contrainte de compression F11 et sont adjacentes aux premières parois latérales 9a, la concentration des charges piézo-électriques positives produites dans le substrat de GaAs à chaque côté de l'électrode de grille de WSi est égale à la somme de la concentration des charges piézo-électriques positives produite par la contrainte de synthèse ou composé comprenant les contraintes de compression F3 de l'électrode de grille de WSi 30 et la contrainte de traction F9 de la paroi latérale 9a et de la concentration des charges piézo-électriques positives engendrée par la contrainte de synthèse comprenant la contrainte de traction F9 de la paroi latérale 9a et la contrainte de compression F11 de la couche de SiN îîa, lesquelles contraintes F9 et F11 sont concentrées entre la première paroi latérale 9a et la seconde paroi latérale îîa. De ce fait, les charges piézo-électriques avec une concentration deux fois plus élevée que celle du premier mode de réalisation sont produites, en réduisant l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface. Supplémentairement, les charges piézo-électriques négatives produites dans la couche active 2 en-dessous de l'électrode de grille de WSi 30 en raison de la contrainte appliquée à la partie d'extrémité de l'électrode de grille de WSi 30 sont supprimées par des charges piézo-électriques positives produites dans la couche active 2 en raison de la contrainte appliquée à l'interface entre la première paroi latérale 9a et la seconde paroi latérale îîa, en réduisant ainsi les influences des charges piézo-électriques négatives dans la couche active sur les caractéristiques de transistor. Quand les FET selon les premier et second modes de réalisation sont appliqués à des circuits intégrés à hyperfréquence monolithique (MMIC) ou analogue, les couches à contrainte élevée, à savoir les couches de SiON 8 et 10, s'écailleront ou casseront pendant le procédé de fabrication. Dans ce troisième mode de réalisation cependant, étant donné que la couche de SiON 13 à faible contrainte est utilisée comme couche de passivation, les problèmes susmentionnés sont évités. Additionnellement, étant donné que la couche de passivation à faible contrainte 13 ayant une contrainte de compression réduit les charges piézo-électriques dans la couche active en-dessous de l'électrode de grille 30, les influences des charges piézo-électriques négatives sur les caractéristiques de transistor sont réduites davantage. La figure 6 est une vue en coupe illustrant un FET planar selon un quatrième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 6, les mêmes numéros de référence et caractères comme sur les figures 2 désignent les mêmes éléments ou des éléments correspondants. Le numéro de référence îîa désigne une mince couche ou film de SiN ayant une contrainte de compression F12. Le numéro de référence 18 désigne un film ou mince couche de passivation de SiON, ayant une contrainte de traction F18. La couche de SiON 18 est partiellement en contact avec la surface de la région 5 de GaAs du type n à forte concentration. Une description sera donnée du procédé de fabrication. Les opérations de procédé jusqu'à la formation du transistor sont fondamentalement identiques aux opérations de procédé conventionnel, illustrées aux figures 20(a) à 20(e), à l'exception de la condition pour la formation de l'électrode de grille 30. Après avoir complété le FET planar comme cela est montré à la figure 20(e), la couche de SiON 12 ayant une contrainte de compression est déposée sur la plaquette par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) par plasma (figure 7(a)). Puis, un photorésiste (non représenté) est déposé sous forme d'un motif pour ouvrir une portion opposée à l'électrode de grille de WSi 30 et des portions du substrat aux deux côtés de l'électrode de grille. Ensuite, en utilisant le motif de photorésiste comme masque, la couche de SiN 12 est anisotropiquement attaquée par attaque par ions réactifs en utilisant un mélange de gaz de CHF3 et 02. Après le processus d'attaque, des portions de la couche SiN 12, qui restent sur les surfaces latérales opposées de l'électrode de grille de WSi 30 sont enlevées par attaque en milieu liquide en utilisant du BHF (tampon : acide fluorhydrique = 30/1), suivi par l'enlèvement du motif de photorésiste. On obtient des films de SiN 12a sur les régions 5 de GaAs de type n à concentration d'ions élevés. Au cours de l'attaque en milieu liquide, la vitesse d'attaque de la couche de SiN 12 restant sur les surfaces latérales opposées de l'électrode de grille, à l'égard du BHF, est environ dix fois plus élevée que celle de la couche de SiN 12 restant sur la surface plate du substrat, de façon que la couche de SiN 12 masquée par le motif de photorésiste soit à peine attaquée par l'attaque en milieu liquide. Enfin, la couche de SiON 18 ayant une contrainte de traction F18 est déposée sur la structure, pour compléter le FET de la figure 6. Selon le quatrième mode de réalisation de la présente invention, le FET comprend l'électrode de grille 30 ayant des contraintes de compression F3, les couches de SiN 12a ayant la contrainte de compression F12, disposées sur des régions, à l'exception de la proximité de l'électrode de grille 30, et la couche de SiON 18 ayant la contrainte de traction F18, disposée sur le substrat, y compris la proximité de l'électrode de grille 30. De ce fait, la concentration des charges piézo-électriques positives produites dans le substrat de GaAs à chaque côté de l'électrode de grille WSi 30 est égale à la somme de la concentration des charges piézo-électriques positives produites par la contrainte de synthèse comportant les contraintes de compression F3 de l'électrode de grille WSi 30 et la contrainte de traction F18 de la couche de SiON 18, et de la concentration des charges piézo-électriques positives engendrée par la contrainte de synthèse comportant la contrainte de traction F18 de la couche de SiON 18 et la contrainte de compression F12 de la couche de SiN 12a, lesquelles contraintes F18 et F12 sont concentrées à l'interface entre la couche de SiON 18 et la couche de SiN 12a. De ce fait, les charges piézo-électriques avec une concentration deux fois plus élevée que celle du premier mode de réalisation sont produites, ce qui permet une réduction de la couche d'appauvrissement en surface. Additionnellement, les charges piézo-électriques négatives engendrées dans la couche active 2 en-dessous de l'électrode de grille de WSi 30, en raison de la contrainte appliquée à la partie d'extrémité de l'électrode de grille de WSi 30, sont supprimées par des charges piézo-électriques positives engendrées dans la couche active 2 en raison de la contrainte appliquée à l'interface entre la couche de SiON 18 et la couche de SiN 12a, pour réduire l'influence des charges piézo-électriques négatives dans la région active, sur les caractéristiques de transistor. La figure 8 est une vue en coupe, montrant un FET planar selon un cinquième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 8, les mêmes numéros de référence et caractères comme sur la figure 1 désignent les mêmes éléments ou les éléments correspondants. Le numéro de référence 14 désigne un film ou une couche de SiO ayant une contrainte de compression, disposé sur l'électrode de grille de WSi 30. Le caractère de référence F31 désigne une contrainte de synthèse comprenant les contraintes de compression de l'électrode de grille 30 et de la couche de SiO 14. On donnera ci-après une description du procédé de fabrication. L'opération de procédé pour former la couche active est identique à l'opération conventionnelle représentée sur la figure 20(a). Après la formation de la couche active 2, un film de WSi est déposé sur la surface entière de la couche active par pulvérisation cathodique et ensuite un film de SiO ayant une contrainte de compression est déposé là dessus, par CVD par plasma. Ensuite, un photorésiste est déposé sous forme d'un motif sur le film de SiO. En utilisant le motif de photorésiste comme masque, le film de SiO est attaqué par attaque par ions réactifs, en utilisant un mélange de gaz de CHF3 + 2 et le film de WSi est attaqué par attaque par ions réactifs utilisant un mélange de gaz de SF6 et de CHF3, pour établir une structure à deux couches, comprenant l'électrode de grille de WSi 30 et le film de SiO 14 (figure 9). Des opérations de procédé subséquentes, pour compléter la structure de la figure 8, sont fondamentalement identiques aux opérations conventionnelles illustrées sur les figures 20(c) à 20(e), à l'exception du fait que le film de SiO 14 est présent sur l'électrode de grille WSi 30. Selon le cinquième mode de réalisation de la présente invention, les contraintes appliquées à l'extrémité inférieure de l'électrode de grille WSi 30 comprend la contrainte de traction F8 du film SiON 8 et la contrainte de synthèse F31, qui comprend les contraintes de compression de l'électrode de grille 30 et de film ou de la mince couche 14 de SiO. Additionnellement, étant donné que la contrainte F8 est approximativement égale au produit de la contrainte S du film ou de la couche mince 8 de SiO et de l'épaisseur t du film SiON 8 sur la surface latérale de l'électrode de grille 30, à savoir F8 = S x t, la contrainte F8 augmente en comparaison avec celle du premier mode de réalisation. La contrainte ainsi accrue appliquée à l'extrémité inférieure de l'électrode de grille produit des charges piézo-électriques d'une concentration plus élevée, ce qui a pour effet une réduction supplémentaire de la couche d'appauvrissement en surface. La figure 10 est une vue en coupe, qui montre un FET planar selon un sixième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 10, les mêmes numéros de référence et caractères comme sur la figure 8 désignent les mêmes éléments ou les éléments correspondants. Le numéro de référence 9b désigne des parois latérales de SiO ayant chacune une contrainte de traction F9. Le numéro de référence 10 désigne un film ou couche mince de SiON ayant une contrainte de compression F10. On donnera la description du procédé de fabrication. Après la formation de la structure à deux couches, qui comprend la grille de WSi 3 et le film SiO 14 sur la couche active 2, comme cela est représenté à la figure 9, l'implantation d'ions est effectuée selon les opérations de procédé conventionnel de la figure 20(c) à 20(d), pour former des régions 4 de GaAs du type n à concentration d'ions relativement faible et les régions 5 de GaAs du type n de concentration d'ions relativement élevée. Ensuite, comme cela est illustré à la figure 11, le film de SiO 22 ayant une contrainte de traction est déposée sur la surface entière du substrat par la méthode du type CVD par plasma. Puis, le film SiO 22 est anisotropiquement attaqué par attaque par ions réactifs en utilisant un mélange de gaz de CHF3 et 02, pour former les parois latérales 9a sur les côtés opposés de la structure à deux couches. Ensuite, un film de SiON 10 ayant une contrainte compressive F10 est déposée sur la structure par CVD par plasma, pour compléter le FET de la figure 10. Selon le sixième mode de réalisation de la présente invention, la contrainte appliquée à chacune des extrémités inférieures opposées de l'électrode de grille de WSi 30 comprend la contrainte de synthèse F31 comprenant les contraintes de compression de l'électrode de grille de WSi 30 et du film SiO 14, la contrainte de traction F9 de la paroi latérale de SiO 9b et la contrainte de compression F10 du film de SiON 10. Dans ce cas, les contraintes F9 et F10 sont plus grandes que celles du second mode de réalisation pour des raisons décrites à l'occasion du cinquième mode de réalisation, ce qui augmente la contrainte appliquée à l'extrémité inférieure de l'électrode de grille 30. De ce fait, dans ce sixième mode de réalisation, des charges piézoélectriques d'une concentration encore plus élevée sont produites, ce qui procure une réduction encore plus importante dans la couche d'appauvrissement en surface. La figure 12 est une vue en coupe illustrant un FET à grille en retrait selon un septième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 12, les mêmes numéros de référence que sur la figure 21 désigne les mêmes parties ou les parties correspondantes. Le numéro de référence 15 désigne une couche de GaAs du type n ayant un creux. Le numéro de référence 17a désigne des parois latérales SiON ayant chacune une contrainte de compression, qui sont disposées sur les surfaces internes opposées du creux. Le numéro de référence 13 désigne un film de SiON ayant une contrainte inférieure à lE19 dyne/cm2. On donnera une description du procédé de fabrication. Les opérations de procédé jusqu'à l'opération illustrée à la figure 13(a) sont identiques aux opérations de procédé conventionnelles illustrées aux figures 2(a) à 2(d). Après avoir terminé la structure de la figure 22(d), un film de SiON 17 ayant une contrainte de compression est déposé par CVD par plasma (figure 13(a)). Ensuite, le film de SiON 17 est anisotropiquement attaqué par attaque par ions réactifs en utilisant un mélange de gaz CHF3 et 02, pour former les parois latérales 17a sur les surfaces intérieures opposées de la zone en retrait (figure 13(b)). Différemment du FET planar, aucune paroi latérale n'est formée sur les côtés opposés de l'électrode de grille 16 parce que l'électrode de grille 16 formée par des techniques de dépôt et d'arrachement présente une forme trapézoïdale. Enfin, un film de SiON 13 ayant une contrainte inférieure à 1E10 dyne/cm2 est déposée sur la surface entière, par la méthode de CVD par plasma, pour compléter la structure de la figure 12. Dans ce FET à grille en retrait, puisque les parois latérales 17a ayant chacune une contrainte de compression sont disposées sur les surfaces internes opposées de la zone en retrait, des charges piézo-électriques positives sont produites dans la couche de GaAs du type n 15 à proximité des extrémités inférieures opposées de l'électrode de grille 16, comme cela est montré sur la figure 12, ce qui permet de réduire l'épaisseur de la couche d'appauvrissement en surface. La figure 14 est une vue en coupe montrant un FET planar selon un huitième mode de réalisation de la présente invention. Dans les premier à septième modes de réalisation décrits ci-dessus, les charges piézo-électriques positives à forte concentration sont produites dans le substrat GaAs à proximité des extrémités inférieures opposées de l'électrode de grille, pour augmenter la concentration de donneurs effectifs, qui réduit l'épaisseur de couche d'appauvrissement en surface. Dans ce huitième mode de réalisation, différemment des modes de réalisation un à sept, la couche d'appauvrissement produite dans une région entre le point de pincement à l'état de transistor bloqué et la région de GaAs du type n à forte concentration d'ions est contrôlée par une barrière de Schottky, pour supprimer le rétrécissement de canal en raison de la couche d'appauvrissement en surface. Cela signifie, comme cela est illustré à la figure 14, que la région 50 de GaAs du type n à forte concentration est plus proche de l'électrode de grille 3 avec la profondeur de la région s'étendant à partir de la surface de substrat. Les figures 15(a) à 15(g) illustrent des opérations de procédé pour fabriquer le FET de la figure 14. Initialement, comme cela est illustré à la figure 15(a), une zone active de GaAs de type n 2 est formée dans un substrat de GaAs semi-isolant 1 par implantation d'ions. Puis, du WSi est déposé sur le substrat par pulvérisation cathodique et on forme un motif par attaque par ions réactifs en utilisant un motif de photorésiste (non représenté) comme masque, pour former l'électrode de grille de WSi 3 (figure 15(b)). Ensuite, un film de SiN 20 d'une épaisseur de 200 A est déposé pour ajuster le point d'implantation d'ions. En utilisant l'électrode de grille de WSi comme masque, des ions de Si sont implantés à une énergie de 50 KeV et à un dosage de 1E12 cm-2 dans la direction perpendiculaire à la surface du substrat, pour former des régions 4 de GaAs du type n d'une concentration d'ions relativement faible (figure 15(c)). Comme cela est illustré à la figure 15(d), un film de SiO 39 est déposé sur le substrat et ensuite il est anisotropiquement attaqué par attaque par ions réactifs, en utilisant un mélange de gaz de CHF3 et 02, pour former des parois latérales SiO 9 sur les côtés opposés de l'électrode de grille de WSi 3. En utilisant l'électrode de grille de WSi 3 avec les parois latérales 9 comme masque, des ions de Si sont implantés à une énergie de 60 KeV et à un dosage de 1,5E13 cm2, obliquement selon un angle de 600 par rapport à la surface du substrat. Il suit l'enlèvement des parois latérales 9 en utilisant du BHF et en recuisant à 8000C pendant 30 minutes, pour former des régions 50 de GaAs du type n ayant une concentration d'ions relativement élevée. Etant donné que les parois latérales 9 agissent défavorablement sur le substrat de GaAs pendant la recuisson à 8000, pour détériorer les caractéristiques du FET, les parois latérales 9 doivent être enlevées avant le processus de recuisson. Après, les électrodes de source et de drain 6 et 7, qui comprennent du AuGe/Ni/Au sont formées à l'aide des techniques conventionnelles de dépôt et d'arrachement (figure 15(f)). Enfin, un film de SiN 21 servant de film de passivation est déposé sur le substrat, pour compléter le FET de GaAs planar montré sur la figure 15(g). Dans ce huitième mode de réalisation, puisque les régions 50 de GaAs du type n ayant une concentration d'ions relativement élevée sont formées par implantation oblique d'ions, la couche d'approvisionnement créée dans la région entre le point de pincement et la région 50 de GaAs de type n est placée en dessous de la barrière de Schottky de l'électrode de grille 3 et influencée par la barrière de Schottky, ce qui réduit le rétrécissement de canal en raison de la couche d'approvisionnement en surface. La figure 16 est une vue en coupe illustrant un FET planar selon un neuvième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 16, les mêmes numéros de référence que sur la figure 14 désignent la même partie correspondante. Dans ce neuvième mode de réalisation, les régions 40 de GaAs du type n d'une concentration d'ions relativement faible sont formées par implantation oblique d'ions de façon que les portions d'extrémité inférieures de celles-ci soient disposées en dessous de l'électrode de grille 3. Un procédé pour fabriquer le FET de la figure 16 est illustré aux figures 17(a)-17(g). Les opérations de procédé illustrées aux figures 17(a)17(g) sont fondamentalement identiques aux opérations de procédé représentées aux figures 15(a)-15(g), à l'exception de l'opération de la figure 17(c). Dans l'opération de la figure 17(c), des ions de Si sont implantés à une énergie de 50 KeV et à un dosage de 1E12 cm-2, de façon oblique à un angle de 600 par rapport à la surface du substrat, pour former des régions 40 de GaAs du type n d'une concentration d'ions relativement faible, les portions d'extrémité inférieures de celles-ci étant placées en dessous de l'électrode de grille 3. Selon ce neuvième mode de réalisation de l'invention, et puisque les deux régions 4 de concentration d'ions relativement faible et les régions 50 de concentration d'ions relativement élevée sont formées par implantation oblique d'ions, le point de pincement entre l'électrode de source 6 et l'électrode de drain 7 se rapproche de l'électrode de source 6, par quoi la réduction dans la couche d'approvisionnement en surface au temps de grille débloquée fait suite effectivement à la réduction de la couche d'approvisionnement en dessous de l'électrode de grille. La figure 18 est une vue en coupe montrant un FET planar selon un dixième mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 18, les mêmes numéros de référence que sur la figure 16 désignent les mêmes parties ou les parties correspondantes. Dans le neuvième mode de réalisation décrit ci-dessus, le rétrécissement de canal est supprimé à la fois du côté de la source et du côté du drain. Dans ce cas cependant, la portion de la région de faible concentration d'ions 4 placée en dessous de l'électrode de grille au côté de source augmente la capacité grille-source. De ce fait, dans ce dixième mode de réalisation, pendant l'implantation oblique d'ions, l'angle d'implantation d'ions et la quantité à partir du côté de source sont réduits pour que la région 40a de GaAs de type n ayant une faible concentration d'ions du côté source devienne plus étroite que la région 40 de GaAs de type n de faible concentration d'ions du côté drain, grâce à quoi la portion de la région 40a de GaAs de type n du côté source en dessous de l'électrode de grille 3 est réduite. De ce fait, la capacité source-drain est effectivement réduite. Bien que dans les modes de réalisation 1 à 10, la direction de grille est [0/1/1], la direction de grille peut être [0/11]. Dans ce cas, les directions des contraintes décrites dans ces modes de réalisation sont inversées pour changer les contraintes de compression en contraintes de traction et les contraintes de traction en contraintes de compression, grâce à quoi les mêmes effets que ceux décrits sont obtenus. REVENDICATIONS 1.Transistor à effet de champ, caractérisé en ce qu'il comprend une électrode de grille de Schottky (3) disposée sur une zone active (2) formée dans un substrat semi-conducteur composé (1) et des régions de concentration d'impuretés relativement élevée (50) disposées sur des côtés opposés de ladite région active (2), et en ce que des parties d'extrémité des zones de concentration d'impuretés relativement élevée (50) sont placées plus proche de l'électrode de grille (2), avec la profondeur allant dans la direction de l'épaisseur du substrat. 2.Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des régions de concentration d'impuretés relativement faible (40) respectivement disposées entre la zone active (2) et les régions de concentration d'impuretés relativement élevée (50), et en ce que des portions d'extrémité de ladite zone de concentration d'impuretés relativement faible (40) sont placées en-dessous de l'électrode de grille et augmentent avec la profondeur dans la direction de l'épaisseur du substrat. 3.Transistor à effet de champ selon la revendication 2, caractérisé en ce que la région de concentration d'impuretés relativement faible (40) sur le côté de source comporte une portion d'extrémité qui est moins en-dessous de l'électrode de grille (30) que la zone de concentration d'impuretés relativement faible (40) du côté du drain. 4. Procédé pour fabriquer un transistor à effet de champ, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations de réaliser une électrode de grille sur une zone active formée dans un substrat semi-conducteur composé réaliser des parois latérales aux côtés opposés de ladite électrode de grille ; et implanter des ions d'impuretés dans le substrat obliquement par rapport à la surface du substrat, en utilisant l'électrode de grille avec les parois latérales comme masque pour former des zones dopées d'impuretés aux deux côtés de ladite zone active, de façon que des portions d'extrémité des régions dopées d'impuretés se trouvent plus proches de l'électrode de grille, avec la profondeur dans la direction de l'épaisseur du substrat. 5.Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'il comprend, avant de former les parois latérales, les opérations d'implanter des ions d'impuretés dans le substrat, obliquement par rapport à la surface du substrat, en utilisant l'électrode de grille comme masque pour réaliser des régions de concentration d'ions relativement faible aux deux côtés de ladite zone active, et en ce que les zones d'extrémité des régions de concentration d'ions relativement faible sont disposées en-dessous de l'électrode de grille et augmentent avec la profondeur dans la direction de l'épaisseur du substrat. 6.Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que l'implantation des ions pour former les régions de concentration d'ions relativement faible est exécutée tout en contrôlant les conditions de façon que la région de concentration d'ions relativement faible sur le côté de la source ait une plus faible portion en-dessous de l'électrode de grille que la région de concentration relativement faible d'ions sur le côté du train.