FR 2704094 A1 19941021 FR 9304586 A 19930413 RESEAU DE DIODES MONOLITHIQUE La présente invention concerne la réalisation d'un réseau de diodes de protection. Dans de nombreuses configurations pratiques, on est amené à réaliser des réseaux de diodes de protection tels que celui illustré en figure 1A dans lequel des diodes Dl-1, D1-2, D1-3,... Dl-n ont des premières bornes Tl-1 T1-2, T1-3,... Tl-n, respectivement reliées à des lignes à protéger et une deuxième borne commune T2 reliée à un potentiel de référence tel que la masse ou à une autre ligne. Dans l'exemple représenté et dans la suite du texte, on considérera le cas o toutes les diodes ont une cathode commune mais il sera clair que le réseau symétrique dans lequel les anodes sont communes et les cathodes sont reliées individuellement à des lignes à protéger peut être réalisé de façon similaire. La façon la plus classique de réaliser sous forme de composant monolithique un réseau de diodes tel que celui de la figure 1A est illustrée en coupe en figure lB. Le réseau est réalisé sous forme d'un composant semiconducteur monolithique dans un substrat 1 de type N. A la surface du substrat 1 sont formées des régions de type de conductivité opposées Pi-1, P1-2, P1-3,... Pl-n. Du côté de la face inférieure du substrat 1 est formée une région de type N fortement dopée Ni. La face supérieure du composant est revêtue d'une couche isolante, clas- siquement une couche d'oxyde de silicium 2, et des métallisa- tions Ml-1, M1-2, M1-3,... Ml-n sont en contact avec chacune des régions Pi-1 à Pl-n. Une métallisation M2 est formée sur la face arrière en contact avec la zrégion Ni. Chacune des métal- lisations Ml-1 à Ml-n constitue l'anode de l'une des diodes D1 à Dn et la métallisation de face arrière M2 constitue la cathode commune de toutes ces diodes. Classiquement, le composant est monté, par exemple par brasure, sur une embase métallique 3. Cnomme le représente très schématiquement la figure lC, en vue de dessus, de façon usuelle, l'embase métallique 3 sur laquelle est monté le composant 1 fait partie d'une grille de connexion. Cette grille est une plaque métallique découpée de façon appropriée pour comprendre 1'emabase 3, des languettes Tl-1 à Tl-n+2 formant cosses de connexion (marquées par des hachures dans la figure) et des éléments de liaison (marqués par des cercles dans la figure) uniquement destinés à assurer le maintien mécanique de la grille pendant la phase de connexion. Cette phase de connexion consiste à relier par un fil W, couram- ment un fil d'or, chacune des plages de métallisation Mi-1 à Ml-n de la puce à une extrémité d'une languette formant cosse T1 à Tl-n. Les deux dernières cosses Tl-n+l et Tl-n+2 constituent des prolongements de 1'embase 3. En effet, les machines de soudage de fil entre deux points (une cosse et une métal-25 lisation) sont des machines très sophistiquées et très précises et il s'avère très difficile de régler ces machines pour qu'elles effectuent certaines soudures entre des points à un niveau de dénivelé déterminé (une cosse et la surface supérieure d'une puce) et des points à un autre niveau de dénivelé ou au même niveau (une cosse et l'embase). Une fois une puce soudée à l'embase d'une grille de connexion et ses plages de métallisation reliées par des fils d'or à des éléments formant cosse de cette grille, la puce est noyée dans de la matière plastique, par exemple selon le contour marqué par le trait en pointillés 5 de la figure lC, puis les éléments de liaison entre cosses de la grille de connexion (régions marquées par des cercles en figure 1C) sont découpés et éliminés. La représentation de la figure 1C est très fortement schématique et uniquement destinée à illustrer le problème posé que la présente invention vise à résoudre. Le boîtier utilisé pourra en pratique être un boîtier à deux rangées de cosses tel qu'un boîtier S020. Pour des raisons qui se comprennent bien en regardant la vue de dessus de la figure 1C, le contact de cathode qui correspond à l'embase 3 est pratiquement inévitablement relié à des cosses extrêmes, par exemple la cosse Tl-n+2 et la cosse en regard. Ces bornes de cathode (une seule pourrait être prévue mais on en prévoit généralement deux) sont souvent reliées à la masse et, pour des raisons pratiques, l'utilisateur peut souhai- ter que ces bornes de masse soient situées au niveau de cosses particulières, par exemple la troisième cosse d'un côté et la septième de l'autre et non pas au niveau des cosses extrêmes (les cosses 10 et 20 ou 1 et 11 dans le cas d'un boîtier compre- nant dix cosses de chaque côté). La structure de la figure 1C se prête très mal à un tel montage. De plus, la technique de fabrication des composants semiconducteurs a beaucoup évolué au cours du temps. Alors que les diverses opérations d'implantation et de diffusion dans une puce de semiconducteur sont de manière théorique les opérations les plus complexes et celles qui confèrent sa fonction au compo- sant, l'ensemble de ces opérations (couramment appelées dans la technique opérations de FRONT END ou opérations initiales) est maintenant souvent moins coûteux que les opérations de montage de la puce et de mise en boîtier de celle-ci (couramment appe- lées dans la technique opérations de BACK END ou opérations finales). Il est maintenant souvent plus économique de rendre plus complexe la structure de diffusion dans le silicium pour simplifier le montage et l'on réduit alors le coût d'ensemble du composant. Ainsi, un objet de la présente invention est de pré- voir un composant monolithique constituant un réseau de diodes qui se prête simplement à des opérations de montage dans lesquelles la ou les bornes communes puissent simplement être associées à une cosse quelconque d'un bottier. Un autre objet de la présente invention est de prévoir un tel composant dans lequel la résistance série des diodes soit minimisée. Pour atteindre ces objets, la présente invention pré- voit un composant semiconducteur constituant un réseau de diodes de protection formées verticalement dans une plaquette semi- conductrice dont des premières électrodes sont disposées selon au moins une rangée sur une première face du composant. Ce composant comprend sur sa première face une région de contact s'étendant sensiblement sur la longueur de ladite rangée et sen- siblement au potentiel des deuxièmes électrodes desdites diodes correspondant à la face arrière du composant. En d'autres termes, la présente invention prévoit un composant semiconducteur formé dans une plaquette semiconductri- ce d'un premier type de conductivité comprenant une pluralité de premières zones du deuxième type de conductivité formées dans la face avant de la plaquette et revêtues de premières métallisa- tions; une deuxième zone du deuxième type de conductivité et une troisième zone du premier type de conductivité formées dans la face avant de la plaquette; une deuxième métallisation revé- tant les deuxième et troisième zones; une quatrième zone du premier type de conductivité formée dans la face arrière en face des premières et deuxième zones; une cinquième zone du deuxième type de conductivité formée dans la face arrière en face de la troisième zone; et une métallisation de face arrière. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les premières zones s'étendent selon au moins une ligne le long d'un bord du composant et les deuxième et troisième zones s'étendent au moins selon des lignes parallèles à la première ligne. Ces objets, caractéristiques et avantages ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: la figure 1A est un schéma d'un réseau de diodes de protection à cathode commune; la figure lB est une vue en coupe illustrant un mode de réalisation classique sous forme de composant monolithique du réseau de diodes de la figure 1A; la figure 1C est une vue de dessus du composant de la figure lB associé à une grille de connexion; la figure 2A représente une vue en coupe selon la ligne A-A de la figure 2B d'un mode de réalisation d'un réseau de diodes monolithique selon la présente invention; la figure 2B représente une vue de dessus selon le plan B-B de la figure 2A d'un composant selon la présente inven- tion; la figure 2C représente une vue de dessus du composant de la figure 2A muni de ses métallisations; la figure 2D représente une vue de dessus du composant de la figure 2A selon le plan D-D; et la figure 3 représente un schéma équivalent d'un composant selon la présente invention. Comme cela est usuel dans le domaine de la représenta- tion des composants semiconducteurs, les diverses vues ne sont pas à l'échelle et, en particulier dans les vues en coupe, les épaisseurs des diverses couches ont été tracées arbitrairement pour faciliter la représentation. Conmme le représente la vue en coupe de la figure 2A, un composant selon la présente invention est réalisé à partir d'un substrat semiconducteur 10, couramment du silicium, de type N faiblement dopé. Dans la face supérieure de ce substrat sont formées des régions diffusées Pl-1 à Pl-n de type P. Les niveaux de dopage des régions Pl-1 à Pl-n et du substrat 10 sont choisis pour obtenir des diodes à avalanche de tension de claquage choisie. Sous chacune des régions Pi-1 à Pl-n est formée à partir de la face inférieure du substrat une région N1 de type N fortement dopée. Les régions Pl-1 à Pl-n sont solidaires de métallisations Mi-1 à Ml-n et la face inférieure du substrat est solidaire d'une métallisation M2. Tel qu'il a été décrit jusqu'ici, le composant selon l'invention est identique au composant selon l'art antérieur illustré en figure lB. Le composant selon l'invention se distingue du composant antérieur par la prévision de couches supplémentaires et la configuration de ces couches. Plus particulièrement, la face supérieure du substrat comprend une région supplémentaire de type P, P2, et une région supplémentaire de type N, N2. L'ensemble des régions P2 et N2 est solidaire d'une métallisation M3. La région P2 s'étend en face d'une portion de la région Ni et la région N2 s'étend en face d'une région de type P, P3, formée dans la face inférieure du substrat. La métallisation M2 recouvre aussi cette portion de la région Ni et la région P3. Trois chemins relient dans le silicium la métallisa- tion M2 à la métallisation M3. Un premier chemin part de la ré- gion Ni vers la région P2 et constitue une diode dont la cathode est reliée à la métallisation M2 et l'anode à la métallisation M3. Cette diode est désignée par la référence D2 dans le schéma équivalent de la figure 3. Un deuxième chemin part de la région P3 vers la région N2 et constitue une diode dont l'anode est reliée à la métallisation M2 et la cathode à la métallisation M3. Cette diode est désignée par la référence D3 dans le schéma équivalent de la figure 3. Un troisième chemin est constitué par la résistance R correspondant à l'épaisseur de substrat (moins 1 'épaisseur de la couche N2). En conséquence, quelle que soit la façon dont le composant selon l'invention est connecté et quelle que soit la polarité des connexions, les métallisations M2 et M3 sont à des potentiels qui ne diffèrent que de la chute de ten- sion d'une diode connectée en direct (diode D2 ou D3). Ceci se voit bien dans le schéma de la figure 3. Ainsi, la structure représentée en figure 2A et le schéma équivalent de la figure 3 permettent d'obtenir entre l'une ou l'autre des métallisations Ml-i (i étant un entier compris entre 1 et n) et la métallisation M3 une diode de protection Dl-i en série avec une diode directe. Toutes les métallisations à connecter se trouvent sur la face supérieure d'une puce semiconductrice et la face inférieure de cette puce est non connectée. Il sera alors plus facile de connecter une grille de connexion aux métallisations Ml-1 à Ml-n et à la métallisation M3 puisque toutes ces métallisations se trouvent à un même niveau sur une même face d'un composant. Selon un autre aspect de la présente invention qui apparaît dans les vues de dessus des figures 2B à 2D, la métal- lisation M3 s'étend sur toute la longueur de la face supérieure de la puce, par exemple au centre de la puce si les métallisa- tions supérieures Ml-1 à Ml-n des diodes individuelles sont disposées le long de la périphérie de la puce. La figure 2B représente une vue de dessus prise selon la ligne B-B de la figure 2A, c'est-à-dire une vue de dessus du composant sans ses métallisations. Dans cet exemple, les régions Pi-1 à Pl-n sont disposées selon deux lignes parallèles sur les bords du composant, sensiblement de la façon représentée. Alors, la diffusion P2 est répartie en deux régions, éventuellement continues, dont l'une, P2-1, s'étend dans la partie droite de la figure et l'autre, P2-2, entre les deux lignes de régions Pl-1 à Pl-n. De même, la diffusion N2 est répartie en deux régions, l'une, N2-1, disposée entre les lignes de région Pi-1 à Pl-n et l'autre, N2-2, sur la droite de la figure. Cette structure est susceptible de nombreuses varian- tes de réalisation qui apparaîtront à l'homme de l'art. Notam- ment on pourra s'exempter des régions P2-1 et N2-1 pour laisser subsister les seules régions P2-2 et N2-2. La figure 2C représente une vue de dessus correspon- dant à la vue en coupe de la figure 2A dans laquelle apparais- sent seulement les métallisations. On voit que la métallisation M3 s'étend entre les deux lignes de métallisations Ml-1 à Ml-n et du côté droit de la figure. Cette extension du côté droit est optionnelle. On peut également prévoir optionnellement une autre métallisation du côté gauche avec des régions correspondantes, symétriques des régions P2-1 et N2-1. La figure 2D représente une vue de dessus selon la ligne D-D de la figure 2A, c'est-à-dire une vue de dessous retournée de la figure 2A sans la métallisation M2. La région Nl s'étend sensiblement sous toutes les régions Pl et P2 de la face supérieure et la région P3 s'étend sous les régions N2 de la face supérieure. Il existe ainsi une région P3-1 sous la région N2-1 et une région P3-2 sous la région N2-2. Cette disposition des couches supplémentaires P2, N2 et P3 et plus particulièrement de la métallisation M3 permet ensuite une mise en boîtier simple du composant de la présente invention car des connexions vers la métallisation M3 peuvent être faites vers une cosse quelconque sans compliquer le mon- tage. Ainsi, si l'on se réfère à la structure de boîtier de la figure 1D, l'une quelconque des cosses du boîtier pourra simple- ment être reliée par fil à la métallisation centrale M3 et 1 'on pourra à partir d'une même puce et d'une même structure de grille de connexion modifier simplement, au gré du client, les cosses qui sont connectées à la métallisation commune M3. A titre d'exemple, la présente invention a été mise en oeuvre dans une puce comprenant dix huit diodes de protection dans un boîtier S020. La puce avait des dimensions de 1,5 x 3 mm et une épaisseur de 0,35 mm. Les diodes avaient une tension de claquage de 10 volts. Tous les types de conductivité étaient inversés par rapport à oe qui a été décrit précédemment. Le substrat 10 était de type P avec un dopage de 1017 at. /cm3. Les concentrations de surface des couches Pl, P2, N2, P3 (de type N, N, P et N) étaient toutes de l'ordre de 1020 at./cm3. REVENDICATIONS 1. Composant semiconducteur intégrant un réseau de diodes de protection (Dl-l à Dl-n) formées verticalement dans une plaquette semiconductrice (10) dont des premières électrodes (Pl-1 à Pl-n) sont disposées selon au moins une rangée sur une première face du composant, caractérisé en ce qu'il comprend en outre sur ladite première face une région de contact (M3) s'étendant sensiblement sur la longueur de ladite rangée et sensiblement au potentiel des deuxièmes électrodes (M2) desdites diodes correspondant à la face arrière du composant.10 2. Composant semiconducteur formé dans une plaquette semiconductrice (10) d'un premier type de conductivité compre- nant: une pluralité de premières zones (Pl-1 à Pl-n) du deu- xième type de conductivité formées dans la face avant de la plaquette et revêtues de premières métallisations (Ml-1 à Ml-n), caractérisé en ce qu'il comprend en outre: une deuxième zone (P2) du deuxième type de conducti- vité et une troisième zone (N2) du premier type de conductivité formées dans la face avant de la plaquette;20 une deuxième métallisation (M3) revêtant les deuxième et troisième zones; une quatrième zone du premier type de conductivité (N1) formée dans la face arrière en face des premières et deuxième zones; une cinquième zone du deuxième type de conductivité (P3) formée dans la face arrière en face de la troisième zone; et une métallisation de face arrière (M2). 3. Composant semiconducteur selon la revendication 2, caractérisé en ce que les premières zones s'étendent selon au moins une ligne le long d'un bord du composant et en ce que les deuxième et troisième zones s'étendent au moins selon des lignes parallèles à la première ligne.