FR 2694449 A1 19940204 FR 9208502 A 19920709 Composant électronique multifonctions, notamment élément à résistance dynamique négative, et procédé de fabrication correspondant. L'invention concerne les structures semi-conductrices multi- fonctions, capables en particulier de fonction transistor, bipolaire et/ou à effet de champ, et/ou capables de présenter une résistance dynamique négative. On connaît des technologies existantes permettant de réaliser des transistors à effet de champ et bipolaire topologiquement séparés sur un substrat semi-conducteur On peut citer par exemple la technologie dite Bi CMOS, qui groupe sur la même pastille de silicium des transistors à grille isolée à canal N et P (transistor CMOS), associés par exemple à un transistor bipolaire NPN Ces transistors sont topologiquement séparés, car disposés côte à côte et complètement isolés les uns des autres. On connaît également, notamment par le brevet britanique n' 1 397 789, des composants électroniques capables de présenter une résistance dynamique négative, c'est-à-dire une configuration courant- e yaiu éaiecetàdr N oniuaincuat tension dans laquelle le courant décroît lorsque la tension augmente. Cependant, de tels composants sont réalisés à partir d'éléments discrets et n'offrent par conséquent pas de structure intégrée. Le brevet US N O 4 032 961 décrit une structure intégrée capable de présenter une résistance dynamique négative, qui incorpore un transistor bipolaire contrôlé par un transistor à effet de champ à jonction (transistor JFET) Par ailleurs, dans une telle structure, le contact d'émetteur se situe sur le substrat, ce qui la rend incompatible avec une technologie de fabrication CMOS/Bi CMOS, car dans ce cas, le substrat servirait d'émetteur commun pour tous les transistors fabriqués simultanément, et ceux-ci ne seraient alors plus isolés les uns des autres. On ne connaît pas actuellement de structure intégrée capable de réaliser une fonction de transistor à effet de champ à grille isolée, ou une fonction de transistor bipolaire, éventuellement contrôlé par le précédent, et/ou de présenter une résistance dynamique négative. L'invention vise à remédier à cette lacune. Un but de l'invention est de proposer un tel composant présentant une structure intégrée très compacte, nécessitant un nombre réduit de masques nécessaires à sa fabrication. L'invention a encore pour but de former un tel composant qui soit compatible avec des technologies de fabrication du type Bi CMOS. L'invention propose donc un composant électronique comprenant, topologiquement intégrées au sein d'une même structure semi- conductrice, une première zone semi-conductrice susceptible de former un transistor à effet de champ à grille isolée, et une deuxième zone semiconductrice, susceptible de former un transistor bipolaire latéral; les deux zones possèdent une couche semi-conductrice commune dans laquelle est susceptible de se former le canal du transistor à effet de champ ou de circuler le courant de base du transistor bipolaire; ces deux zones sont par ailleurs susceptibles de former ensemble une structure à résistance dynamique négative. Le transistor à effet de champ peut être à canal P, associé à un transistor bipolaire du type NPN, ou bien à canal N associé à un transistor bipolaire du type PNP. Selon un mode de réalisation de l'invention, la structure semi- conductrice comporte un bloc semi-conducteur supportant la grille saillante isolée du transistor à effet de champ; la couche semi- conductrice commune s'étend dans la partie supérieure du bloc sous la grille, tandis que le reste de la première zone, susceptible de former le transistor à effet de champ, s'étend de part et d'autre de ladite couche commune, et que la deuxième zone, susceptible de former le transistor bipolaire latéral, se situe partiellement dans la partie inférieure du bloc, décalée latéralement par rapport à la première zone. Ce composant comporte avantageusement un collecteur intrinsèque s'étendant dans la région inférieure du bloc jusqu'à une distance prédéterminée de la région d'émetteur du transistor bipolaire, en définissant ainsi l'épaisseur de la base du transistor bipolaire, qui peut être submicronique. Ce composant comprend de préférence un contact commun pour la base du transistor bipolaire et le drain du transistor à effet de champ, ainsi que des contacts distincts pour l'émetteur et le collecteur du transistor bipolaire et la source du transistor à effet de champ. Selon un mode de réalisation de l'invention, la structure semi- conductrice comporte: un substrat semi-conducteur ayant un premier type de conductivité, par exemple le type P. une couche isolante située sur une partie d'une première face du substrat, et supportant une première région semi-conductrice saillante, susceptible de former la région de grille du transistor à effet de champ, et ayant le premier type de conductivité, par exemple le type P+, une première paire de régions semi- conductrices, localisées au sein du substrat, de part et d'autre d'une première zone d'extrémité de la région saillante, susceptibles de former respectivement d'une part, la région de source et, d'autre part, la région de drain ou celle de base, et ayant le premier type de conductivité, par exemple le type P+, une deuxième paire de régions semi- conductrices, localisées au sein du substrat, de part et d'autre d'une deuxième zone d'extrémité de la région saillante, opposée à la première zone d'extrémité, susceptibles de former respectivement la région d'émetteur et celle de collecteur extrinsèque, et ayant un deuxième type de conductivité opposé au premier, par exemple le type N+, une couche enterrée semi-conductrice, ayant le deuxième type de conductivité, par exemple le type N, et s'étendant à distance de la première face du substrat en étant en contact avec la région de la deuxième paire susceptible de former le collecteur extrinsèque, et à distance de l'autre région de cette deuxième paire, susceptible de former l'émetteur, une première métallisation disposée au contact de la région de la première paire susceptible de former le drain ou la base, et au moins deux autres métallisations disposées respectivement au contact des deux régions de la deuxième paire ou au contact, d'une part, de la région susceptible de former la source et, d'autre part, de la région saillante susceptible de former la grille. La région saillante et les quatre régions des deux paires sont avantageusement surdopées, et les quatre régions des deux paires s'étendent de préférence depuis la première face du substrat jusqu'à la face opposée. Afin de minimiser les fuites de courant à travers le reste du substrat, il est particulièrement avantageux que le substrat de la structure semi-conductrice soit un substrat sur isolant. Un tel composant peut être utilisé en tant que transistor à effet de champ; dans ce cas, il comporte au moins trois contacts métalliques sur les régions de grille, source et drain. Dans une telle utilisation, il est particulièrement avantageux d'appliquer une tension de polarisation choisie sur la région de collecteur, munie dans ce cas d'un contact métallique; cette tension de polarisation choisie sera positive dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal P et négative dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal N. Un tel composant peut également être utilisé en tant que transistor bipolaire; dans ce cas, il comporte au moins trois contacts métalliques sur les régions de base, collecteur et émetteur. Dans une telle utilisation, il est particulièrement avantageux d'appliquer une tension de polarisation choisie sur la grille, munie également d'un contact métallique; cette tension de polarisation choisie sera négative dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal P et positive dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal N. Le composant selon l'invention peut également présenter une configuration de résistance dynamique négative; dans ce cas, il comporte des contacts métalliques sur les régions de grille, drain- base, collecteur et émetteur. On peut, dans une telle utilisation, alors que la jonction émetteur- base du transistor bipolaire est polarisée en direct, polariser la jonction collecteur-base en inverse tout en appliquant une polarisation choisie sur la grille pour dépléter au moins partiellement le canal du transistor à effet de champ. La résistance dynamique négative peut être obtenue à partir de la relation courant-tension collecteur. L'invention a également pour objet un procédé de fabrication d'une structure semi-conductrice susceptible d'intégrer un transistor à effet de champ à grille isolée et un transistor bipolaire latéral, dans lequel: a) on réalise, sur une première face d'un substrat semi- conducteur ayant un premier type de conductivité (par exemple le type P), une région saillante isolée, susceptible de former la région de grille du transistor à effet de champ et ayant également le premier type de conductivité, et, dans la partie inférieure du substrat, une couche enterrée ayant un deuxième type de conductivité, opposé au premier, et s'étendant dans une portion de la partie inférieure du substrat, au moins sous la région saillante, b) on implante dans le substrat, une première paire de régions semi-conductrices, localisées de part et d'autre d'une première zone d'extrémité de la région saillante, susceptibles de former respectivement, d'une part, la région de source et, d'autre part, la région de drain ou celle de base extrinsèque, ces deux régions semi- conductrices de cette première paire ayant également le premier type de conductivité (par exemple le type P+), c) on implante dans le substrat une deuxième paire de régions semi-conductrices ayant le deuxième type de conductivité, localisées de part et d'autre d'une deuxième zone d'extrémité de la région saillante, opposée à la première; l'une de ces régions, située à l'extérieur de la couche enterrée, est susceptible de former la région d'émetteur, l'autre région, située au contact de cette couche enterrée, étant susceptible de former la région de collecteur extrinsèque, et d) on métallise la région de la première paire susceptible de former drain ou base, et au moins les deux régions de la deuxième paire ou, d'une part, la région susceptible de former la source et, d'autre part, la région saillante susceptible de former la grille. Les étapes d'implantation des quatre régions des deux paires comportent avantageusement des surdopages, éventuellement graduels. Selon un mode de mise en oeuvre de l'invention, dans l'étape a) al) on implante au sein du substrat une région enterrée, s'étendant à distance de la première face du substrat et ayant le deuxième type de conductivité, par exemple le type N, a 2) on forme sur le substrat ainsi implanté, un empilement contenant une couche isolante surmontée d'une couche semi- conductrice ayant le premier type de conductivité, par exemple le type P, elle-même surmontée d'une couche supérieure (par exemple de nitrure de silicium) apte à former un masque d'implantation, a 3) on retire au moins une portion de cet empilement pour mettre à nu la portion correspondante de la première face du substrat et pour définir au moins un premier flanc ou borne de la région saillante, a 4) on effectue une implantation choisie de dopants de la structure ainsi obtenue pour délimiter ladite région enterrée et former ladite couche enterrée. Selon une variante de l'invention, on effectue ladite implantation choisie de la région enterrée, sensiblement perpendiculairement à la première face du substrat. Dans ce cas, postérieurement à l'étape a 4), on retire avantageusement une autre portion de l'empilement, pour mettre à nu la portion correspondante de la première face du substrat et pour définir le deuxième flanc ou borne de la région saillante, ce deuxième flanc étant opposé au premier; on dispose des régions latérales isolantes, ou espaceurs, au contact des deux flancs de la région saillante de grille, ces espaceurs ayant une largeur prédéterminée au niveau de la première face du substrat, et, dans l'étape c), on implante les deux régions de la deuxième paire de part et d'autre des régions latérales isolantes ou espaceurs. Dans l'étape b), on peut effectuer, dans une première zone d'implantation située de part et d'autre des espaceurs, et au voisinage de ladite première zone d'extrémité de la région saillante, une première implantation choisie de dopants pour surdoper (par exemple P+) ladite première zone d'implantation par rapport au substrat, puis on retire les espaceurs et on effectue, dans une deuxième zone d'implantation prolongeant la première jusqu'aux deux bornes de la région saillante, une deuxième implantation de même type que la première, ce qui permet d'obtenir les deux régions de la première paire avec un dopage non uniforme (P++, P+). Selon une autre variante de l'invention, on retire, dans l'étape a 3), une autre portion de l'empilement pour, d'une part, mettre à nu la portion correspondante de la première face du substrat et définir le deuxième flanc, ou borne de la région saillante, opposé au premier, et, d'autre part, faire déborder de la face supérieure de cette région saillante ladite couche de masque d'une distance prédéterminée, puis l'on effectue l'implantation choisie de l'étape a 4), pour délimiter la couche enterrée, selon une direction oblique, par rapport à la première face du substrat. On implante alors avantageusement les deux régions de la deuxième paire, susceptibles de former l'émetteur et le collecteur, en effectuant une implantation choisie de dopant sensiblement verticalement sur la structure munie du masque débordant fixé sur la grille. On réalise également avantageusement l'implantation des deux régions de la première paire, susceptibles de former le drain et la source, en effectuant une première implantation choisie de dopant sensiblement verticalement sur la structure munie du masque débordant fixé sur la grille, puis, après avoir retiré ce masque, on effectue une deuxième implantation choisie de dopant pour obtenir des régions ayant un dopage non uniforme (P+, P++). D'autres avantages et caractéristiques de l'invention apparaîtront à l'examen de la description détaillée ci-après et des dessins annexés, sur lesquels: la figure 1 est une vue de dessus schématique d'une structure intégrée selon l'invention, la figure 2 est la coupe schématique selon la ligne 11-I de la figure 1, la figure 3 est la coupe schématique selon la ligne III-III de la figure 1, les figures 4 a à 4 g illustrent un premier mode de mise en oeuvre du procédé de fabrication selon l'invention, permettant d'obtenir la structure illustrée sur les figures 1 à 3, les figures 5 a à 5 h illustrent un deuxième mode de mise en oeuvre du procédé de fabrication selon l'invention, permettant d'obtenir la structure semi- conductrice illustrée sur la figure 5 i, la figure 6 illustre de façon simplifiée une utilisation du composant selon l'invention en tant que transistor à effet de champ, la figure 7 illustre de façon simplifiée une utilisation du composant selon l'invention en tant que transistor bipolaire, et les figures 8 et 9 illustrent de façon simplifiée une utilisation du composant selon l'invention, capable de présenter une résistance dynamique négative. Sur la figure 1, la référence 1 désigne une structure semi- conductrice, comportant un bloc semi-conducteur 2 se composant d'un substrat 5 reposant sur un isolant 6 L'homme du métier comprendra donc immédiatement que la structure semi-conductrice est réalisée ici à partir d'un substrat sur isolant, communément désigné sous le vocable anglais SOI (silicon on insulator). Un tel substrat sur isolant minimise notamment les fuites locales de courant à travers le reste du substrat Néanmoins, il est possible d'utiliser un substrat massif de type P (par exemple), voire un substrat massif de type N dans lequel a été réalisé un caisson de type P. Le substrat 5, réalisé à base de silicium, a une largeur de l'ordre de 5 jlm, une longueur de l'ordre de 5 pm, et une épaisseur de l'ordre de 2000 Angstrôms. La première face, ou face supérieure, du substrat 5 du bloc semi- conducteur 2, supporte une couche isolante 4, par exemple en dioxyde de silicium, surmontée d'une région saillante 3 réalisée en silicium polycristallin surdopé P+, ayant le type de conductivité P (conduction par trous) Cette région saillante 3 comporte deux flancs latéraux, ou bornes, 7 et 8, et les références 9 et 10 désignent respectivement des première et deuxième zones d'extrémité de cette région saillante 3. Dans la partie inférieure du substrat 5, composé de silicium de type P se situe une couche enterrée 11 ayant le type de conductivité opposé, c'est-à-dire le type N (conduction par électrons) Cette couche enterrée 11, qui se situe à distance de la face supérieure du substrat, s'étend dans une portion seulement de la partie inférieure du substrat 5, à savoir sous la région saillante 3 en débordant celle-ci en direction de son flanc droit 8. De part et d'autre de la première zone d'extrémité 9 de la région saillante 3, se situent deux régions implantées 12 et 13, ayant le type de conductivité P Ces deux régions sont surdopées avec un surdopage non uniforme Plus précisément, la partie 17 de la région 12, située la plus proche de la région saillante 3, présente un surdopage de type P+ , c'est-à-dire une concentration de trous de l'ordre de 1018 cm-3, alors que la partie 16 de cette région 12, la plus éloignée de la région saillante 3, présente un surdopage de type P++, c'est-à-dire une concentration en trous de l'ordre de 1020 cm-3 On rappele ici qu'un dopage de type P correspond à une concentration en trous de l'ordre de 1016 cm-3. De façon symétrique, la région 13 comporte une partie 15 dopée P+ et une partie 14 dopée P++. Ces deux régions, formant une première paire, s'étendent depuis la face supérieure du substrat jusqu'à sensiblement la face inférieure. Dans ce mode de réalisation, la région 13 n'est pas en contact de la couche enterrée 11, alors que la région 12 l'est. De part et d'autre de la deuxième zone d'extrémité 10 de la région saillante 3, sont situées deux régions implantées 18 et 19 formant une deuxième paire Ces deux régions ont le type de conductivité N et sont avantageusement surdopées N+ Elles s'étendent toutes deux depuis la face supérieure du substrat jusqu'à sensiblement sa face opposée La région 19, située du côté de la borne gauche 7 n'est pas en contact avec la couche enterrée 11, et s'en situe à une distance prédéterminée w, dont on reviendra plus en détail ci-après sur la signification, et qui est avantageusement submicronique, typiquement de l'ordre de 0,1 grm. L'autre région 18 de cette deuxième paire, située du côté de la borne droite 8 de la région saillante, vient par contre au contact de la couche enterrée 11. Une telle structure est munie de métallisations qui vont permettre d'en définir les fonctions. Dans l'exemple de réalisation préférentiel décrit ici, la structure semiconductrice comporte cinq métallisations (non représentées ici à des fins de simplification), bien qu'il soit possible, comme on le verra ci-après, de n'en disposer que de trois. Plus précisément, chacune des deux régions 12 et 13 de la première paire et 18 et 19 de la deuxième paire, comporte une métallisation Une cinquième métallisation est également prévue sur la région saillante 3 A cet effet, compte tenu du fait que la largeur de cette région peut être inférieure à 1 pim, il est préférable de prévoir une extension latérale (non représentée à des fins de simplification) de cette région, prolongeant par exemple la zone d'extrémité 9, plus large et sur laquelle est disposée cette cinquième métallisation. La structure semi-conductrice ainsi décrite, comporte deux zones semiconductrices L'une de ces zones est susceptible de former un transistor à effet de champ à grille isolée Plus précisément, la région 12 constitue le drain de ce transistor, tandis que la région 13 en constitue la source La région saillante 3 forme la région de grille de ce transistor Le canal du transistor à effet de champ est susceptible de se former dans la couche 20 du substrat 5 situé en partie au-dessus de la couche enterrée N, dans la partie supérieure du bloc semi- conducteur 2, sous la grille 3. La deuxième zone semi-conductrice est susceptible de former un transistor bipolaire latéral Plus précisément, la région 12 en constitue la base extrinsèque, tandis que la région 19 en constitue l'émetteur et que la région 18 en constitue le collecteur extrinsèque La couche enterrée Il forme le collecteur intrinsèque et la distance W séparant l'extrémité de cette couche enterrée 11 de la région d'émetteur 19, définit l'épaisseur de la base intrinsèque du transistor bipolaire. L'homme du métier remarquera ici que le courant de base de ce transistor bipolaire sera susceptible de circuler également dans la couche supérieure 20 Cette couche supérieure est donc commune aux deux zones semi-conductrices. Par ailleurs, comme on le verra en détail ci-après, ces deux zones forment, en combinaison, une structure semi-conductrice capable de résistance dynamique négative. On a décrit ici un transistor à effet de champ à grille isolée à canal P associé à un transistor bipolaire latéral de type NPN Bien entendu, en inversant tous les types de dopants, il serait possible il d'associer au sein de la même structure, un transistor à effet de champ à grille isolée à canal N avec un transistor bipolaire latéral du type PNP. On va maintenant décrire en détail, en se référant plus particulièrement aux figures 4 a à 4 g, une première variante d'un procédé de fabrication permettant d'obtenir le composant électronique illustré sur les figures 1 à 3. Le produit de départ, illustré sur la figure 4 a, est un substrat sur isolant, composé d'un filn 5 de silicium de type P sur du dioxyde de silicium 6 Une première étape consiste en une implantation profonde de dopants (Arsenic ou phosphore) de façon à former dans la partie inférieure du film 5 une région enterrée 21 de type N. On dépose ensuite sur la face supérieure de la partie supérieure 22 du substrat, de type P une couche de dioxyde de silicium 23 destinée à former l'oxyde de grille On dépose ensuite sur cette couche 23 une couche supérieure 24 de silicium polycristallin que l'on implante (bore) de façon à lui conférer un surdopage de type P+. On dépose ensuite sur la couche de silicium polycristallin 24 une couche, par exemple de nitrure de silicium, destinée à former un masque pour une implantation ultérieure On définit ensuite les dimensions de cette table de nitrure 25 et l'on effectue une attaque isotropique du silicium polycristallin 24, de façon à définir les bornes gauche et droite 7 et 8 de la grille 3 La table de nitrure déborde des bornes de la grille d'une distance choisie qui est déterminante pour la définition de l'épaisseur de la base du futur transistor bipolaire. On effectue ensuite, sur la structure ainsi obtenue, et illustrée sur la figure 4 c), une implantation oblique de bore à haute énergie 26, de façon à délimiter la région enterrée 21 et définir ainsi la couche enterrée 11 de type N (figure 4 d) L'implantation oblique s'effectue ici selon un angle de l'ordre de 450 à 60 par rapport à la verticale La table de nitrure a empêché l'implantation de dopants au sein de la grille 3. L'étape suivante, illustrée sur la figure 4 e, consiste à déposer un masque 27 a sur la structure obtenue à la figure 4 d, dans la région de la première zone d'extrémité de la grille 3 On effectue alors une implantation d'Arsenic ou de phosphore à haute énergie 28, de façon à former les deux régions 18 et 19 de la deuxième paire, illustrées sur la figure 4 f Le masque 27 a a pour fonction d'éviter une implantation de dopants de part et d'autre de la première zone d'extrémité de la grille, et l'utilisation de la table de nitrure permet d'effectuer une implantation des régions 18 et 19 autopositionnée par rapport à la grille 3 Par ailleurs, on remarque ici que, en raison du débordement de la table de nitrure 25 de part et d'autre de la grille 3, la région 19 se situe à distance de la couche enterrée 11, ce qui matérialise l'épaisseur W de la base intrinsèque du transistor bipolaire. Sur la figure 4 g, le masque 27 a a été gravé et un masque 27 b a été placé cette fois-ci au niveau de la deuxième zone d'extrémité de la grille 3, au-dessus des régions 18 et 19, de façon à pouvoir effectuer une première implantation de bore à forte dose 29, pour réaliser les deux régions 12 et 13 de la figure 1 On grave ensuite les régions débordantes de la table de nitrure, de façon à effectuer une deuxième implantation de bore pour obtenir un dopage non uniforme des régions 12 et 13, telles qu'illustrées sur la figure 1 Ce dopage non uniforme est connu de l'homme du métier sous le vocable LDD (Lighty doped drain). Le masque de nitrure est ensuite gravé, au même titre que le masque 27 b, et l'on effectue des métallisations sur les régions souhaitées, par dépôt d'une couche de métal (par exemple du titane) pour former un siliciure sur les zones de silicium semi-conductrices (Ti Si 2). L'effet d'ombre, intervenant lors d'une implantation oblique, est en général considéré par l'homme du métier comme un effet parasite qui provoque, par exemple, les caractéristiques asymétriques du transistor à grille isolée, un non recouvrement du canal par la grille et un vieillissement accéléré des structures Cependant, selon l'invention, l'emploi de cet effet d'ombre permet de réaliser un composant électronique qui présente à la fois les fonctions combinées d'un transistor à effet de champ à grille isolée, bipolaire, et susceptible de présenter une résistance dynamique négative, tout en utilisant un nombre réduit de masques nécessaires pour la fabrication. L'implantation oblique permet ainsi directement de délimiter la couche enterrée de collecteur intrinsèque et, en combinaison avec la table de nitrure, de définir précisément la largeur de la base qui peut être ainsi réduite très fortement. Les figures 5 a à 5 h illustrent une autre variante du procédé de fabrication selon l'invention que l'on va maintenant décrire en détail. Les premières étapes de cette variante, illustrées sur les figures 5 a et 5 b sont identiques à celles qui ont été décrites en relation avec les figures 4 a et 4 b et ne seront pas reprises ici. Si l'on se réfère maintenant plus particulièrement à la figure 5 c, après avoir déposé sur le silicium polycristallin dopé P+ une couche de nitrure 30, on définit, à l'aide d'un masque, la borne gauche de la grille et l'on effectue une attaque anisotropique du nitrure et du silicium polycristallin de façon à former effectivement le flanc ou borne gauche de la grille 3. On effectue ensuite une implantation de bore à haute énerg sensiblement verticalement, c'est-à-dire sensiblement perpendi- culairement à la face supérieure du substrat, de façon à délimiter la région inférieure enterrée 21, de type N, pour délimiter la couche enterrée 11 (figure 5 d). On définit ensuite, par analogie avec la borne gauche, la borne droite de la grille et l'on effectue une attaque anisotropique du nitrure et du silicium polycristallin de façon à former effectivement le flanc droit de cette grille Puis on effectue un dépôt de dioxyde de silicium suivi d'une attaque anisotropique, de façon à former des régions latérales isolantes, ou espaceurs, 31 et 32, sur les flancs de la grille. Ces espaceurs ont, au niveau de la face supériure du substrat, une épaisseur prédéterminée qui sera déterminante pour la définition de la largeur W de la base du transistor bipolaire. L'étape suivante, illustrée sur la figure 5 f, est analogue à celle qui a été décrite en relation avec la figure 4 e Dans cette variante, les espaceurs 31 et 32 jouent le rôle des parties débordantes de la table de nitrure 25 de la figure 4 e On forme ainsi par implantation d'Arsenic, par exemple, les régions surdopées N+, 18 et 19, illustrées sur la figure 5 g, la région 19 étant de ce fait à distance de l'extrémité de la couche enterrée 11 formant le collecteur intrinsèque du transistor bipolaire. L'étape illustrée sur la figure 5 h est analogue à celle qui a été décrite en relation avec la figure 4 g Le masque 34 a a été gravé et un autre masque 34 b est disposé de façon à masquer la deuxième zone d'extrémité de la région de grille ainsi que les régions 18 et 19 de type N+ Une première implantation de bore est effectuée dans une première zone d'implantation située de part et d'autre des espaceurs 31 et 32 Ces espaceurs sont ensuite gravés, puis une deuxième implantation de bore est effectuée dans une deuxième zone d'implantation prolongeant la première zone d'implantation jusqu'aux bornes de la grille 3, ce qui permet d'obtenir les régions de dopage non uniformes 14, 15, 16 et 17, illustrées sur la figure 5 i. La structure semi-conductrice illustrée sur cette figure 5 i diffère de celle illustrée sur les figures 1 à 3, par le fait que l'extrémité de la couche enterrée Il de type N est en contact avec la région implantée de type P+ Néanmoins, l'homme du métier comprendra aisément que ceci n'a aucun effet sur le fonctionnement du transistor à effet de champ ou du transistor bipolaire, et d'une façon plus générale, sur le fonctionnement du composant électronique dans sa globalité Par ailleurs, cette couche enterrée N s'étend jusqu'au bord du substrat 5. Le procédé de fabrication selon l'invention est compatible avec une technologie de fabrication du type Bi CMOS, car il est possible d'utiliser des masques identiques pour la fabrication de ces différents types de transistors, notamment en ce qui concerne le dépôt de l'oxyde de grille et la fabrication des régions de grille. Par ailleurs, une telle structure est également compatible avec une technologie du type Bi CMOS, car le substrat ne sert pas d'émetteur commun. Le composant électronique selon l'invention peut être utilisé simplement en tant que transistor à effet de champ à grille isolée. Dans ce cas, il serait uniquement nécessaire de prévoir trois métallisations situées respectivement sur les régions de drain, source et grille. La figure 6 illustre une configuration du composant fonctionnant comme un transistor à grille isolée à canal P VS, VG et VD désignent respectivement les tensions de source, grille et drain Sous une tension de grille nulle, le transistor est bloqué par une déplétion complète du canal Cette déplétion complète du canal se produit sous tension de grille nulle lorsque l'épaisseur de la couche 20 est inférieure ou égale à 1000 Angstrôms environ Au-delà, il est avantageux d'utiliser en outre une polarisation du collecteur positive, ce qui aura pour effet, dans le cas présent, de repousser les trous en-dehors du canal et de dépléter celui-ci Bien entendu, il convient d'ajouter aux trois métallisations de base du composant électronique selon l'invention, une quatrième métallisation sur la région de collecteur extrinsèque 18. En fonctionnement, la tension de grille est négative et la tension de collecteur VC est maintenue constante (par exemple + 1,5 V) Le transistor fonctionne alors en mode d'accumulation. Bien entendu, dans le cas o le composant électronique comporterait un transistor à effet de champ à grille isolée à canal N, il conviendrait d'inverser le signe de toutes les tensions de polarisation et de prévoir notamment une tension de collecteur négative On obtiendrait alors un transistor NMOS à canal déplété sous tension de grille nulle, ce qui est totalement inhabituel dans ce domaine Il est à souligner ici que la fonction transistor MOS de ce composant électronique est remplie par un transistor fonctionnant en mode d'accumulation, ce qui est très intéressant sur un substrat sur isolant, car plus résistant à l'effet d'avalanche notamment, bien connu de l'homme du métier. Le composant selon l'invention peut également être utilisé en tant que transistor bipolaire seul Dans ce cas, il est nécessaire d'avoir uniquement les trois métallisations de base, à savoir sur les régions de collecteur, émetteur et base Le transistor fonctionne alors comme un transistor bipolaire latéral avec une bonne performance électrique, car l'épaisseur de la base W a pu être ajustée selon l'invention à des valeurs très faibles. Par ailleurs, ce transistor bipolaire peut être contrôlé sur sa base par le transistor à effet de champ comme illustré sur la figure 7 En effet, la résistance d'accès de la base peut être réduite moyennant une polarisation de grille VG négative (dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal P), ce qui a pour effet de créer une couche d'accumulation, très peu résistive, dans la couche commune 20 au- dessous de la grille Des essais ont montré que le gain en courant d'un tel transistor est de l'ordre de 100. Bien entendu, dans le cas d'un transistor bipolaire de type PNP, associé à un transistor à effet de champ à canal N, il conviendrait d'appliquer une polarisation de grille positive choisie. La structure semi-conductrice selon l'invention, peut être utilisée globalement en tant que composant à résistance dynamique négative, comme illustré sur la figure 8 Un tel composant est équipé de quatre métallisations sur les régions de grille, drain (et base), d'une part, et d'émetteur, collecteur, d'autre part A cet effet, il est particulièrement avantageux de court-circuiter les contacts métalliques de la grille et du collecteur en disposant par exemple une métallisation commune à ces deux régions. La caractéristique négative courant I-tension V sera observée au niveau du collecteur Lorsque la tension V est nulle, le courant I est négatif Si la tension V augmente, le transistor bipolaire se met à conduire, car la jonction émetteur-base est polarisée en direct (VB = + 0,5 Volt environ) La différence de potentiel collecteur-base positive, polarise la jonction collecteur-base en inverse Par conséquent, le courant I devient positif et augmente jusqu'au niveau de saturation De plus, la polarisation de la grille du transistor à effet de champ augmente, car elle est directement égale à la tension de collecteur qui est elle- même égale à la tension V Il en résulte une déplétion du canal, donc une coupure graduelle du passage du courant dans la base du transistor bipolaire En conséquence, le courant I décroît dès le début de la déplétion du canal L'augmentation du courant I à tension V élevée, sera due soit au phénomène de perçage de la base, soit à l'avalanche dans la jonction collecteur-base. Des essais ont pu mettre en évidence une décroissance abrupte 36 du courant I de l'ordre de 6 décades (figure 9) L'amplitude de cette décroissance dépend de la valeur de la tension VB. Le maintien de la tension de grille et de celle du collecteur à une valeur choisie commune V (que l'on augmente dans le cas présent), a été jugé préférentiel Néanmoins, une telle condition n'est pas absolument nécessaire En effet, la configuration de résistance négative peut également être obtenue au niveau du collecteur en fixant la tension de grille à une valeur choisie (pour dépléter partiellement le canal), voire en n'appliquant aucune tension sur cette grille (grille "flottante", la région saillante pouvant alors ne pas être équipée d'une métallisation) Dans ce cas, seule l'augmentation de la tension collecteur V conduira à la déplétion du canal par le biais de l'extension de la zone de charge d'espace de la jonction PN formée par les couches 20 et 11 qui sera d'autant plus polarisée en inverse que la tension de collecteur augmentera. En raison du mode de représentation simplifiée des figures 6 à 8, les contacts de source et drain (base) ont été représentés pour plus de clarté très près de la région saillante bien qu'ils soient en réalité disposés au contact de la quasi totalité des régions concernées. L'invention a permis d'obtenir, dans une seule structure, ayant une forme géométrique très compacte, les fonctions d'un transistor à effet de champ à grille isolée, et bipolaire, ainsi que celle d'une structure à résistance dynamique négative Dans cette structure très compacte, la localisation du transport du courant s'effectue sur deux niveaux, à savoir le niveau supérieur ou apparaît le canal du transistor à effet de champ, ainsi que le transport du courant de base du transistor bipolaire (couche commune 20) et le niveau inférieur o a lieu l'action bipolaire (émetteur 19, base d'épaisseur W et collecteur 11, 11). Le transistor bipolaire est particulièrement performant et utilisable en technologie Bi CMOS Le transistor à effet de champ fonctionne en accumulation et le composant à résistance dynamique négative permet de réaliser un point mémoire statique de petites dimensions, aussi bien que des générateurs de signaux ou des circuits de régulation automatique/stabilisation d'un point de fonctionnement. Toutes ces fonctions trouvent directement leurs applications dans les circuits intégrés pour les systèmes de télécommunication. REVENDICATIONS 1 Composant électronique comprenant, topologiquement intégrées au sein d'une même structure semi-conductrice ( 1), une première zone semiconductrice ( 12, 13, 3, 4, 20) susceptible de former un transistor à effet de champ à grille isolée, et une deuxième zone semi- conductrice ( 12, 20, 18, 19, 11) susceptible de former un transistor bipolaire latéral, les deux zones possédant une couche semi- conductrice commune ( 20), dans laquelle est susceptible de se former le canal du transistor à effet de champ et/ou de circuler le courant de base du transistor bipolaire, les deux zones étant susceptibles de former ensemble une structure capable de résistance dynamique négative. 2 Composant selon la revendication 1, caractérisé par le fait que le transistor à effet de champ est à canal P, tandis que le transistor bipolaire est du type NPN. 3 Composant selon la revendication 1, caractérisé par le fait que le transistor à effet de champ est à canal N, tandis que le transistor bipolaire est du type PNP. 4 Composant selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la structure semi-conductrice comporte un bloc semi-conducteur ( 2), supportant la grille saillante isolée ( 3) du transistor à effet de champ, par le fait que la couche semi-conductrice commune ( 20) s'étend dans la partie supérieure du bloc sous la grille ( 3), par le fait que le reste de la première zone s'étend de part et d'autre de ladite couche commune, tandis que la deuxième zone se situe partiellement dans la partie inférieure du bloc, décalée latéralement par rapport à la première zone. Composant selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il comporte un collecteur intrinsèque ( 11) s'étendant dans la région inférieure du bloc jusqu'à une distance prédéterminée (w) de la région d'émetteur ( 19) du transistor bipolaire en définissant ainsi l'épaisseur (w) de la base du transistor bipolaire. 6 Composant selon la revendication 5, caractérisé par le fait que l'épaisseur de la base est submicronique. 7 Composant selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait qu'il comprend un contact commun ( 12) pour la base du transistor bipolaire et le drain du transistor à effet de champ, ainsi que les constats des contacts distincts pour l'émetteur ( 19) et le collecteur ( 18) du transistor bipolaire et la source ( 13) du transistor à effet de champ. 8 Composant selon l'une des revendications précédentes, caractérisé par le fait que la structure semi-conductrice ( 1) comporte: un substrat semi-conducteur ( 5) ayant un premier type de conductivité (P), une couche isolante ( 4) située sur une partie d'une première face du substrat, et supportant une première région semi- conductrice saillante ( 3), susceptible de former la région de grille du transistor à effet de champ, et ayant le premier type de conductivité (P+ ), une première paire de régions semi-conductrices ( 12, 13), localisées au sein du substrat ( 5), de part et d'autre d'une première zone d'extrémité ( 9) de la région saillante ( 3), susceptibles de former respectivement d'une part, la région de source ( 13) et, d'autre part, la région de drain ou celle de base ( 12), et ayant le premier type de conductivité (P+, P++), une deuxième paire de régions semi- conductrices ( 18, 19), localisées au sein du substrat ( 5), de part et d'autre d'une deuxième zone d'extrémité ( 10) de la région saillante ( 3), opposée à la première zone d'extrémité ( 9), susceptibles de former respectivement la région d'émetteur ( 19) et celle de collecteur extrinsèque ( 18), et ayant un deuxième type de conductivité (N+) opposé au premier, une couche enterrée semi-conductrice ( 11), ayant le deuxième type de conductivité (N), et s'étendant à distance de la première face du substrat en étant en contact avec la région de la deuxième paire ( 18) susceptible de former le collecteur extrinsèque, et à distance de l'autre région ( 19) de cette deuxième paire, une première métallisation disposée au contact de la région de la première paire ( 12) susceptible de former drain ou base, et au moins deux autres métallisations disposées respectivement au contact des deux régions ( 18, 19) de la deuxième paire ou au contact, d'une part, de la région ( 12) susceptible de former la source et, d'autre part, de la région saillante ( 3). 9 Composant selon la revendication 8, caractérisé par le fait que la région saillante ( 3) et les quatre régions des deux paires ( 12, 13, 18, 19) sont surdopées. Composant selon la revendication 8 ou 9, caractérisé par le fait que les quatre régions des deux paires ( 12, 13, 18, 19) s'étendent depuis la première face du substrat jusqu'à la face opposée. 11 Composant selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé par le fait que le substrat de la structure semi-conductrice ( 1) est un substrat sur isolant. 12 Composant selon l'une des revendications précédentes, pour son utilisation en tant que transistor à effet de champ, caractérisé par le fait qu'il comporte au moins trois contacts métalliques sur les régions de grille ( 3), source ( 13) et drain ( 12). 13 Utilisation du composant selon la revendication 12, caractérisée par le fait que, le composant comportant un quatrième contact métallique sur la région de collecteur ( 18), on applique une tension de polarisation choisie (VC) sur la région de collecteur, positive dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal P et négative dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal N. 14 Composant selon l'une des revendications 1 à 11, pour son utilisation en tant que transistor bipolaire, caractérisé par le fait qu'il comporte au moins trois contacts métalliques sur les régions de base ( 12), collecteur ( 18) et émetteur ( 19). Utilisation du composant selon la revendication 14, caractérisée par le fait que le composant comportant un quatrième contact métallique sur la région de grille ( 3), on applique une tension de polarisation choisie sur la grille, négative dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal P, positive dans le cas d'un transistor à effet de champ à canal N. 16 Composant selon l'une des revendications 1 à 11, pour son utilisation en tant que composant présentant une configuration de résistance dynamique négative, caractérisé par le fait qu'il comporte des contacts métalliques au moins sur les régions de drain, base, collecteur et émetteur. 17 Utilisation du composant selon la revendication 16, caractérisée par le fait que, la jonction émetteur-base du transistor bipolaire étant polarisée en direct, on polarise la jonction collecteur- base en inverse. 18 Utilisation selon la revendication 17, caractérisée par le fait que, le composant comportant en outre un contact métallique sur la région de grille, on applique une polarisation choisie sur la grille. 19 Utilisation selon la revendication 17 ou 18, caractérisée par le fait que la résistance dynamique négative( 36) est obtenue à partir de la relation courant-tension collecteur (I, V). Procédé de fabrication d'une structure semi-conductrice susceptible d'intégrer un transistor à effet de champ à grille isolée et un transistor bipolaire latéral, dans lequel: a) on réalise, sur une première face d'un substrat semi-conducteur ayant un premier type de conductivité (P), une région saillante isolée ( 3), susceptible de former la région de grille du transistor à effet de champ et ayant également le premier type de conductivité (P+), et, dans la partie inférieure du substrat, une couche enterrée ( 11) ayant un deuxième type de conductivité (N), opposé au premier, et s'étendant dans une portion de la partie inférieure du substrat, au moins sous la région saillante, b) on implante dans le substrat, une première paire de régions semi-conductrices ( 12, 13), localisées de part et d'autre d'une première zone d'extrémité ( 9) de la région saillante ( 3), susceptibles de former respectivement, d'une part, la région de source et, d'autre part, la région de drain ou celle de base extrinsèque, et ayant le premier type de conductivité (P+, P++), c) on implante dans le substrat, une deuxième paire de régions semi-conductrices ( 18, 19), ayant le deuxième type de conductivité (N+), localisées de part et d'autre d'une deuxième zone d'extrémité ( 10) de la région saillante ( 3), opposée à la première ( 9); l'une de ces régions ( 19), située à l'extérieur de la couche enterrée ( 11), étant susceptible de former la région d'émetteur, l'autre région ( 18), située au contact de ladite couche enterrée ( 11), étant susceptible de former la région de collecteur extrinsèque, et d) on métallise la région de la première paire susceptible de former drain ou base ( 12), et au moins les deux régions de la deuxième paire ( 18, 19) ou, d'une part, la région ( 13) susceptible de former la source et, d'autre part, la région saillante ( 3) susceptible de former la grille. 21 Procédé selon la revendication 20, caractérisé par le fait que les étapes d'implantation a) et b) comportent des surdopages. 22 Procédé selon la revendication 20 ou 21, caractérisé par le fait que, dans l'étape a), ai) on implante au sein du substrat une région enterrée ( 21), s'étendant à distance de la première face du substrat et ayant le deuxième type de conductivité (N), a 2) on forme sur le substrat ainsi implanté, un empilement contenant une couche isolante ( 23) surmontée d'une couche semi- conductrice ( 24) ayant le premier type de conductivité (P+), elle-même surmontée d'une couche supérieure ( 25, 30} apte à former un masque d'implantation, a 3) on retire au moins une portion de cet empilement pour mettre à nu la portion correspondante de la première phase du substrat et pour définir au moins un premier flanc ou borne ( 7) de la région saillante ( 3), a 4) on effectue une implantation choisie de dopants de la structure ainsi obtenue pour délimiter ladite région enterrée ( 21) et former ladite couche enterrée ( 11). 23 Procédé selon la revendication 22, caractérisé par le fait que l'on effectue dans l'étape a 4) ladite implantation choisie, sensiblement perpendiculairement à la première face du substrat. 24 Procédé selon la revendication 23, caractérisé par le fait que postérieurement à l'étape a 4), on retire une autre portion de l'empilement pour mettre à nu la portion correspondante de la première phase du substrat et pour définir le deuxième flanc ( 8) de la région saillante, opposé au premier ( 7), par le fait que l'on dispose des régions latérales isolantes ( 31, 32) au contact des deux flancs, ces régions latérales isolantes ayant une largeur prédéterminée au niveau de la première phase du substrat, par le fait que, dans l'étape c), on implante les deux régions ( 18, 19) de la deuxième paire de part et d'autre des régions latérales isolantes ( 31, 32). 25 Procédé selon la revendication 24, caractérisé par le fait que dans l'étape d), on effectue, dans une première zone d'implantation, située de part et d'autre des régions latérales isolantes ( 31, 32), et au voisinage de ladite première zone d'extrémité ( 9) de la région saillante ( 3), une première implantation choisie de dopants propre à surdoper (P+) ladite première zone d'implantation par rapport au substrat, par le fait que l'on retire les régions latérales isolantes et on effectue dans une deuxième zone d'implantation prolongeant la première jusqu'aux deux flancs de la région saillante, une deuxième implantation du même type que la première, ce qui permet d'obtenir les deux régions ( 12, 13) de la première paire avec un dopage non uniforme (P+, P++). 26 Procédé selon la revendication 22, caractérisé par le fait qu'on retire une autre portion de l'empilement pour, d'une part, mettre à nu la portion correspondante de la première face du substrat et pour définir le deuxième flanc (g) de la région saillante ( 3 >, opposé au premier ( 7) et, d'autre part, faire déborder de la face supérieure de la région saillante ladite couche supérieure de masque ( 25) d'une distance prédéterminée, par le fait que l'on effectue ladite implantation choisie, sur la structure ainsi obtenue munie du masque débordant, selon une direction oblique par rapport à la première face du substrat. 27 Procédé selon la revendication 26, caractérisé par le fait que l'on implante les deux régions de la deuxième paire ( 1 g, 19) en effectuant une implantation choisie de dopants sensiblement perpendiculairement à la première face du substrat, sur la structure munie du masque débordant fixé sur la grille. 28 Procédé selon la revendication 26 ou 27, caractérisé par le fait que dans l'étape d), on effectue, dans un première zone d'implantation, située de part et d'autre des bords du masque débordant, et au voisinage de ladite première zone d'extrémité ( 9) de la région saillante ( 3), une première implantation choisie de dopants propre à surdoper (P+) ladite première zone d'implantation par rapport au substrat, par le fait que l'on retire le masque débordant et qu' on effectue dans une deuxième zone d'implantation prolongeant la première jusqu'aux deux flancs de la région saillante, une deuxième implantation du même type que la première, ce qui permet d'obtenir les deux régions ( 12, 13) de la première paire avec un dopage non uniforme (P+, P++).