FR 2685096 A1 19930618 FR 9115591 A 19911216 MIROIR OPTIQUE INTEGRE ET SON PROCEDE DE FABRICATION DESCRIPTION La présente invention a pour objet un miroir pour L'optique intégrée ainsi que son procédé de fabrication El Le trouve une application dans tous les domaines o L'on désire réfléchir un faisceau lumineux et notamment dans Le domaine du traitement des signaux radar en temps réel, par exemple dans des corrélateurs, des analyseurs de spectres ou des dispositifs interférométriques, dans le domaine des communications par voie optique et dans le domaine des capteurs à fibres optiques Ces capteurs sont notamment utilisés dans les domaines spatial, naval, aéronautique, automobile et sur Les chaînes de montage d'un grand nombre d'objets. Les techniques de traitement et/ou de transmission à distance de l'information, étudiées depuis quelques années, utilisent La transmission par onde Lumineuse dans des guides de lumière à structure plane Ces guides de Lumière sont constitués d'une couche guidante intercalée entre deux couches supérieure et inférieure de confinement, empilées sur un substrat, La couche guidante ayant un indice de réfraction réel supérieur à celui des couches inférieure et supérieure La couche supérieure peut, dans certains cas, être remplacée par de l'air. Les miroirs optiques intégrés constituent L'un des composants de base de tous les circuits optiques intégrés à structure guide planaire. La façon la plus simple de réaliser, actuellement, un miroir en optique intégrée est représentée, en coupe Longitudinale, sur la figure 1 annexée. Sur cette figure, on trouve un substrat 2 supportant un guide de lumière 3 constitué de la couche de confinement inférieure 4 ou couche tampon puis la couche guide 6 et enfin la couche supérieure de confinement 8. La réalisation du miroir consiste à graver entièrement Les couches 4, 6 et 8 du guide jusqu'au substrat et à recouvrir Le flanc gravé 10 par une couche de métallisation 12 afin de renvoyer le faisceau incident 14 transmis par la couche 6 à nouveau vers la couche guide 6 Le faisceau réfléchi porte la référence 15. La couche de métal Lisation 12 peut être remp Lacée par un empilement de couches diélectriques jouant le rôle de miroir. Ce type de miroir est en particulier uti Lisé pour des structures guides formées sur des substrats en si Licium, par exemp Le du type Si/SIO 2/Si 3 N 4/Sio 2, noté OI 51 ou du type Si/Si O 2/Si O 2 dopé/Si O 2, noté OI 52; Le dopage de la couche guide est tel que son indice de réfraction est supérieur à celui des couches de confinement supérieure et inférieure. Les difficultés de réalisation d'un tel miroir sont essentiellement Liées à La réa Lisation de la gravure de La structure guide el Le-même pour les deux raisons suivantes: l'épaisseur de gravure de la structure guide peut être importante, par exemple de 25 à 30 ?m pour une structure OI 52 utilisée pour Les communications optiques; La qualité de la gravure du point de vue de son état de surface et surtout du profil du flanc 10 joue un r 8 Le essentie L sur La va Leur du coefficient de réflexion du miroir. Tout serait parfait, si La gravure de la structure guide était parfaitement perpendiculaire au plan des couches du guide Malheureusement, cette situation n'existe pas et les véritables profils des miroirs s'écartent plus ou moins notablement du profil idéal entrainant une chute rapide du coefficient de réflexion. Cette chute est d'autant plus importante que l'incidence du faisceau lumineux 14 véhiculé par la couche guide est proche de la normale au miroir (ou flanc gravé 10). Dans les structures de type OIS, La perte de lumière à la réflexion atteint dans le meilleur des cas près de 3 d B (c'est-à-dire 50 Z) par rapport à la valeur idéale. Une solution évidente serait de mettre en place des procédés technologiques qui conduiraient à des gravures de la structure guide proche du profil idéal recherché pour les miroirs Bien que des progrès puissent être espérés dans ce domaine, ceci va entraîner un travail de recherche technologique long et fastidieux, donc coûteux qui ne permettra peut-Stre sans doute jamais d'atteindre complètement La solution idéale. La présente invention a justement pour objet un miroir optique intégré et son procédé de fabrication permettant de remédier à ces inconvénients Il permet en particulier la réalisation de miroirs présentant des coefficients de réflexion égaux au coefficient théorique tout en utilisant les techniques classiques de fabrication des miroirs. Le principe de l'invention est de réaliser la réflexion du faisceau incident non plus sur le premier flanc gravé de la structure guide, rencontré par le faisceau incident mais sur le second et d'utiliser les profils de gravure obtenus classiquement Ces flancs de gravure présentent, en coupe, La forme d'arc de cerc Le dont Le centre est, à peu de chose près, situé sur L'axe optique du miroir. De façon plus précise, L'invention a pour objet un miroir optique intégré comportant un guide de Lumière réalisé sur une surface d'un substrat et destiné à La propagation d'un faisceau Lumineux selon une direction para Llèle à Ladite surface, une cavité pratiquée dans Le guide de Lumière comportant dans Le sens de La propagation une première et une seconde parois orientées perpendiculairement à Ladite direction et présentant approximativement en coupe La forme d'un arc de cercle, La distance séparant Les deux parois étant égale au rayon de courbure de La seconde paroi au niveau de L'axe optique du miroir, et une couche en matériau réfléchissant déposée uniquement sur la seconde paroi afin de réfléchir ledit faisceau lumineux vers la première paroi, la seconde paroi formant une surface réfléchissante concave. Contrairement aux miroirs intégrés de L'art antérieur, la première paroi rencontrée par le faisceau incident n'est pas recouverte d'une couche réfléchissante et ne sert donc pas à réfléchir le faisceau incident. Pour améliorer L'efficacité du miroir et en particulier diminuer l'ang Le de divergence de la Lumière guidée dans La cavité, celle- ci peut être avantageusement remplie d'un matériau diélectrique Ce matériau diélectrique assure de plus une protection mécanique du miroir. Le miroir intégré de l'invention peut être un miroir "plan", parabolique ou el Liptique Dans ces deux derniers cas, La section droite dans le plan du guide de La seconde paroi est respectivement parabolique ou elliptique et La première paroi est telle que La distance La séparant de la seconde paroi est constante. Le miroir de l'invention peut aussi être un miroir du type Fresnel éventuellement parabolique ou elliptique Dans ce cas, La seconde paroi est constituée de plusieurs facettes adjacentes assurant à La fois la réflexion du faisceau lumineux et sa dispersion et La première paroi suit Le profit de La seconde paroi de sorte que La distance La séparant de la seconde paroi est constante ou quasi-constante. En pratique, la distance séparant les deux parois est choisie de l'ordre de 10 à 100 l PaLa précision sur cette distance est de l'ordre de 10 X, ce qui est peu contraignant et permet aux miroirs de l'invention de fonctionner correctement pour tous les rayons mis en jeu, que leur incidence sur la seconde paroi soit normale ou non à cette dernière, contrairement à L'art antérieur. De façon connue, le guide de lumière comprend une couche inférieure de confinement, une couche guide et une couche supérieure de confinement, la couche guide étant interposée entre les couches de confinement ayant un indice de réfraction supérieur à celui des couches de confinement. Selon l'invention, la cavité s'étend de la couche supérieure à la couche inférieure de la structure guide, de façon que les rayons lumineux puissent diverger librement dans la cavité et atteindre la seconde paroi sans obstacle. Le miroir de l'invention peut être réalisé sur un grand nombre de substrats et en particulier sur du verre, du niobate de lithium, du silicium, des matériaux III-V et par exemple sur du Ga As ou de L'In P ou encore sur des matériaux II-VI, par exemple du Cd Te. En particulier, Le miroir de l'invention s'applique aux structures suivantes: verre/verre dopé par échange d'ions/Si O, Si/Sio 2/Si 3 N 4/Si O 2 Si/Si O 2/AL 203/Si O 2 Si/Si O 2/Si O N /Si O 2 avec O ce Lui des couches adjacentes. En outre, la silice des couches de confinement peut être utilisée pure ou dopée Lorsque cette dernière est dopée par un dopant diminuant son indice de réfraction, la couche guide peut éventuellement être réalisée en silice non dopée - Le dopage de la silice par un matériau augmentant son indice de réfraction peut être effectué par du phosphore, du germanium, du titane ou de l'azote et le dopage de La silice par un dopant diminuant son indice de réfraction peut être réalisé par du bore ou du fluor Bien entendu, la couche guide doit toujours présenter un indice de réfraction supérieur à celui des couches de confinement. IL est en outre possible de remplacer le substrat en silicium par un substrat en silice. Dans une structure du type OIS ou OIS, le I 2 matériau diélectrique utilisé éventuellement pour remplir la cavité présente un indice de réfraction proche de celui de la silice pure ou dopée ou, dans le cas d'un guide à forte différence d'indice, proche de l'indice effectif du mode guidé. L'invention a aussi pour objet un procédé de fabrication d'un miroir optique intégré tel que décrit précédemment Ce procédé consiste à: former le guide de lumière sur la face du substrat; réa Liser un masque de résine photosensible sur le guide de lumière, comportant une ouverture en regard de l'emplacement de la cavité à réaliser; éliminer la zone du guide de lumière non masquée; éliminer le masque de résine, et déposer sur la seconde paroi une couche de matériau réfléchissant en utilisant un faisceau d'ions précurseurs de ce matériau, incliné par rapport à la surface du guide. Pour des structures OI 51 et OI 52, les parois en arc de cercle de la tranchée sont obtenues naturellement en utilisant une gravure ionique réactive avec comme gaz d'attaque un gaz fluoré comme notamment du CF 4, du CHF 3, du C 2 F 4 ou du SF 6 De préférence, on utilise du CHF 3 ' D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre, donnée à titre illustratif et non limitatif, en référence aux figures annexées, dans lesquelles: la figure 1, déjà décrite, représente schématiquement, en coupe longitudinale, un miroir optique intégré conforme à l'art antérieur; la figure 2 représente schématiquement, en coupe longitudinale, un miroir optique intégré "plan" conforme à l'invention; la figure 3 représente schématiquement, en vue de dessus, un miroir parabolique ou elliptique intégré conforme à l'invention; la figure 4 représente schématiquement, en vue de dessus, un miroir optique intégré de Fresnel, conforme à l'invention; les figures 5 a et 5 b illustrent schématiquement les différentes étapes de fabrication d'un miroir intégré conforme à l'invention, selon une première variante; La figure 6 représente, schématiquement en coupe longitudinale, une variante de réalisation d'un miroir intégré conforme à l'invention; et Les figures 7 a et 7 b il Lustrent schématiquement les différentes étapes de fabrication d'un miroir intégré conforme à L'invention, selon une seconde variante. Sur La figure 2, on a représenté schématiquement un miroir "plan" intégré conforme à l'invention Cette figure est une vue en coupe dans un p Lan perpendiculaire au p Lan de propagation de la Lumière dans la structure guide. Comme pour l'art antérieur, le miroir optique de l'invention est formé dans une structure guide 20 reposant sur La surface supérieure 23 d'un substrat 22, par exemple en silicium ou en silice. La structure guide 20 est constituée de trois couches superposées: une couche inférieure de confinement 24 en silice pure ou dopée, une gouche guide 26 en alumine, nitrure de silicium, oxynitrure de silicium ou silice (pure ou dopée) à haut indice de réfraction et une couche supérieure de confinement 28 en silice pure ou dopée. La si Lice de ces couches peut être dopée soit par un dopant diminuant son indice de réfraction (bore ou fluor) ou par un dopant augmentant son indice de réfraction (germanium, azote, phosphore, titane) Le dopage de La silice doit être tel que la couche guide 26 présente un indice de réfraction supérieur à celui des couches 24 et 28. Pour une structure OIS, les couches 24, 26 et 28 présentent respectivement des épaisseurs de 1 à 8 ym, de 10 à 250 nm et de 1 à 8 pm. Pour une structure OI 52, les couches 24, 26 et 28 ont respectivement des épaisseurs de 6 à 15 ua, de 1 à 10)Jm et de 2 à 12,Jm. Conformément à L'invention, La structure guide 20 comporte une cavité 30 définie par gravure de L'empi Lement des couches 24, 26 et 28 Cette cavité 30 comporte une paroi d'entrée 32 (ou première paroi) et une paroi de sortie 34 (ou seconde paroi) orientées perpendiculairement au faisceau incident 36 véhiculé par La couche guide selon une direction parallèle à La surface 23 du substrat, c'est-à-dire parallèle au p Lan du guide Les parois 32 et 34 présentent, dans Le plan de La figure 2, La forme approximative d'arc de cercle dont Les centres respectivement C et C' sont à peu de chose près situés sur L'axe optique 37 du miroir. Se Lon L'invention, La distance séparant Les parois 32 et 34 de La cavité 30, notée L, est égale au rayon de courbure R de La paroi 34. En pratique, la distance L est de L'ordre de à 100 >Im Sa précision est de L'ordre de 10 %, ce qui est peu contraignant et permet au miroir de L'invention de fonctionner pour tous Les rayons Lumineux mis en jeu. La forme exacte des parois dépend des conditions de gravures de La cavité et peut donc être adaptée, dans une certaine mesure, pour tenir compte des particularités des différents guides d'ondes (ouverture numérique notamment). La seconde paroi 34 définit un miroir concave pour le faisceau incident 36 et sert à réfléchir La Lumière incidente 32 vers La paroi 32 Le faisceau réfléchi porte la référence 39. Selon L'invention, une couche 38 en matériau réfléchissant par exemple en métal est déposée uniquement sur La paroi 34 de La cavité. Cette couche 38 est en particulier en aluminium, en or, en argent, etc EL Le présente une épaisseur de 50 nm à 10 000 nm typiquement. La paroi d'entrée 32 de La cavité 30 présente aussi en coupe La forme d'un arc de cerc Le. Dans Le mode de réalisation représenté sur La figure 2, la paroi 32 a en général une concavité inverse de ce L Le de La paroi 38 EL Le assure une divergence du faisceau incident 36 d'un angle A par rapport & l'axe optique 37 du miroir. Sur La figure 3, on a représenté schématiquement un miroir parabolique ou elliptique conforme à L'invention, la figure 3 est une vue de dessus de ce miroir et donc dans Le plan du guide Dans ce type de miroir, pour un point source lumineux S dans la couche guide 26, le point de focalisation F est décalé dans le plan du guide, para LLèLe à la surface 23 du substrat. Le point source S peut être fourni soit partun dioptre intégré (Lentille intégrée du type Fresnel ou autres), soit par l'extrémité d'un microguide de lumière. Le point de foca Lisation F peut également correspondre à L'extrémité d'un microguide En général, S et F sont situés sur la première paroi 32 a. Comme précédemment, seu Le la seconde paroi 34 a de La cavité 30 a, rencontrée par le faisceau incident 36 est recouverte d'une couche réfléchissante 38. Conformément à l'invention, seu Le cette face réfléchissante 34 a a strictement besoin d'être parabolique ou el Liptique suivant que le miroir est un miroir parabolique ou e L Liptique La paroi d'entrée 32 a de la cavité 30 a, qui n'intervient que pour diffracter la Lumière incidente 36, suit le profil de la paroi 34 a de sorte que la distance L séparant la surface 32 a de La surface 34 a reste constante du fond de la cavité à 1 1 sa surface Ainsi, la paroi 32 a a une concavité identique à celle de la paroi 34 a et présente donc une forme elliptique ou parabolique. Sur la figure 4, on a représenté schématiquement, en vue de dessus, un miroir intégré dispersif du type Fresnel conforme à L'invention Ce miroir comporte une cavité 30 b dont la seconde paroi 34 b présente la forme générale d'un arc de cercle dans un plan perpendiculaire au plan de propagation (c'est- à-dire dans un plan perpendiculaire à celui de la figure 4) De plus, cette paroi 34 b est constituée de multiples facettes 40 qui assurent à la fois la réflexion de la lumière incidente 36 et sa dispersion en fonction de La longueur d'onde. Ainsi, ce miroir pour un point source lumineux S' multi- longueurs d'ondes dans la couche guide et en particulier de longueurs d'ondes et 2. et 2 ' les points de focalisation de la paroi 34 b de la cavité b, et donc du miroir, sont décalés dans le plan du guide en FA 1 et FA 2 De même que précédemment, les points S', FA 1 et F 52, peuvent correspondre à des extrémités de microguides de lumière réalisés dans une opération antérieure; l'orientation des microguides dans lesquels la lumière est refocalisée est choisie de façon à favoriser le couplage de lumière (en général suivant la direction du rayon médian). Le miroir de la figure 4 est en particulier un miroir elliptique. Comme pour le miroir représenté sur la figure 3, la seconde paroi 34 b de la cavité 30 b est recouverte d'une couche réfléchissante 38 Par ailleurs, la première paroi 32 b rencontrée par le faisceau incident 36 suit le profil de la paroi 34 b à une distance L égale au rayon de courbure moyen de la paroi 34 b. Compte tenu des faibles décalages des facettes 40, typiquement de lpm, il n'est pas nécessaire de reproduire ces facettes sur la paroi 32 b. Cette dernière peut donc suivre L'enveloppe 42 de La paroi 34 b. En outre, comme dans le mode de réalisation de La figure 3, les deux parois 32 b et 34 b ont une forme concave. La description qui suit concerne la fabrication d'un miroir optique conforme à L'invention. Cette description est faite pour un miroir optique "plan" tel que représenté sur la figure 2 Mais bien entendu, ce procédé s'applique aussi à la fabrication des autres types de miroir. En référence à la figure 5 a, La première étape du procédé consiste à former Le guide de lumière sur La surface 23 du substrat 22 en déposant successivement les couches 24, 26 et 28, par oxydation thermique du substrat pour la couche 24 et par dépôt chimique en phase vapeur éventuellement assisté par plasma pour Les couches 26 et 28 Les techniques de dépôt de ces couches sont conformes à l'art antérieur. On réalise ensuite, par les procédés classiques de photolithographie, un masque de résine 44 comportant une ouverture 46 à L'emplacement o l'on souhaite réaliser La cavité 30 du miroir Ce masque 44 est réalisé par exemple selon la technique tricouche bien connue de l'homme de l'art (dépôts successifs d'une couche inférieure de résine, d'une couche de diélectrique et d'une couche supérieure de résine, réalisation d'un masque dans La couche supérieure de résine, gravure de la couche diélectrique, élimination de la couche supérieure de résine puis utilisation de ce masque diélectrique pour La gravure de La résine inférieure et enfin élimination du masque diélectrique). On effectue alors une gravure ionique réactive des trois couches 28, 26 et 24 du guide en utilisant un agent 47 fluoré et en particulier du CHF 3 3 ' On obtient ainsi une cavité 30 en regard de l'ouverture 46 du masque de résine 44, dont Les parois 32 et 34 ont, en coupe, la forme d'arc de cercle de rayon R et dont Les centres respectivement C et C' sont situés sur l'axe optique 37. Après élimination du masque de résine 44, par exemple à l'aide d'un so Lvant adapté ou d'un plasma d'oxygène, on effectue, comme représenté sur La figure b, le dépôt de la couche métallique 38 sur la paroi 34 de la cavité 30. Ce dépôt est réalisé en envoyant un faisceau d'ions 48, par exemp Le à travers un masque métallique 49, inc Liné d'un angle B par rapport à La surface du guide 20 Typiquement, B vaut de 20 à 80 pour L valant de 10 à 100 pm Ce faisceau d'ions 48 peut résulter d'une évaporation sous vide ou d'une pulvérisation cathodique. Du fait de l'inclinaison, la paroi 32 n'est en général pas touchée par la métallisation et le surplus de méta L peut ensuite être enlevé par gravure Dans ce cas, La métallisation de ta paroi peut se faire sans masque 38. On peut aussi procéder par "lift off" (dépôt d'un masque de résine, métallisation, élimination de la résine et du métal le recouvrant) pour former le dépôt 38. : IL est aussi possible de remplacer le dépôt métallique par un dépôt multicouche diélectrique suivant le même principe. Sur la figure 6, on a représenté schématiquement, en coupe, une variante de réalisation du miroir conforme à L'invention Dans cette variante, le miroir se distingue des précédents par Le remplissage de la cavité 30 par un matériau diélectrique 50 présentant un indice de réfraction de préférence proche de celui des couches 24, 26 et 28 du guide et donc, dans le cas présent, de la silice pure ou de la silice dopée ou dans le cas de fortes différences d'indice de réfraction, proche de l'indice effectif du mode guidé (cas des guides OI 51) En particulier, ce diéLectrique 50 peut être du gel de silice ou une colle optique. Ce diélectrique 50 assure notamment la protection mécanique du miroir IL permet en outre d'améliorer l'efficacité de ce miroir en diminuant l'angle de divergence A' de la lumière guidée dans La cavité 30 IL permet en outre de réduire les pertes de lumière par réflexion du type Fresnel sur la première paroi 32 de la cavité. Le remplissage de la cavité 30 peut être réalisé soit par dépôt chimique en phase vapeur, soit avec une seringue suivant des circuits de remplissage préalablement gravés, soit encore à la tournette. Dans Le cas de structures guides constituées de matériaux très différents, telles que Les structures Si/Si O /Si N /Si O ou Si/Si O /AL 203/Si O la gravure du 2 34 2 2 23 2 g matériau de coeur (Si N ou AL 203) peut être différente 34 23 de celle des matériaux environnants (Si O). Dans ce cas, on réa Lise avantageusement le miroir comme représenté sur les figures 7 a et 7 b: 1) dépôt des couches inférieure 24 et guide 26 de la structure guide; 2) gravure de la couche guide sous forme d'un guide planaire ou microguide 26 a (figure 7 a) de façon à ne garder du matériau de coeur qu'en amont de La première paroi 32 de La cavité 30 à réaliser; 3) dépôt de La couche de confinement supérieure 28 sur la structure obtenue en 2 (figure 7 a); 4) réalisation de la cavité 30 par gravure des couches de confinement inférieure et supérieure 24 et 28, puis dépôt de La couche métallique 38 (figure 7 b). La distance d entre l'extrémité du coeur du guide 26 a et la première paroi 32 du miroir est faible (quelques micromètres). Ce procédé a L'avantage de ne conduire qu'à graver profondément qu'un seul type de matériau (ici La silice) et d'éviter d'éventuels décrochements de gravure donc de profil de La paroi 34, dus à des différences de vitesse d'attaque des matériaux en gravure sèche. REVENDICATIONS 1 Miroir optique intégré comportant un guide de lumière ( 20) réalisé sur une surface ( 23) d'un substrat ( 22) et destiné à la propagation d'un faisceau lumineux ( 36) selon une direction parallèle à ladite surface, une cavité ( 30, 30 a, 30 b) pratiquée dans le guide de lumière ( 20) comportant dans Le sens de la propagation une première ( 32, 32 a, 32 b) et une seconde ( 34, 34 a, 34 b) parois orientées perpendiculairement à ladite direction et présentant approximativement en coupe la forme d'un arc de cercle, la distance (L) séparant les deux parois étant égale au rayon de courbure (R) de la seconde paroi au niveau de l'axe optique ( 37) du miroir, et une couche en matériau réfléchissant ( 38) déposée uniquement sur la seconde paroi afin de réfléchir ledit faisceau Lumineux vers la première paroi, La seconde paroi formant une surface réfléchissante concave. 2 Miroir intégré se Lon la revendication 1, de forme parabolique ou elliptique, caractérisé en ce que la section droite dans Le plan du guide de La seconde paroi ( 34 a) est respectivement parabolique ou elliptique et en ce que La première paroi ( 32 a) est telle que la distance La séparant de La seconde paroi est constante. 3 Miroir intégré selon La revendication 1 ou 2 du type de Fresnel, caractérisé en ce que la seconde paroi ( 34 b) est constituée de plusieurs facettes ( 40) adjacentes assurant à La fois la réflexion du faisceau Lumineux et sa dispersion et en ce que la première paroi ( 32 b) suit Le profil ( 42) de La seconde paroi de sorte que la distance (L) séparant la seconde paroi est constante ou quasi-constante. 4 Miroir intégré selon L'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que La distance (L) séparant Les deux parois est choisie de 10 à 100 pm avec une précision de L'ordre de 10 X. Miroir intégré se Lon L'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que la cavité ( 30) est remp Lie d'un matériau diélectrique ( 50) assurant une protection mécanique du miroir. 6 Miroir intégré selon L'une quelconque des revendications I à 5, caractérisé en ce que Le guide de Lumière comprend une couche inférieure ( 24) de confinement, une couche guide ( 26, 26 a) et une couche supérieure ( 28) de confinement, la couche guide ( 26, 26 a) étant interposée entre Les couches de confinement et ayant un indice de réfraction supérieur à celui des couches inférieure et supérieure et en ce que La cavité ( 30, 30 a, 30 b) s'étend de la couche supérieure à la couche inférieure. 7 Miroir intégré se Lon La revendication 6, caractérisé en ce que Le substrat ( 22 est en si Licium ou en silice, La couche supérieure ( 28) et La couche inférieure ( 24) sont des couches de silice pure ou éventuellement dopée et la couche guide ( 26, 26 a) est en silice dope, en a Lumine, en nitrure de silicium ou en oxyniture de si Licum. 8 Miroir intégré selon la revendication 7, caractérisé en ce que la cavité est remplie d'un matériau ayant un indice de réfraction proche de celui de La silice pure ou dopée ou proche de L'indice effectif du mode guidé. 9 Miroir intégré selon L'une quelconque des revendications 6 à 8, caractérisé en ce que la couche guide est gravée ( 26 a) de façon à ce qu'elle ne subsiste qu'en amont de la première paroi ( 32). Procédé de fabrication d'un miroir optique intégré selon L'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il consiste à: former Le guide de Lumière ( 20) sur La face du substrat ( 22); réa Liser un masque ( 44) de résine photosensib Le sur Le guide de lumière, comportant une ouverture ( 46) en regard de L'emplacement de la cavité à réaliser; éLiminer La zone du guide de lumière non masquée; éLiminer Le masque ( 44) de résine, et déposer sur La seconde paroi une couche ( 38) de matériau réfléchissant en utilisant un faisceau d'ions ( 48) précurseurs de ce matériau, incliné par rapport à La surface du guide. 11 Procédé selon La revendication 10, caractérisé en ce que Le substrat ( 22) est en silicium ou en silice et en ce que le guide de Lumière comporte une couche inférieure ( 24) de confinement en silice pure ou éventuellement dopée, une couche guide ( 26, 26 a) en silice dopé, en alumine, en nitrure de silicium ou en oxynitrure de silicium et une couche supérieure ( 28) de confinement en silice pure ou éventuellement dopée, La couche guide ( 26, 26 a) étant interposée entre les couches de confinement et ayant un indice de réfraction supérieur à celui des couches inférieure et supérieure. 12 Procédé selon La revendication 11, caractérisé en ce que la gravure est réalisée avec un gaz fluoré. 13 Procédé selon l'une quelconque des revendications 10 à 12, caractérisé en ce que L'on forme le guide en a) déposant une couche inférieure de confinement ( 24) sur un substrat ( 22); en b) déposant une couche guide ( 26) sur la couche inférieure de confinement; en c) gravant La couche guide ( 26 a) de façon à ne garder du matériau de la couche guide qu'en amont de la première paroi ( 32) de la cavité ( 30) à réa Liser; et en d) déposant une couche supérieure de confinement ( 28) sur la structure obtenue en c).