FR 2678380 A1 19921231 FR 9108122 A 19910628 DISPOSITIF PERMETTANT L'ETALEMENT D'UN OU PLUSIEURS REACTIFS SUR UN GEL L'invention concerne un dispositif permettant l'étalement d'un ou plusieurs réactifs sur un gel, notamment gel d'électrophorèse ou d'immunofixation. L'invention concerne également un procédé mettant en oeuvre le susdit dispositif. Les techniques d'électrophorèse ou d'immunofixation sont habituellement suivies, après la migration, d'une étape d'incubation du gel avec un réactif pour mettre en évidence et éventuellement quantifier les fractions protéiques séparées lors de l'électrophorèse. Le cas le plus classique est la coloration de l'ensemble de fractions protéiques séparées par électrophorèse au moyen d'un colorant venant se fixer spécifiquement sur celles-ci Dans ce cas, le réactif utilisé (le colorant) est un produit généralement bon marché dont on peut préparer une solution en quantité suffisante pour y immerger totalement le gel. Cependant, cette méthode n'est pas envisageable dans le cas o il est nécessaire d'utiliser de faibles quantités de réactif, lorsqu'il s'agit d'un réactif coûteux, ou lorsque sur un même gel, on veut réaliser des incubations sur des zones discrètes avec des réactifs différents. Ces éventualités concernent par exemple le dosage des isoenzymes contenues dans un sérum (iso LDH, iso CK, isophosphatase) o l'on incube le gel avec un substrat (produit coûteux) de ces enzymes aboutissant à la formation d'un produit coloré ou fluorescent qui permette la quantification par densitométrie. Le cas o il est nécessaire d'effectuer, sur un même gel, des incubations avec des réactifs différents est constitué par exemple par l'immunofixation o différentes zones discrètes du gel doivent être incubées avec différents antisérums de spécificité différente (réactif coûteux) et un fixateur de protéines. Dans tous ces cas, on cherche à utiliser une quantité minimum de réactif. Dans la mise en oeuvre des procédés cités ci- dessus, on imprègne une feuille de papier filtre découpée à la dimension du gel, avec une quantité juste nécessaire de réactif pour qu'elle soit entièrement humidifiée et on l'applique ensuite sur la surface du gel. Dans le cas o différents réactifs sont éventuellement utilisés sur des zones distinctes d'un même gel, on découpe autant de bandes de papier filtre que de zones à recouvrir par les différents réactifs, on imprègne ces différentes bandes des différents réactifs avant de les appliquer sur les différents zones o l'incubation doit avoir lieu. Ce procédé présente un certain nombre d'inconvénients Il faut en effet éviter d'emprisonner des bulles d'air entre le gel et la feuille de papier filtre imprégnée de réactif, car, au niveau des bulles d'air, la réaction n'aurait pas lieu par défaut de réactif sur le gel Le papier étant opaque, il est parfois difficile de détecter la présence de ces bulles d'air. Par ailleurs, pendant la réaction d'incubation, une partie des protéines que l'on veut révéler peut s'adsorber sur le papier, ou plus simplement s'absorber par pompage sur ce dernier. Si un temps d'incubation prolongé est nécessaire ( 30 ' à 1 heure), ce phénomène s'accentue du fait que, au cours de l'incubation, se produit une évaporation à partir de la surface libre du papier Celui-ci ayant tendance, par capillarité, à conserver un taux d'humidification constant, il se crée un flux de liquide, du gel vers le papier, avec entraînement des fractions protéiques à doser initialement contenues dans le gel Ceci entraîne une perte de sensibilité de la révélation sur le gel et cette absorption n'étant pas forcément homogène, la quantification par densitométrie des fractions révélées présente des risques d'erreurs. De plus, et surtout, ce procédé est manuel et très laborieux et donc difficile à mettre en oeuvre en analyse clinique de routine, et, en pratique courante, est abandonné. Un autre procédé également utilisé consiste à utiliser un masque constitué d'une feuille de plastique souple, de préférence de nature hydrophobe, ayant approximativement le même contour extérieur que le gel et présentant une ou plusieurs ouverture(s) indépendante(s) de forme rectangulaire Ce masque, une fois appliqué sur le gel, délimite la ou les zones destinées à recevoir le ou les réactifs. L'utilisation d'un tel masque présente également un certain nombre d'inconvénients. Après migration électrophorétique, il arrive fréquemment qu'une partie de liquide exsude en surface du gel Cette exsudation est principalement créée par le flux d'électroendosmose. Avant d'appliquer le masque sur le gel, il est nécessaire d'éliminer ce liquide en excès par un pompage au moyen d'un papier filtre fin, car, si du liquide est encore présent sur le gel, il empêche d'assurer une bonne adhérence du masque sur le gel, ainsi qu'une bonne étanchéité à la périphérie de la ou des zone(s) délimitée(s). En plus de la manipulation supplémentaire de pompage, le papier filtre risque d'entraîner une partie des protéines du gel et de fausser le résultat. Par ailleurs, le gel ou les réactifs utilisés peuvent, dans certains cas, contenir des agents tensioactifs qui vont faciliter l'insertion de liquide entre le gel et le masque et, dans ces conditions, même après élimination de l'excès de liquide qui a exsudé du gel en fin de migration, le masque risque de ne pas assurer l'étanchéité requise. Avec ce type de masque, il est important que la totalité de la surface du masque soit parfaitement appliquée sur le gel Il faut éviter d'emprisonner des bulles d'air entre le gel et le masque plastique lors de son positionnement sur le gel Dans le cas contraire, on risque d'avoir soit une fuite de réactif sous le masque, soit un mélange de réactifs adjacents. La présente invention a pour objet de proposer un dispositif qui remédie en grande partie aux inconvénients précédents. La présente invention a pour objet un dispositif permettant le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un réactif sur un gel, dans lequel on utilise des quantités de réactif du même ordre de grandeur que les dispositifs classiques, le dispositif de l'invention étant cependant dépourvu des inconvénients des dispositifs classiques. La présente invention a également pour objet de proposer un dispositif permettant le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un réactif sur un gel, dans lequel on peut incuber des zones différentes avec des réactifs respectivement différents, sans qu'il y ait mélange de réactifs. La présente invention a pour but de proposer un dispositif permettant le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un réactif sur un gel, dans lequel les manipulations sont limitées au minimum. La présente invention a pour objet de proposer un dispositif de dépôt, d'étalement et d'incubation d'un réactif sur un gel, permettant d'obtenir des résultats exacts quant à la quantification des substances fractionnées dans le gel. La présente invention a pour objet de proposer un dispositif de dépôt, d'étalement et d'incubation d'un réactif sur un gel, susceptible d'être automatisé. L'invention a donc pour objet un masque rigide destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un ou plusieurs liquide(s) sur un gel (de surface totale Sg) selon une ou plusieurs zone(s) déterminée(s) du gel, ci-après désignée(s) par "surface d'incubation Si", ce masque comportant: une surface supérieure et une surface inférieure, la distance séparant la surface inférieure et la surface supérieure constituant l'épaisseur du masque, au moins un orifice destiné à permettre le dépôt et l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si du gel, et constitué par un évidement traversant le masque sur la totalité de son épaisseur, et/ou au moins une fente traversant le masque sur la totalité de son épaisseur et destinée à permettre le retrait de l'excès de liquide présent sur la surface d'incubation Si du gel, cette fente étant située dans la partie du masque dont la projection se trouve soit dans la surface d'incubation Si, soit en dehors de la surface d'incubation Si, la surface inférieure du masque étant destinée à être déposée à proximité de la surface Sg du gel, dans des conditions telles que la surface inférieure du masque ne soit pas en contact avec la surface d'incubation Si, cette surface inférieure étant en outre telle qu'elle ne comporte, sur au moins une partie d'elle-même désignée par Sm, aucune irrégularité à sa surface susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si, la surface Sm étant délimitée par rapport au reste de la surface inférieure, de telle sorte que le liquide ne puisse s'étaler que sur la surface Si du gel en projection de Sm, cette projection de Sm sur le gel étant supérieure ou égale à la surface d'incubation Si du gel. Le liquide est généralement le réactif destiné à révéler les protéines qui ont préalablement été déposées sur le gel Le réactif est introduit par l'évidement défini ci-dessus, que l'on désignera également par "orifice de dépôt". La surface d'incubation Si est la zone du gel qu'il est impératif de recouvrir avec le (ou les) réactif(s) pour que la révélation des protéines se fasse On désigne par Li la longueur de la surface d'incubation, c'est-à-dire la dimension de la surface d'incubation parallèle à la direction de migration électrophorétique. Dans le cas d'un seul réactif, Si peut être égal à la surface Sg ou bien Si peut être une partie de Sg incluant néanmoins l'ensemble des pistes de migration, c'est-à-dire les zones du gel o les séparations électrophorétiques se sont produites. Il faut cependant noter que la zone effectivement recouverte par le réactif peut être supérieure à la surface Si (cf Figure 6 f). Dans le cas de l'incubation avec des réactifs différents, ou éventuellement avec un même réactif, mais sur des zones distinctes du gel incluant par exemple chacune des différentes pistes de migration, on définit la surface d'incubation par Si,, Si 2, Si, n étant un nombre entier égal ou supérieur à 2. On désigne par "Sm" la surface inférieure utile du masque, qui ne présente aucune irrégularité à sa surface susceptible de constituer un obstacle à l'étalement du réactif sur la surface d'incubation Si, et notamment ni aspérité concave, ni aspérité convexe, c'est-à-dire une surface sans arête, ni décrochement, qui serait susceptible d'empêcher le réactif de s'étaler sur la surface Si, cette surface Sm étant plane ou incurvée ou comporte des éléments plans ou incurvés. La surface Sm peut comporter la fente et l'orifice de dépôt définis ci-dessus. De façon avantageuse, la surface Sm est plane ou incurvée, notamment cylindrique, de grand rayon par rapport aux dimensions de Si. La surface Sm peut également être composée de facettes élémentaires, planes ou incurvées, notamment cylindriques, raccordées entre elles, ces différentes facettes, ainsi que leurs raccords, étant tels qu'il n'y a pas obstacle à l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si. La longueur Lm est la dimension de la surface Sm parallèle à la direction de migration électrophorétique La largeur de la surface Sm, dont question ci-après, correspond à la dimension perpendiculaire à la longueur définie ci-dessus. Lorsque cette surface Sm présentant un évidement permettant le dépôt d'un réactif est positionnée à proximité de la surface d'un gel, elle doit permettre de maintenir par capillarité, entre elle-même et la surface Si à incuber, un réactif introduit par l'évidement. Ce liquide déposé peut ensuite s'étaler entre Sm et la surface du gel jusqu'à ce qu'il rencontre une discontinuité, qui peut être soit le bord du gel, soit le bord du masque, soit une rainure, soit un dénivelé concave, et qui délimite la surface Sm. Par étalement du liquide, on entend la progression ou déplacement du liquide sur la surface Si, due aux seules forces de capillarité (résultant de la proximité de la surface inférieure du masque et de la surface d'incubation Si) et éventuellement aux forces de gravité. Dans le cas o plusieurs réactifs doivent être étalés, on définit les surfaces de masque par Sm 1, Sm 2, Smn, N étant un nombre entier égal ou supérieur à 2. comme autant de surfaces planes, incurvées, notamment cylindriques, coplanaires, cocylindriques ou composées de facettes élémentaires planes ou incurvées, notamment cylindriques, ces différentes facettes élémentaires étant raccordées entre elles. Les surface Sm 1 à Smn sont délimitées par des dénivelés concaves ou des rainures. En ce qui concerne la fente, elle peut être située dans le masque, de telle sorte que sa projection se trouve dans la surface d'incubation Si, on en dehors de la surface d'incubation Si, mais adjacente à l'un des bords de ladite surface d'incubation Si, ou adjacente à l'un des bords de la surface effectivement recouverte par le réactif De façon avantageuse, la fente est adjacente au bord de la surface Si opposé au voisinage de l'orifice de dépôt. La fente est avantageusement située en dehors de la surface d'incubation Si En effet, si elle est située dans la surface d'incubation Si, il faut qu'elle ait des dimensions telles qu'elle ne soit pas susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide Dans ces conditions, la fente est étroite (inférieure ou égale à environ 1 mm) et permet de maintenir par capillarité un excès de réactif. La topographie de la surface supérieure est un paramètre qui peut varier Cependant, la surface supérieure est avantageusement plane Dans la suite du texte, pour simplification de description, on considérera que la surface supérieure est plane, et que la surface inférieure utile Sm, de longueur Lm soit est sensiblement parallèle à la surface supérieure, soit forme avec la surface supérieure, lorsque celleci est utilisée horizontalement, un angle inférieur à environ 3 , ou soit est sensiblement parallèle à la surface supérieure sur une partie de sa longueur Lm et sur le reste de sa longueur Lm, dans le prolongement de la surface parallèle, forme un angle avec la surface supérieure, cet angle étant tel qu'il n'est pas susceptible d'empêcher l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si. De façon avantageuse, dans le troisième cas évoqué ci-dessus relatif à la position respective de la surface inférieure par rapport à la surface supérieure, la surface inférieure est avantageusement sensiblement parallèle à la surface supérieure sur une partie de sa longueur Lm qui correspond à la longueur de la surface d'incubation Li Le prolongement de cette surface parallèle par une partie formant un angle avec la surface supérieure est avantageusement tel que l'angle entre la surface inférieure et le gel soit un angle aigu d'environ 1 à environ 9 00, ce qui va favoriser l'élimination du réactif en excès, lorsque cet angle est au voisinage de la fente (cf figure 6 d). La surface Sm du masque peut également être incurvée, avantageusement cylindrique. Quand la surface du masque est constituée par une surface cylindrique, il faut que son diamètre soit supérieur ou égal au carré de Li. Lorsque la surface cylindrique ne concerne qu'une fraction f de la longueur d'incubation Li, le diamètre doit être supérieur ou égal au carré de la longueur fx Li. L'invention concerne également un masque destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un ou plusieurs liquides, dans lequel la surface inférieure du masque comporte au moins deux dénivelés ou deux rainures, les dénivelés ou rainures étant espacés les uns des autres pour délimiter au moins une partie du masque Sm, laquelle ne comporte aucune irrégularité à sa surface, susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide sur une surface d'incubation Si, et dont la projection sur un gel est égale ou supérieure à la surface d'incubation Si du gel sur laquelle le liquide peut être étalé, les dénivelés et les rainures ayant une hauteur suffisante pour que le liquide puisse être maintenu par capillarité sur la susdite surface d'incubation Si du gel. Dans ce mode de réalisation de l'invention, la partie Sm du masque n'est limitée ni par le bord du gel, ni par le bord du masque, mais par au moins deux dénivelés ou deux rainures, qui ont une hauteur suffisante, et éventuellement une largeur suffisante, pour que le liquide puisse être maintenu par capillarité sur la susdite surface d'incubation Si du gel et ne pas dépasser les limites de la surface d'incubation Si du gel ou les limites de la projection de la surface Sm sur le gel. Les rainures peuvent traverser la totalité du masque, et on les désignera par "rainures creuses". Pour que les rainures creuses maintiennent le liquide par capillarité, il faut que leurs dimensions soient telles qu'elles ne puissent pas servir de réservoir avec un rassemblement éventuel du liquide à l'intérieur dudit réservoir, et donc qu'elles aient avantageusement une largeur supérieure ou égale à 2 mm, et une hauteur il supérieure ou égale à 0,2 mm, avantageusement 0,5 mm et de préférence 1 mm. Les dénivelés ou rainures encadrent une piste de migration et sont avantageusement rectilignes. En général, les pistes de migration ont la forme de bande rectangulaire, ayant par exemple les dimensions suivantes: longueur d'environ 10 mm à environ 100 mm, largeur d'environ 2 mm à environ 80 mm. Lorsqu'une piste de migration est encadrée par deux rainures, les deux autres bords de la piste de migration peuvent être constitués par une partie de deux des bords du gel ou de deux des bords du masque, ou par deux autres rainures perpendiculaires aux deux autres rainures précédemment définies. Lorsqu'il y a plusieurs pistes de migration, celles-ci sont avantageusement telles que leurs bords de plus petite dimension sont dans un même alignement. L'invention a également pour objet un masque destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un seul liquide comportant un seul évidement traversant le masque, destiné à permettre le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un seul liquide sur un gel selon une surface d'incubation Si du gel. Ce mode de réalisation concerne le cas o on veut déposer, étaler et incuber un seul liquide. Dans ce cas, on envisage un seul évidement pour effectuer le dépôt du liquide. Cet évidement peut avoir la forme d'une fente allongée, ayant par exemple les dimensions suivantes: longueur 50 mm, largeur 1,5 mm. L'invention concerne également un masque destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation de plusieurs liquides sur un gel selon des surfaces d'incubation respectives Si 1 à Si,, ou d'un liquide sur un gel selon plusieurs surfaces d'incubation Si 1 à Si,, N variant de 2 à 50, ce masque étant tel que sa surface inférieure comporte des dénivelés ou des rainures, les dénivelés ou rainures étant espacés les uns des autres pour délimiter plusieurs parties du masque Sm 1 à Smn, n variant de 2 à 50, ne comportant aucune irrégularité à leur surface, susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide sur les surfaces Si 1 à Sin, et dont la projection sur le gel est supérieure ou égale aux surfaces d'incubation Si 1 à Sin du gel, sur lesquelles le liquide doit être étalé, les dénivelés et les rainures ayant une hauteur suffisante pour que le liquide puisse être maintenu par capillarité sur les susdites surfaces d'incubation Si 1 à Sin du gel. Ce cas correspond au dépôt de plusieurs liquides sur des surfaces d'incubation respectives ou d'un liquide sur plusieurs surfaces d'incubation Si 1 à Sin. Pour assurer le dépôt, l'étalement et l'incubation du liquide sur la surface Si, on peut envisager que l'orifice qui sert au dépôt ait un volume tel qu'il soit susceptible de constituer un réservoir présentant une capacité de rétention du liquide en excès pour assurer l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si, même si en cours d'incubation, une légère quantité de réactif s'est évaporée (cf Figure 6 a). On peut procéder autrement pour assurer le dépôt, l'étalement et l'incubation du liquide sur la surface d'incubation Si En effet, si le gel et le masque sont maintenus sensiblement parallèles entre eux, il peut être utile d'incliner l'ensemble gel et masque selon une rotation autour d'un axe sensiblement parallèle à l'un des bords du gel ou à l'un des bords du masque, de telle sorte que le liquide descende par gravité en direction de la surface d'incubation Si qui doit être recouverte (cf Figure 6 b). On peut également, afin d'assurer le dépôt, l'étalement et l'incubation du liquide, maintenir le gel en position sensiblement horizontale et incliner légèrement le masque par rotation autour d'un axe parallèle à l'un des bords du masque ou à l'un des bords du gel, et situé au voisinage du bord de la surface d'incubation de telle sorte que la distance entre le gel et le masque au niveau de cet axe soit plus faible que la distance entre le gel et le masque dans la zone opposée à cet axe (cf Figure 6 c). Etant donné que les forces de capillarité sont plus importantes au voisinage de cet axe, le liquide se répartit par capillarité sur la surface d'incubation si. L'invention a également pour objet un masque tel que décrit précédemment dans lequel l'orifice de dépôt a un volume tel qu'il est susceptible de constituer un réservoir présentant une capacité de rétention du liquide en excès pour assurer l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si. Selon un mode de réalisation du masque de l'invention, l'orifice de dépôt a une forme allongée ou une forme circulaire, de préférence allongée et présente avantageusement une largeur d'environ 1 mm à environ 2 mm, notamment 1,5 mm, et une longueur d'environ 4 mm à environ 80 mm, notamment 5 mm. Selon un autre mode de réalisation, l'évidement du masque est susceptible de contenir par capillarité un volume de liquide au moins égal à V/10, V étant le volume existant entre la distance de la surface d'incubation Si et le masque, lorsque le masque et le gel sont positionnés respectivement l'un par rapport à l'autre dans des conditions telles que le liquide déposé dans l'évidement s'étale sur le gel. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, l'orifice de dépôt est situé au voisinage du milieu de la partie Sm du masque et a la forme d'une fente allongée, dont les dimensions sont telles qu'elle ne peut pas empêcher le liquide de se déposer sur la surface d'incubation Si, et dont la longueur est avantageusement la longueur de la surface d'incubation Si, la largeur avantageusement d'environ 1 mm à environ 2 mm, cet orifice de dépôt étant également susceptible d'assurer la fonction de la fente destinée à permettre le retrait de l'excès de liquide qui est étalé sur la surface Si. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, la fente destinée à permettre le retrait du liquide en excès est sensiblement parallèle à la largeur de la surface d'incubation et est positionnée de façon adjacente au bord de la surface d'incubation qui est opposé au voisinage de l'orifice de dépôt, et a avantageusement une largeur d'environ 1 mm à environ 4 mm, notamment 2 mm, et une longueur supérieure ou égale à la largeur de la surface Si, et la surface périphérique interne de la fente est perpendiculaire à la surface du masque et de préférence inclinée par rapport à la direction perpendiculaire de la surface du masque pour permettre la mise en contact directe des moyens permettant le retrait du liquide en excès avec ledit liquide en excès. Pour fixer les idées, l'inclinaison de la surface périphérique interne de la fente par rapport à la direction perpendiculaire à la surface du masque peut être d'environ 300. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, l'épaisseur du masque est d'environ 1 mm à environ mm, notamment d'environ 2 mm à environ 10 mm, et les dénivelés ont une hauteur au moins égale à 0,2 mm, avantageusement d'environ 0,5 mm à environ 20 mm, ou les rainures ont une largeur suffisante pour que, pendant l'incubation, chaque liquide maintenu par capillarité entre le masque et une surface d'incubation Si ne se mélange pas avec les liquides maintenus dans les surfaces d'incubation qui sont directement adjacentes à Si, la largeur des rainures étant d'environ 1 mm à environ 10 mm. Selon un autre mode de réalisation de l'invention, le masque comporte plusieurs parties Sm de masque, avantageusement d'environ 6 à environ 50, chacune des parties Sm comportant un orifice de dépôt, de préférence situé dans la partie de Sm dont la projection sur le gel correspond à la partie anodique du gel, ce masque comportant une fente unique destinée à permettre le retrait de l'excès de liquide qui est étalé sur les surfaces Si du gel, cette fente s'étendant de préférence perpendiculairement par rapport à la plus grande des dimensions des parties Sm du masque, et étant de préférence située dans le masque à une position telle que sa projection soit dans la région cathodique du gel. Les parties Sm sont avantageusement constituées par des rectangles, ayant par exemple une longueur supérieure ou égale à environ 10 mm à environ 80 mm et une largeur d'environ 2 mm à environ 80 mm. L'invention a également pour objet un masque tel que décrit précédemment comportant une seule partie Sm, dont les dimensions sont supérieures ou égales à celles de Si, et comportant au voisinage de l'une de ses extrémités un évidement ayant une forme allongée, et dont la longueur correspond de préférence à la largeur de la surface d'incubation Si et comportant également au voisinage de l'autre extrémité, une fente destinée au retrait de l'excès de liquide, cette fente ayant avantageusement, comme longueur, au moins la largeur de si. L'invention concerne également un masque comportant des moyens de positionnement du masque par rapport au gel tels que la distance minimum entre le gel et la partie Sm du masque soit supérieure ou égale à 0,1 mm, et la valeur de la distance maximum soit d'environ 0,5 mm à environ 2 mm, notamment 1 mm. Ces moyens peuvent être constitués par tout moyen de fixation, par exemple vis etc On peut également envisager que le masque comporte, à sa périphérie des butées susceptibles de reposer sur le gel, ces butées étant positionnées et ayant des dimensions telles qu'il n'y ait pas de contact entre la partie Sm du masque et la surface d'incubation Si. Selon un autre mode de réalisation avantageux de l'invention, la surface supérieure du masque et sa surface inférieure ne sont pas parallèles entre elles, mais forment un angle tel que, lorsque la surface supérieure du masque est positionnée parallèlement à la surface du gel, la distance minimum entre le gel et le masque soit supérieure ou égale à environ 0,1 et la valeur de la distance maximum soit d'environ 0,5 mm à environ 2 mm, notamment 1 mm. L'invention a également pour objet un ensemble comprenant un masque et un gel, permettant de réaliser une incubation sur un gel préalablement soumis à une électrophorèse ou permettant de faire des réactions croisées (cross-dot). L'invention a également pour objet un ensemble comportant des moyens permettant que les parties Sm du masque soient suffisamment proches du gel pour que le liquide destiné à être étalé sur les surfaces d'incubation Si soit maintenu par capillarité sur les surfaces d'incubation Si du gel en projection des parties Sm du masque et pour que les parties Sm du masque soient parallèles au gel ou soient inclinées par rapport au gel, de préférence selon un angle d'environ 0,5 à environ 3 , avantageusement d'environ 1,50, la distance minimum entre le masque et le gel étant avantageusement au voisinage de la fente et la distance maximum entre le masque et le gel étant avantageusement au voisinage de l'orifice de dépôt. L'invention concerne également un procédé de dépôt, d'étalement et d'incubation d'un ou plusieurs liquide(s) sur un gel (de surface Sg) selon une ou plusieurs zone(s) déterminée(s) du gel, ci-après désigné(s) par "surface d'incubation Si", caractérisé en ce que on positionne un masque, selon l'invention, par rapport au gel, de façon à ce que la partie Sm du masque soit suffisamment proche de la surface d'incubation Si, pour que le liquide destiné à être étalé sur la surface Si soit maintenu par capillarité sur ladite surface Si, et en ce que: on introduit le liquide dans l'orifice de dépôt défini ci-dessus, on maintient le masque par rapport au gel dans la position telle qu'indiquée ci-dessus, ou, si le masque et le gel sont parallèles entre eux, on incline le masque par rapport au gel pour que le liquide se répartisse par capillarité sur la surface Si, ou on incline l'ensemble gel et masque par rapport à l'horizontale de façon à ce que le liquide se répartisse sur la surface d'incubation Si par gravité, pendant un temps suffisant pour que la réaction entre le liquide et les composants, notamment protéines, déposés sur le gel, notamment par électrophorèse, puisse avoir lieu, à l'issue de l'incubation, on retire l'excès de liquide étalé sur la surface d'incubation déterminée du gel par des moyens disposés à travers la fente définie précédemment, notamment à l'aide de papier filtre, on retire le masque du gel. L'invention a également pour objet un procédé dans lequel le masque est maintenu parallèle par rapport au gel, et l'ensemble est incliné selon un angle suffisant par rapport à l'horizontale, pour que le liquide s'étale par gravité sur la surface d'incubation Si, et avantageusement selon un angle allant d'environ 50 à environ 90 e, avantageusement d'environ 30 . L'invention concerne également un procédé dans lequel le masque est maintenu selon un angle suffisant par rapport au gel pour que le liquide s'étale par capillarité sur la surface d'incubation Si, et notamment selon un angle d'environ 0,5 à environ 3 , avantageusement d'environ 1,5 . L'invention a pour objet un appareil d'électrophorèse caractérisé en ce qu'il comporte un masque tel que décrit précédemment, destiné à l'étalement et à l'incubation d'un ou de plusieurs réactifs. L'invention peut être illustrée à la lumière de la description qui suit. Ce nouveau type de masque de l'invention (masque flottant ou masque suspendu) peut être constitué d'une pièce plastique, plane et rigide, de préférence transparente (Plexiglas par exemple) ayant par exemple une épaisseur d'environ 2 à environ 10 mm et dans laquelle la surface inférieure comporte au moins une partie Sm dont la surface correspond au moins à celle de la surface du gel à recouvrir par le réactif, encore appelée "surface d'incubation Si" Cette pièce plastique est percée de part en part et perpendiculairement à sa surface d'un orifice de dépôt, de préférence de forme allongée situé à l'intérieur ou à l'extérieur de la zone d'incubation Cet orifice de dépôt permet l'introduction des réactifs au moyen d'une pipette. La partie Sm de la surface inférieure de la pièce plastique correspondant à la surface d'incubation est caractérisée par le fait qu'elle ne présente pas d'irrégularités de surface (polissage) Elle est disposée par des moyens de maintien appropriés à proximité de la surface du gel, soit parallèlement à celle-ci, soit avec une légère inclinaison, mais sans qu'il y ait contact entre la surface d'incubation Si et la partie Sm du masque. Etant donné la faible distance entre la surface du gel et la surface plastique (de 0,1 à 2 mm), le liquide introduit au moyen d'une pipette par l'orifice de dépôt se répartit par capillarité entre les deux surfaces planes (partie Sm et surface du gel) et vient recouvrir la zone du gel se trouvant en projection au-dessous de la partie Sm de la pièce plastique. Le volume introduit doit être au moins égal au volume Vo de l'espace dégagé entre les deux surfaces pour que la surface d'incubation Si soit recouverte. Un excès de liquide (réactif) par rapport à ce volume Vo pouvant aller jusqu'à 1,2 ou 1,3 fois; le volume Vo étant préféré En effet, il permet d'assurer le recouvrement du gel selon la surface d'incubation Si, même si une légère évaporation du réactif se produit lors de la phase d'incubation. En effet, cet excès de réactif va être principalement maintenu par capillarité au niveau de l'orifice de dépôt, dans la mesure o celui-ci se présente sous une forme allongée de faible largeur ( 1 à 2 mm) (pour que les phénomènes de capillarité s'y développent) et de longueur suffisante (supérieure ou égale à 4 mm) pour assurer un volume suffisant de liquide maintenu par capillarité (voir exemples ci- après). Si l'on ajoute, par l'orifice de dépôt, une quantité de réactif légèrement supérieure (x 1,1) à la somme du volume Vo et du volume de liquide susceptible d'être maintenue par capillarité au niveau de l'orifice de dépôt, cet excès se répartit de façon homogène à la périphérie de la surface d'incubation de la pièce plastique, entraînant une légère augmentation de la surface du gel soumise à l'incubation, mais cela de façon régulière, cet excès étant toujours maintenu au niveau de la pièce plastique par capillarité. Dans le cas de l'utilisation d'un seul réactif, le seul inconvénient est une consommation inutile de réactif. Dans le cas d'incubation de zones adjacentes avec des réactifs différents, il suffira que l'espacement entre les surfaces d'incubation contigues soit suffisant pour tolérer cette augmentation de surface traitée, sans qu'il y ait risque que les surfaces traitées par deux réactifs différents se rejoignent. De toute façon, l'écartement entre les zones doit être supérieur ou égal à 2 ou 3 mm, pour que les phénomènes de diffusion des réactifs dans le gel se produisant pendant la phase d'incubation ( 5 ' à 30 ') n'aboutissent pas à des interactions entre les différents réactifs qui ont diffusé dans le gel Pour des temps d'incubation plus longs, par exemple 1 h, un espacement supérieur ou égal à 4 ou 5 mm sera nécessaire, mais cela est également vrai pour les autres types de procédé précédemment utilisés. La forme allongée de l'orifice de dépôt, outre le rôle de réserve de réactif mentionnée plus haut, présente l'avantage de permettre une introduction facile du réactif sur le gel, par exemple en faisant couler le liquide sur la paroi verticale de l'orifice, à une extrémité de celui-ci. Dans le cas d'un orifice circulaire de même diamètre que la largeur de l'orifice précédent, il faut assurer une étanchéité par friction entre l'embout de section circulaire de la pipette et l'orifice, et injecter avec un légère pression le réactif à la surface du gel, cette pression ayant une valeur telle qu'elle soit égale ou supérieure à celle nécessaire à vaincre les forces de capillarité qui se développent au niveau de l'orifice circulaire de faible section Dans ce cas, il est avantageux que la surface Sm soit supérieure à Si et que le volume de quantité injectée soit inférieur au volume compris entre la surface Sm et le gel. La largeur de l'orifice de dépôt est telle que l'extrémité de l'embout tronconique d'une pipette puisse y pénétrer sans toutefois lui permettre de descendre au-delà du plan de la surface plastique situé en regard du gel L'extrémité de la pipette ne peut donc en aucun cas venir endommager la surface du gel lors de l'introduction des réactifs. Un autre avantage du dispositif du masque suspendu est que les phénomènes d'évaporation pouvant survenir lors de l'incubation sont extrêmement réduits, puisqu'ils ne peuvent se produire qu'à la périphérie de la surface d'incubation et au niveau de l'orifice de dépôt. Après la phase d'incubation, il convient d'éliminer le réactif en excès. Dans le cas o plusieurs réactifs sont utilisés sur des zones contigues, on peut procéder comme suit. Les différentes surfaces d'incubation sont généralement des rectangles dont les grands côtés sont parallèles et les petits côtés sont colinéaires. En pratiquant le long de ces petits côtés une fente allant de part et d'autre de la pièce plastique, on peut introduire par celle-ci une feuille de papier filtre venant s'appliquer sur le gel et affleurer le liquide maintenu entre le masque plastique et le gel. Par capillarité, le liquide monte dans le papier filtre et est évacué de la ou des surfaces d'incubation. Cependant, pour faciliter cette évacuation du liquide par pompage au moyen de papier filtre, on a intérêt à ce que le masque suspendu ne soit pas parfaitement parallèle au gel, mais fasse un dièdre avec un très petit angle 1 à 2 C, dièdre dont l'arête est du côté o l'on veut pomper le liquide par le papier filtre En effet, dans ces conditions, les forces de capillarité sont plus importantes du côté o la distance gel- masque est la plus faible et le liquide interposé entre ces deux surfaces a tendance à s'y rassembler et donc à faciliter son élimination par le papier filtre, lorsque celui-ci est introduit dans la fente destinée à cet effet. DESCRIPTION DES FIGURES La Figure 1 représente une vue en coupe et une vue de dessus d'un masque de l'invention destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un seul liquide sur une surface d'incubation Si. ( 1) représente l'orifice de dépôt et ( 2) représente la fente destinée à pomper l'excès de réactif. Sm représente la surface utile du masque délimitée, sur un côté par la fente ( 2), et sur chacun des trois autres côtés par un dénivelé. La Figure 2 représente: * une vue en coupe C-C selon la direction d'une rainure, * une vue en coupe D-D passant par un orifice de dépôt, et * une vue de dessus d'un masque destiné à recevoir plusieurs liquides devant recouvrir différentes surfaces d'incubation, en l'occurrence six. ( 1) correspond aux différents évidements, ( 2) correspond à la fente et ( 3) correspond aux rainures destinées à délimiter les différentes surfaces d'incubation Si 1 à Si 6 Les surfaces utiles Sm 1 à Sm 6 correspondant aux surfaces d'incubation Si 1 à Si 6 sont indiquées. Les Figures 3 a et 3 b représentent un ensemble gel-masque destiné au dépôt d'un seul réactif sur la totalité du gel. Dans ces deux figures, ( 1) représente l'orifice de dépôt Le périmètre du masque est en pointillés et le périmètre du gel est en traits pleins. La fente, non représentée, destinée à pomper le liquide soit est adjacente au bord de Si opposé au voisinage de l'orifice de dépôt (pour Figure 3 a), soit est située à l'intérieur de Si (pour Figure 3 b). La partie hachurée correspond à la surface d'incubation Si, qui, dans ces deux cas, est égale à la surface Sg du gel. La Figure 3 a représente le cas o la surface utile du masque Sm est supérieure à la surface Sg du gel. La Figure 3 b représente le cas o la surface utile Sm du masque est égale à la surface Sg du gel. Les Figures 4 a, 4 b et 4 c représentent un ensemble gel-masque pour le dépôt d'un seul réactif sur une partie de la surface Sg du gel Dans ces cas, la surface d'incubation Si est inférieure à la surface Sg du gel. Le périmètre du masque est en pointillés et le périmètre du gel est en traits pleins. La partie hachurée correspond à la surface d'incubation Si. Dans ces trois Figures, ( 1) représente l'orifice de dépôt. Dans ces trois Figures, la fente destinée à pomper l'excès de liquide est située au voisinage de l'axe xx'. Plus précisément, la Figure 4 a correspond au cas o la surface utile Sm du masque est supérieure à Si et la surface utile Sm du masque est supérieure à Sg, l'orifice de dépôt ( 1) étant à l'intérieur ou à l'extérieur de Si. xx' correspond à la limite inférieure de la surface Si. yy' correspond à la limite supérieure de Si. zz' correspond à la limite supérieure du gel. La Figure 4 b correspond au cas o la surface utile Sm du masque est égale à la surface d'incubation Si, et la surface utile Sm du masque est inférieure à la surface du gel Sg, l'orifice ( 1) de dépôt étant à l'intérieur de Si. xx' correspond à la limité inférieure de Si. La Figure 4 c correspond au cas o la surface utile Sm du masque est supérieure à la surface d'incubation Si, et la surface utile Sm du masque est inférieure à la surface Sg du gel L'orifice de dépôt est à l'intérieur ou à l'extérieur de la surface d'incubation Si. xx' correspond à la limite inférieure de Si ou de Sm. yy' correspond à la limite supérieure de Si. zz' correspond à la limite supérieure de Sm. Les Figures 5 a et 5 b représentent le cas de plusieurs réactifs ou d'un même réactif sur plusieurs surfaces d'incubation distinctes Si 1 à Si,, d'un même gel. Les orifices de dépôt sont désignés par ( 1) Les surfaces d'incubation Si 1 à Sin sont hachurées La surface du gel est délimitée par les traits pleins et les surfaces utiles Sm 1 à Smn du masque sont délimitées par les traits pointillés. Dans la Figure 5 a, xx' représente l'alignement des bords inférieurs des surfaces d'incubation Si 1 à Si,,. Dans la Figure 5 b, xx' représente l'alignement des bords inférieures des surfaces d'incubation Si 1 à Si,,; yy' représente l'alignement des bords supérieurs des surfaces d'incubation Si 1 à Sin; zz' représente l'alignement des bords supérieurs des surfaces Sm 1 à Sm,,. Dans les Figures 5 a et 5 b, la fente, non représentée, est au voisinage de l'axe xx'. Les Figures 6 a, 6 b, 6 c, 6 d, 6 e, 6 f, 6 g 6 h et 6 i représentent des schémas en coupe de différentes * configurations possibles des masques de l'invention. La Figure 6 a correspond au cas o la surface Sm est plane et parallèle au gel, le gel et la surface Sm étant en position horizontale. On a représenté par ( 1) l'orifice d'introduction du réactif, par (e) la distance séparant la surface Sm du gel et par des hachures la surface Si devant être soumise à incubation Dans ce cas, le volume de réactif à introduire doit être supérieur ou égal à Sm x e. On note que la surface Sm est limitée, d'une part, par la fente ( 2) destinée à pomper l'excès de liquide, et, d'autre part, par une partie en dénivelé concave. La Figure 6 b représente le cas o la surface Sm est parallèle au gel, comme indiqué dans la Figure 6 a, à la seule différence que l'ensemble gel et masque est incliné du côté de la fente ( 2) destinée à pomper l'excès de liquide, l'angle formé entre l'ensemble masque et gel par rapport à l'horizontal étant d'environ 150 Dans ce cas, le volume du réactif introduit doit être supérieur ou égal à Si x e. La Figure 6 c représente le cas o la surface Sm fait un petit angle d'environ 1 à environ 2 e avec le gel, qui lui-même est en position horizontale On a représenté par (el) la distance minimale entre Sm et la surface Si, et par (e 2) la distance maximale entre Sm et Si Dans ce cas, le volume du réactif introduit est supérieur ou égal à Si x (el + e 2). La Figure 6 d correspond au cas o le masque est constitué par une surface supérieure plane et une surface inférieure plane, qui forment un angle entre elles (dièdre) On a représenté par (el) la distance minimale entre Sm et Si et par (e 2) la distance maximale entre Sm et Si. Dans ce cas, le volume du réactif introduit est supérieur ou égal à Si x (el + e 2). La Figure 6 e correspond au cas o le masque est constitué par deux surfaces planes formant entre elles un angle (dièdre) Dans ce cas, la surface Sm du masque est égale à (S'm + S"m) La surface S'm est la surface qui est parallèle au gel, qui lui-même est en position horizontale, et la surface S"'m fait un angle a avec la surface S'm La distance minimale entre la surface S"'m et la surface Si est el et la distance entre la surface S'm et la surface Si est e 2 Dans ce cas, le volume du réactif introduit est supérieur ou égal à S'm x e 2 avec en plus la condition que: S'm x e 2 > (Si S"mcosa)e 2 + S"mcosa(el + e 2) Sur la Figure 6 e, on a représenté le cas o la surface d'incubation va jusqu'à la fente ( 2), mais on pourrait également envisager que la surface d'incubation s'arrête à l'intersection ( 3) des surfaces S'm et S"'m Cette configuration est représentée sur la Figure 6 f. En effet, dans ces conditions, la quantité de réactif par unité de surface étalé sur la zone d'incubation est constante, ce qui n'est pas le cas de l'exemple 6 e. Or, cette constance de la quantité de réactif par unité de surface du gel soumis à l'incubation peut être nécessaire principalement lorsque l'incubation est prolongée (parce que la cinétique de la réaction d'incubation est lente) et que le réactif n'est pas en fort excès par rapport aux besoins de la réaction. Dans ces conditions, pour obtenir le même résultat quelle que soit la position de la zone d'incubation, on a intérêt à avoir au niveau de la zone d'incubation une équidistance entre le gel et le masque La zone correspondant au rétrécissement de l'espace gel-masque est soumise à incubation, bien que cela ne soit pas nécessaire, puisqu'elle est, dans ce cas, extérieure à la zone d'incubation et entraîne une légère surconsommation de réactif. La Figure 6 g correspond au cas d'un masque avec une surface plane S'm parallèle au gel en position horizontale prolongée par une surface S"m cylindrique de rayon R, tangente à la surface S'm Le rayon R est du même ordre de grandeur ou supérieur à la longueur Li de Si ( 1) représente l'orifice de dépôt et ( 2) la fente. Les Figures 6 h et 6 i correspondent au cas d'un masque dans lequel la surface supérieure et la surface inférieure comportent toutes les deux une surface cylindrique. Lorsque la surface supérieure est concave, on se reporte à la Figure 6 h et lorsqu'elle est convexe, on se reporte à la Figure 6 i. Dans les deux cas, le diamètre des surfaces cylindriques inférieures est supérieur au carré de la longueur Li de Si. EXEMPLES Exemple I: Masque destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un seul réactif sur la totalité de la surface du gel: Dans ces conditions, la surface du gel peut être soit inférieure à la surface Sm du masque (Figure 3 a), soit égale à la surface Sm du masque (Figure 3 b). Lorsque le gel est en position horizontale et parallèle à la surface inférieure du masque, la distance entre le gel et le masque est e Par conséquent le volume de réactif à introduire est au moins égal à Si x e = Sg x e. Dans le cas d'un excès de réactif qui peut être nécessaire pour compenser les pertes dues à l'évaporation lors de l'incubation, celui-ci se répartit d'une part au niveau de l'orifice de dépôt, dans la mesure o celui-ci a des dimensions telles que peuvent se développer des forces de capillarité, et, d'autre part, régulièrement à la périphérie de Si. Exemple II Masque pour le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un réactif unique sur une partie du gel: On peut envisager la configuration suivante. La surface Sm du masque est supérieure à la surface d'incubation Si et la surface du masque Sm est supérieure ou égale à la surface Sg du gel, l'orifice de dépôt étant à l'intérieur ou à l'extérieur de la surface d'incubation Si (Figure 4 a). Si le gel et le masque sont parallèles entre eux et séparés par une distance e, le volume de réactif introduit est Si x e. Pour assurer la présence du réactif sur la zone d'incubation Si, l'ensemble gel et masque peut être incliné par rotation autour d'un axe parallèle à xx', de telle sorte que le réactif descende par gravité du côté de la zone du gel à recouvrir, c'est-à-dire entre xx' et yy'. Afin d'assurer le recouvrement de la surface d'incubation Si par le réactif, une autre possibilité est de maintenir le gel en position horizontale et d'incliner légèrement le masque par rotation autour d'un axe parallèle à xx', de telle sorte que la distance gel-masque el au niveau de xx' soit plus faible que la distance gel-masque e 2 au niveau de yy'. Les forces de capillarité étant plus importantes au voisinage de xx', le réactif se répartit par capillarité entre xx' et yy'. Dans ce cas, le masque fait alors avec le plan du gel un angle a Si Li est la distance en mm entre xx' et yy', tga est inférieur ou égale à 2. Li Dans ces conditions, le volume de réactif à introduire pour recouvrir Si est Si (e 1 + e 2) e 1 étant supérieur ou égal à 0,1 mm car il ne faut pas créer de contact entre le gel et le masque, e 2 étant inférieur ou égal à 2 mm pour que les forces de capillarité soient suffisantes. Un excès de réactif permettant de compenser les effets de l'évaporation pouvant se produire lors de l'incubation, se répartit à partir de yy', entre yy' et zz'. Exemple III: Masque pour le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un réactif unique sur une partie du qel: La surface Sm du masque est égale à la surface d'incubation Si, et la surface Sm du masque est inférieure à la surface Sg du gel, l'orifice de dépôt étant à l'intérieur de la surface d'incubation (Figure 4 b). Si le gel est en position horizontale et est parallèle au masque, à la distance e, le volume de liquide à introduire est Si x e = Sm x e. Un léger excès de réactif se répartit d'une part au niveau de l'orifice de dépôt (s'il possède des dimensions appropriées pour que s'y développent des forces de capillarité) et d'autre part régulièrement à la périphérie de Si Dans ce cas, il n'est pas nécessaire d'avoir à incliner l'ensemble gel et masque, ni de créer un angle entre le plan du gel et celui du masque. Exemple IV: Masque pour le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un réactif unique sur une partie du qel: La surface Sm du masque est supérieure à la surface d'incubation Si, et la surface Sm du masque est inférieure à la surface Sg du gel, l'orifice de dépôt étant à l'intérieur ou à l'extérieur de la surface d'incubation (Figure 4 c). a) Si le gel et le masque sont parallèles, séparés par une distance e, le volume de réactif introduit est Si x e. Pour assurer la présence du réactif entre xx' et yy', l'ensemble gel et masque est incliné par rotation autour d'un axe parallèle à xx', de telle sorte que xx' soit en position plus basse que yy' et que le liquide descende par gravité jusqu'à xx' et se rassemble entre xx' et yy'. L'angle maximum autorisé pour que le liquide reste maintenu par capillarité entre xx' et yy' est d'autant plus important que la distance e est plus faible Il peut théoriquement être de 90 , pour une distance e de 0,2 mm, dans le cas o la distance Li entre xx' et yy' n'excède pas 7,5 cm et si le réactif est de l'eau (loi de Jurin). b) Si le gel est en position horizontale, pour assurer la présence du réactif entre xx' et yy', le masque peut être légèrement incliné Ceci peut être fait de telle sorte que l'écartement gel-masque e 1 au niveau de xx' soit plus faible que l'écartement e 2 au niveau de yy' (cf exemple II) Le volume de réactif est alors: Si (e 1 + e 2) Exemple V Cas de la répartition de plusieurs réactifs, ou éventuellement d'un même réactif, mais sur plusieurs surfaces distinctes d'incubation d'un même qel: Ce dernier cas (même réactif sur plusieurs surfaces distinctes) peut être envisagé pour limiter la consommation de réactif. Si le gel et le masque sont horizontaux et parallèles entre eux, séparés d'une distance e, le volume de réactif à introduire sur chaque surface d'incubation (Si 1 à Sin) est Si 1 x e, Si 2 x e, etc (Figure 5 a). Cet exemple est analogue à l'exemple III. Exemple VI: Cas de la répartition de plusieurs réactifs, ou éventuellement d'un même réactif, mais sur plusieurs surfaces distinctes d'incubation d'un même gel: a) Si le gel et le masque sont parallèles entre eux, séparés d'une distance e, on se retrouve dans des conditions analogues à celle de l'exemple I Va. b) Si le gel est en position horizontale et si le masque est légèrement incliné, on se retrouve dans des conditions analogues à celle de l'exemple I Vb. REVENDICATIONS 1 Masque rigide destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un ou plusieurs liquide(s) sur un gel (de surface totale Sg) selon une ou plusieurs zone(s) déterminée(s) du gel, ci-après désignée(s) par "surface d'incubation Si", ce masque comportant: une surface supérieure et une surface inférieure, la distance séparant la surface inférieure et la surface supérieure constituant l'épaisseur du masque, au moins un orifice destiné à permettre le dépôt et l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si du gel, et constitué par un évidement traversant le masque sur la totalité de son épaisseur, et/ou au moins une fente traversant le masque sur la totalité de son épaisseur et destinée à permettre le retrait de l'excès de liquide présent sur la surface d'incubation Si du gel, cette fente étant située dans la partie du masque dont la projection se trouve soit dans la surface d'incubation Si, soit en dehors de la surface d'incubation Si, la surface inférieure du masque étant destinée à être déposée à proximité de la surface Sg du gel, dans des conditions telles que la surface inférieure du masque ne soit pas en contact avec la surface d'incubation Si, cette surface inférieure étant en outre telle qu'elle ne comporte, sur au moins une partie d'elle- même désignée par Sm, aucune irrégularité à sa surface susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si, la surface Sm étant délimitée par rapport au reste de la surface inférieure, de telle sorte que le liquide ne puisse s'étaler que sur la surface Si du gel en projection de Sm, cette projection de Sm sur le gel étant supérieure ou égale à la surface d'incubation Si du gel. 2 Masque selon la revendication 1, dans lequel la surface Sm est plane ou incurvée, notamment cylindrique, de diamètre supérieur ou égal au carré de la longueur de la surface d'incubation, ou est composée de facettes élémentaires, planes ou incurvées, notamment cylindriques, raccordées entre elles, ces différentes facettes, ainsi que leurs raccords, étant tels qu'il n'y a pas obstacle à l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si. 3 Masque selon la revendication 1, destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un ou plusieurs liquides, dans lequel la surface inférieure du masque comporte au moins deux dénivelés ou deux rainures, les dénivelés ou rainures étant espacés les uns des autres pour délimiter au moins une partie du masque Sm, laquelle ne comporte aucune irrégularité à sa surface, susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si, et dont la projection sur un gel est égale ou supérieure à une surface d'incubation Si du gel sur laquelle le liquide peut être étalé, les dénivelés et les rainures ayant une hauteur suffisante pour que le liquide puisse être maintenu par capillarité sur la susdite surface d'incubation Si du gel. 4 Masque selon la revendication 1, destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation d'un seul liquide comportant un seul évidement traversant le masque, destiné à permettre le dépôt, l'étalement et l'incubation d'un seul liquide sur un gel selon une surface d'incubation Si du gel. Masque selon la revendication 1, destiné au dépôt, à l'étalement et à l'incubation de plusieurs liquides sur un gel selon des surfaces d'incubation respectives Si 1 à Sin ou d'un liquide sur un gel selon plusieurs surfaces d'incubation Si 1 à Sin, N variant de 2 à 50, ce masque étant tel que sa surface inférieure comporte des dénivelés ou des rainures, les dénivelés ou rainures étant espacés les uns des autres pour délimiter plusieurs parties du masque Sm, à Smn, n variant de 1 à 50, ne comportant aucune irrégularité à leur surface, susceptible d'être un obstacle à l'étalement du liquide sur les surfaces Si 1 à Sin, et dont la projection sur le gel est supérieure ou égale aux surfaces d'incubation Si, à Sin du gel, sur lesquelles le liquide doit être étalé, les dénivelés et les rainures ayant une hauteur suffisante pour que le liquide puisse être maintenu par capillarité dans les susdites surfaces d'incubation Si 1 à Si, du gel. 6 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel l'orifice de dépôt a un volume tel qu'il est susceptible de constituer un réservoir présentant une capacité de rétention du liquide en excès pour assurer l'étalement du liquide sur la surface d'incubation Si. 7 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel l'orifice de dépôt a une forme allongée ou une forme circulaire, de préférence allongée et présente avantageusement une largeur d'environ 1 mm à environ 2 mm, notamment 1,5 mm, et une longueur d'environ 4 mm à environ 80 mm, notamment 5 mm. 8 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel l'évidement est susceptible de contenir par capillarité un volume de liquide au moins égal à V/10, V étant le volume existant entre la distance de la surface d'incubation Si et le masque, lorsque le masque et le gel sont positionnés respectivement l'un par rapport à l'autre dans des conditions telles que le liquide déposé dans l'évidement s'étale sur le gel. 9 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel l'orifice de dépôt est situé au voisinage du milieu de la partie Sm du masque et a la forme d'une fente allongée, dont les dimensions sont telles qu'elle ne peut pas empêcher le liquide de se déposer sur la surface d'incubation Si, et dont la longueur est avantageusement la longueur de la surface d'incubation Si, la largeur avantageusement d'environ 1 mm à environ 2 mm, cet orifice de dépôt étant également susceptible d'assurer la fonction de la fente destinée à permettre le retrait de l'excès de liquide qui est étalé sur la surface Si. Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel la fente destinée à permettre le retrait du liquide en excès est sensiblement parallèle à la largeur de la surface d'incubation et est positionnée de façon adjacente au bord de la surface d'incubation qui est opposé au voisinage de l'orifice de dépôt, et a avantageusement une largeur d'environ 1 -m à environ 4 mm, notamment 2 mm, et une longueur supérieure ou égale à la largeur de la surface Si, et la surface périphérique interne de la fente est perpendiculaire à la surface du masque et de préférence inclinée par rapport à la direction perpendiculaire de la surface du masque pour permettre la mise en contact directe des moyens permettant le retrait du liquide en excès avec ledit liquide en excès. 11 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel l'épaisseur du masque est d'environ 1 mm à environ 20 mm, notamment d'environ 2 mm à environ 10 mm, et les dénivelés ont une hauteur au moins égale à 0,2 mm, avantageusement d'environ 0,5 mm à environ 20 mm, ou les rainures ont une largeur suffisante pour que, pendant l'incubation, chaque liquide maintenu par capillarité entre le masque et une surface d'incubation Si ne se mélange pas avec les liquides maintenus dans les surfaces d'incubation qui sont directement adjacentes à Si, la largeur des rainures étant d'environ 1 mm à environ 10 mm. 12 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, comportant plusieurs parties Sm de masque, avantageusement d'environ 6 à environ 50, chacune des parties Sm comportant un orifice de dépôt, de préférence situé dans la partie de Sm dont la projection sur le gel correspond à la partie anodique du gel, ce masque comportant une fente unique destinée à permettre le retrait de l'excès de liquide qui est étalé sur les surfaces Si du gel, cette fente s'étendant de préférence perpendiculairement par rapport à la plus grande des dimensions des parties Sm du masque, et étant de préférence située dans le masque à une position telle que sa projection soit dans la région cathodique du gel. 13 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, comportant une seule partie Sm, dont les dimensions sont supérieures ou égales à celles de Si, et comportant au voisinage de l'une de ses extrémités un évidement ayant une forme allongée, et dont la longueur correspond de préférence à la largeur de la surface d'incubation Si et comportant également au voisinage de l'autre extrémité, une fente destinée au retrait de l'excès de liquide, cette fente ayant avantageusement, comme longueur, au moins la largeur de si. 14 Masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, comportant des moyens de positionnement du masque par rapport au gel tels que la distance minimum entre le gel et la partie Sm du masque soit supérieure ou égale à 0,1 mm, et la valeur de la distance maximum soit d'environ 0,5 mm à environ 2 mm, notamment 1 mm. Ensemble comprenant un masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 14, et un gel permettant de réaliser une incubation sur un gel préalablement soumis à une électrophorèse ou permettant de faire des réactions croisées (cross-dot). 16 Ensemble selon la revendication 15, comportant des moyens permettant que les parties Sm du masque soient suffisamment proches du gel pour que le liquide destiné à être étalé sur les surfaces d'incubation Si soit maintenu par capillarité sur les surfaces d'incubation Si du gel en projection des parties Sm du masque et pour que les parties Sm du masque soient parallèles au gel ou soient inclinées par rapport au gel, de préférence selon un angle d'environ 0,5 à environ 3 , avantageusement d'environ 1,50, la distance minimum entre le masque et le gel étant avantageusement au voisinage de la fente et la distance maximum entre le masque et le gel étant avantageusement au voisinage de l'orifice de dépôt. 17 Procédé de dépôt, d'étalement et d'incubation d'un ou plusieurs liquide(s) sur un gel (de surface Sg) selon une ou plusieurs zone(s) déterminée(s) du gel, ci-après désigné(s) par "surface d'incubation Si", caractérisé en ce que on positionne un masque, selon l'une quelconque des revendications 1 à 14, par rapport au gel, de façon à ce que la partie Sm du masque soit suffisamment proche de la surface d'incubation Si, pour que le liquide destiné à être étalé sur la surface Si soit maintenu par capillarité sur ladite surface Si, et en ce que: on introduit le liquide dans l'orifice de dépôt défini ci-dessus, on maintient le masque par rapport au gel dans la position telle qu'indiquée ci-dessus, ou, si le masque et le gel sont parallèles entre eux, on incline le masque par rapport au gel pour que le liquide se répartisse par capillarité sur la surface Si, ou on incline l'ensemble gel et masque par rapport à l'horizontale de façon à ce que le liquide se répartisse sur la surface d'incubation Si par gravité, pendant un temps suffisant pour que la réaction entre le liquide et les composants, notamment protéines, déposés sur le gel, notamment par électrophorèse, puisse avoir lieu, à l'issue de l'incubation, on retire l'excès de liquide étalé sur la surface d'incubation déterminée du gel par des moyens disposés à travers la fente définie précédemment, notamment à l'aide de papier filtre, on retire le masque du gel. 18 Procédé selon la revendication 17, dans lequel le masque est maintenu parallèle par rapport au gel, et l'ensemble est incliné selon un angle suffisant par rapport à l'horizontale, pour que le liquide s'étale par gravité sur la surface d'incubation Si, et avantageusement selon un angle allant d'environ 5 à environ 90 , avantageusement d'environ 30 . 19 Procédé selon la revendication 18, dans lequel le masque est maintenu selon un angle suffisant par rapport au gel pour que le liquide s'étale par capillarité sur la surface d'incubation Si, et notamment selon un angle d'environ 0,5 à environ 3 e, avantageusement d'environ 1,50. Appareil d'électrophorèse caractérisé en ce qu'il comporte un masque selon l'une quelconque des revendications 1 à 14, ou un ensemble selon l'une des revendications 15 ou 16, destiné à l'étalement et à l'incubation d'un ou de plusieurs réactifs.