FR 2667606 A1 19920410 FR 9104869 A 19910419 La présente invention concerne un abrasif de polissage mécano-chimique destiné à être utilisé dans le polissage de substrats durs tels que des céramiques, des matières cristallines, le verre et des matériaux similaires dont les surfaces doivent être polies à un haut degre. L'aspect financier du polissage et de l'usinage de céramiques peut souvent constituer la partie la plus coûteuse du procédé de production de céramiques Des considérations d'ordre économique pour le polissage de céramiques impliquent à la fois le temps et les produits consommables utilisés Pour le polissage final de cérami- ques, des abrasifs à base de diamant sont largement utilisés, ces abrasifs étant coûteux et le procédé de polissage qui les utilise étant long. Inversement, l'usinage de céramiques peut être très préjudiciable Contrairement à l'usinage des métaux qui sont ductiles, les céramiques sont généralement très cassantes La nature cassante des céramiques les rend très sensibles à la cassure sous la surface Cette détérioration sous la surface affecte défavorablement des propriétés physiques importantes des céramiques Ces propriétés physiques affectées défavorablement par l'usinage compren- nent une réduction de la résistance mécanique de la céramique, des variations de ses propriétés magnétiques et même des modifications de ses propriétés électroniques. L'usinage de céramiques élaborées a été accompli traditionnellement par des abrasifs durs tels que le diamant et le carbure de silicium Bien que cela ait donné des surfaces qui sont acceptables dans certaines circonstances, il subsiste encore un certain degré de détérioration de la surface et de la partie sous-jacente lors de l'utilisation de ces composés L'utilisation d'abrasifs de polissage moins durs, tels que la silice colloïdale, pour l'usinage de céramiques élaborées a été prise en considération Il a été démontré que la silice colloïdale polissait l'alumine, la silice et le silicium. En fait, la silice colloïdale a été abondamment utilisée pour polir des tranches de silicium Toutefois, l'utilisation de silice colloïdale pour polir des cérami- ques élaborées tend à donner un produit céramique élaboré poli présentant un relief important de phase On suppose que le relief est dû à la dissolution chimique par la silice colloïdale de grains sélectifs sur les matières céramiques élaborées. L'utilisation de silice colloïdale pour polir des surfaces de silicium, des métaux, le verre, des grenats et des saphirs est révélée dans l'article de H W Gutsche et J W Moody, intitulé "Polishing of Sapphire with Colloidal Silica", J Electrical Chemical Soc 125, no 1, pages 136-138 ( 1978) Cet article fait connaître que la silice colloïdale exerce un effet chimique sur le saphir qui est un matériau dur, permettant à la silice colloïdale de polir le saphir L'article ne dit rien concernant l'association de la silice colloïdale à d'autres substances permettant de polir des matériaux durcis. L'utilisation de Ca CO 3, Ba CO 3 et Mg O comme abrasifs de polissage mécano-chimique est révélée dans un article de H Bora et R J Stokes, publié dans Study of Mechanochemical Machining of Ceramics and the Effect on Thin Film Behavior, rapport du gouvernement des Etats-Unis d'Amérique N O 00014-80-C-0437-1 (du 30 Avril 1981) Ce rapport décrit en détail le polissage de minces couches de Mg O, A 1203 et Si par divers abrasifs comprenant le sel de roche, la calcite, la fluorite et divers autres abrasifs comprenant le verre à vitre Les trois composés mentionnés ci-dessus se sont montrés capables d'accomplir le polissage mécano-chimique d'un ou plusieurs des matériaux ci-dessus. Aucun des abrasifs mécano-chimiques utilisés n'a été associé à de la silice colloïdale. Le polissage mécano-chimique du saphir, du silicium et de cristaux de quartz est décrit par N. Yasunaga, U Tarumi, A Obara dans "Mechanism and Applica- tion of the Mechanochemical Polishing Method Using Soft Powder", The Science of Ceramic Machining and Surface Finishing II, publication spéciale NBS 562, U S Government Printing Office, Washington, D C, pages 171-183 ( 1979). Le saphir, le silicium, le quartz ont été polis avec des milieux mécano-chimiques par voie humide et par voie sèche. Les milieux mécano-chimiques comprenaient Ba CO 3, Fe 3 04, Ca CO 3, Si O 2, Ce O 2, le diamant et Mn O 2 Le point essentiel de l'article est une description de la formation de matières constituées de silice cristalline dans l'abrasif en poudre mixte pendant le polissage d'une pièce Les matières cristallines ont été produites par polissage des matériaux durs décrits ci-dessus à de hautes températures et de hautes pressions avec l'utilisation de la poudre mixte L'article ne décrit pas l'utilisation de silice colloïdale d'une manière quelconque pour le polissage mécano-chimique. L'un des objectifs de la présente invention est de trouver un abrasif de polissage mécano-chimique peu coûteux qui soit capable de polir une pièce usinée durcie sans abrasion sélective des particules de surface de la pièce durcie. Un autre objectif de la présente invention est de trouver un procédé de polissage d'une pièce usinée durcie utilisant un abrasif mécano-chimique peu coûteux La présente invention a trait d'une façon générale à un abrasif mécano-chimique L'abrasif mécano-chimique comprend une suspension de silice colloïdale contenant un ou plusieurs abrasifs mécaniques. Selon une variante de cette forme de réalisa- tion, la présente invention réside dans un abrasif mécano- chimique comprenant une suspension de silice colloïdale et d'un abrasif mécanique choisi entre une ou plusieurs des matières du groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04, Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 2 03 et A 1203. Dans une forme de réalisation appréciée, la présente invention réside dans un abrasif de polissage mécano-chimique comprenant environ 13 à environ 99,3 pour cent en poids d'une suspension de base formée de silice colloïdale et d'environ 0,7 à environ 2,0 pour cent en poids d'un abrasif mécanique L'abrasif mécanique est en particules d'un diamètre d'environ 0,1 gm à environ 10 gm. L'abrasif mécanique est choisi entre une ou plusieurs des matières appartenant à un groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04, Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 203 et A 1203. Dans une autre forme de réalisation, la présente invention concerne un procédé de polissage d'une ou plusieurs pièces usinées avec un abrasif de polissage mécano-chimique L'abrasif de polissage mécano-chimique comprend une suspension aqueuse de silice colloïdale et d'un abrasif mécanique choisi entre une ou plusieurs des matières entrant dans le groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04,30 Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 203 et A 1203. La pièce usinée est polie par application de l'abrasif de polissage mécano-chimique à une pièce usinée directement, ou bien par l'intermédiaire d'un tampon de polissage et mise en contact du moyen de polissage avec une ou plusieurs pièces usinées pendant une période suffisante pour polir une surface de la pièce. La présente invention se rapporte à un abrasif de polissage mécanochimique et à un procédé de polissage d'une pièce usinée utilisant l'abrasif de polissage mécano- chimique L'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention comprend une matière constituée de silice colloïdale en association avec un abrasif mécanique. La matière constituée de silice colloïdale contenue dans l'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention réagit chimiquement avec les divers composants de surface qui constituent les pièces usinées durcies qui sont polies avec l'abrasif de polissage mécano- chimique La réaction chimique précise qui a lieu entre la silice colloïdale et les éléments et molécules à la surface de la pièce usinée n'est pas entièrement élucidée. Toutefois, on considère que la silice colloïdale réagit avec la surface de la pièce usinée durcie en créant une matière de surface sur la pièce qui est plus tendre que l'abrasif mécanique Comme mentionné ci-dessus, l'un des inconvénients de la silice colloïdale réside dans le fait qu'elle attaque manifestement des grains préférentiels à la surface du substrat durci, en sorte qu'il peut en résulter un fini de surface en relief lorsque la surface de la pièce est chimiquement modifiée par la silice colloïdale. La silice colloïdale est normalement présentée sous la forme d'une suspension aqueuse (contenant de l'eau) contenant jusqu'à 50 % ou plus de 50 % de silice col- loïdale Une particularité intéressante de la suspension de silice colloïdale est que cette silice ne se sédimente pas à partir d'une suspension même après un grand laps de temps La silice colloïdale est généralement contenue dans une suspension aqueuse qui est mélangée avec de l'eau. Toutefois, pour les besoins de l'abrasif de polissage de la présente invention, la silice colloïdale n'est pas nécessairement, et dans quelques cas ne doit pas, être en suspension dans l'eau, mais peut être en suspension dans un certain autre liquide tel qu'un alcool et un solvant organique ou une matière similaire L'eau n'est pas désirée sous forme d'une suspension de matière dans tous les cas, parce que l'eau peut réagir défavorablement avec certaines pièces usinées durcies en donnant un produit sans intérêt. La silice colloïdale dont on préconise l'utilisation est une suspension aqueuse de silice colloïdale Le pourcentage en poids de silice colloïdale dans la suspension aqueuse n'est pas déterminant Toute- fois, il est préférable que la silice colloïdale soit présente dans la suspension aqueuse en une quantité allant d'environ 15 à environ 50 pour cent en poids ou davantage. D'autres propriétés de la suspension de silice colloïdale telles que le p H, le diamètre des particules, etc, ne sont pas absolument déterminantes pour son utilité dans la réaction chimique avec la surface d'une pièce usinée durcie Toutefois, il est préférable que le p H de la suspension de silice colloïdale soit supérieur à sept environ Une suspension colloïdale de silice ayant un p H supérieur à sept environ est une suspension basique, et on a observé qu'elle réagissait plus efficacement avec la surface des matériaux qui pouvaient être polis avec l'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention. La suspension aqueuse de silice colloïdale peut être avantageusement n'importe quelle suspension connue de silice colloïdale En général, les silices colloïdales sont stabilisées à un p H d'environ 8 à 14 et plus souvent à un p H compris dans une plage d'environ 9 à 11 La silice colloïdale préférée a une plage de p H d'environ 9,8 à 10,2 et a un diamètre moyen des particules d'environ 0,06 gm. L'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention contient aussi un abrasif mécanique L'abrasif mécanique est en général une matière plus tendre que le matériau constituant la pièce usinée Toutefois, l'abrasif mécanique est généralement plus dur que la matière de surface de la pièce usinée résultant de la réaction chimique entre les composants formés de silice colloïdale de l'abrasif de polissage et la pièce durcie L'objectif de l'abrasif mécanique est d'enlever par abrasion les matières plus tendres ayant réagi de la surface de la pièce usinée durcie en laissant une surface lisse Du fait de l'enlève- ment par abrasion du produit réactionnel plus tendre de la surface de la pièce durcie, l'abrasif mécanique expose continuellement une surface durcie à la silice colloïdale qui réagit chimiquement avec la surface exposée De cette manière, la réaction sélective de la silice colloïdale avec divers grains sélectifs à la surface des pièces durcies peut être réduite à un minimum en produisant une surface fortement polie du substrat durci. L'abrasif mécanique utile dans l'abrasif mécano-chimique de la présente invention peut être n'importe quelle matière ou association de matières connues dans l'art antérieur comme pouvant être utilisées comme abrasif mécanique L'abrasif mécanique est normalement plus tendre, c'est-à-dire qu'il n'est pas aussi dur, que la matière qui constitue la pièce usinée L'abrasif mécanique peut par exemple être choisi parmi un ou plusieurs des composés suivants: Fe 2 03, Fe 3 04, Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 2 03 et A 1203 Un abrasif mécanique apprécié est Fe 2 03 Il est également préférable que l'abrasif mécanique ait un diamètre moyen des particules d'environ 0,1 à environ 10 micromètres et notamment d'environ 0,5 à 5,0 micromètres. Comme mentionné précédemment, l'abrasif de polissage mécanochimique de la présente invention comprend une suspension de silice colloïdale et un ou plusieurs abrasifs mécaniques L'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention contient normalement environ 0,1 gramme d'un abrasif mécanique en poudre avec 100 ml de silice colloïdale jusqu'à une quantité suffisante d'abrasif mécanique en association avec de la silice colloïdale pour que l'abrasif de polissage mécano-chimique devienne une suspension visqueuse La quantité d'abrasif mécanique nécessaire pour que l'abrasif mécano-chimique devienne une suspension visqueuse varie selon l'abrasif mécanique utilisé et selon la teneur en silice de la silice col- loïdale. De l'eau ou d'autres diluants tels que des alcools, des solvants, etc, peuvent être ajoutés au mélange d'abrasifs mécaniques et de silice colloïdale pour réduire la viscosité de l'abrasif mécano-chimique Un abrasif mécano-chimique de faible viscosité est aisément appliqué à des pièces Il couvre uniformément les pièces et possède généralement de meilleures propriétés d'écoulement et d'abrasion. L'abrasif mécano-chimique de la présente invention comprend avantageusement environ 0,07 à environ 2,0 % en poids d'un abrasif mécanique en poudre, environ 13 à environ 99,2 % en poids de silice colloïdale et environ 0,7 à environ 85 % en poids d'eau L'eau est de préférence de l'eau désionisée. L'abrasif mécano-chimique de la présente invention est utile pour le polissage des surfaces de nombreuses pièces usinées durcies différentes L'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention peut être utilisé pour polir la surface de n'importe quel matériau qui est capable de réagir chimiquement avec une suspension de silice colloïdale Des exemples d'un tel matériau comprennent le silicium (tel que le silicium sous forme de tranches), le saphir, des métaux, le verre, l'alumine, le nitrure de silicium (Si 3 N 4), l'arséniure de gallium (Ga As), l'oxyde de magnésium (Mg O), l'oxyde de35 zirconium et d'autres matières céramiques et non céramiques durcies. L'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention peut être utilisé pour polir des pièces durcies par tout moyen de polissage connu dans l'art du polissage de pièces usinées durcies Le polissage peut être accompli par n'importe quels moyens de polissage y compris à la main, en utilisant un tampon et l'abrasif de polissage mécano-chimique, ou à la machine en utilisant l'abrasif de polissage mécano-chimique liquide de la présente invention. Il est préférable d'utiliser un tampon conjointement avec une machine pour polir des pièces usinées durcies avec l'abrasif de polissage de la présente invention L'abrasif de polissage est appliqué au tampon ou aux pièces usinées et le tampon est ensuite mis en contact par friction avec au moins une surface des pièces recouvertes d'abrasif pendant l'étape de polissage La pièce usinée est polie pendant une période suffisante pour que la surface de la pièce soit polie jusqu'à un fini désiré. Les conditions de polissage, comprenant la pression et la température, peuvent affecter la vitesse de polissage des pièces Toutefois, l'abrasif est efficace dans le polissage de pièces usinées dans une large plage de pressions et de températures Des pressions et des températures particulières ne sont pas exigées pour que l'abrasif de polissage mécano-chimique soit efficace. Certains exemples appréciés de l'invention sont commentés ci-dessous Toutefois, de nombreux autres exemples entreraient aussi dans le cadre de la présente invention. EXEMPLES Exemple 1 Dans cet exemple, de l'alumine (A 1203) a été polie avec divers abrasifs comprenant des abrasifs mécani- ques, des abrasifs chimiques et un abrasif mécano-chimique35 de la présente invention Les abrasifs ont été évalués quant à leur aptitude à enlever de la matière de surface de pièces usinées d'alumine, au cours du temps. La surface des pièces d'alumine a été préparée par meulage avec des particules de diamant de 30 micro- mètres contenues dans une plaque composite en polymère dur, suivi d'un meulage avec des particules de diamant de 6 micromètres sur une plaque de composite en polymère tendre Après la préparation de la surface de l'alumine, une marque Knoop a été réalisée dans la pièce usinée durcie avec une charge de 5 kg, la marque étant effectuée à une vitesse de charge de 70 pm/seconde avec un temps de charge de 15 secondes Les taux d'enlèvement de matière ont été déterminés par mesure de la réduction de la longueur diagonale de la marque Knoop au cours du temps.15 On a utilisé des appareils de polissage à vibrations et semi-automatiques Le polissage par vibra- tions a été utilisé pour minimiser la contribution mécanique Les essais ont été contrôlés pendant 24 heures. Des appareils de polissage semi-automatiques ont été20 utilisés pour accroître la contribution mécanique. Le polissage a été effectué sur une toile de polissage TEXMETQR)vendue par la firme Buehler. Une récapitulation des résultats de polissage pour des pièces usinées en alumine est donnée sur le tableau I ci-dessous: il TABLEAU I Taux de Polissage polissage Technique Abrasif (um/h) Polissage par Fe 2 03 0,002 vibrations Silice colloïdale 0,042 Fe 2 03 + (silice colloïdale) 0,125 (Micromètres/minute) Polissage mécanique Fe 2 03 néant rotatif Silice colloïdale 0,26 Diamant 1/4 gm néant Diamant 3 Mm 0,21 Fe 2 03 + (silice colloïdale) 0,35 Les résultats indiquent qu'avec le polissage par vibrations ou le polissage rotatif mécanique, l'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention comprenant une suspension de silice colloïdale en associa- tion avec l'abrasif mécanique Fe 2 03 est capable de polir de l'alumine à une plus grande vitesse de polissage que la silice colloïdale ou Fe 2 03 seul En outre, la vitesse de polissage de l'abrasif silice collo dale/Fe 2 03 est très supérieure aux vitesses de polissage cumulées de la silice colloïdale et de Fe 2 03 ( 0,125 gm/h contre 0,044 gm/h pour le polissage par vibrations et 0,35 gm/minute contre 0,26 gm/minute pour le polissage rotatif. Cet exemple démontre clairement que l'abrasif de polissage mécanochimique de la présente invention a de façon inattendue une vitesse de polissage supérieure à celle d'abrasifs à la silice colloïdale ou mécaniques, in- dividuellement ou avec cumul. Exemple II: En utilisant le même procédé de polissage par vibrations que ci-dessus, on a poli des échantillons d'alumine, de nitrure de silicium et d'oxyde de zirconium présentant une marque Knoop utilisant de la silice colloïdale, divers abrasifs mécaniques et divers abrasifs mécano-chimiques de la présente invention. Les milieux de polissage mécano-chimique étaient constitués d'un litre de solution formée de grammes de A 1203, Ce O 2, Cr 203 ou Fe 2 03 conjointement avec 490 ml d'une silice colloïdale aqueuse La silice colloïdale aqueuse avait un p H d'environ 10,0, un diamètre moyen des particules d'environ 0,05 à 0,07 gm, une densité de 1,390 et contenait 50 % de matières solides 5 ml d'eau désionisée ont été ajoutés au mélange pour compléter la formule. Le polissage par vibrations a été utilisé pour polir les divers échantillons pendant une période de 24 heures La vitesse de polissage de chaque abrasif en gm/h a ensuite été déterminée Les résultats du polissage par vibrations des trois échantillons sont donnés sur le tableau II ci-dessous: TABLEAU II Vitesse de polissage mécano-chimique (um/h) Milieux de Alumine Nitrure Oxyde de polissage de silicium zirconium A 1203 + silice colloïdale 0,045 0, 163 0,173 Ce 203 + silice colloïdale 0,027 0,300 0,1875 Ce 203 0,006 0,135 Fe 203 + silice colloidale 0,125 0,300 0,448 Fe 2 03 0,003 0,042 0,173 cr 203 + silice colloïdale 0,148 0,188 0,233 Cr 203 0,00 0,058 0,00 (CS) silice colloïdale 0,044 0,058 La silice colloïdale utilisée ci-dessus est la même silice colloïdale que celle qui est utilisée dans l'abrasif de polissage mécano-chimique De l'eau n'a pas été ajoutée à la silice colloïdale avant son utilisation aux fins des essais. On a préparé une suspension de chacun des abrasifs mécaniques utilisés dans l'essai en ajoutant 5 ml d'eau désionisée à environ 20 g de l'abrasif mécanique en poudre. Les pressions et températures de polissage n'ont pas été déterminantes pour les résultats, mais elles ont été maintenues aussi uniformes que possible pendant toute la durée de l'essai La température de polissage a été maintenue à environ 25 C tandis que la pression de polissage était maintenue à environ 50 g/cm 2. Dans la plupart des cas, l'abrasif de polissage mécano-chimique de la présente invention a poli chaque matière à une plus grande vitesse que la silice colloïdale ou que l'abrasif mécanique, seuls ou avec cumul Le Ce 203 joint à de la silice colloïdale a seul montré dans le polissage d'alumtine une plus faible vitesse de polissage que la silice colloïdale seule. REVENDICATIONS 1 Abrasif de polissage mécano-chimique, caractérisé en ce qu'il comprend une suspension de silice colloïdale et un ou plusieurs abrasifs mécaniques. 2 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 1, caractérisé en outre en ce que l'abrasif mécanique est choisi entre une ou plusieurs matières du groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04, Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 2 03 et A 1203. 3 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 1, caractérisé en outre en ce que la silice colloïdale a un p H supérieur à 7. 4 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 1, caractérisé en outre en ce que la suspension de silice colloïdale est une suspension aqueuse de silice colloïdale. Abrasif de polissage mécano-chimique, caractérisé en ce qu'il comprend une suspension aqueuse de silice colloïdale et un abrasif mécanique choisi entre une ou plusieurs des matières du groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04, Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 2 03 et A 1203. 6 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 5, caractérisé en outre en ce qu'il contient environ 0,07 à environ 2,0 % en poids de l'abrasif mécanique et environ 13 à environ 99,2 % en poids d'une suspension aqueuse de silice colloïdale. 7 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 5, caractérisé en outre en ce que la silice colloïdale a un p H supérieur à environ 7,0. 8 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 5, caractérisé en outre en ce qu'il a des diamètres de particules d'environ 0,1 à environ micromètres. 9 Abrasif de polissage mécano-chimique, caractérisé en ce qu'il comprend environ 13 à environ 99,2 % en poids d'une suspension aqueuse de silice colloïdale ayant un p H supérieur à environ 7, environ 0,7 à environ 85 % en poids d'eau et environ 0,07 à environ 2,0 % en poids d'abrasif mécanique en particules d'environ 0,1 à environ 10 micromètres, l'abrasif mécanique étant choisi entre une ou plusieurs des matières du groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04, Mg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 2 03 et A 1203. 10 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 9, caractérisé en outre en ce qu'il a des particules de diamètre allant d'environ 0,5 à environ 5,0 micromètres. 11 Abrasif de polissage mécano-chimique suivant la revendication 9, caractérisé en outre en ce que l'abrasif mécanique est Fe 203. 12 Procédé de polissage d'une pièce usinée, caractérisé en ce qu'il consiste à utiliser un abrasif de polissage mécano-chimique comprenant une suspension de silice colloïdale et un ou plusieurs abrasifs mécaniques par application de l'abrasif de polissage mécano-chimique à une pièce usinée et mise en contact de cette pièce avec un moyen de polissage pendant une période suffisante pour polir au moins une surface de la pièce usinée. 13 Procédé de polissage suivant la revendica- tion 12, caractérisé en outre en ce que l'abrasif de polissage mécanochimique est appliqué au moyen de polissage. 14 Procédé de polissage suivant la revendica- tion 12, caractérisé en outre en ce que le moyen de polissage est un moyen mécanique utilisant un tampon de polissage. Procédé de polissage d'une pièce usinée, caractérisé en ce qu'il consiste à utiliser un abrasif de polissage mécano-chimique comprenant une suspension aqueuse de silice colloïdale et un abrasif mécanique choisi entre une ou plusieurs des matières du groupe comprenant Fe 2 03, Fe 3 04, Xg O, Ba CO 3, Ca CO 3, Mn O 2, Ce O, Si O 2, Ce O 2, Cr 2 03 et A 1203 par application de l'abrasif de polissage mécano-5 chimique à un tampon placé sur un moyen de polissage mécanique et mise en contact par friction du tampon du moyen de polissage mécanique avec au moins une surface de la pièce usinée pendant une période suffisante pour polir la surface de la pièce usinée.