FR 2671901 A1 19920724 FR 9114480 A 19911125 La présente invention concerne un support d'enre- gistrement magnétique destiné à être utilisé dans une unité de mémoire magnétique, un procédé pour fabriquer ce support et un dispositif d'enregistrement magnétique utilisant un tel support. Un support d'enregistrement magnétique à pelli- cule mince présentant une aimantation résiduelle importante permettant d'accroître la densité d'enregistrementd'un disque magnétique a fait l'objet d'un intérêt général à la place du support d'enregistrement magnétique classique lar- gement utilisé comportant une pellicule déposée formée d'une poudre magnétique et d'un liant mélangés. On fabrique en général un disque magnétique pos- sédant une pellicule magnétique mince en déposant par pul- vérisation une couche métallique amagnétique sur un sub- strat amagnétique, en déposant par pulvérisation une pelli- cule magnétique sur la couche métallique amagnétique et en formant une pellicule protectrice et, si cela est néces- saire, une pellicule lubrifiante sur la pellicule magné- tique Dans ce cas, on supprime quelquefois la couche mé- tallique amagnétique. Des disques magnétiques présentant un flux magné- tique résiduel élevé et une capacité de densité d'enregis- trement élevée sont décrits dans le brevet US 4 735 840 et dans les brevets japonais mis à l'inspection publique JP-A- 63-98826 et JP-A-1-220217. L'art antérieur ne-fait pas référence à un support d'enregistrement magnétique possédant une anisotropie ma- gnétique dans sa surface et n'indique pas clairement de procédé de fabrication. Un but de la présente invention est de fournir un support d'enregistrement magnétique possédant une pellicule magnétique présentant une anisotropie magnétique de surface contrôlée, un procédé pour fabriquer un tel support et un dispositif d'enregistrement magnétique utilisant ce sup- port. Un autre but de l'invention est de fournir un support d'enregistrement magnétique possédant des caracté- ristiques magnétiques très appropriées pour un enregistre- ment de haute densité, un procédé pour fabriquer un tel support et un dispositif d'enregistrement magnétique utili- sant ce support. Un autre but de l'invention est de fournir un support d'enregistrement magnétique possédant un axe d'ai- mantation facile s'étendant dans la direction d'enregistre- ment, en raison de l'anisotropie magnétique fournie par la valeur de la tension superficielle correspondant à une énergie superficielle libre. Les objectifs indiqués précédemment peuvent être atteints à l'aide d'un support d'enregistrement magnétique qui est formé par un substrat amagnétique présentant une anisotropie superficielle fournie par la tension superfi- cielle correspondant à une énergie superficielle libre, et une pellicule magnétique qui est prévue sur le substrat amagnétique et possède une composante principale d'aimanta- tion aisée, qui est parallèle à la surface devant être en- registrée ou à la surface d'enregistrement et à la direc- tion d'enregistrement En outre, une couche métallique ama- gnétique est prévue entre le substrat amagnétique et la pellicule magnétique La tension superficielle correspon- dant à l'énergie superficielle libre est élevée dans la di- rection d'enregistrement La tension superficielle critique du substrat amagnétique est élevée dans la direction d'en- registrement Il est proposé un autre support d'enregistre- ment magnétique, qui est formé d'un substrat amagnétique, d'une couche formée d'un matériau désiré et formée sur le substrat amagnétique et qui présente une anisotropie super- ficielle au niveau de sa tension superficielle correspon- dant à l'énergie superficielle libre, et une pellicule ma- gnétique prévue sur la couche formée du matériau désiré et possédant une composante principale d'aimantation aisée, qui est parallèle à la surface d'enregistrement et à la di- rection d'enregistrement En outre, on peut prévoir une couche métallique amagnétique entre la couche de matériau désiré et la pellicule magnétique Dans la pellicule magné- tique, la force coercitive dans la direction d'enregistre- ment est égale à 1,1 fois ou plus la force coercitive dans la direction perpendiculaire à la précédente La direction d'enregistrement du disque magnétique est circonféren- tielle Dans la pellicule magnétique, la force coercitive darls la direction d'erregistrement est égale à looo ce ( 79577 A t/m) ou plus La couche formée du matériau désiré du support d'enregistrement magnétique comporte des rainures ou des textures ménagées dans la direction d'enregistrement La profondeur des rainures est sensiblement égale à l'épaisseur de la couche formée par le matériau désiré. On peut également atteindre les objectifs indi- qués précédemment à l'aide d'un procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique, qui inclut une opéra- tion consistant à conférer une anisotropie superficielle à la tension superficielle correspondant à l'énergie superfi- cielle libre du substrat amagnétique, et une opération consistant à former la pellicule magnétique sur le substrat amagnétique En outre, le procédé indiqué précédemment peut inclure une opération consistant à former les rainures ou textures dans la direction d'enregistrement, une opération pour immerger le substrat amagnétique dans de l'acide ni- trique, une opération pour former la pellicule magnétique sur le substrat amagnétique En outre, ce procédé peut com- prendre une opération consistant à former des rainures ou des textures dans la direction perpendiculaire à la direc- tion d'enregistrement, une opération consistant à immerger le substrat amagnétique dans une solution aqueuse de pé- roxyde d'hydrogène, et une opération consistant à former la pellicule magnétique sur le substrat amagnétique Il est également prévu un dispositif d'enregistrement magnétique, qui possède un support d'enregistrement magnétique présen- tant la structure de couches indiquée précédemment, un sup- port rotatif servant à supporter le support d'enregistre- ment magnétique, un mécanisme d'entraînement en rotation pour faire tourner le support, une tête magnétique disposée de manière à être située en face d'une surface désirée du support d'enregistrement magnétique, et une bobine mobile servant à porter ou faire voler la tête magnétique dans une position désirée sur le support d'enregistrement magné- tique, ces composants étant logés dans un boîtier. D'une manière générale, pour optimiser le magné- tisme d'un support en cobalt-alliage formé d'une pellicule mince pour l'enregistrement superficiel, il est nécessaire que la normale au plan ( 110) de la structure hexagonale tassée la plus serrée des atomes de cobalt soit disposée de manière à être perpendiculaire à la surface d'enregistre- ment ou la surface du support et que l'axe C soit disposé de manière à être parallèle à la surface d'enregistrement. A cet effet, on connaît un procédé, selon lequel on utilise du chrome ou un alliage du chrome pour la pellicule de re- vêtement de base ou pour la sous-couche, et on fait croître par épitaxie la pellicule magnétique sur le plan ( 100) du chrome. Conformément à la présente invention, il est prévu que la normale au plan ( 110) du cobalt orienté dans la surface de la pellicule magnétique, soit orientée de ma- nière à être perpendiculaire à la surface d'enregistrement et que l'axe C soit orienté dans la direction d'enregistre- ment. On a traité ou texturé chimiquement, physique- ment, mécaniquement ou au moyen d'une combinaison de tels traitements, la surface du substrat amagnétique et on a formé une pellicule de base, une pellicule magnétique et une pellicule protectrice, sur ce substrat, au moyen d'un dépôt par pulvérisation continue On a mesuré les caracté- ristiques magnétiques statiques (force coercitive, rapport de rectangularité S*) de cette structure de couches A par- tir du résultat mesuré ou de la relation entre l'état su- perficiel du substrat et la caractéristique magnétique, on a trouvé que le fait de prévoir une anisotropie superfi- cielle de la tension superficielle (énergie superficielle libre) dans la surface du substrat permettait d'accroître efficacement les valeurs caractéristiques du magnétisme statique On peut atteindre également cet effet en formant, sur un substrat amagnétique, une couche amagnétique, qui diffère du point de vue physique ou chimique par rapport au substrat, et en réglant dans cette couche l'anisotropie su- perficielle de la tension superficielle (énergie superfi- cielle libre). L'anisotropie de la tension superficielle, qui correspond à l'énergie superficielle libre du substrat ou de la pellicule formée d'un matériau désiré, est due non seulement à la forme des rainures ou textures formées, mais également aux propriétés chimiques et physiques du matériau de surface. Conformément à un mode de mise en oeuvre préféré de la présente invention, lorsque la couche métallique ama- gnétique prévue comme couche de base située au-dessous de la pellicule magnétique est formée de chrome, on oriente le plan ( 100) Cependant, au début de sa croissance, le plan ( 100) du cristal de chrome est orienté par la force selon laquelle l'énergie interne tend à s'accumuler dans la posi- tion stabilisée (croissance épitaxiale) En d'autres termes, le plan ( 110) le plus proche du chrome est orienté de manière à être parallèle à la surface du substrat, ce qui permet d'obtenir la stabilisation Le plan ( 110) et le plan ( 100) du chrome font un angle de 45 degrés Compte tenu de cette propriété, on règle au préalable dans le sub- strat des gradients ou des surfaces irrégulières de 45 10 degrés par rapport à la surface du substrat Puis on fait croître par épitaxie le chrome sur les surfaces irrégu- lières, de sorte qu'on peut orienter les plans ( 100) dans la direction ascendante En outre, on fait croître par épi- taxie une pellicule mince d'alliage de cobalt ferromagné- tique sur cette couche. On traite ou on texture chimiquement, physique- ment, mécaniquement ou en utilisant une combinaison de tels traitements, la surface du substrat magnétique ou la couche formée du matériau désiré, ce qui permet de créer dans la surface l'anisotropie superficielle de la tension superfi- cielle correspondant à l'énergie superficielle libre. Lorsqu'on forme par-dessus la pellicule magnétique, la di- rection d'anisotropie magnétique de la pellicule magnétique coïncide avec celle de l'anisotropie de la tension superfi- cielle qui correspond à l'énergie superficielle libre Par conséquent, en produisant l'anisotropie superficielle de l'énergie superficielle libre du substratamagnétique ou de la couche de matériau désiré formée sur ce substrat, il est possible d'orienter l'axe d'aimantation facile dans la di- rection d'enregistrement du support d'enregistrement. On va décrire tout d'abord les caractéristiques magnétiques indiquées précédemment, à savoir la force coer- citive Hc, le rapport de rectangularité Rs et ce qu'on ap- pelle la caractéristique S*. Le champ magnétique maximum (H maximum) appliqué à l'échantillon est exprimé par Hm ( en Oersteds) Les intersections de la boucle d'hystérésis avec l'axe H sont désignées comme représentant la force coercitive Hc (en Oersteds) comme re- présenté sur la figure 1 Normalement, cette force coerci- tive est la moyenne entre la valeur +Hc et la valeur -Hc. La valeur maximale de l'aimantation M (en emus) dans la boucle d'hystérésis est représentée par Mm Les in- tersections de la boucle d'hystérésis avec l'axe M sont dé- signées comme étant l'aimantation résiduelle Mr (en emus). L'aimantation résiduelle est normalement la moyenne entre +Mr et -Mr. Comme représenté sur la figure 2, on trace les tangentes à la boucle d'hystérésis en Hc et les intersec- tions entre les tangentes et M = Mr, des valeurs de H, H* ( en Oersteds) Ici, la valeur S* (S astérisque) est exprimée par la relation suivante Hc S* = H* Par conséquent, on peut évaluer le processus d'inversion d'aimantation dans la boucle d'hystérésis de l'échantillon présentant une rectangularité égale approxi- mativement à 1. La boucle d'hystérésis d'une substance ferroma- gnétique ou analogue se traduit par l'expression de sa forme ou rectangularité Le rapport de rectangularité Rs pour la forme est exprimé par Mr Rs = Mm Rs étant fonction du champ magnétique maximum Hm. D'autres caractéristiques et avantages de la pré- sente invention ressortiront de la description donnée ci- après prise en référence aux dessins annexés, sur les- quels: les figures 1 et 2 sont des schémas représen- tant des caractéristiques magnétiques; la figure 3 est un diagramme montrant les ré- sultats mesurés d'angles de contact pour des substrats traités différemment; la figure 4 est un diagramme montrant la ten- sion superficielle critique de substances traitées diffé- remment; la figure 5 est un schéma montrant la forme d'une goutte de liquide sur la surface du substrat; la figure 6 est un diagramme montrant les ca- ractéristiques magnétiques du support d'enregistrement ma- gnétique selon une forme de réalisation de la présente in- vention; la figure 7 est un diagramme en coupe transver- sale d'un disque magnétique de la forme de réalisation de la présente invention; les figures 8 A à 8 C sont des schémas montrant la structure des supports d'enregistrement magnétique de formes de réalisation de la présente invention; la figure 9 est un schéma montrant le degré de réduction du pas des pistes du support d'enregistrement ma- gnétique; et la figure 10 est une vue en coupe transversale schématique du dispositif d'enregistrement magnétique selon une forme de réalisation de l'invention. On va maintenant décrire de f açon détaillée des formes de réalisation de l'invention. (Forme de réalisation 1) On va tout d'abord décrire un procédé pour créer une anisotropie superficielle sur un substrat amagnétique formé d'un disque d'aluminium doublé de nickel-phosphore. On dépose un alliage de nickel-phosphore (Ni-P) au moyen d'un placage sans courant sur un disque en alliage d'aluminium possédant un fini plat, et on polit la surface plaquée au moyen d'une poudre abrasive de manière à obtenir une surface de grande précision Ceci sera désigné ci- après comme étant le substrat en Ni-P. Ce substrat en Ni-P est texturé de manière à for- mer des rainures ou des textures formées de cercles sensi- blement concentriques (rugosité moyenne de surface Ra (désigné ci-après comme étant le substrat traité au H 202). On traite la surface d'un autre disque en alumi- nium/Ni-P avec une poudre abrasive de diamant de manière à former des textures sur cette surface On immerge ce sub- strat en Ni-P semblable au substrat précédent, dans de l'acide nitrique de manière que la couche d'oxyde formée naturellement à l'air par chauffage pendant le traitement des substrats soit dissoute par corrosion Ensuite, on le rince à l'eau pure et on le sèche (ce substrat sera désigné ci-après comme étant le substrat traité au HNO 3). La figure 3 représente les résultats mesurés de l'angle de contact des deux substrats traités indiqués plus haut et d'un substrat commun texturé (non immergé dans l'acide) On a utilisé des gouttes de liquide formées d'eau (tension superficielle égale à 72,8 103 N/m) et de formal- déhyde (tension superficielle égale à 58,2 10-3 N/m) On a obtenu la tension superficielle critique en introduisant de l'extérieur, à partir des points de deux valeurs de la ten- sion superficielle sur la droite cos O = 1, dans ce résultat mesuré (les deux valeurs correspondant à la ligne formée de tirets et à la ligne en trait plein sur la figure 3) La figure 4 montre le résultat A partir du résultat, on com- prendra que le substrat traité au H 202 possède une tension superficielle critique élevée dans la direction du rayon et que, par conséquent, il est aisé à mouiller dans cette di- rection d'une manière différente des autres substrats. On peut également comprendre ceci à partir de l'étalement réel de mouillage des gouttes de liquide La goutte de liquide située sur le substrat non traité et sur le substrat traité au HNO 3 s'étale dans la direction cir- conférentielle comme représenté sur la figure 5 D'autre part, la goutte située sur le substrat traité au H 202 s ' étale longitudinalement dans la direction du rayon (non représentée) Cela signifie que le substrat non traité et 1 O le substrat traité au HNO 3 possèdent une tension superfi- cielle élevée qui correspond à l'énergie superficielle libre dans la direction circonférentielle, tandis que le substrat traité au H 202 possède une tension superficielle élevée qui correspond à l'énergie superficielle libre dans la direction du rayon. Lorsqu'on forme sur ces substrats une couche mé- tallique amagnétique ou une couche de chrome, l'anosotropie superficielle de la tension superficielle, qui correspond à l'énergie superficielle libre, affecte cette couche de chrome. Ainsi on a Eormé des pellicules 2, 3 4 par pulvérisation sur chacun des substrats, dans les mêmes conditions, et on a étudié les caractéristiques magné- tiques La figure 6 représente la force coercitive mesurée dans deux directions (direction du rayon et direction cir- conférentielle perpendiculaires l'une à l'autre dans un plan) Sur la figure 6, O représente la force coercitive dans la direction circonférentielle et R est la force coer- citive dans la direction du rayon En outre, lorsqu'on forme les pellicules sur les substrats à supporter vertica- lement, les forces coercitives des parties supérieure et inférieure sont indiquées par de petits cercles blancs et les forces coercitives des parties de gauche et de droite par de petits triangles blancs. Sur la figure 6, on comprend que le substrat traité au H 202 présente l'anisotropie dans une direction différente des autres Le rapport de rectangularité et la caractéristique S* possède la même tendance. La rugosité de surface des substrats possède la même valeur Le pas des textures est également identique pour ces substrats C'est pourquoi, l'anisotropie magné- tique n'est pas affectée directement par la rugosité et le pas des textures ou par la forme de la surface du substrat, mais, dans la plupart des cas, par une certaine action il qu'entraîne la forme de la surface. Comme on le comprendra à partir des résultats in- diqués précédemment, pour obtenir la pellicule magnétique possédant une composante principale d'aimantation aisée pa- rallèle à la surface d'enregistrement et à la direction d'enregistrement (direction circonférentielle), il est pré- férable de prévoir des textures formées de cercles sen- siblement concentriques dans le substrat traité au HNO 3 et d'aménager des textures dans le substrat traité au H 202 dans la direction radiale. On va décrire ci-après un procédé pour fabriquer un disque magnétique La figure 7 représente le schéma en coupe transversale d'un disque magnétique fabriqué On dé- pose un alliage de nickel-phosphore (Ni-P) au moyen d'un placage sans courant sur une base plane formée d'un alliage d'aluminium On utilise cette base portant le placage en tant que substrat amagnétique 1 En outre, on polit la sur- face de ce substrat pour obtenir une grande précision en utilisant une poudre abrasive. On traite ce substrat de manière à y aménager des textures formées de cercles sensiblement concentriques On l'immerge dans l'acide nitrique, on le rince à l'eau pure, puis on le sèche. On traite un autre substrat similaire après po- lissage de manière qu'il possède des textures s'étendant dans la direction radiale (direction du rayon) En d'autres termes, lorsqu'on fait tourner le substrat à 60 tr/mn, on traite sa surface avec une tête de travail en forme de disque, qui tourne à 400 tr/mn autour de l'arbre de rota- tion en étant relativement éloignée du centre du substrat. Par conséquent, la surface du substrat possède des textures ayant une forme sensiblement radiale dans la direction du rayon On immerge ce substrat dans une solution de H 202 et on le sèche. Pour ces deux substrats, on forme au moyen d'un dépôt par pulvérisation continue la couche métallique ama- gnétique 2 de chrome, la couche magnétique 3 d'alliage de cobalt et la couche protectrice 4 en carbone C, et on forme en outre une pellicule lubrifiante (non représentée) ser- vant à réduire le frottement ou l'interaction entre le disque amagnétique et la tête, ce qui achève la fabrication des disques magnétiques. La force coercitive circonférentielle des disques magnétiques était comprise entre 1,1 et 1,2 fois la force coercitive radiale. * Dans cette forme de réalisation, pour appliquer au substrat la tension superficielle présentant l'anisotro- pie superficielle, on a traité le substrat au moyen d'une combinaison d'un traitement chimique, comme par exemple un traitement au H 202 ouun traitementau HNO 3, et un traitement mécanique comme par exemple le texturage On a également obtenu l'effet de tension superficielle uniquement au moyen d'une opération de frottement en utilisant un chiffon im- prégné de HNO 3 ou un processus de réaction chimique. (Forme de réalisation 2) On a formé une couche de traitement superficielle différente du matériau Ni-P du substrat, sur le même sub- strat en Ni-P, que celui utilisé dans la forme de réalisa- tion 1 Cette couche est la pellicule mince de carbone qui a été déposée par pulvérisation dans les deux conditions suivantes: Pression de gaz argon: 0,333 Pa Puissance: 3 k W, 0,3 k W Durée: 3 s, 20 s Épaisseur: 4,85 na, 1,57 nm. On a créé dans la surface de cette couche super- ficielle de traitement des textures s'étendant dans la di- rection circonférentielle Étant donné que la rugosité de surface des textures était sensiblement égale à l'épaisseur de la pellicule de carbone 5 ou à la couche de traitement superficielle, la couche de carbone 5 a subsisté en partie sur la couche métallique amagnétique, comme représenté sur la figure 8 A Par conséquent, la tension superficielle, qui correspond à l'énergie superficielle du substrat, a reçu une anisotropie superficielle sur la base de propriétés différentes du substrat et de la couche de traitement su- perficielle. La figure 8 B représente la surface du substrat possédant des formes et des bandes aléatoires formées d'une autre couche métallique amagnétique 2 et de la pellicule de carbone 5, ce qui résulte de l'élimination partielle de la pellicule de carbone 5 par le travail de texturage. La tension superficielle critique du substrat était égale à 52 10-3 N/m dans la direction circonféren- tielle et à -32 10-3 N/m dans la direction radiale La force coercitive du disque magnétique étacit égale à 142) Oe( 1130 o O A t/r M) dans la direction circonférentielle et à 1014 Oe ( 80691 A t/m)dans la direc- tion radiale, ou bien le rapport des forces coercitives dans la direction circonférentielle et dans la direction radiale était égal à 1,4. Dans cette forme de réalisation 2, la couche mé- tallique amagnétique, la pellicule magnétique d'alliage de cobalt, la pellicule protectrice en carbone et la pellicule lubrifiante ont été formées comme dans la forme de réalisa- tion 1 La structure en coupe transversale de ce disque ma- gnétique de la forme de réalisation 2 est représentée sur la figure 8 C. (Forme de réalisation 3) On a formé une couche de traitement superficielle Ni Ox formée d'un matériau différent sur la surface du même substrat en Ni-P que dans la forme de réalisation 1 On a légèrement oxydé cette couche de traitement superficielle pour former un Ni Ox en l'irradiant avec un rayonnement ul- traviolet en présence de 03 (désigné ci-après par UV/03 ou au moyen d'un plasma de 03 Les conditions de cette oxyda- tion sont les suivantes: (UV/O 3) Concentration de 03: 3 à 5 % Distance: 5 mm Épaisseur de la pellicule d'oxyde: 5 nm (plasma de 03) Pression du gaz: 0,027 Pa ( 0,2 torr) Débit du gaz: 150 s/cc/m Puissance: 0,4 k W Durée du traitement: 20 s. Ensuite, on a aménagé des textures dans la direc- tion circonférentielle à l'intérieur de la surface de la couche de traitement superficielle La rugosité de surface produite par les textures était équivalente à l'épaisseur de la couche de traitement superficielle Par conséquent, la tension superficielle, qui correspond à l'énergie super- ficielle du substrat, présentait l'anisotropie superfi- cielle due à la différence de matériaux entre le substrat et la couche de traitement superficielle. On a formé la couche métallique amagnétique de chrome, la pellicule magnétique d'alliage de cobalt, la pellicule protectrice en carbone et la pellicule lubri- fiante de la même manière que dans la forme de réalisation 1, ce qui a permis de réaliser des disques magnétiques. La tension superficielle critique de chacun des substrats produits est la suivante: (Traitement UV/O 3) Direction circonférentielle: 50 103 N/m Direction radiale: 40 10-3 N/m (Traitement avec un plasma de 03) Direction circonférentielle: 51 10-3 N/m Direction radiale: 42 10-3 N/m La force coercitive des disques magnétiques est la suivante: (Traitement UV/O 3) Direction circonférentielle: 99471 A t/m ( 1250 Oe Direction radiale: 82203 A t/m ( 1033 Oe Rapport de la circonférence au rayon: 1,21 (traitement au plasma de 03) Direction circonférentielle: 101063 A t/m ( 12700 e Direction radiale: 87057 A t/m ( 1090 Oe Rapport de la circonférence au rayon: 1,16 (forme de réalisation 4) Bien que l'on ait fait tomber goutte à goutte de l'acide nitrique sur la surface du même substrat en Ni-P que dans la forme de réalisation 1, on a frotté une bande contre la surface du substrat sous une très faible pression dans la direction circonférentielle Ensuite, on a rincé ce substrat avec de l'eaupure et on l'a séché Ceci a conduit à un accroissement de l'énergie superficielle du substrat dans la direction circonférentielle, ce qui a permis d'obtenir l'anisotropie. Comme dans la forme de réalisation 1, on a formé la couche métallique amagnétique de chrome, la pellicule magnétique d'alliage de cobalt, la pellicule protectrice en carbone et la pellicule lubrifiante sur le substrat, ce qui a permis d'achever la fabrication des disques magnétiques. Le rapport entre les tensions superficielles cri- tiques dans les directions circonférentielle et radiale du substrat était égal à l,21, la rugosité moyenne de surface Ra était comprise entre 3 et 4 nm et le rapport des forces Coercitives dans les directions circonférentielle et radiale du disque magnétique était égal à 1,20. A titre comparatif, on a fabriqué un disque ma- gnétique en utilisant un substrat classique comportant des textures. Le rapport des tensions superficielles critiques dans les-directions circonférentielle et radiale du substrat était égal à 1,06, la rugosité moyenne de surface Ra était comprise entre 7 et 8 nm et le rapport de la circonférence au rayon pour la force coercitive du disque magnétique était égal à 1,06. Étant donné que le disque magnétique conforme à la présente forme de réalisation est très plat par rapport au disque magnétique classique, la tête peut flotter à une très courte distante au- dessus de la surface du disque En outre, on a obtenu un signal de sortie lu uniforme à partir du disque correspondant à cette forme de réalisation Il en résulte que l'on a obtenu une puissance de sortie élevée et une résolution élevée En outre, lorsque la tête était si- *tuée à côté de la piste de données, il ne se produisait au- cune détection erronée et le système d'asservissement des données était meilleur En d'autres termes, on a pu réduire le pas des pistes à 0,3 pm pour une erreur de position d'asservissement nulle, tandis que dans l'art antérieur, on avait une valeur égale à 1 pm Le degré de réduction du pas des pistes est la somme des fluctuations e 1 et e 2 de la tête comme représenté sur la figure 9 Lorsqu'on a fait fonctionner ce disque magnétique correspondant à cette forme de réalisation dans l'unité de disques, on a examiné les caractéristiques On a obtenu le même résultat. (Forme de réalisation 5) La figure 10 représente un schéma en coupe trans- versale d'un dispositif d'enregistrement magnétique Les disques magnétiques 13 sont montés sur un support 12 qui peut être entraîné en rotation par un mécanisme d'entraînement en rotation 15 Les têtes magnétiques 14 sont portées ou volent dans des positions désirées au-des- sus des disques magnétiques 13, sous l'action d'une bobine mobile 16 Ces composants sont logés dans un boîtier 11. On a monté des disques magnétiques fabriqués conformément au mode de mise en oeuvre indiqué précédem- ment, sur ce dispositif d'enregistrement magnétique, et on les a fait fonctionner Il en résulte que l'on a trouvé que ces disques magnétiques pouvaient être enregistrés avec une haute densité et lus avec une bonne performance. Bien que chacune des formes de réalisation concernent un disque magnétique, la présente invention peut être appliquée à dés bandes magnétiques, des cartes magné- tiques, etc, et ce en produisant le même effet. REVENDICATIONS 1 Support d'enregistrement magnétique, caracté- risé en ce qu'il comprend: un substrat amagnétique ( 1) possédant une tension superficielle ayant des valeurs différentes dans une direc- tion d'enregistrement magnétique prédéterminée et dans une direction sensiblement perpendiculaire à la précédente; et une pellicule magnétique ( 3) formée sur ledit substrat amagnétique et possédant une composante principale d'aimantation facile, dirigée dans ladite direction d'enre- gistrement magnétique. 2 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une couche métallique amagnétique ( 2) disposée entre ledit substrat amagnétique et ladite pellicule magnétique. 3 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une couche partielle non métallique ( 5) prévue entre ladite couche de métal amagnétique et ledit substrat amagnétique, ladite couche non métallique s'étendant dans ladite direc- tion d'enregistrement magnétique et possédant une structure partielle discontinue, dont la largeur est sensiblement égale à l'épaisseur de ladite couche dans la direction per- pendiculaire à ladite direction d'enregistrement magné- tique. 4 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit substrat ama- gnétique et ladite pellicule magnétique sont respectivement constitués essentiellement de nickel-phosphore et de co- balt. Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit substrat ama- gnétique possède des surfaces irrégulières ayant des gra- dients de 45 degrés 10 degrés par rapport à la surface du substrat. 6 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une couche partielle non métallique ( 5) prévue entre ladite couche métallique amagnétique et ledit substrat amagné- tique, et que ladite couche non métallique est une couche formée d'une pellicule d'oxyde du matériau constituant le- dit substrat nagnétique et possède des textures s'étendant dans ladite direction d'enregistrement magnétique. 7 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 3, caractérisé en ce que ledit substrat ama- gnétique et ladite pellicule magnétique sont formés respec- tivement de nickel-phosphore et de cobalt, et que ladite couche partielle non métallique est formée de carbone. 8 Support d'enregistrement magnétique, caracté- risé en ce qu'il comprend: un substrat amagnétique ( 1), dont l'énergie de surface présente une anisotropie de surface; et une pellicule magnétique ( 3) disposée sur ledit substrat amagnétique et possédant une composante principale d'axe d'aimantation facile parallèle à une surface d'enre- gistrement et dans une direction d'enregistrement. 9 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 8, caractérisé en ce qu'une couche métallique amagnétique est prévue entre ledit substrat amagnétique et ladite pellicule magnétique. Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 8, caractérisé en ce que ladite énergie su- perficielle est élevée dans la direction d'enregistrement. 11 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 8, caractérisé en ce que la tension superfi- cielle critique dudit substrat amagnétique est importante dans la direction d'enregistrement. 12 Support d'enregistrement magnétique, caracté- risé en ce qu'il comprend: un substrat amagnétique ( 1); une couche formée d'un matériau désiré disposée sur ledit substrat amagnétique et dont l'énergie superfi- cielle présente une anisotropie de surface; et une pellicule magnétique ( 3) disposée sur ladite couche formée d'un matériau désiré possédant une composante principale d'aimantation facile, parallèle à la surface d'enregistrement et s'étendant dans la direction d'enregis- trement 13 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 12, caractérisé en ce qu'une couche métal- lique amagnétique ( 2) est prévue entre ladite couche formée d'un matériau désiré et ladite pellicule magnétique. 14 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 12, caractérisé en ce que ladite énergie su- perficelle est élevée dans la direction d'enregistrement. Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 12, caractérisé en ce que la tension superfi- cielle critique de ladite couche formée d'un matériau dé- siré est élevée dans la direction d'enregistrement. 16 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 8, caractérisé en ce que la force coercitive dans la direction d'enregistrement de ladite pellicule ma- -gnétique est égale à 1,1 fois ou plus la force coercitive dans la direction perpendiculaire à la précédente. 17 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 8, caractérisé en ce que le support d'enre- gistrement magnétique est un disque magnétique, ladite di- rection d'enregistrement étant une direction circonféren- tielle. 18 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 8, caractérisé en ce que ladite pellicule ma- gnétique possède ure force coercitive égale à 1000 Oe( 79577 A t/m) ou plus dans la direction d'enregistrement. 19 Support d'enregistrement magnétique selon la revendication 12, caractérisé en ce que ladite couche for- née d'un matériau désiré possède des textures dans la di- rection d'enregistrement, la profondeur desdites textures étant sensiblement égale à l'épaisseur de ladite couche formée d'un matériau désiré. 20 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à: former un substrat amagnétique ( 1) possédant une tension superficielle ayant des valeurs différentes dans une direction d'enregistrement magnétique prédéterminée et dans une direction sensiblement perpendiculaire à la précé- dente; former, sur ledit substrat amagnétique, une pel- licule magnétique ( 3) possédant une composante principale d'aimantation aisée s'étendant dans ladite direction d'en- registrement magnétique; et former une pellicule protectrice sur ladite pel- licule magnétique. 21 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 20, caracté- risé en ce qu'il comprend en outre une étape servant à for- mer une couche métallique amagnétique ( 2) sur ledit sub- strat amagnétique. 22 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend en outre une étape pour former une couche non métallique partielle ( 5) sur ladite couche mé- tallique amagnétique, ladite couche non métallique s'étendant dans ladite direction d'enregistrement magné- tique et possédant une structure partielle discontinue, dont la largeur est sensiblement égale à l'épaisseur de la- dite couche dans la direction perpendiculaire. 23 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 20, caracté- risé en ce que ledit substrat amagnétique et ladite pelli- cule magnétique sont formés de nickel-phosphore et de co- balt. 24 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 20, caracté- risé en ce qu'il comprend une étape pour créer des surfaces irrégulières ayant des gradients de 45 degrés 10 degrés sur la surface dudit substrat amagnétique. Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 20, caracté- risé en ce qu'il comprend les étapes consistant à: former une couche non métallique ( 5) par oxyda- tion de la surface dudit substrat amagnétique; et traiter partiellement ladite couche non métal- lique partielle pour former des textures s'étendant dans ladite direction d'enregistrement magnétique. 26 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 25, caracté- risé en ce que ledit substrat amagnétique et ladite pelli- cule magnétique sont constitués respectivement essentielle- ment de nickel-phosphore et de cobalt et que ladite couche non métallique partielle est formée de carbone. 27 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à: créer une anisotropie de surface dans l'énergie superficielle d'un substrat amagnétique; et former une pellicule magnétique sur ledit sub- strat amagnétique. 28 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 27, caracté- risé en ce qu'il comprend en outre les étapes consistant à: former une couche d'un matériau désiré sur ledit substrat amagnétique; créer une anisotropie de surface dans l'énergie superficielle de ladite couche formée d'un matériau désiré; et former une pellicule magnétique sur ladite couche formée d'un matériau désiré. 29 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 28, caracté- risé en ce qu'il comprend les étapes consistant à: former des textures dans la direction d'enregis- trement sur la surface dudit substrat amagnétique; immerger ledit substrat amagnétique dans de l'acide nitrique; et former une pellicule magnétique sur ledit sub- strat amagnétique. Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 28, caracté- risé en ce qu'il comprend en outre les étapes consistant à: former des textures dans la direction perpendicu- laire à ladite direction d'enregistrement sur la surface dudit substrat amagnétique; immerger ledit substrat amagnétique dans une so- lution aqueuse à base de péroxyde d'hydrogène; et former une pellicule magnétique sur ledit sub- strat amagnétique. 31 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 27, caracté- risé en ce qu'il comprend les étapes consistant à: former une couche constituée d'un matériau désiré sur la surface dudit substrat amagnétique; former des textures dans la direction d'enregis- trement sur ladite couche formée d'un matériau désiré; et former une pellicule magnétique sur ladite couche constituée d'un matériau désiré. 32 Procédé de fabrication d'un support d'enre- gistrement magnétique selon la revendication 31, caracté- risé en ce que lesdites textures sont suffisamment pro- fondes pour être sensiblement égales à l'épaisseur de la- dite couche formée d'un matériau désiré. 33 Dispositif d'enregistrement magnétique, ca- ractérisé en ce qu'il comprend: un support d'enregistrement magnétique comprenant un substrat amagnétique possédant une tension superficielle ayant des valeurs différentes dans une direction d'enregis- trement et de lecture magnétique prédéterminée et dans une direction sensiblement perpendiculaire à la précédente, et une pellicule magnétique formée sur ledit substrat amagné- tique et possédant une composante principale d'aimantation aisée s'étendant dans ladite direction d'enregistrement et de lecture magnétique; un support rotatif destiné à supporter ledit sup- port d'enregistrement magnétique; un mécanisme d'entraînement en rotation ( 15) ser- vant à entraîner en rotation ledit support; une tête magnétique ( 14) disposée de manière à être située en vis-à-vis d'une surface désirée dudit sup- port d'enregistrement magnétique; et une bobine mobile ( 16) servant à porter ladite tête magnétique dans une position désirée sur ledit support d'enregistrement magnétique, l'ensemble desdits composants indiqués précédemment étant logé dans un boîtier ( 11).