FR 2659786 A1 19910920 FR 9103194 A 19910315 La présente invention concerne de façon générale les varistances, et elle porte plus particulièrement sur de nouvelles structures multicouches pour des varistances, fabriquées par un procédé de sérigraphie. Les varistances à l'oxyde de zinc sont des dispo- sitifs à semiconducteurs en céramique basés sur l'oxyde de zinc Eles ont des caractéristiques courant/tension forte- ment non linéaires, similaires à celles de diodes Zener connectées têtebêche, mais avec la possibilité d'accepter un courant et une puissance beaucoup plus élevés On fabri- que des varistances par un procédé de frittage de céramique qui donne naissance à une structure consistant en grains d'oxyde de zinc conducteurs, entourés par des barrières électriquement isolantes On attribue ces barrières à des états constituant des pièges aux joints de grains, qui sont induits par des éléments additionnels tels que le bismuth, le cobalt, le praséodyme, le manganèse, etc. La fabrication de varistances à l'oxyde de zinc a traditionnellement été effectuée conformément à des techni- ques classiques dans le domaine des céramiques L'oxyde de zinc et d'autres constituants sont mélangés, par broyage dans un broyeur à billes, et ils sont ensuite séchés, par pulvérisation La poudre mélangée est séchée et pressée pour lui donner la forme désirée, soit de façon caractéris- tique la forme de plaquettes ou de pastilles Les plaquet- tes ou pastilles résultantes sont frittées à haute tempéra- ture, de façon caractéristique de 1000 à 1400 'C Les dis- positifs frittés sont ensuite munis d'électrodes, de façon caractéristique par l'utilisation d'un contact à l'argent qui fait l'objet d'un traitement thermique Le comportement du dispositif n'est pas affecté par la configuration des électrodes ou leur composition de base Des conducteurs sont ensuite fixés par un alliage de brasage, et le dispo- sitif terminé peut être encapsulé dans un polymère pour satisfaire des exigences de montage et de performances spé- cifiées. Un but de la présente invention est de procurer un procédé et un appareil pour la fabrication d'une varis- tance multicouche. Une varistance multicouche comprend avantageuse- ment un ensemble de couches de céramique et un ensemble de couches de matériau d'électrode Les couches sont alter- nées, avec chaque couche de céramique intercalée entre deux couches de matériau d'électrode, au moins une partie d'une ou de plusieurs premières couches du matériau d'électrode s'étendant jusqu'à une première partie de surface de la varistance, et au moins une partie d'une ou de plusieurs secondes couches du matériau d'électrode s'étendant jusqu'à une seconde partie de surface de la varistance Un premier bloc de matériau conducteur est collé au moins à la premiè- re partie de surface, pour établir une communication élec- trique avec la partie de la première ou des premières cou- ches de matériau d'électrode Cette partie de la première ou des premières couches de matériau d'électrode est sépa- rée par de la céramique de toutes les autres parties de surface de la varistance Un second bloc de matériau con- ducteur est collé au moins sur la seconde partie de surfa- ce, pour établir une communication électrique avec la par- tie de la seconde ou des secondes couches de matériau d'électrode Cette partie de la seconde ou des secondes couches de matériau d'électrode est séparée par de la céra- mique de toutes les autres parties de surface de la varis- tance Les blocs de matériau conducteur définissent des bornes de la varistance Chacune des couches de céramique qui est intercalée individuellement entre deux couches de matériau d'électrode a une épaisseur inférieure à 30 mi- crons. Dans un autre mode de réalisation, une varistance multicouche peut comprendre un ensemble de couches de céra- mique et un ensemble de couches de matériau d'électrode. Les couches sont alternées, avec chaque couche de céramique intercalée entre deux couches de matériau d'électrode Au moins une partie d'une ou de plusieurs premières couches de matériau d'électrode s'étend jusqu'à une première partie de surface de la varistance, et au moins une partie d'une ou de plusieurs secondes couches de matériau d'électrode s'étend jusqu'à une seconde partie de surface de la varis- tance Un premier bloc de matériau conducteur est collé au moins sur la première partie de surface, pour établir une communication électrique avec la partie de la première ou des premières couches de matériau d'électrode Cette partie de la première ou des premières couches de matériau d'élec- trode est séparée par de la céramique de toutes les autres parties de surface de la varistance Un second bloc de ma- tériau conducteur est collé au moins à la seconde partie de surface, pour établir une communication électrique avec la partie de la seconde ou des secondes couches de matériau d'électrode Cette partie de la seconde ou des secondes couches de matériau d'électrode est séparée par de la céra- mique de toutes les autres parties de surface de la varis- tance Les blocs de matériau conducteur définissent des bornes de la varistance Chaque couche de céramique est in- tercalée individuellement entre deux couches de matériau d'électrode, et chacune d'elles est formée par le dépôt d'une suspension de poudre et par un traitement thermique ultérieur, pour former un continuum dense de céramique ayant une faible porosité Chaque couche de céramique peut être formée par des dépôts multiples d'une suspension de poudre qui est agglomérée par le traitement thermique, pour former un continuum dense de céramique ayant une faible porosité. Chaque couche de céramique qui sépare deux cou- ches de matériau d'électrode a pratiquement la même épais- seur que toute autre couche de céramique séparant deux cou- ches de matériau d'électrode, et l'épaisseur est pratique- ment uniforme sur toute l'étendue de la couche de sépara- tion en céramique Chaque couche de matériau d'électrode peut avoir pratiquement la même épaisseur que toute autre couche de matériau d'électrode, cette épaisseur étant pra- tiquement uniforme sur toute l'étendue de la couche de ma- tériau d'électrode. L'une au moins des couches de matériau d'électro- de peut être séparée d'une partie de surface externe de la varistance par une couche de céramique ayant une épaisseur supérieure à l'épaisseur de toute autre couche de céramique séparant deux couches de matériau d'électrode A la place, ou en plus, l'une au moins des couches de matériau d'élec- trode peut être séparée d'une partie de surface externe de la varistance par une couche de céramique ayant une compo- sition différente de celle de la couche de séparation en céramique. L'une au moins des couches de l'ensemble de cou- ches de matériau d'électrode peut être définie par une seu- le région de matériau d'électrode Selon une variante, l'une au moins des couches de l'ensemble de couches de ma- tériau d'électrode peut être définie par un ensemble de ré- gions individuelles de matériau d'électrode. Dans un mode de réalisation et une structure pré- f érés,une var Lstance multicouche conforme à l'invention pré- sente la configuration générale d'un bloc rectangulaire, et les couches de matériau d'électrode sont pratiquement pla- nes et s'étendent pratiquement parallèlement aux faces la- térales de la varistance qui ont des dimensions planes ma- ximales Les faces d'extrémités de la varistance en forme de bloc rectangulaire définissent les première et seconde parties de surface. Dans un autre mode de réalisation, une varistance multicouche peut avoir une configuration de forme générale cylindrique, avec les couches de matériau d'électrode pra- tiquement planes et s'étendant transversalement à l'axe de la varistance de configuration générale cylindrique La première partie de surface et la seconde partie de surface sont définies par des parties de surface courbes de la va- ristance L'une des première et seconde parties de surface peut être une partie de surface externe, présentant une courbure convexe, de la varistance annulaire, et l'autre partie parmi les première et seconde parties de surface peut être une partie de surface interne, présentant une courbure concave, d'un passage central qui traverse la va- ristance annulaire. Dans n'importe quelle configuration de varistance multicouche des divers modes de réalisation de l'invention, au moins une couche de matériau d'électrode et au moins une autre couche de matériau d'électrode définissent conjointe- ment l'ensemble de couches d'électrode Ainsi, une varis- tance multicouche peut également être constituée par trois couches de céramique et deux couches de matériau d'électro- de, avec l'une des couches de céramique intercalée entre les deux couches de matériau d'électrode Une première cou- che parmi les couches de matériau d'électrode s'étend jus- qu'à une première partie de surface externe de la varistan- ce, et l'autre couche parmi les couches de matériau d'élec- trode s'étend jusqu'à une seconde surface externe de la varistance Un premier bloc de matériau conducteur est collé au moins à la première partie de surface externe, pour établir une communication électrique avec la première couche de matériau d'électrode La première couche de matériau d'électrode est séparée par de la céramique de toutes les autres parties de surface externe de la varistance Un second bloc de matériau conducteur est collé à la seconde partie de surface externe pour établir une communication électrique avec l'autre couche de matériau d'électrode. L'autre couche de matériau d'électrode est séparée par de la céramique de toutes les autres parties de surface exter- ne de la varistance Les blocs de matériau conducteur défi- nissent des bornes de la varistance La couche de céramique qui est intercalée entre les deux couches de matériau d'électrode est formée par le dépôt d'une suspension de poudre, et par un traitement thermique ultérieur du dépôt, pour obtenir un continuum dense de céramique ayant une fai- ble porosité. Un mode de réalisation de l'invention procure un appareil pour la fabrication de varistances, comprenant (a) au moins un poste pour appliquer une encre céramique sur un matériau de substrat; (b) au moins un poste pour appliquer une encre non cérami- que à un matériau de substrat; (c) des moyens de transfert qui relient les postes pour faire avancer de poste en poste des parties de matériau de substrat; et (d) des moyens de commande pour réguler et coordonner des opérations d'impression et de déplacement de substrat. L'appareil peut comprendre plus particulièrement: (a) au moins un poste de sérigraphie pour l'application d'une encre céramique sur un matériau de substrat; (b) au moins un poste de sérigraphie pour l'application d'une encre non céramique pour un matériau de substrat; (c) des moyens de transfert qui relient les postes de séri- graphie pour faire avancer de poste en poste des par- ties de matériau de substrat; et (d) des moyens de commande pour réguler et coordonner des opérations de sérigraphie et le déplacement du substrat. Les postes peuvent consister en un ensemble de postes de sérigraphie utilisant une encre céramique, et ils peuvent être disposés en un chemin fermé continu. Chaque poste de l'appareil de l'invention peut comprendre: (a) des moyens destinés à supporter une plaquette de subs- trat, au moins pendant une opération d'impression; (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ou de sérigraphie; (c) une barre d'étalement d'encre; et (d) une raclette destinée à appliquer l'écran contre le matériau de substrat pendant une opération d'impres- sion. Selon encore un autre aspect, l'invention procure un procédé pour la fabrication de varistances, comprenant les étapes suivantes: (a) on applique une première couche d'une céramique sur un substrat; (b) on applique un ensemble de zones de matériau conducteur sur la couche de céramique; (c) on applique une couche de céramique supplémentaire pour recouvrir l'ensemble de zones conductrices; (d) on répète au moins une fois les étapes (b) et (c); (e) on applique une couche finale de céramique pour recou- vrir un ensemble de zones conductrices; et (f) on détache du substrat le produit constitué par la céramique et le matériau conducteur. Le procédé peut comprendre plus particulièrement les étapes suivantes: (a) on imprime une première couche d'une céramique sur un substrat; (b) on imprime un ensemble de zones de matériau conducteur sur la couche de céramique, (c) on imprime une couche de céramique supplémentaire pour recouvrir l'ensemble de zones conductrices; (d) on répète au moins une fois les étapes (b) et (c); (e) on imprime une couche finale de céramique pour recou- vrir un ensemble des zones conductrices; et (f) on détache du substrat le poduit formé parla composition de céramique imprimée et le matériau conducteur. Le procédé de l'invention comprend avantageuse- ment l'étape supplémentaire qui consiste à diviser les cou- ches imprimées pour former un ensemble de varistances, cha- cune d'elles comprenant plusieurs couches de céramique et plusieurs couches de matériau d'électrode Les couches sont alternées, avec chaque couche de matériau d'électrode in- tercalée entre deux couches de céramique L'étape de divi- sion peut fournir au moins un ensemble de varistances dans chacune desquelles au moins une couche de matériau d'élec- trode comprend un ensemble de zones de matériau conducteur. Le procédé de l'invention peut comprendre une étape supplémentaire dans laquelle un ensemble de zones qui sont définies par un matériau ayant une fonction de mar- queur, sont imprimées sur la surface externe de la couche finale de céramique, pour fournir une indication externe de l'emplacement de l'une au moins des couches de matériau conducteur Les paramètres de l'étape d'impression de la composition de céramique sont de préférence définis de façon à procurer une couche de céramique imprimée d'épais- seur uniforme sur la totalité de la zone qui est imprimée. Les paramètres de l'étape d'impression du matériau conduc- teur peuvent également être définis de façon à procurer des couches de matériau d'électrode d'épaisseur définie sur toute leur étendue. La suite de la description se réfère aux dessins annexés qui représentent respectivement Figure 1: une représentation, avec une partie arrachée, d'une varistance multicouche qui est fabriquée par le procédé et l'appareil présents, selon un mode de réalisation de l'invention; Figure 2: une coupe de la varistance de la figu- re 1 dans un plan de coupe longitudinal; Figure 3: une coupe transversale de la varistan- ce des figures 1 et 2, dans le plan de coupe III-III de la figure 2; Figure 4: une coupe observée par le dessus, de la varistance des figures 1, 2 et 3, selon le plan de coupe IV-IV de la figure 3; Figure 5: une coupe longitudinale d'une autre configuration originale d'une varistance multicouche; Figure 6: une coupe similaire à celle de la fi- gure 2, d'une autre structure d'une varistance multicouche; Figure 7: une coupe longitudinale, à nouveau similaire à celle de la figure 2, d'un autre mode de réali- sation d'une structure de varistance multicouche; Figure 8: une représentation d'une configuration de varistance en forme de broche de connecteur pour un mode de réalisation de l'invention; Figure 9: une représentation axiale de la broche de connecteur de la figure 8; Figure 10: une représentation d'une configura- tion en forme de disque pour une varistance multicouche d'un mode de réalisation de l'invention; Figure 11: une coupe axiale de la varistance de la figure 10; Figure 12: une représentation schématique du substrat et des écrans qui sont utilisés dans la prépara- tion de varistances de la sorte représentée plus particu- lièrement sur les figures 1 à 4 ou les figures 6 ou 7, dans un mode de réalisation de l'invention; Figure 13: un organigramme qui montre les étapes qui interviennent dans la préparation des divers consti- tuants et éléments qui entrent en jeu et sont nécessaires pour la fabrication de varistances multicouches,par l'uti- lisation d'une technique de sérigraphie conforme à un mode de réalisation de l'invention; Figure 14: une représentation latérale schémati- que d'une partie d'un poste de sérigraphie qui est utilisé conformément à un mode de réalisation de l'invention pour la fabrication de varistances, montrant le déplacement élastique de l'écran que produit la raclette pendant l'opé- ration d'impression; Figures 15 A et 15 B: la disposition et l'orienta- tion de couches d'électrodes successives dans une opération d'impression, avec un produit fini représenté à côté du substrat imprimé, dans un but de comparaison; Figure 16: une représentation de l'impression finale sur la surface supérieure de l'agrégat de varis- tances qui est utilisée pour procurer un guide pendant une- étape de découpage dans un mode de réalisation de l'inven- tion; Figure 17: une vue en plan de l'impression ex- terne finale, montrant les plans de coupe; Figure 18: une coupe de l'agrégat de varistances à la suite de l'impression, montrant la disposition des plans de coupe par rapport aux zones d'électrodes; Figures 19 A et 19 B: des coupes respectives de deux configurations de varistances à basse tension, de faible longueur axiale; Figure 20: une autre configuration de plans de coupe pour un produit de faible longueur axiale, dans un mode de réalisation de l'invention; Figures 21 A et 21 B: des vues en plan montrant des configurations d'impression d'électrodes pour des pro- duits en forme de disques conformes à l'invention; il Figure 22: une représentation d'une impression de surface externe finale et des plans de séparation ou de coupe pour une varistance en forme de disque conforme à un mode de réalisation de l'invention; Figures 23 A et 23 B: une configuration d'impres- sion pour des réseaux plans de varistances; Figures 24 A et 24 B: une configuration d'impres- sion pour des réseaux circulaires; et Figures 25 A, 25 B, 25 C et 25 D: des représenta- tions sous forme de diagrammes des constituants de varis- tances pré-frittées qui sont respectivement réalisées par un procédé de sérigraphie et un procédé à sec. Comme le montrent les figures 1 à 4, une varis- tance 1 est formée à partir d'un ensemble de couches de céramique inter-électrodes 2, chacune d'elles étant inter- calée entre des couches d'électrodes supérieure et infé- rieure 3 Cette structure multicouche est enveloppée entre des couches de céramique extérieures supérieure et infé- rieure 4, au moyen de zones de céramique périphériques 5 sur les côtés et sur certaines parties d'extrémités des électrodes A chaque extrémité axiale de la varistance 1 de forme générale rectangulaire qui est représentée dans les dessins, des couches d'électrodes alternées 3 sont amenées jusqu'aux faces d'extrémités axiales de la céramique, o elles sont associées de façon conductrice avec des chapeaux de bornes d'extrémités 6, qui sont constitués de façon caractéristique par des revêtements d'argent/palladium Une dimension caractéristique pour une varistance 1 de cette sorte est de 3000,0 x 2500,0 microns, un micron étant égal à un millième de millimètre Les couches d'électrodes peu- vent avoir une épaisseur d'environ 0,3 à 4,0 microns, tan- dis que les couches de céramique inter-électrodes 2 peuvent avoir une épaisseur variant entre 10,0 et 600,0 microns, en fonction des exigences de performances du dispositif Les couches de céramique extérieures 4 ont de façon caractéris- tique une épaisseur trois fois supérieure à celle des cou- ches de céramique inter-électrodes 2, et elles peuvent donc avoir entre 30,0 et 1800,0 microns d'épaisseur, de même que les zones de céramique latérales 5 et les parties de céra- mique qui se trouvent axialement à l'extérieur des extrémi- tés des couches d'électrodes qui ne sont pas connectées à un chapeau de borne d'extrémité 6. Selon un aspect de la présente invention qu'on décrira ci-après, on fabrique avantageusement une structure de varistance multicouche 1 de ce type au moyen d'un pro- cédé de sérigraphie, dans lequel on maintient une excellen- te maîtrise des épaisseurs des couches successives De plus, le parallélisme entre des couches d'électrodes dans une varistance multicouche 1 est d'importance primordiale. Les couches d'électrodes 3 doivent être parallèles, avec des tolérances relativement étroites, du fait que toutes les couches d'électrodes doivent s'amorcer en même temps lorsque le dispositif est activé. Par conséquent, en résumé, dans le but d'assurer un fonctionnement correct d'une varistance 1 du type sur lequel porte l'invention, il est important que chaque cou- che de céramique inter-électrode 2 ait précisément la même épaisseur que toute autre couche de céramique inter-élec- trode 2, avec des tolérances étroites qui sont de façon caractéristique de + 2 % Chaque couche 2 doit donc définir un plan ou une famille de plans qui est parallèle à tout autre plan ou famille de plans défini par toute autre cou- che Dans des représentations en coupe telles que celles des figures 2 et 3, le parallélisme des couches, aussi bien des couches de céramique que des couches de matériau d'électrode, sur toute la hauteur verticale du dispositif à structure multicouche empilée 1, est donc d'une grande im- portance. Au contraire, l'alignement mutuel des extrémités et des bords des couches d'électrodes n'est pas aussi cru- cial Un plan vertical aligné de façon générale avec les régions d'extrémités des couches d'électrodes est indiqué par la ligne 7-7 sur la figure 2, mais on voit que les ex- trémités des couches d'électrodes ne sont pas nécessaire- ment exactement alignées les unes avec les autres De façon similaire, dans la coupe transversale de la figure 3, les bords latéraux des couches d'électrodes ne sont pas néces- sairement parfaitement alignés avec la ligne 8-8 Les per- formances de la varistance 1 sont déterminées moins par les aires des couches inter-électrodes 2 que par leur épaisseur et leur homogénéité En ce qui concerne la tendance à un amorçage parasite par cheminement, c'est en fait la zone indiquée par la ligne en pointillés portant la référence 9 sur la figure 2, qui sera probablement la plus critique dans la détermination des performances de la varistance 1, du fait que le courant circule par le chemin de moindre résistance à l'intérieur du dispositif Si le chemin cor- respondant à la dimension 9 n'a pas une résistance supé- rieure à celle qui existe à l'intérieur de la structure entre les chapeaux de bornes d'extrémités 6 et qui fait in- tervenir les couches d'électrodes 3, un cheminement peut se produire dans cette partie du dispositif. La figure 5 représente une autre structure d'une varistance 11 conforme à un autre mode de réalisation de l'invention, dans laquelle une seule couche de céramique inter-électrode 12 est incorporée entre deux couches d'électrodes 13 Ces couches d'électrodes 13 sont séparées de l'extérieur de la varistance par des couches de cérami- que extérieures 14 Une extrémité de chacune des couches d'électrodes 13 s'étend vers l'extérieur jusqu'à un chapeau de borne d'extrémité 16 Les autres extrémités des cou- ches d'électrodes s'étendent jusqu'à une zone périphérique associée Le fonctionnement de ce dispositif 11 et sa fabrication se déroulent d'une manière similaire à celle qu'on a déjà décrite pour le mode de réalisation des figu- res 1 à 4. Les varistances 1, 11 qui sont respectivement représentées sur les figures 1 à 4 et sur la figure 5 doi- vent avoir fondamentalement une couche isolante dans les couches de céramique extérieures respectives 4 et 14 Cette couche isolante peut être définie de la manière qui est représentée sur la figure 6, pour une varistance qui est de façon générale similaire à celle des figures 1 à 4, dans laquelle la couche extérieure 21 consiste en céramique d'épaisseur supérieure à celle des couches de céramique inter-électrodes 2 De cette manière, on réduit la possibi- lité qu'un amorçage parasite par cheminement se produise entre le chapeau de borne d'extrémité 6, qui est placé au- tour des coins arrondis 23 du bloc de varistance 1 de forme générale rectangulaire, et les couches d'électrodes 3 les plus extérieures, qui sont les plus proches des surfaces supérieure et inférieure 24 Comme la figure 6 le montre de façon générale, l'épaisseur de cette couche extérieure 21 doit être de façon caractéristique approximativement égale au triple de l'épaisseur des couches de céramique inter- électrodes 2. * Selon une variante, la couche de céramique exté- rieure 21 peut être constituée par une céramique d'une com- position différente, comme indiqué par la référence 22 sur la figure 7, qui représente à nouveau une varistance 1 qui est de façon générale similaire à celle des figures 1 à 4. Dans ce cas, la céramique de la couche extérieure peut avoir la même composition de base que celle du reste de la varistance 1, mais elle peut avoir une structure plus fine, ce qui procure un nombre fortement accru de joints de grains, qui augmente considérablement la résistance de la couche extérieure en comparaison avec celle des couches de céramique inter-électrodes 2 De cette manière, on peut à nouveau réduire la tendance de la couche extérieure 22 à donner lieu à un cheminement parasite Selon une variante, on peut utiliser une céramique d'une composition différente pour la couche extérieure 22, mais il peut néanmoins être souhaitable d'avoir une plus grande épaisseur pour cette céramique de composition différente dans les régions exté- rieures 22 de la varistance 1, dans le but d'améliorer la sûreté et la sécurité Autour des bords des couches d'élec- trodes 3, o ces couches ne s'étendent pas jusqu'au chapeau de borne d'extrémité 6, la céramique est également présente avec une épaisseur suffisante et/ou une composition appro- priée pour garantir qu'un cheminement vers l'extérieur ne puisse pas se produire L'utilisation d'une céramique dif- férente pour les couches extérieures 22 peut également être combinée avec une épaisseur accrue de ces couches 22, les couches extérieures 22 ayant par exemple une épaisseur jus- qu'à trois fois supérieure à celle des couches de céramique inter-électrodes 2 Ainsi, en résumé, le matériau d'élec- trode 3 peut être le même dans l'ensemble du produit, avec une épaisseur accrue pour les couches extérieures 22, ou bien les couches extérieures 22 peuvent être constituées par un matériau différent, sans augmentation d'épaisseur, ou seulement avec une augmentation d'épaisseur modérée, ou enfin les couches extérieures 22 peuvent être constituées par un matériau différent et peuvent également avoir une épaisseur notablement supérieure à celle des couches inter- électrodes 2. Les figures 8 et 9 montrent une configuration d'une varistance multicouche qui se présente sous la forme d'une broche de connecteur 31 La broche 31 comporte des couches de céramique inter-électrodes 32 entre des couches d'électrodes 33 Des couches de céramique d'extrémités 34 sont également incorporées d'une manière similaire à celle des structures rectangulaires des figures 1 à 6, de façon à avoir une épaisseur supérieure et/ou une composition diffé- rente, comme il convient Une structure de borne extérieure 35 est placée à l'extérieur de la broche de connecteur 31 de forme générale cylindrique, tandis qu'une structure de borne interne 36 est placée à l'intérieur du trou axial qui traverse la broche de connecteur et qui est représenté par un passage central 37 Des couches d'électrodes 33 alter- nées s'étendent soit jusqu'à la surface extérieure de la céramique pour établir une communication électrique avec la structure de borne extérieure 35, soit d'une manière simi- laire jusqu'à la structure de borne intérieure 36. Les figures 10 et 11 montrent une structure en forme de disque 41, dans laquelle des couches de céramique inter-électrodes 42 sont situées entre des couches d'élec- trodes 43 et sont ici encore séparées des surfaces d'extré- mités extérieures du disque par des couches 44 plus épais- ses Une structure de borne extérieure 45 s'étend autour de la circonférence extérieure du disque, tandis qu'une struc- ture de borne intérieure 46 est définie par une métallisa- tion de l'intérieur du passage central 47 Des couches d'électrodes alternées 43 sont connectées de façon conduc- trice à la structure de borne extérieure 45 ou à la struc- ture de borne intérieure 46. Des avantages de la configuration multicouche consistent en ce que l'aire conductrice effective peut être accrue, en comparaison avec une varistance classique ayant une structure radiale Lorsque la varistance multicouche est commutée à l'état conducteur, la conduction se produit à travers la couche de céramique interposée 42, entre les électrodes de chaque paire d'électrodes 43, dont l'une des connectée à la première borne d'extrémité 45, tandis que l'autre est connectée à l'autre borne d'extrémité 46 Ain- si, dans une structure ayant un faible encombrement, dans la condition de conduction, un grand nombre de chemins con- ducteurs qui sont électriquement en parallèle sont établis, alors qu'un seul chemin de ce type est établi dans un dis- positif radial. De plus, du fait que les électrodes 43 sont en- tièrement contenues à l'intérieur de la structure en céra- mique, c'est-à-dire qu'elles sont enrobées, on peut égale- ment obtenir de meilleures propriétés de tenue en tension. En particulier, dans la structure de la figure 5, dans la- quelle on n'utilise que deux électrodes enrobées 13 avec une seule couche de céramique inter-électrode 12 interca- lée, on peut obtenir un dispositif ayant une tenue en ten- sion élevée qui présente néanmoins une faible capacité. Tous les modes de réalisation de l'invention en- visagés précédemment, pour diverses structures d'une varis- tance, peuvent être fabriqués par un procédé de sérigraphie dont certains aspects apparaissent dans la représentation générale de la figure 12 pour les varistances rectangulai- res des figures 1 à 4, de la figure 5 et des figures 6 et 7, mais des techniques de fabrication exactement similaires sont applicables aux configurations en forme de broche de connecteur et en forme de disque des figures 8 à 11 Comme le montre la figure 12, les couches de varistance sont em- pilées sur un substrat 51 Les couches de céramique sont déposées en utilisant un premier écran 52 Ce premier écran 52, ou écran de couche de céramique, comporte une zone de masque 53 qui définit la taille de la couche de céramique qui est formée pendant une étape d'impression de couche de céramique Dans l'opération d'impression, qui est accomplie selon un principe connu, une encre céramique est étalée sur l'écran 52 et traverse de force la zone de masque 53 sous une action de pressage, pour définir une couche de céramique sur le substrat Au cours de l'étape d'impression suivante, on utilise un écran d'électrode 54 ayant une zone de masque 55 Un grand nombre de zones d'électrodes 56 sont définies à l'intérieur de la zone de masque 55 L'impres- sion des zones d'électrodes sur la couche de céramique est effectuée de la même manière que pour la formation de la couche de céramique elle-même, c'est-à-dire qu'une encre d'électrodes est étalée sur l'écran et est pressée de façon à traverser de force les espaces de masques 56, pour défi- nir un grand de tâches d'encre sur la couche de céramique. Chaque couche, qu'il s'agisse de céramique ou du matériau d'électrode, doit être pratiquement séche avant que l'opé- ration d'impression suivante ait lieu. Dans chaque cas, on étale sur l'écran l'encre de type céramique de la varistance, et on la fait passer de force à travers la zone de masque pour définir une couche de céramique supplémentaire Pour établir les connexions externes des électrodes avec les chapeaux ou structures de bornes d'extrémités, chaque couche d'électrode successive est déplacée par rapport à la couche d'électrode précéden- te, pour permettre la réalisation des connexions d'extrémi- tés nécessaires Lorsque les couches sont accumulées en un nombre quelconque exigé, on achève le produit final par l'application de la couche de céramique externe finale. Comme on l'a déjà décrit, les première et dernière couches de céramique ont une épaisseur supérieure à celle des cou- ches inter-électrodes De plus, ou à la place, elles peu- vent être formées en utilisant une encre céramique d'une composition différente Une étape d'impression finale peut faire appel à l'utilisation d'une encre de marquage, par exemple une encre au carbone, pour imprimer sur la surface céramique extérieure du produit des tâches alignées avec l'une des couches d'impression d'électrodes internes, afin de permettre la détermination de plans de coupe pour divi- ser le produit imprimé terminé en un grand nombre de varis- tances individuelles Le substrat terminé est ensuite sépa- ré ou découpé en un grand nombre de blocs rectangulaires, avec les plans de coupe disposés d'une manière telle que chaque couche d'électrode s'étende jusqu'à une face d'ex- trémité appropriée d'un bloc séparé terminé, de la manière exigée par la structure terminée, comme représenté en par- ticulier sur les figures 1 à 4, c'est-à-dire que des cou- ches d'électrodes alternées s'étendent jusqu'à des extrémi- tés opposées des blocs rectangulaires, mais l'extrémité opposée de chaque couche d'électrode reste enterrée à l'in- térieur de la céramique. On peut appliquer des procédés de fabrication exactement similaires aux structures axiales des figures 8 à 11 Dans ce cas, le dépôt successif des couches s'effec- tue dans la direction axiale du produit fini, et les mas- ques pour les couches d'électrodes ont une forme circulaire ou annulaire Le découpage du produit fini est effectué en utilisant des procédés similaires à ceux que l'on utilise pour des blocs rectangulaires, et ces procédés sont adaptés aux diverses formes exigées pour ces configurations supplé- mentaires. A la suite du découpage du matériau de varistance multicouche, pour donner des dispositifs individuels, le produit est traité de façon à éliminer des coins et des bords vifs, pour définir les bords ou les coins arrondis qui sont désignés en particulier par la référence 23 sur les figures 6 et 7 Des opérations de cuisson et de traite- ment thermique sont ensuite effectuées d'une manière con- nue, après quoi on applique des chapeaux de bornes d'extré- mités 6, par exemple Ces derniers sont formés de façon caractéristique à partir d'un alliage argent/palladium, pour faciliter le brasage des varistances ainsi formées, en liaison avec d'autres structures de circuit. On peut maintenant expliquer de façon plus dé- taillée, en se référant aux figures 13 à 18, mentionnées précédemment dans la description sommaire des dessins, ce procédé de fabrication de varistances conforme à l'inven- tion, qui a été résumé brièvement et présenté dans les pa- ragraphes qui précèdent. En considérant tout d'abord la figure 13, qui est un organigramme montrant les provenances et les étapes de manipulation qui interviennent dans la préparation de cha- cun des constituants et éléments constitutifs qui sont uti- lisés dans la mise en oeuvre du procédé, on note que le côté gauche de l'organigramme concerne de façon générale la préparation des constituants physiques, qui est décrite de façon plus détaillée dans des demandes de brevets connexes, tandis que la partie droite présente la séquence d'étapes mécaniques intervenant dans la manipulation des composants utilisés dans le procédé, et qui a déjà été résumée ci- dessus. En considérant le côté gauche du dessin, on note que les phases initiales de la préparation comprennent l'obtention de quantités appropriées de poudre d'oxyde de zinc, d'additifs et de substances organiques La poudre d'oxyde de zinc, les additifs et les substances organiques sont mélangés dans une étape de préparation de suspension, après quoi le produit résultant est séché par pulvérisa- tion, calciné pour réduire sa taille, et séché On prépare ensuite une encre céramique, en combinant la poudre calci- née avec d'autres substances organiques L'encre résultante fait l'objet d'un contrôle par mesure de viscosité, avant son utilisation dans le procédé de fabrication de varistan- ces de l'invention. En passant maintenant au côté droit du dessin, on note qu'on se procure une encre d'électrode, on prépare des écrans appropriés pour l'impression de la céramique et des électrodes, on assemble et on inspecte ces écrans, et enfin on prépare également des substrats On charge les substrats dans la machine d'impression ou de sérigraphie, dans la- quelle les étapes centrales du procédé présent sont accom- plies Des étapes situées en aval comprennent l'opération qui consiste à séparer du substrat la varistance ou les varistances terminées, le découpage du produit en forme de plaque, pour donner des varistances individuelles, en fonc- tion des besoins, le traitement thermique et le frittage, le passage au tonneau à adoucir pour supprimer les arêtes et les coins vifs des dispositifs individuels séparés, com- me indiqué ci-dessus, l'inspection, le test et des opéra- tions finales de sortie, en préparation à l'expédition. Une configuration préférée d'un substrat prévu pour l'utilisation dans le procédé de l'invention corres- pond à un élément plan et carré Un contrôle de qualité relativement sévère est appliqué aux dimensions des subs- trats pour vérifier que ces substrats survivront sans dif- ficulté au grand nombre d'opérations de transfert et d'éta- pes d'impression qui interviennent dans l'utilisation du procédé de l'invention. La machine d'impression du procédé présent traite plusieurs substrats au cours de chaque passe d'impression. Ainsi, pour chaque opération d'impression qui doit être accomplie dans la machine d'impression de l'invention, on charge dans une cassette un nombre approprié de substrats, ayant tous la même épaisseur On fait avancer les substrats à partir de la cassette, pour l'utilisation dans la machine d'impression. Dans l'utilisation de la machine d'impression de l'invention, des substrats sont chargés dans le système à un poste de chargement, et ils se déplacent le long d'un chemin allant d'un poste d'impression à un autre, en se déplaçant de façon générale en avant Il est nécessaire que chaque couche imprimée soit pratiquement sèche avant l'ap- plication de la couche suivante de céramique ou d'encre d'électrode, selon ce qui convient, et dans ce but l'appa- reil peut comporter des moyens de séchage, pour faire en sorte que chaque dépôt d'encre soit parfaitement séché avant que le substrat n'atteigne le poste d'impression sui- vant Il peut y avoir quatre postes d'impression, parmi lesquels trois sont utilisés pour l'application d'une encre céramique, tandis que le quatrième est utilisé pour le dépôt des couches d'électrodes, et les postes d'impression peuvent être placés le long d'un chemin fermé continu que parcourt les substrats L'ensemble de l'opération d'impres- sion et l'avance ou le transfert des substrats sont comman- dés de façon appropriée par des moyens informatiques. On va maintenant décrire l'opération d'impression en se référant à la figure 14 Les quatre postes d'impres- sion sont tous fondamentalement identiques, et chacun d'eux comporte un élément qui est destiné à supporter un substrat 51 pendant une opération d'impression L'écran d'impression ou de sérigraphie 52 est placé audessus du substrat 51 pendant l'opération d'impression, à l'aide de moyens de support appropriés La structure de tête d'impression com- prend une barre d'étalement (non représentée), qui étale l'encre sur l'écran 52 pendant une course d'étalement d'en- cre, en sens avant Une raclette 84 est placée de façon à précéder la barre d'étalement pendant cette phase d'étale- ment d'encre en sens avant La raclette 84 est soulevée au- dessus de la surface de l'encre et hors de contact avec l'écran comme avec l'encre, pendant l'étape d'étalement. Pour l'opération d'impression réelle, la raclette 84 des- cend à partir de sa position levée pendant l'opération d'étalement, pour venir dans une position d'impression dans laquelle elle reste au cours de la course d'impression ou de retour, comme l'indique la flèche 85 sur la figure 14. La disposition, la forme et la configuration de la raclette 84 sont telles que l'encre est appliquée au substrat 51 et imprime celui-ci pendant cette course de retour ou de mou- vement en arrière. Dans la position d'impression du substrat 51, il existe une distance dite de décollement entre l'écran et le substrat, comme l'indique la référence 86 sur la figure 14. Lorsque la raclette 94 se déplace sur l'écran 52 pendant la course d'impression ou de retour, l'écran est déplacé de force vers le bas sur cette distance de décollement 86, jusqu'à ce qu'il vienne en contact avec la surface supé- rieure de la matière qui a déjà été imprimée sur le subs- trat 51, s'il s'agit d'une opération d'impression "aval", ou du substrat 51 lui-même, dans la première opération d'impression La raclette 84 a un profil tel que le maté- riau de l'écran 52 en avant de la raclette, dans la direc- tion du déplacement de cette dernière, descend vers la sur- face 87 de la zone d'impression et remonte ensuite de façon relativement abrupte en arrière de l'arête de pressage 88 de la raclette 84 Le terme "décollement" fait référence à l'action de décollement et de retour de la matière de l'écran en arrière de la raclette 84, qui permet de réali- ser une opération d'impression efficace et progressive, et qui est également fonction de la tension de l'écran, Pour obtenir l'action désirée, la raclette 84 consiste donc avantageusement en une barre allongée de catouchouc dur, disposée transversalement, ayant une sec- tion transversale rectangulaire, dans une configuration dans laquelle l'axe le plus long de sa section transversale s'étend vers le haut à partir de l'écran 52 La raclette 84 est également inclinée vers l'avant dans la direction de la course d'impression, ce qui fait que ce grand axe de la section transversale n'est pas vertical mais est incliné vers l'avant dans la direction d'impression La zone de contact entre la raclette 84 et l'écran 52 est le coin in- férieur avant 88 de la section transversale de la raclette 84, c'est-à-dire l'arête avant, dans la direction d'impres- sion, de la face ou du bord court inférieur de la barre de caoutchouc de section transversale rectangulaire. On peut utiliser diverses tailles d'écran diffé- rentes On peut utiliser différents écrans 52 à différentes positions d'impression Il existe un grand nombre de combi- naisons de tailles d'écran optimales, adaptées à des pro- duits particuliers, et on peut utiliser une variété de com- binaisons différentes de taille d'écran dans les différen- tes positions d'impression. Il est important que tous les écrans 52 qui sont utilisés dans le système de l'invention aient une qualité appropriée, et ceci fait intervenir l'inspection visuel- le à la fois pour déceler des zones en relief ou des in- dentations dans l'écran 52, ainsi que pour déceler des trous d'épingle ou des mailles bouchées dans la soie, et des dommages de la soie et du cadre Cette inspection doit être effectuée avant l'utilisation des écrans 52, et il est également nécessaire de contrôler la tension des écrans. Pendant la formation d'une couche, qu'il s'agisse d'une couche de céramique ou de matériau d'électrode, le substrat 51 peut passer par un certain nombre de postes d'impression qui sont répartis le long du chemin que par- court le substrat pendant qu'il avance à travers la machi- ne, ce chemin pouvant être un chemin fermé continu Plu- sieurs centaines de varistances peuvent être imprimées sur chaque substrat 51, le nombre réel dépendant plus ou moins de la taille de chaque varistance En fonction de l'épais- seur de chaque dépôt, des couches de céramique peuvent être formées par des passages successifs par les postes d'im- pression, pour accumuler l'épaisseur de couche de céramique exigée Lorsque l'épaisseur de couche de céramique est suf- fisante, on dépose une couche d'électrode en imprimant l'encre d'électrode sur la céramique Cette couche d'élec- trode a une épaisseur caractéristique de 1,0 micron, mais l'épaisseur de la couche peut varier, par exemple dans une plage allant de 0,3 à 5,0 microns La couche d'électrode est définie par une seule opération d'impression, indépen- damment de la structure des varistances Par conséquent, la variable dans l'impression des couches est le nombre de dé- pôts d'encre céramique qui sont effectués, et on agit sur l'épaisseur globale de céramique en augmentant ou en rédui- sant le nombre d'étapes d'impression de céramique. Chaque couche de céramique recouvre la totalité de l'étendue du substrat 51, tandis que, comme on l'a déjà indiqué en relation avec la figure 12, l'écran d'électrodes 54 définit un grand nombre de zones d'impression 56, la séparation de la plaque de varistance terminée sur le subs- trat 51, pour donner des dispositifs individuels, le long des couches d'électrodes et à travers celles-ci, et les zones de céramique continues entre les zones d'impression d'électrodes 56, qui procurent les produits finis de l'in- vention, lorsqu'on doit produire un grand nombre de dispo- sitifs individuels. Par conséquent, dans le but d'identifier les plans le long desquels ce découpage et cette séparation doivent avoir lieu, l'opération d'impression finale d'un cycle de fabrication complet est accomplie en remplaçant l'encre d'électrode par une encre qui convient pour former une impression de marquage sur la surface supérieure exter- ne de la plaque imprimée de matériau de varistance, sur le substrat 51 Cette encre peut être une encre au carbone, ou bien elle peut comprendre n'importe quelle matière, par exemple un colorant organique, qui est capable de disparaî- tre pendant la cuisson ou le traitement thermique, et qui ne réagit avec aucun des constituants essentiels de la va- ristance Dans le cas d'une encre au carbone, l'impression de marquage permet d'imprimer des tâches ou des zones noi- res sur la surface de la céramique extérieure du produit, et ces tâches sont alignées avec l'une des couches d'élec- trodes qui sont imprimées à l'intérieur de la plaque de varistance sur le substrat 51, et elles permettent de dé- terminer les plans de coupe En d'autres termes, les ré- gions de carbone permettent l'alignement des moyens de dé- coupage Cette manière à base de carbone brûle et disparaît complètement pendant un traitement aval ultérieur des pro- duits finis. On peut éviter l'étape d'impression d'encre de marquage sur la surface supérieure de la plaque en assurant un alignement précis de la plaque de varistance pendant la phase de découpage, en employant d'autres moyens, mais une impression de marquage externe visuellement apparente re- présente un moyen commode pour garantir une division préci- se du produit sous forme de plaque, lorsque cette opération est nécessaire. Les figures 15 A et 15 B montrent une configuration pour l'impression de couches d'encre d'électrodes successi- ves dans une varistance multicouche 101 dont la configura- tion finale est de façon générale rectangulaire Dans cha- que couche de cette configuration particulière prise à titre d'exemple, les zones d'encre d'électrodes 102 ont une forme générale rectangulaire et sont allongées en direction axiale, sauf pour la dernière zone d'électrode 103 (voir la figure 15 B) dans la direction longitudinale, dont la lon- gueur axiale est approximativement la moitié de celle des autres zones d'électrodes 102 Après l'accomplissement de chaque opération d'impression d'encre d'électrode, le maté- * riau d'électrode est recouvert par de la céramique, et une couche d'électrode supplémentaire est ensuite placée sur la couche de céramique La couche d'électrode suivante est inversée par rapport à la couche précédente, de façon que les zones d'électrodes courtes 104 (voir la figure 15 B) se trouvent dans ce cas à l'extrémité axiale opposée par rap- port aux zones 103 de la première couche Par conséquent, les séparations 105 entre des tâches ou des zones d'élec- trodes dans chaque couche sont déplacées dans la direction de la longueur des zones d'électrodes, avec un déplacement de la moitié d'un pas des zones d'électrodes, par rapport aux séparations des couches situées audessus ou au-dessous dans la varistance La raison de cette disposition alterna- tivement décalée ressortira d'un dessin suivant, montrant la configuration de découpage. La présence ou l'absence de la "demi-rangée" 103 ou 104 de l'exemple des figures 15 A et 15 B, dépend des di- mensions relatives des dispositifs finis et du substrat. Dans d'autres configurations, une telle "demi-rangée" peut ne pas être présente Cependant, au moins dans tous les cas dans lesquels une subdivision de la plaque imprimée est exigée, le déplacement axial alterné entre des couches d'électrodes successives est nécessaire, indépendamment de la présence ou de l'absence de la "demi-rangée". L'impression d'encre au carbone sur la surface supérieure de la varistance correspond avantageusement à l'avant-dernière configuration d'électrode qui est déposée, avant l'impression de céramique finale et le dépôt de l'en- cre au carbone La figure 16 est une représentation de la surface supérieure d'une varistance 111 sur laquelle l'en- cre au carbone 112 est imprimée, et elle indique également les plans de séparation ou de coupe 113, pour la division du produit sous forme de plaque de façon à donner des dis- positifs individuels consistant en varistances, et pour retirer ces dispositifs du substrat 116. A l'achèvement de la dernière étape d'impression, on fait avancer les substrats jusqu'aux positions de décou- page et de séparation ou de division du système de fabrica- tion. Dans la phase de découpage, les varistances sont séparées en dispositifs individuels par découpage à travers la céramique continue et à travers les couches définissant des électrodes, selon des plans respectifs qui sont déter- minés par la position des régions de carbone 112 de la sur- face. La figure 17 est une vue en plan de la configura- tion d'impression d'encre au carbone sur la surface supé- rieure de la couche de céramique finale, avec certains des plans de coupe indiqués par les références 121, 123 On voit qu'un premier plan de coupe 121 s'étend à travers les espaces qui sont situés entre les tâches ou régions de car- bone 112, transversalement à leur direction longitudinale, tandis qu'un second plan de coupe 123 traverse les régions de carbone 112 en position médiane sur leurs longueurs axiales Des plans de coupe longitudinaux 124 divisent le produit entre les régions de carbone 112, dans leur direc- tion longitudinale La figure 18 est une vue de côté mon- trant le résultat final du découpage du produit de cette manière Pendant que l'opération de découpage se déroule en traversant chaque couche d'électrode successive, pour une première couche 125 l'opération de découpage laisse deux parties de matériau d'électrode à nu, avec l'une d'elles dans chacune des surfaces d'extrémités de chaque côté du plan de coupe 123 Lorsque le plan de coupe traverse le niveau de la couche d'électrode 126 suivante, en descendant à partir de la couche 125 qui est coupée par l'opération de découpage, il traverse la céramique pleine, ce qui fait que les parties de couche d'électrode de cette couche suivante se terminent en retrait des plans d'extrémités correspon- dant à la coupure De cette manière, on obtient la struc- ture de varistance de l'invention, représentée dans les figures précédentes associées à la présente description, et cette structure convient pour la fixation des chapeaux de bornes d'extrémités et pour les autres étapes de traitement qui sont nécessaires pour produire un dispositif fini. La figure 19 A montre un dispositif à très basse tension 131, de faible longueur axiale Pour garantir les performances du dispositif, le dégagement d'extrémité X entre chaque extrémité de couche d'électrode enterrée et la surface du chapeau de borne d'extrémité opposée du produit, doit être supérieur à la dimension Y, c'est-à-dire la di- mension de séparation des couches dans la région de recou- vrement Des dispositifs à basse tension peuvent avoir une longueur axiale faible, descendant jusqu'à 1,5 mm Cepen- dant, la dimension X peut varier en fonction de la position du plan de coupe Dans un produit très court, il peut être difficile de faire en sorte que la dimension X soit tou- jours supérieure à l'écartement Y des couches d'électrodes dans la région de recouvrement, à cause de variations iné- vitables de la position du plan de coupe dans la direction axiale ou longitudinale. La figure 19 B et la figure 20 montrent une autre structure 141 du produit, dans laquelle on utilise une technique de découpage différente Au lieu d'effectuer le découpage de la varistance pratiquement en alignement avec les espaces entre les régions d'encre d'électrode 142 dans les couches d'électrodes, les plans de coupe 146 traversent le matériau d'électrode dans toutes les couches, et ces dernières sont placées dans la disposition relative qui est représentée dans la coupe de la figure 20 Ainsi, au lieu que la séparation entre deux parties de matériau d'électro- de dans une couche soit pratiquement alignée avec le centre d'une région ou d'une zone d'électrode dans la couche sui- vante, les séparations sont déplacées, de façon que chaque séparation se trouve au-dessus d'une partie d'électrode proche de l'espace ou de l'intervalle de séparation entre les zones d'électrodes de la couche suivante Cette dispo- sition en biais, en association avec la technique de décou- page selon une configuration alternée, laisse une courte partie de matériau d'électrode 143 espacée vis-à-vis de l'électrode principale 144, mais en communication avec la face de chapeau de borne d'extrémité opposée 145 En fait, il y a une courte partie de matériau d'électrode mort qui ne remplit aucune fonction utile au point de vue électri- que L'avantage de structure consiste cependant en ce que la dimension X peut être définie de façon très précise pen- dant l'opération d'impression, ce qui fait qu'elle sera toujours supérieure à la dimension Y correspondant à l'écartement des couches dans la région de recouvrement. Sur la même longueur globale de boîtier, on peut obtenir environ 90 % de la longueur de recouvrement Z qui est dispo- nible dans un dispositif dans lequel les couches d'électro- des se terminent dans une position entièrement dégagée des chapeaux de bornes d'extrémités, comme représenté sur la figure 19 A Ce degré de recouvrement est habituellement suffisant dans la plupart des applications Cependant, dans la configuration de la figure 19 B, on peut conserver la même dimension de recouvrement Z que sur la figure 19 A, en prolongeant axialement la longueur globale du produit, si cette façon de procéder est appropriée. Un avantage supplémentaire de cette variante con- siste en ce qu'elle minimise la réaction avec l'électrode de borne d'extrémité La région de fonctionnement effective de la varistance est déplacée vers une position plus éloi- gnée des chapeaux de bornes d'extrémités 6, par exemple, ce qui est avantageux. Les figures 21 A et 21 B montrent respectivement des configurations de sérigraphie pour des varistances en forme de disque, du genre représenté par exemple sur les figures 8, 9, 10 et 11 Comme le montrent les figures 21 A et 21 B, on utilise deux configurations 151, 152, ayant cha- cune la forme d'un anneau Le plus grand anneau 151, qui a une grande ouverture centrale 153, forme l'électrode exté- rieure du disque fini, qui s'étend jusqu'à la surface péri- phérique extérieure du dispositif en forme de disque, à la suite de l'étape de séparation Le second anneau 152, qui est plus petit, forme l'électrode intérieure La petite ouverture centrale 154 de l'anneau 152 s'étend jusqu'au trou intérieur poinçonné ou foré qui traverse le produit en forme de disque dans le dispositif terminé Les lignes en pointillés 152 a et 154 a montrent les dispositions relatives des périphéries intérieure et extérieure de l'anneau 152, lorsqu'il est centré sur l'anneau 151, de plus grande tail- le. La figure 22 est une représentation montrant l'impression finale, à base de carbone, pour des varistan- ces 161 en forme de disque, sur un substrat 162, ainsi que des plans de séparation ou de division ou de coupe 163, 164. Les figures 23 A, 23 B, 24 A et 24 B montrent des configurations d'impression pour des réseaux, à savoir des réseaux plans sur les figures 23 A et 23 B et des réseaux circulaires sur les figures 24 A et 24 B Dans une structure de varistance de type réseau, une grande plaque de masse 171 (figure 23 A), 172 (figure 24 B) comporte des ouvertures ou des trous respectifs 173, 174 Sur les figures 23 B et 24 A, plusieurs électrodes individuelles portant respective- ment les références 175, 176, sont définies pour chaque ouverture ou trou respectif 173, 174, au moyen d'une secon- de opération d'impression à l'intérieur d'une limite res- pective 171 a, 172 a, correspondant à la périphérie de la plaque de masse 171, 172 La seconde opération d'impression forme les zones de contacts pour les broches de sortie, qui sont définies par des ouvertures de faible diamètre 177, 178 dans le produit fini Des réseaux peuvent également comporter de très grands nombres de broches, et ils peuvent avoir une configuration d'ensemble circulaire (figure 24 B), ou bien ils peuvent correspondre à des dispositifs rectan- gulaires ou du type appelé "D" (figure 23 A) Dans des ré- seaux du type D, chaque rangée de broches 177 est décalée de façon caractéristique de la moitié du pas des broches 177 par rapport à la rangée ou aux rangées adjacentes De plus, les zones d'encre d'électrodes imprimées définissant les régions de contact pour les broches de sortie, peuvent avoir l'une quelconque de diverses configurations possi- bles, comprenant des configurations circulaires, carrées, elliptiques et irrégulières. A la suite de la subdivision par sciage de la structure multicouche terminée, lorsque c'est nécessaire, ou sans découpage ou seulement avec un découpage limité, lorsqu'il s'agit de réseaux ou de plus grands dispositifs, les produits individuels sont retirés du substrat par n'im- porte quels moyens appropriés. Les produits du procédé présent se distinguent de ceux qui sont préparés par des procédés dits par voie sè- che, dans lesquels on prépare initialement une lame de cé- ramique et on l'intercale dans un processus de fabrication entre des couches de matériau d'électrode Les produits de l'invention ont une structure plus dense qu'un produit fabriqué par un procédé par voie sèche, qui peut présenter un degré de porosité plus élevé dans le produit fritté ter- miné. La raison de cette différence ressort des dia- grammes des figures 25 A, 25 B, 25 C, 25 D Les figures 25 A et 25 B montrent respectivement les proportions en masse et les proportions en volume d'une varistance qui est fabriquée par un procédé de sérigraphie par voie humide, tandis que les représentations correspondantes des figures 25 C et 25 D montrent respectivement des proportions similaires pour des varistances qui sont produites par des procédés par voie sèche En comparant tout d'abord la répartition en masse des produits préparés par voie humide et par voie sèche, on voit que pour le même pourcentage de poudre, en masse, qui est ce qui reste à la suite des opérations de traitement thermique ou de frittage, un liant et des substances orga- niques sont présents dans différentes proportions en masse dans les deux procédés de fabrication, soit de façon carac- téristique 3,0 % de liant pour le procédé par voie humide et jusqu'à 12,0 % pour le procédé par voie sèche Ainsi, à la suite du frittage et de l'évaporation des substances orga- niques et des liants, la masse de céramique sèche qui reste est identique pour les produits qui sont obtenus par le procédé par voie humide et par le procédé par voie sèche. Cependant, en considérant maintenant les pourcentages en volume qui sont représentés dans les diagrammes inférieurs, on note que dans le procédé par voie humide le liant repré- sente seulement 20 % en volume du produit dans la phase qui précède le frittage, tandis que dans le produit du procédé par voie sèche, le liant représente jusqu'à 70 % en volume. La zone hachurée de ces diagrammes de pourcentage en volume montre la poudre sèche qui reste après frittage, et il apparaît immédiatement que cette poudre est sous une forme beaucoup plus dense dans le produit du procédé par voie humide que dans le produit du procédé par voie sèche En d'autres termes, la porosité du produit qui est obtenue par le procédé par voie sèche est notablement supérieure, dans une proportion mesurable, à celle du produit qui est obtenu par le procédé par voie humide Cette densité distinctement améliorée est une propriété spécifique de varistances pré- parées par le procédé et le système présents, et on peut l'identifier aussi bien de façon qualitative que de façon quantitative dans des produits finis. Le procédé d'impression présent facilite spécia- lement la fabrication de varistances multicouches ayant des couches relativement minces de céramique d'épaisseur défi- nie et uniforme Le procédé convient particulièrement bien pour la fabrication de varistances multicouches dans les- quelles les couches de céramique mesurent 30 microns ou moins La technique d'impression du procédé par voie humide permet de maintenir de façon plus précise l'uniformité de l'épaisseur des couches et le parallélisme de couches suc- cessives, en comparaison avec des procédés par voie sèche, dans des varistances qui entrent dans cette catégorie di- mensionnelle. REVENDICATIONS 1 Appareil pour la fabrication de varistances, caractérisé en ce qu'il comprend: (a) au moins un poste pour appliquer une encre céramique sur un matériau de subs- trat ( 51), (b) au moins un poste pour appliquer une encre non céramique sur un matériau de substrat ( 51), (c) des moyens de transfert qui relient les postes pour faire avancer de poste en poste des parties de matériau de subs- trat ( 51), et (d) des moyens de commande pour réguler et coordonner des opérations d'impression et le déplacement du substrat ( 51). 2 Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend un ensemble de postes d'impression d'encre céramique. 3 Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que les postes sont disposés sur un chemin fermé con- tinu. 4 Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que chaque poste comprend: (a) des moyens destinés à supporter une plaque de substrat ( 51), au moins pendant une opération d'impression, (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ( 52), (c) une barre d'étalement d'en- cre, et (d) une raclette ( 84) destinée à appliquer l'écran ( 52) contre le matériau de substrat ( 51) pendant une opéra- tion d'impression. Appareil selon la revendication 3, caractérisé en ce que chaque poste comprend: (a) des moyens destinés à supporter une plaque de substrat ( 51) , au moins pendant une opération d'impression, (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ( 52), (c) une barre d'étalement d'en- cre, et (d) une raclette ( 84) destinée à appliquer l'écran ( 52) contre le matériau de substrat ( 51) pendant une opéra- tion d'impression. 6 Appareil pour la fabrication de varistances, caractérisé en ce qu'il comprend: (a) au moins un poste de sérigraphie pour l'application d'une encre céramique sur un matériau de substrat ( 51), (b) au moins un poste de séri- graphie pour l'application d'une encre non céramique sur un matériau de substrat ( 51), (c) des moyens de transfert qui relient les postes de sérigraphie pour faire avancer de poste en poste des parties de matériau de substrat ( 51), et (d) des moyens de commande pour réguler et coordonner les opérations de sérigraphie ou d'impression et le déplacement du substrat ( 51). 7 Appareil selon la revendication 6, caractérisé en ce qu'il comprend un ensemble de postes d'impression d'encre céramique. 8 Appareil selon la revendication 6, caractérisé en ce que les postes sont disposés sur un chemin fermé con- tinu. 9 Appareil selon la revendication 7, caractérisé en ce que les postes sont disposés sur un chemin fermé con- tinu. Appareil selon la revendication 6, caractéri- sé en ce que chaque poste comprend: (a) des moyens desti- nés à supporter une plaque de substrat ( 51), au moins pen- dant une opération d'impression, (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ( 52), (c) une barre d'éta- lement d'encre, et (d) une raclette ( 84) destinée à appli- quer l'écran ( 52) contre le matériau de substrat ( 51) pen- dant une opération d'impression. 11 Appareil selon la revendication 7, caracté- risé en ce que chaque poste comprend: (a) des moyens des- tinés à supporter une plaque de substrat ( 51), au moins pendant une opération d'impression, (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ( 52), (c) une barre d'étalement d'encre, et (d) une raclette ( 84) destinée à appliquer l'écran ( 52)contre le matériau de substrat ( 51) pendant une opération d'impression. 12 Appareil selon la revendication 8, caracté- risé en ce que chaque poste comprend: (a) des moyens des- tinés à supporter une plaque de substrat ( 51), au moins pendant une opération d'impression, (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ( 52), (c) une barre d'étalement d'encre, et (d) une raclette ( 84) destinée à appliquer l'écran ( 52)contre le matériau de substrat ( 51) pendant une opération d'impression. 13 Appareil selon la revendication 9, caracté- risé en ce que chaque poste comprend: (a) des moyens des- tinés à supporter une plaque de substrat ( 51), au moins pendant une opération d'impression, (b) des moyens destinés à supporter un écran d'impression ( 52), (c) une barre d'étalement d'encre, et (d) une raclette ( 84) destinée à appliquer l'écran ( 52)contre le matériau de substrat ( 51) pendant une opération d'impression. 14 Procédé de fabrication de varistances, carac- térisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: (a) on applique une première couche de céramique ( 2) sur un subs- trat ( 51), (b) on applique un ensemble de zones de matériau conducteur sur la couche de céramique ( 2), (c) on applique une couche de céramique supplémentaire ( 2) pour recouvrir l'ensemble de zones conductrices, (d) on répète au moins une fois les étapes (b) et (c), (e) on applique une couche finale de céramique pour recouvrir un ensemble des zones conductrices, et (f) on détache du substrat ( 51) le produit constitué par la composition de céramique et le matériau conducteur. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il comprend l'étape supplémentaire qui consiste à diviser le produit imprimé pour obtenir un ensemble de varistances ayant cha- cune plusieurs couches de céramique ( 2) et plusieurs cou- ches de matériau d'électrode ( 3), ces couches étant alter- nées, avec chaque couche de matériau d'électrode ( 3) inter- calée entre deux couches de céramique ( 2). 16 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 15, caractérisé en ce que l'étape de divi- sion fournit au moins un ensemble de varistances dans cha- cune desquelles au moins une couche de matériau d'électrode ( 3) comprend un ensemble de zones de matériau conducteur. 17 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il comprend une étape dans laquelle un ensemble de zones ( 112) définies par un matériau de marquage sont imprimées sur la surface ex- terne de la couche finale de céramique ( 2), pour fournir une indication externe de la position de l'une au moins des couches de matériau conducteur ( 3). 18 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'il comprend une étape dans laquelle un ensemble de zones ( 112) définies par un matériau de marquage sont imprimées sur la surface ex- terne de la couche finale de céramique ( 2), pour fournir une indication externe de la position de l'une au moins des couches de matériau conducteur ( 3). 19 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'il comprend une étape dans laquelle un ensemble de zones ( 112) définies par un matériau de marquage sont imprimées sur la surface ex- terne de la couche finale de céramique ( 2), pour fournir une indication externe de la position de l'une au moins des couches de matériau conducteur ( 3). Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression d'une composition de céramique, de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) imprimée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 21 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication -ri, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression d'une composition de céramique, de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) imprimée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 22 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression d'une composition de céramique, de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) imprimée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 23 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 17, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression d'une composition de céramique, de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) imprimée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 24 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 18, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression d'une composition de céramique, de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) imprimée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression d'une composition de céramique, de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) imprimée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 26 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 27 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 15, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 28 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 16, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 29 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 17, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 18, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 31 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 32 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 20, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 33 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 34 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 22, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 23, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 36 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 24, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 37 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 25, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 38 Procédé de fabrication de varistances, carac- térisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes (a) on imprime une première couche de céramique ( 2) sur un subs- trat ( 51), (b) on imprime un ensemble de zones de matériau conducteur sur la couche de céramique ( 2), (c) on imprime une couche de céramique ( 2) supplémentaire pour recouvrir l'ensemble de zones conductrices, (d) on répète au moins une fois les étapes (b) et (c), (e) on imprime une couche finale de céramique ( 2) pour recouvrir un ensemble des zones conductrices, et (f) on détache du substrat ( 51) le produit imprimé constitué par la composition de céramique et le matériau conducteur. 39 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 38, caractérisé en ce qu'il comprend l'étape supplémentaire qui consiste à diviser le produit imprimé pour obtenir un ensemble de varistances, chaque varistance comprenant un ensemble de couches de céramique ( 2) et un ensemble de couches de matériau d'électrode ( 3), et ces couches étant alternées avec chaque couche de maté- riau d'électrode ( 3) intercalée entre deux couches de céra- mique ( 2). Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 39, caractérisé en ce que l'étape de divi- sion fournit au moins un ensemble de varistances dans chacune desquelles au moins une couche de matériau d'élec- trode ( 3) comprend un ensemble de zones de matériau con- ducteur. 41 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 38, caractérisé en ce qu'il comprend une étape dans laquelle un ensemble de zones ( 112) définies par un matériau de marquage sont imprimées sur la surface ex- terne de la couche finale de céramique, pour fournir une indication externe de la position de l'une au moins des couches de matériau conducteur. 42 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 39, caractérisé en ce qu'il comprend une étape dans laquelle un ensemble de zones ( 112) définies par un matériau de marquage sont imprimées sur la surface ex- terne de la couche finale de céramique, pour fournir une indication externe de la position de l'une au moins des couches de matériau conducteur. 43 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 40, caractérisé en ce qu'il comprend une étape dans laquelle un ensemble de zones ( 112) définies par un matériau de marquage sont imprimées sur la surface ex- terne de la couche finale de céramique, pour fournir une indication externe de la position de l'une au moins des couches de matériau conducteur. 44 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 38, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de composition de céra- mique de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) impri- mée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 39, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de composition de céra- mique de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) impri- mée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 46 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 40, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de composition de céra- mique de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) impri- mée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 47 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 41, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de composition de céra- mique de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) impri- mée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 48 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 42, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de composition de céra- mique de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) impri- mée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. 49 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 43, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de composition de céra- mique de façon à obtenir une couche de céramique ( 2) impri- mée d'épaisseur uniforme sur toute l'étendue de la zone imprimée. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 38, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étapes d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 51 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 39, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 52 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 40, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 53 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 41, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 54 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 42, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 43, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 56 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 44, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 57 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 45, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 58 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 46, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 59 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 47, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 48, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue. 61 Procédé de fabrication de varistances selon la revendication 49, caractérisé en ce qu'on définit les paramètres de l'étape d'impression de matériau conducteur de façon à obtenir des couches de matériau d'électrode ( 3) d'épaisseur définie sur toute leur étendue.