FR 2638984 A1 19900518 FR 8914930 A 19891114 L'invention concerne un procéde et un appareil de nettoyage par vapeur et séchage pour le nettoyage superfin d'un article, utilisable dans un procédé de fabrication de dispositifs semiconducteurs, par exemple. Classiquement, un appareil de nettoyage superfin à utiliser dans un procédé de fabrication de dispositifs semiconducteurs ou autrement comprend un poste de traitement pour le nettoyage et le séchage d'un article devant être nettoyé tel que, par exemple, un photomasque, un réticule ou une tranche de semiconducteur, et un poste réservoir destiné à tenir en réserve un milieu ou agent à haute volatilité. Le milieu se trouvant dans ce poste réservoir est chauffé par des moyens chauffants pour produire une vapeur de manière que le poste de traitement soit rempli en totalité d'une vapeur ambiante. Un article à nettoyer est introduit dans cette vapeur ambiante et le nettoyage et le séchage de cet article sont effectués. Un appareil classique de nettoyage tel que décrit ci-dessus présente les inconvénients suivants: (1) Une grande quantité de milieu ou d'agent à haute volatilité doit être tenue en réserve dans le poste réservoir pendant une longue durée. Il en résulte aisément une détérioration de la pureté de l'agent et ceci aboutit à une difficulté pour obtenir un nettoyage superfin. (2) Une grande quantité de vapeur doit être produite en continu. Ceci nécessite la présence de moyens chauffants à grande capacité. (3) Le milieu évaporé ou volatilisé doit être refroidi en continu et condensé de manière à pouvoir être déchargé à l'état liquide. En conséquence, il faut une grande quantité de ce milieu. (4) Etant donné que le milieu doit être chauffé en grande quantité, le temps de chauffage initial depuis le commencement du chauffage jusqu'à la production de vapeur est long. (5) L'effet de nettoyage est faible si l'article à nettoyer présente une surface de hauteur changeante, par exemple du fait de la présence d'un évidement ou d'une saillie. Un objet de la présente invention est donc de proposer un procédé et un appareil de nettoyage par vapeur et séchage au moyen desquels un article à nettoyer peut être nettoyé et séché de façon superfine et très efficace avec une quantité réduite d'agent de nettoyage. Conformément à un aspect de l'invention, pour réaliser cet objet, une quantité limitée de l'agent de nettoyage est fournie et évaporée et l'agent évaporé est déchargé contre un article à nettoyer afin de le nettoyer. De plus, durant cette opération de nettoyage, une petite quantité de vapeur de l'agent frais peut être fournie en continu. Autrement dit, en ce qui concerne cet aspect de l'invention, seule une quantité prédéterminée d'agent volatil est diffusée et versée vers un poste de production de vapeur qui est chauffé à une température qui n'est pas inférieure au point d'ébullition de l'agent, mais qui n'est pas supérieure au point d'allumage de l'agent, afin que l'agent volatil introduit puisse être évaporé instantané- ment. En utilisant une pression de vapeur produite à cet instant, la vapeur est introduite dans un poste de nettoyage et séchage pour exécuter le nettoyage et le séchage de l'article à nettoyer. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemples nullement limitatifs et sur lesquels: la figure 1 est une vue schématique d'une grande partie d'une forme de réalisation de l'appareil de nettoyage par vapeur et séchage selon l'invention; la figure 2 est une vue schématique en coupe partielle d'une grande partie d'une autre forme de réalisation de l'appareil de nettoyage par vapeur et séchage selon l'invention, forme de réalisation dans laquelle un article à nettoyer peut être transporté horizontalement; et la figure 3 est une vue schématique d'une grande partie d'une autre forme de réalisation de l'ap- pareil de nettoyage par vapeur et séchage selon l'inven- tion. La figure 1 montre, en coupe partielle, une grande partie d'une forme de réalisation de l'appareil de nettoyage par vapeur et séchage selon l'invention. Dans cette forme de réalisation, un milieu ou un agent tel que, par exemple, un hydrocarbure chlorofluoré ou fluore, ou un alcool dont un exemple est l'alcool isopropylique, est tenu en réserve dans un réservoir 41. Une quantité limitée de l'agent peut être fournie à un instant donné, depuis un poste 60 d'alimentation à un poste 70 de production de vapeur dans lequel l'agent peut être évaporé et la vapeur ainsi produite peut être introduite dans un poste 80 d'introduction de vapeur. Le poste 60 d'alimentation en agent nettoyant comprend un robinet d'entrée 1, un réservoir de gaz 2, un préchauffeur 3 et un robinet de sortie 4 qui sont disposés le long du trajet d'alimentation de l'agent nettoyant depuis le poste réservoir 41. Chacun des robinets 1 et 4 comprend un robinet commandé par air dont l'ouverture et la fermeture peuvent être commutées par une pression pneumati- que, 1'ouverture/fermeture étant commandées en réponse à un signal d'ordre provenant d'un dispositif 40 de commande. Le dispositif 40 sert également à commander la génération de chaleur par un élément chauffant 5 dont des détails seront décrits ci-après. Le poste 70 de production de vapeur comprend cet élément chauffant 5, une plaque 6 d'évapora- tion, une buse 7 de diffusion de l'agent, un entonnoir 8 de goutte à goutte et une chambre 9 d'évaporation dans laquelle ces éléments sont logés. Le milieu arrivant depuis le poste 60 d'alimentation passe dans la buse 7 de diffusion et dans l'entonnoir 8 et est appliqué goutte à goutte et diffusé sur la plaque 6 d'évaporation dont la surface présente la forme épaulée telle qu'on le voit sur la figure 1. Sous l'effet du chauffage produit par l'élément chauffant 5, le milieu diffusé est évaporé. Le poste 80 d'introduction de vapeur comprend un tube 10 d'introduction de vapeur ayant une extrémité en communica- tion avec la chambre 9 d'évaporation et une autre extrémité ramifiée pour constituer plusieurs passages. Le poste 80 d'introduction de vapeur comprend en outre des buses 12 de décharge situées chacune à un tronçon extrême libre de l'un, correspondant, des passages 10 d'introduction de vapeur. Les passages 10 d'introduction de vapeur s'étendent jusqu'à l'intérieur d'une chambre 13 de nettoyage et séchage dans laquelle un article 20 à nettoyer tel que, par exemple, un photomasque, un réticule ou une tranche de semiconducteur à utiliser dans des procédés de fabrication de dispositifs semiconducteurs, peut être placé. Des passages 10 d'introduction de vapeur servent à décharger la vapeur de l'agent, arrivant de la chambre 70 de production de vapeur, sur les surfaces avant et arrière de l'article 20. Ce dernier n'est pas limité à un article devant être utilisé dans un procédé de fabrication de dispositifs semiconducteurs, mais il peut être constitué de tout objet pour lequel un nettoyage superfin est demandé. Par exemple, l'article 20 peut être en verre. La chambre 9 d'évaporation et le tube (passages) 10 d'introduction de vapeur, ainsi que la chambre 13 de nettoyage et séchage, sont recouverts d'une matière 11 d'isolation thermique afin d'éviter une forte variation de la température intérieure. De plus, des moyens 14 de retenue de la chaleur sont prévus à l'intérieur de la chambre 13 de nettoyage et de séchage. La référence numérique 15 désigne une chambre piège à vapeur destinée à collecter la vapeur montant de la chambre 13 de nettoyage et séchage. Des moyens de refroi- dissement 16 et 17 sont destinés à refroidir la vapeur du milieu pour la liquéfier. Le milieu ou agent liquéfié par les moyens de refroidissement 16 ou 17 dans la chambre piège de vapeur 15 ou dans la chambre 13 de nettoyage et séchage est déchargé par l'intermédiaire d'un tube 18 ou 19 de décharge vers l'extérieur de l'appareil. Chacun de ces tubes de décharge 18 et 19 comporte un siphon 61 ou 62 de forme en U formé en sa partie centrale pour empêcher la vapeur du milieu de fuir vers l'extérieur de l'appareil. En raison de la présence de milieu liquéfié restant dans ces siphons 61 et 62 de forme en U, la chambre piège à vapeur et la chambre 13 de nettoyage et séchage sont isolées de l'extérieur de l'appareil. Le fonctionnement de l'appareil de nettoyage et séchage ayant la structure décrite sera à présent expliqué. Sous l'action du dispositif 40 de commande, le robinet 4 est fermé et, ensuite, le robinet 1 est ouvert. En conséquence, le milieu ou agent nettoyant arrive du réservoir 41 dans un tube entouré par le préchauffeur 3. Etant donné que l'alimentation en milieu nettoyant est arrêtée automatiquement lorsque la pression dans le réservoir 2 de gaz inerte devient égale à la pression à l'intérieur du poste 41 à réservoir d'agent nettoyant, le dispositif 40 de commande ferme le robinet 1 au bout d'un certain temps correspondant à l'arrêt. La plaque d'évapora- tion 6 est chauffée à une température qui n'est pas inférieure au point d'ébullition du milieu, mais qui n'est pas supérieure à son point d'allumage, au moyen de l'élément chauffant 5 qui est commandé en réponse à un signal d'ordre provenant du dispositif 40 de commande. Du fait de la présence de la matière d'isolation thermique 11 et du milieu 14 retenant la chaleur, la chambre 9 d'évapo- ration et le tube (passages) d'introduction de vapeur 10, ainsi que la chambre 13 de nettoyage et séchage, peuvent être maintenus à une température égale ou légèrement supérieure au point d'ébullition du milieu. A un moment souhaité auquel l'alimentation en vapeur est désiree, le dispositif 40 de commande fournit un signal d'ordre pour ouvrir le robinet 4. En conséquence, une certaine quantité de milieu ou d'agent préchauffée à une température qui n'est pas supérieure a son point d'ébullition, au moyen du préchauffeur 3, commandé conformément à un signal d'ordre provenant du dispositif 40 de commande, est diffuse à partir de la buse 7 de diffusion vers la plaque 6 d'évaporation et, simultanément, l'enton- noir 8 de goutte à goutte est rempli du milieu nettoyant. Le milieu diffusé sur la plaque 6 d'évaporation s'évapore instantanément et la vapeur ainsi produite s'écoule dans le tube (passages) 10 d'introduction de vapeur et est déchargée dans la chambre 13 de nettoyage et séchage. Ainsi, l'intérieur de la chambre 13 de nettoyage et séchage est rempli d'une vapeur ambiante à haute densité. Par ailleurs, le milieu remplissant l'entonnoir 8 tombe goutte à goutte sur la plaque d'évaporation 6 de manière à compenser l'insuffisance de vapeur résultant de la condensation et de la décharge de la vapeur durant le processus de nettoyage et de séchage. Ainsi, la densité de la vapeur dans la chambre 13 de nettoyage et séchage peut être maintenue sensiblement constante pendant une période de temps prédéterminée. Selon l'article 20 à nettoyer, le nombre de buses 12 de décharge et/ou la forme de chaque buse de décharge peuvent être modifiés pour changer l'effet de nettoyage devant être produit par la pression de vapeur du milieu. En outre, d'autres robinets peuvent être prevus dans la partie centrale du tube 10 d'introduction de vapeur pour produire une pression de vapeur plus élevée lorsqu'elle est déchargée. Les moyens 16 de refroidissement servent à condenser et collecter la vapeur ascendante, tandis que les moyens 17 de refroidissement servent à refroidir le milieu ou agent nettoyant, condensés et collectés par l'article 20 en cours de nettoyage, afin d'empêcher sa réévaporation. Le milieu collecté est déchargé, de lui-même, par l'inter- médiaire des tubes 18 et 19 de décharge de forme en U qui sont conçus en tenant compte de la pression extérieure. La figure 2 montre une forme d'application de l'invention permettant un transport horizontal et intermittent/continu d'un article 20 à nettoyer, et facilitant la liaison avec tout autre mécanisme. Le mécanisme désigné en 1-12 sur la figure 1 peut être relié directement à l'agencement montré sur la figure 2 et des obturateurs 21, 22, 21' et 22' et un mécanisme 23 de transport, ainsi qu'un porte-article 24, sont ajoutés à la structure de la figure 1. Lorsque les obturateurs latéraux droits 21 et 22 sont ouverts, l'article 20 à nettoyer est placé sur le porte-article 24 et le mécanisme de transport horizontal 23, mobile vers la gauche, et il est transporté jusque dans la chambre 13 de nettoyage et séchage. Puis les obturateurs 21 et 22 sont fermés et, ensuite, de la vapeur est injectée par les buses 12 de décharge, de manière que la chambre 13 de nettoyage et séchage soit remplie en totalité d'une vapeur ambiante à haute densité. Une fois achevé le processus de nettoyage et séchage, les ob- turateurs latéraux gauches et droits, en totalité, ou bien, en variante, uniquement les obturateurs latéraux gauches 22' et 21', sont ouverts suivant une séquence et, sous l'effet d'un mouvement vers la gauche du mecanisme de transport horizontal 23, l'article 20 est déchargé de l'appareil et est transporté vers tous mécanismes associés. La structure et le fonctionnement de la partie restante de l'exemple de la figure 2 sont essentiellement identiques à ceux de la forme de réalisation de la figure 1. La figure 3 est une coupe schématique montrant une partie majeure d'un appareil de nettoyage par vapeur et séchage selon une autre forme de réalisation de l'inven- tion. Cette forme de réalisation est particulièrement efficace dans le cas o la vapeur du milieu ou agent nettoyant, lorsqu'elle est produite, est relativement lourde. Cependant, la présente forme de réalisation de l'invention n'est pas limitée à un tel milieu, mais un alcool tel que l'alcool isopropylique, un hydrocarbure chlorofluoré ou fluoré ou autre, peut être utilisé comme milieu ou agent nettoyant. Bien que dans la forme de réalisation de la figure 3, deux postes 60 d'alimentation en agent ou milieu nettoyant et deux postes 70 de produc- tion de vapeur soient prévus sur les côtés opposés d'une chambre 13 de nettoyage et séchage, l'un des deux jeux peut être supprimé par l'utilisation, par exemple, d'un tube ramifié 10 d'introduction de vapeur, comme dans la forme de réalisation de la figure 1. Dans la présente forme de réalisation, des réservoirs 36 et 36' de milieu chauffant sont prévus autour de chambres d'évaporation 9 et 9', respectivement. Dans chacun de ces réservoirs 36 et 36', un milieu ou agent chauffant 51, tel qu'une huile siliconee, par exemple, tenu en réserve dans une cuve 50, est introduit sous l'effet d'une dépression à l'intérieur d'une cuve à dépression 46. Cette dernière est en communication par l'intermédiaire d'une électrovalve 43 avec les réservoirs chauffants 36 et 36' de milieu. De plus, une électrovanne 44 permet à la cuve à dépression 46 d'être ouverte à l'atmosphère. Le dispositif 40 de commande peut être activé de façon à ouvrir une électrovanne 45 tout en maintenant fermées les électrovannes 43 et 44, et pour mettre en marche une pompe à vide 42. Ainsi, une dépression souhaitée peut être établie dans la cuve à dépression 46. A tout autre instant, l'électrovanne 45 est maintenue fermée et la pompe à vide 42 est maintenue arrêtée. Les réservoirs 36 et 36' du milieu chauffant sont mis en communication par l'inter- médiaire d'une électrovanne 54 avec la cuve 50. Le milieu chauffant 51 à l'intérieur de la cuve 50 est chauffé par un élément chauffant 52 à une température souhaitée qui n'est pas inférieure au point d'ébullition du milieu nettoyant, à l'intérieur d'un réservoir 41 de milieu nettoyant, et qui n'est pas supérieure à son point d'allumage. Un détecteur - 53 de température détecte la température du milieu chauffant 51 dans la cuve 50 et produit un signal de sortie qui est appliqué au dispositif 40 de commande. Sur la base du signal de sortie appliqué, le dispositif 40 commande la génération de chaleur par l'élément chauffant 52 afintde maintenir le milieu chauffant 51 à une température souhaitée. Les éléments chauffants 5 et 5' sont destinés à chauffer le milieu chauffant, introduit dans les réservoirs 36 et 36' de milieu chauffant, lorsque la température du milieu chauffant introduit devient- inférieure à la température prédéterminée. Ces éléments chauffants 5 et 5' sont commandés par le dispositif 40 sur la base de signaux de sortie de détecteurs 37 et 37' de température qui sont placés dans les réservoirs 36 et 36' de milieu chauffant, respectivement. Le milieu chauffant diffusé vers les plaques d'évaporation 6 et 6' à partir des buses 7 et 7' de diffusion est évaporé par la chaleur du milieu chauffant se trouvant dans les réservoirs 36 et 36'. En comparaison avec le processus de chauffage dans lequel le milieu nettoyant est chauffé directement par des moyens chauffants tels qu'un élément chauffant, le processus de chauffage de cette forme de réalisation est préférable pour des raisons de sécurité, en particulier dans le cas o l'on utilise un milieu nettoyant inflammable. Premièrement, la position d'un support 24 destiné a porter l'article 20 à nettoyer est réglée afin que le milieu chauffant évaporé sur les plaques 6 et 6' d'évaporation et passant dans les tubes 10 et 0lo' d'introduction de vapeur soit déchargé vers la partie supérieure de l'article 20. Le support 24 peut être déplacé vers le haut et vers le bas au moyen d'un mécanisme d'entraînement 35 et d'une tige 30. Le mécanisme d'entraî- nement 35 est commandé par le dispositif 40. On décrira à présent le fonctionnement de cette forme de réalisation. De même que dans la forme de réalisation de la figure 1, le dispositif 40 de commande sert à ouvrir les vannes 1 et 1', actionnées par air, du côté d'entrée, tout en maintenant fermées les vannes 4 et 4', commandées par air, du côté de la sortie. En réponse, le milieu nettoyant passe des réservoirs 41 et 41' dans les postes 60 et 60' d'alimentation en milieu jusqu'à ce que les pressions dans les réservoirs de gaz 2 et 2' deviennent égales à celles régnant dans les réservoirs de milieu 41 et 41', respectivement. Puis le dispositif 40 de commande intervient de façon à fermer les vannes 1 et 1'. Par ailleurs, lorsqu'un obturateur supérieur 31 est ouvert, le dispositif 40 de commande amène le mécanisme 35 d'entraîne- ment à déplacer le support 24 vers le haut à partir de la position illustrée et, après que le support 24 a pris l'article 20, le mécanisme 35 d'entrainement ramène le support 24 vers le bas jusque dans la position illustrée. Dans cet état, une ouverture formée dans le fond d'une enceinte cylindrique intérieure 33, qui définit la chambre 13 de nettoyage et séchage, est fermée et bloquée par un obturateur 59 qui fait partie intégrante de la tige 30. Lorsque, après ceci, l'obturateur 31 est fermé, le dispositif 40 de commande applique un signal d'ordre à chacune des vannes pneumatiques 4 et 4' afin de l'ouvrir, de sorte que la totalité du milieu nettoyant se trouvant dans chacun des postes 60 et 60' d'alimentation en milieu tombe goutte à goutte ou est diffusée à partir de chacune des buses 7 et 7' vers chacune des plaques d'évaporation 6 et 6' se trouvant dans chacune des chambres d'évaporation 9 et 9'. A la fin d'un temps prédéterminé correspondant à l'achèvement de la distribution goutte à goutte ou de la diffusion du milieu nettoyant, les vannes 4 et 4' sont fermées. Puis le dispositif 40 de commande ouvre les électrovannes 43 et 54 pour permettre à la dépression régnant dans l'enceinte à vide 46 d'agir par l'inter- médiaire des réservoirs 36 et 36' de milieu chauffant sur le milieu chauffant 51 se trouvant dans la cuve 50 afin que le milieu nettoyant restant dans les chambres 9 et 9' d'évaporation soit chauffé à une température qui n'est pas inférieure à son point d'ébullition, mais qui n'est pas supérieure à son point d'allumage. Ainsi, le milieu chauffant, chauffé à une température souhaitée qui n'est pas inférieure au point d'ébullition du milieu nettoyant, mais qui n'est pas supérieure à son point d'al:umage, est introduit dans les réservoirs 36 et 36' de milieu chauffant et, en conséquence, la température du milieu nettoyant se trouvant dans les chambres 9 et 9' d'évaporatica est élevée progresivement par la chaleur du milieu chauffant, ce qui provoque l'évaporation du milieu nettoyant. Le milieu à l'état de vapeur s'écoule dans les tubes 10 et 10' d'introduction de vapeur et est déchargé vers l'article 20 à nettoyer, et la chambre 13 de nettoyage et séchage est remplie du milieu à l'état de vapeur déchargée. La partie de la vapeur s'élevant au-delà d'une ouverture 32 de la chambre 13 de nettoyage et séchage s'écoule par cette ouverture 32 dans une chambre 15 collectrice de vapeur qui est définie par une enveloppe cylindrique extérieure 34. Un tube 18 d'évacuation est évacué en continu au moyen d'une pompe d'évacuation (non représentée) afin que toute vapeur excédentaire se trouvant dans la chambre collectrice 15 soit déchargée par l'inter- médiaire du tube 18 d'évacuation, tout en étant condensée par un tube 16 de refroidissement. A la fin d'une période de temps pendant laquelle le milieu nettoyant se trouvant dans les chambres 9 et 9' d'évaporation est totalement évaporé et le nettoyage et le séchage de l'article sont achevés, le dispositif 40 de commande ouvre l'electrovanne 44 afin d'ouvrir l'enceinte à dépression 46 vers l'atmosphère pour provoquer le reflux du milieu chauffant, se trouvant dans les réservoirs 36 et 36' du milieu chauffant, vers la cuve 50. Ensuite, le dispositif de commande ferme les vannes 43 et 44, et simultanément, ouvre la vanne 45 de manière qu'une dépression souhaitée soit de nouveau produite dans la cuve à dépression 46.au moyen de la pompe à vide 42. Par ailleurs et parallèlement à ceci, le dispositif 40 de commande amène le mécanisme 35 d'entraînement à déplacer la tige 30 vers le haut sur une demi-course pour ouvrir l'ouverture du fond de l'enceinte cylindrique intérieure 33, de manière que la vapeur et le liquide remplissant la chambre 13 de nettoyage et séchage soient déchargés dans l'enceinte cylindrique extérieure 34. Des moyens 17 de refroidissement sont prévus au fond de l'enceinte cylindri- que extérieure 34. La vapeur et le liquide sont condensés par ces moyens de refroidissement 17 et sont déchargés de l'appareil par un tube 19 de décharge. Lorsque, après ceci, l'obturateur 31 est ouvert, le dispositif 40 de commande amène le mécanisme d'entraînement 35 à déplacer la tige 30 vers le haut jusqu'à sa position la plus haute pour permettre un déchargement de l'article 20 du support 24. Si un nouvel article 20 est mis en place sur le support 24, les opérations décrites ci-dessus sont répétées. La partie restante du fonctionnement de la présente forme de réalisation est essentiellement la même que celle de la forme de réalisation de la figure 1. Conformément & l'invention, comme décrite précédemment, un poste de production de vapeur et un poste de nettoyage et séchage sont séparés l'un de l'autre et, à un instant donné, une quantité limitée de milieu nettoyant est évaporée. En conséquence, il n'est pas nécessaire de tenir en réserve et de chauffer une grande quantité de milieu pendant une longue durée. Il est donc possible de maintenir à un niveau élevé la pureté du milieu nettoyant et donc d'assurer un nettoyage et un séchage précis. En outre, étant donné que le milieu nettoyant n'est pas tenu en réserve pendant une longue durée, il n'est pas néces- saire de former une pièce, en contact avec le milieu, en utilisant une matière coûteuse, à base de verre de quartz, ou autre, et le dépôt peut être minimisé, même lorsque de l'acier inoxydable à bon marché, par exemple, est utilisé. En conséquence, le coût de fabrication peut être abaissé. En outre, la chambre d'évaporation du milieu peut être petite et la capacité de chauffage peut être faible, et le temps de chauffage peut être réduit. On peut donc parvenir à une opération de nettoyage rentable. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées à l'appareil et au procédé décrits et représentés sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Appareil de nettoyage par vapeur et séchage, caractérisé en ce qu'il comporte: des moyens (41) destinés a tenir en réserve un milieu nettoyant, des moyens (70) de production de vapeur destinés à évaporer le milieu pour produire de la vapeur, des moyens (60) d'alimentation en milieu destinés à ne fournir qu'une quantité prédéterminée de milieu au moyeh de production de vapeur à partir des moyens de tenue en réserve, des moyens de nettoyage et séchage comportant une chambre (13) de nettoyage et séchage dans laquelle un article (20) à nettoyer peut être place, et des moyens (80) d'introduction de vapeur destinés à introduire la vapeur produite par les moyens de production de vapeur dans la chambre de nettoyage et séchage pour nettoyer et sécher l'article placé dans cette chambre à l'aide de la vapeur produite par les moyens de production de vapeur. 2. Appareil selon la revendication 1, carac- térisé en ce que les moyens de production de vapeur comprennent une plaque (6) d'évaporation sur laquelle le milieu est appliqué goutte à goutte, une chambre (9) d'évaporation destinée à loger la plaque d'évaporation et des moyens chauffants (5) destinés à chauffer la plaque d'évaporation depuis l'extérieur de la chambre d'évapora- tion. 3. Appareil selon la revendication 2, carac- térisé en ce que les moyens chauffants fournissent un milieu chauffant, qui est chauffé à une température prédéterminée, à une partie (36,36') entourant ladite chambre d'évaporation (9,9'). 4. Appareil selon la revendication 2, carac- térisé en ce que les moyens de production de vapeur comprennent des moyens (8) d'application goutte à goutte destinés à appliquer goutte à goutte, par petites quan- tités, le milieu, provenant des moyens d'alimentation, à ladite plaque d'évaporation. 5. Appareil selon la revendication 2, carac- térisé en ce que les moyens d'introduction de vapeur comprennent un tube (10) d'introduction de vapeur ayant une extrémité qui communique avec la chambre (9) d'évaporation et une autre extrémité ramifiée en plusieurs passages pénétrant dans ladite chambre de nettoyage et séchage. 6. Appareil selon la revendication 5, carac- térisé en ce que la chambre d'évaporation, la chambre de nettoyage et séchage et le tube d'introduction de vapeur sont recouverts chacun d'une matière d'isolation thermique (11) pour retenir la température de la vapeur. 7. Appareil selon la revendication 1, carac- térisé en ce que les moyens d'alimentation en milieu comprennent des moyens de préchauffage (3) destinés à préchauffer le milieu devant être amené aux moyens de production de vapeur. 8. Appareil selon la revendication 1, carac- térisé en ce que les moyens de nettoyage et séchage comprennent une chambre (15) collectrice de vapeur à proximité immédiate de la chambre de nettoyage et séchage, et des moyens (16) de refroidissement destinés à condenser la vapeur se trouvant dans ladite chambre collectrice tde vapeur. 9. Appareil selon la revendication 1, carac- térisé en ce que la chambre de nettoyage et séchage présente une ouverture munie d'un obturateur (31) pouvant être ouvert et fermé, ouverture par laquelle l'article peut être chargé dans la chambre de nettoyage et séchage et déchargé de cette chambre, les moyens de nettoyage et séchage comprenant des moyens (23) destinés à transporter l'article horizontalement vers la chambre de nettoyage et séchage et à partir de cette chambre en passant par ladite ouverture. 10; Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que la chambre de nettoyage et séchage présente une ouverture munie d'un obturateur (59) pouvant être ouvert et fermé, ouverture par laquelle l'article peut être chargé dans la chambre de nettoyage et séchage et déchargé de cette chambre, les moyens de nettoyage et séchage comprenant des moyens de transport (30,35) destinés à transporter l'article verticalement vers la chambre de nettoyage et de séchage et à partir de cette chambre en passant par ladite ouverture. 11. Procédé de nettoyage par vapeur et séchage, caractérisé en ce qu'il consiste a faire passer une quantité prédéterminée d'un milieu nettoyant d'un réservoir (41) de milieu à une chambre (9) d'évaporation, en utilisant des moyens (60) d'alimentation en milieu, à chauffer le milieu nettoyant dans la chambre d'évaporation en utilisant des moyens chauffants (5) afin d'évaporer le milieu nettoyant dans la chambre d'évaporation pour produire de la vapeur, et à introduire la vapeur produite dans la chambre d'évaporation, par l'intermédiaire d'un tube (10) d'introduction de vapeur, dans une chambre (13) de nettoyage et séchage, afin de sécher et nettoyer un article (20) placé dans cette chambre avec la vapeur produite dans la chambre d'évaporation. 12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce qu'un milieu chauffant, chauffé à une température prédéterminée, est amené à une partie (36,36') entourant la chambre d'évaporation (9,9').