FR 2629637 A1 19891006 FR 8804438 A 19880405 PROCEDE DE REALISATION D'UNE ALTERNANCE DE COUCHES DE MATERTAU SEMICONDUCTEUR MONOCRISTALLIN ET DE COUCHES DE MATERIAU ISOLANT L'invention concerne un procédé de réalisation d'une alternance de couches de matériau semiconducteur monocristallin et de couches de matériau isolant, et notamment un procédé de réalisation d'au moins une couche mince d'un matériau semiconducteur sur une couche d'isolant elle même déposée sur un substrat semiconducteur monocristallin, ce substrat étant un semiconducteur de type différent ou non de celui de la couche mince de façon à obtenir une structure hétéroépitaxiale. Plus particulièrement, I'invention a trait au domaine des couches minces d'un matériau monocristallin épitaxié à par- tir d'une phase vapeur, sur un substrat de nature éventuelle- ment différente: le procédé décrit selon l'invention permet en particulier de supprimer les défauts étendus à deux dimensions (macles, fautes d'empilement, parois d'antiphase dans les alliages ordonnés, sous joints de grains, etc...) ainsi que les défauts linéaires ou lignes de dislocation. Le procédé sera décrit en s'appuyant sur des exemples d'homo ou d'hétéroépitaxie de matériaux semiconducteurs, mais il est bien évident que ce procédé est plus général et que son application n'est pas limitée aux seuls matériaux semiconducteurs. Les défauts étendus que l'on trouve dans les couches minces épitaxiées à partir d'une phase vapeur sur un substrat monocrlstallin de nature et de paramètre de maille différents trouvent essentiellement leur origine dans le mode initial de nucléation du dépôt. Schématiquement, pour les dépôts en phase vapeur, on observe trois modes de nucléation et de croissance d'un film mince monocristallin sur un substrat également monocristallin. Tout d'abord un mode de nucléation et de croissance couche par couche, o l'arrangement des atomes déposés s'effec- tue dans le plan atomique exposé du substrat (arrangement bi-dl- mensionnel), par exemple par croissance latérale à l'échelle de la monocouche à partir de marches monoatomiques qui constituent des sites préférentiels d'adsorption. Lorsque tous les sites de dépôts sont saturés sur la surface exposée du substrat, la croissance se poursuit au niveau de la deuxième monocouche selon le même mécanisme et ainsi de suite, plan par plan. Ce type de mécanisme s'observe dans les cas d'homoépitaxie bien évidemment (silicium dopé sur siliciulm par exemple) mals aussi dans les cas d'hétéroépitaxie de métaux (Cd ou W par exemple) ou de semiconducteur (Gal x AIx As sur GaAs, GaInAsP sur InP...). Les défauts étendus générés au cours de l'épitaxie sont des dislocations d'interfaces qui relaxent l'énergie élastique emmagasinée dans le dépôt du fait d'un éventuel désaccord de maille avec le substrat. Ces dislocations. se propagent dans l'épaisseur du dépôt et leur élimination totale est pratiquement impossible. Le deuxième mode de eroissance observé procède d'un mécanisme de nucléation en îlot; selon ce mécanisme, des pa- quets d'atomes (clusters) se forment initialement à la surface du substrat en général sur des sites de défauts émergeants; ceux de ces clusters qui atteignent la taille du germe critique croissent alors pour former des îlots de phase condensée, îlots qui coalescent lorsqu'ils se rejoignent afin de former un film qui n'est vraiment continu qu'après avoir atteint une certaine épaisseur. On observe ce type de croissance lorsque l'énergie de liaison entre atomes du dépôt est supérieure à l'énergie de liaison entre atomes du dépôt et atomnes du substrat. Ceci est souvent le cas pour les films de métaux ou semiconducteurs sur des substrats isolants. Les défauts présents dans ces fiLns consistent d'une part en lignes de dislocations (de même que précédemment) qui permettent de relaxer l'énergie mécanique due au désaccord de maille et, d'autre part, en macles qui du fait au désaccord de mafille et, d'autre part, en macles qui du fait du mécanisme de croissance particulier sont générées à la jonc- tlon entre îlots afin d'accommoder de légères désorientatlon. Ces macles croissent avec le film et en conséquence leur éliminatlon est très difficile. Ainsi, plus de 25 ans après la première publication de l'hétéroépitaxie de silicium sur un substrat de saphir, on se satisfait toujours d'un matériau épitaxié très maclé et la technologie de réalisation de dispositifs à partir du matériau en question a dû s'adapter à sa mauvaise qualité cristalline. Il est en particulier, impossible d'utiliser l'implantation ionique, ear au cours du recuit thermique, les défauts ponctuels d'implantation précipitent sur les défauts étendus et ne guérissent pas. Enfin, le troisième mode de croissance observé est une combinaison des deux premiers modes précédemment décrits, à savoir que la croissance débute à deux dimensions (premier cas ci-dessus décrit) sur quelques monocouches, puis des ilots com- mencent à apparaître selon le deuxième mécanisme précédemment décrit. Ces ilots en coaleseant vont ensuite donner naissance à un film continu. De même que dans les cas précédents, les dé- fauts vont consister en lignes de dislocations et en macles dont. l'élimination qui ne s'effectue que par annihilation (rencontre de deux dislocations de vecteurs de Burgers opposés; rencontre de deux joints de macles faisant avec le plan du substrat deux angles supplémentaires) sera très difficile si l'on veut rester dans un domaine d'épaisseur déposée raisonnable. La situation est illustrée par la figure 1 o la couche mince épitaxiée CME, déposée sur le substrat 1, comporte des dislocations ou bien des plans de macles représentés par les lignes en pointillés. Aux différents défauts inhérents au mode de crois- sance s'ajoutent les défauts engendrés par la mise sous con- trainte du dépôt au refroidissement, les coefficients de dilata- tion entre substrat et dépôt n'étant que très rarement accordés. Ce processus de refroidissement est susceptible de générer d'au- tres dislocations, mais aussi des phénomènes de glissement con- duisant à la formation de fautes d'empilement. Le procédé selon l'invention permet de bloquer la propagation de la majorité des défauts précédemment décrits et en conséquence il permet d'obtenir des couches minces de qualité cristalline pratiquement parfaite. Le procédé selon l'invention permet aussi d'obtenir des empilements de couches monocristallines isolées par des diélectriques amorphes ou polycristallins. L'invention concerne donc un procédé de réalisation par croissance en phase vapeur d'une couche mince monocristalline d'un matériau semiconducteur, caractérisé en ce que la croissance est initiée sur au moins un germe éventuelle- ment de composition chimique différente de celle du matériau semiconducteur de la couche mince à obtenir, et est confinée dans un espace situé entre deux couches de confinement en matériaux différents des matériaux semiconducteurs précédents de telle façon qu'il ne peut, y avoir ni nucléation ni dépôt de matériau semiconducteur sur les surfaces exposées de ces matériaux de confinement, l'intervalle entre les deux couches de confinement définissant l'épaisseur de la couche mince monocristalline à obtenir. Les différents objets et caractéristiques de l'inven- tion apparaîtront plus clairement dans la description qui va suivre, faite à titre d'exemple, en se reportant aux figures an- nexées qui représentent: - la figure 1, un dispositif à semiconducteurs hétéroépitaxié et présentant des dislocations et des plans de macles; - les figures 2 et 3, des exemples simplifiés de réali- sation du procédé selon l'invention; - la figure 4, un exemple de dépôt d'une couche semi- conductrice selon l'art connu; - les figures 5 à 16, différentes étapes de réalisa- tion du procédé selon l'invention; - les figures 17 à 27, différentes étapes d'une amélio- ration du procédé selon l'invention - les figures 28 à 34, différentes étapes d'une v8- riante du procédé selon l'invention; - les figures 35 à 37, un système permettant de réali- ser des couches minces monocristallines selon l'invention; - les figures 38 à 42, une autre amélioration du procé- dé selon l'inventlon; -les figures 43 à 50, une autre variante du procédé de réalisation selon l'invention; - les figures 51 à 53, une autre variante du procédé de réalisation selon l'invention; -la figure 54, une application de l'invention à un dispositif à trois dimensions. Le procédé selon l'invention consiste à interposer sur le trajet de croissance du cristal en couche mince à obtenir, un étranglement qui va bloquer la croissance des défauts qui ont été décrits précédemment en relation avec la figure 1. Les figures 2 et 3 illustrent de façon simplifiée le procédé de base de l'invention. Selon ce procédé on réalise une structure du type représentée par la figure 2. Cette structure comporte principalement un espace 30 délimité par les faces 36 et 37 de deux couches 20 et 40. Les deux couches 20 et 40 sont en matériau sur lequel, compte tenu des conditions de dépôt utilisées, on n'observe pas de dépôt du matériau semiconducteur à faire croître. Dans le fond de l'espace 30 est située une portion ou germe 38 d'un matériau semiconducteur (par exemple le substrat). Plus précisément, selon l'exemple de réalisation de la figure 2, les couches 20 et 40 sont réalisées sur un sub- strat 1. Le germe 38 est alors une partie du substrat 1 située au dessous du plan de la surface 36 de la couche 20. Dans ces conditions, comme cela est représenté en figure 3, une épitaxie sélective d'un matériau semiconducteur réalisée dans l'espace 30 donne lieu à une croissance monocristalline du matériau semiconducteur sur -le germe 38. Cette croissance progresse perpendiculairement au plan du germe 38 (verticalement) jusqu'à remplir la cavité 35 puis progresse latéralement (horizontalement) dans l'espace 30. Si le matériau semiconducteur épitaxié est différent de celui du substrat 1, on voit donc sur la figure 3 que la croissance épitaxiale s'effectue d'abord verticalement dans la cavité 35 et ensuite latéralement entre les bandes de diélectrique 20 et 40. Ainsi les défauts générés lors de l'étape de croissance verticale (hétéroépitaxie) sont bloqués par les couches diélectrlques 20 et 40 lors de l'étape de croissance latérale. D'autre part, il n'y a pas génération de nouveaux défauts lors de cette même étape de croissance latérale car le procédé est devenu homoépitaxial lors de la croissance latérale; les défauts une fois bloqués disparaissent donc définitivement de la couche mince. La cavité 35 représente en fait un piège à défauts. De plus, dans le cas d'homoépitaxie (par exemple Si sur Si, GaAs sur GaAs, ou InP sur InP),le procédé d'épitaxie latérale selon l'invention permet de réaliser aisément des empilements de couches minces monocristallines séparées par des couches diélectriques non monocristallines. Toutefois, comme le montrent les deux figures 2 et.3, la croissance du cristal ne peut s'effectuer de façon latérale que si l'on peut se placer dans des conditions telles que l'on n'ait pas de dépôt sur les surfaces 36 et 37 des couches de confinement 20 et 40 (conditions de dépôt sélectif). Ainsi, si le substrat est en silicium, les couches de confinement en si- lice et que l'on effectue un dépôt de silicium à partir de SiH4 ou SiH2Ci2 on sait ajuster les différents paramètres de dépôt (température, pressions partielles de SiH4 et HCl, etc...) de façon a ce que les conditions précitées soient remplies et on observe une croissance épitaxiale latérale sans que l'on ait dépôt de Si polycristallin sur la silice pour l s conditions d'épitaxie sélective (voir par exemple l'article de BORLAND et DROWLEY, dans Solid State Technology Août 1985, P. 141 et voir l'article de KARAPIPERIS et Col]. dans Proceedings of the 18th Intl. Conference on Solid State Devices and Materials, Tokyo 1986, P.713). En ce qui concerne les composés III-V et le GaAs en particulier, on utilisera de préférence pour obtenir une sélecti- vité de dépôt, une méthode permettant de se placer près de l'équilibre thermodynamique en conditions de légère sursatura- tion. Ainsi, la méthode d'épitaxie en phase vapeur à partir de chlorures (VPE Vapor Phase Epitaxy), permet d'opérer dans de telles conditions. On utilise d'une part AsCl3 et éventuellement HC1 dilués dans H2 en tant que sources gazeuses et d'autre part Ga comme source solide. On opère dans un four o la température de la source de Ga est par exemple de l'ordre de 800 C, tandis que l'échantillon sur lequel on travaille est maintenu à une température Inférieure, de l'ordre de 650-700 C, ce qui donne la condition de sursaturation légère annoncée. En ce qui concerne InP on travaille avec une source gazeuse PH3 et HCl dans H2 et une source solide In. L'échantillon est placé- autour de 700 C et la source d'In est chauffée à température supérieure de même que précédemment. En utilisant les paramètres précités, on obtient une nucléation sélective sur les parties cristallines exposées du substrat (surfaces à faibles barrières de nucléation). Par suite, on observe un dépôt sur ces mêmes parties exposées et aucun dépôt sur des surfaces étrangères à barrière de nucléation plus élevée (surfaces diélectriques par exemple, mais aussi surfaces métalliques tel que tungstène). Des exemples de cette sélectivité de dépôt entre GaAs et SIO2 et InP et SiO2 peuvent être trouvés à titre indicatif dans un article récent de M. ERMAN et Collaborateurs, dans SPIE, Vol. 651, Integrated Optical Circuit Engineering III (1986) P.75. On a cité GaAs et InP à titre d'exemple, mais on peut déposer, de façon sélective, des alliages ternaires ou quaternaires (GaInAsP) en utilisant des sources gazeuses AsH3, PH3 et HCI dans H2 et des sources solides Ga et In et toujours en se plaçant près de l'équilibre thermodynamique en conditions de légère sursaturation. Si (toujours en ce qui concerne des composés III-V) l'on utilise une méthode de dépôt fonctionnant à pression atmo- sphérique et très loin de l'équilibre thermodynamique, telle que la MOCVD par exemple (de l'anglais Metal Organic Chemical Vapor Déposition) on dépose du matériau semiconducteur monocristallin 34 sur les surfaces de germination exposées du substrat 1 et du matériau polycristallin 30, 31 sur les surfaces étrangères 20, 21 (diélectriques ou métalliques) comme cela est représenté sur la figure 4 (voir par exemple R.AZOULAY et Collaborateurs, Journal of Crystal Growth 55, 1981, P.229). Dans cette méthode MOCVD, la source de composé III est organométallique (triméthylgallUium, triéthylgallium, triméthylindium, triéthylindium, etc. ) tandis que la source du composé V est un hydrure (AsH3, PH3...). Précisons tout de même que dans certaines conditions et toujours en travaillant à pression atmosphérique, on peut obtenir une certaine sélectivité de dépôt en travaillant avec des bandes de silice ou de tungstène de largeur inférieure à 40 micromètres, ce qui est toutefois limitatif et difficilement exploitable (voir K.YAMAGUCHI et Coll. Japanese Journal of Applied Physics,..DTD: Vol.24, N 12, 1985, P.1666). Par contre, en travaillant à pression réduite (10 mm de colonne de Hg) et toujours en utilisant la méthode MOCVD, K. KAMON et Col. (Journal of Crystal Growth 73.198573) ont démontré, récemment, que l'on pouvait aussi obtenir une excellente sélectivité de dépôt entre une surface (001) de GaAs exposée et un film de nitrure de silicium (SiNx) déposé par CVD plasma à 250 C. Bien que la méthode utilisée (MOCVD) se situe hors de l'équilibre thermodynamique, la sélectivité est obtenue du fait dtune plus grande diffusivité superficielle, sur les surfaces diélectriques, des produits de décomposition du triméthylgallium (ou du triméthylindium) dans les conditions de pression réduite utilisées. Finalement, il. convient de noter qu'en utilisant la technique de l'épitaxie par jet moléculaire (ou MBE de l'anglais Molecular Beam Epitaxy) à partir de composés organo métalliques du gallium ou de l'indium (triméthylgallum ou triéthylindium, etc...) on obtient aussi la même sélectivité de dépôt, bien qu'étant très loin de l'équilibre thermodynamique, ceci probablement pour les mêmes raisons de diffusivité superficielle accrue sur les surfaces diélectriques lorsque la pression environnante est faible (voir par exemple E.TOKUMITSU et CoUl. Journal of Applied Physics.55, 1984, page 3163). En résumé, on sait maîtriser l'épitaxie sélective de composés III-V divers (GaAs, InP, Ga In As, Ga In As P. etc...) par plusieurs techniques distinctes, à savoir: 1 - épitaxie en phase vapeur par la méthode des chlo- rures (VPE Vapor Phase Epitaxy) 2 - épitaxie en phase vapeur et à basse pression par la méthode des organométalliques (LP.MOCVD Low Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 3- épitaxle par jet moléceulaire par la méthode des organométalliques (MOMBE Metal Organic Molecular Beam Epitaxy). De plus, la méthode MOCVD à pression atmosphérique permet de déposer des couches continues polycristallines sur les surfaces diélectriques et monocristallines sur les surfaces exposées d'un substrat aussi monocristallin. Compte tenu de ce qui vient d'être décrit, on volt que l'on peut tout d'abord effectuer en homoépitaxie (ou en hétéroépitaxie d'un composé présentant le même paramètre de maille) des empilements de couches III-V monocristallines lso- lées par des couches diélectriques. Cependant, comme indiqué précédemment, le principal intérêt de la méthode réslde dans la réalisation de structures hérétoépitaxiales exemptes de défauts étendus. En se reportant aux figures 5 à 18, on va donc mainte- nant décrire un exemple de réalisation détaillé du procédé de l'invention. Cet exemple concerne la réalisation de couches minces monocristallines de composés lII-V sur un substrat en silicium. Lors d'une première étape, on réalise une plaquette 1, par exemple en silicium standard d'orientation (100) ou (110) de -diamètre 4 ou 5 pouces, telle que représentée en figure 5. Lors d'une deuxième étape représentée en figure 6, on réalise une couche 2 d'un matériau diélectrique, SiO2 par exemple obtenue par oxydation thermique de la surface' supé- rieure du substrat 1. Lors d'une troisième étape représentée en figure 7, on ouvre dans la couche 2, un système d'ouvertures 23, 24 sous forme de bandes parallèles par exemple, mettant à nu le substrat dans ces ouvertures entre les bandes de diélectrique 20, 21. La largeur des ouvertures 23, 24 peut être, par exemple, de 0,5 à quelques micromètres et les espacements 20, 21 de quelques micromètres à quelques centaines de micromètres. L'orientation dans le plan supérieur du substrat des bandes de substrat mises à nu sera effectuée de telle façon que, compte tenu des condi- tions de dépôt sélectif ultérieurement utilisées, la facette de croissance latérale ne soit pas limitante. Lors d'une quatrième étape (figure 8) on fait croître par épitaxie sélective (mélange SiH4 + H2 à 950 C et pression atmosphérique par exemple) du silicium monocristallin dans les ouvertures 23, 24 sur le substrat mis à nu et du silicium polycristallin sur les bandes de diélectrique 20, 21. L'ensemble eat planarisé soit naturellement (croissance plus rapide dans les ouvertures monocristallines 23, 24 que sur les bandes 20, 21) soit en effectuant préalablement un dépôt sélectif dans les ouvertures 23, 24. Lors d'une cinquième étape on oxyde thermiquement une partie du dépôt de silicium réalisé précédemment. Une va- riante peut consister à déposer, par une méthoie connue de l'homme de l'art, une couche 4 de diélectrique tel que SI02 ou, mieux encore compte tenu des opérations suivantes, Si3N4. Cependant on pourra préférer l'oxydation thermique, de façon à fournir ultérieurement des interfaces semiconducteurs III-V silice thermique que l'on pense plus abruptes. On obtient ainsi une structure telle que représentée en figure 9. Lors d'une sixième étape, on dépose, sur la couche 4 d'oxyde thermique, une couche mince 6 de nitrure de silicium Si3N4 qui aura pour effet de bloquer l'oxydation ultérieure du silicium aux endroits o ce blocage sera désiré. Lors d'une septième étape, on grave dans l'ensemble de la couche 6 de Si3N4 et de la couche 4 de silice thermique des ouvertures 63 au même pas que les ouvertures réalisées au cours de la troisième étape de façon à ce que ces ouvertures aboutissent sur le silicium monocristallin 34. On obtient une structure telle que représentée en figure 10. Lors d'une huitième étape, on oxyde le silicium précé- demment mis à nu dans la région centrale de la bande 63. On réalise donc une oxydation localisée (procédé de type LOCOS) ainsi que représenté sur la figure 11. Cette oxydation localisée a pour effet d'augmenter le volume du matériau comme cela est représenté en figure 11. Il est à noter que, ainsi que décrit cl-dessus, la septième étape peut être précédée par un dépôt d'une couche 6 d'un matériau inoxydable (SI3N4 par exemple). La septième étape d'attaque chimique est donc également réalisée dans cette couche 6 qui permet ainsi, lors de l'oxydation, de protéger la couche 4. (Procédé d'oxydation localisée type LOCOS) Lors d'une neuvième étape, on découpe, par gravure, un nouveau réseau de bandes dans la couche 4. Ces bandes sont séparées par des ouvertures 43, 44 aboutissant sur le semiconducteur polycristallin 30, 31. Ces bandes sont décalées par rapport aux précédentes, le décalage pouvant varier entre quelques microns et quelques centaines de microns. De plus, ces bandes sont centrées par rapport au système de bandes découpé lors de l'étape 3. Lors d'une dixième étape, par les ouvertures 43, 44 ainsi gravées, on attaque le silicium polycristallin à l'aide de l'un des réactifs connus de l'homme de l'art. Une fois le silicium polycrlstallln enlevé, on continue l'attaque, de façon à pratiquer un évidement 35 dans le matériau monocristallin. Le fond 38 de cet évidement est situé plus bas que le plan supé- rieur du premier diélectrlque 20, de façon à ce que l'on impose nécessairement, avant l'étape de croissance latérale, une étape préalable de croissance verticale. C'est d'ailleurs pour favori- ser cette étape préalable de croissance verticale que l'on a antérieurement pratiqué la huitième étape d'oxydation localisée, qui fait que l'on ne peut avoir croissance latérale hétéroépitaxiale à partir du flanc F de la cavité cette dernière étant constituée de silice amorphe. On obtient ainsi une structure telle que représentée en figure 12. Lors d'une onzième étape, on effectue en mode de dépôt et d'épitaxie sélectifs dans les conditions précisées précédemment (VPE, LP MOCVD, MOMBE), le remplissage des cavités 30 et 35 précédemment évidées. Comme le montre la fi- gure 13, le remplissage s'effectue d'abord verticalement dans la cavité 35 et les défauts générés à l'interface silicium monocristallin du substrat 1 et couche mince (Composé III-V par exemple) vont se propager au cours de cette croissance verticale jusqu'à rencontrer un plan de diélectrique 20, 21 ou 4 sur lequel ils vont être bloqués. Une fois la cavité 35 remplie, la croissance ne pourra plus s'effectuer que latéralement comme représenté en figure 14, mais de façon homoépltaxJale, puisque les molécules de vapeur arrivant rencontreront un germe de même nature. Ainsi, la croissance de la couche dans l'espace 30 peut continuer et les défauts restent bloqués par les plans de diélectrique 20, 21 ou 4. On a ainsi fait croître une couche mince monocrlstalline sans défauts étendus entre deux bandes de silice thermique comme cela est représenté en figure 15. Lors d'une douzième étape, on planarise le matériau semiconducteur au niveau des ouvertures 43, 44 (par attaque localisée par exemple) et on réalise l'attaque et l'ablation de la couche 4 de diélectrique de façon à obtenir une couche plane de matériau semiconducteur dans l'espace 30. On objectera cependant que les défauts étendus géné- rés dans des plans formant, avec le plan de la figure 15, un dièdre d'angle quelconque (différent de 90 comme cela est repré- senté) sont susceptibles de se propager dans la couche mince en croissance latérale. La situation est résumée sur les figures 16, 17, 18. La figure 16 reprend une partie de la figure 15. Le dépôt obtenu par croissance latérale a été planarisé à l'endroit des ouvertures dans la silice supérieure 4 (par exemple par attaque dans un plasma type CF4 s'il s'agit d'un dépôt de semiconducteur composé III-V) et cette silice supérieure 4 a ensuite été enlevée (douzième étape). On est donc en présence d'une couche mince monocristalline 70 isolée du substrat (sauf en ses extrémités 71 et 72) par une couche mince de silice thermique 20, l'ensemble étant supporté par un substrat de silicium. La figure 17, est une vue en perspective de la figure 16, avec comme légère différence le fait que la couche mince ait été complètement isolée du substrat par gravure des bandes latérales 71 et 72 de germination constituées de matériau très défectueux. La figure 18 représente une coupe AA de la figure 17 et montre que les défauts étendus DEF générés dans des plans formant un dièdre quelconque avec le plan de la figure 16 se sont propagés lors de la croissance latérale. Les défauts dans cette vue en coupe ont été représentés pour des raisons de simplification, dans le cas o la charnière du dièdre est consti- tuée par l'intersection du plan de la figure 16 avec le plan d'orientation supérieur du substrat. L'invention permet également de pallier cet inconvé- nient, en proposant une méthode d'élimination de ces défauts. Cette méthode est divulguée dans le procédé qui va être décrit. Après avoir réalisé la douzième étape décrite précédem- ment, on réalise une treizième étape au cours de laquelle on redépose sur la couche mince monocristalline 70 une couche de diélectrique 8 (Si02, Si3N4, etc...) comme cela est représenté sur la vue en perspective de la figure 19. La figure 20 représente d'autre part une coupe de la structure obtenue. L'épaisseur de la couche isolante 8 est par exemple, de 5.10 2 quelques microns typiquement. Lors d'une quatorzième étape, et comme cela est repré- senté en figure 21, on grave des ouvertures (83) dans le précé- dent dépôt diélectrlque en les orientant parallèlement à la trace (dans le plan supérieur du dépôt) des plans de croissance des défauts étendus (joints de macles, parois d'antiphase, etc...). Dans le cas particulier que nous avons choisi, l'orien- tation de ce système d'ouvertures (83) est perpendiculaire à celle dessystèmes d'ouvertures (23, 24) réalisés lors de la troisième étape. Il faut bien noter toutefois que selon la na- ture et la symétrie des défauts, ce deuxième système de bandes peut être orienté à 60 ou à 120 du premier (celui de l'étape 3) ou selon une orientation quelconque, le point essentiel étant que la trace du plan des défauts étendus dans un des plans de confinement soit parallèle a la grande dimension des bandes d'ouvertures (83). La largeur des bandes obtenues et leur pas de répétition ont des valeurs tout à fait similaires à celles lutilisées pour réaliser les bandes de la troisième étape ou bien celles de la neuvième étape. La longueur de ces bandes est de l'ordre de grandeur de la dimension latérale des couches minces obtenues au cours de la onzième étape et peut atteindre quelques centaines de microns. La figure 22 représente une vue en coupe de la figure 21. Lors d'une quinzième étape, on attaque le matériau monocristallin 70 maclé ou défectueux par les ouvertures 83 précédemment pratiquées; on retrouve ainsi une configuration comparable à celle précédant la onzième étape. (voir figure 23). Lors d'une seizième étape, représentée en figure 24, on refait croître en conditions d'épitaxie sélective (VPE, LP.MOCVD, MOMBE pour des composés III-V) une couche mince homoépltaxiale à partir des germes 75 et 76 restant après l'opération d'élimination de la plus grande partie du matériau en couche mince maclé 70. Cette étape est analogue à la onzième étape précédemment décrite. Cependant cette deuxième croissance se fait selon une direction faisant un angle avec la direction de croissance de la onzième étape. Plus particulièrement, le front de croissance est sensiblement parallèle à la trace des plans de défauts dans un plan d'une face d'une des couches de confinement. Lors d'une dix septième étape, représentée en figure , on remplit la partie gravée lors de la quinzième étape de façon à remplir également les ouvertures 83 dans le diélectrique supérieur. Si ces ouvertures présentent une largeur trop impor- tante, on réalise des phases supplémentaires qui seront décrites ultérieurement. Lors d'une dix huitième étape, après planarisation de la couche mince monocristalline (par attaque chimique, plasma ou oxydation localisée), on ouvre dans le diélectrique supérieur 8 des bandes 85, 86, de façon à mettre à nu les zones toujours maclées 75 et 76. On obtient une structure telle que représentée en figure 26. Lors d'une dix neuvième étape, on élimine par attaque chimique les zones 75 et 76 constituées de matériaux défectueux et on enlève (éventuellement) le diélectrique supérieur 8 de façon à obtenir des pavés réguliers 9 indéxés et exempts de défauts étendus de couche mince monocristalline (de composés III-V par exemple) sur un support de silice thermique 20. La taille de ces pavés (qui peuvent présenter des dimensions de quelques 102 x quelques 102 pm2) est choisie par ltutilisateur lors de la réalisation des différentes étapes technologiques. La structure obtenue est représentée en figure 27. A noter que l'opération d'élimination des défauts étendus peut être effectuée une troisième fois etc... selon la symétrie de croissance de ces défauts. En se repartant aux figures 28 à 34, on va maintenant décrire une variante du procédé de l'invention. Lors d'une première étape on réalise, sur un substrat 1 monocristallin, une couche 2 d'un matériau diélectrique, puis lors d'une deuxième étape on grave dans cette couche des ban- des 20 et 21 séparées par des ouvertures 24. On obtient la struc- ture représentée en figure 28. Lors d'une troisième étape représentée en figure 29, afin de pouvoir ultérieurement introduire une étape de crols- sance verticale et pour éviter d'utiliser des épaisseurs de silice (ou de tout autre diélectrique) déraisonnables, on grave, (par les moyens connus de l'homme de l'art) des sillons 29 dans le substrat sous Jacente 1 à l'emplacement des ouvertures 24. On notera toutefois que l'on pourrait se contenter d'une structure de départ telle que celle représentée A la figure 28, cette dernière suffisant en effet a introduire une étape de croissance verticale. Lors d'une quatrième étape représentée en figure 30, on remplit, en conditions d'épltaxie sélective (VPE, LP. MOCVD, MOMBE pour les composés III-V) les sillons 29 précédemment ouverts, de façon à introduire une étape de croissance verticale au cours de laquelle sont générés à partir des différentes interfaces des défauts étendus. Lors d'une cinquième étape représentée en figure 31, on dépose en conditions normales (MOCVD à pression atmosphéri- que pour les III-V par exemple) une couche mince 3 sur la struc- ture précédente. Cette couche 3 sera monocristalline (mais toute- fois défectueuse) sur la partie monocrlstalline 39 et elle sera polycristalline (30, 31) sur le diélectrique. D'autre part, la structure obtenue est plane. Lors d'une sixième étape représentée en figure 32, on dépose sur la structure précédente et par les moyens connus de l'homme de l'art une couche mince 4 isolante ou non (SiO2, Si3N4, etc...). Lors d'une septième étape, représentée en figure 33, on grave, dans cet isolant, un deuxième système de bandes 41 qui seront décalées de quelques microns à quelques centaines de microns et disposées symétriquement par rapport au précédent système de bandes (24). Les ouvertures (41) pratiquées aboutis- sent sur les zones de matériau déposé polycristallin (31). A partir de ces ouvertures, on attaque le polyeristal (31) déposé sur le premier diélectrique lors de la cinquième étape de façon A mettre A nu le germe monocristallin 39. Lors d'une huitième étape représentée figure 34, on refait croître latéralement par épJtaxie sélective A partir des germes 39 mis à nu au cours de l'étape précédente, des rubans de couche mince monocristalline (III-V éventuellement), la propagation des défauts étant, selon. la figure 34 bloquée sur le plan inférieur de la couche 4. On obtient ainsi une couehe uniforme et exempte de défauts étendus de semiconducteur monocristallin 70 de nature différente de celle du substrat après avoir réalisé éventuelle- ment une neuvième étape de planarisation de la couche de semiconducteur et d'attaque du diélectrique 42. De plus on peut également réaliser le procédé précé- dent de la treizième A la dix neuvième étape correspondant aux figures 17 à 27 de façon à éliminer ceux des défauts qui n'ont pu être bloqués lors de. l'étape de croissance latérale précé- dente. Ce procédé de la treizième A la dix neuvième étape peut être répété une troisième fois si nécessaire et même autant de fois que nécessaire pour que l'élimination des défauts étendus soit effectuée dans toutes les orientations. On volt donc que l'invention concerne un procédé de croissance épitaxiale, caractérisé en ce que: - (i) la croissance s'effectue à partir d'une phase vapeur, - (il) la croissance est canalisée par deux plans constitués de matériaux, éventuellement distincts, à barrière de nueléation plus élevée que celle du germe auquel ils laissent accès et à barrière de nueléation aussi plus élevée que celle de la couche mince en cours de croissance à partir de la phase vapeur - (Iii) la croissance est Initiée par une phase vertl- cale de façon A permettre le développement des défauts étendus avant l'étape de croissance latérale proprement dite qui produi- ra le blocage de ces mêmes défauts étendus. Selon un perfectionnement du procédé de l'invention, permettant d'éviter un débordement supérieur du film de crois- sance, on prévoit au cours de la onzième étape précédemment décrite en relation avec la figure 14, d'arrêter le dépôt de semiconducteur lorsque la croissance atteint les ouvertures 43, 44. On obtient ainsi une structure telle que représentée en figure 38. Au cours d'une première phase auxiliaire représentée en figure 39, on enlève alors la couche supérieure 4, de silice en masquant éventuellement les couches inférieures 20, 21. Au cours d'une deuxième phase auxiliaire représentée en figure 40 on "planarise" la structure à l'aide d'un dépôt type polyimide effectué A la tournette par exemple (machine A déposer les résines photosensibles) et en employant une étape d"etch back", si nécessaire. Au cours d'une troisième phase auxiliaire représentée en figure 41, on dépose une couche 90 d'oxyde (SiO2) ou de -20 nitrure (Si3N4) à basse température (LTO) par pyrolyse de Si H4 + N20 assistée par plasma à 250 C (par exemple) sur. la structure précédemment planarisée. Au cours d'une quatrième phase auxiliaire on découpe dans cette dernière couche de silice ou de nitrure 90 des ouver- tures 93 de façon à se ramener A une structure identique à celle obtenue lors de la description de la dixième ou de la quinzième étape précédente. L'ouverture dans la silice est à présent compa- tible avec un remplissage correct (sans débordement vertical pour obtenir la Jonction des deux fronts de cristallisation) des bandes vides comprises entre les bandes de silice pyrolitique. On dissout au cours d'une cinquième phase auxiliaire le polyfmide à l'aide d'un solvant approprié et on répète l'op6:a- * tion de croissance latérale décrite dans la onzième étape tel que cela est représenté en figure 42. Ces différentes phases peuvent également être prévue comme phases auxiliaires de la dix septième étape. Ces phases auxiliaires présentent un intérêt lorsque l'étendue des espaces 30 (trop grande) et l'épaisseur des espa- ces 30 (trop faible) nécessite des ouvertures (43, 44) de rela- tive grandes dimensions pour permettre le passage du gaz de croissance. En se reportant aux figures 43 à 50, on va décrire une autre variante du procédé de l'invention. Selon cette variante, on utilise un substrat monocristallin 1 tel que représenté à la figure 43, sur lequel on dépose successivement une couche uniforme de matériau diélectrique 2 et une couche uniforme 200 d'un matériau qui présente une excellente sélectivité d'attaque chimique par rap- port au diélectrique 2 d'une part et par rapport au matériau constitutif de la couche 300 (dont la description va suivre) d'autre part. La situation est résumée sur la figure 44. Selon la figure 45, on grave ensuite dans les deux couches précédentes un système de bandes 201, 202 qui mettent périodiquement à nu le substrat monocristallin 1 (germes 16, 17). La largeur des bandes 201 et 202 est comprise entre 0,5 et quelques microns typiquement, tandis que les espaces 210, 220, 230 ou 20, 21, 22 entre deux bandes sont compris entre quel- ques microns et quelques centaines de microns. On remplit par CVD en conditions de dépôt et d'épitaxie sélectifs les bandes 201 et 202, de façon à obtenir un matériau semiconducteur (10, 11) de nature différente du substrat. Ce matériau est monocristallin mais défectueux comme le montre la figure 46. Selon la figure 47, on dépose sur la structure précé- dente une couche 300 uniforme d'un matériau présentant une excellente sélectivité d'attaque chimique par rapport au maté- riau 200 et présentant de plus vis à vis de la phase gazeuse "mère" une barrière de nucléation plus élevée que le plan d'orientation supérieur du substrat et que le matériau semiconducteur 10, 11. En d'autres termes, ce matériau 300 (de même d'ailleurs que le diélectrique 2) permet, dans les condi- tions utilisées, l'obtention d'un dépôt sélectif sur les surfa- ces exposées monocrlstallines du substrat et du matériau semiconducteur que l'on cherche A obtenir. On ouvre ensuite dans ce dépôt 300 des bandes 301, 302 de largeur similaire aux bandes 201, 202 espacées de quel- ques microns à quelques centaines de microns et délimitant des rubans 310, 320 qui reposent en leur région centrale sur le matériau semiconducteur monocristallin 10, 11. A partir de ces ouvertures 301, 302, on attaque le matériau 200, de façon à dissoudre les rubans 210, 220 et 230. Cette situation qui est résumée sur la figure 48 a pour conséquence de mettre à nu des germes 18, 19 du matériau semiconducteur monocristallin 10, 11. On peut ensuite comme le montre la figure 49 refaire croître par CVD en conditions de dépôt et d'épltaxie sélectifs une couche mince de matériau semiconducteur 170, 180, 190 à partir des germes 18, 19. De même que précédemment, la propa- gation des défauts étendus sera bloquée par la surface infé- rieure 37 des rubans 310, 320 et la couche mince de matériau semiconducteur sera par la suite d'excellente qualité cristalline. Enfin, comme le montre la figure 50, après planarlsa- tion par attaque localisée dans les fenêtres 301, 302, ablation de la couche 300 et isolement par élimination des bandes 10 et 11 défectueuses, on obtient une couche mince monocristalline, et exempte de défauts étendus, d'un matériau semiconducteur (GaAs, InP, InSb...) sur un substrat monocristallin de nature différente (Si par exemple), l'isolement électrique entre la couche mince et le substrat étant réalisé par la couche 20, 21, 22 de matériau diélectrique. En se reportant aux figures 51 à 53, on va maintenant décrire une autre variante du procédé de l'invention. Selon cette variante, on commence par réaliser les première, deuxième et troisième étapes du procédé général, on réalise ensuite les étapes suivantes a)- On dépose une couche 200 uniforme d'un matériau qui présente une excellente sélectivité d'attaque chimique par rapport au diélectrique d'une part et à la couche 300 (dont la description va suivre) d'autre part. Cette couche 200 peut être du silicium amorphe, un diélectrique, un métal ou bien du polyimide ou équivalent. b)- On grave dans la couche précédente un système de bandes, de façon à mettre le substrat à nu dans Ies espaces laissés libres par la gravure du premier système de bandes. La situation est représentée sur la figure 51. On s'est arrangé pour que les ouvertures effectuées dans la couches 200 soient de largeur inférieure à celle des premières ouvertures et symétriquement disposées au milieu de ces mêmes premières ouvertures. c)- On redépose sur la structure précédente une cou- che 300 uniforme d'un matériau présentant une exeellente sélecti- vité d'attaque chimique avec le matériau 200 et présentant de plus vis à vis de la phase gazeuse "mère"' une barrière de nucléation plus élevée que les principaux plans cristallographiques du substrat et du semiconducteur que l'on cherche à obtenir. La situation est schématisée sur la figure 52. A partir de cette situation, on répète la neuvième et la dixième étape du procédé général. On dissout la couche 200 selon la dixième étape du procédé général et on refait croître par CVD en conditions d'épitaxie sélective, à partir du germe constitué par la face supérieure du substrat, une couche mince du matériau semiconducteur voulu selon la onzième étape de ce même procédé général (voir figure 53). Selon l'exemple de réalisation de la figure 54, on peut, en répétant le procédé décrit précédemment, réaliser sur une structure obtenue par les procédés précédents, une deuxième, puis une troisième structure similaire, et ainsi de suite. On peut ainsi obtenir une alternance de couches minces de semiconducteurs monocristallins et d'isolants. Ces couches min- ces peuvent être constituées du même matériau semiconducteur monocrlstallln (par exemple GaAs ou InP) sur un substrat différent (par exemple silicium), mals il est bien évident que l'on peut aussi obtenir des couches minces de natures différentes entre elles. Ainsi, et strictement à titre d'exemple non limitatif, le substrat 1 peut être en silicium, la couche A en arséniure de gallium (GaAs), la couche B en phosphure d'indium (InP) et la couche C en antimoniure d'indium (InSb). La figure 54 a été représentée avec un empilement de 3 couches minces monocristallines sur un substrat aussi monocristallin. Il est bien évident que l'on peut continuer cet empilement et que la structure finale peut légèrement différer du schéma de cette figure. Un réseau de bandes de semiconducteur sur isolant peut donc être réalisé, les zones de germination pouvant être superposées ou décalées. En réalisant sur le substrat initial et successivement sur chaque niveau de semiconducteur des composants actifs, on obtient un circuit intégré à trois dimensions, l'élaboration du niveau j de circuits se faisant sans dégradation du niveau j-1 déjà réalisé et processé, du fait de la relativement basse température utilisée dans le procédé CVD. Dans toutes les descriptions divulguées jusqu'à pré- sent, le confinement de la couche mince en croissance latérale a été effectué à l'aide de dépôts divers (éventuellement oxydés) et photogravés. Le rôle de ces différents dépôts a été de fournir la base de l'édification des surfaces de confinement. Il faut toute- fois bien remarquer que toute autre opération ou série d'opéra- tlon pouvant conduire à la formation d'un canal latéral permet- tant d'une part à une phase gazeuse "mère" d'accéder à une zone de germination et d'autre part de confiner la croissance monocristalline à partir de cette zone de germination, est sus- ceptible d'être utilisée. Ainsi les figures 35 à 37 proposent une méthode de réallsation des surfaces de confinement quelque peu différente. Selon cette méthode, on commence par effectuer une épitaxie 500 localisée (homoépitaxie ou hétéroépitaxie) sur un substrat 1 après dépôt préalable de diélectrique 501 et gravure de bandes dans ce diélectrique (voir figure 35). On vient ensuite position- ner sur ce substrat un masque 502 dans lequel on a ouvert un système de bandes parallèles 503. Ce masque est constitué ou recouvert d'un matériau à barrière de germination plus élevée que la couche que l'on veut faire croître. On effectue ensuite l'opération de croissance latérale à partir des germes 500 obte- nus par épitaxie localisée, le volume de confinement 30 étant limité dans sa partie supérieure par le plan inférieur (504) du masque 504 et dans sa partie inférieure par le diélectrique déposé sur le substrat. La situation est schématisée sur la figure 36. On peut aussi comme le montre la figure 37 utiliser un masque 502 mobile que l'on va déplacer à la vitesse de crois- sance du front latéral. Ceci permet de réaliser des couches d'étendue plus importante. Le procédé de l'invention peut être appliqué à la réalisation de couches minces monocristallines de matériaux semiconducteurs sur isolants amorphes ou polycristallins. Il peut permettre la réalisation de structures particulières (tran- sistor à effet de champ à double grille, transistors à base perméable, hétéro-structures et super-réseaux latéraux, etc...). Le procédé de l'invention permet ainsi de réaliser des croissance avec des semiconducteurs de nature différentes et d'obtenir des structures hétéroépitaxiales dans lesquelles les différentes couches sont néanmoins monocristallines et ne présen- tent pas de dislocation ni de plans de défauts. Il est bien évident que la description qui précède n'a été faite qu'à titre d'exemple non limitatif. D'autre variantes peuvent être envisagées sans sortir du cadre de l'invention. Les valeurs numériques n'ont été fournies uniquement que pour Illustrer la description. Par ailleurs, l'application de l'invention à une structure à base de semiconducteurs indiqués dans la description n'a été fournie qu'à titre d'exemple. L'invention est également applicable à titre général à toute structure à base de semiconducteurs de types différents. REVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation par croissance en phase vapeur d'une couche mince monocristalline d'un matériau semiconducteur, caractérisé en ce que la croissance est initiée sur au moins un germe (35, 39, 16, 17) éventuellement de compo- sition chimique différente de celle du matériau semiconducteur de la couche mince à obtenir, et est confinée dans un espace situé entre deux couches (20, 21 et 4, 40, 41, 42 ou 310) de confinement en matériaux différents des matériaux semiconducteurs précédents de telle façon qu'il ne peut y avoir ni nucléation ni dépôt de matériau semiconducteur sur les surfaces exposées de ces matériaux de confinement, l'espace (30) entre les deux couches de confinement (20, 21 et 4, 40, 41, 42 ou 310) définissant l'épaisseur de la couche mince monocristalline de semiconducteur à obtenir. 2. Procédé de réalisation selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'espace (30) est défini par deux faces (36, 37), comprises dans deux plans parallèles ou non des deux couches de confinement (20, 21 et 4, 40, 41, 42 ou 310) le germe (38, 39, 16, 17) n'étant pas situé entre les deux plans et communiquant avec l'espace (30), la croissance du matériau monocristallin se faisant dans un premier temps perpendiculaire- ment au plan d'au moins une des deux couches de confinement jusqu'à atteindre au moins le plan ou le niveau du plan de confi- nement (37) le plus proche, puis la croissance se poursuivant dans le volume délimité par ces plans, selon une première direc- tion prédéterminée, entre les deux couches de confinement. 3. Procédé de réalisation selon la revendication 2, caractérisé en ce que le germe (38, 16) communique avec l'es- pace (30) soit par au moins un conduit (35) réalisé en un maté- riau du mrnême type que ceux des deux couches de confinement, soit par une ouverture latérale éventuellement obstruée par du matériau semiconducteur monocristallin défectueux (10). 4. Procédé de réalisation selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'après obtention de ladite couche mince de matériau monocristallin une ouverture 83 est réalisée dans l'une desdites couches de confinement (8) cette ouverture étant orientée sensiblement parallèlement à la trace des plans de défauts résiduels dans l'un ou l'autre des plans correspondant à la surface des couches de confinement, le matériau monocristallin étant en partie retiré entre les deux couches de confinement, au moins un germe de ce matériau étant seulement 0 conservé, une autre croissance monocristalline étant réalisée entre les deux couches de confinement selon une direction de croissance sensiblement perpendiculaire à la trace des plans résiduels de défauts dans l'un ou l'autre des plans correspondant à la surface des couches de confinement. 5. Procédé de réalisation d'une couche de matériau semiconducteur monocristallin sur une première couche d'un maté- riau isolant (2) réalisée sur un substrat* (1) semiconducteur monocristallin selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: - a) une première étape de réalisation sur le substrat (1) semiconducteur monocristallin de ladite première couche de matériau isolant (2); - b) une deuxième étape de gravure de premières ouvertures (23, 24) dans la première couche de matériau isolant - c) une troisième étape de réalisation par CVD, dans les premières ouvertures (23, 24), et sur les parties de la couche d'isolant (20, 21, 22) restant après l'étape de gravure précédente, d'une couche d'un matériau semiconducteur (30, à 34), cette couche étant monocristalline ou non (34) dans les ouvertures (23, 24) et polycristalline (30, 31) sur l'isolant (20, 21); - d) une quatrième étape de réalisation d'une deuxième couche (4) d'un matériau isolant sur la couche de matériau semiconducteur (30 à 34); - e) une einquième étape de gravure dans la deuxième couche (4) de matériau isolant d'au moins une deuxième ouver- ture (63) aboutissant sur une partie monocrlstalline ou non (34) de la couche de matériau semiconducteur (30 à 34); - f) une sixième étape d'oxydation de la. partie monocristalline ou non (34) non recouverte par la deuxième couche (4) de matériau isolant - g) une septième étape de gravure dans la deuxième couche (4) de matériau isolant d'au moins une troisième ouver- ture (43, 44) aboutissant sur une partie polycristalline (30, 31) de la couche de matériau semiconducteur (30 à 34); - h) une huitième étape d'attaque chimique à partir de l'ouverture (43, 44) du matériau semiconducteur polycristallin (30, 31) de façon A supprimer tout le matériau semiconducteur polycristallin, cette attaque étant continuée pour graver et éliminer tout ou partie du matériau semiconducteur 34 de façon à atteindre et à graver le substrat monocristallin au dessous du niveau de la face supérieure (36) de la première couche d'isolant (20); - 1) une neuvième étape de croissance par épitaxie sélective en phase vapeur d'un matériau semiconducteur monocristallin dans le ou les espaces (30, 31) gravés au cours de la huitième étape, cette croissance étant réalisée selon une première direction de croissance. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que la cinquième étape est précédée par une phase de dépôt d'une couche (6) d'un matériau Inoxydable, la cinquième étape de gravure s'effectuant également dans cette couche (6). 7. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'il comporte une dixième étape de retrait de la couche de matériau isolant (4). 8. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce qu'il comporte: une onzième étape de réalisation sur l'ensemble de la structure d'une couche (8) de matériau isolant suivie d'une gravure d'une ouverture (83) orientée parallèlement au moins à une trace, dans un des plans d'une des couches de confinement, d'au moins un plan de défaut existant dans la couche (70) de matériau semiconducteur monocristallin et mettant à nu le matériau semiconducteur monocristallin défectueux (70) obtenu à la neuvième étape; - une douzième étape d'attaque et d'élimination par cette ouverture (83) de la majeure partie de la majeure partie du matériau semiconducteur monocristallin (70); - une treizième étape de croissance d'un matériau semiconducteur monocristallin dans l'espace rendu libre au cours de la douzième étape. 9. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que la treizième étape est suivie d'une quatorzième étape d'enlèvement de la couche (8) de matériau isolant réalisée lors de la onzième étape, ensuite les onzièmes, douzième et treizième étapes sont répétées en prévoyant lors de la onzième étape une ouverture orientée parallèlement à une autre trace dans un plan de confinement d'un autre type de plan de défaut existant dans la couche de matériau semiconducteur monocristallin. 10. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que la treizième étape est suivie d'une quatorzième étape de retrait de la couche de matériau isolant (8) recouvrant la struc- ture puis d'une quinzième étape de gravure permettant d'enlever, dans la couche de matériau semiconducteur obtenue, les zones de matériau semiconducteur comportant des dislocations et autres défauts étendus. 11. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes -une première- étape de réalisation, sur un substrat (1), d'au moins une bande de matériau diélectrique (2); -une deuxième étape de revêtement de ces bandes (2), par un matériau (200) présentant une sélectivité d'attaque chimique par rapport aux autres matériaux - une troisième étape de revêtement de l'ensemble ainsi obtenu par un matériau encapsulant (300); - une quatrième étape de réalisation d'ouvertures dans le matériau encapsulant (300) au dessus de la bande de matériau diélectrique (2); -une cinquième étape d'élimination, par les ouvertu- res (301), du matériau (200) présentant une sélectivité d'attaque chimique; - une sixième étape de croissance sélective par les ouvertures (301), d'un matériau semiconducteur monocrlstallin. 12. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes: -une première étape de réalisation, sur un substrat (1), d'au moins une bande de matériau diélectrique (2); - une deuxième étape de revêtement de ces bandes (2) par un matériau intercalaire semiconducteur (200) présentant une sélectivité d'attaque chimique par rapport aux autres matériaux - une troisième étape de revêtement de l'ensemble ainsi obtenu par un matériau encapsulant (300) présentant une sélectivité d'attaque chimique par rapport aux couches adjacentes et ne permettant ni nucléation; ni dépôt à partir des espèces de ladite phase vapeur sur sa surface exposée à la phase vapeur; -une quatrième étape de réalisation d'ouvertures dans le matériau encapsulant (300) au dessus de la bande de matériau diélectrique 2 - une cinquième étape d'élimination, par les ouvertures (301), du matériau intercalaire semiconducteur (200); - une sixième étape de croissance et d'épitaxie sélectives par les ouvertures (301) d'un matériau semiconducteur monocrlstallln. 13. Procédé selon la revendication 1, caractérisé cn ce que la réalisation du germe (39) de matériau semiconducteur monocristallin est réalisé par dépôt sur un substrat (1) d'une première de couche de confinement (20, 21), puis gravure dans cette couche de confinement (20, 21) d'au moins une ouverture -(29) suivie d'une croissance sélective d'un matériau semiconducteur (39) à partir de la partie gravée (16, 17) du substrat, le matériau semiconducteur étant monocristallin (39) dans l'ouverture (29) et polycristallin (31) sur la première couche de confinement, ensuite l'ensemble étant recouvert par une deuxième couche de confinement (4) dans laquelle au moins une ouverture (41) est pratiquée et le semiconducteur polycristallin (31) est enlevé. 14. Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que la gravure d'au moins une ouverture (29) dans la pre- mière couche de confinement se fait également en profondeur dans le substrat (1). 15. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la réalisation du germe de matériau semiconducteur monocristallin est réalisé par - dépôt sur un substrat (1) d'une première couche de confinement (20, 21, 22) puis d'une couche intercalaire (210, 220, 230) présentant une sélectivité d'attaque chimique par rapport au matériau de la première couche de confinement (20, 21, 22) et d'une deuxième couche de confinement (300) qui sera déposée ultérieurement - gravure dans la première couche de confinement et la couche intercalaire d'au moins une ouverture (201) croissance d'un germe de matériau semiconducteur monocristallin (10) dans ladite ouverture (201) jusqu'au niveau supérieur de la couche Intercalaire; - dépôt d'une deuxième couche de confinement (300) réalisation d'au moins une ouverture dans la deuxième couche de confinement (300) et retrait du matériau de la couche intercalaire. 16. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on réalise sur un substrat une première couche de confine- ment (501) comportant au moins une ouverture avec dans cette ouverture un plot de matériau semiconducteur monocristallin (500) réalisé à partir du substrat (1) et émergeant, au dessus de la première couche de confinement (501), d'une hauteur cor- respondant à l'épaisseur de la couche monocrlstalline & obtenir, un masque (502) possédant au moins une ouverture (503) étant placé avec une de ses faces (504) en contact avec le plot (500) et un matériau semiconducteur étant épltaxlé par l'ouverture (503) de façon à ce qu'il y ait croissance d'une couche monocristalline à partir du plot (500) entre la première couche de confinement (501) et la face (504) du masque. O 17. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que le masque (502) est mobile par rapport au plot (500) parallèlement à la surface de la première couche de confinement (501).