FR 2633101 A1 19891222 FR 8808074 A 19880616 Photodiode et matrice de photodiodes sur HgCdTe et leurs procédés de fabrication DESCRIPTION L'invention se rapporte à une photodiode et à une matrice de photodiodes du type photovoltalque en HgCdTe utilisées principalement pour la détection de rayonnements infrarouges. Le composé semi-conducteur est une solution solide de tellurure de mercure et de tellurure de cadmium de formule HglxCdxTe. Le paramètre x allant de O à 1, appelé communément composition, fixe le rapport HgTe/CdTe ainsi que la largeur de bande inter- dite du composé. Cette largeur de bande interdite fixe à son tour le domaine spectral de détection du rayonnement. La composition x peut être ajustée continû- ment permettant ainsi de couvrir un vaste domaine spectral depuis 800 nm (x = 1) jusqu'à de très grandes longueurs d'onde; des détections jusqu'à 300 micromè- tres de longueur d'onde ont été démontrées. On s'intéresse le plus souvent aux gammes spectrales adaptées aux fenêtres de transmission atmo- sphériques, par exemple les fenêtres de 'longueur d'onde de 3 à 5 micromètres (x=0,3) et de 8 à 12 micromètres (x=0,2). Ces fenêtres de transmission sont en effet bien adaptées à l'imagerie thermique. Le composé HgCdTe a été universellement retenu pour la fabrication des détecteurs équipant actuellement les systèmes infrarouges de haute perfor- mance. Ce matériau permet de réaliser des mosaïques et notamment des matrices de détecteurs photovoltaiques de haute qualité à Lecture électronique intégrée tout en assurant un couplage optimum au circuit de lecture avec une très faible dissipation. Les paramètres les plus importants auxquels 2 6 3 3 1 0 1 doit répondre une photodiode photovoltalque qui appa- raissent sur la figure 1 annexée, représentant la caractéristique I = f (V) d'une telle photodiode sont: - un courant de court-circuit ou photocourant Icc fonction du flux de photons incidents, du rendement quantique et de la surface sensible de la diode, - une résistance dynamique R0 à polarisation nulle, - une tension d'avalanche VA élevée. Dans beaucoup d'applications, les photodiodes travaillent à polarisation nulle. Elles doivent donc présenter de grandes résistances dynamiques Ro ainsi qu'un rendement quantique élevé pour assurer une grande détectivité. Or, la valeur de la résistance à l'origine Ro ainsi que celle du rendement quantique dépendent fortement de la structure de la photodiode. Aussi, sur la figure 2 annexée, on a représenté une photodiode en HgCdTe à structure plane de type connu. Cette photodiode comprend, sur un substrat isolant monocristallin 1 en CdTe, une couche semi-con- ductrice monocristalline 3 en HglxCdxTe de type P avec 0 active de la photodiode. Elle est surmontée d'un maté- riau isolant 7 généralement en ZnS comportant une fenêtre 9 assurant une prise de contact électrique sur la région 5 de type N. Cette prise de contact est assurée par un plot 11 généralement en un alliage de chrome et d'or. Une telLe photodiode est notamment décrite dans "Semiconductors and semimetals", volume 18 Mercury cadmium Telluride, chapitre 6, Academic Press. Dans le cadre de l'éclairage face arrière de la photodiode, c'est-à-dire de l'éclairage par le substrat 1, comme représenté sur la figure 1, l'es- sentiel du courant qui traverse la jonction PN (couche 2 6 3 3 1 0 1 3 de type P et zone 5 de type N) provient des éLec- trons engendrés par Le rayonnement dans la région P, puis du rendement de collection de ces électrons dans cette région par L'intermédiaire de la longueur de diffusion Ln de ces électrons. Or, iL est bien connu que cette longueur de diffusion des électrons Ln dépend du niveau de dopage de La région P; plus exac- tement cette longueur de diffusion Ln augmente quand le niveau de dopage de la région P décroît. Elle peut en particulier être supérieure à l'épaisseur de la couche semi-conductrice 3. Lorsque les photodiodes sont réaLisées sur HgCdTe déposée sur un substrat isolaht de CdTe, il est possible d'obtenir des performances en Ro supérieu- res à celles obtenues sur matériau massif. Pour cela, il faut que l'épaisseur Xp de la région P dans toutes les directions, soit nettement inférieure à la longueur de diffusion Ln dans cette même région. Ces considéra- tions demeurent vraies tant que la vitesse de recombi- naison aux interfaces substrat-couche semi-conductrice et couche semiconductrice-isoLant 7 restent faibles, ce qui correspond à des interfaces de bonne qualité, et que leur contribution à la résistance Ro proviennent des mécanismes de diffusion. En effet, R'o varie avec la température de fonctionnement des photodiodes. Toutefois, ceLa ne réduit pas la contribution de la surface latérale Al de la jonction à la résistan- ce Ro. En effet, Ro comporte. deux composantes en paral- LèLe Rof et Rol satisfaisant à L'équation 1/Ro = 1/ Rof + 1/Rol avec Rof la fraction de Ro attribuée au fond de la jonction et RoL la fraction de Ro attribuée à la surface latérale Al de la jonction PN. Ces composantes sont d'une part inversement proportionnelles à la surface qu'elles mettent en jeu et d'autre part, directement proportionnelles à La valeur du rapport Ln/Xp o Xp est l'épaisseur de la région P dans la direction considérée. Ainsi, ces expressions montrent bien la contribution de la composante latérale à la valeur de Ro. Par exemple, pour une photodiode de 20 x 20 Im2 et une profondeur de la région N de 2,5 pm> ta surface totale de la photodiode est de 400 pm2 tandis que sa surface latérale est de 200 i2. Dans ce cas de figure avec Ln > 2Xp obtenus par une réduction de l'épaisseur de la couche 3 (Xp étant considéré dans la direction verticale de la photodiode), l'accroissement de Ro, déterminé expérimentalement par Les inventeurs, ne dépasse pas 20 à 30 % de la valeur de Ro que l'on aurait eu pour LnXp, alors que l'on pourrait escompter une amélioration d'un facteur 2. En conséquence, on ne peut pas espérer augmenter de façon significative la détectivité de la photodiode en réduisant seulement l'épaisseur Xp (dans la direction verticale) de la couche semiconductrice 3. Par ailleurs, pour assurer une grande homogé- néité du photo-courant Icc ainsi que le meilleur rende- ment quantique, il faut ajuster le couple Xp-Ln. En effet, l'épaisseur de la couche semiconductrice 3 peut varier de 2 ipm, ce qui correspond aux disper- sions normales pour une épitaxie sur CdTe. Une façon de s'affranchir de ces fluctuations d'épaisseur consis- te à augmenter la longueur de diffusion Ln-ou ce qui revient au même à réduire le dopage de la région P. Aussi, on a particulièrement intérêt à réali- ser des photodiodes présentant une longueur de diffu- sion Ln des électrons engendrés dans la région P supé- rieure à l'épaisseur Xp de cette même région, dans toutes les directions de l'espace, tant au point de vue de Ro, que du rendement quantique et que des dispersions du photo-courant. Aussi, l'invention a pour objet une photodio- de présentant des performances améliorées par rapport aux photodiodes connues de L'art antérieur. Par ailleurs, dans le cadre de la réalisation de mosaïques de photodiodes à lecture électronique intégrée devant équiper les systèmes de détection infrarouge futurs, il est souhaitable de réaliser ces mosaïques sous forme de matrices ayant une grande densité d'intégration. L'invention a donc pour objet une photodiode sur HgCdTe présentant'des performances en Ro améliorées ainsi qu'une forte densité d'intégration. A cet effet, l'invention se rapporte à une photodiode formée dans une couche semi-conductrice en HglxCdxTe d'un pr;emier type de conductivité, avec 0. x-4 1, déposée sur un substrat isolant, comportant une zone active d'un second type de conductivité diffé- rent du premier, un -premier contact électrique sur la couche semi-conductrice, un second contact électri- que sur. la zone active et un isolant séparant les. premier et second contacts électriques, caractérisée en ce que la zone active est entourée d'une tranchée d'isolement dont la profondeur est supérieure à l'épaisseur de la zone active et en ce que le premier contact électrique est logé dans le fond de la tranchée. Cette photodiode peut être utilisée soit en éclairage par la face arrière (face du substrat) soit en éclairage par la face avant (face opposée au substrat). L'utilisation d'une tranchée ayant une profondeur supérieure à l'épaisseur de la zone active permet d'augmenter Rol, et donc Ro, par diminution de l'épaisseur Xp latéralement. L'invention a aussi pour objet une matrice de photodiodes comportant des photodiodes telles que décrites ci-dessus, les premiers contacts électriques de ces photodiodes étant tous reliés électriquement entre eux. Dans l'articLe de J.F. Kim et aI. "Crosstalk measurements on a linear area of deep U-grooves isola- ted silicon photodiodes", Optical Ingeenering, de septembre-octobre 1983, vol. 22, n 5, pp. 656-659, il est connu d'isoler électriquement les unes des autres des photodiodes réalisées sur du silicium massif à l'aide de tranchées d'isolement en vue de minimiser la détection de rayonnements parasites. Ces tranchées ne sont réalisées que dans une seule direction de la surface de détection. Dans cet article, les photo- diodes consistent en une région P isolée en une région médiane commune N et un substrat de type P commun. La prise de contact sur les régions N, reliées électri- quement entre elles, est effectuée sur l'une des faces latérales de l'ensemble de photodiodes. Selon l'invention, la réalisation du contact électrique de la couche semiconductrice dans le fond des tranchées permet, en plus des avantages donnés ci-dessus, une augmentation de la densité d'intégration des photodiodes dans le cas d'une mosaïque de photodiodes. En effet, une prise de contact sur la couche semi-conductrice et sur la zone active, réalisée à la fois à la surface de chaque photodiode (ou en face avant), comme décrit dans le document FR-A-2 604 298 déposé au nom du demandeur, nécessite de conserver une garde suffisante entre les prises de contact afin d'éviter un court-circuit. En outre, cette solution conduit à une réduction de la. surface sensible des photodiodes au profit des contacts électriques et donc une diminution du courant de court-circuit et de La détectivité des photodiodes. Le premier type de conductivité peut être le type P ou Le type N et inversement Le second type de conductivité Le type N ou P. Les matériaux utiLisa- bLes pour La réalisation des premier et second contacts électriques dépendent principaLement du type de dopage de La couche semiconductrice. Pour un dopage P. Les contacts électriques sont réalisés en or, en cuivre ou en un matériau bicouche chrome-or, et pour un dopage N, ces contacts sont généralement en aluminium. Selon l'invention, l'amélioration des perfor- mances en Ro est d'autant plus importante que les tranchées sont profondes, en particulier 2 à 3 fois supérieure à l'épaisseur de la zone active, mais en contrepartie, la résistance d'accès à la photodiode augmente. Aussi, la réalisation du premier contact électrique au fond de la tranchée, selon l'invention, permet de réduire cette résistance d'accès. L'invention a aussi pour objet- un procédé de fabrication d'une photodiode consistant à: a) pratiquer une tranchée dans une couche semi- conductrice en Hg1lxCdxTe d'un premier type de conductivité, avec 0., x 4 1, déposée sur un substrat isolant, isolant ainsi une zone semi- conductrice, b) déposer un matériau isolant sur l'ensemble de la structure, c) pratiquer une première ouverture de la couche d'isolant dans le fond de La tranchée, d) remplir la tranchée d'un matériau de protection, e) implanter des ions d'un second type de conductivité dans la zone semiconductrice, f) pratiquer une seconde ouverture du maté- riau isolant en regard de la zone implantée, g) éliminer le matériau de protection, h) réaLiser un premier et un second contacts électriques respectivement dans le fond de la tranchée et en regard de la zone implantée. Afin d'obtenir des tranchées profondes dont les flancs sont les plus verticaux possibles, on utili- se soit un procédé de gravure planaire, anisotrope, après avoir réalisé un masque principalement en résine photosensible à la surface du matériau semiconducteur définissant l'emplacement, la largeur et la longueur des tranchées, soit en utilisant un usinage ionique. De préférence, on utilise l'usinage ionique; les ions utilisés sont principalement des ions de gaz rares tels que des ions d'argon, de krypton ou de xénon. Avantageusement, les tranchées sont plus profondes que larges ce qui permet d'éviter, lors de la réalisation des contacts sur le substrat, de déposer du métal sur les parois des tranchées. En particulier, les tranchées ont une profondeur 2 à 3 fois supérieure à leur largeur. En vue de fixer le niveau de dopage de la couche semi-conductrice du premier type de conductivité, et par conséquent la longueur de diffusion des porteurs dans cette couche (électrons pour un matériau de type P et trous pour un matériau de type N) et simultanément de guérir les défauts introduits dans cette couche Lors de l'usinage ionique, on effectue un recuit thermique de la structure entre 200 et 300 C. Un tel traitement thermique est en particulier décrit dans le document FR-A-2 604 298. Dans le cas d'un matériau de type P, ce traitement thermique permet de ramener les régions de type N induites par le bombardement ionique à une conductivité de type P. En vue de surdoper, conformément à L'inven- tion, la couche semi-conductrice- du premier type de conductivité sous Les tranchées d'isoLement, on dépose au fond des tranchées une couche métaLLique contenant des ions dopants du même type de conductivité que la couche semi-conductrice, ce dépôt étant effectué juste avant de remplir Les tranchées du matériau de protection. Ce surdopage permet de réduire la résistance d'accès du contact et 'surtout de donner un caractère ohmique à celui-ci. La couche métallique contenant les ions dopants permet en plus d'empêcher L'exodiffusion des constituants de la couche semi-conductrice tels que le mercure, lors du traitement thermique. Au Lieu d'utiliser une couche métalLique dans Le fond des tranchées, il est. possible d'éviter L'ex.odiffusion du mercure, lors du traitement thermi- que, en effectuant ce' traitement, de façon connue, sous atmosphère de mercure dans une ampoule sceLLée. O' L'isoLant utilisé pour isoLer électriquement -Les deux contacts électriques de chaque photodiode peut être réalisé sous forme d'une simple couche isolante par exemple en SiO, SiO2, ZnS, CdTe, Si3N4, ou encore d'une double couche isolante afin d'assurer la meiLLeure interface possible entre le matériau semiconducteur et les contacts électriques ainsi que les meilleures propriétés is6lantes du matériau. Le matériau isolant présente une- épaisseur allant de à I 000 nm. De préférence le matériau isolant est déposé par pulvérisation cathodique radiofréquence du fait que cette technique permet L'obtention d'un isolant de bonne qualité. Or, suivant cette technique, il n'était pas évident que la couverture du fond et des flancs des tranchées soit possible du fait que ces dernières ont une profondeur supérieure à Leur largeur (de préférence 2 à 3 fois supérieure). Afin d'augmenter le taux de recouvrement de l'isolant il est possible de polariser le support conducteur supportant les photodiodes, lors de la pulvérisation de l'isolant, ce support étant relié à un générateur radiofréquence ou continu. Ce procédé de polarisation bien connu de l'homme de l'art est connu sous l'abréviation BIAS. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre, donnée à titre illustratif et non limitatif. La description se réfère aux dessins annexés dans lesquels: - la figure 1, déjà décrite, est une courbe donnant les variations du courant I en fonction de la tension V appliquée aux bornes d'une photodiode photovoLtaique en HgCdTe, selon l'art antérieur, - la figure 2, déjà décrite, représente schématiquement une photodiode photovolta;que en HgCdTe à structure plane illustrant l'état de La technique, - Les figures 3 à 11 illustrent schématique- ment les différentes étapes du procédé de fabrication d'une mosaïque de photodiodes conforme à l'invention; les figures 3 et 10 sont des vues en perspective et les figures 4 à 9 et 11 des vues en coupe seLon le plan A-A de la figure 3. La première étape du procédé consiste, comme représenté sur la figure 3, à déposer sur un substrat isolant monocristallin 11, transparent aux rayonnements infrarouges, une couche semiconductrice 13 monocristal- line. Le substrat 11 est soit du saphir soit du CdTe. La couche semiconductrice 13 en HglxCdxTe, avec x allant de 0 à 1 et en particulier allant de 0,2 à 0,3, peut être épitaxiée par pulvérisation cathodique 1 1 en plasma de mercure ou par épitaxie en phase Liquide (EPL) . Cette couche 13 de type P présente une épaisseur aLLant de 6 à 10 pm. Selon l'invention, on effectue un usinage ionique de la couche semiconductrice 13 en vue de former des tranchées 15 dans Les deux directions x et y contenues dans le plan de la couche 13. Ces tran- chées 15 présentent une profondeur h de 3 à 8 pim, une largeur l de 2 à 5 pm. La longueur L de ces tranchées est comprise entre 5 à 50 pm. Ces tranchées définissent des zones semicon- ductrices 17 de longueur L et de largeur l, isolées les unes des autres. L'usinage ionique peut être réali- sé avec -un courant d'ions de 500 nA/cm2 et une énergie de 500 eV entraîinant une vitesse de gravure du HgCdTe voisine de 200 nm/mn. Ces performances sont obtenues avec le dispositif commercialisé sous Le nom de "Microetch" produit par La société Veeco Instruments. En procédant de cette façon, La pente de La gravure est très forte, supérieure à 80 . Autrement dit Les flancs 19-des tranchées sont pratiquement verticaux. Après cette étape de gravure, on effectue éventuellement un premier traitement thermique entre et 300 C afin de fixer le niveau de dopage de type P dans la couche 13 et donc la longueur de diffu- sion Ln des électrons dans cette couche. De surcroît, ce traitement thermique assure la régénération des zones de la couche 13 située à proximité et au contact des tranchées 15. On dépose ensuite, comme représenté sur la figure 4, par pulvérisation cathodique radiofréquen- ce, un matériau isolant 21 formé avantageusement d'une première couche 23 en CdTe recouverte d'une seconde couche 25 en ZnS. L'utilisation d'une couche 23 en CdTe améliore La qualité de l'interface de l'isolant du fait de ses compatibilités chimique et cristallogra- phique avec Le matériau semiconducteur de la couche 13. Le matériau 21 a une épaisseur de l'ordre de 500 nm. Ce dépôt 21 est effectué avantageusement en polarisant le support conducteur (non représenté) supportant le substrat 11 avec un générateur RF ou continu. L'étape suivante du procédé comme représenté sur la figure 5 consiste à dégager, en particulier à l'usineur ionique avec des ions de Ar+, le fond 27 des tranchées 15 par autopositionnement (technique connue sous le nom anglo-saxon de seLf-alignment). Du fait de la profondeur des tranchées (au moins 2 fois supérieure à leur largeur), l'épaisseur du matériau isolant 21 est au moins deux fois plus faible au fond des tranchées que sur la surface de la couche semiconductrice 13; l'usinage ionique met donc à nu uniquement le fond 27 des tranchées. On effectue ensuite avantageusement, comme représenté sur la figure 6, le dépôt d'une couche métallique 29 dans le fond 27 de chaque tranchée, contenant des ions dopants de type P. Ce dépôt métal- lique 29 a une épaisseur de 10 à 100 nm et es-t en particulier en or ou en cuivre. Ce dépôt est effectué par pulvérisation cathodique radiofréquence. On effectue ensuite un second traitement thermique entre 200 et 300 C entraînant en outre la diffusion d'or ou de cuivre dans la couche semiconduc- trice 13 et par conséquent, la formation d'une région surdopée de type P+ 31 sous chaque tranchée d'isolement 15. Cette technique permet en particulier d'obtenir des zones 31 dopées avec 1018 à 1020 ions/cm2 au lieu de 1016 ions/cm2 pour la couche 13. Dans le cas éventuel d'un unique traitement thermique, ce "second" traitement permet la fixation du niveau de dopage P et La régénération des zones semi-conductrices perturbées lors de l'usinage des tranchées. On effectue ensuite, comme représenté sur la figure 6, le dépôt d'une résine suffisamment visqueuse et épaisse 33, telle que celle classiquement utilisée en photolithographie (résine phénol-formaldéhyde) dont l'épaisseur est supérieure à celle de la profôndeur des tranchées afin de remplir ces dernières et obtenir une surface plane 33b. L'étalement de cette résine peut être amélioré en effectuant un traitement thermique à 150 C pendant 15 min. On effectue ensuite soit une insolation superficielle de toute la résine 33 puis un développement, soit une gravure directe de cette résine par plasma 02, de façon à ne conserver de la résine qu'à L'intérieur des tranchées 15 comme représenté sur la figure 7. Cette résine assure une protection du fond des tranchées lors de l'étape suivante. On effectue alors une implantation ionique afin d'obtenir des zones implantées de type N ou N+ 37 dans la couche semi-conductrice 13, le restant de la résine 33 servant de masque à cette implantation. Cette implantation est effectué avec des ions de bore à une dose de 1012 à 1015 -ions/cm2 et une _énergie de 50 à 200 keV. On obtient ainsi des zones implantées 37 de 1 à 5 pm d'épaisseur e, soit deux à trois fois plus petites que la profondeur h des tranchées 15. L'étape suivante du procédé consiste, comme représenté sur la figure 8, à réaliser un masque de lithographie 39 à la surface de la structure, tout en maintenant le restant de la résine 33 dans les tranchées 15. Ce masque 39 définit l'emplacement des contacts électriques à réaliser sur les zones actives 37 ainsi que la dimension (largeur et longueur) de ces contacts électriques. Ce masque 39 est réalisé par dépôt d'une couche de résine telle que celle clas- siquement utilisée en microélectronique (résine AZ 1350) que l'on insole puis développe afin de former une ouverture 41. Un traitement thermique de la structure obtenue permet de faire fluer la résine 39 et d'obtenir une ouverture 41 dont les flancs sont inclinés, par rapport à la normale à la surface de la structure, de 30 à 40 . On effectue alors une abrasion ionique des régions du matériau isolant 21 exposées, en vue d'obtenir des ouvertures 43 à flancs inclinés dans ce matériau. L'abrasion ionique est effectuée avec un courant d'ions d'argon de 500 nA/ cm2 et une énergie de 500 eV. L'étape suivante du procédé consiste à élimi- ner le masque de résine 39 ainsi que la résine 33 restante à l'aide d'un plasma d'oxygène. On effectue alors, comme représenté sur la figure 9, le dépôt par évaporation Joule des con- tacts électriques 45 et 47 respectivement sur les régions implantées 37 et sur le fond 27 des tranchées d'isolement. Ces contacts électriques sont en particu- lier un matériau bicouche de chrome et d'or de 1000 nm d'épaisseur. Cette technique d'évaporation permet d'obtenir des contacts électriques sans franchissement de marches du fait que celles-ci sont de forte amplitu- de et très étroites. En outre, cette technique permet d'obtenir des contacts 47 tous reliés électriquement entre eux. La figure 10 montre la matrice de photodiodes 48 ainsi réalisée. La lecture et l'adressage des photodiodes 48 ainsi obtenues, séparées par les tranchées 15, sont assurées par le circuit de lecture et d'adressage integré, schématisé en 49 sur la figure 11. A cet effet, chaque contact 45 -est relié au circuit 49 par un plot d'indium 51. Par ailleurs, les contacts 47 sont reLiés au circuit 49 par au moins un pLot d'indium 53 grâce à un contact métaLLique 55 situé- à la périphérie de La matrice et fabriqué en même temps que les contacts 47. Le contact périphérique 55 est réalisé sur une plage importante de la couche semi-conductrice 13 gravée et en est séparée par le matériau isolant 21. - La description ci-dessus portait sur la fabrication de photodiodes dans une couche semi-conduc- trice de type P. Bien entendu, il est possible de concevoir des photodiodes dans une couche semi-conduc- trice de type N; dans ce cas, Les régions surdopées 31 sont obtenues par épitaxie en phase liquide dopé avec In, Les zones actives 37 par implantation de phosphore et Les contacts électriques 45 et 47 sont en aluminium. REVENDICATIONS 1. Photodiode (48) formée dans une couche semi-conductrice (13) en HglxCdxTe d'un premier type de conductivité, avec 0 x strat isolant (11), comportant une zone active (37) d'un second type de conductivité différent du premier, un premier contact électrique (47) sur la couche semi- conductrice, un second contact électrique (45) sur la zone active et un isolant (21) séparant les premier et second contacts électriques, caractérisée en ce que la zone active (37) est entourée d'une tranchée d'isolement (15) dont la profondeur (h) est supérieure à l'épaisseur (e) de la zone active et en ce que le premier contact électrique (47) est logé dans le fond (27) de la tranchée (15). 2. Photodiode selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'elle comporte en outre une zone surdopée (31) du premier type de conductivité sous la tranchée d'isolement (15). 3. Photodiode selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce qu'elle comporte, au fond (27) de la tranchée (15), une couche métallique (29) conte- nant des ions dopants du premier type de conductivité. 4. Photodiode selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que la profon- deur (h) de la tranchée est 2 à 3 fois supérieure à l'épaisseur (e) de la zone active (37). 5. Photodiode selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisée en ce que le premier type de conductivité est le type P et le second type N. 6. Photodiode selon la revendication 5, caractérisée en ce que le premier contact électrique (47) est en or, en cuivre ou en un matériau bicouche chrome-or. 7. Photodiode selon La revendication 3, caractérisée en ce que la couche métallique (29) est en or. 8. Photodiode selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que le sub- strat isolant (11) est du CdTe. 9. Photodiode selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisée en ce que la tranchée (15) a une profondeur supérieure à sa largeur. 10. Matrice de photodiodes, caractérisée en ce que les photodiodes (48) sont réalisées selon l'une quelconque des revendications I à 9, et en ce que les premiers contacts électriques (47) sont tous reliés entre eux. - 11. Procédé de fabrication d'une photodiode (48) consistant à: a) pratiquer une tranchée (15) dans une couche semi-conductrice (13) de HglxCdxTe d'un premier type de conductivité, avec U. x, 1, déposée sur un substrat isolant (11), isolant ainsi une zone semi- conductrice (17), b) déposer un matériau isolant (21) sur l'ensembLe de la structure, c) pratiquer une première ouverture de la couche d'isolant (21) dans le fond (27) de la tranchée (15), d) remplir - La tranchée (15) d'un matériau (33) de protection, e) implanter (35) des ions d'un second type de conductivité dans la zone semiconductrice (17), f) pratiquer une seconde ouverture (43) du matériau isolant (21) en regard de la zone implantée (37), g) éliminer le matériau de protection (33), h) réaliser un premier (47) et un second 2 6 3 3 1 0 1 (45) contacts électriques respectivement dans le fond (27) de la tranchée (15) et en regard de la zone implantée (37). 12. Procédé de fabrication selon la revendication 11, caractérisé en ce que le premier type de conductivité est le type P et le second type est le type N. 13. Procédé de fabrication selon la revendication 11 ou 12, caractérisé en ce que l'étape a) consiste à usiner ioniquement la couche semi-conductrice (13). 14. Procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 11 à 13, caractérisé en ce que l'on effectue un recuit thermique de la structure afin de fixer le dopage de la couche semi-conductrice (13). 15. Procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 11 à 14, caractérisé en ce que l'on dépose une couche métallique (29) contenant des ions dopants du premier type de conductivité au fond (27) de la tranchée, entre les étapes c) et d). 16. Procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 11 à 15, caractérisé en ce que la seconde ouverture (43) présente des flancs inclinés. 17. Procédé de fabrication selon lfune quelconque des revendications 11 à 16, caractérisé en ce que les premier et second contacts électriques (47, 45) sont formés par évaporation Joule. 18. Procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 11 à 17, caractérisé en ce que l'on dépose le matériau isolant (21) sous forme d'au moins une couche (23, 25) par pulvérisation cathodique.