FR 2616269 A1 19881209 FR 8707796 A 19870604 DISPOSITIF DE TEST POUR LA MISE EN OEUVRE D'UN PROCEDE DE REA- LISATION DE DISPOSITIFS SEMICONDUCTEURS L'invention concerne un dispositif de test, pour la mise en oeuvre d'un procédé de réalisation de dispositifs semiconducteurs incluant au moins une étape de gravure ionique réactive par plasma, ce dispositif de test comprenant un ré- seau optique à profil rectangulaire composé d'ouvertures en forme de sillons de largeur Ls pratiquées dans une couche. réalisée en surface du matériau semiconducteur, ces ouvertures étant parallèles et régulièrement espacées par des rubans du matériau de la couche de largeur LM, et ce dispositif com- prenant en outre une source lumineuse incluant un faisceau la- ser de longueur d'onde A éclairant le réseau optique sensible- ment perpendiculairement à sa surface, et des moyens de détec- tion de la lumière provenant du réseau optique incluant une photodiode. Ce dispositif trouve son application dans le con- trôle de la gravure ionique réactive de différentes couches qui intervient dans les procédés de réalisation de. dispositifs semiconducteurs intégrés notamment sur arséniure de gallium (GaAs) ou phosphure d'indium (InP) et d'une façon générale sur des composés III-V. Un dispositif de test pour la gravure ionique ré- active est connu de la publication de H.P. KLEINKNECHT et H. MEIER dans Journal of Electrochemical Society Vol.125, N05, Mai 1978, pages 798 à 803. Ce document décrit un'dispositif de test comprenant un réseau optique formé sur l'un des échan- - tillons de matériau semiconducteur destiné à être soumis à une gravure ionique réactive par plasma. Le réseau optique pré- sente un profil rectangulaire. Il est composé d'ouvertures en forme de sillons pratiquées dans une couche de photorésist réalisée en surface d'une couche diélectrique de silice (Si02) 2616 2 6 9 -2- ou de nitrure de silicium (Si3N4). Les sillons sont parallèles et régulièrement espacés. La couche de photorésist sert par ailleurs de masque pour réaliser, par gravure ionique réac- tive, la gravure de motifs dans la couche diélectrique, elle- même réalisée en surface d'un substrat semiconducteur de sili- cium (Si). Le dispositif de test est destiné au contrôle IN SITU de la profondeur de gravure de la couche diélectrique par gravure ionique réactive par plasma. A cet effet, le réseau optique est éclairé par un système comprenant un faisceau laser, de longueur d'onde 632,8 nm qui est modulé et dirigé sensiblement perpendiculairement sur le réseau optique placé dans le bâti de gravure ionique. Le contrôle est effectué par l'analyse de la lumière diffractée par le réseau. A cet effet l'intensité lumineuse provenant du réseau est recueillie par une diode photoélectrique. Le contrôle de la gravure des couches diélectri- ques est obtenu par l'interprétation à l'aide de modèles de l'analyse quantitative des oscillations de l'intensité dif- fractée par le réseau. Afin d'obtenir les conditions de dif- fraction, la largeur des sillons du réseau est prévue de l'or- dre de la longueur de cohérence du faisceau laser c'est-à-dire 1 nm. L'ordre de diffraction 1 est uniquement étudié. Le problème résolu par le dispositif de test selon le document cité est la détection de l'instant o la couche diélectrique est complètement gravée et le substrat semicon- ducteur mis à nu, dans le but d'éviter la gravure dudit subs- trat. Par mesure de l'intensité de diffraction, cet instant est connu par le fait qu'il coïncide avec une diminution brus- que de l'intensité diffractée, qui se maintient ensuite à un niveau bas et constant. Le document cité enseigne en outre que le contrôle de la gravure des couches diélectriques pourrait aussi être fait par la mesure de l'intensité de la réflexion spéculaire. Mais dans ce cas, le faisceau laser devrait être dirigé sur une région de la couche dépourvue de toute irrégularité sur - 3 - une surface aussi large que le diamètre du faisceau laser, condition qui est en pratique difficile à réaliser dans l'éla- boration de circuits intégrés sur substrats semiconducteurs. Notamment dans ce cas, un réseau optique ne pourrait être utilisé. Une telle technique utilise la-diffraction de la lumière. L'interprétation est simple dans le cas idéal d'un réseau pour lequel seule la profondeur des traits de gravure varie c'est-à-dire un molèle à 1 seul paramètre. La modélisa- tion est très rapidement plus complexe dans les cas réalistes o l'ensemble de la géométrie du réseau se modifie au cours de l'attaque plasma. Plusieurs paramètres agissent sur l'inten- sité diffractée, dont les contributions sont pratiquement im- possibles à séparer. En particulier, il est impératif de pouvoir mesu- rer, non seulement l'épaisseur des couches diélectriques gra- vées, mais encore la profondeur gravée dans une ou plusieurs couches de matériau semiconducteur sous-jacent, ainsi que la rugosité des flancs de gravure, ou la rugosité du fond de l'ouverture gravée dans le ou les matériaux semiconducteurs. Ces problèmes sont résolus au moyen d'un disposi- tif de test selon l'invention. Pour atteindre ce but un dispositif de test tel que décrit dans le préambule est caractérisé en ce que les largeurs L$ et LM respectivement des sillons et des espa- cements du réseau sont sensiblement égales entre elles et d'une dimension supérieure à la longueur de cohérence QC du faisceau laser, en ce que la couche dans laquelle est réalisé le réseau optique est en un matériau choisi parmi une laque photorésistante, un composé diélectrique, un métal ou un com- posé métallique, et en ce que le matériau dont la gravure io- nique doit être contrôlée est choisi parmi un composé diélec- trique, un composé semiconducteur, une alternance de couches de différents matériaux semiconducteurs. Au moyen du dispositif de test selon l'invention, -4- peuvent être obtenus entre autres les avantages suivants: - le contrôle de la gravure ionique de trois maté- riaux peut être fait IN SITU, en continu, en parallèle avec la gravure. la commande des différents paramètres en jeu dans la gravure peut être subordonnée à ce contrôle. - ce contrôle fournit en continu: la valeur de la profondeur totale de gravure dG; 10. la valeur de l'épaisseur enlevée à la couche supérieure du système gravé: d'M; l'épaisseur de la couche rugueuse sur les flancs d'un motif gravé: IF; l'épaisseur de la couche rugueuse dans le fond d'un motif gravé: dR. - le dispositif de test selon l'invention est fa-. cile à réaliser et plus facile à mettre en oeuvre que le dis- positif de test selon l'art antérieur du fait que l'on est dispensé de moduler le faisceau laser servant de source. Il est également plus facile de réaliser des sillons larges de 2 nm et sans précision spécifique, que des sillons étroits de 1 nm. L'invention sera mieux comprise au moyen de la description suivante illustrée par les figures annexées dont: - les figures la et lb qui montrent en coupe res- pectivement l'aspect d'un motif avant gravure et d'un motif après gravure ionique réactive; - la figure 2 qui montre schématiquement l'ensemble du dispositif de test selon l'invention; - la figure 3a qui montre en coupe schématique le réseau optique inclus dans le dispositif de test selon l'in- vention et la figure 3b qui montre ce réseau vu du dessus; - la figure 4 qui montre en coupe le trajet des ra- yons du faisceau laser incidents et réfléchis par le réseau; - la figure 5a qui montre la courbe d'intensité 2616 2 6 9 -5-- lumineuse réfléchie par le réseau en fonction du temps de gra- vure, lorsque le réseau est réalisé sur un substrat d'arsé- niure de gallium; - la figure 5b qui montre la courbe d'intensité -05 -lumineuse réfléchie par le réseau en fonction du temps de gra- vure, lorsque le réseau est réalisé dans une couche de nitrure de silicium (Si3N4) en surface d'une couche mince d'arséniure de gallium et d'aluminium déposée sur un substrat d'arséniure de gallium. Lors de la réalisation de circuits intégrés sur des substrats semiconducteurs, est souvent mise en oeuvre une gravure d'un matériau par une méthode dite gravure ionique ré- active (R.I.E. de l'anglais = Reactive Ion Etching). Les figures la et lb illustrent cette méthode. Sur un matériau 100 à graver considéré comme substrat, est déposée une couche 110 pour former un masque.' Des-ouvertures ou fenê- tres 120 sont pratiquées dans le masque.110 par exemple par photolithographie aux emplacements choisis pour la gravure du substrat 100. La figure 4a montre ce dispositif en coupe sché- matique avant gravure ionique réactive. La figure 4b montre schématiquement selon une cou- pe correspondant à la figure 4a, l'aspect de l'ouverture obte- nue après gravure du substrat 100 dans le prolongement- de. l'ouverture 120. La couche formant masque peut être un film mince d'un matériau organique ou d'un métal ou d'un composé diélec- trique tel que la silice (SiO2) ou le nitrure de silicium (Si3N4). Le matériau à graver ou substrat 100 peut être un autre composé diélectrique ou un composé semiconducteur choisi parmi les composés du groupe IV ou du groupe III-V ou du grou- pe II-VI. Si par exemple le masque est en silice, le matériau à graver peut être le nitrure de silicium ou vice versa. Les matériaux semiconducteurs peuvent être le silicium, l'arsé- niure de gallium, l'arséniure de.gallium et d'aluminium, le 26 1 269 -6- phosphure d'indium, cités à titre d'exemples non limitatifs. Lors de l'attaque par plasma, le comportement idéal serait que la couche mince qui sert de masque soit lais- sée intacte et que le substrat soit gravé, uniquement dans les fenêtres, en maintenant la figure géométrique révélée par pho- tolithographie, c'est-à-dire avec des flancs d'attaque verti- caux aux limites masque/fenêtre. En pratique, trois phénomènes parasites apparaissent: 1) la surface 14 du substrat 100 devient rugueuse au cours de l'attaque; 2) les flancs d'attaque 15 sont rugueux et non verticaux, c'est-à-dire qu'on développe une rugosité latérale 13; 3) le masque 110 lui-même est attaqué et son épaisseur diminue au cours de la gravure plasma. Selon l'invention, ces trois phénomènes parasites pourront être minimisés. En effet, comme ils varient de maniè-: re complexe en fonction des paramètres microscopiques du plas- ma (géométrie des électrodes du plasma, pression dans la cham- bre plasma, nature et pression partielle des gaz de gravure, température de l'échantillon, nature du masque utilisé...), l'optimisation est très difficile et longue si on né dispose pas de moyens de caractérisation rapides et précis. La présen- te invention permet d'apporter entre autre une solution à ce problème au moyen du dispositif de test décrit ci-après. La figure 2 illustre schématiquement le dispositif de test selon l'invention appliqué à la mise en oeuvre d'une méthode de gravure ionique réactive. Un échantillon 100 de matériau à graver est dispo- sé dans une enceinte 5 sur la cathode 7, face à l'anode 6, en- tre lesquelles s'établit, grâce à l'alimentation 8, un flux de. plasma, l'enceinte étant en outre munie d'arrivées non repré- sentée pour des gaz tels que CHF3 ou CF4 choisis en fonction du ou des matériaux à graver. L'enceinte 5 est munie d'une fenêtre 9, sur 2616 2 6 9 - 7 - laquelle est dirigé par la réflexion sur le miroir 2, le faisceau d'un laser 1. Entre le miroir 2 et la fenêtre 9, le faisceau directement issu du laser est partiellement réfléchi par une lame semi-réfléchissante 3 en direction d'un moyen de détection Do qui peut être avantageusement une diode photo- électrique au silicium, afin de'fournir un signal de référence de l'intensité incidence. Le faisceau émis par le laser est dirigé vers l'échantillon 100 perpendiculairement à sa surface. La plage de l'échantillon qui est éclairée par le faisceau laser a été préalablement munie d'un réseau optique tel que décrit plus loin. Ce réseau optique est prévu pour permettre, non pas la diffraction comme connu de l'art antérieur, mais la réflexion spéculaire du faisceau laser. La lumière réfléchie par le ré- seau optique est envoyée à travers la fenêtre 9 au moyen d'une lame semiréfléchissante 4 sur une diode photoélectrique D1 pour fournir un signal de détection de l'intensité réfléchie par le réseau. Le faisceau laser et les moyens de détection de l'intensité réfléchie sont appliqués à l'enceinte 5 pendant toute la durée de l'opération de gravure ionique réactive. La figure 3a représente une coupe schématique se- lon l'axe I-I de la figure 3b du réseau du dispositif de test selon l'invention. Ce réseau est réalisé en surface de la couche ou du matériau massif, dit substrat 100 à graver. Il est disposé dans une région du substrat dépourvue de dispositifs semicon- ducteurs en cours d'élaboration. Ce réseau est formé par des ouvertures en forme de sillon 12 pratiquées dans une couche d'un matériau 11, qui peut être avantageusement l'un des matériaux précédemment ci- tés comme appropriés à constituer un masque. Comme il est montré sur la figure 3a le profil du réseau est rectangulaire. Les sillons ont une largeur úS et sont espacés par des bandes de la couche 11 qui ont une 261626 9 - 8 - largeur QMt Un tel réseau peut être réalisé par une méthode connue en soi de photolithographie. La figure 3b montre une partie du réseau vue du dessus. Les sillons sont parallèles et régulièrement espacés. Avantageusement, le réseau couvrira sur le subs- trat une surface de lmm x 1mm. Dans le but de permettre la réflexion spéculaire du faisceau laser, qui est à la base des avantages procurés par l'invention, les largeurs 5 et 9M seront choisies sensiblement égales entre elles et égales à 2nm, pour se trouver notablement plus grandes que la longueur de cohérence úc du faisceau laser dont la longueur d'onde À est choisie de 628,3 nm, ce qui est obtenu au moyen d'un laser He-Ne. La longueur de cohérence du faisceau laser est alors une constante du système optique et est: úc 1 nm Une méthode de détermination de la longueur de co- hérence d'un tel système optique sera exposée plus loin en dé- tail. Ainsi, des régions du réseau séparées de plus de i nm renvoient des faisceaux de lumière sans cohérence de phase entre eux et dont les intensités s'ajoutent et non plus les amplitudes comme selon l'art antérieur. Cette propriété permet de découpler les contributions respectives des divers mécanismes évoqués ci-dessus: 1) vitesse de gravure du substrat (vS), 2) vitesse de gravure du masque (VM), 3) rugosité latérale (rL), 4) rugosité du substrat (rs). Le choix de Qs I M 2 nm est un compromis qui s'appuie sur le fait que: 1) cette dimension est plus grande que le rayon de cohérence du laser pour permettre des contributions séparées des bandes 11 et des sillons 12; 2) cette dimension est assez faible pour que les 261-6 269 -9- régions aux limites bande/sillon donnent encore une contribu- tion significative au signal global de réflexion. L'intérêt d'un tel motif se voit lorsqu'on examine une situation typique en cours de gravure, comme représentée sur la figure 4. On peut distinguer trois types de région qui con- tribuent à la réflexion spéculaire du faisceau laser. Les régions M de bande 11 situées à plus d'une longueur de cohérence d'une limite bande/sillon qui corres- pondent aux interférences multiples dans le film mince d'épaisseur dM qui constitue les bandes 11. Pour une inci- dence du laser normale à la surface, l'amplitude réfléchie par une région M est donnée par la relation: rAM + rMS. exp(-jOM) AM = i1 + rAM. rMS À exp(-jgM) o rAM est le coefficient de Fresnel à l'interface air-bande rMS est le coefficient-de Fresnel à l'interface bande- substrat 2r OM -: nM. dM avec nM = indice optique du A matériau de la bande à la longueur d'onde A du laser. De même, les régions S du substrat, situées à plus d'une longueur de cohérence d'une limite bande/sillon, corres- pondent aux interférences multiples dans le film mince d'épaisseur dR de rugosité du substrat développée au cours de l'attaque plasma. L'amplitude réfléchie par ces régions est donnée par la relation: rAR + rRS - exp(jOR) As = 1 + rAR. rRS. exp(-jOR) o rAR est le coefficient de Fresnel à l'interface air- rugosité - 10 - rRS est le coefficient de Fresnel à l'interface rugo- sité-substrat 2T R= -. nR * dR avec nR = indice optique du A film de rugosité. Enfin, les régions L situées aux limites bande/ sillon et de largeur úC égale au rayon de cohérence de la lumière laser, correspondent aux interférences entre le haut et le bas des motifs en cours de gravure. Si dG représente l'épaisseur gravée, c'est à dire la différence de hauteur entre l'interface air/bande et l'interface air/rugosité du substrat, la contribution en amplitude réfléchie de ces ré- gions RL est donnée par la relation: AL = AM + AS exp(-jOG) 2r avec G = dG A Il est essentiel de noter, du fait de l'incidence normale de la lumière laser, que les flancs verticaux ou non, du motif à la limite bande/sillon, ne contribuent pas à l'amplitude réfléchie spéculairement. Au cours de la gravure, ces flancs occupent une largeur.F et les régions L ont donc une contribution proportionelle à Qc - RF. Les proportions respectives des trois types de région M,S et L sont donc: Q'M, I'S et 2 Qc avec ú'M + ú'S + 2 2c = úM + QS et 'M = S S Au cours de la gravure, l'intensité globale ré- fléchie est donc donnée par la relation: QM. IAM2 + ú's.IAs12 + 2(úC-PF). IAL12 I= M + QS 261626 9 - 11 - o les quantités variant au cours d'une attaque plasma sont donc, par ordre d'importance décroissante - l'épaisseur gravée dG agissant sur AL l'épaisseur résiduelle du masque dM agissant sur AM 05. et AL - la rugosité latérale úF - la rugosité du substrat dR agissant sur AS et AL. L'intérêt de notre invention est que les contribu- tions de ces 4 quantités sont séparables et qu'on peut obtenir leurs 4 valeurs à partir de la seule mesure au cours du temps de l'intensité de la réflexion spéculaire. Une utilisation typique de cette méthode est main- tenant décrite, qui correspond à la mesure de l'intensité de réflexion spéculaire, donnée dans la figure 5a. Il s'agit d'une gravure ionique réactive d'un substrat de GaAs orienté (100) dans un ensemble commercial (bâti NEXTRAL NE 110 C). Les conditions expérimentales étaient les suivantes: - pression totale 3m Torr - puissance RF = 70W (tension d'autopolarisation 250 volt) - pressions partielles de gaz Cl2 = 4.5 CH4 = 4.5 Air = 9 La figure 5a montre que l'intensité réfléchie I varie au cours du temps t, selon une allure de sinusoïde de courte période T1 (entre 2 minima) illustrée par la courbe A, en traits pleins. L'amplitude de la courbe A est en outre dé- croissante. Cette courbe admet deux enveloppes: l'enveloppe B des minima qui est une sinusoïde à période T2 longue par rap- port à T1 (T2 étant pris entre 2 minima) et l'enveloppe C des maxima qui est aussi une sinusoïde de période T2 mais dont l'amplitude est décroissante. La période courte T1 correspond dans le terme AL à la variation de dG. Chaque période de temps T1 correspond à une profondeur de gravure: P1 = A/2no = A/2 - 12 - o no est l'indice de l'air (no = 1). Si la gravure ionique commence au temps to, au bout d'un temps t1 sera gravée une profondeur dG = N1P1 = Nl.X/2 o N1 est le nombre de périodes T1 qui apparaissent entre le temps to et le temps tl. Ainsi l'évaluation de la profondeur gravée peut être faite en permanence pendant toute la durée de l'opération de gravure. Dans l'exemple cité o A = 632,8 nm T1 correspond à Pl 316 nm de matériau gravé. La période longue T2 correspond à la profondeur P2 gravée en superficie des bandes de réseau P2 = \/2nM o nM est l'indice du matériau des bandes du réseau. Si les bandes du réseau sont en silice (Si02) d'indice n 1,53 T2 correspond à P2 = 205 nm de silice gravée. Au bout d'un temps tl, la gravure aura diminué l'épaisseur des bandes du réseau d'une valeur d'M = N2P2 = N2. X/2 nM o N2 est le nombre de périodes T2 qui apparaissent entre le temps to et le temps t1. L'épaisseur de substrat 100, réellement gravée sera donnée par dG - dM. La diminution de l'amplitude de la sinusoïde A de courte période est due uniquement à la rugosité latérale úF. La figure 5a montre que úF atteint pratiquement -c au bout d'un temps t = 2000 s. (c'est à dire une amplitude nulle de la contribution (kC - F) IALI2). Or, pour un échantillon témoin sacrifié soumis à une telle gravure, la rugosité mesurée au microscope électronique à balayage est úF - 1 nm ce qui nous donne la valeur de la longueur de cohérence QC - 13 - du système optique selon l'invention. A tbut instant t, l'épaisseur IF de la rugosité sur les flancs de gravure peut alors être déduite des courbes de la figure 5a. En effet la valeur 2F-úC est proportion- * nelle à la différence des amplitudes entre la courbe B et la courbe C. Ce qui peut s'ecrire: IF - QC = K. A La constante de proportionnalité K est determiné par modélisation en tenant compte du fait que lorsque la dif- férence des amplitudes AA est maximale, la rugosité úF est minimale ou nulle ( la décroissance de l'intensité minimale de la courbe B (enve- loppe inférieure), modélisation qui tient compte du fait que la rugosité peut être simulée par une couche d'indice de ré- fraction effectif compris entre celui de l'air et celui du substrat. Cette modélisation peut être faite en mesurant au microscope électronique à balayage l'épaisseur de rugosité dR d'un ou plusieurs échantillons de référence. On pourra noter que la courbe B de la figure 5a ne montre pas de décroissance considérable, ce qui resulte du fait que les conditions de gravure sont bonnes et qu'il n'ap- paraît alors qu'une extrêmement faible rugosité au fond du sillon. Ici l'épaisseur de rugosité au fond des sillons a été estimée à 10 nm. La figure 5b montre la courbe d'intensité réflé- chie par un réseau dont les bandes sont en nitrure de silicium (Si3N4) réalisées sur un substrat constitué d'une couche mince d'arséniure de gallium et aluminium (GaAlAs) réalisée en sur- face d'arséniure de gallium (GaAs). Un simple examen des rup- tures de pente de la courbe I en fonction du temps permet de dectecter: la fin de la gravure de Si3N4 - 14 - - la fin de la gravure de AlGaAs dans les sillons. La gravure ionique est réalisée à l'aide des gaz CHF3 ou CF4. La région I de la figure 5b correspond à la gra- -05 vure de Si3N4 et AlGaAs. La région II correspond à la gravure de AlGaAs seule et la région III à la gravure de AlGaAs et GaAs. L'avantage de la méthode selon l'invention est donc la détermination directe en temps réel des 4 paramètres dG, dM, 2F et dR. La technique classique en ce domaine est l'examen a posteriori au microscope électonique à balayage de sections clivées de l'échantillon. Outre les caractères destructifs et longs de cette méthode, elle présente l'incon- vénient de ne donner que l'état final après gravure, sans pou- voir accéder à la dynamique des phénomènes. Au contraire, la méthode selon l'invention: - fournit en temps réel les évolutions de dG, dM, 2F et dR; permet de trier rapidement les mauvaises conditions de fonctionnement (en particulier les cas o dR et QF sont forts) - est interprétable par lecture directe de l'évolution de I en fonction du temps t dans le cas o dM " dG; - est bien adaptée à la situation complexe o le "substrat" est constitué de plusieurs couches minces successives. - 15 - REVENDICATIONS 1. Dispositif de test pour la mise en oeuvre d'un procédé de réalisation de dispositifs semiconducteurs incluant au moins une étape de gravure ionique réactive par plasma, ce dispositif de test comprenant un réseau optique à profil rec- tangulaire composé d'ouvertures en forme de sillons de largeur LS pratiquées dans une couche réalisée en surface d'un maté- riau dont la gravure ionique doit être contrôlée, découvrant ledit matériau et étant parallèles et régulièrement espacées par des rubans du materiau de la couche de largeur LM, et ce dispositif comprenant en outre une source lumineuse incluant un faiseau laser de longueur d'onde A éclairant le réseau op- tique sensiblement perpendiculairement à sa surface, et des moyens de détection de la lumière provenant du réseau optique incluant une photodiode, caractérisé en ce que les largeurs LS et LM respectivement des sillons et des espacements du réseau sont sensiblement égales entre- elles et d'une dimension supérieure à la longueur de cohérence QC du faisceau laser, en ce que la couche dans laquelle est réalisée le réseau op- tique est en un matériau choisi parmi une laque photorésis- tante, un composé diélectrique, un métal ou un composé métal- lique, et en ce que le matériau dont la gravure ionique doit être contrôlée est choisi parmi un composé diélectrique, un composé semiconducteur, une alternance de couches de diffé- rents matériaux semiconducteurs. 2. Disposistif de test selon la revendication 1, ca- ractérisé en ce que le faisceau laser a une longueur d'onde de 632,8 nm et en ce que les dimensions LS et LM respective- ment des sillons et des espacements du réseau sont sensible- ment égales à 2 nm. 3. Dispositif de test selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que le matériau dont la gravure ionique doit être contrôlée est un composé semiconducteur du groupe III-V. 4. Dispositif de test selon la revendication 3, caractérisé en ce que le matériau dont la gravure ionique dbit 26162 69 - 16 - être contrôlée est choisi parmi l'arséniure de galium (GaAs), l'arséniure de galium et d'aluminium (GaAlAs), le phosphure d'indium (InP), et ce que la couche dans laquelle est gravé le réseau est choisie parmi la silice (SiO2) ou la nitrure de silicium (Si3N4). 5. Procédé de réalisation de dispositifs semiconduc- teurs incluant au moins une étape de gravure ionique réactive par plasma d'une couche diélectrique ou d'une ou plusieurs couches de matériau semiconducteur par l'ouverture d'un masque, caractérisé en ce qu'un dispositif de test selon l'une des revendications 1 à 4 est disposé en surface du matériau à graver, dans une zone dépourvue de dispositifs semiconducteurs en cours d'élaboration, en ce que le réseau optique est éclairé par le faisceau laser durant toute l'étape de gravure ionique, en ce que les moyens de détection enregistrent la grandeur de l'intensité fournie en retour par le réseau durant toute l'étape de gravure ionique réactive. 6. Procédé de réalisation selon la-revendication 5, caractérisé en ce que, la courbe d'intensité réfléchie relevée durant l'action des plasmas consistant en une première courbe périodique d'amplitude décroissante de période courte T1 entre deux minima, et en deux enveloppes périodiques de cette pre- mière courbe, l'enveloppe des maxima ou enveloppe supérieure étant une courbe périodique d'amplitude décroissante et de pé- riode longue T2 entre deux minima et l'enveloppe des minima ou enveloppe inférieure étant également une courbe périodique de période longue et la gravure ayant commencé à un instant to, la commande de l'arrêt de gravure ionique intervient à un ins- tant tl, qui est choisi en fonction des données déduites des courbes qui sont:. - la profondeur totale gravée donnée par la relation dG = N1.P1 entre to et t1 o N1 est le nombre de périodes courtes T1 entre to et tl avec P1 = A/2no et no l'indice de réfraction de l'air - 17 - - la profondeur gravée dans la couche constituant le réseau donnée par d'M = Nz x P2 o N2 est le nombre de périodes longues T2 entre to et t1 avec P2 = \/2 nM et nM est l'indice de la couche constituant le réseau ou couche supérieure du système gravé; - l'épaisseur IF de la rugosité sur les flancs de gravure donnée par úF-úC = K x différence des amplitudes à un instant t entre les deux courbes enveloppes, en tenant compte du fait, pour déterminer la constante K par modélisation que: úF = 0 lorsque la différence des amplitudes est maximale et úF = QC lorsque la différence des amplitudes est nulle. -l'épaisseur dR de la rugosité au fond du sillon gravé, donnée à un instant t par la modélisation de la dé- croissance de l'intensité minimale de la courbe enveloppe in- férieure, modélisation qui tient compte du fait que la rugo- sité peut être simulée par une couche d'indice de réfraction effectif compris entre celui de l'air et celui du substrat. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé eni ce que la calibration permettant de connaître l'épaisseur úF de la rugosité à un instant donné t à partir des courbes, est faite en mesurant au microscope électronique à balayage, l'épaisseur de rugosité 2F des flancs d'un échantillon de référence réalisé dans les conditions ou 2F = úCi per- mettant de connaître QC qui estune constante du.réseau op- tique. 8. Procédé de réalisation selon l'une des revendica- tions 6 ou 7, caractérisé en ce que la modélisation pour la détermination de l'épaisseur dR de rugosité au fond du sillon gravé est faite en mesurant au microscope électronique à balayage l'épaisseur de rugosité dR d'un échantillon de référence.