FR 2615561 A1 19881125 FR 8707087 A 19870520 La présente invention concerne le génie minier et a notamment pour objet des procédés d'isolation des couches absorbantes des puits et lès dispositifs pour leur mise en oeuvre. L'invention peut être utilisée pour le sondage du pétrole et du gaz dans l'industrie d'extraction du pétrole et dans le génie minier. On connaît bien un procédé d'isolation des couches absorbantes des puits profonds (voir, par exemple, l'ouvrage "Isolation des couches absorbantes des puits profonds" par V.I.Krylov. Moscou, Nedra, 1980, pages 258 à 259) qui consiste à pomper une solution de tampon- nage à l'intérieur du train de tiges par la tête du puits. En même temps, par la solution de tamponnage on refoule les matériaux de remplissage, ls durcisseurs ou les accélérateurs de prise mis dans des enveloppes en polyéthylène ou en caoutchouc. A la sortie du train de tiges, les enveloppes sont coupées à l'aide de couteaux. On introduit dans la solution de tamponnnage des composants auxiliaires qui contribuent à accélérer le processus de prise et de durcissement. Sous l'action des accélérateurs de prise et de durcissement de la solution, les propriétés rhéologiques, structurales et mécaniques de la solution de tamponnage changent non pas d'une façon instantanée mais durant un certain temps et, de ce fait, au cours de son écoulement dans le puits au-dessous des tiges de forage et dans la couche absorbante, la solution de tamponnage se mélange inévitablement avec le fluide de lavage dans le puits et l'eau de formation dans la couche absorbante car la solution de tamponnage pénètre dans la couche absorbante principalement par ses conduites les plus drainées. La solution de tamponnage perd grandement ses propriétés de colmatage ce qui nuit à la qualité de l'isolation des couches absorbantes des puits. On connaît bien un procédé de cimentation des puits (SU, A no 1055856) consistant à laver préalablement le puits, à injecter la solution de tamponnage à l'intérieur du train de tiges par la tête du puits et à accélérer le processus de prise et de durcissement de la solution de tamponnage en réalisant les phases à plus haute et à plus petite densité par voie de séparation centrifuge de la solution de tamponnage à la sortie du train de tiges. La solution de tamponnage est mise en rotation, puis pénètre dans l'espace annulaire entre le tubage et les parois du puits. Le courant de la solution de tamponnage en rotation subit une accélération supplémentaire de sa vitesse de rotation pendant sa montée vers,la tête du puits. La vitesse de rotation de la solution de tamponnage atteint le maximum dans la zone de la section annulaire minimale comprise entre la paroi du puits et le diamètre extérieur maximal du dispositif séparateur. Il en résulte une pression élevée sur la paroi du puits. Sous l'action de cette pression, la solution de tamponnage se sépare en formant des couches caractérisées par différents rapports eau-ciment. La couche de la solution de tamponnage qui se forme à la périphérie, près de la paroi du puits,-est caractérisée par un petit rapport eau-ciment à moins haute densité, et celle qui se forme dans la zone centrale est caractérisée par un rapport eau-ciment plus important à plus haute densité. Le flux central est dévié, grace à la circulation du courant, ce qui assure la possibilité de régler le rapport eau-ciment directement dans la zone d'absorption des couches et notamment dans le cas de l'isolation des couches absorbantes à hydroconductibilité élevée. Le procédé donné ne prévoit pas le blocage du mouvement de descente de la solution de tamponnage à moins haute densité. Le mouvement ascendant de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage est donc rendu difficile par un obstacle se trouvant sur le trajet du courant de la solution de tamponnage et constitué par une gaine ayant la forme d'un paraboloide de révolution, dont la section transversale croît vers le haut. En résultat, la phase à plus haute densité de la solution de tamponnage se mélange de nouveau intensément avec la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage, ce qui nuit à l'efficacité de l'isolation des couches absorbantes. Le mélange le plus poussé de la phase à haute densité et de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage se produit dans le cas de l'isolation des couches absorbantes à perméabilité élevée. On connatt bien, aussi, un dispositif de cimentation des puits (SU, A No 1055856) comprenant un corps relié à l'extrémité inférieure du train de tiges par-un raccord de réduction ayant un canal axial et au moins un canal latéral de circulation pour la séparation -de la solution de tamponnage. Le canal de circulation est pratiqué sur la surface extérieure du corps suivant une hélice et relie le canal axial à l'espace annulaire entre le tubage et les parois du puits o se déroule la séparation centrifuge de la solution de tamponnage. Le corps comporte également une gaine, dont la surface extérieure, audessus du canal latéral de circulation, est réalisée sous la forme d'un parabololde de révolution, dont la section transversale augmente vers le haut. Pour assurer la rotation efficace du courant de liquide de tamponnage, il faut créer une différence importante de pression dans les canaux hélicoïdaux de circulation. A cet effet, il est nécessaire que l'étendue de ces canaux soit grande et que la section transversale soit petite, ce qui n'est pas désirable au point de vue de la technologie de la fabrication, rend plus sévères les exigences, quant à l'équipement de cimentation (collecteur, train de tiges) et augmente le danger lors de l'exécution des travaux d'isolation de la couche absorbante. La section transversale du courant de la solution de tamponnage diminue grandement dans l'espace annulaire qui décroît vers le haut et qui est compris entre les parois du puits et la gaine du dispositif réalisée sous la forme d'un parabololde de révolution; cela provoque le tourbillonnement élevé du courant de la solution de tamponnage et complique le processus de séparation centrifuge de cette solution. De plus, la diminution de la section transversale du courant - ascendant de la solution de tamnponnage dans l'espace entre le tubage et les parois du puits aboutit à l'augmentation de la pression agissant sur la couche absorbante, ce qui limite la possibilité d'augmenter la vitesse de rotation du courant de la solution de tamponnage, notamment dans le cas de l'isolation de couches absorbantes à perméabilité élevée, rend plus prononcé le mouvement de descente de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage et sa pénétration dans la coucheabsorbante ainsi que son mélange avec sa phase à plus haute densité. La réalisation d'un dispositif comportant un seul canal de circulation ne permet pas d'assurer l'équilibrage dynamique du dispositif et, de ce fait, la position stable concentrique du dispositif dans le puits. On s'est donc proposé de créer un procédé d'isolation des couches absorbantes des puits et un dispositif pour sa mise en oeuvre, dans lequel la dérivation d'une des phases de la solution de tamponnage permet d'élever la qualité de l'isolation des couches absorbantes. Le problème ainsi posé est résolu à l'aide d'un procédé d'isolation des couches absorbantes des puits consistant à injecter la solution detamponnage à l'intérieur dutrain de tiges par la tête du puits, à accélérer le processus de prise et de durcissement de la solution de tamponnage, à obtenir les phases à moins haute et à plus haute densité de la solution de tamponnage par sa séparation centrifuge à la sortie-'du train de tiges, caractérisé en ce que la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage que l'on veut séparer est dirigée, par l'espace entre le tubage et les parois du puits, au-dessus de la zone d'absorption des couches absorbantes, vers la tête du puits. Le problème ainsi posé est également résolu à l'aide d'un dispositif pour la mise en oeuvre du procédé d'isolation des couches absorbantes des puits comportant un corps couplé à l'extrémité inférieure du train de tiges par un raccord de réduction (de masses-tiges), dont la surface latérale présente des canaux de circulation de la solution de tamponnage, caractérisé en ce que la partie supérieure du corps représente un diffuseur comportant des tronçons cylindriques à ses faces d'about, la face d'about inférieure de la partie cylindrique inférieure porte une tubulure avec un embout disposée coaxialement par rapport au corps, en ce que lesdits canaux de circulation de la solution de tamponnage pratiqués sur le tronçon cylindrique inférieur du diffuseur sont disposés régulièrement suivant sa circonférence et ont une forme hélicotangentielle et le tronçon cylindrique supérieur du diffuseur porte un orifice recevant le bout coudé du tuyau de dérivation, disposé coaxialement par rapport au corps et mis en communication avec la tubulure. Afin d'améliorer les conditions de circulation du courant ascendant de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage et d'interdire le passage de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage par la couche absorbante, il est avantageux que les diamètres respectifs D1, D2 et D3 de la partie inférieure du corps, du tronçon cylindrique supérieur du diffuseur et du raccord soient liés par un rapport tel que D2 2 3 D1. Afin d'améliorer encore les conditions de passage du courant ascendant de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage, il est avantageux de fixer des plaques verticales de guidage sur la surface extérieure cylindrique du raccord. L'application de la présente invention permet d'élever la qualité de l'isolation des couches absorbantes, de simplifier le processus d'isolation des couches absorbantes, notamment des zones à absorption intense de la solution en cas de sondage de puits dans l'épaisseur de roches fissurées et caverneuses, caractérisées par une hétérogénéité et une hydroconductibilité élevées. L'invention sera mieux comprise et d'autres buts, détails et avantages de celle-ci apparaîtront mieux à la lumière de la description explicative qui va suivre de différents modes de réalisation non limitatifs du procédé et du dispositif d'isolation des couches absorbantes des puits, avec références aux dessins non limitatifs annexés dans lesquels: - la figure 1 représente, en coupe longitudinale partielle, un dispositif d'isolation des couches absorbantes des puits conforme à l'invention; et - la figure 2 est une coupe transversale suivant la ligne II - II de la figure 1, conformément à- l'invention. Le procédé d'isolation des couches absorbantes des puits est mis en oeuvre au moyen d'un dispositif comportant un corps 1 (figure 1) couplé par un raccord 2 à l'extrémité inférieure 3 du train de tiges 4 se trouvant dans un puits 5 au niveau d'une couche absorbante 6. Le corps i présente une partie supérieure 7 et une partie cylindrique inférieure 8. La partie supérieure 7 du corps 1 fait fonction de diffuseur 9 comportant deux tronçons cylindriques 10 et 11 disposés sur les faces d'about supérieure et inférieure du diffuseur 9 respectivement. Dans la paroi latérale 12 du tronçon cylindrique 10, on a pratiqué un orifice 13. Dans la paroi latérale du tronçon cylindrique inférieur 11, sont pratiqués des canaux 14 (figures 1, 2) pour la circulation de la solution de tamponnage, ayant une forme hélicotangentielle et disposés régulièrement suivant la circonférence du tronçon 11. Des visières de guidage 15 sont fixées sur la surface extérieure du tronçon cylindrique inférieur 11 au niveau de débouché des canaux 14. Le diffuseur 9 (figure 1) portant les canaux 14 de circulation de la solution de tamponnage et les visières de guidage 15 constitue l'ensemble séparateur du- dispositif. La surface extérieure du tronçon cylindrique inférieur 8 du corps 1 présente un chanfrein 16 assurant le passage du dispositif dans le puits 5. La face d'about inférieure de la partie 8 du corps 1 porte une tubulure 17 terminée par un embout 18, dont la ligne axiale coincide avec la ligne axiale 19 du corps 1. De plus, le dispositif comporte un tuyau de dérivation 20, disposé coaxialement par rapport au corps 1, destiné à assurer l'éjection de la phase 21 à moins haute densité de la solution de tamponnage, dont le bout coudé 22 est engagé dans l'orifice 13 et dont l'autre bout 23 est raccordé à la tubulure 17. La partie inférieure 8 du corps 1, la tubulure 17, l'embout 18 et le tuyau de dérivation 20, dont le bout coudé passe par l'orifice 13 du tronçon cylindrique supérieur 10 du diffuseur 9, constituent l'ensemble éjecteur du dispositif. Les diamètres intérieurs d1, d3, d2 de la tubulure 17, de l'embout 18 et du tuyau de dérivation 20 sont liés par un rapport tel que: d1> d3 > d2. Ce rapport assure le taux requis de séparation de la solution de tamponnage, un effet d'éjection suffisant, une pression hydraulique minimale à l'éjection, du puits 5, du fluide de lavage au début du processus d'isolation, de la phase 21 de la solution de tamponnage dont la densité est inférieure à celle de l'eau de formation arrivant dans le puits 5 depuis la couche absorbante 6, principalement de la zone centrale du puits au-dessous du dispositif, vers l'espace 24 entre le tubage et les parois au-dessus des couches absorbantes 6. Le diamètre extérieur D3 du tuyau 20 de dérivation est choisi compte tenu de la condition imposant d'assurer une section de passage suffisante pour l'écoulement de la solution de tamponnage par la cavité intérieure du tronçon cylindrique supérieur 10 du diffuseur 9 dans la direction des canaux 14 hélicotangentiels. Les diamètres extérieurs D1, D2, D3 de la partie inférieure 8 du corps 1, du tronçon cylindrique supérieur 10 du diffuseur 9 et du raccord de réduction 2 respectivement sont liés par un rapport tel que D2 - Ce rapport est choisi en vue d'obtenir, compte tenu de la condition selon laquelle les espacements radiaux cf 1' 2' 3 entre la paroi 25 du puits 5 et la surface extérieure respective de la partie inférieure 8 du corps 1, du tronçon cylindrique supérieur 10 du diffuseur 9 et du raccord 2, doivent asurer un espace annulaire nécessaire pour réaliser le processus de séparation de la solution de tamponnage, une pression abaissée dans la zone de l'orifice radial 13 du tronçon cylindrique supérieur 10 du diffuseur 9 afin de réaliser le processus d'éjection du fluide se trouvant dans le puits au-dessous du dispositif, et d'interdire la descente de la phase 21 à moins haute densité de la solution de tamponnage par l'espacement radial 1 dans la zone de la couche absorbante 6. Pour améliorer les conditions de passage du courant ascendant de la phase 21 à moins haute densité de la solution de tamponnage, des plaques verticales de guidage 26 sont fixées sur la surface cylindrique extérieure du raccord de réduction 2 vers la tête du puits 5. Le procédé d'isolation des couches absorbantes des puits consiste en ce qui suit. Dans la zone de la tête du puits 5 (figure 1) des mélangeurs pour ciment (non représentés sur la figure) préparent, à partir de ciment et d'eau, la solution de tamponnage injectée à l'aide des pompes des unités de cimentation (non représentées sur la figure) à l'intérieur du train 4 de tiges par la tête du puits. La solution de tamponnage traverse le train 4 de tiges, la partie supérieure 7 du corps 1 du dispositif et la partie inférieure 8 du corps 1 du dispositif. Ensuite, le courant de la solution de tamponnage passe à grande vitesse par les canaux 14 de circulation de la solution de tamponnage et les visières de guidage 15 (figure 2) et acquiert un mouvement de rotation intense dans l'espace 24 (figure 1) entre les parois extérieures du diffuseur 9 et les parois 25 du puits 5. Sous l'action des forces centrifuges, les particules de la phase solide 27 (ciment) de la solution de tamponnage, présentant une densité supérieure de plusieurs fois à celle de la phase liquide 21 d'une densité inférieure, par exemple l'eau, de la solution de- tamponnage, sont projetées à la périphérie de l'espace 24 entre le tubage et les parois, vers les parois 25 du puits 5. La phase liquide 21 occupe principalement la zone à proximité des parois extérieures du diffuseur 9. La concentration du ciment de la solution de tamponnage croit au fur et à mesure de l'augmentation du rayon de rotation de la solution de tamponnage. La phase 27 à plus haute densité de la solution de tamponnage se concentra à proximité des parois 25 du puits 5 en formant une couche, ce qui est conventionnellement représenté sur la figure 1, par une couche de ciment déposée sur la paroi 25 du puits 5. Sous l'action de la force de gravité, la phase 27 à plus haute densité de la solution de tamponnage se précipite en bas, vers la couche absorbante 6, par l'espacement annulaire entre la surface extérieure de la partie inférieure 8 du corps 1 et les parois 25 du puits 5 (le sens de mouvement est indiqué par des flèches). Elle présente des propriétés de prise et de durcissement rapide et, de ce fait, ne se mélange presque pas avec l'eau de formation. De la sorte, on contribue à accélérer le processus de prise et de durcissement de la solution de tamponnage. La couche de la phase 21 à moins haute densité de la solution de tamponnage est chassée dans l'espace 24 entre le tubage et les parois, au-dessus du diffuseur 9. La rotation intense de la solution de tamponnage dans l'espace 24 entre le tubage et les parois du puits 5 provoque la formation d'une pression réduite dans la zone de l'orifice 13 du tronçon cylindrique supérieur du diffuseur 9 et la phase 21 à moins haute densité de la solution de tamponnage que l'on veut séparer est dirigée par cet espace 24, au-dessus de la zone d'absorption des couches 6, vers la tête du puits 5. A la phase initiale de l'isolation des couches absorbantes 6, on réalise l'éjection décrite du fluide de lavage et de l'eau de formation qui peuvent se mélanger avec la phase 27 à plus haute densité de la solution de tamponnage. Ultérieurement, on réalise l'éjection de la phase 21 à moins haute densité, qui s'écoule le long des plaques de guidage 26 vers la tête du puits 5. Dans le cas o la phase 21 à moins haute densité arrive à descendre par l'espace annulaire o' 1' elle occupe la zone centrale du puits par suite de la rotation intense et est inévitablement éjectée, via l'embout 18, la tubulure 17, le tuyau de dérivation 20 et l'orifice 13 du tronçon cylindrique supérieur 10 du diffuseur 9, dans l'espace 24 entre le tubage et les parois du puits 5, au-dessus de la couche absorbante 6, vers la tête du puits 5. A la sortie du dispositif et dans la zone de séparation centrifuge ainsi que dans la zone de la couche absorbante 6 et dans cette couche elle-même, la solution de tamponnage ne se mélange presque pas avec le fluide de lavage ni avec l'eau de formation. Le courant de la solution detamponnage acquiert des propriétés d'élasticité et une surpression se forme sur les parois du puits 5, ce qui contribue à la substitution frontale plus régulière de l'eau de formation par la solution de tamponnage. L'efficacité du processus d'isolation de la couche absorbante 6 est fonction du taux de séparation de la solution de tamponnage en ses phases 27, 21 à plus haute et à moins haute densité et de l'éjection de la phase 21 à moins haute densité, qui sont caractérisées respectivement par le coefficient de séparation et le coefficient d'éjection. La possibilité de régler les coefficients de séparation et d'éjection ainsi que les coefficients de fréquence de rotation du courant de la solution de tamponnage et de surpression sur les parois du puits permet de contr8ler le processus d'isolation des couches absorbantes en réglant les paramètres de la solution de tamponnage injectée par la tête du puits 5. La composition de la solution de tamponnage peut comprendre, en plus du ciment et de l'eau, des substances inertes de remplissage, des accélérateurs de prise de la solution de tamponnage, des polymères ou autres matériaux qui se coagulent dans la couche absorbante 6, notamment dans le cas du tamponnage des conduites d'absorption à ouverture supérieure à 10 mm. Le coefficient de séparation de la solution de tamponnage peut être trouvé à l'aide de la formule: I 2 1 - 2 Ki = ' (1) ) 1 - 3 o: 1 est la densité de la solution de tamponnage initiale, J2 est la densité de la phase à moins haute densité de la solution de tamponnage à éjecter et est la densité de l'eau de gâchage (de l'obturateur hydraulique). Le coefficient d'éjection de la phase 21 à moins haute densité peut être trouvé à l'aide de la formule: Q2 K2 = -- (2) Q1 o Q1 est la consommation de la solution de tamponnage débitée par la tête du puits 5, Q2 est le débit de la solution de tamponnage éjectée. Pour un calibre de forage donné et des caractéristiques données de la couche absorbante 6, les coefficients de séparation et d'éjection sont fonction des dimensions de diamètre de l'ensemble séparateur et de l'ensemble éjecteur du dispositif, de la densité de la solution de tamponnage initiale, et de la consommation de la solution de tamponnage débitée par la tête du puits 5. Ces coefficients sont établis empiriquement. Les caractéristiques de la couche absorbante concernant son épaisseur, la répartition des conduites suivant son épaisseur, l'ouverture des conduites indiquées, l'injectivité spécifique, sont déterminées à l'aide de la formule A Q dans laquelle À Q est la con- Ph sommation de la solution de tamponnage par la couche absorbante, P est la pression dans le puits et h est l'épaisseur de la couche absorbante. Les coefficients de séparation et d'éjection étant établis, la densité de la phase à plus haute densité P 4 de la solution de tamponnage, obtenue au moyen de la séparation centrifuge, est trouvée d'après la formule: 1 - K2 1 Y, l(1 =904. 1';(5) M+ ml o I& (4) 1+ ml fa3 m1 est le rapport ciment-eau de la solution initiale de tamponnage P> est la densité du ciment sec. La densité f de la solution initiale de tamponnage peut être trouvée d'après la formule: (1 + m1)Jf3 5 = (6) 1- S m 1 établie empiriquement. Compte tenu de la caractéristique de la couche absorbante, on choisit le rapport ciment-eau m2 requis de la phase à plus haute densité de la solution de tamponnage permettant d'éviter le coulage de cette solution dans la profondeur de la couche absorbante 6 et d'obtenir un écran de ciment continu et solide. Ainsi, m2 étant égal à 0,2, la majorité des ciments de tamponnage forment une pâte épaisse, peu mouvante, à prise rapide. La densité de la phase 27 à plus haute densité peut 8tre trouvée à l'aide de la formule: (1 + m2).F 3 f)5 4 (7) 3 + m2f5 La densité requise de la solution de tamponnage initiale est trouvée à l'aide de la formule (8): 1 - K2 1= (8) 1 - K2 (1 - K1 (1 -.,) Le rapport ciment-eau ml de la solution initiale de tamponnage est calculé d'après la formule (6): (y5 - 1) 3 m1= À (9) (Pz1 -/3) 5 La valeur de la surpression Pl agissant sur les parois du puits 5 et due à la rotation du courant de la solution de tamponnage peut être trouvée à l'aide de la formule: Q P i, 1 P1 = I (10) 2n S dans laquelle n et S sont respectivement le nombre et la surface de la section transversale des canaux hélicotangentiels 14 de circulation de la solution de tamponnage. Exemple A la mise en oeuvre du procédé d'isolation de couches absorbantes, on a mesuré les paramètres suivants: consommation de la solution de tamponnage débitée par la tête du puits, Q1 - 0,01 m3/s. Débit de la solution de tamponnage éjectée vers la tête du puits, mesuré par un procédé volumétrique, Q2 = 0,004 m3/s. La solution de tamponnage a été préparée à partir de ciment Portland d'une densité -5 = 3050 kg/m pour un rapport ciment-eau m1 = 0,5. Densité de l'eau de gâchage,3 3 = 1000 kg/m. Densité de la solution initiale de tamponnageO 1 = 1800 kg/m3. Densité de la solution de tamponnage éjectée, mesurée à l'aide d'un aréomètre, -P2 = 1350 kg/m3. En appliquant les formules (1) et (2), on a trouvé les coefficients de séparation et d'éjection suivants, respectivement: K1 = 0,5625, K2 = 0,4. Pour isoler une couche absorbante, concrète il faut obtenir, dans cette dernière, une solution de tamponnage à un rapport ciment-eau m2 = 0,25. La densité de la solution de tamponnage à m2 0,25 est calculée d'après la formule (7): P4 = 2163 kg/m. En appliquant les formules (5) et (6), on obtient: o/- = 0,3279, J = 0,5519. La densité requise de la solution de tamponnage est calculée d'après la formule (8): 11 = 1854 kg/m3. La solution initiale préparée de tamponnage doit avoir le rapport cimenteau trouvé à l'aide de la formule (9): m1 = 0,46. La valeur de la surpression agissant sur les parois du puits et due à la rotation du courant de la solution de tamponnage, pour un diamètre du puits D = 0,1905 m, un nombre de canaux de circulation de la solution de tamponnage n = 2, une surface de la section -4 2 transversale des canaux S = 1,77.104 m2, une consommation de la solution de tamponnage Q1 = 0,01 m3/s et une densité de la solution initiale de tamponnage 1 = 1900 kg/m, doit être égale à: P = 1,37 mPa. A la mise en oeuvre du procédé donné d'isolation des couches absorbantes de puits, on forme une solution tampon plus homogène comportant une phase liquide minimale et permettant, dans les conditions d'un contact limité avec l'eau de formation de la couche absorbante, d'obtenir un ciment durci homogène de tamnponnage, présentant une quantité réduite de pores de petites dimensions, une résistance et une plasticité élevées. Le procédé permet de chasser plus complètement le fluide de lavage et les déblais de la zone voisine des parois du puits, des cavernes, des zones de stagnation et, par conséquent, d'élever l'efficacité et la qualité de l'isolation des couches absorbantes de grande épaisseur dans lesquelles s'opèrent l'absorption de la solution de tamponnage par la semelle et le mélange de la solution de tamponnage avec l'eau de formation déplacée du toit de la couche absorbante. Le dispositif pour la mise en oeuvre du procédé est simple de construction, compact et fiable en fonctionnement. Sa fabrication est technologique. - Le procédé revendiqué permet de simplifier la procédure d'isolation des couches absorbantes, de réduire de 2 à 3 fois la consommation des matériaux et de 2 à 5 fois le temps d'isolation des couches absorbantes. R E V E N D I C A T IONS 1. Procédé d'isolation des couches absorbantes de puits consistant à injecter la solution de tamponnage à l'intérieur d'un train de tiges par la tête de puits, à accélérer le processus de prise et de durcissement de la solution de tamponage en réalisant des phases à plus haute et à moins haute densité par voie de séparation centrifuge de la solution de tamponnage à la sortie du train de tiges, caractérisé en ce que la phase (21) à moins haute densité de la solution de tamponnage que l'on veut séparer est dirigée par un espace (24) entre le tubage et les parois du puits (5), au-dessus de la zone d'absorption des couches abssorbantes, vers la tête du puits (5). 2. Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon la revendication 1, du type comportant un corps couplé à l'extrémité inférieure du train de tiges par un raccord, et dont la surface latérale présente des canaux de circulation de la solution de tamponnage, caractérisé en ce que le corps (1) comporte une partie supérieure (7) réalisée sous forme d'un diffuseur (9) présentant des tronçons cylindriques (10, 11) à ses faces d'about, et une partie cylindrique inférieure (8) dans la face d'about inférieure de laquelle est disposée, coaxialement par rapport au corps (1), une tubulure (17) avec un embout (18), les canaux (14) de circulation de la solution de tamponnage pratiqués sur le tronçon cylindrique inférieur (11) du diffuseur (9) étant disposés régulièrement suivant sa circonférence et ayant une forme hélicotangentielle, et le tronçon cylindrique supérieur (10) du diffuseur (9) porte un orifice (13) dans lequel est placé le bout coudé (22) d'un tuyau de dérivation (20) disposé coaxialement par rapport au corps (1) et mis en communication avec la tubulure (17). 3. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé en ce que les diamètres extérieurs D1, D2 et D3 de la partie inférieure (8) du corps (1) , du tronçon cylindrique supérieur (10) du diffuseur (9) et du raccord (2) respectivement sont liés par un rapport tel que D2 D3 4. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 2 ou 3, caractérisé en ce que des plaques verticales de guidage (26) sont fixées à la surface cylindrique extérieure du raccord (2) précité.