FR 2599052 A1 19871127 FR 8607475 A 19860526 Procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique Actuellement, il n'existe que peu de solutions vraiment fiables pour traiter-électrolytiquement le titane. La plus utilisée est celle qui consiste à décaper le titane dans 5 de l'acide chlorhydrique pur à 90 C puis à faire un passage dans de l'acide sulfo-chlorydrique. Mais avec cette solution il apparaît plus de 50 % de défauts d'adhérence sur la matière de base, provoqués par l'oxydation rapide du titane. L'invention a pour objet de pallier ces inconvénients. L'invention propose, en effet, un procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique, caractérisé en ce qu'il comprend une étape de décapage avec de l'acide sulfurique à 95 % RP, la température de bain étant comprise entre 30 C et 80 C, la concentration étant comprise entre 20 et 80 % dans de l'eau, le temps d'immersion étant 15 compris entre 30 secondes et 5 minutes. Plus précisément le procédé d'invention comprend les étapes suivantes: dégraissage chimique puis rinçages; dégraissage électrolytique puis rinçages; 20. décapage avec de l'acide sulfurique à 95 % RP puis rinçages rapides. dépôt d'une sous-couche de nickel; À dép8t d'une couche finale (or, argent...). Le nouveau procédé consiste donc en un changement de décapage 25 qui garantit un taux de réussite de l'ordre de de 99 %, et qui répond aux exigences sévères des normes imposées sur les équipements spatiaux: notamment le respect d'une bonne adhérence aux températures comprises entre - 100 C et + 260 C. De plus ce procédé réduit considérablement le temps de main30 d'oeuvre (de l'ordre de 30 %), et les coûts matières (de l'ordre de %). Les caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront d'ailleurs de la description qui va suivre, à titre d'exemple non limitatif. Dans le domaine aérospatial, notamment, le titane est utilisé comme support en microélectrique en couche mince ou épaisse sur céramique, en raison de différentes propriétés spécifiques: en effet il présente des qualités de légèreté, d'amagnétisme. De plus son -2 coefficient de dilatation est adapté à celui des céramiques que l'on veut souder dessus. Mais une soudure de la céramique sur du titane n'est pas possible à basse température. On réalise donc un dép8t métallique (or, 5 argent....) à sa surface. Ce qui permet d'obtenir en hautes fréquences une excellente conductibilité électrique superficielle. Le procédé de l'invention consiste en un décapage appliqué à la nuance titane T40. Ce décapage présente les caractéristiques suivantes: 10. nature du produit de décapage: acide sulfurique 95 % RP ("recta pur"); À température du bain: 30 à 800 C; À concentration: 20 à 80 % dans de l'eau; À temps d'immersion: 30 secondes à 5 minutes. Il est bien entendu que l'application de ce décapage à une nuance quelconque de titane, fait partie du cadre de la présente invention. Un tel traitement permet de pallier le défaut d'adhérence d'une sous-couche de nickel sur du titane. Il permet d'améliorer l'adhérence d'un dép8t électrolytique d'un métal tel que de l'or, de l'argent, ou 20 du cuivre.... sur cette sous couche d'accrochage réalisée en nickel. Un tel procédé peut être utilisé, notamment, dans le domaine de l'industrie aéro-spatiale. Le traitement du titane comporte donc les étapes suivantes: dégraissage chimique puis rinçages; 25. dégraissage électrolytique puis rinçages; décapage suivant le procédé de l'invention puis rinçages rapides (entre 15 et 20 secondes); dépt d'une sous-couche de nickel: - par nickelage électrolytique mat (plonger les pièces sous 30 tension dans le bain, par exemple avec 3 ampère par dm2); - ou par nickelage chimique dép8t éventuel d'une couche métallique finale telle que: or, argent, cuivre..... Il est bien entendu que la présente invention n'a été décrite et 35 représentée qu'à titre d'exemple préférentiel et que l'on pourra remplacer ses éléments constitutifs par des éléments équivalents sans, pour autant, sortir du cadre de l'invention. - 3 REVENDICATIONS 1/ Procédé de dépôt métallique sur titane par voie électrolytique caractérisé en ce qu'il comprend une étape de décapage avee de l'acide sulfurique à 95 % RP, la température de bain étant comprise entre 300C 5 et 80oC, la concentration étant comprise entre 20 et 80 % dans de l'eau, le temps d'immersion étant compris entre 30 secondes et 5 minutes. 2/ Procédé selon la revendication 1, comprenant les étapes suivantes: dégraissage chimique puis ringages; 10. dégraissage électrolytique puis rinçages; dépôt d'une sous-couche de nickel; dépôt d'une couche finale, caractérisé en ce qu'avant le dépôt de la sous-couche de nickel ledit procédé comprend une étape de décapage selon la revendication 1 15 suivie de rinçages rapides. 3/ Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le dépôt d'une sous-couche de nickel est réalisé par nickelage électrolytique. 4/ Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le dépôt d'une sous-couche de nickel est réalisé par nickelage chimique. 5/ Procédé selon l'une quelquonque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le titane est un titane T 40.