FR 2594529 A1 19870821 FR 8602239 A 19860219 La présente invention est relative à un appareil pour traitements thermiques de pièces minces, telles que des plaquettes ou pastilles de silicium ou puces, notoire- ment appelées "wafers" ou "chips", selon la terminologie anglo-saxonne, et utilisées dans le domaine de la micro- électronique, Dans ce type de traitements, on utilise souvent comme source thermique des sources lumineuses, et ce en raison de l'inertie thermique quasi-inexistante de ce type de sources qui permettent ainsi un contrôle optimum du cycle thermique, par exemple, en maîtrisant mieux certains aspects des échanges thermiques solide/solide. Il s'agit de sources lumineuses de très forte puis- sance, et ce en raison des niveaux et des temps de montée en température qu'il est souhaitable d'atteindre dans ce type de traitements thermiques. Or, la nécessité d'obtenir des températures unifor- mément distribuées dans les pièces à traiter -ce qui s'im- pose pour limiter les contraintes thermomécaniques et les défauts qui en découleraient dans ces pièces- pose des pro- blèmes très délicats de mise en oeuvre. Un moyen utilisé à cet effet consiste à générer un faisceau de rayon lumineux parallèles à l'aide d'un miroir, par exemple parabolique, ayant la taille de la pièce à trai- ter. Cela implique l'utilisation d'une source lumineuse ponctuelle disposée au foyer du miroir, à savoir d'une lampe à arc dont le coût très élevé, la mise en oeuvre dif- ficile et la faible durée de vie limitent considérablement les applications industrielles. Il existe aussi des appareils de traitements thermi- ques utilisant des sources lumineuses linéaires, dont le coût et la facilité d'exploitation sont sans commune mesure plus intéressants que dans le cas des lampes à arc: il s'agit, notoirement, des lampes dites "tungstène-halogène" (à savoir, de lampes à incandescence à filament de tungstène et aux halogènes, ces derniers étant utilisés pour diminuer le noircissement de l'ampoule ou du tube qui contient le filament, cf. en particulier la revue SEMICONDUCTOR INTER- NATIONAL/79, n de mai 1985). Toutefois, dans ce type d'appareils, l'uniformité des températures est obtenue en disposant les lampes "tungs- tène-halogène" au voisinage de ces pièces, ce qui limite les traitements thermiques qu'on peut effectuer sur ces derniè- res à des traitements à la pression ambiante, comme le re- cuit par exemple. La présente invention a en conséquence pour but de pourvoir à un appareil pour traitements thermiques de piè- ces minces, telles que des plaquettes de silicium, du type utilisant comme source thermique des lampes linéaires de très forte puissance, telles que des lampes "tungstène- halogène", qui répond mieux aux nécessités de la pratique que les appareils visant au même but, antérieurement connus, notamment en ce qu'on peut effectuer des traitements ther- miques autres que le recuit à la pression ambiante et, d'une façon générale, tout traitement nécessitant la création de conditions ambiantes particulières autour des pièces à traiter, par exemple sous pression ou sous vide, tout en assurant la nécessaire uniformité des températures des pièces. La présente invention a pour objet un appareil pour le traitement thermique d'au moins une pièce mince,telle qu'une plaquette de silicium, du type comprenant une source thermique lumineuse, de préférence constituée par des lam- pes linéaires de très forte puissance unitaire, telles que des lampes "tungstène-halogène", et une enceinte contenant la pièce ou les pièces à traiter et dont l'axe de symétrie géométrique coincide avec l'axe de symétrie optique de ladite source thermique lumineuse, lequel appareil est caractérisé en ce qu'il comporte à l'intérieur de l'en- ceinte une chambre permettant de créer autour de la pièce ou des pièces à traiter des conditions particulières de traitement thermique, notamment sous pression ou sous vide ou dans une atmosphère d'un gaz approprié, laquelle chambre de traitement présente son axe de symétrie géométrique cofn- cidant avec ledit axe optique et comporte des moyens assu- rant l'étanchéité par rapport à l'enceinte qui la contient, et en ce que dans la chambre de traitement est disposé un moyen de compensation des pertes thermiques de la pièce ou des pièces à traiter, à savoir des pertes par les faces et la petite paroi latérale (pertes surfaciques ou axiales et pertes d'extrémité ou radiales) de cette pièce ou de ces pièces, permettant ainsi de maintenir sensiblement uniforme sa température ou leur température. Selon un mode de réalisation avantageux de l'appa- reil conforme à l'invention, la chambre de traitement com- porte un moyen d'accès à cette chambre et est délimitée par la paroi latérale et le fond de l'enceinte ainsi que par un hublot, de préférence cylindrique, réalisé en silice et entièrement poli, ayant un diamètre et une épaisseur appro- priés et interposé entre la source et la pièce ou les piè- ces à traiter et dont l'axe coincide avec l'axe optique de la source et l'axe de l'enceinte, celle-ci aussi de préfé- rence cylindrique. Selon une disposition avantageuse de ce mode de réalisation, ledit moyen d'accès à la chambre de traitement est constitué par le fond même de ladite enceinte, lequel fond est amovible et fixé àla base de l'enceinte à l'aide de moyens de fixation détachable. Selon une modalité avantageuse de cette disposition, les moyens de fixation détachable du fond à la base de l'en- ceinte sont constitués par une pluralité de vis réalisées en un matériau ayant un coefficient de dilation thermique pra- tiquement négligeable, un joint d'étanchéité en matériau approprié, tel que du graphite expansé, étant disposé entre ledit fond et ladite base de l'enceinte. Selon une variante préférée de cette disposition, ledit moyen d'accès à la chambre de traitement est consti- tué par le fond lui-même, lequel fond coopère avec des moyens d'ouverture et de fermeture rapides, autorisant ainsi une augmentation des cadences de fonctionnement. Selon une autre disposition avantageuse de l'appa- reil conforme à l'invention, la paroi latérale de l'enceinte comporte un siège sur lequel prend appui le hublot, ce der- nier étant maintenu en position par l'intermédiaire d'une bride de fixation qui serre le hublot contre son siège à l'aide d'une pluralité de vis réalisées en un matériau ayant un coefficient de dilatation thermique pratiquement négligeable, entre ledit siège et le hublot et ce dernier et la bride de fixation étant disposé, respectivement, un joint d'étanchéité en matériau approprié, tel que du gra- phite expansé. Selon un mode de réalisation avantageux de l'appa- reil conforme à l'invention, celui-ci comporte des moyens de conditionnement thermique destinés à limiter la montée en température du hublot. Selon une disposition avantageuse de ce mode de réalisation, lesdits moyens de conditionnement thermique du hublot sont constitués par un circuit traversé par un fluide thermostats approprié, notamment constitué par de l'huile issue d'un bain thermostaté, et comportant des chemises de conditionnement ménagées dans l'enceinte, à la périphérie du hublot et autour des vis de serrage de ladite bride de fixation. Selon un autre mode de réalisation préféré de l'ap- pareil conforme à l'invention, le moyen de compensation des pertes thermiques par la surface périphérique de la pièce ou des pièces à traiter est constitué par un réflec- teur annulaire placé dans le volume de confinement entou- rant la pièce ou les pièces à traiter, le diamètre interne et la hauteur de ce réflecteur annulaire étant choisis de telle sorte qu'il n'y ait pas occultation partielle de la source pour chaque élément de surface de la pièce ou des pièces à traiter. Selon une disposition préférée de ce mode de réali- sation, ledit réflecteur de compensation thermique est cons- titué par un clinquant qui est doré sur sa face interne et dont la configuration annulaire est obtenue par roulage et est maintenue par serrage à l'aide d'une bague inoxydable et d'épaisseur appropriée. Selon une autre disposition avantageuse de ce mode de réalisation, la pièce ou les pièces à traiter est ou sont maintenue(s) par des moyens de support et de centrage par rapport au réflecteur de compensation thermique. Selon une modalité avantageuse de cette disposition, le moyen de support et de centrage est constitué par trois plots à calotte sphérique, permettant de réduire au minimum le contact avec la pièce ou les pièces à traiter et donc d'influencer le moins possible les échanges thermiques de celle-ci ou de celles-ci, chaque plot coopérant avec un moyen de butée latérale de centrage faisant saillie vers le haut à partir de la paroi latérale externe du plot. Selon un autre mode de réalisation avantageux de l'appareil conforme à l'invention, ladite source est cons- tituée par plusieurs rangées ou nappes parallèles de lampes "tungstènehalogène", deux lampes consécutives de chaque rangée étant séparées d'un pas (ou distance) approprié et les rangées étant décalées d'un demi-pas et étant disposées à une distance appropriée l'une par rapport à l'autre, la source lumineuse ainsi constituée étant logée dans un capo- tage en tôle, auquel est fixée ladite enceinte par tous moyens appropriés et qui est refroidi par des ventilateurs. Selon une disposition avantageuse de ce mode de réalisation, la source lumineuse coopère avec un réflecteur doré, logé dans ledit capotage, qui est destiné à améliorer son rendement lumineux et est disposé au-dessus et autour de cette source de manière que son axe coincide avec l'axe optique de cette dernière, ce réflecteur étant refroidi par circulation d'un fluide approprié, notamment d'eau. Outre les dispositions qui précèdent, l'invention comprend encore d'autres dispositions, qui ressortiront de la description qui va suivre. L'invention sera mieux comprise à l'aide du complé- ment de description qui va suivre qui se réfère aux dessins annexés dans lesquels: - la figure 1 est une vue schématique en section et avec arrachements partiels montrant un mode non limitatif de réalisation de l'appareil conforme à l'invention; la figure 2 est une vue également en section du réflecteur de compensation thermique selon l'invention, qui a été représenté à une échelle plus grande que celle utili- sée dans la figure 1. Il doit être bien entendu, toutefois, que ces des- sins et les parties descriptives correspondantes, sont donnés uniquement à titre d'illustration de l'objet de l'invention, dont ils ne constituent en aucune manière une limitation. L'appareil illustré à la figure 1 est destiné à permettre la réalisation de traitements thermiques d'une pièce mince 1, telle qu'une plaquette de silicium par exem- ple, qui est contenue dans une enceinte (ou four proprement dit) 2 qui est constituée d'une enveloppe cylindrique (ba- rillet) en acier inoxydable comportant un moyen d'accès au four qui est constitué par une plaque 3 en acier inoxyda- ble massif fermant la base de l'enceinte et serrée par 16 vis (dont une vis 11 seulement a été représentée pour des raisons de simplification). De préférence, et ce pour augmenter les cadences de fonctionnement, on pourrait faire coopérer la plaque 3 avec des moyens d'ouverture et de fermeture rapides. La face supérieure de la plaque 3, à savoir la face qui est orientée vers l'intérieur du four 2, est polie et ensuite traitée avec un dépôt or et avec une couche de pro- tection, ce traitement permettant d'obtenir une très bonne réflectivité à partir de 0,7 gm jusqu'à l'infrarouge loin- tain. L'étanchéité par rapport à la base de l'enceinte 2 est obtenue à l'aide d'un joint 8 en graphite expansé (par exemple en "Céfilac"). Conformément à l'invention, dans le barillet 2 est ménagée une chambre 4 délimitée par la paroi latérale et le fond 3 de l'enceinte en coopération. avec un hublot cylindri- que 5 de silice entièrement poli, dont le diamètre (dans l'exemple de figure) est 160 mm et l'épaisseur 55 rm. Le hublot prend appui sur un siège annulaire 6 ménagé dans la paroi latérale du four et est maintenu en position par l'intermédiaire d'une bride de serrage 7: tou- jours limitativement à l'exemple illustré, l'effort de ser- rage est obtenu par 16 vis (dont une vis 12 seulement a été représentée, et ce également pour des raisons de simplifi- cation). L'étanchéité du hublot 5 par rapport au siège 6 de l'enceinte 2 et à la bride de fixation 7 est obtenue, res- pectivement, à l'aide de deux autres joints 9 et 10 en gra- phite expansé identique au joint 8 utilisé entre la plaque 3 et le barillet 2. En ce qui concerne les vis de serrage 11 et 12, celles-ci sont réalisées en "invar", à savoir dahs un alliage acier/nickel dont le coefficient de dilatation est pratiquement négligeable, et ce pour des raisons de stabi- lité du serrage lors des variations de température. Des douilles 13 en cuivre sous les têtes de chaque vis de serrage assurent l'étanchéité et l'adaptation des dilatations. Un joint "vitton" 14 entre la bride de serrage 7 et le barillet 2 complète l'étanchéité. La pièce à traiter 1 est positionnée et centrée à l'aide des plots 15a, 15b... à calotte sphérique (de pré- férence trois plots de ce type sont utilisés), dont la hau- teur est de 6 mm dans l'exemple en question. Pour le centrage, chaque plot coopère avec un moyen de butée latérale (non représentée pour des raisons de sim- plification du dessin) faisant saillie vers le haut à par- tir de la paroi latérale externe du plot. La chambre de traitement 4 créée dans le barillet 2 permet d'établir autour de la pièce à traiter 1 une ambiance appropriée, par exemple par mise sous pression ou par créa- tion de vide ou encore par création d'une atmosphère parti- culière à l'aide d'un gaz approprié ou autre, tout en per- mettant l'éclairement et donc l'échauffement de la pièce 1. Le conditionnement thermique du hublot 5, nécessaire pour limitersa montée en température,est assuré en particu- lier par un circuit de conditionnement 29 à circulation d'huile issue d'un bain thermostaté, des chemises de condi- tionnement étant ménagées à cet effet dans l'enceinte 2 et à la périphérie du hublot 5 et des vis de serrage 12. Il y a lieu de remarquer que la sortie d'huile 30 est placée en partie haute, alors que l'entrée 31 est placée en partie basse. La source thermique utilisée dans l'appareil de figure 1 est une source lumineuse 16 constituée par des lampes linéaires, à savoir étendues ou non ponctuelles, telles que des lampes "tungstène-halogène" 17; dans l'exem- ple non limitatif de la figure 1, on a utilisé 45 lampes de ce type, dont le corps lumineux, à savoir le filament de tungstène, présente une longueur de l'ordre de 160 mm et la puissance lumineuse unitaire est de 1500 watts chacune, lesquelles lampes sont disposées en deux rangées ou nappes I et II parallèles, qui sont décalées d'un demi-pas et dis- tantes de 23,5 mm l'une par rapport à l'autre, le pas entre les lampes étant de 16 mm. L'ensemble des lampes 17 est placé dans un capotage en tôle 18 (auquel est fixée l'enceinte 2, cf. la référence numérique 32 dans la figure 1), qui est refroidi par deux ventilateurs (dont un seul ventilateur 19 est visible dans la figure 1): le circuit de refroidissement des lampes est conçu de façon à ce que les ventilateurs ne soient pas sou- mis au rayonnement direct et que l'air frais arrive d'abord au niveau des culots des lampes et ensuite suive les tubes des lampes. La sortie (non représentée) de l'air se fait laté- ralement au niveau des lampes protégeant le dessus du barillet 2 et la bride de serrage 7 du flux lumineux. Dans l'exemple représenté, on a réalisé un débit d'air total de l'ordre de 130 litres/seconde. Une ouverture 20 est ménagée dans le capotage 18 en face du hublot 5 et de la pièce à traiter 1, de manière à faire coïncider leurs axes de syrétrie avec l'axe optique de la source 16 (cet axe commun est dénoté par la référence 21 dans la figure 1). Or, la présence de la chambre de traitement 4entre la pièce 1 et la source thermique lumineuse 16, c'est-à-dire l'éloigne- ment de cette source lumineuse de la pièce à traiter, crée des écarts de température importants indésirés entre le centre et la périphérie de la pièce, dont la périphérie est plus froide, donc avec chute de température à la périphérie de la pièce à traiter (comme il a pu être établi par des mesures effectuées sans le moyen de compensation thermique selon l'invention, qui va être décrit ci-après). Pour compenser les pertes thermiques de la pla- quette de silicium par ses faces et sa paroi latérale, à savoir les pertes surfaciques ou axiales et les pertes d'ex- trémité (de bord) ou radiales, et maintenir ainsi sensible- ment uniforme la température de la pièce concernée, on uti- lise -conformément à l'invention- un moyen de compensation thermique constitué par un "puits réfléchissant" cylindri- que ou réflecteur annulaire 22 (qui a été représenté à plus grande échelle dans la figure 2) placé dans le volume de confinement entourant la plaquette de silicium. Ce réfecteur 22 est constitué par un clinquant 23 qui est doré sur sa face interne 24,dont la configuration annulaire est obtenue par roulage et maintenue par serrage à l'aide d'une bague inoxydable 25 d'épaisseur appropriée. C'est grâce aux réflexions spéculaires sur la paroi interne 24 du "puits réfléchissant" 22, au fond duquel est placée la pièce à traiter 1, qu'on peut obtenir une bonne uniformité des températures (à savoir, une bonne uniformité du "facteur de vue") entre la source lumineuse étendue et chaque élément de surface de la pièce à traiter. Cela équi- vaut à dire que le diamètre interne et la hauteur du réflec- teur annulaire sont choisis de telle sorte qu'il n'y ait pas occultation partielle de source pour chaque élément de surface de la pièce à traiter. D'une façon générale, plus on s'éloigne de la pla- quette à traiter, plus augmente la hauteur h du réflecteur de compensation thermique 22, le diamètre interne d de - celui-ci restant très voisin du diamètre d1 de la plaquette. Dans l'exemple objet de la présente description, on suppose les conditions géométriques suivantes: le réflecteur 22 a une hauteur réfléchissante h de 19,5 mm; la surface supérieure de la plaquette de sili- cium 1 est à une distance h1 = 6,5 mm du fond 3, à savoir à une distance h2 = 13 mm du haut du réflecteur; le diamètre intérieur du réflecteur est de 101,5 mm; le diamètre de la plaquette de silicium est de 100 mm, en sorte qu'il existe un jeu e de 0,75 mm entre le réflecteur et la plaquette. Or, de façon plus précise, l'obtention d'une dis- tribution de températures sensiblement uniformes ("profil" de température uniforme) à la surface de la plaquette de silicium, est liée à la valeur des paramètres h2 et e susdits, pour des valeurs préfixées du diamètre dl de la plaquette, et de la distance H entre la plaquette et la source lumineuse étendue 16, ainsi qu'aux propriétés ther- miques (conductibilité thermique notamment) de la pièce à traiter. En effet, il est possible d'établir des équations mathématiques régissant les échanges thermiques entre la plaquette de silicium et le réflecteur et de vérifier que les paramètres de réglage de base pour l'homogénéité de la température de la pièce à traiter sont constitués par les- dits paramètres h2 et e, à savoir -pour une distance hl donnée (hauteur des plots de support) et pour une plaquette (dl) donnée- par les paramètres h (=h1 + h2) et d (=dl + eJ du réflecteur conforme à l'invention. - C'est donc en jouant sur ces paramètres qu'on peut s'adapter aux différentes dimensions (d1) des pièces à trai- ter et aux différentes configurations, à savoir aux diffé- rents emplacements (H) de la source lumineuse par rapport à ces pièces. Avec les valeurs indiquées plus haut pour les para- mètres h2, e et dl, et en admettant que la source lumineuse soit à une distance H = 75 mm de la plaquette de silicium (wafer), on a pu obtenir une uniformité de température défi- nie par des différences de température de l'ordre de quel- ques degrés entre deux points quelconques à la surface de la plaquette, et ce pour un niveau de température aussi élevé que 1000 C et même plus, ce qui représente un résul- tat très satisfaisant et, de toutes façons, plus que suffi- sant pour que la plaquette ainsi traitée thermiquement pré- sente les qualités requises. Or, en considération des niveaux de température très élevés, qu'il est souhaitable d'atteindre dans cer- tains types de traitements thermiques, il est bien évident qu'il est nécessaire d'obtenir un bon rendement lumineux. Dans ce but, on dispose un réflecteur doré 26 au- dessus des deux rangées de lampes 17, I et II, qui renvoie la lumière vers le hublot 5 (le réflecteur doré 26 est logé dans le capotage 18 et est fixé à sa paroi supérieure; de plus, ce réflecteur est refroidi par circulation d'eau, dans la figure 1 étant visibles l'arrivée et la sortie d'eau 27 et 28, respectivement, qui accèdent dans le capotage 18 vers le réflecteur 26 par une ouverture 33 ménagée dans la par- tie haute du capotage). - Il va de soi qu'il serait préférable de disposer un tel réflecteur doré non seulement au-dessus des lampes, mais aussi autour de celles-ci, bien que cette disposition n'ait pas été représentée pour des raisons de simplification des dessins. Ainsi que cela ressort de ce qui précède, l'inven- tion ne se limite nullement à ceux de ses modes de réalisa- tion et d'application qui viennent d'être décrits de façon plus explicite; elle en embrasse, au contraire, toutes les variantes qui peuvent venir à l'esprit du technicien en la matière, sans s'écarter du cadre, ni de la portée, de la présente invention. REVENDICATIONS 1. Appareil pour le traitement thermique d'au moins une pièce mince (1), telle qu'une plaquette de silicium, du type comprenant une source thermique lumineuse (16), de pré- férence constituée par des lampes linéaires (17) de très forte puissance unitaire, telles que des lampes "tungstène- halogène", et une enceinte (2) contenant la pièce ou les pièces à traiter et dont l'axe de symétrie géométrique (21) coincide avec l'axe de symétrie optique (21) de ladite source thermique lumineuse, lequel appareil est caractérisé en ce qu'il comporte à l'intérieur de l'enceinte (2) une chambre (4) permettant de créer autour de la pièce ou des pièces à traiter des conditions particulières de traitement thermique, notamment sous pression ou sous vide ou dans une atmosphère d'un gaz approprié, laquelle chambrede traitement présente son axe de symétrie géométrique coincidant avec ledit axe opti- que et conporte des moyens assurant l'étanchéité par rapport à l'enceinte qui la contient, et en ce que dans la chambre de traitement est disposé un rmoyen de compensation des pertes thermiques de la pièce ou des pièces à traiter, à savoir des pertes par les faces et la petite paroi latérale (pertes surfaciques ou axiales et pertes d'extrémité ou radiales) de cette pièce ou de ces pièces, permettant ainsi de maintenir sensiblement uniforme sa température ou leur température. 2. Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que le moyen de compensation des pertes thermiques par la surface de la pièce ou des pièces à traiter est constitué par un réflecteur annulaire (22) pla- cé dans le volume de confinement entourant la pièce ou les pièces à traiter, le diamètre interne et la hauteur de ce réflecteur annulaire étant choisis de telle sorte qu'il n'y ait pas occultation partielle de la source (16) pour chaque élément de surface de la pièce ou des pièces à traiter. 3. Appareil selon la revendication 2, caractérisé en ce que ledit réflecteur de compensation thermique (22) est constitué par un clinquant (23) qui est doré sur sa face interne (24) et dont la configuration annulaire est obtenue par roulage et est maintenue par serrage à l'aide d'une bague (25) inoxydable et d'épaisseur appropriée. 4. Appareil selon la revendication 2, caractérisé en ce que la pièce ou les pièces à traiter est ou sont main- tenue (s) par des moyens de support et de centrage par rap- port au réflecteur de compensation thermique. 5. Appareil selon la revendication 4, caractérisé par en ce que le moyen de support et de centrage est cons- titué par trois plots (15a, 15b...) à calotte sphérique, permettant de réduire au minimum le contact avec la pièce ou les pièces à traiter et donc d'influencer le moins pos- sible les échanges thermiques de celle-ci ou de celles-ci, chaque plot coopérant avec un moyen de butée latérale de centrage faisant saillie vers le haut à partir de la paroi latérale externe du plot. 6. Appareil selon la rever.ndication 1, caractérisé en ce que la chambre de traitement (4) comporte un moyen d'accès à cette chambre et est délimitée par la paroi laté- rale et le fond (3) de l'enceinte (2) ainsi que par un hublot (5), de préférence cylindrique, réalisé en silice et entièrement poli, ayant un diamètre et une épaisseur appro- priés et interposé entre la source (16) et la pièce ou les pièces à traiter et dont l'axe coincide avec l'axe optique de la source et l'axe de l'enceinte, celle-ci aussi de pré- férence cylindrique. 7. Appareil selon la revendication 6, caractérisé en ce que ledit moyen d'accès à la chambre de traitement (4) est constitué par le fond (3) même de ladite enceinte (2), lequel fond est amovible et fixé à la base de l'en- ceinte à l'aide de moyens de fixation détachable. 8. Appareil selon la revendication 7, caractérisé en ce que les moyens de fixation détachables du fond (3) à la base de l'enceinte (2) sont constitués par une pluralité de vis réalisées en un matériau ayant un coefficient de di- latation thermique pratiquement négligeable, un joint d'é- tanchéité (8) en un matériau approprié, tel que du graphite expansé, étant disposé entre ledit fond et ladite base de l'enceinte. 9. Appareil selon la revendication 6, caractérisé en ce que ledit moyen d'accès à la chambre de traitement (4) est constitué par le fond (3) même de ladite enceinte (2), lequel fond coopère avec des moyens d'ouverture et de ferme- ture rapides, autorisant ainsi une augmentation des cadences de fonctionnement. 10. Appareil selon la revendication 6, caractérisé en ce que la paroi latérale de l'enceinte (2) comporte un siège (6) sur lequel prend appui le hublot (5), ce dernier étant maintenu en position par l'intermédiaire d'une bride de fixation (7) qui serre le hublot contre son siège à l'aide d'une pluralité de vis (12) réalisées en un matériau ayant un coefficient de dilation thermique pratiquement né- gligeable, entre ledit siège (6) et le hublot (5) et ce dernier et la bride de fixation (7) étant disposé, respective- ment, un joint d'étanchéité (9 et 10, respectivement) en matériau approprié, tel que du graphite expanse. 11. Appareil selon la revendication 6, caractérisé en ce que celui-ci comporte des moyens de conditionnement thermique destinés à limiter la montée en température du hublot (5). 12. Appareil selon la revendication 11, caractérisé en ce que les moyens de conditionnement thermique du hublot (5) sont constitués par un circuit (29)traversé par un fluide ther- mostaté approprié, notamment constitué par de l'huile issue d'un bain thermostaté, et comportant des chemises de condi- tionnement ménagées dans l'enceinte, à la périphérie du hublot (5) et autour des vis de serrage (12) de ladite bri- de de fixation (7). 13. Appareil selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite source (16) est constituée par plusieurs rangées ou nappes parallèles (I, II) de lampes "tungstène- halogène", deux lampes consécutives de chaque rangée étant séparées d'un pas (ou distance) approprié et les rangées étant décalées d'un demi-pas et étant disposées à une dis- tance appropriée l'une par rapport à l'autre, la source lu- mineuse (16) ainsi constituée étant logée dans un capotage (18) en tôle, auquel est fixée ladite enceinte (2) par tous moyens appropriés (32) et qui est refroidi par des ventila- teurs (19). 14. Appareil selon la revendication 13, caractérisé en ce que la source lumineuse (16) coopère avec un réflec- teur doré (26) logé dans ledit capotage (18) qui est destiné à améliorer son rendement lumineux et est disposé au-dessus et autour de cette source de manière que son axe coincide avec l'axe optique de cette dernière, ce réflecteur (26) étant refroidi par circulation d'un fluide approprié, notam- ment d'eau.