FR 2575333 A1 19860627 FR 8419656 A 19841221 "DISPOSITIF DE PROTECTION D'UN CIRCUIT INTEGRE CONTRE LES DECHARGES ELECTROSTATIQUES" La présente invention a pour objet un dispositif de protection d'un circuit intégré notamment bipolaire contre les décharges électrostatiques du type comportant trois zones actives de types de conductivité alternés, dont les zones ex- trêmes constituant les première et deuxième zones actives sont connectées d'une part à une entrée à protéger et d'autre part à une source de tension de référence, le circuit intégré pré- sentant un substrat faiblement dopé d'un premier type de con- ductivité. Il est connu de l'art antérieur de protéger l'entrée de circuits intégrés du type MOS à l'aide d'un cir- cuit comportant deux diodes tête-bêche, par exemple comme dé- crit dans l'article de Terry V. NULETT "On chip protection of high density NMOS devices", paru dans le compte-rendu de sep- tembre 1981 de l'"Electrostatic Discharge Symposium". La né- cessité est également apparue de réaliser une protection des circuits intégrés bipolaires, notamment en mettant en oeuvre des zones de types de conductivité alternées de manière à réa- liser au moins un transistor bipolaire de protection fonction- nant en avalanche. Un tel circuit est décrit dans le brevet européen n' 32.046 de la Société "FUJITSU LTD" et intitulé "Circuitry for protecting a semiconductor device against sta- tic electricity", et comporte deux transistors verticaux com- portant des zones à dopage élevé. Un tel dispositif présente certains inconvé- nients. D'une part, l'agencement des zones à dopage élevé gé- nérant des capacités parasites élevges,le montage comporte né- cessairement deux transistors dont la disposition a pour effet de mettre en série les capacités parasites. D'autre part, la structure des transistors est verticale, ce qui fait que l'é- metteur d'un des-transistors est relié à une source de tension de référence à travers le substrat peu dopé, ce qui engendre -2 - des résistances réparties de valeur élevée dans le dispositif entre la plage de métallisation de l'entrée à protéger et la source de tension de référence et affaiblissant la qualité de la protection recherchée. La présente invention a pour objet un dispositif de protection ne présentant pas les inconvénients précites. D'une part, il ne présente que trois zones de conductivités alternées, lesquelles forment ainsi qu'il sera indiqué par la suite, un transistor, dont la base est constituée par une zone centrale faiblement dopée, ce qui permet de minimiser la va- leur des capacités parasites, et d'autre part, sa structure est latérale, ce qui évite toute prise de contact à travers le substrat, donc des résistances série indésirables. Dans ce but, le dispositif selon l'invention est caractérisé en ce que les première et deuxième zones actives comportent une première et une deuxième régions actives du se- cond type de conductivité opposé à celui du substrat, ainsi que respectivement une première et une deuxième métallisations les recouvrant au moins partiellement, au niveau respective- ment d'une première et d'une deuxième région dite de contact, la première région active étant bordée au moins sur la majeure partie de son pourtour par la deuxième région active, la pre- mière et la deuxième régions actives étant séparées par une troisième région active constituée par une portion étroite du substrat, en ce qu'il comporte une couche d'isolation sensi- blement plus profonde que les régions de contact et recouvrant au moins ladite portion étroite ainsi que les parties des pre- mière et deuxième régions actives non recouvertes par les pre- mière et deuxième régions de contact, ce qui fait que les ré- gions actives sont au moins partiellement enterrées, en ce que la première métallisation qui recouvre la première région de contact est agencée de manière à relier la première région ac- tive à une entrée à protéger du circuit, et en ce que la deu- xième métallisation qui recouve la deuxième région de contact est agencée de manière à relier la deuxième région active à une source de tension de référence. 3 - Les première et deuxième régions de contact peu- vent avantageusement faire partie d'une couche épitaxiale du second type de conductivité, ce qui fait que les couches acti- ves sont complètement enterrées. Ladite couche d'isolation peut également border les zones non en regard des première et deuxième r6gions acti- ves. Selon une variante, le dispositif jouxte une plage de métallisation de l'entrée à protéger. Dans ce but, la deuxième région active entoure le pourtour de la première ré- gion active,la deuxième région de contact recouvre la deuxième région active, à l'exception d'une région formant un pont iso- lant et la première métallisation présente une première bande de contact traversant le pont isolant de manière à réaliser ladite connexion avec la plage de métallisation de l'entrée à protéger du circuit. Selon une autre variante, la plage de métallisa- tion de l'entrée à protéger est constituée par la première mé- tallisation, la deuxième région active entoure le pourtour de la première région active, la deuxième région de contact re- couvre la deuxième région active a l'exception d'une région formant un pont isolant et la première métallisation présente une deuxième bande de contact traversant le pont isolant -de manière à réaliser une connexion avec un circuit d'entrée. Pour l'une ou l'autre de ces variantes, la se- conde métallisation peut présenter une seconde bande de con- tact disposée de manière à réaliser ladite connexion à une source de tension de référence. De préférence, les première et seconde métallisations recouvrent entièrement respectivement les première et seconde régions de contact. Selon une variante préférée, le dispositif est en majeure partie situé en dessous d'une plage de métallisa- tion correspondant à l'entrée à protéger, ce qui permet d'ob- tenir le double avantage supplémentaire, d'une part, d'un gain de place et d'une diminution de la capacité parasite, par substitution de la capacité de la plage. -4 - Dans ce but, la couche d'isolement est consti- tuée par une portion de couche isolante qui recouvre la majeu- re partie de la surface des régions actives, et qui est elle- même recouverte par une plage de métallisation à l'exception d'une région jouxtant la deuxième métallisation, et ladite plage de métallisation comporte une partie constituant ladite première métallisation, de manière à relier électriquement la- dite plage a la première région active. Selon un mode de réalisation de cette variante, les première et seconde métallisations sont disposées à l'op- posé l'une de l'autre et les régions actives sont imbriquées. Dans ce but, la première région active présente d'une part 2n-1 branches actives avec n > 1, et d'autre part une première liaison électrique, notamment une première bande active reliant entre elles pour n > 1 une extrémité des 2n-1 branches et constituée pour n - 1 par une extrémité de la branche de la première région active, et la deuxième région active présente d'une part 2n branches actives et d'autre part une deuxième liaison électrique, notamment une deuxième bande active reliant entre elles une extrémité des 2n branches, et les branches des première et deuxième régions actives sont im- briquées et les première et deuxième métallisations sont dis- posées respectivement au niveau des première et deuxième liai- sons électriques de telle sorte que la première métallisation borde le reste de la plage de métallisation qui est ainsi dis- ponible pour relier électriquement l'entrée à protèger. D'autre part, on peut obtenir une répartition uniforme des courants en donnant aux branches extrêmes de la deuxième région active une largeur moitié de celle des bran- ches de la première région active et des autres branches de la deuxième région active. Pour n = 1, la deuxième région active est en forme de U et ses branches ont avantageusement une largeur moitié de celle de la première région active. - Selon un deuxième mode de réalisation de cette variante, le dispositif inclut la résistance série habituel- lement insérée entre la plage de métallisation d'entrée et -5- le circuit d'entrée correspondant. Dans ce but, la première région active présente 2n-1 branches actives avec n i 1 et d'autre part une première liaison électrique, notamment une première bande active, re- liant entre elles pour n > 1 une extrémité desdites 2n-1 bran- ches actives et constituée pour n = 1 par une extrémité de la branche de la première région active, la deuxième région acti- ve présente 2n branches actives, les branches actives des pre- mière et deuxième régions actives sont imbriquées, les 2n branches actives de la deuxième région active sont reliées électriquement entre elles et au moins une branche active de la première région active se prolonge, du côté opposé à la première métallisation, de préférence en croisant ladite deuxième métallisation qui relie alors électriquement les 2n branches actives de la deuxième région active, et dont elle est alors isolée par ladite portion de couche isolante- par un prolongement enterré de même type de conductivité que la pre- mière région active et dont l'extrémité libre est relive à un étage d'entrée de l'entrée à protéger par l'intermédiaire d'une couche de contact, ledit prolongement formant ainsi la- dite résistance série. L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non li- mitatif, en liaison avec les dessins qui représentent: - les figures la et lb, en vue de dessus, respectivement une première variante du dispositif selon l'invention, et un détail de celui-ci; - la figure 2, une coupe verticale AA de la figure lb; - la figure 3, une vue de dessus de la figure 2, avec enlè- vement des métallisations. - les figures 4a et 4b, respectivement en vue de dessus, un mode de réalisation d'une deuxième variante du dispositif selon l'invention et en coupe horizontale DD, un détail de celui-ci; - les figures 5 et 6, respectivement les coupes verticales BB et CC de la figure 4b; - la figure 7, un mode de réalisation interdigité de la -6 - deuxième variante; -les figures 8a et 8b respectivement en vue de dessus et en coupe verticale, une troisième variante de l'invention; - les figures 9a et 9b respectivement en vue de dessus avec représentation en pointillés du contour des métallisations et en coupe verticale, un autre mode de réalisation de la deuxième variante et la fig. 10, un schéma électronique cor- respondant. Selon les figures la et lb, une entrée E à pro- téger présente une plage de métallisation 10 destinée à sa connexion électrique, une ligne 1i de liaison électrique, avec son étage d'entrée, et une bande de contact 12 formant contact avec une métallisation 8 en forme de bande. Une métallisation 9 entoure la métallisation 8 à l'exception d'un canal 15 lais- sant libre passage à la bande de contact 12. La métallisation 9 présente une patte 13 formant contact avec une ligne 14 ali- mentée à une tension de référence, à savoir une tension d'ali- mentation Y du circuit ou la tension de masse. Entre les métallisations 8 et 9, se trouve une couche d'isolation 4, par exemple en Si02, connu en soi pour l'isolation latérale des composants, se prolongeant en 16 dans le canal 15. La métallisation 9 est avantageusement bordée sur son contour ext6rieur par une couche d'isolation 5 par exemple en SiO2, laquelle rejoint la région isolante 16. Selon la figure 2, le circuit intégré présente un substrat 1, par exemple en Si, faiblement dopé d'un premier type de conductivité, par exemple p, et deux couches enterrées 2 et 3 du second type de conductivité opposé au premier donc n dans l'exemple et de préférence fortement dopées. Une couche 6 du second type de conductivité, généralement obtenue par épi- taxie, est disposée sur la couche enterrée 2 de manière à for- mer une région de contact dont le niveau de dopage n'est pas critique et assurant une continuité électrique entre la couche enterrée 2 et la métallisation 8 qui la recouvre. Une couche 7 du second type de conductivité, généralement également obtenue par 6pitaxie est disposée sur la couche enterrée 3 de manière à former une région de contact pour la métallisation 9 qui la - 7 - recouvre. La couche d'isolation 4 qui entoure la métallisation 8 et la région de contact 6, et se prolonge en 16 dans la ré- gion du canal 15, est plus profonde que la couche 6, et d1éli- mite les borde supérieurs de la couche enterrée 2 et le bord supérieur interne de la couche enterrée 3. Les couches enter- rées 2 et 3 sont séparées par des portions étroites 17 du substrat 1 avec lesquelles elles Forment trois zones contigues de types de conductivité alternés qui sont actives pour la protection du circuit. D'une manière générale, on appellera région de contact toute portion d'une zone active appropriée à réaliser un contact électrique avec une métallisation la recouvrant, le reste de la zone active constituant une région. active enter- rée. On comprendra que ce n'est qu'i titre d'exemple que l'on a décrit à ce titre une zone supplémentaire obtenue par épita- xie. A titre de variante, la région de contact d'une zone ac- tive peut être constituée par une portion de la surface du substrat sur laquelle est disposée la métallisation, ainsi qu'il est courant dans la technique. La couche d'isolation 5, de même profondeur que la couche 4, délimite le bord supérieur externe de la couche enterrée 3, et forme un caisson d'isolement pour le dispositif de protection. Elle rejoint la portion 16 dans la région du canal 15. La couche d'isolation 5 fait en général partie, com- me représenté, d'une couche d'oxyde profond existant en des endroits choisis. Sur la figure 3, on a représenté en pointillé les bords des couches enterrées 2 et 3, lesquelles sont obte- nues par diffusion à travers un masque avant la réalisation des couches isolantes 4 et 5, et s'étendent en dessous de celles-ci sur une certaine distance. L'espace entre les poin- tillés 2 et 3 correspond à la portion étroite 17 du substrat 1. La région isolante 16 ponte les régions 4 et 5 dans la ré- gion du canal 15, ce qui permet le passage de la patte conduc- trice 12. A titre d'exemple, on a réalisé un tel disposi- tif de protection sur un substrat p- de résistivité 10 Jl. cm _ - (dopage de l'ordre de 1016 atomes/cm3), les couches enterrées 2 et 3 de type n ayant une résistance de l'ordre de 30.Q par carré. La profondeur des couches 4 et 5 dites d'oxyde profond selon une dénomination courante de la technique et qui sont en SiO2 est de l'ordre de 1,5 microns. La portion étroite 17 du substrat a une largeur 12 de l'ordre de 5 microns et les cou- ches enterrées 2 et 3, une largeur 11 de l'ordre de 10 mi- crons. La longueur L de la couche enterrée 2 en forme de bande est de l'ordre de 50 à 100 microns. Ce dispositif est à mVme d'assurer une protection vis à vis de tensions électrostati- ques de l'ordre de quelques kV provenant de la décharge du corps humain. D'une manière générale, les trois zones actives 2, 17 et 3 sont selon toute probabilité susceptibles de fonc- tionner comme un transistor bipolaire de faibles performances en gain et en mode d'avalanche, le fonctionnement dépendant des dimensions,. des dopages et des polarités desdites sones actives. Selon les figures 4a, 4b et 5, le dispositif de protection est enterré presque en totalité sous la métallisa- tion 50 de l'entrée à protéger dont elle est séparée par une portion 41 d'une couche d'isolation 28. Une première couche enterrée 42 du type de conductivité opposé à celui du substrat forme une bande 30 entourée par une deuxième couche enterrée 43 également du type de conductivité opposé à celui du subs- trat 1. Les première 42 et deuxième 43 couches enterrées sont recouvertes par des couches de contact respectivement 46 et 47 de préférence épitaxiées, uniquement aux endroits utilisés pour les prises de contact. Il est bien entendu possible que la couche enterrée 43 entoure complètement lapremière couche enterrée 42. Cependant, selon la variante préférentielle re- présentée, la seconde couche enterrée 43 forme un U dont les branches 21 et 22 encadrent la bande 30 formant la première couche enterrée 42, l'extrémité 31 de celle-ci étant disponi- ble pour la prise de contact 48 s'effectuant à travers une fe- nêtre de la couche d'isolation 28 entre la métallisation 50 et la couche de contact 46. De cette façon, la prise de contact - 9 - 48 prolonge la plage principale de prise de contact d'entrée de la métallisation 50. La barre 20 qui relie les branches 21 et 22 du U est située au moins en partie a l'extérieur de la métallisation 50 de manière à recevoir une métallisaton 49 re- liant à travers une deuxième fenêtre de la couche d'isolation 28 la couche de contact 47 à une barre 27 d'alimentation en tension du circuit. La couche isolante 28, par exemple en Si02, a une profondeur plus grande que celle des couches 46 et 47 de sorte qu'elle délimite les bords supérieurs de la couche en- terrée 42 et de la couche enterrée 43 et forme un caisson d'i- solation pour l'ensemble du dispositif de protection. Une portion étroite 57 du substrat est située entre les couches enterrées 42 et 43. Pour obtenir une répartition uniforme des cou- rants, on peut donner à la région active 42 une largeur 13 é- gale à deux fois celle 14, de la région active 43. Selon la figure 6, la couche d'isolation 41 pré- sente deux fenêtres, l'une étant disposée sur la barre du U pour recevoir la patte de métallisation 49, et l'autre au ni- veau de l'extrémité 31 de la bande 30 pour recevoir la patte de métallisation 48 bordant la plage de métallisation 50. Comme dans le cas de la variante précédente, les zones actives, 42, 43 et 57, fonctionne comme un transistor bipolaire en mode d'avalanche. Selon la figure 7, la bande 30 des figures pré- cédentes est remplacée par une pluralité de branches 130 re- liées entre elles par une bande 131 de même constitution que les branches 130 et portant sur une majeure partie de sa lon- gueur une couche de contact 146 (représentée en pointillés) revêtue d'une métallisation non représentée, prolongeant une plage de métallisation 150 (représentée en pointillés). Des branches 123 reliées par une bande 120 de même constitution que celles-ci, sont interdigitées avec les branches 130 et leurs branches extrêmes 121, 122, ont une largeur moitié de celles des autres branches 123 de manière à obtenir l'avantage d'une répartition uniforme des courants. - 10 - On remarquera que la liaison électrique entre les branches peut être réalisé par tout moyen, notamment seu- lement par une métallisation ou seulement par une bande de me- me constitution que les branches. La troisième variante (figures 8a et 8b)s'appa- rente à la première variante, à ceci près que la dimension de la métallisation 108 est telle qu'elle constitue la plage de métallisation de l'entrée à protéger. Elle est reliée au cir- cuit d'entrée correspondant par une patte 112 traversant un pont isolant 115. Selon la figure 8b, le dispositif comporte un substrat 100 faiblement dopé d'un premier type de conducti- vité et deux couches enterrées 102 et 103 du second type de conductivité opposé au premier. Une couche 106 du second type de conductivité, et généralement- obtenue par ipitaxie, est disposée sur la couche enterrée 102 de manière à former une région de contact assurant une continuité électrique entre la couche enterrée 102 et la plage de métallisation 108 qui la recouvre. De mame, une couche 107 du second type de conducti- vité généralement obtenue par épitaxie, est disposée sur la couche enterrée 103 de manière à former une région de contact pour la métallisation 105 qui la recouvre. La couche d'isola- tion 104 qui entoure la métallisation 108 et la couche de con- tact 106 eat plus profonde que la couche 106 et délimite les bords supérieurs de la couche enterrée 102 et le bord sup6- rieur interne de la couche enterrée 103 qui entoure cette der- nière. Les couches enterrées 102 et 103 sont séparées par des portions étroites 117 du substrat 100 avec lesquelles elles forment trois zones actives de conductivités alternées Les figures 9a et 9b se rapportent à un mode de réalisation voisin de la deuxième variante (fig. 4a et 4b)- mais dans lequel la barre de la deuxième couche enterrée est supprimée ce qui fait que cette dernière se trouve réduite à deux branches 221 et 222, alors que la métallisation corres- pondante (49) est conservée (et est maintenant réfUrencée 249). La -première couche enterrée 242 comporte une branche active 230 qui se prolonge du côté opposé à la métal- - 11 - lisation 248 et en croisant la métallisation 249 par une bran- che 240, située en dehors des r9gions actives o les deux cou- ches enterrées sont en vis-à-vis, de manière à réaliser une résistance série RE(fig. 10) entre la plage de métallisation de l'entrée E et un circuit d'entrée 202 correspondant à l'en- trée E, le dispositif de protection 201 étant pour sa part connecté entre la plage de métallisation et la masse, prise ici comme tension de référence. Les branches 221 et 222 présentent deux couches de contact respectivement 247, 247' assurant la continuité électrique entre leurs couches enterrées et la métallisation 249 qui elle-même relie électriquement les couches de contact 247 et 247'. On notera que le croisement mentionné ci-dessus n'est qu'un mode préf6ré de réalisation. La liaison électrique entre les couches 247 et 247' peut également être obtenue par une métallisation contournant les couches enterrées ou bien encore par liaison directe de chacune des couches 247 et 247' à des bandes de masse. Plus particulièrement à la figure 9b, une pre- mière couche 242 enterrée dans un substrat 200 comporte à une extrémité 243 une couche de contaet 246 et à son autre extr6- mité 244 un prolongement enterré 21.0 en général de même pro- fondeur que la couche enterrée 242. L'extrémité 211 du prolon- * gement enterré 210 qui est opposée à la première couche enter- rée 242 est surmontée par une couche de contact 220. Une couche d'isolation 241 comporte 4 fenêtres recevant chacune une des couches de contact 220, 246, 247, 248. La couche de contact 246 est revêtue d'une patte 248 jouxtant une plage de métallisation d'entrée 250, laquelle re- couvre les trois branches 221, 222, 230 des couches actives enterrées jusqu'à une distance de la bande de métallisation 249 suffisante pour assurer une isolation. On comprendra que le dispositif ainsi décrit peut comporter un plus grand nombre de branches. Les modes de réalisation que décrits ci-dessus conviennent plus particulièrement à la technique bipolaire dite "LOCOS" ou "SUBILO" décrite dans la demande de brevet - 12 - français FR 1 549 386 de N.V.PHILIPS et son addition 2 081 017. Selon cette technique, les couches enterrées sont diffusées dans un substrat, après quoi on réalise une couche épitaxiée sur laquelle on d5pose un masque de nitrure de silicium, à travers les fenêtres duquel on enlève les por- tions exposées de la couche ipitaxiée. On fait croître un oxy- de d'isolation dans les ouvertures ainsi ménagées et on amétal- lise de manière classique. 35. - 13 - REVENDICATIONS: 1. Dispositif de protection d'un circuit intégré contre les décharges électrostatiques, du type comportant trois zones actives de types de conductivité alternés, dont les zones extrêmes constituant les première et deuxième zones actives sont connectées d'une part à une entrée à protéger et d'autre part à une source de tension de r6férence, le circuit intégré présentant un substrat faiblement dopé du premier type de conductivité caractérisé en ce que les première et deuxième zones actives comportent une première (2,42) et une seconde (3,43) régions actives du second type de conductivité opposé à celui du le substrat (1) celles-ci présentant respectivement une première (8,48) et une deuxième(9,49) mêtallisations les recouvrant au moins partiellement au niveau respectivement d'une première (6, 46) et d'une deuxième (7, 47) régions de contact, la première région active (3,42) étant bordée au moins sur la majeure partie de son pourtour par la deuxième région active (3,43), la première (2,42) et la deuxième (3,43) régions actives étant séparées par une troisième région active constituée par une portion étroite (17, 57) du substrat, en-ce qu'il comporte une couche d'isolation (4) plus profonde que les régions de contact (6, 7) et recouvrant au moins ladite portion étroite (17) ainsi que les parties des première et deuxième régions actives (2, 3) non recouvertes par les pre- mière et deuxième régions de contact (6, 7), ce qui fait que les régions actives (2, 42, 3, 43) sont au moins partiellement enterrées, en ce que la première métallisation (8,48) qui re- couvre la première région de contact (6,46) est agencée de ma- nière à relier la première région active à une entrée (E) à protéger du circuit, et en ce que la deuxième métallisation (9,49) qui recouvre la deuxième région de contact (7,47) est agencée de manière à relier la deuxième région active (3, 43) à une source de tension de référence. 2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que les première (46) et deuxième (7, 47) régions de contact font partie d'une couche 6pitaxiale, ce qui fait que les régions actives (2,42, 3,43) sont complètement - 14 - enterrées. 3. Dispositif selon une des revendications 1 ou caractérisé en ce que la deuxième région active (3,43) entou- re le pourtour de la première région active (2,42), en ce que la deuxième région de contact (7) entoure la deuxième région active (3, 43) à l'exception d'une région (16) formant un pont isolant (15) et en ce que la première métallisation (8) pré- sente une première bande de contact (12) traversant le pont isolant (16) ainsi formé de manière à réaliser ladite con- nexion avec une plage de métallisation (50) de l'entrée (E) à protéger du circuit. 4. Dispositif selon une des revendications 1 ou 2 caractérisé en ce que la première métallisation (108) consti- tue une plage de amétallisation de l'entrée à protéger, en ce que la deuxième région active (103) entoure le pourtour de la première région active (102) en ce que la deuxième région de contact (107) recouvre la deuxième région active (103), à l'exception d'une région (115) formant un deuxième pont iso- lant (118) et en ce que la première métallisation (108) pré- sente une deuxième bande de contact (112) traversant le deuxième pont isolant (116) de manière à réaliser une connexion avec un circuit d'entrée. 5. Dispositif selon une des revendications 3 ou 4 caractérisé en ce que la seconde métallisation (9) présente une troisième bande de contact (12) disposée de manière à réa- liser ladite connexion à une source de tension d'alimentation (V) du circuit. 6. Dispositif selon une des revendications 1 ou 2 caractérisé en ce que la couche d'isolation est constituée par une portion (41) de couche isolante (28) qui recouvre la ma- jeure partie de la surface des régions actives (42, 43) et qui est elle même recouverte par une plage de métallisation (50), à l'exception d'une région (51) jouxtant la deuxième métalli- sation (49) et en ce que ladite plage de métallisation (48,50) comporte une partie (48) constituant la première métallisa- tion, de manière à relier électriquement ladite plage (48, 50) à la première région active (42). - 15 - 7. Dispositif selon la revendication 6, caractérisé en ce que la première région active (42) présente 2n-1 bran- ches actives (130) avec n >l, et d'autre part une première liaison électrique (131) reliant entre elles pour n>1 une ex- tremité desdites 2n-1 branches actives (130),et constituée pour n - 1 par une extrémité (31) de la branche (30) de la première région active (42), en ce que la deuxième région ac- tive (43) présente d'une part 2n branches actives (121, 122, 123) et d'autre part une deuxième liaison électrique (120) re- liant entre elles une extrémité des 2n branches actives (121, 122, 123), en ce que les branches actives (121, 122, 123, 130) des première et deuxième rPgions actives (42, 43) sont imbri- quées, et en ce que les premières (151) et deuxième (120)liai- sons électriques comportent les première et deuxième m&talli- sations (48, 49) de telle sorte que la première métallisation (48) borde le reste de la plage de métallisation (50). 8. Dispositif selon la revendication 7 caractéris& en ce que n - 1 et en ce que la deuxième région active (43) a la forme d'un U dont les branches (21,22) encadrent la pre- mière région active (42), et en ce que la largeur des branches (21, 22), de la deuxième région active (43) est moitié de cel- le (30) de la première région active (42). 9. Dispositif selon la revendication 7 caractérisé en ce que n > 1 et en ce que les branches actives externes (121, 122) de la première région active (42) ont une largeur moitié de celle de ses autres branches actives (120) et de celles (130) de la deuxième région active (43). 10. Dispositif selon la revendication 6 caractérisé en ce que la première région active (42) présente 2n-1 bran- ches actives (230) avec n >1 et d'autre part une première liaison électrique (131) reliant entre elles pour nl1 une ex- trémité deedites 2n-1 branches actives (230) et constituée pour n = 1 pour une extrémité de la branche (230) de la pre- mière région active (242), en ce que la deuxième région active (43) présente 2n branches actives (221, 222), les branches ac- tives (221, 222, 230) des première et deuxième régions actives (242, 43) sont imbriquées, en ce que les 2n branches actives - 16 - (221, 222) de la deuxième région active (43) sont reliées électriquement entre elles par ladite deuxième métallisation (249) et en ce qu'au. moins une branche active (230) de la pre- mière région active (242) se prolonge (244) du côté opposé à la première métallisation (248) par un prolongement enterré (210) de même type de conductivité que la première région ac- tive (242) et dont l'extrémité libre est reliée à un étage d'cntrée (202) de l'entrée E à protéger par l'intermédiaire d'une couche de conact(220). 11. Dispositif selon une des revendications 7 à 10 caractérisé en ce qu'une liaison électrique comporte une bande active.