FR 2573223 A1 19860516 FR 8516055 A 19851029 La présente invention concerne un procédé de fa- brication d'un coulisseau à dépression, ainsi qu'un cou- lisseau à dépression fabriqué selon ce procédé. Les dispositifs actuels d'entraînement de disque magnétique utilisent des coulisseaux à coussins d'air rappelés élastiquement, reposant sur le fait que leur faible hauteur de sustentation au-dessus de la surface d'un disque peut être obtenue au moyen d'un coussin d'air créé entre le coulisseau et le disque en rotation. Le coulisseau porte généralement une tête de lecture/écriture magnétique sur son bord arrière. Le coulisseau "flotte" sur le coussin d'air et sa hauteur est contrôlée par la charge extérieure du rappel élastique sur le coulisseau. La hauteur de sustentation doit être aussi faible que pos- sible pour éviter toute perte du signal. Avec ce type de coulisseau, pour réduire la hauteur de sustentation, la force de charge extérieure est augmentée. Ce type de coulisseau rappelé élastiquement fonc- tionne sur une base de contact de marche/arrêt, selon la- quelle le coulisseau est physiquement en contact avec le disque au début de la rotation du disque et jusqu'à ce quedernier atteigne une certaine vitesse, et à ce moment, le coussin d'air peut être établi pour soulever le cou- lisseau du disque. Quand le disque s'arrête, le coulisseau revient en contact direct avec lui. Lorsque la force de charge est augmentée pour réduire la hauteur de susten- tation, l'usure se produisant entre la surface du disque et le coulisseau pendant les opérations de démarrageet arrêt augmente également. Il est possible de réduire l'usure de frottement en utilisant ce qui est connu comme un.cou- lisseau à dépression. Ce type de coulisseau comporte une cavité à dépression sur sa surface à coussin d'air pour créer une dépression qui attire le coulisseau vers le dis- que. Le courant d'air produit par la surface du support d'enregistrement produit une région de dépression ou vide partiel dans la cavité à dépression de la surface à cous- sin d'air, réduisant la force de charge nécessaire pour ob- tenir la hauteur de sustentation voulue. Des exemples de coulisseau à dépression de ce genre sont donnés dans les brevets des Etats Unis d'Amérique N 3 811 856 et 4 141 049. Avec ce type decoulisseau, la profondeur et la forme de la cavité ou des cavités à dépression déterminent la hauteur de sustentation du coulisseau. Par conséquent, la cavité à dépression de la surface de coussin d'air du couliseau doit être formée avec une très grande précision. Il est littéralement impossible d'usiner mécanique- ment de façon précise et reproductible une cavité à dé- pression de la dimension et de la forme voulue. Certaines variantes d'usinage de la cavité sont la gravure chimique, la gravure au plasma et l'attaque par faisceaux ioniques. Dans le passé, il a été suggéré que les cavités à dépression pouvaient être usinées par faisceau ionique en utilisant un masque métallique pour protéger la surface de coussin d'air du coulisseau, pendant que les cavités à dépression étaient usinées. Voir par exemple IEEE Trans- actions en Magnetics, Volume mag.16, N 5, Sep. 1980, in- titulé "Floating Thin Film Head Fabricate par Ion Etching Method" par T. Nakanishi, et col. Dans une opération d'usinage ionique, qui utilise unmasque métallique, géné- ralement le métal (habituellement du chrome) est d'abord pulvérisé sur le coulisseau, une couche photosensible est ensuite déposée par tournage sur le coulisseau; la couche photosensible est mise en forme pour exposer ce qui doit devenir la cavité à dépression; la couche métallique est ensuite gravée chimiquement sur la cavité; la couche photo- sensible est éliminée, les cavités sont usinées par fais- ceau ionique, la couche métallique protégeant la surface de coussin d'air du coulisseau; et enfin, les parties qui restent de couches métalliques sont éliminées par gravure chimique. La mise en oeuvre du procédé cidessus soulève quelques problèmes. Tout d'abord, l'obligation de pulvé- riser et de graver une couche métallique augmente le prix et la complexité des opérations ainsi que le temps né- cessaire pour les exécuter. En outre, il est assez diffi- cile de positionneravecprécision les cavités à dépression sur le coulisseau. En outre, seules des cavités relative- ment peu profondes peuvent être usinées selon ce procédé car la couche métallique de protection ne peut résister à l'attaque ionique que pour des cavités ayant des profon- deurs d'environ 4 microns. Comme le montre la courbe de hauteur de sustenta- tion en fonction de la profondeur de la cavité de la Fig.l, qui est courante pour des coulisseaux comprenant des ca- vités à dépression du type représenté selon l'invention et dans les Brevets des Etats Unis d'Amérique N 4 286 297 et 4 141 049, pour atteindre une hauteur de sustentation de 200 microns, les cavités doivent être fabriquées à une profondeur d'environ 2 ou 12 microns. Etant donné que la courbe a une pente plus grande au point à deux microns qu' au point à 12 microns, il est plus souhaitable de fabriquer les cavités à une profondeur de 12 microns pour que les va- riations de la profondeur réelle de la cavité aient un effet moins dramatique sur la hauteur de sustentation. Mais en raison des limitations du procédé ci-dessus, seules des cavités relativement peu profondes dans la plage allant jusqu'à 4 microns par exemple peuvent être fabriquées. Voir par exemple IEEE Transactions on Magnetics, vol. mag. 15, N 3, Mai 1979, intitulé "Narrow Track Magnetic Head Fabricated par Ion Etching Method", par T. Nakanishi et col., dans lequel il est indiqué que "de plus grandes pro- fondeurs de gravure ne peuvent être obtenues avec le pro- cédé d'attaqueionique". L'invention a donc pour objet de proposer un pro- cédé de fabrication d'un coulisseau à dépression dans le- quel (a) des cavités à dépression relativement profondes peuvent être produites par attaque ionique, jusqu 'à une profondeur précise de 12 microns ou davantage, tout en évitant la nécessité d'appliquer une couche métallique de protection, (b) la compexité et le prix de fabrica- tion comparativement aux procédés antérieurssont réduits (c) les cavités à dépression sont situées de façon très précise sur le côulisseau pour mieux contrôler la hauteur de sustentation et améliorer les performances du coulis- seau. L'invention concerne donc un procédé de réalisa- tion d'une surface à coussin d'air supporté par une barre dans laquelle plusieurs coulissseaux à coussins d'air peu- vent être découpés comprenant chacun une tête magnétique dont un pôle fait saillie sur la surface de coussin. d'air du coulisseau, et se trouvant dans une position pré- déterminée, une cavité à dépression d'une forme prédé- terminée et dans une position prédéterminée espacée du pôle dans la surface de coussin d'air du coulisseau, ce procédé consistant à appliquer une couche de matière photosensible négative transparente sur les surfaces à coussin. d'air comprenant les pôles, la matière photo- sensible n'ayant un pouvoir de solution que pour des lig- nes supérieures à une largeur déterminée, à positionner ensuite près des surfaces de coussin d'air un masque ayant la forme des ouvertures définissant toutes les parties des surfaces de coussin d'air entourant les ca- vités à dépression, au moins deux de ces ouvertures con- tenant, dans.des positions prédéterminées, des marquages d'alignement consistant en des lignes opaques d'une lar- geur inférieure à la largeur prédéterminée, la phase de positionnement consistant à positionner le masque avec le marquage d'alignement dans une relation géométrique prédéterminée avec les pôles dans les surfaces de cous- sin d'air, en positionnant ainsi les régions opaques du masque pour définir sur les surfaces de coussin. d'air les positions qui doivent être occupées par les cavités à dépression; à exposer ensuite photographiquement la matière photosensible en utilisant la lumière qui traverse le masquepour y créer une configuration de matière photo- sensible non exposée correspondant à la forme et à la position prédéterminées des cavités à dépression; à éli- miner ensuite le masque: puis' à développer la couche pho- tosensible pour éliminer les régions non exposées par la- vage avec un solvant qui dissout les régions non exposées, et à attaquer ensuite par faisceau ionique les surfaces de coussin d'air pour créer les cavités à dépression. Le procédé peut comprendre une phase préliminaire de fixation de la barre sur un montage en la collant avec un adhésif qui résiste à la dissolution par le solvant utilisé pour développer la couche photosensible, la phase d'élimination de la matière photosensible consistant à laver le montage et la barre avec un solvant qui dissout à la fois la matière photosensible et l'adhésif qui colle la barre sur le montage. De préférence, la phase de fixation de la barre consiste à fixer la barre sur le montage en utilisant un adhésif à la cyanoacrylate, et la phase d'application de la matière photosensible consistant à appliquer cette ma- tière photosensible qui peut être dissoute dans la méthyl- éthyl-cétone et l'acétone. La phase d'application de la matière photosensible peut consister à appliquer la matière photosensible sous une épaisseur d'environ 100O microns, et avec un pouvoir de résolution seulement pour des lignes d'une largeur supé- rieure à 5 microns. D'autres caractéristiques et avantages de l'inven- tion seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre d'un exemple de réalisation et en se ré- férant aux dessins annexés sur lesquels: La Fig. 1 représente une courbe de hauteur de sustentation en fonction de la profondeur des cavités pour un coulisseau à dépression selon l'invention, la Fig. 2 est une vue en perspective d'une barre de coulisseau avant la formation des cavités à dépression par un procédé selon l'invention, la Fig. 3 représente le coulisseau de la Fig. 2 supporté par un montage de traitement, la Fig. 4 représente la barre de coulisseau intro- duite dans un dispositif d'étalement de matière photo- sensible, la Fig. 5 montre la barre de coulisseau après l'ap- plication de la couche photosensible, avec une partie du montage de traitement coupée, la Fig. 6 représente un masque de photogravure utilisé dans un procédé selon l'invention, la Fig. 7 représente une ouverture courante en forme de H du masque de la Fig. 6, la Fig. 8 montre une configuration d'alignement superposée sur la barre de coulisseau, la Fig. 9 est une vue à grande échelle d'une ouver- ture en forme de H superposée sur une extrémité de la barre de coulisseau, la Fig. 10 montre la barre de coulisseau après la mise en forme de la couche photosensible, avec une partie du montage de traitement coupée, la Fig. 11 est une vue à grande échelle de l'ex- trémité de la barre de coulisseau après la mise en forme de la couche photosensible et l'attaque ionique des cavi- tés du coulisseau, avec une partie du montage de traitement coupée, la Fig. 12 montre la barre de coulisseau après l'opération d'attaque ionique, avec les parties restantes de la couche photosensible éliminée, et la Fig. 13 représente un coulisseau à dépression réalisé selon le procédé de l'invention. Le procédé selon l'invention pour fabriquer un coulisseau à dépression est appliqué à une barre de coulisseau 10 représentée sur la Fig. 2 et à partir de laquelle des coulisseaux individuels peuvent être dé- coupés. La barre de coulisseau 10 comporte une première extrémité 12 et une seconde extrémité opposée 14. La barre de coulisseau 10 comporte également un bord avant 16, un bord arrière 18 et une surface arrière 19 disposée normalement à partir du bord 18. Plusieurs coulisseaux adjacents 20a, 20m sont disposés entre les extrémités 14. Chacun des coulisseaux découpés est limité par deux traits pointillés 22a, 24a, 22b, 24b, 22c, 24c; etc., comme représenté. Quand les cavités des coulisseaux ont été formées dans la barre 10, comme cela sera décrit par la suite, la barre 10 est découpée le long des poin- tillés pour enlever les treize coulisseaux 20a, 20m. Le coulisseau 20a est le coulisseau de la première extrémité et le coulisseau opposé 20m est le coulisseau de seconde extrémité, les coulisseaux 20b à 201 étant les coulisseaux intermédiaires. Chaque coulisseau 20a, 20m comporte deux têtes magnétiques de lecture/écriture (non représentées) qui sont disposés près du bord avant 18 de la barre 10. Les têtes magnétiques sont des têtes à pellicule mince et sont appliquées selon la technologie bien connue des pellicules minces sur la surface arrière 19, des coulis- seaux 20a, 20m. Chaque tête magnétique comporte un pôle ou un entrefer de lecture/écriture disposée à la surface de sustentation du coulisseau associé, et dans une posi- tion prédéterminée avec précision. Par exemple, le coulis- seau 20a comporte les pôles 26a, 28a; le coulisseau 20b comporte des pôles 26b, 28b; et ainsi de suite. Les pâles des têtes magnétiques se trouvent dans les parties des coulisseaux qui sont supportées le plus près du support d'enregistrement pour lire et/ou écrire sur ce support. Les pôles 26a, 26m, 28a, 28m sont visibles à l'oeil avec grossissement quand la barre a été fixée dans un disposi- tif d'alignement à projection non représentéS) et ils peuvent être utilisés pour l'alignement d'un masque photo- graphique définissant les dimensions, la forme et la posi- tion des cavités à dépression car les pôles sont position- nés exactement par rapport aux surfaces de coussin d'air. La barre de coulisseau 10 peut être faite de Alsimag, FOTOCERAM (nom de marque) ou en ferrite par exem- ple. Après la description de la barre de coulisseau 10, un mode de réalisation d'un procédé selon l'invention pour la fabriquer sera maintenant décrit. Une pellicule 50 de matière photosensible sèche, négative et transparente comme de RISTON (nom de marque) de Dupont de Namour et Compagnie, est d'abord appliquée sur la base 10 comme le montre la Fig. 4. Cette matière photosensible que l'on expose généralement à la lumière ultraviolette ou autre est soluble là o elle n'a pas été exposée dans un révélateur solvant d'hydrocarbure chloré, comme 1, l,l-trichloréthane. Un adhésif à la cyano- acrylate ou autre, utilisé pour coller la barre 10 sur un montage de traitement 40 qui sera décrit par la suite, résiste à la dissolution par le révélateur. Après le dé- veloppement, les régions non exposées de la matière photo- sensible sont dissoutes par le révélateur, laissant une configuration de matière photosensible correspondant aux régions exposées à la lumière ultraviolette ou autre lu- mière d'activation, avec dans le cas présent, une carac- térisation négative. Pendant la formation des cavités d'une profondeur de 10 à 12 microns pour la barre 10, une épaisseur d'au moins 25 à 40 microns de matière photo- sensible est éliminée par l'attaque ionique. Il importe que la matière photosensible 50 ne soit pas perforée pendant l'attaque car cela conduirait à attaquer des régions de la barre 10 qui ne doivent pas l'être. Par conséquent, la matière sensible 50 appliquée doit avoir une épaisseur d'au moins 50 microns de manière à conser- ver une certaine marge de sécurité. La matière photosensible doit être transparente pour que les pôles 26a 26m, 28a - 28m soient visibles à travers elle. Pendant une phase d'alignement, les pôles peuvent donc servir à positionner un masque. Pour appliquer la matière photosensible sur la barre O10, cette dernière est d'abord placée dans le montage 40 représenté sur la Fig. 3. Il est préférable que la barre soit montée dans le montage 50 par collage avec un adhésif tel qu'un adhésif à la cyanoacrylate. Cet adhé- sif est dissout par divers solvant d'hydrocarbure aroma- tique comme la méthyl-éthylcétone et l'acétone, mais non par les solvants d'hydrocarbures chlorés comme 1,1,1- trichloroéthane utilisé pour développer la matière photo- sensible. La dissolution de l'adhésif pendant le déve- loppement libérerait prématurément la barre de coulisseaux du montage 40. Pour appliquer la substance photosensible sur la barre de coulisseaux 10, cette dernière est d'abord placée dans un montage de traitement 40 en aluminium représenté sur la Fig. 3. La barre 10 dépasse au-dessus du montage de 25,4 microns, comme représenté. La barre 10 reste dans le montage 40 pratiquement pendant tout le traitement, comme cela apparaîtra par la suite. Avant l'application de la couche photosensible, la barre 10 et le montage 40 passent par une phase de chauffage préalable dans laquelle -la barre est chauffée jusqu'à une température superficielle de 90 C pour améliorer l'adhérence de la matière photo- sensible. Après cette phase de chauffage, le montage 40 et la barre 10 sont introduits entre des rouleaux 47,48 d'une machine de contre-collage comme le modèle DYNACHEM N 120, fabriqué par Thiokol/Dynachem Corp., Elmhurst, Illinois (Fig. 4). Le rouleau supérieur 47 applique sous pression une feuille de matière photosensible 50 en pel- licule sèche sur la barre 10 comme le montre la Fig. 5. La couche photosensible 54 est appliquée de manière que des parties de chevauchement 56, 57 passent sur le bord avant et le bord arrière 16, 18 de la barre 10. La partie 57 se prolonge au-delà du bord arrière 18 et protège les têtes en pellicules minces formées sur la surface ar- rière 19 de la barre 10 par le faisceau ionique pendant la phase d'attaque qui sera décrite par la suite. Quand la couche photosensible 54 a été appliquée la barre 10 et le montage 40 sont montées dans un porte- pièce d'une machine d'alignement à projection (non re- présentée) comme le modèle Cobilt N CA 400A, fabriqué par Cobilt Corp., Sunnyvale, Californie. Un masque de photogravure 60 représenté sur la Fig. 6 est placé dans un porte-masque de l'appareil d'alignement à projection. Le masque 60 est opaque sauf dans une configuration d'ouverture 64 qui est transparente à la lumière ultra- violette et à la lumière visible. La configuration 64 con- siste essentiellement en plusieurs ouvertures 70b, 701, identiques, en forme de H, également espacéeset voisines les unes des autres qui sont disposées entre l'ouverture a de première extrémité et l'ouverture 70m de seconde extrémité. La configuration 64 comporte une première fe- nêtre 66 de réglage plus grossier qui se trouve vers l'extérieur de l'ouverture de première extrémité 70a et - une seconde fenêtre 68 de réglage grossier qui se trouve vers l'extérieur de l'ouverture 70m de seconde extrémité. Une ouverture en forme de H 70a, 70m est représentée plus en détail sur la Fig. 7. L'ouverture en forme de H, dans l'exemple représenté l'ouverture 70a, comporte deux branches verticales 71a, 74a qui sont reliées par une partie transversale 77a disposée horizontalement. La branche 71a comporte une partie supérieure 72a et une partie inférieure 73a. De même, la branche 74a comporte une partie supérieure 75a et une partie infé- rieure 76a. Dans la partie inférieure de la branche 71a, un marquage dhlignement 80a est disposé sous la forme d'une ligne opaque. De même, un marquage d'aligne- ment 82a formé d'une ligne opaque est disposé dans la partie inférieure de la branche 74a. D'autres marquages d'alignement opaques sont disposés dans des positions correspondantes, d'au moins une autre ouverture en forme de H, de préférence l'ouverture 70m à l'extrémité oppo- sée du masque 60, si seulement une autre ouverture en H comporte ces marquages. Les marquages d'alignement 80a, 82a, sont placés chacun dans une position prédéterminée par rapport aux ouvertures en H 70a, 70m de sorte que quand les marquages d'alignement sont alignés dans une relation géométrique prédéterminée avec les pôles 26a, 26m, 28a, 28m, le mas- que se trouve positionné de manière que les régions des surfaces de coussin d'air définies par les ouvertures en H 70a, 70m correspondent exactement aux régions en- tourant les cavités à dépression. La relation géométrique peut être l'une quelconque de plusieurs relations pouvant être reconnues visuellement pendant la phase d'alignement pour permettre le positionnement précis du masque 60 sur la surface de coussin d'air de la barre, afin de définir la position éventuelle précise des cavités à dépression. Pendant l'alignement, les marquages d 'alignement 80a, 82a et les pôles 26a, 26m et 28a -28m sont éclairés en lumière visible pour faciliter l'alignement. Etant donné que les pôles 26a, 26m, 28a, 28m sont les seules caractéristiques distinctes qui sont pré- sentes et positionnées exactement à la surface à attaquer, il est de beaucoup préférable qu'ils soient utilisés pour l'alignement. Etant donné que les pôles eux-mêmes ne doivent pas être attaqués, l'utilisation d'une matière photosensible négative et transparente est nécessaire pour que les pôles soient visibles à travers les ouver- tures des masques pendant l'alignement. Les marquages d'alignement 80a, 82a n'occupent qu'une petite surface des ouvertures des masques comme le montre la Fig. 7. Il s'est avéré que les marquages d'alignement a, 82a ne peuvent être résolus par la matière photo- sensible pour crier des régions développables sur la couche photosensible 54 de 50 microns s'ils sont plus minces qu'environ 5 microns pour une matière comme le RISTON (nom de marque). Autrement dit, la couche photo- sensible de 50 microns a un pouvoir de résolution seule- ment pour des lignes d'une épaisseur supérieure à 5 microns. Bien entendu, d'autres matières photosensibles et d'autres épaisseurs peuvent avoir un pouvoir de ré- solution pour des lignes plus fines ou plus grosses, que les 5 microns spécifiés, ce qui place des contrain- tes sur la largeur choisie pour les marquages d'aligne- ment 80a, 82a pour la raison suivante. Il importe que les marquages d'alignement 80a, 82a ne créent pas une configuration développable dans la couche photosensible 54 car autrement, l'opération d'attaque créerait une ca- vité dans la surface de coussin d'air près des pôles, ce qui serait indésirable, et pourrait même entraîner une certaine attaque des pôles. En même temps, les mar- quages d'alignement doivent être suffisamment épais pour être visibles à l'opérateur sous grossissement pendant l'alignement, condition satisfaite par des lignes de microns. En outre, des épaisseurs de lignes dans la région des 5 microns sont moindres que quelques centaines pour cent des dimensions courantes des pôles 26a, 26m, 28a, 28m ce qui permet qu'une relation géométrique pré- déterminée entre les marquages d'alignement 80a, 82a et les pôles soit facilement reconnue et obtenue par l'opérateur pendant l'alignement du masque 60 sur la surface de coussin d'air. Ainsi, la position prédéter- minée du masque 60 peut être obtenue de façon sûre afin que les cavités à dépression soient positionnées exacte- ment sur les surfaces de coussin d'air. Pour aligner la configuration d'ouvertures 64 sur les coulisseaux 20a, 20m de la barre 10, cette der- nière et le masque 60 sont éclairées à la lumière visi- ble qui n'expose pas photographiquement la couche photo- sensible 54, puis la barre 10 est déplacée par un méca- nisme approprié de positionnement pour positionner symé- triquement les extrémités 12 et 14 de la barre 10 dans les fenêtres d'alignement grossier 66, 68 de la configu- ration 64. En variante, le masque 60 peut être déplacé pendant que la barre 10 reste immobile. La Fig. 8 illus- tre ce positionnement de la barre de coulisseaux 10 par rapport à la configuration 64. Lorsque cet alignement grossier a été effectué, l'opérateur effectue un réglage précis des coulisseaux 20a, 20m avec la configuration 64 en examinant d'abord l'ouverture de première extrémité a, généralement sous grossissement, et en déplaçant la barre 10 jusqu'à ce que les pôles 26a-28a du coulisseau a soient alignés avec les marquages d'alignement 80a, 82a de l'ouverture de première extrémité 70a (Fig. 9) afin d'obtenir la première relation géométrique prédéter- minée. Les pôles 26a, 28a sont visibles car la matière photosensible est transparente à la lumière visible. Les marquages 80a, 82a se trouvent dans la relation géométri- que préférée lorsqu'ils sont centrés verticalement et disposés symétriquement par rapport aux pâles 26a, 28a comme le montre la Fig. 9. Pour compléter l'alignement précis de la barre 10 avec le masque 60, l'opérateur exa- * mine ensuite l'ouverture opposée 70m de seconde extrémité et il déplace la barre 10 pour aligner les pôles 26m, 28m du coulisseau 20m avec les marquages d'alignement 80m 82m de l'ouverture 70m de seconde extrémité de la même manière que celle représentée par la Fig. 9. Quand les pôles des deux coulisseaux 20a, 20m sont alignés avec les marquages d'alignement correspondants des ouvertures a, 70m, l'alignement précis est terminé. En utilisant les pôles des coulisseaux 20a, 20m comme des points de référence, les cavités à dépression peuvent être posi- tionnées très exactement sur les coulisseaux 20a, 20m par rapport aux pôles des coulisseaux individuels et être par conséquent situés avec précision sur. les surfaces de coussin d'air des coulisseaux individuels. Après avoir aligné la configuration 64 sur les coulisseaux20a, 20m, de la lumière ultraviolette est projetée à travers le masque 60 pour exposer les ouver- tures en H 70a, 70m sur la couche photosensible 54 des coulisseaux 20a, 20m. Grâce à l'utilisation d'un procédé de photogravure à substance photosensible négative, les configurations en H exposées sont développées, les par- ties non exposées de la couche photo sensible 54 étant éliminées en utilisant par exemple une pulvérisation à basse pression de l,l,ltrichloroéthane. Par conséquent, à ce point du processus, seules subsistent dans la couche photosensible 54 les treize configurations en H 90a, 90m représentées sur la Figure 10. Il faut noter que les branches des ouvertures en H 70a, 70m dépassent les bords avant et arrière 16, 18 de la barre 10. Les parties en dépassement 98 qui s'éten- dent au-delà du bord arrière 18 protègent les parties ex- posées des têtes magnétiques (non représentées) qui sont contre-collées sur la surface arrière 19 de la manière déjà décrite. Le prolongement de la couche photosensible pour couvrir les parties exposées des têtes magnétiques est extrêmement important car, pendant l'opération d'at- taque ionique, des ions sont projetés sur la barre de cou- lisseaux 10 sous un angle de 45 à 25 par exemple, par rapport à la surface de la barre 10. Par conséquent, les parties exposées des têtes magnétiques seraient attaquées si elles n'étaient pas ainsi protégées. Après la mise en forme de la couche photosensible, avec la barre 10 encore fixée dans le montage 40, ce der- nier est monté dans une machine d'attaque ionique, comme le modèle 101500-10 de Ion Source fabriqué par Ions Tech, Inc., Fort Collins, Colorado. Le montage 40 est tourné pendant l'opération d'attaqué ionique pour faciliter une attaque uniforme. Pendant l'opération d'attaque ionique, les configurations 90a, 90m protègent les parties directe- ment sous-jacentes des coulisseaux 20a, 20m contre l'atta- que pendant que les cavités à dépression sont creusées à la profondeur voulue. Le temps d'attaque et la tension d'accélération des ions ainsi que le courant ionique sont choisis pour creuser les cavités à la profondeur voulue. La partie de chaque coulisseau qui se trouve directement - au-dessous des configurations 90a - 90m constitue la surface de sustentation par coussin d'air du coulisseau terminé. Par exemple, la configuration 90a protège une surface de sustentation 21a du coulisseau 20a (Fig. 11 à 13). La Fig. 11 montre le coulisseau 20a à la fin de l'opération d'attaque ionique, avec les cavités à dépres- sion 100a, 102a creusées jusqu'à la profondeur voulue. La cavité 100a est définie par la partie inférieure des branches 91a, 94a et la partie transversale 97a. La cavi- té 102a est définie par les parties supérieures des bran- ches 91a, 94a et la partie transversale 97a. Pendant que les cavités 100a, 102a du coulisseau 20a sont attaquées, les cavités lOOb - lOOm, 102b - 102m sont attaquées si- multanément dans les coulisseaux respectifs 20b, 20m. L'attaque ionique de la barre de coulisseau 10 produit de la chaleur qui doit être dissipée à partir de cette barre 10 pour protéger les coulisseaux 20a, 20m contre toute surchauffe. Dans le présent mode de réalisation, le montage 40 qui supporte la barre 10 est fixé dans la machine d'attaque ionique de manière que l'adhésif à la cyanoacrylate conduise cette chaleur vers le montage 40 et de l'eau de refroidissement circule dans le montage pour éviter toute surchauffe des coulisseaux 20a-20m. Quand l'opération d'attaque ionique est terminée, les configurations 90a, 90m peuvent être éliminées, par exemple par lavage ou en plongeant la barre 10 d'abord dans un bain d'acétone et en la plaçant ensuite dans un bain de nettoyage aux ultrasons. L'utilisation d'acétone ou de méthyl-éthyl-acétone a en plus l'avantage de libé- rer la barre de coulisseau 10 de sa fixation sur le mon- tage 40 simultanément avec l'élimination de la matière photosensible exposée qui reste après l'attaque ionique ce qui évite une autre opération de traitement. Après l'enlèvement des parties qui restent de la matière photosensible et la libération de la barre de cou- lisseau 10 du montage 40, le résultat est une barre 10 telle que représentée sur la Fig. 12, dans laquelle les treize coulisseaux 20a, 20m comportent chacun deux cavi- tés à dépression lOOa, 100m et 102a-102m positionnées avec précision. Les coulisseaux 20a-20m peuvent mainte- nant être découpés de la barre 10. Pour couper le coulis- seau 20a à partir de la barre 10, une meule au diamant peut être utilisée pour le découpage suivant les traits pointillés 110a, 112a (qui correspondent aux pointillés 22a, 24a de la Fig. 2). De la même manière, les autres coulisseaux 20b-20m peuvent être séparés par découpage le long des lignes de coupe llOb-llOm et 112b-112m res- pectivement. Les surfaces de sustentation 21a - 21m peu- vent alors être légèrement rodées. Les coulisseaux 20a- m peuvent alors être nettoyés dans l'acétone et dans l'eau pour terminer les opérations. La Fig. 13 représente un coulisseau 2Qa fabriqué selon le procédé de l'invention. Le coulisseau 20a com- porte une surface de sustentation 21a par coussin d'air en forme de H et deux cavités à dépression lOOa-102a po- sitionnées et formées avec une très grande précision. Les pôles 26a-28a du coulisseau 20a peuvent maintenant être déplacés sur la surface d'enregistrement à une hau- teur de sustentation contrôlée avec précision pour opti- miser les performances de la tête magnétique. Dans le mode actuellement préféré de réalisation de l'invention, la matière choisie pour la barre de coulisseaux 10 est de l'Alsimag. La matière photosensible consistant en RISTON (nom de marque) comme cela a été in- diqué est appliquée jusqu'à une épaisseur d'environ 50 microns. Les cavités à dépression lOOa-lOOm, 102a-102m sont attaquées par faisceaux ioniques jusqu'à une profon- deur de 12 microns. Pour obtenir la profondeur d'attaque de 12 microns en utilisant la machine d'attaque du modèle -1500- 200 de Ion Tech, une tension d'accélération de 1200 Volts avec un courant ionique de 125 milliampères est utilisée pendant 150 minutes. Le diamètre du faisceau d'attaque ionique est 10 cm. Ces paramètres entraînent une dissipation de puissance de 1,9 Watt/cm à la surface de la barre de coulisseaux 10. Comme cela a été indiqué ci-dessus, la barre 10 est supportée dans un montage à refroidissement par eau pour dissiper cette chaleur. Pen- dant que les cavités llOa-llOm, 112a-112m sont creusées la couche photosensible est également attaquée. Environ 36 microns dans la couche photosensible de 48 microns sont éliminés pendant que les cavités des coulisseaux sont creusées jusqu'à ce qu'une profondeur de 12 miçrons. En général, l'angle d'attaque du faisceau ionique est 45 par rapport à la surface attaquée. Pour éviter un nouveau dépôt de la matière éliminée de la surface attaquée, l'angle d'attaque peut être modifié. Par exem- ple, avec une barre de coulisseau en Fotoceram (nom de marque), un angle d'attaque de 25 évite tout nouveau dépôt. Le procédé décrit ci-dessus assure donc un posi- tionnement très précis des cavités à dépression du cou- lisseau, tout en assurant également une forme précise des cavités ayant à volonté une profondeur de 12 microns. En outre, le processus est considérablement simplifié par rapport auxprocessus antérieurs en ce que le dépôt de métal et sa mise en forme sont éliminés. Le présent mode de réalisation comporte treize coulisseaux voisins fabriqués simultanément avec le pro- cédé selon l'invention mais il est évident que d'autres configurations pourraient être utilisées également avec des modifications correspondantes du masque servant à mettre en forme la couche photosensible. Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art au mode de réalisation décrit et illustré à titre d'exemple nullement limitatif sans sortir du cadre de-l'invention. REVENDICATIONS 1 - Procédé de fabrication, sur chaque surface de coussin d'air formée sur une barre (10) à partir de la- quelle plusieurs coulisseaux à coussin d'air (20a-20m) peuvent être découpés, comprenant chacun une tête magné- tique dont les pôles (26a, 28a -26m, 28m)font saillie sur la surface de coussin d'air (21a-21m) du coulisseau et dans une position prédéterminée, d'une cavité à dé- pression (10Oa-10Om, 102a-102m) d'une forme prédétermi- née et dans une position prédéterminée espacée par rapport aux pôles de la surface de coussin d'air des cou- lisseaux, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essen- tiellement à appliquer une couche (54) de matière photo- sensible négative et transparente sur les surfaces de coussin d'air y compris les pôles (26a, 28a - 26m, 28m), ladite matière photosensible ayant un pouvoir de résolu- tion seulement pour des lignes au-dessus d'une largeur prédéterminée, à positionner ensuite, près des surfaces de coussin d'air (21a-21m), un masque (60) portant une configuration d'ouvertures définissant les parties entiè- res des surfaces de coussin d'air entourant les cavités à dépression (10Oa-lOOm, 102a-102m), deux au moins des- dites ouvertures (70a-70m) contenant dans des positions prédéterminées des marquages d'alignement (80a, 82a) con- sistant en des lignes opaques d'une largeur inférieure à la largeur prédéterminée, ladite phase de positionnement consistant à positionner le masque (60) par rapport aux marquages d'alignement (80a, 82a) dans une relation géo- métrique prédéterminée par rapport aux pôles (26a, 28a- 26m, 28m) dans les surfaces de coussin d'air, en posi- tionnant ainsi les régions opaques du masque pour défi- nir sur les surfaces de coussin d'air (21a, 21m) les posi- tions qui doivent être occupées par les cavités à dé- pression (lOOa-lOOm, 102a-102m), puis à exposer photo- graphiquement la matière photosensible en utilisant de la lumière qui traverse le masque (60) pour y créer une configuration de matière photosensible non exposée correspondant à une forme et une position prédéterminées des cavités à dépression, puis à éliminer le masque (60) et à développer la matière photosensible pour éliminer ces régions non exposées, par lavage avec un solvant qui dissout les régions non exposées et à attaquer par fais- ceau ionique les surfaces de coussin d'air (21a-21m) pour créer les cavités à dépression. 2 - Procéaé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend une phase préliminaire de fixation de la barre (10) sur un montage (40) par collage avec un adhésif qui résiste à la dissolution par le solvant uti- lisé pour développer la matière photosensible, la phase d'élimination de matière photosensible comprenant le la- vage du montage (40) et de la barre avec un solvant dissol- vant à la fois la matière photosensible et l'adhésif-qui colle la barre sur le montage. - 3 - Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'opération de fixation de la barre consiste à fixer la barre (10) sur le montage (40> en utilisant un adhésif à la cyanoacrylate, et la phase d'application de la matière photosensible consistant à appliquer une ma- tière photosensible qui peut être dissoute dans la méthyl- éthyl-cétone ou dans l'acétone. 4 - Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 1 à 3, caractérisé en ce que la phase d'applica- tion de la matière photosensible consiste à appliquer une matière photosensible d'une épaisseur d'environ 50 microns avec un pouvoir de résolution seulement pour des lignes d'une largeur supérieure à 5 microns. - Coulisseau à dépression, caractérisé en ce qu'il est fabriqué parle procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4.