FR 2581252 A1 19861031 FR 8506410 A 19850426 -12- "COMPOSANT SEMICONDIJCTEUR DIJ TYPE PLANAR A STRUCTURE D'ANNEAUX DE GARDE, FAMILLE DE TELS COMPOSANTS ET PROCEDE DE REALISATION". La présente invention concerne un composant semiconducteur du type "planar", comportant un substrat forte- ment dopé et une couche épitaxiale superficielle de concentra- tion de porteurs c, dans laquelle sont réalisées une jonction p-n principale de profondeur xj et une structure d'anneaux de garde flottants. Elle concerne également une famille de compo- sants du genre de celui décrit dans le préambule, chaque com- posant de la famille étant défini par une tension maximale de fonctionnement V. Enfin, l'invention concerne aussi un procédé de réalisation d'une telle famille de composants. L'invention trouve une application particuliâre- ment avantageuse dans le domaine des dispositifs tels que dio- des de redressement, transistors à effet de champ, transistors bipolaires, thyristors, et notamment les dispositifs de puis- sance fonctionnant à des tensions élevées. Un composant semiconducteur conforme au préambu- le est décrit dans la demande de brevet européen n'O 115 093. Ce composant est constitué d'une jonction "planar" principale entourée d'anneaux de garde permettant d'augmenter la tension de claquage au voisinage de la surface de la couche épitaxiale superficielle déposée directement sur le substrat fortement dopé. L'épaisseur et la concentration c de cette couche sont déterminées de façon que la tension de claquage à travers la couche soit supérieure à la tension maximale de fonctionnement V et aussi que la résistance à l'état passant soit minimale. La structure des anneaux de garde, c'est à dire leur nombre, leur largeur et leur distance, est calculée, de façon classi- que, en fonction de la profondeur xj de la jonction p-n prin- cipale, de la concentration c de la couche épitaxiale et de la - 2 - tension maximale de fonctionnement V souhaitée. Cette structu- re est reproduite sur un masque de dopage servant à réaliser simultanément la jonction p-n principale et les anneaux de garde flottants. Donc, à chaque composant semiconducteur particu- lier correspond un masque spécifique, ce qui multiplie consi- dérablement le nombre de masques lorsque l'on fabrique une grande variété de tels composants. C'est l'tobjet de la présen- te invention de proposer un composant semiconducteur conforme la au préambule qui pourrait être adapté à une structure d'an- neaux de garde donnée. En effet, selon la présente invention, un compo- sant semiconducteur du type "planer", comportant un substrat fortement dopé et une couche épitaxiaIe superficielle de concentration de porteurs C, dans laquelle sont réalisées une jonction p-n principale de profondeur xj et une structure d'anneaux de garde flottants, est remarquable en ce qu'il com- porte également, entre le substrat et la couche épitaxiale su- perficielle, une deuxième couche épitaxiale de concentration de porteurs c'. Ainsi, en ajustant l'épaisseur de la couche su- perficielle, la concentration c' de la deuxième couche épita- xiale ainsi que son épaisseur, il est possible, pour une configuration d'anneaux donnée, de concevoir un composant semiconducteur fonctionnant à la tension maximale de fonction- nement désirée et avec une résistance à l'état passant optima- le. e C'est le cas en particulier lorsque l'on désire réaliser une famille de composants du même type, présentant des tensions maximales de fonctionnement différentes. Alors, selon l'invention, une famille de composants semiconducteurs du type "planer" comportant un substrat fortement dopé et une couche épitaxiale superficielle de concentration de porteurs c, dans laquelle sont réalisées une jonction p-n principale de profondeur xj et une structure d'anneaux de garde flottants, chaque composant de la famille étant défini par une tension -3- maximale de fonctionnement V, est remarquable en ce que, une structure particulière d'anneaux de garde flottants ayant été déterminée pour un autre composant du même type, dit composant de référence, extérieur à la famille, constitué d'une couche épitaxiale unique d'épaisseur eo et de concentration c, et présentant une tension maximale de fonctionnement Vm supérieu- re à celles de tous les composants de la famille, chaque com- posant de la famille présente également, d'une part, ladite structure particulière d'anneaux de garde pour structure d'an- neaux de garde, et, d'autre part, entre le substrat et la cou- che épitaxiale superficielle, une deuxième couche épitaxiale de concentration de porteurs c', supérieure à c, la somme de l'épaisseur e de la couche épitaxiale superficielle et de l'é- paisseur e' de la deuxième couche épitaxiale étant au plus égale à l'épaisseur eo. L'invention consiste donc à définir une structu- re d'anneaux unique pour tous les composants de la famille qui peuvent alors être réalisés à l'aide d'un seul masque, avec les avantages évidents d'industrialisation que cela procure. La détermination de la concentration c' et des épaisseurs e et e' est conduite, notamment, selon un premier procédé de réalisation de ladite famille de composants qui, conformément è l'invention, est remarquable en ce que, pour ledit composant de référence, on calcule, dans le cas d'une structure plane, l'épaisseur eo et la concentration c de la couche épitaxiale unique de façon que la tension de claquage à travers la couche soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement Vm et que la résistance Ron à l'état passant soit minimale, et en ce qu',ensuite, on détermine ladite structure particulière d'anneaux de garde flottants associée à la jonction p-n principale de profondeur xj, et en ce que, pour chaque composant de la famille, on calcule les épaisseurs e et e' en maintenant e + e' = eo, et la concentration c', de manière que la tension de claquage soit au moins égale à la tension nominale de fonctionnement V et que la résistance Ron -4- à l'état passant soit minimale. Ce procédé a l'avantage d'être simple à mettre en oeuvre dans la mesure o tous les composants de la famille ont la même épaisseur totale quant à leurs couches épitaxiales et donc correspondent à une opération d'épitaxie standard. Cependant, les composants obtenus par ce procédé n'ont pas une résistance Ron optimale du fait que l'épaisseur totale eo est en général surdimensionnée, notamment pour ceux des composants qui ont une faible tension maximale de fonctionnement. Pour éviter cet inconvénient on a recours à un deuxième procédé selon l'invention, remarquable en ce que, pour ledit composant de référence, on calcule, dans le cas d'une structure plane, l'épaisseur eo et la concentration c de la couche épitaxiale unique de façon que la tension de claquage à travers la couche soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement Vm et que la résistance Ron à l'état passant soit minimale, et en ce qur,ensuite, on détermine ladite structure particulière d'anneaux de garde flottants associée à la jonction p-n prin- cipale de profondeur xj, et en ce que, pour chaque composant de la famille, on calcule, d'abord, la concentration c' et une-- épaisseur totale e'o, qui pour une seule couche épitaxiale de concentration c' en structure plane, permettent d'obtenir une tension de claquage au moins égale à la tension maximale de fonctionnement V et une résistance Ron à l'état passant mini- male, et en ce qu'on fixe une valeur de l'épaisseur e au moins égate-à la dist-aaee,-ci--entre la--jonction-principale etle pre- mier anneau de garde, l'épaisseur e' étant alors prise égale à -.-- e'0 - e. La description qui va suivre en regard des dessins annexés, --donnés à titre d'exemples non limitatifs, fera bien comprendre en quoi consiste l'invention et-comment elle peut être réalisée. La figure 1 montre en coupe partielle un compo- sant semiconducteur selon l'invention. La figure 2 est une vue en coupe d'un composant de référence et de deux composants appartenant à deux familles 258 1 2 5 2 -5_ réalisées, à partir du composant de référence, selon deux pro- cédés conformes à l'invention. La figure 3 donne sur une vue en coupe la défi- nition des paramètres d'une structure d'anneaux de garde. La figure 1 est une vue en coupe partielle d'un composant semiconducteur du type "planar", comportant un subs- trat 11 fortement dope, ici de conductivité n+, constituant par exemple le drain d'un transistor MOS, et une couche épita- xiale superficielle 12 de concentration de porteur c, de conductivité n dans le cas de la figure 1. Dans cette couche épitaxiale 12 sont réalisées une jonction p-n 13 principale de profondeur xj et une structure 14 d'anneaux de garde flottants qui permettent d'éviter le claquage en surface lorsque la tension de polarisation qui bloque la jonction p-n 13 augmen- te, la région d'appauvrissement traverse successivement chacun des anneaux avant que la tension de claquage soit atteinte. La couche épitaxiale superficielle 12 est revêtue en partie- d'une couche d'oxyde 20. La zone de surface correspondant à la jonc- tion principale 13 est recouverte d'une électrode métallique 21 à laquelle est appliquée une tension négative -V élevée par rapport à la couche 12 de façon à polariser la jonction p-n 13. Une sécurité supplémentaire est obtenue grâce à un anneau n+22 disposé à la périphérie du cristal de manière à empêcher la région d'appauvrissement d'atteindre le bord du cristal. Une électrode flottante 23 recouvre partiellement l'anneau 22 et la couche d'oxyde 20. Comme on peut le voir à la figure 1, le compo- sant semiconducteur comporte également, entre le substrat 11 et la couche épitaxiale superficielle 12, une deuxième couche épitaxiale 15 de concentration de porteurs c'. Cette configu- ration à deux couches épitaxiales de concentrations différen- tes permet, en donnant aux concentrations et aux épaisseurs des couches des valeurs adéquates, de réaliser un composant ayant une tension de claquage donnée et une résistance à l'état passant Ron minimale, lorsqu'une structure d'anneaux de garde flottants est imposée. En particulier, on peut ainsi envisager de n'utiliser qu'un seul masque pour fabriquer une famille de composants semblables, ne différant entre eux que par la valeur de leur tension maximale de fonctionnement V. Dans ce cas, comme l'indique la figure 2, une structure particulière d'anneaux de garde flottants est déterminée pour un autre composant du même type, dit composant 17 de référence, extérieur à la famille, constitué d'une couche épitaxiale unique 18 d'épaisseur eo et de concentration c, et présentant une tension maximale de fonction Vm supérieure à celles de tous les composants de la famille. Alors, chaque composant 16 de la famille présente également, d'une part, la structure particulière d'anneaux de garde, et, d'autre part, conformément à la figure 1, une deuxième couche épitaxiale 15 située entre le substrat 11 et la couche superficielle 12. Cette deuxième couche 15 a une concentration de porteurs c', supérieure à c, et son épaisseur e' est telle que la somme e + e' est au plus égale à eo. La figure 2(a) montre un composant 16 de la famille réalisé selon un premier procédé qui consiste en ce qu'on calcule, d'abord, pour le composant 17 de référence, dans le cas d'une structure plane, l'épaisseur eo et la concentration c de la couche épitaxiale unique 18 de façon que la tension de claquage à travers la couche 12 soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement Vm et que la ré- sistance Ron à l'état passant soit minimale. On détermine ensuite ladite structure particulière d'anneaux de garde flottants associée à la jonction p-n principale 13 de profondeur xj. Puis pour, chaque composant 16 de la famille, on calcule les épaisseurs e et e' en maintenant e + e' = eo, et la concentration c', de manière que la tension de claquage soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement V et que la résistance Ron à l'état passant soit minimale. La Demanderesse a défini, par exemple, un compo- sant de référence ayant une tension maximale de fonctionnement Vm égale à 800 V, par les paramètres suivants: -7- xj = 6 Pm eo = 80 pm e 1014 cm-3 et la structure d'anneaux suivante (voir figure 3) = dl = 18 um d2 = 20 um d3 = 22 pm W1 = W2 = W3 = W4 = 10 Pm d4 = 25 upm d5 = 29 Mm W5 = 7 um d6 = 44 upm Cette même structure d'anneaux peut être utilisée pour réali- ser un composant de tension maximale de fonctionnement de 500 V défini par: c' = 2.1014 cm-3 e = 20 pm e' = 60 pm Le composant semiconducteur 16 de la figure 2(b) est obtenu selon un deuxième procédé dans lequel, après avoir déterminé la concentration c et la structure d'anneaux de gar- de pour le composant 17 de référence de la même façon que pour le premier procédé, on calcule d'abord, pour chaque composant 16 de la famille, la concentration c' et une épaisseur totale e'o qui, pour une seule couche épitaxiale de concentration c' en structure plane, permettant d'obtenir une tension de cla- quage au moins égale à la tension maximale de fonctionnement V et une résistance Ron à l'état passant minimale. Ensuite, on fixe une valeur de l'épaisseur e au moins égale à la distance d1 entre la jonction principale 13 et le premier anneau de garde, l'épaisseur e' étant alors prise égale à e'o - e. Ce procédé de réalisation permet en général d'obtenir des couches moins épaisses et donc une résistance à l'état passant encore plus faible que par le premier procédé. En particulier on trouve qu'avec la même struc- ture d'anneaux, on peut réaliser un composant de tension maxi- male de fonctionnement de 500 V avec les paramètres suivants: c 101O4 cm3 e' = 2.1014 cm-3 e = 40 pm e' = 15 Pm L'épaisseur totale de ce composant est de 55 um au lieu de 80 dans l'exemple précédent et sa résistance à l'état passant est plus faible. -8- REVENDICATIONS: 1. Composant semiconducteur du type "planar, com- portant un substrat (11) fortement dopé et une couche épita- xiale superficielle (12) de concentration de porteurs c, dans laquelle sont réalisées une jonction p-n (13) principale de profondeur xj et une structure (14) d'anneaux de garde flot- tants, caractérisé en ce qu'il comporte également, entre le substrat (11) et la couche épitaxiale superficielle (12), une deuxième couche épitaxiale (15) de concentration de porteurs c'. 2. Famille de composants semiconducteurs du type "planar" comportant un substrat (11) fortement dopé et une couche épitaxiale superficielle (12) de concentration de por- teurs c, dans laquelle sont réalisées une jonction p-n (13) principale de profondeur xj et une structure (14) d'anneaux de garde flottants, chaque composant (16) de la famille étant dé- fini par une tension maximale de fonctionnement V, caractéri- sée en ce que, une structure particulière d'anneaux de garde flottants ayant été déterminée pour un autre composant du même type, dit composant (17) de référence, extérieur à la famille, constitué d'une couche épitaxiale unique (18) d'épaisseur eo et de concentration c, et présentant une tension maximale de fonctionnement Vm supérieure à celles de tous les composants de la famille, chaque composant (16) de la famille présente également, d'une part, ladite structure particulière d'anneaux de garde pour structure (14) d'anneaux de garde, et, d'autre part, entre le substrat (11) et la couche épitaxiale superfi- cielle (12), une deuxième couche épitaxiale (15) de concentra- tion de porteurs c', supérieure à c, la somme de l'épaisseur e de la couche épitaxiale superficielle -(12) et de l'épaisseur e' à la deuxième couche épitaxiale (15) étant au plus égale à l'épaisseur eo. 3. Procédé de réalisation d'une famille de compo- sants semiconducteurs selon la revendication 2, caractérisé en ce que, pour ledit composant (17) de référence, on calcule, dans le cas d'une structure plane, l'épaisseur eo et la concentration c de la couche épitaxiale unique (18) de façon que la tension de claquage à travers la couche (18) soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement Vm et que la résistance Ron à l'état passant soit minimale, et en ce qu',ensuite, on détermine ladite structure particulière d'an- neaux de garde flottants associée à la jonction p-n (13) prin- cipale de profondeur xj, et en ce que, pour chaque composant (16) de la famille, on calcule les épaisseurs e et e' en main- tenant e + e' = eo, et la concentration c', de manière que la tension de claquage soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement V et que la résistance Ron à l'état passant soit minimale. 4. Procédé de réalisation d'une famille de compo- sants semiconducteurs selon la revendication 2, caractérisé en ce que, pour ledit composant de référence (17), on caleule, dans le cas d'une structure plane, l'épaisseur eo et la concentration c de la couche épitaxiale unique (18) de façon que la tension de claquage à travers la couche (18) soit au moins égale à la tension maximale de fonctionnement Vm et que la résistance Ron à l'état passant soit minimale, et en ce qu', ensuite, on détermine ladite structure particulière d'anneaux de garde flottants associée à la jonction p-n (13) principale de profondeur xj, et en ce que, pour chaque compo- sant (16) de la famille, on calcule, d'abord, la concentration c' et une épaisseur totale e'o, qui pour une seule couche épi- taxiale de concentration c' en structure plane, permettent d'obtenir une tension de claquage au moins égale à la tension maximale de fonctionnement V et une résistance Ron à l'état passant minimale, et en ce qu'on fixe une valeur de l'épais- seur e au moins égale à la distance d1 entre la jonction prin- cipale (13) et le premier anneau de garde, l'épaisseur e' étant alors prise égale à e'o - e.