FR 2569035 A1 19860214 FR 8412602 A 19840809 i COUCHE METALLIQUE POUR SUPPORT D'INFORMATION INSCRIPTIBLE THERMO-OPTIQUEMIENT ET SON PROCEDE DE FABRICATION La présente invention se rapporte à l'enregistrement par voie thermooptique de l'information. Cette technique d'enregistrement est basée sur la mise en oeuvre d'une structure thermosensible possédant une surface de référence dans l'étendue de laquelle sont produites des modifications localisées de ses caractéristiques optiques. Ces modifications sont lisibles optiquemernt et sont le résultat de l'interaction produite par un faisceau laser focalisé qui explore la surface de référence et dont l'intensité est modulée en accord avec l'information à transcrire. La technique d'enregistrement thermo-optique offre l'avantage de ne nécessiter aucun traitement postérieur à l'insolation de la surface photosensible, si bien que la structure thermosensible peut être protégée dès sa fabrication par une enveloppe perméable aux rayonnements d'écriture et de lecture. En outre, le fait que la lecture peut intervenir immédiatement après l'inscription des données rend aisée l'exploitation d'un tel support d'information comme mémoire de masse à haute densité d'information. L'enregistrement 'thermo-optique est fondé sur la conversion en chaleur d'une fraction aussi importante que possible de l'énergie rayonnée incidente. Cela suppose que l'un des éléments de la structure thermosensible est capable, sous une très faible épaisseur, d'absorber le rayonnement incident. La chaleur dégagée par l'impact du faisceau optique est destinée à produire la modification de caractéristique optique désirée en jouant sur l'élévation de température associée au dégagement de chaleur. Pour des raisons d'efficacité et de résolution, l'échauffement transitoire- doit rester confiné à proximité immédiate du centre de la zone d'impact du faisceau inscripteur. L'élévation de température au centre, lorsqu'elle atteint une valeur de seuil prédéterminée initie la phase proprement thermique du processus d'écriture qui peut mettre en oeuvre un phénomène d'ablation, de coalescence, de déformation ou de changement de texture. Ainsi il devient possible de différencier optiquement les zones de la structure thermosensible o le phénomène thermique s'est développé de celles qui ont conservé leur aspect initial. La présente invention vise plus particulièrement le dépôt d'un film métallique continu de quelques dizaines à quelques centaines d'angstr6ms d'épaisseur, couche qui constitue dans une structure thermosensible l'élément collecteur du rayonnement incident o siège l'émission de chaleur celui-ci pouvant être changé dans sa forme ou sa texture du fait de son propre échauffement transitoire et/ou de l'échauffement qu'il communique à un élément sous-jacent avec lequel il coopère. Typiquement, le film métallique optiquement absorbant peut appartenir à une structure thermosensible comportant la formation d'irrégularités de surface telles que cratères ou bulles, mais aussi à des structures conservant un aspect pratiquement lisse, mais o la lisibilité optique découle d'un changement de texture décelable optiquement. La demande de brevet en France déposée le 23 Janvier 1980 sous le numéro 80/01423 *au nom de THOMSON-CSF avec l'intitulé "PROCEDE D'INSCRIPTION THERMO-OPTIQUE D'INFORMvATION ET SUPPORT D'INFORMATION DESTINE A LA MISE EN OEUVRE DE CE PROCEDE" a décrit un processus d'écriture thermo-optique qui consiste à provoquer entre une couche métallique optiquement absorbante et une sous couche organique à diffusivité thermique faible une perte d'adhérence localisée au point d'impact d'un faisceau inscripteur. Cette perte d'adhérence est associée à un dégagement gazeux qui, par expansion, produit une déformation sans rupture de la couche métallique. La demande de brevet en France déposée le 22 octobre 1976 sous le numéro 76 31 867 au nom de Thomson Brandt avec l'intitulé "SUPPORT D'INFORM;ATION DESTINE A L'ENREGISTREIvlENT D'INFORMATION ET PROCEDE D'ENREGISTREMENT D'INFORM-vATION SUR UN TEL SUPPORT" avait décrit une structure à double couche similaire, mais o le dégagement gazeux pouvait provoquer la rupture de la couche métallique. Ces deux documents suggèrent de réaliser le dépôt de la couche métallique par effet Joule, c'est à dire par évaporation sous vide poussé de métaux tels que l'or et le chrome. Le brevet américain 4,414,273 suggère de réaliser un support d'information thermosensible comprenant une couche thermosensible métallique. Il suggère un grand nombre de métaux pouvant être combinés parmi lesquels figurent l'or et le chrome et il fait référence à plusieurs techniques de dépôt sous des épaisseurs de l'ordre de 300 à 1500 Angstrims. La pulvérisation et le dépôt en phase vapeur sont mentionnés dans ce document. L'insolation thermo-optique d'un support d'information ayant pour objet d'utiliser l'impact d'un faisceau de rayonnement pour l'adressage d'une zone thermosensible, il faut encore que le changement de forme ou de texture produise une trace durable dans la surface de référence explorée par le faisceau et que cette trace soit aussi nette et ténue que possible. Le rôle de la couche métallique est donc d'absorber le rayonnement, de s'opposer à l'étalement en surface de la chaleur et lorsque le changement de forme ou de texture s'est manifesté, de participer au développement d'une empreinte assurant une lecture précise à court terme, mais aussi à long terme. Sachant que l'épaisseur d'une couche métallique mince intervient pour fixer ses propriétés absorbantes et sa diffusivité thermique, il est important de déterminer la composition et la technique de dépôt qui offre la meilleure latitude d'exposition, sans perdre de vue la sensibilité exigée, le rendement de fabrication et la stabilité à long terme de la structure thermosensible. Pratiquement, on s'efforce d'obtenir pour des épaisseurs allant jusqu'à 300 AngstrEms un pouvoir absorbant élevé associé à une faible diffusivité thermique. La mesure de la diffusivité thermique étant délicate, on peut la déduire d'autres grandeurs physiques qui sont la masse spécifique et la *conductivité thermique. Pour caractériser un dépôt métallique en matière de conductivité thermique, on peut s'appuyer qualitativement sur la connaissance de la conductivité électrique, car ces deux grandeurs sont corrélées et la seconde est plus facile à mesurer. La technique de l'évaporation sous vide d'une composition à base de métal précieux et d'un adjuvant métallique pour former un film métallique à la surface d'un matériau organique a été suggérée dans la demande de brevet N 80/01423 comme constituant un élément de structure approprié pour l'inscription thermo-optique. L'or cité en exemple permet d'obtenir des qualités de résistance à l'oxydation. L'alliage Cr20 Aua80 (en poids) a permis d'obtenir avec des épaisseurs de 40 à 100 Angstr ms, un pouvoir absorbant optique élevé et des qualités de dureté et de ductilité très appréciables pour graver des bulles avec une puissance laser incidente de seulement 8 milliwatt. L'évaporation sous vide présente cependant des inconvénients. En effet, le creuset o sont chauffés les constituants métalliques est régi par la loi des phases de GIBBS de sorte que la composition du dépôt n'a que peu de rapport avec le contenu du creuset. Un autre inconvénient est lié à la cinétique des particules métalliques à l'approche du support de couche qui fait que les sites occupés par. les premières particules accrochées au support ont tendance à capter les particules suivantes, les empêchant de donner naissance à de nombreux points de nucléation. Il en résulte un dépôt sous la forme d'agrégats cristallins à texture relativement grossière qui conduit en général à une limite élastique relativement faible. En outre, le dépôt par évaporation sous vide tend à favoriser l'existence de régions limitrophes oxydées dont l'épaisseur n'est pas négligeable par rapport à l'épaisseur globale du film déposé. En vue de pallier ces inconvénients, l'invention prévoit de réaliser sur un support le dépôt d'un film dont les constituants métalliques de départ sont agencés sur une cible. Cette cible, placée en regard du support, fait l'objet d'un bombardement ionique intense capable de conférer aux atomes métalliques extraits de cette cible assez d'énergie pour développer à la surface du support un agregat polycristallin ayant une texture sensiblement plus fine que celle à laquelle donne lieu un dépôt par évaporation sous vide poussé. Ce dépôt par pulvérisation cathodique a lieu sous pression réduite dans une enceinte à vide qui renferme un gaz rare. Des moyens magnétiques de confinement du bombardement de la cible sont prévus pour permettre la collecte d'atomes le plus près possible de la cible et favoriser ainsi la multiplication des sites de nucléation, ce qui limite la croissance des grains. L'invention a pour objet un procédé de fabrication d'un support d'information à inscription thermo-optique du type comportant une structure thermosensible adaptée au stockage et à la lecture optique d'information, ladite structure étant munie d'une couche mince métallique qui en collectant le rayonnement inscripteur incident produit un échauffement transitoire 'localisé faisant naitre au dessus d'un seuil de température un changement de caractéristique optique de ladite structure thermosensible, ledit procédé comportant à cet effet le dépôt d'un agregat polycristallin en forme de film mince recouvrant continument une surface d'accueil de ladite structure, ce dépôt provenant d'un flux incident de particules de métal précieux et d'un métal de transition, caractérisé en ce que pour obtenir une composition métallique déterminée, lesdites particules métalliques sont extraites d'au moins une cible exposée au bombardement d'autres particules confinées par champ magnétique qui proviennent d'une décharge électrique dans un gaz rare sous pression réduite; ladite surface d'accueil collectant lesdites particules métalliques avec une énergie résiduelle donnant lieu à une densité de sites de nucléation accrue par rapport à celle d'un dépôt similaire par évaporation sous vide. L'invention a également pour objet le support d'information obtenu par le procédé sus-mentionné. L'invention sera mieux comprise au moyen de la description ci-après et des figures annexées, parmis lesquelles: La figure 1 représente un bâti de pulvérisation cathodique pour la mise en oeuvre du procédé de fabrication selon l'invention, Les figures 2 et 3 représentent des variantes de réalisation du bâti de la figure 1, Les figures 4 et 5 sont des diagrammes explicatifs relatifs aux films minces selon l'invention, La figure 6 est une vue en coupe d'un support d'information selon l'invention, La figure 7 est une vue en plan d'un fragment de film ayant subi une inscription thermo-optique. Sur la figure 1, on peut voir le suDstrat 1 d'un support d'information au cours de la phase de dépôt d'un film mince métallique. Le substrat 1 est par exemple un disque perméable au rayonnement inscripteur, qui doit recevoir sur sa face 3 un dépôt métallique mince pour absorber' ce rayonnement et obtenir un dégagement calorifique. A cet effet, le disque 1 est monté sur un support rotatif 2 avec la surface d'accueil 3 tournée vers la base 5 d'un bâti de pulvérisation cathodique. Le bâti de pulvérisation cathodique comporteune chape 4 qui forme avec la base 5 une enceinte similaire à celle d'un bâti d'évaporation sous vide. Pour réaliser le vide dans l'enceinte, on a prévu un raccord avec un robinet 19 qui est relié par un conduit 20 à une pompe à vide. Un autre raccord est prévu avec un robinet 17 qui est relié à un conduit d'adduction de gaz. La base 5 est munie d'une traversée électrique étanche 6 dont le conducteur isolé de la base est relié au pôle négatif 8 d'une source électrique 7. Le pôle positif 9 de la source 7 est relié à la base 5. A l'intérieur de l'enceinte 4,5 sont prévus deux porte cibles 11 et 12 situés à la distance O de la face 3 du disque 1. Chaque porte cible 11 ou 12 est porté sur des colonnettes isolantes 10 qui reposent sur la base 5. Deux cibles en métal 13 et 14 sont respectivement déposées sur les porte cibles 11 et 12 et reliées électriquement au conducteur isolé de la traversée étanche 6. La source 7 est capable de développer une tension électrique V de quelques centaines de volt pour ioniser le gaz contenu dans l'enceinte de pulvérisation cathodique 4,5. Lorsque cette ionisation se produit, un courant i de l'ordre d'un ampère est débité par la source 7. Le dépôt à effectuer par pulvérisation cathodique doit avoir une composition telle qu'il présente de bonnes qualités de résistance à l'oxydation. C'est pourquoi l'une des cibles 13 ou 14 est constituée par un métal précieux tel que l'or, le platine, etc.. L'autre cible est faite d'un métal de transition qui sert d'adjuvant. Le métal adjuvant est généralement plus oxydable que le métal précieux choisi. Dans la suite de la description, la composition du dépôt métallique est faite d'or et de chrome, mais d'autres compositions peuvent être envisagées comme indiquées dans les documents cités ci-dessus. Par opposition à la technique d'évaporation sous vide qui nécessite un vide très poussé et qui n'utilise pas de décharge électrique pour extraire les particules métalliques, la présente invention met en oeuvre le bombardement d'une cible pour extraire des atomes neutres des métaux à déposer, ce qui permet de réaliser un dosage basé sur la surface émettrice des cibles, procédé de dosage géométrique bien plus souple à mettre en oeuvre que celui qui consiste à évaporer les métaux à partir de creusets chauffés. La décharge électrique produite dans l'enceinte 4,5 fait suite à ]5 une opération de pompage qui a abaissé la pression dans le bâti à une valeur de l'ordre de 2.10-6 Torr. Pendant cette opération préalable, le robinet 19 est ouvert et le robinet 17 est fermé. Pour rendre possible la décharge électrique avec une basse tension d'alimentation de l'ordre de 200 Volts, on ouvre le robinet 17, afin d'introduire de l'argon dans l'enceinte 4,5 et l'on règle cette adduction de gaz rare pour atteindre une pression de l'ordre de 3.10-3 Torr. On peut ajouter au gaz rare un autre gaz tel que l'hydrogène qui possède un effet réducteur important utile pour préparer la surface d'accueil 3 à recevoir le dépôt métallique. On sait qu'avec un vide poussé, le libre parcours moyen des particules évaporées peut atteindre plusieurs mètres. Il en va autrement lors d'une pulvérisation avec une pression réduite d'argon de 10-3 Torr, car le libre parcours moyen des particules effectuées de la cible est de l'ordre de 5 cm. Du fait des collisions plus fréquentes des particules métalliques arrachées avec les atomes gazeux présents entre les cibles 13 et 14 et le disque 1, on adopte une distance O de l'ordre de 18 à 20 cm, ce qui permet de disposer de particules dont l'énergie cinétique résiduelle permet d'assurer une grande densité de sites de nucléation. Dans le cas de l'évaporation sous vide, la distance D pourrait être beaucoup plus grande puisque la propagation a lieu dans un milieu très raréfié, mais l'énergie à l'approche du substrat est trop faible pour donner lieu à des impacts francs dès que des premiers sites de nucléation se sont formés. Les particules arrivantes viennent nourrir ces sites sans en créer de nouveaux de sorte que le dépôt se présente sous la forme d'un agrégat polycristallin à texture relativement grossière. Pour permettre un bon rendement d'extraction et pour limiter l'étendue de la zone o sont situées les particules chargées qui servent _ bombarder les cibles 13 et 14, l'invention prévoit d'équiper chaque porte cible 11, 12 d'aimants permanents disposés pour contraindre les électrons qui rebondissent sur la cible à retomber sur celle-ci. Ce mouvement à trajectoire en arceaux est illustré sur la figure 1 au dessus de la cible 13. Les particules neutres arrachées 15 et 16 échappent à ce confinement par champ magnétique, mais ont assez d'énergie cinétique pour surmonter les collisions qu'elles-ne manquent pas d'avoir avec le gaz de remplissage. Le confinement par champ magnétique favorise le rapprochement entre les cibles et la surface d'accueil 3 du disque sans porter celui-ci à une température exagérée. La rotation du disque 1 pendant le dépôt d'un film métallique contribue à l'homogénéité du dépôt et permet de réduire la collecte de chaleur. Un dépôt sous une épaisseur e de 150 Angstrôms nécessite une pulvérisation d'or et de chrome pendant deux minutes, ce qui est tout à fait satisfaisant du point de vue de l'économie d'un processus de fabrication industrielle. En prévoyant un sas d'attente pour les disques, on peut atteindre un bon rendement de fabrication pour des épaisseurs déposées allant jusqu'à 200 Angstrôms et plus. L'examen au microscope électronique, avec des grossissements très importants, montre qu'une couche déposée avec le bâti de la figure 1, pour un pourcentage de chrome de 35 %Y en poids, se présente comme un agrégat polycristallin ayant une taille moyenne de grain de l'ordre de 70 Angstr6ms. La technique de diffraction électronique permet d'apercevoir les anneaux caractéristiques de la structure cubique à faces centrées de l'or avec un faible élargissement. Le réseau cristallin de l'or est comprimé légèrement par la présence de chrome en solution solide intersticielle. Un agrégat polycristallin à texture superfine peut être obtenu en modifiant le bâti de la figure 1. Cette variante est illustrée sur la figure 2 o l'on voit que la distance cible-disque a été réduite de moitié. On a utilisé une cible de chrome 13 dont la surface soumise au bombardement a été partiellement masquée par des pastilles d'or 14. Grâce à cette configuration plus ramassée de la cible, la distance D' a pu être ramenée à 8 cm. Même avec des grossissements de l'ordre de 300.000 à 500.000, on observe pour des concentrations en chrome de 50 % à 70 %A, une texture de dépôt dont la frontière des grains reste malaisée à situer, mais qui permet néamoins de situer leur taille en deça de 20 Angstrôms. Les figures de diffraction électronique présentent des anneaux diffus. Pour une composition pulvérisé à 60 % de chrome, on peut observer une texture superfine dont les grains ont une taille estimée à moins de 15 Angstrôms. Une autre variante de bâti illustrée sur la figure 3 a donné des résultats de dépôt similaires à ceux obtenus avec la disposition de la figure 2. L'utilisation d'une cible 13 constituée par un cylindre de chrome portant des languettes d'or 14 permet de réaliser le confinement avec un champ magnétique H dirigé suivant l'axe de la cathode cylindrique 13,14. Ce champ magnétique est créé à l'extérieur du bâti par un électro- aimant dont on aperçoit sur la figure 3 l'enroulement 21. La face d'accueil 3 du disque 1 est disposée parallèlement à l'axe de la cathode. La trajectoire en arceau 22 illustre le mouvement des particules chargées dans le champ H et les flèches dirigées vers le disque 1 représentent le mouvement des particules métalliques 15 et 16 d'or et de chrome. Cette disposition se prête à un dépôt avec masquage qui présente une zone radiale de dépot produisant un film homogène par rotation du disque autour de l'axe du support 2. Avec une distance YD' de l'ordre de 10 cm, on peut réaliser une couche de 150 Angstrôms en vingt minutes lorsqu'on prévoit un masque délimitateur entre la cathode et la face 3 du disque 1. On peut noter que la distance cible-surface d'accueil est sensiblement deux fois moindre en adoptant les dispositions des figures 2 et 3 comparée à celle adoptée dans le bâti de la figure 1. Cette différence a une incidence sur la taille des grains qui peut se justifier en partie par l'influence sur la température du substrat qui joue un rôle dans la nucléation et la croissance des films minces. Les dépôts obtenus au moyen des bâtis de pulvérisation cathodique qui viennent d'être décrits ont été étudiés en ce qui concerne les propriétés électriques et optiques. Les dépôts étaient réalisés sur verre et les mesures de réflectivité R effectuées avec un faisceau traversant le substrat pour atteindre le dépôt. La.détermnination de la résistance électrique en ohm par carré est importante pour juger de la résistivité thermique des films déposés. Les résultats de mesure pour un dépôt d'épaisseur e = 150 AngstrOms sont consignés dans le diagramme de la figure 4. En abscisse on a porté la composition pondérale donnant par un premier nombre le pourcentage d'or et par un second nombre le pourcentage de chrome qui augmente de gauche à droite. Les courbes en trait plein représentent en pourcents le pouvoir réflecteur Ri et le pouvoir de transmission T1 pour un dépôt réalisé dans le bâti de la figure 1. La courbe référencée r1 indique la résistance en ohm par carré de -ce dépôt. Les mesures optiques sont effectuées à la longueur d'onde = 632,8 nm avec une puissance insuffisante pour engendrer un changement de caractéristique optique. Les courbes en pointillé référencées R2, T2, et r2 se rapportent à un dépôt de même épaisseur effectué avec le bâti illustré sur la figure 2. On n'a pas représenté de courbes correspondant à un dépôt effectué avec le bâti illustré sur la figure 3, car l'oxydation n'est pas négligeable lorsque la durée de dépôt passe de 2 à 20 minutes. On voit sur la figure 4 qu'à droite d'une composition 90/10, soit avec plus de 10 % en poids de chrome, les courbes R1 et T1 et les courbes R2 et T2 oscillent peu et sont plutôt symétriques par rapport à une horizontale passant par l'ordonnée 20 %o. Ce résultat est tout à fait remarquable, car il signifie que la fraction absorbée du rayonnement optique incident s'établit à 60 %î quel que soit le pourcentage de chrome entre 10 et 100 'o. Un autre résultat remarquable concerne les courbes r1 et r2 qui culminent au voisinage de la composition 60/40. La résistance par carré des couches pulvérisées est tout à fait reproductible, car ces couches bénéficient d'une bonne continuité et pour les application du domaine de la transcription thermo-optique de données, les courbes donnant cette résistance permettent d'escompter une très faible diffusivité thermique qui, couplée à un pouvoir absorbant élevé et constant, permet d'envisager un processus d'écriture efficace, peu sensible à la composition et bien localisé au point d'impact du faisceau inscripteur. La composition Au60 Cr40 est pratiquement à son point culminant un ordre de grandeur supérieur aux alliages de composition analogue. Pour compléter les résultats de la figure 4, on a tracé à la figure 5 un diagramme qui donne en fonction de l'épaisseur e du dépôt le comportement des paramètres optiques R, T et A. Le pouvoir absorbant A est donné par l'expression A = 100 - R - T o R et T sont les pouvoirs réflecteurs et de transmission en pourcents. Les indices 1 et 2 se rapportent à des dépôts de composition 60/40 effectués avec les bâtis des figures 1 et 2. L'indice 3 se rapporte à un dépôt de composition de 50/50 effectué par évaporation sous vide. On voit que les films obtenus par pulvérisation cathodique se signalent par un pouvoir absorbant A1 ou A2 supérieur au pouvoir absorbant A3 du dépôt évaporé. On note aussi qu'entre 100 AngstrEms et 200 AngstrEms, le pouvoir absorbant des films pulvérisés est remarquablement indépendant de l'épaisseur (2 choisie. Ceci signifie que le paramètre épaisseur n'est pas critique en ce qui concerne le rendement opto- thermique du film et qu'il permet notamment de choisir le pouvoir réflecteur entre 15 et 30 %o, voir entre 10 et 30 %o avec une couche à texture superfine. L'explication de ces résultats surprenants semble liée à la texture des agrégats polycristallins et/ou à la teneur en oxygène, mais il parait clair que la réduction de la distance séparant la cible de la surface d'accueil (courbes en pointillé de la figure 4) améliore nettement l'efficacité et la latitude de fabrication des dépôts utilisables pour réaliser des structures thermosensibles. Lorsque le dépôt est effectué avec comme gaz de remplissage un mélange de gaz rare et d'hydrogène, on a constaté une diminution de réflectivité des dépôts. On sait par ailleurs que l'hydrogène a tendance à se loger aux joints de grains et qu'il est un réducteur chimique efficace. La figure 6 est une vue en coupe d'une structure thermosensible utilisant une couche déposée 24 selon le procédé de pulvérisation cathodique rapprochée. On peut partir d'un substrat de verre 26, à la surface 27 duquel on dépose une sous-couche transparente 25 dont la face supérieure 3 joue le rôle de surface d'accueil de la couche 24. La face 3 peut reproduire un relief de prégravure. L'inscription de l'information peut se faire à travers le substrat 26 et la sous couche 25 avec un faisceau optique focalisé 23 qui pénètre par la face 28 du substrat. Cette structure permet l'écriture par ablation, mais on peut également produire par dégradation localisée de la sous couche 25 un décollement sans rupture de la couche métallique 3. En soumettant des dépôts réalisés paf pulvérisation cathodique à une inscription thermo-optique, on a constaté par un examen au microscope électronique un changement de texture de l'agrégat polycristallin. La figure 7 représente l'image électronique d'un minuscule fragment de couche pulvérisée 24 vu de face, avec une zone centrale S qui a subi un échauffement transitoire par irradiation avec un faisceau laser. Les zones avoisinantes M ont conservé la texture superfine qui a été détaillée à gauche sur la figure 7. Par contre, on constate que la zone centrale irradiée S présente une texture à grains beaucoup plus gros. Ce phénomène qui fait songer à un recuit, mis à part le fait qu'il est ultrarapide constitue à lui seul un mode d'écriture thermo-optique puisque les caractéristiques optiques sont modifiées par ce changement de texture. Le fait de disposer d'une plage à texture plus grossière entre deux plages à texture plus fine représente aussi une prégravure puisque la limite élastique du dépôt métallique est influencée par la taille des grains. Par réexposition, cette prégravure qui sert de guide à un faisceau optique d'écriture va permettre d'inscrire des données soit dans la plage 5, soit dans les plages Mv1 adjacentes. L'étude de la diffraction produite par les agregats polycristallins obtenus par pulvérisation cathodique rapprochée d'une composition métallique d'or et de chrome a permis de caractériser les paramètres de maille des dépôts. Pour des concentrations en poids de chrome inférieures à 50 %, c'est le réseau.de l'or que l'on observe avec en solution solide intersticielle l'atome de chrome qui produit une compression du réseau d'or. Avec des concentrations en chrome dans la plage 50 à 60 % (une concentration de % en poids de chrome équivaut à une concentration atomique de 78 %), la situation tend à s'inverser et l'on observe au delà de cette plage le réseau cubique du chrome dilaté par des atomes d'or en solution solide intersticielle. Sachant que la limite de solubilité en volume des atomesde chrome dans l'or est proche de 20 %", les films minces à forte teneur en or peuvent être sursaturés en chrome jusqu'à une concentration de 40 % de chrome o ce métal de transition à faible rayon atomique joue le rôle de soluté avec compression de la maille cristalline du substrat. Les extrèmas des courbes de la figure 4 paraissent liés à l'inversion de la structure cristallographique qui passe de la structure cubique à faces centrées de l'or à la structure cubique du chrome au delà d'une concentration pondérale de chrome égale à 40 % (cette concentration pondérale équivaut à une concentration atomique de 75 %). En outre, au delà d'une concentration de 15 %o de chrome qui est proche de la limite de solubilité en volume du chrome dans l'or, l'évolution des propriétés optiques n'est pas sensible comparée à celle des propriétés électriques. Les paramètres optiques de couche semblent être beaucoup plus liés au chrome et ce dans un large domaine de composition. Les mesures de pouvoir absorbant optique et de pouvoir de transmission optique pour un domaine de longueurs d'ondes allant de 400 nm à 1200 nm confirment une tendance générale orientée vers la réponse optique du chrome, ceci étant vrai pour des teneurs pondérale en chrome de 50 % à 100 %. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée au cas d'un dépôt sur verre. La surface d'accueil peut appartenir à n'importe quelle matière de support inorganique ou organique et peut notamment appartenir à une sous couche qui améliore la tenue ou la continuité du.dépôt. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un suppport d'information à inscription thermo-optique du type comportant une structure thermosensible adaptée au stockage et à la lecture optique d'information, ladite structure étant munie d'une couche mince métallique (24) qui, en collectant le rayonnement inscripteur incident, produit un échauffement transitoire localisé faisant nartre au dessus d'un seuil de température un changement de caractéristique optique de ladite structure thermosensible, ledit procédé comportant à cet effet le dépôt d'un agrégat polycristallin en forme de film mince (24) recouvrant continument une surface d'accueil (3) de ladite structure, ce dépôt provenant d'un flux incident de particules (15, 16) de métal précieux et d'un métal de transition, caractérisé en ce que pour obtenir une composition métallique déterminée lesdites particules métalliques (15, 16) sont extraites d'au moins une cible (13, 14) exposée au bombardement d'autres particules confinées par champ magnétique (H) qui proviennent d'une décharge électrique dans un gaz rare sous pression réduite; ladite surface d'accueil (3) collectant lesdites particules métalliques (15, 16) avec une énergie résiduelle donnant lieu à une densité de sites de nucléation accrue par rapport à celle d'un dépôt similaire par évaporation sous vide. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la distance (D) cible - surface d'accueil est au plus égale à 20 cm. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la distance (D') cible-surface d'accueil est au plus égale à 10 cm. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la cible (13) est faite de'l'un desdits métaux et que sa surface exposée audit bombardement est partiellement recouverte par des éléments (14) de l'autre desdits métaux. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite cible (13, 14) joue le rôle de cathode. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit métal de transition est le chrome. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit métal précieux est l'or. 8. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que la surface exposée de ladite cible (13) est cylindrique; ledit champ magnétique (H) étant parallèle à l'axe de ladite surface cylindrique. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit gaz rare est l'argon. 10.Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite pression réduite est de l'ordre de 3.10-3 Torr. 11. Couche métallique pour support d'information inscriptible therrno- optiquement obtenue par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce que la teneur pondérale en métal de transition dépasse la limite de solubilité en volume dans ledit métal précieux. 1'2. Couche métallique pour support d'information inscriptible thermno- optiquement obtenue par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce que l'épaisseur globale de ladite couche se situe entre 100 et 300 Angstr6ms. 13. Couche métallique pour support d'information inscriptible thermo- optiquement obtenue par le procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce qu'elle forme un agrégat polycristallin dont la taille moyenne de grain n'excède pas 70 Angstrbms. 14. Couche métallique selon la revendication 13 caractérisée en ce que la taille moyenne des grains n'excède pas 20 Angstrôms. 15. Couche métallique selon l'une quelconque des revendications 11 à 14, caractérisée en ce que le métal de transition est en solution solide dans le métal précieux. 16. Couche métallique selon l'une quelconque des revendications 11 à 14, caractérisée en ce que ie métal précieux est en solution solide dans le métal de transition. 17. Couche métallique selon l'une quelconque des revendications 15 et 16, caractérisée en ce que le métal précieux et le métal de transition sont respectivement l'or et le chrome. 18. Couche métallique selon l'une quelconque des revendications 11 à 17, caractérisée en ce que sa texture de grain est différenciée dans son étendue par un traitement thermique de prégravure. 19. Couche métallique selon la revendication 17, caractérisée en ce que la teneur pondérale en or est de l'ordre de 60 %.