FR 2555790 A1 19850531 FR 8415770 A 19841015 La présente invention concerne les procédés de fa- brication de curseurs fonctionnant par dépression, et les curseurs obtenus. Les appareils d'entraînement de disques magnétiques de type actuel comportent des curseurs repoussés par un res- sort et supportés par un palier pneumatique, fonctionnant d'une manière telle que leur faible hauteur de vol au-dessus de la surface d'un disque est déterminée par un palier pneu- matique créé entre le curseur et le disque rotatif. Le cur- seur porte en général une tête magnétique de lecture-écriuure, à son bord postérieur. Le curseur "flotte" sur le palier pneumatique et sa hauteur de vol est réglée par la force externe appliquée par le ressort de rappel sur le curseur. La hauteur de vol doit être aussi faible que possible afin que les pertes de signaux soient évitées.Avec ce type de curseur, la force externe augmente lorsque la hauteur de vol doit diminuer. Ce type de curseur à rappel par ressort a un contact lors de la mise en route et de l'arrêt, c'est-à-dire que le curseur est au contact du disque au début de la rotation de celui-ci et jusqu'à ce que le disque atteigne une certaine vitesse pour laquelle le palier pneumatique peut s'établir et provoque le soulèvement du curseur par rapport au disque. Lorsque le disque s'arrête, le curseur revient directement au contact du disque. Lorsque la force de rappel augmente afin que la hau- teur de vol soit réduite, l'usure due au frottement de la surface du disque et du curseur à la mise en route et à l'ar- rêt, augmente aussi. L'usure par frottement a été réduite au minimum par utilisation d'un "curseur à dépression". Ce type de curseur comporte une cavité en dépression à sa surface de contact avec le palier pneumatique afin qu'une dépression tire le curseur vers le disque. En conséquence, le curseur peut être mis en suspension au-dessus du disque et écarté du disque par un dispositif convenable de suspension. Le courant d'air créé par la surface du support d'enregistrement crée une région en dépression dans la cavité en dépression de la surface du palier pneumatique si bien que le curseur est tiré vers le disque malgré la force exercée par le sys- tème de suspension. Des exemples de tels curseurs en dépres- sion sont décrits dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n0 3 811 856 et 4 141 049. Dans ce type de curseur, la profondeur et la confi- guration de la cavité (ou des cavités) en dépression déter- minent la hauteur de vol du curseur. En conséquence, la ca- vité de la surface du palier pneumatique doit être formée avec une grande précision. Il est absolument impossible d'usiner avec préci- sion et de manière reproductible une cavité en dépression ayant la dimension et la configuration nécessaires. Des variantesde l'usinage de la cavité sont sa formation par attaque chimique, par attaque par un plasma ou par usinage ionique. Jusqu'à présent, on a suggéré la formation des cavités en dépression par usinage ionique, avec un cache formé d'une couche métallique qui protège la surface du palier pneumatique du curseur, pendant que les cavités en dépression sont usinées, comme décrit par exemple dans l'article IEEE Transactions on Magnetics, Vol. Mag. 16, n 5, septembre 1980, "Floating Thin Film Head Fabricate by Ion Etching Method" de T. Nakanishi et al. Dans une opération d'usinage ionique mettant'en oeuvre un cache métallique, le métal (habituellement du chrome) est en général d'abord déposé sur le curseur par pulvérisation cathodique, puis une réserve photographique est appliquée à la tournette sur le curseur; la réserve est alors exposée afin que ce qui doit former la cavité en dépression soit accessible, et la couche métallique est alors attaquée chimiquement dans cette partie devant former la cavité. La réserve est ensuite retirée, les cavités sont formées par usinage ionique, la couche métallique protégeant la surface du palier pneuma- tique du curseur, et les parties restantes de la couche métallique sont ensuite retirées par attaque chimique. L'utilisation du procédé précité pose plusieurs problèmes. D'abord, l'application par pulvérisation catho- dique puis l'attaque chimique de la couche métallique augmen- tent le coit et la complexité du procédé, ainsi que le temps nécessaire à sa mise en oeuvre. Il a été très difficile de positionner avec précision les cavités en dépression sur le curseur. De plus, seules des cavités relativement peu pro- fondes peuvent être réalisées par ce procédé car la couche métallique protectrice ne peut supporter l'usinage ionique que jusqu'à des profondeurs de cavités de l'ordre de 4 mi- crons. Comme l'indique la courbe de lafigure 1 indiquant la variation de la hauteur de vol avec la profondeur de la ca- vité, dans le cas des curseurs ayant des cavités en dépres- sion des types représentés dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n 4 286 297 et 4 141 049, les cavités doivent. être formées avec une profondeur de 2 ou 12 microns afin que la hauteur de vol soit de 250 microns. Comme la courbe a une pente plus grande au point de profondeur 2 microns qu'au point de profondeur 12 microns, il est plus souhai- table de réaliser les cavités à une profondeur de 12 microns afin que les variations de la profondeur réelle de la cavité aient un moindre effet sur la hauteur de vol. Cependant, étant donné les restrictions imposées par le procédé décrit précédemment, des cavités relativement peu profondes, de- l'ordre de 4 microns au maximum, peuvent être fabriquées par exemple, comme décrit notamment dans l'article IEEE Transactions on Magnetics, Vol. Mag. 15, n0 3, mai 1979, "Narrow Track Magnetic Head Fabricated by Ion Etching Method" de T. Nakanishi et al. qui indique que de grandes profondeurs d'attaque chimique ne peuvent pas être obtenues avec le pro- cédé d'usinage ionique. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un curseur en dépression dans lequel (a) des cavités re- lativement profondes peuvent être formées par usinage ionique, à une profondeur exacte de 12 microns ou plus, sans que l'ap- plication d'une couche métallique protectrice soit néces- saire, (b) la complexité et le cofit de fabrication sont réduits par rapport à ceux des procédés connus et (c) les cavités en dépression sont positionnées avec une très grande préci- sion sur le curseur afin que la hauteur de vol soit bien maîtrisée et que les caractéristiques données par le cur- seur soient excellentes. L'invention concerne plus précisément un procédé de fabrication d'un curseur en dépression, ayant une sur- face de vol sur un palier pneumatique et portant une tête magnétique, le procédé comprenant l'application d'une couche d'une matière sèche de réserve photographique sur le curseur, l'utilisation d'une opération photolithographique pour la formation d'un dessin dans cette couche afin qu'une partie de la couche soit retirée et expose une partie de la surface du curseur, la partie restante de la couche de réserve com- prenant une couche protectrice formée sur la surface de vol du curseur, l'usinage ionique de la partie exposée de la sur- face du curseur et de la couche protectrice afin qu'au moins une cavité en dépression soit formée dans la surface du cur- seur, la couche protectrice- assurant la protection de la sur- face de vol pendant l'usinage ionique, et l'enlèvement de la couche protectrice. La tête magnétique peut comporter une extrémité polaire placée au niVeau de la surface de vol et, pendant l'opération photolithographique, un cache de photolithogra- phie est utilisé pour la formation d'un dessin dans la couche de réserve, ce cache ayant un dessin d'alignement et un re- père d'alignement, le repère étant aligné par rapport à l'ex- trémité polaire afin que le dessin d'alignement soit lui-même aligné par rapport à la surface du curseur. Le dessin d'alignement peut délimiter au moins une cavité en dépression qui doit être formée par usinage dans la surface du curseur, le repère d'alignement étant aligné sur l'extrémité polaire afin que le dessin d'aligne- ment soit aligné sur le curseur. Dans un mode de réalisation, le dessin d'alignement a une forme en H ayant deux branches parallèles et un élément transversal placé entre les branches. De préférence, pendant l'opération photolithogra- phique, le dessin d'alignement est projeté sur la couche de réserve afin qu'il forme un dessin lumineux en H sur la cou- che de réserve, le dessin lumineux exposant la couche de réserve et délimitant la couche protectrice, et, après l'usinage ionique, la cavité en dépression comprend une première cavité en dépression délimitée par l'élément trans- versal et les parties inférieures des branches du dessin d'alignement, et une seconde cavité en dépression délimitée par l'élément transversal et la partie supérieure des bran- ches du dessin d'alignement. Le repère d'alignemnent peut être positionné dans la partie inférieure de l'une des branchesdu dessin d'ali- gnement, et ce dernier peut être aligné sur l'extrémité po- laire pendant l'opération photolithographique afin que le dessin d'alignement- soit lui-même aligné sur le curseur. Dans un mode de réalisation preféré, le curseur porte deux têtes magnétiques, chacune d'elles ayant une extrémité polaire, le cache comprenant l'un des repères d'alignement placé dans la partie inférieure de chaque branche du dessin d'alignement, chaque repère d'alignement étant aligné sur l'une des extrémités polaires pendant l'étape photolithographique afin que le dessin d'alignement soit lui-même aligné sur le curseur. Plusieurs curseurs sont de prefërence placés les uns près des autres entre un curseur d'une première extré- mité et un curseur d'une seconde extrémité opposée, les curseurs comprenant une bcarre de curseurs,le cache compre- nant plusieurs dessins d'alignement en H qui sont adjacents les uns aux autres, entre un dessin d'une première extrémité et un dessin d'une seconde extrémité opposée, le curseur de la première extrémité ayant une paire d'extrémités polaires et le curseur de la seconde extrémité ayant une paire d'ex- trémités polaires, chacun des repères d'alignement du dessin de la première extrémité étant aligné, pendant l'étape photo- lithographique, sur l'une des extrémités polairesdu curseur de la première extrémité, et chacun des repères d'alignement du dessin de la seconde extrémité étant aligné sur l'une des extrémités polaires du curseur de la seconde extrémité, simultanémentt afin que les dessins d'alignement du cache soient alignés sur les curseurs de la barre de curseurs. Le cache peut comporter une première fenêtre d'alignement gros- sier placée vers l'extérieur par rapport au dessin de la première extrémité et une seconde fenêtre d'alignement gros- sier placée vers l'extérieur par rapport au dessin de la seconde extrémité, la barre de curseurs ayant une première extrémité placée vers l'extérieur par rapport au curseur de la première extrémité, et une seconde extrémité placée vers 'extérieur par rapport au curseur de la seconde extrémité, pendant l'opération photolithographique, la première extré- mité étant placée dans la première fenêtre d'alignement grossier et la seconde extrémité étant placée dans la se- conde fenêtre d'alignement grossier afin qu'un alignement grossier du cache soit assuré par rapport à la barre des curseurs avant que les repères d'alignement soient alignés sur les extrémités polaires et assurent un alignement fin du cache par rapport à la barre de curseurs. De préférence, pendant l'opération photolithogra- phique, les repères d'alignement du dessin de la première extrémité sont disposés symétriquement par rapport aux ex- trémités polaires du curseur de la première extrémité, et les repères d'alignement du dessin de la seconde extrémité sont disposés symétriquement par rapport aux extrémités polaires du curseur de la seconde extrémité, simultanément, afin que les dessins d'alignement du cache soient alignés sur les curseurs de la barre de curseurs. Pendant l'opération d'usinage ionique, la barre de curseux peut être fixée à un dispositif de montage assurant un refroidissement si bien que le dispositif de montage et la barre sont refroidis thermiquement pendant l'opération d'usinage ionique. Ce dispositif de montage peut être réalisé afin qu'il fasse tourner la barre de curseurs pendant l'opé- ration d'usinage ionique. La barre de curseurs peut avoir un bord postérieur et la partie inférieure de chacune des branches des dessins en H peut dépasser du bord postérieur du curseur, la couche protectrice de réserve photographique étant disposée au-delà du bord postérieur du curseur. Le procédé peut comprendre, après l'enlèvement de la couche protectrice, une opération de découpe de la barre de curseurs si bien que chaque curseur est découpé dans cette barre. Dans un mode de réalisation avantageux, la cavité en dépression au moins est usinée jusqu'à une profondeur de 12 microns pendant l'opération d'usinage ionique. D'autres caractéristiques et avantages de l'inven- tion seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre d'exemples de réalisation et en se référant aux dessins annexés sur lesquels: la figure 1 est un graphique représentant la va- riation de la hauteur de vol avec la profondeur de la ca- vité, dans le cas d'un curseur en dépression selon l'inven- tion; - la figure 2 est une perspective d'une barre de curseurs avant la formation des cavités en dépression par le procédé selon l'invention; la figure 3 représente la barre de curseurs de la figure 2 portée par un dispositif convenable de montage; la figure 4 représente la barre de curseurs placée dans un dispositif destiné à coller une réserve photogra- phique; la figure 5 représente la barre de curseurs après l'application d'une couche de réserve photographique, une partie du dispositif de montage étant arrachée; la figure 6 représente un cache photolithographique utilisé dans le procédé selon l'invention; la figure 7 représente un exemple de dessin en H du cache dela figure 6; la figure 8 représente un dessin d'alignement su- perposé à la barre de curseurs; la figure 9 est une vue agrandie en plan d'un des- sin en H superposé à une première extrémité de la barre de curseurs; la figure 10 représente la barre de curseurs après formation de dessin dans la couche de réserve, une partie du dispositif de montage étant arrachée; la figure 11 est une vue agrandie d'une extrémité de la barre de curseurs après formation du dessin dans la couche de réserve et usinage ionique des cavités du curseur, avec une partie arrachée du dispositif de montage; la figure 12 représente la barre de curseurs après l'opération d'usinage ionique, les parties restantes de la couche de réserve étant supprimées; et la figure 13 représente un curseur à dépression réalisé par un procédé selon l'invention. Le procédé selon l'invention, destiné à la fabri- cation d'un curseur en dépression, est appliqué à une barre de curseurs représentée sur la figure 2 et ayant une pre- mière extrémité 12 et une seconde extrémité opposée 14. La barre 10 a un bord antérieur 16, un bord postérieur 18 et une surface postérieure 19 partant normalement du bord 18. Plusieurs curseurs adjacents 20a, 20m sont placés entre les extrémités 12, 14. Chaque curseur est délimité par deux traits interrompus 22a, 24a, 22b, 24b, 22c, 24c; etc. comme représenté. Lorsque les cavités ont été usinées dans la barre 10 comme décrit dans la suite, cette barre 10 est découpée le long de ces traits interrompus afin que les treize curseurs 20a-20m soient obtenus. Le curseur 20a forme un curseur d'une première extrémité et le curseur 20m opposé forme un curseur d'une seconde extrémité, les curseurs 20b à 201 étant des curseurs intermédiaires. Chaque curseur 20a à 20m comporte deux têtes magnétiques de lecture- écriture (non représentées) placées près du bord postérieur 18 de la barre 10. Les têtes magnétiques sont des têtes à couches minces et elles sont appliquées par utilisation de la techno- logie connue des couches minces, à la face postérieure 19 des curseurs 20a à 20m. Chaque tête magnétique a une extré- mité polaire ou un entrefer de lecture-écriture placé au ni- veau de la surface de vol du curseur associé. Par exemple, le curseur 20a a des extrémités polaires 26a, 28a, le cur- seur 20b a des extrémités polaires 26b, 28b, etc. L'extré- mité polaire de la tête magnétique est la partie de la tête qui vole le plus près du support d'enregistrement et qui lit des informations sur le support et/ou en écrit. Les extré- mités polaires 26a-26m, 28a-28m sont visibles à l'oeil lors- que la barre de curseurs a été fixée dans un dispositif d'alignement par projection (non représenté), et elles peu- vent être utilisées pour l'alignement d'un cache photolitho- graphique tel que décrit dans la suite du présent mémoire. La barre 10 de curseurs peut être formée des ma- titres "Alsimag", "Fotoceram" ou de ferrite, par exemple. On considère maintenant un mode de réalisation de procédé selon l'invention, après cette description de la barre de curseurs 10. Une couche de réserve photographique sous forme d'un film sec convenable, par exemple du type "Riston" de DuPont de Nemours and Company, est d'abord appliquée sur la barre!f. Avant cette application, la barre 10 est d'abord placée dans un dispositif 40 de montage formé d'aluminium comme indiqué sur la figure 3. La barre 10 dépasse de 25,4 microns au- dessus du dispositif 40 de montage comme représenté. La barre 10 reste dans le dispositif 40 de mon- tage pendant presque tout le procédé comme décrit dans la suite. Avant l'application de la réserve, la barre 10 et le dispositif 40 de montage subissent une opération de cuis- son et de collage préalable dans laquelle la barre est chauffée à une température superficielle de 90 C afin que l'adhérence de la réserve photographique soit accrue. Apres i'opération de cuisson préalable au collage, le dispositif de montage et la barre 10 sont introduits entre les rou- leaux 47, 48 d'une machine de collage à rouleaux telle que du type "Dynachem" n 120, fabriquée par the Thiokol/Dynachem Corporation, Elmhurst, Illinois (figure 4). Le rouleau supé- rieur 47 applique sous pression une feuille d'une réserve photographique 50 sous forme d'une couche sèche sur la barre 10 si bien qu'une couche 54 de réserve adhère à la barre 10 comme indiqué sur la figure 5. La couche 54 de réserve est appliquée de manière que des parties 56, 57 de recouvrement passent sur les bords antérieur et postérieur 16, 18 de la barre 10. La partie 57 qui dépasse du bord 18 protège ies têtes en couches minces collées à la face postérieure 19 de la barre du faisceau d'ions pendant l'usinage ionique (comme décrit dans la suite). Lorsque la couche 54 de réserve a été appliquée, la barre 10 et le dispositif 40 de montage sont montés dans le support de pièce d'une machine d'alignement par projection (non représentée) te]lle qu'une machine "Cobilt" n CA400A, fabriquée par Cobilt Corp., Sunnyvale, Californie. Un cache photolithographique 60 représenté sur la figure 6 est placé dans un support de cache de l'appareil d'alignement par pro- jection. Le cache 60 est opaque, sauf au niveau d'un dessin d'alignement 64 qui est transparent à la lumière ultravio- lette. Le dessin 64 est formé essentiellement de plusieurs dessins identiques en H 70a-70m, régulièrement espacés et adjacents les uns aux autres, placés entre le dessin 70a de la première extrémité et le dessin 70m de la seconde extrémité. Le dessin 64 est complété par une première fe- nêtre 66 de réglage grossier placée à l'extérieur du dessin a de la première extrémité, et par une seconde fenêtre d'ajustement grossier 68 placée vers l'extérieur du dessin m de la seconde extrémité. La figure 7 représente plus en détail un exemple de dessin en H 70a-70m. Le dessin en H, dont l'exemple représente le dessin 70a, comprend deux branches verticales 71a, 74a qui sont reliées par un élément transversal horizontal 77a. La branche 71a a une partie supé- rieure 72a et une partie inférieure 73a. De même, la branche 74a a une partie supérieure 75a et une partie inférieure 76a. Un repère d'alignement 80a est placé dans la partie inférieure de la branche 71a. De même, un repère d'alignement 82a est placé dans la partie inférieure de la branche 74a comme re- présenté. La barre 10 est d'abord déplacé par un mécanisme convenable de positionnement afin que les extrémités 12 et 14 de la barre 10 soient disposées symétriquement dans les fenêtres 66, 68 d'alignement grossier du dessin 64, afin que le dessin 64 soit aligné sur les curseurs 20a-20m de la barre 10. (Dans une variante, le cache 60 peut être déplacé alors que la barre est fixe). La figure 8 représente ce position- nement de la barre 10 par rapport au dessin 64. Lorsque l'alignement grossier a été effectué, l'opérateur effectue un alignement fin des curseurs 20a-20m sur le dessin 64 par observation initiale du dessin 70a de la première extré- mité et par déplacement de la barre 10 jusqu'à ce que les extré- mités polaires 26a et 28a du curseur 20a soient alignées sur les repères 80a, 82a du dessin 70a de la première extrémité (fi- gure 9). Les extrémités polaires 26a, 28a sont visibles à l'oeil. Les repères 80a, 82a sont convenablement alignés lorsqu'ils sont centrés verticalement et disposés symétri- quement par rapport aux extrémités polaires 26a, 28a comme représenté sur la figure 9. L'opérateur observe alors le dessin 70m de l'extrgmité opposée et déplace la barre 10 afin que les pièces polaires 26m, 28m du curseur 20m soient alignées sur les repères 80m, 82m du dessin 70m de la se- conde extrémité, de la même manière que représentée sur la figure 4, afin que l'alignement fin de la barre 10 sur le cache 60 soit assuré. Lorsque les extrémités polaires des deux curseurs 20a, 20m sont alignées sur les repères corres- pondants des curseurs 70a, 70m respectivement, l'opération d'alignement fin est terminée. Les cavités en dépression, décrites dans la suite, peuvent être positionnées avec une très grande précision sur les curseurs 20a, 20m par utilisa- tion des pièces polaires des curseurs 20a, 20m comme points de référence. Une fois le dessin 64 aligné sur les curseurs 20a- 20m, de la lumière ultraviolette est alors projetée à tra- vers le cache 60 afin qu'elle expose les parties en H 70a- m sur la couche 54 de réserve photographique des curseurs a-20m. Comme l'opération photolithographique utilisée met en oeuvre une réserve négative, les dessins exposés en H sont développés, les parties non exposées de la couche 54 étant retirées par exemple par pulvérisation à basse pression de 1.1.1-trichloréthane. Ensuite, tout ce qui reste alors de la couche 54 de réserve est représenté par treize dessins en H 90a-90m qui sont indiqués sur la figure 10. Il faut noter que les branches des dessins 70a-70m sont en surplomb par rapport aux bords antérieur et postérieur 16, 18 de la barre. Les parties 98 de recouvrement dépassant du bord postérieur 18 protègent les parties exposées des têtes ma- gnétiques (non représentées) qui sont collées à la face pos- térieure 19 comme décrit précédemment. Le prolongement de la couche de réserve afin qu'elle recouvre les parties expo- sées des têtes magnétiques est extrêmement important car, pendant l'opération d'usinage ionique, les ions sont projetés sur la barre 10 avec une inclinaison comprise entre 45 et par exemple, par rapport à la surface de la barre 10. Ln conséquence, les parties exposées des têtes magnétiques se- raient usinées si elles n'étaient pas protégées. Une fois les dessins formés dans la couche de ré- serve photographique, la barre 10 étant encore fixée dans le dispositif 40, ce dernier est alors monté dans une machine d'usinage ionique, par exemple une source d'ions du type 10-1500-10 fabriquée par Ion Tech, Inc., Fort Collins, Colorado. Le dispositif 40 de montage est entraîné en rota- tion pendant l'usinage ionique afin que celui-ci soit unifor- me. Lorsque l'usinage ionique est en cours, les dessins 90a- m protègent les parties de curseurs 20a-20m qui se trouvent directement au-dessous contre l'usinage, alors que les cavi- tés en dépression sont alors usinées jusqu'à la profondeur convenable. La durée d'usinage, la tension d'accélération des ions et le courant ionique sont choisis afin que les ca- vités atteignent la profondeur voulue. La partie de chaque curseur qui se trouve juste au-dessous des dessins 90a-90m doit former la surface de vol coopérant avec le palier pneuma- tique dans le curseur terminé. Par exemple, le dessin 90a protège une surface de vol 21a du curseur 20a (figures 11 à 13). La figure 11 représente le curseur 20a à la fin de l'opé- ration d'usinage ionique, les cavités en dépression 10Oa, 102a étant usinées à la profondeur convenable. La cavité 100a est délimitée par les parties inférieures des branches 91a, 94a et par un élément transversal 97a. La cavité 102a est déli- mitée par les parties supérieures des branches 91a, 9ia et l'élément transversal 97a. Pendant que les cavités 100a, 102a du curseur 20a sont usinées, des cavités lOOb-100m, 102b-102m sont évidemment usinées simultanément dans les curseurs respectifs 20b-20m. L'usinage ionique de la barre dégage de la chaleur qui doit être dissipée à partir de celle-ci afin que les curseurs 20a-20m soient protégés con- tre les surchauffes, Dans le mode de réalisation considéré, le dispositif 40 de montage portant la barre 10 est fixé dans la machine d'usinage ionique de manière qu'il soit refroidi par circulation d'eau pendant l'usinage ionique afin que les curseurs 20a-20m ne soient pas surchauffés. Lorsque l'usinage ionique est terminé, les dessins 90a-90m peuvent être par exemple retires par inmmersion de la barre 10 d'abord dans un bain d'acétone puis dans un bain de nettoyage ultrasonore. Apres enlèvement des parties restantes des dessins a-90m, la barre 10 peut être retirée du dispositif 40 de montage comme représenté sur la figure 12, les treize cur- seurs 20a-20m ayant chacun deux cavités en dépression lOOa- m et 102a-102m formées et positionnées avec précision. Les curseurs 20a-20m peuvent alors être retirés de Ja barre 10. Une meuabrasive diamantée peut être utilisée pour la découpe le long des traits de coupe llOa-112a (corres- pondant aux traits interrompus 22a, 24a de la figure 2) lors- que le curseur 20a doit être retiré de la barre 10. De même, les curseurs restants 20b-20m sont retirés par découpe le long des traits mixtes 11Ob-110m et 112b-112m respectivement. Les surfaces de vol 21a-21m peuvent alors être légèrement rodées. Les curseurs 20a-20m peuvent alors être nettoyés dans l'acétone et dans l'eau afin que l'opération soit ter- minée. La figure 13 représente un exemple de curseur 20a * obtenu par mise en oeuvre du procédé de l'invention. Le clir- seur 20a a une surface 21a de vol destinée à coopérer avec un palier pneumatique et ayant une forme en H, et deux ca- 2555 7-9 0 vités en dépression lOOa-102a formées et positionnées avec une très grande precision. Les extrémités polaires 26a-28a dur curseur 20a peuvent alors être déplacées au-dessus de la surface d'enregistrement à une hauteur de vol réglée avec précision afin que les caractéristiques de la tête magnétique soient optimales. Dans un mode de réalisation très avantageux, la matière choisie pour la formation de la barre 10 de curseurs est la matière "Alsimag". La matière de réserve photographi- que, qui, comme indiqué précédemment est du"Riston'" est appliquée sur une épaisseur d'environ 48 microns. Les cavi- tés en dépression lOOa-10Om, 102a-102m sont usinées jusqu a une profondeur de 12 microns comme indiqué. L'usinage jus- qu'à cette profondeur, avec une machine d'usinage ionique "Ion Tech" du type 10-1500-200 nécessite une tension accélé- ratrice de 120 V pour un courant ionique de 125 mA, pendant une période de 150 min. Le faisceau ionique d'usinage a un diamètre de 10 cm. Ces paramètres provoquent la dissipation de 1,9 W/cm2 à la surface de la barre 10. Comme indiqué précédemment, la barre 10 est supportée par un dispositif de montage refroidi par circulation d'eau, destiné à dissiper la chaleur. Pendant que les cavités 110a-llOm, 112a-112m sont usinées, la couche de réserve est aussi usinée. 36 microns environ des 48 microns de la couche de réserve photographique sont retirés par l'usinage ionique pendant que les cavités des curseurs sont formées sur une profondeur 12 microns. L'angle d'usinage du faisceau ionique est par exemple de 45 par rapport à la surface usinée. Cependant, cet angle peut être modifié afin que la matière retirée de la surface ne se redépose pas. Par exemple, un angle d'usinage de 25 empêche ce nouveau dépôt de la matière lorsque la barre est formée de "Fotoceram". Le procédé précité assure un positionnement très précis des cavités en dépression du curseur, tout en permet- tant une formation précise de cavités ayant une profondeur de 12 microns, Le procédé est en outre bien plus simple que ceux qui sont utilisés car les opérations de dépôt d'une couche métallique et de formation d'un dessin dans celle-ci sont éliminées. Evidemment, bien que le mode de réalisation consi- déré représente la formation de treize curseurs adjacents réalisés simultanément par mise en oeuvre du procédé de l'invention, d'autres configurations du curseur peuvent être utilisées, avec des modifications correspondantes du cache utilisé pour la formation du dessin dans la couche de réserve photographique. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un curseur en dépres- sion ayant une surface de vol destinée à former un palier pneumatique et supportant une tête magnétique, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend l'application d'une couche (54) d'une matière de réserve photographique sèche sur le curseur (20a-20m), l'utilisation d'une opération photolithographique pour la formation d'un dessin dans la couche de réserve (54) afin qu'une partie de la couche soit retirée et expose une partie de la surface du curseur (20a- m), le reste de la couche de réserve formant une couche protectrice (90a90m) sur la surface de vol (21a-21m) du curseur (20a-20m), l'usinage ionique de la partie exposée de la surface du curseur (20a-20m) et de la couche protec- trice (90a--90m) afin qu'au moins une cavité en dépression (lOO1a-lOOm, 102a-102m) soit formée à la surface du curseur (20a-20m), la couche protectrice (90a-90m) assurant la pro- tection de la surface de vol (21a-21m) pendant l'opération d'usinage ionique, et l'enlèvement de la couche protectrice (90a-90m). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la tête magnétique comporte une extrémité polaire (26a,28a - 26m, 28m) disposée au niveau de la surface de vol (21a-21m), et en ce que, pendant l'opération photolitho- graphique, un cache photolithographique (60) est utilisé pour la formation d'un dessin dans la couche de réserve photo- graphique (54), le cache (60) ayant un dessin d'alignement (70a-70m) et un repère d'alignnement (80a-82a), le repère d'alignement (80a-82a) étant aligné par rapport à l'extré- mité polaire (26a, 28a - 26m, 28m) afin que le dessin d'ali- gnement (70a-70m) soit aligné par rapport à la surface du curseur (20a-20m). 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le dessin d'alignement (70a-70m) délimite au moins la cavité en dépression (lOOa10Om) à usiner à la surface du curseur (20a-20m), le repère d'alignement (80a-82a) étant aligné sur l'extrémité polaire (26a, 28a - 26m, 28m) afin que le dessin d'alignement (70a-70m) soit aligné sur le curseur (20a-20m). 4. Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le dessin d'alignement (70a-70m) a une forme en H comprenant deux branches parallèles (71a-74a) et un élément Transversal (77a) placé entre les branches. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que, pendant l'opération photolithographique, le dessin d'alignement (70a-70m) est projeté sur la couche de réserve photographique (54) afin qu'un dessin lumineux en H soit formé sur la couche de réserve (54), le dessin lumineux exposant la couche de réserve (54) et délimitant la couche protectrice (90a-90m), et en ce que, après l'usinage ionique, la cavité en dépression au moins (lOGa-1Om, 102a-l02m! comporte une première cavité en dépression (lOOa-100m) délimitée par l'éléiment transversal (77a) et les parties inférieures des branches (71a, 74a)' du dessin d'alignement (70a-70m), et une seconde cavité en dépression (102a-102m) délimitée par l'élément transversal (77a) et par la partie supérieure des branches (71a. 74a) du dessin d'alignement (70a-70m). 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le repère d'alignement (80a, 82a) est disposé dans la partie inférieure de l'une des branches (71a, 74a) du dessin d'alignement, et le dessin d'alignement (70a-70m) est aligné sur l'extrémité polaire (26a, 28a - 26m, 28m) pendant l'opération photolithographique afin que le dessin d'alignement (70a-70m) soit aligné sur le curseur (20a-20m). 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que le curseur (20a-20m) porte deux têtes magnétiques ayant chacune l'une des extrémités polaires (26a-26m, 28a- 28m), le cache (60) comprenant l'un des repères d'alignement (80a, 82a) étant disposé dans la partie inférieure de chaque branche (71a, 74a) du dessin d'alignement (70a-70m), chaque repère d'alignement (80a-82a) étant aligné sur l'une des extrémités polaires (26a, 28a - 26m, 28m) pendant l'opéra- tion photolithographique afin que le dessin d'alignement (70a-70m) soit aligné sur le curseur (20a-20m). 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que plusieurs curseurs (20b-201) sont disposés les uns près des autres entre un curseur (20ay d'une première extrémité et un curseur (20m) d'une seconde extrémité opposée, les curseurs formant une barre de curseurs, le cache (60) comprenant plusieurs curseurs d'alignement en H (70a-70m) disposés entre un dessin (70a) d'une première extrémité et un dessin (70m) d'une seconde extrémité opposée, le curseur (20a) de la première extrémité ayant une paire d'extrémités polaires (26a, 28a) et le curseur (20m) de la seconde extrémité ayant une paire d'extrémités polaires (26m, 28m), chacun des repères d'alignement (80a, 82a) du dessin de la première extrémité (70a) étant aligné sur l'une des extré- mités polaires (26a, 28m) du curseur de la première extré- mité (20a) et chacun des repères d'alignement (80a, 82a) du dessin (70m) de la seconde extrémité étant aligné sur l'une des extrémités polaires (26m, 28m) du curseur de la seconde extrémité (20m) de manière simultanée, afin que les dessins d'alignement (70a-70m) du cache (60) soient alignés sur les curseurs (20b-201) de la barre de curseurs (10), pendant l'opération photolithographique. 9. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que le cache (60) comporte une première fenêtre (66) d'alignement grossier, placée à l'extérieur par rapport au dessin de la première extrémité (70a) et une seconde fe- nêtre (68) d'alignement grossier disposée vers l'extérieur par rapport au dessin (70m) de la seconde extrémité, la barre de curseurs (10) ayant une première extrémité (12) disposée vers l'extérieur par rapport au curseur de la première extrémité (20a) et une seconde extrémité (14) dis- posée vers l'extérieur par rapport au curseur de la seconde extrémité (20m), la première extrémité (12) étant placée dans la première fenêtre d'alignement grossier (66) et la seconde extrémité (14) étant placée dans la seconde fenêtre (68) d'alignement grossier pendant l'opération photolitho- graphique afin qu'un alignement grossier du cache (60) soit assuré par rapport à la barre de curseurs (10) avant l'ali-. 2555790O gnement des repères d'alignement (80a, 82a) sur les extré- mités polaires (26a, 28a, 26m, 28m) afin que les alignements fins du cache (60) par rapport à la barre de curseurs (10) soient assurés. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que, pendant l'opération photolithographique, les repères d'alignement (80a, 82a) du dessin de la première extrémité (70a) sont disposes symétriquement par rapport aux extrémités polaires (26a, 28a) du curseur de la première extrémité (20a)c et les repères d'alignement (80a, 82a) du dessin de la seconde extrémité 70m) sont disposés symé- triquement par rapport aux extrémités polaires (26m, 28m) du curseur de la seconde extrémité (20m) de manière simult tanée afin que les dessins d'alignement (70a-70m) du cache r5 (60) soient alignés sur les curseurs (20a, 20m) de la barre de curseurs (10) Il. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 8 à 10, caractérisé en ce que, pendant l'opération d'usinage ionique, la barre de curseurs (10) est fixée à un dispositif de montage et de refroidissement (40), si bien qoue le dispositifde montage et la barre de curseurs (10) sont refroidis pendant l'usinage ioniqueo 12. Procédé selon la revendication 11, caractérise en ce que le dispositif de montage (40) est disposé de manière qu'il fasse tourner la barre de curseurs (10) pen- dant l'opération d'usinage ionique. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 10 à 12, caractérisé en ce que la barre de curseurs (10) a un bord postérieur (18), et la partie inférieure des branches (71a, 74a) de chaque dessin d'alignement (70a-70m) dépasse du bord postérieur (18) de la barre de curseur (10), la couche protectrice (90a-90m) de réserve photographique dépassant du bord postérieur (18) de la barre de curseurs (10)o 14. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 8 à 13, caractérisé en ce que, apres enlèvement de la couche protectrice (90a-90m), la barre de curseurs (10) est soumise à une opération de découpe dans laquelle chaque cur- seur (20a-20m) est découpé dans la barre de curseurs. 15. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions précédentes, caractérisé en ce que, pendant l'usinage ionique, la cavité en dépression au-moins (100a-lOOm, 102a- 102m) est usinée jusqu'à une profondeur de 12 microns. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendica- tions 1 à 16, caractérisé en ce que, pendant l'usinage ionique, le curseur est fixé à un dispositif de montage et de refroidissement (40), le curseur (20a-20m) et le dispo- sitif de montage étant refroidis pendant l'opération d'usi- nage ionique. 17. Procédé selon la revendication 15, caractérisé en ce que le dispositif de montage (40) est disposé afin qu'il fasse tourner le curseur (20a-20m) pendant l'opération d'usinage ionique. 18. Curseur en dépression, caractérisé en ce qu'il est fabriqué par mise en oeuvre d'un procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes.