FR 2559295 A1 19850809 FR 8401883 A 19840203 La présente invention a pour objet un nouveau support pour disques magnétiques d'enregistrement et son procédé de fabrication. Ce support est utilisable notamment pour la fabrication des disques, des mémoires d'ordinateurs à disques magnétiques. Selon l'art antérieur, les supports pour disques d'enregis- trement sont des galettes métalliques munies d'un trou central et dé- coupées dans une feuille métallique de quelques millimètres d'épaisseur le plus fréquemment en alliage léger à base d'aluminium. Ces supports subissent avant d'être recouverts par la couche magnétique, contenant l'information, une préparation mécanique et chimique qui leur confère un état de surface de qualité suffisante pour que la couche magnétique la recouvrant présente un minimum de défauts. La préparation mécanique consiste généralement en un dressage des deux faces du support par une opération de tournage. Les micro- sillons ainsi réalisés présentent des micro-aspérités qui sont élimi- nées par polissage fin ou par oxydation anodique. Malgré le coût élevé de ces opérations, l'état de surface ob- tenu n'est pas de qualité suffisante pour permettre le dépôt de cou- ches magnétiques contenant l'information, offrant des densités d'enregistrement importantes. L'objet de la présente invention est un nouveau support associé à un procédé de fabrication simplifié qui offre le double avantage d'éviter toute opération de dressage mécanique ou de polissa- ge et d'avoir un état de surface de haute qualité, permettant l'enre- gistrement de fortes densités d'informations. De manière plus précise, l'invention a pour objet un nouveau support en vue de la fabrication de disques magnétiques d'enregistre- ment, à partir du support brut conventionnel ayant subi les prépara- tions de degraissage et de nettoyage/brossage superficiel usuelles, on effectue les opérations suivantes: Enduisage par centrifugation des deux faces du support par une ré- sine organique. Cuisson de la résine. 35. Dépôt d'une couche dure. Cuisson de cette couche dure. Selon un mode préféré de mise en oeuvre de l'invention, la résine organique est photosensible et semblable à celle utilisée dans les technologies de photolithographie de circuits intégrés. Selon un autre mode préféré de mise en oeuvre de l'invention, l'épaisseur de la résine est comprise entre 1 et 30 un. Selon un autre mode préféré de mise en oeuvre de l'invention, il'enduction de la résine s'effectue par centrifugation en plusieurs étapes entrecoupées d'une cuisson. Selon un mode préféré de mise en oeuvre de l'invention, la résine subit une cuisson à plus haute température afin de la réticuler avant de recevoir la couche dure. Selon un mode avantageux de mise en oeuvre de l'invention, la couche superficielle dure est un composé à base de silicate hydraté Si(OH)4 avec ou non un radical organique, d'épaisseur comprise entre O,1 à quelques microns et déposée par centrifugation. Selon une va- riante avantageuse de l'invention, la couche dure est de la silice dé- posée par décomposition gazeuse de silane en présence d'un plasma. Selon un autre mode avantageux de mise en oeuvre de l'invention, la couche dure est enduite en plusieurs étapes entrecou- pées de recuits. Selon un autre mode de mise en oeuvre avantageux de l'invention, une couronne de garde au centre du disque correspondant à la zone de serrage du disque par le moyeu n'est pas revêtue par la couche de résine, ni par la couche dure. Selon un mode de mise en oeuvre préféré de l'invention, la couche magnétique support de l'information est en contact électrique avec la couronne de garde centrale, afin d'évacuer les charges élec- trostatiques dues à la rotation du disque dans le support d'aluminium. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressor- tiront à mesure de la description qui va suivre, donnée à titre illus- tratif mais nullement limitatif, en référence aux figures annoncées selon lesquelles: La figure 1 montre une vue agrandie de la surface du sup- port 2 revêtue des couches 6 et 8. 35. la figure 2 montre la section d'un support 2 de disque re- vêtu de la couche de résine 6 et de la couche dure 8, prêt à recevoir la couche magnétique contenant l'information. Sur la figure 1, on a représenté une vue agrandie de la sur- face du support d'aluminium portant la référence générale 2. Apres les opérations de dégraissage, de nettoyage et de brossage habituelles, la couche 6 qui est une résine semblable à celle utilisée en photolitho- graphie est déposée par centrifugation. L'épaisseur totale de la rési- ne doit être telle qu'elle recouvre totalement les aspérités de la surface du support. Pour ce faire, le couchage de la résine peut se faire en plusieurs passes, séparées par un recuit compris entre 100 et C, afin de stabiliser la résine. L'enduction en plusieurs passes a pour effet de minimiser le nombre de défauts de surface. Après avoir atteint l'épaisseur requise qui se situe entre 1 et 30 un selon la ru- gosité de la surface du support, la couche 6 subit une cuisson à plus haute température pouvant atteindre 220 C afin de rêticuler la cou- che, ce qui augmente sa dureté et sa stabilité. La couche de résine 6 a essentiellement un rôle de nivellement. Cependant, sa dureté ne permettrait pas d'accepter la couche magnétique contenant l'information, qui est très fine, et qui doit encaisser les chocs de la tête d'écriture-lecture durant son vol ou pendant les phases d'atterrissage et de décollage. La couche 8 assure par sa dureté une base stable à la couche magnétique contenant l'information. La nature de la couche 8 est du silicate hydraté avec ou non un radical organique déposé sous forme liquide, par centrifugation et cuisson à une température comprise en- tre 100 et 250 C. L'épaisseur de la couche dure est comprise entre 0,1 et 1 um. Afin de minimiser le nombre de défauts de surface, il est préférable de déposer la couche dure en plusieurs passes entrecoupées de cuissons. La couche dure 8 peut être également de la silice déposée par décomposition gazeuse de silane, assistée par plasma. Une couronne de garde 10 située autour du trou central, près de l'axe 4 du disque, est réalisée par procédé de photolithographie, afin de laisser à nu la surface métallique du support général 2. Cette couronne de garde a un double but: Permettre au moyeu de tenue du support de serrer ce dernier sur une surface 10 mécaniquement stable. Les couches 8 et 6 risqueraient en effet de se craqueler sous la pression et de crier de fines parti- cules qui pourraient perturber le vol de la tête. La couche magnétique contenant l'information recouvrant la surface , permet une évacuation par le support 2 des charges électriques qui pourraient s'accumuler au cours de la rotation du disque. REVEICATIONS 1. Nouveau support pour disque magnétique d'enregistrement et son procédé de fabrication caractérisé en ce que la surface du support recevant la couche magnétique contenant l'information est revêtue d'une couche de nivellement recouverte d'une couche dure servant de base stable à la couche magnétique contenant l'information. 2. Nouveau support pour disque d'enregistrement magnétique, selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de nivelle- nment 6 est une résine organique d'épaisseur comprise entre 1 et 30 um. 3. Nouveau support pour disque d'enregistrement magnétique selon les revendications 1 et 2, caractérisé en ce que la couche de nivellement 6 est une résine organique photosensible, semblable à cel- le utilisée en photolithographie. 4. Nouveau support pour disque d'enregistrement magnétique, selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche dure 8 est à base de silicate hydraté avec ou non un radical organique Si(OH)4 d'épaisseur omprise entre 0,1 um à quelques microns. 5. Nouveau support pour disque d'enregistrement magnétique, selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche dure 8 est de la silice d'épaisseur comprise entre O,1 um et quelques microns. 6. Nouveau support pour disque d'enregistrement magnétique, selon l'une quelconque des revendications 1, 2, 3, 4, caractérisé en ce qu'une couronne de garde située en diamètre intérieur du disque, né- soit pas recouverte par les couches 6 et 8 afin d'avoir une surface 10 de serrage directement sur le support d'aluminium 2. 7. Nouveau support pour disque d'enregistrement magnétique, selon l'une quelconque des revendications 1, 2, 3, 4, caractérisé en ce qu'une couronne de garde située en diamètre intérieur du disque ne soit pas recouverte par les couches 6 et 8 et en ce que la couche ma- gnétique support d'information soit en bon contact électrique avec le support d'aluminium, par la surface 10 de la couronne interne. 2559 2 9 5 8. Procédé de fabrication du support pour disque d'enregis- trement, selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la couche 6 et la couche dure 8, à base de silicate hydraté, sont déposées par centrifugation, en une ou plusieurs étapes, entre- coupées de cuissons. 9. Procédé de fabrication du support pour disque d'enregis- trement, selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que la couche dure 8 est en silice, déposée par décomposition gazeuse de silane en présence d'un plasma. 10. Procédé de fabrication du support pour disque d'enregis- trement, selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que la couche de nivellement 6, après son dépôt en couches en- trecoupées de cuissons, subit une cuisson à plus haute température de réticulation, avant de recevoir la couche dure 6. 11. Nouveau disque pour enregsitrement magnétique comportant un support selon l'une quelconque des revendications 1 à 6.