FR 2548813 A1 19850111 FR 8409271 A 19840612 1 2548813 PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNETIQUE La présente invention a trait à un procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique par oxydation anodique d'un aluminium our d'un alliage d'aluminium (ci-après désigné par le terme aluminium), remplissage ou 5 comblement d'un grand nombre de micropores perpendiculaires au film ou à la couche d'oxyde anodique ainsi formée, à l'aide d'une substance magnétique, et, ensuite, lissage ou polissage physique de la surface de ladite couche. I 1 est connu, comme décrit dans le brevet US N 4 109 10 287 d'effectuer un traitement d'oxydation anodique sur de l'aluminium pour former un film ou couche d'oxyde anodique comportant un grand nombre de micropores, de combler ces derniers ainsi formés dans la couche d'oxyde anodique,d'une substance magnétique de diverses manières pour constituer une 15 couche magnétique, et d'utiliser le matériau magnétique ainsi obtenu comme support d'enregistrement magnétique. Suivant une caractéristique remarquable du support d'enregistrement magnétique préparé de la manière ci-dessus, un tel support présente des "propriétés magnétiques 20 perpendiculaires" du fait que la substance magnétique se trouve présente dans les micropores perpendiculaires de la couche d'oxyde anodique, et la densité d'enregistrement peut être fortement accrue en comparaison avec les supports d'enregistrement magnétique conventionnels à système d'aimantation horizontal réalisé par revêtement diun matériau magnétique courant sur la surface d'un substrat. -2 2548813 Dans le cas de l'utilisation d'une couche magnétique obtenue en comblant les micropores de la couche d'oxyde anodique à l'aide d'une substance magnétique en vue de l'obtention d'un support d'enregistrement magnétique, on 5 souhaite que la surface de la couche d'oxyde anodique ainsi formée soit physiquement lissée ou polie afin d'obtenir une surface suffisamment unie, que l'épaisseur du film d'oxyde anodique après polissage soit d'au moins 2 microns afin d'éviter que la couche soit rompue par une tête magnétique et 10 d'obtenir des propriétés magnétiques suffisantes dans le cas d'utilisation avec une tête magnétique du type à contact ou une tête magnétique du type flottant, et que le support d'enregistrement magnétique puisse présenter des propriétés magnétiques propres vis-à-vis du type de tête magnétique, ces 15 propriétés magnétiques étant homogènes sur toute l'étendue de la surface du support d'enregistrement magnétique. Cependant, dans un support d'oxyde anodique obtenu par un traitement conventionnel d'oxydation anodique, il se pose un problème du fait que les propriétés magnétiques du 20 support d'enregistrement magnétique sont inappropriées à cause de la petitesse du diamètre des micropores, en sorte que la densité de surface des micropores se trouvant à la surface de la couche d'oxyde anodique est trop faible, et également que la force coercitive (Hc) est trop élevée pour réaliser un 25 enregistrement et une reproduction ou bien la sortie est trop faible par suite du petit diamètre des micropores. Il est également connu que le diamètre des micropores dans la couche d'oxyde anodique varie largement suivant le type de bain électrolytique utilisé pour le traitement 30 d'oxydation anodique de l'aluminium Par exemple, quand on utilise, ce qui est le plus courant, un bain d'acide sulfurique comme bain de traitement d'oxydation anodique de l'aluminium, le diamètre des micropores de la couche d'oxyde anodique ainsi constituée est d'environ 100 à 200 X alors que 35 dans le cas d'un bain d'acide phosphorique, ce diamètre est d'environ 500 à 1 000 X Ainsi, en ce qui concerne le diamètre des micropores, un grand diamètre est obtenu en utilisant un bain d'acide phosphorique en sorte que l'on peut obtenir une grande densité de surface des micropores, mais la couche -3 25 2548813 d'oxyde anodique formée en utilisant un simple bain d'acide phosphorique est susceptible de devenir fragile et cette couche a une épaisseur d'environ 2 microns seulement. D'un autre côté, quand on applique à l'aluminium un 5 traitement d'oxydation anodique à l'aide d'un bain constitué d'acide sulfurique, d'acide oxalique ou d'acide sulfosalicylique ou d'un bain principalement constitué des acides ci-dessus, on obtient une couche d'oxyde anodique ayant une très bonne qualité de revêtement et une épaisseur de 10 revêtement suffisamment importante, mais le diamètre des micropores est petit et, par suite, il est nécessaire d'élargir ce diamètre par un traitement secondaire. Pour élargir les micropores dans la couche d'oxyde anodique on a déjà proposé un procédé réalisant une 15 électrolyse secondaire à l'aide d'un bain d'acide phosphorique Cependant dans le cas d'une telle électrolyse secondaire à l'aide d'un bain d'acide phosphorique, le fond des micropores est généralement élargis -de manière très importante, un grand nombre de micropores ramifiés sont formés 20 au fond des micropores, et une telle croissance extraordinaire des micropores ne peut être prévue cependant que l'étendue de cette croissance n'est pas constante En conséquence, dans le cas du remplissage des micropores à l'aide d'une substance magnétique au cours de l'étape suivante on obtient pas les 25 propriétés magnétiques perpendiculaires désirées et il est également impossible de faire les ajustements nécessaires pour obtenir les propriétés magnétiques appropriées aux diverses têtes magnétiques. A la suite de divers essais faits par les inventeurs 30 sur l'élargissement des micropores d'un film d'oxyde anodique, on a trouvé que lorsqu'un matériau d'aluminium était soumis à un traitement d'oxydation anodique à l'aide d'un bain de traitement conventionnel et immergé dans un bain acide ou alcalin pour dissoudre chimiquement une partie de la couche 35 d'oxyde anodique, c'est-à-dire des parois des micropores, on pouvait élargir uniformément les micropores sur la totalité de leur longueur et au cours de l'élargissement de ces micropores par une telle dissolution chimique le diamètre pouvait être contrôlé de manière relativement libre en réglant de manière -4 2548813 appropriée les conditions de dissoluticn. Cependant, quand un support d'enregistrement magnétique préparé en déposant une substance magnétique dans des micropores élargis de la manière ci-dessus, la quantité déposée de substance magnétique devient fréquemment microscopiquement irrégulière et, également, lorsqu'un tel support d'enregistrement magnétique est utilisé comme support d'enregistrement magnétique à haute densité, la sortie n'est pas uniforme ce qui provoque des erreurs Par suite, il est 10 nécessaire de remplir les micropores d'une substance magnétique de manière régulière microscopiquement. L'invention a pour objet un procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique éliminant les difficultés susdites des techniques conventionnelles par une 15 dissolution chimique d'une couche d'oxyde anodique formée sur l'aluminium avant le remplissage des micropores de ladite couche, et par un polissage physique faisant apparaître la substance magnétique de remplissage à la surface de la couche. L'invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique dans lequel la substance magnétique est microscopiquement déposée dans les micropores de la couche formée sur l'aluminium. A cet effet, l'invention concerne un procédé de 25 fabrication d'un support d'enregistrement magnétique par remplissage à l'aide d'une substance magnétique des micropores d'un film ou couche d'oxyde anodique réalisé par un traitement d'oxydation anodique de l'aluminium, caractérisé en ce qu'il consiste à former sur l'aluminium une couche d'oxyde anodique 30 ayant une épaisseur supérieure à 4 microns, à plonger l'aluminium dans un bain alcalin pour dissoudre chimiquement une partie de ladite couche, en sorte que les micropores de ladite couche sont élargis jusqu'à un diamètre compris entre 300 et 1 400 A, et à effectuer, après application, si 35 nécessaire, pendant quelques temps, d'un courant électrique dans le bain alcalin dans lequel est plongé l'aluminium pour contrôler la couche barrière dans la couche d'oxyde anodique, un traitement électrolytique sur l'aluminium dans un bain contenant des ions d'une substance magnétique afin de déposer -5 2548813 la substance magnétique dans les micropores de ladite couche d'oxyde anodique. En outre, la substance magnétique déposée dans les micropores ou répandue à partie des micropores est physiquement lissée ou polie afin d'exposer la surface de la couche d'oxyde anodique. D'autres caractéristiques et avantages ressortiront de la description qui va suivre donnée à titre d'exemple uniquement et en regard des dessins annexés sur lesquels: Figures 1 A à 1 F sont des vues schématiques illustrant les phases du procédé de l'invention, et Figures 2 A et 2 B représentent de manière comparative l'enveloppe des signaux relatifs respectivement à un support d'enregistrement magnétique d'aluminium traité à 15 la manière conventionnelle et à un support obtenu conformément a l'invention. Les figures 1 A à 1 F sont des vues schématiques illustrant les phases du procédé de l'invention. L'aluminium 1 utilisé dans l'invention peut être de 20 n'importe quel type mais il est néanmoins préférable d'avoir un matériau se prêtant facilement à la réalisation d'une couche superficielle d'oxyde anodique, tel que de l'aluminium pur, de l'aluminium 5 XXX, de l'aluminium 6 XXX" etc On peut utiliser comme bain électrolytique pour le traitement 25 d'oxydation anodique de 3 'aluminium, un bain constitué d'acide sulfurique, d'acide sulfamique, d'acide chromique, ou constitué principalement d'acide inorganique, ou un bain constitué principalement d'un acide organique tel que l'acide sulfosalicylique, l'acide oxalique, l'acide malonique etc, 30 additionné à un acide inorganique En outre, on peut utiliser un bain alcalin constitué principalement de phosphate de sodium, d'hydroxyde de sodium, etc En appliquant à l'aluminium un traitement d'oxydation anodique avec une densité de courant de 0,1 à 3,0 A/dm 2 et une tension de 5 à 80 Volts en courant continu ou alternatif tout en choisissant de manière appropriée la composition du bain,celui-ci étant à une température de O à 40 WC, on forme une couche 4 d'oxydation anodique constituée d'une couche poreuse 2 et d'une couche barrière 3, dont l'épaisseur est -6 2548813 supérieure à 4 microns en sorte que le dépôt d'une substance ou matière magnétique peut être facilement réalisé dans l'étape suivante et la couche d'oxyde anodique peut conserver une épaisseur d'au moins 2 microns après lissage ou polissage 5 par rapport à l'aluminium La figure l A représente l'état de la couche d'oxyde anodique avant la dissolution chimique de sa surface. De plus, si l'épaisseur de la couche d'oxyde anodique est inférieure à 4 microns, une substance magnétique peut être 10 aisément déposée de manière uniforme, même localement Si la substance magnétique déborde localement de la surface de la couche 4, le courant électrique se concentre sur certaines parties et empêche le dépôt de substance magnétique en d'autres parties, ce qui cause des problèmes du fait que les 15 micropores 5 ne sont pas suffisamment remplis de susbtance magnétique dans leur totalité. Ensuite, les parois des micropores 5 formés après le traitement d'oxydation anodique sont dissoubschimiquement afin d'élargir le diamètre des pores comme représenté sur la figure 20 l B Du fait que la force coercitive dépend du diamètre des pores, la force coercitive du support d'enregistrment magnétique ainsi obtenu peut être contrôlée quantitativement en réalisant de manière stricte ce traitement. Le bain qui est utilisé pour la dissolution chimique 25 est un bain acide constitué d'acide phosphorique, d'acide chromnique, d'acide sulfamique, d'acide sulfurique, d'acide oxalique ou de deux ou davantage de tels acides, ou un bain alcalin telle qu'une solution diluée d'hydroxyde de sodium, d'hydroxyde de potassium, etc, ou une solution de phosphate 30 tertiaire de sodium, et la température du bain est habituellement la température ambiante jusqu'à environ 50 C. Si la température de bain et la concentration de l'acide ou de l'alcali sont trop élevées, la dissolution survient trop rapidement en sorte que les diamètres des micropores sont 35 susceptibles de ne pas être uniformes et que la dissolution de la couche d'oxyde anodique risque de ne pas être suffisante. En outre, la durée de la dissolution dépend du diamètre désiré à obtenir par dissolution chimique des micropores formés par le traitement d'oxydation anodique, mais lorsque la durée de la dissolution est entre 5 et 30 mn, de préférence entre 10 et 20 mn, le diamètre des pores peut être facilement contrôlé. Ainsi, le diamètre des micropores est élargi jusqu'à une valeur située entre 300 et 1 400 A, et de préférence entre 400 et 1 000 A. De plus, dans le cas de l'élargissement des micropores 5 par un acide ou une base, l'épaisseur de la couche barrière 3 au fond des micropores devient irrégulière du fait du traitement de dissolution chimique et par suite il 10 est difficile d'obtenir le dépôt uniforme adéquat d'une substance magnétique De ce fait, il est préférable de réaliser un traitement de controle de la couche barrière Le traitement électrique pour le contrôle de la couche barrière peut être réalisé dans le bain utilisé pour le traitement par 15 dissolution chimique ci-dessus Dans ce cas, si la tension est trop élevée, la couche barrière 3 devient trop épaisse, en sorte que la substance magnétique ne pourra pas être ultérieurement déposée facilemento Egalement, si la tension est trop basse, l'épaisseur de la couche barrière 3 formée 20 devient trop mince, en sorte que la couche d'oxyde anodique est partiellement rompue au cours de la phase de dépôt de la substance magnétique Par suite, la tension est de préférence entre 5 et 25 volts, en particulier entre 10 et 20 volts environ, dans le cas d'un courant continu et entre 6 et 20 25 volts, en particulier entre 10 et 17 volts environ, dans le cas d'un courant alternatif En outre, en ce qui concerne la durée d'application du courant électrique, 3 à 10 mn sont habituellement nécessaires pour obtenir un courant électrique stable Ainsi on peut obtenir une couche barrière ayant une 30 épaisseur uniforme comprise entre 100 et 400 A. Ensuite, la plaque d'aluminium portant la couche barrière 3 contrôlée comme indiquée ci-dessus est plongée dans un bain contenant un sel soluble dans l'eau, à savoir un sulfate, un sulfamate, etc d'un ion d'une substance magnétique tel qu'un ion de Fe, de Co, de Ni, etc, avec un électrolyte approprié, tel que du sulfate de magnésium etc o, pour faciliter le dépôt électrolytiqne, et un courant continu ou alternatif ou bien un courant électrique mixte constitué d'un courant continu et d'un courant alternatif, etc >, est -8 2548813 appliqué entre la plaque d'aluminium et une contre-électrode de comptage insoluble par exemple en graphite, en acier inoxydable, etc, la plaque d'aluminium constituant l'anode dans le cas d'un courant continu, en sorte que la substance 5 magnétique 6 est déposée et introduite dans les micropores 5 de la couche d'oxyde anodique. Cependant, lorsque chaque hauteur 1 de substance magnérique 6 déposée dans chaque micropore 5 est différente entre micropores adjacents comme représenté schématiquement 10 sur la figure l C, la quantité de substance magnétique 6 contenue dans chaque micropore diffère ce qui entraîne des différences dans, les propriétés magnétiques de chaque colonne de substance magnétique. Par suite, conformément à l'invention, la surface de 15 la couche d'oxyde anodique 4 est physiquement polie ou enlevée comme représenté sur la figure 1 D afin d'éviter les effets néfastes ci-dessus La quantité de substance magnétique à enlever correspond à la plus petite hauteur 1 min de la hauteur 1 de la colonne de substance magnétique ou à cette 20 hauteur diminuée de 10 %, et la hauteur de la colonne de substance magnétique après enlèvement de ladite quantité est l 2 De plus, puisque la hauteur 12 est environ 50 à 80 % de l'épaisseur de la couche poreuse 2, il est préférable d'enlever 40 -à 60 % de l'épaisseur de cette couche 2 à partir 25 de la surface de celle-ci, en sorte que la totalité de la surface supérieure des colonnes de substance magnétique sont exposées au niveau de la surface de la couche d'oxyde anodique Par suite,les hauteurs des colonnes de substance magnétique sont presques constantes en sorte que les 30 propriétés magnétiques de chaque colonne sont presque uniformes ou homogènes et l'enveloppe obtenue par enregistrement sur bande des signaux de sortie reproduisant le signal alternatif enregistré sur un tel support est bonne On réalise ainsi une reproduction à haute densité. Les figures 2 A et 2 B représentent des enveloppes de signaux enregistrés Dans le cas du polissage de la surface d'une couche d'oxyde anodique comportant des micropores dont le diamètre est élargie par dissolution chimique de surface, après remplissage des micropores par une substance magnétique, -9 2548813 l'enveloppe est bonne comme représentée sur la figure 2 B, mais dans le cas d'un non-po 3 lissage de la surface de ladite couche, cette suface n'étant pas soumise à une dissolution chimique, après remplissage des micropores par une substance magnétique, 5 les propriétés magnétiques du support d 'enregistrement ne sont pas uniformes, la distance entre la surface du support d'enregistrement magnétique et la tête magnétique n'est pas uniforme et l'enveloppe est mauvaise, comme reprseente sur la figure 2 A. Comme décrit codnssus zonformément à l'invention, on obtient un support d 'enregistrement magnétique dans lequel les micropores d'une couche do'cxyde anodique d'épaisseur uniforme formée à la surface de i'aluminiium sont remplies d'une substance magnétique sur une hauteur égale à celle des 15 micropores et sensibement la même pour chaque colonne de substance magnétique. Dans ce cas, si l'on utilise par exemple du fer comme substance magnétique et que 12/D> 0, ou D est le diamètre et 1 est la colonne de matière magntique (en supposant que celle-ci est cylindrique), le support d'enregistrement magnétique présente des propriétés magnétiques perpendiculaires, et si l'on utilise du cobalt comme substance magnétique et que 12/D> 20, le support d'enregistrement magnétique présente également des propriétés magnétiques 25 perpendiculaires Capendant, une tentative de réduire D pour améliorer les propriétés magnétiques perpendiculaires s'est heurtée à une difficulté due au fait que la force coercitive devient trop élevée et de ce fait nécessite une tête magnétique puissante. Egalement, afin d'éliminer le problème dû au fait que la hauteur des colonnes de substance magnétique 6 introduite dans les micropores diffère, on peut mettre en oeuvre le procédé de l'invention de manière que la substance magnétique 6 se répende à la surface de la couche d'oxyde anodique 4 en 35 déposant une grande quantité de substance magnétique dans les micropores afin de couvrir la surface de la couche 4 de substance magnétique 6 comme représenté sur la figure 1 E. Dans ce cas, le traitement de dépôt électrolytique de la substance magnétique est effectué pendant une période de -10 2548813 temps supérieure à la normale En d'autres termes, les conditions du traitement de dépôt sont presque les mêmes que ci-dessus sauf que l'opération de dépôt est généralement effectuée pendant 5 à 30 mn, et une quantité suffisante de 5 substance magnétique remplit les micropores en sorte que ladite substance recouvre suffisamment la surface de la couche d'oxyde anodique. Ensuite, par enlèvement physique de la substance magnétique 6 déposée à la surface de la couche 4 en même temps 10 que la partie superficielle de ladite couche 4 au dessus du niveau 7 comme représenté sur la figure 1 F, on obtient le même résultat que ci-dessus. La couche magnétique ainsi obtenue peut être ensuite rincée à l'eau et séchée et les micropores de la couche 15 d'oxyde anodique peuvent être scellés par un traitement à la vapeur à la manière habituelle en guise de traitement de résistance à la corrosion, ou bien la surface de ladite couche peut faire l'objet, à des fins de protection et/ou de lubrification, à l'aide d'un traitement de surface tel qu'une 20 pulvérisation d'un oxyde de silicium, etc Une lubrification peut également être effectuée sur le revêtement protecteur. On va maintenant donner ci-après quelques exemples de mise en oeuvre de l'invention. Cinq plaques d'aluminium JIS All 00 ont été traitées 25 dans les conditions décrites ci-après et les forces coercitives, les aimantations saturantes (Bs), les aimantations résiduelles (Br) et les taux d'aimantations résiduelles ont été mesurés à l'aide d'un dispositif de mesure d'aimantations du type à vibration, les valeurs moyennes des 30 mesures étant reportées dans le tableau 1 ciaprès. Dans ce cas, les traitements de contrôle de la couche barrière des échantillons N 1,2 et 4 ont été effectués dans le même bain que celui utilisé pour les opérations de dissolution chimique et l'opération de dépôt et remplissage de 35 la substance magnétique a été réalisée dans un bain contenant g/l de sulfate ferreux, 70 g/1 de sulfate de magnésium, 30 g/l d'acide borique et 20 g/1 d'acide citrique, à une température de 30 C, en utilisant un courant alternatif à 60 cycles par seconde et sous 15 volts pendant 10 à 18 mn, la -Il 2548313 contre-électrode étant en graphite. La couche d'oxyde anodique après le déversement de la substance magnétique a été polie pendant 15 mn à l'aide d'un polissoir du type à peau de buffle utilisant des particules de 5 polissage d'alumine à haute pureté ( 99,99 %) d'un diamètre d'un micron de manière à obtenir une rugosité de surface moyenne Rmax de 0,04 micron. En outre, à titre de comparaison, les valeurs mesurées de l'échantillon N 4 préparé de la même manière que 10 ci-dessus sauf pour ce qui concerne le polissage physique qui n'a pas été réalisé, et de l'échantillon -N 5 préparé de la merote manière que ci-dessus sauf pour ce qui concerne la dissolution chimique et le contrôle de la couche barrière qui n'ont pas été réalisés, sont reportées dans ledit tableau 1. T A B L E A U 1 : Traitement d'oxydation anodique:Dissolution chimique: Contrôle de couche barrière: Echan-::p:s:til Bain Tension Epaisseur Bain Durée Tension Durée Diamètre Epaisseur: lons' (t ) (V) de couche (t m V) (n) ' (V) (n) de core ouche: No:: : (:m : : : : tre (A): N O ( 1)*trôle (A) _____ ____ __: : : : : ::: te ( :: ::: :: ::: : Acide oxa 6 Acide phos-: 14 CC: 3 440 200 1 lique 40 g/1: 3: phorique 20: ( 35 C):l O Og/1 ( 25 C): : Acide sul::: Acide phos-:: CC:: 2:fosalicylique: 35 9 phorique 10: c 20: 430 200: :200 g/1 ( 205 C):::l O Og/1 ( 30 C):: : -:: ::: :::: : Acide sul:: Phosphate : 3: furique 20: 9: de sodium: 3:: 260: 200 : 165 g/1 ( 50 C):: :30 g/1 ( 20 C)::: ::: : A c d u -::: P o p ae:::::: 4: Acide oxa 35 6 Acide phos-: 14 CC 3 440 : lique 40 g/1:: phorique:: 20: : ( 35 C): :0 l O Og/1 ( 250 C)::: ::: : : : :: ::: :: ::: : Acide oxa: : lique 40 g/: 35 6: 285 200 : ( 350 C):::) : : ::: :: ::: :: ::: S oo wc : lique 40 g/l: 35: 6:: À: : 285: 200 c TABLEAU 1 :- Après polissage physique: Epaisseur Force e couchel erc:tive (Oe Br (gauss) Bs 'gauss) Enveloppe de couche (Win) 'oercitive (Oe): _ -: : 2,5: 735: 2 980: 4 970: Uniforme : 4,5: 690: 1 670 4 680 Uniforme : 4,5 1 030: 3 820 4 240: Uniforme :: *: Tension de 6 * 730 1 995: 3 350 sortie très : *: faible et ins table :: :::Enregistre2,5: 1 505: 2 030 2 070 ment impos::::: sible * San * Sans polissage PJ Co LU -14 REVENDICATIONS R E V E N D I C A T I O N S :=:=:=:=:=:=:=:=:=:=:=:=:=: 1 Procédé de fabrication d'un support d'enregistrement magnétique par remplissage à l'acide d'une substance magnétique des micropores d'une couche d'oxyde anodique formée sur de l'aluminium en soumettant ce dernier à un traitement 5 d'oxydation anodique, caractérisé en ce qu'il consiste à effectuer un traitement d'oxydation anodique sur l'aluminium en vue de former une couche d'oxyde anodique ayant une épaisseur d'au moins 4 microns, à plonger l'aluminium dans un bain acide ou alcalin afin d'élargir les micropores de ladite 10 couche jusqu'à un diamètre se situant entre 300 et 1 400 , à lui appliquer un traitement électrolytique dans un bain contenant des ions d'une substance magnétique afin de déposer la substance magnétique dans les micropores, et à polir physiquement la surface de la couche d'oxyde anodique afin 15 d'exposer à la surface de ladite couche la substance magnétique déposée. 2 Procédé suivant la revendication 1 caractérisé en ce que l'étape de polissage physique est réalisée en déposant la substance magnétique dans les micropores et à la surface de 20 la couche d'oxyde anodique pour la recouvrir et, ensuite, en polissant physiquement la surface de la substance magnétique ainsi déposée en même temps que la surface de ladite couche. 3 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce qu'après l'élargissement des pores dans le bain acide ou 25 alcalin, on applique sur l'aluminium un courant électrique pendant quelques temps dans le même bain afin de contrôler une couche barrière sur la couche d'oxyde anodique. 4 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le bain électrolytique acide dans la phase de 30 traitement d'oxydation anodique est un bain constitué d'acide sulfurique, d'acide sulfamique, d'acide chromique ou principalement constitué de chacun de ces acides inorganiques, ou un bain constitué d'un acide organique et d'un acide inorganique. 5 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en 25488 13 -1 5 ce que le bain électrolytique alcalin dans la phase de traitement d'oxydation anodique est un bain principalement constitué de phosphate de sodium ou d'hydroxyde de sodium. 6 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en 5 ce que la phase de traitement d'oxydation anodique est effectuée avec une densité de courant de 0,1 à 3,0 A/dm 2 et une tension de 5 à 80 volts. 7 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le bain utilisé dans la phase d'élargissement du 10 diamètre des pores est un bain acide principalement constitué d'acide phosphorique, d'acide chromique, d'acide sulfamique, d'acide sulfurique, d'acide oxalique ou de deux ou davantage de ces acides. 8 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en 15 ce que le bain utilisé dans la phase d'élargissement du diamètre des pores est un bain alcalin constitué d'une solution diluée d'hydroxyde de sodium ou d'hydroxyde de potassium, ou une solution de phosphate tertiaire de sodium. 9 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en 20 ce que la temperature du bain utilisé dans la phase d'élargissement du diamètre des pores est la température ambiante jusqu'à 50 C. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le bain dans la phase de dépôt métallique est un bain 25 contenant un sulfate ou un sulfamate, et du sulfate de magnesium. 11 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que dans la phase de contrôle de la couche barrière on applique un courant électrolytique pendant 3 à 10 mn et sous 5 30 à 20 volts en continu ou 6 à 20 volts en alternatif. 32 Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que l'on plonge l'aluminium dans un bain acide ou alcalin afin de dissoudre chimiquement ladite couche, en sorte que les micropores de cette couche sont élargis jusqu'à un diamètre se 35 situant entre 300 et 1 400 A, on applique à l'aluminium, dans ledit bain d'immersion et pendant quelques temps, un courant électrique, en sorte de contrôler la couche barrière dans ladite couche d'oxyde anodique, on soumet l'aluminium à un traitement électrolytique dans un bain contenant des ions -16 d'une substance magnétique afin de déposer cette substance dans les micropores, et ensuite on polit physiquement la surface de la couche d'oxyde anodique afin d'exposer à la surface de ladite couche la substance magnétique déposée. 13 Procédé de fabrication d'un support d'enregistre-' ment magnétique, caractérisé en ce qu'il consiste à remplir, à l'aide d'une substance magnétique les micropores d'une couche d'oxyde anodique ayant une épaisseur d'au moins 4 microns, formée sur de l'aluminium, à plonger l'aluminium dans un bain 10 acide ou alcalin afin de dissoudre chimiquement une partie de la couche d'oxyde anodique, en sorte que les micropores de ladite couche sont élargis jusqu'à un diamètre situé entre 300 o et 1 400 A, à appliquer un traitement électrolytique dans un bain contenant des ions d'une substance magnétique afin de 15 déposer ladite substance dans les micropores et de recouvrir la surface de ladite couche d'oxyde anodique à l'aide de la substance magnétique, et à polir physiquement la surface de la substance magnétique recouvrant la surface de la couche d'oxyde anodique en même temps que la surface de la couche 20 d'oxyde anodique.