FR 2558263 A1 19850719 FR 8400414 A 19840112 Accéléromètre directif et son procédé de fabrication par microlithoqraphie. La présente invention a pour objet un accélé- romètre directif et son procédé de fabrication par mi- crolithographie. Cet accéléromètre directif permet, comme son nom l'indique, de mesurer une seule composan- te de l'accélération d'un corps en mouvement. De façon générale, un accéléromètre com- prend, pour l'essentiel, une masse mobile m (pendule) et des moyens permettant de mesurer la force F = my due à l'accélération y d'un corps en mouvement. Les accéléromètres actuellement commerciali- sés sont composés par des pièces mécaniques rappor- tées; les volumes de ces accéléromètres sont très im- portants, étant donné le grand nombre de pièces les constituant, et leur technologie de fabrication com- plexe compte tenu notamment du problème de positionne- ment des différents éléments constituant ces accéléro- mètres et de leur assemblage. L'utilisation de techniques issues de la technologie des semiconducteurs se développe actuelle- ment dans le but de diminuer la taille de ces accéléro- mètres ainsi que leur coût de fabrication, notamment par une fabrication collective sur un même substrat plan. Une telle technique de fabrication d'accéléromè- tres a été décrite dans un article de K. PETERSEN dans la publication Proceeding of the IEEE, vol. 70, n 5, de mai 1982. Sur la figure 1, on a représenté, en coupe longitudinale, le schéma de principe d'un accéléromètre réalisé selon cette technique nouvelle. Cet accéléromè- tre comprend un substrat 2, réalisé par exemple en si- licium ou en verre, comportant un évidement 4. Sur la surface supérieure du substrat est déposée, par exemple par dépôt sous vide, une couche mince flexible 6, en forme de poutre, notamment réalisée en silice, en sili- cium dopé ou en métal, surplombant l'évidement 4 prati- qué dans le substrat. Cette poutre, apte à se déformer ou se déplacer dans une direction perpendiculaire à la surface du substrat, représentée par la direction z, supporte, au niveau de son extrémité libre, une masse sismique 8. La mesure du déplacement de la masse 8, dé- placement qui est proportionnel à la composante de l'accélération selon la direction z que l'on désire me- surer, s'effectue, soit par la mesure de la variation de la capacité du condensateur défini par la couche mince 6 en forme de poutre et le substrat 2, soit à l'aide d'éléments piézorésistifs rapportés sur cette couche mince. L'accéléromètre décrit ci-dessus, correspon- dant en fait à ce que l'on sait faire de mieux actuel- lement sur une plaquette de silicium, présente un cer- tain nombre d'inconvénients. En particulier, la poutre flexible 6 peut être le siège de contraintes internes conduisant à une flexion de ladite poutre, même en l'absence d'accélération; ces contraintes, très dif- ficiles à maîtriser, sont notamment dues au procédé de fabrication de l'accéléromètre. Par ailleurs, ces con- traintes varient avec la température. Un autre inconvénient réside dans l'empile- ment de matériaux différents qui présentent des coeffi- cients de dilatation différents conduisant également à la formation de contraintes inadmissibles. De plus, étant donné que la masse 8 rapportée sur la poutre flexible 6 est excentrée par rapport à l'axe de ladite poutre, ce type d'accéléromètre est également sensible à la composante de l'accélération suivant une direction parallèle à la surface du subs- trat 2, telle que la direction y. Or, un bon accéléro- mètre directif ne uoit être sensible qu'à une seule composante de l'accélération à mesurer. Ce phénomène est encore aggravé lorsque la poutre 6 fléchit en l'ab- sence d'accélération, du fait des contraintes internes de cette même poutre. Par ailleurs, étant donné le manque de symé- trie de la structure de l'accéléromètre, il est très difficile de réaliser une mesure différentielle du dé- placement de la masse 8. Or, il n'est pas possible d'effectuer une mesure précise de la position de la poutre sans une telle technique. Pour remédier à ce manque de symétrie, on peut rapporter un deuxième substrat symétrique au pre- mier par rapport à Jla couche mince 6, mais le problème des contraintes internes apparaît alors au niveau du substrat lui-même du fait du scellement. De plus, ce procédé est complique et coQteux. Un autre inconvénient de ces accéléromètres réside dans leur faible sensibilité. En effet, les di- mensions de la couche mince 6 en forme de poutre étant fixées, il est difficile d'augmenter la masse sismique 8, celle-ci présentant au plus une épaisseur de quel- ques microns. Une variante possible de l'accéléromètre re- présenté sur la figure 1, consiste à avoir une couche mince 6 fixée à ses deux extrémités au substrat, ce qui permet de mieux fixer la position d'origine de la masse 8, même en présence de contraintes internes dans ladite couche. Cependant, un tel accéléromètre présente une structure beaucoup plus raide et donc une sensibilité réduite. La présen:e invention a justement pour objet un accéléromètre d-rectif et son procédé de fabrica- tion, basés sur les technologies de la microélectroni- que, c'est-à-dire permettant une fabrication collecti- ve sur un même substrat, et permettant de remédier à ces différents inconvénients. De façon plus précise, l'invention a pour objet un accéléromètre directif permettant de mesurer une composante de l'accélération d'un corps en mouve- ment, se caractérisant en ce qu'il comprend un substrat comportant au moins un évidement définissant au moins une poutre dans le substrat dont l'une des extrémités est solidaire du reste du substrat, ladite poutre, orientée suivant une première direction, étant apte à se déformer dans ledit évidement suivant une seule di- rection, dite deuxième direction, parallèle à la surfa- ce du substrat et perpendiculaire à la première direc- tion, ladite deuxième direction correspondant à la com- posante de l'accélération à mesurer, et des contacts et connexions électriques, réalisés sur le substrat, ser- vant à connecter des moyens de mesure des déformations de ladite poutre, ces mesures permettant de déterminer la valeur de ladite composante de l'accélération. Cet accéléromètre permet de mesurer une com- posante de l'accélération dirigée parallèlement à la surface du substrat alors que les accéléromètres de l'art antérieur permettaient de mesurer une composante de l'accélération dirigée perpendiculairement à la sur- face du substrat. Par ailleurs, étant donné que la poutre est usinée directement dans le substrat, les problèmes de substrats multiples ou d'empilement de couches sont supprimés, ce qui permet de diminuer considérablement les contraintes mécaniques de l'accéléromètre et d'avoir un accéléromètre ayant une excellente stabilité en température. Selon un mode préféré de réalisation de l'ac- céléromètre de l'invention, les moyens de mesure des déformations de la poutre sont-réalisés dans le subs- trat. Des gammes variées de mesure de l'accéléra- tion peuvent être facilement obtenues en jouant sur les dimensions et la forme de la poutre ou par des apports éventuels de masses tout en conservant la symétrie de l'accéléromètre. De façon avantageuse, la poutre de l'accélé- romètre de l'invention a une épaisseur très supérieure à sa largeur. Ceci permet d'obtenir un accéléromètre très directif. Par ailleurs, selon un mode préféré de réali- sation de l'accéléromètre de l'invention, la poutre peut supporter à son extrémité libre un bloc, réalisé dans le substrat, apte à se déplacer dans l'évidement du substrat, suivant ladite deuxième direction, sous l'action de la composante de l'accélération à mesurer. Ceci permet d'éviter d'avoir à rapporter une masse sis- mique, notamment par voie électrolytique, comme c'était le cas pour les accéléromètres de l'art antérieur. Bien que le substrat de l'accéléromètre puis- se être réalisé dans n'importe quel matériau, celui-ci sera réalisé de préférence en silicium ou en quartz a monocristallin. Selon une variante préférée de réalisation de cet accéléromètre de l'invention, celui-ci comprend un ressort, réalisé dans le substrat, disposé dans le pro- longement du bloc et reliant celui-ci au reste du subs- trat, selon la première direction. Selon un autre mode préféré de réalisation de l'accéléromètre de l'invention, les moyens de mesure comprennent au moins un condensateur de capacité varia- ble défini par une surface du bloc, généralement trans- versale à la deuxième direction, une surface du subs- trat située en regard de ladite surface du bloc, ces surfaces étant recouvertes d'une couche métallique, et par l'espace situé entre lesdites surfaces métallisées. De façon avantageuse, ces moyens de mesure comprennent aussi au moins un condensateur de capacité constante défini par un autre évidement, réalisé dans le substrat, comportant deux surfaces en regard, géné- ralement transversales à la deuxième direction, recou- vertes d'une couche métallique. Grâce à ce condensateur de capacité constan- te, il est possible de réaliser une mesure différen- tielle des déformations de la poutre et/ou du bloc con- duisant, ainsi, à une mesure précise de la composante de l'accélération à mesurer, ce qui était difficile avec les accéléromètres de l'art antérieur. La présente invention a aussi pour objet un procédé de fabrication par microlithographie d'un accé- léromètre directif tel que défini précédemment. Ce pro- cédé se caractérise en ce qu'il comprend les étapes suivantes: réalisation d'un masque sur le substrat permettant de définir la forme des différents éléments de l'accélé- romètre réalisés dans le substrat, - réalisation d'une gravure des régions du substrat dé- pourvues de masque, et - réalisation des contacts et des connexions électri- ques de l'accéléromètre et des moyens de mesure des déformations de la poutre. Dans ce procédé de fabrication, les contrain- tes à l'interface conducteur-substrat agissent perpen- diculairement au substrat, donc perpendiculairement à l'axe sensible de l'accéléromètre, et non suivant celui-ci, comme c'était le cas dans les accéléromètres de l'art antérieur. Il en résulte une totale absence de torsion ou de déformation des éléments mobiles de l'ac- céléromètre, en l'absence d'accélération, ainsi qu'une excellente stabilité en température dudit accéléromè- tre. De façon Avantageuse, le substrat est gravé au moyen d'une gravure sèche et notamment au moyen d'une gravure ionique réactive, ce type de gravure étant avantageusement applicable à n'importe quel type de matériau constituant le substrat de l'accéléromètre. Par ailleurs, ce type de gravure présente l'avantage de fixer la forme des éléments de l'accéléromètre, réali- sés dans le substrat, par la forme du masque et d'être indépendant des proDlèmes d'orientation cristalline du substrat. Selon une variante du procédé, on peut égale- ment utiliser la gravure chimique anisotrope dans le cas o le substrat est monocristallin (silicium, quartz). Cependant, dans ce cas, si on veut avoir des poutres à flanc bien droit, l'orientation cristalline du substrat ne pourra pas être quelconque. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront mieux de la description qui va suivre, donnée à tigre explicatif et nullement limitat- if, en référence au. figures annexées dans lesquelles: - la figtae 1, déjà décrite, représente, en coupe longitudinale; le schéma de principe d'un accélé- romètre directif de l'art antérieur, - la figue 2 représente une vue en perspec- tive illustrant le principe de l'accéléromètre confor- mément à l'invention, - la figure 3 représente une vue en perspec- tive d'un mode de réalisation particulier de l'accélé- romètre conformément à l'invention, la figure 3a son équivalent électricque, et - la figure 4 illustre un mode de réalisation particulier du prouedé de fabrication de l'accéléromè- tre conformément à l'invention. Sur la figure 2, on a représenté en per.pec- tive le schéma de principe de l'accéléromètre selon 2?58263 l'invention. Cet accéléromètre comprend un substrat 12, réalisé de préférence en un matériau isolant, tel que le silicium, la silice ou le quartz a monocristallin, comportant un évidement 14 traversant de part en part le substrat. Cet évidement 14 définit dans le substrat une poutre flexible 16 dont l'extrémité 16a est soli- daire du reste du substrat. Cette poutre 16, orientée suivant une direction y, parallèle à la surface supé- rieure du substrat 12, peut se déformer selon une di- rection x, parallèle à ladite surface du substrat et perpendiculaire à la direction y, cette direction x correspondant à la direction de la composante de l'ac- célération à mesurer. La mesure des déformations ou dé- placements de la poutre 16 selon la direction x, permet de déterminer la valeur de la composante de l'accéléra- tion, selon cette direction, ces déformations étant proportionnelles à la valeur de ladite composante. Le fait d'usiner la poutre flexible 16 direc- tement dans le substrat 12 permet de s'affranchir des problèmes posés par l'emploi de couches multiples dans les accéléromètres de l'art antérieur. De façon avantageuse, les moyens permettant de mesurer les déformations de la poutre 16, lorsque celle-ci est soumise à une accélération, peuvent être réalisés dans le substrat 12. Ces moyens peuvent notam- ment être constitués d'un condensateur de capacité va- riable 17, défini par l'évidement 14 comportant, à cet effet, deux surfaces latérales métallisées, par exemple 18 et 20, situées en regard et orientées parallèlement à la direction y. Le dépôt de bandes conductrices 22, sur la surface supérieure du substrat 12, permet de connecter le condensateur de capacité variable 17 à un système de mesure 24, de type classique, permettant de déterminer les variations de la capacité dudit conden- sateur. 2?58263 A partir de ces mesures, il est aisé de dé- terminer les valeurs de la composante selon la direc- tion y de l'accélération d'un corps, notées ày, à l'ai- de de la formule y = E S dans laquelle o est la y K mC O permittivité diélectrique du vide, S la surface des ar- matures du condensateur, K la constante de raideur de la poutre, m sa masse et C la capacité du condensateur. Les différentes connexions et métallisations de l'accéléromètre peuvent être réalisées en un alliage de chrome et d'or. De façon à obtenir un accéléromètre très di- rectif, c'est-à-dire ne permettant que de mesurer la composante de l'accélération d'un corps, selon la di- rection y, la poutre 16 devra présenter une épaisseur e très supérieure à sa largeur 1, comme représenté sur la figure 2. Compte tenu de la symétrie de l'accéléromètre et de l'épaisseur de la poutre 16, il est toujours pos- sible d'ajouter à la poutre une ou plusieurs masses sismiques telles que 26. L'adjonction d'une ou plu- sieurs masses sismiques 26 permet d'augmenter considé- rablement la sensibilité de l'accéléromètre. Sur la figure 3, on a représenté, en perspec- tive un mode de réalisation particulier de l'accéléro- mètre conforme à l'invention. Cet accéléromètre comprend un substrat 32, réalisé par exemple en silicium ou en quartz a mono- cristallin de coupe z (coupe selon axe Z), dans lequel est pratiqué un évidement 34, traversant de part en part le substrat et définissant, entre autres, dans le substrat, deux poutres flexibles 36 dont l'une des ex- trémités 36a est solidaire du reste du substrat 32. Ces poutres 36, orientées suivant une direction y parallèle à la surface supérieure du substrat 32, peuvent se dé- placer ou plutôt se déformer selon une direction x, parallèle à la surface du substrat et perpendiculaire à la direction y; cette direction x correspond à la di- rection de la composante de l'accélération à mesurer. Ces deux poutres 36, ayant une épaisseur très supérieure à leur largeur, supportent à leur extrémité libre un bloc 38, présentant par exemple la forme d'un parallélépipède rectangle, dont l'épaisseur est égale à celle des poutres. Ce bloc 38 réalisé dans le substrat 32, peut se déplacer ou plutôt se déformer dans l'évi- dement 34 pratiqué dans le substrat et ce, suivant la direction x. Cet accéléromètre comprend aussi un res- sort 40, réalisé dans le substrat, disposé dans le pro- longement du bloc 38 et de façon symétrique par rapport aux poutres 36, permettant de relier ce dernier au res- te du substrat 32. Ce ressort 40, orienté suivant la direction y et ayant une -épaisseur égale à celle des poutres 36 permet de connecter électriquement les élec- trodes (couche 52) déposées sur les parties mobiles (poutres, bloc) de l'accéléromètre, sans pour cela ren- dre rigide la structure de l'accéléromètre et donc ré- duire sa sensibilité. Les moyens de mesure des déformations du bloc 38, selon la direction x, sont aussi réalisés dans le substrat 32. Ces moyens comprennent notamment deux con- densateurs identiques de capacité variable 39 et 41. Ces condensateurs sont définis par les faces latérales 42 du bloc 38, c'est-à-dire les faces du bloc orientées parallèlement à la direction y, par les surfaces 44 de l'évidement 34, situées en regard desdites faces laté- rales 42 du bloc, ces surfaces 44 et 42 étant recouver- tes d'une couche métallique, et par l'espace situé en- tre les surfaces métallisées 42 et 44. Les mesures des variations de la capacité des condensateurs ainsi défi- nis permettent de déterminer les déformations du bloc 38, selon la direction x, lorsque celui-ci est soumis à 1l une accélération seon cette direction. Afin de réaliser une mesure différentielle des déformations du bloc 38, l'accéléromètre selon * l'invention peut être muni d'un ou plusieurs condensa- teurs de capacité constante 43 et 45. A cet effet, l'accéléromètre comprend des évidements tels que 46, pratiqués dans le substrat 32 et disposés de part et d'autre de l'évidement 34, suivant la direction y. Ces évidements 46 comportent deux surfaces en regard res- pectivement 48 et 5û, orientées suivant la direction y, et recouvertes d'une couche métallique. Les surfaces métallisées 48 et 50 des évidements 46 ainsi que l'es- pace compris entre ces deux surfaces définissent les condensateurs de capacité constante 43 et 45. Cet espa- ce présente les mêmes dimensions (épaisseur, largeur et longueur) que celui situé entre les surfaces métalli- sées 42 et 44. Le dépôt d'une couche métallique 52 sur la surface supérieure du substrat 32 permet de réaliser les différents contacts 53, 54, 55, 56 et connexions électriques des condensateurs de capacité variable 39 et 41 et de capacité constante 43 et 45. Cette couche métallique 52 doit présenter une forme adéquate afin d'éviter des courts-circuits entre les différents con- densateurs. Sur la figure 3a, on a représenté un schéma électrique illustrant le pont de condensateurs de l'ac- céléromètre représenté sur la figure 3. La détection des déformations du bloc 38 est réalisée en mesurant le déséquilibre du pont de conden- sateurs tel que représenté sur la figure 3a. On peut avantageusement utiliser la mesure de ce déséquilibre pour: exercer une force contraire Fx se- lon la direction x à la force F=my due à l'accélération y et donc ramener le déséquilibre du pont à zéro (sys- tème asservi). L'un des moyens possibles pour exercer 2*58263 cette force Fx consiste à appliquer un champ magnétique B perpendiculaire à la surface du substrat et un cou- z rant d'intensité Iy selon la direction y entre les points 53 et 51. La force de contre-réaction est alors donnée par l'équation Fx=Bz x Iy x 1, 1 étant la lon- gueur du courant sur lequel agit Bz. Dans ce cas, la détection capacitive sert de détection de zéro (bloc au repos) et le courant électrique passant dans l'ensemble poutres, bloc et ressort permet d'équilibrer l'effet de l'accélération à mesurer, au niveau du bloc 38, grâce à l'action du champ magnétique Bz. La détermination de l'accélération se fait alors par celle du courant né- cessaire pour l'équilibrage du pont de condensateur (figure 3a), courant dont l'intensité I est directe- ment proportionnelle à la valeur de l'accélération. Il est à noter que les moyens de détection décrits ci-dessus servent aussi bien à mesurer des ac- célérations que des décélérations. De plus, le système de détection décrit ci- dessus n'est qu'un exemple de réalisation des moyens de mesure. D'autres moyens, basés sur l'emploi de piézo- résistances déposées à la surface supérieure du subs- trat ou basés sur la détection par voie optique, peu- vent être utilisés. Afin de couvrir une gamme variée d'accéléra- tions, on peut faire varier les dimensions de la masse sismique 26 par simple changement de la forme du masque de gravure. On va maintenant décrire le procédé de fabri- cation d'un accéléromètre conforme à l'invention. Ce procédé utilise la technique de microlithographie. Les différents éléments de l'accéléromètre, réalisés dans le substrat, tels que les poutres 16 ou 36, le bloc 38 et le ressort 40, et les moyens de mesu- re, peuvent être réalisés en gravant le substrat 2 ou 32 dans lequel sont réalisés ces différents éléments. Cette gravure, qui est par exemple une gravure par voie sèche du type gravure ionique réactive ou par voie hu- mide du type anisotrope, peut être réalisée en utili- sant un masque, de préférence réalisé en un matériau conducteur tel qu'un alliage d'or et de chrome, recou- vrant la surface supérieure du substrat et permettant de définir la forme exacte des différents éléments de l'accéléromètre. Dans le cas de la gravure par voie sèche on est limité à une profondeur d'attaque de quelques di- zaines de microns et la largeur de la poutre doit être de quelques microns si on veut avoir une bonne directi- vité. Un substrat intéressant dans ce cas peut être de la silice obtenue par croissance thermique sur du sili- cium. Une fois la silice traversée lors de la gravure, on peut dégager l'arrière de la poutre par attaque chi- mique du silicium, support de la silice. L'intérêt d'un tel procédé est qu'il est utilisable sur un circuit intégré en silicium. Dans une autre variante, on peut effectuer la gravure du substrat uniquement par voie chimique, mais dans ce cas, on est alors dépendant de l'anisotropie cristalline du substrat. En jouant sur cette anisotro- pie et sur l'anisotropie du produit d'attaque chimique, il est possible d'obtenir la forme désirée des diffé- rents éléments constituant l'accéléromètre. De bons candidats pour cette méthode sont le quartz a de coupe z (axe z perpendiculaire au plan du substrat) et le silicium monocristallin pour constituer le substrat. Dans le cas du quartz, on utilisera par exemple comme produit d'attaque un mélange gazeux de HF et NH4H à 90 C. Les différents contacts et connexions élec- triques de l'accéléromètre, réalisés sur les surfaces du substrat peuvent être obtenus soit, après avoir éli- miné le masque utilisé pour la gravure du substrat, par une simple métallisation, de forme appropriée, de la surface du substrat gravé, soit par une métallisation adéquate du substrat avant de réaliser le masque de gravure sur le substrat alors métallisé. Une autre méthode pour obtenir ces contacts et ces connexions consiste à réaliser sur le substrat un masque conducteur, de préférence en un alliage de chrome et d'or, permettant de définir, à la fois, les formes des différents éléments de l'accéléromètre, réa- lisés dans le substrat, et de réaliser lesdits contacts et connexions électriques. Sur la figure 4, on a représenté le principe du masque unique permettant de définir à la fois la forme des éléments en substrat de l'accéléromètre et de réaliser les contacts et connexions électriques de celui-ci. Ce masque est constitué d'une couche conduc- trice, recouvrant la surface supérieure du substrat, comportant des bandes conductrices telles que 58, 60, 62, présentant la forme des différents éléments de l'accéléromètre, réalisés dans le substrat et devant être pourvus de contacts et connexions électriques, et un évidement 64, de forme adéquate, laissant apparaître les régions du substrat 57 devant être gravées afin de dégager les différents éléments de l'accéléromètre. De plus, ce masque comprend, au niveau des régions du substrat ne devant pas être gravées, des sillons très fins qui permettent de séparer électriquement les dif- férentes connexions de l'accéléromètre. L'existence de ces sillons qui constituent une grille portant la référence 66 permet, lors de la gravure du substrat, d'attaquer très faiblement en pro- fondeur celui-ci au niveau de la grille, l'attaque se heurtant à des plans cristallins à très faible vitesse d'attaque et donc de conserver une bonne solidité méca- 2;58263 nique. Cette faible attaque du substrat est représentée par des encoches telles que 67. Cette différence de profondeur d'attaque du substrat dépend de la taille des motifs du masque ainsi que de l'anisotropie cris- talline du substrat. En effet, lorsque les motifs du masque sont grands (motifs 57), l'attaque se poursuit en profondeur, tandis que lorsque les motifs sont pe- tits (grille 66) l'attaque du substrat n'est que super- ficielle. La dernière étape du procédé de fabrication de l'accéléromètre décrit précédemment consiste à réa- liser les métallisations verticales permettant de défi- nir les condensateurs de capacité variable ou de capa- cité constante apres avoir masqué mécaniquement le substrat. On peut pour cela utiliser avantageusement l'évaporation sous vide avec un angle d'incidence de l'évaporant sur le substrat différent de 90 . Le procécé de l'invention permet de réaliser en série plusieurs accéléromètres directifs sur un même substrat pouvant mesurer des gammes variées d'accéléra- tion ou de décélération. 2-58263 REVENDICATIONS 1. Accéléromètre directif pour mesurer une composante de l'accélération d'un corps en mouvement, caractérisé en ce qu'il comprend un substrat (12, 32) comportant au moins un évidement (14, 34) définissant au moins une poutre (16, 36) dans le substrat (12, 32) dont l'une des extrémités (16a, 36a) est solidaire du reste du substrat, ladite poutre (16, 36), orientée suivant une première direction (y), étant apte à se déformer dans ledit évidement (14, 34) suivant une seu- le direction, dite deuxième direction (x), parallèle à la surface du substrat et perpendiculaire à la première direction (y), ladite deuxième direction correspondant à la composante de l'accélération à mesurer, et des contacts et connexions électriques, réalisés sur le substrat, servant à connecter des moyens de mesure (39, 41, 43, 45) des déformations de ladite poutre, ces me- sures permettant de déterminer ladite composante de l'accélération. 2. Accéléromètre selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'épaisseur (e) de la poutre est très supérieure à sa largeur (1). 3. Accéléromètre selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisé en ce que les moyens de mesure (39, 41, 43, 45) sont réalisés dans le subs- trat. 4. Accéléromètre selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite poutre (36) supporte à son autre extrémité un bloc (38), réalisé dans le substrat (32), apte à se déplacer dans l'évidement (34) du subs- trat suivant ladite deuxième direction (x) sous l'ac- tion de ladite composante de l'accélération. 5. Accéléromètre selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'il comprend un ressort (40), réa- lisé dans le substrat, disposé dans le prolongement du 2 758263 bloc (38) et reliant celui-ci au reste du substrat se- lon la première direction (y). 6. Accéléromètre selon la revendication 4, caractérisé en ce que les moyens de mesure comprennent au moins un condensateur de capacité variable (39, 41) défini par une surface (42) du bloc (38), généralement transversale à la deuxième direction (x), une surface (44) du substrat (32) située en regard de ladite surfa- ce (42) du bloc, ces surfaces étant recouvertes d'une couche métallique et sur l'espace situé entre lesdites surfaces métallisées. 7. Accéléromètre selon la revendication 6, caractérisé en ce que les moyens de mesure comprennent au moins un condensateur de capacité constante (43, 45) défini par un autre évidement (46) réalisé dans le substrat (32), comportant deux surfaces en regard (48, ), généralement transversales à la deuxième direction (x) recouvertes d'une couche métallique. 8. Accéléromètre selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le substrat est réalisé en silice déposée sur du silicium. 9. Accéléromètre selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que le substrat (12, 32) est réalisé en quartz a monocristallin ou en silicium. 10. Accéléromètre selon l'une quelconque des revendications 6 et 7, caractérisé en ce que les moyens de mesure comprennent des moyens permettant de créer un champ magnétique (Bz) perpendiculairement à la surface du substrat (32). 11. Procédé de fabrication d'un accéléromè- tre directif selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes sui- vantes: - réalisation d'un masque (58, 60, 62, 66) sur le subs- trat (32) permettant de définir la forme des diffé- 2.-58263 rents éléments (16, 36, 38, 40, 39, 41, 43, 45) de l'accéléromètre réalisés dans le substrat, - réalisation d'une gravure des régions (57) du subs- trat dépourvues de masque, et - réalisation des contacts et des connexions électri- ques de l'accéléromètre et des moyens de mesure (39, 41, 43, 45) des déformations de la poutre. 12. Procédé selon la revendication 11, ca- ractérisé en ce que l'on grave le substrat au moyen d'une gravure sèche. 13. Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 11 et 12, caractérisé en ce que l'on grave le substrat au moyen d'une gravure chimique. 14. Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 11 à 13, caractérisé en ce que le masque est réalisé en un matériau conducteur. 15. Procédé selon la revendication 14, ca- ractérisé en ce que le masque est réalisé en un alliage de chrome et d'or. 16. Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 11 à 15, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes: - réalisation d'un masque sur le substrat (32) permet- tant de définir la forme des différents éléments (36, 38, 40) de l'accéléromètre réalisés dans le substrat, - réalisation d'une gravure des régions du substrat dé- pourvues de masque, - élimination du masque, et - métallisation (52) de la surface du substrat gravé afin de réaliser les contacts et les connexions élec- triques. 17. Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 11 à 15, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes: - métallisation (52) de la surface du substrat (32) afin de réaliser les contacts et les connexions élec- triques, - réalisation d'un masque sur le substrat métallisé permettant de définir la forme des différents élé- ments (36, 38, 40) de l'accéléromètre réalisés dans le substrat, réalisation d'une gravure des régions du substrat dé- pourvues de masque, et - élimination du masque. 18. Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 11 à 15, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes: - réalisation d'un masque conducteur sur le substrat permettant de définir la forme des différents élé- ments de l'accéléromètre réalisés dans le substrat et permettant de ré&aliser les contacts et les connexions électriques, ce masque présentant la forme d'une grille (66) dont les barreaux sont faiblement écar- tés, au niveau das régions du substrat devant être dépourvues de connexions électriques, et - réalisation d'una gravure des régions (57) du subs- trat dépourvues us masque. 19. Procdé selon l'une quelconque des reven- dications 16 à 18, caractérisé en ce que les moyens de mesure comprenant tes condensateurs (39, 41, 43, 45), on réalise une métallisation par dép8t sous vide des surfaces du substrat servant à définir lesdits conden- sateurs, après avoir masqué mécaniquement le substrat.