FR 2536296 A1 19840525 FR 8318641 A 19831123 COLONNE A PLATEAUX EN CHICANE La présente invention concerne une colonne à plateaux en chicane et plus spécifiquement elle se rapporte à une colonne à plateaux en chia cane utilisée dans des opérations de contact gaz-liquide telles qu'une absorption de gaz ou une distillation. Des colonnes à garnissage ou des colonnes a plateaux ont été utis lisées jusqu'à maintenant comme des appareils de contact gaz-liquide ap- pliqués à l'absorption de gaz, a la distillation ou analogue. Cependant, la colonne à garnissage présente l'inconvénient de créer une difficulté en ce qui concernele passage de la colonne à échelle supérieure puisque son rendement de fonctionnement est généralement réduit à mesure que le diamètre de la colonne augmente, alors qu'il est bon quand le diamètre de la colonne est petit, et en ce qui concerne l'obliga- i 5 tion de déterminer expérimentalement la hauteur nécessaire de garnissage. En foncion de cette considération, l'utilisation de la colonne à garnis- sage présentant un grand diamètre est généralement limitée seulement au cas o le nombre de plateaux théorique est relativement petit. D'autre part, la colorine ou tour à plateaux présente l'-nconvén ient de donner lieu généralement à une grande perte de pression, bien qu'elle puisse être utilisée commodément surla base dela techniquebien établiede pas- sageà l'échellesupérieure En outre, puisque la croissance d'unpolymère ten- dance à se produire dans la colonne sur les parties de la paroi ou analo- gue avec lesquelles le liquide n'entre pas suffisamment en contact, la colonne à plateaux nécessite un entretien fréquent lorsqu'elle est utilisée pour la rectification de composés insaturés aisément polymérisables. En outre, du fait de la structure adoptée dans la colonne à plateaux en chicane classique et connue d'une façon générale, bien que la perte de pression puisse être réduite, un contact effectif entre le gaz et le liqui- de est difficile à réaliser (faible efficacité de contact) puisque le cou- rant de gaz passe au travers de la zone en forme de rideau existant entre les étages adjacents des plateaux en chicane tout en étant étalé sur l'en- semble de la zone En conséquence, le plateau à chicane classique a été rarement utilisé pour l'absorption de gaz ou la distillation et il a été employé principalement pour des opérations de transmission de cha- leur comme un chauffage ou un refroidissement, une collecte de poussières et des opérations analogues. Dans la colonne à plateaux en chicane classique, l'efficacité de contact ou l'efficacité des plateaux (plaques) peut être améliorée si la vitesse d'écoulement dtu gaz est augmentée dans la zone à rideaux, ce qui l O peut ê're obtenu par réduction de l'intervalle entre les plateaux en chi- cane ou par diminution du diamètre de la colonne, mais cela produirait une augmen La:ion de la vitesse d'écoulement dans la zone à fenêtre ou pas- saqe et, par conséquent, une plus grande perte de pression. invention a été conçue en fonction des problèmes définis ci- dessus et un de ses objets est de créer une colonne à plateaux en chicane pour contact Sgaz-liqiide présevt-ant une grande efficacité de contact gaz- liquide et une faible perte de pression. onforméent à 'nven'io,l 'objectif mentionné ci-dessus peut être atteint à l'aide d'une colonne à plateaux en chicane comprenant un corps tubularea plusieurs étages de plateaux en chicane disposés à l'in- térieur du corps de la colonne et des plaques séparatrices chacune dispos se à 1 'intér Ieur du corps de colonne de manière à diviser une zone a ri- 0 eqx définie entre deux -étages adjacents de l'ensemble de plateaux en chicane en une zone supérieure à rideaux servant principalement au passage d'un gaz et en une zone inférieure à rideaux servant principalement au pas- sage d'un iiquide. L'invenrion a également pour but de créer un plateau en chicane capable d'exécuter de façon sûre une opération de disti llation ou d'absorp- tion pendanat une longue période de temps avec un mélange liquide contenant e Xs matières solides ou des composés insaturés aisément polymérisables. Ce problème peut être résolu avec une colonne à plateaux en chicane ayant la structure décrite ci-dessus ou, plus avantageusement, avec une colonne à plateaux en chicane dans laquelle chacun des plateaux en chicane mentionnés ci-dessus comporte une surface supérieure inclinée de telle sorte que le niveau du plateau soit a b a i S S é d u c ô t é de la fenêtre. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention seront mis en évidence dans la suite de la description donnés à titre d'exemple non limitatifs en référence aux dessins annexés dans lesquels: la figure 1 est une vue en perspective schématique d'une colonne à plateaux en chicane correspondant à un premier mode de réalisation de l'invention; la figure 2 est une vue en coupe transversale de la colonne à pla- teaux en chicane représentée sur la figure 1; la figure 3 est une vue en coupe verticale faite suivant la ligne III-III de la figure 2; la figure 4 est une vue en coupe transversale de la colonne à pla- teaux en chicane correspondant à un second mode de réa- lisation de l'invention; la figure 5 est une vue en coupe faite sur la ligne V-V de la fi- gure 4; la figure 6 est une vue en perspective schématique d'une colonne à plateaux en chicane correspondant à un troisième mode de réalisation de l'invention; la figure 7 est une vue en coupe transversale de la colonne à pla- teaux en chicane représentée sur la figure 6; la figure 8 est une vue en coupe verticale faite sur la ligne VIII-VIII de la figure 7; la figure 9 est une vue en perspective schématique d'une colonne à plateaux en chicane correspondant à un quatrièmemode de réalisation de l'invention; la figure 10 est une vue en coupe transversale, en parti e arra&chêah de la colonne à plateaux en chicane repr es ente sur le figure 9; la figure Il est une vue en coupe verticale schémaltique faite sur la ligne XI-XI de la figure 10; et la figure 12 est une vue en perspective schémnatique d'un cinquième mode de réalisation de la colonne àa plateaux en chicane conforme à l'invention. La présente invention va maintenant être expliquée en référence à une colonne à plateaux en chicane 1 agencée sous la forme du premier mode préféré de réalisation représenté sur les figures I à 3 - Sur les figures 1 à 3, un corps cylindrique 2 d'une colonne à pla- teaux en chicane est orienté verticalement et comporte une entrée de liquide 4 et une sortie de gaz 5 à sa partie supérieure ou tête 3 ainsi q'unesortie de liquide 7 et une entrée de gaz 8 à sa partie inférieure ou pied 6. a 4 Chacun des plateaux en chicane 9, 10, 11, 12 et 13 consistuant l'ensemble des plateaux en chicane est agencé sous la forme d'une plaque demi-circulaire qui est en contact étroit par son bord incurvé avec la paroi intérieure 14 du corps de colonne 2 Le nombre de plaques pour les plateaux en chicane est déterminé en fonction de l'application envisagée pour la colonne 1 Chacun des plateaux en chicane 9, 10, 119 12 et 13 est disposé sensiblement horizontalement et les plateaux sont répartis à intervalles égaux dans la direction verticale ou dans la direction lon- gitudinale du corps de colonne 2 Parmi les plateaux 9 à 13 représentés sur la figure 1, le troisième plateau Il et le cinquième plateau 13 sont situés juste en-dessous du premier plateau 9 tandis que le second plateau et le quatrième, plateau 12 sont situés juste en-dessous d'une première fenêtre 15 d'un espace demi-circulaire défini par le premier plateau 9 et la paroi intérieure 14 du corps principal 2 de la colonne Une troisième fenêtre 16 d'un espace demi-circulaire complémentaire du profil horizontal du troisième plateau 11 et une cinquième fenétre 17 d'un espace demi- circulaire complémentaire du profil horizontal du cinquième plateau 13 sont situées juste en-dessous de la première fenêtre 15, tandis qu'une seconde fenêtre 18 d'un espace demi-circulaire complémentaire du profil horizontal du second plateau 10 et une quatrième fenêtre 19 d'un espace demi-circulaire complémentaire du profil du quatrième plateau 12 sont situées juste en-dessous du premier plateau 9. Le nombre des plateaux en chicane est convenablement choisi en fonction des types de liquide et de gaz à distiller ou à absorber Les plateaux en chicane placés dans les étages de numéros impairs et les fe- nêtres complémentaires du profil des plateaux en chicane placées dans les étages de numéros pairs ont essentiellement la même forme et sont situés dans les positions alignées verticalement entre-elles De la même manière, les plateaux en chicane placés dans les étages de numéros pairs et les fenêtres complémentaires du profil des plateaux en chicane et placées dans les étages de numéros impairs ont essentiellement la même forme et sont situés dans les positions alignées verticalement entre- elles. Des plaques de réglage de largeur de rideau 20 et 21 s'étendent verticalement le long de la paroi intérieure 14 du corps de colonne 2 de- puis le voisinage de la partie supérieure 3 jusqu'au voisinage de la par- tie inférieure 6 de la colonne Les plaques de réglage de largeur de ri- deau 20 et 21 définissent la longueur horizontale, c'est-à-dire la largeur A des zones à rideaux 22, 23, 24 et 25, dont les bords supérieurs et infé- rieurs respectifs sont définis par chaque paire de plateaux verticalement adjacents, ( les plateaux '9, 10, les plateaux 10, 11, les plateaux 11 i 12 et les plateaux 12, 13),et elles supportent également les plateaux en chicane 9, 10, 11, 12 et 13 sur leur bord linéaire 26, 27, 28, 29 et 30 Des plaques séparatrices 31, 32, 33 et 34 divisent les Zones à ri- deaux 22 c 23, 24 et 25 respectivement en zones supérieures à rideaux 35, 36, 37 et 38 et en zones inférieures à rideaux 39, 40, 41 et 42 et ces plaques séparatrices 31, 32,'33 et 34 traversent la région médiane verti- cale des zones à rideaux 22, 23, 24 et 25, et sont fixées par leurs deux e 3 xtraités respectivemeit sur les plaques de réglage de largeur de rideaux et 21 o Les plaques séparatrices 31 à 34 peuvent éliminer les régions mée dianes verticales dans chacune des zones à rideaux 22 a 25 o l'efficacité de contact était inévitablement réduite dans les colonnes à plateaux en chicane classiques ne comportant pas de telles plaques séparatrices 31 a 34. L'expression "zones à rideaux" 22, 23, 24 et 25 utilisée dans la présente description désigne des espaces plans sensiblement ou approxima- t-ivement verticaux dont les bords supérieurs et inférieurs sont respectif vement définis par un des plateaux à chicane 9, 10, i 1 l et 12 et par un des plateaux à chicane 10, 11, 12 et 13 situé à un étage en- dessous de l'un des plateaux à chicane 9, 10, 11 et 12-mentionnés ci-dessus, de fa- çon à recevoir un liquide s'écoulant vers le bas a partir des bords lino- aires 26, 27, 28 et 29, d'un des plateaux en chicane 9, 10, 11 l et 12 pla- cés au-dessus, Les bords latéraux des zones à rideaux 22, 23, 24 et 25 sont définis par les plaques de réglage de largeur de rideaux 20 et 21 et la section de la zone a rideaux est définie comme la section maximale de passage capable de laisser passer le gaz et le liquide a faire entrer en contact. Les zones inférieures à rideaux 39, 40, 41 et 42 sont des zones qui laissent principalement passer le liquide La section de chaque zone inférieure à rideaux, c'est-à-dire la hauteur B 2 et la largeur A de la zone inférieure à rideaux, est réglée à une taille appropriée qui est fonction du débit de liquide à mettre en contact Pour faire varier la largeur de rideaux A, les plaques de réglage de largeur de rideaux 20 et 21 peuvent être remplacées par d'autres plaques de largeur différente, En variante, chacune des plaques de réglage de largeur de rideaux 20, 21 peut par exemple être constituée par au moins deux éléments de plaque qui se chevauchent partiellement dans la direction latérale et la position relative dans la direction latérale de ces deux éléments de plaque,pour chaque plaque de réglage 21 ou 22,peuvent être changées en faisant varier la largeur de chevauchement latéral en vue du réglage de la largeur de rideau En outres la structure peut être agencée de manière à permettre un réglage séparé de la largeur de la zone supérieure à rideaux et de la largeur de la zone inférieure a rideaux. Les zones supérieures à rideaux 359 36, 37 et 38 sont des zones 0 qui laissent principaiement passer un gaz La hauteur Bl ou la section tlargeur A' X (hauteur Bi)} de la zone supérieure à rideaux est réglée à une -tail 1 e appropriée en fonction du débit de gaz à mettre en contact Puisqu une par';ie du gaz peut traverser également les zones inférieures à rideaux 39 X 409 41 et 42, la hauteur B 2 ou la section {(largeur A) X (haute 1 ur B 2 z de la zone ine?érieure à rideaux peut également êt re prise en considératlo dans l 'évaluation du débit de gaz et la sectilon effective de la zone à rideaux l(largeur A) X (hauteurs Bl + B 2 " est réglée à une taille aopropriée dans son ensemble En supposan't que la largeur de la zone a rideaux est essentiellement 2 Qr définie, la section des zone supé*rieures et inférieures à ri- deaeux peu être réglée de façsn apropride par ajustement de la position des bords supérieurs et inférieurs des plaques séparatrices 319 329 33 et 349 c'est=-à-dire la largeur: la hauteur C et la position des plaques séparatrices 3 à 349 en f'o}ction du débit de gaz Pour changer la section des zones supérieures et inférieures à rideaux 9 on peut modifier les posi iins verticales de montage des plaques séparatrices ou des plaques de r:lla 5 e de largeur de rideaux 319 329 33 et 34 D ou bien on peut remplacer S plaques 31 à 34 par d'autres plaques de largeur C différenteo En va- riante 9 chacune des plaques séparatrices 31 à 34 peut être constituée par au moins deux tléments se chevauchant partiellement dans la direction de leur largeur (direction verticale) et chacune des largeurs C des plaques séparatrices 31 à 34 peut être modifiée en changeant la position relative des deux éléments de plaque dans le sens de leus largeurs (en faisant va- rier la largeur de chevaucheme-nt) afin de changer ainsi la section d'au moins une des zones supérieures et inférieures à rideaux. Comme décrit ci-dessus 9 la colonne à plateaux en chicane 19 compor- tant les plaques séparatrices 31 à 34, peut être utilisée efficacement dans une large gamme de fonctionnement 9 par exemple en un faible et un grand débit de production en fonction du débit de gaz et de liquide. Les plaques de réglage de largeur de rideaux peuvent ne pas être prévues si les plaques séparatrices et les plateaux sont fixés directement sur le corps de colonne 2. Dans le cas d'une colonne à plateaux en chicane dans laquelle il est prévu un certain nombre de plateaux en chicane, les plaques sépara- trices peuvent ne pas être prévues dans certaines des zones à rideaux. Dans la colonne à plateaux en chicane 1, la vitesse d'écoulement du gaz ou de la vapeur traversant les zones à rideaux est réglée usuelle- ment à une valeur comprise entre 2 et 10 m/s dans un système opérant à la pression atmosphérique et entre 3 et 20 m/s dans-un système opé- rant à pression réduite, mais elle est, de préférence, réglée à une valeur comprise entre 3 et 6 m/s dans le système à pression atmosphérique et à une valeur comprise entre 3 et 15 m/s dans le système à pression ré- duite, afin de maintenir la perte de pression à une valeur faible et l'ef- ficacité de contact à une valeur élevée. Par exemple, dans le cas de l'exécution d'une distillation sous pression réduite dans la colonne à plateaux en chicane 1 comprenant un certain nombre de plateaux, il est préférable d'augmenter la hauteur des zones supérieures à rideaux 35, 36, etc (c'est-à-dire d'augmenter la sec- tion du rideau supérieur) en direction du haut de la colonne et de réduire la hauteur (c'est-à-dire de réduire la section du rideau supérieur) en direction-du fond de la colonne Les hauteurs des zones inférieures à ri- deaux 39, 40, etc peuvent différer également l'une de l'autre Dans ce cas, il est possible d'obtenir un haut rendement en fonction du changement du rapport entre les débits de gaz et de liquide passant dans la colonne (du haut vers le bas de la colonne). On peut également disposer une plaque séparatrice semblable 43 en- tre le plateau en chicane le plus bas 13 et le fond 6 de la colonne Dans ce cas, le bord inférieur de la plaque séparatrice peut être situé en- dessous du niveau de liquideà la base de la colonne. On va maintenant expliquer le fonctionnement de la colonne à pla- teaux en chicane 1 en référence au premier mode de réalisation conforme à l'invention et ayant la structure décrite ci-dessus, danrs le cas o cette colonne est utilisée comme une colonne d'absorption. Un liquide introduit dans le corps de colonne 2 à partir de l'en- trée 4 prévue à la partie supérieure 3 de la colonne, s'écoule vers le bas en passant sur le plateau en chicane supérieur 9, le liquide s'écoulant ensuite à partir du plateau 9 et à partir de son bord-26, au travers de la fenêtre 15, jusque sur le second plateau 10 dans la direc- tion D, sous la forme d'un film mince, d'un courant de filetsou de gout- telettes analogues à un rideau Le liquide se trouvant sur le plateau 10 s'écoule vers le bas à partir de son bord 27 en traversant la zone inférieure à rideaux 39 et la fenêtre 18 pour arriver sur le troisième plateau en chicane 11 dans la direction E sous la forme d'un film mince, d'un cou- rant de filets ou de gouttelettes analogues à un rideau Ensuite, le liqui- de s'écoule vers le bas de la même manière au travers des zones inférieures IO à rideaux 40, 41 et 42 et des fenêtres adjacentes 16, 19 et 17 pour arriver respectivement sur les plateaux 12 et 13 dans les directions D ou E sous la forme d'un film mince, d'un courant de filets ou de gouttelettes ana- logues à un rideau et finalement il s'écoule vers le bas à partir du pla- teau 13 jusqu'au fond 6 de la colonne et il est ensuite récupéré à partir de la sortie 7. Chaque plateau peut comporter une pluralité de fines rainures paral- lèles s'étendant jusqu'à son bord sur la surface supérieure de chaque pla- teau de manière que le liquide puisse s'écouler uniformément sur toute la largeur du bord du plateau. D'autre part, un gaz introduit dans le corps de colonne 2 à partir de l'entrée 8 placée à-la base 6 de la colonne s'écoule vers le haut au travers du volume vertical demi-circulaire 44 situé en-dessous du plateau 13, il pénètre dans le volume vertical demi-circulaire situé en-dessous du plateau 12 en passant au travers de la zone à rideaux 45 dans la direction F o il entre en contact avec le courant de liquide s'écoulant dans la di- rection D à partir du-plateau 13, il passe au travers de la fenêtre 17 tout en changeant sa direction vers le haut le long de la paroi intérieure 14 du corps de colonne 2, il s'écoule vers le haut dans le volume 46 et ensuite il passe du volume 46 au travers de la zone supérieure à rideaux 38, dans la direction G, pour parvenir dans le volume vertical demi- circulaire 47 situé en-dessous du plateau Il Le gaz s'écoulant dans la direction G dans le volume 47 est en contact avec le liquide s'écoulant vers le bas dans la direction E à partir du plateau 12, il progresse vers le haut dans le volume 47 au travers de la fenêtre 19 tout en changeant de direction vers le haut le long de la paroi intérieure 14 du corps princi- pal 2 de colonne, il sort du volume 47 en traversant la zone supérieure à rideaux 37 dansla direction F, il entre en contact avec le liquide s'écou- lant vers le bas dans la direction D à partir du plateau 11 et il atteint alors la fenêtre 16 Le gaz s'écoulant vers le haut dans la fenêtre 16 passe de la même manière au travers du volume vertical demi-circulaire 48 situé en-dessous du plateau 10, au travers de la zone supérieure à ri- deaux 36, au travers du volume vertical demi-circulaire 49 situé endessous du plateau 9, au travers de la zone supérieure à rideaux 35, et au travers du volume vertical demi-circulaire 50 placé au-dessus du plateau 10 pour atteindre finalement le haut 3 de la colonne et pour sortir par l'orifice 5. Dans le processus décrit ci-dessus, un contact gaz-liquide est éta- bli entre le courant de liquide s'écoulant vers le bas à partir de la zone inférieure à rideaux située juste au-dessus de chacun des plateaux en chi- cane dans la direction D ou E et le courant de gaz immédiatement après le passage au travers de la zone supérieure à rideaux située juste en-dessous du plateau en chicane dans la direction horizontaledans l'ensemble, c'est- à-dire la direction F ou G. + Dans le plateau en chicane 1, puisque le gaz a sélectivement traver- sé principalement les zones supérieures à rideaux 35, 36, 37 et 38 du fait de la présence des plaques séparatrices 31, 32, 33 et 34, le courant de gaz peutit Ctre sûrement amené au contact du mince film de liquide juste après avoir passé au travers des zones inférieures à rideaux, par comparaison avec la colonne à plateaux en chicane classique ne comportant pas de telles pla- ques séparatrices lorsqu'elle est appliquée à des dispositifs d'établisse- ment de contact entre un gaz et un liquide Plus particulièrement, le courant de liquide et le courant de gaz sontamenés encontact étroit et concentré à une vitesse relative comparativement élevée dans des zones de contact gaz-liquide étranglées 51, 52, 53, 54 et 55 tandis que le passage d'écoulement du gaz et le passage d'écoulement du liquide sont séparés par les plateaux en chicane et les plaques séparatrices dans les volumes verticaux demi- circul-aires 46, 47, 48, 49 et 50 autres que les zones de contact 51 à 55. En conséquence, puisque le courant de gaz peut être rapidement séparé des gouttelettes de liquide après le contact dans la partie o O le gaz s'écoule d'une zone de contact gaz-liquide jusque dans la zone de contact gaz- liquide suivante, on peut obtenir une grande efficacité de contact gaz- liquide, D'autre part, dans la colonne a plateaux en chicane 1, puisque la vitesse d'écoulement du gaz dans la région autre que la région étranglée proche de la zone supérieure à rideaux est relativement faible et puisque le gaz peut s'écouler lentement et uniformément au travers du volume ver- tical demi-circulaire, la perte de pression dans le gaz peut être maintenue à une valeur plus faible. Le courant de gaz à vitesse relativement élevée peut être obtenu en définissant, de façon appropriée, non seulement la hauteur Bl mais éga- lement la largeur A de la zone supérieure à rideaux En particulier, les plaques de réglage de largeur de rideux 20 et 21 ainsi que les plaques séparatrices servent à maîtriser la grande vitesse du courant de gaz pas- sant au travers de la région o le courant de liquide à grande vitesse passe. Coimme décrit ci-dessus, lorsque la colonne à plateaux en chicane 1 est utilisé e cocnme colonne de distillation sous pression réduite, à cause te sa faible oerte de charge et de sa haute efficacité de contact, la ten- pérature à la a e i nférieure 6 de la colonne peut être diminuée en ré- duisant ainsi ia:-gadation du liquide se trouvant à la partie inférieure 6, tandis Autun h'- uffage par la vapeur à pression rela-tivement faible et à température b ti-ement basse peut 6 re utilise en cours de disilla rtion D'autre partc dans un;as o la température à la partie inférieure 6 de la colonne *est wcange, puisque la température à la partie supérieure 3 de la colonne Deu'ta etre augmentée, on peut utiliser un refroidissement par eau peu cof;eu-' pour refroidir les vapeurs distillées au lieu de faire ú O intervenir de 1 eau réfrigérée a basse température provenant du condenseur à la partie sup -rieure de la colonne En outre, puisque 1 'efficacité de contact est élev 5 e et puisque la perte de charge est faible dans cette colonne a plateau en chicane 1, on peu L envisager une distilation dans une seule colonne dans un cas o il serait autrement nécessaire d'effec- 'teier la distillation dans deux colonnes placees en série à cause de la lit m't R'ation concernant la température à la partie supérieure et à la partie W-' -,ieure de la colonne classiqueo En outre, puisque cette colonne a plateaux en chicane 1 produit n.oins de bulles à cause de sa structure, ce qui est différent de la colonne aà plateaux classique, elle peut être efficacement appliquée même dans le cas d'un liquide produisant facilement des bulles. Egalement cette tour plateaux en colonne 1 convient également pour la rectification d'un mélange de liquides contenant des matières solides ou des composés insaturés aisément polymérisables tels que des monomères vinyliques. Le liquide se présentant sous la forme d'un film mince ou d'un courant de filets est dispersé sous la forme de gouttelettes 56 lors du contact avec le courant de gaz s'écoulant dans la direction G dans la 253629 d il région de contact gaz-liquide, par exemple la région 52, les gouttelettes viennent buter contre la paroi intérieure 14 du corps de colonne 2 et le liquide s'écoule ensuite vers le bas le long de la paroi intérieure 14 en direction du-plateau 11 quittant l'avant de cette paroi intérieure 14. Ainsi, puisque la paroi intérieure 14 de la colonne 1 est toujours lavée avec les gouttelettes contenant un inhibiteur de polymérisation, si un composé insaturé est condensé sur la paroi intérieure 14, Tes goutrlettes condensées ne séjournent pas longtemps sur la paroi intérieure 14, ce qui permet ainsi d'éviter la formation d'un polymère sur une paroi inté- rieure 14. En outre, puisque le plateau en chicane est plat et ne provoque aucune retenue substantielle de liquide sursa surface, le temps de séjour du liquide dans la colonne est relativement court, ce qui réduit la pos- sibilité de formation de polymères. Egalement cette colonne à plateaux en chicane 1 a une structure simplifiée et peut être fabriquée à un coût réduit. Les figures 4 et 5 représentent une partie d'une colonne à plateaux en chicane 58 correspondant au second mode de réalisation de l'invention. Sur ces figures, des composants de la colonne 58 ayant la même fonction et la même configuration que ceux de la colonne 1 du premier mode de réalisa- tion ont été désignés par des références numériques identiques ou corres- pondantes. Dans la colonne à plateaux en chicane 58 du second mode de réalisa- tion, chacun des plateaux en chicane lia, 12 a, 13 a, etc,estdisposé avec inclinaison de manière que la hauteur au niveau des surfaces supérieures- 59, 60, 61, etc diminue vers la zone à rideaux Chacun-des plateaux lia, 12 a, 13 a, etc a une forme partiellement elliptique correspondant à la pente de la surface supérieure de sorte que les bords linéaires 28 a, 29 a, a, etc du plateau peuvent etre orientés sensiblement horizontalement dans la direction diamétrale du corps de colonne 2 La forme de section verticale de la figure 5 pour chacun des plateaux en chicane lia, I 2 a 13 a, etc peut être une forme de coin, au lieu d'une forme de plaque, de sorte que l'épaisseur du plateau est réduite en direction des bords 28 a, 29 a, a, etc Dans ce cas, la surface inférieure de chacun des plateaux en chicane lia, 12 a, 13 a, etc peut être horizontale. Cette colonne à plateaux en chicane 58 peut fonctionner comme un dispositif d'établissement de contact gaz-liquide avec une grande effica- cité de contact et une faible perte de pression de la même manière que la colonne à plateaux en chicane 1 du premier mode de réalisation En outre, dans cette colonne à plateaux en chicane 58, puisque les surfaces supérieu- res 59, 60, 61, etc des plateaux en chicane lia, 12 a, 13 a, etc sont in- clinées vers le bas en direction des bords 28 a, 29 a, 30 a, etc des ma- tières solides éventuellement contenues dans le liquide peuvent être ra- pidement dirigées vers le bas en suivant la pente jusqu'à la partie in- férieure de la colonne 58, à partir de laquelle elles sont déchargées. En correspondance, dans le cas o la colonne 58 est utilisée pour la dis- tillation d'un composé insaturé et aisément polymérisable, si des grains de polymère sont incluses dans le liquide contenant le composé insaturé, les grains de polymère ou le polymère peuvent être rapidement amenés à la base de la colonne en suivant la pente des plateaux lia, 12 a, 13 a, etc. et être évacués du corps de colonne 2 avant que le polymère ait pu se for- mer ou grossir Comme décrit ci-dessus, cette colonne à plateaux en chi- cane 58, lorsqu'elle est appliquée à la distillation d'un composé insaturé aisément polymérisable, peut fonctionner de façon stable comme une colonne de distillation pendant une longue période avec moins de risque de forma- tion de polymères dans le corps principal 2 de la colonne. En outre, puisqu'il existe moins de risque que des matières solides puissent rester ou se déposer dans le corps principal 2 de la colonne, cette colonne à plateaux en chicane 58 convient également comme dispositif d'établissement de contact pour des suspensions liquides de particules ou boues de polymère. En addition à sa faible perte de pression, puisque la quantité et le temps de séjour du liquide sur le plateau sont réduits dans la colonne 5 B, elle convient également pour la distillation de matières sensibles à la température, par exemple des matières n'ayant pas de stabilité aux tem- pératures élevées. En outre, puisque le liquide peut être vidangé de façon satisfaisan- te ou presque complètement -lors de l'arrêt du fonctionnement de la colonne et puisqu'on peut obtenir un fonctionnement stationnaire peu après la mise en service de cette colonne 58, le démarrage et l'arrêt d'une opé- ration peuvent être facilités. Dans la colonne à plateaux en chicane 58, les pentes des plateaux peuvent être différentes dans les parties supérieures et inférieures de la colonne 58 et par exemple la pente peut être augmentée pour les plateaux plus rapprochés de la base de la colonne. L'ensemble de plateaux en chicane peut se composer d'une pluralité de plateaux de manière à pouvoir améliorer l'efficacité de contact par unité de volume dans la colonne. Les figures 6 à 8 représentent une tour à plateaux en chicane 61 correspondant au troisième mode préféré de réalisation de l'inventions dans lequel un ensemble de plateaux en chicane 64 se composant de deux plateaux 62 et 63 ayant la même forme et un ensemble de plateaux en chi- cane 66 comprenant un plateau 65 sont disposes verticalement en alternance. Les plateaux en chicane 62 et 63 ont dans l'ensemble une forme de plaque demilcirculaire et sont disposés sensiblement dans un plan horizontal de manière que leur bord linéair E 67 et 68, qui sont un peu plus courts que e dia;mtre du corps de colonne 2, soient disposés en opposition et parallèlement entre-eux L'autre plateau 65 comprenant deux bords linéai res parallèles 69 et 70 de longueurs identiques et deux parties incurvées 71 et 72 en contact étroit avec la paroi intérieure du corps principal 2 de la colonne, est disposé sensiblement horizontalement entre les plateaux: supfrieur et inférieir 64 de manière que les bords linéaires 69 et 70 * soient parallèles aux bords linéaires 67 et 68 des plateaux 62 et 63. Les plateaux 62 et 63 peuvent être inclinés de telle sorte que la hauteur ou le niveau de leur surface supérieure soit abaissée en direction des bords respectifs 67 et 68 et le plateau 65 peut comporter une surface sus périeure formée par liaison-de deux plans inclinés de telle sorte que la hauteur ou niveau de la surface supérieure du plateau 65 soit abaissé en direction des deux bords linéaires 69 et 70. Des plaques de réglage de largeur de rideaux 73, 74, 75 et 76 sont disposées entre le plateau 62 et le plateau 65 tandis que des plaques de réglage de largeur de rideaux 77, 78, 79 et 80 sont disposées entre le plateau 63 et le plateau 65 Les plaques de réglage de largeur de rideaux 73 à 80 relient solidement les plateaux en chicane 62, 63 et 65 Cepen- dant, ces plaques de réglage de largeur de rideuax 73 à 80 ne peuvent pas être utilisées dans un cas o les plateaux 62, 63 et 65 sont fixés direc- tement sur le corps de colonne 2. Des plaques séparatrices 81, 82, 83 et 84 sont fixées respectivement leurs deux extrémités sur les plaques de réglage de largeur de rideaux 73 e 80 et les plaques séparatrices 81, 82, 83 et 84 divisent les zones à rideaux 85, 86, 87 et 88 situées entre les plateaux en chicane 64 et 66 en des zones supérieures à rideaux 89, 90, 91 et 92 et en des zones infé- rieures à rideaux 93, 94, 95 et 96. Dans la colonne à plateaux en chicane 61 de ce troisième mode de réalisation, deux zones supérieures à rideaux et deux zones inférieures à rideaux sont formées entre l'ensemble de plateaux 64 et l'ensemble de pla- teaux 66 et des courants de gaz et de liquide sont amenés en contact l'une avec l'autre dans les régions de contact 97, 98, 99 et 100 et se séparent ensuite après contact. La largeur des plaques de réglage de largeur de rideaux 73, 74, 77 et 78 peut être choisie plus grande que la largeur des plaques de réglage de largeur de rideaux 75, 762 79 et 80 de manière que les largeurs des zones a rideaux 852 86, 87 et 88 puissant être identiques Le corps de colonne 2 peut être formé 'un élément tubulaire de profil carré délimitant un volume intérieur se présentant sous la forme d'un prisme quadrangulaire et la lare eur des zones à rideaux 85, 86, 87 et 88 peut être choisie en correspon- dance. les figures 9 à i 11 représentent un quatrième mode de réalisation d'une colonne à Diateaux en chicane 101 conforme à l'invention Dans la colonne 101 i un ensemble de piateaux en chicane 105 se composant de trois plateaux 102, 103 et 104 et un ensemble de plateaux 108 se composant de deux plateaux en chicane 10 06 t 107 de la même forme sont disposés vertir calement en alternance - Les plateaux 102 et 104 ont la même forne et leurs bords linéaires '109 et 110, correspondant à des cordes du cercie, sont disposés en opposi- tion e parallèe ent à des bs linéaires parallèles 111 et 112 du pla- teau 103 par l'inter-médiaire d'intervalles ou de fenêtres respectives 113 et 14 k Les plateaux 106 et 107 comportent des bords linéaires 117 et 118 placés en opposition à la paroi intérieure 14 du corps de colonne 2 par 1 'inier Tédiaire d'intervalles ou fenêtres respectives 115 et 116 tandis que les bords linaires 120 et 121 sont disposés parallèlement aux bords linéaires 117 et 118 et sont placés en opposition et parallèlement entre eux par l'intermédiaire d'une fenêtre ou intervalle respectif 119 Bien que les plateaux 102, 103, 104, 106, 107, soient disposés horizontalement dais le mode de réalisation représenté, chaque surface supérieure de pla- teau peut être inclinée de telle sorte que la hauteur ou niveau de cette surface supérieure soit abaissée en direction des bords linéaires corres- pondants 109, 110, 11 2, 12 17, 118, 120 et 121. Des plaques de réglage de largeur de rideaux 122, 123, 124 et 125 sont disposées entre les plateaux 102 et 106, les plaques 122 et 123 dé- finissant la largeur de la zone à rideaux 126 et la largeur du passage d'un liquide s'écoulant vers le bas à partir du bord 109 tandis que les plaques 124 et 125 définissent la largeur de la zone à rideaux 127 et la largeur du passage du liquide s'écoulant vers le bas à partir du bord 117. Des plaques de réglage de largeur de rideaux 128, 129, 130 et 131 sont disposées entre les plateaux 103 et 106, les plaques 128 et 129 définis- sant la largeur de la zone à rideaux 132 et la largeur du passage du liquide s'écoulant vers le bas à partir du bord 111, tandis que les plaques et 131 définissent la largeur de la zone à rideaux 133 et la largeur du passage du liquide s'écoulant vers le bas à partir du bord 120. Des plaques de réglage de largeur de rideaux 134, 135, 136 et 137 sont disposées entre les plateaux en chicane 103 et 107, les plaques 134 et 135 définissant la largeur de la zone à rideaux 138 et la largeur du passage du liqude s'écoulant vers le bas à partir du bord 112 tandis que les plaques 136 et 137 définissent la largeur de la zone à rideaux 139 et la largeur du passage du liquide s'écoulant vers le bas à partir du bord 121. Des plaques de réglage de rideaux 140, 141, 142 et 143 sont dispo- sées entre les plateaux 104 et 107, les plaques 140 et 141 définissant la largeur de la zone à rideaux 144 et la largeur du passage du liquide s'é- coulant vers le bas à partir du bord 110 tandis que les plaques 142 et 143 définissent la largeur de la zone à rideaux 145 et la largeur du pas- sage du liquide s'écoulant vers le bas à partir du bord 118. Des plaques séparatrices 146, 147, 148, 149, 150, 151, 152 et 153, sont supportées à leurs deux extrémités respectives par les plaques de réglage de largeur de rideaux appareillées en correspondance et les pla- ques séparatrices 146 à 153, divisant les zones à rideaux respectives 126, 127, 132, 133, 138, 139, 144 et 145 en zones supérieures à rideaux 154, 155, 156, 157, 158, 159, 160 et 161 et en zones inférieures a rideaux 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168 et 169. Dans la colonne à plateaux en chicane 101 du quatrième mode de réa- lisation, quatre zones supérieures à rideaux et quatre zones inférieures à rideaux sont formées entre l'ensemble de plateaux 105 et l'ensemble de plateaux 108, les courants de gaz et de liquide étant amenés en contact l'un avec l'autre dans des régions de contact 170, 171, 172, 173, 174, , 176 et 177 et étant séparés après contact. La largeur et la hauteur des zones supérieures et dés zones infé- rieures à rideaux peuvent être réglées par ajustement de la largeur des plaques de réglage de largeur de rideaux et également de la largeur et de la largeur et de la position des plaques séparatrices. Cette colonne à plateaux en chicane 101 du quatrième mode de réa- lisation est utilisable de façon appropriée par exemple sous la forme d'une colonne de grand diamètre Le corps de colonne 2 peut en variante être réalisé sous la forme d'un élément tubulaire de profil carré. La figure 12 représente une colonne à plateaux en chicane 178 cor- respondant au cinquième mode de réalisation de l'invention. Dans la colonne 178-, un plateau en chicane 180 ayant la forme d'une plaque demi-circulaire comportant un bord linéaire 179 constitué par une corde et qui est un peu plus petit que le diamètre intérieur du corps de colonne 2, ainsi qu'un autre plateau en chicane 182 ayant la même forme que le plateau 180 et comportant un bord linéaire 181 parallèle au bord linéaire 179 du plateau 180, sont disposés en alternance à une distance verticale égale dans la direction longitudinale du corps 2 de la colonne verticale. Des plaques de réglage de largeur de rideaux 183 et 184 comprennent des premières parties verticales 185 et 186 s'étendant verticalement et supportant le plateau 180, des premières parties inclinées 188 et 189 s'étendant en oblique à partir des extrémités inférieures des premières parties verticales 185 et 186 le long de la zone à rideaux 187, des secondes parties verticales 190 et 191 s'étendant verticalement à partir des extrémités inférieures de la première partie inclinée 188 et 189 et supportant le plateau 182, ainsi que des secondes parties inclinées 193 et 194 s'étendant en oblique depuis les extrémités inférieures des secon- des parties verticales 190 et 191, le long de la zone à rideaux 192, jusqu'aux extrémités supérieures des premières parties verticales suivan- tes 185 et 186. Une plaque séparatricè 195 est fixée par ses deux extrémités sur les parties inclinées 188 et 189 et elles divisent la zone à rideaux 187 en une zone supérieure à rideaux 197 et une zone inférieure à rideaux 198. Une autre plaque séparatrice 196 est fixée par ses deux extrémités sur les parties inclinées 193, 194 et elles divisent la zone à rideaux 192 en une zone supérieure à rideaux 199 et une zone inférieure à rideaux 200. Dans la colonne à plateaux en chicane 178, un gaz s'écoulant vers le haut au travers de la zone supérieure à rideaux 197 est amené en contact avec un liquide s'écoulant vers le bas au travers de la zone inférieure à rideaux adjacente deux temps, puis il pénètre dans la zone supérieure à rideaux adjacente 199 (une partie du gaz s'écoule également vers le haut au travers de la zone inférieure à rideaux 200) Ensuite, le gaz s'écou- lant vers le haut au travers de la zone supérieure à rideaux 199 est ame- né en contact avec le liquide s'écoulant vers le bas au travers de la zone inférieure à rideaux adjacente 198, puis il s'écoule vers le haut vers la zone supérieure à rideaux adjacente 197 (une partie du gaz s'é- coule également vers le haut au travers de la zone inférieure à rideaux 198). Dans cette colonne à plateaux en chicane 178, puisque la section de la fenêtre est grande, la perte de pression peut être maintenue à une valeur plus faible même si le diamètre du corps de colonne 2 est petit. Le plateau peut être incliné de telle sorte que sa surface supérieure soit abaissée en direction de son bord ou de la fenêtre placée en avant du bord. Bien que le plateau puisse être formé par une seule plaque, il peut être également constitué de plusieurs plaques jointes l'une avec l'autre sous la forme d'une seule plaque sensiblement monobloc. Dans le cas d'une application de la colonne à plateaux en chicane conforme a l'invention à une absorption ou une distillation, le rendement par plateau ou plaque peut atteindre une valeur aussi élevée que 15 à 25 % et la perte de pression par plateau peut atteindre une valeur aussi faible que 5 à 15 mm d'eau. L'invention va maintenant être expliquéeà l'aide d'exemples dans lesquels l'absorption et la distillation ont été effectuées en utilisant une colonne à plateaux en chicane conforme à l'invention. EXEMPLE 1 La colonne à plateaux en chicane 1 du premier mode de réalisation représentée sur les figures 1 à 3 a été utilisée comme une colonne d'ab- sorption Dans un corps principal vertical 2 de la colonne, ayant un dia- mètre intérieur de 7,8 cm, on a disposé cinq étages de plateaux en chicane 9, 10, 11, 12 et 13 horizontalement avec un espacement vertical de 8,5 cm entre les plateaux adjacents Les parties respectives de la colonne d'ab- sorption 1 ont été dimensionnées avec une section d'enilron 24 cm 2 pour chacune des fenêtres demi-circulaires 15, 18, 16, 19 et 17; une largeur A de 4,6 cm pour chacune des zones à rideaux 22, 23, 24 et 25; une largeur A de 4,6 cm et une hauteur Bl de 2,1 cm pour chacune des zones supérieures à rideaux 35, 36, 37 et 38 (une section d'environ 9,7 cm 2 pour chacune des zones supérieures à rideaux), et une largeur A de 4,6 cm et une hauteur B 2 de 291 cm pour chacune des zones inférieures à rideaux 39, 40, 41 et 42 (une section d'environ 9,7 cm 2 pour chacune des zones inférieures à rideaux) Dans la colonne d'absorption 1, on a introduit de l'azote gazeux contenant 1,5 %mol de vapeur d'acroléine à un débit de 30 Nm W/h ( 30 m 3/h à une température normale de O C et sous une pression normale de 760 mm Hg) par l'entrée 8 tandis que de l'eau, à un débit de 40 ú/h a été introduite par l'entrée 4 pour l'absorption d'acroléine dans l'eau. Le rendement par plateau de la colonne 1 a été de 18,6 % et la perte de pression par plateau a été de 7,5 mm d'eauo EXEMPLE 2 La colonne à plateaux en chicane du premier mode de réalisation représentée sur les figures 1 à 3 a été utilisée comme une colonne de dis til ation. Dans un corps vertical 2 de colonne d'un diamètre intérieur de 75 ou on a disposé dix étages de plateaux en chicane 9, 10, etc horizontalement avec un espacement vertical de 62 cm entre les plateaux adjacents Les ? 5 Darties respectives de la colonne de distillation 1 ont été dimensionnées avec une section d'environ 2,2 X i O O rm pour chacune des fenêtres demi- circulaires 15, 18 etc o; une langeur A de 55 cm et une hauteur Bl de 5 cm pour chacun? des zones supérieures à rideaux 35, 36 etc (une section d'en- viron 2,8 x 102 ecm 2); et une largeur A de 55 cm et une hauteur B 2 de 4 cm pour chacune des zones inférieures à rideaux 39, 40, etc (section de 2, 2 x 102 cm 2) Q On a introduit dans ia colonne de distillation 1, un liquide contlenant 91,6 % en poids d'acrylate de butyle et 4,01 % en poids de béta- butxybutytpropionate à un débit de 533 kg/h par l'entrée 4 prévue a la artie supérieure 3 de la colonne et des vapeurs, qui avaient été obtenues par échauffement du liquide obtenu à la sortie 7 prévue à la partie infé- rieure 6 de la colonne, ont été introduites par l'entrée 8 et ont été dis- tillées o On a adopté comme conditions de distillation une température de l$ 5 C et une pression de 340 mm Hg à la partie supérieure 3 de la colonne et une température de 158 C et une pression de 341 mm Hg à la partie inféu rieure 6 de la colonne La vitesse de la vapeur dans la zone supérieure à rideaux 35 adjacente au plateau supérieur 9 a été de 3,31 m par seconde Le rendement par plateau a été de 21 % et la perte de pression par plateau a atteint une valeur aussi faible qu'environ 1,4 mmin d'eau dans cette colonne de distillation. EXEMPLE 3 La colonne à plateaux en chicane 1 du premier mode de réalisation représentée sur les figures 1 à 3 a été utilisée comme une colonne de dis- tillation. Dans un corps vertical 2 de la colonne d'un diamètre intérieur de cm, on a disposé quatre-vingts étages de plateaux en chicane 9, 10, etc avec un espacement vertical de 30 cm entre les plateaux adjacents. Les parties respectives de la colonne de distillation 1 ont été dimension- nées avec une section de 1,135 x 104 cm 2 pour chacune des fenêtres demicirculaires 15, 18, etc; une section de 6,5 x 102 cm 2 pour chacune des zones inférieures à rideaux 39, 40,9 etc; et une section de 1,989 x 103 cm 2 pour la zone supérieure à rideaux placée complètement en haut, cette sec- tion étant graduellement réduite jusqu'à une valeur de 1,053 x 103 cm 2 pour la zone supérieure à rideaux située complètement en bas, pour chacune des zones supérieures à rideaux 35, 36, etc Dans la colonne de distilla- tion 1, on a introduit une solution d'acide acrylique contenant 67,5 % en poids d'acide acrylique, 1,9 % en poids d'acide acétique, 29,7 % en poids d'acétate d'isopropyle et 0,75 % en poids d'un dimère d'acide acrylique à un débit de 3046 kg/h au moyen d'une entrée intermédiaire débouchant sur le 5 iéme plateau à partir du bas, et une partie du distillat servant de reflux à un débit de 3280 kg/h au moyen de l'entrée 4 prévue à la partie supérieure 3 de la colonne On a adopté comme conditions de distillation une température de 36 WC et une pression de 80 mm Hg à la partie supérieure 3 de la colonne et une température de 93,50 C et une pression de 147 mm Hg à la partie inférieure 6 de la colonne Des distillats contenant 5,67 % en poids d'acide acétique, 0,04 % en poids d'acide acrylique et 94,1 % en poids d'acétate d'isopropyle ont été obtenus à la partie supérieure 3 de la co- lonne et de l'acide acrylique concentré contenant 0,06 % en poids d'acide acétique et 2,7 % en poids d'un dimère d'acide acrylique ont été obtenus à la sortie 7 de la partie inférieure 6 de la colonne La perte de pression par plateau a atteint une valeur aussi faible que 11,4 mm d'eau dans la colonne à plateaux en chicane. La colonne d'absorption ou la colonne de distillation des exemples 1 à 3 décrits ci-dessus pourraient être utilisées de façon continue pen- dant un an sans qu'on observe la formation d'un polymère dans aucune des colonnes. Comme décrit ci-dessus, dans la colonne à plateaux en chicane con- forme à l'invention, puisque les plaques séparatrices sont disposées dans le corps de la colonne de manière à diviser verticalement les zones à ri- deaux définies entre les plateaux verticalement adjacents en des zones supérieures à rideaux o il passe principalement un gaz, et en des zones inférieures à rideaux o il passe principalement un liquide, le gaz s'écoulant vers le haut au travers de la zone supérieure à rideaux et un liquide s'écoulant vers le bas au travers de la zone inférieure à ri- deaux au travers de la zone inférieure à rideaux située juste au-dessus et adjacente à la zone supérieure à rideaux peuvent entrer efficacement en contact l'un avec l'autre et il en résulte que la colonne peut opérer comme un appareil d'établissement de contact gaz-liquide avec une haute efficacité de contact et une faible perte de pression. En outre, la colonne à plateaux en chicane conforme à l'invention peut avoir un excellent effet par le fait que l'intérieur de la colonne n'est absolument pas contaminé par des matières polymérisées lorsque cette colonne est utilisée comme colonne d'absorption ou de distillation de com- posés insaturés polymérisables, par exemple de monomères vinyliques comme l'acroléine, l'acide acrylique, l'ester acrylique, la méthacroléine, l'acide méthacrylique, l'ester méthacrylique, l'acrylonitrile et le méthacryloni- trile. En outre, la colonne à plateaux en chicane conforme à l'invention est également applicable comme colonne d'absorption ou de distillation pour des liquides contenant des matières solides tels que des produits de réaction résultant d'un processus de liquéfaction de charbon. REVENDICATIONS l Colonne à plateaux en chicane, caractérisée en ce qu'elle com- prend un corps tubulaire ( 2), une pluralité d'étages d'ensembles à pla- teaux en chicane ( 9, 10, 11, 12, 13) disposés à l'intérieur dudit corps de colonne ( 2), et des plaques séparatrices ( 31, 32, 33, 34) disposées cha- cune à l'intérieur dudit corps de colonne ( 2) de façon à diviser une zone à rideaux ( 22, 23, 24, 25) définie entre deux étages adjacents desdits en- sembles à plateaux en chicane en une zone supérieure à rideaux ( 35, 36, 37, 38) pour laisser passer principalement un gaz, et en une zone infé- rieure à rideaux ( 39, 40, 41, 42) pour laisser principalement un liquideo 2. Colonne à plateaux en chicane suivant la revendication 1, caraco térisëe en ce que ledit ensemble à plateaux en chicane prévu dans chacun des étages comprend un plateau en chicane et en ce que les bords ( 26, 27, 28, 29, 30) desdits plateaux)( en chicane ( 9, 10, 11, 12, 13) à partir des- quels le liquide s'écoule vers le bas, sont parallèles entre-euxo 3. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 2, caraco térisée en ce que les plateaux en chicane ( 9, 10, 11, 12, 13) prévus dans chacun des étages ont une même forme, en ce que chacun des plateaux en chicane ( 9, 11, 13) prévus dans les étages de numéros impairs est placé en position alignée avec les autres plateaux placés dans les étages de numéros i m p a i r S dans la direction longitudinale du corps de colon- ne, et en ce que chacun des plateaux placés dans les étages de numéros pairs ( 10, 12) est disposé en position alignée avec les autres pla- teaux des étages de numéros pairs suivant la direction longitudinale du corps de colonne ( 2). 4. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 2, carac- térisée en ce que la surface supérieure du plateau ( 9, 10, 11, 12, 13) est disposée horizontalement. 5. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 2, carac- térisée en ce que la zone à rideaux dont les bords supérieur et inférieur sont définis par le bord du plateau placé dans l'étage de numéro impair, et par le bord du plateau adjacent est inclinée par rapport à la direction longitudinale du corps de colonne. 6. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 2, carac- térisée en ce que plateau est incliné de manière à être abaissé en direc- tion de son bord a partir duquel le liquide s'écoule vers le bas. 7. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 1, ca-ractéri- sée encequ'aumoinsl'undes deuxparmi lesensemblesà plateauxenchicaneplacés aux étages de numéros impairs et les ensembles à plateaux en chicane pla- cés aux étages de numéros pairs comprennent plusieurs plateaux. 8. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 7, carac- tériséeence que l'ensemble à plateaux en chicane placésdans l'un des deux parmi unétagede numéro iipair et un étage de numéro pair comprend deux plateaux, en ce que ces deux plateaux comportent des bords placés dans des positions opposées de façon à définir un intervalle permettant l'écoulement du fluide, en ce que l'ensemble à plateaux en chicane placé dans l'autre étage de numéros impairs et dans l'étage de numéros pairs comprend un pla- teau et en ce que ce plateau comprend deux bords placés en opposition pour former deux intervalles entre la paroi intérieure du corps de colonne et le plateau pour permettre l'écoulement de fluide. 9. Colonne a plateaux en chicane selon la revendication 7, caractéri- sée encequel'ensemble à plateaux chicane prévus dans l'undes deux parmi un étage de numéro impair et dans un étage de numéro pair comprend trois plateaux, en ce que ces trois plateaux sont disposés à l'intérieur du corps de colonne de façon à définir deux intervalles permettant l'écoulement de fluide, en ce que l'ensemble de plateauxpré s dans l'autre des deux parmi l'étage de numéro pair et l'étage de numéro pair comprend deux plateaux, et en ce que les deux plateaux précités sont disposés à l'intérieur du corps de colonne de façon à définir trois intervalles pe -lettant l'écoulement du fluide. 10. Colonne à plateaux en chicane selon l'une quelconque des reven- dications 1 à 9, caractérisée en ce que la largeur de la zone à rideaux est rendue réglable. io Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 10, carac- tarisée e} ce que la largeur de la zone à rideaux est réglée par une pla- que de réglage de largeur de rideaux ( 20, 21) disposée à l'intérieur du corps de colonne ( 2). 12. Colonne à plateaux en chicane selon l'une quelconque des reven- dications 1 à 9, caractérisée en ce que la position du bord supérieur et/ou du bord inférieur de la plaque séparatrice ( 31, 32, 33, 34) dans la direct tion longitudinale du corps de colonne est rendue réglable de façon à ajus- ter la hauteur de la zone supérieure à rideaux et/ou de la zone inférieure à rideaux. 13 Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 12, carac- térisée en ce que la position de la plaque séparatrice ( 31, 32, 33, 34) par la direction longitudinale du corps principal de colonne ( 2) est ren- due réglable. 14. Colonne à plateaux en chicane selon l'une quelconque des re- vendications 1 à 9, caractérisée -en ce que corps de colonne ( 2) à une forme cylindrique. 15. Colonne à plateaux en chicane selon l'une quelconque des re- vendication 1 à 9, caractérisée en ce que la colonne est conçue pour être utilisée comme une colonne de distillation ou une colonne d'absorption. 16. Colonne à plateaux en chicane selon la revendication 15, carac- térisée en ce que la colonne est conçue pour l'application à la distilla- tion ou à l'absorption de composés insaturés aiséient polymérisables.