FR 2545202 A1 19841102 FR 8307164 A 19830429 La présente invention a pour objet un procé- dé et un dispositif pour le refroidissement d'un maté- riau et plus particulièrement l'utilisation de ce pro- cédé'et de ce dispositif pour l'élaboration d'un maté- riau lorsque celui-ci doit subir une ou plusieurs opé- rations de trempe au cours de sa fabrication. On utilise largement à l'heure actuelle des procédés de refroidissement pour effectuer la trempe de certains matériaux au cours de leur élaboration. C'est ainsi qu'il est bien connu d'utiliser la trempe à P'eau ou à l'huile pour l'élaboration des métaux et en particulier des aciers D'autre part, dans le cas d'élaboration de matériaux réfractaires, notamment lorsque ceux-ci doivent se présenter sous forme de poudre en vue d'un frittage ultérieur, il est courant de refroidir le matériau lorsqu'il se trouve à l'état liquide La méthode la plus employée à l'heure actuel- le consiste à projeter un jet de gaz sur le liquide, que celui-ci soit contenu dans un-creuset ou qu'il soit issu d'une électrode fondue Un tel procédé uti- lisant généralement un gaz neutre évite des réactions chimique parasites et permet, dans le cas de matériaux pulvérulents, d'emmagasiner de l'énergie en vue-du frittage ultérieur: on peut ainsi réduire la tempéra- ture et la durée de cette opération Un autre intérêt de la trempe est qu'elle permet de figer un état anor- mai ou métastable de la matièrer ce qui peut être in- téressant pour certaines applications - La présente invention a pour objet une amé- lioration aux procédés actuels permettant un refroi- dissement encore plus efficace et donc une plus grande rapidité de l'opération, ce qui conduit à une meilleu- re pureté des produits traités et à une gamme d'appli- cations beaucoup plus large. Selon la principale caractéristique du pro- cédé de refroidissement objet de l'invention, on pro- jette sur le matériau à traiter un liquide de refroi- dissement se trouvant à une température proche de sa température de saturation Ce dernier est généralement un gaz liquéfié tel que l'azote ou l'argon La tempé- rature de saturation d'un liquide est définie comme étant la température à laquelle la vapeur contenue en solution dans le liquide se dégage: la température de saturation est généralement proche de la température d'ébullition, mais différente de celle-ci, surtout dans le cas des gaz liquéfiés. Dans un mode de mise en oeuvre préférentiel, on projette le liquide de refroidissement sous forme de gouttelettes sur le matériau Afin de créer cette sorte de brouillard, il est avantageux d'utiliser au moins un gaz porteur pour projeter le liquide de re- froidissement sur le matériau Dans ce cas, on règle le débit et la pression du liquide de refroidissement et du gaz porteur pour que les gouttelettes de liquide aient un diamètre inférieur ou égal à 40 microns. D'autre part, il peut s'avérer nécessaire d'opérer sous atmosphère contrôlée et le procédé trouve une ap- plication intéressante lorsque le matériau à refroidir se trouve sous forme particulaire Le mot %particulai- re" signifie que le matériau se trouve sous forme di- visée ou sous forme de particules: il peut donc s'agir soit de grains si le matériau est solide et se présente sous forme de poudre, soit de gouttes ou de particules liquides si le matériau se présente sous forme liquide. Enfin, l'invention a également pour objet un procédé d'élaboration d'un matériau refractaire o ce dernier subit au moins un traitement de trempe, cette trempe étant effectuée par le procédé de-refroidisse- ment mentionné ci-dessus. L'invention a encore pour objet un disposi- tif pour la mise en oeuvre de ce procédé Selon la principale caractéristique de ce dispositif, celui-ci comprend au moins une buse comportant un orifice pour la sortie du liquide de refroidissement, cette buse étant reliée à au moins une source de liquide de re- froidissement par une première canalisation et à au moins une source de gaz porteur par une deuxième cana- lisation. Dans le mode de réalisation préféré, les di- mensions de ladite première canalisation sont telles que le liquide de refroidissement se trouve sous forme monophasique à son entrée dans la buse Cette première canalisation peut éventuellement être à double enve- loppe et doit présenter, pour que le liquide de 're- froidissement soit sous forme monophasique à son en- trée dans la buse, une longueur inférieure ou égale à mètres et un diamètre de passage du liquide de re- froidissement inférieur ou égal à 12 mm lorsque la pression de ce dernier est comprise entre 1 et 1,5 bars. Généralement, la buse et le matériau à trai- ter sont mobiles l'un par rapport à l'autre Dans ce cas le dispositif est agencé de telle sorte que la distance entre l'orifice de la buse et le matériau à traiter soit constante pendant toute la durée du dé- placement relatif de la buse et du matériau On a constaté qu'on obtient les meilleurs résultats lorsque cette distance est comprise entre 5 et 100 mm et, de préférence, entre 5 et 50 mms On peut également prévoir un écran de confi- nement destiné à protéger thermiquement le matériau à élaborer dans la zone o l'on effectue le refroi- dissement et une enceinte étanche à l'intérieur de laquelle se trouvent ladite buse et le matériau à traiter lorsqu'on opère sous atmosphère contrôlée. Selon une dernière caractéristique du dis- positif objet de l'invention, celui-ci comporte des moyens permettant d'amener le matériau à traiter devant la buse. S Dans un premier mode de réalisation, lesdits moyens permettant d'amener le matériau à élaborer devant la buse comprennent un creuset contenant ce ma- tériau sous forme liquide et lui permettant de s'écou- ler par gravité devant la buse. Dans un autre mode de réalisation, ces moyens comprennent: une première électrode réalisée dans ce matériau, une deuxième électrode disposée de manière à faire' jaillir un arc entre elle-même et la première élec- trode afin de fondre une partie du matériau consti- tuant cette première électrode, et des moyens de soufflage pour projeter la partie fon- due de la première électrode sous forme de particu- les liquides devant la buse. Suivant un troisième mode de réalisation, les moyens permettant d'amener le matériau à élaborer devant la buse comprennent un chalumeau à plasma apte à envoyer un jet de particules fondues de ce matériau devant la buse. Selon un autre mode de réalisation, les moyens permettant d'amener le matériau à élaborer devant la buse comprennent un réservoir cylindrique mobile en rotation autour de son axe et constitué de deux disques plans parallèles reliés par une paroi la- térale, le matériau à élaborer étant introduit dans ce réservoir sous forme liquide et ladite paroi latérale étant percée d'un certain nombre de trous pour permet- tre la sortie du liquide sous forme de particules par centrifugation, ces particules passant ensuite devant la buse. Enfin, selon un dernier mode de réalisation du dispositif, les moyens permettant d'amener le maté- riau à traiter devant la buse comprennent: un creuset contenant ce matériau sous forme solide, une source d'électrons apte à envoyer un faisceau dlélectrons sur le matériau contenu dans ce creuset afin de le faire fondre en surface, et des moyens de soufflage pour projeter la partie fon- due du matériau à élaborer devant la buse. L'invention apparaîtra mieux à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple purement illustratif et nullement limitatif, en réfé- rence aux dessins annexés, dans lesquels les figures 1 à 5 sont des coupes verticales schématiques illustrant. cinq modes de réalisation possibles du dispositif objet de l'invention. La figure 1 représente un premier mode de réalisation du dispositif, celui-ci se composant d'une enceinte étanche 1 à l'intérieur de laquelle se trouve un creuset 2 contenant le matériau à élaborer 3, par exemple du bore sous forme liquide La fusion de ce dernier est obtenue grace à une électrode 4 reliée à un circuit électrique qui permet de faire jaillir un arc entre elle-même et le matériau 3 Le dispositif de refroidissement proprement dit se compose d'une buse 6 présentant un orifice 8 pour la sortie des gouttelet- tes de gaz liquéfié, la buse 6 étant reliée dtune part à un réservoir de gaz liquéfié 10 par une première canalisation 12, et d'autre part à un réservoir 14 de gaz porteur par une deuxième canalisation 16 Le gaz liquéfié est de préférence un gaz neutre comme l'azote ou l'argon et le gaz porteur peut-être le même que le gaz liquéfié, mais ceci n'est pas obligatoire. Enfin, dans le cas o l'opération doit se dérouler sous atmosphère contrôlée, on réalise un ba- layage de l'enceinte 1 à l'aide d'un gaz neutre, par exemple de l'argon, ce dernier pénétrant dans l'en- ceinte par une canalisation 18 reliée à un réservoir et sortant de l'enceinte par un orifice de sortie 22 situé à la partie supérieure de cette dernière Le fait d'opérer sous atmosphère contrôlée évite des réactions chimiques -nuisibles si le matériau à traiter est avide d'oxygène comme le bore Pour effectuer-ce contrôle, on analyse régulièrement, éventuellement en continu, la composition de l'atmosphère régnant à l'intérieur de l'enceinte 1 et on règle les conditions de balayage en fonction des résultats de l'analyse. Le fonctionnement du dispositif est le sui- vant: lorsque le matériau 3 contenu dans le creuset 2 est fondu, on fait en sorte qu'il s'écoule par le bec du creuset Pour cela, on peut soit incliner le creuset 2 progressivement pour que l'écoulement soit régulier, soit introduire en permanence de nouvelles quantités de matériau, celui-ci s'écoulant naturel - lement par effet de trop-plein C'est ainsi que le li- quide passe devant la buse 6 avant de tomber dans le réceptacle 24 prévu à la partie inférieure de l'en- ceinte 1 Le refroidissement s'effectue par projection de gouttelettes de gaz liquéfié sur le liquide -lorsque celui-ci passe devant l'orifice 8 de la buse 6 Ceci a pour effet de solidifier le matériau 3 qui tombe sous forme de poudre dans le réceptable 24. L'obtention des gouttelettes de gaz liqué- fié se fait en introduisant dans la buse 6 d'une part le gaz liquéfié en provenance du réservoir 10 par la canalisation 12 et, d'autre part, un gaz porteur issu du réservoir 14 par la canalisation 16 Afin que le refroidissement se fasse dans de bonnes conditions, il faut régler soigneusement la: pression et le débit du gaz liquéfié et du gaz porteur ainsi que la distance entre l'orifice 8 de la buse 6 et le matériau à re- froidir On a constaté que, pour éviter des phénomènes gênants dans la formation des gouttelettes, le gaz li- quéfié issu du réservoir 10 devait se trouver sous forme monophasique à son entrée dans la buse 6, c'est- à-dire se trouver uniquement sous forme liquide et fie pas être mélangé avec sa vapeur Dans le cas d'azote ou d'argon liquide, la canalisation 12 est avantageu- sement une canalisation à double enveloppe, c'est-à- dire se composant de deux tuyaux concentriques entre lesquels on a fait le vide afin d'assurer une bonne isolation Si la pression du gaz liquéfié est comprise entre 1 et 1,5 bar, pour que celui-ci se trouve sous forme monophasique à son entrée dans la buse 6, il faut que la longueur de la canalisation 12 ne dépasse pas 5 mètres et que le diamètre de passage du liquide soit inférieur ou égal à 12 millimètres De plus, on a également constaté que, pour obtenir un refroidisse- ment efficace, il fallait que les-gouttelettes de gaz liquéfié projetées à partir de la buse 6 soient sphé- riques et aient un diamètre inférieur ou égal à 40 microns. Enfin, pour mieux régler la tension superfi- cielle des gouttelettes, en particulier pour qu'elles soient sphériques et que leur diamètre reste dans les limites indiquées ci-dessus, on peut avoir intérêt à utiliser un deuxième gaz porteur dont on règle la pression et le débit afin que la tension superficielle des gouttelettes reste dans les limites prescrites D'autre part, pour que les gouttelettes restent suffi- samment froides lors de l'impact sur le matériau à traiter, il faut que la distance entre l'orifice 8 de la buse 6 et ce matériau soit suffisamment faible. Dans le cas de gaz liquéfiés comme l'argon ou l'azote, on a pu déterminer que cette distance devait être com- prise entre 5 et 100 millimètres et de préférence entre 5 et 50 millimètres 0. Si, dans le cas de la figure 1, on a décrit un dispositif permettant de refroidir un matériau se présentant sous forme Liquides il est bien entendu que l'invention s'applique également à la trempe d'un ma- tériau se présentant sous forme solide Dans ce cas, la buse 6 et le matériau sont mobiles l'un par rapport à l'autre, par exemple la buse étant fixe et le maté- riau à traiter déf ilant devant l'orifice 8 ou étant animé d'un mouvement de rotation s'il s'agit d'une pièce présentant une symétrie de révolution Eventuel- lement, on peut prévoir un écran de confinement afin de protéger thermiquement la zone du matériau dans la- quelle est effectuée la trempe. Les figures 2 à 5 représentent d'autres modes de réalisation du dispositif objet de l'irnven- tion dans lesquels la buse est fixe, mais o l'on a prévu des -moyens pour amener le matériau à traiter sous forme liquide devant cette buse Par exemple, dans le cas de la figure 2, on retrouve l'enceinte 1 parcourue par un courant de gaz neutre entrant par la conduite 18 et sortant par l'orifice 22 A l'intérieur de l'enceinte 1 se trouvent deux électrodes 26 et 28 entre lesquelles on fait jaillir un arc, mals l'élec- trode 26 est constituée par le matériau qu'on veut traiter, Le jaillissement de l'arc entre ces deux électrodes a pour effet de faire fondre le matériau à l'extrémité 27 de l'électrode 26 i Un dispositif de soufflage 30 permet de projeter un gaz, de préférence un gaz neutre, sur la partie fondue 27 de l'électrode 26 et de projeter ainsi des particules liquides du matériau à élaborer 3 devant l'orifice 8 de la buse 6, cette dernière étant comme précédemment reliée par les canalisations 12 et 16 aux réservoirs de gaz liquéfié et de gaz porteur respectivement La buse 6 est dispo- sée au-dessus du jet de particules 3 de manière à pro- jeter des gouttelettes de gaz liquéfié sur ces parti- cules, ce qui a pour effet de les refroidir sufflsam- ment pour qu'elles se sllit-d ient et de les faire tome- ber sous forme de poudre dans le réceptacle 24. Dans le cas de la figure 3, la buse 6 et le réceptacle 24 sont disposés comme dans la figure 2, mais les particules liquides du matériau à traiter 3 sont obtenues à l'aide d'un chalumeau à plasma 32 re- lié à un système de contrôle et de production de plas- ma non représenté Le fonctionnement du dispositif de la figure 3 est identique au fonctionnement du dispo- sitif de la figure 2. La figure 4 illustre un autre moyen permet- tant d'amener le matériau à traiter sous forme de par- ticules liquides devant la buse de refroidissement. Dans ce mode de réalisation, l'enceinte étanche 1 a la forme d'une enveloppe cylindrique 34 dont la partie inférieure 36 a une forme en tronc de cône, consti- tuant ainsi un réceptacle pour les particules solidi- fiées du matériau à traiter t A la partie supérieure du récipient 34 se trouve un réservoir 38 ayant la forme d'un cylindre limité par deux disques plans horizon- taux 39 et 40 reliés par une paroi latérale 42 Le réservoir 38 est mobile en rotation autour d'un axe vertical grâce à un moteur 44 et on peut y introduire le matériau à élaborer sous forme liquide par la cana- lisation 46 Ce dernier arrive donc dans le réservoir 38 et, comme la paroi latérale 42 de ce dernier est * percée de trous de faible diamètre 48, le liquide s'échappe par ces orifices sous l'effet de la force centrifuge Du fait que le diamètre de ces orifices est très faible, ce sont des particules liquides qui s'échappent. On voit sur la figure qu'on a disposé un certain nombre de buses de refroidissement identiques aux buses décrites en référence aux figures précéden- tes tout autour du récipient 34 t seules les deux buses 6 a et 6 b sont visibles sur le dessin Les gout- telettes de gaz liquéfié projetées par ces dernières frappent les particules liquides à leur sortie du ré- servoir 38 et ce sont donc des particules solides- qu'on recueille à la partie inférieure 36 de 1 'enve- loppe 34. Enfin, la figure 5 représente un dernier mode de réalisation du dispositif de l'invention dans lequel le matériau à traiter 3 est placé sous forme solide à l'intérieur d'un creuset 50 Le dispositif comporte une source d'électrons 52, par exemple un canon à électrons, disposée de manière a envoyer un faisceau d'électrons à la surface du matériau contenu dans le creuset 5 pour faire fondre ce matériau en surface Un dispositif de soufflage, qui peut être le même que le dispositif 30 décrt en référence à la figure 2, permet d'envoyer un jet de gaz à la surface du matériau contenu dans le creuset 50 et de projeter des particules liquides de ce matér:iau devant l'orifi- ce 8 de la buse 6, cette -dernière étant placée de la même manière que dans le cas des figures 2 et 3 Le fonctionnement est le même que dans le cas de ces deux figures, les gouttelettes ligu 17 des issues de l'orifice 8 venant frapper les particules liquides du matériau 3, -ce qui a pour effet de les refroidir et de les solidifer avant qu'elles ne tombent dans le récepta- cle 24. Ainsi, le procédé et le dispositif objets de l'invention présentent de nombreux avantages puis- qu'ils permettent des opérations de trempe avec un re- froidissement très efficace, ce qui diminue donc la durée de cette opération et permet de réaliser des économies sur l'ensemble du procédé d'élaboration du matériau D'autre parte le fait d'opérer le refroidis- sement avec des gouttele Ittes dngazneutrelqu t-'damune atmosphere contr 8 lée évite toute réaction chimique parasite avec le matériau à traiter, ce qui permet d'obtenir une plus grande pureté. Quant au domaine d'application, il est ex- tremement vaste et couvre presque tous les procédés d'élaboration dans lesquels un matériau doit être soumis à un traitement de trempe C'est ainsi que le procédé de l'invention s'applique à la trempe d'oxydes sous-stoechiométriques utilisables pour la photogra- phie ou la catalyse ou pour la trempe de poudres de métaux ou de composés métalliques dans un état métas- table pour l Jobtention de poudres actives en vue du frittage Par exemple, avec le dispositif comportant un pistolet à plasma tel que celui de la figure 3, on a pu figer du bore sous sa forme amorphe et obtenir de l'oxyde de lutétium sous-stoechiométrique: alors que la forme stable de ce composé correspond à un produit de couleur blanche et de formule chimique Lu 2 o 3, on a pu obtenir l'oxyde métastable bleu dont la formule chimique s'écrit Lu 2 ox, x étant un nombre variable mais voisin de 2 8 Le procédé objet de leinvention s'applique encore à la trempe de lingots après cuisson ou pressage ou pour fragiliser des matériaux avant leur destruction par broyage Il peut encore avanta- geusement etre utilisé pour le refroidissement de dép 8 ts plasma ou pour l'élaboration de matériaux su- praconducteurs, de verres métalliques ou pour la trem- pe du verre. REVENDICATIONS 1 Procédé de refroidissement d'un matériau ( 3) caractérisé en ce qu'on projette sur ce matériau. ( 3) un liquide de refroidissement se trouvant à une température proche de sa température de saturation. 2 Procédé selon la revendication 1, carac- térisé en ce que ledit liquide proche de sa températu- re de saturation est un gaz liquéfié. 3 Procédé selon la revendication 2, carac- térisé en ce que ledit gaz liquéfié est choisi dans le groupe comprenant l'azote et l'argon. 4 Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 1 à 3, caractérisé en ce qu'on projette le liquide de refroidissement sous forme de gouttelettes sur le matériau ( 3) 5 Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 1 à 4, caractérisé en ce qu'on utilise au moins un gaz porteur pour projeter le liquide de re- froidissement sur le matériau ( 3). 6 Procédé selon les revendications 4 et 5, caractérisé en ce qu'on règle le débit et la pression du liquide de refroidissement et du gaz porteur pour que les gouttelettes de liquide aient un diamètre in- férieur ou égal à 40 microns. 7 Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 1 à 6, caractérisé en ce qu'on opère sous atmosphère contrôlée. 8 Procédé selon l'une quelconque des reven- dications 1 à 7, caractérisé en ce qu'on prépare le matériau à traiter ( 3) sous forme particulaire avant de le soumettre à l'action du liquide de refroidisse- ment. 9 o Procédé d'élaboration d'un matériau ré- fractaire, du genre de ceux qui comportent au moins une étape dans laquelle le matériau à élaborer est soumis à un traitement de trempe, caractérisé en ce que cette trempe est-effectuée par le procédé de re- froidissement selon l'une quelconque des revendica- tions 1 à 8. Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce qu'il comprend au moins une buse ( 6) comportant un orifice ( 8) pour la sortie du liqui- de de refroidissement et reliée à au moins une source ( 10) de liquide de refroidissement par une première canalisation ( 12) et à au moins une source de gaz por- teur ( 14) par une deuxième canalisation ( 16) Il Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que les dimensions de ladite premiè- re canalisation ( 12) sont telles que le liquide de refroidissement se trouve sous forme monophasique à son entrée dans la buse ( 6). 12 Dispositif selon l'une quelconque des revendication 10 et 11, caractérisé en ce que ladite première canalisation ( 12) est une canalisation à dou- ble enveloppe. 13 Dispositif selon l'une quelconque des revendications 11 et 12, caractérisé en ce que ladite première canalisation ( 12) présente une longueur infé- rieure ou égale à 5 mètres et un diamètre de passage du liquide de refroidissement inférieur ou égal à 12 mm lorsque la pression de ce dernier est comprise entre 1 et-1,5 bars. 14 Dispositif selon l'une quelconque des revendications 10 à 13, caractérisé en ce que la buse ( 6) et le matériau à traiter ( 3) sont mobiles l'un par rapport à l'autre. 15 Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il est agencé de telle sorte que la distance entre l'orifice ( 8) de la buse ( 6) et le matériau à traiter ( 3) est constante pendant toute la durée du déplacement relatif de la buse ( 6) et du ma- tériau ( 3). 16 Dispositif selon la revendication 15, caractérisé en ce que la distance entre l'orifice ( 8) de la buse ( 6) et le matériau à traiter est comprise entre 5 et 100 mm. 17 Dispositif selon la revendication 16, caractérisé en ce que la distance entre l'orifice ( 8) de la buse ( 6) et le matériau à traiter est comprise entre 5 et 50 mm. 18 Dispositif selon l'une quelconque des revendications 10 à 17, caractérisée en ce qu'il com- porte en outre un écran de confinement destiné à pro- téger thermiquement le matériau à élaborer dans la zone o l'on effectue le refroidissement. 19 Dispositif selon l'une quelconque des revendications 10 à 18, caractérisé en ce qu'il com- prend en outre une enceinte étanche ( 1) à l'intérieur de laquelle se trouvent ladite buse ( 6) et le matériau à traiter ( 3). Dispositif selon l'une quelconque des revendications 10 à 19, caractérisé-en ce qu'il com- porte des moyens permettant d'amener le matériau à traiter ( 3) devant la buse ( 6). 21 Disp Qsitif selon la revendication 20, caractérisé en ce que lesdits moyens permettant d'ame- ner le matériau à élaborer ( 3) devant la buse ( 6) com- prennent un creuset ( 2) contenant ce matériau sous forme liquide et lui permettant de s'écouler par gra- vité devant la buse ( 6). 22 Dispositif selon la revendication 20, caractérisé en ce que lesdits moyens permettant d'ame- ner le matériau à élaborer devant la buse ( 6) compren- nent: 2 2545202 une première électrode ( 26) réalisée dans ce maté- riau, une deuxième électrode ( 28) disposée de manière à faire jaillir un arc entre elle-même et la première eélectrode ( 26) afin de fondre une partie { 27) du matériau constituant cette première électrode ( 26), et des moyens de souff Iage ( 30) pour projeter la partie fondue ( 27) de la première électrode ( 26) bous forme de particules liquides devant la buse ( 6). 23 Dispositif selon la revendication 20, caractérisé en ce que les moyens permettant d'amener le matériau à élaborer devant la buse ( 6) comprennent un chalumeau à plasma ( 32-) apte à envoyer un jet de particules fondues de ce matériau devant la buse -( 6). 24 Dispositif selon la revendication 20, caractérisé en ce que les moyens permettant d'amener le matériau à élaborer devant la buse ( 6) comprennent un réservoir cylindrique ( 38) mobile en rotation au- tour de son axe et constitué de deux disques plans parallèles ( 39, 40) reliés par une paroi latérale (.42), le matériau à élaborer étant introduit dans ce réservoir sous forme liquide et ladite paroi latérale ( 42) étant percée d'un certain nombre de trous ( 48) pour permettre la sortie du liquide sous forme de par- ticules par centrifugation, ces particules passant en- suite devant la buse ( 6) Dispositif selon la revendicat on 20, caractérisé en ce que les moyens permettant d 2 amener le matériau à traiter devant la buse ( 6) comprennent: un creuset ( 50) contenant ce matériau sous forme so- lide, une source d'électrons ( 52) apte à envoyer un fais- ceau d'électrons sur le matériau ( 3) contenu dans ce creuset ( 50) afin de le faire fondre en surface, et des moyens de soufflage ( 30) pour projeter la partie fondue du matériau à élaborer devant la buse ( 6)o