FR 2545989 A1 19841116 FR 8307792 A 19830510 -1 2545989 TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP, FONCTIONNANT EN REGIME D'ENRICHISSEMENT La présente invention concerne un transistor à effet de champ, fonctionnant en hyperfréquence, du type à enrichissement, dans lequel l'électrode de commande a une structure métal-isolant-métal, selon laquelle le premier métal assure un contact Schottky avec la couche active du transistor, l'isolant ou diélectrique présente une fuite diélectrique contrôlée, et le second métal constitue la grille de contrôle sur laquelle est appliquée la tension de polarisation. La technologie des circuits intégrés sur matériaux rapides tels que Ga As en particulier utilise principalement comme éléments actifs des transistors à effet de champ à grille Schottky Dans ces transistors, la grille est constituée par une métallisation qui assure un contact Schottky avec la couche active du transistor sur laquelle elle est déposée: ces transistors sont fréquemment appelés selon leur dénomination internationale MESFET, c'est-à-dire transistor métal semiconducteur. Les MESFET peuvent travailler en régime de désertion, pour lesquels la tension de grille est négative, la zone de charge d'espace située sous la grille modulant le canal entre les électrodes d'accès du transistor, la source et le drain Ils peuvent également travailler en régime d'enrichissement limité: il existe une zone désertée pour une tension de grille nulle, zone que l'on peut réduire en appliquant une faible tension positive VG sur la grille. En fait, cette tension positive est limitée par la hauteur de barrière métal- semiconducteur, dans les diagrammes d'énergie, à une valeur voisiné de + 0,6 V en pratique, tension au-delà de laquelle la grille commence à fuir de façon importante. Pour les applications logiques, il est souhaitable de pouvoir travailler en régime d'enrichissement, en particulier s'il est possible de pincer le canal entre source et drain pour une tension de grille nulle, c'est-àdire avec des transistors normalement bloqués La réalisation de MESFET normalement bloqués est limitée par cette valeur de + 0,6 V, sur Ga As en raison de la fuite de grille. Une solution qui semble possible, celle de transistors MOS, c'est-à-dire métal-oxyde-semiconducteur, sur Ga As présente de sérieux problèmes d'ins- tabilité dûs aux états d'interface entre les couches métalliques, isolantes et semiconductrices, qui se chargent et se déchargent, cette instabilité se manifeste par des déplacements de la courbe de capacité en fonction de la tension, la capacité étant formée par la métallisation de grille, la couche d'oxyde et la couche semiconductrice, après polarisation ainsi que par une réduction de la transconductance aux basses fréquences. Ces difficultés sont résolues par l'utilisation d'une grille de transistor à effet de champ couplée capacitivement, le diélectrique de la capacité de grille présentant une légère fuite électrique, contrôlée, suffisante pour permettre de maintenir en équilibre électrique les deux métallisations qui constituent la grille du transistor selon l'invention, mais cependant suffisam- ment faible pour limiter le courant de la diode formée par la grille et la couche active du transistor, cette limitation permettant de travailler jusqu'à + 1,5 V de tension de polarisation. De façon plus précise, l'invention concerne un transistor à effet de champ, fonctionnant en régime d'enrichissement, comportant, supportées par un substrat en matériau semi-isolant, au moins une couche active et deux électrodes d'accès dites source et drain, caractérisé en ce que l'électrode de commande, dite grille, a une structure capacitive composée de: une première métallisation, déposée sur la couche active et formant avec elle une jonction Schottky, une couche diélectrique, déposée sur la première métallisation, cette couche présentant une fuite électrique contrôlée, une seconde métallisation, déposée sur la couche diélectrique, for- mant grille de contrôle, cette métallisation étant celle sur laquelle est appliquée la tension de polarisation de grille. L'invention sera mieux comprise par la description d'un exemple de réalisation d'un transistor, ainsi que de l'une de ses variantes possibles, cette description s'appuyant sur les figures jointes en annexe qui représentent: figure 1: schéma en coupe d'un transistor selon l'invention, figure 2: schéma en coupe d'un transistor selon l'invention, dans une variante de réalisation, figure 3: courbes de caractéristiques I/V d'un transistor métal/semi- conducteur selon l'art connu, figure 4: courbes de caractéristiques I/V d'un transistor métal/iso- lant/semiconducteur selon l'art connu, figure 5: courbe -de caractéristique I/V d'un transistor métal/isolant présentant une fuite/métal/semiconducteur selon l'invention. Pour simplifier le texte, on conviendra de désigner par MESFET un transistor selon l'art connu dont la grille métallique est déposée directement sur la couche active; par MISFET un transistor selon l'art connu dont la grille métallique est déposée sur une couche d'isolant ellemême déposée sur le matériau semiconducteur; et par MIMFET le transistor selon l'invention dans lequel la grille a une structure métal-isolant-métal. Des résultats très intéressants ont été obtenus récemment avec les transistors de type MESFET sur matériau tel que Ga As, fonctionnant en régime d'enrichissement Cependant, les MESFET ont l'inconvénient d'avoir une capacité de courant assez limitée selon le régime d'enrichissement et présentent le risque d'une destruction de la diode formée par la grille et la couche active, pour des tensions de polarisation positives Ces difficultés peuvent être contournées en utilisant une grille couplée capacitivement, c'est-à-dire en utilisant un transistor dit MISFET dans lequel une couche d'isolant sépare la métallisation de grille de la couche active Mais la distribution des états d'interface dans un transistor de type MIS, ou de type MOS, ce qui n'est qu'une forme particulière d'un MIS, ne permet pas d'opérer dans des conditions de polarisation stables si le transistor est réalisé sur Ga As. En effet, si l'isolant placé entre la métallisation de grille et la couche active semiconductrice du transistor est parfait et présente une résistivité vraiment très élevée, les charges électriques ne peuvent pas s'écouler à travers cette couche d'isolant, et il n'y a pas d'équilibre électrique stable, les charges dues aux états d'interface se déplaçant de façon non contrôlée. La structure de grille proposée par l'invention utilise une grille comportant un premier métal qui forme la jonction Schottky avec la couche active du transistor, puis une couche de diélectrique, c'est-à-dire d'isolant, présentant une fuite électrique contrôlée par construction, au cours de la réalisation du transistor, et enfin une seconde couche métallique déposée sur la couche diélectrique, ladite seconde couche métallique constituant l'élec- trode externe, ou grille de commande, sur laquelle est appliquée la tension de polarisation. La fuite dans la couche d'isolant est choisie de telle façon que, d'une part, la métallisation Schottky, en contact avec le matériau semicon- ducteur, soit maintenue en équilibre électrique avec la grille de contrôle, ou seconde métallisation supérieure, jusqu'à une tension de polarisation positive voisine des conditions de bandes plates; et pour que d'autre part le courant dans la diode formée par la grille complexe et la jonction avec la couche active du transistor, soit limitée pour des tensions de polarisation plus élevées, la préservant ainsi de la destruction Par bandes plates, on entend les bandes de conduction et de valence, dans les diagrammes d'énergie, celles-ci ne présentant plus pour certaines valeurs de tension telles que + 0,6 V de barrière entre le métal et le semiconducteur Par tension de polarisation élevée, on entend des tensions de polarisation de grille supé- rieures à 0,6 V, puisque dans les transistors selon l'art connu la grille commence à fuir pour des tensions de l'ordre de 0,6 V, 0,55 à 0,65 V selon les réalisations. e 2 o La figure I représente un schéma simplifié, en coupe, d'un tran- sistor MIMFET selon l'invention Un substrat 1, en matériau de la famille III-V, mais plus fréquemment en Ga As ou In P, semi-isolant, supporte une couche active 2 Le transistor comporte deux électrodes d'accès 3 et 4, dont l'une constitue la source et l'autre constitue le drain du transistor, ces électrodes d'accès étant avantageusement placées sur des caissons 5 et 6 qui limitent une partie de la couche active 2, en vue de diminuer la résistance série source-drain. Le transistor à enrichissement selon l'invention comporte une élec- trode de commande, généralement appelée grille, qui dans le cas présent a une structure complexe formée par une première métallisation 7, formant contact Schottky avec la couche active 2, puis par une couche 8 d'un isolant présentant une fuite électrique contrôlée, et enfin par une seconde métal- lisation 9 formant la grille de contrôle sur laquelle est appliquée la tension de polarisation. La première métallisation 7, l'isolant présentant une fuite 8, et la seconde métallisation 9, forment un condensateur, et comme le diélec- trique 8 de ce condensateur présente une fuite électrique, l'interface Schot- tky 7 et la grille de contrôle 9 sont maintenues en équilibre électrique Aux basses fréquences, ou en régime statique, la fuite du diélectrique court- circuite la capacité formée par les deux métallisations et le diélectrique La transconductance et la tension de pincement sont identiques à celles d'un MESFET équivalent, selon l'art connu. En fait, ce type de transistor est conçu pour travailler à des fréquences très élevées: aux hautes fréquences, ou en régime dynamique, la capacité du diélectrique est en série avec la capacité de charge d'espace sous la grille, ce qui diminue la transconductance et la tension de pincement du canal. Sur la figure 1 ont été représentés les schémas symboliques d'une résistance qui représente la fuite contrôlée de la couche de diélectique 8 et d'une capacité qui représente la capacité du condensateur formé par la grille complexe métal-isolant-métal Est représentée également en pointillé la charge d'espace sous la grille Schottky et la capacité de ladite charge d'espace. Bien que le transistor selon l'invention présente une dispersion théo- rique de ses caractéristiques en basses fréquences ou en hautes fréquences, selon que la résistance de fuite court-circuite une capacité ou que deux capacités sont en série, il est possible de minimiser la dispersion de la trans- conductance en utilisant comme matériau diélectrique 8 pour la grille un matériau ayant une constante diélectrique élevée, comprise préférentiel- lement entre 8 et 30. Les matériaux préférés pour réaliser une grille MIM selon l'invention sont des oxydes non stoechiométriques de titane, de tantale ou d'aluminium, pour lesquels les constantes diélectriques sont, respectivement, de l'ordre de 30, 26 et 12, celles-ci pouvant varier selon la stoechiométrie de l'oxyde. Le nitrure de silicium, dopé ou non par un métal et répondant à la formule générale Six N y M z, qui a une constante diélectrique voisine de 8 à 10 selon le dopage par un métal M convient parfaitement à la réalisation d'une gril- le MIM selon l'invention La première métallisation 7 est essentiellement constituée d'un métal formant un contact Schottky avec la couche ac- tive 2: le titane et l'aluminium, par exemple, sont des métaux très couram- ment utilisés pour cet usage. La seconde métallisation 9 qui constitue essentiellement une prise de contact pour apporter une polarisation à la grille du transistor doit avoir pour première qualité de bien s'accrocher à la couche de diélectrique: elle peut être par exemple formée par une suite de métallisations titane, platine, or, ensuite rechargée à l'or s'il est nécessaire de prendre un contact sur cette grille de commande 9. Les électrodes de source et de drain 3 et 4 sont réalisées en tectique Au Ge Ni par exemple comme cela est courant, et la réalisation de la couche active 2, des caissons 5 et 6 ainsi que des électrodes métal- liques 3 et 4 est bien connue et sort du domaine de l'invention La figure 1 représente un transistor à effet de champ MIM selon l'invention, réalisé sur matériaux de type Ga As et la couche active ainsi que les caissons sont de type n. La figure 2 représente une variante du transistor selon l'invention, et les mêmes indices de repère ont été conservés pour désigner les mêmes éléments de la figure L'intérêt de cette figure 2 réside d'une part dans la -20 réalisation d'une grille enterrée, en contact direct avec une couche active 2 qui n'est plus délimitée comme dans la figure 1 par deux caissons 5 et 6. Cette figure montre également que la couche de diélectrique interposée entre les deux couches métalliques 7 et 9 de la grille peut avantageusement être prolongée sur toute la surface libre d'accès du transistor, et servir de passivant. Les figures 3, 4 et 5 permettent de comparer les caractéristiques de courant drain-source l Ds en fonction de la tension drain-source VDS pour différents types de transistors selon l'art connu et selon l'invention Pour toutes ces figures, la tension VDS est portée en abcisses, à raison de 0,5 V par division, et le courant IDS est porté en ordonnées, à raison de 5 milli- ampères par division Pour une même figure, les différentes courbes correspondent à différentes valeurs de polarisation de la grille, ces valeurs étant reportées sur la partie droite de chaque diagramme. La figure 3 représente les courbes de caractéristiques normales d'un transistor à effet de champ de type MESFET Ces courbes de caracté- ristiques serviront de points de repère pour les figures 4 et 5. En figure 4, une tension de grille positive est appliquée sur un transistor de type MESFET selon l'art connu On voit que la courbe supé- rieure, correspondant à une tension de polarisation VG de + 1 V, montre une fuite de grille Cette fuite se traduit sur le diagramme par un déplacement de ladite courbe de caractéristiques, au voisinage de l'origine des coordon- nées, la courbe de caractéristiques pour VG = + 1 V recoupant les autres courbes pour lesquelles VG = -1, -0,5, 0, et + 0,5 V Une analyse plus détail- lée, c'est-à-dire l'analyse du transistor en essais sounfis à des tensions de grille qui ne procèdent plus par pas de 0,5 V mais par pas de 1/10 ème de volt par exemple, montre que le phénomène de fuite de grille apparaît aux environs de + 0,55 V dans le cas d'un MESFET sur Ga As. La figure 5 représente les mêmes caractéristiques pour un tran- sistor MIM selon l'invention Cette figure montre que dans l'intervalle compris entre -1 V et + 0,5 V les courbes d'un transistor selon l'invention sont exactement identiques aux courbes d'un transistor MESFET selon l'art connu, mais que, en outre, la tension de polarisation de grille peut être poussée jusqu'à + 1,5 V, c'est-à-dire presque 3 fois la valeur limite des transistors de l'art connu sans qu'il y ait de fuite de grille. Ces résultats particulièrement intéressants sont obtenus grâce à la structure de la grille d'un transistor MIM, cette structure permettant l'équilibre et l'écoulement des charges électriques à travers la couche de diélectrique présentant une fuite En outre, à + 1,5 V de tension de polari- sation de grille, la diode formée par la capacité de grille et la couche active du semiconducteur n'est pas détruite, ce qui est fréquemment le cas avec des transistors selon l'art connu Pour un transistor MIM selon l'invention, le courant de canal en enrichissement est d'environ 100 % plus élevé que celui d'un MESFET classique, et la transconductance de ce dispositif est d'en- viron 100 milli siemens par millimètre au maximum. La comparaison entre les trois figures 3, 4 et 5, est d'autant plus intéressante que les caractéristiques des figures 3 et 4 ont été tracées en utilisant l'électrode Schottky 7 d'un transistor selon l'invention, sur laquelle a été directement appliquée la tension de polarisation Dans ce cas, la 8 2545989 couche de diélectrique 8 et l'électrode de commande 9 n'ont aucune fonc- tion, et le transistor selon l'invention, commandé directement par sa métallisation Schottky, se comporte comme un MESFET selon l'art connu. Par contre, pour la figure 5 la tension de polarisation a été appliquée sur la grille de commande 9, conformément à l'invention. Les opérations de fabrication d'un transistor MIM selon l'invention appartiennent aux connaissances de l'homme de l'art, et sont classiques. Cependant, dans le cas d'un transistor présentant une grille enterrée comme en figure 2, la profondeur du canal est d'environ 400 angstrôms L'épaisseur de la couche d'solant 8 est de l'ordre de 500 angstrôms, et si le nitrure de silicium riche en silicium, c'est-à-dire non stoechiométrique, est utilisé pour fabriquer cette couche, il est déposé par plasma et décomposition chimique en phase vapeur, en contrôlant l'épaisseur, voisine de 500 angstrams, de façon à contrôler la fuite de courant à travers ladite couche diélectrique, de même qu'en contrôlant le dopage éventuel de cette couche par un métal puisque c'est l'apport de métal qui contrôle la fuite électrique à travers la couche. Le transistor selon l'invention ou MIMFET dispose de caractéristiques de transconductance équivalentes à celles d'un MESFET, mais sa capacité de transfert du courant, en enrichissement, est accrue de l'ordre de 100 % par rapport à celle d'un MESFET conventionnel, et la fuite à travers la grille est supprimée jusqu'à des valeurs de polarisation de grille de l'ordre de + 1,5 V. Ce transistor MIMFET est essentiellement utilisé pour réaliser des circuits intégrés logiques, préférentiellement sur matériaux rapides du groupe III-V, tel que Ga As, AI x Ga X As, In P, In Ga As mais il est concevable de l'utiliser également sur silicium bien que la rapidité des circuits intégrés sur silicium soit moins intéressante que celle des circuits intégrés sur Ga As. L'invention est précisée par les revendications suivantes. REVENDICATIONS 1 Transistor à effet de champ, fonctionnant en régime d'enri- chissement, comportant, supportées par un substrat ( 1) en matériau semi- isolant, au moins une couche active ( 2) et deux électrodes d'accès ( 3, 4) dites source et drain, carctérisé en ce que l'électrode de commande, dite grille, a une structure capacitive composée de: une première métallisation ( 7), déposée sur la couche active ( 2) et formant avec elle une jonction Schottky, une couche diélectrique ( 8), déposée sur la première métal- lisation ( 7), cette couche ( 8) présentant une fuite électrique contrôlée, une seconde métallisation ( 9), déposée sur la couche diélectrique ( 8), formant grille de contrôle, cette métallisation ( 9 > étant celle sur laquelle est appliquée la tension de polarisation de grille. 2 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en que la fuite électrique à travers la couche diélectrique ( 8) est déterminée pour que les charges électriques stockées à l'interface Schottky ( 7) soient en équilibre électrique avec la grille de contrôle ( 9), jusqu'à une tension de polarisation positive (+ 1,5 V) sensiblement double de celle pour laquelle les bandes de conduction et de valence du diagramme d'énergie dudit inter- face ( 7) sont plates. 3 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que la fuite électrique à travers la couche diélectrique ( 8) est limitée pour que le courant dans la diode formée par la grille ( 7 + 8 + 9) et la jonction Schottky ( 7 + 2) soit limité pour des valeurs élevées de tension de polarisation. 4 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche de diélectrique ( 8) présentant une fuite électrique a une constante diélectrique 8,i E $ 30. Transistor à effet de champ selon la revendication 4, caractérisé en ce que la couche de diélectrique ( 8) présentant une fuite électrique a une épaisseur de l'ordre de 500 angstrôms et est composée de l'un parmi les matériaux suivants: Tix Oy, Tax 0 y, A Ix O Y ou Si Ny, chacun de ces matériaux 2545989 étant en proportions non stoechiométriques et riche en métal. 6 Transistor à effet de champ selon la revendication 5, caractérisé en ce que la résistivité de la couche de diélectrique ( 8) présentant une fuite électrique est contrôlée par dopage du matériau qui la constitue par un métal. 7 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que: la première métallisation ( 7), formant jonction Schottky, est réalisée avec des métaux tels que Ti et AI, la seconde métallisation ( 9), formant grille de contrôle, est réalisée avec des métaux qui adhèrent bien sur la couche de diélectrique ( 8), tels que Ti Pt Au. 8 Transistor à effet de champ selon la revendication 1, caractérisé en ce que la tension de polarisation de grille, en enrichissement, appliquée sur la seconde métallisation ( 9), est au moins le double de la tension, admissible sur la première métallisation ( 7), sans créer de fuite de grille importante par rapport au courant de canal.