FR 2541471 A1 19840824 FR 8319126 A 19831130 L'invention concerne un élément en forme de feuille présentant des repères d'alignement, et un appareil d'alignement de cet élément, et elle a trait plus particu- lièrement à un réticule, un masque pour tranche et un appareil les utilisant pour la fabrication de circuits semiconducteurs. Un exemple typique de dispositif d'alignement automatique de plusieurs objets est constitué par un appareil d'alignement pour la fabrication de dispositifs semiconducteurs tels que des circuits intégrés, des cir- cuits intégrés à grande échelle et autres Ces circuits intégrés sont fabriqués par superposition d'un certain nombre de dessins complexes de circuits La tendance à des vitesses de traitement plus élevées et à des densités de dessins plus grandes nécessite de réduire continuelle- ment la largeur des lignes des circuits et d'élever de plus en plus la précision de l'alignement pour la porter à un ordre de grandeur même inférieur au micromètre. Pour satisfaire ces exigences, on a développé un appareil d'alignement du type fonctionnant par échelons et répéti- tions, cet appareil pouvant être, appelé parfois échelon- neur Dans un échelonneur, le dessin d'un réticule est projeté sur une tranche à une échelle égale à un ou à échelle réduite En raison des limites de conception du système optique à lentilles de projection, l'aire de projection est nécessairemment limitée ou faible, de sorte-que la totalité de la surface de la tranche ne peut généralement pas être exposée en une seule fois Par con- séquent, pour couvrir la totalité de la surface, le dessin est projeté sur une partie de la surface de la tranche, puis déplacé d'un échelon vers la partie voisine et pro- jeté, et cette opération est répétée sur toute la tranche: Avec l'accroissement de la dimension des tranches, le nombre d'échelons nécessaires pour le traitement d'une tranche a augmenté de même, par conséquent, que le temps demandé pour le traitement d'une tranche Par ailleurs, avant chaque projection du dessin, c'est-à-dire chaque exposition de la tranche au dessin, le réticule et la tranche doivent être alignés Par conséquent, la façon de les aligner est importante du point de vue de la pré- cision de l'alignement et du temps d'alignement Il est connu, en alignement hors-axe, de placer d'abord correc- tement l'un des deux éléments dans une position prédéter- minée, à l'extérieur du poste d'exposition, puis de le déplacer vers la position d'exposition sur une distance prédéterminée qui est établie par un interféromètre à laser Ce mode de travail permet une grande vitesse d'exécution, mais il pose des problèmes car l'alignement ne peut être limité directement au poste d'exposition; il ne peut satisfaire une distorsion locale non linéaire- pouvant affecter la tranche en cours de traitement; et la précision du contrôle du mouvement de la platine peut affecter l'alignement. Il existe un appareil du type dit à visée à travers l'objectif, dans lequel la tranche est observée à travers l'objectif de projection à proximité immédiate de la position d'exposition afin d'être alignée sur le réticule Ce type d'appareil permet de réagir à la dis- torsion locale de la tranche et d'éviter l'imprécision du mouvement de la platine de la tranche, de sorte que l'on peut s'attendre à un meilleur alignement entre le réticule et la tranche. Dans l'appareil à visée à travers l'objectif, il est connu d'utiliser un faisceau laser de balayage pour l'opération d'alignement Un exemple d'un tel appa- reil est décrit dans la demande de brevet japonais N O 54-53 562 La figure 1 des dessins annexés et décrits ci-après représente schématiquement le dispositif décrit dans la demande précitée, pour plus de clarté Un fais- ceau laser unique provenant d'une source 1 est divisé en deux faisceaux qui sont alors dirigés vers des systèmes optiques à objectifs gauche et droit 11, ce qui permet de détecter le décalage ou degré de défaut d'alignement entre le réticule 12 et la tranche 13 dans deux positions La détection en deux positions permet de corriger les deux types de décalage, c'est-à-dire le décalage de directions X et Y (translation) et le décalage e (rotation), en déplaçant le réticule ou la tranche. Le système optique montré sur la figure 1 com- prend un condenseur 2 destiné à focaliser le faisceau laser, un miroir polygonal 3, une lentille f-9 4 et un diviseur optique 5 Le faisceau laser émis par le -géné- rateur 1 est dévié de façon à effectuer un mouvement de balayage par le miroir polygonal 3, et il arrive ensuite sur le diviseur optique 5, etc L'appareil comprend en outre une lentille de champ 6, un prisme dissecteur de champ de visée 25 qui a également pour fonction de divi- ser le faisceau laser de balayage en deux faisceaux En raison des fonctions doubles, le prisme 25 peut être considéré comme étant un prisme de division du champ de visée et de division spatiale Le faisceau est transmis à travers ou réfléchi par un diviseur optique 7 de pola- risation, une lentille relais 8 et un diviseur optique 9 et il atteint l'objectif 11 qui en forme une image sur les objets à balayer ou explorer Le système d'éléments optiques s'étendant d'une lentille à pupille de formation nimage 14 à un détecteur 18 constitue un système de détec- tion photo-électrique Le dispositif comporte en outre' un filtre chromatique 15, un filtre 16 à fréquence spa- tiale destiné à arrêter les faisceaux dus aux reflets spéculaires (sur le réticule ou la tranche), mais permet- tant la transmission du faisceau réfléchi, par dispersion, un système optique d'éclairage comprenant un condenseur 17, une source 19 de lumière, un autre condenseur 20 et un filtre chromatique 21, et un système optique d'observa- tion comportant un redresseur et un oculaire La fonction et le mode de travail de ces éléments sont décrits en détail dans la demande N O 54-53 562 précitée et ils ne seront donc pas décrits de nouveau en détail dans le présent mémoire. Dans cet exemple, le faisceau dévié par le miroir polygonal 3 est divisé sur sa plage de déviation. par le prisme diviseur de champ de visée 25 qui est en conjugaison optique avec le réticule 12 et la tranche 13, 25414 ? 1 ce qui utilise donc efficacement la quantité de lumière du faisceau laser La ligne de déviation est transversale à l'arête du prisme 25 Les faisceaux respectifs divisés par le prisme 25 sont dirigés, à travers les objectifs respectifs 11, vers les repères d'alignement qu'ils balaient, respectivement L'appareil optique d'alignement comportant les microscopes assume une autre fonction importante, à savoir l'observation des repères d'aligne- ment Cette observation constitue l'une des fonctions inévitables, en particulier lors du contrôle de l'état d'alignement et de la mise en place initiale d'un réti- cule Dans le cas-du système optique d'observation, on souhaite que les imagés soient observées d'une façon naturelle et aisée. La figure 2 des dessins annexés montre les champs de vision image observés à travers l'oculaire 23 du dispositif montré sur la figure 1 Sur la figure 2, la référence numérique 31 désigne la ligne de division du champ de visée, due à l'arête du prisme dissecteur du champ de visée 25; la référence numérique 32 désigne la ligne de balayage suivie par le faisceau laser; la réfé- rence 33 désigne le champ de visée à travers l'objectif droit; et la référence 34 désigne le champ de visée à travers l'objectif gauche Les faisceaux lasers balaient les zones des repères d'alignement dans la direction reliant les repères d'alignement droit et gauche Les repères d'alignement jouent des rôles importants dans la fabrication des circuits semiconducteurs, mais ils ne constituent pas de dessins des circuits réels Par consé- quent, après que la tranche a été complètement traitée, la partie de cette tranche présentant les repères d'ali- gnement constitue des zones inutilisables C'est la raison pour laquelle on souhaite que la zone-occupée par un repère d'alignement soit aussi petite que possible pour accroître le rendement. La figure 3 représente un exemple d'un réticule ou masque (désigné plus simplement ci-après réticule) Si les repères d'alignement sont situés sur les lignes tracées entre des puces adjacents 101, ils n'exigent aucun espace particulier, de sorte que le problème indiqué ci-dessus est résolu Etant donné que le faisceau laser de balayage se déplace dans la direction reliant les repères d'aligne- ment, deux repères d'alignement sont disposés sur cette direction, c'està-dire le long et à l'intérieur d'une ligne de traçage proche du centre du réticule. Cependant, dans le cas d'un appareil d'exposition et d'alignement du type dit à échelons, et notamment dans l'échelonneur à réduction, il est possible qu'un réticule corresponde en totalité à une puce, de sorte que l'on a des lignes de traçage uniquement dans la zone marginale, c'est-àdire aucune ligne de traçage à proximité du centre, ce qui serait meilleur pour convenir aux repères d'aligne- ment tels que décrits précédemment. La figure 4 des dessins annexés représente un réticule 12 portant le dessin d'une seule puce 101, sur lequel les repères d'alignement sont indiqués par les références numériques 102. Ainsi qu'il ressort de la figure 4, les deux repères d'alignement 102 sont situés sur une ligne qui est très écartée du centre du réticule 12 Par conséquent, sur les parties du réticule 12 éloignées des repères 102 d'alignement, c'est-à-dire proches du bas de la figure 4, l'alignement n'est pas très précis par rapport à celui de la zone proche du repère d'alignement 102, c'est-à- dire du côté supérieur. La dégradation de l'alignement due aux repères 102 d'alignement disposés suivant une ligne éloignée du centre du réticule 12 est importante lorsque le réticule 12 présente le dessin d'une puce Ceci pose un problème lorsque le nombre de puces,dont le dessin doit être formé sur le réticule 12, est impair, par rapport au cas o un nombre pair de puces est formé sur le réticule 12, car dans le premier cas, il n'existe pas de ligne centrale de traçage. Dans le cas o les repères d'alignement sont situés dans des zones périphériques opposées du dessin du -2541471 réticule, à la même latitude, et o les repères d'aligne- ment de la tranche occupent des positions correspondantes, l'un des deux repères d'alignement du réticule utilisés lors d'une certaine exposition, c'est-à-dire d'une certaine vue, peut être en chevauchement avec l'un, mauvais, des repères d'alignement de la tranche pour la vue suivante, ce qui empoche l'alignement correct pour la vue suivante. Lorsque le dessin d'une puce porté par un réti- cule est projeté sur une tranche, cette dernière est égale- ment exposée aux dessins des repères d'alignement du réti- cule Si une telle tranche exposée est traitée, par exemple par développement et/ou diffusion, les repères d'aligne- ment de la tranche peuvent être plus ou moins endommagés (voir brevet US N O 3 844 655) La détérioration peut poser un problème grave lorsque la tranche ainsi traitée est de nouveau soumise à une exposition supplémentaire d'un autre dessin, en alignement sur le dessin existant, car la tranche doit de nouveau être alignée à l'aide d'un réticule. L'.invention a donc pour objet principal un élé- ment en forme de feuille portant des repères d'alignement, par exemple un réticule ou un masque, et une tranche, per- mettant d'éviter le manque d'uniformité de l'alignement qui peut être dû à la position des repères, afin que la précision totale de l'alignement soit améliorée. L'invention a également pour objet un élément en forme de feuille portant un repère d'alignement, par exemple un réticule, un masque et une tranche, conçu de manière que les repères d'alignement soient placés d'une façon permet- tant d'éviter le chevauchement indésirable de ces repères. L'invention a également pour objet un appareil d'alignement dans lequel les positions de balayage ne sont pas situées sur une ligne. L'invention a pour autre objet principal un réti- cule ou masque par lequel les repères d'alignement de la tranche ne sont pas endommagés par une exposition aux repères d'alignement du réticule. L'invention a pour autre objet un appareil d'ali- gnement du type à échelonnement et répétition, dans lequel -7 les repères d'alignement de la tranche sont protégés de toute détérioration pouvant être due à l'exposition de la trancheau dessin du réticule, et plus particulière- ment à l'exposition du dessin des repères d'alignement , de la tranche au dessin des repères d'alignement du réti- cule. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemple nullement limitatif et sur lesquels: la figure 1 est une vue schématique en perspec- tive éclatée d'un système optique de l'art antérieur; la figure 2 illustre une relation entre un fais- ceau de balayage et un champ de visée; la figure 3 montre un exemple d'un masque ou réticule portant plusieurs dessins de puces; la figure 4 illustre des repères d'aligmenet de l'art antérieur pour un réticule portant le dessin d'une seule puce; la figure 5 est une vue schématique d'un système optique d'un appareil d'alignement selon l'invention; la figure 6 représente un réticule présentant des repères d'alignement selon l'invention; les figures 7 et 8 montrent des repères d'aligne- ment situés sur une tranche utilisable avec le réticule de la figure 6; les figures 9 A et 9 B représentent une tranche ou un réticule présentant des repères d'alignement situés sur une ligne longitudinale de traçage; la figure 10 est une vue schématique en perspec- tive éclatée d'un appareil d'alignement pouvant être utilisé avec un réticule, un masque ou une tranche présentant les repères d'alignement des figures 9 A et 9 B, la figure 11 illustre une relation entre la ligne de balayage et les repères d'alignement d'un réticule ou d'une tranche; - la figure 12 représente un réticule qui présente des repères d'alignement et des ouvertures de transmission de lumière selon l'invention; la figure 13 représente un repère d'alignement situé sur une ligne de traçage d'une tranche; et la figure 14 représente un réticule présentant des repères d'alignement de la figure 8 et des ouvertures de transmission de la lumière. La figure 5 représente une forme préférée de réalisation d'un appareil d'alignement utilisable avec un réticule selon l'invention Le système optique repré- senté sur cette figure est analogue à celui de la figure 1, dans une certaine mesure, de sorte que la description détaill Ue des pièces identiques n'est pas reprise, les éléments assumant les mêmes fonctions étant désignés par les mêmes références numériques Il est courant de faire exécuter un mouvement de balayage, par un miroir polygonal 3, au faisceau laser produit par la source laser 1 et de diriger le faisceau, à travers les objectifs 11, vers la surface du réticule 12 pour balayer cette surface à l'aide du faisceau laser La différence, par rapport à la forme de réalisation de la figure 1, réside dans le système optique utilisé après que le faisceau dévié a été divisé par le prisme 25 de division du champ de visée Les sys- tèmes optiques placés en aval ne sont pas symétriques, contrairement à la forme de réalisation de la figure 1. Les zones balayées par le faisceau, qui sont également les zones àobserver, sur le réticule ou masque 12 sont décalées Les zones à observer à l'aide du dispositif de la figure 5 sont les zones désignées en 27 et 28 sur la figure 6, tandis que les zones devant être balayées par le faisceau sont représentées par des hachures, c'est-à- dire les repères d'alignement X et W -Par conséquent, les repères d'alignement sont situés sur les passages ou lignes de traçage Cet agencement des repères établit une longue portée entre le couple de repères, de sorte que le défaut d'alignement en rotation peut être bien corrigé. Comme indiqué précédemment, en modifiant le système opti- que classique de la figure 1, on peut obtenir un appareil d'alignement utilisable avec le réticule 17 selon l'inven- tion. Le réticule 12 de la figure 6, conforme à la présente invention, comprend une plaque de base 104 qui présente une zone 105 de dessin Cette zone de dessin porte le dessin d'un circuit devant être projeté ou impri- mé de façon répétée sur une tranche au moyen d'un système optique de projection, sous la forme d'une matrice ou de rangées orthogonales Les repères-d'alignement X et W sont disposés de manière que la zone du dessin soit interposée entre les repères d'alignement qui sont décalés par rapport aux directions des rangées orthogonales. Les figures 7 et 8 montrent les repères d'aligne- ment situés sur les lignes 107 de traçage de la tranche 13 Cette dernière, représentée sur l'une ou l'autre des figures, est exposée de façon répétée à un dessin de réticule correspondant à une puce, par un procédé à éche- lonnement et répétition Lés repères d'alignement sont situés dans les lignes ou voies 107 de traçage qui définis- sent dans tous les cas les zones des dessins respectifs, mais la position exacte des repères de la figure 7 est différente de celle de la figure 8 Ainsi qu'il ressort de la figure 6, les repères d'alignement X et W d'un réticule forment un couple dans lequel un repère est placé en haut et à droite et l'autre en bas et à gauche Sur la figure 7, une voie 107 de traçage est communément utilisée pour un repère d'alignement d'une zone de dessin et pour un repère d'alignement de la zone de dessin adjacente. Par exemple, les quatre repères 30 A, 30 B, 30 C et 30 D sont situés sur le pourtour d'une puce 30, mais les deux repères B (X) et 30 C (W) seulement sont utilisés pour l'aligne- ment de la puce 30 Le repère 30 A est destiné à la puce supérieure 29 et le repère 30 D à la puce inférieure 31. Dans l'agencement de la figure 8, la voie 107 est divisée en deux voies plus étroites, et les repères d'alignement d'une puce sont situés aussi près que pos- sible de cette puce En utilisant la moitié d'une voie pour le repère d'alignement associé à une puce, on peut considérer que l'autre moitié reste pour une utilisation ultérieure Ceci est avantageux Cependant, l'agencement de la figure 7 est avantageux car une voie de traçage plus étroite est suffisante La tendance récente à utiliser des voies de traçage plus étroites peut être satisfaite par l'agencement de la figure 7. Dans la description précédente, les repères d'alignement de la tranche 13 sont situés le long d'une voie de traçage qui s'étend dans la direction latérale des figures L'agencement décaléest efficace dans le cas o les repères d'alignement sont situés le long d'une voie de traçage longitudinale Les figures 9 A et 9 B repré- sentent un exemple d'un tel agencement Dans ce cas, le réticule 12 présente quatre zones de dessins A, B, C et D pour quatre puces, comme montré sur la figure 9 B, ces zones étant projetées par un procédé à échelonnement et répétition sur la tranche 13 (figure 9 A) Le réticule 12 comporte une paire de repères d'alignement P et Q qui sont décalés des et situés extérieurement aux bords opposés. Ces repères peuvent être placés dans les positions indi- quées en P' et Q', comme c'est le cas de l'agencement de la figure 6, mais ils peuvent également être disposés comme indiqué par les références numériques P et Q sur la figure 9 B, c'est-à-dire plus près du centre du réticule. La figure 9 A représente une partie de la tranche qui a été exposée au réticule 12 de la figure 9 B par un procédé d'exposition à échelonnement et répétition Elle montre les positions des -repères d'alignement sur la tranche 13. Lorsque des puces 40 A, 40 B, 40 C et 40 D sont exposées, par exemple, les repères d'alignement P et Q situés sur le réticule correspondent aux repères d'alignement 40 P et 40 Q de la tranche Pour la vue suivante, c'est-à-dire lorsque les puces 41 A, 41 B, 41 C et 41 D sont exposées, les repères d'alignement P et Q du réticule correspondent aux repères 41 P et 41 Q, respectivement Etant donné que les repères d'alignement 41 P et 41 Q de la tranche ne sont pas à la même latitude, il n'existe pas de risque qu'un repère d'alignement situé sur la tranche 13 et destiné à une certaine vue soit recouvert par un repère d'alignement situé sur le réticule et destiné à la vue suivante, ce qui pourrait empêcher l'obtention de l'alignement approprié. Sur la figure 9 A, les puces désignées par les mêmes réfé- rences numériques sont celles soumises à une exposition simultanée. La figure 10 représente une forme de réalisa- tion de l'appareil d'alignement selon l'invention dans la- quelle les faisceaux lasers de balayage balaient les repères d'alignement dans la direction longitudinale Pour déplacer longitudinalement le faisceau laser, on utilise une combi- naison de miroirs 9 et 9 a De même que dans le système 1 o optique de la figure 5, les systèmes optiques gauche et droit sont dissymétriques de sorte que l'objectif 1 l peut balayer les repères d'alignement décalés montrés sur les figures 9 A et 9 B, par exemple Dans un système à échelon- nement et répétition, le dessin du réticule 12 est projeté sur la tranche 13 à chaque vue, puis déplacé d'un échelon vers la zone de la vue suivante, et cette opération est répétée Par conséquent, la liaison entre les vues adja- centes est importante Dans l'appareil de la figure 10, la tranche 13, montée sur le support 110, est déplacée par échelon et positionnée dans les directions X et Y par un dispositif à échelons X et par un dispositif à échelons Y afin que les dessins des puces soient formés en rangées orthogonales sur la tranche 13 L'alignement entre le réticule 12 et la tranche 13 est obtenu par un porte-réticule 111 déplacé par des éléments d'entraînement X, Y et e, ce qui signifie que le porte-réticule est déplacé dans les directions X, Y et e en réponse à la détection du degré de défaut d'alignement mesuré à l'aide des repères d'alignement. Comme décrit précédemment, les repères P et Q sont décalés de manière qu'il est vérifié que l'image projetée P'ou Q ne chevauche pas le repère d'alignement utilisé pour la vue suivante sur la tranche 12 Il est nécessaire que les positions relatives des repères soient prédéterminées afin de pouvoir éviter ce recouvrement. La figure 6 et la figure 9 B représentent les repères d'alignement comme étant disposés sur le pourtour et à proximité des bords périphériques extérieurs de la zone du dessin, mais les repères peuvent être disposés sur des voies intérieures différentes, à des latitudes différentes. Le dessin des repères d'alignement montré sur la figure 11 est connu Le réticule 12 comporte un repère 51 sur lequel le repère 52 de la tranche, indiqué en trait pointillé, est aligné Les repères sont balayés par un faisceau laser qui suit une ligne 53 L'appareil d'aligne- ment selon l'invention est du type à visée à travers l'objectif, de sorteque le repère porté par le réticule et le repère porté par la tranche sont détectés simultané- ment à travers le réticule Cette détection est convertie en signaux électriques en fonction desquels le masque ou réticule 12 et la tranche 13 sont amenés en alignement. Si les repères sont disposés comme montré sur les figures 9 A et 9 B et qu'ils sont du même dessin, il existe un ris- que de mélange indiscernable de la position du repère P et de la position du repère Q lorsque le réticule 12 et la tranche 13 sont décalés en rotation Ceci peut être évité en donnant aux repères P et Q des directions opposées. La figure 12 représente un tel agencement de repères d'alignement Les repères P et Q ont des orienta- tions opposées dans leurs dessins Les repères d'aligne- ment situés sur les lignes de traçage de la tranche sont formés de manière correspondante comme montré sur la figure 13 Etant donné que les orientations des repères sont opposées, ces repères ne se mélangent pas. Grâce à l'agencement des repères du réticule ou autre, selon l'invention, comme décrit en détail précédem- ment, il est possible d'améliorer le degré d'alignement entre le masque ou réticule 12 et la tranche 13 De plus, le recouvrement indésirable des repères peut être évité. Conformément à l'invention, il est également prévu un appareil d'alignement pouvant être utilisé avec un tel réticule ou autre. Un autre aspect de la présente invention sera à présent décrit Lorsqu'un dessin de puces porté par le réticule est projeté ou imprimé sur une tranche, le dessin des repères d'alignement du réticule est également imprimé sur la tranche dans la position des repères d'alignement de cette dernière Par conséquent, la zone de la tranche cor- respondant au repère d'alignement du réticule reste non exposée Cette zone non exposée est située dans la zone des repères d'alignement de la tranche Si-la tranche ainsi exposée, telle qu'elle est, est traitée, par exemple, par développement, diffusion et autre, il rest un vestige de la partie non exposée de la zone du repère d'alignement sur la tranche De tels vestiges sont nuisibles à la pour- suite de l'opération d'alignement et d'exposition à un autre dessin de la même tranche, cette opération pouvant être effectuée sur la tranche après un tel traitement, car lesdits vestiges risquent d'affecter l'opération d'aligne- ment au point d'empêcher cet alignement L'invention apporte une solution à ce problème Le réticule 12 selon l'invention, représenté sur la figure 12, présente des fenêtres R et S, c'est-à-dire des parties transmettant la lumière, adjacentes aux repères d'alignement P et Q qui encadrent, de façon décalée, la zone 113 de formation de dessin. Lorsque, par exemple, dans l'agencement des figures 9 A et 9 B, les puces 40 A, 40 B, 40 C et 40 D sont exposées, il subsiste, dans la zone du repère 40 Q, une partie non exposée due au repère d'alignement Q du réti- cule Cependant, la zone du repère 40 Q sur la tranche est exposée à la lumière à travers la fenêtre R lors de l'ex- position suivante, c'est-à-dire lors de l'exposition pour les puces 41 A, 41 B, 41 C et 41 D, Ceci est répété avec l'exposition à échelonnement et répétition, de sorte que l'on peut éviter le risque de subsistance de vestiges pour les repères. La figure 14 représente les fenêtres prévues pour atteindre le même but,mais utilisables avec le réticule 12 de la figure 8 Les fenêtres sont indiquées par les lettres de référence Y et Z La zone non exposée restant, par exemple, dans la zone du repère d'alignement 109 G lors de l'exposition de la zone 109, est exposée à travers la fenêtre Z lors de l'exposition pour la zone 109. Conformément à cet-aspect de l'invention, les repères d'alignement situés sur la tranche et associés à une certaine zone de dessin, correspondant à une ou plu- sieurs puces, peuvent être suffisamment exposés à la lumière lors de la vue effectuée sur une autre zone de dessin, pour qu'il ne soit pas nécessaire de procéder à une opération spéciale pour la protection des repères. L'appareil d'alignement du type à échelonnement et répé- tition, qui est nécessaire pour obtenir un alignement- avec une précision très grande, est avantageux par le fait que les mêmes repères d'alignement portés par la tranche peuvent être utilisés, car ceci signifie que les marques de référence sont stables et invariables, ce qui permet de supprimer un facteur d'erreurs Il est égale- ment avantageux d'éviter l'utilisation de plusieurs couples de repères d'alignement. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées à l'élément et à l'appareil décrits et représentés sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1 Elément en forme de feuille destiné à être aligné sur un autre élément ( 13) présentant une zone de dessin, caractérisé en ce qu'il présente une zone ( 105) de dessin destinée à être alignée sur la zone de dessin de l'autre élément, et une paire de repères d'alignement (X, W) situés à l'extérieur de la zone de dessin et dis- posés de manière que la zone de dessin dudit élément ( 12) en forme de feuille soit placée entre ces repères dont la disposition est décalée. 2 Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce que les repères d'alignement sont disposés le long de bords opposés de la zone de dessin. 3 Elément sielon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre'd'autres zones de dessins disposées en rangées orthogonales séparées par des voies ( 107), les repères d'alignement d'une zone de dessin donnée étant disposés sur des voies différentes. 4 Elément selon l'une des revendications 2 et 3, caractérisé en ce que les repères d'alignement associés comprennent des dessins de repères d'alignement symétriques. Elément selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il est destiné à constituer un réticule ( 12), un masque ( 12) ou une tranche ( 13) pour la fabrication de circuits semiconducteurs. 6 Appareil d'alignement de deux éléments ( 12, 13) ayant chacun au moins deux repères d'alignement (X, W; P, Q), par balayage des repères d'alignement, caractérisé en ce qu'il comporte des moyens ( 1, 3, 11) destinés à pro- duire des faisceaux déviés de balayage destinés à balayer les repères d'alignement, et des éléments optiques disposés de façon asymétrique pour former des trajets optiques des- tinés à diriger les faisceaux vers les deux repères d'ali- gnement dont la disposition est décalée. 7 Réticule utilisé avec un appareil d'alignement à échelonnement et répétition pour projeter séquentielle- ment un dessin d'un circuit sur une tranche ( 13), en rangées orthogonales, à travers un système optique de projection, caractérisé en ce qu'il comporte une plaque de base ( 104), un dessin de circuits formé dans une zone ( 105) de la plaque de base, et plusieurs repères d'alignement (X, W) disposés en face de la zone du dessin et hors de toutes lignes passant le long de l'une des rangées orthogonales. 8 Réticule utilisé avec un appareil d'aligne- ment à échelonnement et répétition pour projeter séquen- tiellement un dessin d'un circuit sur des zones de dessins d'une tranche ( 13), en rangées orthogonales, à travers un système optique de projection, caractérisé en ce qu'il comporte une plaque de base ( 104), un dessin de circuit formé dans une zone de dessin ( 105) de cette plaque de base, deux repères d'alignement (P, Q) situés à l'extérieur de la zone de dessin et disposés de manière que la zone de des- sin de l'élément en forme de feuille soit disposée entre ces repères, ces derniers étant à l'extérieur de toutes lignes passant le long de l'une quelconque des rangées orthogonales, des moyens étant destinés à exposer à la lumière, lorsqu'une zone de dessin de la tranche est exposée au dessin de circuit, une zone d'un repère d'ali- gnement associée à une autre zone de dessin de la tranche. 9 Appareil d'alignement à échelonnement et répétition, caractérisé en ce qu'il comporte un porte- réticule ( 111) destiné à maintenir un réticule ( 12) pré- sentant un dessin de circuit (A, B, C, D) et un repère d'alignement (P, Q) situés dans des positions relatives prédéterminées, un système optique de projection d'une image du réticule, un porte-tranche ( 110) destiné à main- tenir une tranche ( 13) dans une position o l'image du réticule est formée, un dispositif d'échelonnement destiné à produire des mouvements relatifs entre le porte-réticule et le porte-tranche afin d'exposer séquentiellement et de façon répétée la tranche à l'image du réticule, et des moyens destinés à exposer, pendant au moins une partie- de l'intervalle au cours duquel il ne se produit pas un tel mouvement relatif pour permettre l'exposition d'une partie de la tranche, une zone de la tranche présentant un repère d'alignement destiné à une autre partie de la tranche.