FR 2533547 A1 19840330 FR 8315209 A 19830923 L'invention concerne l'électrodéposition de silicium et d'autres métaux et la production de composés d'hydrures utilisables en solution sous forme de bains aqueux d'électrodéposition. Le silicium élémentaire peut être utilisé comme revêtement dans un certain nombre d'applications diffé- rentes Le silicium constitue un revêtement très efficace résistant à la corrosion, pour les métaux Un revêtement de silicium est utilisé pour l'absorption des photons de l'énergie solaire incidente en produisant de l'électri- cité par des moyens photovoltaiques. Les procédés antérieurs pour le dépôt électro- lytique de silicium sont difficiles et peu commodes à utiliser, car ils peuvent exiger une mise en oeuvre à température élevée ou dans une atmosphère inerte close. Par exemple, un tel procédé est décrit par G Boe, K. Grjotheizn, K Matiasovsky et P Felner, dans l'article "Electrolytic Deposition of Silicon and of Silicon Alloys", Canadian Metallurgical Quatterly, volume 10, N O 4 ( 1971), pages 281-285 Dans ce procédé, de la silice (Si O 2) et de l'alumine (A 1203) sont dissoutes dans de la cryolite 3 Na F 3 Le métal est maintenu à environ 10300 C et il est soumis à une électrolyse Une cathode de cuivre est utilisée et, à des densités de courant choisies, seul du silicium se dépose sur la cathode Il faut travailler à une température élevée, en utilisant des matières fondues. Un autre procédé pour le dép 6 t électrolytique de silicium est décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique NO 3 990 953 Dans ce procédé, du silicium élémentaire est déposé sur une cathode On utilise une composition non aqueuse d'électroplastie comprenant essen- tiellement une solution dans un solvant non aqueux d'un solvant organique bipolaire aprotique liquide anhydre tel que du carbonate de propylène contenant un soluté de silicium tel que du tétrachlorure de silicium ou du trichlorosilane Le dépôt sur le corps cathodique s'effectue par une réduction électrolytique d'un composé 253354 ? d'halogénure de silicium ou de silane haloïde Dans ce procédé, il faut prévoir une composition non aqueuse d'électroplastie, et la réaction est conduite dans un récipient hermétique dans lequel l'espace situé audessus du liquide non aqueux doit être rempli d'un gaz inerte. Bien que l'opération s'effectue à des températures rela- tivement basses, par exemple 20-1000 C, il faut qu'elle se déroule dans une atmosphère fermée hermétiquement. L'invention consiste à combiner du silicium dans une solution aqueuse pour former un bain d'électroplastie constituant une source de silicium, ou bien, en utilisant les mêmes principes, à produire un bain d'électroplastie constituant une source d'autres métaux Ces composés seront appelés hydrures Bien que leur structure ne soit pas totalement comprise à l'heure actuelle, ils consti- tuent le bain d'élèctroplastie souhaité Par conséquent, l'efficacité des concepts décrits dans le présent mémoire ne doit en aucune manière être considérée comme étant affectée dans le cas o l'on finit par déterminer des espèces réactionnelles autres que celles décrites, ou bien par le fait qu'un principe n'est pas totalement compris L'invention concerne un procédé pouvant être appliqué de façon répétitive et qui sera décrit de la façon la plus complète possible à l'heure actuelle. on pense généralement que la présence d'un composé d'hydrure convenant comme substrat pour un dépôt, par exemple, est impossible à obtenir Par exemple, on peut se référer à Douglas M Considine, Editor, "Chemical and Process Technology Encyclopedia" McGraw-Hill, Inc. New York, New York; 1974), dans la description de sili- cium, page 1031 Dans la description des propriétés chimi- ques du silicium, il est indiqué que, "même avec des bases diluées, le Si réagit vigoureusement, produisant du H 2 et formant des silicates alcalins" L'hydrure de silicium est également inattendu sous la forme aqueuse. L'introduction indique également que le Si H 4 et les chlorosilanes sont hydrolysés instantanément avec un agent nucléophile, tel que OH (de l'eau et des bases) Les silicates n'ont pas d'utilité en tant que sources de métal dans un bain aqueux d'électroplastie Par exemple, voir Ralph K Iler, "The Chemistry of Silica", (John Wiley & Sons; New'York, New York; 1979) A la page 123, le chapitre intitulé "The Nature of Silicate Solutions" décrit plusieurs équilibres entre des formes de silicate en solution aqueuse Aucune de ces formes ne peut être reconnue en tant que source de silicium élémentaire dans un bain d'électroplastie. L'invention a donc pour objet un procédé pour l'électrodéposition de silicium sur une cathode, à partir d'un milieu aqueux L'invention a également pour objet l'électrodéposition d'autres métaux à partir d'un milieu aqueux Les procédés du type décrit peuvent être mis en oeuvre commodément en ce qui concerne les contraintes imposées par les constituants, ainsi que par la tempéra- ture et l'atmosphère. L'invention a également pour objet des composés d'hydrures de métaux convenant au procédé d'électrodéposi- tion, et elle a plus particulièrement pour objet un hydrure de silicium ainsi qu'une solution comprenant un hydrure de silicium et pouvant être utilisée comme bain d'électro- plastie. Brièvement décrite, l'invention concerne un procédé dans lequel un métal tel que du silicium est déposé sur un substrat-à partir d'une solution aqueuse d'un -composé d'hydrure Le composé d'hydrure est préparé à partir d'une combinaison, en quantités stoechiométriques, de silicium ou d'un autre métal en réaction avec un hydroxyde de métal alcalin, dans de l'eau Les quantités stoechio- métriques exigent une proportion particulière, en pour- centage molaire, laquelle proportion est une fonction du métal particulier devant être utilisé. Dans une forme de réalisation, un composé d'hydrure de silicium est constitué par la combinaison de silicium, d'hydroxyde de sodium et d'eau, dans la pro- portion de 6:1:10, respectivement, en mole pourcent. Dans une autre forme préférée de réalisation, l'hydrure est associé à l'eau pour former un bain d'électro- plastie. Dans une autre forme de réalisation, un procédé d'électrodéposition d'un métal sur un élément cathodique électriquement conducteur consiste à placer l'élément dans le bain d'électroplastie décrit ci-dessus, et à faire passer un courant d'électroplastie à travers de bain. L'invention sera décrite plus en détail ci- dessous. On a découvert qu'en faisant réagir certains métaux non alcalins dans un milieu aqueux avec un hydroxyde alcalin, on peut produire des solutions stables d'hydrure métallique Il convient de noter que les espèces réaction- nelles précises entrant dans les réactions indiquées ci- dessous n'ont pas été définies totalement, Le terme hydrure tel qu'utilisé dans le présent mémoire désigne un composé produit par les réactions indiquées ci-dessous. Le terme hydrure porte sur des espèces réactionnelles en- trant dans les réactions indépendamment de la structure moléculaire particulière de ces composés et il est-descriptif. Le plus important des métaux à partir desquels on souhaite former un hydrure est le silicium La présence du composé d'hydrure permet le dépÈt électrolytique de silicium à partir d'une solution aqueuse Les exemples décrits ci- dessous confirment l'efficacité en confirmant la présence de silicium dans des revêtements formés sur une cathode, cette présence étant confirmée par une analyse au microscope à balayage électronique "KEVEX". Conformément à la présente invention, un hydrure de métal est formé par réaction d'un métal non alcalin avec un hydroxyde de métal alcalin dans de l'eau Cette réaction donne un hydrure L'hydrure est également désigné dans le présent mémoire composé d'hydrure Ce composé est stable et convient à un dépôt électrolytique ou une électroplastie Le composé est soluble dans l'eau et il peut être dilué pour former une solution aqueuse Enfin, conformément à la présente invention, la solution aqueuse est préparée sous forme de bain d'électroplastie, et -un dépôt électrolytique est formé sur une cathode à l'aide de la solution utilisée comme bain d'électroplaÈtie. Pour produire l'hydrure, le métal, un hydroxyde et de l'eau doivent être utilisés dans des proportions déterminées Il est apparu que la présence des constituants dans des proportions conformes à l'invention permet d'obte- nir un hydrure, une solution de bain d'électroplastie et un procédé d'électroplastie utiles, comme décrit précé- demment En s'écartant des proportions appropriées (ou des conditions appropriées telles qu'indiquées ci-dessous), on obtient une masse qui est sans utilité dans le contexte de la présente description La quantité appropriée de chaque constituant est désignée quantité efficace dans le présent mémoire Suivant les indications données, un" spécialiste de la technique est apte à déterminer s'il a utilisé une quantité efficace Des essais qualitatifs donnent des indications sur une quantité efficace ainsi que sur la présente de constituants dans les proportions stoechiométriques appropriées Par exemple, dans le cas d'un hydrure de silicium, lorsque des constituants sont présents en quantités efficaces, l'hydrure obtenu présente une couleur gris sombre lorsqu'il est préparé à partir de silicium de faible pureté et un aspect pratiquement incolore lorsqu'il est préparé à partir de silicium à haute pureté Si le composé produit à partir de silicium de faible pureté présente un aspect chaud, irisé, analogue à celui d mercure, l'opérateur a, selon toute probabilité produit alors un silicate indésiré au lieu dé l'hydrure souhaité On reconnaît également une quantité efficace si le composé résultant convient à une électrodéposition. Les chiffres donnés ci-dessous indiquent les proportions des quantités efficaces, en mole pourcent Dans -dhaque-cas, la masse moléculaire du constituant est calculée et cette masse, multipliée ou non par une cons- tante, peut être multipliée par la valeur de rapport de la liste suivante pour que l'on obtienne une proportion appropriée. 253354 ? Hydroxyde de sodium H O Métal ou de potassium 2 Silicium 6 1 10 Aluminium 2 1 8 Béryllium 2 1 6 Titane 5 1 10 Zinc 1 1 6 Etain 5 1 10 Les quantités relatives doivent être mesurées avec soin Dans la mesure o il faut tenir compte d'une imprécision, il convient de noter qu'un excédent de métal risque moins de nuire à la réaction q'u'un excédent d'eau ou d'hydroxyde aqueux Dans une autre forme de réalisation (voir l'exemple 12), on souhaite obtenir un excédent de métal. La vitesse de la réaction doit rester contrôla- ble Ceci sera défini plus en détail ci-après Dans le cas d'une réaction incontrôlable, l'eau est éliminée trop rapidement par dessication Dans l'exemple du silicium, un silicate risque de se former en présence d'une trop grande quantité d'eau ou lorsqu'une trop grande quantité d'eau est éliminée La réaction varie suivant le métal et sa forme Par exemple, du silicium élémentaire réagit vio- lemment avec des solutions basiques La température des réactions exothermiques doit être maîtrisée Par ailleurs, il peut être nécessaire d'apporter de la chaleur pour faire réagir le zinc Dans le cas de réactions exothermiques, le métal est additionné à l'eau et l'hydroxyde est addi- tionné de façon progressive sur une certaine période Il peut être ajouté sous la forme de pastilles plutôt que de poudre pour mieux maîtriser la vitesse à laquelle la chaleur est dégagée Dans l'exemple du silicium, il est apparu que du silicium de faible pureté ( 95-98 %) réagit plus fortement Le silicium à haute pureté tend à réagir plus lentement Dans le cas de réactions exothermiques, il est souhaitable de prévoir un refroidissement pour maintenir la température dans la plage de 90-110 'C afin que la réaction reste maltrisable Dans le cas d'une réaction endothermique, un apport de chaleur peut être effectué. La durée de la réaction n'est pas critique Cepen- dant, la réaction doit pouvoir se prolonger jusqu'à ce qu'elle arrive à son aboutissement. Exemple 1 On produit de l'hydrure de silicium en utilisant les constituants suivants, dans les proportions indiquées Masse m Dlé Masse totale culaire Constante de produit. (grames) Proportion arbitraire (gramoes) Si 28 6 11 1848 Na OH 40 1 il 440 H 20 (sous la 18 10 il 1940 forme 2 (H 20)5) La constante arbitraire 11 est simplement un facteur multiplicateur, car l'on souhaite préparer davan- tage que la quantité obtenue avec une mole de chaque cons- tituant Le silicium métallique est placé dans un récipient de réaction de 6 litres et de l'eau est ajoutée De l'hydroxyde de sodium est ajouté sous la forme de pastilles lentement pendant une heure La durée de la réaction exo- thermique pour passer de la température ambiante à la température maximale et revenir à la température ambiante est d'environ 6 heures La température atteinte est de 1100 C Le produit obtenu est très dense La densité est difficile à mesurer et elle est probablement de l'ordre de 1,8-2,0;. Exemple 2 Le produit de l'exemple 1 est dilué à une densité de 1,3, avec de l'eau Cette solution d'hydrure-produite constitue un bain d'électroplastie. Exemple 3 On prépare une solution d'hydrure de zinc de la manière suivante: -Masse m Dlé Masse totale culaire Constante de produit {g(mtes) Proportion arbitraire (grammes) Zn 65 1 6 390 Na OH 40 1 6 240 H O (sous la 18 -6 6 648 forme 2 (H 2 O)5) On place le zinc dans un flacon de 2 litres et on ajoute de l'eau Des flocons de zinc sont utilisés. On ajoute de l'hydroxyde de sodium pendant une heure De la chaleur est fournie à la réaction, car le zinc réagit moins que le silicium dans un milieu alcalin La tempéra- ture de la réaction s'établit à une moyenne de 80 'C La réaction se poursuit pendant 48 heures A la fin des 48 heures, la solution devrait contenir environ 2 % de zinc Le composé d'hydrure peut être utilisé pour un dépât électrolytique. Exemple 4 On utilise des constituants analogues à ceux de l'exemple 1 Cependant, le silicium est utilisé sous la forme de morceaux de haute pureté, affinés par zones, d'un diamètre de 38-50 mm Le silicium est placé dans un flacon de 6 litres et de l'eau est ajoutée De la glace est utilisée pour refroidir la réaction De l'hydroxyde de sodium est ajouté petit à petit sur une période d'une heure La température de réaction est maintenue à environ 250 C On arrête ensuite le refroidissement et on laisse la réaction se dérouler sans intervention La réaction commence à devenir exothermique environ 4 heures plus tard et à devenir encore plus exothermique 2 heures plus tard Au bout d'une autre heure, la réaction ralentit. La solution apparaît comme étant relativement dense La réaction s'arrête 6 heures après avoir commencé On obtient une solution claire et incolore ayant une densité d'en- viron 1,5. Exemple 5 On produit une solution de silicium en utilisant de l'hydroxyde de potassium: Masse Molé Masse totale culaire Constante de produit (grammes) Proportion arbitraire (grammes) Si 28 6 8 1344 KOH 56 1 8 448 H 20 (sous la 18 10 8 1440 forme 2 (H 20)5) Comme précédemment, on place le silicium dans un récipient de réaction et on ajoute de l'eau On ajoute de l'hydroxyde de potassium sur une période d':une heure. La réaction passe de la température ambiante à une tempé- rature maximale et revient à la température ambiante en heures environ La température maximale atteinte est de 105 C La vitesse de réaction du silicium diminue len- tement après le passage de la réaction par la pointe de température et la densité du produit augmente. Exemple 6 Masse molé- culaire (qraums) Masse totale Constante de produit Prportion arbitraire (grammes) Al 27 2 3 324 Na OH 40 1 6 240 H 20 (sous la 18 8 6 864 la forme 2 (H 20)') On ajoute H 20 à l'aluminium dans un flacon de 2 litres On ajoute des pastilles d'hydroxyde de sodium. Lorsque l'addition des pastilles est finie, la réaction devient violemment exothermique, dégageant de la vapeur d'eau La réaction commence à ralentir d'elle-même environ minutes plus tard. O Exemple 7 Masse m Dlé Masse totale culaire Constante de prociuit (gramms) Proportion arbitraire s) Sn 119 5 2 1190 Na OH 40 1 2 380 H 2 O 18 10 2 360 La réaction de l'étain est similaire à celle du zinc par le fait que de la chaleur doit être fournie pour maintenir une bonne vitesse de réaction La durée de la réaction est de 48 heures Elle peut être accrue suivant le pourcentage d'étain qu'il faut mettre en solution. Exemple 8 On utilise une combinaison de composés d'hydrures provenant de l'exemple 2 et de l'exemple 3 pour préparer un bain d'électroplastie On associe 100 ml de la solution de l'exemple 2 a 100 ml d'eau et 100 ml de la solution de l'exemple 3 On constitue un bain d'électrodéposition ou d'électroplastie avec une anode de zinc et un boulon en acier au carbone constituant la cathode Le boulon est nettoyé dans une solution de H Cl à 25 % pendant 15 minutes puis il est rincé à l'eau avant d'être connecte en tant que cathode La solution d'hydrure de silicium est mélangée à de l'eau, puis la solution d'hydrure de zinc est ajoutée. Cette solution constitue le bain d'électrodéposition Un courant d'un ampère est appliqué au bain pendant 5 minutes. Exemple 9 On produit un bain d'électrodéposition en utili- sant 100 cm 3 de la solution de l'exemple 4, 100 cm 3 d'eau et 25 cm 3 de la solution de l'exemple 3 L'ensemble cons- titue un électrolyte Une anode en zinc et une cathode en cuivre sont branchées dans le bain d'électrodéposition avec un conducteurpour dépôt électrolytique Il est apparu qu'en chauffant l'électrolyte, on réduit sensiblement la résistance et on obtient une électrodéposition plus efficace Les taux de dilution affectent également la vitesse de formation du dépôt électrolytique. 253354 ? Il convient de noter que la viscosité de l'électrolyte affecte la conductivité Cette dernière augmente avec la dilution ou par l'application de chaleur. Exemple 10 On prépare un bain d'électrodéposition ou d'électroplastie en utilisant 100 ml de la solution pré- parée dans l'exemple 1, 100 ml d'eau et 100 ml de l'hydrure conforme à l'exemple 3 Les trois-liquides sont associés pour former un bain d'électrodéposition Une cathode de laiton et une anode d'étain sont utilisées Le laiton est préparé par nettoyage à l'aide d'un produit de nettoyage du laiton Un courant d'électrodéposition d'un ampère sous 3 volts est appliqué pendant environ une minute. Exemple il On produit un bain d'électrodéposition en utili- sant une solution de nickel associée à des quantités égales d'eau Deux anodes en-nickel sont utilisées pour obtenir une meilleure couverture du substrat et on utilise une cathode d'acier Un courant d'un ampère est appliqué sous 5 volts pendant une demi-heure. Exemple 12 On produit également un hydrure comprenant deux métaux Dans cet exemple, les constituants suivants sont utilisés Masse nolé Masse totale culaire Constante de produit (grammes) Proportion arbitraire (grammes) Si 28 6 il Zn 65 1 il Na OH 40 1 il H 20 (sous la 18 10 il 1980 la forme 2 (H 20)5) Le silicium et le zinc métalliques sont placés dans un récipient de réaction et de l'eau est ajoutée. De l'hydroxyde de sodium est ajouté pendant une demi- heure La réaction se poursuit pendant 8 heures Le composé obtenu est retiré et filtré Il constitue un concentré pour un bain d'électrodéposition. Dans cet exemple, les quantités efficaces d'un composé de silicium sont utilisées, et un excédent de zinc est produit L'hydrure résultant est un hydrure partielle- ment de zinc et partiellement de silicium. E Exemple 13 On produit également un hydrure en utilisant un acide Dans cet exemple, on utilise comme métal du nickel: Masse molé Masse totale culaire Constante de produit (grammes) Proportion arbitraire (granmnes) Ni 59 5 3 885 Na OH 40 1 3 120 H 3 PO 4 -98 3 3 882 Le H 3 P 04 est produit à une densité de 1,689. Par conséquent, 522 ml d'acide phosphorique sont nécessaires. De plus, 882 g d'eau sont associés à l'acide phosphorique. Le nickel est placé dans un flacon de 2 litres et la solution d'acide phosphorique est ajoutée L'hydroxyde de sodium est associé lentement, et de la chaleur est fournie La température est maintenue à environ 85 C. Comme décrit précédemment, chacun des hydrures peut être utilisé en tant que bain d'électrodéposition, peut être dissous dans de l'eau pour former un bain d'électrodéposition et peut être associé à d'autres hydrures en solution Suivant des facteurs d'épaisseur, de temps et autres, on peut faire varier la température ou la dilu- tion L'électrodéposition n'a pas lieu si une quantité inefficace de constituant est utilisée, car le bain d'hydrure n'est pas obtenu La formation d'un dépôt apparaît de façon évidente, ce qui permet au spécialiste de savoir s'il a vraiment obtenu les proportions appropriées en produisant les bains d'hydrures souhaités Cette des- cription laisse au spécialiste la possibilité de procéder à de nombreuses modifications pour produire des hydrures, des bains d'électrodéposition et des procédés d'électro- déposition sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1 Composé d'hydrure de silicium, caractérisé en ce qu'il est obtenu par la combinaison de silicium, d'hydroxyde de sodium et d'eau dans la proportion de 6:1:10, respectivement, en mole pourcent. 2 Procédé de préparation d'un composé d'hydrure de silicium, caractérisé en ce qu'il consiste à utiliser du silicium, de l'hydroxyde de sodium et de l'eau dans la proportion de 6:1:10, en mole pourcent, à combiner le silicium et l'eau, à ajouter l'hydroxyde de sodium pro- gressivement pour empêcher tout échauffement excessif, et à permettre à la réaction de s'accomplir. 3 Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'étape consistant à utiliser du silicium consiste à utiliser des morceaux de silicium à haute: pureté, d'un diamètre de 38 à 50 mm, l'étape consistant à ajouter de l'hydroxyde de sodium consiste à ajouter petit à petit de l'hydroxyde de sodium pendant une heure, et en outre à procéder à un refroidissement pendant l'addi- tion de l'hydroxyde de sodium. 4 Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'utilisation de silicium consiste à ajouter du silicium à basse pureté, ayant une pureté dans la plage d'environ 95-98 %O 5 Composé d'hydrure de métal, caractérisé en ce qu'il est obtenu par la combinaison, en quantités efficaces, d'un métal,,,dlun hydroxyde alcalin et d'eau dans une proportion efficace. 6 Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend du silicium, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de 6:1:10, respectivement, en mole pourcent. 7 Composé selon la revendication 6, caractérisé en ce que le métal comprend du silicium, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de potassium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont utilisés dans la proportion de 6:1:10, respectivement, en mole pourcent. 253354 v 8 Composé selon la revendication 5, caracté- risé en ce que le métal comprend de l'aluminium, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de 2:1:8, respectivement, en mole pourcent. 9 Composé selon la revendication 6, caractérisé en ce que le métal comprend de l'aluminium, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de potassium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont utilisés dans la proportion de 2:1:8, respectivement, en mole pourcent. Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend du béryllium, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de 2:1:6, respectivement, en mole pourcent. 11 Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend du magnésium, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de 5:1:6, respectivement, en mole pourcent. 12 Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend du titane, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de :1:10, respectivement, en mole pourcent. 13 Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend du zinc, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de 1:1:6, respectivementr en mole pourcent. 14 Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend de l'étain, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium et en ce que le métal, l'hydroxyde et l'eau sont combinés dans la proportion de 5:1:10, respectivement, en mole pourcent. Composé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le métal comprend un premier métal et un second métal en excès d'une quantité efficace. 16 Composé selon la revendication 15, caracté- risé en ce que le métal comprend un premier métal en une quantité efficace et un excédent d'un second métal. 17 Composé selon la revendication 16, caracté- risé en ce qu'il comprend une quantité efficace de sili cium et un excédent de zinc. 18 Composé selon la revendication 17, caràcté- risé en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de- sodium et en ce que le silicium, le zinc, l'hydroxyde et l'eau sont utilisés dans la proportion de 6:1:1:10, respectivement, en mole pourcent. 19 Composé selon la revendication 5, caracté- risé en ce que le métal comprend du nickel, en ce que l'hydroxyde comprend de l'hydroxyde de sodium, en ce que du H 3 P 04 est en outre utilisé en solution aqueuse et en ce que le métal, l'hydroxyde et H 3 P 04 sont utilisés dans la proportion de 5:1:3, respectivement, en mole pourcent. Application du composé selon la reyendication 5 dans laquellele métal est le silicium, caractérisée par l'élec- trodéposition du silicium sur un élément cathodique électrique- ment conducteur, cette électrodéposition s'effectuant en plaçant l'élément dans un bain comprenant une solution dudit composé et en faisant passer un courant d'électrodéposition à travers cette solution. 21 Application du composé selon la revendication 5, caractérisée par l'électrodéposition du métal qu'il contient sur un élément cathodique électriquement conducteur, selon laquelle on place l'élément dans un bain comprenant une solution dudit composé et on fait passer un courant d'électro- déposition à travers ce bain. 22 Applica-iorn selon la revendication 21, caracté- risée en ce que la solution d'électrodéposition dudit composé ts une Is orn aqueuse Go Dttue en comrbinant du silicium, un hydroxyde de métal alcalin et de l'eau dans la proportion de 6:1:10 en mole nourcent. 23 Application selon la revendication 21, caracté- riséeen ce que la solution d'électrodéposition dudit composé comprend une solution aqueuse préparée par combinaison d'alu- minium, d'un hydroxyde de métal alcalin et d'eau dahs la proportion de 2:1:8, en mole pnurcent. 24 Application selon la revendication 21, caracté- risé en ce que l'étape consistant à placer l'élément dans un bain comprenant une solution dudit composé consiste à placer ledit élément dans une solution contenant plusieurs desdits composés. Application selon la revendication 21, caract 6- riséeen ce que l'étape consistant à placer l'élément dans une solution comprend la mise en place de l'élément dans une so- lution d'un composé d'hydrure de silicium et un composé d'hydrure de zinc. 26 Application du composé de la revendication 5 à l'électrodé- position, caractérisée en ce qu'elle consiste à effectuer cette électro- déposition à l'aide d'une solution aqueuse d'un composé d'hydrure de métal formé par la combinaison, en quantités efficaces, d'un métal, 'a'un hydro- xyde alcalin et d'eau, dans une proportion efficace. 27 Application selon la revendication 26, caractérisée en ce qu'un élément est placé dans un bain comprenant une solution de composé d'électro- déposition, ce composé comprenant le produit de la réaction, en quantités stoechiométriques, de silicium avec un hydroxyde de métal alcalin. 28 Application selon la revendication 27, caractérisée en ce que ledit composé a été obtenu par la combinaison de silicium, d hydroxyde de sodium et d'eau dans la proportion de 6:1:10, respectivement, en mole pourcent. 29 Application selon la revendication 26, caractériséeen ce que la solution d'électrodéposition contient plusieurs composés d'hydrures de métaux. Application selon la revendication 29, a T érs Lrs Ee cn ce qje lesdits plusieurs composés d'hydrures de métaux comprennent le composé d'hydrure de zinc et le composé de l'hydrure de silicium.