FR 2501943 A1 19820917 FR 8105136 A 19810313 I DISPOSITIF PHOTOSENSIBLE SOLIDE A DEUX DIMENSIONS ET DISPOSITIF D'ANALYSE D'IMAGE, UTILISANT LE TRANSFERT DE CHARGES ELECTRIQUES, COMPORTANT UN TEL DISPOSITIF La présente invention se rapporte au domaine de l'analyse électrique d'images lumineuses utilisant le transfert de charges dans un semiconducteur. Elle concerne plus particulièrement un dispositif photosensible solide à deux dimensions et un dispositif d'analyse d'images mettant en oeuvre ce dispositif photosensible. On connaît différents dispositifs à l'état solide pour l'analyse d'une image lumineuse, qui sont destinés à être utilisés dans une caméra de télévision pour fournir un signal électrique vidéo. Ils se distinguent par le mode de réalisation de la zone photosensible d'une part, et le système de lecture et d'évacuation des charges créées par l'image, d'autre part. Il est également connu d'utiliser des dispositifs à transfert de charges pour réaliser ces différentes fonctions, comme il est décrit par exemple dans l'ouvrage de SEQUIN et TOMPSETT, intitulé: "Charge transfer devices", (pages 152 à 169): - dans des organisations dites "à transfert de trame" ou "à structure interligne", dans lesquelles le rayonnement lumineux est reçu sur des registres à transfert de charges; dans ces dispositifs, le transfert de charges est réalisé sur de grandes surfaces, ce qui constitue un inconvénient du fait qu'il est actuellement difficile d'obtenir des rendements élevés pour la fabrication de ces grandes surfaces; - dans des dispositifs dits "CID" (pour "Charge Injection Devices") qui ne présentent pas cet inconvénient mais qui néces- sitent en général une réinjection des charges dans le substrat semiconducteur, ce qui présente un certain nombre d'inconvénients, parmi lesquels du bruit ou des difficultés au niveau des valeurs des capacités nécessaires pendant ou après la lecture des charges. Plus généralement, en sus des problèmes évoqués ci-dessus, se 2 5 0 1 9 4 3 pose la question de la compatibilité d'une part des temps nécessaires à l'intégration lumineuse et d'autre part des temps nécessaires au transfert des charges, dans le cas o cette solution est retenue, avec les temps de balayage de l'écran de télévision qui sont, selon le standard 625 lignes habituel, environ de 52 ps pour le temps d'affi- chage d'une ligne et de 12 Us pour le temps de retour ligne. Pour répondre à ces différents impératifs, la Demanderesse a proposé une structure dite "à transfert de ligne", décrite dans la demande de brevet français n0 80-08112, qui comporte princi- paiement: - une matrice de N lignes x M zones, ou points, photosensibles, matrice sur laquelle une image à lire est projetée et convertie en charges électriques; - une mémoire de M points, dite mémoire de ligne, destinée à recevoir successivement les charges signal stockées par chaque ligne; - un registre à décalage du type CCD (pour "Charge Coupled Devîces"), recevant en parallèle le contenu de la mémoire de ligne et délivrant en série le signal électrique d'analyse de l'image. La présente invention a pour objet un dispositif photosensible à deux dimensions, particulièrement adapté à la réalisation de la matrice décrite ci-dessus. A cet effet, le dispositif selon l'invention reçoit une image lumineuse et fournit des signaux électriques d'analyse de cette image, et comporte: une pluralité de zones élémentaires photosensibles, réalisées sur un même substrat semiconducteur N lignes et M colonnes et isolées les unes des autres, dans lesquelles sont créées des charges électriques en fonction de Péclairement reçu, chacune de ces zones élémentaires comportant une capacité MOS, constituant une pre- mière zone de collection de charges, comportant une grille com- mune aux capacités d'une même ligne, et une seconde zone de collection de charges, électriquement couplée à la capacité; - des moyens de connexion et de commande, assurant la 2 5 0 1 9 4 3 fourniture en parallèle des charges électriques créées dans les M zones photosensibles d'une même ligne, successivement pour les N lignes, ces moyens comportant une pluralité de diodes de lecture, arrangées en colonnes entre les zones photosensibles élémentaires, S de façon à recevoir chacune, successivement, sur commande les charges d'au moins deux zones élémentaires appartenant à deux lignes différentes; - des moyens formant écran pour les charges, placés entre chacune des zones photosensibles et les moyens de connexion, ces 1o moyens écran portant une pluralité de grilles, portées à un potentiel constant, arrangées en colonnes entre les diodes de lecture et les zones photosensibles. L'invention a également pour objet un dispositif d'analyse d'image comportant un tel dispositif photosensible. L'invention est décrite, à titre d'exemple non limitatif, plus en détails dans ce qui suit à l'aide des figures annexées, qui repré- sentent: - la figure 1, l'organisation générale d'une structure à transfert de ligne; - la figure 2, un premier mode de réalisation du dispositif photosensible'selon l'invention; - la figure 3, une première coupe du dispositif de la figure 2; - la figure 4, une deuxième coupe du dispositif de la figure 2; - la figure 5, une variante du dispositif représenté figure 2; - la figure 6, une autre variante du dispositif de la figure 2; - la figure 7, un deuxième mode de réalisation du dispositif selon l'invention; - la figure 8, une première coupe du dispositif représenté figure 7; - la figure 9, une variante du dispositif représenté figure 7, vue en coupe; - la figure 10, une autre variante du dispositif représenté figure 7; - la figure 11, une vue en coupe du dispositif de la figure 10; 2 5 0 1 9 4 3 - la figure 12, un troisième mode de réalisation du dispositif selon l'invention. Sur ces différentes figures, les mêmes références se rap- portent aux mêmes éléments. La figure 1 représente donc l'organisation générale d'une structure à transfert de lignes, telle que décrite dans la demande de brevet français précitée. Cette structure comporte principalement une zone photo- sensible 11, une mémoire de ligne 12 et un registre à décalage 13, du lu type CCD. La zone photosensible reçoit l'image lumineuse à analyser et la transforme en charges électriques. Il est à noter qu'on vise ici par image lumineuse la détection non seulement des longueurs d'onde visibles mais également de celles qui les entourent, notamment dans l'infrarouge. La zone photosensible est constituée par un ensemble de zones élémentaires 15, également appelées ci-dessous points, arrangées en N lignes, repérées L1, L2...LN, et M colonnes, repérées CI, C2..CMI Les points photosensibles d'une même ligne sont reliés entre eux et reliés à un dispositif de commande 14 permettant d'adresser les lignes les unes après les autres, ce dispositif étant constitué par exemple par un registre à décalage du type MOS. Les points photosensibles 11 d'une même colonne sont reliés à une même connexion vers la mémoire de ligne 12. La mémoire de ligne 12 reçoit donc en parallèle les charges créées dans chacun des points photosensibles 15 d'une même ligne, puis elle les transfère également en parallèle vers le registre 13, qui est un registre à décalage et qui fournit donc l'information en mode série, information qui constitue le signal vidéo d'analyse de l'image optique reçue sur la zone photosensible 11. L'enchaînement des différentes opérations d'intégration de l'image au niveau de la zone photosensible 11, du transfert des lignes dans la mémoire de ligne, puis du transfert des signaux dans le registre 13, pour les différentes lignes, est maintenant décrit. Tout d'abord, il est à noter que l'intégration de l'image est 2 5 0 1 9 4 3 réalisée en permanence sur la totalité de la zone photosensible 11, sauf sur celle des lignes qui est adressée par le registre 14. Pendant le temps de retour ligne, le contenu de la mémoire de ligne 12 est transféré dans le registre à décalage 13, l'entrée de la mémoire de ligne étant alors fermée. Pendant le temps ligne qui suit, le contenu du registre 13 est évacué en série, la connexion entre la mémoire de ligne 12 et le registre 13 est interrompue; il se produit dans une première phase une remise à niveau des moyens de lecture des points 15, par l'intermédiaire de la connexion repérée RAN sur la figure 1, reliée à la mémoire de ligne 12, et dans une deuxième phase, on opère le transfert de l'une des lignes L de la zone Il vers la mémoire de ligne 12, la sélection (ou "adressage") d'une ligne étant assurée par le registre 14. L'étape suivante correspond au temps de retour ligne pendant lequel s'opère le déversement du contenu de la mémoire de ligne 12 dans le registre 13, celui-ci ayant été entièrement lu lors de l'étape précédente. Dans un autre mode de réalisation, la sélection d'une ligne, son transfert dans la mémoire de ligne puis dans le registre à décalage s'effectuent entièrement pendant le temps de retour ligne, le temps de ligne étant réservé à la remise à niveau des moyens de lecture, qui est d'autant meilleure qu'elle est plus longue, et à l'évacuation en série du registre à décalage. La figure 2 représente un premier mode de réalisation du dispositif photosensible selon l'invention. Sur cette figure, on a représenté, déposées sur un substrat semiconducteur, silicium par exemple, recouvert d'une couche iso- lante, par exemple oxyde de silicium, plusieurs dépôts conducteurs, appelés ci-dessous comme les autres dépôts conducteurs électrodes ou grilles, métalliques éventuellement semi-transparents ou en sili- cium polycristallin, parallèles, représentant les lignes L (Li-, Li1- Li sur la figure) du dispositif selon l'invention, et constituant avec le substrat semiconducteur et l'isolant, des capacités MOS photo- détectrices. Ces grilles présentent des encoches sensiblement en 2 5 0 1 9 4 3 forme d'arcs de cercle, repérées 16 sur la figure, situées alterna- tivement d'un côté et de l'autre de chacune des lignes, les encoches de deux lignes adjacentes se faisant face. Selon les colonnes C du dispositif (C(i-Il Ci' C2+1, Ci+2 sur la figure),sont placées des électrodes, ou grilles 4, portées à un potentiel constant, qui cons- tituent un écran pour les charges, selon un processus décrit plus en détails ci-dessous; chacune des grilles écran 4 est en forme de bande et présente des élargissements 17, sensiblement circulaires, au niveau des encoches 16 et les recouvrant. Les différentes lignes L, matérialisées par les grilles 3, et colonnes C, matérialisées par les grilles 4, sont séparées les unes des autres par deux séries de barrières d'isolement 1, représentées sur la figure en doubles traits, respectivement parallèles aux lignes et aux colonnes; cet isolement s'interrompt au niveau des élargis- sements 17. Chacune des barrières d'isolement 1 peut être réalisée soit par une surépaisseur d'oxyde, soit par un surdopage du substrat du même type de conductivité que celui-ci (par exemple surdopage P+ pour un substrat P), soit par un cumul des deux solutions, le surdopage intervenant sous la surépaisseur d'oxyde. Le quadrilatère formé par l'intersection des barrières d'isolement 1 constitue un point photosensible dont la capacité est déterminée par la portion de grilles 3 de couche isolante 22 et de substrat 21 entre deux barrières d'isolement 1. A titre d'exemple, l'un de ces points, repéré 20 sur la figure, à l'intersection de la ligne Li et de la colonne Ci, a été souligné en trait épais. Les grilles 4 présentent une ouverture 18 au centre des élar- gissements circulaires 17, dans chacune desquelles est réalisée par dopage par exemple une diode 5 qui constitue la diode de lecture du point photosensible considéré. Il est à noter que, dans le mode de réalisation décrit sur la figure 2, les diodes. de lecture 5 sont communes à deux points photosensibles et sont disposées en quin- conce, d'une colonne à l'autre. Enfin, représentée en pointillés sur la figure, est déposée une électrode 7 par colonne, sensiblement en forme de bande, au-dessus 2 5 0 1 9 4 3 des diodes de lecture 5, et présentant une zone de contact 6 avec les diodes 5, figurées au centre de ces diodes. Cette électrode a la double fonction de réaliser la connexion électrique des diodes d'une même colonne et de constituer un écran opaque aux rayonnements lumineux qui seraient susceptibles de créer des charges parasites dans les diodes de lecture 5. La figure 3 illustre une vue en coupe faite selon une ligne AA dans le point photosensible 20, la ligne de coupe passant à la fois par la grille 3, la grille 4, la diode 5, la métallisation 7 et son point de contact 6 avec la diode 5, et les barrières d'isolement 1. Sur cette figure 3, la structure du dispositif de la figure 2 apparaît plus clairement: il est réalisé dans un substrat semi- conducteur 21 deux barrières d'isolement I verticales, par exemple par surdopage (zones 31) dans l'exemple représenté, et une diode de lecture 5 au centre du point photosensible, réalisée également par dopage du substrat. Le substrat est recouvert d'une couche iso- lante 22. Sur la couche 22 est déposée la grille des capacités MOS 3 recouvrant les barrières d'isolement I et laissant une ouverture 16 au milieu de la figure 3. La grille écran 4 est placée sur la couche isolante 22 à la périphérie de l'ouverture 16, et s'étend au-dessus de la grille 3, séparée de cette dernière bien entendu par une couche d'isolant, non représentée sur cette figure pour la clarté du dessin. La grille écran 4 laisse une ouverture 18 en son centre, permettant à la connexion 7 de venir, à travers l'ouverture 6 de l'isolant 22, en contact électrique avec la diode de lecture 5; l'électrode 7 recouvre à la fois une partie de l'isolant 22 et une partie de la grille écran 4, bien entendu par l'intermédiaire d'une couche isolante entre les grilles 4 et 7, non représentée sur le schéma de la figure 3. Dans ce mode de réalisation, le dispositif comporte en outre des photodiodes 8, réalisées par dopage du substrat semiconducteur et placées, comme représenté sur la figure 2, dans des ouvertures 19 des grilles des capacités MOS 3, ces diodes 8 étant placées à cheval sur chacune des colonnes d'isolement 1, pour chacun des points photosensibles élémentaires tels que 20, ce qui veut dire que chaque 250 1943 point photosensible comporte deux demi-diodes 8. Dans une variante de réalisation non représentée, la zone occupée par les photo- diodes 8 n'est pas limitée à la surface représentée sur la figure 2, mais étendue à toute la surface occupée par les grilles 3 afin d'améliorer le couplage capacité-diode. Dans une autre variante représentée sur la figure 5, o on retrouve à part les photodiodes 8 les mêmes éléments que sur la figure 2 pour deux points photo- sensibles, les diodes 8 sont alors placées entre les grilles 3 et les barrières d'isolement 1, qui doivent dans ce cas être réalisées par une surépaisseur d'oxyde afin de permettre la réalisation des diodes par autopositionnement des diffusions par rapport à cet isolement d'une part, et aux grilles 3 et 4 d'autre part. Dans ce dernier cas, chacun des points photosensibles comporte quatre photodiodes 8. Le fonctionnement du dispositif représenté sur les figures 2 et 3 sera plus clairement expliqué à l'aide du profil du potentiel de surface qui est représenté sous la coupe de la figure 3. Sur ce diagramme, les potentiels son représentés croissants vers le bas du schéma, ce qui correspond au fait que, appliqués sur une électrode, ils créent un puits de potentiel permettant dempri- sonner des charges. Lorsqu'une ligne n'est pas adressée par le registre 14 de la figure 1, son potentiel est à une valeur donnée représentée par la ligne 23 sur le schéma de la figure 3, au droit de la grille de la capacité MOS 3, limité de part et d'autre par des potentiels plus faibles: un potentiel représenté par une ligne 27, correspondant aux barrières d'isolement 1, et un potentiel VE constant appliqué à la grille écran 4, dont la valeur est choisie plus faible que la valeur appliquée à la grille.3 de façon à former un puits de potentiel sous la grille 3, dans lequel les charges créées par l'éclairement peuvent être stockées (zone hachurée sur la figure). Au centre du schéma, au droit de l'électrode 7, le potentiel est, avant la lecture du point photosensible considéré, ramené à une valeur donnée illustrée par le niveau 25 par les moyens de remise à niveau schématisés sur la figure 1, la valeur de ce potentiel devant être plus élevé que le 2 5 0 1 9 4 3 potentiel VE afin qu'il n'y ait pas invasion par des charges parasites des puits de potentiel situés au droit des grilles 3. Lorsque le point photosensible considéré est, en même temps que tous les points photosensibles de la ligne à laquelle il appartient, sélectionné par le registre 14, le potentiel qui est appliqué à la grille 3 est ramené à une valeur proche de zéro, ce qui est illustré par la ligne 26 sur la figure 3: ce potentiel étant alors inférieur à VE, les charges accu- mulées lors de la phase précédente sont donc déversées dans la zone centrale pour être évacuées par la connexion 7, comme indiqué par une flèche sur la figure 3. Il ressort de ce qui précède que, lorsque la ligne n'est pas adressée par le registre 14, les charges créées par l'éclairement s'accumulent dans le puits 23 au droit de l'électrode 3, pendant que s'effectue une remise à niveau du potentiel des diodes de lec- ture 5; lorsque la ligne est sélectionnée, les charges précédemment accumulées se déversent sur les connexions 7 et le dispositif fournit alors en parallèle les charges correspondant à l'éclairement reçu sur la ligne considérée. La figure 4 représente une coupe du dispositif représenté figure 2, faite parallèlement à la coupe AA précédente, mais au niveau des photodiodes 8 selon la ligne BB représentée sur la fi- gure 2. Sur cette figure, on retrouve le substrat semiconducteur 21 recouvert d'une couche d'isolant 22. Sur la couche 22 est déposée la grille 3 qui comporte deux ouvertures 19 au droit des photodiodes 8 réalisées par dopage du substrat 21. A titre d'exemple, les barrières d'isolement verticales 1 ont été représentées sur cette figure selon un autre mode de réalisation possible, à savoir une surépaisseur 42 d'isolant, la surépaisseur s'étendant à la fois dans le substrat 21 et au-dessus du reste de la surface isolante 22. L'isolation 1 peut être renforcée par un sur- dopage 41 réalisé dans le substrat sous la surépaisseur d'oxyde, ce surdopage étant analogue au surdopage 31 de la figure 3. Au-dessus de la grille 3, on trouve la grille écran 4 et enfin l'électrode de 0 1 9 4 3 colonne 7, ces différentes électrodes étant séparées les unes des autres par des couches d'isolant non représentées. La structure de la figure 2 réalise donc l'association, au niveau de chaque point photosensible, d'une capacité MOS (substrat 21, isolant 22 et électrode 3) constituant une première zone de col- lection de charges, avec une seconde zone de collection de charges, dans laquelle on a réalisé dans ce mode de réalisation une photo- diode 8. En effet, la capacité MOS a une capacité de stockage des charges grande et permet ainsi d'obtenir une bonne dynamique pour chaque point photosensible; la seconde zone de collection des charges permet de s'affranchir de l'absorption des faibles longueurs d'onde qui se produit dans la grille de la capacité; de plus, la diode 8 réalisée dans cette zone de collection, non obligatoire pour le fonctionnement du dispositif, permet d'accroître la sensibilité de la zone photosensible. En outre, les diodes de lecture placées en quinconce permettent d'uniformiser la résolution verticale. De- plus, l'électrode de colonne 7 qui collecte les charges repose sur une grille écran (4), portée à un potentiel fixe, qui l'isole de toute influence parasite. Par ailleurs, les colonnes collectrices (diodes 5 et élec- trode 7) sont placées au centre des points photosensibles, ce qui permet d'éviter le défaut de moiré. La figure 6 représente une autre variante du dispositif de la figure 2, dans laquelle la colonne de collection des charges ne passe plus au milieu de points photosensibles mais sur ses bords. Sur cette figure 6, on retrouve donc les grilles 3 des capa- cités MOS, en bandes parallèles, présentant des encoches 16 dans lesquelles sont placées des diodes de lecture 5, disposées en lignes et en colonnes, en quinconce comme précédemment. Les grilles écran 4 sont également placées comme sur les figures précédentes. Les zones de collection des charges, constituées par les photodiodes 8, sont placées maintenant de part et d'autre des grilles 3. Comme précédemment, et comme dans les variantes et modes de réalisation décrits ci-après, les diodes 8 peuvent s'étendre sous la grille 3 afin d'améliorer le couplage capacitésdiodes. Les grilles 3 sont encore il isolées les unes des autres par des barrières horizontales 1, et les points photosensibles sont isolés verticalement les uns des autres par une barrière d'isolement repérée 61 qui est maintenant placée sur le même alignement que les diodes de lecture 5, et faisant le tour de celles-ci, par exemple vers la droite sur le schéma. Chaque zone photosensible est maintenant définie par la partie de la grille 3 limitée par deux grilles écran 4 successives et deux photodiodes 8; un tel point photosensible est représenté sur la figure par un trait fort et repéré 30. Ce point photosensible 30 fournit, lors de sa lecture, ses charges à une diode de lecture 5 adjacente dont il n'est pas séparé par une barrière d'isolement 61, comme représenté par une flèche 62 sur la figure. Le dispositif représenté sur la figure 6 comporte en outre des connexions colonnes permettant à la fois de réunir électriquement entre elles les diodes collectrices 5 d'une même colonne et de former écran opaque, comme dans le cas de la figure précédente, ces connexions n'ayant pas été représentées pour une plus grande clarté du dessin. Dans une variante non représentée de cette figure, la zone diode de chaque point photosensible, au lieu d'être divisée en deux parties de part et d'autre de la grille 3, peut être réalisée dans une ouverture pratiquée au centre de cette grille, et/ou s'étendre sous cette dernière. Cette configuration décrite figure 6 est particulièrement inté- ressante dans le cas o le dispositif photosensible selon l'invention est appliqué à l'analyse d'images en couleurs: en effet, dans ce cas, le phénomène de moiré est, ainsi qu'il est connu, lié à la présence de filtres colorés sur les points photosensibles; il est alors préférable de placer les zones de collection des charges, qui sont opaques, en bordure des points afin d'autoriser un recouvrement éventuel des filtres de points adjacents, c'est-à-dire une plus grande tolérance dans leur dimensionnement. La figure 7 représente un deuxième mode de réalisation du dispositif suivant l'invention dans lequel les géométries ont été 2 5 0 1 9 4 3 simplifiées afin de permettre des dimensions plus petites et, donc, la réalisation d'une zone photosensible de plus haute résolution. Le dispositif représenté sur la figure 7, dont on donne figure 8 une vue en coupe selon une ligne CC, comporte des capacités MOS constituées par des bandes conductrices 37 rectangulaires, sans encoches contrairement aux modes de réalisation précédents, dépo- sées sur le substrat semiconducteur 21 recouvert d'une couche d'isolant 22; ces grilles sont séparées les unes des autres par des barrières d'isolement horizontales 1, réalisées par surépaisseur d'iso- lant, renforcée éventuellement de surdopage comme décrit ci- dessus. Le dispositif comporte encore des bandes d'isolement 1 verticales limitant les colonnes (Ci, CI-L sur la figure). Au milieu de chacune des zones limitées par les bandes d'isolement, est réalisée une diode 57, par diffusion dans le substrat 21, s'étendant sur toute la longueur de la colonne, des barrières d'isolement 1 horizontales s'interrompant au niveau de cette diffusion; cette dernière est comme précédemment recouverte par la grille écran repérée main- tenant 47, déposée sur la couche disolant 22, la grille 37 étant déposée sur une couche disolant (non représentée) déposée elle- même sur la grille écran 47 comme le montre la figure 8. Comme précédemment, le dispositif comporte encore une métallisation 77, représentée seulement sur la figure 8, recouvrant la grille 37 au niveau de la diode 57, dont la fonction n'est plus ici de collecter les charges mais uniquement de constituer un écran opaque entre l'image lumineuse et la diode 57. La zone comprise entre deux barrières d'isolement consé- cutives, horizontalement et verticalement, délimite ainsi deux demi-zones photosensibles 70 et 71 soulignées par un trait plus épais, constituant la zone photosensible de la colonne Ci et de la ligne L1: ces deux demizones 70 et 71 déversent en effet leurs charges dans le sens indiqué respectivement par les flèches 72 et 73, dans une même diode de lecture 57. La figure 9 représente une variante du dispositif de la figure 7, vue en coupe, permettant de réduire la capacité de la colonne 2 5 0 1 9 4 3 collectrice, cette capacité étant un paramètre important dont la réduction permet d'améliorer la rapidité et l'efficacité du transfert. La seule différence que la figure 9 présente par rapport à la figure 8 est la réalisation d'une surépaisseur d'isolant 74 au-dessus de la diode 57, réalisée par exemple par une oxydation localisée, délimitée par du nitrure de silicium par exemple, selon une techno- logie connue, faite après la diffusion de la zone 57 et juste au-dessus d'elle. La grille écran 47 est alors déposée sur cette surépaisseur 74 et de part et d'autre de celle-ci, et la grille 37, comme précé- demment par-dessus la grille écran 47, la métallisation 77 venant encore au-dessus de la grille 37, au niveau de la diffusion 57. Cette configuration permet de réduire sensiblement la capa- cité entre les éléments 57 et 47. La figure 10 représente une variante du dispositif de la fi- gure 7 analogue à la variante représentée figure 6, c'est-à-dire une structure dérivée de la figure 7, dans laquelle la diode de lecture ne passe plus au milieu d'une zone photosensible, mais sur l'un de ses côtés. On retrouve sur ce dispositif comme sur celui de la figure 7 un substrat semiconducteur 21 recouvert d'une couche d'oxyde 22 pré- sentant des surépaisseurs 1 destinées à isoler horizontalement et verticalement les points photosensibles tels que 80 les uns des autres. Chaque point photosensible est constitué par une capa- cité MOS comportant une électrode 37 déposée sur la couche iso- lante 22, et de part et d'autre de l'électrode 37, des photodiodes 8, isolées horizontalement les unes des autres par une barrière d'iso- lement 1. L'un des côtés verticaux des points photosensibles tels que 80 est délimité par une bande d'isolement I et l'autre côté (le côté droit sur la figure 10) est prévu pour que les charges stockées lors de l'éclairement de ce point soient déversées dans la diode de lec- ture 57. A cet effet, la diode 57 est réalisée dans le substrat 21 en colonnes, adjacentes aux barrières d'isolement 1 (sur la figure, donc du côté gauche); ces diodes sont recouvertes de la grille écran 47, 250 1 9 4 3 qui est déposée sur la couche isolante 22 et une partie de la surépaisseur 1, la grille 37 étant déposée sur la couche 22 au niveau du point photosensible lui-même, puis sur une couche d'isolant déposée elle-même sur la grille-écran 47. La métallisation 77 re- couvre la grille 37, par l'intermédiaire d'une couche d'isolant, de façon analogue à ce qui est illustré figure 7 et pour la même raison de protection contre des charges parasites qui pourraient être créées dans les diodes 57 par l'éclairement. Dans les différents modes de réalisation et variantes men- tionnés ci-dessus, il est possible de supprimer les photodiodes 8, leur fonction de collection des charges créées par l'éclairement étant remplie par le substrat lui-même; cette variante présente une plus grande simplicité de réalisation, au détriment de la sensibilité du dispositif. La figure 12 représente un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention, illustrant cette suppression. Sur cette figure 12, on retrouve comme sur la figure 10 les grilles 37 constituant les capacités MOS, disposées parallèlement les unes aux autres et matérialisant les lignes (Li1, Li, Li+, sur la figure) du dispositif; les barrières d'isolement verticales 1, réalisées par surépaisseur d'oxyde éventuellement renforcées par un sur- dopage réalisé en dessous; les diodes de lecture 57, s'étendant sur toute la longueur des colonnes (Li,_, Li sur la figure), le long des barrières d'isolement 1 (à gauche de ces barrières sur la figure), et les grilles écran 47, s'étendant sur l'isolant recouvrant le substrat, au-dessus des diodes 57 et des barrières 1. Dans ce mode de réalisation, l'isolation des lignes entre elles n'est pas réalisée comme l'isolation verticale, mais par des zones 9 de surdopage du substrat, s'étendant de façon continue entre les grilles 37, sauf au niveau de la grille écran 47, des diodes 57 et de l'isolation 1. Les zones 9 sont obtenues par autopositionnement par rapport aux zones 1, 37 et 47. Un point photosensible a été isolé sur la figure par un trait épais et repéré 90: il comprend horizon- talement la partie de la grille 3 comprise entre une barrière 250 194 3 d'isolement I et la grille écran 47 suivante et, verticalement deux demilargeurs d'isolation 9 situées de part et d'autre de la partie de grille 3 considérée. Dans ce dispositif, il y a création de charges électriques due à S l'éclairement à l'intérieur et surtout sous les surdopages 9, charges drainées vers les capacités MOS 37 puis les diodes de lecture 57. Le principal avantage de ce mode de réalisation est la grande simplicité. En pratique, la structure telle que décrite figure 7, figure 10 ou figure 12 permet un pas de points photosensibles très réduit (à titre d'exemple, jusqu'environ 12 pm de hauteur et 24 ym de largeur dans le cas de la figure 10) tout en conservant une surface photo- sensible importante (environ 70 % de la surface totale) par rapport à la surface opaque nécessaire à la lecture, mais cela avec des valeurs jS des capacités des colonnes collectrices dans l'ensemble supérieures à celles que présentent les structures décrites figures 2 à 6. 250 1 9 4 3 REVENDICATIONS 1. Dispositif photosensible solide à deux dimensions, recevant une image lumineuse et fournissant des signaux électriques d'analyse de cette image, caractérisé par le fait qu'il comporte: - une pluralité de zones photosensibles élémentaires, réalisées sur un même substrat semiconducteur selon N lignes et M colonnes et isolées les unes des autres, dans lesquelles sont créées des charges électriques en fonction de l'éclairement reçu, chacune de ces zones élémentaires comportant une capacité MOS constituant une pre- mière zone de collection de charges, comportant une grille com- mune aux capacités d'une même ligne, et une seconde zone de collection de charges, électriquement couplée à la capacité; - des moyens de connexion et de commande, assurant la fourniture en parallèle des charges électriques créées dans les M zones photo- sensibles d'une même ligne, successivement pour les N lignes, ces moyens comportant une pluralité de diodes de lecture, arrangées en colonnes entre les zones photosensibles élémentaires de façon à recevoir chacune, successivement, sur commande les charges d'au moins deux zones élémentaires appartenant à deux lignes diffé- rentes; - des moyens formant écran pour les charges, placés entre chacune des zones photosensibles et les moyens de connexion, ces moyens écran comportant une pluralité de grilles, portées à un potentiel constant, arrangées en colonnes entre les diodes de lecture et les zones photosensibles. 2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé par le fait que les moyens formant écran comportent une grille par colonne, en forme de bande présentant une série d'élargissement et une ouver- ture sensiblement au milieu dé l'élargissement, les diodes de lecture, formées dans le substrat semiconducteur, étant placées dans cha- cune des ouvertures. 3. Dispositif selon la revendication 2, caractérisé par le fait que les moyens de connexion et de commande comportent en outre 250 1943 une bande conductrice opaque à l'image lumineuse, déposée pour chaque colonne au-dessus de la grille écran, de largeur au moins égale à celle des diodes de lecture, et assurant la connexion électrique des diodes de lecture d'une même colonne. 4. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé par le fait que les moyens formant écran comportent une grille en forme de bande par colonne, les diodes de lecture étant également en forme de bande, de largeur inférieure aux précédentes, formées dans le substrat semiconducteur sous chacune des grilles écran. 5. Dispositif selon la revendication 4, caractérisé par le fait qu'il comporte de plus une bande opaque à l'image lumineuse, de largeur au moins égale à celle des diodes de lecture, déposée au- dessus de la grille écran, pour chacune des colonnes. 6. Dispositif selon l'une des revendications 2 à 5, caractérisé par le fait que les grilles écran traversent chacune des zones photosensibles sensiblement en son milieu. 7. Dispositif selon les revendications 2 et 6, caractérisé par le fait qu'une diode de lecture est commune à deux zones photo- sensibles élémentaires d'une même colonne. 8. Dispositif selon la revendication 7, caractérisé par le fait que les diodes de lecture sont placées en quinconce. 9. Dispositif selon l'une des revendications 2 à 5, caractérisé par le fait que les grilles écran sont placées sur l'un des côtés des zones photosensibles. 10. Dispositif selon l'une des revendications 2 ou 4, caractérisé par le fait que l'isolement des zones photosensibles les unes par rapport aux autres est réalisé verticalement de façon continue entre deux grilles écran, sensiblement au milieu de l'intervalle, et hori- zontalement entre deux grilles de capacité MOS, de façon continue sauf au niveau des diodes de lecture. 11. Dispositif selon les revendications 2 et 9, caractérisé par le fait que l'isolement des zones photosensibles les unes par rapport aux autres est réalisé verticalement de façon continue, selon l'alignement en colonnes des diodes de lecture en contournant 2 5 0 1 9 4 3 celles-ci d'un même c8té, et horizontalement entre deux grilles de capacité MOS, de façon continue sauf au niveau des diodes de lecture. 12. Dispositif selon les revendications 4 et 9, caractérisé par le fait que l'isolement des zones photosensibles les unes par rapport aux autres est réalisé verticalement de façon continue, adjacentes à un même côté des bandes constituant les diodes de lecture, et horizontalement entre deux grilles de capacité MOS, de façon continue sauf au niveau des diodes de lecture. 13. Dispositif selon l'une des revendications 10 à 12, carac- térisé par le fait que l'isolement comporte une surépaisseur de la couche isolante recouvrant le substrat semiconducteur. 14. Dispositif selon l'une des revendications 10 ou 11, carac- térisé par le fait que l'isolement comporte un surdopage du substrat semiconducteur. 15. Dispositif selon la revendication 12, caractérisé par le fait que l'isolement vertical comporte une surépaisseur de la couche isolante recouvrant le substrat semiconducteur et l'isolement hori- zontal comporte un surdopage du substrat. 16. Dispositif selon l'une des revendications 13 ou 15, carac- térisé par le fait que l'isolement comporte en outre un surdopage du substrat situé sous la surépaisseur. 17. Dispositif selon l'une des revendications précédentes, ca- ractérisé par le fait que chacune des secondes zones de collection des charges est constituée par une diode. 18. Dispositif selon la revendication 17, caractérisé par le fait que la diode s'étend en outre sous la grille de la capacité MOS de chacune des zones photosensibles. 19. Dispositif selon l'ensemble des revendications 2 et 4 ou l'ensemble des revendications 2, 4 et 17, caractérisé par le fait que chaque zone photosensible comporte deux zones de collection des charges, situées dans deux ouvertures pratiquées dans la grille de la capacité MOS o elle n'est pas recouverte par la grille écran. 20. Dispositif selon l'une des revendications I à 18, caractérisé 2 5 0 1 9 4 3 par le fait que chaque zone photosensible comporte des zones de collection des charges situées aux emplacements de la zone photo- sensible laissés libres par la grille écran et la grille de la capa- cité MOS. 21. Dispositif selon l'une des revendications précédentes, ca- ractérisé par le fait que les moyens de connexion et de commande comportent des moyens d'adressage des N lignes, assurant à l'une seulement des N grilles de capacité MOS l'application d'un potentiel autorisant le transfert des charges de la capacité MOS et des zones de collection des charges vers les diodes de lecture. 22. Dispositif selon l'une des revendications 3 ou 5, caractérisé par le fait que la bande opaque à l'image lumineuse est réalisée en aluminium. 23. Dispositif d'analyse d'image, utilisant le transfert de charges électriques, comportant: - une matrice de N lignes x M zones élémentaires photo- sensible; - une mémoire de M points, dite mémoire de ligne, recevant successivement les charges stockées par chaque ligne; - un registre à décalage, recevant en parallèle le contenu de la mémoire de ligne et délivrant en série un signal électrique consti- tuant le signal d'analyse de l'image, ce dispositif étant caractérisé par le fait que la matrice photosensible comporte un dispositif selon l'une des revendications précédentes.