FR 2495850 A1 19820611 FR 8025911 A 19801205 LASER A SEMICONDUCTEUR A GRANDE LONGUEUR D'ONDE L'invention concerne un type de laser à semiconducteurs, permettant l'obtention d'une grande longueur d'onde ou de longueurs d'ondes réparties dans une grande gamme, en utilisant des couches monocristallines faites de différents matériaux tous compatibles avec le réseau cristallin d'un même composé dit 111-V (formé d'éléments des troisième et cinquième colonnes de la table de Mendeleeff). Ce type de laser est applicable notamment dans les télécommunications par fibres optiques. Les fibres optiques utilisées en télécommunications optiques ont une absorption minimale pour des longueurs d'onde voisines de 1,3 et 1,6]lm. Il est donc intéressant de disposer d'émetteurs travaillant dans cette gamme. Les lasers à semiconducteur classiques utilisent des hétérostructures de matériaux semiconducteurs appartenant: - soit au système ternaire: Ga, AI, As; - soit au système quaternaire: Ga, In, As, P. Seuls ces derniers permettent d'émettre dans la gamme d'absorption minimale des fibres optiques de télécommunication. L'invention vise à fournir l'industrie en lasers à semiconducteurs pour fibres optiques possédant une hétérostructure différente des hétérostructu- res classiques citées plus haut, et présentant certains avantages d'ordre industriel. On rappelle que l'hétérostructure d'un laser à semiconducteur est constituée comme suit: - un substrat monocristallin déterminé; - une superposition de trois couches monocristallines, de même para- mètre cristallin que le substrat, présentant au moins entre elles une jonction semiconductrice, et satisfaisant en outre à deux conditions: l1/ La couche médiane est formée d'un semiconducteur choisi de manière que la bande interdite corresponde à une longueur d'onde prédéter- minée; elle forme la zone active; 20/ Les couches extrêmes ont des bandes interdites plus grandes que celle de la couche médiane afin de créer un confinement des porteurs électroniques dans la couche médiane, d'o le nom de couches de confine- ment donné à ces couches. Ainsi, ont été fabriquée des lasers ayant une couche active en GaAs sur substrat GaAs et des couches de confinement en AI x Ga x As, ou des lasers à couches actives en Gax In 1x As ou Ga x In1îx Asy P1 et couches de confinement en InP, sur substrat InP. Pour -mieux comprendre le choix de ces compositions, et par suite mieux comprendre l'objet de la présente invention, on considérera la figure 1 qui regroupe dans le même diagramme les valeurs de la bande interdite (en ordonnées) et celles du paramètre cristallin (en abscisses), des composés III- V. Les composés binaires sont donc représentés par des points de coordon- nées déterminées. Les alliages ternaires sont situés sur les lignes reliant les points représentatifs des binaires. Pour ne pas trop surcharger le diagramme tous les alliages ternaires ne sont pas représentés sur cette figure. Les alliages quaternaires sont situés sur des zones inscrites dans des figures géométriques fermées constituées par les lignes définissant les alliages ternaires. Par exemple les alliages quaternaires contenant Ga, Al, In, et Sb sont représentés par les points situés dans l'aire hachurée "AISb - GaSb - InSb" de la figure 1. A l'aide de ce diagramme on peut voir qu'un laser ayant pour couche active GaAs peut avoir pour couche de confinement AlX Gaî1x As (0 É495850 InP est facilement disponible c'est pourquoi dans la pratique c'est le seul que l'on considère. Utilisant donc ce substrat InP, il reste deux solutions pour avoir une couche active de bande interdite voisine de 0,95 - 0,78 eV: Gax In1 Asy P1_ et Ga AlI__ In As. Les lasers ayant pour couche active Gax In -x Asy P1 y ont été déjà fabriqués. Ils ont pour couche de confinement InP dont la bande interdite est 1,36 eV. Ce choix conduit cependant à plusieurs limitations: 1 - la largeur de la bande interdite de InP n'est pas suffisamment grande pour avoir un effet de confinement important. 2 - l'alliage Gax Inî Asy P1y n'est pas facile à réaliser selon certai- nes techniques d'épitaxie telle que l'épitaxie par jets moléculaires, à cause du caractère volatil du phosphore. L'objet de la présente invention est de remédier à ces limitations en utilisant pour la couche active un matériau quaternaire contenant trois éléments III et un élément V. Le laser selon l'invention est du type comportant un substrat monocris- tallin en InP d'un type de conductivité prédéterminé, et au moins les couches épitaxiales suivantes: une première couche de confinement de même type de conductivité que le substrat, une couche active et une deuxième couche de confinement du type opposé de conductivité, les couches de confinement étant constituées par des matériaux semiconducteurs de composition telle que leur largeur de bande interdite soit plus grande que celle du matériau constituant la couche active, les paramètres cristallins de tous les maté- riaux semiconducteurs étant égaux à ceux du substrat à 1% près. Il est caractérisé en ce que le matériau constituant la couche active répond à la formule générale: (Gax Al Ix)n,47 In As x I-X0,470,53 avec:0 L'invention sera mieux comprise, et d'autres caractéristiques apparai- tront, au moyen de la description qui suit, et des dessins qui l'accompagnent, parmi lesquels: Les figures 1 et 2 sont des diagrammes explicatifs. Les figures 3 à 5 représentent en coupe schématique des lasers à 24.95850 semiconducteur selon l'invention. Les matériaux de la couche active, dans le cas de l'invention, sont des alliages quaternaires (Ga, AI, Jn, As) dont les points figuratifs (voir le diagramme de la figure 1, déjà commenté ci-avant) se trouvent dans l'aire hachurée de forme oblongue délimitée par: - une ligne brisée 1, joignant les points figuratifs des composés AI As et In As; - le segment 2 joignant les points figuratifs des composés AI As et Ga As qui présentent sensiblement le même paramètre cristallin; - le segment curviligne joignant les points figuratifs des composés Ga As et In As. On voit sur le diagramme que l'aire ainsi définie contient le point figuratif du composé InP. Cette constatation est essentielle pour l'invention. En effet, on choisit pour constituer la couche active du laser l'alliage quaternaire (Ga, AI, In, As) dont le point figuratif se trouve sur une parallèle à l'axe Oy pasant par le point InP, soit: (Ga AI In0,As. x I-x 0,47 0,53As La largeur de bande interdite de cet alliage est comprise entre 0,75 eV pour x = I et 1,47 eV pour x = 0. Il existe une relation linéaire entre les deux paramètres. En ce qui concerne les couches de confinement, on choisit, tout en restant dans le cadre de l'invention, plusieurs solutions, c'est à dire un alliage binaire, ternaire ou quaternaire présentant le même paramètre cristallin que le composé InP. Ce peut être InP lui-même. Il convient toutefois de satisfaire, en outre, la condition supplémentaire, déjà mention- née, à savoir la nécessité, pour que la couche joue son rôle de confinement, de présenter une largeur de bande interdite supérieure à celle de l'alliage constituant la couche active. Le point figuratif du matériau constituant la couche de confinement doit donc se trouver au dessus du point figuratif de InP. Si l'on choisit un alliage quaternaire de composition: Ga, AllX, Asy, Sb,_y on utilise le diagramme de la figure 2 pour déterminer les valeurs de x' et y'. Ce diagramme comporte un axe des abscisses Ox' exprimant en fraction de 0 à 1 la teneur en Ga, et deux axes d'ordonnées: OY': teneur en As; = OZ': pseudo-axe des valeurs du paramètre cristallin, lequel dépend très peu de la teneur en GA et beaucoup de la teneur en As. La valeur du paramètre est exprimée en angstrâms. Les lignes en trait tireté correspondent à des alliages de même paramètre cristallin: elles sont sensiblement parallèles à Ox'. Les lignes en trait continu sont de deux sortes: 1 / Des courbes présentant un point anguleux et donnant les composi- tions d'alliage d'égale bande interdite exprimée en électrons-volts. / Une courbe joignant les points anguleux des lignes précédentes et séparant le diagramme en deux domaines: D: alliage o entre en jeu la bande interdite directe; 1: alliage o entre en jeu la bande interdite indirecte. Les valeurs de x' et y' de la composition choisie pour constituer les bandes de confinement du laser sont les coordonnées du point d'intersection d'une ligne pointillée (ou parallèle, par interpolation) et d'une ligne graduée en largeur de bande interdite. Sur les figures 3 à 5 on a représenté, en coupe partielle et schémati- que, un laser de substrat 1, supportant une couche de confinement 2, une couche active 3, une autre couche de confinement 4, éventuellement une couche supplémentaire (60, figure 4), enfin des métallisations 5 et 6 formant des contacts ohmiques avec le matériau des faces extrêmes. Ces métallisa- tions sont destinées à permettre un bon raccordement à une source de tension. Les exemples de réalisation de l'invention ainsi représentés compor- tent tous un substrat en InP dopé p+. Un dopage n+, également possible, correspond à une autre série d'exemples, non représentés, o les dopages seraient de type opposé de conductivité, la source de tension ayant alors les polarités inversées. Sur l'exemple de la figure 3, les caractéristiques des couches sont les suivantes: Couche 2: InP ou Al,47 In0,,3 As, dopé p; Couche 3: (Gar Al In) 0,47 m0,53 As, dopé n ou p; Couche 4: même composition que la couche 2, dopée N. La valeur de x est choisie en fonction de la longueur d'onde d'émission, en pratique de la largeur de la bande interdite du matériau de la couche active, cette largeur devant être inférieure à celle des couches 2 et 4. On a donc: 0,01 Sur l'exemple de la figure 4, les compositions sont les suivantes: Couche 2: Gax, AIJ-x' Asy, Sbly dopée p; Couche 3: même composition et même dopage que dans l'exemple précédent; Couche 4: même composition que la couche 2 ci-dessus, dopée n. Le paramètre x est choisi comme à l'exemple précédent. Les paramètres x' et y' sont choisis comme il a été expliqué ci-avant, à propos du diagramme de la figure 2, pour avoir une bande interdite plus grande que celle de la couche active. Sur l'exemple de la figure 5, les compositions et les dopages sont les mêmes que ceux de l'exemple de la figure 3, mais on a déposé sur la couche 4 une couche supplémentaire 60 dopée n+ et de composition: Ga0,47 InO,53 As. Cette couche supplémentaire a pour but d'améliorer la qualité du contact ohmique de la métallisation 6. Un autre exemple, non représenté, correspond à celui de la figure 4, dans lequel on a ajouté une couche supplémentaire comme dans le cas de la figure 5. Parmi les avantages non encore signalés de l'invention, on mentionne le fait que la longueur d'onde démission du laser est définie par le pourcentage d'aluminium par rapport au gallium dans la couche active. Cette propriété présente un grand avantage pour certaines techniques d'épitaxie, notamment dans le cas de l'épitaxie par jets moléculaires. En effet dans le cas de l'épitaxie par jets moléculaires, la valeur du paramètre x de la composition obtenue est directement donnée par le rapport des flux de gallium et d'aluminium introduits dans le réacteur d'épitaxie. REVENDICATIONS 1. Laser à semiconducteur, du type comportant un substrat mono- cristallin (1) en InP d'un type de conductivité prédéterminé, et au moins les couches épitaxiales suivantes: une première couche (2) de confinement de même type de conductivité que le substrat, une couche active (3) et une deuxième couche (4) de confinement de type opposé de conductivité; les couches de confinement étant constituées de matériaux à bande interdite plus large que celle de la couche active, caractérisé en ce que le matériau constituant la couche active est en alliage répondant à la formule: (Gax AI 1-_x)0,47 InO0,53 As avec: 0 2. Laser selon la revendication 1, caractérisé en ce que les couches de confinement (2,4) sont en phosphure d'indium. 3. Laser selon la revendication 1, caractérisé en ce que les couches de confinement (2,4) sont en alliage de formule AI 0,47 In0,53 As. 4. Laser selon la revendication 1, caractérisé en ce que les couches de confinement (2,4) sont en alliage de formule -Gax, Al_ xt A.sy, Sb1_y, dans laquelle les paramètres x' et y', compris entre zéro et un, sont déterminés de manière à ce que l'alliage monocristallin présente un paramè- tre de maille égal à celui du matériau de la couche active et une largeur de bande interdite plus grande que celle de la couche active. 5. Laser selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'une couche supplémentaire (60) est déposée par épitaxie sur la couche de confinement la plus éloignée du substrat, qu'elle est plus fortement dopée que celleci et du même type de conductivité, qu'enfin elle est constituée par un alliage de formule: - Ga0,47 In0,53 As.