FR 2489541 A1 19820305 FR 8018820 A 19800829 La présente invention concerne une composition pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage de revêtements photosensibles et son procédé de préparation. Plus particulièrement l'invention concerne une composItion pour développer et laquer des revêtements photosensibles appliqués à des substrats, en particulier des revêtements photosensibles sensibilisés par un composé de type diazonium tels que des plaques d'impression lithographique et notamment pour développer et laquer une plaque lithographique exposée pour éliminer les zones de fond et préparer la plaque à l'impression. Dans l'impression lithographique, on utilise la nonmiscibilité mutuelle d'encres oléophiles et d'un liquide aqueux d'humidification sur la surface pratiquement plane d'une plaque d'impression. On forme sur une plaque une zone d'image oléophile correspondant à l'image à imprimer tandis que le reste de la surface de la plaque, c'est-a-dire la zone de fond, a un caractère hydrophile ou est rendu hydrophile. La zone d'image prend une encre grasse et la transfère lors de l'impression ; la zone de fond demeure humidifiée par l'eau ou un liquide aqueux d'humidification et repousse l'encre si bien qu'il ne se produit pas d'impression dans cette zone. Pour former une telle plaque d'impression, on revêt une surface de base plane d'une couche très mince d'une matière photosensible et on expose à la lumière à travers une pellicule transparente ayant des zones opaques.Pour exposer une plaque négative, on utilise un transparent négatif où l'image à reproduire est transparente tandis que pour exposer une plaque positive on utilise un transparent positif. La lumière traverse les zones claires du transparent négatif correspondant a l'image et provoque une réaction dans le revêtement photosensible de la plaque sous-jacente qui durcit le revêtement dans la zone d'image. La lumière ne traverse pas les zones opaques du transparent si bien que le revêtement photosensible de la plaque situé en dessous de ces zones demeure inaltéré. Ensuite pour développer la plaque, on enlève le revêtement de la plaque dans les zones non exposées qui sont hydrophiles ou qu'on rend ensuite hydrophiles. Une plaque positive diffère d'une plaque négative en ce qu'avec la première la lumière qui traverse les zones claires du transparent positif provoque dans une certaine mesure la décomposition du revê tement photosensible de la plaque sous-jacente ce qui entraîne une différence de solubilité entre la zone d'image et la zone de fond. On élimine les zones exposées de la plaque positive. Dans le passé, on a généralement développé les plaques lithographiques négatives sensibilisées par des composés de type diazonium avec des solvants. Certains des solvants utilisés sont l'alcool isopropylique, l'alcool propylique normal, le Cellosolve (éther monoéthylique de I'éthylèneglycol), l'alcool butylique, l'alcool benzylique, etc. Certains développateurs sont constitués essentiellement de solvants organiques tandis que d'autres contiennent de l'eau en plus des solvants organiques. On a utilisé dans ces deux types de développateurs des acides sulfoniques aromatiques ou leur sel de sodium. Ces développateurs présentent un ou plusieurs inconvénients lorsqu'on les utilise pour développer des plaques litho graphiques négatives sensibilisées par des composés de type diazonium. Par exemple un mélange de 20 % d'alcool propylique normal et de 80 % d'eau, lorsqu'on l'utilise pour développer des plaques lithographiques, a tendance à surdévelopper les plaques en raison de la faible diffé rence de solubilité entre la zone d'ima#e et la zone de fond. On a utilisé des acides sulfoniques dans des déve loppateurs mais ils présentent plusieurs inconvénients. Ils sont plus corrosifs que les sels de lithium de l'invention et, lorsqu'on les utilise dans une machine de développement, ils tendent à corroder les paliers, les canalisations et d'autres parties métalliques. Peut être en raison de la nature corrosive du développateur et de son effet sur les zones d'image, les plaques développées avec des développateurs contenant des acides sulfoniques ne permettent pas d'imprimer autant d'épreuves que celles développées avec les développateurs de l'inven- tion. Dans de nombreuses compositions, on préfère des agents mouil lents tensio-actifs.Les acides sulfoniques tels que l'acide hydroxy 2 méthoxy-4 benzophénonesulfonique-5 tendent à décomposer et à préci piter les agents mouillants tensio-actifs dans les compositions de développateur. Ces mêmes agents mouillants provoquent un moussage indésirable lorsqu'on les utilise dans les machines de développement. L'acide sulfonique précité absorbe la lumière ultraviolette et cette absorption le colore. Par c; séquent les récipients qui le contienent doivent être faits d'une matière absorbant les rayonnements actiniques. Les développateurs contenant des sels de sodium d'acides sulfoniques et des solvants tels que des glycols, au lieu des agents mouillants tensio-actifs, se sont révélés laisser un fond sale lorsqu'on les utilise pour le développement à la machine des plaques. Pour éclaircir le fond, il est nécessaire d'accroître la concentration du sel de sodium de l'acide sulfonique mais ceci provoque une baisse d'environ 2 échelons dans l'échelle de gris, c'est-à-dire que les points des parties en demi-teintes de la plaque sont plus petits que sur le transparent utilisé pour son exposition. La demanderesse a découvert que, lorsqu'on mélange une solution aqueuse d'un sel organique de lithium avec une solution dans un solvant organique miscible à l'eau d'une résine filmogène prenant l'encre, on obtient une composition permettant d'effectuer en un seul stage le développement et le laquage. Lorsqu'on traite avec cette composition une plaque d'impression lithographique diazotypique exposée, elle est développée et laquée de façon efficace. Les zones non exposées de la plaque sont éliminées de façon efficace sans qu'il reste de laque sur ces zones tandis que les zones exposées ne sont pas éliminées et une couche de laque est déposée sur les zones d'image diazoïque. Ces dépôts résineux confèrent une durée d'impression accrue à la plaque. La demanderesse a découvert que les points des parties en demi-teintes d'une plaque exposée sont attaqués et affinés par la plupart des solvants puis par les acides sulfoniques et leurs sels de sodium dans cet ordre de décroissance. L'emploi du développateur de l'invention contenant des sels de lithium ne provoque que peu ou pas d'attaque et d'affinement des points des parties en demi-teintes. Les développateurs de l'invention suppriment ou réduisent au minimum les inconvénients précités de l'art antérieur. L'invention a pour objet un système pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage des plaques d'impression lithographique et plus particulièrement une composition améliorée de développement pour éliminer les zones de fond des plaques d'impression lithographique portant un revêtement dont l'agent photosensible est un composé de diazonium pratiquement insoluble dans l'eau. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description qui suit qui illustre l'emploi des compositions de développement et de laquage de l'invention contenant un sel organique de lithium fortement soluble dans l'eau et une résine prenant l'encre soluble dans les solvants organiques, qui solubilisent et éliminent facilement les zones de fond du revêtement photosensible des plaques lithographiques exposées dont le composant photosensible est un composé de diazonium et qui de plus laissent un dépit résineux de laque uniquement sur les emplacements exposés de la plaque. Le mode de réalisation préféré de l'invention va maintenant être décrit. De façon générale, la composition de développement et de laquage de l'invention est constituée de deux phases. La première est une phase aqueuse faite d'une solution aqueuse d'un sel organique de lithium comme défini ci-après. La seconde est une phase de laque dans laquelle une résine résistant à l'abrasion, filmogène et prenant l'encre, telle qu'un époxyde, un acétal polyvinylique, une résine phénoloformaldShyde, un polyuréthane ou un polyester, est dissous dans un solvant organique miscible à l'eau tel que la méthylpentylcétone, l'acétate de méthylcellosolve, la cyclohexanone, le diméthylformamide, le diméthylsulfoxyde, l'isopropanol, le dioxanne ou TM le Méthylcellosolve . On mélange ensuite intimement les deux solu- tions pour former la composition homogène de l'invention. Dans certaines compositions de développement de l'invention on peut utiliser des agents mouillants et d'autres composants pour diminuer le temps nécessaire au développement de la plaque lithographique ou pour modifier d'autres caractéristiques des compositions de développement. Un des types importants des composés diazotques utilisés dans les plaques lithographiques négatives est constitué des produits de la réaction d'un composé photosensible diazotque et d'un agent de copulation, ce produits réactionnels conservant leur photosensibilité. Cependant ces produits réactionnels ont généralement une solubilité dans L'eau inférieure à celle de leurs composants et ils tendent généralement à être pratiquement insolubles dans l'eau.Donc bien que l'on puisse de façon appropriée revêtir des bases avec ces produits réactionnels en solution dans un solvant ou même en solution aqueuse diluée, leur développement avec des développateurs aqueux est difficile en raison de l'insolubilité relative dans l'eau ou de l'insuffisance de différence de solubilité dans les solvants entre les zones exposées et les zones de fond. Les composants diazoïques photosensibles des produits réactionnels sont des composés de diazonium de type négatif connus et couramment utilisés en lithographie. De façon générale ce sont des composés diazo-aromatiques et plus particulièrement des diazoaylamines qui peuvent être substitués sur le noyau aromatique ou sur l'azote aminé. Le plus couramment utilisé de ces composés dia osques est la p-diazo-diphénylamine et ses dérivés, en particulier ceux obtenus par réaction avec des agents de condensation organiques contenant des radicaux carbonyles réactifs tels que les aldéhydes et les acétals, en particulier avec des composés tels que le formaldéhyde et le para-formaldéhyde.La préparation de certains de ces produits de condensation remarquablement appropriés est décrite dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n0 2 922 715 et 2 946 683. Pour former les composants de revêtement de type diazonium photosensibles pratiquement insolubles dans l'eau, on fait réagir de préférence les composés diazo-aromatiques précités avec des composés aromatiques ou aliphatiques comportant un ou plusieurs radicaux hydroxy phénoliques et/ou radicaux acide sulfonique -S03-. On peut citer comme exemples de composés réagissants ayant des radicaux hydroxy phénoliques les hydroxy-benzophénon#es, des acides diphénoliques tels que l'acide bis(hydroxy-4' phényl)-4,4 pentanotque, le résorcinol et le dirésorcinol qui de plus peuvent être substitués. Parmi les hydroxybenzophénones figurent la dihydroxy-2,4, l'hydroxy-2 méthoxy-4, la dihydroxy-2,2' diméthoxy-4,4' et la tétrahydroxy-2,2', 4,4' benzophénones. Les acides sulfoniques que l'on préfère sont ceux de la série aromatique et en particulier ceux dérivant du benzène, du toluène, du xylène, du naphtalène, du ph8nol, du naphtol et de la benzophénone et leurs sels solubles tels que leurs sels d'ammonium et de métaux alcalins. Généralement les composés contenant un groupe acide sulfonique peuvent être substitués par des radicaux alkyles inférieurs, nitro ou halogéno ainsi que par des groupes acide sulfonique additionnels.On peut citer comme exemples de tels composés, l'acide benzènesulfonique, l'acide toluènesulfonique, l'acide naphta- lènesulfonique, l'acide diméthyl-2 > 5 benzènesulfonique, le benzènesulfonate de sodium, le naphtalènesulfonate-2 de sodium, l'acide naphtol-l sulfonique-2 (ou -4), l'acide dinitro-2,4 naphtol-l sul fonique-7, l'acide hydroxy-2-méthoxy-4 benzophénonesulfonique-5, le m-(p'-anilino phénylazo) benzènesulfonate de sodium, l'alizarine sulfonate de sodium, l'acide o-toluidine m-sulfonique et l'acide éthanesulfonique. On fait réagir ensemble le composé diazotque et l'autre composé réagissant de préférence en solution aqueuse a un pH inférieur à environ 7,5, en proportions approximativement équimoléculaires. On isole généralement le produit réactionnel sous forme d'un précipité et on peut l'appliquer sous forme d'un revêtement selon des techniques classiques à des feuilles de base pour lithographie pour former des plaques sensibilisées comme décrit par exemple dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 5 300 309. Des exemples de systèmes de type positif sorvt décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 3 544 317. On peut citer comme exemples de sels organiques de lithium utilisés dans les développateurs de l'invention, les sels de lithium de composés organiques ayant un hydrogène acide et contenant 1 à environ 36 atomes de carbone. On peut citer comme exemples de composés organiques ayant des hydrogènes acides ceux comportant des fonctions acide carboxylique, acide sulfonique et acide sulfurique ou des radicaux hydroxy phénoliques. On peut citer comme exemples plus particuliers des sels de lithium, ceux qui répondent aux Il M(CH2) (CH=CH)b(CH3S03Li) C-O-S03-Li 3 3 c 3 III. Des dimères des composés de formules I ou Il ou I et Il que l'on peut préparer selon une technique utilisant la réaction de Diels-Alder.Les sels de lithium ont des formules théoriques telles que Les acides gras dimérisés servant de précurseurs sont fournis par Emery Industries, Inc. Dans les formules I, Il et III, N représente -H, -OH, -C-0-S3-Li ou -CH3 ; a est égal à zéro ou à un nombre entier de 1 a 17 ; b est égal à zéro, 1,2 ou 3 ; c est égal à zéro, 1, 2 ou 3 ; la somme de b et c est égale à zéro, 1, 2 ou 3 ; et la somme de a, b et c peut avoir une valeur maximale de 17 lorsque M représente -H ou -OH ou de 16 lorsque M a une autre signification. Dans les formules IV à x, X ou Y et Z peuvent indépendamment représenter où d est égal à zéro ou à un nombre entier de 1 à 17. En plus des groupes fonctionnels indiqués dans les formules ci-dessus, les sels de lithium peuvent contenir dans leurs fragments organiques d'autres groupes fonctionnels qui ne nuisent pas à leurs performances dans les compositions de développement de l'invention; tels que des radicaux hydroxy, méthoxy, éthoxy, nitro, halogéno, etc. On peut citer comme exemples de sels de lithium solubles dans l'eau utiles dans les nouvelles compositions de développement de l'invention, le formiate de lithium, le chloroacétate de lithium, le dichloroacétate de lithium, le trichloroacétate de lithium, le benzoate de lithium, les naphténates de lithium, le dodécanoate de lithium, le ricinoléate de lithium, le laurylsulfonate de lithium, l'acétylsalicylate de lithium, le laurylsulfate de lithium, le phénolate de lithium, le phénanthrolate-l de lithium, l'o-nit.ophénolate de lithium, le pyrocatécholate de dilithium, le trinitro-2,4,6 benzoate de lithium, le phénolsulfonate de lithium, le picrate de lithium, le toluènesulfonate de lithium, le xylènesulfonate de lithium, les résorcinolates da lithium, les xylénolates de lithium, les octanoates de lithium, les sels de mono et de dilithium d'acides dicarboxyliques tels que l'acide citrique, l'acide maléique et l'acide ma#lique, le stéarate de lithium, l'oléate de lithium1 le p-nitrotoluène o-sulfonate de lithium, le butanesulfonate-l de lithium, le benzènesulfonate de lithium, le dodécylbenzènesulfonate de lithium, le dîchloro-2 > 5 benzènesulfonate de lithium, le dinitro-2,4 naphtol-l sulfonate-7 de lithium, le sel de lithium de l'huile de ricin sulfonée (Napco Oil 1408) et similaires. De préférence les composés organiques comportent environ 2 à environ 36 atomes de carbone et mieux environ 4 à environ 36 atomes de carbone et tout particulièrement environ 7 à environ 18 atomes de carbone. Les sels de lithium que l'on préfère particulière ment sont le benzoate de lithium, le phénolsulfonate de lithium, le laurylsulfate de lithium .t le dodécanoate de lithium. Il ne semble pas qu'il y ait de limitation particulière à la quantité des composés organiques de lithium contenus dans la phase aqueuse, autre que celle dictée par des considérations pratiques. Par exemple des raisons économiques et la solubilité du composé dans l'eau ou dans le système aqueux de développement fixent une limite supérieure pratique de la concentration tandis que la durée de développement fixe principalement la limite inférieure. Par exemple à des concentrations d'environ 1%, la durée du développement est de l'ordre de 5 minutes ou plus ce qui pour un imprimeur lithographe ayant beaucoup de travail est anormalement long par rapport à la durée de l'ordre d'une demi-minute à environ deux minutes qu'il lui semble souhaitable.On peut obtenir une durée de développement comprise dans cette gamme désirée avec les systèmes de développement de l'invention pour des concentrations de la solution en composé organique du lithium d'environ 5 % à environ 25 % en poids. La gamme préférée de la concentration est comprise entre environ 10 % et environ 20 % pour qu'on obtienne une bonne durée de développement de l'ordre d'environ 1 minute et qu'il y ait suffisamment d'eau pour permettre la dissolution et l'élimination du revêtement non exposé sans qu'un rinçage trop important soit nécessaire. La concentration de la résine de laquage dans le solvant organique miscible a l'eau peut êtrt comprise entre environ 5 % et 20 % et de préférence entre 7 % et 12 70. Le rapport de la phase aqueuse à la phase de solvant dans la composition pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage de l'invention est compris entre environ 1/3 et 30/1 et de préférence entre 1/2 et 15/1 et mieux entre 1/1 et 6/1. Il peut être souhaitable d'incorporer également à la phase aqueuse des ingrédients additionnels pour faciliter le dévelop- pement et effectuer le traitement de la plaque. Ces ingrédients sont par exemple des solvants, des agents mouillants ou tensio-actifs, des agents de nettoyage du métal, etc. On peut utiliser des agents tensioactifs ou mouillants pour favoriser le contact entre le développateur aqueux et le revêtement photosensible, à des concentrations pouvant atteindre environ 50 % en poids. Les agents mouillants que l'on peut utiliser dans les nouvelles compositions de développement de l'invention peuvent être non ioniques, anioniques ou cationiques. Des compositions de développement contenant des agents tensio-# ifs amphotères font l'objet du brevet des Etats-Unis dlAmérique n0 3 891 439. On peut citer comme exemples d'agents mouillants susceptibles d'être utilisés les agents Anioniques Parmi ces agents figurent les sels d'ammonium et de métal alcalin d'alcoolsulfates a chaine longue, par exemple le laurylsulfate de sodium, l'octylsulfate de sodium, le laurylsulfate d'ammonium, le N-métbyl oléyltaurate de sodium, le dioctylsulfosuccinate de sodium, le dodecylbenzènesulfate de sodium, le di(éthyl-2 hexyl)phosphate de sodium [ Tergitol P-28 (Union Carbide) ] , la série Duponol (duPont) [ de façon générale des alkylsulfates de sodium ] , le Duponol Ep, sîkylolaminesulfate d'alkyle liquide (duPont), l'Avirol 116 (Henkel, Inc.) Clauryléthersulfate de sodium en aiguillesl, l'Avirol 111 LC (Henkel Inc.) Lalkylsulfate de sodium liquide ] etc. Non ioniques Le Tergitol 15-S-3 (Union Carbide) [ polyéthylène- glycoléther d'un alcool linéaire ayant un indice HLB (équilibre hydrophile-lipophile) de 8,0, liquide ] , le Tergitol NPX (Union Carbide) [ nonylphénylpolyé- thylèneglycolétber ayant un indice HLB de 13,6, liquidez, le Tergitol NP-35 (Union Carbide) [ nonylphénylpolyé- thylèneglycoléther ayant un indice HLB de 15,0, pâteux, le Gaftex Texol 237 (GAF Corporation) [ condensa t de diéthanolamine et d'acide lauriquel, le monostéarate de glycérol, le monostéarate de polyoxyéthylèneglycol. Cationiques le Gafstats (GAF) [ dérivé d'ammonium quaternaire ] , l'Aérosol C 61 (American Cyanamid Co.) [ complexe alkylguanidineamine éthanolé] etc. Les agents mouillants que l'on préfère particulièrement sont les agents anioniques, viennent ensuite les non ioniques puis les cationiques. Parmi les anioniques, on préfère les alkylolaminesulfates d'alkyle et les lauryléthersulfates de sodium. Parmi les non ioniques, on préfère les trois premiers cités. On préfère que les agents mouillants, en particulier ceux qui sont .non ioniques, aient un équilibre hydrophile-lipophile (indice HLB) d'au moins environ 8. Un agent tensio-actif particulièrement utile est le sel de sodium de 1' (#-çarboxyhepty1)-2 (#-(#-carboxyéthoxy)éthyl ] -l imidazoline. Les compositions de développement de l'invention peuvent également contenir des composés aromatiques ou aliphatiques ayant un radical acide sulfonique -S03-, que l'on utilise dans les compositions de développement décrites dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 3.669.660. De façon générale, ces composés sont les mêmes que ceux précédemment décrits comme appropriés pour préparer, avec le composé diazotque, le produit réactionnel photosensible présent dans le revêtement sensibilisé de la plaque. On peut citer comme exemples de tels composés, l'acide benzènesulfonique, l'acide toluènesulfonique, l'acide naplltalènesulfonique, l'acide diméthyl-2,5 benzènesulfonique, le benzènesulfonate de sodium, l'acide naphtalène sulfonique-2, l'acide naphtol-l sulfonique-2 (ou -4), l'acide dinitro-2,4 naphtolsulfonique-7, l'acide hydroxy-2 méthoxy-4 benzo phénonesulfonique-5, le m-(p' -anilinophénylazo)benzènesulfonate de sodium, l'alizarinesulfonate de sodium, l'acide o-toluidine m-sulfonique et l'acide éthanesulfonique. On dissout les composés contenant un groupe acide sulfonique dans de l'eau pour former les solutions de développement. On peut également utiliser, dans la composition de développement de l'invention, jusqu'a environ 5 % en poids d'acide phosphorique ou d'acide oxalique pour nettoyer la feuille de base en aluminium après élimination du revêtement désensibilisé. On peut également, si on le désire, utiliser d'autres agents semblables connus dans l'art. Le pH du développateur de l'invention est compris de façon générale dans une gamme voisine de la neutralité, c'est à-dire compris entre environ 5 et environ 10 et pouvant dans certains cas atteindre 11, 12 ou plus. Cette gamme étendue du pH autorise une grande latitude de la composition du développateur sans qu'on observe d'effet nuisible sur l'activité ou l'efficacité du développateur. Il est bien connu qu'avec l'augmentation d'un pH alcalin, les composés diazotques ont tendance à présenter une copulation irréversible et à devenir relativement insolubles.Si un développateur alcalin provoque sans distinction un durcissement de la zone d'image et de la zone de fond d'une plaque lithographique pour diazotypie, on ne peut pas considérer qu'il est efficace. I1 est surprenant que les développateurs de l'invention,dont l'alcalinité peut atteindre un pH d'environ 11, permettent un bon développement fidèle des plaques lithographiques. En raison de la tendance à la copulation en conditions alcalines des composés diazotques, beaucoup des développateurs de l'art antérieur utilisant, par exemple > - des sels de sodium d'acides sulfoniques aromatiques contiennent un excès d'acide phosphorique, oxalique, citrique, sulfonique ou autres pour que le pH soit bas. On peut appliquer les développateurs de l'invention à des revêtements photosensibles exposés, en particulier des revêtements sensibilisés par un composé de type diazonium, manuellement ou mécaniquement. Bien entendu l'homme de l'art désireux d'obtenir d'excellents résultats, peut adapter la composition de développement selon les principes de l'invention pour développer un revêtement exposé particulier, qu'il soit appliqué à une plaque d'impression lithographique (soit présensibilisée, soit à enduire) ou sur n'importe quelle autre surface, par exemple un papier ou une pellicule plastique transparente comme c'est le cas d'un système de tirage pour tirer des transparents monochromes. Les compositions de développement de l'invention sont utiles pour développer les systèmes positifs, mais ils sont particulièrement utiles et efficaces pour développer les systèmes négatifs.Pour développer les systèmes positifs, on préfère que le développateur ait un pH alcalin de préférence d'au moins environ 12. Des exemples de systèmes et de plaques lithogra phiques de type positif sont décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 3.544.317. L'invention est illustrée par les exemples non limitatifs suivants. EXEMPLE 1 On prépare la composition suivante pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage Partie A : on mélange les ingrédients suivants - 100 parties d'eau - 25 parties de benzoate de lithium - 100 parties d'(w-carboxyheptyl)#2 [ ss-(ss-carboxyéthoxy)éthyl ] -l imidazoline. Partie B : on mélange les ingrédients suivants - 60 parties de méthylpentylcétone - 7 parties d'Epon 1004 (résine époxyde) - 0,5 partie de Duponol EP (agent mouillant) - 16 parties de rouge de naphtol (pigment) On mélange les parties A et B pour obtenir une composition de développement et de laquage homogène. EXEMPLE 2 Pour préparer deux plaques d'impression lithographique, on revêt deux plaques d'aluminium de la composition suivante - 1 partie d'Epon 1031 (résine époxyde) - 2 parties de Formvar 12/85 (acétal polyvinylique) - 0,1 partie de Basic Blue (colorant) - 2 parties du produit d'addition de l'acide hydroxy-2 méthoxy-4 benzophénonesulfonique-5 et du condensat p-diazodiphénylamine/ paraformaldéhyde. On expose les plaques d'impression selon un procédé bien connu dans l'art. On développe la première plaque avec seulement la composition de la partie A de l'exemple 1, tandis qu'on développe la seconde plaque avec le mél;Xtge des parties A et B. Le développement des deux plaques est acceptable, c'est-à-dire que les parties non exposées sont éliminées de la plaque. La laque adhère uniquement aux portions exposées de la seconde plaque. On monte les deux plaques sur une presse d'impression et on obtient des reproductions acceptables. Cependant, la première plaque ne permet d'obtenir que 40.000 tirages acceptables avant d'être endommagée tandis que la seconde plaque permet d'obtenir 120.000 tirages acceptables. Ceci correspond à une augmentation du triple. EXEMPLE 3 On répète les exemples 1 et 2, si ce n'est qu'on remplace l'Epon 1004 par une résine phénol-formaldéhyde, l'Alnoval PN430. On obtient des résultats semblables. EXEMPLE 4 On répète les exemples 1 et 2, si ce n'est qu'on remplace la résine Epon 1004 par des résines de polyuréthane, l'Estane 5714 et 5715 fournies par B.F. Goodrich. On obtient des résultats semblables. EXEMPLE 5 On répète les exemples 1 et 2 ci-dessus, si ce n'est qu'on remplace la méthylpentylcétone par l'acétate de méthylcellosolve et qu'on remplace l'Epon 1004 par une résine de polyvinylformal le Formvar 12/85 fournie par Monsanto. On obtient des résultats semblables. Bien entendu diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art aux dispositifs ou procédés qui viennent d'être décrits uniquement à titre d'exemples non limitatifs sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé pour préparer une composition pour effectuer en un seul stade Le développement et le laquage pour traiter des plaques d'impression lithographique sensibilisées par des composés de type diazonium exposées, caractérisé en ce qu'il consiste à: a. former une solution aqueuse (A) à une concentration d'au moins 1 % en poids d'un sel soluble dans les solvants organiques qui est un sel de lithium d'un composé organique ayant 1 à environ 36 atomes de carbone et au moins un hydrogène acide b. former une solution (B) à une concentration de 5 à 20 % en poids dans un solvant organique miscible à l'eau d'une résine filmogène prenant l'encre ; et c. mélanger les parties (A) et (B) ci-dessus dans un rapport d'environ 1/3 à environ 30/1. 2. Composition caractérisée en ce qu'on l'a préparée selon la revendication 1. 3. Composition selon la revendication 2, caractérisée en ce que le sel de lithium est le benzoate de lithium. 4. Composition selon la revendication 2, caractérisée en ce qu'on choisit la résine parmi les résines d'époxyde, d'acétal polyvinylique, de phénol-formaldéhyde, de polyuréthane et de polyester 5. Composition selon la revendication 2, caractérisée en ce qu'on choisit le solvant organique miscible à l'eau parmi les alcools et les cétones. 6. Composition selon la revendication 2, caractérisée en ce qu'on choisit le solvant organique miscible à l'eau parmi la méthylpentylcétone, le méthylcellosolve, l'acétate de méthylcellosolve, la cyclohexanone, le diméthylformamide, le diméthylsulfoxyde, l'isopropanol et le dioxanne.