FR 2480506 A1 19811016 FR 8107276 A 19810410 La présente invention concerne une cellule photovoltalque de grande surface, comprenant des couches semiconductrices qui, en con- tact avec un autre semiconducteur, un métal ou un électrolyte, ont formé une couche de barrière à déplétion, ainsi qu'une électrode et une contreélectrode pour le prélèvement du courant. De telles cellules sont utilisées essentiellement pour convertir l'énergie solaire en énergie électrique; elles sont également appelées piles solaires. On peut distinguer deux types de piles solaires: les piles "sèches" et les piles "humides". Dans les premières, la couche de barrière à déplétion dans le photoconducteur (souvent en Si ou GaAs) solide (monocristallin ou polycristallin) est transformée en un métal par dopage ou par une réalisation particulière du semiconducteur. Le passage aux contacts de connexion doit alors être exempt de couche d'arrêt. Dans une pile "humide", qui peut aussi être appelée pile photoélectrochimique, la couche d'arrêt se forme entre le semiconduc- teur et l'électrolyte. Les piles, dont le matériau semiconducteur-peut être polycristallin, sont moins coûteuses, mais le prix élevé du matériau représente encore une grave limitation dans le cas de toutes les piles solaires connues. Il existe en outre des problèmes importants pour l'accroissement du rendement, l'augmentation de la surface irra- diée, l'établissement de connexions, l'évacuation du courant et la résistance aux intempéries. Un aperçu de l'art antérieur se trouve par exemple dans Topics in Applied Physîcs (Ed. B.O. Seraphim), vol. 31, Springer, Berlin, 1979. L'article de M. Savelli, J. Bougnot décrit par exemple, aux pages 213 à 256, une pile au Cu2S-CdS à effet avant. Un film porte une couche de CdS de 30 Pm d'épaisseur et une couche de Cu 2S de 0,2 Pm. Les connexions sur la face exposée A la lumière se font à l'aide d'une grille imprimée d'or ou de cuivre. Les sections de conducteur ne con- viennent pas pour la transmission de courants relativement intenses. Une pile solaire "humide" est décrit par H.Gerischer aux pages 115 à 172 du volume précité. Les connexions sur la face avant se font à l'aide d'un verre conducteur, qui se prête mal à la transmission de courant avec de faibles pertes dans le cas d'une réalisation de grande surface, par suite d'une conductibilité trop faible. Les densités de courant usuelles atteignent actuellement 25 mA/cm2 pour une tension de pile de 0,4 a 0,8 V, selon le type de semiconducteur. La technologie des piles en couches minces est appliquée pour obtenir un rendement massique plus élevé; de telles piles réalisées & partir de films sont partiellement flexibles. La couche d'absorption de la lumière solaire, qui contient la couche semiconductrice de barrière à déplétion (couche d'arrêt) et produit la tension photo- électrique, est de 1 à 5 pm. Cette épaisseur de couche n'est pas seule caractéristique de la technologie des couches minces; elle doit être suffisamment faible pour que le rendement ne diminue pas. L'épaisseur de la couche semiconductrice ne doit pas être sensiblement supérieure à celle de la couche d'arrêt pour assurer une séparation effective des électrons et des trous dans la couche d'arrêt, ainsi qu'une transmis- sion sans pertes des porteurs de charge. La largeur de bande interdite du semiconducteur doit être comprise entre 1,0 et 1,7 eV pour une bonne utilisation de la lumière solaire; les matériaux suivants sont connus Cu2S, CdS, CdTe, Cu2Te, CuInSe2. Une absorption lumineuse totale dans la couche semiconductrice n'est pas atteinte dans les piles en couches minces connues. Des pertes par réflexion se produisent sur la surface du semiconducteur. Il est en outre impossible d'éviter totalement des pertes de polarisation et de recombinaison. Même dans une pile solaire ayant une longueur de côté de 1 m, les pertes de tension doivent être inférieures à 10 mV, ce qui est irréalisable jusqu'à présent. L'inven- tion a pour objet le développement de cellules photovoltalques de surface et de puissance plus élevées,plus légères et dans lesquelles les inconvénients de l'art antérieur sont suffisamment réduits. On a constaté qu'il est possible de s'écarter de la structure planar connue des piles en couches minces en utilisant non pas des films, mais des structures textiles plates métallisées pour le subs- trat et les électrodes. Les "irrégularités", la structure textile plate tridimensionnelle, représentent un avantage particulier, car il en résulte une diminution des pertes optiques et un accroissement du rendement. Selon une caractéristique essentielle de l'invention, le substrat de la couche semiconductrice photoactive, qui constitue simultanément l'électrode sur ladite couche semiconductrice, est une structure textile plate métallisée, une première couche métallique au moins étant déposée chimiquement par voie humide sur la structure tex- tile plate, puis suffisamment renforcée chimiquement par voie humide ou galvaniquement. Il est avantageux que la contre-électrode soit également une structure textile plate métallisée, pour laquelle aussi une première couche métallique au moins est déposée chimiquement par voie humide. Il est particulièrement important que la première couche métallique déposée sur la structure textile plate ait une épaisseur de 0,05 à 2,5 Pm, la méthode dé dépôt de ce métal sur ladite structure garantissant la réalisation pratique d'un "gainage complet". Il est facile d'observer au microscope la métallisation de structures textiles plates. On n'observe pas d'ombres, telles que celles produites par la vaporisation par exemple. La conductibilité électrique élevée est en outre un indicateur sûr du dépôt chimique par voie humide de la couche métallique. Il est particulièrement favorable que la surface de la structure textile plate métallisée soit notablement supérieure A celle d'un film comparable. Du point de vue technologique, il est particu- lièrement avantageux de pouvoir produire chimiquement le semiconduc- teur photoactif de la pile solaire à partir de la couche métallique déposée chimiquement par voie-humide. Il est particulièrement avanta- geux que la structure textile plate métallisée agisse comme un "piège optique" sur le rayonnement actif incident, cette condition est par exemple satisfaite par une structure textile plate du type velours ou du type mousse à cellules ouvertes. Il peut être utile de prévoir en outre un revêtement conducteur ou photoconducteur, ou un film de séparation entre le semiconducteur et la contre-électrode. Une forme de réalisation spéciale permet de réunir l'électrode et la contre- électrode dans une seule structure textile plate, sous forme de chaine et trame par exemple. Dans une forme de réalisation particulière, des sensibilisateurs ou des colorants fluorescents sont incorporés à la résine utilisée pour le revêtement. Dans une autre forme de réali- sation avantageuse, une couche de protection transparente entoure la pile solaire. La notion de structure textile plate doit être comprise dans un sens très large; il s'agit de tissus, tricots, non-tissés en polymères 248050o synthétiques organiques, fibres naturelles ou fibres minérales, mais des films grainés, des mousses à cellules fermées ou ouvertes, ou des papiers conviennent également. Il est particulièrement important que la première couche métallique au moins soit déposée chimiquement par voies humide sur ces structures plates. Le mode de métallisation important pour l'invention est connu; il est notamment décrit pour divers matériaux textiles dans les demandes de brevet de la République fédérale d'Allemagne publiées sous les numéros 2 739 179, 2 743 768, 2 749 151, 2 804 031, 2 820 502, 2 820 525. La métallisation chimique par voie humide produit une enduction régulière. Les structures plates métallisées demeurent flexibles après l'enduction; la conductivité électrique est supérieure de plusieurs ordres de grandeur à celle de structures plates vaporisées, contenant la même quantité de métal. 1s L'emploi des structures textiles plates métallisées permet de réaliser des cellules d'une longueur de côté de 1 m ou plus, c'est-à- dires dex courants de cellule de l'ordre de 100 A pour des pertes de tension inférieures à 10 mV. Des cellules photovoltaiques à structures textiles plates métal- lisées constituent un nouveau type, différent des cellules constituées par des films; le rendement optique est plus élevé. Les pertes par réflexion su r la couche absorbante diminuent par suite de l'échelon- nement en hauteur de la structure textile; les réflexions multiples augmentent le rendement; la structure textile plate se comporte comme un piège optique pour la lumière active incidente. Un avantage important réside dans les connexions à faible résis- tance d'arrivée et de départ du courant photoélectrique, même sur des piles solaires de très grande surface, ainsi que dans la sensibilité réduite aux dérangements, par suite de la souplesse conservée des électrodes. Une formation de ponts métalliques entre les fibres n'est pas observée. La structure incohérente de grandes surfaces est un avantage importants La surface spécifique métallique est très élevée (dans un rapport pouvant dépasser 100 selon la constitution du textile). Le rendement global peut être doublé. Le dépôt chimique par voie humide de la couche métallique assure une bonne adhérence sur le substrat; aucune abrasion gênante n'est observée. La quantité de métal déposée sur la structure textile plate est telle que la résistance (mesurée selon DIN 54 345) se situe entre 0,001 et 0,01 Q. En d'autres termes, l'épaisseur de la couche métallique déposée doit être comprise entre 0,5 et 25 Vm. Il est apparu qu'il n'est pas nécessaire de déposer chimiquement par voie humide la totalité du métal, mais qu'il suffit de déposer ainsi au moins une couche de 0,05 à 2,5 Vm; le renforcement de la couche jusqu'à l'épaisseur requise peut alors se faire électro- chimiquement par exemple. La couche semiconductrice photoactive peut être déposée à partir de la phase vapeur, gaz ou liquide. Il est toutefois particulièrement avantageux de la former à partir de la couche métallique sur la struc- ture textile plate. Divers procédés sont connus pour ce faire. Pour produire par exemple une couche de sulfure de cadmium n, il est pos- sible de déposer électrochimiquement sur la structure textile plate métallisée une couche de cadmium, que des méthodes chimiques connues permettent ensuite de transformer en une couche de sulfure de cadmium présentant l'épaisseur et la composition requises. Il est par exemple connu aussi de produire, sur une couche de cuivre dépoasée chimiquement ou électrochimiquement, une couche de Cu2S de type p, sur laquelle est ensuite déposée une couche de CdS de type n. Des photos faites au microscope électronique à balayage montrent que la surface est très fortement augmentée, selon la constitution du textile. Le rendement de la pile solaire augmente par suite de l'absorption plus efficace du rayonnement par réflexion multiple et de la diminution de la résistance de passage entre les sorties et le photosemiconducteur. Pour améliorer le contact avec la contre-électrode, il peut être nécessaire de déposer un revêtement conducteur ou photoconducteur, ou un film de séparation sur la contre-électrode, Il peut être utile d'incorporer des colorants sensibilisateurs et/ou fluorescents à la résine. Ces dispositions per- mettent d'augmenter encore le rendement dans certaines conditions. Le revêtement permet aussi d'interdire dans une large mesure des courants de retour dus à des courts-circuits. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention seront mieux compris à l'aide de la description détaillée ci-dessous et des dessins annexés sur lesquels la figure 1 représente le schéma d'une pile solaire "sèche"; la figure 2 représente le schéma d'une pile solaire "humide"; la figure 3 représente le schéma d'une électrode à "structure velours"; et la figure 4 représente le schéma partiel d'une cellule, dont l'élec- trode et la contre-électrode sont réunies dans une structure textile plate. La description suivante porte essentiellement sur une pile- solaire comportant une couche d'arrêt semiconductrice p-n. L'homme de l'art sait que des compobés intermétalliques ou des couches MIS sont naturellement utilisables aussi dans des piles solaires. Dans le cas d'une pile solaire selon figure 1, on part d'un tissu en fibres dis- continues de polyester-coton a armure toile 1/1; les fibres discon- tinues de polytéréphtalate d'éthylène représentent 50 % et le coton %. La métallisation chimique par voie humide avec du cuivre est décrite dans la demande de brevet de la République fédérale d'Alle- magne publiée sous le n0 1 197 720. Le tissu est immergé à température ambiante dans une solution colloïdale de palladium dans de l'acide chlorhydrique (pH _ 1). Après un séjour d'environ 2 mn au maximum, avec légère agitation, le produit est retiré, puis rincé A l'eau a la température ambiante. On le plonge ensuite pendant 1,5 minute environ dans de la lessive de soude à 50 %, à température ambiante. L'échan- tillon est ensuite rincé pendant 30 secondes avec de l'eau à la tem- pérature ambiante, puis introduit dans une solution à température ambiante, comprenant 30 g/l de sulfate de cuivre, 100 g/l de sel de Seignette et 50 ml/l d'une solution de formaldéhyde à 37 % en poids. Le pH est ajusté à une valeur comprise entre Il et 12, avec de la lessive de soude. Au bout de 20 secondes, la surface du produit activé commence à se colorer, avec dépôt de cuivre métallique et dégagement d'hydrogène. Après 20 minutes environ, une couche de cuivre brillante d'environ 0,8 pm, s'est déposée sur la surface des fibres. Après deux heures environ, le dépôt de cuivre métal sur le tissu est d'environ g/m. L'échantillon est rincé, puis séché avec précaution, afin d'éviter une oxydation superficielle de la couche de cuivre. La résis- tance superficielle (mesurée selon DIN 54 345) est de 0,0102 n pour un courant linéique de 3 mA/cm et de 0,0110 n pour un courant linéique de 294 mA/cm. Une épaisseur de 10 à 25 pm de la couche de cuivre s'est révélée être optimale pour la cellule; il est indifférent que la couche complète soit déposée chimiquement ou électrochimiquement, à condition qu'une première mince couche de métal soit déposée chimiquement sur le tissu. Une couche de Cu S de type p, d'une épaisseur d'environ 1 lim,' est * 2 produite sur la couche de cuivre. Une couche de CdS est ensuite pulvé- risée sur la couche de CdS, puis un formage de la couche d'arrêt est effectué. Cette technique est par exemple décrite dans l'article précité de Savelli et Bougnot. Le tissu enduit 1 est contre-collé dans une résine 2 conductrice ou photoconductrice, telle que du polyvinylcarbazol, puis doublé avec la contre-électrode, avec utilisation d'une résine conductrice ou photoconductrice. La contre-électrode 3 est également une structure textile plate métallisée avec du cuivre. Pour obtenir une jonction aussi exempte que possible de couche d'arrêt, il peut être utile de déposer en outre une couche de 0,2 à 0,4 bm d'or, argent ou nickel. L'épaisseur de la couche de résine 2, entre la couche semi- conductrice et la contre-électrode 3, ne doit être que de quelques pm, afin de garantir une faible résistance de connexion; elle est destinée à interdire des courts-circuits entre les tissus métallisés. Au lieu de résines organiques conductrices, on peut utiliser aussi des résines non conductrices transparentes (opaques) avec une addition conductrice ou photoconductrice, telle que ZnO, CdS ou un pigment TiO2 conducteur, avec un grain de 0,1 à 0,5 vm et à une concentration de 1 à 15 % vol., le cas échéant après sensibilisation du pigment avec des colorants tels que Rhodamin B (pour plus amples renseignements, cf. C.K. Chiang et al., Appl. Phys. Lett., (1978), 13, 18/20). De telles cellules sont utilisables en cellules à effet avant ou à effet arrière. Dans une cellule à effet avant, la lumière atteint d'abord la couche d'électrode 1 à densité optique relativement élevée, c'est-à-dire le tissu métallisé portant la couche d'arrêt photosemi- conductrice. La maille cgoisie est suffisamment petite pour que 50 à 95 % de la lumière incidente soient absorbées. La lumière trans- mise est utilisée pour augmenter la conductibilité de la résine photo- conductrice 2 dans la région du trajet du courant photoélectrique. Le tissu de la contre-électrode 3 doit être aussi dense que possible et présenter une surface spécifique élevée, afin de garantir une faible résistance de passage entre la résine et la contre-électrode (doublage à coeur). Le tissu de fils continus, décrit ci-après et d'une épaisseur comprise entre 0,1 et 0,5 mm, convient par exemple. Le tissu de fils continus contient 100 % de polyacrylonitrile et présente la consti- tution textile suivante. Chaîne et trame: 238 dtex {effectif) en dtex 220 f 96 Z 150, 38,5 fils de chaîne/cm et 27 fils de trame/cm Armure serge 2/2 Poids 155 g/m2. Le tissu est nickelé. Il est activé dans un bain d'une solution colloIdale de palladium dans l'acide chlorhydrique, puis dans une solution contenant 0,2 mol/l de chlorure de nickel, 0,9 mol/l d'hydro- xyde d'ammonium et 0,2 mol/1 de perphosphite de sodium, dans laquelle on introduit une quantité suffisante d'ammoniac pour obtenir un pG d'environ 9,4 à 20 OC. Au bout de 10 secondes seulement, l'échantillon présente une coloration sombre par dépôt de nickel. Après 20 secondes, l'échantillon flotte avec dégagement d'hydrogène et est totalement recouvert de nickel. L'échantillon est maintenu pendant 20 minutes dans le bain de sel métallique. Il absorbe 40 % en poids de nickel métal pendant ce temps. La cellule représentée à la figure 1 est aussi utilisable en cel- lule à effet arrière. La lumière traverse alors d'abord la contre- électrode 1, qui doit présenter une transmission lumineuse de 80 à % grâce au choix d'une maille suffisamment grande du tissu ou du tricot. L'électrode 3 portant la couche d'arrêt semiconductrice est, comme précédemment décrit, doublée avec la contre-électrode 1, à l'aide d'une résine 2 transparente (opaque) et conductrice ou photo- conductrice. Le substrat de cette couche d'arrêt photosemiconductrice peut avantageusement présenter dans ce type de cellule une structure dimensionnelle prononcée, c'est-à-dire être par exemple, selon la figure 3, un velours ou un tricot, qui garantit une bonne absorption de lumière incidente par réflexion multiple. Dans une autre cellule photovoltatque en couches minces, on dépose une couche de cuivre pour métalliser la structure plate, puis une couche de nickel, qu'une oxydation transforme en un semiconduc- teur p. Du sulfure de cadmium, dopé avec du sélénium ou du tellure convient comme semiconducteur n. Dans une autre cellule photovoltaique en couches minces, du cadmium est déposé sur un substrat de cuivre-nickel, puis transformé électrochimiquement sous une épaisseur de 0,1 à 1 pm, et combiné avec un conducteur organique p. Il est également possible de constituer un semiconducteur à l'aide de semiconducteurs organiques p et n (des polyacétylènes dopés par exemple). Les résines conductrices peuvent servir simultanément au contre- collage de l'électrode et de la contre-électrode. Un autre avantage réside alors dans la connexion de grandes surfaces-et faibles résis- tances des résines relativement mauvaises conductrices par le tissu métallique, caractérisé par une très faible résistance superficielle et pouvant être contre-collé- directement dans la résine. Les tissus métallisés 1, 3 constituant les électrodes comportent un dépôt de cuivre d'une épaisseur d'environ 25 Vm, qui réduit la résistance superficielle à des valeurs inférieures à 0,01 n, de sorte que les pertes de tension peuvent être maintenues au-dessous de 10 mV, même dans le cas de grandes cellules. Il est en outre possible. de déposer une couche superficielle d'environ 0,1 à 1.m d'un métal assurant un passage pratiquement sans couche d'arrêt (exemples *-Au, Ag, Al, Ni). La pile solaire peut être munie d'une résine de couverture transparente 4, 5 pour améliorer la résistance aux intempéries et de produits de protection contre la dégradation par oxydation et le vieillissement par la lumière. Pour augmenter le rendement de la cellule photovoltaique, il est en outre possible d'incorporer à la résine des colorants fluorescents, qui transforment la longueur d'onde sur la plage d'absorption de la couche d'arrêt photosemiconduc- trice. La figure 2 représente schématiquement une cellule photovoltalque ou photoélectrochimique ("humide"). Des structures textiles plates métallisées présentent dans ce cas aussi les avantages précédemment décrits par rapport aux électrodes planes utilisées auparavant, en films métalliques, plaques de charbon ou bioxyde d'étain (indium) sur verre. La grande surface spécifique permet une densité de courant élevée dans l'électrolyte avec une faible polarisation; l'échelonne- ment des hauteurs des surfaces photoactives produit une absorption lumineuse efficace par réflexions multiples. La figure 2 représente une cellule à effet arrière. La lumière traverse. d'abord la contre- électrode 6, qui est par exemple un tiseu métallisé en fibres de coton a large maille, afin de produire une transmission lumineuse de à 95 %. Une couche d'or, d'une dpalsseur-de 0,2 à 0,5 im, est déposée chimiquement ou électrochimiquement sur la couche de cuivre déposée chimiquement avec une épaisseur de 25 im au maximum. L'élec- trode 7 portant le photoconducteur est également recouverte de 10 à 4m de cuivre, puis d'une couche de cadmium d'une épaisseur de 5 à pm. La couche de cadmium est ensuite recouverte galvaniquement d'une couche photoconductrice de CdS, d'une épaisseur d'environ 0,1 à 1 pm, dans un électrolyte de Na2S-polysulfure. L'électrode 6 et la contre-électrode 7 sont disposées, avec un intervalle de 0,1 & 1 mm, dans une cellule photoélectrochimique, avec utilisation d'un sépara- teur 8 transmettant la lumière et le courant (tel qu'un' tissu non métallisé de fils continus). L'électrolyte liquide est constitué par un mélange de 1 mol/1 Na2S et 0,05 mol/1 S dans l'eau. La couche d'arrét semiconductrice se forme au contact entre la surface de sul- fure de cadmium et l'électrolyte. Après une ou plusieurs réflexions, la lumière incidente est absorbée par la mince couche semiconductrice (0,5 à 0,6 lm). On peut pratiquement adopter une épaisseur de la couche semiconductrice égale à l'épaisseur de la couche d'arrêt, sans augmentation sensible des pertes par réflexion. On évite ainsi les pertes de porteurs de charge par recombinaison, qui sont habituelle- ment très importantes dans le cas des couches polycristallines en films minces.- La pile solaire peut dans ce cas aussi être munie d'une résine de couverture transparente 9, 10. Une modification de la structure textile plate métallisée permet d'améliorer encore les propriétés de la pile solaire. Lorsque par exemple un tissu à armure toile 1/1 en fibres discontinues de poly- acrylonitrile, fortement nickelé selon la demande de brevet de la République fédérale d'Allemagne publiée sous le n 2 743 768 et présentant une teneur en nickel de 25 g/m, ou un tricot en fibres discontinues de polyacrylonitrile poreuses présentant une teneur en nickel de 32 g/m, est imprégné avec une solution d'un polyurdepoly- uréthanne dans un mélange 7/3 de toluène-isopropanol, puis séché sous vide a température élevée, une concentration variable-de la solution permet d'obtenir des revêtements d'&paisseur différente sur les structures textiles plates métallisées. L'enduction avec ce polyurée- polyuréthanne permret de réduire notablement la résistance électrique de la structure textile plate métallisée, par exemple de 10,9 & 6,0 n pour le tissu ou de 11,6 A 6,6 a pour le tricot (la tension de mesure est de 0,25 V dans ce cas et la concentration d'enduction de 5 % PU). L'effet est encore plus prononcé quand la concentration en polyuré- thanne est portée a 20 %; la résistance diminue de plus de moitié dans certains cas. Des additions conductrices aux résines d'enduction per- mettent d'améliorer encore la conductibilité électrique. Le dépôt d'une très mince couche d'or permet de réduire encore la résistance superficielle de la structure textile plate métallisée. Un tissu de fils continus de polyacrylonitrile est cuivré comma pré- cédemment décrit, puis revêtu après 5 minutes environ d'une couche de cuivre de 0,2 pm. Cet échantillon légèrement cuivré est introduit dans un bain d'or alcalin (70 C, 6 g d'aurocyanure de potassium par litre d'eau, pH 10). De l'or se dépose sur le tissu au bout de 5 secondes. L'épaisseur de la couche d'or atteint 0,2 lm environ au bout de 5 mi- nutes. La résistance superficielle de cet échantillon (mesurée selon DIN 54 345) est de 0,4 a. La figure 3 représente une structure textile plate métallisée du type "velours" fortement agrandie. Les "poils du velours" sont pra- tiquement perpendiculaires au substrat 11. Le dépôt métallique chimique ?g par voie humide produit sur chaque poil 11 et -sur la base 12 un revê- tement 13, 14 régulier, 13 étant la couche métallique bonne conductrice 3É et 14 la couche semiconductrice, dont l'épaisseur ne doit pas être supérieure A celle de la couche de barrière & déplétion. L'espace en- tourant et surmontant les poils 11 est rempli par l'électrolyte 15. Une telle structure d'électrodes convient particulièrement bien pour une cellule a effet arrière. La lumière reçue par le haut est, par suite des réflexions multiples, convertie avec un rendement supérieur à celui d'un montage planar. L'électrode et la contre-électrode d'une cellule peuvent aussi être réunies dans un seul tissu. La figure 4 représente partiellement une telle cellule. Dans le cas d'une armure toile 1/1, les fils de chaîne 30 peuvent constituer l'électrode et les fils de trame 31 la contre- électrode. Pour la production du tissu, on utilise par exemple des fils de chaîne cuivrés et cadmiés, et des fils de trame cuivrés et dorés. Après la réalisation du tissu, une couche photoconductrice de sulfure de cadmium est déposée anodiquement sur les fils cadmiés, de la façon précédemment décrite, afin de produire la couche photosemi- conductrice sur les fils de chaîne. La couche 32 déposée directement sur les fils de chaîne 30 est constituée de cadmium/cuivre; la couche de sulfure de cadmium 33 est déposée sur la précédente. Le fil de trame 31 est entouré par une pre- mière couche 34 de nickel/cuivre, constituant le substrat d'une couche d'or 35, qui forme la contre-électrode. Les fils sont entourés par l'électrolyte 36. Dans cette cellule photovoltaIque "humide", la couche d'arrêt se forme entre l'électrolyte 36 et la couche de sulfure de cadmium 33. Une telle cellule est utili- sable sans séparateur, car un court-circuit avec les fils de trame est interdit par la couche dense de sulfure de cadmium. Un tissu de fils continus est utilisé de préférence pour de telles cellules. Il est toutefois possible aussi d'introduire un séparateur sous forme d'une enduction (d'un matériau non conducteur de l'électricité) des fils de trame, perméable aux ions de l'électrolyte. De telles cellules photoélectriques "intérieures" à une structure textile plate présentent des résistances internes particulièrement faibles, du fait de la faible distance entre les électrodes et de la surface spécifique élevée des électrodes. Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'hom=e de l'art au principe et aux dispositifs qui viennent d'être décrits uniquement à titre d'exemples non limitatifs, sans sortir du cadre de l'invention. R E V E N D I C A T I 0 N S 1. Cellule photovolta:que de grande surface, comportant des couches semiconductrices qui, en contact avec un autre semiconducteur, en métal ou en électrolyte, ont formé une couche de barrière à déplétion, ainsi qu'une électrode et une contre-électrode pour le prélèvement du courant, ladite cellule étant caractérisée en ce que le substrat (1, 6, 11, 12) de la couche semiconductrice photoactive (14), qui constitue simultanément l'électrode (13) sur ladite couche semiconductrice, est une structure textile plate métallisée, une première couche métallique au moins étant déposée chimiquement par voie humide sur la structure textile plate, puis suffisamment renforcée chimiquement par voie humide ou électrochimiquement. 2. Cellule selon revendication 1, caractérisée en ce que la contreélectrode (3, 7) est également une structure textile plate métallisée, une première couche métallique au moins étant déposée chimiquement par voie humide. 3. Cellule selon revendications 1 et 2, caractérisée en ce que l'épaisseur de la couche déposée chimiquement par voie humide sur les structures textiles plates (1, 3, 6, 7) est comprise entre 0,05 et 2,5/um. 4. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que la surface de la structure textile plate métallisée (1, 3, 5, 6, 12) est supérieure à la surface géométrique. 5. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisée par l'emploi d'un semiconducteur photoactif qui peut être produit chimiquement à partir de la couche métallique déposée sur la structure textile plate constituant le substrat. 6. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisée en ce que la structure textile plate métallisée présente un échelonnement spatial en hauteur, qui absorbe totalement le rayonnement efficace incident par réflexion multiple. 7. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée par un revêtement conducteur ou photoconducteur, ou un film de séparation (2, 8) entre l'électrode et la contre-électrode. 8. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée par l'incorporation de sensibilisateurs ou de colorant fluorescent à la résine utilisée pour le doublage. 9. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisée en ce que la pile solaire est munie d'une couche de protection transparente. 10. Cellule selon l'une quelconque des revendications 1 et 5 à 9, caractérisée en ce que l'électrode et la contre-électrode sont réunies dans une structure textile plate (sous forme de chaîne (30) et de trame (31)).