FR 2475202 A1 19810807 FR 8025591 A 19801128 La présente invention apporte des perfectionnements à la techniqued'application par projection de matière ré- fractaire monolithique. Cette technique est applicable à la construction et à la remise en état de fours industriels et métallurgiques et de matériel réfractaire analogue. On utilise couramment la technique de projection de matière réfractaire que pour revêtir l'intérieur de pe- tites constructions telles que cheminées et conduits. Toute- fois, depuis peu, on tend à adopter cette méthode pour réa- liser des fours industriels dont le garnissage est constitué en totalité par projection de matière réfractaire monoli- thique. La projection est généralement opérée à température ambiante mais, pour assurer depuis peu la remise en état de fours industriels et métallurgiques, on a tendance à pro- Jeter la matière réfractaire alors que le four est encore chaud, car on estime qu'il y a incommodité et perte de temps à mettre le four à l'arrêt et à le refroidir pour la simple remise en état d'une section partiellement usée. La projection de matière réfractaire monolithique peut être opérée de deux manière: par voie sèche et par voie humide. Lorsqu'on opère par voie sèche, la matière pulvérulente est transportée à l'état sec d'un récipient à un ajutage par de l'air comprimé, puis mélangée avec de l'eau et projetée. Quand on procède par voie sèche, la ma- tière pulvérulente est mélangée avec de l'eau le récipient et envoyée à l'ajutage à l'état pâteux, puis projetée à l'air comprimé. Dans les deux cas, toutefois, la matière réfrac- taire est projetée à travers un ajutage qui est espacé de la surface à revêtir située en face de lui, et l'adhérence de la matière à cette surface est provoquée par collision. De ce fait, une partie de la matière risque de rebondir ou d'être chassée par le jet d'air, ce qui provoque des pertes de matière.. Ces pertes deviennent particulièrement impor- tantes lorsqu'il s'agit de revêtir un mur vertical ou un plafond, et atteignent parfois quelque 10 % de la matière mise en oeuvre. De plus, une fois hydratée, la matière n'est pas réutilisable, de sorte que ce type de pertes est jugé néfaste pour la diffusion de la technique de projection. La méthode de projection courante présente en outre les inconvénients suivants (a) la matière qui rebondit se disperse aux alen- tours sous forme de poussière, ce qui rend malsain le mi- lieu de travail. (b) Quand la matière est projetée couche par couche sur la surface à revêtir, pour former un garnissage, celui- ci s'écaille facilement lorsqu'il dépasse une certaine épaisseur limite. Cette épaisseur-limite est d'environ 100 à 120 mm. En fait une telle épaisseur limite l'application de la technique de projection à la simple réparation de parties usées localement. Selon le procédé objet de la présente -invention, on entoure la surface à revêtir d'un ortgane faisant écran, tel que treillis métallique, présentant des trous propres à laisser s'échapper l'air, cet organe étant placé à une certaine distance de la surface à revêtir afin de définir avec elle un espace, et la matière réfractaire est projetée dans cet espace. Alors que l'air véhiculant la matière projetée s'échappe à travers les trous de l'organe-écran, celui-ci intercepte la matière réfractaire, qui se dépose entière- ment dans ledit espace pour former un garnissage. Les par- ticules de matière projetée s'agglomèrent les unes aux autres et adhèrent à la surface traitée pendant que la ma- tière projetée demeure collante. Le procédé selon l'invention permet non seulement de minimiser les pertes de matière précitées, mais encore d'améliorer beaucoup le milieu de travail en réduisant la dispersion de la matière projetée. Il permet encore d'augmen- ter l'épaisseur de garnissage parce que l'écaillage de ce dernier est interdit, d'une manière qu'on exposera ci- dessous dans la description détaillée qu'on va maintenant donner d'un mode préféré de réalisation de l'invention, pris à titre d'exemple non limitatif, en se référant au dessin annexé, dont la figure unique représente en pers- pective une partie d'une construction en réfractaire et illustre la mise en oeuvre de la présente invention. Sur le dessin, on voit en 1 une partie du brique- tage de la construction réfractaire et en 1' la surface à revêtir de réfractaire. La surface à revêtir 1' est entourée dlrn organe- écran 2, tel que treillie métallique présentant des trous d'échappement d'air 2'. L'organe-écran 2 est placé à une-certaine distance de la surface à revêtir 1' pour définir avec elle un espace A dont l'épaisseur correspond approximativement à celle souhaitée pour le revêtement. La matière est projetée dans l'espace A à travers un ajutage 3, de préférence orienté parallèlement ou avec un léger biais par rapport à la surface à revêtir 1'. La matière projetée 4 s'accumule dans l'espace A sur la face inférieure B du briquetage 1 et s'élève graduellement. Les pertes de matière et la quantité de poussière dispersée sont très fortement réduites grâce à l'effet filtrant exercé par l'orqane-écran 2. Les particules de matière pro- jetée retenues à l'intérieur de l'organe-écran 2 et qui s'amoncellent dans l'espace A s'agglomèrent les unes aux autres et adhèrent à la surface à revêtir au cours du temps bref pendant lequel la matière 4 demeure collante, ce qui forme un garnissage sur la surface à revêtir 1'. Grâce à l'invention, il n'apparaît pas de plan de joint entre couches, ou du moins un tel plan, s'il apparaît est perpendiculaire à la surface revêtue au lieu de lui être parallèle comme avec le procédé de projection clas- sique, ceci parce que la projection est dirigée parallèle- ment à la surface à revêtir l',-ce qui permet de limiter l'écaillement du garnissage et de rendre celui-ci robuste et tenace. Si l'on a à revêtir une paroi verticale sans sur- face inférieure adjacente, on peut utiliser pour supporter N le garnissage formé un organe-écran à mailles plus nom- breuses, c'est-à-dire à trous plus petits, ou une plaque et, quand la paroi est relativement haute, on peut pro- longer l'organe-écran vers le haut à mesure que la pro- jection progresse. - - L'organe-écran peut être formé d'un treillis ou grillage. en métal, matière plastique ou bois, et peut, être soutenu par un organe de support approprié-.. L'organe-écran peut être fixé sur la partie.à revêtir et déposé après réalisation du garnissage. Dans certains cas, on peut l'abandonner sur place et le laisser fondre ou brûler à la haute température de fonctionnement du four. Parfois, l'organe-écran peut être conçu pour se déplacer avec l'ajutage. On peut choisir-la grandeur des trous de l'organe- écran, en fonction de-la viscosité de la matière à projeter, de la pression de projection etc.., dans un intervalle allant de 5 à 100 mm environ, mais si ces trous sont trop. grands, les pertes de matière risquent d'augmenter et, s'ils sont trop petits, l'adhérence du garnissage peut s'en trouver réduite parce qu'il est difficile à l'air de s'échapper, Le procédé de projection selon la présente invention peut offrir les avantages suivants (a) comme noté plus haut, les pertes de matière. sont minimisées et le milieu de travail est-plus sain du fait qu'on évite la dispersion de la matière. (b) On peut-obtenir aisément un garnissage d'épais- seur requise par une opération relativement-simple. La projection, même à chaud, est facile à opérer grâce à cette simplicité de mise en oeuvre. (c) On peut obtenir un garnissage de forme sou- haitée en donnant à l'organe-écran la configuration voulue. - (d) L'organe-écran est relativement léger et très facile à réaliser. REVENDICATIONS 1.- Procédé pour l'application par projection de matière réfractaire monolithique, caractérisé en ce qu'on entoure la surface à revêtir (1') d'un organe-écran (2), par exemple en treillis, qui présente des trous d'échappe- ment d'air appropriés (2') cet-organe-écran étant situé à une certaine distance de la surface à revêtir pour dé- finir avec elle un espace, et en ce qu'on projette la matière réfractaire (4) dans cet espace à travers un ajutage (3). 2.- Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit ajutage (3) est disposé parallèlement ou avec un léger biais par rapport à la surface à revêtir.