FR 2471622 A1 19810619 FR 8025920 A 19801205 La présente invention concerne une plaque d'impression planographique à sec et son procédé de fabrication. Plus particu- lièrement, l'invention concerne un nouveau type de plaque d'impres- sion planographique présensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utilisation dans la planographie à sec et son procédé de fabrication. Jusqu'à présent, on a proposé plusieurs types de plaques d'impression planographique à sec fonctionnant en négatif comprenant une couche de caoutchouc de silicone qui recouvre une couche photosensible recouvrant un support de base. Par exemple, dans la publication de brevet japonais n' 16.044/1971, on propose une plaque d'impression planographique présensibilisée comprenant une couche de caoutchouc de silicone collée au moyen d'une couche d'adhésif sur une couche photosensible du type diazonium photosolubilisable recouvrant une plaque d'alu- minium. La plaque est exposée à la lumière actinique à travers un film négatif pour solubiliser la couche photosensible dans les zones exposées, ensuite on élimine par dissolution la couche photosensible solubilisée en utilisant un révélateur et, en même temps, on élimine la couche de caoutchouc de silicone, ce qui permet d'exposer comme zone d'image le support de base de la plaque d'aluminium. Egalement, dans les publications de brevets japonais n' 8306/1974 et 7320/1974.et la demande de brevet japonais n0 131.797/1978, on propose une plaque d'impression planographique à sec fonctionnant en négatif ayant la même structure que ci-dessus, dans laquelle la couche photosensible solubilisée et la couche de silicone superposée sont éliminées par développement et la portion exposée du support de base constitue la zone d'image. Dans ces plaques d'impression proposées, la zone d'image a une structure semblable à celle d'une plaque attaquée en profondeur dans laquelle la portion recevant l'encre consiste en creux (ci-après dénommés "cellule(s) ") formés par l'élimination de la couche photosensible solubilisée et de la couche de caoutchouc de silicone qui la recouvre. Dans cette plaque d'impression, il - 247762i- était nécessaire jusqu'à présent d'appliquer une plus grande quantité d'encre sur la plaque d'impression pour que l'encre adhère suffisamment sur les portions de cellulees au moment de l'impression. Cependant, ceci entraîne une forte augmentation de la consommation d'encre, conduisant non seulement à une augmentation du coût d'impression, mais également à un problème sérieux du point de vue de l'effet d'impression, à savoir dans la reproduction de la gradation. Par exemple, dans le cas o l'on alimente en encre une plaque d'impression pour donner une densité optique souhaitable de la portion dite "solide" du sujet imprimé résultant, l'encre n'est pas suffisamment transférée du rouleau de forme d'une machine d'impression dans les cellules de la plaque formant une image par points de la portion dite de lumièresdu sujet imprimé, en particulier dans les-cellules formant de très petits points d'un diamètre de l'ordre de quelques dizaines de microns. Ainsi, les points-du sujet imprimé tendent à sortir de la forme, ou bien parfois il y a suppression de points dans le sujet imprimé du fait de l'absence de transfert de l'encre dans les cellules. D'autre part, si la quantité d'encre à appliquer sur la surface de la plaque est augmentée pour éliminer ce défaut de forme de points, la densité optique de la portion solide devient trop élevée,avec perte de la balance d'effet d'impression, ou bien parfois il peut se produire un problème associé avec la qualité d'impression, par exemple les points dans la zone d'ombre ne sont pas reproduits. Pour résoudre ces problèmes, il peut être efficace de réduire l'épaisseur de film de la couche photosensible à éli- miner par dissolution et de réduire ainsi la profondeur de cellule. Cependant, il est très difficile du point de vue pratique de former uniformément une couche photosensible ayant une épaisseur requise pour résoudre les problèmes précédents associés avec l'impression, par exemple une épaisseur de film d'environ 0,1 u et, en outre, la réduction d'épaisseur de la couche photosensible entraîne une influence physique et chimique accrue du support de base, par exemple, la reproduction de l'image et sa conservation subissent dans de nombreux cas une influence néfaste. Ainsi donc, les plaques d'impression planographique à sec travaillant en négatif proposées jusqu'à présent présentent des inconvénients du point de vue de l'adhérence de l'encre, etc. et sont moins pratiques. L'invention a pour objet d'éliminer les inconvénients ci-dessus mentionnés. Un autre objet de l'invention est de proposer une plaque d'impression planographique à sec fonctionnant en négatif et un procédé pour sa fabrication. D'autres objets et avantages de l'invention apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre. Selon l'invention; on propose une plaque d'impression présensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utilisation en planographie à sec, qui comprend (1) un support de base, (2) une couche photosensible oléophile fixée et super- posée à ce support de base, et (3) une couche de caoutchouc de silicone repoussant l'encre fixée et superposée à ladite couche photosensible, ladite couche photosensible étant sensiblement insoluble dans le révélateur à la fois avant et après l'exposition à la lumière acti- nique et capable de libérer ladite couche de caoutchouc de silicone dans une zone choisie à exposer à la lumière actinique, et ladite couche de caoutchouc de silicone pouvant être éliminée par un révélateur dans ladite zone d'image exposée; une plaque d'impres- sion planographique présensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utilisation en planographie à sec, comprenant une zone d'image constituée par une couche photosensible superposée à un support de base et une zone non-image constituée par une couche de caoutchouc de silicone superposée à ladite couche photosensible; et un procédé pour fabriquer une plaque d'impression planographique sensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utilisation en planographie à sec, ledit procédé consistant à exposer suivant une image un cliché d'impression, ledit cliché comprenant un support de base, une couche photosensible difficile à dissoudre ou insoluble dans le révélateur et superposée audit support de base et une couche 2471 622 de caoutchouc de silicone superposée à ladite couche photosensible, et à traiter ensuite le clichd d'impression exposé avec le révé- lateur pour permettre la seule élimination des zones d'image exposées de la couche de caoutchouc de silicone. La couche photosensible utilisée dans l'invention est difficile à dissoudre ou insoluble dans le révélateur, c'est-à-dire que c'est une couche photosensible spécifique qui, par développe- ment, permet seulement l'élimination de la couche de caoutchouc de silicone superposée, laissant telle quelle la portion exposée de la couche photosensible sans l'éliminer sensiblement. Cette couche photosensible spécifique est obtenue en rendant difficile à dissoudre ou insoluble dans le révélateur un composé photosensible photosolubilisable connu par réticulation dudit composé avec un composé polyfonctionnel ou par modification d'un composé fonctionnel contenu dans ledit composé avec un composé monofonctionnel. A titre d'illustration dudit composé photosensi- ble photo-solubilisable, on peut mentionner les quinonediazides ordinairement utilisés pour les plaques présensibilisées fonc- tionnant en positif, les plaques à essuyer ou les réserves photo- graphiques, tels que les esters obtenus à partir de benzoquinone- 1,2-diazide-sulfonates ou de naphtoquinone-l,2-diazide-sulfonates et de composés polyhydroxylés, par exemple l'ester dérivé du sulfochlorure de naphtoquinone-l,2-diazide et du polyhydroxypoly- phényle, l'ester dérivé du sulfochlorure de naphtoquinone-l,2- diazide et de la résine pyrogallol-acétone et l'ester dérivé du sulfochlorure de naphtoquinone-l,2-diazide et de la résine novolaque phénol-formaldéhyde, ou bien des complexes de composés diazonium et d'acides inorganiques ou organiques, par exemple un complexe photosensible de diazodiphénylamine et d'acide phototungstique. Comme procédé pour introduire une structure réticulée dans ce composé photosensible photo-solubilisable, on peut mentionner un procédé dans lequel on réticule par un agent réti- culant polyfonctionnel des groupements réactifs, par exemple hydroxy et amino, contenus dans ledit composé photosensible. Des exemples de ces agents réticulants sont les polyisocyanates, par exemple paraphénylènediisocyanate, 2,4- ou 2,6-toluylànediisocyanate, 4, 4'-diphénylmdthanediisocyanate, hexaméthylènediisocyanate, isophoronediisocyanate ou leurs adducts, et les omposés polyépoxy, par exemple éthers diglycidyliques de polyéthylûneglycol, éthers diglycidyliques de polypropylène- glycol, éther diglycidylique de bisphénol A et éther triglycidylique de triméthylolpropane. Il est nécessaire que l'opération de réti- culation au moyen de ces agents réticulants soit effectuée dans des conditions o la substance photosensible ne perde pas sa pho- tosensibilité, ordinairement à une température ne dépassant pas 12000 C. A cet effet, on utilise un catalyseur ou agent auxiliaire analogue. Un autre procédé pour rendre difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur ce composé photosensible photo- solubilisable consiste,par exemple,à transformer en groupe uré- thanne, en groupe ester ou en groupe amide un groupe fonctionnel contenu dans ledit composé photosensible. Le composé h faire réagir avec ce groupe fonctionnel du composé photosensible peut être soit un composé de bas poids moléculaire, soit un composé de poids moléculaire relativement élevé. On peut également polymériser par greffage un monomère vinylique sur le composé photosensible. Une couche photosensible particulièrement préférée utilisée selon l'invention est obtenue par réticulat-ion ou modifi- cation d'un ester partiel de naphtoquinone-1,2-diazide-5-sulfo- chlorure et de résine novolaque phénol-formaldéhyde avec un iso- cyanate poly- ou monofonctionnel. Dans la couche photosensible, on peut incorporer d'autres composants en vue d'améliorer les propriétés filmogènes ou l'adhérence sur le support de base, ou bien des colorants pour rendre l'image visible au moment du développement ou de l'exposi- tion, pourvu que cette introduction n'altère pas l'effet de l'invention. L'épaisseur de la couche photosensible spécifique utilisée selon l'invention est de l'ordre d'environ 0,1 à 100/u, de préférence d'environ 0,5 à 10/u. Une épaisseur plus faible est sus- ceptible de provoquer des défauts, tels que la formation de trous 24716,2 d'épingles au moment du revêtement, tandis qu'une épaisseur plus grande est désavantageuse du point de vue économique. La couche de caoutchouc de silicone utilisée selon l'invention consiste principalement en un diorganopolysiloxanne d'un poids moléculaire de plusieurs milliers à plusieurs centaines de mille contenant le motif récurrent de formule suivante R _-Si - Q0 R _ n dans laquelle n est un entier au moins égal à 1 et R est un groupe alkyle en Cl-Co10, alcényle ou phényle, 60% ou plus des restes R étant de préférence des groupes méthyle. Ce diorganopolysiloxanne linéaire peut être mélangé avec un peroxyde organique et traité à chaud pour donner un caoutchouc de silicone a peine réticulé. On ajoute également au diorganopolysiloxanne linéaire un agent réticulant qui est du type vulcanisant à température ambiante (basse température) utilisé pour les caoutchouc de silicone, par exemple acétoxysilanes, hydroximinosilanes, alcoxy- silanes, aminosilanes et amidosilanes. En utilisant ces agents rêticulants avec un diorganopolysiloxanne linéaire à groupes hydroxy terminaux, on obtient des caoutchoucsde silicone du type désacétoxy, du type déshydroximino, du type désoxy, du type désa- mino et du type désamido, respectivement. On ajoute en outre, en général, à ces caoutchouc de silicone une faible quantité d'un composé d'organoétain ou analogue comme catalyseur. L'épaisseur de la couche de caoutchouc de silicone est d'environ 0,5 à 10/u. Une épaisseur plus faible peut provoquer des problèmes du point de vue de l'endurance à l'impression, tandis qu'une épaisseur plus forte n'est pas seulement désavanta- geuse du point de vue économique, mais s'oppose également à l'un des objets de l'invention qui est que la cellule soit peu profonde et, en outre, il devient difficile d'éliminer la couche de caoutchouc de silicone au moment du développement, ce qui conduit & une reproduction moins bonne de l'image. Z471622. Dans la plaque d'impression planographique de l'invention, l'adhérence entre le support de base et la couche photosensible et celle entre la couche photosensible et la couche de caoutchouc de silicone sont si importantes pour les perfor- mances fondamentales de la plaque, telles que reproduction de l'image et endurance de l'impression, que l'on peut, si ndces- saire, former une couche d'adhésif entre les couches ci-dessus, ou bien que l'on peut incorporer dans chacune de ces couches un- composant améliorant l'adhérence,-En particulier, pour la liaison entre la couche photosensible et la couche de caoutchouc de silicone, il est efficace de disposer entre elles une couche d'apprêt de silicone connue ou une couche d'agent de condensation de type silane ou d'incorporer dans l'une ou l'autre couche un apprêt de silicone ou un agent de condensation du type silane. Le support de base doit être suffisamment flexible pour être fixé dans une machine d'impression planographique clas- sique et assez résistant pour supporter la charge appliquée dans l'impression; des supports caractéristiques sont des plaques métalliques, telles qu'aluminium, cuivre et acier, des films de matière plastique, tels que téréphtalate de polyéthylène,et des papiers doubles. Un autre revêtement peut être appliqué sur ces feuilles pour éviter la formation de halo ou à d'autres fins et ces feuilles ainsi enduites peuvent être utilisées comme supports de base. Pour protéger la couche de caoutchouc de silicone constituant la couche de surface de la plaque d'impression plano- graphique à sec ayant la structure ci-dessus, ou à d'autres fins, on peut stratifier un film protecteur mince sur la surface de la couche de caoutchouc de silicone. La plaque d'impression planographique à sec selon l'invention décrite cidessus est fabriquée, par exemple, de la manière suivante. On applique d'abord sur le support de base une solution d'une composition formant la couche photosensible en utili- sant un appareil classique d'enduction, tel qu'un enducteur a cylin- dre inverse, un enducteur à lame d'air ou un enducteur à tige M4ayer, ou un applicateur rotatif, tel qu'un applicateur a tournette, puis on sèche et, si nécessaire, on durcit par la chaleur, puis,si néces- saire, après application d'une couche d'adhésif sur la couche photosensible de la même manière,suivie de-séchage, on applique pardessus une solution de caoutchouc de silicone,également de la même manière,puis on effectue un traitement thermique ordi- nairement à une température de 100 à 120'C pendant plusieurs minutes pour permettre le durcissement à un degré satisfaisant pour former une couche de caoutchouc de silicone. Si nécessaire, la couche de caoutchouc de silicone-ainsi formée est recouverte par un film protecteur au moyen d'un appareil à stratifier. La plaque d'impression planographique à sec de l'invention produite comme décrit précédemment est exposée à la lumière actinique à travers un négatif transparent appliqué sous vide en contact étroit avec ladite plaque. La source de lumière utilisée pour cette étape d'exposition doit produire des radiations ultraviolettes abondantes et on peut utiliser à cet effet des lampes à mercure, des lampes à arc au carbone, des lampes au xénon, des lampes aux halogénures métalliques ou des lampes fluorescentes. Ensuite, on frotte la plaque après exposition avec un tampon de développement contenant un révélateur, de sorte que l'on élimine seulement la couche de caoutchouc de silicone de la portion exposée, tandis que la couche photosensible qui a été rendue difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur par réticulation ou modification reste sans réduction notable d'épais- seur, la surface exposée de la couche photosensible constituant la portion réceptrice de l'encre. Des révélateurs appropriés qui peuvent être utilisés selon l'invention comprennent les hydrocarbures aliphatiques (par exemple hexane, heptane, essence,kérosène), les hydrocarbures aromatiques (par exemple toluène, xylène) o les hydrocarbures halogénés (par exemple trichloroéthylène), qui sont capablesde gonfler le caoutchouc et on y incorpore les solvants polaires suivants: I41 622 alcools (par exemple méthanol, éthanol); éthers (par exemple 2éthoxyéthanol), dioxanne); cétones (par exemple acétone, méthyléthylcétone); esters (par exemple acétate d'éthyle, acétate 2-éthoxy- éthyle), Le principe de la formation d'image par la couche photosensible spécifique de l'invention est inconnu, mais on suppose qu'il est basé sur la variation d'adhérence de la couche photosensible sur la couche de caoutchouc de silicone due à la variation de polarité de la couche photosensible par expositionou S la variation de polarité de la couche photosensible par exposition,ouâ la variation de la propriété de gonflement de la couche photosensible par le solvant de développement. La profondeur des fines cellules recevant l'encre de la plaque d'impression obtenue de cette manière est plus faible de la valeur de l'épaisseur de la couche photosensible que la profon- deur des cellules dans les plaque d'impression planographique à sec fonctionnant en négatif classiques,dans lesquelles la. couche photosensible solubilisée de la zone exposée est éliminée par dissolution et, en même temps, la couche de caoutchouc de silicone superposée est éliminée. La portion à exposer recevant l'encre peut être formée d'une résine fortement réceptive à l'encre. Pour cette raison, l'utilisation de la plaque d'impression planogra- phique de l'invention peut donner une excellente épreuve imprimée sans ce que l'on appelle manque de points. En outre, la zone d'image constituée par la couche photosensible comme couche de surface est facilement teinte par les colorants, tandis que la zone non image constituée par la couche de caoutchouc de silicone comme zone de surface n'est pas teinte; il est donc possible d'examiner la plaque d'impression avec la zone d'image seule teinte. Lorsqu'il est devenu nécessaire d'éliminer la réceptivité à l'encre de la zone d'image concernée par suite de la correction sur épreuve ou analogue, on applique une solution de caoutchouc de silicone sur la portion concernée pour recouvrir la zone d'image avec un film de caoutchouc de silicone. Puisque la couche photosensible de la zone d'image a une adhérence particulièrement supérieure au film de caoutchouc de silicone formé sur la portion éliminée, cette dernière portion a également une excellente endurance d'impression. - Les exemples suivants illustrent l'invention sans toutefois en limiter la portée. Dans ces exemples, les parties s'entendent toujours en poids. EXEMPLE 1 (A) Sur une plaque d'aluminium enduite par conversion chimique (0,3 mm d'épaisseur, produit de la Société Sumitomo Light Metal Industries), on applique une solution pour couche photosensible de composition suivante: (a) ester d'acide naphtoquinone-1,2-diazide- sulfonique de résine novolaque phénolique ("Sumilightresin PR 50235" de la Société Sumitomo Durez Co., Ltd.) ayant un taux d'estérification de 44% 100 parties (b) 4,4'-diphénylméthanediisocyanate 20 parties (c) dilaurate de dibutylétain 0,2 partie (d) acétate de 2-méthoxyéthyle 2000 parties puis on traite à chaud pendant 2 min à 120 C pour former une couche photosensible de 2,6/u d'épaisseur. ensuite une suivante: Sur la couche photosensible ainsi formée, on applique solution de caoutchouc de silicone de composition (a) diméthylpolysiloxane (poids moléculaire environ 80.000, à groupes hydroxy terminaux) 100 parties (b) éthyltriacétoxysilane 5 parties (c) diacétate de dibutylétain 0,2 partie (d) y-aminopropyltriéthoxysilane 3 parties (e) "Iso Par E" 1650 parties puis on chauffe pendant 2 min R 120 C pour faire durcir (réticuler) pour former une couche de caoutchouc de silicone de 2,2/u d'épais- seur. 2471 622 On fait adhérer fortement sous vide de manière connue à la plaque d'impression ainsi obtenue un film négatif ayant une image de points (tramée) de 175 lignes, que l'on expose ensuite suivant une image pendant 60 s à une distance de 31 m en utilisant une lampe à halogénure métallique. On plonge ensuite la plaque dans un solvant mixte éthanol"Iso Par E" (produit de la Société Esso Chemical) 20:80 et on frotte douce- ment avec un tampon de développement, qui enlève la couche de caoutchouc de silicone sur la zone exposée, laissant la surface de la couche photosensible exposée pour donner une image fidèle de l'original. On contrôle l'état de surface de la plaque d'impression ainsi obtenue au moyen d'un appareil d'essai de rugosité de surface du type a stylet (TALYSURF, de la Société Teijin Shoji) et l'on trouve que la surface de la couche photosensible de la zone exposée par développement est très lisse et que l'épaisseur de la couche photosensible de 2,6/u n'est pas réduite. (B) D'autre part, sur la mime plaque d'aluminium que celle décrite cidessus, on forme une couche photosensible de 2,6/u d'épaisseur de composition suivante: (a) ester d'acide naphtoquinone-l,2-diazide- sulfonique de résine novolaque phénolique ("Sumilightresin PR 50235" de la Société Sumitomo Durez Co., Ltd.) ayant un taux d'estérification de 44%. puis on traite pendant 2 min A 120 Co On forme ensuite sur la couche photosensible ainsi formée la même couche de caoutchouc de silicone que celle décrite en (A) ci-dessus de manière à obtenir la meme épaisseur, puis on traite pendant 2 min à 120 C. L'exposition ultérieure et le développement de la même manière que cidessus permettent la dissolution de la couche photosensible de la zone exposée et, en mgme temps, l'élimination de la couche de caoutchouc de silicone superposée, laissant une plaque d'aluminium exposée, pour donner une plaque d'impression. On fixe chacune des plaques d'impression obtenues en (A) et (B) ci-dessus sur une presse offset ("Komori Sprint 2 Color") et on effectue une impression en utilisant du 'Aqualess ST Cyan" (produit de la Société Toyo Ink Mfg. Co.) sans humectage à l'eau. L'impression est faite sur des niveaux de densité optique de la portion solide du sujet imprimé d'environ 2,0 à 0,7, tandis que l'on observe à l'oeil nu à travers un dispositif grossissant (50 X) l'adhérence de l'encre dans la zone des lumières (diamètre des points 50-70/u). On trouve que la densité optique de la portion solide dans laquelle l'adhérence de l'encre est devenue mauvaise (suppression partielle ou totale des points) est de 0,8 à 0,9 dans la plaque (A) et 1,3 à 1,4 dans la plaque (B). Avec la même quantité d'encre, la plaque (A) présente une amélio- ration remarquable de l'adhérence de l'encre dans la zone de points. EXEMPLE 2 Sur une plaque d'aluminium de 0,24 mm d'épaisseur (produit de la Société Sumitomo Light Metal Industries), on applique une résine résole ("Sumilightresin PC-1", de la Société Sumitomo Durez Co., Ltd.) de manière à obtenir une épaisseur de 2/u, puis on traite à 180 C pendant 3 min pour effectuer la réticulation pour donner un support de base. On applique ensuite sur le support une solution de la composition suivante de couche photosensible: (a) ester naphtoquinone-1,2-diazide-5-sulfonique de résine novolaque phénolique (décrite à l'exemple 1) 100 parties (b) 2, 6-toluylènediisocyanate 20 parties (c) dilaurate de dibutylétain 0,2 partie (d) dioxanne 2000 parties et on réticule par chauffage à 120 C pendant 2 min pour former une couche photosensible de 2,4/u-d'épaisseur. On applique ensuite sur la couche photosensible une solution de caoutchouc de silicone de composition suivante: (a) diméthylpolysiloxanne (poids moléculaire environ 80.000) à groupes hydroxy terminaux 100 parties (b) vinyltri6néthyléthylcètoximo)silane 8 parties (c) diacétate de dibutylétain 0,2 partie (d) y- EN-(3-aminoéthyl)amino]-propyl- triméthoxysilane 2,5 parties (e) "Iso Par E"' - 1800 parties et on réticule par chauffage à 120 C pendant 2 min pour former une couche de caoutchouc de silicone de 2,1/u. On expose le cliché d'impression ainsi obtenu pendant 60 s à une distance de 1 m en utilisant une lampe à halo- génure métallique a travers un film négatif,ayant une image tramée à 150 lignes, adhérant fortement sous vide à la plaque. On plonge ensuite la plaque dans un révélateur (Iso Par E-éthanol 9:1) contenant un colorant (Bleu pour huile A) et on frotte légèrement avec un tampon de développement, ce qui enlève seulement la couche de caoutchouc de silicone sur la zone exposéeet on obtient une plaque d'impression ayant une couche photosensible teinte exposée reproduisant exactement l'image du film négatif. EXEMPLE 3 A 30 ml de dioxanne anhydre, on ajoute sous courant de gaz azote 10 g d'isQcyanate de phényle et 20 mg de dilaurate de dibutylétain, puis on ajoute en agitant 7 g d'ester naphtoqui- none-1,2-diazide-5-sulfonique de novolaque phénolique ayant un degré d'estérification de 43%. On continue à agiter pendant 3 h à la température ambiante. Après repos pendant une nuit, on ajoute 1 ml d'eau pour décomposer l'isocyanate de phényle restant. On filtre le mélange de réaction pour séparer le précipité. On place ensuite le filtrat dans un grand excès d'eau pour provoquer la précipitation, puis on filtre et on sèche pour obtenir une poudre jaune. On dissout dans le dioxanne l'ester naphtoquinone- 1,2-diazide-5-sulfonique de résine novolaque phénolique ainsi modifié par l'isocyanate de phényle pour préparer une solution à 2471622- % en poids. On applique cette solution sur une plaque d'aluminium enduite par conversion chimique de 0,3 mm d'épaisseur et on sèche ensuite pour obtenir une couche photosensible de 2,2/u d'épaisseur sur laquelle on applique ensuite une couche de caoutchouc de silicone de la même manière exactement qu'à l'exemple 2. On expose le cliché d'impression ainsi obtenu pendant 60 s à une distance de 1 m en utilisant une lampe à halogénure métallique à travers un film négatif,ayant une image tramée à 150 lignes, adhérant fortement sous vide sur la plaque. On rince ensuite la plaque avec un mélange solvant Iso Par E-éthanol 9:1 et on frotte avec un tamponde développement, ce qui élimine seulement la couche de caoutchouc de silicone sur la zone exposée, laissant la couche photosensible exposée qui constitue une image vraie du film original. On contrôle l'état de surface de la plaque d'impres- sion ainsi obtenue au moyen d'un appareil de détermination de rugosité de surface du type à stylet (TALYSURF de la Société Teijin Shoji) et l'on trouve que la surface de la couche photo- sensible de la zone exposée lors du développement est lisse et que l'épaisseur de la couche photosensible est de 2,21u. EXEMPLE 4 En utilisant chacune des plaques d'impression obtenues dans les exemples 1(A), 2 et 3, on effectue une impression avec le produit "Aqualess ST Magentd'de la Société Toyo Ink Mfg. Co. sans utiliser d'eau d'humidification, au moyen d'une presse offset ("Davidson Dualith 700"). Toutes les plaques d'impression présentent de belles impressions et même après 20.000, 10.000 et 10.000 copies, respectivement, leurs surfaces ne sont pas endommagées, ce qui montre la possibilité de nouvelles impressions. Il est entendu que l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation préférés décrits ci-dessus à titre d'illustration et que l'homme de l'art pourra y apporter des modifications sans sortir du cadre de l'invention. REVEND I CA T I ON S 1. Plaque d'impression pr6sensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utilisation en planographie à sec, caractérisée en ce qu'elle comprend: (1) un support de base, (2) une couche photosensible oléophile fixée et superposée à ce support de base, et (3) une couche de caoutchouc de silicone repoussant l'encre fixée et superposée à ladite couche photosensible, ladite couche photosensible étant sensiblement insoluble dans le révélateur à la fois avant et après l'exposition a la lumière acti- nique et capable de libérer ladite couche de caoutchouc de silicone dans une zone choisie à exposer a la lumière actinique, et ladite couche de caoutchouc de silicone pouvant être éliminde par un révélateur dans ladite zone d'image exposée. 2. Plaque d'impression présensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utilisation en planographie a sec, caractérisée en ce qu'elle comprend une zone d'image constituée par une couche photosensible superposée à un support de base et une zone non-image constituée par une couche de caoutchouc de silicone superposée à ladite couche photosensible 3. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que ladite couche photosensible est rendue difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur par réticulation d'un quinonediazide avec un composé polyfonctionnel. 4. Plaque selon la revendication 3, caractérisée en ce que ledit composé polyfonctionnel est un polyisocyanate. 5. Plaque selon la revendication 3, caractérisée en ce que ledit composé polyfonctionnel est un compose polyépoxy. 6. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que ladite couche photosensible est rendue difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur par transformation d'un quinonediazide au moyen d'un monoisocyanate. 7. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que ladite couche photosensible est rendue difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur par estérification d'un quinonediazide. 8. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que ladite couche photosensible est rendue difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur par transformation en amide d'un quinonediazide. 9. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que ladite couche photosensible est rendue difficilement soluble ou insoluble dans le révélateur par polymérisation greffée d'un quinonediazide avec un monomère vinylique. 10. Plaque selon l'une quelconque des revendications 3, 6, 7 et 8, caractérisée en ce que ladite quinonediazide est un ester d'acide naphtoquinone-1,2-diazide-sulfonique et d'un composé polyhydroxylé. 11. Plaque selon la revendication 10, caractérisée en ce que ledit composé polyhydroxylé est une résine novolaque phénol-formaldéhyde. 12. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que l'épaisseur de ladite couche photosensible est de l'ordre de 0,1 à 100/u. 13. Plaque selon la revendication 1 ou 2, caractérisée en ce que ladite couche de caoutchouc de silicone comprend un diorganopolysiloxanne obtenu par réticulation d'un diorganopoly- siloxanne contenant le motif récurrent de formule suivante R -si-o- R n dans laquelle n est un entier au moins égal à 1 et R est un groupe alkyle en C1-C10, alcényle ou phnyle, 60% ou plus des restes R étant des groupes méthyle. 2471 622 14. Plaque selon larevendication 1 ou 2, caractérisée en ce que l'épaisseur de ladite couche de caoutchouc de silicone est d'environ 0,5 a 10/u. 15. Procddé pour fabriquer une plaque d'impression planographique sensibilisée fonctionnant en négatif pour l'utio lisation en planographie à sec, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste a exposer suivant une image un clichd d'impression, ledit cliché comprenant un support de base, une couche photosensible difficile è dissoudre ou insoluble dans le révdlateur et superposée audit support de base et une couche de caoutchouc de silicone superposée à ladite couche photosensible, et à traiter ensuite le cliché d'impression exposé avec le révé- lateur pour permettre la seule élimination des zones d'image exposées de la couche de caoutchouc de silicone.