FR 2132717 A1 19721124 FR 7212109 A 19720406 72 12109 1 2132717 L'invention concerne les composants électroniques en général tels que les transistors à couches minces, les dispositifs de puissance à caractéristique en paliers et les circuits intégrés. Cette invention trouve son application partout où de l'oxyde de silicium est utilisé comme isolant électrique ou comme agent de 5 passivation. Dans les dispositifs à couches minces, comme par exemple les transistors à effet de champ, l'oxyde de silicium est employé comme un isolant électrique pour, par exemple, isoler l'électrode de grille de la couche de matériau semiconducteur. 10 De tels dispositifs présentent fréquemment une instabilité ionique due à la migration des ions d'impuretés à travers la couche d'oxyde de silicium entre l'électrode de grille et la couche de matériau semiconducteur. Dans les dispositifs semiconducteurs à caractéristique en paliers tels que par exemple les diodes, les transistors et les dispositifs de coupure à quatre 15 régions ainsi que dans les dispositifs à circuits intégrés, spécialement ceux à structure du type planaire, il est de pratique courante de passiver les jonctions p-n avec une première couche d'oxyde de silicium et avec une seconde couche de nitrure de silicium. La seconde couche, c'est-à-dire la couche de nitrure de silicium,est nécessaire parce que les ions passent à travers la couche d'oxy-20 de de silicium. Un des buts de cette invention est un composant électronique à couches minces ayant une stabilité ionique améliorée. Un autre but de la présente invention est un nouveau matériau d'isolation des jonctions p-n pour des dispositifs semiconducteurs à caractéristique en pa-25 liers et pour des dispositifs à circuits intégrés. L'invention consiste en un dispositif semiconducteur comprenant un corps en matériau semiconducteur ayant un diélectrique disposé sur au moins une partie d'au moins une surface du dit corps, le dit diélectrique étant constitué d'une couche d'oxyde de silicium dopé avec un matériau bivalent ayant un rayon d'ato-30 me d'au moins 0,9 Â. L'invention sera mieux comprise en se référant à la description qui va suivre et aux dessins annexés. Sur ces dessins: - Les figures 1 et 2 sont des coupes de profil de dispositifs semiconducteurs tenant compte des principes de la présente invention. 35 - Les figures 3 et 4 sont des représentations schématiques montrant lesdis-positions des atomes dans les couches d'oxyde de silicium. - Les figures 5 et 6 sont des courbes caractéristiques I-U de transistors à effet de champ. - Les figures 7 à 10 sont des courbes tension-capacité de diverses couches d' 40 oxyde de silicium. 72 12109 2 2132717 - La figure II est une représentation schématique d'un appareil utilisé dans la mise en oeuvre des principes de l'invention. - La figure 12 est une vue en plan schématique d'un ensemble de masques convenant pour être utilisée dans la mise en oeuvre des principes de l'invention et 5 - Les figures 13 et 14 sont des vues de profil de sections de blocs de circuits intégrés. La figure 1 représente un transistor à effet de champ 10, à couches minces, monté sur support, qui constitue un exemple de réalisation de l'invention fabriqué à l'aide d'une méthode suivant l'invention. 10 Le transistor 10 est constitué d'un support 12, d'une électrode d'entrée 14, d'une électrode de sortie 16, d'une couche 18 de matériau semiconducteur, d'une couche électrique 20 en oxyde de silicium dopé et d'une électrode de grille 22. Le support 12 peut être rigide ou flexible. 15 Les différentes sortes de verre, le rubis, l'oxyde d'aluminium et les maté riaux céramiques constituent de bons matériaux de support. Si on désire un support flexible, on peut choisir parmi les matériaux suivants: le papier, le téréphthalate de polyéthylène, les esters et les éthers de cellulose comme la cellulose éthyle, l'acétate de cellulose et le nitrate de 20 cellulose, la cellulose régénérée comme le cellophane, le chlorure de polyviny-le, le chlorure-acétate de polyvinyle, le chlorure polyvinylidène, le film de nylon, les films polyimides et polyamides-imides, le polytetrafluoroéthylène, le polytrifluoromonochloroéthylène, ainsi que des bandes flexibles et des feuil-lards des métaux suivants: nickel, aluminium, cuivre, étain, tantale, les alli-25 âges à base de ceux-ci et les alliages à base ferreuse comme, par exemple, une mince bande d'acier inoxydable calibrée. Le papier peut être de tout type et sa texture en surface peut être lisse ou rugueuse comme, par exemple, le papier à base de chiffons, le papier à base de pulpe de bois, le papier de cellulose alpha, le papier Kraft et autres. A ti-30 tre indicatif, les dispositifs semiconducteurs suivant l'invention ont été réalisés en utilisant comme support des cartes à jouer, des cartes postales et des journeaux. Le terme "flexible", tel qu'utilisé en décrivant le support, se rapporte à un matériau qui peut être enroulé autour d'un mandrin ayant, au maximum, un dia-35 mètre de 25 mm et de préférence autour d'un mandrin ayant un diamètre de l'ordre de 4 mm. En utilisant de tels supports flexibles supportant un transistor à effet de champ du type montré à la figure 1, on a pu les plier suivant un rayon de 1,5 mm sans altérer les caractéristiques de fonctionnement. Tous les matériaux qui sont moins flexibles sont considérés comme rigides dans le cadre de la 40 présente invention. 72 12109 3 2132717 A la figure 2» un dispositif semiconducteur 110 à effet de champ modifié comprend un support flexible 112 pour un dispositif semiconducteur 110. Ce support flexible est un feuillard ou une bande flexible de métal. Avant de fabriquer le dispositif électronique, une couche 124, d'un matériau isolant électri-5 que est disposée sur le dit support pour isoler les composants à fonctionnement électronique du dispositif du support. Suivant le métal choisi pour le support, la couche isolante 124 peut être constituée par l'oxyde anodique du métal même qui forme le support, par exemple, de l'oxyde d'aluminium si le support 112 est en aluminium, ou bien la couche 10 isolante peut être réalisée avec une des résines polymérisées» électriquement isolantes, qui sont utilisées comme isolant sur les conducteurs électriques, comme par exemple les résines phénoliques modifiées au polyvinyle, les résines epoxy et leurs mélanges avec des polyamides-imides et de résines polyiraides telles que celles décrites dans les brevets US. 3 179 360 et 3 179 635. 15 Les principes de l'invention sont applicables aux dispositifs montés sur des supports rigides ou des supports flexibles. Comme indiqué à la figure 1 ainsi qu'à la figure 2, les électrodes d'entrée 14 et de sortie 16 sont disposées sur le support flexible 12 ou sur la couche isolante 124 de celui-ci, à une certaine distance l'une de l'autre. La distance 20 séparant les électrodes n'est pas critique et dépend des caractéristiques désirées. L'électrode d'entrée 14 et l'électrode de sortie 16 peuvent être réalisées en tout métal électriquement conducteur convenable comme, par exemple, l'or, 1T argent, l'aluminium, le nickel, et les alliages à base de ceux-ci. L'électrode d'entrée 14 et l'électrode de sortie 16 doivent être d'épaisseur suffisante pour 25 assurer leur rôle de contacts ohmiques. Une épaisseur de 80 Â à 500 A. et, de préférence, de 100 Â à 300 Â s'est révélée datisfaisante pour la plupart des dispositifs. La couche 18 de matériau semiconducteur est disposée entrel'électrode d' entrée 14 et l'électrode de sortie 16 et est en contact avec celles-ci. De prë-30 férence, la couche 18 recouvre partiellement les électrodes 14 et 16. La couche 18 peut être réalisée à l'aide d'un matériau semiconducteur quelconque comme, par exemple, le tellurium, le sulfure de cadmium, le séléniure de cadmium, le silicium, l'arséniure d'indium, l'arséniure de gallium, l'oxyde d'étain et le tellurure de plomb. La couche 18 peut être cristalline, polycristalline ou amor-35 phe. L'épaisseur de la couche 18 en matériau semiconducteur peut varier d'une épaisseur moyenne de 40 Â. pour le tellurium jusqu'à plusieurs milliers d'ange stroms pour les matériaux à distances entre bandes énergétiques plus larges, tels que le sulfure de cadmium et le séléniure de cadmium. 40 La couche électriquement isolante 30 ne doit pas recouvrir complètement la 72 12109 4 2132717 couche 18 en matériau semiconducteur mais seulement isoler électriquement l'électrode de grille 22 de la couche semiconductrice 18. La couche électriquement isolante 20 consiste en oxyde de silicium dopé avec de 0,1 à 20 %, en volume, et de préférence de 0,5 % à 5 % en volume d'au 5 moins un matériau qui est bivalent et dont le rayon ionique est d'au moins 0,9 Â. Un matériau pouvant convenir pour doper la couche 20 est un matériau, au moins, choisi parmi ceux du groupe suivant: barium, plomb, strontium, calcium et oxydes de ceux-ci. Si le niveau de dopage est inférieur à 0,1 % en volume, l'amélioration des 10 performances du dispositif est insignifiante. Si le niveau de dopage est supérieur à 20 % en volume, les caractéristiques électriques du dispositif peuvent être affectées désavantageusement. La couche isolante 20 doit être aussi mince que possible de manière à obtenir une modulation du courant du dispositif à des tensions relativement basses. 15 Toutefois, la couche doit constituer un isolant électrique adéquat. En l'occurrence, une couche de 100 Â peut présenter des "trous d'épingle" qui contrarient le rôle d'isolant électrique de la couche. Une épaisseur d'environ 300 Â s'avère être l'épaisseur minimum présentant une certaine garantie d'absence de "trous d' épingle" et une épaisseur de 1 000 Â constitue un compromis optimum entre une 20 couche isolante exempte de trous et une modulation à basse tension. Si la tenr sion de fonctionnement du dispositif augmente jusqu'à 100 volts, il est souhaitable de prévoir une épaisseur d'environ 3 000 Â et si cette tension de fonctionnement peut atteindre 200 volts, il convient de prévoir une épaisseur de 5 000 à & 000 Â. 25 L'électrode de grille 22 est disposée sur la couche isolante 20 en oxyde de silicium entre l'électrode d'entrée 14 et l'électrode de sortie 16. L'électrode de grille 22 est réalisée en un métal bon conducteur de l'électricité, pouvant être choisi parmi ceux se trouvant dans le groupe constitué par l'aluminium, le cuivre, l'étain, l'argent, l'or et le platine. Pour que l'é-30 lectrode de grille 22 présente de manière certaine une conductibilité élevée, son épaisseur est entre 300 et I 000 Â et, de préférence, entre 500 et 1 000 Â. L'amélioration du fonctionnement d'un dispositif semiconducteur à couche d'oxyde de silicium est expliquée ci-après. La structure de la couche d'oxyde de silicium semble être un assemblage a-35 léatoire de molécules de SiO^ tétrahédriques suivant la figure 3. Les molécules de SiO^ sont reliées les unes aux autres aux coins. Dans les dépôts d'oxyde de silicium de faible densité, certains atomes d'oxygène ne sont pas reliés et 1' assemblage aléatoire présente de grands interstices entre les atomes d'oxygène non reliés. Ces interstices s'alignent pour former des canaux ouverts à travers 40 lesquels des ions contaminants peuvent se déplacer. Comme ion contaminant, on 72 12109 5 2132717 peut citer le sodium. Le dopage de l'oxyde de silicium avec un atome bivalent ayant, par rapport au contaminant, un grand rayon ionique, bouche les interstices de l'assemblage aléatoire, comme indiqué à la figure 4, où "X" représente un atome bivalent 5 ayant un rayon ionique d'au moins 0,9 Â. Des atomes bivalents de rayon ionique inférieur à 0,9 Â présentent un effet de blocage tellement petit qu'il n'est pas utilisable. L'effet de la migration d'ions contaminants sur un transistor à effet de champ peut être observé en se référant aux figures 5 et 6. 10 La figure 5 représente une courbe du courant entrée-sortie (ïc_n) en fonc- «3 JL/ tion de la tension entrée-sortie (Vg_D) pour diverses tensions de grille d'un transistor à effet de champ idéal. Comme on peut le voir à la figure 5, dans un dispositif idéal, une caractéristique plate est obtenue pour une tension de grille nulle, pour cette tension, 15 il n'y a pas de circulation de courant entre l'entrée et la sortie. La figure 6 montre ce qu'il arrive, par exemple, dans un dispositif à canal du type n sous une tension de grille positive quand des ions contaminants positifs se trouvant dans l'isolation de grille, se déplacent à travers la couche isolante de celle-ci vers la couche semiconductrice. Le courant continue à 20 circuler entre l'entrée et la sortie même après avoir coupé la tension de grille positive et une tension négative de par exemple 20 volts doit être appliquée à la grille pour éteindre le dispositif. Des résultats contrariants semblables sont obtenus dans des dispositifs à. canaux du type p à cause de la migration des ions contaminants. 25 En utilisant une couche d'isolation de grille dopêé suivant l'invention, on obtient des caractéristiques proches de celles d'un dispositif idéal. Il faut noter que la plupart des ions contaminants sont positifs et mobiles tandis que tous les ions négatifs sont relativement immobiles et peuvent, et ils le sont, être ignorés par les spécialistes qui conçoivent les dispositifs. 30 Pour mieux illustrer les avantages de la présente invention, on a préparé quatre galettes de silicium du type n ayant une épaisseur d'environ 0,25 mm. La galette No.1 possédait une couche d'oxyde de I 000 & d'épaisseur développée thermiquement sur sa face supérieure. . La galette No.2 possédait une couche d'oxyde de silicium de 1 000 & d'é-35 paisseur déposé par évaporation sous vide sur sa surface supérieure. La galette No.3 possédait une couche d'oxyde de silicium de 1 000 Â d'épaisseur dopée avec 0,7 % en volume de BaO déposé sur sa surface supérieure. La galette No.4 possédait une couche d'oxyde de silicium de 1 000 Â d'épaisseur dopée avec 0,9 % en volume de Pb déposé sur sa surface supérieure. 40 Des contacts en aluminium furent fixés sur la face supérieure des couches 72 12109 6 2132717 d'oxyde de silicium. Les contacts en aluminium avaient tous la même surface et les mêmes dimensions. Une tension variable fut appliquée entre le contact d'aluminium et le silicium pendant le relevé de la capacitance de la couche d'oxyde de silicium. 5 La figure 7 représente la courbe tension-capacitance de la galette No. I ayant une couche d'oxyde de silicium développée thermiquement sur sa face supérieure . Il faut noter que l'oxyde développé thermiquement présente une faible hystérèse aux points A et B. L'hystérèse au point A est faible, est une hystérèse 10 de sens antihorlogique et est causée par la migration d'ions contaminants. L' hystérèse au point B est de sens horlogique et est causée par piégeage de charges. La structure présente une caractéristique plate pour une tension de grille de 2 volts. La figure 8 représente la courbe tension-capacitance pour la galette No.2 15 ayant la couche d'oxyde de silicium déposé sous vide sur sa face supérieure. Il faut noter que l'oxyde de silicium déposé sous vide présente une forte hystérèse au point C. L'hystérèse est une hystérèse de sens antihorlogique et est causée par la migration d'ions contaminants. Quand, dans cette structure, la tension est appliquée entre le contact d' 20 aluminium et le silicium, la caractéristique plate est obtenue pour la tension zéro. La tension a donc, comme montré par la courbe, augmenté jusqu'à + 30 volts et repassé par zéro dans la plage négative. Le point de changement de sens a lieu au point D, à moins 10 volts. La tension de caractéristique plate s'est donc décalée de 20 volts, de 0 à -20 volts. Cette modification de la tension de 25 caractéristique plate a été occasionnée par la contrainte de la couche d'oxyde avec une tension de 30 volts. Une telle modification dans les paramètres de fonctionnement de la structure est fortement indésirable. La figure 9 représente la courbe de tension-capacitance pour la galette No.3 ayant une couche d'oxyde de silicium dopé avec 0,7 % en volume de BaO, dé-30 posé sous vide, suivant les principes de la présente invention, sur la face supérieure de la galette. Il faut noter que suivant la courbe tension-capacitance, cette structure ne présente aucune hystérèse et que la tension de caractéristique plate n'est que 3 volts. 35 En comparant les figures 8 et 9, on constate clairement l'amélioration ob tenue quand un oxyde de silicium est dopé suivant les principes de la présente invention. La figure 10 représente la courbe tension-capacitance de la galette No.4 ayant une couche d'oxyde de silicium dopé avec 0,9 % eh volume de Pb déposée 40 sous vide sur la face supérieure de la galette. 72 12109 7 2132717 Il faut noter qu'une faible hystérèse apparaît en E, mais cette hystérèse est de sens horlogique et résulte du piégeage de charges et non d'une migration d'ions contaminants. Il faut également noter que si la tension de caractéristi-. que plate était de -13,5 volts, elle ne variait pas, comme dans le cas de la fi-5 gure 8, de plus d'un volt suite à la contrainte de tension. Les caractéristiques électriques du dispositif restent tout-à-fait stables même quand il est sollicité de + 30 à -30 volts. L'amélioration apportée par la mise en application des principes de l'invention est à nouveau clairement montrée. 10 Bien qu'il soit apparent, d'après les figures 7 et 9, que l'oxyde de sili cium développé thermiquement donne un résultat pratiquement égal à celui obtenu par la mise en application des principes de la présente invention, il faut noter qu'il faut une température d'environ 1.000°C pour développer thermiquement 1' oxyde de silicium. Il est évidemment très difficile de porter des dispositifs 15 à couche minces à de telles températures. Les transistors à effet de champ mettant en oeuvre les principes de l'invention peuvent être employés dans toutes les applications ne nécessitant pas une puissance élevée, une très haute fréquence ou des températures élevées. Ces dispositifs ont été utilisés dans des amplificateurs en cascade et dans des cir-20 cuits convertisseurs abaisseurs et oscillateurs. Lors de la préparation d'un dispositif, suivant les principes de l'invention, le support rigide ou flexible est mis sous vide et les divers matériaux destinés à former les électrodes d'entrée et de sortie, la couche en matériau semiconducteur, la couche d'isolation et le contact de grille, sont déposés par éva-25 poration au travers d'une série de masques de stencil sur le dit support. La préparation de tels dispositifs sur des supports rigides sont bien connus des spécialistes de ces techniques. La préparation de ces dispositifs sur des supports flexibles est moins bien connue et sera appliquée .ci-dessous en détails. Il est toutefois bien entendu que les explications relatives à la prépa-30 ration d'un dispositif sur support flexible sont également applicables à quelques exceptions près, à la préparation des dispositifs sur supports rigides. Le matériau du support flexible est choisi puis découpé à dimensions et mis en forme. Les possibilités de la technique permettent de choisir un support de n'importe quelle dimension et n'importe quelle forme. Une façon de faire préfé-35 rée consiste à employer un rouleau de matériau destiné au support muni de perforations réparties uniformément le long de ses bords et entraîné par des pignons dentés comme les films photographiques. Si le support est un feuillard métallique anodisé ou revêtu d'une couche de résine polymérisée ou encore l'un des matériaux flexibles adéquats cités ci-40 dessus, il est d'abord lavé dans du méthanol (ou dans un autre solvant organique 72 12109 8 2132717 s'il arrivait que le support soit soluble dans le méthanol) , séché avec de l'azote sec et cuit dans un four pendant environ 30 minutes à plus ou moins I00°C. Dans tous les cas, le support est à nouveau lavé puis séché à l'azote sec, à sa sortie du four. 5 Comme indiqué aux figures 11 et 12, le support flexible nettoyé est ensuite enroulé sur une bobine d'alimentation 50 ou sur un autre moyen d'alimentation et placé dans une chambre sous vide. En faisant usage d'une amorce 51 qui peut être constituée par une partie du support lui-même ou par tout autre bande de matériau adéquat, comme par une ban-10 de à base de cellulose, le support flexible 12 est placé entre des composants d' une installation de dépôt 52, d'une installation de vérification 54, d'une installation de fixation 56 et sur une bobine réceptrice 58. Le vide de la chambre est alors poussé jusqu'à une pression inférieure à -5 -7 10 torr et, de préférence, à moins de 10 torr. 15 Le support flexible 12 est ensuite déplacé pour être amené en position dans une première partie de l'installation de dépôt 52. L'installation de dépôt 52 comprend un mécanisme 60 de changement de masque sur lequel sont disposés une série de masques 62, un contrôleur d'épaisseur 64, par exemple, une microbalance, un contrôleur optique ou un contrôleur de résis-20 tance, et un mécanisme de déclenchement 66 qui sert à commander la mise en route ou l'arrêt du dépôt. Lorsque la première partie du support flexible est mise en place à l'installation de dépôt, le masque des électrodes d'entrée et de sortie est placé au-dessus du support 12 et l'électrode d'entrée 14 et l'électrode de sortie 16 sont 25 déposées par vaporisation sur celui-ci. L'électrode d'entrée 14 et l'électrode de sortie 16 peuvent être réalisées avec l'un des métaux suivants: l'or, l'argent, l'aluminium et le nickel. On a fabriqué des despositifs donnant toute satisfaction réalisant des électrodes d'entrée et de sortie ayant une épaisseur comprise entre 100 et 500 Â ob-30 tenues par dépôt du métal sur le support à une vitesse d'environ 0,1 Â à 50 Â et de préférence, de 0,7 & à 6 Â par seconde. On a fabriqué de très bons dispositifs dans lesquels les électrodes d'entrée et de sortie étaient constituées d'une é-paisseur de 100 à 300 & d'or déposé sur le support à une vitesse de 0,7 à 6 Â par seconde. 35 Après qu'un dépôt d'une épaisseur suffisante, réalisé pour constituer les électrodes d'entrée et de sortie, a été détecté par le contrôleur d'épaisseur 64, le mécanisme de déclenchement 66 est actionné pour arrêter le processus de dépôt de métal par vaporisation. Le mécanisme 60 de changement de masque est ensuite actionné pour anener le 40 masque suivant au-dessus du support et la couche 18 de matériau semiconducteur 72 12109 9 2132717 est déposée par vaporisation entre les électrodes d'entrée et de sortie. Le matériau semiconducteur de la couche 18 peut être choisi dans le groupe suivant: le tellurium, le sulfure de cadmium, le silicium, le séléniure de cad-.mium, l'arséniure d'indium, l'arséniure de gallium, l'oxyde d'étain et le tellu-5 rure de plomb. Des dispositifs donnant satisfaction ont été obtenus en donnant il la couche de matériau semiconducteur une épaisseur de 40 à 200 Â. et, de préférence, de 100 Â quand le matériau semiconducteur est le tellurium et supérieure à 5 000 Â dans le cas de matériaux à distance entre bandes énergétiques plus grandes com-10 me le sulfure de cadmium et le séléniure de cadmium. Lorsque le dépôt de la couche 18 est terminé, le masque suivant est amené en place et on procède au dépôt par vaporisation d'une couche 20 d'oxyde de silicium dopé sur la couche 18 de matériau semiconducteur. La couche d'oxyde de silicium dopé peut être formée par: (10) co-évaporati-15 on; (2) par pulvérisation et (3) par décomposition pyrolytique. Dans la méthode par co-évaporation, le monoxyde de silicium est évaporé à partir d'une première source tandis que le dopant voulu est évaporé à partir d* une seconde source et l'oxyde et le dopant sont combinés sur place sur la couche de matériau semiconducteur. 20 Une microbalance à cristal de quartz peut être utilisée pour détecter la masse de vapeur condensée. L'information est ramenée à la source d'alimentation pour commander la vitesse d'évaporation. La source de matériau dopant peut être constituée par tout métal ou composé pouvant se décomposer pour fournir l'atome dopant positif et un atome 25 qui soit compatible ou du moins non opposé. Par exemple, si c'est le bàrium qui est choisi comme dopant, la source d'é-vaporation peut être du carbonate de barium, de l'oxyde de barium ou le barium. Le fluorure de barium et le sulfure de barium constituent des exemples de matériaux qui ne peuvent pas être utilisés du fait qu'ils introduiraient du flu-30 or et du soufre dans le dispositif. Si on désire utiliser le plomb comme dopant, le plomb à "l'état pur constitue la meilleure source d'évaporation. Si on utilise le carbonate de plomb ou 1' oxyde de plomb, le plomb a tendance à s'écouler vers la partie la plus froide du corps fondu et seul, l'ion de carbonate ou d'oxyde est évaporé. 35 On préfère utiliser le strontium du fait que le point de fusion de l'oxyde de strontium est très élevé. Le calcium de même que le barium peuvent être utilisés sous forme de carbonate ou d'oxyde ainsi que sous forme de métal à l'état pur. Si la couche d'oxyde de silicium dopé doit être appliquée par pulvérisation, 40 on prépare un composé oxyde de silicium-dopant et ce composé est pulvérisé sur 72 12109 10 2132717 le matériau semiconducteur. Dans la technique de décomposition pyrolytique, un silane halogéné avec un composé organique-métallique du dopant est décomposé-et déposé sur la couche de matériau semiconducteur. 5 Comme expliqué ci-dessus, l'épaisseur de la couche 20 d'oxyde de silicium dopé est fonction de la tension de fonctionnement du dispositif, une épaisseur de 300 Â à 500 & constituant un minimum acceptable. On a réalisé des dispositifs satisfaisants en faisant usage d'une couche de monoxyde de silicium dopé ayant une épaisseur de 300 Â à 500 Â, la couche ayant été déposée à une vitesse de 0,1 10 à 5 Â par seconde et, de préférence, à une vitesse de 0,2 Â à 2 & par seconde. Le masque suivant est ensuite amené en position et on procède au dépôt par vaporisation de l'électrode de grille sur la couche 20. L'électrode ou contact de grille 22 est réalisée avec un métal électriquement conducteur choisi dans le groupe suivant: l'aluminium, le cuivre, l'étain, 15 l'argent, l'or et le platine. L'électrode ou contact de grille 22 doit avoir une épaisseur de 300 à 1 000 & et, de préférence, de 500 à 1 000 Â, et pour obtenir de bons résultats, le métal doit être déposé à une vitesse de 3 à 50 & par seconde et, de préférence, de 6 à 20 & par seconde. 20 Si on le désire, un autre masque peut alors être amené en place et le dis positif est rendu étanche par un revêtement de monoxyde de silicium ou par un revêtement similaire de manière à le mettre à l'abri du milieu ambiant. Un revêtement de monoxyde de silicium d'une épaisseur de 250 à 1 000 Â s'est révélé satisfaisant quand il est déposé à une vitesse d'environ I à 3 & par seconde. 25 Lorsque le dispositif est terminé, le support est avancé et le programme d' opérations recommence, grâce à quoi un certain nombre de dispositifs sont réalisés les uns après les autres sur le support. Lors de la préparation de dispositifs semiconducteurs à caractéristiques en paliers bipolaires et de dispositifs à circuits intégrés, spécialement de forme 30 planaire, il est courant d'isoler ou de passiver les jonctions p-n à leur point d'intersection avec une surface de galette pourvue d'une première couche d'oxyde de silicium et d'une seconde couche de nitrure de silicium. La figure 13 représente une section d'une structure typique 80 à circuit imprimé de forme planaire. La structure 80 comprend une base 82 en matériau 35 semiconducteur, par exemple, du type n, qui peut être du silicium, une première région 84 en matériau semiconducteur du type p, une seconde région 86 en matériau semiconducteur du type n et une quatrième région 88 en matériau semiconducteur du type p. Il y a une première jonction 90 du type p-n entre la base 82 et la région 84, une seconde jonction 92 du type p-n entre les régions 84 et 86 et 40 une troisième jonction 94 du type p-n entre les régions 86 et 88. Une première 72 12109 ii 2132717 couche 96 d'oxyde de silicium est déposée sur la surface 98 au moins où les jonctions p-n 90, 92 et 94 rejoignent la surface 98. Une deuxième couche 100 de nitrure de silicium est également déposée sur la couche 96. Des ouvertures 101, 102 et 103 sont pratiquées dans les deux couches 96 et 100 pour faciliter la mi-5 se en contact avec les régions 84, 86 et 88. La couche 100 de nitrure de silicium est nécessaire dans une telle structure à circuit imprimé suivant l'art antérieur à cause du fait que les ions contaminants peuvent se déplacer à travers la couche 96 d'oxyde de silicium. Suivant les principes de la présente invention, et comme montré à la figure 10 14 où tous les éléments qui se retrouvent à la figure 13 portent les mêmes références, il n'est plus nécessaire de prévoir une couche 100 de nitrure de silicium. Au lieu de prévoir une couche 96 d'oxyde de silicium et une couche 100 de nitrure de silicium, on applique une couche 196 consistant en de l'oxyde de silicium dopé avec de 0,1 % à 20 % en volume et, de préférences de 0,5 à 5 Z en 15 volume d'au moins un matériau qui est bivalent et qui possède un rayon ionique d'au moins 0,9 Â. Parmi les matériaux adéquats, on peut citer: le barium, le plomb, le strontium, le calcium ainsi que les oxydes de ces matériaux. La couche 196 empêche la migration des ions contaminants vers le matériau semiconducteur. Il n'est donc plus nécessaire de prévoir une couche de nitrure 20 de silicium. 72 12109 12 2132717 REVENDICATIONS. 1. Dispositif semiconducteur comprenant un corps en matériau semiconducteur ayant un diélectrique disposé sur au moins une partie d'au moins une face du dit corps, caractérisé en ce que le dit diélectrique consiste en une couche d'o- 5 xyde de siliciun dopé avec un matériau bivalent ayant un rayon d'au moins 0,9 Â. 2. Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le matériau dopant est au moins un des matériaux compris dans le groupe suivant: barium, plomb, strontium, calcium, ainsi que leurs oxydes. 3. Dispositif suivant la revendication 2, caractérisé en ce que le matériau 10 dopant représente de 0,1 à 20 % en volume du corps d'oxyde de silicium. 4. Dispositif suivant la revendication 2, caractérisé en ce que le matériau dopant représente de 0,5 à 5 % en volume du corps d'oxyde de silicium. 5. Dispositif suivant l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la dite couche d'oxyde de silicium dopé est déposée au-dessus d'au moins une 15 partie de la couche de matériau semiconducteur située entre une électrode ou contact d'entrée et une électrode ou contact de sortie écartés l'un de l'autre et disposés sur un support, une électrode ou contact de grille étant disposé sur la dite couche d'oxyde de silicium dopé, entre les dites électrodes ou contacts d'entrée et de sortie. 20 6. Dispositif suivant l'une des revendication I à 4, comprenant un corps en matériau semiconducteur ayant au moins deux régions adjacentes de semiconductivité de type opposé, une jonction p-n entre les deux dites régions adjacentes, la dite jonction p-n s'étendant vers au moins une surface du dit corps en matériau semiconducteur, caractérisé en ce que la couche en oxyde de silicium dopé est 25 disposée sur au moins la partie de cette surface où se termine la jonction p-n.