FR 2081665 A1 19711210 FR 7107197 A 19710302 71 07197 X 2081665 La présente invention concerne les réserves photographiques et plus particulièrement l'application de revêtements photosensibles sur des substrats tels que les matériaux supports pour circuits imprimés employés pour la réalisation de plaquettes de cir-5 cuits imprimés, etc. Les revêtements protecteurs photosensibles sont minces et, lorsqu'ils sont exposés à un rayonnement de longueur d'onde appropriée, ils subissent par l'action de ce rayonnement des modifications chimiques de leurs caractéristiques de solubilité dans cer-10 tains solvants ou développateurs. Il en existe deux types produisant des réserves photographiques soit négatives soit positives. Avant exposition, les revêtements protecteurs donnant des réserves négatives sont solubles dans le développateur, mais subissent, par exposition à un rayonnement, des modifications chimiques et de-15 viennent insolubles dans ledit développateur. L'exposition est réalisée à travers un cliché sur pellicule et le revêtement protecteur non exposé est sélectivement dissous, ramolli ou éliminé par lavages, laissant le modèle désiré de réserve sur un support. Les revêtements protecteurs donnant naissance à des réserves posi-20 tives se comportent à l'opposé, une exposition à un rayonnement lumineux rendant le revêtement protecteur soiuble dans un développateur. La réserve qui subsiste après développement (et cuisson ultérieure dans certains cas)est insoluble et résiste chimiquement aux solutions de nettoyage, de dépêt et d'attaque chimique (mor-25 dants) employées dans les procédés de ce genre. On peut citer comme exemples-types de matières photosensibles donnant des réserves positives les esters de l'acide riaphtoquinone-l,2-diazide-sulfo-nique décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 3-0^6.118. D'autres matériaux photosensibles sont connus. 30 On connaît des procédés conduisant à la formation d'une ré serve photographique comme dans la réalisation des plaquettes de circuits imprimés, de photolithographies, de plaques portant un nom de constructeur et analogues. Dans un procédé de réalisation des plaquettes de circuits imprimés, on dépose sur une plaquette-35 support recouverte d'un dépêt métallique un revêtement pour réserve photographique qui est exposé à travers un positif ou un négatif de l'image désirée. Les zones impressionnées par la lumière du revêtement protecteur sont rendues solubles et sont ensuite lavées avec un développateur pour mettre à nu la couche de 40 métal sous-jacent. On peut employer un mordant auquel la réserve 71 07197 2 2081665 est imperméable pour attaquer chimiquement le métal à nu ou on peut réaliser un placage ou d'autres opérations sélectifs et il reste une couche formant l'image voulue. Le revêtement protecteur restant peut être ou non enlevé, selon les cas. 5 La réalisation et le placage de trous traversants sont liés aux opérations de réalisation de plaquettes pour circuits imprimés. Ces trous traversent complètement la plaquette-support et sont destinés à réaliser une connexion électrique entre lesdites surfaces. En général, les opérations de dépôt peuvent être catalysées 10 et exécutées à l'aide d'une solution pour dépêt chimique. La couche superficielle du revêtement protecteur nécessaire pour les opérations ci-dessus a été appliquée antérieurement sur la surface de matériaux-supports, sous forme liquide à l'aide de râclettes, de rouleaux ou de tampons, par immersion, aspersion ou 15 frottement etc, de manière à former une couche de liquide destinée à former des réserves sur le matériau-support, qui se solidifie ensuite. Ces procédés d'application sous forme liquide présentent certains inconvénients. Par exemple, le produit liquide pour revêtement protecteur est fréquemment chassé dans les trous traver-20 sants ou : a) il n'est pas suffisamment impressionné pour devenir soluble ou b) il ne peut pas se dissoudre dans un temps raisonnable. Dans l'un et l'autre cas, la présence d'un résidu du produit pour revêtement protecteur dans les trous traversants empêche le dépêt de cuivre à l'intérieur de ceux-ci. 25 Le bouchage des trous traversants est empêché par le procédé décrit dans la demande de brevet des Etats-tfnis d'Amérique n° 823.052 déposée le par et incorporée à titre de référence, si l'on utilise un stratifié sec comportant une couche de produit pour réserve" photographique JO et un substrat renforçateur pour celles-ci. Les matériaux pour réserve photographique et la couche de renforcement sont choisis de manière que ladite réserve photographique soit insoluble dans les solvants destinés à dissoudre la couche de renforcement. On colle le stratifiqfeur un matériau-support avec le produit pour 35 réserve photographique tourné vers la bas, de préférence sur une plaquette-support pour circuits imprimés, qui peut être recouverte ou non d'un métal tel que le cuivre et la couche de renforcement est éliminée par lavage de l'ensemble ainsi formé par un solvant qui ne dissout pas,ni n'affecte la couche de réserve photographique 40 laissant ainsi une couche uniforme pour réserve photographique 71 07197 3 2081665 fixée au substrat, mais n'ayant pas pénétre dans les trous traversants. Dans un mode d'exécution préféré, le stratifié comprend un produit pour réserve photographique insoluble dans l'eau et une couche de renforcement solubie dans l'eau, de préférence un papier 5 solubie dans l'eau, à base de carboxyméthyl cellulose. Un autre procédé d'application de couches pour réserve photographique est décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 3.469.982 dans lequel une couche pour réserve photographique est tout d'abord déposée en couche mince sur une feuille de ren-10 forcement et, alors qu'elle adhère à cette feuille de renforcement, cette couche mince est fixée par application de chaleur et/ou de pression à un substrat. La feuille de renforcement peut être transparente et la couche mince peut être exposée à travers cette feuille. Avant de développer le produit de réserve photographique, la 15 feuille de renforcement est coupée aux dimensions et séparée par arrachement de la couche de réserve photographique. Bien que ce procédé élimine certaines des difficultés mentionnées ci dessus, telles que le bouchage des trous traversants, et donne un procédé protecteur suffisamment épais, il est caractérisé lui-même par 20 des difficultés et des inconvénients supplémentaires. Un exemple de difficulté inhérente au procédé dudit brevet n° 3.469.982 est le suivant : la couche-support doit être arrachée ou décollée de la réserve photographique. Par conséquent, les caractéristiques physiques de la couche formée par la reserve photo-25 graphique ont de l'importance, on a observé que des réserves photographiques épaisses, par exemple de 25 microns ou plus, sor.t avantageuses pour éviter tout plissement pendant l'application et tout déchirement de ladite réserve lors de l'arrachement de la couche de renforcement. Ceci entraîne une augmentation appréciable 30 du coût, une diminution du pouvoir résolvant des images développée." et une durée d'exposition plus longue. De plus, la couche formant réserve photographique ne doit pas être friable, sinon elle se fragmente. Ceci nécessite un mélange soigné des constituants du produit photosensible avec diverses résines compatibles. 35 Outre ce qui précède, étant donné que la couche de renforce ment doit supporter mécaniquement la réserve photographique, elle doit avoir les caractéristiques de résistance nécessaires. Par conséquent, la feuille de renforcement doit avoir une épaisseur relativement grande, en général supérieure à 25 microns. Quand la 40 couche pour réserve photographique est impressionnée à travers la 71 07197 4 2081665 feuille-support, la lumière traversant cette feuille se diffuse ou se disperse du fait de l'épaisseur de cette feuille et par conséquent le pouvoir résolvant de l'image est diminué. Une autre difficulté associée au procédé du brevet sus-men-5 tionné concerne le découpage et la séparation de la couche-support. La pellicule de matière de réserve photographique et la couche-support sont en général extraites continuellement d'un rouleau débiteur et collées au substrat par application de chaleur et de pression. Etant donné qu'elle sert de couche protectrice et n'est 10 pas éliminée avant le développement, elle doit être coupée aux dimensions du substrat, en général avant l'impression, et ensuite séparée dudit substrat avant le développement. Ceci crée des difficultés quand on utilise un équipement automatisé. Il est particulièrement difficile de séparer la couche-support, étant donné 15 que le traitement fixe souvent les bords de celle-ci au substrat. La présente invention remédie aux difficultés sus-mentionnées par la réalisation d'un stratifié photosensible comportant une couche photosensible destinée à former une réserve photographique, une couche-support de celle-ci et une couche protectrice intermé-20 diaire d'une matière transparente intercalée entre ladite couche photosensible et ladite couche-support. Lors de la mise en oeuvre du stratifié, la couche destinée à former une réserve photographique est collée à un matériau-support, par exemple, par application de chaleur et/ou de pression, ou à l'aide d'un adhésif, comme dé-25 crit dans la demande de brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 832.052 sus-mentionnée. Ensuite, la couche-support est détachée du stratifié et laisse un ensemble constitué par le matériau-support auquel a été collée la couche de réserve photographique, la couche-support et la couche protectrice intermédiaire étant placées sur 30 ladite couche de réserve photographique. Le stratifié photosensible selon l'invention présente de nombreux avantages par rapport au stratifié photosensible décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 3.^69.982 sus-mention-né. Par exemple, étant donné que la couche protectrice intermédiai-35 re n'est pas utilisée comme support mécanique d'une couche photosensible, elle peut être relativement mince par rapport à la couche de réserve photographique et cependant assurer une aussi bonne protection que la couche-support relativement épaisse dudit brevet. De plus, on peut former une image photographique à travers la cou-40 che intermédiaire avec une diffusion minimale de la lumière, de 71 07197 5 2081665 manière à obtenir une image plus nette avec une durée d'impression plus courte. De plus, étant donné que la couche intermédiaire augmente l'épaisseur du stratifié, l'épaisseur de la couche de réserve photographique peut être réduite de manière correspondante, 5 puisqu'une couche épaisse n'est pas indispensable pour éviter les déchirures quand on sépare la couche-support d'un stratifié collé à un matériau-support. Par conséquent, le pouvoir résolvant de l'image est amélioré et le prix de revient de l'ensemble du stratifié est diminué. Un autre avantage est que la couche-support 10 peut être enlevée avant le découpage aux dimensions, puisque la couche intermédiaire protectrice reste sur la couche donnant naissance à une réserve photographique. Ceci élimine les difficultés sus-mentionnées associées à un équipement automatisé et la séparation de la couche-support, comme on l'explique en détail ci-après. 15 D'autres caractéristiques et avantages de la présente inven tion ressortiront au cours de la description détaillée qui va suivre, faite en regard du dessin annexé qui donne, à titre explicatif mais nullement limitatif, un mode de réalisation conforme à l' invention. 20 Sur ce d la figure 1 est une coupe transversale à grande échelle d'un stratifié photosensible selonun mode d'exécution préféré de l'invention ; la figure 2 est une vue en élévation latérale d'un exemple 25 d'appareillage employé pour appliquer le stratifié photosensible sur un matériau-support ; et la figure 3 est une vue en coupe à grande éehelle d'un matériau-support et d'un stratifié photosensible avec certaines parties enlevées et certaines dimensions exagérées pour plus de clarté, 30 représentant différents stades du procédé d'application du produit de réserve photographique selon l'invention. La figure 1 représente un stratifié L réalisé selon un mode d'exécution préféré de l'invention. Ce stratifié comporte une couche-support 1, une couche intermédiaire protectrice 2 et une couche 35 3 photosensible ou pour réserve photographique. La couche-support 1 peut être choisie parmi des matières très variées telles que le papier, les tissus et les pellicules de hauts polymères, par exemple de polyamides, de polyoléfines, de polyesters, de polymères vinyliques et d'esters de cellulose. Une matière 40 préférée est le papier, de préférence un papier anti-adhésif, qui 71 07197 6 2081665 a été collé pour être plus lisse. L'épaisseur de la couche-support n'est pas imposée et varie en général entre 38 et 152 microns. La couche 3 photosensible -ou pour réserve photographique-contient. une matière photosensible appropriée, de préférence dans 5 un liant polymère. La plupart des matières existantes connues pour l'obtention de réserves photographiques positives et négatives conviennent pour la présente invention. Il suffit qu'on puisse les déposer sur la couche-support et qu'elles soient suffisamment souples sous forme de pellicule. 10 Le produit pour réserves photographiques peut contenir une résine ou un mélange de résines, comme connu, par exemple un mélange de résine Novolac avec du polystyrène. L'épaisseur de la couche pour réserve photographique sous forme de pellicule sèche n'est pas imposée mais l'invention a pour objet de réduire l'épais-15 seur de cette couche pour améliorer la qualité de l'image et abaisser le prix de revient. Par conséquent, l'épaisseur maximale recommandée est de 64 microns et cette épaisseur est comprise de préférence entre 0,25 et 38 microns. Des exemples de matières appropriées pour réserves photogra-20 phiques sont décrits dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n°s3.046.110 ; 3.046.118 ; 3.102.804 ; 3.130.049 ; 3.174.860 ; 3.230.089 ; 3-264.837 ; 3.149.983 ; 3.264.104 ; 3.288.608 et 3.427.162 tous incorporés à titre de référence. Les matières photosensibles préférées sont les composés diazoîques et les diazides. 25 On peut citer parmi d'autres matières photosensibles appropriées l'acide cinnamique, les polymères du vinylcinnomalal-cétophénolène décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2.716.102, les viïiylbenzalacétophénones décrites dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2.716.103, les diazosulfonates décrits dans le 30 brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2.854.388, les polymères de l'azidophtalate de vinyle décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 2.87O.OII, etc. La couche intermédiaire 2 est destinée à protéger la couche 3 de réserve photographique après collage du stratifié à un matériau-35 support et la couche support 1 est ensuite séparée du stratifié. On doit obtenir ainsi une surface lisse et dure. Quand l'exposition doit être effectuée à travers la couche intermédiaire, celle-ci doit être optiquement transparente et en une matière soluble dans un produit ne dissolvant pas les parties de la matière pour réser-40 ve photographique non enlevées par le développateur. De préférence, 71 07197 7 2081665 la couche intermédiaire est soluble dans l'eau ou dans un développateur pour la matière pour réserve photographique, si bien que, après l'exposition., la couche intermédiaire peut être enlevée par un simple lavage qui, de préférence, développe également la ma-5 tière pour réserve photographique, ci l'on err.plcj e des produits pour réservesphotographiquegfàéveloppables par l'eau ou les alcalis, les matériaux à préférer pour la couche intermédiaire sont, par exemple, les sels solubles dans l'eau du groupe de composés ci-après: copolymères d'un éther polyvinylique et de l'anhydride maléique, 10 éthers de cellulose solubles dans l'eau, sels solubles dans l'eau, des carboxyalcoylcelluloses, sels solubles dans l'eau des carboxyalcoyl-amidons, alcools polyvinyliques, polyvinylpyrrolidone, divers poly-aerylamides, diverses polyamides solubles dans l'eau, sels solubles dans l'eau des acides polyacryliques, gélatine, polymères de l'oxyde 15 d'éthylène, divers amidons, etc. L'homme de l'art trouvera facilement d'autres matières appropriées dont la nature est parfois suggérée par le choix de la matière pour réserves photographiques. L'épaisseur de la couche protectrice intermédiaire n'est pas imposée, mais est de préférence faible pour permettre l'obtention, 20 à travers celle-ci, d'images photographiques avec une diffusion ou dispersion minimale de la lumière, ce qui est difficile avec les couches-supports du brevet des Etats-Unis d'Amérique n° 3.469.9^2 sus-mentionné. Ceci est particulièrement important pour les travaux de précision. Selon le mode d'exécution préféré de l'invention, la 25 couche protectrice intermédiaire est relativement mince, étant donné qu'elle n'est pas utilisée comme support et doit seulement être suffisamment épaisse pour protéger la couche pour réserve photographique. En général, cette couche intermédiaire a, de préférence, une épaisseur maximale à l'état sec de 25 microns ou, rrieux encore, 30 une épaisseur comprise entre 2,5 et J,5 microns environ. Le stratifié photosensible selon l'invention est obtenu par des procédés connus, par exemple par enduction au rouleau eu pulvérisation sur la couche-support de solutions des divers matériaux destinés à former, dans l'ordre, la couche intermédiaire et, en-35 suite, la réserve photographique. La figure 2 représente un appareil selon l'invention qu'on peut employer pour appliquer de manière continue une matière pour réserve photographique sur des supports 5 préalablement coupés destinés à supporter des circuits imprimés, des éléments semi-oon-40 ducteurs, des plaques de constructeur etc. Le substrat 5 est en 71 07197 a 2081665 général constitué par des métaux, des semi-conducteurs ou des matières céramiques ou plastiques. Pour la réalisation de plaquettes de circuits imprimés en utilisant un procédé soustractif, le substrat est en général constitué par une couche d'une matière plas-5 tique 6, par exemple une résine phénolique ou un copolymère d'a-crylonitrile-butadiène-styrène et peut être recouvert comme représenté (figure 3) d'une couche de métal 7, par exemple d'une feuille de cuivre. Le présent exemple de réalisation de plaquettes de circuits imprimés ne limite évidemment pas les applications possibles 10 de l'invention dans les arts graphiques, la réalisation de décalcomanies et de plaques de constructeur, le surfaçage et l'attaque chimique et dans tout domaine dans lequel il faut mettre en place une réserve photographique sur un substrat en toute matière convenable. Les substrats 5 sont amenés par une rigole 8 sur une cour-15 roie sans fin 9 °u un autre moyen de transport qui les transporte jusqu'à un point de passage S où des cylindres de pression supérieur 10 et inférieur 11 chauffés collent le stratifié photosensible sur le matériau-support. La température appropriée pour le collage à chaud au substrat peut varier entre d'assez larges limi-20 tes, mais des températures comprises entre 40 et 150°C environ conviennent, suivant les matériaux constitutifs du stratifié photosensible. Les conditions décrites dans le brevet sus-mentionné n° 3.469.982 conviennent en général. Les cylindres de pression sont de préférence recouverts de caoutchouc pour éviter d'endommager 25 l'ensemble. On peut employer un adhésif à la place de la chaleur et de la pression, comme décrit dans la demande de brevet des Etats-Unis d'Amérique sus-mentionnée n° 823.052. Après avoir collé le stratifié photosensible L sur le matériau-support au point de passage S, la couche-support 1 est séparée du 30 stratifié, par exemple par arrachement ou autrement, mettant ainsi à nu la couche 3 pour réserve photographique protégée par une couche intermédiaire 2. On obtient ainsi une surface prête pour i!exposition immédiate avec formation d'images si on le désire, mais toujours protégée contré la poussière, les effilochures et l'abra-35 sion par la couche intermédiaire 2. Cette couche-support n!a pan besoin d'être découpée mais, de préférence, est enlevée de manière continue et rebobinée sur un cylindre 13, éliminant ainsi les difficultés associées au découpage et à la séparation. La figure 3 représente une vue de côté agrandie en coupe, non 4-0 à l'éafeelle d'un matériau-support et d'un stratifié photosensible, 71 07197 9 2081665 représentant différents stades de l'application d'une matière pour réserve photographique selon l'invention. La couche 3 pour réserve photographique du stratifié photosensible L est collée sur une feuille de cuivre 7 recouvrant le matériau-support 6. La couche 5 support 1 dudit stratifié est ensuite séparée de manière continue de l'ensemble ainsi formé, laissant ainsi ladite couche 3 collée à la feuille de cuivre 7 recouvrant le matériau-support 6 et protégée de l'abrasion etc. par la couche intermédiaire 2. Etant donné que la couche' intermédiaire 2 peut être optique-10 ment transparente, l'ensemble ainsi formé peut être impressionné directement à travers la couche intermédiaire 2 sans qvte l'on soit obligé de l'enlever avant le développement» A propos de la séparation de la couche-support 1 du stratifié L photosensible, il convient de noter que la couche-support 1 adhère 15 faiblement à la couche intermédiaire 2 au lieu d'être solidement fixée à celle-ci, de manière à faciliter son enlèvement sans endommager la couche 3 pour réserve photographique. Par contre, la couche pour réserve photographique est solidement fixée à la couche intermédiaire pour empêcher toute séparation pendant l'enlèvement 20 de la couche-support. L'ensemble d'un procédé d'application et de développement d'une image formant réserve photographique selon l'invention peut comprendre les opérations ci-après : 1) collage d'un stratifié photosensible sur un matériau-sup-25 port ; le procédé de collage dudit stratifié audit matériau-support n'est pas imposé. 2) Séparation de la couche-support dudit stratifié photosensible de l'ensemble ainsi réalisé. 3) Exposition de l'ensemble ainsi réalisé à un rayonnement 30 actinique pour former une image latente dans ladite ceuehe pour réserve photographique. 4) Mise en contact de ladite couche pour réserve s;-graphique impressionnée avec un développateur qui est en même temps un solvant pour la couche intermédiaire protégeant ladite couche peur 35 réserve photographique, de manière à former une image utilisée comme réserve photographique. Après les opérations ci-dessus, on peut traiter la surrace obtenue par un produit approprié peur former une surface gravée, recouverte d'un dépôt ou traitée par tout autre procédé connu. L'image 40 utilisée comme réserve photographique peut ensuite être enlevée à 71 07197 10 2081665 l'aide d'un solvant et, si on le désire, par une action mécanique par exemple par frottement, brossage et/ou abrasion, ou par une combinaison d'un ou plusieurs de ces procédés, comme connu. A noter que dans le procédé décrit ci-dessus, la couche in-5 termédiaire peut être éliminée par lavage avant l'opération d'impression de la couche pour réserve photographique, mais ce procédé constitue un mode d'exécution moins recommandé de l'invention bien que, en opérant ainsi,il ne soit pas nécessaire que la couche intermédiaire soit optiquement transparente, ou soluble dans un dé-10 veloppateur destiné à la matière pour réserve photographique. De plus, en ce qui concerne l'opération 4, cette opération peut être scindée en deux phases, dont la première consiste à éliminer la couche intermédiaire et la seconde consiste à développer la couche pour réserve photographique impressionnée. Avec ce mode d'exécution 15 de l'invention, la couche intermédiaire doit être en une matière soluble dans un solvant qui n'attaque pas la couche pour réserve photographique. Ce mode d'exécution de l'invention est moins intéressant, car il comporte une opération supplémentaire au cours du développement. 20 On comprendra mieux l'invention par les exemples ci-après, dans lesquels les parties et analogues sont en poids : Exemple 1 - On prépare un stratifié photosensible correspondant à celui représenté sur la figure 1. La couche pour réserve photographique 25 et la couche intermédiaire sont appliquées par un procédé d'enduc-tion au rouleau en utilisant des rouleaux tournant dans une solution de la matière à appliquer. Le substrat est un papier antiadhésif "Transkote AV" provenant de la firme S.D. Warren Co. La couche protectrice^nterméd|^rg ^st appliquée sous forme d'une 30 solution à 15 à 20$ de/"Gantrez AH-139" de la General Aniline and Film Corporation. Cette matière est un copolymère de viscosité moyenne, soluble dans l'eau, d'éther vinylméthylique et d'anhydride maléique. la couche pour réserve photographique est appliquée sous forme d'une solution à 20 % de matières solides de "AZ-119 35 Photoresist" de la Shipley Company, Inc.. Cette matière est constituée principalement par une résine phénolformaldéhyde Novalac soluble dans les alcalis et un photosensibilisateur à base d'ortho-quinone diazide (représentant environ un tiers des matières solides) dissous dans un solvant constitué principalement par un acé-40 tate de "Cellosolve". L'épaisseur, à sec, de chacune des couches 71 07197 ii 2081665 intermédiaires et de la couche peur réserve photographique est d'environ 0,25 micron. On recouvre une plaquette-support pour circuits imprimés recouverte de cuivre avec le stratifié ainsi préparé, en utilisant, par exemple, l'appareil de la figure 2. Ce stratifié est appliqué sur la plaquette pour circuits imprimés la face portant la couche pour réserve photographique tournée vers le bas étant mise en contact avec le revêtement de cuivre en utilisant des cylindres recouverts de caoutchouc chauffés à environ 120°C avec une pression d'environ 1800 à 2150 g par cm à l'étranglement, à une vitesse d'environ 1 cm/s. la couche de papier support est enlevée en arrachant celle-ci du stratifié qui est collé à la plaquette-support pour circuits imprimés. Ceci laisse un ensemble complexe constitué par la placuette-suppcrt pour circuits imprimés à laquelle adhère la pellicule pour réserve photographique qui est recouverte d'une couche protectrice intermédiaire. Etant donné que la couche protectrice intermédiaire est optiquement transparente, la couche pour réserve photographique peut être impressionnée sans enlever cette couche intermédiaire. Par suite, la couche pour réserve photographique est exposée pendant environ 150 s à travers un cliché transparent, positif ou négatif, à la demande, en utilisant, comme source de lumière, un arc électrique au carbone donnant un éclairement d'environ 21 ~:QQ lux à une distance d'environ 30 cm. La matière peur réserve photographique impressionnée est ensuite développée et la couche intermédiaire est enlevée en même temps par immersion dans, ou lavage par. un développateur tel que l1 ''A3-305" de la firme Shipley ?cr.par.y ïne, constitué par une solution aqueuse d'un hydroxyde. Si en opère par immersion, elle dure quelques minutes à une température d'environ 21°C. Le pouvoir résolvant de l'image développée est excellent. Si l'on utilise un tracé positif des circuits désirés, le cuivre mis à nu par développement est enlevé par morsure, la reserve photographique restante est enlevée et le cuivre ainsi mis à nu est revêtu d'un autre métal. Si l'en utilise un négatif du tracé désiré du circuit, le cuivre mis à nu par déveltpremen" «st revêtu d'un masque métallique de soudure, la réserve pfcctcçrarhiqu-a est retirée et le cuivre à nu enlevé par morsure. Exemple 2 - On opère comme dans l'exemple 1, mais la couche protectrice intermédiaire est éliminée par lavage avant exposition, avec des BAD ORIGINAL 71 07197 12 2081665 résultats à peu près équivalents. Exemple 3 - On opère comme dans l'exemple 1, en déposant un produit pour réserve photographique dénommé "Dynachem Photoresist" (DCR) sur la 5 couche-support, à la place de l'"AZ-119 Photoresist" sus-mention- né. Exemple 4 - On opère comme dans l'exemple 1 en perçant des trous traversants après collage du stratifié sur la plaquette support pour 10 circuits imprimés et avant de séparer la couche-support du stratifié. Exemple 5 - 15 la firme/Kodak, qu'on suppose être une matière à base d'acide cin-namique contenant environ 17 % de matières solides. On l'impressionne pendant 30 s à travers la couche intermédiaire en utilisant la source lumineuse de l'exemple 1. Le développement est réalisé par immersion dans du trichloréthylène pendant environ une minute. Il va de soi que la présente invention a été décrite ci-dessus à titre purement indicatif, mais nullement limitatif, et que l'on pouirra lui apporter toutes modifications de détail conformes à son esprit sans sortir de son cadre. pour On opère comme dans l'exemple 1, mais en utilisant un produit réserve photographique négative dénommé "KPR Photoresist" de „ 2081665 71 07197 3 REVENDICATIONS 1. Stratifié photosensible, caractérisé en ce qu'il comprend une couche photosensible d'une matière pour réserve photographique, une couche-support pour celle-ci et une couche protectrice intermédiaire entre ladite couche photosensible et ladite couche-support, 5 ladite couche photosensible étant étroitement collée à ladite couche intermédiaire tandis que ladite couche-support est moins étroitement collée à ladite couche intermédiaire que ladite couche photosensible, 2. Stratifié photosensible selon la revendication 1, caracté-10 risé en ce que ladite couche intermédiaire est optiquement transparente et a une épaisseur maximale de 25 microns et, de préférence, d'environ 7,5 microns au maximum. 3. Stratifié photosensible, caractérisé en ce qu'il comprend ujae couche photosensible d'une matière diazoïque pour réserve pho- 15 tographique, une couche-support pour celle-ci et une couche intermédiaire protectrice transparente à la lumière, de 25 microns d'épaisseur maximale, de préférence de 7,5 microns environ au maximum, ladite couche photosensible étant étroitement collée à ladite couche intermédiaire tandis que ladite couche-support est moins étroi-20 tement collée que ladite couche photosensible à ladite couche intermédiaire, afin qu'elle puisse en être arrachée. 4. Stratifié photosensible selon l'une des revendications 1 et 3, caractérisé en ce que ladite couche intermédiaire est soluble dans un solvant qui ne dissout pas les régions de la matière pour 25 réserve photographique non éliminées au cours d'une opération intérieure de développement et elle est en particulier soluble dans l'eau ou dans un révélateur de ladite couche photosensible impressionnée. 5. Stratifié photosensible selon la revendication 3, caracté-30 risé en ce que ladite couche photosensible est constituée par un produit diazoïque donnant des réserves photosensibles positives, dont les régions impressionnées par la lumière deviennent dévelop-pables dans une solution alcaline. 6. Stratifié photosensible selon la revendication ?, caracté-35 risé en ce que la couche intermédiaire est soluble dans ladite solution développatrice alcaline, 7. Ensemble caractérisé en ce qu'il est constitué par un substrat à la surface duquel est collé le stratifié photosensible selon l'une des revendications 1 et 3, la couche photosensible dudit 71 07197 14 2081665 stratifié photosensible étant en contact avec la surface dudit matériau-support. 8. Ensemble selon la revendication 7, caractérisé en ce que le substrat est une plaquette-support pour circuits imprimés et 5 peut être choisi par exemple dans le groupe ci-après : métaux, matières plastiques,céramiques et semi-conducteurs. 9. Ensemble selon la revendication 8, caractérisé en ce que le substrat est constitué par une couche de matière plastique recouverte d'un métal et en ce que la couche photosensible est en contact 10 avec ledit métal* 10. Procédé de réalisation d'une réserve photographique sur une surface, caractérisé en ce qu'il comprend les opérations ci-après : collage d'un stratifié photosensible à ladite surface de manière à former un ensemble, ledit stratifié photosensible com- 15 prenant une couche photosensible d'une matière destinée à former une réserve photographique, une couche-support pour celle-ci et une couche protectrice intermédiaire transparente comprise entre ladite couche photosensible et ladite couche-support, ladite couche photosensible étant étroitement collée à ladite couche intermédiaire tan- 20 dis que ladite couche-support est collée moins étroitement à ladite couche intermédiaire que ladite couche photosensible, ladite couche photosensible étant en contact avec ladite surface, puis séparation de la couche-support de l'ensemble ainsi formé, impression de l'ensemble ainsi obtenu par une source de rayonnement de manière à for- 25 mer une image latente dans ladite couche photosensible et développement de ladite image latente dans un développateur qui dissout ladite couche intermédiaire et développe la couche photosensible» 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que la couche intermédiaire dudit stratifié photosensible a une épais- 50 seur maximale de 25 microns. 12. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que la couche photosensible dudit stratifié photosensible contient un composé diazoïque donnant une réserve photographique positive. 15. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que 55 l'image latente est développée par une solution alcaline, par exemple d'un hydroxyde de métal alcalin. 14. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ladite surface est un matériau-support pour plaquettes de circuits imprimés et peut être choisie par exemple, dans le groupe ci-après : 71 07197 15 2081665 métaux, matières plastiques,céramiques et semi-conducteurs. 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ledit matériau-support pour plaquettes de circuits imprimés est recouvert de cuivre et en ce que la couche photosensible du stratifié 5 photosensible est collée audit revêtement de cuivre, par exemple par chaleur et pression. 16. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que le stratifié photosensible est appliqué sous forme d'une pellicule continue et en ce que la couche-support est enlevée de manière con- 10 tinue sans être coupée aux cotes.