FR 2103508 A1 19720414 FR 7129906 A 19710817 71 29906 i 2103508 L'invention concerne un procédé pour enfermer d'une façon étanche aux gaz des composants à semiconducteur au moyen d'un boitier métallique en forme de bêcher qui constitue un conducteur d'alimentation électrique pour un dispositif à semi-5 conducteur placé dans le boitier et est recouvert vers le haut par un couvercle isolant introduit dans sa partie supérieure ouverte et solidarisé avec cette dernière sous l'action d'une pression, ce couvercle étant traversé par un autre conducteur d'alimentation électrique pour le dispositif à semiconducteur. 10 Le modèle d'utilité allemand n° 6 934 501 a fait connaître un composant à semiconducteur comportant un boitier métallique en forme de bêcher, contenant le dispositif à semiconducteur, et dans lequel un couvercle isolant est inséré en restant soumis à une pression au-dessus d'un épaulement. La 15 partie du boitier saillant au-dessus de ce couvercle est en outre revêtue d'une enveloppe en matériau synthétique d'une façon étanche aux gaz. Une possibilité de revêtement étanche aux gaz par un matériau synthétique consiste a déposer l'enveloppe en 20 matériau synthétique par coulée. De telles possibilités d'enrobage partiel ou total par coulée, de composants à semiconducteur sont connues en soi dans la technique des semiconducteurs. La présente invention a pour but de fournir un procédé de ce genre avec une mise...en oeuvre particulièrement 25 simple ét économique compte tenu de la fabrication en série des composants à semiconducteurs. Ce problème est résolu conformément à l'invention à l'aide d'un procédé du type indiqué plus haut grâce au fait qu'on chauffe le boitier métallique en forme de bêcher et qu'on 30 dépose sur le bord supérieur dudit boitier une plaquette annulaire en matériau synthétique homogène, qui fond en raison du préchauffage du boitier, remplit en coulant la partie du boitier en forme de bêcher, qui est en saillie au-dessus du couvercle, et réalise une fermeture etanche aux gaz. 35 Un tel procédé apporte l'avantage essentiel de ne nécessiter qu'une dépense réduite en outils et machines étant donné que la plaquette en matériau synthétique posée de façon simple sur le boitier préalablement chauffé s'ajuste d'elle-même intimement en se déformant, sur la partie supérieure du boi-40 tier pendant le refroidissement lent du boitier et l'enveloppe 71 29906 2103508 ' donc de tous côtés de façon étanche au gaz. On peut en outre, régler la vitesse d'écoulement du matériau synthétique, si le refroidissement du boitier métallique est réalisé avec un réglage suivant une autre forme 5 de réalisation de l'invention. De ce fait il est possible de faire fondre également des plaquettes épaisses de matériau synthétique sans que le matériau synthétique tombe goutte à goutte du composant. A titre d'exemple oh a décrit ci-dessous et 10 illustré schématiquement au dessin annexé une forme de réalisation du dispositif suivant l'invention. La figure 1 montre un redresseur à semiconducteur préfabriqué. La figure 2 montre le dispositif de la figure 15 1 dans son état fini après chauffage. La figure 1 montre un redresseur à semiconduc teur préfabriqué, comportant un boitier métallique 1 en forme de bêcher, comme exemple de composant à semiconducteurs devant être fermé de façon étanche au gaz. Ce boitier 1 possède, sur son bord 20 ouvert supérieur 3, des griffes 2 dégagées au ciseau sur la face intérieure dudit bord. Un dispositif à semiconducteurs 4 est fixé sur le fond intérieur du boitier 1, par exemple par soudure. Le boitier 1 constitue simultanément l'un des conducteurs d'alimentation électrique du dispositif à semiconducteurs Un autre 25 conducteur d'alimentation électrique 5 est également fixé» par exemple par soudure, sur le côté du dispositif 4 tourné à l'opposé du fond intérieur du boitier. Dans la partie supérieure du boi tier est monté un couvercle isolant 6 qui est maintenu vers le haut par les griffes 2. La conduite d'alimentation 5 traverse 30 avec isolation ce couvercle. Sur la face du couvercle 6 tournée vers le dispositif à semiconducteurs 4 est prévu un ressort 7 qui est mis sous tension préalable par l'intermédiaire du couvercle et exerce donc une pression de contact sur lé conducteur d'alimen tation 5. 35 Pour fermer conformément à l'invention un tel composant préfabriqué à semiconducteurs d'une façon étanche aux gaz avec un matériau synthétique, on réalise d'abord un préchauffage à une température déterminée, puis on dépose une plaquette annulaire 8 sur le bord supérieur du boitier. Comme maté-40 riau synthétique on utilise de préférence une résine époxy qui 71 29906 3 2103S08 offre une bonne résistance par exemple même pour des variations rapide de température dans le domaine s'étendant approximativement de - 40° C à + 150° C. La température, à laquelle le composant 5 à semiconducteurs est porté, doit être suffisante pour faire fondre la plaquette annulaire 8 en matériau synthétique et se règle en général suivant la forme de la plaquette et du composant. Pendant que le composant se reproduit lentement, la plaquette 8 en matière synthétique, qui est en train de fondre, se déforme 10 de telle manière qu'il se forme un revêtement 28 en matériau synthétique, dont la forme est représentée en figure 2. Au cours de cette opération de fusion il est particulièrement avantageux de régler le refroidissement du composant à semiconducteur, ce qui permet de régler la vitesse 15 d'écoulement de la masse de matériau synthétique. On peut également faire fondre de cette façon des plaquettes épaisses de matériau synthétique, sans que ce dernier tombe goutte à goutte dudit composant. En outre, on peut également éviter ainsi de façon sûre la pénétration du matériau synthétique dans la zone 20 du composant, contenant le dispositif à semiconducteurs. Pour obtenir une adhérence particulièrement bonne de la masse de matériau synthétique sur le boitier métallique, on enduit la partie supérieure de ce dernier jusqu'au couvercle en matériau synthétique avec une laque visqueuse à base de 25 polyesterimides avant la pose de la plaquette" en matériau synthétique. Suivant une autre caractéristique de l'invention, on peut faire suivre l'opération de fusion d'un durcissement ultérieur de la masse de matériau synthétique pendant le-30 quel le composant est soumis pendant une heure à des températures de 150° C. La résine est déjà si rigide à ces températures qu'il n'y a pas à craindre une pénétration ultérieure dans l'espace intérieur du composant. 71 29906 4 2103508 REVENDICATIONS 1. Procédé pour enfermer d'une façon étanche aux gaz des composants à semiconducteur au moyen d'un boitier métallique en forme de bêcher qui constitue un conducteur d'ali-5 mentation électrique pour un dispositif à semiconducteur placé dans le boitier et est recouvert vers le haut par un couvercle isolant introduit dans sa partie supérieure ouverte et solidarisé avec cette dernière sous l'action d'une pression, ce couvercle étant traversé par un autre conducteur d'alimentation électrique 10 pour le dispositif à semiconducteur, caractérisé par le fait qu'on chauffe le boitier métallique en forme de bêcher et qu'on dépose sur le bord supérieur dudit boitier une plaquette annulaire en matériau synthétique homogène, qui fond en raison du préchauffage du boitier, remplit en coulant la partie du boitier 15 en forme de bêcher qui est en saillie au-dessus du couvercle, et réalise une fermeture étanche aux gaz. risé par le fait qu'on réalise avec un réglage le refroidissement du boitier métallique. prises dans leur ensemble caractérisé par le fait qu'on utilise une résine époxy comme matériau synthétique. 4. Procédé suivant les revendications 1, 2, et 3 prises dans leur ensemble caractérisé par le fait qu'on 25 enduit la partie supérieure du boitier métallique jusqu'au couvercle avec une laque améliorant l'adhérence du matériau synthétique fondu. 5. Procédé suivant la revendication 4, caractérisé par le fait qu'on utilise comme agent d'adhérence une 30 laque à base de polyesterimides. 6. Procédé suivant les revendications 1,2, 3, 4 et 5 prises dans leur ensemble, caractérisé par le fait que la masse de matériau synthétique est durcie ultérieurement par chauffage du composant pendant une heure à 150° C. 2. Procédé suivant la revendication 1 caracté- 20 3. Procédé suivant les revendications 1 et 2