FR 2080794 A1 19711119 FR 7012484 A 19700407 70 12484 1 2080794 La présente invention concerne un dispositif semiconducteur comportant un élément de circuit semi-conducteur bilatéral à commande par gâchette constitué par une plaquette semi-conductrice comportant : une zone intérieure, d'un premier 5 type de conductivité, entre une première et une seconde zones extérieures du type de conductivité opposé disposées respectivement sur les premier et second côtés opposés de la plaquette et formant des jonctions pn avec la zone intérieure, les première et seconde zones extérieures étant respectivement en contact 10 ohmique avec line première et une seconde électrodes principales transportant le courant et agencées sur lesdits premier et second côtés opposés de la plaquette, au moins une première et au moins une seconde zones additionnelles du premier type de conductivité formant des jonctions £n avec, respectivement, 15 les première et seconde zones extérieures et placées contre lesdits premier et second côtés opposés de la plaquette, respectivement, en contact ohmique avec les première et seconde électrodes principales, une gâchette sur ledit premier côté de la pièce en contact avec la première zone extérieure. 20 Des dispositifs semi-conducteurs du type décrit, utilisables pour la commande de la puissance de deux alternances d'un courant alternatif, sont connus et sont décrits par exemple dans le brevet britannique n° 1.065.150. Ces dispositifs sont bilatéraux et peuvent être à l'état conducteur pour les deux 25 sens d'un courant alternatif dont la source est branchée entre les électrodes principales transportant les courants. Il existe différentes formes de ces dispositifs qui diffèrent du point de vue du dispositif de commande de la gâchette employé pour rendre conducteur le dispositif. 30 Comme on l'indique en détail ci-après, il est essentiel dans la plupart de ces dispositifs que les surfaces latérales voisines desdites zones additionnelles sur les côtés opposés de la plaquette se chevauchent mutuellement de manière à obtenir une commande sensible d'amorçage. Cependant, ce chevauchement 35 donne lieu à des difficultés. Les dispositifs décrits comportent deux structures de thyristors antiparallèles avec une base commune. Le passage d'une structure de thyristor de l'état conducteur à l'autre structure de thyristor à l'état non conducteur peut être considérablement entravé par les charges accumu-40 lées dans la zone de la base commune dans la région de 70 12484 2 2080794 chevauchement. La présente invention a, entre autres, pour objet la réalisation d'un nouveau dispositif semi-conducteur du type décrit ayant une vitesse de commutation raisonnable et une 5 commande d'amorçage sensible pour les divers modes de fonctionnement. L'invention est basée, entre autres, sur la reconnaissance du fait qu'en réalisant une nouvelle disposition géométrique il est possible de réaliser un compromis optimal entre les 10 conditions contradictoires sus-mentionnées en ce qui concerne le chevauchement desdites zones additionnelles. Selon l'invention, un dispositif semi-conducteur tel que celui décrit dans le préambule est caractérisé en ce que lesdites première et seconde zones additionnelles d'un premier 15 type de conductivité disposées sur lesdites première et seconde faces opposées de la plaquette sont placées de telle manière qu'en projection les parties de leurs surfaces latérales adjacentes à proximité de la gâchette se chevauchent mutuellement et en ce que les parties proches de leurs surfaces latérales 20 adjacentes à distance de la gâchette ne se chevauchent pas. Dans le dispositif selon l'invention, en limitant la région de chevauchement des zones additionnelles placées sur des faces opposées de la plaquette à proximité de la gâchette, les difficultés de commutation sont réduites au minimum du fait 25 que la densité de courant est la plus faible possible dans cette zone de chevauchement. De plus, en réalisant ce chevauchement, un déclenchement sensible du dispositif est toujours possible. Lesdites parties proches des surfaces latérales adjacentes desdites première et seconde zones additionnelles du 30 premier type de conductivité qui ne se chevauchent pas en projection peuvent être avantageusement espacées dans une direction parallèle au plan de la plaquette. De cette manière, on tire le maximum de profit de l'augmentation de la vitesse de commutation. Cependant, dans certaines formes du dispositif selon 35 l'invention, lesdites parties proches des surfaces latérales adjacentes peuvent ne pas se chevaucher, en ce sens que, en projection, leur espacement est sensiblement nul. Cette dernière structure, qui peut être une condition imposée par les procédés de fabrication utilisés pour certains dispositifs, ne permet 40 pas d'obtenir une augmentation aussi grande de la vitesse limite 70 12/184 3 2080794 de commutation que dans les structures dans lesquelles lesdites parties proches des surfaces latérales adjacentes sont espacées, mais néanmoins cela aura pour conséquence une augmentation de la vitesse de commutation. 5 Dans une forme préférée de dispositif selon l'invention, à proximité de la gâchette, la partie de la première électrode principale qui est en contact avec la première zone additionnelle du premier type de conductivité dans une direction parallèle au plan de la plaquette, est espacée latéralement de la zone de 10 chevauchement des première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité. Ceci intercale effectivement une grande résistance dans le circuit de 1'électrode principale en direction de la région de chevauchement. Avec cette structure, quand le dispositif est à l'état conducteur et que la polarité 15 de la tension appliquée est telle que la première zone additionnelle du premier type de conductivité constitue la zone de l'émetteur d'un thyristor à quatre z°nes, à travers lequel passe le courant principal, entre les électrodes principales avec ladite polarité de la tension appliquée, la densité maximale 20 du courant se trouve dans l'ombre directe de la première électrode principale et, dans cette zone, les première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité ne se chevauchent pas. Lorsque le chevauchement se produit au voisinage de la gâchette, l'accès de porteurs caractéristiques du 25 premier type de conductivité en provenance de la première zone additionnelle du premier type de conductivité dans la zone de chevauchement a lieu par l'intermédiaire de la partie à impédance relativement élevée de ladite zone additionnelle qui n'est pas recouverte par la première électrode véhiculant le courant prin-30 cipal. La densité de courant est par conséquent très faible dans la zone de chevauchement, réduisant ainsi au minimum la charge accumulée dans la zone intérieure du premier type de conductivité dans ladite zone. Cette charge minimale accumulée se recombine rapidement, autorisant de grandes vitesses de commutation. 35 Les dispositifs selon l'invention peuvent comporter diverses formes de gâchette associée à des zones ou régions de gâchettes, suivant les modes de fonctionnement désirés. Cependant, on réalise des formes préférées d'tm dispositif selon l'invention de manière à pouvoir faire passer ce dispositif de l'état non 40 conducteur à l'état conducteur dans les deux sens en appliquant 70 12484 4 2080794 à la gâchette des tensions qui sont positives ou négatives par rapport à la tension appliquée à la première électrode principale. Dans un de ces dispositifs préférés, une zone de gâchette du premier type de conductivité existe sur la première face et 5 forme une jonction pn avec la première zone extérieure du deuxième type de conductivité, la zone de la gâchette étant espacée de la première zone additionnelle du premier type de conductivité et placée en face d'une partie de la seconde zone additionnelle du premier type de conductivité sur la seconde 10 face du dispositif, la gâchette sur la première face formant un contact ohmique commun avec la zone de la gâchette du premier type de conductivité et la première zone extérieure du type de conductivité opposé, les première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité se chevauchant comme indiqué 15 ci-dessus à proximité de la zone de la gâchette. Des dispositifs selon la dernière forme de réalisation préférée peuvent être construits de diverses manières différentes; par exemple, le corps semi-conducteur peut présenter la forme d'une plaquette rectangulaire et les zones d'émetteur extérieures 20 peuvent être de forme sensiblement rectangulaire à part les régions dans lesquelles le chevauchement se produit. Cependant, dans une forme de réalisation préférée, le corps semi-conducteur a la forme d'un disque sensiblement circulaire, la zone de la gâchette étant placée à peu près .au centre du disque sur la 25 première face de ce corps. Dans un tel dispositif, les parties des surfaces latérales adjacentes des première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité qui se chevauchent à proximité de la zone de la gâchette disposée à peu près centralement, sont placées le long d'arcs de cercle sensiblement 30 concentriques à la zone de la gâchette et d'un côté de celle-ci et les pièces proches de leurs surfaces latérales adjacentes, qui sont espacées, sont disposées à peu près parallèlement à une direction diamétrale. Dans le dernier dispositif décrit, la zone de la 35 gâchette placée à peu près centralement peut avoir sensiblement la forme d'un C avec une partie concave qui, sur ladite première face de la zone de la gâchette, est en face desdites parties des surfaces latérales concentriques se chevauchant des première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité. 40 La gâchette peut avoir une forme sensiblement circulaire 70 12484 5 2080794 et être disposée à peu près centralement en formant un contact ohmique avec la zone de la gâchette d'un premier type de conductivité et avec la première zone extérieure du second type de conductivité, la première électrode véhiculant le courant prin-5 cipal ayant une forme sensiblement annulaire. Les première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité qui s'étendent respectivement sur les première et seconde faces du corps semi-conducteur peuvent comporter chacune des interruptions où des parties, respective-10 ment, des première et seconde zones extérieures du second type de conductivité se trouvent, respectivement, sur lesdites première et seconde faces opposées audit corps, les première et seconde électrodes véhiculant le courant principal étant, respectivement, sur lesdites première et seconde faces opposées en contact avec 15 lesdites parties et court-circuitant les jonctions £n entre lesdites parties du second type de conductivité et les première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité. Il va de soi pour l'homme de l'art que ces courts-circuits des jonctions £n doivent augmenter la valeur de dV/dt en l'absence 20 de commutation. C'est-à-dire qu'un dispositif à l'état non conducteur restera dans cet état après l'application d'une valeur élevée de dV/dt. On peut ainsi réaliser, lors de la commutation, les valeurs de dV/dt atteignant des centaines de volts par microseconde - et même beaucoup plus. Avec le chevauchement 25 optimalisé selon l'invention, cela peut être avantageux en ce qui concerne la valeur de dV/dt lors de la commutation, tandis que son adoption dans un dispositif de la technique antérieure serait peu intéressante. La description qui va suivre, en regard du dessin 30 annexé donné à titre d'exemple non limitatif, fera bien comprendre comment l'invention peut être réalisée. Les figures 1 à 6 représentent des coupes transversales. schématiques de divers dispositifs de la technique antérieure. 35 Les figures 7, 8 et 9 sont respectivement une vue en plan de la face inférieure, une coupe verticale et une vue en plan de la surface supérieure d'un corps semi-conducteur d'une première forme de réalisation d'un dispositif semi-conducteur bilatéral à commande par gâchette selon l'invention, avant la 40 mise en place de ses électrodes. • 70 12484 6 2080794 Les figures 10, 11 et 12 sont respectivement une vue en plan de la face inférieure, une coupe verticale et une vue en plan de la face "supérieure du même corps semi-conducteur après la mise en place de ses électrodes. 5 Les figures 13, .14 et 15 sont respectivement une vue en plan de la face inférieure, une coupe verticale et une vue en plan de là face supérieure du corps semi-conducteur d'une seconde forme de réalisa.tion de dispositif semi-conducteur bilatéral à commande par gâchette selon l'invention, avant 10 la mise en place de ses électrodes. Les figures 16, 17 et 18 sont respectivement une vue ea plan de la fa.ce inférieure, une coupe verticale et une vue en plan de la. face "supérieure du même corps semi-conducteur après' la mise en place de ses électrodes et les figures 19 et. 15 20 sont une vue en plan et une vue en coupe correspondant, respectivement, aux figurés 18 et 17 après avoir soumis le corps représenté sur les figures 16 à 18 à une double opération de biseautage. Les figures 1 à 6 des dessins schématiques ci-annexés 20 représentent des' coupes transversales des corps semi-conducteurs de six dispositifs de commutation différents bilatéraux semiconducteurs de la technique antérieure, parmi lesquels les dispositifs représentés"sur toutes les figures 2" à 5 sont des dispositifs à commande par gâchette. 25 Le dispositif représenté sur la figure 1 est constitué par une plaquette semi-conductrice comportant une zone 1 intérieure du type n placée entre une première et une seconde zones 2 et 3 extérieures du type p placées contre les première et seconde faces opposées de la plaquette et formant respectivement 30 des jonctions £n et J2 avec la zone 1 intérieure du type n. Une première zone 4 additionnelle du type n forme une jonction pn avec la première zone 2 extérieure du type n et se trouve contre le même premier côté de la plaquette que ladite zone 2. Une seconde zone 5 additionnelle du type n forme une jonction 35 pn avec la seconde zone 3 extérieure du type £ et se trouve sur la même face opposée de la plaquette que ladite zone 3. Une première électrode 7, véhiculant le courant principal, et disposée sur ladite première face, est en contact ohmique avec la zone 2 du type £ et la zone 4 du type n et court-circuite une partie 40 de la jonction J^. L'électrode 7 est reliée à la borne 70 12484 7 2080794 faisant varier le courant principal du dispositif. A l'extrémité opposée se trouve une seconde électrode 8, véhiculant le courant principal, qui est en contact ohmique avec la zone 3 du type £ et la zone 5 du type n et qui court-circuite une partie de la 5 jonction L'électrode 8 est reliée à la borne T2 par laquelle passe le courant principal du dispositif. Le fonctionnement de ce dispositif peut être étudié séparément pour les deux alternances d'une source de courant alternatif reliée aux bornes et Tg, l'une avec une tension de la source telle que la borne 10 soit positive et la borne T2 soit négative et l'autre avec une tension appliquée par la source telle que la borne soit négative et la borne T2 soit positive. Les zones 2 et 3 extérieures du type £ accomplissent différentes fonctions pour laisser passer les deux alternances à travers le dispositif. 15 Pour la première alternance, les jonctions et sont polarisées dans le sens direct et les jonctions J2 et sont polarisées en sens inverse. La zone 2 du type £ constitue un émetteur et la jonction est considérée comme une jonction émetteur. Dans ces conditions, la zone 3 du type £ est une zone 20 de base et la zone 5 du type n constitue un émetteur et la jonction est considérée comme une jonction émetteur. Pendant cette alternance, des électrons sont injectés à travers la jonction en direction de la zone 3 du type £ et se déplacent en direction de la jonction J2. Les trous injectés à travers 25 la jonction dans la zone 1 du type n se déplacent en direction de la jonction J2. Cependant, la jonction J2 est polarisée en sens inverse et tend à empêcher le passage du courant à travers le dispositif. Ce dispositif ne devient conducteur pendant cette alternance que lorsque la tension entre les bornes et T2 30 impose la conduction à travers la jonction J2, cette tension étant dénommée tension d'avalanche. Pendant la seconde alternance les jonctions J2 et sont polarisées dans le sens direct et les jonctions et sont polarisées en sens inverse. La zone 3 du type £ constitue "un émetteur et la jonction J2 est considérée 35 comme une jonction émetteur. Dans ces conditions, la zone 2 du type £ constitue une zone de base et la zone 4 du type n constitue un émetteur, la jonction étant considérée comme une jonction émetteur. Pendant cette alternance, des électrons injectés à travers la jonction en direction de la zone 2 du 40 type £ se déplacent en direction de la jonction et les trous 70 12484 8 2080794 injectés à travers la jonction Jp dans la zone 1 du type n se déplacent en direction de la jonction . Cependant, la jonction J., est polarisée en sens inverse et tend à empêcher le passage du courant à travers le dispositif. Ce dispositif ne devient 5 conducteur pendant cette alternance que lorsque la tension entre les bornes et T2 crée une conduction à travers la jonction , cette tension étant dénommée tension d'avalanche. Par conséquent, on voit que pendant une alternance la zone 5 du type n constitue un émetteur et que pendant l'autre 10 alternance c'est la zone 4 du type n qui constitue un émetteur. Au cours de la première alternance, après le dépassement de la tension d'avalanche de la jonction J^, le passage du courant entre les électrodes 7 et 8 se fait par la structure pnpn de thyristor sur le côté gauche du dispositif constitué par les 15 zones 2, 1, 3 et 5 disposées dans cet ordre et pendant l'autre alternance après dépassement de la tension d'avalanche de la jonction , le passage du courant entre les électrodes 7 et 8 se fait par la structure npnp de thyristor du côté droit du dispositif, constitué par les zones 4, 2, 1, 3 arrangées dans 20 l'ordre. Par conséquent, la conduction du dispositif pendant les première et seconde alternances est limitée respectivement au côté gauche et au côté droit dudit dispositif, en observant que les jonctions et sont représentées comme coupant des surfaces opposées du corps semi-conducteur sensiblement dans 25 le même plan. Ce dispositif est une forme relativement simple de commutateur bilatéral et bien qu'il puisse avoir des caractéristiques symétriques puisque les tensions d'avalanche des jonctions et J2 peuvent être rendues à peu près égales, il présente l'inconvénient majeur que rien n'est prévu pour com-30 mander le déclenchement de la conduction pendant les deux alternances. La figure 2 représente un dispositif semblable à celui représenté sur la figure 1, les zones, jonctions et bornes correspondantes étant désignées par les mêmes numéros de réfé-35 rence, mais leur comportement est différent du fait que le déclenchement de la conduction peut être commandé. Dans ce dispositif, les dimensions de la zone 4 sont diminuées pour loger une gâchette 9 à la surface de la zone 2 du type v. De plus, une zone 6 de gâchette du type n formant une jonction pn 40 J,r avec la zone 2 du. type p est placée d'un côté et est en 70 12484 9 2080794 contact avec une autre gâchette 10, les électrodes 9 et 10 éteint raccordées de manière à former une gâchette G commune. Lors de l'utilisation de ce dispositif, quand la borne est positive et la borne T2 négative, la conduction peut être dé-5 clenchée entre les électrodes 7 et 8 à travers la structure pnpn de thyristor constituée par les zones 2. 1, 3, 5 en appliquant à l'électrode 10, par la borne de gâchette G, une tension négative par rapport à la tension de l'électrode 7, provoquant ainsi une variation de la conduction de la jonction J2. Ceci 10 se produit de la manière suivante : quand l'électrode 10 est polarisée négativement par rapport à l'électrode 7, la zone 6, du type n, de la gâchette se comporte comme un émetteur et des électrons sont émis à travers la jonction en direction de la zone 2 du type £. Les électrons diffusent en direction de la 15 jonction où ils sont recueillis et abaissent par conséquent le potentiel de la zone 1 du type n par rapport à la zone 2 du type £, obligeant ainsi la zone 2 du type £ à injecter des trous dans la zone 1 du type n. Par conséqiient, comme cela se produit lors du fonctionnement classique d'un thyristor, une variation 20 de la polarisation inverse de part et d'autre de la jonction J2 de blocage se produit et finalement cette jonction est polarisée dans le sens direct et la conduction apparaît. Lors du fonctionnement du dispositif, quand la borne est négative et la borne T2 positive, une conduction peut être déclenchée entre les 25 électrodes 7 et 8 à travers la structure npnp de thyristor constituée par les zones 4, 2, 1, 3 en polarisant l'électrode 9 par la borne G de gâchette, avec une tension qui est positive par rapport à la tension appliquée à la gâchette 7. Ceci oblige la zone 4 du type n à injecter des électrons dans la zone 2 du 30 type £. Les électrons injectés, qui ne sont pas injectés uniformément à travers la jonction à cause de la chute de tension latérale le long de la jonction dans la zone 2 du type £ diffusent en direction de la jonction et abaissent le potentiel de la zone 1 du type n par rapport à celui de la. zone 3 du type p 35 dans la région en face de celle caractérisée par l'injection d'électrons. Des trous sont injectés à partir de la zone 3 du type £ dans la zone 1 du type n et diffusent en direction de la jonction . Les trous recueillis en élèvent le potentiel de la zone 2 du type £ par rapport à celui de la zone 1 du type n, 40 provoquant ainsi line nouvelle injection d'électrons en provenance 70 12484 10 2080794 de 1a. zone 4 du type n en direction de la zone 2 du type £. L'accumulation de trous dans la zone 2 du type £ provoque une augmentation de la tension de part et d'autre de et une circulation latérale d'un courant de trous rend plus positive 5 une forte proportion de la zone du type £, ce qui provoque une injection accrue d'électrons à travers J^. L'augmentation des charges des deux zones 1 et 2 provoque la disparition de la couche d'appauvrissement de la jonction et le dispositif devient conducteur. Ce dispositif peut être rendu conducteur 10 dans le premier quadrant (borne négative et borne T2 positive) en appliquant à la borne de gâchette G une tension positive par rapport à et dans le troisième quadrant (T^ positive et T2 négative) en appliquant à la borne G de gâchette une tension négative par rapport à T^. 15 Dans le dispositif représenté sur la figure 2, les zones d'émetteur 4 et 5 du type n ne se chevauchent pas. Cependant, la structure de l'électrode de gâchette est inutilement compliquée lorsqu'on réalise ce type de dispositif. Il serait évidemment possible de réaliser un dispositif semblable ayant 20 quatre électrodes séparées, c'est-à-dire un dispositif dans lequel des gâchettes formant un contact ohmique avec les zones 2 et 3 extérieures du type £ seraient placées sur des faces extérieures du dispositif. D'autres dispositifs de la technique antérieure sont décrits ci-après en se référant aux figures 25 3 à 6 des dessins ci-annexés dans lesquels, en mettant en place les zones "émetteur" du type n sur les faces opposées de 1a. plaquette, avec leurs surfaces latérales adjacentes qui se chevauchent, on peut réaliser une électrode de gâchette unique pour provoquer 1'amorçage de la conduction dans les premier et 30 troisième quadrants en appliquant une tension de polarité appropriée à la gâchette. Le dispositif représenté sur la figure 3 comprend une seule zone 4 d'émetteur du type n sur une face de la plaquette formant une jonction pn avec la zone 2 du type p et deux 35 zones d'émetteur 5 et 12 du type n sur 1a. face opposée de la plaquette et formant respectivement des jonctions pn et avec la zone 3 du type p. Les surfaces latérales adjacentes des zones 4 et 5 du type n sont placées sur les faces opposées de la plaquette de manière que ces deux zones se chevauchent. 40 De même, les surfaces latérales adjacentes des zones 4 et 12 70 12484 n 2080794 du type n sont placées sur des faces opposées de la plaquette, de manière que ces deux zones se chevauchent. Ce chevauchement est essentiel pour l'utilisation du dispositif puisque l'amorçage du dispositif par application d'un potentiel approprié à l'élec-5 trode 9 ohmique de ^gâchette par la borne G est liée au mécanisme de conduction des porteurs apparaissant dans les zones de chevauchement. Ce dispositif peut être commuté de l'état non conducteur à l'état conducteur à la fois dans les premier et troisième quadrants par l'application à la borne G d'une tension 10 qui-est positive par rapport à la tension appliquée à la borne T1- Le dispositif représenté sur la figure 4 comporte, sur une face, une zone 4 d'émetteur du type n formant une jonction £n avec la zone 2 du type £ et une zone 6 de gâchette 15 du type n formant une jonction pn avec la zone 2 du type £. La face opposée comporte une zone 5 unique d'émetteur du type n formant une jonction £n avec la zone 3 du type £. Les surfaces latérales adjacentes des zones 4 et 5 du type n sont placées sur des faces opposées du corps semi-conducteur, de manière que 20 ces deux zones se chevauchent. De plus, la zone 5 du type n a des dimensions et une position telles qu'une partie de ladite zone est placée directement en face de la zone 6 de gâchette du type n. Ce chevauchement et cette disposition face à face sont essentiels pour le fonctionnement du dispositif puisque l'amor-25 çage dudit dispositif par une tension appropriée appliquée à l'électrode de gâchette 9 en contact ohmique avec la zone 6 de gâchette est lié au mécanisme de conduction par porteurs se manifestant dans les zones de chevauchement. On peut faire passer ce dispositif de l'état non conducteur à l'état conducteur 30 dans les premier et troisième quadrants par application à la borne G d'une tension qui est négative par rapport à la tension appliquée à la borne . Le dispositif représenté sur la figure 5 diffère de celui représenté sur la figure 4 en ce que deux zones 5 et 12 35 d'émetteur du type n sont présentes sur la face inférieure, les zones 5 et 12 chevauchant toutes deux la zone 4 d'émetteur du type n sur la face supérieure. On peut faire passer ce dispositif de l'état non conducteur à l'état conducteur dans les premier et troisième quadrants en appliquant une tension positive ou 40 négative, par rapport à la tension à la borne , sur la borne 70 12484 ia 2080794 de gâchette 6. La figure 6 représente un autre dispositif qui peut être rendu conducteur dans les premier et troisième quadrants en appliquant une tension, positive ou négative par rapport à 5 la tension appliquée à la borne , sur la borne de gâchette. Ce dispositif diffère du dispositif représenté sur la figure 5 en ce que la zone 6 de la gâchette a des dimensions telles que la jonction J,. entre la. zone 6 de la gâchette, du type n, et la zone 2, du type £, a sa surface terminale entièrement dans 10 le. plan de la surface supérieure et en ce que l'électrode 9 de gâchette forme un contact ohmique avec la zone 6 de gâchette et la zone 2 du type p. Le mécanisme de con. uction par porteurs du dispositif diffère légèrement de celui du- dispositif de la figure 5 quand on applique à la gâchette, une tension positive 15 par rapport à la borne . Les deux derniers dispositifs décrits par rapport aux figures 5 et 6 sont caractérisés par les quatre modes de fonctionnement ci-après : Mode Polarité de Polarité de Polarité de la 20 T., T0 gâchette par rapport - à T1 I-r — + + I- - + III+ + - + 25 III- + Les modes 1+ et I- sont dans le premier quadrant, les courants de gâchette étant respectivement positif et négatif. Les modes III+ et III- sont dans le troisième quadrant avec des courants de gâchette respectivement positif et négatif. 30 Avec les dispositifs représentés sur les figures 2 à 6 il est essentiel que les surfaces latérales adjacentes des zones d'émetteur du type n placées sur les faces opposées de la. pièce se chevauchent. Cette conditions s'applique plus rigoureusement a.u dispositif qui fonctionne selon le mode III+.Cependant, 35 l'obtention de ce chevauchement pose le problème ci-après : les dispositifs décrits peuvent être considérés comme réalisés par l'intégration de deux thyristors antiparallèles qui se partagent la même base du type n, autrenient dit, le passage d'un courant entre les électrodes principales transportant le premier 40 et le second courants dans le premier quadrant s'effectue par 70 12484 13 2080794 la structure npnp de thyristors et le passage d'un courant entre les première et seconde électrodes principales transportant les courants dans le troisième quadrant est réalisé par l'intermédiaire de la structure pnpn de thyristor. Lorsque le dispositif 5 fonctionne, il est nécessaire de passer d'une structure de thyristor à l'état conducteur à l'autre structure de thyristor à l'état non conducteur. Cette commutation est en général limitée par la charge accumulée dans la zone de la base partagée du type n, dans la région de chevauchement des zones d'émetteur du type 10 n sur les faces opposées de la plaquette parce que, si les vitesses de commutation dl/dt et dV/dt sont trop élevées, cette charge disponible fait passer l'autre structure de thyristor de l'état non conducteur à l'état conducteur. Pour ce motif, les vitesses de commutation doivent être maintenues faibles. Des 15 valeurs typiques caractérisant l'état de la technique sont 10 A/ms à partir de 20 A, 10 V/jj.s pour 600 V, ces valeurs nominales étant généralement applicables à 100°C. Ces valeurs nominales peuvent être améliorées si la surface latérale des zones d'émetteur du type n sur des faces opposées de la plaquette 20 sont espacées de manière qu'aucun chevauchement n'existe. Cependant, comme on l'a déjà expliqué, l'existence d'un chevauchement est une condition fondamentale pour le fonctionnement des dispositifs selon l'invention. Par conséquent, il faut chercher un compromis en déterminant le taux du chevauchement de 25 manière à obtenir une vitesse maximale de commutation raisonnable et une commande d'amorçage suffisamment sensible pour les divers modes de fonctionnement. En particulier, le chevauchement est essentiel pour le fonctionnement du dispositif selon le mode III+. En ce qui concerne le dispositif représenté sur les 30 figures 7 à 12 inclusivement, la coupe de la figure 8 est effectuée suivant les lignes VIII-VIII des figures 7 et 9 et la coupe de la figure 11 est faite suivant les lignes XI-XI des figures 10 et 12. Le dispositif comprend une plaquette semi-conductrice circulaire, en forme de disque, d'environ 10 mm de diamètre et 35 0,25 mm d'épaisseur comportant une zone 21 intérieure du type n et des zones 22 et 23 diffusées extérieures du type £ placées sur les faces opposées du corps et formant une jonction jpn et J2, respectivement, avec la zone intérieure 21. D'autres zones 24 et 25 diffusées du type n+ se trouvent sur les faces 40 opposées de la plaquette et forment respectivement des jonctions 70 12484 14 2080794 pn J3 et avec les zones extérieures 22 et 23 du type £. Une zone 26 de gâchette, du type n+, diffusée, est également disposée centralement sur la face supérieure du corps et forme une jonction pn Jj. avec la zone extérieure 22 du type p. 5 Les jonctions et J2 s'étendent sur toute la surface de 1a. plaquette semi-conductrice et se terminent sur les surfaces latérales de celle-ci. Ces surfaces latérales sont, en fait, biseautées de manière que .les plans de jonction soient inclinés par rapport aux plans des faces à la sortie des .jonctions dans 10 les faces latérales,mais non représentées comme telles sur les dessins pour simplifier. Les jonctions et se terminent partiellement sur les faces principales opposées du disque et se terminent partiellement sur les faces latérales. Leur terminaison dans les faces principales opposées est représentée sur 15 les figures 7 et 9 par les lignes en trait interrompu portant respectivement les références et J^. La jonction se termine en totalité sur la surface principale supérieure et ceci est indiqué par la ligne en trait interrompu désignée par sur la figure 9. 20 Si l'on passe maintenant aux figures 10, 11 et 12, figures correspondent sensiblement aux figures 7, 8 et 3, r. .._ tivement, la principale différence consistant en ce qu'elles représentent en plus les structures d'électrodes présentes sur 1er. grandes faces opposées de la plaquette semi-conductrice. De r.!.. 25 les figures 10 et 12 représentent toutes deux, par des traite pointillés, les emplacements de la terminaison de la jonc ri.-:-sur la face inférieure et l'aboutissement des jonctions J0 e sur la face supérieure. L'ensemble des électrodes est constieu. par une première électrode principale 27 de forme annulaire, -30 posée sur la face supérieure et formant un contact ohmique c avec la zone extérieure 22 du type p et la zone additionnel!-supérieure du type n+, une seconde électrode principale , configuration circulaire, sur la face inférieure et établissant un contact ohmique commun avec la zone 23 extérieure du type £ et 35 la zone additionnelle 25 inférieure du type n+ et une électrc-i" 29 de gâchette circulaire disposée centralement, établissant e.i contact commun avec la zone 26 de gâchette du type n+et la : e. e 22 extérieure du type p. Lorsqu'avec ce dispositif on branche une source de 40 courant alternatif entre les électrodes principales 27 et 23, un courant peut passer quand l'électrode principale 27 est négative par rapport à l'électrode principale 28 en passant par 70 12484 15 2080794 la. structure npnp de thyristor formée par les zones 24, 22, 21 et 23 et quand l'électrode principale 27 est positive par rapport à l'électrode principale 28, en passant par la structure pnpn de thyristor formée par les zones 22, 21, 23, 25. 5 On voit, d'après les figures 7, 8 et 9, que les zones additionnelles 24 et 25 du type n+ sont placées sur des faces opposées du corps semi-conducteur de manière que leurs surfaces latérales adjacentes, dont les limites sont indiquées, respectivement, par les lignes en trait interrompu et sur 10 les figures représentant des vues en plan, au voisinage de l'électrode 29 de gâchette et de la zone de gâchette associée 26 perpendiculaire en projection à la surface de la plaquette se chevauchent et que les parties proches de leurs surfaces latérales adjacentes soient espacées. Les parties qui se che-15 vauchent des surfaces latérales adjacentes des zones additionnelles 24 et 25 du type n+ sont placées radialement d'un côté de la zone 26 de gâchette disposée centralement. L'importance de ce chevauchement est indiqué par la cote d^ sur les figures 8 et 11 et est d'environ 0,25 mm aux endroits indiqués. Les 20 parties proches des surfaces latérales adjacentes des zones 24 et 25 du type n+ sont sensiblement parallèles à une direction diamétrale et sont espacées l'une de l'autre, cet espacement étant indiqué par les cotes d2 sur les figures 10 et 12 et ayant une valeur d'environ 0,5 mm. 25 La zone 26 de gâchette diffusée du type n+ a sensible ment la forme d'un C et comporte une partie concave là où la zone 22 du type p affleure à la surface et forme un contact ohmique avec l'électrode 29 de gâchette disposée centralement. Avec la disposition sus-mentionnée des zones addi-30 tionnelles 24 et 25 du type n+ sur les faces opposées de la plaquette pour laquelle le chevauchement est limité au voisinage de l'électrode 29 de gâchette et de la zone 26 de gâchette associée, on obtient une vitesse maximale optimale de commutation compatible avec des dispositifs d'amorçage sensibles. Le fonc-35 tionnement du dispositif suivant le mode III+, dans lequel ce dispositif est très sensible audit chevauchement, est étudié ci-après très en détail. Dans ce mode, l'électrode 27 est positive par rapport à l'électrode 28 et l'électrode 29 est positive par rapport aux deux électrodes 27 et 28. Avec cette 40 polarisation positive appliquée à l'électrode 29 de gâchette, 70 12484 16 2080794 la zone 24 additionnelle du type n+ injecte des électrons dans la zone 22 extérieure du type p en direction du contact ohmique de la gâchette. Certains des électrons injectés se déplacent en direction de la zone 21 intérieure du type n, diminuant 5 ainsi sa charge. Pour compenser cela, la polarisation de diminue dans le sens direct et le nombre dé trous injectés, en provenance de la zone 22 du type p, en direction de la zone 21 du type n à travers , augmente. Ces trous sont recueillis par la jonction J2 et se déplacent à travers la zone 2.3 du type £ 10 sur une largeur correspondant à la longueur du chevauchement d^ et atteignent finalement l'électrode 28. Lorsque le courant augmente, la chute de tension dans la région de chevauchement dans la zone 23 du type p augmente jusqu'à ce que, finalement, cette chute de tension ait pour effet de polariser dans le 15 sens direct la partie de la jonction dans la région de chevauchement en un point immédiatement au-dessous de la partie intéressée par le chevauchement de la zone 24 du type n+. Ceci amorce le thyristor pnpn, constitué par les zones 22, 21, 23 et 25 jusqu'à un point dé l'électrode 27 qui se trouve à pro-20 ximité de la zone 26 de gâchette. Ensuite, le courant s'étale sur la totalité de l'électrode principale 27, la totalité de la jonction se comportant comme un émetteur. D'après la. description ci-dessus du fonctionnement suivant ce mode III+, il est évident que le chevauchement des zones 24 et 25 unique-25 ment à proximité de la gâchette assure un amorçage sensible suivant ce mode. De plus, la limitation de la vitesse de commutation qui se produit avec les dispositifs de la technique antérieure est réduite au minimum à cause de la séparation dans l'espace des parties proches des surfaces latérales adjacentes 30 des zones additionnelles 24 et 25 et de la faible densité de courant qui apparaît dans la zone de chevauchement des zones 24 et 25. Une autre caractéristique importante du dispositif . est la configuration de l'électrode 27 en fonction de la zone 35 25 du type n. L'électrode 27 a un diamètre intérieur tel que, dans la région de chevauchement des zones 24 et 25, la partie de l'électrode 27 en contact avec la zone 24 est espacée latéralement du bord de la partie se trouvant au-dessous de la zone 25 inférieure du type n et par conséquent de la région de 40 chevauchement, d'une distance désignée par cL sur la figure 11, qui est égale à 0,25 mm dans la présente forme de réalisation. 70 12484 17 2080794 Ceci intercale effectivement une résistance série élevée, d'environ un ohm, sur le trajet du courant en provenance de l'électrode 27 et en direction de la région de chevauchement, dans la zone 24. Cette résistance est en série avec la résis-5 tance directe dans la région de chevauchement du dispositif et est au moins dix fois supérieure à cette résistance dans le sens direct. Ceci a pour conséquence, en première approximation, une diminution de la densité de courant dans un rapport égal ou supérieur à 10 dans la zone de chevauchement. 10 Si l'on se reporte maintenant aux figures 13 à 20, la coupe représentée par la figure 14 est effectuée suivant les lignes XIV-XIV des figures 13 et 15 et la coupe de la figure 17 est effectuée suivant les lignes XVII-XVTI des figures 16 et 18. 15 La structure représentée sur les figures 13, 14 et 15 correspond à un stade de fabrication postérieur à la formation des diverses régions diffusées dans le corps semi-conducteur. La structure représentée sur les figures 16, 17 et 18 correspond au stade de fabrication succédant à l'application des électrodes 20 et antérieur au biseautage de la surface latérale du corps semiconducteur . La structure représentée sur les figures 19 et 20 est à un stade de fabrication postérieur au biseautage de la surface latérale du corps semi-conducteur. Ce dispositif est une variante du dispositif repré-25 senté sur les figures 7 à 12, les éléments correspondants étant désignés par les mêmes références. Les principales différences sont les suivantes : la zone additionnelle du type n+ sur la face supérieure, désignée maintenant par 34, comporte des lacunes permettant à des parties 22a de la zone extérieure supérieure 30 du type £ de parvenir jusqu'à la face supérieure de la surface. La zone additionnelle du type n+- sur la face inférieure, désignée maintenant par 35, comporte des lacunes à travers lesquel-lès des parties 23a de la zone 23 extérieure inférieure du type £ parviennent jusqu'à la surface de la face inférieure. 35 Sur ladite face inférieure, l'électrode 28 est en contact avec toutes les parties 23a et covirt-circuite les parties de la jonction pn à la surface, entre ces parties de la région du type £ et la zone 35 inférieure du type n+. Sur la face supérieure, la principale électrode véhiculant un courant est une 40 électrode annulaire 37 (figures 18 et 19) et établit un contact 70 12484 18 2080794 avec seulement certaines des parties 22a du type £ et court-circuite ainsi certaines parties de la jonction pn à la surface, entre les parties 22a des régions du type £ et la zone 34 supérieure du type n. La zone 26 de la gâchette et l'électrode de 5 gâchette 29 (figures 18 et 19) ont la même configuration que dans la forme de réalisation précédente. La; vue en plan de la figure 19 représente la surface latérale biseautée. On voit que cette surface latérale comporte deux portions principales inclinées sous des angles différents 10 par rapport au plan du disque semi-conducteur et obtenues par une double opération de biseautage. Les lignes 41 et 42 en trait continu indiquent les pqsitions diamétrales pour lesquelles l'inclinaison de la surface latérale change. La surface latérale biseautée est représentée sur la vue en plan de la 15 figure 19 et la vue en coupe de la. figure 20. Sur la figure 19, les lignes 41 et 42 en trait continu indiquent les positions diamétrales pour lesquelles 1'inclinaison de la surface latérale par rapport au plan des surfaces principales du disque semiconducteur change. La figure 20 représente le corps comportant 20 une surface latérale avec deux parties principales 43 et 44 obtenues par une double opération de biseautage. La jonction émerge dans la partie 43 qui est inclinée sous un angle déterminé par rapport aux surfaces principales et par conséquent le plan de la jonction et 1'emplacement•d'émergence de la jonction 25 se trouvent dans la partie 44 qui est inclinée sous un autre angle par rapport aux surfaces principales et, par conséquent, au plan de la jonction J^. La figure "}9 représente également 1a. zone d'émergence dans la surface latérale de la jonction J^, la zone d'émergence dans la surface supérieure et dans la partie 30 43 de la surface latérale de la jonction et la zone d'émergence dans la surface supérieure de la jonction J^. Les opérations fondamentales intervenant lors de la fabrication du dispositif représenté sur les figures 13 à 20 sont décrites ci-après. Dans chaque cas, 1a. matière de départ 35 est un disque de silicium du type n de 28 mm de diamètre et de 0,25 à 0,3 îïim d'épaisseur. La. tranche de matière semi-conductrice est rendue optiquement plane par rodage et attaque chimique avant la première opération de diffusion. La diffusion de l'agent dopant du type accepteur est réalisée dans les grandes faces 40 opposées de la tranche, de manière à former les régions 22, 23 70 12484 19 2080794 extérieures du type £ et les jonctions et J2, chacune d'entre elles étant placée à une profondeur d'environ 50 microns comptés à partir de la surface adjacente. L'agent dopant accepteur peut être, par exemple, du gallium ou du bore. Si 5 l'on emploie du gallium, on peut diffuser en outre du bore de manière à obtenir une concentration superficielle élevée qui assure une résistance ohmique suffisamment faible des contacts au cours des opérations de fabrication ultérieures. La tranche de 28 mm de diamètre est alors subdivisée en quatre disques 10 plus petits, de 10 .mm chacun par un procédé de découpage aux ultra-sons. La description qui va suivre concerne le traitement ultérieur d'un tel disque de 10 mm de diamètre. Par un procédé couramment employé dans la technique des semi-conducteurs, on 15 recouvre le disque d'une couche d'oxyde sur toutes ses surfaces. Des couches formant masque sont appliquées sur la couche d'oxyde recouvrant les grandes faces opposées du disque, ces couches ayant les formes désirées pour obtenir, par diffusion ultérieure de,phosphore, les zones 34 et 35 extérieures d'émetteur du 20 type n+, et la zone 26 du type n+ de la gâchette. Les couches formant masque peuvent être obtenues en utilisant une matière pour réserve photographique qui est réalisée par des procédés photographiques comportant l'emploi de masques. Cependant, on peut avantageusement employer comme variante le procédé consis-25 tant à projeter de ]a cire à travers des masques métalliques. Dans ce dernier procédé, les parties de la surface de l'oxyde qui doivent être protégées par le masque sont recouvertes de cire. Ensuite, on attaque chimiquement la couche d'oxyde laissée à nu, par exemple par de l'acide fluorhydrique, pour 30 mettre à nu certaines parties sous-jacentes de la surface du silicium. Le masque de cire ou la matière pour réserve photographique restante, suivant le cas, est alors enlevée. On procède alors à une opération de diffusion du phosphore par des procédés couramment employés dans la technique des semi-35 conducteurs pour former les zones 34 et 35 d'émetteur du type n+ et la zone 26 du type n de la gâchette. Après cette diffusion du phosphore, le disque a la forme représentée sur les figures 13, 14 et 15, les profondeurs des jonctions des zones 34, 35,26 du type n+, comptées à partir des surfaces voisines, étant de 40 l'ordre de 20 microns dans chaque cas tandis que la concentration 70 12484 20 2080794 P1 P superficielle dti phosphore est d'environ 10 atomes/cm . Pour plus de clarté, les parties résiduelles de la couche d'oxyde sur les surfaces opposées ne sont pas représentées sur la courbe de la figure 14. On met ensuite en place les électrodes 5 37, 28 et 29 représentées sur les figures 16, 17 et 18. Ceci est effectuée sur la surface supérieure par une nouvelle opération de formation d'un masque d'oxyde, par exemple en utilisant le procédé par projection de cire et attaque chimique décrit ci-dessus. On ménage une ouverture annulaire dans la couche d'oxyde 10 correspondant à l'emplacement ultérieur de l'électrode 37 et une ouverture circulaire disposée centralement correspondant à l'emplacement ultérieur de l'électrode de gâchette 29. On enlève sur la face inférieure les parties restantes de la couche d'oxyde. On applique ensuite les électrodes 37, 28' et 29 sur 15 les parties de la surface du silicium à découvert par dépôt non galvanique d'une couche de nickel de 2 à 3 microns d'épaisseur, opération suivie par un dépôt, non galvanique, d'une mince couche d'or sur celle-ci. Le dispositif a alors la configuration représentée sur les figures 16, 17 et 18. A noter 4- 20 qu'à ce stade du traitement, la région 34 au type n comporte un bord 34a placé sur la surface supérieure du côté gauche sur les figures. Ce bord 34a, du type n+, est enlevé par une opération de biseautage mise en oeuvre ultérieurement, au cours de laquelle la surface latérale du disque est biseautée de manière 25 que les jonctions et à leurs zones d'émergence siir la surface latérale soient inclinées d'angles différents prédéterminés par rapport au plan des parties des faces latérales correspondant à ladite zone d'émergence. Dans le cas présent, on procède à une opération de biseautage en deux phases, de 30 la manière couramment utilisée dans' la technique des semi-cpnducteurs, les jonctions et J2 étant inclinées sous des angles différents dans leurs zones d'émergence, par rapport aux parties correspondantes de la surface latérale. A noter également que, sur la- figtire 18, certaines parties 22a de la 35 région 22 extérieure du type p ne sont pas en contact avec l'électrode 37 et que les parties de la jonction associées avec elle ne sont pas court-circuitées par l'électrode 37. Certaines de ces parties 22a n'apparaissent pas sur la structure obtenuè après biseautage et leur inclusion au stade précédant 40 le biseautage, c'est-à-dire leur formation en fonction de la 70 12484 21 2080794 forme géométrique des masques employés pour la diffusion du phosphore est liée à des considérations concernant la réalisation des masques et le traitement. De même la mise en place de la bordure 34a du type n+ et son enlèvement ultérieur lors 5 du biseautage est également liée à des considérations concernant la réalisation des masques et le traitement du dispositif au cours des divers stades du traitement. Cependant, il va de soi que les dernières caractéristiques décrites de ce procédé ne sont pas en corrélation avec la réalisation du dispositif selon 10 l'invention. Après le biseautage, le corps semi-conducteur est monté d'une manière appropriée sur un support, par exemple par soudure tendre avec un disque de plomb/étain entre l'électrode 28 et le support ou par soudure forte avec un disque 15 d'or/germanium entre l'électrode 28 et ledit support. Ensuite, des conducteurs sont fixés aux électrodes 29 et 37 et l'ensemble est mis sous boîtier d'une manière couramment utilisée dans la technique des semi-conducteurs. Il va de soi que de nombreuses variantes sont possi-20 bles en restant dans le cadre de l'invention défini par les revendications ci-annexées. Par exemple, des dispositifs ayant des modes de fonctionnement différents ,liés à la polarité de la tension appliquée à l'électrode de gâchette pour déclencher le dispositif dans les premier et troisième quadrants sont 25 réalisables, la structure de l'électrode de gâchette étant déterminée de manière appropriée, mais le dispositif comportant toujours la structure optimalisée avec chevauchement des zones d'émetteur extérieur selon l'invention. Par conséquent, on peut réaliser des dispositifs semblables à celui représenté sur 30 la figure 3, dans lequel l'électrode de gâchette est seulement en contact ohmique avec la zone extérieure de conductivité de type opposé, ou semblables à ceux représentés sur les figures 4 et 5» dans lesquels l'électrode de gâchette est seulement en contact ohmique avec une zone de gâchette d'un premier type de 35 conductivité ménagée dans la zone extérieure ayant le type de conductivité opposé. A ce point de vue, l'expression "une électrode de gâchette dudit premier côté du corps semi-conducteur en contact avec la première zone extérieure" doit être comprise crmme englobant le cas où l'électrode de gâchette est en contact 40 avec ladite zone par une zone de gâchette d'un type de conducti- 70 12484 22 2080794 vité déterminé ménagée dans 1a. première zone extérieure du type de conductivité opposé et qui forme une jonction £n avec ladite-première zone extérieure. De plus, dans les deux formes de réalisation décrites 5 en se référant aux figures 7 à 20 du dessin ci-annexé, les parties qui ne sont pas à proximité de l'électrode de gâchette des surfaces latérales adjacentes des zones d'émetteur du type n+ voisines des parties de celles-ci qui se chevauchent à proximité de l'électrode de gâchette sont espacées, c'est-10 à-dire sont séparées par une certaine distance, par exemple d^ sur les figures 10 et 12. Cependant, une structure dans laquelle ces pièces ne se chevauchent pas, c'est-à-dire ont un espacement pratiquement nul, ne sort pas du cadre de l'invention défini par les revendications ci-après. 15 II va de soi que des modifications peuvent être apportées aux modes de réalisation qui viennent d'être décrits, notamment par substitution de moyens techniques équivalents, sans sortir pour cela du cadre de la présente invention. 70 12484 23 2080794 REVENDICATIONS 1.- Dispositif semi-conducteur comprenant un élément de circuit semi-conducteur bilatéral à commande par gâchette constitue par une plaquette semi-conductrice ayant une zone 5 intérieure, d'un premier type de conductivité, entre une première et une seconde zones extérieures du type de conductivité opposé disposées respectivement sur une première et une seconde faces opposées de la plaquette et formant des jonctions pn avec la zone intérieure, les première et seconde 10 zones extérieures étant respectivement en contact ohmique avec une première et une seconde électrodes principales transportant le courant et agencées sur lesdites première et seconde faces opposées de la plaquette, au moins une première et au moins une seconde zones additionnelles d'un premier type de conduc-15 tivité formant des jonctions pn avec, respectivement, les première et seconde zones extérieures et disposées sur lesdites première et seconde faces opposées du corps semi-conducteur, respectivement en contact ohmique avec les première et seconde électrodes principales , une électrode de gâchette sur ladite 20 première face du corps semi-conducteur en contact avec la première zone extérieure, caractérisé en ce que lesdites première et seconde zones additionnelles d'un premier type de conductivité sur lesdites première et seconde faces opposées de la plaquette sont situées de telle manière que, en projection, les parties 25 de leurs surfaces latérales adjacentes à proximité de l'électrode de gâchette se chevauchent mutuellement et en ce que les parties proches de leurs surfaces latérales adjacentes, au-delà de la proximité de l'électrode de gâchette ne se chevauchent pas. 30 2.- Dispositif semi-conducteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que lesdites parties proches des surfaces latérales adjacentes des première et seconde zones additionnelles au-delà de la proximité de l'électrode de gâchette en projection sont espacées dans une direction parallèle au plan de la 35 plaquette. 3.- Dispositif semi-conducteur selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce qu'à proximité de l'électrode de gâchette, la partie de la première électrode principale qui est en contact avec la première zone additionnelle, 40 dans une direction parallèle au plan de la plaquette, est espacée 70 12484 24 2080794 latéralement de la zone de chevauchement des première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité. 4.- Dispositif semi-conducteur selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'une zone de gâchette du 5 premier type de conductivité est présente sur la première face et forme une jonction jm avec la première zone extérieure du type de conductivité opposé, la zone de la gâchette étant espacée de la. première zone additionnelle et située en face d'une partie de la seconde zone additionnelle sur la seconde face du corps 10 semi-conducteur,, l'électrode de gâchette sur la première face établissant un contact ohmique commun avec la. zone de la gâchette du premier type de conductivité. et 1a. première zone extérieure du type opposé de conductivité, les première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité 15 se chevauchant de la. manière indiquée ci-dessus à proximité de la zone de la gâchette.. 5.- Dispositif semi-conducteur selon la revendication 4, caractérisé en ce que la plaquette semi-conductrice est réalisée sous la forme d'un disque sensiblement circulaire, la zone de 20 gâchette étant placée à peu près au centre du disque sur la première face du corps semi-conducteur. 6.- Dispositif semi-conducteur selon la revendication 5, caractérisé en ce que les parties des surfaces latérales adjacentes des première et seconde zones additionnelles du 25 premier type de conductivité qui se chevauchent à proximité de la zone de gâchette placée à peu près centralement sont placées le long d'arcs de cercle sensiblement concentriques avec la zone de gâchette et d'un côté de celle-ci et en ce que les parties proches de leurs surfaces latérales adjacentes qui 30 ne se chevauchent pas sont disposées sensiblement parallèlement à une direction diamétrale. 7.- Dispositif semi-conducteur selon la revendication 6, caractérisé en ce que la zone de gâchette placée à peu près centralement a sensiblement la forme d'un C avec une partie 35 concave qui se trouve en face, sur ladite première face de la zone de gâchette, desdites parties concentriques de la surface latérale, se chevauchant, des première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité. 8.- Dispositif semi-conducteur selon l'une des reven-40 dications 6 ou 7, caractérisé en ce que l'électrode de gâchette 70 12484 25 2080794 est à peu près circulaire et est placée à peu près centralement en établissant un contact ohmique avec la zone de la gâchette du premier type de conductivité et avec la première zone extérieure du type de conductivité opposé, la première électrode 5 principale, véhiculant .un courant, ayant une forme sensiblement annulaire. 9.- Dispositif semi-conducteur selon l'une des revendications 6 à 8, caractérisé en ce que les première et seconde zones additionnelles du premier type de conductivité 10 qui se trouvent sur les première et seconde faces du corps semi-conducteur comportent toutes deux des interruptions où des parties des première et seconde zones extérieures ayant des types de conductivité opposés se trouvent respectivement sur lesdites première et seconde faces opposées dudit corps, 15 les première et seconde électrodes principales, transportant un courant, placées sur lesdites première et seconde faces opposées, étant respectivement en contact avec lesdites parties et court-circuitant les jonctions £n entre lesdites parties du type de conductivité opposé et les première et seconde zones 20 additionnelles du premier type de conductivité.