FR 2064447 A1 19710723 FR 7024257 A 19700630 70 24257 1 2064447 la présente invention concerne essentiellement un procédé de fabrication de transistors à effet de champ et à porte ou grille isolée complémentaires dans un substrat commun. Un transistor à effet de champ et à porte ou grille isolée 5 comprend, en général, un corps en matériau semi-conducteur, tel que le silicium, ayant une conductivité d'un type donné et ayant, sur une surface, des régions séparées ayant la conductivité de type opposé, une couche d'un matériau isolant, tel que le dioxyde de silicium, sur la surface dudit corps entre lesdites régions 10 séparées et une couche de contact métallique sur ladite couche isolante, les régions séparées précitées forment la source e.t le drain du transistor et le film métallique constitue le contact de porte sur le canal du transistor. Il est souhaitable, pour certaines applications, de prévoir des transistors à effet 15 de champ et à porte isolée complémentaires dans un substrat commun d'un matériau semi-conducteur. Des transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires sont deux transistors du type précité dans lesquels la source et le drain de l'un des transistors ont une conductivité du type opposé à celle de la 20 source et du drain de l'autre transistor. Etant donné que la source et le drain de l'un des transistors doivent avoir une conductivité du même type que celle du substrat, on prévoit, dans le substrat, une région ou puits ayant un type de conductivité opposé à celui du substrat. L'un des transistors est formé dans 25 le puits et l'autre transistor est formé dans le substrat extérieurement à ce puits. le procédé qui a été utilisé jusqu'ici pour fabriquer des transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires comporte une certain nombre de phases de traitement par la 30 chaleur afin de diffuser des impuretés dans le corps de silicium pour former le puits ainsi que la source et le drain, pour former les diverses couches d'oxyde de silicium qui servent de masques de diffusion et d'isolation de canal et pour former les contacts métalliques pour la source,le drain et le canal. Chacune 35 de ces phases successives de traitement par la chaleur dans la séquence du procédé a un effet sur le dispositif qui peut entraîner une dégradation de ses caractéristiques et peut soulever des 70 24257 2 2064447 problèmes de sûreté de fonctionnement. De plus chaque phase de traitement augmente le temps requis pour fabriquer le dispositif et augmente son prix. Il est par conséquent souhaitable d'avoir une méthode de fabrication de transistors à effet de champ et à porte 5 isolée complémentaires qui réduise le nombre des phases de traitement par la chaleur nécessaires pour la fabrication dudit dispositif. On dispose, selon l'invention, sur -une surface d'un corps semi-conducteur, une première paire de régions ou zones limitées 10 faites d'un matériau contenant une impureté d'un premier type de conductivité et une seconde paire de régions ou zones limitées faites d'un matériau contenant une impureté d'un second type de conductivité. les impuretés des deux paires de régions sont diffusées simultanément dans le corps de façon à former, simultanément, 15 une première et une seconde paire de sources et de drains pour les deux transistors. On peut diffuser, dans le corps, un puits diffusé dans lequel est située l'une des paires de sources et de drains en même temps que l'on diffuse la source etD^&rain . On réalise cela en prévoyant 20 une région ou zone limitée d'un matériau contenant une impureté ayant le second type de conductivité sous la première paire de régions ou zones limitées faites en le matériau ayant le premier type de conductivité. Dans les dessins annexés donnés uniquement à titre d'exemple 25 - les figures 1 à 7 sont des coupes montrant les différentes phases d'un procédé conforme à la présente invention pour la fabrication d'une paire de transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires; - les figures 8 à 13 sont des coupes montrant les différentes 30 phases d'un autre procédé conforme à la présente invention pour la fabrication d'une paire de transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires. Exemple 1 En se référant à la figure 1 , pour fabriquer une paire de transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires selon un procédé de la présente invention, on part d'un corps 10 70 24257 3 2064447 de silicium monocristallin ayant un type de conductivité donné, par exemple le type U. le corps de silicium 10 peut être constitué par une pastille ou analogue plate de ce silicium, comme représenté à la figure, où il peut être constitué par une couche de ce 5 silicium formée épitaxialement sur un substrat de silicium ou un matériau isolant tel que le saphir ou la spinelle. Une surface du corps de silicium 10 est recouverte d'une couche formant masque 12. la couche formant masque 12 peut être soit du dioxyde de silicium, du nitrure de silicium ou de l'oxyde d'aluminium. 10 La couche 12 peut être formée en plaçant le corps 10 dans une chambre dans laquelle on fait passer un gaz contenant les composants formant le matériau particulier de ladite couche. On chauffe la chambre à une température pour laquelle il se produit une réaction entre des composants du gaz pour former le matériau 15 particulier de cette couche qui se dépose sur la surface du corps 10. Si la couche 12 est formée de dioxyde de silicium, le gaz peut être un mélange de silane et d'oxygène ou de vapeur d'eau qui réagissent à une température comprise entre 200°C et 400°C. Pour former une couche 12 de nitrure de silicium le gaz 20 peut être un mélange de silane et de vapeur d'ammoniac qui réagissait à une température comprise entre 600°C et 1200°C. L'oxyde d'aluminium peut être formé avec un gaz comprenant un mélange, de chlorure d'aluminium, d'anhydride carbonique et d'hydrogène qui réagiœœt à uœtempérature supérieure à 800°C. On peut utiliser ^ également d'autres procédés bien connus pour la formation du matériau de la couche 12. On peut, par exemple, former une couche de dioxyde de silicium en chauffant le corps 10 dans une atmosphère contenant de l'oxygène à une température comprise entre 900°C et 1200°C pour oxyder la surface dudit corps; ----- On forme ensuite une fenêtre 14 dans la couche à effet de masque 12 pour exposer une aire délimitée de la surface du corps 10. La fenêtre 14 est formée en déposant un revêtement isolant sur la surface de la couche 12 excepté là où doit être prévue la fenêtre 14, ceci en utilisant des techniques photolithographi-ques classiques. La partie non recouverte de la couche à effet de masque 12 est ensuite enlevée en utilisant un agent attaquant convenable. Le dioxyde de silicium peut être attaqué à-l'acide 70 24257 4 2064447 fluorhydrique tandis que le nitrure de silicium et l'oxyde d'aluminium peuvent être attaqués avec de l'acide phosphorique chaud à 180°C environ. la surface exposée du corps de silicium 10 se trouvant dans la 5 fenêtre 14 est ensuite revêtue d'une couche 16 d'un matériau contenant un dopant d'un type de conductivité opposé à celui du corps de silicium 10. En utilisant un corps de silicium 10 de type F, la couche 16 peut être de- l'oxyde de bore contenant un dopant du type P, le bore. la couche d'oxyde de bore 16 peut être formée en 10 plaçant le corps 10 et un disque de nitrure de bore ayant un revêtement de surface d'oxyde de bore dans une enceinte fermée, le disque de nitrure de bore étant placé au voisinage immédiat de la surface du corps 10 à recouvrir. On chauffe l'enceinte jusqu'à une température de 820°C environ 15 pendant une demi-heure de façon à vaporiser l'oxyde de bore de la surface du disque et de condenser ces vapeurs sur la surface exposés dudit corps 10 ainsi que sur la couche à effet de masque 12. le corps recouvert 10 est ensuite chauffé à une température de 1200°C environ pendant approximativement 16 heures pour diffuser 20 le bore de la couche d'oxyde de bore 16 dans ledit corps 10. Comme représenté à la figure 2, ceci forme un puits 18 de type P dans le corps 10,-puits qui s'étend sur environ 10 microns dans le corps à partir de sa surface. La couche d'oxyde de bore 16 est ensuite enlevée avec un agent attaquant convenable, tel que 25 l'acide fluorhydrique et la surface du corps, sur la région du puits 18, est recouverte d'un matériau qui est le même que celui de la couche 12. Comme représenté à la figure 3, on forme une paire de fenêtres 20a et 20b, voisines l'une de l'autre dans la couche 12 à la 30 surface du corps 10 sur le puits 18 de type P. Les fenêtres 20a et 20b sont formées en déposant un revêtement isolant sur la couche 12 excepté là où. doivent être formées les fenêtres. Les aires non recouvertes de la couche 12 sont ensuite enlevées en utilisant un agent attaquant convenable pour le matériau déterminé formant 35 la couche à effet de masque. Une couche 22 faite d'un matériau contenant une impureté ayant le même type de conductivité que le corps 10 est déposée sur la couche-12, au voisinage, et plus 70 24257 5 2064447 spécifiquement, au contact de la surface du corps 10 exposée se trouvant au fond des fenêtres 20a et 20"b. le corps de silicium 10 ayant une conductivité du type U, la couche 22 peut être du dioxyde de silicium contenant une impureté de type M" telle que 5 le phosphore, les fenêtres 20a et 20b sont munies ainsi d'une paire de régions limitées 22a et 22b faites d'un matériau contenant une impureté de conductivité du type ÏT. la couche 22 peut être formée en plaçant le corps 10 dans une chambre dans laquelle on fait passer un gaz contenant du silicium, de l'oxygène et du 10 phosphore, par exemple un mélange silane, d'oxygène et de phosphine. la chambre ou enceinte est chauffée à une température à laquelle se produit une réaction, entre 350°C et 450°C, pour former du dioxyde de silicium contenant du phosphore qui se dépose sur la couche à effet de masque et sur les aires exposées de la 15 surface du corps. Comme représenté à la figure 4, on forme une seconde paire de fenêtres 24a et 24b, voisines l'une de l'autre, dans la couche 22 et la couche 12 jusqu'à la surface du corps 10 en un endroit situé à une certaine distance du puits 18. les fenêtres 24a 20 et 24b sont formées de la même façon que les fenêtres 20a et 20b. Une couche 26 d'un matériau contenant une impureté dont le type de conductivité est opposé à celui du corps 10 ou est déposée sur la couche 22 au voisinage, et spécifiquement au contact, de la surface du corps 10 au fond des fenêtres 24a et 24b. le corps 25 10 ayant une conductivité de type ÏT, la couche 26 peut être du dioxyde de silicium contenant une impureté du type P telle que le bore, les fenêtres 24a et 24b sont munies ainsi d'une paire de régions limitées 26a et 26b faites d'un matériau contenant une impureté de conductivité du type P. la couche 26 peut être 30 formée de la même façon que la couche 22 sauf que le gaz traversant la chambre ou enceinte précitée contient du silicium, de l'oxygène et du bore, par exemple un mélange de silane, d'oxygène et de diborane. Comme représenté à la figure 5, on forme ensuite les fenêtres 35 28 et 30 dans les couches 26, 22 et 12 jusqu'à la surface du corps 10. la fenêtre 28 est positionnée entre les régions 22a et 22b et la fenêtre 30 est positionnée entre les régions 26a et 70 24257 6 2064447 26b. Les fenêtres 28 et 30 peuvent être formées de la même façon que les fenêtres 20a, 20b, 24a et 24b. On chauffe le corps 10 à une température de 1100°C environ pendant 15 minutes environ pour diffuser le phosphore des régions 22a et 22b et le bore 5 des régions 26a et 26b dans le corps 10. Comme représenté à la figure 6 la diffusion du phosphore forme la source et le drain de type ¥ 32a et 32b de l'un des transistors à effet de champ dans le puits 18 de type P et la diffusion du bore forme la source et le drain de type P 34a et 10 34b du transistor à effet de champ complémentaire dans le corps 10, en dehors du puits 18. Pendant les 10 dernières minutes du traitement à chaud de diffusion, l'oxygène est admis dans l'atmosphère autour du corps 10. Il en résulte une oxydation des aires de la surface du corps 10 qui sont exposées au fond ^ des fenêtres 28 et 30, formant ainsi les couches isolantes de canal 36 et 38 en dioxyde de silicium pour ès transistors à effet de champ. Comme représenté à la figure 7t on forme une paire de fenêtres 20 40a et 40b placées à une certaine distance l'une de l'autre dans les couches 26 et 22 jusqu'à la surface du corps 10 dans la source et le drain de type 32a et 32b respectivement. On forme une seconde paire de fenêtres 42a et 42b placées à une certaine distance l'une de l'autre dans les couches 26 et 22 25 jusqu'à la surface du corps 10 dans la source et le drain de type P, 34a et 34b respectivement. Les fenêtres 40a, 40b, 42a et 42b peuvent être attaquées au travers des couches 26 et 22 de la façon qui a été décrite précédemment en ce qui concerne les autres fenêtres formées dans les couches. 30 Un film d'un métal électriquement conducteur tel que l'alu minium est déposé, par exemple par évaporation sous vide, sur la couche 26, les surfaces des fenêtres 40a, 40b, 42a et 42b et les couches isolantes de canal 36 et 38. On enlève certaines parties du film métallique, par exemple par attaque chimique, 35 de manière à laisser des contacts 44a et 44b pour la source et le drain et le contact de porte 44c sur le canal de l'un des transistors à effet de champ et des contacts 46a et 46b pour la source et le drain et le contact de porte 46c sur le canal 70 24257 7 2064447 de l'autre transistor à effet de champ, le film métallique peut êt© prévu pour constituer des bandes d'interconnexion entre certains des contacts des deux transistors à effet de champ complémentaires selon le circuit dans lequel lesdits transistors 5 doivent être utilisés. Ainsi selon ce procédé de fabrication de transistors à effet de champ à porte isolée complémentaires la source et le drain ainsi que l'isolation de canal des deux transistors à effet de champ complémentaires sont formés simultanément pendant un 10 traitement à la chaleur unique. Ceci diminue le nombre des phases de traitement à la chaleur qui sont requises pour faire le dispositif, réduisant ainsi les effets possibles qui peuvent être la cause de dégradation des caractéristiques du dispositif. Le temps nécessaire à la fabrication du dispositif est également 15 réduit, ce qui entraîne une réduction du prix du dispositif. Exemple 2 En se référant aux figures 8 à 13, on voit que ces figures montrent les phases d'un second procédé de fabrication de transis-tors à effet de champ à porte isolée complémentaires qui réduit encore le nombre de phases de traitement à la chaleur nécessaires. On part, pour ce procédé, d'un corps de silicium monocristallin ayant un type de conductivité donné, par exemple le type ïï". Comme représenté à la figure 8, on recouvre une surface du corps 44 d'une couche à effet de masque 46 qui peut être de l'oxyde 25 de silicium, du nitrure de silicium ou de l'oxyde d'aluminium et on forme une fenêtre 48 dans la'couche 46 pour exposer une aire délimitée de la surface du corps 44• La couche à effet de masque 46 et la fenêtre 48 qui la traverse peuvent être formées de la façon qui a été décrite précédemment. 30 La surface exposée du corps de silicium 44 se trouvant dans la fenêtre 48 est ensuite recouverte d'une couche 50 faite d'un matériau contenant un dopant dont le type de conductivité est opposé à celui du corps de silicium 44- En utilisant un corps 44 de type U, la couche 50 peut être du dioxyde de silicium contenant un dopant de type P tel que le bore. La couche 50 peut être formée en plaçant le corps 44 dans une chambre ou 70 24257 2064447 enceinte dans laquelle on fait passer un gaz contenant du silicium, de l'oxygène et du bore, par exemple un mélange de silane d'oxygène et de diborane. On chauffe la chambre ou enceinte à une température à laquelle se fait une réaction, entre 300°C et 450°C, de façon 5 à former du dioxyde de silicium contenant du bore qui se dépose sur la couche 46 et la surface exposée du corps 44. la partie de la couche 50 se trouvant sur la couche à effet der masque 46 est ensuite enlevée en laissant seulement la partie se trouvant dans la fenêtre 48 de la couche 46. On arrive à ce résultat en appli-10 quant un film d'un revêtement isolant sur la partie de la couche 50 intérieure à la fenêtre 48 et en attaquant la partie non recouverte de la couche 50 avec un kgent d'attaque convenable tel qu'une solution aqueuse d'acide fluorhydrique tamponné avec du fluorure d'ammonium. Après que le revêtement isolant ait été 15 enlevé, on revêt la partie restante de la couche 50 du même matériau que celui de la couche à effet de masque 46 comme représenté à la figure 8. Comme représenté à la figure 9, on dépose une couche 52 faite . d'un matériau contenant une impureté ayant le même type de conduc-20 tivité que celui du corps 44 au voisinage immédiat dudit corps .44, plus spécifiquement cette couche est déposée but la couche 46 au-dessus de la couche 50. le corps 44 ayant une conductivité de type F, la couche 52 peut être du dioxyde de silicium contenant une impureté de type U telle que du phosphore. la couche 52 a une 25 aire plus petite .que l'aire de la couche 50 et peut être formée de la même façon que la couche 50 sauf que le gaz traversant la chambre ou enceinte précitée contient du silicium, de 1'oxygène et du phosphore, par exemple un mélange de silane, d'oxygène et de phosphine. Ceci a pour effet de recouvrir la totalité de la 30 surface de la couche à effet de masque 46 de dioxyde de silicium contenant du phosphore. On dépose ensuite un revêtement isolant sur la partie de la couche 52 devant être maintenue et la partie non recouverte est enlevée par un attaquant convenable, par exemple de l'acide fluorhydriqte tamponné. Après l'attaque on 35 enlève le revêtement isolant. Comme représenté à la figure 10, une couche 54 faite d'un matériau contenant une impureté dont le type de conductivité 70 24257 9 2064447 est opposé à celui du corps 44 est déposés sur la couche à effet de masque 46 à une certaine distance de la couche 50. Le corps 44 ayant une conductivité de type ÏT, la couche 54 peut être du dioxyde de silicium contenant une impureté de type P telle 5 que le "bore. La couche 54 a une aire égale à aire de la couche 52 de conductivité de type N. La couche 54 peut être formée de la même façon que la couche de conductivité de type P 50 sauf que la couche 54 doit contenir une concentration plus élevée de l'impureté de type P que la couche 50. Ceci a pour effet dé 10 recouvrir la totalité de la surface de la couche 46 et de la couche 52 de conductivité de type ÎT de dioxyde de silicium contenant du "bore. On dépose ton revêtement isolant sur la partie de la couche de dioxyde de silicium contenant du "bore qui forme la couche 54 et sur les parties qui sont au-dessus de la couche 52. ^ On enlève ensuite la partie non recouverte avec un agent attaquant tel que de l'acide fluorhydrique tamponné. Ceci laisse la couche 54 ainsi qu'une couche 54a de dioxyde de silicium contenant du bore sur la couche 52. Comme il sera expliqué ci-après la couche 54a ne fait pas partie du transistor à effet de champ 20 à porte isolée mais elle est maintenue de façon à empêcher l'enlèvement par attaque de la couche 52 pendant la formation de la couche 54. On enlève ensuite le revêtement isolant sur les couches 54 et 54a. Comme représenté à la figure 11, on forme une fenêtre 56 25 au travers des couches 54a, 52, de la couche 46 et de la couche 50 jusqu'à la surface du corps 44- On forme une seconde fenêtre 58 dans la couche 54 et la couche 46 jusqu'à la surface du corps 44. Les fenêtres 56 et 58 sont formées simultanément en déposant un revêtement isolant sur les surfaces de la couche 46 30 et des couches 54 et 54a sauf là où sont prévues les fenêtres. On enlève ensuite le matériau non recouvert par un agent d'attaque tel que de l'acide fluorhydrique tamponné. Après que les fenêtres 56 et 58 aient été formées on enlève le revêtement isolant. Les fenêtres 56 et 58 traversent totalement les couches 52 et 54 35 de façon à former une paire de régions limitées faites d'un matériau contenant une impureté de conductivité de type ïï et une paire de régions limitées d'un matériau contenant une impureté 70 24257 10 2064447 de conductivité de type P. Le corps de silicium.44 est ensuite chauffé en atmosphère inerte, par exemple en atmosphère d'azote, pendant approximativement une heure à une température de 1100°C environ. 5 Comme représenté à la figure 12, ceci diffuse le hore de la couche 50 dans le corps 44 de façon à constituer un puits 60 de type P dans le corps 44- Simultanément le phosphore des régions de la couche 52 diffuse au travers de la couche à effet de masque 46 et de la couche 50 dans le corps 44 pour former 10 la source et le drain, de type ÏT, 62a. et 62"b de l'un des transistors à effet de champ dans le puits 60. En même temps le bore des régions de la couche 54 diffuse au travers de la couche 46 dans le corps 44 pour former la source et le drain de type P 64a et 64b du transistor à effet de champ complémentaire dans le corps 15 44, en dehors de la région 60. Etant donné que le bore a un taux de diffœion qui est inférieur à celui du phosphore et qu'il est en outre enlevé du corps 44? le bore de la couche 54a n'atteint pas le corps 44 et n'a pas d'effet sur la formation des transistors à effet de champ complémentaires. Pendant les 20 10 dernières minutes du traitement de diffusion à la chaleur on admet de l'oxygène dans l'atmosphère se trouvant autour du corps 44» Ceci oxyde les aires exposées de la surface du corps 44 se trouvant au fond des fenêtres 56 et 58 de façon à constituer les couches d'isolation de canal 66 et 68 en dioxyde de silicium 25 pour les trans istors à effet de champ. Comme représenté à la figure 13s on forme une paire de fenêtres 70a et 70b espacées l'irne de l'autre au travers des couches 54a, 52, 46 et 50 jusqu'à la surface du corps 44 à l'endroit de la source et dû drain, de type H, 62a et 62b respectivement. On 30 forme une seconde paire de fenêtres 72a et 72b, espacées l'une de l'autre, au travers des couches 54 et 46 jusqu'à la surface du corps 44 à l'endroit de la source et du drain, de type P, 64a et 64b respectivement. Les fenêtres 70a, 70b, 72a et 72b sont formées par attaque des couches de la façon décrite 35 précédemment en ce qui concerne les autres fenêtres formées dans des couches. On prévoit dés contacts de films métalliques 74a, 74b et 74c dans les fenêtres de source et de drain 70a 70 24257 n 2064447 et 70b et sur l'isolation de canal 66 de l'un des transistors à effet de champ et des contacts de films métalliques 76a, 76b et 76c dans les fenêtres de source et de drain 72a et 72b et sur l'isolation de canal 68 du transistor à effet de champ complémen-5 taire. les contacts de films métalliques peuvent être formés de la façon décrite précédemment en ce qui concerne la figure 7• Ainsi, dans ce procédé de fabrication de transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires, le puits ainsi que la source et le drain et que les couches d'isolation de canal 10 des deux transistors à effet de champ complémentaires sont formés simultanément pendant un traitement à la chaleur unique. Ceci réduit encore le nombre des traitements à la chaleur qui sont nécessaires pour fabriquer les transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires. 15 Bien entendu, l'invention n'est nullement limitée aux modes de réalisation décrits et représentés qui n'ont été donnés qu'à titre d'exemple. En particulier, elle comprend tous les moyens constituant des équivalents techniques des moyens décrits, ainsi que leurs combinaisons, si celles-ci sont exécutées selon l'esprit 20 de l'invention. 70 24257 12 2064447 REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'une paire de transistors à effet de champ et à porte isolée complémentaires, caractérisé en ce qu'il consiste à ménager, à la surface d'un corps de silicium, une paire de régions limitées séparées faites d'un matériau contenant une impureté ayant un type de conductivité donné, à ménager à la surface dudit corps une seconde paire de régions limitées séparées faites en un matériau contenant une impureté ayant une conductivité de type opposé à celle contenue dans le matériau de la première paire de régions et à diffuser simultanément les impuretés desdites paires de régions dans ledit corps pour former, simultanément, la source et le drain de deux transistors à effet de champ et à porte isolée dans le corps précité. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'on forme une couche de dioxyde de silicium sur la surface du corps précité dans chacun des espaces entre chaque paire de régions limitées pendant la diffusion des impuretés dans le corps de façon à"former l'isolation de canal pour les transistors à effet de champ. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'on forme, dans ledit corps, préalablement à la formation des paires de régions limitées» un puits ayant une conductivité de type opposé à la conductivité de l'impureté de la première paire de régions limitées, ladite première paire de régions étant prévue sur la surface du corps au-dessus du puits et ladite seconde paire étant prévue sur la surface du corps, à une certaine distance du puits, de telle façon que la source et le drain de l'un des transistors à effet de champ sont formés dans le puits, tandis que la source et le drain de l'autre transistor à effet de champ sont formés en dehors de ce puits. 4. Procédé selon la revendication 3t caractérisé en ce que les paires de régions précitées sont formées par formation d'une couche à effet de masque sur la surface du corps, formation 70 24257 13 2064447 d'une première paire de fenêtes séparées dans ladite couche à effet de masque jusqu'à la surface du corps dans la région du puits précité, formation d'une seconde paire de fenêtres séparées dans ladite couche à effet de masque jusqu'à la surface du corps 5 à une certaine distance dudit puits, formation de la première paire de régions limitées dans ladite première paire de fenêtres prévues dans la couche à effet de masque et formation de la seconde paire de régions limitées dans ladite seconde paire de fenêtres prévues dans ladite couche à effet de masque. •jO 5- Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que, on forme, en premier lieu, la première paire de fenêtres dans la couche à effet de masque, on dépose ensuite une première couche d'un matériau contenant l'impureté ayant le premier type de conductivité précité sur la couche à effet de masque et -| ^ dans la première paire de fenêtres de façon à constituer ladite première paire de régions limitées, on forme ensuite la seconde paire de fenêtres dans ladite première couche et dans la couche à effet de masque, et on dépose ensuite une seconde couche d'un matériau contenant l'impureté ayant une conductivité de type 20 opposé sur la première couche précitée et dans la seconde paire de fenêtres précitées de façon à constituer ladite seconde paire de régions limitées. 6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que l'on forme, après le dépôt de la seconde couche, une fenêtre 25 séparée au travers desdites couches jusqu'à la surface du corps entre chaque paire de régions et on forme les couches de dioxyde de silicium dans lesdites fenêtres. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'on forme les couches de dioxyde de silicium en oxydant les 30 surfaces exposées du corps au fond des fenêtres. 8. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'on forme, sur la surface du corps de silicium entre ladite surface et la première paire de régions limitées, une troisième région limitée, faite d'un matériau contenant une impureté ayant 35 un type de conductivité opposé à celui de l'impureté contenue dans le matériau de la première paire de régions limitées et on diffuse l'impureté de latroisieme région limitée dans le corps 70 24257 14 2064447 simultanément à la diffusion des impuretés des paires de régions précitées de façon à former, simultanément, un puits dans le corps, la source et le drain de l'un des transistors à effet de champ étant formés dans le puits tandis que la source et le drain de 5 l'autre transistor à effet de champ sont formés dans le corps en dehors dudit puits. 9. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que l'on forme, préalablement à la formation des régions limitées, une couche à effet de masque sur ladite surface du corps de silicium, 10 on forme une fenêtre dans ladite couche à effet de masque jusqu'à la surface dudit corps, on forme la troisième région précitée sur la surface du corps.dans la fenêtre de la couche à effet de masque, on forme la première paire de régions limitées sur la troisième région limitée et on -forme la seconde jpaire de régions 15 limitées sur la couche à effet de masque à une certaine distance de la troisième région précitée. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que, préalablement à la formation d e la première paire de régions limitées, on recouvre la troisième région limitée du matériau 20 de la couche à effet de masque efc en ce que3a/i>remière paire de régions limitées est prévue sur ladite couche à effet de masque au-dessus de la troisième région limitée. 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que 25 l'on forme les paires de régions en déposant, en premier lieu, une couche d'un matériau contenant une impureté d'un type de conductivité donné sur la surface de la couche à effet de masque, on enlève le matériau de ladite couche sauf en ce qui concerne l'aire se trouvant au-dessus de la troisième région qui est plus 30 petite que l'aire de ladite troisième région, on dépose ensuite une seconde couche d'un matériau contenant une impureté ayant un type de conductivité opposé sur la couche à effet de masque et sur l'aire restante de la première couche, puis on enlève le matériau de ladite seconde couche sauf en ce qui concerne 35 l'aire se trouvant au-dessus de l'aire restante de la première couche et en ce qui concerne •une aire, de même dimension, située à une certaine distance.de la troisième région limitée. 12. Procédé selon la-revendication 11, caractérisé en ce 70 24257 15 2064447 que 'Ion forme, après la formation des aires de la seconde couche et avant la diffusion des impuretés dans le corps, une praaière fenêtre dans les aires chevauchantes de la seconde couche, de la première couche, de la couche à effet de masque et de la 5 troisième région jusqu'à la surface du corps, cette première fenêtre traversant l'aire de la première couche de façon à former la première paire de régions limitées et en ce qœ l'on forme une seconde fenêtre à travers l'autre aire de la seconde couche et de la couche à effet de masque jusqu'à la surface du corps, 1 0 cette seconde fenêtre traversant l'aire de la seconde couche de façon à constituer la seconde paire de régions limitées. 13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que les couches d'oxyde de silicium sont formées sur la surface exposée du corps de silicium au fond desdites fenêtres. 15 14. Procédé selon la revendication 13, caractérisé en ce que les couches d'oxyde de silicium sont formées par oxydation de la surface exposée du corps de silicium au fond desdites fenêtres. 15- A titre de produits industriels nouveaux, les transistors 20 à effet de champ et à porte isolée complémentaires obtenus selon l'une des revendications 1 à 14.